JP2632609B2 - 適応性調節用にpH滴定曲線を見積る方法 - Google Patents
適応性調節用にpH滴定曲線を見積る方法Info
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- G—PHYSICS
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Description
【0001】
【0002】本発明は、一般にpHの調節方法に関し、
特に、pHの適応調節においてpH滴定曲線を見積り、
pHの調節を行う方法に関する。
特に、pHの適応調節においてpH滴定曲線を見積り、
pHの調節を行う方法に関する。
【0003】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】pH調
節は、ボイラー水の処理、化学及び生物学的反応、都市
排水処理、酸洗/エッチング方法、冷却塔の水処理、電
気的加水分解、凝集/沈降方法、化学反応体供給原料及
び排水中性化を含む多くのプロセスに重要である。排水
処理は成分が未知で且つ経時的に変化するので特に困難
である。
節は、ボイラー水の処理、化学及び生物学的反応、都市
排水処理、酸洗/エッチング方法、冷却塔の水処理、電
気的加水分解、凝集/沈降方法、化学反応体供給原料及
び排水中性化を含む多くのプロセスに重要である。排水
処理は成分が未知で且つ経時的に変化するので特に困難
である。
【0004】pHの調節は極めて困難な問題である。p
H滴定曲線は所定比の試薬を添加することによるpHを
示すプロットである。pH調節が困難な原因は二つの主
な因子に帰着する。それは任意の時点における滴定曲線
の非線形性と流入成分の変化に伴う滴定曲線の形の時間
的変化である。流入量、種々の酸、塩基及び緩衝塩の濃
度並びに温度が時間とともに変化する。
H滴定曲線は所定比の試薬を添加することによるpHを
示すプロットである。pH調節が困難な原因は二つの主
な因子に帰着する。それは任意の時点における滴定曲線
の非線形性と流入成分の変化に伴う滴定曲線の形の時間
的変化である。流入量、種々の酸、塩基及び緩衝塩の濃
度並びに温度が時間とともに変化する。
【0005】滴定曲線の非線形性は非緩衝性の酸または
塩基に最も鋭敏である。このような場合、pH7に近い
pHでは、比較的少量の酸または塩基を添加するとpH
は著しく変化する。しかし、もしpHが酸性または塩基
性ならば、比較的大量の酸または塩基を加えてもpHは
少ししか変化しない。従って、pHが7に近いときに
は、プロセスは極めて高いゲインを有し、pH7に余り
近くないときには、プロセスのゲインは極めて低い。強
酸または強塩基により通常の操作範囲を超えると、1
0、000、000、000の係数によるプロセスのゲ
インの変化を有することが期待できないこともない。比
例積分(PI)調節器はプロセスが線形であると仮定す
るので、pH調節用の従来のPI調節器を適用すること
は通常有効ではない。
塩基に最も鋭敏である。このような場合、pH7に近い
pHでは、比較的少量の酸または塩基を添加するとpH
は著しく変化する。しかし、もしpHが酸性または塩基
性ならば、比較的大量の酸または塩基を加えてもpHは
少ししか変化しない。従って、pHが7に近いときに
は、プロセスは極めて高いゲインを有し、pH7に余り
近くないときには、プロセスのゲインは極めて低い。強
酸または強塩基により通常の操作範囲を超えると、1
0、000、000、000の係数によるプロセスのゲ
インの変化を有することが期待できないこともない。比
例積分(PI)調節器はプロセスが線形であると仮定す
るので、pH調節用の従来のPI調節器を適用すること
は通常有効ではない。
【0006】pH調節が困難であるので、大混合容量、
回分式処理、または頻繁な操作者による混入を含む多く
の試案があるが、それらは経済的ではない。
回分式処理、または頻繁な操作者による混入を含む多く
の試案があるが、それらは経済的ではない。
【0007】およそpH7での中立帯域及びその外側で
異なる調節器ゲインを用いる非線形のPIDのpH調節
器が提供されてきた。この調節器は中和に関してPID
調節を超える改善を示してきたが、それは以下の3つの
大きな制約を受ける。(1)それが中和用にのみ設計さ
れたこと、(2)低緩衝では、高非線形pH関数をその
ような単純な関数で適合するのが困難であること、
(3)最も重要なことして、滴定曲線の曲線が酸及び緩
衝塩の組成物の変化により変化するので、この方法はオ
ンラインで調整する設備は与えられていないけれども再
調整が要求されることである。
異なる調節器ゲインを用いる非線形のPIDのpH調節
器が提供されてきた。この調節器は中和に関してPID
調節を超える改善を示してきたが、それは以下の3つの
大きな制約を受ける。(1)それが中和用にのみ設計さ
れたこと、(2)低緩衝では、高非線形pH関数をその
ような単純な関数で適合するのが困難であること、
(3)最も重要なことして、滴定曲線の曲線が酸及び緩
衝塩の組成物の変化により変化するので、この方法はオ
ンラインで調整する設備は与えられていないけれども再
調整が要求されることである。
【0008】米国特許第3、899、294号は、主流
出流の後流を単に滴定することにより滴定曲線を同定す
る方法を開示している。次いで、滴定曲線を用いて試薬
の流量を選択して所望のpHを達成している。この操作
は、滴定曲線を得るために自動化滴定システムを用いな
ければならないので、比較的高価になる。加えて、かか
る自動化したシステム用の滴定時間はプロセスにおける
流体残留時間に比べてかなりの時間になり得る。従っ
て、プロセス流の組成変化が生じると、分析無駄時間が
調節器の有効性を減じることになる。
出流の後流を単に滴定することにより滴定曲線を同定す
る方法を開示している。次いで、滴定曲線を用いて試薬
の流量を選択して所望のpHを達成している。この操作
は、滴定曲線を得るために自動化滴定システムを用いな
ければならないので、比較的高価になる。加えて、かか
る自動化したシステム用の滴定時間はプロセスにおける
流体残留時間に比べてかなりの時間になり得る。従っ
て、プロセス流の組成変化が生じると、分析無駄時間が
調節器の有効性を減じることになる。
【0009】いくつかの方法では、pHコントロール
は、単一入力、単一出力及び容易にモデル化された1次
線形動力学により極めて簡単プロセスとなる。試薬流を
入ってくるプロセス流れに加え、二つの流れを混合し
て、次いでpHを測定する。然るべきpHは適当な割合
の試薬を加えることにより達成される。
は、単一入力、単一出力及び容易にモデル化された1次
線形動力学により極めて簡単プロセスとなる。試薬流を
入ってくるプロセス流れに加え、二つの流れを混合し
て、次いでpHを測定する。然るべきpHは適当な割合
の試薬を加えることにより達成される。
【0010】難題はプロセスゲインである。ゲインは極
端に非線形であり、プロセス組成がわずかに変化しただ
けで著しく変化し得る。ゲインは極めて高くなり得るの
で、出力pHは調節器作用のわずかのエラーに対してど
うしようもなく敏感になる。pH調節器の一般的な目的
はなかんづく3つの問題、非線形のゲイン、時間変化ゲ
イン及び極端に高いゲインを取り扱わねばならない。
端に非線形であり、プロセス組成がわずかに変化しただ
けで著しく変化し得る。ゲインは極めて高くなり得るの
で、出力pHは調節器作用のわずかのエラーに対してど
うしようもなく敏感になる。pH調節器の一般的な目的
はなかんづく3つの問題、非線形のゲイン、時間変化ゲ
イン及び極端に高いゲインを取り扱わねばならない。
【0011】
【発明の概要】本発明は、ある流量で流入する流れに試
薬を加えて得た滴定曲線から比例積分調節器のゲインが
決定される比例積分調節器を使用して溶液のpHを制御
する方法において、各々のpH値がそれぞれ試薬流量対
流入流量の比に対応するような複数のpH値を用意し、
前記用意された複数のpH値での試薬流量と流入流量と
の比を各々表す複数のpHデータ点を収集し、複数のp
Hデータ点をpHに基づき記憶システム中に蓄積し、前
記蓄積されたデータ点からモデル滴定曲線を作成し、そ
して 前記モデル滴定曲線を使用して前記比例積分制御器
のゲインを操作するためのゲインスケジュールを確立す
ることにより前記試薬の添加を制御して前記pHを制御
する方法である。本発明は特に、新たにデータ点を収集
し、各新たに収集したデータ点を以前に収集したデータ
点と比較して一致性を調べ、もしも新規データ点と以前
のデータ点が不一致ならば以前のデータを捨てる操作を
含む。この操作はヒューリスティック(学習的方法)と
称される。
薬を加えて得た滴定曲線から比例積分調節器のゲインが
決定される比例積分調節器を使用して溶液のpHを制御
する方法において、各々のpH値がそれぞれ試薬流量対
流入流量の比に対応するような複数のpH値を用意し、
前記用意された複数のpH値での試薬流量と流入流量と
の比を各々表す複数のpHデータ点を収集し、複数のp
Hデータ点をpHに基づき記憶システム中に蓄積し、前
記蓄積されたデータ点からモデル滴定曲線を作成し、そ
して 前記モデル滴定曲線を使用して前記比例積分制御器
のゲインを操作するためのゲインスケジュールを確立す
ることにより前記試薬の添加を制御して前記pHを制御
する方法である。本発明は特に、新たにデータ点を収集
し、各新たに収集したデータ点を以前に収集したデータ
