JP2638837B2 - Cathode ray tube - Google Patents
Cathode ray tubeInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はテレビジョン受像管、端末ディスプレイ装置
等に用いられる陰極線管、特にカラー陰極線管に関わ
る。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a cathode ray tube used for a television picture tube, a terminal display device and the like, and particularly to a color cathode ray tube.
本発明は、電子銃の主電子レンズ部にダイナミックフ
ォーカスに応じて静電的な四重極を発生させると共に、
中心ビームまたはサイドビームに対する前段電子レンズ
の少くとも何れか一方が水平方向と垂直方向に対して非
対称のレンズ作用を有するようにして電磁偏向手段にお
ける電界の歪みに基づく画面周辺の電子ビームスポット
の歪みを改善する。The present invention generates an electrostatic quadrupole in the main electron lens portion of the electron gun according to the dynamic focus,
Distortion of the electron beam spot around the screen due to electric field distortion in the electromagnetic deflection means so that at least one of the front electron lenses for the center beam or the side beam has an asymmetric lens action in the horizontal and vertical directions. To improve.
従来のカラー陰極線管は、例えば第10図に示すよう
に、陰極線管管体(1)のパネル部内面に形成されたカ
ラー螢光面(2)に対向して管体(1)のネック部内に
電子銃(3)が配置される。このカラー陰極線管におい
て、複数のカソード例えば赤、緑及び青の各色に対応す
る各カソードKR,KG及びKBが電子銃(3)の軸心Z方向
と、これと直交するX方向とを含むX−Z平面上に配列
され、螢光面(2)側からみて各カソードKR,KG及びKB
が直線上にすなわちインラインに配列されたいわゆるイ
ンライン型構成をとり、各カソードKR,KG及びKBから取
り出された電子ビームKR,KG及びKBに対して共通に第1
グリッドG1,第2グリッドG2,第3グリッドG3,第4グリ
ッドG4,第5グリッドG5が配列され、第3グリッドG3す
なわち第1の陽極電極と、第4グリッドG4すなわちフォ
ーカス電極と、第5グリッドG5すなわち第2の陽極電極
とによって共通のユニポテンシャル型主電子レンズを構
成し、この主電子レンズのほぼ中央において、各電子ビ
ームBR,BG及びBBが交差するようになされる。第5グリ
ッドすなわち第2陽極G5の後段には、例えば静電偏向板
によって構成されたコンバージェンス手段Cが設けられ
て、これによって各電子ビームBR,BG及びBBが螢光面
(2)上においてコンバージェンス(集中)するように
なされる。そして、この種の陽極線管において、その複
数例えば3本の電子ビームBR,BG及びBBが、螢光面
(2)の各位置において、すなわち画面周辺でも最適な
コンバージェンスが得られるようにその水平、垂直偏向
手段DYの磁界分布に歪みをもたせるようにした、いわゆ
るコンバージェンスフリー偏向ヨーク(以下CFDとい
う)を用いた構成をとるものがある。In a conventional color cathode ray tube, for example, as shown in FIG. 10, a neck portion of the tube (1) is opposed to a color phosphor screen (2) formed on an inner surface of a panel portion of the cathode ray tube (1). The electron gun (3) is arranged. In this color cathode ray tube, the axial Z direction of the plurality of cathodes such as red, green, and respective cathodes K R corresponding to the respective colors of blue, K G and K B are electron gun (3), the X-direction perpendicular thereto And the cathodes K R , K G and K B as viewed from the fluorescent screen (2) side.
There takes a so-called in-line arrangement which is arranged on a straight line that is in-line, first in common to each of the cathodes K R, K G and the electron beam is taken out from the K B K R, K G and K B
A grid G 1 , a second grid G 2 , a third grid G 3 , a fourth grid G 4 , and a fifth grid G 5 are arranged, and the third grid G 3, ie, the first anode electrode, and the fourth grid G 4 , and the focus electrode, by the fifth grid G 5 or second anode electrode constitutes a common unipotential type main electron lens, in substantially the center of the main electron lens, the electron beams B R, is B G and B B It is made to cross. The subsequent stage of the fifth grid or second anode G 5, for example electrostatically convergence means C, which is constituted by a deflector is provided, whereby the electron beam B R, B G and B B are fluorescent face (2 ) To converge. Then, the anode line pipe of this kind, the plurality of, for example, three electron beams B R, B G and B B are at respective positions of the fluorescent face (2), i.e., so that the optimum convergence can be obtained even with the periphery of the screen There is a configuration that employs a so-called convergence-free deflection yoke (hereinafter referred to as CFD) in which the magnetic field distribution of the horizontal and vertical deflection means DY is distorted.
この場合、螢光面(2)上におけるビームスポットを
第11図に模式的に示すと、例えば中央において円形状の
スポットが得られる場合、その周辺部特にコーナー部に
おいては横長のビームスポットが得られ、さらに斜め方
向に破線図示のようにオーバーフォーカシングによるハ
レーションが発生し実質的にビームスポットサイズが大
となって解像度の低下を招来する。In this case, FIG. 11 schematically shows the beam spot on the fluorescent screen (2). For example, when a circular spot is obtained at the center, a horizontally long beam spot is obtained at the peripheral part, particularly at the corner part. Further, halation due to overfocusing occurs in a diagonal direction as shown by a broken line, and the beam spot size is substantially increased, resulting in a reduction in resolution.
このようなCFDの歪みに基づくビームスポットの歪み
を解消するためには、CFDによって生ずる四重極的な歪
みをキャンセルする補正用の四重極を設けてビームを予
め縦長にするような歪みを積極的に与える方法がとられ
る。例えば第10図に示すように、管体(1)の電子銃
(3)が配置されたネック部の外周部に、電磁四重極
(4)を設けて第12図に細線矢印で示す磁界分布による
磁界歪みを与えてこれに偏向ヨークDYに与える偏向電流
と同期した電流を通電するとともにダイナミックフォー
カスを与えてCFDによる画面周辺部のスポット歪の補正
を行う。In order to eliminate the distortion of the beam spot based on the distortion of the CFD, a quadrupole for correction for canceling the quadrupole distortion caused by the CFD is provided, and the distortion which makes the beam vertically long in advance is provided. The method of giving positively is taken. For example, as shown in FIG. 10, an electromagnetic quadrupole (4) is provided on the outer periphery of the neck portion of the tube (1) where the electron gun (3) is arranged, and a magnetic field indicated by a thin arrow in FIG. A magnetic field distortion due to the distribution is applied, a current synchronized with a deflection current applied to the deflection yoke DY is supplied to the deflection yoke DY, and a dynamic focus is applied to correct a spot distortion at a peripheral portion of the screen by CFD.
