JP2621180B2 - Polyimide composition - Google Patents

Polyimide composition

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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はポリイミド組成物に関するものであり、さら
に詳しくは、ヤング率の低いポリイミドを得ることので
きるポリイミド組成物に関するものである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a polyimide composition, and more particularly, to a polyimide composition from which a polyimide having a low Young's modulus can be obtained.

[従来の技術] 近年、半導体業界では、半導体素子の集積化が急速に
進んでおり、DRAMの分野では4Mビットレベルの製品が試
作されるに及んでいる。しかし、このような高集積化に
伴ないシリコン基板と樹脂封止剤との線膨脹計数の差に
基因する熱応力の問題が大きくなり、パッシベーション
膜にクラックが入る、アルミ配線が切断されるといった
事態が生じている。これらの問題点を解決できないと品
質の安定した製品は得られない。そのため、熱応力を弱
めるために低いヤング率で耐熱性を有した樹脂コート剤
の開発が望まれているが、従来のポリイミドの場合、ヤ
ング率は最低で250kg/mm2であるというのが実状であ
る。
[Prior Art] In recent years, in the semiconductor industry, integration of semiconductor elements has been rapidly progressing, and in the field of DRAM, 4 Mbit level products have been prototyped. However, the problem of thermal stress due to the difference in the coefficient of linear expansion between the silicon substrate and the resin encapsulant increases with the increase in the degree of integration, and cracks occur in the passivation film and aluminum wiring is cut. Things are happening. Unless these problems can be solved, a product with stable quality cannot be obtained. Therefore, although the development of a resin coating agent having heat resistance at a low Young's modulus in order to weaken the thermal stress is desired, actual situation in the conventional polyimide, because the Young's modulus is 250 kg / mm 2 at a minimum It is.

本発明者等はこのような事情に鑑み、ポリイミドの低
ヤング率化対策について鋭意検討の結果、ポリイミド組
成物を特定の構造をもつシロキサンジアミンと芳香族ジ
アミンと酸無水物よりなる配合物で構成した場合には、
ヤング率の著しく低く、しかも強伸度特性および耐湿接
着性等の優れたポリイミドが得られることを知見し、本
発明に到達したものである。
In view of such circumstances, the present inventors have conducted intensive studies on measures to lower the Young's modulus of polyimide, and as a result, the polyimide composition is composed of a mixture of siloxane diamine having a specific structure, aromatic diamine and acid anhydride. If you do
The present inventors have found that a polyimide having a remarkably low Young's modulus and excellent in strong elongation properties and moisture resistance can be obtained, and the present invention has been achieved.

[発明が解決しようとする問題点] したがって、本発明の目的は低いヤング率で、かつ強
度、伸度および耐湿接着性に優れたポリイミドを得るこ
とのできるポリイミド組成物を提供することにある。
[Problems to be Solved by the Invention] Accordingly, an object of the present invention is to provide a polyimide composition that can obtain a polyimide having a low Young's modulus and excellent strength, elongation, and moisture resistance.

[問題点を解決するための手段] かかる本発明の目的は、ポリイミド前駆体および溶媒
からなるポリイミド組成物において、該ポリイミド前駆
体が、次式(I)、(II)および(III)で表されるジ
アミン成分のモル比が (III)/((I)+(II)+(III)) =5/1000〜10/100 (II)/(I)=5/95〜95/5 である原料ジアミンと、ピロメリット酸二無水物とを反
応させたものであることを特徴とするポリイミド組成
物。
[Means for Solving the Problems] An object of the present invention is to provide a polyimide composition comprising a polyimide precursor and a solvent, wherein the polyimide precursor is represented by the following formulas (I), (II) and (III). (III) / ((I) + (II) + (III)) = 5 / 1000-10 / 100 (II) / (I) = 5 / 95-95 / 5 A polyimide composition obtained by reacting a raw material diamine with pyromellitic dianhydride.

