JP2631216B2 - Exposure control device - Google Patents

Exposure control device

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JP2631216B2
JP2631216B2 JP62277383A JP27738387A JP2631216B2 JP 2631216 B2 JP2631216 B2 JP 2631216B2 JP 62277383 A JP62277383 A JP 62277383A JP 27738387 A JP27738387 A JP 27738387A JP 2631216 B2 JP2631216 B2 JP 2631216B2
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Description

【発明の詳細な説明】 (発明の利用分野) 本発明は、ビデオカメラ等のカメラに配置される露光
制御装置の改良に関するものである。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an improvement in an exposure control device arranged in a camera such as a video camera.

(発明の背景) ビデオカメラにおける露光量は露光時間とその時の絞
り開口とによって決まる。露光時間は一般に1フィール
ド期間であり、NTSC方式において1/60秒、PAL方式にお
いて1/50秒である。従って露光制御を行う場合、一般に
光学系の絞りを調整することにより行っている。又撮像
素子として、電子シャッタ動作が可能なものを使用する
場合は、この電子シャッタを制御して露光時間を制御す
ることも可能である。
BACKGROUND OF THE INVENTION The amount of exposure in a video camera is determined by the exposure time and the aperture opening at that time. The exposure time is generally one field period, which is 1/60 second in the NTSC system and 1/50 second in the PAL system. Therefore, exposure control is generally performed by adjusting the aperture of the optical system. When an image sensor capable of performing an electronic shutter operation is used, the exposure time can be controlled by controlling the electronic shutter.

以上のことから分かるようにこの種の露光制御装置
は、映像信号レベルが常に一定となるように光学系の絞
り或は撮像素子の電子シャッタをフィードバック制御す
るものである。第11図に従来の露光制御装置の一例を示
す。該図において、1はレンズ、2は絞り(後述の撮像
素子が固体撮像素子であった場合は電子シャッタでも良
い)制御を行い、露光量の制御を行う露光制御回路、3
は撮像素子、4は露光制御信号を発生する信号レベル検
出回路、5は露光制御目標値に相当するレベルを発生す
る電源、6は映像信号出力端子である。
As can be understood from the above description, this type of exposure control apparatus performs feedback control of the aperture of the optical system or the electronic shutter of the image sensor so that the video signal level is always constant. FIG. 11 shows an example of a conventional exposure control device. In the figure, 1 is a lens, 2 is an aperture control circuit (which may be an electronic shutter if an image pickup device described later is a solid-state image pickup device), and an exposure control circuit for controlling an exposure amount.
Denotes an image sensor, 4 denotes a signal level detection circuit for generating an exposure control signal, 5 denotes a power supply for generating a level corresponding to an exposure control target value, and 6 denotes a video signal output terminal.

前記構成において、レンズ1を通過した被写体像は撮
像素子3に入射し、ここで映像信号に変換されて信号レ
ベル検出回路4に入力する。又前記映像信号は映像信号
出力端子6を介してビデオ信号を生成するための不図示
の信号処理回路へ入力する。前記信号レベル検出回路4
は入力する映像信号に基づいて露光制御信号を生成し、
該信号を露光制御回路2へ出力する。すると該露光制御
回路2は、前記露光制御信号をもって露光の尺度とし、
これが常に露光制御目標値に相当するレベルを発生する
電源5より入力する一定のレベル値となるように制御す
る。
In the above configuration, the subject image that has passed through the lens 1 enters the image sensor 3 where it is converted into a video signal and input to the signal level detection circuit 4. Further, the video signal is input via a video signal output terminal 6 to a signal processing circuit (not shown) for generating a video signal. The signal level detection circuit 4
Generates an exposure control signal based on the input video signal,
The signal is output to the exposure control circuit 2. Then, the exposure control circuit 2 uses the exposure control signal as a measure of exposure,
Control is performed so that this value always becomes a constant level value input from the power supply 5 that generates a level corresponding to the exposure control target value.

ここで、前記信号レベル検出回路4では例えば以下の
2種類の内のいずれかの測光が行われてた。
Here, in the signal level detection circuit 4, for example, one of the following two types of photometry was performed.

1)全面平均測光 2)ピーク測光 しかし、前記各測光方式においてはそれぞれ次のよう
な欠点を有していた。
1) Average photometry over the entire surface 2) Peak photometry However, each of the photometry methods has the following disadvantages.

1)においては、空或は光源のような高輝度部が画面
内を大きく占めた場合映したい対象物が黒く沈み、又背
景が暗くなった場合被写体が白とびを生じる。
In 1), when a high brightness portion such as the sky or a light source occupies a large area in the screen, the object to be projected sinks black, and when the background darkens, the object becomes overexposed.

