JP2611500B2 - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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JP2611500B2
JP2611500B2 JP2143440A JP14344090A JP2611500B2 JP 2611500 B2 JP2611500 B2 JP 2611500B2 JP 2143440 A JP2143440 A JP 2143440A JP 14344090 A JP14344090 A JP 14344090A JP 2611500 B2 JP2611500 B2 JP 2611500B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、半導体集積回路装置に関し、特に、半導体
集積回路装置の出力回路に関する。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, and more particularly, to an output circuit of a semiconductor integrated circuit device.

[従来の技術] 半導体集積回路装置については、近年、大容量化、高
密度化が著しく進行すると共に、高速化が強く要求され
るようになってきている。
[Prior Art] In recent years, with regard to semiconductor integrated circuit devices, large-capacity and high-density devices have been remarkably advanced, and high-speed operation has been strongly demanded.

この動作の高速化に伴い、回路設計を行う上で様々な
問題を解決する必要性が生じてくる。中でも、パッケー
ジ、ボンディング線等のインダクタンスによる接地電位
のノイズの問題は高速化の妨げとなっている。このこと
を従来の高速半導体集積回路装置について、図を用いて
説明する。
As the operation speeds up, it becomes necessary to solve various problems in circuit design. Above all, the problem of the noise of the ground potential due to the inductance of the package, the bonding wire, and the like hinders the increase in speed. This will be described for a conventional high-speed semiconductor integrated circuit device with reference to the drawings.

第5図は、従来の半導体集積回路装置の出力回路の回
路図、第6図(a)は、第5図の回路の出力端子の電
圧、第6図(b)は第5図の回路の接地電位に加わるノ
イズの波形図である。
FIG. 5 is a circuit diagram of an output circuit of a conventional semiconductor integrated circuit device, FIG. 6 (a) is the voltage of the output terminal of the circuit of FIG. 5, and FIG. 6 (b) is the circuit of the circuit of FIG. FIG. 4 is a waveform diagram of noise applied to a ground potential.

第5図において、1は、データδが入力されるデータ
入力端子、2は、出力イネーブル信号φが入力される出
力イネーブル信号入力端子、3は出力信号θが出力され
る出力端子、NR1は、ノアゲート、ND1はナンドゲート、
I1、I4、I5はインバータ、QpはpチャネルMOSFET(以
下、pMOSと記す)、QnはnチャネルMOSFET(以下、nMOS
と記す)である。この回路において、出力イネーブル信
号φがハイレベルであるときには、データδの値に関係
なくpMOSQp、nMOSQnがともにオフ状態となって、出力端
子3はハイインピーダンス状態となる。φがローレベル
であるときには、データδが“1"であれば、pMOSQpオ
フ、nMOSQnがオンとなって、出力信号θはローレベル、
データδが“0"であれば、pMOSQpがオン、nMOSQnがオフ
となって出力信号θはハイレベルとなる。
In FIG. 5, 1 is a data input terminal to which data δ is input, 2 is an output enable signal input terminal to which an output enable signal φ is input, 3 is an output terminal to which an output signal θ is output, and NR1 is Noah gate, ND1 is a NAND gate,
I1, I4, and I5 are inverters, Qp is a p-channel MOSFET (hereinafter, referred to as pMOS), and Qn is an n-channel MOSFET (hereinafter, nMOS).
Is written). In this circuit, when the output enable signal φ is at a high level, the pMOS Qp and the nMOS Qn are both turned off regardless of the value of the data δ, and the output terminal 3 is set to a high impedance state. When φ is at a low level, if data δ is “1”, pMOSQp is turned off, nMOSQn is turned on, and output signal θ is at a low level.
If the data δ is “0”, the pMOS Qp is turned on, the nMOS Qn is turned off, and the output signal θ becomes high level.