(式中、Xは−O−または−S−、Yは−O−、−S
−、−SO−、−SO2−、−CO−、−CH2−、−CF2−、−C
Cl2−、 Rは炭素数1〜20のアルキレン基、 フッ素化アルキレン基またはフェニレン基、R′は炭素
数1〜10のアルキル基、フッ素化アルキル基またはフェ
ニル基、nは3〜20の整数である。)Xは−O−または
−S−から選ばれる。Yは−O−、−S−、−SO−、−
SO2−、−CO−、−CH2−、−CF2−、−CCl2−、 などから選ばれ、より好ましくは−O−、−S−または
−CF2−であるが、これに限定されない。Rは炭素数1
〜20のアルキレン基、フッ素化アルキレン基またはフェ
ニレン基を表わし、より好ましくはメチレン基、プロピ
レン基、ヘキサフルオロプロピレン基およびフェニレン
基である。R′は炭素数1〜10のアルキル基、フッ素化
アルキル基またはフェニル基を表わし、より好ましくは
メチル基、トリフルオロメチル基およびフェニル基であ
る。nは3〜20の整数であり、より好ましくは8〜14の
整数である。
(Wherein X is -O- or -S-, Y is -O-, -S
-, - SO -, - SO 2 -, - CO -, - CH 2 -, - CF 2 -, - C
Cl 2 −, R is an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, a fluorinated alkylene group or a phenylene group, R 'is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a fluorinated alkyl group or a phenyl group, and n is an integer of 3 to 20. ) X is selected from -O- or -S-. Y is -O-, -S-, -SO-,-
SO 2- , -CO-, -CH 2- , -CF 2- , -CCl 2- , Selected from such, more preferably -O -, - S- or -CF 2 - and although not limited thereto. R is carbon number 1
To 20 alkylene groups, fluorinated alkylene groups or phenylene groups, more preferably methylene, propylene, hexafluoropropylene and phenylene groups. R 'represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a fluorinated alkyl group or a phenyl group, more preferably a methyl group, a trifluoromethyl group and a phenyl group. n is an integer of 3 to 20, more preferably 8 to 14.

かかるポリイミド前駆体は原料ジアミン成分中に、上
述の3種のジアミン成分を、モル比で、 (III)/((I)+(II)+(III)) =5/1000〜10/100 (II)/(I)=5/95〜95/5 となるように配合し、この配合物とピロメリット酸二無
水物とを反応させることにより得られるものである。
Such a polyimide precursor contains, in a raw material diamine component, the above three kinds of diamine components in a molar ratio of (III) / ((I) + (II) + (III)) = 5/1000 to 10/100 ( II) / (I) = 5/95 to 95/5, and obtained by reacting this mixture with pyromellitic dianhydride.

ここで、(III)/((I)+(II)+(III))が5/
1000より少なくなるとヤング率の低いものが得られず、
10/100より多くなると透明なものが得られなくなり、実
用性を失う。また(II)/(I)が95/5より多くなる
と、ワニスが不安定となりゲル化しやすくなるため実用
性を失う。より好ましくは、 の範囲である。
Here, (III) / ((I) + (II) + (III)) is 5 /
If it is less than 1000, you will not get a low Young's modulus,
If it exceeds 10/100, you will not be able to obtain a transparent one and lose practicality. When (II) / (I) is more than 95/5, the varnish becomes unstable and gels easily and loses practicality. More preferably, Range.

本発明のポリイミド組成物は、ヤング率に影響を与え
ない範囲で、他のジアミンやテトラカルボン酸で変性さ
せることができる。このようなジアミンの例としては、
フェニレンジアミン、トルエンジアミン、3,3′−ジア
ミノジフェニルスルホン、ベンチジン、3,4′−ジアミ
ノジフェニルメタン,ジメチルベンチジン、クロルベン
チジン、ジアミノターフェニル、ビス(アミノフェノキ
シ)ベンゼン、ジアミノアントラキノンのような芳香族
ジアミン、エチレンジアミン、ジアミノプロパン、ヘキ
サメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミンのような
脂肪族ジアミンが挙げられる。またテトラカルボン酸の
例としては、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフェ
ニルテトラカルボン酸、ジフェニルエーテルテトラカル
ボン酸のような芳香族テトラカルボン酸、ブタンテトラ
カルボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸のような
脂肪族テトラカルボン酸が挙げられる。
The polyimide composition of the present invention can be modified with another diamine or tetracarboxylic acid as long as it does not affect the Young's modulus. Examples of such diamines include:
Aromas such as phenylenediamine, toluenediamine, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, benzidine, 3,4'-diaminodiphenylmethane, dimethylbenzidine, chlorbenzidine, diaminoterphenyl, bis (aminophenoxy) benzene, diaminoanthraquinone Aliphatic diamines such as aliphatic diamine, ethylenediamine, diaminopropane, hexamethylenediamine and heptamethylenediamine. Examples of tetracarboxylic acids include aromatic tetracarboxylic acids such as benzophenonetetracarboxylic acid, biphenyltetracarboxylic acid, and diphenylethertetracarboxylic acid, and aliphatic tetracarboxylic acids such as butanetetracarboxylic acid and cyclopentanetetracarboxylic acid. Is mentioned.