2)においては、画面内の一部に僅かでも高輝度部が
入った来た場合、画面全体が暗く沈む。
In 2), when a high-luminance part enters even a part of the screen, the entire screen darkens.

また、前記1),2)での欠点をある程度解消できるも
のとして、 3)中央重点測光或はスポット(部分)測光なる測光
方式もあるが、この測光方式においても、画面内で所定
の広さをもつ測光領域に対し、その時の被写体の画面内
での大きさがかなり小さい様な場合には、該測光領域内
の映像信号にて露光制御を行おうとしても背景の影響が
入り、逆にその時の被写対象の画面内での大きさが前記
測光領域の広さよりかなり大きい様な場合には、該測光
領域内の映像信号にて露光制御を行おうとしても被写体
の情報を充分に得ることができず、適正な露光制御を行
えないという問題点を有している。
In addition, 3) there is a photometry system of center-weighted photometry or spot (partial) photometry, which can eliminate the disadvantages of the above 1) and 2) to some extent. When the size of the subject in the screen at that time is considerably small with respect to the photometry area having the above, even if an attempt is made to perform exposure control with the video signal in the photometry area, the influence of the background is included. If the size of the subject in the screen at that time is much larger than the width of the photometric area, sufficient information on the subject can be obtained even if exposure control is performed using a video signal in the photometric area. Therefore, there is a problem that proper exposure control cannot be performed.

(発明の目的) 本発明の目的は、画面内での被写体の大きさが変化し
たとしても、常に最適な露光を与えることのできる露光
制御装置を提供することである。
(Object of the Invention) It is an object of the present invention to provide an exposure control device that can always provide an optimal exposure even when the size of a subject in a screen changes.

(発明の特徴) 上記目的を達成するために、本発明は、広さを可変と
した検出領域の内外で得られる映像信号中の所定の周波
数成分の差情報を算出する算出手段と、該算出手段によ
り算出された前記検出領域の異なる広さにおけるそれぞ
れの差情報より撮影画面内での被写体の大きさを判定す
る判定手段と、該判定手段にて判定された被写体の大き
さに応じて測光領域の広さを変更する測光領域広さ変更
手段とを設け、以て、前記判定手段にて判定される被写
体の大小に応じて測光領域の広さを変化、つまりは被写
体が比較的大きく映っている場合は、測光領域を広く
し、被写体が比較的小さく映っている場合は、測光領域
を狭くするようにしたことを特徴とする。
(Features of the Invention) In order to achieve the above object, the present invention provides a calculating means for calculating difference information of a predetermined frequency component in a video signal obtained inside and outside a detection area having a variable size, Determining means for determining the size of a subject in a shooting screen from respective difference information in different areas of the detection area calculated by the means; and photometry in accordance with the size of the subject determined by the determining means. A photometric area width changing means for changing the size of the area, whereby the size of the photometric area is changed according to the size of the subject determined by the determining means, that is, the subject is reflected relatively large. In this case, the photometric area is widened, and when the subject is relatively small, the photometric area is narrowed.

(発明の実施例) 以下、本発明を図示の実施例に基づいて詳細に説明す
る。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the illustrated embodiments.

第3図は本発明の一実施例を示すブロック図であり、
第11図と同じ部分は同一符号を付してある。
FIG. 3 is a block diagram showing one embodiment of the present invention.
The same parts as those in FIG. 11 are denoted by the same reference numerals.

第11図と異なる部分は、測光領域位置制御回路7、該
回路に同期信号(水平及び垂直同期信号)を伝達する同
期信号入力端子8を付加した点と、信号レベル検出回路
を前記測光領域位置制御回路7から指示される測光領域
の映像信号に基づいて露光制御信号を生成する信号レベ
ル検出回路9としたところである。
11 is different from FIG. 11 in that a photometric area position control circuit 7 and a synchronization signal input terminal 8 for transmitting a synchronization signal (horizontal and vertical synchronization signals) to the circuit are added. This is a signal level detection circuit 9 for generating an exposure control signal based on a video signal of a photometry area instructed by the control circuit 7.