[発明が解決しようとする課題] ここで、入出力レベルがTTLレベルである場合、出力
信号がハイレベルであるときの出力端子の電位と出力端
子に流れる電流の規格は、それぞれ2.4V、−4mA、出力
信号がローレベルであるときの出力端子の電位と出力端
子に流れる電流の規格は、それぞれ0.4V、8mAである。
これを換言すれば、nMOSQnに対して要求されるDC特性
は、ドレイン−ソース間電圧が0.4Vのときにドレイン電
流が8mA、pMOSQpに対しては、ドレイン−ソース間電圧
が−2.6Vのときにドレイン電流が−4mAであるといえ
る。したがって、各トランジスタのドレイン電流・ドレ
イン−ソース間電圧比をそれぞれのトランジスタの能力
βQp、βQnとすると、両トランジスタの能力比βQp/βQ
nは、 βQp/βQn<<1 であってもよいことになる。しかし、データの読み出し
時間のデータによる差異を考えると、上記設定では、出
力がローレベルであるときの読み出しが速く、出力がハ
イレベルであるときの読み出しが遅くなってしまう。こ
のため、上記能力比は概ね1に設定されることが多い。
そこで、 βQp/βQn=1 の場合を従来例1とする。ところが、この条件では出力
がハイレベルであるときの出力電圧、出力電流が必要以
上に高くなるので、接地電位のノイズが大きくなり誤動
作しやすくなる。その理由を以下に説明する。
[Problems to be Solved by the Invention] Here, when the input / output level is the TTL level, the standard of the potential of the output terminal and the standard of the current flowing through the output terminal when the output signal is at the high level are 2.4 V and −, respectively. The specifications of the potential of the output terminal when the output signal is at a low level and the current flowing through the output terminal are 0.4 V and 8 mA, respectively.
In other words, the DC characteristic required for nMOSQn is that when the drain-source voltage is 0.4 V, the drain current is 8 mA, and for pMOSQp, the drain-source voltage is -2.6 V It can be said that the drain current is -4 mA. Therefore, assuming that the drain current / drain-source voltage ratio of each transistor is the capacity βQp and βQn of each transistor, the capacity ratio βQp / βQ
n may be βQp / βQn << 1. However, considering the difference in the data read time depending on the data, in the above setting, the read when the output is at the low level is fast, and the read when the output is at the high level is slow. For this reason, the capacity ratio is often set to approximately 1.
Therefore, the case of βQp / βQn = 1 is referred to as Conventional Example 1. However, under this condition, the output voltage and the output current when the output is at a high level become unnecessarily high, so that the noise of the ground potential becomes large and a malfunction easily occurs. The reason will be described below.

従来例1の出力回路の出力電圧がハイ→ロー→ハイと
遷移したときの出力電圧波形は、第6図(a)に実線で
示す様になる。同図において、Vohはハイレベル出力の
最低電圧(規格値)、Volはローレベル出力の最高値
(規格値)を示す。ここで、nMOSQn、pMOSQpを流れる電
流は、電流パスの有する自己インダクタンス成分によ
り、電流の時間的変化率と自己インダクタンスとの積で
決まる逆起電圧の発生原因となる。この逆起電圧による
接地電位のノイズは、第6図(b)に実線で示すよう
に、最大|V1|、|V2|となるが、このことは半導体集積回
路装置の外部電位に対し、内部電位の基準(接地レベ
ル)が図のように変化していると見なすことができる。
なお、出力電圧のロー→ハイ遷移時における接地電位の
変動は、主として電源電位の変動分が容量結合により接
地側に現れたものである。
The output voltage waveform when the output voltage of the output circuit of Conventional Example 1 changes from high to low to high is as shown by a solid line in FIG. 6 (a). In the figure, Voh indicates the lowest voltage of the high-level output (standard value), and Vol indicates the highest value of the low-level output (standard value). Here, the current flowing through the nMOSQn and the pMOSQp causes a back electromotive voltage determined by the product of the time change rate of the current and the self-inductance due to the self-inductance component of the current path. The noise of the ground potential due to the back electromotive voltage is a maximum of | V1 | and | V2 | as shown by the solid line in FIG. 6 (b). It can be considered that the reference of the potential (ground level) is changing as shown in the figure.
The change in the ground potential at the time of the low-to-high transition of the output voltage is mainly a change in the power supply potential that appears on the ground side due to capacitive coupling.