さらに接着性を改良するために、1,3−ビス(3−ア
ミノプロピル)テトラメチルジシロキサンのようなシロ
キサンジアミンを全アミン量の1〜6モル%配合させ、
変性させることもできる。
In order to further improve the adhesiveness, a siloxane diamine such as 1,3-bis (3-aminopropyl) tetramethyldisiloxane is blended in an amount of 1 to 6 mol% of the total amine amount,
It can also be denatured.

次に本発明のポリイミド組成物の製造方法の一例につ
いて説明する。すなわち、溶媒中に3種のジアミン
(I)、(II)および(III)をモル比で、 となるように配合し、これに全ジアミン量に対して好ま
しくは90〜110モル%、より好ましくは等モルのピロメ
リット酸二無水物とを、−20℃〜100℃で反応させるこ
とにより、本発明のポリイミド前駆体のワニスを得るこ
とができる。
Next, an example of the method for producing the polyimide composition of the present invention will be described. That is, three kinds of diamines (I), (II) and (III) are contained in a solvent in a molar ratio, By reacting with preferably 90 to 110 mol%, more preferably equimolar pyromellitic dianhydride with respect to the total diamine amount at -20 ° C to 100 ° C, A varnish of the polyimide precursor of the present invention can be obtained.

上記製造方法で用いる溶媒としては、ポリマーの溶解
性の点から極性溶媒を使用するのが好ましく、特に非プ
ロトン性極性溶媒が好適である。非プロトン性極性溶媒
としては、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチ
ルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ヘキサ
メチルホスホロトリアミド、ジメチルスルホキシド、γ
−ブチロラクトン、スルホランなどが好ましく用いられ
る。
As the solvent used in the above production method, it is preferable to use a polar solvent from the viewpoint of the solubility of the polymer, and particularly preferable is an aprotic polar solvent. Examples of aprotic polar solvents include N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, hexamethylphosphorotriamide, dimethylsulfoxide, γ
-Butyrolactone, sulfolane and the like are preferably used.

また上述の極性溶媒にトルエン、キシレンなどの芳香
族炭化水素を混合して用いてもよい。
Further, an aromatic hydrocarbon such as toluene or xylene may be mixed with the above-mentioned polar solvent and used.

次に、以上のようにして得たポリイミド前駆体のワニ
スを適当な支持体上に塗布し、50〜100℃で乾燥し、ポ
リイミド前駆体のフィルムを得る。
Next, the varnish of the polyimide precursor obtained as described above is applied on a suitable support, and dried at 50 to 100 ° C. to obtain a polyimide precursor film.

このようにして得たポリイミド前駆体のフィルムを化
学的あるいは熱的に処理して脱水閉環することによりポ
リイミド製フィルムが得られる。
The polyimide precursor film thus obtained is chemically or thermally treated and subjected to dehydration and ring closure to obtain a polyimide film.

化学的に処理する場合は、ポリイミド前駆体のフィル
ムを、無水酢酸とピリジンの混合溶液に浸漬処理するこ
とにより、ポリイミドフィルムを得る。また熱的に処理
する場合は、ポリイミド前駆体のフィルムを室温から45
0℃の範囲で数段階の温度を選び段階的に昇温するか、
ある温度範囲を選び連続的に昇温しながら、5分〜5時
間実施するのがよい。例えば、130℃、200℃、300℃、4
00℃各々30分づつ熱処理するか、または室温から400℃
まで2時間かけて直線的に昇温してもよい。
When chemically treating, a polyimide film is obtained by immersing the polyimide precursor film in a mixed solution of acetic anhydride and pyridine. In the case of thermal treatment, the film of the polyimide precursor is heated from room temperature to 45 ° C.
Select a temperature in several steps within the range of 0 ° C and raise the temperature step by step,
It is preferred to carry out for 5 minutes to 5 hours while selecting a certain temperature range and continuously raising the temperature. For example, 130 ° C, 200 ° C, 300 ° C, 4
Heat treatment at 00 ℃ for 30 minutes each, or from room temperature to 400 ℃
Up to 2 hours.