点と比較して一致性を調べ、もしも新規データ点と以前
のデータ点が不一致ならば以前のデータを捨てる操作を
含む。この操作はヒューリスティック(学習的方法)と
称される。
【0012】本発明は、高いゲイン特性のとき、さらに
しばしば起こるように滴定曲線が時間とともに変化する
ときでさえ、滴定曲線にぴったりと追従するような正確
且つ迅速なpH調節を実行することがわかった。
しばしば起こるように滴定曲線が時間とともに変化する
ときでさえ、滴定曲線にぴったりと追従するような正確
且つ迅速なpH調節を実行することがわかった。
【0013】好ましい具体例の説明 本発明の適応性pH調節器は、pH調節の難題を解決し
ようとする革新的な試みである。以前の調節案は、典型
的には、プロセス流れを、保存調整されたPI調節器を
備える大容量のタンクに迂回させていた。困難なプロセ
スは、別個の調節システムを備える2または3もの次第
に大容量になる一連のタンクを含み得る。
ようとする革新的な試みである。以前の調節案は、典型
的には、プロセス流れを、保存調整されたPI調節器を
備える大容量のタンクに迂回させていた。困難なプロセ
スは、別個の調節システムを備える2または3もの次第
に大容量になる一連のタンクを含み得る。
【0014】図1に示すように、本発明の適応性調節器
は、これらのタンクに代えて、試薬注入用のポンプ1
0、小さな混合要素12及び要素12の出力側のpHプ
ローブを含む小さくインラインのシステムを備える。複
数のタンク及び調節システムを減じることによる経費節
約は極めて大きく、インライン調節器発展の原動力であ
る。いくつかの問題はまだタンクを必要としているが、
それは標準的な調節器が要求するものよりもずっと少な
いであろう。図1は基本的な配置を示す。PI調節器1
6はループを完成させるのに用いている。流入(負荷)
変化を補償するのに、比調節器17を用い、その流量は
流量計18の前方に供給される。非線形システムのゲイ
ンを補償するために、プロセスモデルに基づく精巧なゲ
インスケジュールが用いられる。そしてプロセス変化に
適応するために、プロセスモデルが、有力な新規な見積
り技術によってプロセスデータから次々にオンラインで
鑑定される。一式の調節器は、ゲインスケジュールされ
たPI調節器、概算器及び新しいデータポイントを収集
し、古いデータポイントを廃棄しそして矛盾するデータ
ポイントを調和させるための全組のヒューリスティック
を含む。図4及び図5はタンクを備えるインライン調節
器20の配置を示し、図4は下流タンクを有し、図5は
上流タンクを有する。
は、これらのタンクに代えて、試薬注入用のポンプ1
0、小さな混合要素12及び要素12の出力側のpHプ
ローブを含む小さくインラインのシステムを備える。複
数のタンク及び調節システムを減じることによる経費節
約は極めて大きく、インライン調節器発展の原動力であ
る。いくつかの問題はまだタンクを必要としているが、
それは標準的な調節器が要求するものよりもずっと少な
いであろう。図1は基本的な配置を示す。PI調節器1
6はループを完成させるのに用いている。流入(負荷)
変化を補償するのに、比調節器17を用い、その流量は
流量計18の前方に供給される。非線形システムのゲイ
ンを補償するために、プロセスモデルに基づく精巧なゲ
インスケジュールが用いられる。そしてプロセス変化に
適応するために、プロセスモデルが、有力な新規な見積
り技術によってプロセスデータから次々にオンラインで
鑑定される。一式の調節器は、ゲインスケジュールされ
たPI調節器、概算器及び新しいデータポイントを収集
し、古いデータポイントを廃棄しそして矛盾するデータ
ポイントを調和させるための全組のヒューリスティック
を含む。図4及び図5はタンクを備えるインライン調節
器20の配置を示し、図4は下流タンクを有し、図5は
上流タンクを有する。
【0015】調節器は良好な試験結果を有するpHパイ
ロットプラントにおける一連の試験を満たした。
ロットプラントにおける一連の試験を満たした。
【0016】pHに関するプロセスゲインは滴定曲線に
より説明される。プロットは与えられた比率の試薬を添
加することによって生じるpHを示す。図2及び図3
は、本発明のpH調節器を試験するのに用いた二つの化
学的処方に関する滴定曲線を示す。それらは広範囲の挙
動を示し、処方1は、例えば(図2)、中和点であるp
H7付近で低いゲインを示すが、中和点のいずれかの側
では一層高いゲインを示す。処方2(図3)はpH7付
近で極めて高くなるのでグラフは直立して見えることを
示す。然るべき調節器の調整は滴定曲線に依存し、目標
値が曲線上のどこにあるかに依存する。プロセス滴定曲
線を与えると、PI調節器により良好な調節結果をもた
らすゲインスケジュールを導びくことができ、そして、
ゲインスケジュールされたPI調節器は今や工業的標準
品である。しかし、ゲインスケジュールはそれが基づく
滴定曲線と同程度に良好であるにすぎず、多くの用途に
関して特に廃水の中性化に関して、プロセス曲線は大き
く変わり得る。
より説明される。プロットは与えられた比率の試薬を添
加することによって生じるpHを示す。図2及び図3
は、本発明のpH調節器を試験するのに用いた二つの化
学的処方に関する滴定曲線を示す。それらは広範囲の挙
動を示し、処方1は、例えば(図2)、中和点であるp
H7付近で低いゲインを示すが、中和点のいずれかの側
では一層高いゲインを示す。処方2(図3)はpH7付
近で極めて高くなるのでグラフは直立して見えることを
示す。然るべき調節器の調整は滴定曲線に依存し、目標
値が曲線上のどこにあるかに依存する。プロセス滴定曲
線を与えると、PI調節器により良好な調節結果をもた
らすゲインスケジュールを導びくことができ、そして、
ゲインスケジュールされたPI調節器は今や工業的標準
品である。しかし、ゲインスケジュールはそれが基づく
滴定曲線と同程度に良好であるにすぎず、多くの用途に
関して特に廃水の中性化に関して、プロセス曲線は大き
く変わり得る。
【0017】適応性調節器はプロセスデータを収集し
て、調節器ゲインスケジュールに関する新たなプロセス
モデルを見積る。その構造は次のようである。データの
収集→モデル見積り→ゲインスケジュール→PI調節
て、調節器ゲインスケジュールに関する新たなプロセス
モデルを見積る。その構造は次のようである。データの
収集→モデル見積り→ゲインスケジュール→PI調節
【0018】ゲインスケジュール化とPI調節部分は適
応性部分から隔たっている。それらはプロセス滴定曲線
に基づいて調節される。プロセス組成物が全く一定であ
るような用途に関して、例えば、化学品の生産において
は、滴定曲線はオフライン式で決定され、ゲインスケジ
ュール及びPI調節部分だけがオンライン式で実行され
る。廃水の中和のような用途に関しては、プロセスは時
間単位でまたは日単位で変化し、データ収集及びモデル
見積りの区域は最新のプロセスモデルを備えるゲインス
ケジュールを提供するのに必要である。
応性部分から隔たっている。それらはプロセス滴定曲線
に基づいて調節される。プロセス組成物が全く一定であ
るような用途に関して、例えば、化学品の生産において
は、滴定曲線はオフライン式で決定され、ゲインスケジ
ュール及びPI調節部分だけがオンライン式で実行され
る。廃水の中和のような用途に関しては、プロセスは時
間単位でまたは日単位で変化し、データ収集及びモデル
見積りの区域は最新のプロセスモデルを備えるゲインス
ケジュールを提供するのに必要である。
【0019】滴定曲線をゲインスケジュールに変換する
のは簡単である。二つの点、すなわち、現操作点及び目
標点が曲線上に見出される。これらの点を結んで傾きを
を知ることでそれがプロセスゲインとなる。プロセスゲ
インを変換すると、所望の調節器ゲインが得られる。プ
ロセスを線形化するのに、避けるべき誤りは、現操作点
での曲線の傾きを採用することである。操作点が目標点
に余り近くないならば、線形化はほとんど一致しなくな
る。
のは簡単である。二つの点、すなわち、現操作点及び目
標点が曲線上に見出される。これらの点を結んで傾きを
を知ることでそれがプロセスゲインとなる。プロセスゲ
インを変換すると、所望の調節器ゲインが得られる。プ
ロセスを線形化するのに、避けるべき誤りは、現操作点
での曲線の傾きを採用することである。操作点が目標点
に余り近くないならば、線形化はほとんど一致しなくな
る。
【0020】ゲインスケジューラは実際の滴定曲線を蓄
積しない。その代わりにそれはパラメータ化されたモデ
ルを蓄積しそしてパラメータから直接、ゲインを計算す
る。図6及び図7は、曲線からいかにしてゲインが導か
れるかを示し、そして処方1に関するモデル及び実際の
滴定曲線からのゲインスケジュールを示す。
積しない。その代わりにそれはパラメータ化されたモデ
ルを蓄積しそしてパラメータから直接、ゲインを計算す
る。図6及び図7は、曲線からいかにしてゲインが導か
れるかを示し、そして処方1に関するモデル及び実際の
滴定曲線からのゲインスケジュールを示す。
【0021】滴定曲線の形を決定する二つのことは、プ
ロセスの組成及びそれ自体のpHの定義である。pHは
酸性度を測るものであり、酸性度は溶液中の水素イオン
濃度[H+ ]として定義されるが、pHは対数スケール
で次のように求められる。
ロセスの組成及びそれ自体のpHの定義である。pHは
酸性度を測るものであり、酸性度は溶液中の水素イオン
濃度[H+ ]として定義されるが、pHは対数スケール