ところが、このような構成による場合のように陰極線
管管体(1)のネック部の外周に電磁四重極(4)を設
けることはその位置の選定を正確に行う必要があるなど
組立製造が煩雑となるという問題点がある。However, the provision of the electromagnetic quadrupole (4) on the outer periphery of the neck portion of the cathode ray tube (1) as in the case of such a configuration requires an accurate selection of the position. There is a problem that it becomes complicated.
また、この四重極に偏向手段DYに対する偏向電流に同
期した電流を通電する必要から専用の回路が必要となり
コスト高を招来するという問題点がある。In addition, since it is necessary to supply a current synchronized with the deflection current to the deflection means DY to this quadrupole, a dedicated circuit is required, resulting in an increase in cost.
更に、また、この電磁四重極(4)に対する通電を行
うためのパワーが必要となり、陰極線管の消費電力が増
大するという問題点もある。Further, there is a problem that power for energizing the electromagnetic quadrupole (4) is required, and the power consumption of the cathode ray tube increases.
本発明は、上述した諸問題を解決し、簡単な構成によ
って確実にCFDの電界歪みに基づくスポット歪みを回避
することができるようにして高解像度化をはかることが
できるようにした陰極線管を提供する。The present invention solves the above-mentioned problems, and provides a cathode ray tube capable of achieving high resolution by reliably avoiding spot distortion based on electric field distortion of CFD with a simple configuration. I do.
本発明は、第1図に示すように複数のカソードKR,KG
及びKBが電子銃(3)の軸心Z方向とこれと直交するX
方向とを含むX−Z平面上に配列され、各カソードKR,K
G及びKBから取り出された電子ビームKR,KG及びKBに対し
て共通にユニポテンシャル型主電子レンズを構成する第
1の陽極電極G3とフォーカス電極G4と第2の陽極電極G5
とが順次同一軸心Z上に配列されてなる電子銃を具備
し、かつCFDを具備する陰極線管において、その主電子
レンズよりカソード側に、各電子ビームBR,BG及びBBに
対して、個々に、具体的には例えば第1の陽極電極G3と
その前段の共通の低電圧側の第2グリッドG2(図におい
ては、第2グリッドG2を構成する第1及び第2の電極部
分G21及びG22の後段側部分G22の後段側端面板(22B))
とによってバイポテンシャル型の前段電子レンズを構成
する。そして第2図にその前段電子レンズ及び主電子レ
ンズを構成する電極G2の後段側電極部分G22〜第5グリ
ッドG5の分解斜視図を示すように、この前段電子レンズ
を構成する低電圧側の電極G2(図においてはG2の端面板
(22B))の、中央に位置するセンター電子ビームに関
する電子ビーム透過開口h2GBが両側に位置するサイド電
子ビームに関する電子ビーム透過開口h2RB及びh2BBに比
し、Y方向に関して幅広にされるかX方向に関して幅狭
にされるか少くともいずれか一方の寸法関係に選定す
る。The present invention includes a plurality of cathodes K R as shown in FIG. 1, K G
And K B are orthogonal with the axis Z direction of the electron gun (3) and which X
The cathodes K R , K
Electron beam taken out from G and K B K R, the first anode electrode G 3 and the focus electrode G 4 second anode electrodes constituting the unipotential type main electron lens common to K G and K B G 5
In cathode ray tube bets is provided an electron gun comprising arranged sequentially on the same axis Z, and comprises a CFD, the cathode side of the main electron lens, the electron beams B R, with respect to B G and B B Te, individually, in the second grid G 2 (figure specifically the first anode electrode G 3 for example common low voltage side of the previous stage, the first and second constituting the second grid G 2 rear stage side end face plate of the second-stage portion G 22 of the electrode portions G 21 and G 22 (22B))
Thus, a bi-potential type front-stage electron lens is formed. And as shown in the exploded perspective view of the front electron lens and the rear stage side electrode portion G 22 ~ fifth grid G 5 electrode G 2 constituting the main electron lens in Figure 2, the low voltage constituting the preceding stage electron lens (end plates of the FIG. G 2 (22B)) electrode G 2 of the side, the electron beam penetrating apertures h 2 RB and a side electron beam an electron beam transmissive aperture h 2GB relates center electron beam located in the center is located on both sides Compared to h 2BB , the dimension is selected to be wider in the Y direction or narrower in the X direction, or at least one of them.
一方、フォーカス電極G4を特に軸心Z方向に関して3
分割された順次カソード側から第1,第2及び第3の電極
部分G41,G42及びG43より構成する。On the other hand, the focus electrode G 4 is set to 3
The first, second, and third electrode portions G 41 , G 42, and G 43 are sequentially formed from the divided cathode side.
このフォーカス電極G4の第1〜第3の電極部分G41〜G
43には、各電子ビームBR,BG及びBBに対して共通の電子
ビーム透過開口h41〜h43が中心軸Z上に設けられてな
る。フォーカス電極G4の第1及び第3の電極部分G41及
びG43の電子ビーム透過開口h41及びh43に関しては、X
方向に幅広でY方向に幅狭な透孔、例えば円形状におい
てY方向に関してX方向に沿う弦を有する切断円形状、
または長孔、ないしは楕円形あるいは長方形状等に形成
され、中央の第2の電極部分G42の電子ビーム透過開口h
42に関しては、X方向に関して幅狭とされた開口h41及
びh43の形状を90゜回転させた切断円形状または長孔な
いしは楕円形状、あるいは長方形状等に形成される。First to third electrode portions G 41 to G 41 of the focus electrode G 4
The 43 common electron beam transmissive aperture h 41 to h 43 are thus provided on the central axis Z for each electron beam B R, B G and B B. For the electron beam transmissive aperture h 41 and h 43 of the first and third electrode portions G 41 and G 43 of the focus electrode G 4, X
A through hole wide in the direction and narrow in the Y direction, for example, a cut circular shape having a chord along the X direction with respect to the Y direction in a circular shape,
Or elongated hole, or formed in an oval or rectangular shape or the like, the central electron beam transmissive aperture h of the second electrode portion G 42
For the 42, it is formed on the X narrow and is cut circular or elongated holes or elliptical shape of the opening h 41 and h 43 is rotated by 90 degrees with respect to the direction or rectangular shape or the like.