(特性の測定方法) ヤング率 本発明のヤング率の測定方法は、JIS−Z1702に基づ
き、試料幅10mm、試験長50mmの試験片を東洋ボールドウ
ィン社製テンシロンで20mm/分の引張速度で測定した。
また同時に強度と伸度を算出した。
(Method of measuring properties) Young's modulus The method for measuring the Young's modulus of the present invention was based on JIS-Z1702, and a test piece having a sample width of 10 mm and a test length of 50 mm was measured at a tensile speed of 20 mm / min using Tensilon manufactured by Toyo Baldwin. .
At the same time, strength and elongation were calculated.

耐湿接着性 シリコンウエハー上に形成したポリイミド膜に、カッ
ターで2mm間隔の切れ目を縦横6本づつ形成して25個の
碁盤目を作る。これを120℃、2.0気圧の飽和水蒸気下、
所定の時間湿熱処理を行なう。この試料にセロハン粘着
テープ(ニチバン(株)製)を貼りつけ、JIS D0202表
13,1に記載の方法に準じて引き剥す。
Moisture Resistance Adhesion Cuts are made on the polyimide film formed on the silicon wafer with a cutter at intervals of 2 mm by 6 in the vertical and horizontal directions to make 25 grids. At 120 ° C under 2.0 atm of saturated steam,
The wet heat treatment is performed for a predetermined time. A cellophane adhesive tape (Nichiban Co., Ltd.) was attached to this sample, and JIS D0202 table
Peel off according to the method described in 13,1.

[実施例] 以下本発明を実施例に基づいて具体的に説明する。た
だし、アミノ基当量とは、アミノ基1個あたりの分子量
をいう。
[Examples] Hereinafter, the present invention will be specifically described based on examples. However, the amino group equivalent refers to the molecular weight per amino group.

実施例1〜3、比較実施例1〜3 温度計、撹拌装置、窒素導入口を有する四っ口フラス
コに表1に記載の酸無水物とジアミンを入れ、N−メチ
ル−2−ピロリドン(以下NMPという)とキシレンが重
量比で6:4になる混合溶媒中で固形分が20%になるよう
に反応を行なった。反応は最初の30分は水浴中で、その
後室温で約5時間行ない、表1に示す組成のポリイミド
前駆体のワニスを得た。また反応終了後、粘度が著しく
上昇した場合、適宜NMPで希釈した。
Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3 A four-necked flask having a thermometer, a stirrer, and a nitrogen inlet was charged with the acid anhydride and the diamine shown in Table 1, and N-methyl-2-pyrrolidone (hereinafter referred to as N-methyl-2-pyrrolidone) was added. The reaction was carried out so that the solid content was 20% in a mixed solvent in which the weight ratio of NMP and xylene was 6: 4. The reaction was performed in a water bath for the first 30 minutes and then at room temperature for about 5 hours to obtain a varnish of a polyimide precursor having the composition shown in Table 1. When the viscosity increased significantly after the completion of the reaction, the mixture was appropriately diluted with NMP.

得られたワニスをシリコンウエハー上にスピナーを用
いてイミド化後の厚さが20μ±2μとなるように塗布し
た。これを80℃、200℃、300℃、350℃で各々30分づつ
熱処理てポリイミドのフィルムを得、ヤング率の測定を
行なった。
The resulting varnish was applied on a silicon wafer using a spinner so that the thickness after imidization became 20 μ ± 2 μ. This was heat-treated at 80 ° C., 200 ° C., 300 ° C., and 350 ° C. for 30 minutes each to obtain a polyimide film, and the Young's modulus was measured.

表1から明らかなごとく、本発明を満足するポリイミ
ド組成物からなるフィルムの場合は、ヤング率が低い
上、耐湿接着性および強伸度特性が良好であることがわ
かる。これに対して、ジアミン成分(III)を含まない
比較例1,2のポリイミド組成物からなるフィルムの場
合、ヤング率の低下はみられない上、耐湿接着性が著し
く劣るという欠点があり、またジアミン成分(II)を含
まない比較例3の場合は、フィルムの失透が著しく、実
用性のないものしか得られない。
As is evident from Table 1, in the case of a film made of the polyimide composition satisfying the present invention, the film has a low Young's modulus and good moisture resistance and high elongation characteristics. On the other hand, films made of the polyimide compositions of Comparative Examples 1 and 2 not containing the diamine component (III) do not show a decrease in Young's modulus, and have the disadvantages of extremely poor moisture-resistant adhesiveness, and In the case of Comparative Example 3 which did not contain the diamine component (II), the film was remarkably devitrified, and only those having no practical use were obtained.

