JP2642200B2 - Decomposition device for organic halogen compounds by plasma reaction method - Google Patents

Decomposition device for organic halogen compounds by plasma reaction method

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JP2642200B2
JP2642200B2 JP1225211A JP22521189A JP2642200B2 JP 2642200 B2 JP2642200 B2 JP 2642200B2 JP 1225211 A JP1225211 A JP 1225211A JP 22521189 A JP22521189 A JP 22521189A JP 2642200 B2 JP2642200 B2 JP 2642200B2
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、フロンガス,トリクロロエチレン等の有機
化合物中にフッ素,塩素,臭素を含む有機ハロゲン化合
物を効率良く分解することができるプラズマ反応法によ
る有機ハロゲン化合物の分解装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial application field) The present invention relates to an organic compound by a plasma reaction method capable of efficiently decomposing an organic halogen compound containing fluorine, chlorine and bromine in an organic compound such as chlorofluorocarbon and trichloroethylene. The present invention relates to an apparatus for decomposing a halogen compound.

(従来の技術) フロンガス,トリクロロエチレン等の有機化合物中に
フッ素,塩素,臭素を含む有機ハロゲン化合物は、溶
剤,冷媒,消化剤等に幅広くかつ大量に使用されてお
り、産業における重要性が高い。しかしながら、これら
の化合物は、揮発性が高く、産業で使用されるものの多
くが大気,水,土壌等の環境中へ放出され、その結果、
オゾン層の破壊,発がん性物質の生成,変異原性物質の
生成等、環境に対し、深刻な影響を与えることが指摘さ
れている。
(Prior Art) Organic halogen compounds containing fluorine, chlorine and bromine in organic compounds such as chlorofluorocarbon and trichloroethylene are widely and widely used in solvents, refrigerants, digestives and the like, and are of great importance in industry. However, these compounds are highly volatile and many of those used in industry are released into the environment such as air, water and soil, and as a result,
It has been pointed out that it has serious effects on the environment, such as destruction of the ozone layer, generation of carcinogens, and generation of mutagenic substances.

使用済みの有機ハロゲン化合物を廃棄処理する場合に
は、その反応性が極端に低いため、適切な分解処理方法
がないのが現状である。
In the case of disposing of used organic halogen compounds, the reactivity is extremely low, and at present, there is no appropriate decomposition treatment method.

分解処理方法として従来より報告されているものは、
主に高温での燃焼技術である。しかしながら、この方法
では、大量の炭化水素等の燃料と共に有機ハロゲン化合
物を燃焼させるため、エネルギー効率が極端に低く、
又、燃料タンクや燃料炉が大型のため、装置全体を小形
化することができない。更に、燃焼に伴って発生する遊
離ハロゲンが高温の炉壁と接触し、特に、有機フッ素化
合物を燃焼させた場合には、炉の腐蝕が甚だしい。
What has been reported as a decomposition method has been
It is mainly a high temperature combustion technology. However, in this method, since the organic halogen compound is burned together with a large amount of fuel such as hydrocarbons, the energy efficiency is extremely low,
In addition, since the fuel tank and the fuel furnace are large, the entire apparatus cannot be downsized. Furthermore, the free halogen generated by the combustion comes into contact with the furnace wall at a high temperature, and particularly when the organic fluorine compound is burned, the furnace is corroded severely.

本発明者は、有機ハロゲン化合物を容易に分解できる
方法について鋭意研究した結果、高周波,マイクロ波に
よる誘導加熱方式あるいは直流加熱方式等によって生成
されたプラズマを用いた分解方法を見出した。これは、
プラズマ状態下では、物質が非常に反応性に富む現象を
利用したもので、有機ハロゲン化合物のような難分解性
化学物質を短時間で分解できることに基づくものであ
る。すなわち、10000℃以上に達する高温プラズマ中で
は、ほとんど全ての分子は解離して原子状態に分解が行
われるものと思われる。
The present inventor has conducted intensive studies on a method capable of easily decomposing an organic halogen compound, and as a result, has found a decomposition method using plasma generated by an induction heating method using a high frequency or a microwave or a direct current heating method. this is,
Under the plasma state, the substance utilizes a phenomenon that the substance is very reactive, and is based on the fact that a hardly decomposable chemical substance such as an organic halogen compound can be decomposed in a short time. That is, in a high-temperature plasma reaching 10,000 ° C. or higher, almost all molecules are considered to be dissociated and decomposed into an atomic state.