で次のように求められる。
【数1】pH=−log10([H+ ]) 従って、pHは線形ではなく本質的に指数関数性を与え
る。
る。
【0022】さらに、H+ 濃度は加えた試薬に対して非
線形であり、プロセス流のすべての化学的成分間で複雑
な平衡を示す。酸、塩基及び塩は、溶液へH+ を提供し
または溶液からのH+ を除去し、試薬を添加する作用と
競合しそして種々のpH値でのプロセスゲインを減じる
緩衝を起こす。水自体はその成分たるH+ 及びOH- イ
オンに分離する。包含される関係はおよそ指数関数的で
あるが、典型的には、実験的に決定しなければならない
経験的補正因子を含む。化学組成から滴定曲線を計算す
ることは極度に難しい作業である。滴定曲線から化学組
成を戻し計算しようとすることは不可能である。発明の
pH調節器は、単純な化学モデルを用いるが、それで
も、滴定曲線データからプロセスモデルを鑑定すること
は不可能である。モデルは単純に極めて非線形であり且
つ極めて多くのパラメーターを持つ。
線形であり、プロセス流のすべての化学的成分間で複雑
な平衡を示す。酸、塩基及び塩は、溶液へH+ を提供し
または溶液からのH+ を除去し、試薬を添加する作用と
競合しそして種々のpH値でのプロセスゲインを減じる
緩衝を起こす。水自体はその成分たるH+ 及びOH- イ
オンに分離する。包含される関係はおよそ指数関数的で
あるが、典型的には、実験的に決定しなければならない
経験的補正因子を含む。化学組成から滴定曲線を計算す
ることは極度に難しい作業である。滴定曲線から化学組
成を戻し計算しようとすることは不可能である。発明の
pH調節器は、単純な化学モデルを用いるが、それで
も、滴定曲線データからプロセスモデルを鑑定すること
は不可能である。モデルは単純に極めて非線形であり且
つ極めて多くのパラメーターを持つ。
【0023】本発明の評価法はいくらか異なる試みであ
る。それは観測された滴定曲線を一層簡単な滴定曲線の
結合に分解する。すべての可能なプロセス特性を拡張し
ようとする滴定曲線のライブラリーが蓄積される。化学
モデルは、一組の蓄積されたパラメータを有する各ライ
ブラリー曲線により記載することができる。曲線を一次
結合して複合的な曲線を作ることができる。評価する者
は観測されたプロセスデータに最もうまく合うライブラ
リー滴定曲線の一次結合を見出す。
る。それは観測された滴定曲線を一層簡単な滴定曲線の
結合に分解する。すべての可能なプロセス特性を拡張し
ようとする滴定曲線のライブラリーが蓄積される。化学
モデルは、一組の蓄積されたパラメータを有する各ライ
ブラリー曲線により記載することができる。曲線を一次
結合して複合的な曲線を作ることができる。評価する者
は観測されたプロセスデータに最もうまく合うライブラ
リー滴定曲線の一次結合を見出す。
【0024】個々のライブラリー滴定曲線は、各々、単
純化された化学モデルに基づく全っく合理的な滴定曲線
であり、モデルはまたそれらの任意の結合が合理的な滴
定曲線であることをまた保証する。もし、ライブラリー
曲線がうまく選択されるならば、結合がデータにうまく
一致することを見出すことができ、観測されたデータ点
の間を無事に外挿することができる。同じ化学モデルを
用いて任意のパラメーターの組み合わせを直接ゲインス
ケジュールに変換することができる。
純化された化学モデルに基づく全っく合理的な滴定曲線
であり、モデルはまたそれらの任意の結合が合理的な滴
定曲線であることをまた保証する。もし、ライブラリー
曲線がうまく選択されるならば、結合がデータにうまく
一致することを見出すことができ、観測されたデータ点
の間を無事に外挿することができる。同じ化学モデルを
用いて任意のパラメーターの組み合わせを直接ゲインス
ケジュールに変換することができる。
【0025】最も良好に合致したパラメーターは、特異
値分解(svd)と呼ばれる最小二乗法を用いて見出さ
れる。svdは極めて安定な解法であり、多くのパラメ
ータを2、3のデータ点に適合させることができ、そし
て適合にほとんど貢献しないパラメータを除去すること
ができる。
値分解(svd)と呼ばれる最小二乗法を用いて見出さ
れる。svdは極めて安定な解法であり、多くのパラメ
ータを2、3のデータ点に適合させることができ、そし
て適合にほとんど貢献しないパラメータを除去すること
ができる。
【0026】この見積り法は、広範な試験において、有
力で、柔軟性があり、丈夫で且つ支障のないことが証明
され、そして適応性調節法の心臓部である。図8はある
処方に関する実際の実験曲線データ及びそれに適合する
モデル滴定曲線を示す。5つのパラメータは良好に一致
し、それから誘導されたゲインスケジュールは良好に対
応する(図7)。
力で、柔軟性があり、丈夫で且つ支障のないことが証明
され、そして適応性調節法の心臓部である。図8はある
処方に関する実際の実験曲線データ及びそれに適合する
モデル滴定曲線を示す。5つのパラメータは良好に一致
し、それから誘導されたゲインスケジュールは良好に対
応する(図7)。
【0027】見積りにおいて含まれる一層詳細な数学的
な説明を後に開示する。
な説明を後に開示する。
【0028】良好な一組のデータ点が与えられると、評
価者は、プロセスモデルを見出すことができ、それをゲ
インスケジューラに進めることができる。しかし、プロ
セスが連続的にそして急速に変化するときに良好な一組
のデータ点を得ることは困難とある。新たなデータ点が
収集されると、すべての以前のデータ点は古いデータと
なり得る。適応性調節設計及びヒューリスティックは、
データをできるだけ早く集めそして過去のデータが現在
のデータと一致しているということを確認することによ
りこの問題を解決しようとしている。
価者は、プロセスモデルを見出すことができ、それをゲ
インスケジューラに進めることができる。しかし、プロ
セスが連続的にそして急速に変化するときに良好な一組
のデータ点を得ることは困難とある。新たなデータ点が
収集されると、すべての以前のデータ点は古いデータと
なり得る。適応性調節設計及びヒューリスティックは、
データをできるだけ早く集めそして過去のデータが現在
のデータと一致しているということを確認することによ
りこの問題を解決しようとしている。
【0029】急速データ収集を可能にするために、イン
ラインの配置が用いられる。タンクによる一定の長時間
すなわち時間遅れがない。そのシステム速度はデータ収
集を可能にする。データ点を得る前に、システムを落ち
着かせる待ち時間を回避できる(システムのゲインは非
線形であり且つ未知であるので、システムが定常状態に
達する前にデータを採取することは、たとえ、プロセス
動力学が良く知られていても提示されない)。
ラインの配置が用いられる。タンクによる一定の長時間
すなわち時間遅れがない。そのシステム速度はデータ収
集を可能にする。データ点を得る前に、システムを落ち
着かせる待ち時間を回避できる(システムのゲインは非
線形であり且つ未知であるので、システムが定常状態に
達する前にデータを採取することは、たとえ、プロセス
動力学が良く知られていても提示されない)。
【0030】各データ点は試薬流対流入流の比及びそれ
に基づく観測されたpH値からなる。二つのデータ収集
モードがあり、開始時にまたは調節器がリセットされる
時に用いられるサーチモード及び通常の調節の際に用い
られる連続モードがある。
に基づく観測されたpH値からなる。二つのデータ収集
モードがあり、開始時にまたは調節器がリセットされる
時に用いられるサーチモード及び通常の調節の際に用い
られる連続モードがある。
【0031】サーチモードは初期の一組のデータ点を集
めるためにまたは主な妨害の後にすたれてしまったデー
タ点をすべて取り替えるのに用られる。調節器の出力の
全範囲に渡る2元サーチが実行される。連続的な段階が
常に目標値に向かってなされ、各段階は前の段階の大き
さを半分にする。サーチは、目標値が極めて近い範囲に
入ったときまたは段階の大きさが極めて小さくなるとき
を決定する。各段階の調節出力後に、調節器はpHが落
ち着くのを待ち、新たなデータを採取して、そして次の
段階を行う。
めるためにまたは主な妨害の後にすたれてしまったデー
タ点をすべて取り替えるのに用られる。調節器の出力の
全範囲に渡る2元サーチが実行される。連続的な段階が
常に目標値に向かってなされ、各段階は前の段階の大き
さを半分にする。サーチは、目標値が極めて近い範囲に
入ったときまたは段階の大きさが極めて小さくなるとき
を決定する。各段階の調節出力後に、調節器はpHが落
ち着くのを待ち、新たなデータを採取して、そして次の
段階を行う。
【0032】調節器が運行されながら、連続的なデータ
収集が行われる。pHを目標値に近づける重要な進展が
行われ毎に、あるいは小休止タイマーが終了する毎に、
新しいデータが集められる。調節出力は、pHを落ち着
かせるのに足りる間、現流量比に凍結され、次いで新し
いデータが採取されて、調節が始まる。
収集が行われる。pHを目標値に近づける重要な進展が
行われ毎に、あるいは小休止タイマーが終了する毎に、
新しいデータが集められる。調節出力は、pHを落ち着
かせるのに足りる間、現流量比に凍結され、次いで新し
いデータが採取されて、調節が始まる。
【0033】データ点が時間シーケンスではなくpHに
基づいてビンシステム中に蓄積されて全滴定曲線のモデ
ルを構築することを助け且つ加振(excitation)作用の不
