JP2657906B2 - Non-contact light wave interferometry of block gauge - Google Patents

Non-contact light wave interferometry of block gauge

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JP2657906B2 JP9419195A JP9419195A JP2657906B2 JP 2657906 B2 JP2657906 B2 JP 2657906B2 JP 9419195 A JP9419195 A JP 9419195A JP 9419195 A JP9419195 A JP 9419195A JP 2657906 B2 JP2657906 B2 JP 2657906B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】ブロックゲージをメートルの定義
に基づいて正確に校正するための光波干渉計による測定
法に関し、特に、ブロックゲージをベースプレートに密
着させることなく迅速に測定する新規な測定方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a measurement method using an optical interferometer for accurately calibrating a block gauge based on the definition of a meter, and more particularly to a novel measurement method for quickly measuring a block gauge without bringing the block gauge into close contact with a base plate. .

【0002】[0002]

【従来の技術】最近、製品の高度化により、生産現場に
おいても高精度な長さ標準器が求められ、高精度で簡便
な標準器としてブロックゲージは欠かせないものになっ
ている。 ブロックゲージをメートルの定義に基づいて
正確に校正するための光波干渉計による測定法は、主に
マイケルソン型の干渉計を用いて行われている。この干
渉計は構造が簡単で扱い易いが、ブロックゲージをベー
スプレートに密着する必要があり、この作業は熟練を要
すると共に作業性が悪く、かつ、測定誤差の原因にもな
り得る。
2. Description of the Related Art Recently, with the sophistication of products, a high-precision length standard is required even at a production site, and a block gauge is indispensable as a high-precision and simple standard. A measurement method using a light wave interferometer for accurately calibrating a block gauge based on the definition of a meter is mainly performed using a Michelson type interferometer. Although this interferometer has a simple structure and is easy to handle, it requires the block gauge to be in close contact with the base plate, and this operation requires skill, is poor in workability, and may cause measurement errors.

【0003】また、図2ないし図4に示すごとく、ブロ
ックゲージをベースプレートに密着しないで、干渉計を
用いた合致法による絶対測定が知られている。これは、
図2、図3において先ず密着有孔ブロックC、Dを矢印
Aのごとく左右に微動させ、図2のビームスプリッタM
からの光路長が左右ビームとも等しくなるように調整す
る。完全に等しくなると図4の1の位置に白色干渉縞が
現れる。次にブロックゲージを微動させブロックゲージ
の中心面がYY’Z面と一致すると図4の2の位置に白
色干渉縞が現れる。
Further, as shown in FIGS. 2 to 4, an absolute measurement by a matching method using an interferometer without a block gauge being in close contact with a base plate is known. this is,
In FIGS. 2 and 3, first, the perforated blocks C and D are slightly moved right and left as indicated by an arrow A, and the beam splitter M shown in FIG.
Is adjusted so that the optical path length from the left and right beams becomes equal. When they are completely equal, a white interference fringe appears at a position 1 in FIG. Next, when the block gauge is slightly moved and the center plane of the block gauge coincides with the YY'Z plane, white interference fringes appear at the position 2 in FIG.

【0004】この状態で、光源を単色光に切り換えると
図4の3の箇所に単色の干渉縞が現れる。先の白色干渉
縞1−2を結んだ線に対して単色光の縞のくいちがいを
測定することによって、通常の干渉測長が可能となり、
これはあたかもYY’Z面にベースプレートがあり、そ
こにブロックゲージを密着したような測定を行ったのと
等しい効果をもつものである。
In this state, when the light source is switched to monochromatic light, monochromatic interference fringes appear at three points in FIG. By measuring the difference between the stripes of monochromatic light with respect to the line connecting the above white interference fringes 1-2, normal interference length measurement becomes possible,
This has the same effect as a measurement in which a base plate is provided on the YY'Z plane and a block gauge is closely attached to the base plate.