(発明が解決しようとする課題) このようなプラズマを用いた分解方法で、プラズマ中
に有機ハロゲン化合物として、例えば、トリクロロフル
オロメタン(フロン−11…CCl3F)と水を注入した場
合、その反応は次のようにして進む。
(Problems to be Solved by the Invention) In such a decomposition method using plasma, when, for example, trichlorofluoromethane (fluorocarbon-11 ... CCl 3 F) and water are injected into the plasma as an organic halogen compound, the The reaction proceeds as follows.

CCl3F+2H2O =CO2+3HCl+HF しかしながら、この反応は、反応後継続して高温に晒
されている時間が長いと、反応が更に進んでダイオキシ
ンが生じてしまう。
However, if the reaction is continued for a long time after the reaction for a long period of time, the reaction proceeds further, and dioxin is produced. CCl 3 F + 2H 2 O = CO 2 + 3HCl + HF

上記の反応によって生じたダイオキシンは、極めて有
害な物質である。
Dioxins produced by the above reaction are extremely harmful substances.

本発明はこのような点に鑑みてなされたもので、その
目的は、有害な副生物を生じること無く、フロンなどの
有機ハロゲン化合物を高効率で分解することができるプ
ラズマ反応法による有機ハロゲン化合物の分解装置を実
現するにある。
The present invention has been made in view of such a point, and an object thereof is to provide an organic halogen compound by a plasma reaction method that can decompose an organic halogen compound such as chlorofluorocarbon with high efficiency without generating harmful by-products. To realize the disassembly device.

(課題を解決するための手段) 本発明に基づくプラズマ反応法による有機ハロゲン化
合物の分解装置は、円筒状の管と、ガス供給ノズルと、
管の周囲に巻回されたRFコイルとを備え、円筒状の管の
内部にプラズマを形成すると共に、形成されたプラズマ
中にノズルを介して有機ハロゲン化合物を供給するよう
にした装置において、円筒状の管の途中にリング状の管
を設け、このリング状の管から、形成されているプラズ
マ中に気体あるいは液体を噴出させるように構成したこ
とを特徴としている。
(Means for Solving the Problems) An apparatus for decomposing an organic halogen compound by a plasma reaction method according to the present invention comprises a cylindrical tube, a gas supply nozzle,
An RF coil wound around the tube, forming a plasma inside the cylindrical tube, and supplying an organic halogen compound through a nozzle into the formed plasma. A ring-shaped tube is provided in the middle of the tube, and a gas or a liquid is ejected from the ring-shaped tube into the plasma being formed.

(作用) 本発明では、プラズマ発生領域外側に、リング状の気
体あるいは液体の流路を設け、この流路からプラズマ中
に気体あるいは液体を噴出させ、プラズマを途中で強制
的に消去させ、有機ハロゲン化合物がプラズマ中で分
解,反応後、急冷し、有害な副生物の発生を防止する。
(Operation) In the present invention, a ring-shaped gas or liquid flow path is provided outside the plasma generation region, and the gas or liquid is jetted out of the flow path into the plasma, and the plasma is forcibly erased on the way. Halogen compounds are decomposed and reacted in plasma, and then quenched to prevent generation of harmful by-products.