足による問題を回避する。しかしながら、これは古い点
と新しい点との間の不一値による問題を起こす。この問
題を処理するための多くのヒューリステックがある。
基づいてビンシステム中に蓄積されて全滴定曲線のモデ
ルを構築することを助け且つ加振(excitation)作用の不
足による問題を回避する。しかしながら、これは古い点
と新しい点との間の不一値による問題を起こす。この問
題を処理するための多くのヒューリステックがある。
【0034】1.新しい点が収集される毎に、古いデー
タ点が物理的に一致するかについてチェックされる。不
一値点が除去される。
タ点が物理的に一致するかについてチェックされる。不
一値点が除去される。
【0035】2.もし調節が良好(pHが目標値に近
い)ならば、古いモデルは良好と仮定される。古いデー
タポイントは同じゲインスケジュールがまだ用いられる
ようにしてシフトされる。これは、調節器を、ゲインス
ケジュールに影響を与えないプロセス変化に追従させ
る。かかる変化は、通常、例えば、試薬の強度変化また
はプロセス流に非緩衝性材料が加えられることによって
起こる。これは加振(excitation)が不足することによっ
て生じる問題をまた回避する。もし、調節が良好なら
ば、古いモデルは変わらない。
い)ならば、古いモデルは良好と仮定される。古いデー
タポイントは同じゲインスケジュールがまだ用いられる
ようにしてシフトされる。これは、調節器を、ゲインス
ケジュールに影響を与えないプロセス変化に追従させ
る。かかる変化は、通常、例えば、試薬の強度変化また
はプロセス流に非緩衝性材料が加えられることによって
起こる。これは加振(excitation)が不足することによっ
て生じる問題をまた回避する。もし、調節が良好なら
ば、古いモデルは変わらない。
【0036】3.もし、調節が著しくゆるやかであり且
つpHが目標値よりも遠いならば、古いモデルは良くな
く、極めて低いゲインをもたらすと仮定される。次い
で、古いデータ点は、ゲインスケジュールが現下のpH
で一層高いゲイン値を与えるようにシフトされる。これ
は調節器に、乏しいデータまたは乏しい調節器調節に関
して補償させ得る制限された自己調整能力を提供する。
つpHが目標値よりも遠いならば、古いモデルは良くな
く、極めて低いゲインをもたらすと仮定される。次い
で、古いデータ点は、ゲインスケジュールが現下のpH
で一層高いゲイン値を与えるようにシフトされる。これ
は調節器に、乏しいデータまたは乏しい調節器調節に関
して補償させ得る制限された自己調整能力を提供する。
【0037】4.データ点は時間によっては蓄積されず
または重みがかけられないけれども、それらはそれらが
採取される順序で印が付けられる。調節が目標値から離
れており、妨害または滴定曲線の変更を示すときは、最
も古いデータ点は新しいデータ点が収集されたときに除
去される。
または重みがかけられないけれども、それらはそれらが
採取される順序で印が付けられる。調節が目標値から離
れており、妨害または滴定曲線の変更を示すときは、最
も古いデータ点は新しいデータ点が収集されたときに除
去される。
【0038】本発明の学習的な方法は、迅速で連続的な
プロセス変更への追従により起きる種々の問題をうまく
取り扱い、一方で広範囲のデータ点を蓄えて十分な滴定
曲線をモデル化し且つ良好な調節の間の見積法の不適合
を回避する。
プロセス変更への追従により起きる種々の問題をうまく
取り扱い、一方で広範囲のデータ点を蓄えて十分な滴定
曲線をモデル化し且つ良好な調節の間の見積法の不適合
を回避する。
【0039】データ目標が変化する毎に、新しいプロセ
スモデルが見積もられる。評価者は全組のデータに加え
て、用いた試薬のパラメータ化されたモデルを受け取
る。評価者は、プロセス滴定曲線を分解するのに用いる
ブロック滴定曲線を構築するライブラリーもまた与えら
れなければならない。
スモデルが見積もられる。評価者は全組のデータに加え
て、用いた試薬のパラメータ化されたモデルを受け取
る。評価者は、プロセス滴定曲線を分解するのに用いる
ブロック滴定曲線を構築するライブラリーもまた与えら
れなければならない。
【0040】ライブラリー滴定曲線の最良の選択は用途
に依存する。プロセス流が、常に、その可能性がはっき
りしているもの、例えば、化学プラントでは、構築ブロ
ック曲線はプロセスの実際の試料からパラメータ化する
ことができる。しかし、一般的な場合には、プロセスは
まったく任意であろう。多目的曲線群に関するひとつの
可能性は、緩衝をまったく示さない曲線であり、そして
すべての範囲のpH(pH=0〜pH=14)を横切っ
て、わずかに異なるpH値で各々緩衝する曲線の組であ
る。
に依存する。プロセス流が、常に、その可能性がはっき
りしているもの、例えば、化学プラントでは、構築ブロ
ック曲線はプロセスの実際の試料からパラメータ化する
ことができる。しかし、一般的な場合には、プロセスは
まったく任意であろう。多目的曲線群に関するひとつの
可能性は、緩衝をまったく示さない曲線であり、そして
すべての範囲のpH(pH=0〜pH=14)を横切っ
て、わずかに異なるpH値で各々緩衝する曲線の組であ
る。
【0041】パイロットプラントに含まれた試験に選択
された組は、一の非緩衝曲線、各々の観測されたデータ
点のpH値で緩衝する一組の曲線からなる。各々の曲線
は単一のパラメータで記載され得る。これは直観的な手
段を有し、少ない組のデータに関して、より少ないパラ
メータ及びより早い解法をもたらす。解は典型的には1
秒以下で見出される。
された組は、一の非緩衝曲線、各々の観測されたデータ
点のpH値で緩衝する一組の曲線からなる。各々の曲線
は単一のパラメータで記載され得る。これは直観的な手
段を有し、少ない組のデータに関して、より少ないパラ
メータ及びより早い解法をもたらす。解は典型的には1
秒以下で見出される。
【0042】評価者はライブラリー曲線のリストからな
るプロセスモデル、及び各曲線のモデル化学成分に関す
る濃度値に応答する。モデルは、ゲインスケジュールに
報告され、そして新たなモデルが計算されるまでゲイン
スケジュールを計算するのに用いられる。
るプロセスモデル、及び各曲線のモデル化学成分に関す
る濃度値に応答する。モデルは、ゲインスケジュールに
報告され、そして新たなモデルが計算されるまでゲイン
スケジュールを計算するのに用いられる。
【0043】調節はPI調節器16及びプロセスモデル
から導かれたゲインスケジュールにより行われる。プロ
セスモデルは種々の方法で得ることができることを知る
ことが重要である。適応性のある配置では、評価者はモ
デルをオンラインで見出すが、適応性のない問題に関し
ては、モデルは実験室滴定データからオフラインで見出
し得るが、オンラインでの評価はされない。本発明の見
積り技術は任意の組の滴定データに関して用い得、上記
インライン調節システムはオンラインのデータを収集す
る方法を提供する。
から導かれたゲインスケジュールにより行われる。プロ
セスモデルは種々の方法で得ることができることを知る
ことが重要である。適応性のある配置では、評価者はモ
デルをオンラインで見出すが、適応性のない問題に関し
ては、モデルは実験室滴定データからオフラインで見出
し得るが、オンラインでの評価はされない。本発明の見
積り技術は任意の組の滴定データに関して用い得、上記
インライン調節システムはオンラインのデータを収集す
る方法を提供する。
【0044】PI調節器は、流量比調節器であり、順方
向増幅器として18でのプロセス流量を用いる。調節器
は、プロセスの物理的な動力学、すなわち、時定数及び
不動時間に対して調整されなければならない。これらは
プロセス流量の関数である。それらのいくつかの見積は
調節器に提供されなければならない。試験した配置に関
して、プロセス動力学は整定時間と呼ばれるひとつのパ
ラメータにひとまとめにされ、整定時間は高及び低流量
にて測定された値を通じて直線として適合する。時定数
と不動時間はインラインプロセスに関してほぼ等しいと
仮定される。整定時間は調節作用をどれだけ凍結するか
を決定するのに用いる。時定数と不動時間は、見積り用
ではなく、PI調整用に用いられ、それゆえ見積り方法
には重要ではない。
向増幅器として18でのプロセス流量を用いる。調節器
は、プロセスの物理的な動力学、すなわち、時定数及び
不動時間に対して調整されなければならない。これらは
プロセス流量の関数である。それらのいくつかの見積は
調節器に提供されなければならない。試験した配置に関
して、プロセス動力学は整定時間と呼ばれるひとつのパ
ラメータにひとまとめにされ、整定時間は高及び低流量
にて測定された値を通じて直線として適合する。時定数
と不動時間はインラインプロセスに関してほぼ等しいと
仮定される。整定時間は調節作用をどれだけ凍結するか
を決定するのに用いる。時定数と不動時間は、見積り用
ではなく、PI調整用に用いられ、それゆえ見積り方法
には重要ではない。
【0045】インラインの構成は、スピードが要求され
るので、適応性調節には本質的である。適応性でない調
節に関して、任意の配置が用いられ、PI調節器はシス
テムの動力学に適合される。インラインシステムはタン
クよりも大きい不動時間を有しているので、タンクは調
節が一層容易であり、本発明のゲインスケジュール化さ
れた調節器は通常のタンクの構成に一層適用性がある。
るので、適応性調節には本質的である。適応性でない調
節に関して、任意の配置が用いられ、PI調節器はシス
