JP2610946B2 - Ｘ線装置 - Google Patents
Ｘ線装置Info
- Publication number
- JP2610946B2 JP2610946B2 JP63142713A JP14271388A JP2610946B2 JP 2610946 B2 JP2610946 B2 JP 2610946B2 JP 63142713 A JP63142713 A JP 63142713A JP 14271388 A JP14271388 A JP 14271388A JP 2610946 B2 JP2610946 B2 JP 2610946B2
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- Japan
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- ray
- rays
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、Ｘ線回折法等のＸ線分析に同時に利用でき
るＸ線をより多く取り出ことができるようにしたＸ線装
置に関する。
るＸ線をより多く取り出ことができるようにしたＸ線装
置に関する。
［従来の技術］ 通常、Ｘ線回折法によるＸ線分析には線状（ライン）
Ｘ線（Ｘ線ビームの断面形状が略線状をなすＸ線であっ
て、通常はその断面形状の寸法が0.1×10mm程度である
ものをさす）のＸ線が用いられ、また、Ｘ線カメラ等に
よるＸ線分析には点状（ポイント）Ｘ線（Ｘ線ビームの
断面形状が略点状をなすＸ線であって、通常はその断面
形状の寸法が１×1mm程度であるものをさす）が用いら
れる。
Ｘ線（Ｘ線ビームの断面形状が略線状をなすＸ線であっ
て、通常はその断面形状の寸法が0.1×10mm程度である
ものをさす）のＸ線が用いられ、また、Ｘ線カメラ等に
よるＸ線分析には点状（ポイント）Ｘ線（Ｘ線ビームの
断面形状が略点状をなすＸ線であって、通常はその断面
形状の寸法が１×1mm程度であるものをさす）が用いら
れる。
従来、このようなＸ線は、以下のようにして得てい
た。
た。
すなわち、真空容器内に収容されたＸ線ターゲット表
面に略線状（通常、１×10mmの寸法を有する）に焦点を
結ばせた電子線を衝突させてＸ線を発生させ、このＸ線
を、前記ターゲット表面の電子線焦点の長手方向と直角
方向であって、前記ターゲット表面と比較的小さな角度
（この角度をいわゆるＸ線取り出し角といい、Ｘ線の放
射強度分布や分解能等が考慮されて、通常６゜とされ
る）をなす方向に取り出すことにより、線状（0.1×10m
m）のＸ線を得、一方、前記電子線焦点の長手方向を含
み前記ターゲットに垂直な面状において、前記ターゲッ
トと比較的小さな角度（６゜）をなす方向から取り出す
ことにより点状（１×1mm）Ｘ線を得ていた。
面に略線状（通常、１×10mmの寸法を有する）に焦点を
結ばせた電子線を衝突させてＸ線を発生させ、このＸ線
を、前記ターゲット表面の電子線焦点の長手方向と直角
方向であって、前記ターゲット表面と比較的小さな角度
（この角度をいわゆるＸ線取り出し角といい、Ｘ線の放
射強度分布や分解能等が考慮されて、通常６゜とされ
る）をなす方向に取り出すことにより、線状（0.1×10m
m）のＸ線を得、一方、前記電子線焦点の長手方向を含
み前記ターゲットに垂直な面状において、前記ターゲッ
トと比較的小さな角度（６゜）をなす方向から取り出す
ことにより点状（１×1mm）Ｘ線を得ていた。
ところで、近年に至り、被測定物質について多種類の
Ｘ線分析を迅速に行う必要が益々高まりつつある。この
ため、複数の分析装置を同時に使用することが、測定能
率上望まれる。この要望を満たすには、同時に使用する
分析装置に対応した数のＸ線が必要となる。勿論、この
場合、Ｘ線装置を必要な台数だけ準備できれば問題ない
が、一般に、Ｘ線分析に用いられるＸ線を得るためのＸ
線装置は極めて大型かつ高価であり、これを各分析装置
毎に揃えることは、費用の点、あるいはスペースの点で
現実的でない。
Ｘ線分析を迅速に行う必要が益々高まりつつある。この
ため、複数の分析装置を同時に使用することが、測定能
率上望まれる。この要望を満たすには、同時に使用する
分析装置に対応した数のＸ線が必要となる。勿論、この