さて、半導体集積回路装置の入力信号の論理レベル規
格のハイレベルをVH、ローレベルをVLとし、内部回路が
ハイレベルであると検知できる最低電位をVihとし、ロ
ーレベルであると検知できる最高電位をVilとすると、 VL≦Vil≦Vih≦VH という関係が成立している。ここで、Vih、Vilは、半導
体内部での相対電圧であるので、接地電位が前述のごと
く変化すると、第6図(b)に示すノイズが作用した結
果、半導体集積回路装置の外部から見たVihの最小値Vi
h′、Vilの最大値Vil′は、 Vih′=Vih−|V1| Vil′=Vil−|V2| となる。このとき、入力信号のレベルが規格通りであっ
たとして、|V1|、|V2|が大きければ、以下の関係が成り
立つことがあり得る。
By the way, the high level of the logic level standard of the input signal of the semiconductor integrated circuit device is VH, the low level is VL, the minimum potential at which the internal circuit can be detected as high is Vih, and the maximum potential at which the internal circuit can be detected as low is Is Vil, the relationship of VL ≦ Vil ≦ Vih ≦ VH holds. Here, since Vih and Vil are relative voltages inside the semiconductor, when the ground potential changes as described above, the noise shown in FIG. Vih minimum value Vi
The maximum value Vil 'of h' and Vil is Vih '= Vih- | V1 | Vil' = Vil- | V2 |. At this time, assuming that the level of the input signal is as specified, if | V1 | and | V2 | are large, the following relationship may hold.

Vih′≦VL Vil′≧VH このことは、入力信号がローレベルであるときに内部
回路がハイレベルであると感応し、入力信号はハイレベ
ルであるときに内部回路がローレベルであると感応して
誤動作することを意味する。
Vih'≤VL Vil'≥VH This means that when the input signal is low level, the internal circuit is sensitive to high level, and when the input signal is high level, the internal circuit is sensitive to low level. And malfunction.

次に、従来例2として、前記トランジスタ能力比βQp
/βQnを1未満にした場合を考える。この場合、ハイレ
ベル出力が第6図(a)に破線で示すように低下したこ
とにより、nMOSQnが引き抜くべき電荷量が減少し、出力
電圧がハイ→ローと遷移する期間の電流変化率が低下す
るので、接地電位のノイズを第6図(b)に破線で示す
ように従来例1の場合よりも低く抑えることが可能であ
る。しかし、この場合にはpMOSQpの電流供給能力が低下
したことにより出力電圧のロー→ハイ遷移時間が大きく
なり、アクセス時間が増大する。
Next, as Conventional Example 2, the transistor capability ratio βQp
Consider the case where / βQn is less than one. In this case, since the high-level output decreases as indicated by the broken line in FIG. 6A, the amount of charge to be extracted by the nMOS Qn decreases, and the current change rate during the period when the output voltage transitions from high to low decreases. Therefore, the noise at the ground potential can be suppressed to be lower than in the case of Conventional Example 1 as shown by the broken line in FIG. 6 (b). However, in this case, the low-to-high transition time of the output voltage increases due to the decrease in the current supply capability of the pMOS Qp, and the access time increases.

また、上記手段に替えて、出力トランジスタのゲート
電圧の波形をなまらせ、出力電流の変化率を減じて、ノ
イズ|V1|、|V2|を小さくする方法もあるが、この方法で
も、アクセス時間の増大は免れない。
Instead of the above-mentioned means, there is also a method in which the waveform of the gate voltage of the output transistor is blunted, the rate of change in the output current is reduced, and the noises | V1 | and | V2 | are reduced. Increase is inevitable.