レンズ1を通過した被写体像は撮像素子3に入射し、
ここで映像信号に変換されて信号レベル検出回路9に入
力すると共に、測光領域位置制御回路7にも入力する。
測光領域位置制御回路7は画面内での被写体の位置に測
光領域を追尾させ且つ該被写体に対応した大きさに測光
領域の広さを設定(詳細は第1図及び第2図にて)し、
同期信号と同期したHV複合信号として画面内での測光領
域の位置及び広さを示す測光領域制御信号を信号レベル
検出回路9に出力する。すると前記信号レベル検出回路
9は前記撮像素子3よりの映像信号と前記測光領域制御
信号とに基づいて露光制御を行うのに必要となる露光制
御信号を生成し、詳しくは例えば測光領域内の映像信号
の平均値を、或は測光領域内の映像信号を全画面の映像
信号に重み付け加算した値を露光制御信号とし(この場
合測光領域以外の領域を補助測光領域として用いてい
る)、露光制御回路2へ出力する。露光制御回路2は前
述したように、前記露光制御信号をもって露光の尺度と
し、これが常に露光制御目標値に相当するレベルを発生
する電源5より入力する一定のレベル値となるように、
例えば絞りの開口状態を制御することにより行う。
The subject image that has passed through the lens 1 enters the image sensor 3,
Here, it is converted into a video signal and input to the signal level detection circuit 9 and also input to the photometry area position control circuit 7.
The photometric area position control circuit 7 tracks the photometric area at the position of the subject on the screen and sets the size of the photometric area to a size corresponding to the subject (for details, see FIGS. 1 and 2). ,
A photometric area control signal indicating the position and size of the photometric area in the screen is output to the signal level detection circuit 9 as an HV composite signal synchronized with the synchronization signal. Then, the signal level detection circuit 9 generates an exposure control signal necessary for performing exposure control based on the video signal from the image sensor 3 and the photometric area control signal. The average value of the signals or a value obtained by weighting and adding the video signal in the photometry area to the video signal of the entire screen is used as an exposure control signal (in this case, an area other than the photometry area is used as an auxiliary photometry area). Output to circuit 2. As described above, the exposure control circuit 2 uses the exposure control signal as a measure of exposure, so that this becomes a constant level value input from the power supply 5 that always generates a level corresponding to the exposure control target value.
For example, this is performed by controlling the aperture state of the stop.

第1図は前記測光領域位置制御回路7の構成例を示す
ものであり、該図において、101は、第2図に示す様に
測光領域内輝度レベル検出回路101a,測光領域周辺の輝
度レベルを検出する測光領域外輝度レベル検出回路101
b,内外の輝度差を算出する引算回路101c,該引算回路101
cより送られてくる複数の輝度差情報の絶対値よりその
時の被写体の大きさを判定する被写体大きさ判定回路10
1d,判定された被写体の大きさに測光領域の広さをほぼ
同一にする測光領域広さ制御回路101eから成る測光領域
広さ設定回路、102は画面内の被写体の位置に対応した
位置に測光領域を位置させるべく撮影者によって入力さ
れた指示信号に従って、画面内での測光領域の位置を設
定する測光領域位置設定回路、103は画面内での測光領
域の位置及び広さを示す信号(同期信号に同期したHV複
合信号として)を発生する測光領域制御信号発生回路で
ある。
FIG. 1 shows an example of the configuration of the photometry area position control circuit 7. In FIG. 1, reference numeral 101 denotes a luminance level detection circuit 101a in the photometry area and a luminance level around the photometry area as shown in FIG. Brightness level detection circuit 101 outside the photometry area to be detected
b, subtraction circuit 101c for calculating the difference between the inside and outside luminance, said subtraction circuit 101
The subject size determination circuit 10 that determines the size of the subject at that time from the absolute values of the plurality of pieces of luminance difference information sent from c.
1d, a photometric area width setting circuit including a photometric area width control circuit 101e that makes the size of the photometric area substantially the same as the determined size of the subject, 102 is a photometric area at a position corresponding to the position of the subject on the screen. A photometric area position setting circuit for setting the position of the photometric area on the screen in accordance with an instruction signal input by the photographer to position the area, a signal 103 indicating the position and size of the photometric area on the screen (synchronous This is a photometric area control signal generation circuit that generates an HV composite signal synchronized with the signal.

次に第1図及び第2図での動作を第4,5図を用いて説
明する。尚第4,5図において、Aは画面、B(B1〜B3)
はその広さが被写体の大きさに応じて変化せられる測光
領域、C(C1,C2)は画面A内に映し出された被写体で
ある。
Next, the operation in FIGS. 1 and 2 will be described with reference to FIGS. 4 and 5, A is a screen, B (B1 to B3)
Is a photometric area whose area is changed according to the size of the subject, and C (C1, C2) is the subject projected on the screen A.