(実施例) 以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明す
る。添附図面は本発明に基づく高周波誘導プラズマ装置
を用いた、フロン等の有機ハロゲン化合物を分解するシ
ステムを示している。誘導プラズマ発生部(トーチ)1
は、石英等の絶縁性物質で形成された円筒状の管2,ガス
供給ノズル3および管2の周囲に巻回されたRFコイル4
等によって構成されている。ガス供給ノズル3には、リ
ング状の溝5が穿たれており、その溝5の外側にはリン
グ状のプレート6が溶接されている。リング状のプレー
ト6には、多数の微小孔7が穿たれており、又、溝5
は、ノズル3内部に穿たれた孔8の一端が接続されてい
る。孔8の他端は、ノズル3の上部において、管9に接
続されている。
(Example) Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The accompanying drawings show a system for decomposing an organic halogen compound such as chlorofluorocarbon using a high-frequency induction plasma apparatus according to the present invention. Induction plasma generator (torch) 1
Are a cylindrical tube 2, a gas supply nozzle 3, and an RF coil 4 wound around the tube 2 formed of an insulating material such as quartz.
And so on. A ring-shaped groove 5 is formed in the gas supply nozzle 3, and a ring-shaped plate 6 is welded to the outside of the groove 5. The ring-shaped plate 6 has a large number of microholes 7 formed therein.
Is connected to one end of a hole 8 formed inside the nozzle 3. The other end of the hole 8 is connected to a pipe 9 above the nozzle 3.

管2の途中には、リング状の通路10が設けられてお
り、この通路10の内側には、多数の微小孔11が穿たれて
いる。通路10には、フローコントローラ12を介してアル
ゴンガス源13に接続されている管14が接続されており、
アルゴンガス源13からのガスがフローコントローラ12に
よって適宜な流量にされ、通路10内に供給できるように
構成されている。通路10内に供給されたアルゴンガス
は、多数の微小孔11から管2内に勢いよく噴出される。
A ring-shaped passage 10 is provided in the middle of the tube 2, and a number of micro holes 11 are formed inside the passage 10. A pipe 14 connected to an argon gas source 13 via a flow controller 12 is connected to the passage 10,
The gas is supplied from the argon gas source 13 to the flow controller 12 at an appropriate flow rate and supplied into the passage 10. The argon gas supplied into the passage 10 is vigorously jetted into the pipe 2 from the many micro holes 11.

管9は、途中で分岐しており、一方は第1の容器15内
部に、他方は、第2の容器16内部に導入されている。第
1の容器15内には、分解されるべきフロン113の如き液
状の有機ハロゲン化合物17が入れられている。第1の容
器15内の有機ハロゲン化合物の中には、キャリアガス供
給管18の一端が挿入されている。キャリアガス供給管18
の他端は、フローコントローラ19を介して、アルゴンガ
ス源20に接続されている。第2の容器16内には、水21が
入れられており、この水21の中には、キャリアガス供給
管22の一端が挿入されている。キャリアガス供給管22の
他端は、フローコントローラ23を介してアルゴンガス源
20に接続されている。
The pipe 9 branches off in the middle, one of which is introduced into the first container 15 and the other into the second container 16. The first container 15 contains a liquid organic halogen compound 17 such as Freon 113 to be decomposed. One end of a carrier gas supply pipe 18 is inserted into the organic halogen compound in the first container 15. Carrier gas supply pipe 18
Is connected to an argon gas source 20 via a flow controller 19. Water 21 is contained in the second container 16, and one end of a carrier gas supply pipe 22 is inserted into the water 21. The other end of the carrier gas supply pipe 22 is connected to an argon gas source via a flow controller 23.
Connected to 20.

管9の途中には、切換バルブ24が設けられている。切
換バルブ24は、第1の容器15と第2の容器16からのガス
と、アルゴンガス源25からのガスとを切換えてノズル3
に穿たれた孔8に導くようにしている。アルゴンガス源
25からのガス流量は、フローコントローラ26によって制
御される。
A switching valve 24 is provided in the middle of the pipe 9. The switching valve 24 switches between the gas from the first container 15 and the second container 16 and the gas from the argon gas source 25 to switch the nozzle 3.
To the hole 8 formed in the hole. Argon gas source
The gas flow from 25 is controlled by a flow controller 26.