すなわち、従来の半導体集積回路装置では、高速性を
追求して能力の高いトランジスタを使用した場合には、
接地電位のノイズが増大して動作不良の恐れが生じ、こ
のノイズを抑えるために出力トランジスタの能力を落と
したり、出力トランジスタのゲートに入力される信号を
なまらせたりすれば、高速性が犠牲となった。
That is, in a conventional semiconductor integrated circuit device, when a transistor having a high ability is used in pursuit of high speed,
If the noise of the ground potential increases and there is a risk of malfunction, if the performance of the output transistor is reduced or the signal input to the gate of the output transistor is blunted to suppress this noise, high speed performance will be sacrificed. became.

よって、本発明の目的とするところは、集積回路装置
の出力回路の高速性を犠牲にすることなくそのノイズレ
ベルを低減することである。
Accordingly, it is an object of the present invention to reduce the noise level of an output circuit of an integrated circuit device without sacrificing high speed.

[課題を解決するための手段] 本発明による半導体集積回路装置は、データ入力信号
またはデータ入力信号および出力イネーブル信号によっ
て出力状態が制御される出力回路を備え、その出力回路
は、ソースが電源電位に、ドレインが出力端子に接続さ
れた第1および第2のpチャネルMOSトランジスタと、
ソースが接地されドレインが前記出力端子に接続された
nチャネルMOSトランジスタとを有するものであり、そ
して、前記第1のpチャネルMOSトランジスタは出力端
子の電圧を規定の高電位まで引き上げることができる範
囲で能力が低められた素子であり、また、前記第2のp
チャネルMOSトランジスタは、前記第1のpチャネルMOS
トランジスタと同時にオン状態となり、一定時間後にオ
フとなるようにゲート電圧が制御されるものである。
[Means for Solving the Problems] A semiconductor integrated circuit device according to the present invention includes an output circuit whose output state is controlled by a data input signal or a data input signal and an output enable signal. First and second p-channel MOS transistors each having a drain connected to an output terminal;
An n-channel MOS transistor having a source grounded and a drain connected to the output terminal, and wherein the first p-channel MOS transistor can raise the voltage of the output terminal to a prescribed high potential. And the performance of the second p is reduced.
The channel MOS transistor is the first p-channel MOS transistor.
The gate voltage is controlled so that the transistor is turned on at the same time as the transistor and turned off after a certain time.

[実施例] 次に、本発明の実施例について図面を参照して説明す
る。
Example Next, an example of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は、本発明の一実施例を示す回路図である。同
図において、第5図の従来例の部分と同等の部分には同
一の参照記号が付されているので、重複した説明は省略
する。この実施例において、電源−出力端子3間には、
第1のpMOSQp1と第2のpMOSQp2とが並列に接続されてい
る。このうち第1のpMOSQp1は第5図におけるpMOSQpと
同様個所に回路接続されており、そして、従来例2にお
けるpMOSQpと同程度の能力を有する素子である。すなわ
ち、第1のpMOSQp1には、導通時にその出力レベルがハ
イレベル出力の最低電圧(規格値)Vohを少し超えるこ
とができるようにする能力を有する素子が用いられる。
FIG. 1 is a circuit diagram showing one embodiment of the present invention. In this figure, the same parts as those of the conventional example shown in FIG. 5 are denoted by the same reference symbols, and the duplicate description will be omitted. In this embodiment, between the power supply and the output terminal 3,
The first pMOSQp1 and the second pMOSQp2 are connected in parallel. Among them, the first pMOSQp1 is a circuit connected at the same position as the pMOSQp in FIG. 5, and is an element having the same performance as the pMOSQp in the conventional example 2. That is, for the first pMOS Qp1, an element having an ability to allow the output level to slightly exceed the minimum voltage (standard value) Voh of the high-level output when conducting is used.