映像信号が入力することにより、測光領域内輝度レベ
ル検出回路101aは測光領域B(例えばこの測光領域Bは
初期時には画面Aの中央に位置し、その広さは例えばB2
の広さに設定されている)内の輝度レベル検出を行い、
測光領域外輝度レベル検出回路101bは測光領域Bの周辺
の輝度レベル検出を行い、それぞれ輝度レベルの検出結
果を引算回路101cへ出力する。引算回路101cは入力する
輝度レベルの差を求め、被写体大きさ算定回路101dへ出
力する。すると該被写体大きさ算定回路101dは、不図示
の回路を介して画面A内での測光領域Bの広さをゲート
制御等により複数段階に変化させ(第4図及び第5図で
は3段階に可変させた例を示している)、それぞれの広
さにおける内外の輝度差の最大の測光領域Bとなるもの
の広さがその時の被写体Cの画面A内での大きさととほ
ぼ一致していると判定、つまり画面A内での被写体Cの
大きさを判定する。尚この実施例では被写体Cの大きさ
を判定するための検出領域と測光領域とを対応させてい
るが、被写体の大きさ検出用の領域を備えた構成として
もよい。測光領域広さ制御回路101eは前記被写体大きさ
算定回路101dにて判定された結果に基づいてその時の測
光領域Bの広さを設定する。ここでは、前述したように
被写体Cの大きさを判定するための検出領域と測光領域
を対応させているため、内外の輝度差の最大の測光領域
をその時の測光領域Bとして設定することになる。
When a video signal is input, the luminance level detection circuit 101a in the photometry area causes the photometry area B (for example, the photometry area B is initially located at the center of the screen A, and its area is, for example, B2
Brightness level is set to
The luminance level detection circuit 101b outside the photometry area detects the luminance level around the photometry area B, and outputs the detection results of the luminance levels to the subtraction circuit 101c. The subtraction circuit 101c obtains the difference between the input luminance levels and outputs the difference to the subject size calculation circuit 101d. Then, the subject size calculation circuit 101d changes the area of the photometry area B in the screen A in a plurality of stages by a gate control or the like through a circuit (not shown) (in FIG. 4 and FIG. 5, there are three stages). It is assumed that the width of the photometric area B having the largest difference between the inner and outer luminances in each area substantially matches the size of the subject C in the screen A at that time. Determination, that is, the size of the subject C in the screen A is determined. In this embodiment, the detection area for determining the size of the subject C and the photometry area are associated with each other, but a configuration having an area for detecting the size of the subject C may be provided. The photometry area size control circuit 101e sets the size of the photometry area B at that time based on the result determined by the subject size calculation circuit 101d. Here, as described above, since the detection area for judging the size of the subject C and the photometry area are associated with each other, the photometry area having the largest luminance difference between the inside and outside is set as the photometry area B at that time. .

例えば第4,5図において、被写体Cは輝度の均質なも
のであり、かつ背景とのコントラストが大きなものと仮
定する。測光領域B1〜B3のそれぞれの内外の輝度差の絶
対値をa,b,cとすると、第4図のような状態時、つまり
被写体C1が測光領域B3とほぼ同じ大きさか或はそれ以下
の場合、c>b>aとなり、逆に第5図のような状態
時、つまり被写体C2が測光領域B1より大きいか或はほぼ
等しい場合、c<b<aとなる。又被写体Cの大きさが
測光領域B2の広さとほぼ等しい場合、b>a,cとなる。
すなわち測光領域Bの広さを変化させた場合、内外の輝
度差は被写体Cの大きさが該測光領域Bの広さとほぼ一
致した場合に最大となり、それ以上或はそれ以下の大き
さでも減少する。測光領域広さ設定回路101は測光領域
Bの広さを小刻みに変化させ(実施例では先のように3
段階としている)、内外の輝度レベルの差をチェック
し、その差が最大となるように測光領域の広さを設定す
る(このような動作は例えば1フィールド毎に行われ
る)。これにより、測光領域Bの広さが被写体Cの大き
さにほぼ一致することになる(第4図の様な状態時には
測光領域B3が、第5図の様な状態時には測光領域B1が、
それぞれその時の測光領域として設定される)。
For example, in FIGS. 4 and 5, it is assumed that the subject C has a uniform luminance and a large contrast with the background. Assuming that the absolute values of the luminance difference between the inside and outside of the photometry areas B1 to B3 are a, b, and c, the state shown in FIG. 4, that is, the subject C1 is almost the same size as the photometry area B3 or smaller. In this case, c>b> a, and conversely, in the state shown in FIG. 5, that is, when the subject C2 is larger than or almost equal to the photometric area B1, c <b <a. When the size of the subject C is substantially equal to the size of the photometric area B2, b> a, c.
That is, when the size of the photometry area B is changed, the difference between the inside and outside brightness becomes maximum when the size of the subject C substantially matches the size of the photometry area B, and decreases even if the size is larger or smaller. I do. The photometric area width setting circuit 101 changes the area of the photometric area B in small steps (in the embodiment, 3
The brightness level difference between the inside and the outside is checked, and the width of the photometry area is set so that the difference becomes maximum (such an operation is performed, for example, for each field). As a result, the size of the photometric area B substantially matches the size of the subject C (the photometric area B3 in the state shown in FIG. 4, the photometric area B1 in the state shown in FIG. 5,
Each is set as the photometry area at that time).