トーチ1を構成する円筒状の管2の下部には開口27が
設けられており、この開口27には排気管28が接続されて
いる。排気管28は、排気されるガスの中に含まれている
過剰に発生した炭素等粉末物質をトラップするサイクロ
ン29に接続されている。サイクロン29を通過した排気ガ
スは、管30に導かれるが、管30は、内部に内部にアルカ
リ性水溶液、例えば、水酸化カリウム(KOH)31が入れ
られた容器32内に導入されている。容器32の上部には、
内部気体の排出管33が設けられており、この排出管33
は、内部にアルカリ性固体、例えば、酸化カルシウム
(CaO)34が入れられた容器35の下部につながれてい
る。容器35の上部には、内部の酸化カルシウム34の間の
通過した気体の排出管36が設けられている。
An opening 27 is provided at a lower portion of the cylindrical tube 2 constituting the torch 1, and an exhaust pipe 28 is connected to the opening 27. The exhaust pipe 28 is connected to a cyclone 29 that traps excessively generated powdered substances such as carbon contained in the exhausted gas. The exhaust gas that has passed through the cyclone 29 is guided to a pipe 30. The pipe 30 is introduced into a container 32 in which an alkaline aqueous solution, for example, potassium hydroxide (KOH) 31 is placed. At the top of the container 32,
An internal gas exhaust pipe 33 is provided.
Is connected to the lower part of a container 35 in which an alkaline solid, for example, calcium oxide (CaO) 34 is placed. At the upper part of the container 35, there is provided a discharge pipe 36 for passing gas between the calcium oxides 34 therein.

このように構成された装置の動作を説明すれば以下の
通りである。装置の初期状態においては、管9の途中に
設けられた切換バルブ24を操作し、アルゴンガス源25か
らのアルゴンガスがノズル3の孔8を介して溝5内に供
給されるようにする。溝5へのアルゴンガスの供給によ
り、アルゴンガスは、プレート6に設けられた多数の微
小孔7から円筒状の管2内部に噴出される。この状態
で、RFコイル4に高周波を供給し図示外の点火機構によ
り、プラズマPを着火する。
The operation of the device configured as described above will be described below. In the initial state of the apparatus, the switching valve 24 provided in the middle of the pipe 9 is operated so that the argon gas from the argon gas source 25 is supplied into the groove 5 through the hole 8 of the nozzle 3. The supply of the argon gas to the groove 5 causes the argon gas to be ejected into the inside of the cylindrical tube 2 from a number of micro holes 7 provided in the plate 6. In this state, high frequency is supplied to the RF coil 4 and the plasma P is ignited by an ignition mechanism (not shown).

その後、切換バルブ24を切換え、アルゴンガス源25か
らのアルゴンガスに代え、第1の容器15と第2の容器16
からのガスがノズル3の孔8を介して溝5内に供給され
るようにする。第1の容器15においては、内部の有機ハ
ロゲン化合物溶液17中に、アルゴンガス源20に接続され
ているキャリアガス供給管18が挿入されており、有機ハ
ロゲン化合物17内に開放された管18の端部から、フロー
コントローラ19によって適宜な流量にされたアルゴンガ
スが噴出される。この結果、有機ハロゲン化合物は、ア
ルゴンガスのバブリングにより、蒸気となってガスの中
に含まされ、第1の容器15内から管9の中に排出され
る。また、第2の容器16においては、内部の水21の中に
アルゴンガス源20に接続されているキャリアガス供給管
22が挿入されており、水21の中に開放された管22の端部
から、フローコントローラ23によって適宜な流量にされ
たアルゴンガスが噴出される。この結果、水は、アルゴ
ンガスのバブリングにより、蒸気となってガスの中に含
まされ、第1の容器16内から管9の中に排出される。
Thereafter, the switching valve 24 is switched to replace the argon gas from the argon gas source 25 with the first container 15 and the second container 16.
From the nozzle 3 is supplied into the groove 5 through the hole 8 of the nozzle 3. In the first container 15, a carrier gas supply pipe 18 connected to an argon gas source 20 is inserted into an organic halogen compound solution 17 therein, and a tube 18 opened into the organic halogen compound 17 is connected to the carrier gas supply pipe 18. From the end, an argon gas adjusted to an appropriate flow rate by the flow controller 19 is jetted. As a result, the organic halogen compound is vaporized by the bubbling of the argon gas, contained in the gas, and discharged from the first container 15 into the pipe 9. In the second container 16, a carrier gas supply pipe connected to an argon gas
22 is inserted, and argon gas adjusted to an appropriate flow rate by the flow controller 23 is ejected from the end of the tube 22 opened into the water 21. As a result, the water is vaporized by the bubbling of the argon gas, contained in the gas, and discharged from the first container 16 into the pipe 9.