第2のpMOSQp2のゲートには、ノアゲートNR2、インバ
ータI2、I3、コンデンサC1およびナンドゲートND2から
なる、データδおよび出力イネーブル信号φが入力され
る制御信号発生回路の出力が入力される。
To the gate of the second pMOS Qp2, the output of the control signal generation circuit, which is composed of the NOR gate NR2, the inverters I2 and I3, the capacitor C1, and the NAND gate ND2, to which the data δ and the output enable signal φ are input is input.

次に、第1図の回路の各部の波形図である第2図を参
照して第1図の回路の動作について説明する。
Next, the operation of the circuit of FIG. 1 will be described with reference to FIG. 2, which is a waveform diagram of each part of the circuit of FIG.

今、出力イネーブル信号φはローレベルであるものと
する。データδが“1"であるときには、第1図に示す節
点C、D、Eはそれぞれハイレベルとなり、Qnがオン状
態、Qp1、Qp2がオフ状態にある。このとき、節点Aはロ
ーレベル、節点Bはハイレベルにある。
Now, the output enable signal φ is at a low level. When the data δ is “1”, the nodes C, D, and E shown in FIG. 1 are each at a high level, Qn is on, and Qp1, Qp2 are off. At this time, the node A is at a low level and the node B is at a high level.

ここで、データδが“0"に変わり始めると、節点C、
D、Eの電位はノアゲートNR1、インバータI4等による
遅れ時間分遅れて降下し始める。このとき、節点Aの電
位はコンデンサC1の作用により徐々に立ち上がるので、
節点Bの電位は一定時間ハイの状態にとどまる。節点
C、D、Eの電位があるところまで下がると、第1、第
2のpMOSQp1、Qp2が導通を開始し、nMOSQnのオン電流は
低下し始めて、出力信号θは立ち上がり始める。また、
節点Aの電位がある電位に達すると、節点Bの電位は下
がり始める。接点Bの電位があるところまで下がると、
節点Dの電位は再び上昇に転じる。節点Dの電位が一定
の値に達すると、第2のpMOSQp2はオフ状態となる。pMO
SQp2がオフとなるのは出力信号がθがハイレベル出力の
規格値(最低値)Vohを超えた時点となるように、コン
デンサのC1の容量やpMOSQp2の特性は決定される。その
後、出力信号θは少し高くなるが、最終的には、出力は
pMOSQp1の能力で決定される電源電圧VDDより低いレベル
に落着く。
Here, when the data δ starts to change to “0”, the nodes C,
The potentials of D and E begin to fall with a delay of the delay time due to the NOR gate NR1, the inverter I4, and the like. At this time, since the potential of the node A gradually rises due to the action of the capacitor C1,
The potential at the node B remains high for a certain period of time. When the potentials of the nodes C, D, and E decrease to a certain level, the first and second pMOSs Qp1 and Qp2 start conducting, the on-current of the nMOS Qn starts to decrease, and the output signal θ starts to rise. Also,
When the potential of the node A reaches a certain potential, the potential of the node B starts to decrease. When the potential of the contact B drops to a certain point,
The potential at the node D starts to rise again. When the potential at the node D reaches a certain value, the second pMOS Qp2 is turned off. pMO
The capacitance of the capacitor C1 and the characteristics of the pMOS Qp2 are determined so that the SQp2 is turned off when the output signal exceeds the standard value (lowest value) Voh of the high-level output. After that, the output signal θ slightly increases, but eventually the output becomes
It settles down to a level lower than the power supply voltage V DD determined by the capability of pMOSQp1.