また、フォーカス電極G4の第2の電極部分G42に、第
1及び第2の陽極電極G3及びG5への印加電圧、すなわち
高圧陽極電圧(すなわち螢光面電位)HVの25〜33%程度
の第3図に示す固定フォーカス電圧VFCを印加し、これ
に対して第1及び第3の電極部分G41及びG43には、ダイ
ナミックフォーカス電圧を与える。このダイナミックフ
ォーカス電圧は1垂直走査周期を1周期とする電圧波形
に1水平走査周期を1周期とするパラボラ状の電圧が重
畳された電圧波形に選定される。Further, the second electrode portion G 42 of the focus electrode G 4, first and second voltage applied to the anode electrode G 3, and G 5, i.e. the high anode voltage (i.e. the fluorescent screen potential) HV 25 to 33 applying a fixed focus voltage V FC shown in Figure 3 of about%, the first and third electrode portions G 41 and G 43 contrary, gives a dynamic focus voltage. The dynamic focus voltage is selected as a voltage waveform in which a parabolic voltage having one horizontal scanning cycle is superimposed on a voltage waveform having one vertical scanning cycle.
このような構成による陰極線管における電子銃につい
て、電子レンズ系を光学レンズ系に置き換えてその概略
構成を示すと第4図に示すようになり、各ビームBR,BG
及びBBについて個々に前段電子レンズLSR,LSG及び
SBが、グリッドG2の後段側部分(22B)と第1の陽極電
極G3によるバイポテンシャル電子レンズによって構成さ
れ、各ビームBR,BG及びBBについて共通に主電子レンズL
Mが構成される。PC1及びPC2は後術するコンバージェン
ス手段Cによって形成されるコンバージェンス用プリズ
ムで、中央に位置するセンター電子ビームBGに、これに
対して両側に位置するサイド電子ビームBR及びBBが螢光
面(2)上で集中(コンバージェンス)するようになさ
れる。The electron gun in a cathode ray tube according to this configuration, by replacing the electron lens system in the optical lens system is as shown in Figure 4 when showing the schematic configuration thereof, each beam B R, B G
Front electron lens L SR, L SG and individually for and B B
SB is constituted by the rear stage side portion (22B) and bipotential electron lens according to the first anode electrode G 3 grid G 2, each beam B R, a main electron lens commonly to B G and B B L
M is configured. P C1 and P C2 is convergence prism formed by the convergence means C of the rear caster, the center electron beam B G is located in the center, the side electron beams B R and B B are fluorescent located on both sides relative thereto It is made to concentrate (convergence) on the light surface (2).
主電子レンズLMは、第1の陽極電極G3とフォーカス電
極G4とによって形成されるレンズ系LM1とフォーカス電
極G4と第2の陽極電極G5とによって形成されるレンズ系
LM2との合成レンズ系による集束レンズ系を構成するこ
とは、通常のユニポテンシャル型のレンズ構成と同様で
あるが、更に本発明構成では、主電子レンズLM内に、3
分割されたフォーカス電極の電極部分G41〜G43によっ
て、静電四重極レンズLQが構成される。つまり、電子ビ
ームBR,BG及びBBが画面中心の走査位置にあるとき、フ
ォーカス電極G4の第1〜第3の電極部分G41〜G43はほぼ
同一電圧にあって3つの電極部分G41〜G43によって形成
されるX−Z断面での電界分布は軸心Zに対して回転対
称となり、第5図Aに示すように電子ビームB(BR,BG,
BB)の断面形状は円形を示すが、画面の周辺部の走査時
においては、第5図Bに示すように中央電極部分G42の
電子ビーム透過開口h42と、両側電極部分G41及びG43の
各電子ビーム透過開口h41及びh43の幅狭部分の影響によ
ってその電界分布には四重極効果が生じY方向に広がり
X方向に狭ばめられる力が電子ビームBに対して与えら
れて縦長となる。したがって、このフォーカス電極G4に
おける四重極的電界によってビーム形状は偏向磁界に入
る前に、あらかじめCFDの歪を補正するような縦長とな
ることによって周辺部におけるビームスポットは、CFD
による歪が補正された円形状に近づいたスポット形状に
補正されることになる。The main electron lens L M is a lens system formed by the first anode electrode G 3 and a lens system L M1 and the focus electrode G 4 formed by the focus electrode G 4 and the second anode electrode G 5
Configuring the focusing lens system according composite lens system consisting of L M2 is the same as the lens arrangement of a conventional uni-potential type, the present invention further configuration, the main electron lens L in M, 3
The electrode portions G 41 ~G 43 of the split focus electrode, the electrostatic quadrupole lens L Q is formed. In other words, the electron beam B R, when B G and B B is in the scanning position of the screen center, the first to third electrode portions G 41 ~G 43 three electrodes be in substantially the same voltage of the focus electrode G 4 portion G 41 electric field distribution in the X-Z cross section defined by ~G 43 becomes rotationally symmetric with respect to the axis Z, the electron beam B (B R as shown in FIG. 5 a, B G,
Cross-sectional shape of the B B) is shown a circular, during scanning of the peripheral portion of the screen, the electron beam transmissive aperture h 42 of the central electrode portions G 42 as illustrated in FIG. 5 B, and both side electrode portions G 41 Due to the influence of the narrow portions of the electron beam transmission apertures h 41 and h 43 of the G 43, a quadrupole effect occurs in the electric field distribution, and the force that spreads in the Y direction and is narrowed in the X direction is applied to the electron beam B Given, it becomes vertical. Thus, the quadrupole electric field in the focus electrode G 4 beam shape prior to entering the deflection magnetic field, the beam spot at the periphery by a vertical so as to correct the distortion in advance CFD, CFD
Is corrected to a spot shape approaching the corrected circular shape.
すなわちこの構成では、CFDによる四重極歪みに対し
て90゜回転した歪みを積極的にダイナミックフォーカス
電圧によって発生させるようにしたことによって自動的
にCFD磁界によるビームスポットの歪みを補正するもの
である。In other words, this configuration automatically corrects the beam spot distortion due to the CFD magnetic field by positively generating the distortion rotated by 90 ° with respect to the quadrupole distortion due to the CFD by the dynamic focus voltage. .