管9の途中の分岐部Jで有機ハロゲン化合物の蒸気を
含んだアルゴンガスと、水蒸気を含んだアルゴンガスは
混合され、混合ガスは、ノズル3の孔8を介して溝5中
に導入される。混合ガスは、溝5から、プレート6に設
けられた多数の微小孔7を通って管2内に噴き出され、
プラズマフレームF中に導入される。このとき、プラズ
マの温度は1万度〜1万5千度になっており、プラズマ
フレームF中に導入された有機ハロゲン化合物及び水
は、高温により高い効率で分解して下記に示す反応をす
る。
Argon gas containing the vapor of the organic halogen compound and argon gas containing the water vapor are mixed at the branch J in the middle of the pipe 9, and the mixed gas is introduced into the groove 5 through the hole 8 of the nozzle 3. . The mixed gas is ejected from the groove 5 into the tube 2 through a large number of micro holes 7 provided in the plate 6,
It is introduced into the plasma frame F. At this time, the temperature of the plasma is in the range of 10,000 to 15,000 degrees, and the organic halogen compound and water introduced into the plasma frame F are decomposed at high temperature with high efficiency to perform the following reaction. .

有機ハロゲン化合物としてトリクロロフルオロメタン
(フロン−11…CCl3F)をプラズマ中で分解させた場
合、水との間で、次の反応が生じる。
If trichlorofluoromethane (Freon -11 ... CCl 3 F) is decomposed in the plasma as organohalogen compounds, with the water, the following reactions occur.

CCl3F+2H2O =CO2=3HCl+HF 管2の途中の通路10に設けられた微小孔11からは、ア
ルゴンガス源13からフローコントローラ12によって流量
が調節されたアルゴンガスが勢いよく吹き出される。こ
のアルゴンガス流は、プラズマフレームF中に注入さ
れ、この結果、プラズマフレームFは、瞬間的に急冷さ
れ、ガス流が注入された部分でプラズマは消去する。従
って、上記反応式のように分解された有機ハロゲン化合
物は、プラズマフレームが途中で急冷されるため、それ
以上の反応は進まず、有害な副生物が生じることは防止
される。
CCl 3 F + 2H 2 O = CO 2 = 3HCl + HF Argon gas whose flow rate has been adjusted by a flow controller 12 from an argon gas source 13 is vigorously blown out of a minute hole 11 provided in a passage 10 in the middle of the tube 2. This argon gas flow is injected into the plasma flame F. As a result, the plasma flame F is instantaneously cooled, and the plasma is erased at the portion where the gas flow is injected. Therefore, the organic halogen compound decomposed as shown in the above reaction formula is rapidly cooled in the middle of the plasma flame, so that no further reaction proceeds and generation of harmful by-products is prevented.