次に、データδが“1"に変わると、少し遅れて節点
C、Eの電位が立ち上がり、出力信号θは立ち下がり始
める。接点Bの電位は、インバータ12、コンデンサC1で
決まる遅延時間分遅れて立ち上がるが、節点Bの電位が
ハイレベルとなったときにはノアゲートNR2の出力は既
にローレベルとなっているので、節点Dの電位はハイレ
ベルのままである。すなわち、データδが“0"から“1"
変化しても第2のpMOSQp2が導通することはない。
Next, when the data δ changes to “1”, the potentials of the nodes C and E rise with a slight delay, and the output signal θ starts to fall. The potential at the node B rises with a delay of the delay time determined by the inverter 12 and the capacitor C1, but when the potential at the node B goes high, the output of the NOR gate NR2 is already at the low level. Remains at the high level. That is, the data δ changes from “0” to “1”
Even if it changes, the second pMOS Qp2 does not conduct.

以上の動作、第3図に示す出力波形図を参照にして要
約する。出力信号θのハイ→ロー遷移時においては、少
ない充電電荷量を高い能力のnMOSによって引き抜くため
にその動作は従来例1の場合より高速化されているが、
引き抜くべき電荷量自体が少なくされているので、この
ときの接地電位の変動は、その分低く抑えられている。
また、出力信号θのロー→ハイ遷移時においては、当初
第1、第2のpMOSQp1、Qp2が導通することにより、従来
例1と同様に速やかに立ち上がるが、出力信号値がハイ
レベルの規格値Vohを超えると第2のpMOSが遮断され、
能力の低い第1のpMOSのみによって充電されることにな
るので立ち上がりは緩やかになる。そして、その際第2
のpMOSが導通するのが短時間であり、かつ、ハイレベル
の最終値が従来例1の場合よりも低く抑えられているの
で、この場合にも接地ノイズは抑制される。
The above operation will be summarized with reference to the output waveform diagram shown in FIG. At the time of the high-to-low transition of the output signal θ, the operation is faster than that of the conventional example 1 in order to extract a small amount of charge by the nMOS having a high capability.
Since the amount of charge to be extracted itself is reduced, the fluctuation of the ground potential at this time is suppressed accordingly.
Also, when the output signal θ transitions from low to high, the first and second pMOSs Qp1 and Qp2 are initially turned on, so that the output signal θ quickly rises in the same manner as in the conventional example 1. When it exceeds Voh, the second pMOS is cut off,
Since the battery is charged only by the first pMOS having a low capacity, the rise becomes gentle. And at that time the second
In this case, the pMOS is turned on for a short time, and the final value of the high level is kept lower than that of the first conventional example, so that the ground noise is also suppressed in this case.

第4図は、本発明の他の実施例を示す回路図である。
この実施例の先の実施例と相違する点は、第2のpMOSQ2
のゲートへの制御信号を形成する制御信号発生回路にお
いて、インバータI2に替えて出力イネーブル信号φとデ
ータδが入力されるノアゲートN3が用いられている点で
ある。この構成により、本実施例ではデータδがハイレ
ベルで出力イネーブル信号φがハイからローレベルへと
変化したときにも第2のpMOSQpが一定時間導通する。
FIG. 4 is a circuit diagram showing another embodiment of the present invention.
The difference between this embodiment and the previous embodiment is that the second pMOSQ2
In the control signal generation circuit for forming a control signal to the gate of the above, a NOR gate N3 to which an output enable signal φ and data δ are input is used instead of the inverter I2. With this configuration, in the present embodiment, the second pMOS Qp conducts for a certain time even when the data δ is at the high level and the output enable signal φ changes from high to low level.

[発明の効果] 以上説明したように、本発明はCMOS型出力回路におい
て、pMOS部を2個のpMOSの並列回路によって構成し、一
方のpMOSを出力の立ち上がり時にのみ一定的に導通させ
るようにしたものであるので、以下の効果を奏すること
ができる。
[Effects of the Invention] As described above, in the present invention, in a CMOS type output circuit, a pMOS section is formed by a parallel circuit of two pMOSs, and one of the pMOSs is made to conduct constantly only at the time of output rise. Therefore, the following effects can be obtained.

出力がハイレベルに遷移するときに、2本のpMOSが
導通するので出力の立ち上がり速度を高めることができ
る。
When the output transitions to the high level, the two pMOSs are turned on, so that the output rising speed can be increased.

