JP2662788B2 - Microplate heating method and device - Google Patents

Microplate heating method and device

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JP2662788B2
JP2662788B2 JP63005463A JP546388A JP2662788B2 JP 2662788 B2 JP2662788 B2 JP 2662788B2 JP 63005463 A JP63005463 A JP 63005463A JP 546388 A JP546388 A JP 546388A JP 2662788 B2 JP2662788 B2 JP 2662788B2
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microplate
plate
heating
heating plate
heat
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清 小林
宗親 坂部
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修 瀬川
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、マイクロプレートの加熱方式に関する。The present invention relates to a microplate heating method.

〔発明の概要〕[Summary of the Invention]

マイクロプレートの加熱方式において、上部加熱板と
下部加熱板によマイクロプレートをはさみ込む工程と、
該状態から下部に熱板だけを離す工程を設け有効にマイ
クロプレート内のサンプルを加熱する。
In the heating method of the microplate, a step of sandwiching the microplate with an upper heating plate and a lower heating plate,
A step of separating only the hot plate from the state below is provided to effectively heat the sample in the microplate.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、マイクロプレート内の液体を加熱する際、第2
図に示すように、ゴム等弾性体でできた板201を下面に
有するフタ202で、マイクロプレート203の上面を押しつ
けた状態で、加熱板204によりマイクロプレート203の下
面を加熱し、マイクロプレート内の液体205が加熱によ
って蒸発することを防止していた。また、加熱状態から
冷却する際にも、フタ202をマイクロプレート203の上面
に押しつけた状態にて加熱板204の熱源を切ることによ
り、マイクロプレート内の液体205が冷却途中で大気中
に蒸発することを防止していた。
Conventionally, when heating the liquid in the microplate, the second
As shown in the figure, the lower surface of the microplate 203 is heated by the heating plate 204 while the upper surface of the microplate 203 is pressed by a lid 202 having a plate 201 made of an elastic material such as rubber on the lower surface. The liquid 205 was prevented from evaporating by heating. Also, when cooling from the heated state, by turning off the heat source of the heating plate 204 in a state where the lid 202 is pressed against the upper surface of the microplate 203, the liquid 205 in the microplate evaporates to the atmosphere during cooling. Was preventing that.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

しかし、従来のマイクロプレート用加熱装置では、加
熱板204のみにより加熱していたため天地方向に温度勾
配ができて、マイクロプレート内の液体205の温度コン
トロール精度及び角度が悪かった。また、マイクロプレ
ートのウエル206とフタ202に閉じ込められた空間207の
気温の方がフタ202の表面の温度よりも高くなりがちな
ため、空間207中に気化した液体205が冷却途中でフタ20
2の表面に露結し、液体205が減少するという欠点があっ
た。
However, in the conventional heating apparatus for a microplate, since the heating was performed only by the heating plate 204, a temperature gradient was formed in the vertical direction, and the temperature control accuracy and the angle of the liquid 205 in the microplate were poor. Further, since the temperature of the well 206 of the microplate and the temperature of the space 207 confined in the lid 202 tend to be higher than the temperature of the surface of the lid 202, the vaporized liquid 205 in the space 207 is cooled during the cooling.
There was a disadvantage that the liquid 205 was reduced due to condensation on the surface of No. 2.

そこでこの発明は、従来のような欠点を解決して、マ
イクロプレート内の温度コントロールの精度及び確度が
良く、かつ加熱処理が終了した後の液体205の減少分が
極めて少ないマイクロプレートの加熱方法を提供するこ
とを目的としている。
Therefore, the present invention solves the drawbacks of the prior art, and provides a method for heating a microplate in which the accuracy and accuracy of temperature control in the microplate is good and the amount of reduction of the liquid 205 after the completion of the heat treatment is extremely small. It is intended to provide.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

上記問題点を解決するため本発明においては、マイク
ロプレートの加熱方式を上部加熱板と下部加熱板により
マイクロプレートをはさんで加熱する工程と、上部加熱
板をマイクロプレートの上面に押しつけたままで、下部
加熱板をマイクロプレートの下面から離して冷却する工
程とから構成した。
In order to solve the above problems, in the present invention, heating the microplate by heating the microplate with an upper heating plate and a lower heating plate, and pressing the upper heating plate against the upper surface of the microplate, And cooling the lower heating plate away from the lower surface of the microplate.