場合、Ｘ線装置を必要な台数だけ準備できれば問題ない
が、一般に、Ｘ線分析に用いられるＸ線を得るためのＸ
線装置は極めて大型かつ高価であり、これを各分析装置
毎に揃えることは、費用の点、あるいはスペースの点で
現実的でない。
そこで、１台のＸ線装置から同時に利用できる複数の
Ｘ線を取り出すようにしたＸ線装置が用いられている。
Ｘ線を取り出すようにしたＸ線装置が用いられている。
［発明が解決しようとする課題］ ところが、上述の従来のＸ線装置では、前記線状Ｘ線
（0.1×10mm）または点状Ｘ線（１×1mm）のいずれか一
方を最大でも２つしか得ることができなかった。
（0.1×10mm）または点状Ｘ線（１×1mm）のいずれか一
方を最大でも２つしか得ることができなかった。
これは、上述のようなＸ線分析に適する強度もしくは
分解能等が得られる方向は、前記電子線焦点の中心線及
び前記ターゲット表面の双方に垂直な面を境にして一方
の側に１つしかなく、したがって両方の側から取り出し
ても最大で２つしか取り出すことができないからであ
る。
分解能等が得られる方向は、前記電子線焦点の中心線及
び前記ターゲット表面の双方に垂直な面を境にして一方
の側に１つしかなく、したがって両方の側から取り出し
ても最大で２つしか取り出すことができないからであ
る。
なお、この場合、原理的には、線状及び点状のＸ線を
それぞれ２方向から、つまり、４方向からＸ線を同時取
り出せることになるが、実際上は、Ｘ線ターゲット及び
該ターゲットを収納する真空容器等の構造上、前記線状
及び点状のＸ線の双方を４方向から、つまり、互いにほ
ぼ90゜をなす４方向から取り出すことはできず、結局、
線状または点状のいずれか一方のＸ線を２方向から、つ
まり、互いにほぼ180゜なす２方向から取り出すことが
できるだけであった。
それぞれ２方向から、つまり、４方向からＸ線を同時取
り出せることになるが、実際上は、Ｘ線ターゲット及び
該ターゲットを収納する真空容器等の構造上、前記線状
及び点状のＸ線の双方を４方向から、つまり、互いにほ
ぼ90゜をなす４方向から取り出すことはできず、結局、
線状または点状のいずれか一方のＸ線を２方向から、つ
まり、互いにほぼ180゜なす２方向から取り出すことが
できるだけであった。
それゆえ、従来は、１台のＸ線装置では同時に最大で
も２系統の測定系にＸ線を供給できるのみであり、上述
の要請を必ずしも十分に満たすことができないものであ
った。
も２系統の測定系にＸ線を供給できるのみであり、上述
の要請を必ずしも十分に満たすことができないものであ
った。
本発明の目的は、上記問題点を除去できるＸ線回折装
置を提供することにある。
置を提供することにある。
［課題を解決するための手段］ 本発明は、真空容器に、ターゲット表面と比較的小さ
い角度をなす方向にＸ線を取り出す通常のＸ線取出窓の
ほかに、 前記ターゲット表面と比較的大きな角度をなす方向に
Ｘ線を取り出す新たなＸ線取出窓を設け、 この新たなＸ線取出窓の近傍に該Ｘ線取出窓から取り
出されるＸ線を比較的大きい入射角で入射し、比較的小
さい反射角で反射する非対称Ｘ線モノクロメータを設け
ることによって、 前記通常のＸ線取出窓から取り出されるＸ線の進行方
向と異なる方向に進行する他のＸ線を得るようにしたも
ので、 これにより、従来に比較してより多くの方向からＸ線
を取り出せるようにしたものである。
い角度をなす方向にＸ線を取り出す通常のＸ線取出窓の
ほかに、 前記ターゲット表面と比較的大きな角度をなす方向に
Ｘ線を取り出す新たなＸ線取出窓を設け、 この新たなＸ線取出窓の近傍に該Ｘ線取出窓から取り
出されるＸ線を比較的大きい入射角で入射し、比較的小
さい反射角で反射する非対称Ｘ線モノクロメータを設け
ることによって、 前記通常のＸ線取出窓から取り出されるＸ線の進行方
向と異なる方向に進行する他のＸ線を得るようにしたも
ので、 これにより、従来に比較してより多くの方向からＸ線
を取り出せるようにしたものである。
［作用］ 前記構成によれば、前記ターゲット表面と比較的大き
な角度をなす方向にＸ線を取り出す新たなＸ線取出窓
は、必要に応じて１または２以上設けることが可能であ
る。これは、一般的には、この新たなＸ線取出窓から取
り出したＸ線は、そのままでは強度もしくは分解能等の