測光領域制御信号発生回路103には前述のようにして
決定された測光領域Bの広さを示す信号の他、画面内で
の測光領域Bの位置を示す信号が測光領域位置設定回路
102より入力されており、ここではこれら信号に基づい
て、画面内での測光領域の位置及び広さを示す信号が生
成される。
In addition to the signal indicating the width of the photometry area B determined as described above, the signal indicating the position of the photometry area B on the screen is supplied to the photometry area control circuit 103 by the photometry area position setting circuit.
A signal indicating the position and size of the photometric area on the screen is generated based on these signals.

以上により、画面A内での被写体Cの位置及び大きさ
に対応した測光領域Bの位置及び広さが決定されたこと
になり、例えばこの測光領域B内の映像信号の平均値
が、或は該測光領域B内の映像信号を全画面の映像信号
に重み付け加算した値が第3図の信号レベル検出回路9
より露光制御信号として出力され、露光制御回路2にて
該露光制御信号が露光の尺度とされ、これが常に露光制
御目標値に相当するレベルを発生する電源5より入力す
る一定のレベル値となるように、例えば絞りの開口状態
が制御される。そしてこのような動作はリアルタイムで
実行される。よって、被写体Cに最適な露光制御が可能
となる。
As described above, the position and the size of the photometric area B corresponding to the position and the size of the subject C in the screen A are determined. For example, the average value of the video signal in the photometric area B is The value obtained by weighting and adding the video signal in the photometry area B to the video signal of the entire screen is the signal level detection circuit 9 in FIG.
The exposure control signal is output from the power supply 5 that generates a level corresponding to the exposure control target value. Then, for example, the aperture state of the stop is controlled. Such an operation is performed in real time. Therefore, exposure control optimal for the subject C can be performed.

第6図は測光領域位置制御回路7の他の構成例を示す
ものである。第3図の測光領域位置制御回路7では測光
領域Bの画面A内での位置は外部よりの信号に従って制
御していたが、ここでは測光領域位置制御回路202が前
記測光領域広さ設定回路101とほぼ同様の構成から成る
測光領域広さ設定回路201等を介して画面内において位
置変化せられる測光領域Bの内外の輝度差情報を取り出
し、該情報が最大となる位置に、つまり画面A内での被
写対象Cの位置まで測光領域Bを移動させる構成として
いる。この時の動作を第7図を用いて説明する。
FIG. 6 shows another configuration example of the photometry area position control circuit 7. 3, the position of the photometric area B in the screen A is controlled in accordance with an external signal. However, here, the photometric area position control circuit 202 uses the photometric area width setting circuit 101. The luminance difference information inside and outside the photometry area B whose position is changed in the screen is extracted through the photometry area width setting circuit 201 and the like having substantially the same configuration as that described above. Is configured to move the photometry area B to the position of the subject C in the above. The operation at this time will be described with reference to FIG.

第7図において、測光領域B2−1,B2−2の内外の輝度
差をΔL1,ΔL2とすると、ΔL1>ΔL2の関係にあり、測
光領域位置制御回路202は常に被写体C3の近傍の輝度レ
ベルを調べ、ΔLが最大となる位置まで測光領域を移動
せしめ、以後この動作を繰り返す。よって被写体Cの位
置と測光領域B2との画面A内での位置が常に一致する。
尚測光領域Bの位置制御とその広さ制御はそれぞれ並行
に行っても良いし、それぞれの判断に同一のマイクロコ
ンピュータを用いる場合などは、シーケンシャルにアル
ゴリズムを構成して行っても良い。測光領域制御信号発
生回路103は前記測光領域広さ設定回路201及び測光領域
位置制御回路202よりの各信号に基づいて前述と同様、
画面A内での測光領域Bの位置及び広さを示す信号を発
生する。
In FIG. 7, assuming that the luminance difference between the inside and outside of the photometric areas B2-1 and B2-2 is ΔL1 and ΔL2, there is a relationship of ΔL1> ΔL2, and the photometric area position control circuit 202 always sets the luminance level near the subject C3 to Then, the photometric area is moved to a position where ΔL becomes maximum, and thereafter, this operation is repeated. Therefore, the position of the subject C and the position of the photometry area B2 in the screen A always coincide.
The position control and the width control of the photometry area B may be performed in parallel with each other, or when the same microcomputer is used for each determination, an algorithm may be sequentially configured. The photometry area control signal generation circuit 103 is based on each signal from the photometry area width setting circuit 201 and the photometry area position control circuit 202, as described above,
A signal indicating the position and size of the photometry area B within the screen A is generated.