出力がハイレベルに遷移するとき、2本のpMOSが導
通するのは短時間であり、かつ、ハイレベルの最高値が
低められているのでこのときの接地電位ノイズが抑制さ
れる。
When the output transitions to the high level, the two pMOSs are turned on for a short period of time, and the maximum value of the high level is reduced, so that the ground potential noise at this time is suppressed.

出力のローレベルへの遷移は、高能力のnMOSによっ
てなされ、かつ、このトランジスタによって引く抜かれ
るべき電荷量が削減されているので、出力の立ち上がり
が速められ、またこのときの接地電位ノイズが削減され
る。
The transition of the output to low level is made by a high-capacity nMOS, and the amount of charge to be extracted by this transistor is reduced, so that the output rises faster and the ground potential noise at this time is reduced. Is done.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は、本発明の一実施例を示す回路図、第2図は、
第1図の回路の各部波形図、第3図は、従来例の出力波
形図と対比した第1図の実施例の出力波形図、第4図
は、本発明の他の実施例を示す回路図、第5図は、従来
例の回路図、第6図(a)は、従来例における出力波形
図、第6図(b)は、従来例における接地電位のノイズ
波形図である。 1……データ入力端子、2……出力イネーブル信号入力
端子、3……出力端子、Qp1、Qp2、Qp……pチャネルMO
Sトランジスタ(pMOS)、Qn……nチャネルMOSトランジ
スタ(nMOS)、A〜E……節点、I1〜I5……インバー
タ、C1……コンデンサ、ND1、ND2……ナンドゲート、NR
1〜NR3……ノアゲート、Voh……ハイレベル出力の最低
電圧(規格値)、δ……データ、φ……出力イネーブル
信号、θ……出力信号。
FIG. 1 is a circuit diagram showing one embodiment of the present invention, and FIG.
FIG. 3 is a waveform diagram of each part of the circuit of FIG. 1, FIG. 3 is an output waveform diagram of the embodiment of FIG. 1 in comparison with a conventional output waveform diagram, and FIG. 4 is a circuit diagram of another embodiment of the present invention. FIG. 5 is a circuit diagram of a conventional example, FIG. 6 (a) is an output waveform diagram of the conventional example, and FIG. 6 (b) is a noise waveform diagram of the ground potential in the conventional example. 1 ... data input terminal, 2 ... output enable signal input terminal, 3 ... output terminal, Qp1, Qp2, Qp ... p-channel MO
S transistor (pMOS), Qn: n-channel MOS transistor (nMOS), A to E: nodes, I1 to I5 ... inverter, C1 ... capacitor, ND1, ND2 ... NAND gate, NR
1 to NR3: NOR gate, Voh: Highest output minimum voltage (standard value), δ: Data, φ: Output enable signal, θ: Output signal.