テムの動力学に適合される。インラインシステムはタン
クよりも大きい不動時間を有しているので、タンクは調
節が一層容易であり、本発明のゲインスケジュール化さ
れた調節器は通常のタンクの構成に一層適用性がある。
【0046】インラインの配置は、また、図4及び図5
に示したようにタンクと一緒に用いられて一層良好な性
能を提供することができる。しかしながら、タンクは調
節された容器としては用いられない。それは調節器の下
流に配置されて短期のプロセス妨害の効果と出力pHに
おける振動を除外し得る。それはまたpH調節器の上流
に置くことができ、短期のプロセス妨害を除外し、そし
て出力pHが仕様をはずれたときに循環用の場所を提供
し得る。
に示したようにタンクと一緒に用いられて一層良好な性
能を提供することができる。しかしながら、タンクは調
節された容器としては用いられない。それは調節器の下
流に配置されて短期のプロセス妨害の効果と出力pHに
おける振動を除外し得る。それはまたpH調節器の上流
に置くことができ、短期のプロセス妨害を除外し、そし
て出力pHが仕様をはずれたときに循環用の場所を提供
し得る。
【0047】調節器用の試験概要は、広範囲の「実界(r
eal world)」の条件をシミュレートし、そして従前の適
応性pH調節器が取り扱えない場合を作出するのに案出
された。
eal world)」の条件をシミュレートし、そして従前の適
応性pH調節器が取り扱えない場合を作出するのに案出
された。
【0048】すべての試験は酸性の廃棄流を中和するこ
とを含む。アルカリ廃棄流の中和は本質的に同じ問題で
ある。非中性のpHに調節することは中和の問題の副題
である。試験結果は一般的な場合に有効にすべきであ
る。
とを含む。アルカリ廃棄流の中和は本質的に同じ問題で
ある。非中性のpHに調節することは中和の問題の副題
である。試験結果は一般的な場合に有効にすべきであ
る。
【0049】試験は、種々のプロセス流れの範囲に関し
て開始すること、流れ変化、濃度変化及び一プロセスか
らの別のプロセスへの変化を含む。段階変化と早い勾配
変化及び遅い勾配変化との両方を用いる。比較のため
に、本発明の見積り技術を用いてそしてオフラインで誘
導されたゲインスケジュールを用いて、いくつかの試験
を行う。
て開始すること、流れ変化、濃度変化及び一プロセスか
らの別のプロセスへの変化を含む。段階変化と早い勾配
変化及び遅い勾配変化との両方を用いる。比較のため
に、本発明の見積り技術を用いてそしてオフラインで誘
導されたゲインスケジュールを用いて、いくつかの試験
を行う。
【0050】典型的なEPA規格に基づき、公称調節バ
ンドを試験グラフ上に示す。もしpHがこのバンド内に
あると、調節は適当であると考えられる。
ンドを試験グラフ上に示す。もしpHがこのバンド内に
あると、調節は適当であると考えられる。
【0051】試験のために、6つの種々のプロセス流れ
が用いられる。それらの二つに関する実験滴定曲線は図
2及び図3中に示される。それらの化学的処方及び特性
は以下の通りである。
が用いられる。それらの二つに関する実験滴定曲線は図
2及び図3中に示される。それらの化学的処方及び特性
は以下の通りである。
【0052】処方1: .010M H3 PO4 低p
H、pH=7で低(プロセス)ゲイン極端なゲイン変化 処方2: .016M H2 SO4 +.022M N
aCl低pH、pH=7で高ゲイン長いゼロゲイン区間
H、pH=7で低(プロセス)ゲイン極端なゲイン変化 処方2: .016M H2 SO4 +.022M N
aCl低pH、pH=7で高ゲイン長いゼロゲイン区間
【0053】始動は2元サーチにより始まり、そして調
節器は目標点を含む調節バンド中でデータ点を見出そう
とする。これを行うことは平坦で、緩衝された滴定曲線
上では容易である。広範囲の調節値は調節バンド内に入
る。急勾配の曲線に関しては、調整をわずかな範囲で行
わねばならず、サーチは一層長くかかり、そして続いて
起こることなく終了し得る。サーチが一旦行われると、
モデルが適合され、そしてPI調節が始まる。
節器は目標点を含む調節バンド中でデータ点を見出そう
とする。これを行うことは平坦で、緩衝された滴定曲線
上では容易である。広範囲の調節値は調節バンド内に入
る。急勾配の曲線に関しては、調整をわずかな範囲で行
わねばならず、サーチは一層長くかかり、そして続いて
起こることなく終了し得る。サーチが一旦行われると、
モデルが適合され、そしてPI調節が始まる。
【0054】処方1: 処方1は、中和点では低いプロセスゲインを有し、より
高い調節器ゲインを可能にする(図2の滴定曲線を参照
のこと)。図9は始動を示す。2元のサーチは10秒〜
70秒だけ続く。次いで、PI調節器が働き、pHは急
速に目標値に導かれる。追加のデータ点は途中で収集さ
れる。図9中、「CO%/20」は、0〜100%に規
格化されたレコーダーの調節出力(CO)が、20%で
あることを示す。
高い調節器ゲインを可能にする(図2の滴定曲線を参照
のこと)。図9は始動を示す。2元のサーチは10秒〜
70秒だけ続く。次いで、PI調節器が働き、pHは急
速に目標値に導かれる。追加のデータ点は途中で収集さ
れる。図9中、「CO%/20」は、0〜100%に規
格化されたレコーダーの調節出力(CO)が、20%で
あることを示す。
【0055】ここでの結果は良好であり、そしてプロセ
スゲインが全体的に低い典型的な調節器性能である。低
プロセスゲインは調節バンドを発見容易にし、それゆえ
2元サーチは早期に終る。低プロセスゲインはまた出力
pHを小さな妨害に対して敏感にさせず、高い帰還ゲイ
ンを可能にして、大きな妨害に対する追従を良好にす
る。
スゲインが全体的に低い典型的な調節器性能である。低
プロセスゲインは調節バンドを発見容易にし、それゆえ
2元サーチは早期に終る。低プロセスゲインはまた出力
pHを小さな妨害に対して敏感にさせず、高い帰還ゲイ
ンを可能にして、大きな妨害に対する追従を良好にす
る。
【0056】比較のため、図10は同じ処方に関する非
適応性の始動を示し、ゲインスケジュールはプロセス滴
定曲線からオフラインで決定される。調節は良好であ
り、ゲインシケジュール化されたPI調節器は、実際
に、可変性の高い、高非線形のプロセスゲインに対して
補償することができる。
適応性の始動を示し、ゲインスケジュールはプロセス滴
定曲線からオフラインで決定される。調節は良好であ
り、ゲインシケジュール化されたPI調節器は、実際
に、可変性の高い、高非線形のプロセスゲインに対して
補償することができる。
【0057】処方2:処方1に比較して、処方2は中和
点で極めて高いプロセスゲインを有する(滴定曲線、図
3)。図11は始動を示す。2元サーチは60秒から3
10秒に伸び、調節バンドを通って何度かpHを測定
し、最後はpH=4で終わる。PI調節が開始され、p
Hが誘導される。いくつかのデータ点が途中で採取さ
れ、そして調節器ゲインはpH4−5の領域で増大す
る。pHは最終的に中性近くに導かれるが、系は現実に
は定着しない。
点で極めて高いプロセスゲインを有する(滴定曲線、図
3)。図11は始動を示す。2元サーチは60秒から3
10秒に伸び、調節バンドを通って何度かpHを測定
し、最後はpH=4で終わる。PI調節が開始され、p
Hが誘導される。いくつかのデータ点が途中で採取さ
れ、そして調節器ゲインはpH4−5の領域で増大す
る。pHは最終的に中性近くに導かれるが、系は現実に
は定着しない。
【0058】ここでの結果は、プロセスゲインが高い
(滴定曲線が極めて急勾配)ときの典型的な性能であ
る。調節出力は極めて狭いバンド内に納まらねばなら
ず、従って、2元サーチプロセスは長く、そして調節信
号は両方向にて所望のバンドを飛び越えるながらいくつ
かわき道を持つ。プロセスはプロセス中または試薬流れ
中のわずかな変化、増幅ノイズ及びドリフトに対しても
極めて敏感である。帰還ゲインは低く、妨害に対して乏
しい追従性にする。
(滴定曲線が極めて急勾配)ときの典型的な性能であ
る。調節出力は極めて狭いバンド内に納まらねばなら
ず、従って、2元サーチプロセスは長く、そして調節信
号は両方向にて所望のバンドを飛び越えるながらいくつ
かわき道を持つ。プロセスはプロセス中または試薬流れ
中のわずかな変化、増幅ノイズ及びドリフトに対しても
極めて敏感である。帰還ゲインは低く、妨害に対して乏
しい追従性にする。
【0059】調節出力が実際に正確な値に極めて近いこ
とを知るべきである。滴定曲線は、出力で1のpHのエ
ラーが調節入力での1%未満のエラーに相当することを
知るべきである。しかしながら、プロセスの感度はエラ
ーを過大視している。
とを知るべきである。滴定曲線は、出力で1のpHのエ
ラーが調節入力での1%未満のエラーに相当することを
知るべきである。しかしながら、プロセスの感度はエラ
ーを過大視している。
【0060】図12は、非適応性の始動を示す。調節器
はオフラインで求められたゲインスケジュールにより調
整される。この場合、pHは最初に飛び出している。滴
定曲線は極めて早く急勾配になるので遅れ及び不動時間
はゲインスケジュールを侵略的にさせる。しかし、目標
値に戻る途中、逆のことが生じ、pHはpH=9.5付
近で行きづまり、それ以上低下しない。これは、このp
Hでの調節器ゲインが極端に低く(図3参照)、そして
調節器が微細な流量の妨害に追従しようとするからであ
る。廃棄流はタンクからポンプで送られ、タンクレベル
