JP2574226Y2 - 真空誘導溶解炉における給電装置 - Google Patents
真空誘導溶解炉における給電装置Info
- Publication number
- JP2574226Y2 JP2574226Y2 JP1992028312U JP2831292U JP2574226Y2 JP 2574226 Y2 JP2574226 Y2 JP 2574226Y2 JP 1992028312 U JP1992028312 U JP 1992028312U JP 2831292 U JP2831292 U JP 2831292U JP 2574226 Y2 JP2574226 Y2 JP 2574226Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- power supply
- vacuum
- cable
- melting furnace
- capacitor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- General Induction Heating (AREA)
- Crucibles And Fluidized-Bed Furnaces (AREA)
- Furnace Details (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本考案は、真空誘導溶解炉におい
て、この誘導炉の誘導コイルに給電を行うための給電装
置に関するものである。
て、この誘導炉の誘導コイルに給電を行うための給電装
置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】真空誘導溶解炉は、真空槽の内部に設置
された溶解炉内で金属塊を溶解し、これによって得られ
た金属溶湯を鋳型に注いで鋳造を行う装置であって、溶
解炉の誘導コイルに給電して、誘導加熱により金属塊を
溶解している。図４は、この溶解炉の誘導コイルに電圧
を印加させるための主回路系統図である。受電側にて３
３００Ｖ或いは６６００Ｖが受電され、この受電側は高
圧開閉器１と入力トランス２を介してサイリスタインバ
ータ盤３に接続され、このインバータ盤３には力率改善
用のコンデンサ設備装置４’が接続されて、このコンデ
ンサ設備装置４’の接続部と誘導炉５とが水冷ケーブル
６によって接続されている。なお、上記したサイリスタ
インバータ盤３は、商用周波数６０ＨＺ／５０ＨＺを高
周波数に切り替えるためのサイリスタ方式のインバータ
盤である。
された溶解炉内で金属塊を溶解し、これによって得られ
た金属溶湯を鋳型に注いで鋳造を行う装置であって、溶
解炉の誘導コイルに給電して、誘導加熱により金属塊を
溶解している。図４は、この溶解炉の誘導コイルに電圧
を印加させるための主回路系統図である。受電側にて３
３００Ｖ或いは６６００Ｖが受電され、この受電側は高
圧開閉器１と入力トランス２を介してサイリスタインバ
ータ盤３に接続され、このインバータ盤３には力率改善
用のコンデンサ設備装置４’が接続されて、このコンデ
ンサ設備装置４’の接続部と誘導炉５とが水冷ケーブル
６によって接続されている。なお、上記したサイリスタ
インバータ盤３は、商用周波数６０ＨＺ／５０ＨＺを高
周波数に切り替えるためのサイリスタ方式のインバータ
盤である。
【０００３】真空槽の内部に配置される溶解炉が大型
（例えば２００ｋｇ以上）の場合において、数分という
短時間で金属塊を溶解しなければならないことがある。
このような場合には、溶解炉への供給電力が大きくなっ
て、誘導コイルを流れる電流値が５０００Ａをはるかに
上回ることがある。一般の誘導炉の水冷ケーブルは２本
であるが、上記のように誘導コイルに高電流が流れる場
合には４本以上必要となる。このような場合における誘
導炉の誘導コイルの巻回方式として、水冷ケーブル接続
用の端子を左右に設ける左右巻出方式を採用している。
これは、片側に集中的に４本接続することは、コイルの
巻回方法が難しくなること、メンテナンスがしずらくな
ること等に起因している。このような左右巻出方式にす