しかしながら、実際上は、この主電子レンズLMに入射
する電子ビームBR,BG及びBBがその中央に位置するセン
ター電子ビームBGとその両側に位置するサイド電子ビー
ムBR,及びBBとでは、主電子レンズLMへの入射角が相違
することによってダイナミックフォーカス電圧によって
上述した四重極電子レンズLQによる画面周辺部でセンタ
ー電子ビームBGとサイド電子ビームBR及びBBとでは最適
フォーカス条件が相違する。すなわち第6図Aに螢光面
(2)上の周辺部での各電子ビームBR,BG及びBBの各ビ
ームスポットSPR,SPG及びSPBを示すようにセンター電子
ビームBGのスポットSPGが良好なひずみの少ない円形を
示すフォーカス条件に選定したとすると、サイド電子ビ
ームBR及びBBのスポットSPR及びSPBはX方向に関してオ
ーバーフォーカス状態となって縦長スポット形状となる
とともに夫々破線図示のようにオーバーフォーカスによ
って螢光面上でX方向にハレーションが生じる。また第
6図Bに示すように、螢光面(2)の周辺部で、サイド
電子ビームスポットSPR及びSPBが良好なひずみの少ない
円形を示すフォーカス条件に選定したとすると、センタ
ー電子ビームがX方向に関してアンダーフォーカス状態
となってX方向に長いすなわち横長のスポットとなる。
ところが本発明構成においては、前述したように電子ビ
ームBR,BG及びBBに対して個々に前段電子レンズLSR,LSG
及びLSBを構成する低電圧側の電極の電子ビーム透過開
口h2GBがサイド電子ビームに関する電子ビーム透過開口
h2RB及びh2BBに比し、第7図Aに示すようにY方向に関
して幅広にされるか、第7図Bに示すようにX方向に関
して幅狭にされるか少なくともいずれか一方の寸法関係
に選定したことによってセンター電子ビームBGに関する
前段電子レンズLSGは、サイド電子ビームBR及びBBに関
する前段電子レンズLSR及びLSBに比しY方向に関する集
束レンズ作用を弱めて主電子レンズLMに入射する前にセ
ンター電子ビームBGのスポットがY方向に長軸を有する
縦長になされるか、あるいはサイド電子ビームBR及びBB
についてX方向に関する集束レンズ作用が相対的に弱め
られて主電子レンズLMに入射する前にX軸方向に長軸を
有する横長スポットに形成されることによって全電子ビ
ームBR,BG及びBBに対して主電子レンズLMにおける静電
四重極レンズLQにおけるフォーカス条件を一致させるこ
とができこれによって上述した螢光面の周辺部における
ビームスポットのひずみ補正を全電子ビームBR,BG及びB
Bに関して良好に補正できることができる。However, in practice, the main electron lens L M incident on the electron beam B R, B G and B B are side electron beams B R, located on both sides of the center electron beam B G is located in the center, and B and in of B, the main electron lens L the center electron beam B G and the side electron beams in the periphery of the screen by quadruple electron lenses L Q described above by the dynamic focusing voltage by the incident angle is different to M B R and B B And the optimum focus condition is different. That is, each electron beam B R at the periphery of the Hotarukomen (2) in FIG. 6 A, B each beam spot S PR G and B B, S PG and the center electron beam to indicate S PB B G When the spot S PG is to have selected the focus condition indicating small circular strained good, spots S PR and S PB of side electron beams B R and B B is an elongated spot shape becomes over-focused state with respect to the X direction At the same time, halation occurs in the X direction on the fluorescent screen due to overfocus as shown by broken lines. Further, as shown in FIG. 6B, if the side electron beam spots SPR and SPB are selected to have a good circular shape with little distortion around the fluorescent surface (2), the center electron beam Becomes an underfocus state in the X direction, and becomes a spot that is long in the X direction, that is, a horizontally long spot.
However in the present invention configuration, the electron beam B R as described above, B G and B individually in front electron lens L SR against B, L SG
Beam transmission aperture h2GB of the low-voltage side electrode constituting the LSB and LSB is the electron beam transmission aperture for the side electron beam
h compared to 2RB and h 2BB, either wider in the Y direction as shown in FIG. 7 A, at least one of the dimensional relationship or width is narrower in the X direction as shown in FIG. 7 B front electron lens L SG about the center electron beam B G by the selection, the side electron beams B R and front electronic lens L SR and the main electron lens weakens a focusing lens action in the Y-direction than in L SB about B B or spots of the center electron beam B G before entering the L M are made to the vertically long having a major axis in the Y direction or the side electron beams B R and B B
For all the electron beams by being formed in a horizontally long spot having a major axis in the X-axis direction before the focusing lens effect in the X direction is incident weakened relative to the main electron lens L M B R, B G, and B the main electron lens L electrostatic quadrupole lens in the M L Q in can match the focus condition whereby distortion correcting all the electron beams B R of the beam spot at the peripheral portion of the fluorescent screen described above for B, B G and B
B can be corrected well.
さらに本発明による陰極線管の一例を説明する。第1
図において第10図と対応する部分には同一符号を付して
重複説明を省略する。Further, an example of the cathode ray tube according to the present invention will be described. First
In the figure, parts corresponding to those in FIG. 10 are denoted by the same reference numerals, and redundant description will be omitted.
この例ではセンター電子ビームのカソードKGが軸心Z
上に配置されこれと所要の角度をもってサイド電子ビー
ムのカソードKR及びKBがX−Z平面内において配置され
た場合で、この例ではこれらカソードKR,KG及びKBに対
して夫々、これらカソードKR,KG及びKBに対向する端面
板にそれぞれ、電子ビーム透過開口h1R,h1G及びh1Bが穿
設された第1グリッドG1R,G1G及びG1Bが配置され、更に
各カソードKR,KG及びKBに対して共通に第1〜第5グリ
ッドG1〜G5が同一軸心Z上に順次配列される。第2グリ
ッドG2は各カソードKR,KG及びKBとの対向部が夫々第1
グリッドG1R,G1G及びG1Bとほぼ平行に形成された平行板
部よりなりここに夫々電子ビーム透過開口h2R1,h2G1及
びh2B1が穿設された第1の電極部G21と、その後段側に
配された第2の電極部G22より成る。この第2の電極部G
22は第1の電極部G21と対向する端面板(22F)と第3グ
リッドG3に対向する端面板(22B)とを有してなる。端
面板(22F)には第1の電極部G21の各電子ビーム透過開
口h2R1,h2G1及びh2B1を有する部分と平行する板部を有
し、これらに夫々電子ビーム透過開口h2RF,h2GF及びh
2BFが穿設される。また第2図に示すように端面板(22
B)においても各ビームBR,BG及びBBを透過する電子ビー
ム透過開口h2RB,h2GB及びh2BBが、第1図に示すように
電子ビーム透過開口h2RF,h2GF及びh2BFに対向して穿設
される。そしてサイド電子ビームBR及びBBに関する電子
ビーム透過開口h2RB及びh2BBを例えば第7図Aに示すよ
うに基本形状が円形状を有するもY方向に関してX方向
に沿う相対向する辺を有しこれら辺の間隔が基本円形の
直径より小、すなわちX方向の幅より小に選定され、中
心ビームBGに関する電子ビーム開口h2RBについては開口
h2GB及びh2BBの基本円形の直径に対応する直径の円形開
口とする。あるいは第7図Bに示すように両側の電子ビ
ーム透過開口h2RB及びh2BBについては円形状となし、中
心の電子ビーム透過開口h2GBに関しては同様の円形状を
基本形状とするもX方向に関してY方向に沿う相対向す
る辺を有しこれら相対向する辺の間隔がその基本円形の
直径より小すなわちX方向より小に選定される。Cathode K G is the axis Z of the center electron beam in this example
The cathodes K R and K B of the side electron beams are arranged in the XZ plane at a required angle with respect to the cathodes K R , K G and K B in this example. these cathodes K R, respectively on the end surface plate opposite to the K G and K B, the electron beam penetrating apertures h 1R, first grid G 1R, G 1G and G 1B are arranged to h 1G and h 1B are bored , first to fifth grids G 1 ~G 5 are sequentially arranged on the same axis Z in common to further each of the cathodes K R, K G and K B. The second grid G 2 is the cathodes K R, opposing portions husband and K G and K B s first
Grid G 1R, a first electrode portion G 21 to G 1G and G 1B substantially parallel-formed consist of parallel plate portions here each electron beam transmissive aperture h 2R1, h 2G1 and h 2B1 is bored, made of a second electrode portion G 22 disposed in the subsequent stage. This second electrode portion G
22 is a an end surface plate (22B) opposed to the end face plates (22F) and the third grid G 3 facing the first electrode portion G 21. The end face plate (22F) has a plate portion parallel to the portion having the electron beam transmissive aperture h 2R1, h 2G1 and h 2B1 of the first electrode portion G 21, respectively to these people the electron beam penetrating apertures h 2RF, h 2GF and h
2BF is drilled. In addition, as shown in FIG.