第8図は測光領域位置制御回路7の別の構成例を示す
ものであり、ここでは第9図に示すように、画面A内を
大中小の3種の測光領域B1〜B3に分割し、それぞれの領
域内外の輝度差を監視し、常に内外の輝度差が最大とな
る測光領域Bを選択する様にしている。第8図におい
て、第1図の測光領域制御信号発生回路103に相当する
測光領域制御信号発生回路302は第9図の測光領域B1〜B
3に対応する3種の広さを示す信号を発生し、測光領域
広さ設定回路301は各領域内外の輝度差を監視する。又
切換えスイッチ303は大中小いずれかの測光領域制御信
号、つまり被写体C4の大きさに最も近いもの(第9図で
は測光領域B2)に対応した測光領域制御信号を選択して
出力する。
FIG. 8 shows another example of the configuration of the photometric area position control circuit 7. Here, as shown in FIG. 9, the screen A is divided into three types of large, medium and small photometric areas B1 to B3. The luminance difference between the inside and outside of each area is monitored, and the photometric area B where the inside and outside luminance difference is always maximum is selected. 8, the photometric area control signal generation circuit 302 corresponding to the photometric area control signal generation circuit 103 in FIG.
Signals indicating three types of areas corresponding to 3 are generated, and the photometric area size setting circuit 301 monitors the luminance difference between the inside and outside of each area. The changeover switch 303 selects and outputs a photometric area control signal of either large, medium or small, that is, a photometric area control signal corresponding to the one closest to the size of the subject C4 (the photometric area B2 in FIG. 9).

前記測光領域広さ設定回路301内の構成を第10図に示
す。該図において、301a〜301cは第2図の測光領域内輝
度レベル検出器101aと同様の働きをもつ測光領域内輝度
レベル検出器、301d〜301fは第2図の測光領域外輝度レ
ベル検出器101bと同様の働きをもつ測光領域外輝度レベ
ル検出器、301g〜301iは減算器、301jは3種の測光領域
B1〜B3のそれぞれの内外輝度レベル差を入力とする被写
体大きさ判定回路、301kはその時の測光領域Bの広さを
設定する測光領域広さ制御回路である。
FIG. 10 shows the configuration inside the photometric area width setting circuit 301. In the figure, reference numerals 301a to 301c denote luminance level detectors in the photometric area having the same function as the luminance level detector 101a in the photometric area in FIG. 2, and 301d to 301f denote luminance level detectors 101b outside the photometric area in FIG. A luminance level detector outside the photometry area having the same function as that of the photometry area, 301g to 301i are subtractors, and 301j are three types of photometry areas
A subject size determination circuit that receives the difference between the inside and outside brightness levels of B1 to B3 as input, and 301k is a photometry area width control circuit that sets the width of the photometry area B at that time.

前述のように測光領域広さ設定回路301を構成するこ
とにより、3種の測光領域B1〜B3の内外の輝度差の大小
関係より被写体Cの大きさに対応した測光領域Bを選択
可能である。このことを前記第4図及び第5図を用いて
説明する。第4図のような状態時には、それぞれの内外
の輝度差の平均値の絶対値a,b,cは、a<b<cとな
り、第5図のような状態時には、a>b>cとなる。又
第9図のように被写体C4と測光領域B2との広さがほぼ合
致するような場合には、b>a,cとなる。以上のよう
に、内外の輝度差より測光領域Bの広さを広くするべき
か、小さくするべきかの判断が可能となる。
By configuring the photometric area width setting circuit 301 as described above, the photometric area B corresponding to the size of the subject C can be selected based on the magnitude relationship of the luminance difference between the inside and outside of the three types of photometric areas B1 to B3. . This will be described with reference to FIGS. 4 and 5. In the state shown in FIG. 4, the absolute values a, b, and c of the average values of the inner and outer luminance differences are a <b <c. In the state shown in FIG. 5, a>b> c. Become. If the size of the subject C4 and the size of the photometric area B2 substantially match as shown in FIG. 9, b> a, c. As described above, it is possible to determine whether the width of the photometry area B should be increased or decreased based on the difference in brightness between the inside and outside.

前記構成例では、測光領域Bの広さの監視制御を常時
行うようにしているが、例えば測光領域Bの広さが一度
定まった時点でその広さをロックし、その領域のおける
内外の輝度レベルが一定値以上変化しない限り、被写体
Cの適正露光が得られていると判断し、その後内外の輝
度差が一定値以上変化した場合は、前記ロックを解除し
て測光領域Bの広さ制御を再び行うように構成しても良
い。
In the above configuration example, monitoring and control of the area of the photometry area B are always performed. For example, when the area of the photometry area B is once determined, the area is locked, and the brightness of the inside and outside of the area is locked. As long as the level does not change by a certain value or more, it is determined that the proper exposure of the subject C has been obtained, and when the brightness difference between the inside and outside changes by a certain value or more thereafter, the lock is released to control the width of the photometric area B May be performed again.