〔作用〕[Action]

上記のように構成されたマイクロプレートの加熱方式
において、加熱時には、上部加熱板及び下部加熱板とも
同じ加熱温度になるように制御することにより、両加熱
板間の天地方向の温度勾配を少なくすることによって、
周囲の温度を影響を少なくして、マイクロプレート内の
液体の温度コントロール精度及び確度を上げることがで
きる。また、上部加熱板の下面に、従来と同じようにゴ
ム等弾性体でできた板を備えることによって、上部加熱
板がマイクロプレートのフタをも兼ねるため、加熱中に
マイクロプレート内の液体が蒸発することも防止でき
る。一方、加熱状態からの冷却時にも、以下の理由によ
り、マイクロプレート内で気化した液体が上部加熱板の
表面に露結することを防止できる。すなわち、マイクロ
プレートとその内部の液体との合計の熱容量よりも上部
加熱板の熱容量を大きくしておく、加熱時には、上記し
たように、上部加熱板、マイクロプレート、下部加熱板
がほぼ同じ温度になっている。冷却時には、上部加熱板
をマイクロプレートの上面に押しつけたままで、下部加
熱板をマイクロプレートの下面から離して加熱板の熱源
を切ることにより、マイクロプレート内の液体が冷却途
中で大気中に蒸発することを防止することは従来通りで
あるが、更に、冷却時直前での上部加熱板とマイクロプ
レートは、ほぼ同じ温度になっており、この状態から、
上部加熱板をマイクロプレートの上面に押しつけたまま
で、下部加熱板をマイクロプレートの下面から離すとと
もに、両加熱板の熱源を切ることにより、上部加熱板の
温度の方が、マイクロプレートのウエルと上部加熱板と
で閉じ込められた空間の気温より低くならない状態を維
持しながら冷却されるため、マイクロプレートのウエル
内で気化した液体が上部加熱板の表面に露結することに
よる液体の減少分を極めてわずかにすることができる。
In the heating method of the microplate configured as described above, during heating, the upper heating plate and the lower heating plate are controlled to have the same heating temperature, thereby reducing the temperature gradient in the vertical direction between the two heating plates. By
The influence of the ambient temperature can be reduced, and the accuracy and accuracy of the temperature control of the liquid in the microplate can be increased. In addition, by equipping the lower surface of the upper heating plate with a plate made of an elastic material such as rubber as in the past, the upper heating plate also serves as the lid of the microplate, so that the liquid in the microplate evaporates during heating. Can also be prevented. On the other hand, even when cooling from the heating state, it is possible to prevent the liquid vaporized in the microplate from being condensed on the surface of the upper heating plate for the following reason. That is, the heat capacity of the upper heating plate is set to be larger than the total heat capacity of the microplate and the liquid in the inside. During heating, as described above, the upper heating plate, the microplate, and the lower heating plate are set to almost the same temperature. Has become. At the time of cooling, the liquid in the microplate evaporates to the atmosphere during cooling by keeping the upper heating plate pressed against the upper surface of the microplate and separating the lower heating plate from the lower surface of the microplate to cut off the heat source of the heating plate. It is conventional to prevent that, but furthermore, the upper heating plate and the microplate just before cooling are at almost the same temperature, from this state,
While keeping the upper heating plate pressed against the upper surface of the microplate, the lower heating plate is separated from the lower surface of the microplate, and the heat source of both heating plates is turned off. Cooling is performed while maintaining the temperature not lower than the temperature of the space confined by the heating plate, so that the amount of liquid reduction due to the vaporization of liquid in the wells of the microplate condensing on the surface of the upper heating plate is extremely reduced. Can be slightly.