Each beam B R even in B), B G and B B electron beam transmissive aperture h 2 RB for transmitting, h 2GB and h 2BB is, the electron beam transmission aperture h 2RF as shown in FIG. 1, h 2GF and h 2BF It is drilled facing. And have the side electron beams B R and sides of the electron beam transmissive aperture h 2 RB and h 2BB about B B for example, basic shape as shown in FIG. 7 A opposed along the X direction with respect to the Y-direction has a circular shape and smaller than the diameter of the basic circular spacing of these edges, that is, selected from the width of the X-direction in the small, the electron beam aperture h 2 RB related to the center beam B G opening
a circular opening of a diameter corresponding to the basic circle diameter h 2GB and h 2BB. Alternatively the side electron beam transmissive aperture h 2 RB and h 2BB, as shown in FIG. 7 B circular and without, with respect to the electron beam transmissive aperture h 2GB center with respect to even the X direction as a basic shape similar circular It has opposing sides along the Y direction, and the distance between these opposing sides is selected to be smaller than the diameter of the basic circle, that is, smaller than the X direction.
第7図Aにおける電子ビーム透過開口h2RB,h2BBある
いは第7図Bにおける電子ビーム透過開口h2GBの短軸長
は、長軸長をφLとするとき、0.7φL〜0.85φLに選
定する。Electron beam transmissive aperture h 2 RB in Figure 7 A, a minor axis length of the electron beam transmissive aperture h 2GB in h 2BB or FIG. 7 B, when the major axis length and phi L, the 0.7φ L ~0.85φ L Select.
また、第3グリッド(第1の陽極電極)の、第2グリ
ッドG2と対向する側の端面板(23)には、充分大きな内
径を有する円形状の電子ビーム透過開口h3R,h3G及びh3B
が穿設される。Further, the third grid (the first anode), the end face plate on the side facing the second grid G 2 (23), a circular-shaped electron beam transmissive aperture h 3R having a sufficient large inner diameter, h 3G and h 3B
Is drilled.
また、フォーカス電極G4の第1〜第3の電極部分G41
〜G43は、中央の第2の電極部分G42に対向する端部に、
それぞれ端面板(11)及び(13)を有し、円筒周壁面を
有するカップ状に形成し得、その各端面板(11)及び
(13)の中心にそれぞれその基本的形状が円形で、この
円形に対しY方向に関してX方向に沿う直線で切られた
切断円形状をなす、つまり相対向する辺S1a及びS1b,S3a
及びS3b間の間隔がその基本円形の直径より小なる幅を
有するように選定される。また、中央電極部分G42は、
第1及び第3の電極部分G41及びG43の各端面板(11)及
び(13)に対向する金属板によって形成し、その中心に
電子ビーム透過開口h42が穿設される。この電子ビーム
透過開口h42は、開口h41及びh43の形状が90゜回転した
例えばその基本形状が円形の切断円形をなし、X方向に
関してY方向に沿う相対向する辺S2a及びS2bが両者間の
間隔がその基本的円形の直径より小なる間隔をもって形
成される。Also, the first to third electrode portions G 41 of the focus electrode G 4
~G 43 is the end opposite the second electrode portion G 42 of the central,
Each of the end plates (11) and (13) can be formed into a cup shape having a cylindrical peripheral wall surface. It forms a cut circular shape cut by a straight line along the X direction with respect to the Y direction with respect to the circle, that is, opposing sides S 1a and S 1b , S 3a
And S3b are selected to have a width less than the diameter of their base circle. Also, the central electrode part G42 is
Formed by a metal plate facing the end face plates (11) and (13) of the first and third electrode portions G 41 and G 43, the electron beam transmissive aperture h 42 at its center is bored. The electron beam transmissive aperture h 42 is 90 ° rotated for example the basic shape the shape of the opening h 41 and h 43 is a circular cutting circular, the sides S 2a and S 2b which faces along the Y direction with respect to the X direction Are formed such that the distance between them is smaller than the diameter of the basic circle.
また、これら電極部分G41〜G43には、それぞれその外
周部にこれらと一体にあるいは溶接によって例えば一対
の支持ピン(15)が突設されてこれらが他の電極例えば
G1,G2,G3,G5に対する支持ピン(15)とともに例えば2
本のビーディングガラス(16)に埋め込まれて所要の位
置関係が設定される。また、(17)は各電極部分G41〜G
43の回転方向の位置設定用の突起を示す。Also, these electrode portions G 41 ~G 43, each of these, for example, a pair of support pins by integrally or welded to the outer peripheral portion (15) These and is projected another electrode e.g.
With support pins (15) for G 1 , G 2 , G 3 , G 5
The required positional relationship is set by being embedded in the beading glass (16) of the book. Also, (17) indicates that each of the electrode portions G 41 to G 41
43 shows a projection for setting the position in the rotation direction of 43 .