ると、真空槽にも電源導入部（真空と大気との間を貫通
する水冷ケーブル貫通用の開口部）を左右の２箇所に設
ける必要がある。
（例えば２００ｋｇ以上）の場合において、数分という
短時間で金属塊を溶解しなければならないことがある。
このような場合には、溶解炉への供給電力が大きくなっ
て、誘導コイルを流れる電流値が５０００Ａをはるかに
上回ることがある。一般の誘導炉の水冷ケーブルは２本
であるが、上記のように誘導コイルに高電流が流れる場
合には４本以上必要となる。このような場合における誘
導炉の誘導コイルの巻回方式として、水冷ケーブル接続
用の端子を左右に設ける左右巻出方式を採用している。
これは、片側に集中的に４本接続することは、コイルの
巻回方法が難しくなること、メンテナンスがしずらくな
ること等に起因している。このような左右巻出方式にす
ると、真空槽にも電源導入部（真空と大気との間を貫通
する水冷ケーブル貫通用の開口部）を左右の２箇所に設
ける必要がある。
【０００４】ところが、現在使用されているコンデンサ
設備装置のブスバー取出口は、一方向に設けられている
のみである。従って、図５に示されるように、上記した
左右巻回方式の採用によって真空槽７に２箇所の電源接
続部８が設けられている場合には、コンデンサ設備装置
４’と真空槽７の各電源接続部８の近傍までのかなり長
い間をそれぞれブスバー（銅板）９で接続する必要があ
って、下記の諸欠点が生ずる。（１）ブスバーでの電力
損失が生ずる。（２）ブスバー製作のためのコストが嵩
む。（３）ブスバー自体による専有面積が大きくなる結
果、真空誘導溶解炉全体としての専有面積が無駄に増加
する。
設備装置のブスバー取出口は、一方向に設けられている
のみである。従って、図５に示されるように、上記した
左右巻回方式の採用によって真空槽７に２箇所の電源接
続部８が設けられている場合には、コンデンサ設備装置
４’と真空槽７の各電源接続部８の近傍までのかなり長
い間をそれぞれブスバー（銅板）９で接続する必要があ
って、下記の諸欠点が生ずる。（１）ブスバーでの電力
損失が生ずる。（２）ブスバー製作のためのコストが嵩
む。（３）ブスバー自体による専有面積が大きくなる結
果、真空誘導溶解炉全体としての専有面積が無駄に増加
する。
【０００５】
【考案が解決しようとする課題】本考案は、上記不具合
に鑑み、コンデンサ設備装置のブスバーの部分における
損失電力を少なくし、しかも低コストで製作できる真空
誘導溶解炉の給電装置の提供を課題としている。
に鑑み、コンデンサ設備装置のブスバーの部分における
損失電力を少なくし、しかも低コストで製作できる真空
誘導溶解炉の給電装置の提供を課題としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に本考案の採用した手段は、力率改善用のコンデンサ設
備装置に設けられたケーブル接続部と、真空槽内に設置
された誘導炉とを、該真空槽の電源導入部を貫通させて
水冷ケーブルにより接続してある真空誘導溶解炉におい
て、前記コンデンサ設備装置の異なる２箇所にそれぞれ
ケーブル接続部を設けて、各ケーブル接続部と前記誘導
炉とを前記真空槽に設けられた２つの電源導入部を貫通
させて水冷ケーブルにより接続することである。
に本考案の採用した手段は、力率改善用のコンデンサ設
備装置に設けられたケーブル接続部と、真空槽内に設置
された誘導炉とを、該真空槽の電源導入部を貫通させて
水冷ケーブルにより接続してある真空誘導溶解炉におい
て、前記コンデンサ設備装置の異なる２箇所にそれぞれ
ケーブル接続部を設けて、各ケーブル接続部と前記誘導
炉とを前記真空槽に設けられた２つの電源導入部を貫通
させて水冷ケーブルにより接続することである。
【０００７】
【実施例】以下、実施例を挙げて本考案を更に詳細に説
明する。図１は、真空誘導溶解炉の給電装置を構成する
各電気機器の配置図であって、縦型円筒タンク状の真空
槽７の縦中心線Ｌ1 上にコンデンサ設備装置４が配置さ
れ、このコンデンサ設備装置４の一方の側部には、高圧
開閉器１と入力トランス２とが配置され、その他方の側
部には、インバータ盤３が配置されている。誘導炉本体