【0005】しかしながら、この方法による時は白色干
渉縞の調整に時間がかかること、白色光を使用するため
温度上昇があること、ブロックゲージの面の1/2の面
積にしか干渉縞が現れないのでブロックゲージの平面度
や平行度が良くないときには全面にわたっての情報が得
られない等の欠点があり、最近では一般に使用されてい
ない。
However, according to this method, it takes a long time to adjust white interference fringes, there is a rise in temperature due to the use of white light, and interference fringes appear only in one half of the surface of the block gauge. Therefore, when the flatness or parallelism of the block gauge is not good, there is a drawback that information over the entire surface cannot be obtained, and it has not been generally used recently.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の欠点を
解消し、従来の干渉計とほぼ同等の精度でブロックゲー
ジの長さを測定でき、測定能率を大幅に向上させる新規
な測定方法を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned drawbacks and provides a new measuring method which can measure the length of a block gauge with almost the same accuracy as a conventional interferometer and greatly improves the measurement efficiency. To provide.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】光源LSから出た光をブ
ロックゲージBGに向う光と光学楔Wを経て参照ミラー
MRに向う光に分けるハーフミラーHMRと、ブロックゲ
ージに向う光を再度分けるハーフミラーHMと、該ハー
フミラーHMで分けられた光を各々ブロックゲージの両
端面に向ける2個の反射ミラーM1、M2とを用い、LB
=λ/2{N+(ε3−ε1)+(ε3−ε2)}の関係に
従ってブロックゲージ長さLBを求める測定方法であっ
て、(ε3−ε1)及び(ε3−ε2)は参照ミラーMRか
らの光とブロックゲージ端面からの反射光との干渉縞の
ズレにより測定し、既知のNとλを用いてブロックゲー
ジの長さLBを測定することを特徴とする非密着光波干
渉測定法。
A half mirror HMR for dividing light emitted from a light source LS into light directed to a block gauge BG and a light directed to a reference mirror MR via an optical wedge W, and a half for separating light directed to a block gauge again. LB using a mirror HM and two reflection mirrors M1 and M2 for directing light split by the half mirror HM to both end faces of the block gauge, respectively.
= .Lambda. / 2 {N + (. Epsilon.3-.epsilon.1) + (. Epsilon.3-.epsilon.2)}, which is a measuring method for obtaining the block gauge length LB, wherein (.epsilon.3-.epsilon.1) and (.epsilon.3-.epsilon.2) And measuring the length LB of the block gauge using known values of N and λ.

【0008】[0008]

【実施例】図1に本発明の測定法に係る光学系を示す。
光源LSから出た光はハーフミラーHMRでブロックゲ
ージBGに向かう光と光学楔Wを経て参照ミラーMRに
向かう光に分けられる。ブロックゲージに向かった光は
さらにハーフミラーHMで分けられ、その1部はブロッ
クゲージ面で反射されて行きと同じ光路を戻り、またブ
ロックゲージの脇を通り抜けた光はHM−M1−M2−H
MあるいはHM−M2−M1−HMを通りそれぞれHMR
で参照光と干渉する。ここで、M1, M2は反射ミラーで
ある。
FIG. 1 shows an optical system according to the measuring method of the present invention.
The light emitted from the light source LS is divided into light traveling toward the block gauge BG by the half mirror HMR and light traveling toward the reference mirror MR via the optical wedge W. The light heading for the block gauge is further divided by a half mirror HM, and a part of the light is reflected by the block gauge surface and returns along the same optical path as the going light, and the light passing through the side of the block gauge is HM-M1-M2-H.
M or HM-M2-M1-HM
Interferes with the reference light. Here, M1 and M2 are reflection mirrors.

【0009】図1でHM−M1−BGの光路長をL1,H
M−M2−BGの光路長をL2,HM−M1−M2−HMの
光路長をL3とすると、ブロックゲージの長さLBは次
式(1)で与えられる。 LB=L3−L1−L2・・・・・・・・・(1) 一方、入射光の波長をλとすると、各光路長L1,L2,L
3は、次式(2)の関係となる。 2L1=λ(N1+ε1) 2L2=λ(N2+ε2) L3=λ(N3+ε3)・・・・・・・・(2) ここで、N1,N2およびN3はそれぞれ適当な整数を表
し、またε1、ε2およびε3はそれぞれ適当な少数を表
す。
In FIG. 1, the optical path length of HM-M1-BG is represented by L1, H
Assuming that the optical path length of MM2-BG is L2 and the optical path length of HM-M1-M2-HM is L3, the length LB of the block gauge is given by the following equation (1). LB = L3−L1−L2 (1) On the other hand, assuming that the wavelength of the incident light is λ, each optical path length L1, L2, L
3 is given by the following equation (2). 2L1 = λ (N1 + ε1) 2L2 = λ (N2 + ε2) L3 = λ (N3 + ε3) (2) where N1, N2 and N3 each represent an appropriate integer, and ε3 represents an appropriate decimal number.