そして、フォーカス電極G4の第1及び第3の電極部分
G41及びG43は、第1図に示すように相互に電気的にリー
ド(18)によって連結される。フォーカス電極G4の中央
の電極部分G42及び両側電極G41及びG43からそれぞれ例
えば陰極線管のネック部後端側に設けられた端子ピン
(14)に連結されて、この端子ピン(14)から前述した
所要の固定電圧VFC及びダイナミックフォーカス電圧VFD
が与えられるようになされる。The first and third electrode portions of the focus electrode G 4
G41 and G43 are electrically connected to each other by a lead (18) as shown in FIG. Is coupled from the central electrode portions G 42 and the side electrodes G 41 and G 43 of the focus electrode G 4 in each example terminal pins provided on the neck portion rear end of the cathode ray tube (14), the terminal pin (14) It required fixed voltage V FC and dynamic focus voltage V FD described above from
Is given.
尚、各電子ビーム透過開口h41〜h43の長軸長Aと短軸
長(すなわち直線辺間の間隔)Bとの関係は、B=0.8A
〜0.95Aに選定するとき、ダイナミックフォーカスによ
る四重極の強さのバランスがよく、良好なスポットが得
られることが確められた。Note that the relationship between the major axis length A and the minor axis length (that is, the interval between the straight sides) B of the electron beam transmission apertures h 41 to h 43 is B = 0.8 A
When it was selected to be ~ 0.95A, it was confirmed that the quadrupole intensity was well balanced by dynamic focus and that a good spot could be obtained.
尚、上述の構成においては、全ビームBR,BG及びBBに
ついて、共通の電極G3〜G5による主電子レンズで同時に
収束させ、上述の四重極についても、3本のビームBR,B
G及びBBについて共通であるが、各ビームBR,BG及びBBに
ついて同時に最適な条件に設定するには、フォーカス電
極G4における四重極の主面のZ方向位置の設定は重要で
あり、上述の構成においてフォーカス電極G4の各電極部
分G41,G42及びG43の各軸心方向の長さをl1,l2,l3とする
とき、l1>l3>l2の関係に選定し、l1:l3=17:15〜19:1
3に選定することが望ましい。すなわち、l1≦l3の関係
とするとき次のような現象が生じた。In the arrangement described above, the total beam B R, for B G and B B, is converged at the same time by the main electron lens by the common electrode G 3 ~G 5, the quadrupole above also, the three beams B R , B
Is common for the G and B B, each beam B R, to set the same time optimum conditions for B G and B B is set in the Z direction position of the main surface of the quadrupole in the focus electrode G 4 are important In the above configuration, when the lengths of the respective electrode portions G 41 , G 42, and G 43 of the focus electrode G 4 in the axial direction are l 1 , l 2 , and l 3 , l 1 > l 3 > selected on the relationship l 2, l 1: l 3 = 17: 15~19: 1
It is desirable to select 3. That is, the following phenomenon occurred when the relationship of l 1 ≦ l 3 was satisfied.
(i)螢光面(2)の中心部でのビームスポットにおい
てサイドビームのBR及びBBのスポットが第8図に示すよ
うに三日月状に歪む。(I) the side beams B R and B B spot in the beam spot at the center portion of the fluorescent face (2) is distorted in a crescent shape as shown in FIG. 8.
(ii)ダイナミックフォーカス電圧VFDを変化させると
きサイドビームスポットBR及びBBがX方向に対称に移動
する。(Ii) side beam spot B R and B B when changing the dynamic focusing voltage V FD is moved symmetrically in the X direction.
そして、この上記(i)の現象は解像度に影響するも
のであり、また上記(ii)の現象はダイナミックスフォ
ーカスをかけた場合の画面周辺にミスコンバージェンス
を生じるという問題を生じる。The phenomenon (i) affects the resolution, and the phenomenon (ii) causes a problem that misconvergence occurs around the screen when dynamic focus is applied.
第9図は、横軸に第4グリッドG4における四重極のZ
軸上の位置を、第4グリッドG4の中心位置を0としてカ
ソード側を負、螢光面(2)側を正にとって、サイドビ
ームBR及びBBの螢光面(2)上の移動量を縦軸にとって
各位置でのフォーカス電圧VFCを変化(1KV)させた場合
をプロットしたものであり、第9図において各電極部分
G41,G42及びG43間の間隔は0.5mmとし、l2は0.5mmに固定
した。プロット群aは、l1=4mm,l3=4mmの場合、プロ
ット群bはl1=4.5mm,l3=3.5mmの場合、プロット群c
はl1=5mm,l3=3mmの場合である。これによれば、l1=
4.5mm,l3=3.5mmとして、四重極位置を、フォーカス電
極G4の中心より0.5mm螢光面(2)側に移動させたと
き、サイドビームBR,BBのビームスポットの動きは殆ん
ど0(ゼロ)となる。また同時にサイドビームスポット
の歪みもなくなり、良好なスポットが得られることが確
められた。そして実用可能な範囲は範囲Lでありl1=4.
25mm,l3=3.75mmの条件からl1=4.75mm,l3=3.25mmの範
囲、すなわち、上述のl1:l3=17:15〜19:13に選定する
ことが望ましいことがわかった。FIG. 9 shows the quadrupole Z in the fourth grid G 4 on the horizontal axis.
The position on the axis, the negative cathode side the center position of the fourth grid G 4 0, fluorescent face (2) side positively taken the movement on the fluorescent face of the side beams B R and B B (2) FIG. 9 plots the case where the focus voltage V FC at each position is changed (1 KV) with the amount as the vertical axis.
The distance between G 41 , G 42 and G 43 was 0.5 mm, and l 2 was fixed at 0.5 mm. Plot group a is for l 1 = 4 mm, l 3 = 4 mm, plot group b is for l 1 = 4.5 mm, l 3 = 3.5 mm, and plot group c
Is the case where l 1 = 5 mm and l 3 = 3 mm. According to this, l 1 =
4.5 mm, as l 3 = 3.5 mm, a quadrupole position, when moving from the center of the focus electrode G 4 in 0.5mm fluorescent face (2) side, the side beams B R, the motion of the beam spot B B Is almost 0 (zero). At the same time, it was confirmed that distortion of the side beam spot was eliminated, and a good spot was obtained. The practicable range is the range L, and l 1 = 4.
From the condition of 25 mm, l 3 = 3.75 mm, it is found that it is desirable to select l 1 = 4.75 mm, l 3 = 3.25 mm, that is, l 1 : l 3 = 17:15 to 19:13. Was.