実施例4 実施例1と同様な四ツ口フラスコに、4,4′−ビスア
ミノフェノキシジフェニル52.5g、4,4′−ジアミノジフ
ェニルエーテル66.6g、1,3−ビスアミノプロピルテトラ
メチルジシロキサン4.97gと、(III)で表わされるR=
CH2 、R′=−CH3であり、アミノ価が620(nは
約14.4)のシリコンジアミン6.2gをピロメリット酸二無
水物109.1gとN−メチル−2−ピロリドンとキシレンが
重量比で6/4である溶媒中(固形分濃度16%)で反応を
行なった。反応は最初の30分は水浴中で、その後室温で
約5時間行なった。
Example 4 In the same four-necked flask as in Example 1, 52.5 g of 4,4'-bisaminophenoxydiphenyl, 66.6 g of 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4.97 g of 1,3-bisaminopropyltetramethyldisiloxane And R = (III)
CH 2 3, R '= - CH 3, and amino value is 620 (n is approximately 14.4) silicon diamine 6.2g pyromellitic dianhydride 109.1g and N- methyl-2-pyrrolidone and xylene weight ratio of The reaction was carried out in a solvent having a solid content of 6/4 (solid content concentration 16%). The reaction was carried out in a water bath for the first 30 minutes and then at room temperature for about 5 hours.

得られたワニスをシリコンウエハー上にスピナーを用
いてイミド化後の厚さが20μ±2μとなるように塗布し
た。これを80℃、200℃、300℃、350℃で各々30分づつ
熱処理してポリイミドのフィルムを得、ヤング率の測定
を行なった。
The resulting varnish was applied on a silicon wafer using a spinner so that the thickness after imidization became 20 μ ± 2 μ. This was heat-treated at 80 ° C., 200 ° C., 300 ° C., and 350 ° C. for 30 minutes each to obtain a polyimide film, and the Young's modulus was measured.

このフィルムは、ヤング率160kg/mm2、耐湿接着性250
時間、強度12kg/mm2、伸度30%と良好な特性を示した。
This film has a Young's modulus of 160 kg / mm 2 ,
Time, strength 12 kg / mm 2 and elongation 30% showed good properties.

[発明の効果] 本発明のポリイミド組成物は、上述のごとく3種の特
定のジアミンで構成したので、低ヤング率にして耐湿接
着性、強度、伸度に優れた高機能なポリイミドを得るこ
とができたものである。
[Effect of the Invention] Since the polyimide composition of the present invention is composed of three kinds of specific diamines as described above, it is possible to obtain a high-performance polyimide having a low Young's modulus and excellent moisture resistance, strength, and elongation. Was made.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】ポリイミド前駆体および溶媒からなるポリ
イミド組成物において、該ポリイミド前駆体が、次式
(I)、(II)および(III)で表されるジアミン成分
のモル比が (III)/((I)+(II)+(III)) =5/1000〜10/100 (II)/(I)=5/95〜95/5 である原料ジアミンとピロメリット酸二無水物とを反応
させたものであることを特徴とするポリイミド組成物。 (式中、Xは−O−または−S−、Yは−O−、−S
−、−SO−、−SO2−、−CO−、−CH2−、−CF2−、−C
Cl2−、 Rは炭素数1〜20のアルキレン基、 フッ素化アルキレン基またはフェニレン基、R′は炭素
数1〜10のアルキル基、フッ素化アルキル基またはフェ
ニル基、nは3〜20の整数である。)
1. A polyimide composition comprising a polyimide precursor and a solvent, wherein the polyimide precursor has a molar ratio of diamine components represented by the following formulas (I), (II) and (III): (III) / ((I) + (II) + (III)) = 5 / 1000-10 / 100 (II) / (I) = 5 / 95-95 / 5 Reaction of starting diamine with pyromellitic dianhydride What is claimed is: 1. A polyimide composition, comprising: (Wherein X is -O- or -S-, Y is -O-, -S
-, - SO -, - SO 2 -, - CO -, - CH 2 -, - CF 2 -, - C
Cl 2 −, R is an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, a fluorinated alkylene group or a phenylene group, R 'is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a fluorinated alkyl group or a phenyl group, and n is an integer of 3 to 20. )
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