分解された分子を含む排気ガスは、管2の底部の開口
27から排出管28を通って、サイクロン29内に導かれる。
このとき、フロン−11に比べて水が少ないと過剰の炭素
を生じるが、このサイクロン29内で、排出ガス中に含ま
れている炭素等の微粉末はトラップされる。サイクロン
29を通ったガスは、管30から容器32の内部の水酸化カリ
ウム水溶液31中に導入される。この容液31中に排出ガス
を通すことによって、HCl,HF等の酸を含む排出ガスは中
和される。中和されたガスは、容器32の底部から排出管
33を通って、容器35内部に導入され、容器35内部の酸化
カルシウム34によって脱水される。脱水されたガスは、
安定な、環境に影響をほとんど与えない化合物であり、
適宜排気管36を通って、大気中に放出される。
The exhaust gas containing the decomposed molecules flows through the opening at the bottom of the tube 2.
From 27, it is led through discharge pipe 28 into cyclone 29.
At this time, if the amount of water is smaller than that of CFC-11, excess carbon is generated. However, in the cyclone 29, fine powder such as carbon contained in the exhaust gas is trapped. Cyclone
The gas that has passed through 29 is introduced from a pipe 30 into a potassium hydroxide aqueous solution 31 inside a container 32. By passing the exhaust gas through this solution 31, the exhaust gas containing acids such as HCl and HF is neutralized. The neutralized gas is discharged from the bottom of the container 32
Through 33, it is introduced into the container 35 and dehydrated by the calcium oxide 34 inside the container 35. The dehydrated gas is
It is a stable compound that hardly affects the environment,
The gas is discharged into the atmosphere through an exhaust pipe 36 as appropriate.

以上本発明の実施例を詳説したが、本発明はこの実施
例に限定されない。例えば、プラズマフレーム中にアル
ゴンガスを噴出されたが、NOXの発生が問題なければ、
窒素ガスを噴出させても良い。また、ガスではなく、水
を噴出させ、分解によって発生したHClやHFを吸収させ
ても良い。更に、アルカリ水溶液をプラズマフレーム中
に噴出させれば、急冷の効果は更に大きくなると共に、
中和反応により分解反応後に生成されたHFやHClの吸収
をより促進することができる。この酸を中和する目的の
ためには、アンモニアの如きアルカリ性のガスを用いて
も良い。このガスを用いた場合には、中和により、塩化
アンモニウム,フッ化アンモニウム等の固体への変換が
できる。更にまた、トーチのノズルに溝を一つ設け、こ
の溝にアルゴンガスとバブリングによって有機ハロゲン
化合物の蒸気を含んだキャリアガスとを切換えて供給す
るようにしたが、ノズルに溝を二つ設け、一方にはアル
ゴンガスとバブリングによって有機ハロゲン化合物の蒸
気を含んだキャリアガスとを切換えて供給するように
し、他方には、継続的にアルゴンガスを供給するように
構成しても良く、プラズマ中に有機ハロゲン化合物を供
給する方式は、上記実施例に限定されない。
Although the embodiment of the present invention has been described in detail, the present invention is not limited to this embodiment. For example, although the argon gas is ejected into the plasma flame, if there is no occurrence of the NO X problem,
Nitrogen gas may be ejected. Instead of gas, water may be blown out to absorb HCl and HF generated by decomposition. Furthermore, if an alkaline aqueous solution is jetted into the plasma frame, the effect of quenching is further enhanced,
The neutralization reaction can further promote the absorption of HF and HCl generated after the decomposition reaction. For the purpose of neutralizing the acid, an alkaline gas such as ammonia may be used. When this gas is used, it can be converted into a solid such as ammonium chloride or ammonium fluoride by neutralization. Furthermore, one groove was provided in the nozzle of the torch, and argon gas and a carrier gas containing an organic halogen compound vapor were switched and supplied to this groove by bubbling.However, two grooves were provided in the nozzle, One side may be configured to switch and supply an argon gas and a carrier gas containing a vapor of an organic halogen compound by bubbling, and the other side may be configured to continuously supply an argon gas. The method of supplying the organic halogen compound is not limited to the above embodiment.