上述の構成において陽極電圧HV=27kV、カットオフ電
圧Ekco=95V,カソード電流Ik=200μA,l1=4.5mm,l2=
0.5mm,l3=3.5mmとした場合の螢光面(2)上でのビー
ムスポット径は、各ビームBR,BG,BBについてX方向及び
Y方向に関する夫々の平均の径が、0.54mmでX方向の中
心でY方向に関する周辺のスポットの同様の平均径はX
方向及びY方向に関して夫々0.57mmでY方向の中心でX
方向に関する周辺での平均スポット径はY方向に関して
0.40mm、X方向に関して0.75mmで、螢光面(2)のコー
ナー部においてはY方向に関して0.42mm、X方向に関し
ては0.78mmの各スポットが得られた。このスポットは、
第10図で説明した電磁四重極(4)を正確に所定位置に
設けた場合と同等の結果となった。In the above configuration, the anode voltage HV = 27 kV, the cutoff voltage Ekco = 95 V, the cathode current Ik = 200 μA, l 1 = 4.5 mm, l 2 =
0.5 mm, the beam spot diameter on the fluorescent face (2) of the case of the l 3 = 3.5 mm, each beam B R, B G, the diameter of the average of each the X and Y directions for B B, A similar average diameter of a peripheral spot in the Y direction at the center in the X direction at 0.54 mm is X
0.57mm each in the direction and the Y direction, and X at the center of the Y direction.
The average spot diameter around the periphery in the direction is
Each spot was 0.40 mm, 0.75 mm in the X direction, and 0.42 mm in the Y direction and 0.78 mm in the X direction at the corner of the fluorescent screen (2). This spot is
The result was equivalent to the case where the electromagnetic quadrupole (4) described in FIG. 10 was accurately provided at a predetermined position.
そして、上述の構成において、その固定フォーカス電
圧を、陽極電圧HVの25〜33%に選定するのは、25%未満
では、フォーカス電極G4の全長を短くすることになり、
四重極の主電子レンズへの干渉が大となるという不都合
が生じ、33%を越えると、フォーカス電圧の高圧化によ
ってその給電を管体(1)のネック管後端のステム側の
端子ピン(14)側からの給電が耐圧の上から問題となっ
てくることに因る。Then, in the configuration described above, the fixed focus voltage, to select the 25 to 33% of the anode voltage HV, in less than 25%, results in shortening the overall length of the focusing electrode G 4,
When the quadrupole interferes with the main electron lens, a problem arises. When the ratio exceeds 33%, the power is supplied to the stem (1) on the stem side terminal pin at the rear end of the neck tube of the tube (1) by increasing the focus voltage. (14) The power supply from the side causes a problem from the viewpoint of the withstand voltage.
なおフォーカス電極G4の第1及び第3の電極部分G41
及びG43に印加するダイナミックフォーカス電圧は、第
3図で示されるようにその平均電圧VFDMが第2の電極部
分G42への固定フォーカス電圧VFCと異なる電圧とすると
きは、両直流電圧VFDM及びVFCの2種の電圧を例えば陰
極線管の駆動回路におけるフライバックトランスから2
つのタップをとりだす必要があることからその電源供給
回路が複雑となる。これを回避するには第1及び第3の
電極部分G41及びG43へのダイナミックフォーカス電圧の
平均電圧VFDMと第2の電極部分G42への固定フォーカス
電圧VFCが同一であることが望まれる。ところがこの場
合、電子ビームの画面中心の走査位置でダイナミックフ
ォーカス電圧が、固定電圧VFCより低い電圧関係となる
ことによって、フォーカス電極G4で形成される静電的四
重極の、第2の電極部分G42の開口h42の相対向する辺S
2a及びS2b側が高電圧側となり、第1及び第3の電極部
分G41及びG43の開口h41及びh43の相対向する辺S1aS1b,S
3a,S3b側が低電圧側となることによって電子ビーム断面
形状が、第5図Bで示した場合とX及びY方向に関して
逆関係の、つまりX方向に広がりY方向に狭められるよ
うな力が働くことになり、電子ビーム断面はX方向の長
軸を有する横長の傾向を示すことになる。したがってこ
の場合は、この形状補正の為に、第5グリッド(第2の
陽極電極)G5の、第4グリッド(フォーカス電極)G4に
対向する側に第3の電極部分G43における電子ビーム透
過開口h43に対応してY方向に幅広の電子ビーム透過開
口h5を形成してすなわち本出願人の昭和62年9月7日付
特許願「陰極線管」に提案した構成を適用して主電子レ
ンズLMにおいてY方向に関して拡散電子レンズ作用をも
たらしめて電圧VFD MとVFCとを一致させたことに基づく
上述の不都合を補償することができる。The first and third electrode portions G 41 of the focus electrode G 4
And dynamic focus voltage applied to the G 43, when the average voltage V FDM as shown in FIG. 3 is a voltage different fixed focus voltage V FC to the second electrode portion G 42 are both DC voltage Two kinds of voltages, V FDM and V FC , are supplied from a flyback transformer in a driving circuit of a cathode ray tube, for example.
The need to take out one tap complicates the power supply circuit. In order to avoid this, the average voltage V FDM of the dynamic focus voltage applied to the first and third electrode portions G 41 and G 43 and the fixed focus voltage V FC applied to the second electrode portion G 42 must be the same. desired. However in this case, the dynamic focus voltage at the scanning position of the screen center of the electron beam by a lower voltage relationship than the fixed voltage V FC, the electrostatic quadrupole is formed by the focus electrode G 4, the second sides S which faces the opening h 42 of the electrode portion G 42
The sides 2a and S 2b are on the high voltage side, and opposing sides S 1a S 1b , S of the openings h 41 and h 43 of the first and third electrode portions G 41 and G 43.
When the 3a and S 3b sides are on the low voltage side, the electron beam cross-sectional shape has an inverse relationship with respect to the X and Y directions as shown in FIG. 5B, that is, a force that spreads in the X direction and narrows in the Y direction. That is, the electron beam cross section tends to be horizontally long with the major axis in the X direction. In this case, therefore, in order for the shape correction, the fifth grid (second anode) G 5, the electron beam of the third electrode portion G 43 on the opposite side of the fourth grid (focus electrode) G 4 Lord in response to transmission opening h 43 to apply the configuration proposed in to form an electron beam transmissive aperture h 5 wide in the Y direction, that the applicant's 1987 September 7 date patent application "cathode ray tube" it is possible to compensate for the above-mentioned disadvantages based on the in electron lens L M was Me brought diffusion electron lens effect with respect to the Y direction Te is matched with the voltage V FD M and V FC.
上述したように本発明によれば、ネック管の外周に特
別に補正用の電磁四重極(4)を設けることを回避し、
フォーカス電極を3分割した構造をとって主電子レンズ
LMに静電的四重極レンズLQを形成することによってスポ
ット形状の改善を図ることができる。As described above, according to the present invention, it is possible to avoid providing a special electromagnetic quadrupole (4) for correction on the outer periphery of the neck tube,
The main electron lens has a structure in which the focus electrode is divided into three
It is possible to improve the spot shape by forming the electrostatic quadrupole lens L Q to L M.