〔実施例〕〔Example〕

以下この発明の実施例を図面に基づいて、説明する。
第1図において、上部加熱板120は上部均熱板121の上面
に上部発熱体122を密着させ、更にその上から断熱材123
で覆うとともに上部均熱板121の下面には、ゴム等弾性
体でかつ熱伝導性の良い板124を有する構造になってい
る。一方、下部加熱板140は、下部均熱板141の下面に下
部発熱体142を密着させ、更にその下から断熱材143で覆
う構造になっている。第1図(a)は、マイクロプレー
ト130が上部加熱板120と下部加熱板140との間にはさま
れて加熱中の状態を示している。このとき上部加熱板12
0と下部加熱板140とは同じ設定温度になるように制御さ
れているので、両加熱板間の天地方向の温度勾配を小さ
くすることができ、マイクロプレート130内の液体150の
温度コントロール精度及び確度を良くすることができ
る。また、弾性体の板124でマイクロプレート130の上面
からウエル131にフタをして密封することにより、ウエ
ル内の空間132の気圧を高くすることができるので液体1
50の蒸発を少なくすることができる。第1図(b)はマ
イクロプレート130の上面が上部加熱板120に押しつけら
れたままで、下部加熱板140をマイクロプレート130の下
面から離して冷却中の状態を示している。前記したよう
に、上部加熱板120、マイクロプレート130、下部加熱板
140がほぼ同じ温度に加熱されている状態からの第1図
(b)の状態での冷却である。従って、マイクロプレー
ト130内の液体150の冷却速度の方が、上部加熱板120の
冷却速度よりも速いため、液体150がウエル内の空間132
中に気化したものが、上部加熱板120の表面に露結する
ことなく冷却させることができる。なお、上部加熱板12
0、マイクロプレート130下部加熱板140の位置制御の機
構は、カムの応用等により容易に実現できる。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
In FIG. 1, an upper heating plate 120 has an upper heating element 122 in close contact with the upper surface of an upper heat equalizing plate 121, and further heat insulating material 123.
The upper heat equalizing plate 121 is covered with a plate 124 made of an elastic material such as rubber and having good heat conductivity. On the other hand, the lower heating plate 140 has a structure in which the lower heating element 142 is adhered to the lower surface of the lower heat equalizing plate 141, and the lower heating plate 142 is further covered with a heat insulating material 143 from below. FIG. 1A shows a state where the microplate 130 is being heated between the upper heating plate 120 and the lower heating plate 140. At this time, the upper heating plate 12
Since 0 and the lower heating plate 140 are controlled to have the same set temperature, the temperature gradient in the vertical direction between the two heating plates can be reduced, and the temperature control accuracy of the liquid 150 in the microplate 130 and Accuracy can be improved. In addition, since the well 131 is covered with a lid from the upper surface of the microplate 130 and sealed with an elastic plate 124, the pressure in the space 132 in the well can be increased.
50 evaporation can be reduced. FIG. 1B shows a state in which the lower heating plate 140 is being separated from the lower surface of the microplate 130 and is being cooled while the upper surface of the microplate 130 is pressed against the upper heating plate 120. As described above, the upper heating plate 120, the microplate 130, the lower heating plate
FIG. 1B shows the cooling from the state where 140 is heated to substantially the same temperature. Therefore, since the cooling rate of the liquid 150 in the microplate 130 is faster than the cooling rate of the upper heating plate 120, the liquid 150
What has evaporated inside can be cooled without dew condensation on the surface of the upper heating plate 120. The upper heating plate 12
The mechanism for controlling the position of the lower heating plate 140 of the microplate 130 can be easily realized by using a cam or the like.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

この発明は、以上説明したように、上部加熱板と下部
加熱板によりマイクロプレートをはさんで加熱すること
により、マイクロプレート内の温度コントロールの精度
及び確度を向上させる効果と、上部加熱板をマイクロプ
レートの上面に押しつけたままで、下部加熱板をマイク
ロプレートの下面から離して冷却することにより、加熱
処理が終了した後のマイクロプレート内の液体の減少分
を極めて少なくする効果がある。
As described above, the present invention has an effect of improving the accuracy and accuracy of temperature control in a microplate by heating a microplate with an upper heating plate and a lower heating plate sandwiched between the heating plate and the upper heating plate. By cooling the lower heating plate away from the lower surface of the microplate while keeping it pressed against the upper surface of the plate, there is an effect that the amount of decrease in the liquid in the microplate after the completion of the heat treatment is extremely reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明の一実施例に用いられる上部加熱板、マ
イクロプレート、下部加熱板の状態を示す縦断面図で
(a)はマイクロプレートを上部及び下部加熱板ではか
み込んだ状態を示す図、(b)は、(a)で示された状
態から下部加熱板を離した状態を示す図、第2図は従来
のマイクロプレート用加熱装置におけるフタ、マイクロ
プレート、加熱板の状態を示す縦断面図である。 120……上部加熱板 122……上部発熱体 130……マイクロプレート 140……下部加熱板 142……下部発熱体
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a state of an upper heating plate, a microplate, and a lower heating plate used in one embodiment of the present invention, and (a) shows a state where the microplate is bitten by the upper and lower heating plates. FIG. 2B shows a state in which a lower heating plate is separated from the state shown in FIG. 2A, and FIG. 2 shows a state of a lid, a microplate, and a heating plate in a conventional microplate heating apparatus. It is a longitudinal cross-sectional view. 120: Upper heating plate 122: Upper heating element 130: Microplate 140: Lower heating plate 142: Lower heating element

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 瀬川 修 東京都江東区亀戸6丁目31番1号 セイ コー電子工業株式会社内 審査官 門田 宏 (56)参考文献 実開 昭61−44566(JP,U) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Osamu Segawa, Inventor Hiroshi Kadota, Examiner, Seiko Electronic Industry Co., Ltd., 6-31-1, Kameido, Koto-ku, Tokyo (56) References U)