が下がると、流量もまた下がる。妨害は調節器に報告さ
れる流量においては見られず、それはポンプの目標値か
ら導かれる。調節器ゲインは極めて低く流量は調節出力
よりも早く下がる。
はオフラインで求められたゲインスケジュールにより調
整される。この場合、pHは最初に飛び出している。滴
定曲線は極めて早く急勾配になるので遅れ及び不動時間
はゲインスケジュールを侵略的にさせる。しかし、目標
値に戻る途中、逆のことが生じ、pHはpH=9.5付
近で行きづまり、それ以上低下しない。これは、このp
Hでの調節器ゲインが極端に低く(図3参照)、そして
調節器が微細な流量の妨害に追従しようとするからであ
る。廃棄流はタンクからポンプで送られ、タンクレベル
が下がると、流量もまた下がる。妨害は調節器に報告さ
れる流量においては見られず、それはポンプの目標値か
ら導かれる。調節器ゲインは極めて低く流量は調節出力
よりも早く下がる。
【0061】濃度変化は、流量につながり得(例えば、
雨水が下水に注がれると、流れを希釈して、流量を増加
する)、または流量と独立に起こり得る(例えば、廃棄
流の小さいが濃縮部分に起因してプロセスが挙動を変化
するとき)。主な問題は、pHが目標と非常に異なるゲ
インを有する滴定曲線の部分にシフトし得ることであ
る。ゲインスケジュール化されていない調節器は行きづ
まるかまたは目標値を著しく飛び越えるであろう。ゲイ
ンスケジュールはこの問題をうまく処理する。他の困難
な点は濃度の変化に比例するプロセスゲイン変化及び新
しいデータを古いデータと一致させない滴定曲線のシフ
トを含む。処方1:処方1の滴定曲線はゲインの極端な
変化を示す(図2参照)のでこの処方を試験する。pH
の変化は、調節器を調節開始時と明らかに異なる滴定曲
線部分に進ませる。試験は3分間、50%の濃度勾配の
低下を示し、次いで元の値に戻るステップを示す。
雨水が下水に注がれると、流れを希釈して、流量を増加
する)、または流量と独立に起こり得る(例えば、廃棄
流の小さいが濃縮部分に起因してプロセスが挙動を変化
するとき)。主な問題は、pHが目標と非常に異なるゲ
インを有する滴定曲線の部分にシフトし得ることであ
る。ゲインスケジュール化されていない調節器は行きづ
まるかまたは目標値を著しく飛び越えるであろう。ゲイ
ンスケジュールはこの問題をうまく処理する。他の困難
な点は濃度の変化に比例するプロセスゲイン変化及び新
しいデータを古いデータと一致させない滴定曲線のシフ
トを含む。処方1:処方1の滴定曲線はゲインの極端な
変化を示す(図2参照)のでこの処方を試験する。pH
の変化は、調節器を調節開始時と明らかに異なる滴定曲
線部分に進ませる。試験は3分間、50%の濃度勾配の
低下を示し、次いで元の値に戻るステップを示す。
【0062】結果(図13)は良好である。プロセスは
pH=7付近で比較的鈍感であり、高い調節器ゲインは
調節器を困難なく勾配に追従させ得る。ステップはpH
の突然の降下を起こすが、ゲインスケジュールは行きづ
まりまたは飛び出しの兆候を示すことなくpH降下をう
まく処理する。
pH=7付近で比較的鈍感であり、高い調節器ゲインは
調節器を困難なく勾配に追従させ得る。ステップはpH
の突然の降下を起こすが、ゲインスケジュールは行きづ
まりまたは飛び出しの兆候を示すことなくpH降下をう
まく処理する。
【0063】試験の最終組は処方の変化を含む。処方の
変化はプロセスの挙動が全っく変化することを表す。単
一のゲインスケジュールは、試験の処方に見られるプロ
セスの変化を説明することができない。試験は、ステッ
プ変化、早い勾配及び遅い勾配を含んでいた。それらは
調節器に関する種々の問題を表す。
変化はプロセスの挙動が全っく変化することを表す。単
一のゲインスケジュールは、試験の処方に見られるプロ
セスの変化を説明することができない。試験は、ステッ
プ変化、早い勾配及び遅い勾配を含んでいた。それらは
調節器に関する種々の問題を表す。
【0064】図14及び15は、調節された濃度により
処方1から処方2への遅い変化を示し、従って、調節器
の作用及び出力pHが同じ状態に留まり、プロセスが変
化した痕跡を調節器に与えない。これは適応性調節に関
する厳しい試験である。
処方1から処方2への遅い変化を示し、従って、調節器
の作用及び出力pHが同じ状態に留まり、プロセスが変
化した痕跡を調節器に与えない。これは適応性調節に関
する厳しい試験である。
【0065】図14は処方1の滴定曲線用に調整された
非適応性調節器用の試験を示す。200秒で開始し、プ
ロセス間のゆっくりとした傾斜が作られ、滴定曲線はし
だいに急勾配になる。調節器を発振させる妨害はまった
くないが、傾斜が進むと小さな発振が始まり、最終的に
は調節できなくなる。
非適応性調節器用の試験を示す。200秒で開始し、プ
ロセス間のゆっくりとした傾斜が作られ、滴定曲線はし
だいに急勾配になる。調節器を発振させる妨害はまった
くないが、傾斜が進むと小さな発振が始まり、最終的に
は調節できなくなる。
【0066】図15は、本発明の適応性調節器用の同じ
試験を示す。2元サーチは開始時に実行され、pHが1
0.5に飛び出した後に、調節が確立される。
試験を示す。2元サーチは開始時に実行され、pHが1
0.5に飛び出した後に、調節が確立される。
【0067】本発明の適応性pH調節器は、極端なプロ
セス変化及び負荷変化に急速に適応し、極めてわずかな
調整で足り、そしてインライン調節器において前例のな
いpH調節を達成する。
セス変化及び負荷変化に急速に適応し、極めてわずかな
調整で足り、そしてインライン調節器において前例のな
いpH調節を達成する。
【0068】 滴定曲線評価の数学 イオン溶液の化学理論に関するモデルは十分に開発され
ているが、複雑であり、典型的には、計算結果と観測結
果を一致させるために多くの実験的に誘導された補正因
子を含む。調節のためには、溶液の化学組成から溶液の
正確な挙動を計算する必要はない。単純化されたモデル
は観測されたプロセスの挙動に適切に一致させることが
できる。本文中で用いたモデルを式(11)に記載す
る。それは酸性度係数を無視し、すべての化学反応がp
H測定前に平衡に達すると仮定している。
ているが、複雑であり、典型的には、計算結果と観測結
果を一致させるために多くの実験的に誘導された補正因
子を含む。調節のためには、溶液の化学組成から溶液の
正確な挙動を計算する必要はない。単純化されたモデル
は観測されたプロセスの挙動に適切に一致させることが
できる。本文中で用いたモデルを式(11)に記載す
る。それは酸性度係数を無視し、すべての化学反応がp
H測定前に平衡に達すると仮定している。
【0069】pHは溶液中の水素イオンの活動度または
有効濃度を測る。有効濃度は実際の濃度とは異なるであ
ろうが、希釈溶液中ではその効果を無視することができ
る。pHは水素イオン濃度の対数として求められ、固有
非線形性を示す。
有効濃度を測る。有効濃度は実際の濃度とは異なるであ
ろうが、希釈溶液中ではその効果を無視することができ
る。pHは水素イオン濃度の対数として求められ、固有
非線形性を示す。
【数2】pH=−log10([H+ ])
(1)式中、[H+ ]は水素イオン濃度であり、モル/
リットルで表される。
(1)式中、[H+ ]は水素イオン濃度であり、モル/
リットルで表される。
【0070】モデルは水素イオンを含むすべての化学反
応に関して書くことができる。これらの反応は、酸、塩
基、塩及び水の解離を含む。
応に関して書くことができる。これらの反応は、酸、塩
基、塩及び水の解離を含む。
【0071】水は解離して平衡度定数を保つ。
【数3】KW =[H+ ][OH- ] (2) pKW =−log10(KW ) 式中、KW は水のイオン積あり(24℃にて10
-14 )、[OH- ]は水酸イオン濃度(モル/リット
ル)である。単純な酸及び塩基は水中でいくらか解離し
てイオンを生成する。解離の程度は酸に関してはKa 、
塩基に関してはKb によって求められる。単純な酸HA
及び単純な塩基BOHに関して、それら次のように定義
される。
-14 )、[OH- ]は水酸イオン濃度(モル/リット
ル)である。単純な酸及び塩基は水中でいくらか解離し
てイオンを生成する。解離の程度は酸に関してはKa 、
塩基に関してはKb によって求められる。単純な酸HA
及び単純な塩基BOHに関して、それら次のように定義
される。
【0072】
【数4】Ka =[H+ ][A]/[HA]
(3) pKa =−log10(Ka ) Kb =[B+ ][OH]/[BOH]
(4) pKb =−log10(KBb ) 式(3)及び(4)とpH(1)及びKW (2)の定義
とを組み合わせると、与えられたpHにおける解離度を
与える。
(3) pKa =−log10(Ka ) Kb =[B+ ][OH]/[BOH]
(4) pKb =−log10(KBb ) 式(3)及び(4)とpH(1)及びKW (2)の定義
とを組み合わせると、与えられたpHにおける解離度を
与える。
【0073】
【数5】酸:Ca =1/(1+10pKa-pH)
(5) 塩基:Cb =1/(1+10pKb+pH-pKw) (6) 式中、Ca 及びCb は0(解離しない)から1(完全に
解離する)に及ぶ。解離しない状態から完全に解離する
までの変化は、酸に関してはpH=pKa で、塩基に関
してはpH=pKw −pKb を中心とする狭いpH範囲
に渡って生じる。解離は添加された試薬を中和するよう