観点からＸ線分析に適しないものであるが、該Ｘ線取出
窓の近傍に設けられた非対称Ｘ線モノクロメータによっ
て、単色化及び平行化されるとともに、比較的断面積の
大きいビームを比較的細いビームにすることで必要な強
度を維持する効果が得られ、Ｘ線分析に適するＸ線が得
られるからである。
な角度をなす方向にＸ線を取り出す新たなＸ線取出窓
は、必要に応じて１または２以上設けることが可能であ
る。これは、一般的には、この新たなＸ線取出窓から取
り出したＸ線は、そのままでは強度もしくは分解能等の
観点からＸ線分析に適しないものであるが、該Ｘ線取出
窓の近傍に設けられた非対称Ｘ線モノクロメータによっ
て、単色化及び平行化されるとともに、比較的断面積の
大きいビームを比較的細いビームにすることで必要な強
度を維持する効果が得られ、Ｘ線分析に適するＸ線が得
られるからである。
これにより、前記通常のＸ線取出窓から取り出される
Ｘ線のほかに他の新たなＸ線が得られることになる。
Ｘ線のほかに他の新たなＸ線が得られることになる。
［実施例］ 第１図は本発明の一実施例にかかるＸ線装置を示す一
部破断部分断面図である。なお、この実施例は、点状Ｘ
線を取り出す場合の例である。
部破断部分断面図である。なお、この実施例は、点状Ｘ
線を取り出す場合の例である。
第１図において、符号１は真空容器、符号２は前記真
空容器１内に収容された回転式のターゲットである。
空容器１内に収容された回転式のターゲットである。
前記真空容器１内には、前記ターゲット２の表面に電
子線を照射するための電子銃３が設けられている。この
電子銃３は、前記ターゲット２の表面に長さｌ（＝10m
m）、幅ｔ（＝1mm）の線状に焦点を結ばせた電子線ｅを
衝突させて該ターゲット２の表面からＸ線を発生させる
ものである。
子線を照射するための電子銃３が設けられている。この
電子銃３は、前記ターゲット２の表面に長さｌ（＝10m
m）、幅ｔ（＝1mm）の線状に焦点を結ばせた電子線ｅを
衝突させて該ターゲット２の表面からＸ線を発生させる
ものである。
また、前記真空容器１の側壁11には通常の点状Ｘ線X1
を取り出す通常のＸ線取出窓11a及び新たな点状Ｘ線X2
を取り出す新たなＸ線取出窓11bがそれぞれ設けられて
いる。
を取り出す通常のＸ線取出窓11a及び新たな点状Ｘ線X2
を取り出す新たなＸ線取出窓11bがそれぞれ設けられて
いる。
前記通常のＸ線取出窓11aは、該取出窓11aから前記タ
ーゲット２の表面の電子線ｅが衝突する部位（電子線の
焦点）を見たとき、略点状（１×1mm程度の寸法）にみ
える位置、すなわち、この通常のＸ線取出窓11aから取
り出されるＸ線x1と前記ターゲット２の表面とのなす角
α１（Ｘ線取り出し角）がほぼ６゜になる位置に設けら
れている。
ーゲット２の表面の電子線ｅが衝突する部位（電子線の
焦点）を見たとき、略点状（１×1mm程度の寸法）にみ
える位置、すなわち、この通常のＸ線取出窓11aから取
り出されるＸ線x1と前記ターゲット２の表面とのなす角
α１（Ｘ線取り出し角）がほぼ６゜になる位置に設けら
れている。
また、前記新たなＸ線取出窓11bは、該取出窓11bから
前記ターゲット２の表面の電子線ｅが衝突する部位を見
たとき、略線状（５×1mm程度の寸法）にみえる位置、
すなわち、この新たなＸ線取出窓11bから取り出される
Ｘ線x2と前記ターゲット２の表面とのなす角α２（Ｘ線
取り出し角）が39〜40゜になる位置に設けられている。
前記ターゲット２の表面の電子線ｅが衝突する部位を見
たとき、略線状（５×1mm程度の寸法）にみえる位置、
すなわち、この新たなＸ線取出窓11bから取り出される
Ｘ線x2と前記ターゲット２の表面とのなす角α２（Ｘ線
取り出し角）が39〜40゜になる位置に設けられている。
そして、前記新たなＸ線取出窓11bの近傍には、非対
称モノクロメータ４が配置されている。
称モノクロメータ４が配置されている。
この非対称モノクロメータ４は、LiF結晶の（200）面
を反射面とし、いわゆる非対称カットされたものであっ
て、前記線状Ｘ線x2を比較的高角度（α３＝39〜40゜）
の入射角で入射して、比較的低角度（α４＝５〜６゜）
の反射角で反射することによって、略点状（ビーム断面
形状が１×1mm程度）の単色Ｘ線x3を得るものである。