そして、本発明構成によれば、フォーカス電極G4を3
分割するものであるが、これら電極部分G41〜G43は、他
の電極と同様にビーディングガラス(16)によって相互
に他の電極とともに組み込む組立製造をとり得るので、
特別に作業工数が増加することがなく従来のようにネッ
ク管外に特別に四重極を正確に所定位置に設ける場合に
比し格段に製造組立の煩雑さが改善され、また価格の低
廉価を図ることができる。According to the configuration of the present invention, the focus electrode G 4 is set to 3
Since it is intended to divide, these electrode portions G 41 ~G 43 may take the assembly manufacturing incorporated with other electrodes to each other by similarly beading glass and another electrode (16),
The number of man-hours does not increase and the complexity of manufacturing and assembling is remarkably reduced as compared with the case where a special quadrupole is precisely placed at a predetermined position outside the neck tube as before, and the cost is low. Can be achieved.
更に、本発明によれば、静電四重極レンズLQに入射す
るセンター電子ビームとサイド電子ビームとの入射角の
相違に基くスポット歪の発生を前段レンズ系を設け、こ
れに非対称レンズ作用を生じさせるようにしたことによ
ってこのスポット歪についてもその補償を行うようにし
たので、よりすぐれたスポット形状を螢光面上に得るこ
とができ、解像度の高い良質な画像を映出できる陰極線
管を構成することができる。Further, according to the present invention, the generation of spot distortion based on the difference in incident angle between the center electron beam and side electron beams incident on the electrostatic quadrupole lens L Q provided front lens system, asymmetric lens action to As a result, the spot distortion is compensated for, so that a better spot shape can be obtained on the phosphor screen, and a cathode ray tube capable of projecting a high-resolution, high-quality image. Can be configured.
第1図は本発明による陰極線管の一例の構成図、第2図
はその要部の分解斜視図、第3図はフォーカス電圧図、
第4図は電子銃のレンズ系の配置構成を示す図、第5図
A及びBはフォーカス電極部における電界図、第6図は
ビーム断面形状の説明図、第7図A及びBは第2グリッ
ドの正面図、第8図はビームスポット形状の説明図、第
9図は四重極位置とサイドビームスポット位置との関係
を示す図、第10図は従来の陰極線管の略線的構成図、第
11図はその螢光面上のビームスポット図、第12図は電磁
四重極の構成図である。 (1)は陰極線管管体、(2)は螢光面、(3)は電子
銃、G1〜G5は第1〜第5グリッド、G41〜G43はフォーカ
ス電極の第1〜第3の電極部分である。FIG. 1 is a structural view of an example of a cathode ray tube according to the present invention, FIG. 2 is an exploded perspective view of a main part thereof, FIG.
FIG. 4 is a view showing the arrangement of the lens system of the electron gun, FIGS. 5A and 5B are electric field diagrams in the focus electrode section, FIG. 6 is an explanatory view of the beam cross-sectional shape, and FIGS. FIG. 8 is a front view of the grid, FIG. 8 is an explanatory diagram of a beam spot shape, FIG. 9 is a diagram showing a relationship between a quadrupole position and a side beam spot position, and FIG. 10 is a schematic configuration diagram of a conventional cathode ray tube. ,
FIG. 11 is a diagram showing a beam spot on the fluorescent screen, and FIG. 12 is a diagram showing the configuration of an electromagnetic quadrupole. (1) is a cathode ray tube tube (2) is Hotarukomen, (3) an electron gun, G 1 ~G 5 the first first to the first to fifth grids, G 41 ~G 43 focus electrode 3 is an electrode part.
Claims (1)
直交するX方向とを含むX−Z平面上に配列され、各カ
ソードから取り出される電子ビームに対して共通にユニ
ポテンシャル型主電子レンズを構成する第1の陽極電極
と、フォーカス電極と、第2の陽極電極とが順次同一軸
心Z上に配列されてなる電子銃を具備し、かつ磁界分布
に歪を持たせて蛍光面周辺のコンバージェンス補正を行
うようになされた水平、垂直偏向手段を具備する陰極線
管において、 上記主電子レンズの上記カソード側に上記各電子ビーム
に対して個々に前段電子レンズが構成され、 上記前段電子レンズを構成する低電圧側の電極の中央に
位置するセンター電子ビームに関する電子ビーム透過開
口が、両側に位置するサイド電子ビームに関する電子ビ
ーム透過開口に比し、上記X方向及びZ方向に直交する
Y方向に関して幅広にされるか、上記X方向に関して幅
狭にされるか少なくともいずれか一方の寸法関係に選定
され、 上記フォーカス電極は、上記軸心Z方向に関して3分割
された第1〜第3の電極部分よりなり、 両側の第1及び第3の電極部分は上記X方向に関して幅
広で、上記Y方向に関して幅狭な電子ビーム透過開口を
上記軸心Z上に有し、上記中央の第2の電極部分は上記
X方向に関して幅狭で方向に関して幅広な電子ビーム透
過開口を上記軸心Z上に有してなり、 上記フォーカス電極の第2の電極部に固定フォーカス電
圧を印加し上記第1及び第3の電極部にダイナミックフ
ォーカス電圧を印加することを特徴とする陰極線管。1. A plurality of cathodes are arranged on an XZ plane including one axis Z direction and an X direction orthogonal thereto, and a unipotential type main is commonly used for electron beams extracted from each cathode. An electron gun in which a first anode electrode, a focus electrode, and a second anode electrode constituting an electron lens are sequentially arranged on the same axis Z, and a fluorescent field is formed by distorting the magnetic field distribution. A cathode ray tube having horizontal and vertical deflection means adapted to perform convergence correction around the surface, wherein a front stage electron lens is individually formed for each electron beam on the cathode side of the main electron lens; The electron beam transmission aperture for the center electron beam located at the center of the low voltage side electrode forming the electron lens is the electron beam transmission aperture for the side electron beams located on both sides. In contrast, the focus electrode is selected to be wider in the Y direction orthogonal to the X direction and the Z direction or narrower in the X direction. The first and third electrode portions on both sides are divided into three portions in the Z direction, and the first and third electrode portions on both sides are wide in the X direction and narrow in the Y direction. A central second electrode portion having an electron beam transmission opening narrow in the X direction and wide in the direction on the axis Z; and a second electrode portion of the focus electrode. A cathode ray tube, wherein a fixed focus voltage is applied to an electrode portion, and a dynamic focus voltage is applied to the first and third electrode portions.
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