本実施例によれば、画面A内における被写体Cの大き
さを測光領域Bの内外の輝度差の絶対値によって判定
し、該被写体Cの大きさに測光領域Bの広さを合致させ
るようにしたから、被写体Cに対して最適な露光を与え
ることができる。更に、同時に前記被写体Cの画面A内
での位置まで測光領域Bを移動させ得る構成としている
ため、より最適な露光を与えることが可能となる他、被
写体Cが動いても、或はカメラをパン、ティルトさせた
場合においても、自然な画像とすることが可能となる。
According to the present embodiment, the size of the subject C in the screen A is determined based on the absolute value of the luminance difference between the inside and outside of the photometric area B, and the size of the subject C is made to match the size of the subject C. Therefore, the optimum exposure can be given to the subject C. Further, since the photometric area B can be moved to the position of the subject C in the screen A at the same time, more optimal exposure can be given, and even if the subject C moves or the camera is moved. Even when panning and tilting are performed, a natural image can be obtained.

(発明と実施例の対応) 本実施例において、測光領域内輝度レベル検出回路10
1a,301a〜301c、測光領域外輝度レベル検出回路101b,30
1d〜301f、引算回路101c,301g〜301iが本発明の算出手
段に、被写体大きさ判定回路101d,301jが判定手段に、
測光領域広さ制御回路101e,301kが測光領域広さ変更手
段に、それぞれ相当する。
(Correspondence between Invention and Embodiment) In this embodiment, the luminance level detection circuit 10
1a, 301a to 301c, luminance level detection circuit 101b, 30 outside the photometry area
1d to 301f, the subtraction circuits 101c, 301g to 301i serve as calculation means of the present invention, and the subject size determination circuits 101d, 301j serve as determination means.
The photometric area size control circuits 101e and 301k correspond to photometric area size changing means, respectively.

(変形例) 本実施例では、測光領域Bの内外の輝度差より被写体
の大きさを判定するようにしているが、これに限定され
るものではなく、測光領域Bの広さを段階的に変化さ
せ、該内外を通過するそれぞれの映像信号中の輝度成分
の高域側である高周波成分の差により判定し、これに測
光領域Bの広さを設定するようにすることも当業者にと
っては容易であろう。
(Modification) In the present embodiment, the size of the subject is determined from the luminance difference between the inside and outside of the photometry area B. However, the present invention is not limited to this. For those skilled in the art, it is also possible for those skilled in the art to make a determination based on a difference between high-frequency components on the high-frequency side of the luminance component in each video signal passing through the inside and outside, and to set the width of the photometry area B to this. Will be easy.