【0010】式(1)および式(2)より、結局ブロッ
クゲージの長さLBは式(3)で表すことができる。 LB=λ/2{N+(ε3−ε1)+(ε3−ε2)}・・(3) ただし、N=2N3−N1−N2である。
From the equations (1) and (2), the length LB of the block gauge can be expressed by the equation (3). LB = λ / 2 {N + (ε3−ε1) + (ε3−ε2)} (3) where N = 2N3−N1−N2.

【0011】この式は通常の光波干渉測定で行われてい
る合致方と同様にしてブロックゲージの長さを測定でき
ることを示している。すなわち、(ε3−ε1)および
(ε3−ε2)は参照ミラーMRからの光との干渉縞のズ
レによって知ることができる。したがって、LBのおよ
その長さ、すなわちNおよびλが知れていればブロック
ゲージの正確な長さを知ることができる。
This equation shows that the length of the block gauge can be measured in the same manner as in the case of the normal light wave interference measurement. That is, (ε3−ε1) and (ε3−ε2) can be known from the deviation of the interference fringe from the light from the reference mirror MR. Therefore, if the approximate length of LB, that is, N and λ are known, the exact length of the block gauge can be known.

【0012】図1に示す本発明に使用する光学系は、光
源に波長0.633μmのHe-Ne安定化レーザーを用い
る。このレーザーの波長は、ヨウ素安定化レーザーとの
周波数の比較により、7桁以上の精度で校正されてい
る。光学楔Wはそれを横切る光路と垂直な方向に移動で
きるようになっており、その移動量は電気マイクロメー
ターで読み取ることができる。この光学楔によってスク
リーンー上の干渉縞を移動させることができ、(ε3−
ε1)および(ε3−ε2)を測定することができる。
S1,S2はブロックゲージ面と同じ面積を遮断するシャ
ッターであり、(ε3−ε1)の測定時にはS1を開けS2
を閉じ、光路L1とL2の干渉が起こらないようにするこ
とができる。これらの光学系は、室温が20±0.2℃
に制御された恒温室に設置する。
The optical system used in the present invention shown in FIG. 1 uses a He-Ne stabilized laser having a wavelength of 0.633 μm as a light source. The wavelength of this laser has been calibrated with an accuracy of 7 digits or more by comparing the frequency with the iodine stabilized laser. The optical wedge W can move in a direction perpendicular to the optical path crossing the optical wedge, and the amount of movement can be read by an electric micrometer. The interference fringes on the screen can be moved by this optical wedge, and (ε3−
ε1) and (ε3−ε2) can be measured.
S1 and S2 are shutters that block the same area as the block gauge surface. When measuring (ε3−ε1), S1 is opened and S2 is opened.
Is closed, so that interference between the optical paths L1 and L2 does not occur. These optical systems have a room temperature of 20 ± 0.2 ° C.
Install in a controlled temperature room.

【0013】光軸のズレ等が十分小さくなるように光学
系を調整し、系が熱平衡に達した後ブロックゲージの測
定を行う。干渉縞を測定するには、まずシャッターS1
を開きS2を閉じ(ε3−ε1)を測定し、次にシャッタ
ーの開閉を逆にして(ε3−ε2)を測定する。測定中の
ブロックゲージの温度はサーミスタ温度計で測定し、測
定されたブロックゲージ長の補正を行う。また、室温、
気圧および湿度を測定することにより、空気の屈折率に
よる補正を行う。
The optical system is adjusted so that the deviation of the optical axis or the like becomes sufficiently small, and the block gauge is measured after the system has reached thermal equilibrium. To measure interference fringes, first use shutter S1
Is opened, S2 is closed, (ε3−ε1) is measured, and then (ε3−ε2) is measured by reversing the opening and closing of the shutter. The temperature of the block gauge during measurement is measured with a thermistor thermometer, and the measured block gauge length is corrected. Also, at room temperature,
By measuring the atmospheric pressure and the humidity, correction based on the refractive index of air is performed.