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】データ入力信号によって出力状態が制御さ
れる出力回路を備え、該出力回路が、ソースが接地され
ドレインが出力端子に接続されたnチャネルMOSトラン
ジスタと、ソースが電源に接続されドレインが前記出力
端子に接続された、ドレイン電流/(ドレイン電圧−ソ
ース電圧)が前記nチャネルMOSトランジスタのそれよ
り低い第1のpチャネルMOSトランジスタと、前記第1
のpチャネルMOSトランジスタと並列に接続された第2
のpチャネルMOSトランジスタと、により構成されてい
る半導体集積回路装置であって、前記nチャネルMOSト
ランジスタと前記第1のpチャネルMOSトランジスタは
それぞれ前記データ入力信号若しくはこれが入力される
論理回路の出力信号により何れか一方のみが導通するよ
うに制御され、前記第2のpチャネルMOSトランジスタ
は、前記データ入力信号と該データ入力信号の該信号を
所定時間遅らせる遅延回路を経由した信号とが入力され
る論理回路の出力信号によって、前記第1のpチャネル
MOSトランジスタが導通に転じるときに同時に導通に転
じ前記遅延回路により定められた一定時間だけ導通を継
続するように制御されることを特徴とする半導体集積回
路装置。
1. An output circuit whose output state is controlled by a data input signal, the output circuit comprising: an n-channel MOS transistor having a source grounded and a drain connected to an output terminal; Are connected to the output terminal, a first p-channel MOS transistor having a drain current / (drain voltage-source voltage) lower than that of the n-channel MOS transistor,
Connected in parallel with the p-channel MOS transistor of
A p-channel MOS transistor, wherein the n-channel MOS transistor and the first p-channel MOS transistor each receive the data input signal or an output signal of a logic circuit to which the data input signal is input. The second p-channel MOS transistor receives the data input signal and a signal of the data input signal via a delay circuit that delays the signal by a predetermined time. The first p channel according to the output signal of the logic circuit
A semiconductor integrated circuit device wherein the MOS transistor is turned on at the same time as the MOS transistor being turned on, and is controlled so as to be turned on at the same time and to be turned on for a certain period of time determined by the delay circuit.
【請求項2】データ入力信号および出力イネーブル信号
によって出力状態が制御される出力回路を備え、該出力
回路が、ソースが接地されドレインが出力端子に接続さ
れたnチャネルMOSトランジスタと、ソースが電源に接
続されドレインが前記出力端子に接続された、ドレイン
電流/(ドレイン電圧−ソース電圧)が前記nチャネル
MOSトランジスタのそれより低い第1のpチャネルMOSト
ランジスタと、前記第1のpチャネルMOSトンランジス
タと並列に接続された第2のpチャネルMOSトランジス
タと、により構成されている半導体集積回路装置であっ
て、前記nチャネルMOSトランジスタと前記第1のpチ
ャネルMOSトンランジスタはそれぞれ前記データ入力信
号と前記出力イネーブル信号が入力される論理回路の出
力信号により、前記出力イネーブル信号がハイレベルで
あるときともに非導通状態に、かつ、前記出力イネーブ
ル信号がローレベルのとき何れか一方のみが導通するよ
うに制御され、前記第2のpチャネルMOSトランジスタ
は、前記データ入力信号の該データ入力信号を所定時間
遅らせる遅延回路を経由した信号と、前記データ入力信
号と、前記出力イネーブル信号とにより形成された信号
により、前記出力イネーブル信号がハイレベルであると
き非導通状態に、かつ、前記出力イネーブル信号がロー
レベルであるとき前記第1のpチャネルMOSトランジス
タが導通に転じるときに同時に導通に転じ前記遅延回路
により定められた一定時間だけ導通を継続するように制
御されることを特徴とする半導体集積回路装置。
2. An output circuit whose output state is controlled by a data input signal and an output enable signal, the output circuit comprising: an n-channel MOS transistor having a source grounded and a drain connected to an output terminal; And the drain is connected to the output terminal, and the drain current / (drain voltage−source voltage) is equal to the n-channel.
A semiconductor integrated circuit device comprising: a first p-channel MOS transistor lower than that of a MOS transistor; and a second p-channel MOS transistor connected in parallel with the first p-channel MOS transistor. The n-channel MOS transistor and the first p-channel MOS transistor are driven by an output signal of a logic circuit to which the data input signal and the output enable signal are input, respectively, when the output enable signal is at a high level. When the output enable signal is at a low level, only one of the transistors is controlled to be conductive, and the second p-channel MOS transistor holds the data input signal of the data input signal for a predetermined time. A signal passed through a delay circuit for delaying, the data input signal, and the output enable signal Is turned off when the output enable signal is at a high level, and is turned on simultaneously when the first p-channel MOS transistor is turned on when the output enable signal is at a low level. The semiconductor integrated circuit device is controlled so that the conduction is continued for a predetermined time determined by the delay circuit.
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