また、上記の実施例ではプラズマを消滅させるため
に、微小孔11からアルゴンガスを噴射させる場合を例に
とったが、本発明はこれに限るものではなく、トーチ1
の周囲にリング状のスリットを形成せしめ、該スリット
からアルゴンガスをプラズマフレームに噴射させるよう
にしてもよい。
Further, in the above-described embodiment, an example is described in which argon gas is injected from the minute holes 11 in order to extinguish the plasma. However, the present invention is not limited to this, and the torch 1
A ring-shaped slit may be formed around the plasma frame, and argon gas may be injected into the plasma frame from the slit.

(発明の効果) 以上説明したように、本発明によれば、生成されたプ
ラズマフレーム中にプラズマを急冷するために、気体あ
るいは液体を注入するようにしたので、プラズマ中での
有機ハロゲン化合物の分解反応を途中で停止することが
でき、有害な副生物の生成を防止することができる。
(Effect of the Invention) As described above, according to the present invention, a gas or a liquid is injected in order to rapidly cool the plasma into the generated plasma frame, and thus the organic halogen compound in the plasma is generated. The decomposition reaction can be stopped halfway, and the generation of harmful by-products can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

添附図面は本発明に基づく有機ハロゲン化合物の分解装
置の一実施例を示す図である。 1……トーチ、2……管 3……ガス供給ノズル、4……RFコイル 5……溝、6……プレート 7……微小孔、8……孔 9,14,18,22,30……管 10……通路、11……微小孔 13,20,25……アルゴンガス源 15……第1の容器、16……第2の容器 17……有機ハロゲン化合物 12,19,23,26……フローコントローラ 21……水、24……切換バルブ 27……開口、28,33……排気管 29……サイクロン 31……水酸化カリウム水溶液 32,35……容器、34……酸化カルシウム 36……排出管
The accompanying drawings are views showing an embodiment of the organic halogen compound decomposing apparatus according to the present invention. 1 ... torch, 2 ... tube 3 ... gas supply nozzle, 4 ... RF coil 5 ... groove, 6 ... plate 7 ... micro hole, 8 ... hole 9,14,18,22,30 ... ... tube 10 ... passage, 11 ... micropores 13,20,25 ... argon gas source 15 ... first container, 16 ... second container 17 ... organohalogen compounds 12,19,23,26 ... Flow controller 21 ... Water, 24 ... Switching valve 27 ... Opening, 28,33 ... Exhaust pipe 29 ... Cyclone 31 ... Potassium hydroxide aqueous solution 32,35 ... Container, 34 ... Calcium oxide 36 …… Discharge pipe

フロントページの続き (72)発明者 平川 祥治 東京都昭島市武蔵野3丁目1番2号 日 本電子株式会社内Continuation of front page (72) Inventor Shoji Hirakawa 3-1-2 Musashino, Akishima-shi, Tokyo Japan Electronics Co., Ltd.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】円筒状の管と、ガス供給ノズルと、管の周
囲に巻回されたRFコイルとを備え、円筒状の管の内部に
プラズマを形成すると共に、形成されたプラズマ中にノ
ズルを介して有機ハロゲン化合物を供給するようにした
装置において、円筒状の管の途中にリング状の管を設
け、このリング状の管から、形成されているプラズマ中
に気体あるいは液体を噴出させるように構成したプラズ
マ反応法による有機ハロゲン化合物の分解装置。
1. A plasma processing apparatus comprising: a cylindrical tube, a gas supply nozzle, and an RF coil wound around the tube; forming a plasma inside the cylindrical tube; In an apparatus configured to supply an organic halogen compound through a tube, a ring-shaped tube is provided in the middle of a cylindrical tube, and a gas or a liquid is ejected from the ring-shaped tube into plasma being formed. An apparatus for decomposing an organic halogen compound by a plasma reaction method.
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