にイオンを提供し、pH=pKa またはpH=pKw −
pKb にて滴定曲線の緩衝を生じる。
(5) 塩基:Cb =1/(1+10pKb+pH-pKw) (6) 式中、Ca 及びCb は0(解離しない)から1(完全に
解離する)に及ぶ。解離しない状態から完全に解離する
までの変化は、酸に関してはpH=pKa で、塩基に関
してはpH=pKw −pKb を中心とする狭いpH範囲
に渡って生じる。解離は添加された試薬を中和するよう
にイオンを提供し、pH=pKa またはpH=pKw −
pKb にて滴定曲線の緩衝を生じる。
【0074】二酸H2 A(例えば、硫酸、H2 SO4 )
は二度解離することができ、第1及び第2解離は別々の
解離定数を有する。
は二度解離することができ、第1及び第2解離は別々の
解離定数を有する。
【数6】Ka1=[H+ ][HA]/[H2 A]
(7) pKa1=−log10(Ka1) Ka2=[H+ ][A- ]/[HA] (8) pKa2=−log10(Ka1) Ca について得られる式は一層複雑である。
(7) pKa1=−log10(Ka1) Ka2=[H+ ][A- ]/[HA] (8) pKa2=−log10(Ka1) Ca について得られる式は一層複雑である。
【0075】
【数7】Ca =(1+5* 10pKa1-pH )/(1+10
pKa2-pH (1+10pKa-pH))(9)
pKa2-pH (1+10pKa-pH))(9)
【0076】石灰、Ca(OH)2 のような複雑な塩基
に関する式は同様であり、そして式は三酸及び三塩基
(例えば、リン酸、H3 PO4 )にまで拡張することが
できる。酸及び塩基の反応から得られる塩は、例えば、
次式で表される。
に関する式は同様であり、そして式は三酸及び三塩基
(例えば、リン酸、H3 PO4 )にまで拡張することが
できる。酸及び塩基の反応から得られる塩は、例えば、
次式で表される。
【数8】HCl+NaOH ←→ NaCl+H2 O 塩は、酸と塩基成分の混合物としてモデル化される。最
終的には、すべての溶液は電気的に中性であり、そし
て、電荷均衡式はすべてのイオン成分の寄与の総和とし
て書くことができる。
終的には、すべての溶液は電気的に中性であり、そし
て、電荷均衡式はすべてのイオン成分の寄与の総和とし
て書くことができる。
【0077】
【数9】(酸イオン)+(塩基イオン)+(水イオン)
=0 (10)
=0 (10)
【0078】上に展開した定義を用いて、この式は次の
ようになる。
ようになる。
【数10】−Ca1Na1・・・・+Cb1Nb1・・・・+1
0-pH −10pH-pKw=0 (11) 式中、Na1は酸1の規定度であり、同様にNa は各酸の
規定度であり、Nb1は塩基1の規定度であり、同様にN
a は各塩基の規定度である。
0-pH −10pH-pKw=0 (11) 式中、Na1は酸1の規定度であり、同様にNa は各酸の
規定度であり、Nb1は塩基1の規定度であり、同様にN
a は各塩基の規定度である。
【0079】式(11)はpHの評価に用いられる基本
的な式である。
的な式である。
【0080】すべての観測したプロセスデータ点は、プ
ロセス成分及び添加試薬を含む系の種々の化学平衡を表
す。評価の際の問題は、同定が未知のすべての現実のプ
ロセスパラメータに関して系の式を解明するに等しい。
pHが測定され、pKw (−log10([H+ ][O
H]))がわかり、そして上式(11)でわかるように
見出すべきすべてのCa 及びNa 及びすべてのCb 及び
Nb がまだ残されていると仮定する。Ca 及びCb は真
のパラメータ、pKa 及びpKb の非線形な関数であ
る。更に、現実のプロセスにおける成分の数は未知であ
る。系を直接解明することは明らかに期待できない。
ロセス成分及び添加試薬を含む系の種々の化学平衡を表
す。評価の際の問題は、同定が未知のすべての現実のプ
ロセスパラメータに関して系の式を解明するに等しい。
pHが測定され、pKw (−log10([H+ ][O
H]))がわかり、そして上式(11)でわかるように
見出すべきすべてのCa 及びNa 及びすべてのCb 及び
Nb がまだ残されていると仮定する。Ca 及びCb は真
のパラメータ、pKa 及びpKb の非線形な関数であ
る。更に、現実のプロセスにおける成分の数は未知であ
る。系を直接解明することは明らかに期待できない。
【0081】その問題を線形化する案は、未知のプロセ
スのpKa 及びpKb を前もって仮定することである。
これは、プロセスが、あらかじめ選択された種々の単純
な酸及び塩基の混合物であるとしてモデル化することが
できると仮定することと同様のことである。各々、別の
pKa またはpKb は、関連したpH値にてモデル滴定
曲線への緩衝をもたらす。もし、pKを混合したものが
pH全域を覆うならば、任意の所望のpHにて任意の所
望の緩衝の程度により滴定曲線を構築することが可能で
あり且つ実際のプロセス滴定曲線をほとんど近似するこ
とが可能である。
スのpKa 及びpKb を前もって仮定することである。
これは、プロセスが、あらかじめ選択された種々の単純
な酸及び塩基の混合物であるとしてモデル化することが
できると仮定することと同様のことである。各々、別の
pKa またはpKb は、関連したpH値にてモデル滴定
曲線への緩衝をもたらす。もし、pKを混合したものが
pH全域を覆うならば、任意の所望のpHにて任意の所
望の緩衝の程度により滴定曲線を構築することが可能で
あり且つ実際のプロセス滴定曲線をほとんど近似するこ
とが可能である。
【0082】単純な酸及び塩基の組が選択されたなら
ば、見積りの問題は簡単な線形の問題になる。Ca 及び
Cb は下記式により知られた定数である。
ば、見積りの問題は簡単な線形の問題になる。Ca 及び
Cb は下記式により知られた定数である。
【0083】
【数11】Ca =1/(1+10pKa-pH) Cb =1/(1+10pKb+pH-pKw) なぜなら、pKa またはpKb は仮定され、pKwはわ
かっており、そしてpHは測定されるからである。加え
た試薬の量はわかっており、そして対応するpKa 及び
pKb もまた知られており、そうして、加えた試薬に対
応する下記式における項もまたは定数である。見積りの
問題は、以下の形の系の式に対する解を見出すことであ
る。
かっており、そしてpHは測定されるからである。加え
た試薬の量はわかっており、そして対応するpKa 及び
pKb もまた知られており、そうして、加えた試薬に対
応する下記式における項もまたは定数である。見積りの
問題は、以下の形の系の式に対する解を見出すことであ
る。
【0084】
【数12】Ca1Na1+・・+CanNan・・+Cb1Nb1+
・・・+CbnNbn=D 式中、Ca1〜Canは各々あらかじめ選択された酸の解離
度である。Na1〜Nanは各々の酸の未知の規定度であ
る。Cb1〜Cbnは各々あらかじめ選択された塩基の解離
度であり、Nb1〜Nbnは各々の塩基の未知の規定度であ
る。Dは既知の源(水、試薬)に由来するイオンを一括
する一定の項である。
・・・+CbnNbn=D 式中、Ca1〜Canは各々あらかじめ選択された酸の解離
度である。Na1〜Nanは各々の酸の未知の規定度であ
る。Cb1〜Cbnは各々あらかじめ選択された塩基の解離
度であり、Nb1〜Nbnは各々の塩基の未知の規定度であ
る。Dは既知の源(水、試薬)に由来するイオンを一括
する一定の項である。
【0085】最もうまく合致したモデルにおいて仮定さ
れた混合物である酸及び塩基に対応する規定度だけが見
出される必要があり、これは線形の問題である。必要な
すべてのものは系を解くのに十分なデータ点である。
れた混合物である酸及び塩基に対応する規定度だけが見
出される必要があり、これは線形の問題である。必要な
すべてのものは系を解くのに十分なデータ点である。
【0086】コンピュータソフトウエアーはデータポイ
ント及び予備選択されたpKを式の形に変換することが
できる。そして問題は、svd技術を用いて、最小二乗
法の問題として解決される。svdは未知数よりも少な
い式がある場合でさえも、解を見出すことを可能にす
る。式の未決定の系に対する特異の解が存在しないけれ
ども、最小量の解が存在し、svdを用いてそれを見出
すことができる。結果は、その問題に対して安定した解
であり、たとえ、どのようなデータセットが提供されよ
うとも、合理的な答を与えることを信頼できるものであ
る。遭遇する唯一の問題は、化学成分の規定度を強制的
に明らかにすることである。反復操作が用いられて無用
の規定度の解は除去される。解は素早く且つ収斂するこ
とが保証される。
ント及び予備選択されたpKを式の形に変換することが
できる。そして問題は、svd技術を用いて、最小二乗
法の問題として解決される。svdは未知数よりも少な
い式がある場合でさえも、解を見出すことを可能にす
る。式の未決定の系に対する特異の解が存在しないけれ
ども、最小量の解が存在し、svdを用いてそれを見出
すことができる。結果は、その問題に対して安定した解
であり、たとえ、どのようなデータセットが提供されよ
うとも、合理的な答を与えることを信頼できるものであ
る。遭遇する唯一の問題は、化学成分の規定度を強制的
に明らかにすることである。反復操作が用いられて無用
の規定度の解は除去される。解は素早く且つ収斂するこ
とが保証される。
【0087】更に、解が観測データに最も合致するプロ