【0014】ブロックゲージの表面で光が反射する際に
生じる位相変化はゲージによらず一定であると仮定し
て、ベースプレートに密着を行い測定した値と比較する
ことにより実験的に補正する。実験では、寸法が1.0
1,1.5,8,24.5および90mmのブロックゲー
ジについて、それぞれ数回づつ測定を行った。
Assuming that the phase change that occurs when light is reflected on the surface of the block gauge is constant irrespective of the gauge, the phase change is corrected experimentally by making close contact with the base plate and comparing with a measured value. In experiments, the dimensions were 1.0
Several measurements were made on each of 1, 1.5, 8, 24.5 and 90 mm block gauges.

【0015】[0015]

【効果】実施例の測定で得られたブロックゲージの寸法
の測定値とNRLM−ツガミ光波干渉計(マイケルソン
型干渉計)での測定値の比較を表1に示す。これより、
NRLM−ツガミ光波干渉計との測定値の差は±0.0
3μm以内であることが分かる。
[Effects] Table 1 shows a comparison between the measured values of the dimensions of the block gauge obtained by the measurement of the embodiment and the measured values of the NRLM-tsugami light wave interferometer (Michelson type interferometer). Than this,
The difference between the measured value and the NRLM-tsugami light wave interferometer is ± 0.0
It can be seen that it is within 3 μm.

【0016】光学系のアライメントは、実施例における
光学系ではL3の反時計回りの光路と時計回りの光路は
平行でなければならない。もし、このふたつの光路のな
す角がδθであったならば、測定されるブロックゲージ
の長さにはδθの二次までの近似で−(LBδθ2)/8
の誤差が生じる。また、L3とブロックゲージからの反
射光が平行でなく、そのふたつの光路のなす角がδψの
時には、やはりδψの二次までの近似で(L3δψ2)/
4の誤差が生じる。
In the alignment of the optical system, in the optical system in the embodiment, the counterclockwise optical path of L3 and the clockwise optical path must be parallel. If the angle between the two optical paths is δθ, the length of the measured block gauge is − (LBδθ 2 ) / 8 by approximation to the second order of δθ.
Error occurs. When L3 and the reflected light from the block gauge are not parallel and the angle between the two optical paths is δψ, the approximation of δψ to the second order is (L3δψ 2 ) /
4 errors occur.

【0017】本発明の光学系では、前者については反射
ミラーM1およびM2の向きを調整することによりδθを
約7×10-4rad程度に、後者はブロックゲージの向き
を調整する事によりδψを約10-4rad程度にすること
ができる。これより、もしL3が1mで100mmのブロ
ックゲージを測定するならば、−(LBδθ2)/8=−
5×10-9m、(L3δψ2)/4=3×10-9mの誤差
が生じることになる。この値は通常のブロックゲージの
寸法測定の誤差としては十分小さい。
In the optical system of the present invention, for the former, δθ is adjusted to about 7 × 10 -4 rad by adjusting the directions of the reflecting mirrors M1 and M2, and for the latter, δψ is adjusted by adjusting the direction of the block gauge. It can be about 10 -4 rad. Than this, if L3 measures the block gauge 100mm at 1m, - (LBδθ 2) / 8 = -
An error of 5 × 10 −9 m, (L3δψ 2 ) / 4 = 3 × 10 −9 m occurs. This value is sufficiently small as an error in the dimension measurement of a normal block gauge.

【0018】実施例の実験結果では90mmのブロックゲ
ージにおいて、本発明の測定値とNRLM−ツガミ干渉
計の測定値との差が比較的大きくなっている。これは実
施例において温度補正に用いた温度計の精度が±0.0
3℃程度であり、それに主に起因するものと思われる。
これは、実験装置の断熱性および温度測定精度の向上等
によって改善されるであろう。1.01〜24.5mmの
ブロックゲージについてはNRLM−ツガミ干渉計との
差は±0.01μm以内であり、非常によく一致してい
る。
According to the experimental results of the embodiment, the difference between the measured value of the present invention and the measured value of the NRLM-tsugami interferometer is relatively large in a 90 mm block gauge. This is because the accuracy of the thermometer used for temperature correction in the embodiment was ± 0.0
It is about 3 ° C, which seems to be mainly due to it.
This may be improved by improving the adiabaticity and temperature measurement accuracy of the experimental device. With respect to the block gauge of 1.01 to 24.5 mm, the difference from the NRLM-tsugami interferometer is within ± 0.01 μm, which is very good agreement.