(発明の効果) 以上説明したように、本発明によれば、広さを可変と
した検出領域の内外で得られる映像信号中の所定の周波
数成分の差情報を算出する算出手段と、該算出手段によ
り算出された前記検出領域の異なる広さにおけるそれぞ
れの差情報より撮影画面内での被写体の大きさを判定す
る判定手段と、該判定手段にて判定された被写体の大き
さに応じて測光領域の広さを変更する測光領域広さ変更
手段とを設け、以て、前記判定手段にて判定される被写
体の大小に応じて測光領域の広さを変化、つまりは被写
体が比較的大きく映っている場合は、測光領域を広く
し、被写体が比較的小さく映っている場合は、測光領域
を狭くするようにしたから、画面内での被写体の大きさ
が変化したとしても、常に最適な露光を与えることが可
能となる。
(Effects of the Invention) As described above, according to the present invention, a calculating means for calculating difference information of a predetermined frequency component in a video signal obtained inside and outside a detection area having a variable width, Determining means for determining the size of a subject in a shooting screen from respective difference information in different areas of the detection area calculated by the means; and photometry in accordance with the size of the subject determined by the determining means. A photometric area width changing means for changing the size of the area, whereby the size of the photometric area is changed according to the size of the subject determined by the determining means, that is, the subject is reflected relatively large. When the subject is relatively small, the metering area is narrowed.If the subject is relatively small, the optimal exposure is always maintained even if the size of the subject on the screen changes. It is possible to give You.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は第3図図示測光領域位置制御回路の構成例を示
すブロック図、第2図は第1図図示測光領域広さ設定回
路内の具体的な構成例を示すブロック図、第3図は本発
明の一実施例を示す概略ブロック図、第4図及び第5図
は画面内での被写体の大きさと測光領域との関係を説明
する図、第6図は第3図図示測光領域位置制御回路の他
の構成例を示すブロック図、第7図は画面内で位置変化
する被写体に対する測光領域追尾を説明する図、第8図
は第3図図示測光領域位置制御回路の別の構成例を示す
ブロック図、第9図は画面内での被写体の大きさと測光
領域との関係を説明する図、第10図は第8図図示測光領
域広さ設定回路内の具体的な構成例を示すブロック図、
第11図は従来の露光制御装置の一例を示すブロック図で
ある。 1……レンズ、2……露光制御回路、3……撮像素子、
5……電源、7……測光領域位置制御回路、9……信号
レベル検出回路、101a,301a〜301c……測光領域内輝度
レベル検出回路、101b,301d〜301f……測光領域外輝度
レベル検出回路、101c,301g〜301i……引算回路、101d,
301j……被写体大きさ判定回路、101e,301k……測光領
域広さ制御回路。
1 is a block diagram showing a configuration example of a photometry area position control circuit shown in FIG. 3, FIG. 2 is a block diagram showing a specific configuration example in a photometry area width setting circuit shown in FIG. 1, and FIG. FIG. 4 is a schematic block diagram showing an embodiment of the present invention, FIGS. 4 and 5 are diagrams for explaining the relationship between the size of the subject in the screen and the photometric area, and FIG. FIG. 7 is a block diagram showing another example of the configuration of the control circuit. FIG. 7 is a diagram for explaining the photometric area tracking for a subject whose position changes in the screen. FIG. 8 is another example of the configuration of the photometric area position control circuit shown in FIG. FIG. 9 is a diagram for explaining the relationship between the size of the subject in the screen and the photometric area, and FIG. 10 is a diagram showing a specific configuration example in the photometric area width setting circuit shown in FIG. Block Diagram,
FIG. 11 is a block diagram showing an example of a conventional exposure control device. 1 ... lens, 2 ... exposure control circuit, 3 ... image sensor,
5 Power supply 7 Photometric area position control circuit 9 Signal level detecting circuit 101a, 301a to 301c Luminance level detecting circuit in photometric area 101b, 301d to 301f Luminance level detection outside photometric area Circuit, 101c, 301g-301i ..... subtraction circuit, 101d,
301j: subject size determination circuit; 101e, 301k: photometric area width control circuit.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山田 邦彦 神奈川県川崎市高津区下野毛770番地 キヤノン株式会社玉川事業所内 (72)発明者 当山 正道 神奈川県川崎市高津区下野毛770番地 キヤノン株式会社玉川事業所内 (72)発明者 今井 邦雄 神奈川県川崎市高津区下野毛770番地 キヤノン株式会社玉川事業所内 (56)参考文献 特開 昭63−254871(JP,A) 特開 昭61−123367(JP,A) 特開 昭58−153465(JP,A) 実開 昭64−13032(JP,U) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Kunihiko Yamada 770 Shimonoge, Takatsu-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture Inside the Tamagawa Office of Canon Inc. In-house (72) Inventor Kunio Imai 770 Shimonoge, Takatsu-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture Tamagawa Works of Canon Inc. (56) References JP-A-63-254871 (JP, A) JP-A-61-213367 (JP, A) JP-A-58-153465 (JP, A) JP-A-64-13032 (JP, U)

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】画面内に指定される測光領域にて得られた
映像信号に基づいて露光制御を行う露光制御装置におい
て、広さを可変とした検出領域の内外で得られる映像信
号中の所定の周波数成分の差情報を算出する算出手段
と、該算出手段により算出された前記検出領域の異なる
広さにおけるそれぞれの差情報より撮影画面内での被写
体の大きさを判定する判定手段と、該判定手段にて判定
された被写体の大きさに応じて前記測光領域の広さを変
更する測光領域広さ変更手段とを設けたことを特徴とす
る露光制御装置。
An exposure control apparatus for performing exposure control based on a video signal obtained in a photometry area designated in a screen, wherein a predetermined range of a video signal obtained inside and outside a detection area whose width is variable. Calculating means for calculating the difference information of the frequency components, and determining means for determining the size of the subject in the shooting screen from the respective difference information in different areas of the detection area calculated by the calculating means, An exposure control apparatus comprising: a photometric area width changing unit that changes the size of the photometric area according to the size of the subject determined by the determining unit.
【請求項2】前記所定の周波数成分を映像信号中の輝度
成分とする特許請求の範囲第1項記載の露光制御装置。
2. The exposure control device according to claim 1, wherein said predetermined frequency component is a luminance component in a video signal.
【請求項3】前記所定の周波数成分を映像信号中の輝度
成分の高域側の高周波成分とする特許請求の範囲第1項
記載の露光制御装置。
3. The exposure control apparatus according to claim 1, wherein said predetermined frequency component is a high frequency component on a high frequency side of a luminance component in a video signal.
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