このＸ線x3は、前記非対称モノクロメータ４に反射され
た結果、平行性に富みかつ比較的強度も大きいので、種
々のＸ線分析にただちに利用することができるものであ
る。
を反射面とし、いわゆる非対称カットされたものであっ
て、前記線状Ｘ線x2を比較的高角度（α３＝39〜40゜）
の入射角で入射して、比較的低角度（α４＝５〜６゜）
の反射角で反射することによって、略点状（ビーム断面
形状が１×1mm程度）の単色Ｘ線x3を得るものである。
このＸ線x3は、前記非対称モノクロメータ４に反射され
た結果、平行性に富みかつ比較的強度も大きいので、種
々のＸ線分析にただちに利用することができるものであ
る。
このようにして、それぞれ異なる方向に進行する点状
Ｘ線x1とx2とを得ることができ、これら点状Ｘ線x1、x2
をそれぞれ別個のＸ線分析装置のＸ線源として用いれ
ば、同時に２種類のＸ線分析測定を行うことができる。
Ｘ線x1とx2とを得ることができ、これら点状Ｘ線x1、x2
をそれぞれ別個のＸ線分析装置のＸ線源として用いれ
ば、同時に２種類のＸ線分析測定を行うことができる。
なお、前記点状Ｘ線x1を単色化したい場合や、あるい
は、Ｘ線分析装置の設置スペースの関係から、さらにＸ
線x1とx2との方向を大きく異ならせたい場合には、Ｘ線
x1を反射して単色化するモノクロメータ５を用いればよ
い。
は、Ｘ線分析装置の設置スペースの関係から、さらにＸ
線x1とx2との方向を大きく異ならせたい場合には、Ｘ線
x1を反射して単色化するモノクロメータ５を用いればよ
い。
また、前記ターゲット２の表面における線状電子線集
束部の中心線及びターゲット表面の双方に垂直な面を境
にして前記Ｘ線x1及びx2を取り出した側と反対側に、前
記Ｘ線x1及びx2とほぼ対称にＸ線x11及びx21を取り出す
ようにすれば、同時に４種類のＸ線分析測定を行うこと
もできる。
束部の中心線及びターゲット表面の双方に垂直な面を境
にして前記Ｘ線x1及びx2を取り出した側と反対側に、前
記Ｘ線x1及びx2とほぼ対称にＸ線x11及びx21を取り出す
ようにすれば、同時に４種類のＸ線分析測定を行うこと
もできる。
このように、従来は、前記ターゲット２の表面におけ
る線状電子線集束部の中心線及びターゲット表面の双方
に垂直な面を境にして一方の側には、１つの点状Ｘ線し
か得ることができなかったのに対し、前記実施例によれ
ば、２つの点状Ｘ線x1、x2を得ることができるから、費
用、スペース等を節約しつつ多種類のＸ線分析を能率よ
く行うことを可能にする。
る線状電子線集束部の中心線及びターゲット表面の双方
に垂直な面を境にして一方の側には、１つの点状Ｘ線し
か得ることができなかったのに対し、前記実施例によれ
ば、２つの点状Ｘ線x1、x2を得ることができるから、費
用、スペース等を節約しつつ多種類のＸ線分析を能率よ
く行うことを可能にする。
なお、前記実施例では、新たなＸ線の取出窓を１つ設
ける例を掲げたが、これは、前記ターゲットの電子線焦
点から射出されるＸ線の各方向の強度分布、もしくは、
同時に使用するＸ線分析装置の形状等を考慮した上で、
複数設けることもできる。これにより、同時に行うＸ線
分析の種類をさらに増やすことも可能である。
ける例を掲げたが、これは、前記ターゲットの電子線焦
点から射出されるＸ線の各方向の強度分布、もしくは、
同時に使用するＸ線分析装置の形状等を考慮した上で、
複数設けることもできる。これにより、同時に行うＸ線
分析の種類をさらに増やすことも可能である。
また、前記実施例では、点状Ｘ線を取り出す場合の例
を掲げたが、線状Ｘ線を取り出す場合にも適用できるこ
とは勿論である。
を掲げたが、線状Ｘ線を取り出す場合にも適用できるこ
とは勿論である。
［発明の効果］ 以上詳述したように、本発明は、真空容器に、ターゲ
ット表面と比較的小さい角度をなす方向にＸ線を取り出
す通常のＸ線取出窓のほかに、 前記ターゲット表面と比較的大きな角度をなす方向に
Ｘ線を取り出す新たなＸ線取出窓を設け、 この新たなＸ線取出窓の近傍に該Ｘ線取出窓から取り
出されるＸ線を比較的大きい入射角で入射し、比較的小
さい反射角で反射する非対称Ｘ線モノクロメータを設け
ることによって、 前記通常のＸ線取出窓から取り出されるＸ線の進行方
向と異なる方向に進行する他のＸ線を得るようにしたも