【0019】本発明の実施例において使用した光学系で
は、ブロックゲージとベースプレトとの密着を必要とし
ないが、測定回数が従来の干渉計の二倍必要となる。こ
れは測定者の負担にもなるし、また測定誤差の原因にも
なり得る。しかし、近年、安価で高性能な光学電子素子
の普及にともない、干渉縞の自動測定技術も進歩してい
る。このような技術を用いれば測定回数が増える欠点も
解消される。また、観測光としてレーザー光を利用でき
るので、S/N比を大幅に向上することが可能である。
The optical system used in the embodiment of the present invention does not require close contact between the block gauge and the base plate, but requires twice the number of measurements as in the conventional interferometer. This can be a burden on the measurer and can also cause measurement errors. However, in recent years, with the spread of inexpensive and high-performance optoelectronic devices, the technology for automatically measuring interference fringes has also been advanced. The use of such a technique also eliminates the disadvantage of increasing the number of measurements. Further, since laser light can be used as observation light, it is possible to greatly improve the S / N ratio.

【0020】[0020]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の測定法に使用する光学系の概略図であ
る。
FIG. 1 is a schematic diagram of an optical system used in the measurement method of the present invention.

【図2】従来のブロックゲージ測定用の干渉計で、合致
法による絶対測定に使用する光学系の概略図である。
FIG. 2 is a schematic view of a conventional interferometer for measuring a block gauge, which is used for an absolute measurement by a matching method.

【図3】図2に示す従来例に使用される、特別の2個の
ブロックゲージ部の拡大説明図である。
FIG. 3 is an enlarged explanatory view of two special block gauge portions used in the conventional example shown in FIG. 2;

【図4】従来例における合致法による絶体測定の場合
の、干渉縞の関係を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing the relationship between interference fringes in the case of absolute measurement by a matching method in a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

LS 光源 HMR ハーフミラー HM ハーフミラー MR 参照ミラー W 光学楔 SC スクリーン BG ブロックゲージ M1,M2 反射ミラー C,D ブロックゲージ C1,D1 密着面 G1,G2 ブロックゲージ端面 LS light source HMR half mirror HM half mirror MR reference mirror W optical wedge SC screen BG block gauge M1, M2 reflection mirror C, D block gauge C1, D1 adhesion surface G1, G2 block gauge end surface

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 光源LSから出た光をブロックゲージB
Gに向う光と光学楔を介して参照ミラーMRに向う光に
分けるハーフミラーHMRと、ブロックゲージに向う光
を再度分けるハーフミラーHMと、該ハーフミラーHM
で分けられた光を各々ブロックゲージの両端面に向ける
2個の反射ミラーM1、M2とを用い、LB=λ/2{N
+(ε3−ε1)+(ε3−ε2)}の関係に従ってブロッ
クゲージ長さLBを求める測定方法であって、 (ε3−ε1)及び(ε3−ε2)は参照ミラーMRからの
光とブロックゲージ端面からの反射光との干渉縞のズレ
から、光学楔Wによってスクリーンの干渉縞を移動する
ことにより測定し、既知のNとλを用いてブロックゲー
ジの長さLBを測定することを特徴とする非密着光波干
渉測定法。ただし、λは使用光の波長、Nはゲージ寸法
をλ/2で割った商の整数部分で縞次数を、εはその端
数部分を表すものとする。
1. A light emitted from a light source LS is supplied to a block gauge B.
A half mirror HMR for splitting light toward G and a light toward the reference mirror MR via an optical wedge, a half mirror HM for splitting light again toward the block gauge, and the half mirror HM
LB = λ / 2 {N using two reflection mirrors M 1 and M 2 for directing the light divided by the above to both end faces of the block gauge, respectively.
+ (Ε3−ε1) + (ε3−ε2)} This is a measuring method for obtaining the block gauge length LB, where (ε3−ε1) and (ε3−ε2) are the light from the reference mirror MR and the block gauge. Measurement is performed by moving the interference fringes of the screen with the optical wedge W from the deviation of the interference fringes from the reflected light from the end face, and the length LB of the block gauge is measured using known N and λ. Non-contact light wave interferometry. Here, λ is the wavelength of the used light, N is an integer part of a quotient obtained by dividing the gauge dimension by λ / 2, and ε represents a fractional part thereof.
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