セスの化学モデルであるので、解は実際の滴定曲線のよ
うにふるまうことを保証できる。プロセスの化学に基づ
き見積られたモデルの結合、及びsvdによる最小の大
きさの解は、見積り操作を極めて良好に行わせる。通常
の見積りの問題のほとんど、例えば、不十分なデータ、
うまく条件化されてないデータ組による途方もないパラ
メータまたはデータ範囲を超える不安定な外挿は、完全
に除去された。
セスの化学モデルであるので、解は実際の滴定曲線のよ
うにふるまうことを保証できる。プロセスの化学に基づ
き見積られたモデルの結合、及びsvdによる最小の大
きさの解は、見積り操作を極めて良好に行わせる。通常
の見積りの問題のほとんど、例えば、不十分なデータ、
うまく条件化されてないデータ組による途方もないパラ
メータまたはデータ範囲を超える不安定な外挿は、完全
に除去された。
【0088】所望のプロセスゲインは定常状態ゲインで
あり、次式で表される。
あり、次式で表される。
【数13】KP =[pH(目標)−pH(現状)]/
[レシオ(目標)−レシオ(現状)]
[レシオ(目標)−レシオ(現状)]
【0089】pHの目標値は知られており、そして現状
のpHは測定される。必要なことはモデル滴定曲線上の
対応するフローレシオである(測定されたフローレシオ
は用いるべきでない。実際の滴定曲線とモデルの滴定曲
線との間のミスマッチは不合理なゲイン値をもたらすこ
とになる)。
のpHは測定される。必要なことはモデル滴定曲線上の
対応するフローレシオである(測定されたフローレシオ
は用いるべきでない。実際の滴定曲線とモデルの滴定曲
線との間のミスマッチは不合理なゲイン値をもたらすこ
とになる)。
【0090】電荷の均衡式は再び次のようになる。
【数14】(酸イオン)+(塩基イオン)+(水イオ
ン)=0
ン)=0
【0091】pHは知られている。混合されていない試
薬及び廃棄流の規定度及びpK値は共に知られている。
未知のものは式を解く二つの流れの相対比である。希釈
因子は次の通りである。
薬及び廃棄流の規定度及びpK値は共に知られている。
未知のものは式を解く二つの流れの相対比である。希釈
因子は次の通りである。
【0092】DW =w/(w+r)(廃棄流) Dr =r/(w+r)(廃棄流) 式中、rは試薬のフローレシオ(g/m)であり、wは
廃棄物のフローレシオ(g/m)である。
廃棄物のフローレシオ(g/m)である。
【0093】全電荷の均衡式中、廃棄流成分の規定度の
係数はDW を乗じなければならず、試薬成分の各規定度
係数はDr を乗じなければならない。
係数はDW を乗じなければならず、試薬成分の各規定度
係数はDr を乗じなければならない。
【0094】電荷の均衡式は次のようになる。
【数15】DW (酸イオン)+Dr (塩基イオン)+
(水イオン)=0 これは、DW 及びDr に関する式を希釈因子で置き換え
てそして、現pH及び目標値pHで見積られた係数を持
つ該式を解くことによって、比r/wに関して簡単に解
かれる。ゲインはKp に関する式によって求められる。
(水イオン)=0 これは、DW 及びDr に関する式を希釈因子で置き換え
てそして、現pH及び目標値pHで見積られた係数を持
つ該式を解くことによって、比r/wに関して簡単に解
かれる。ゲインはKp に関する式によって求められる。
【0095】本発明の特定の具体例を詳細に示して本発
明の原理の応用を説明してきたが、本発明の原理を離れ
ないで別の方法で本発明を具体化し得ることが理解され
よう。
明の原理の応用を説明してきたが、本発明の原理を離れ
ないで別の方法で本発明を具体化し得ることが理解され
よう。
【図1】 本発明の適応性pH調節器の概念的なブロッ
クダイヤグラムを示す。
クダイヤグラムを示す。
【図2】 本発明に従い用いられる第1の処方の滴定曲
線のグラフを示す。
線のグラフを示す。
【図3】 本発明に従い用いられる第1の処方の滴定曲
線のグラフを示す。
線のグラフを示す。
【図4】 下流タンクを備える本発明の調節器の使用を
示すブロックダイヤグラムである。
示すブロックダイヤグラムである。
【図5】 上流タンクを備える本発明の調節器の使用を
示すブロックダイヤグラムである。
示すブロックダイヤグラムである。
【図6】 適応性調節器において使用するためのゲイン
を得るための技術を示すグラフである。
を得るための技術を示すグラフである。
【図7】 本発明の最初の処方から得られる調節ゲイン
案を表すグラフである。
案を表すグラフである。
【図8】 実際の滴定曲線と本発明を用いて得られるモ
デル滴定曲線との関係を示すグラフである。
デル滴定曲線との関係を示すグラフである。
【図9】 始動期間の本発明の結果を示す図である。
【図10】 実際のプロセス滴定曲線用いて得られた結
果を示す図9と同様のグラフである。
果を示す図9と同様のグラフである。
【図11】 第2の処方を用いたときに得られる結果を
示す図9と同様の図である。
示す図9と同様の図である。
【図12】 第2の処方を用いたときの結果を示す図1
0と同様の図である。
0と同様の図である。
【図13】 本発明に関して、濃度の急速な変化を含む
試験結果を示す。
試験結果を示す。
【図14】 処方1を用いる非適応性調節器の結果を示
し、それはサイクルの終わり近くで不安定な調節を生じ
る。
し、それはサイクルの終わり近くで不安定な調節を生じ
る。
【図15】 本発明を用いた適応性調節器の結果を示
す。
す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ケネス・ロパロ 米国オハイオ州チェスタランド、ケイブ ズ・ロード12310 (72)発明者 トマス・ジェイ・シャイブ 米国オハイオ州チェスタランド、ウッド サイド・ドライブ12865 (56)参考文献 特開 平1−218692(JP,A) 特開 昭63−40902(JP,A) 特開 昭60−74263(JP,A) 実開 昭63−148099(JP,U)
Claims (10)
- 【請求項1】 ある流量で流入する流れに試薬を加えて
得た滴定曲線から比例積分調節器のゲインが決定される
比例積分調節器を使用して溶液のpHを制御する方法に
おいて、 各々のpH値がそれぞれ試薬流量対流入流量の比に対応
するような複数のpH値を用意し、前記用意された複数の pH値での試薬流量対流入流量の
比を各々表す複数のpHデータ点を収集し、 複数のpHデータ点をpHに基づき記憶システム中に蓄
積し、 前記蓄積されたpHデータ点からモデル滴定曲線を作成
し、そして前記モデル滴定曲線を使用して前記比例積分制御器のゲ
インを操作するためのゲインスケジュールを確立するこ
とにより前記試薬の添加を制御して前記pHを制御する
方法 。 - 【請求項2】 新たにデータ点を収集し、各新たに収集
したデータ点を以前に収集したデータ点と比較して一致
性を調べ、もしも新規データ点と以前のデータ点が不一
致ならば以前のデータを捨てる工程を含む、請求項1の
方法。 - 【請求項3】 流入する流れは混合要素を通して流れ、
前記収集されるpH値は混合要素から取られるものであ
る請求項1の方法。 - 【請求項4】 別々のプロセスに関して各々生じた複数
のモデル滴定曲線を蓄積して、蓄積された滴定曲線のラ
イブラリーを生じさせ、 そして、前記蓄積された滴定曲線の一つを、収集された
データ点に対して適合させて、プロセスのpHを調節す
るのに用いるための複合滴定曲線を生じさせることを含
む請求項1の方法。 - 【請求項5】 収集したデータ点を特異値分解法に供し
て、収集したデータ点に最も近い蓄積された滴定曲線の
結合を捜し出すことを含む請求項4の方法。 - 【請求項6】 新たにデータ点を収集し、各新たに収集
したデータ点を、前記モデル滴定曲線から作成されたゲ
インスケジュールであって、測定点と前記目標点の間の
曲線の傾きを含むゲインスケジュールにより確立した目
標点と比較し、もしも新たに収集したデータ点との一致
が良好ならば、記憶システムの前記モデ ルを維持するこ
とを含む、請求項1の方法。 - 【請求項7】 各データ点は、新たなデータ点と以前の
データ点とを区別するために、データ点が採取された時
間を指示する順次の印を有する請求項6の方法。 - 【請求項8】 前記比例積分制御器のゲインを操作する
ためのゲインスケジュールを確立する前記モデル滴定曲
線により前記試薬の前記混合要素への添加を制御するに
当たり、前記ゲインスケジュールは、実際の動作点とモ
デル滴定曲線上の所望の目標点の間の傾斜である、請求
項6の方法。 - 【請求項9】 前記比例積分調節器のゲインは前記混合
要素の下流側で制御される請求項8の方法。 - 【請求項10】 前記比例積分調節器のゲインは前記混
合要素の下流側で制御される請求項8の方法。
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- 1991-03-30 KR KR1019910005069A patent/KR910020534A/ko not_active Abandoned
- 1991-04-25 MX MX2551991D patent/MX173341B/es unknown
- 1991-05-21 JP JP3144150A patent/JP2632609B2/ja not_active Expired - Lifetime
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