ので、 これにより、従来に比較してより多くの方向からＸ線
を取り出せるようにしたものである。
ット表面と比較的小さい角度をなす方向にＸ線を取り出
す通常のＸ線取出窓のほかに、 前記ターゲット表面と比較的大きな角度をなす方向に
Ｘ線を取り出す新たなＸ線取出窓を設け、 この新たなＸ線取出窓の近傍に該Ｘ線取出窓から取り
出されるＸ線を比較的大きい入射角で入射し、比較的小
さい反射角で反射する非対称Ｘ線モノクロメータを設け
ることによって、 前記通常のＸ線取出窓から取り出されるＸ線の進行方
向と異なる方向に進行する他のＸ線を得るようにしたも
ので、 これにより、従来に比較してより多くの方向からＸ線
を取り出せるようにしたものである。
第１図は本発明の一実施例にかかるＸ線装置を示す図で
ある。 １……真空容器、 11a……通常のＸ線取出窓、 11b……新たなＸ線の取出窓、 ２……ターゲット、 ３……電子銃、 ４……非対称Ｘ線モノクロメータ。
ある。 １……真空容器、 11a……通常のＸ線取出窓、 11b……新たなＸ線の取出窓、 ２……ターゲット、 ３……電子銃、 ４……非対称Ｘ線モノクロメータ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０５Ｇ 1/00 Ｈ０５Ｇ 1/00 Ｇ
Claims (1)
- 【請求項１】真空容器内に収容されたターゲット表面に
集束した電子線を衝突させてＸ線を発生させ、このＸ線
を前記真空容器壁に設けたＸ線取出窓から外部に取り出
すようにしたＸ線装置において、 前記Ｘ線取り出し窓は、前記ターゲット表面と比較的小
さい角度をなす方向にＸ線を取り出す通常のＸ線取出窓
のほかに、 前記ターゲット表面と比較的大きな角度をなす方向にＸ
線を取り出す新たなＸ線取出窓を含むものであるととも
に、 この新たなＸ線取出窓の近傍に該Ｘ線取出窓から取り出
されるＸ線を比較的大きい入射角で入射し、比較的小さ
い反射角で反射する非対称Ｘ線モノクロメータを設ける
ことによって、 前記通常のＸ線取出窓から取り出されるＸ線の進行方向
と異なる方向に進行する他のＸ線を得るようにしたこと
を特徴とするＸ線装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63142713A JP2610946B2 (ja) | 1988-06-09 | 1988-06-09 | Ｘ線装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63142713A JP2610946B2 (ja) | 1988-06-09 | 1988-06-09 | Ｘ線装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH021600A JPH021600A (ja) | 1990-01-05 |
| JP2610946B2 true JP2610946B2 (ja) | 1997-05-14 |
Family
ID=15321843
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63142713A Expired - Lifetime JP2610946B2 (ja) | 1988-06-09 | 1988-06-09 | Ｘ線装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2610946B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101289502B1 (ko) * | 2005-10-07 | 2013-07-24 | 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 | Ｘ선관 및 비파괴 검사 장치 |
-
1988
- 1988-06-09 JP JP63142713A patent/JP2610946B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH021600A (ja) | 1990-01-05 |
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