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】試料を小分けにしてマイクロプレートに収
納し、 前記試料を密封するための弾性体と前記マイクロプレー
トと前記マイクロプレートに収納された試料の熱容量の
合計より大きい熱容量を有し前記試料を加熱するため
に、前記弾性体の上面に設けられた上部発熱体とより成
る上部加熱板と、前記マイクロプレートの下表面に設け
られ前記試料を加熱するための下部加熱板とを同じ温度
に加熱することにより前記試料を加熱し、 前記マイクロプレートに前記上部加熱板を押し付けたま
ま、前記下部加熱板を前記マイクロプレートから離し、
前記上部加熱板と前記下部加熱板の熱源を切り、前記試
料を冷却するマイクロプレートの加熱方式。
1. A sample having a heat capacity larger than the sum of an elastic body for sealing the sample, a heat capacity of the microplate, and a heat capacity of the sample stored in the microplate. In order to heat the sample, an upper heating plate comprising an upper heating element provided on the upper surface of the elastic body, and a lower heating plate provided on the lower surface of the microplate for heating the sample are heated to the same temperature. Heating the sample by heating, keeping the upper heating plate pressed against the microplate, separating the lower heating plate from the microplate,
A heating method of a microplate for cooling the sample by turning off heat sources of the upper heating plate and the lower heating plate.
【請求項2】マイクロプレート内の試料を密封する板状
の弾性体と、前記弾性体の上面に接し前記弾性体を均一
の温度に加熱するための均熱板と、前記均熱板の上面に
接し前記均熱体を加熱する発熱体と、前記発熱体の上面
に接し前記発熱体の放熱を防止する断熱材からなる上部
加熱板と、 前記上部加熱板の位置を制御する位置制御手段と、 前記マイクロプレートの下面を均一の温度に加熱するた
めに前記上部加熱板に離間し前記弾性体の下面に対向す
る板状の均熱板と、前記均熱板の下面に接し前記均熱板
を加熱する発熱体と、発熱体の下面に接し前記発熱体の
放熱を防止する断熱材からなる下部加熱板と、 前記下部加熱板の位置を制御する位置制御手段と、 前記上部加熱板と前記下部加熱板を同じ温度となるよう
に制御する温度制御手段と、からなるマイクロプレート
用加熱装置。
2. A plate-like elastic body for sealing a sample in a microplate, a heat equalizing plate in contact with an upper surface of the elastic body to heat the elastic body to a uniform temperature, and an upper surface of the heat equalizing plate. A heating element that is in contact with and heats the heat equalizer, an upper heating plate that is in contact with the upper surface of the heating element and that is made of a heat insulating material that prevents heat radiation of the heating element, and a position control unit that controls the position of the upper heating plate. A plate-shaped soaking plate separated from the upper heating plate and opposed to the lower surface of the elastic body to heat the lower surface of the microplate to a uniform temperature; and the soaking plate in contact with the lower surface of the soaking plate. A lower heating plate made of a heat insulating material in contact with the lower surface of the heating element to prevent heat radiation of the heating element; position control means for controlling a position of the lower heating plate; Temperature control means to control the lower heating plate to the same temperature A heating device for a microplate, comprising: a step;
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US07/255,474 US5102623A (en) 1987-10-09 1988-10-11 Infinitesimal liquid reactor

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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH087119B2 (en) * 1989-07-19 1996-01-29 協立電機株式会社 Device for producing dry material of solid particles from suspension
JP4288733B2 (en) * 1997-12-02 2009-07-01 日立化成工業株式会社 Iodine measurement method, sample pretreatment reaction device, and sample pretreatment reaction device
EP1088590B1 (en) * 1999-09-29 2003-04-16 Tecan Trading AG Thermocycling device and hoisting element for microtitre plate
JP3390377B2 (en) * 1999-10-05 2003-03-24 株式会社日立製作所 Reactor
US6426215B1 (en) * 2001-04-06 2002-07-30 Pe Corporation (Ny) PCR plate cover and maintaining device
US6893613B2 (en) * 2002-01-25 2005-05-17 Bristol-Myers Squibb Company Parallel chemistry reactor with interchangeable vessel carrying inserts
WO2009126099A1 (en) * 2008-04-10 2009-10-15 Denator Aktiebolag Device for storing a biological sample and for preparing the biological sample
JP5386869B2 (en) * 2008-07-17 2014-01-15 凸版印刷株式会社 Reaction vessel, reactor and method for closing the reaction vessel
DE102009015869B4 (en) 2009-04-01 2011-03-03 Schneckenburger, Herbert, Prof. Dr. Microtiter plate with heating device
CN106922567B (en) * 2017-04-06 2023-07-04 深圳市爱康试剂有限公司 Incubation device for automatically and uniformly heating micro plate

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6144566U (en) * 1984-08-27 1986-03-24 大日精化工業株式会社 Huber type mallet with heat generating mechanism

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