が３００ｋｇ以上になると、上記した縦型円筒タンク状
の真空槽が使用されることが多い。本考案の給電装置に
おいては、図２及び図３に示されるように、コンデンサ
設備装置４の左右両側面に、水冷ケーブル６と接続させ
るためのケーブル接続部を構成するブスバー１１がそれ
ぞれ突出して設けられ、各ブスバー１１は、真空槽７の
縦中心線Ｌ1 に対して対称に配置されている。本実施例
では、４本の水冷ケーブル６を使用するために、コンデ
ンサ設備装置４の左右両側面に突出長の異なる２本ずつ
のブスバー１１がそれぞれ設けられている。
明する。図１は、真空誘導溶解炉の給電装置を構成する
各電気機器の配置図であって、縦型円筒タンク状の真空
槽７の縦中心線Ｌ1 上にコンデンサ設備装置４が配置さ
れ、このコンデンサ設備装置４の一方の側部には、高圧
開閉器１と入力トランス２とが配置され、その他方の側
部には、インバータ盤３が配置されている。誘導炉本体
が３００ｋｇ以上になると、上記した縦型円筒タンク状
の真空槽が使用されることが多い。本考案の給電装置に
おいては、図２及び図３に示されるように、コンデンサ
設備装置４の左右両側面に、水冷ケーブル６と接続させ
るためのケーブル接続部を構成するブスバー１１がそれ
ぞれ突出して設けられ、各ブスバー１１は、真空槽７の
縦中心線Ｌ1 に対して対称に配置されている。本実施例
では、４本の水冷ケーブル６を使用するために、コンデ
ンサ設備装置４の左右両側面に突出長の異なる２本ずつ
のブスバー１１がそれぞれ設けられている。
【０００８】また、真空槽７は２つの電源接続部８を装
備している。各電源接続部８は、該真空槽７の縦中心線
Ｌ1 に対してほぼ対称の位置であって、しかも横中心線
Ｌ2に対して同一側（給電装置の全体配置から見るとコ
ンデンサ設備装置４の側）に配置されている。そして、
真空槽７の各電源接続部８から導出された各水冷ケーブ
ル６は、同一側に配置されたコンデンサ設備装置４のブ
スバー１１にそれぞれ接続される。このように、真空槽
７に装備された２つの電源接続部８と、コンデンサ設備
装置４に設けられた２つのブスバー１１は、いずれも真
空槽７の縦中心線Ｌ1 に対して対称に配置されており、
しかも真空槽７とコンデンサ設備装置４とは互いに近接
して配置されているので、コンデンサ設備装置４と真空
槽７との同一側のブスバー１１と電源接続部８との間が
最短の水冷ケーブル６で接続できる。
備している。各電源接続部８は、該真空槽７の縦中心線
Ｌ1 に対してほぼ対称の位置であって、しかも横中心線
Ｌ2に対して同一側（給電装置の全体配置から見るとコ
ンデンサ設備装置４の側）に配置されている。そして、
真空槽７の各電源接続部８から導出された各水冷ケーブ
ル６は、同一側に配置されたコンデンサ設備装置４のブ
スバー１１にそれぞれ接続される。このように、真空槽
７に装備された２つの電源接続部８と、コンデンサ設備
装置４に設けられた２つのブスバー１１は、いずれも真
空槽７の縦中心線Ｌ1 に対して対称に配置されており、
しかも真空槽７とコンデンサ設備装置４とは互いに近接
して配置されているので、コンデンサ設備装置４と真空
槽７との同一側のブスバー１１と電源接続部８との間が
最短の水冷ケーブル６で接続できる。
【０００９】このように、本考案に係る給電装置によれ
ば、コンデンサ設備装置４の左右両側面にケーブル接続
部を構成するブスバー１１をそれぞれ突出させて、各ブ
スバー１１と、真空槽７の各電源接続部８から導出され
た各水冷ケーブル６とを接続すればよく、従来のように
コンデンサ設備装置と真空槽の電源接続部の近傍までブ
スバー配線する必要がなくなる。
ば、コンデンサ設備装置４の左右両側面にケーブル接続
部を構成するブスバー１１をそれぞれ突出させて、各ブ
スバー１１と、真空槽７の各電源接続部８から導出され
た各水冷ケーブル６とを接続すればよく、従来のように
コンデンサ設備装置と真空槽の電源接続部の近傍までブ
スバー配線する必要がなくなる。
【００１０】
【考案の効果】本考案は、コンデンサ設備装置の異なる
２箇所にそれぞれケーブル接続部を設けて、各ケーブル
接続部と誘導炉とを真空槽に設けられた２つの電源導入
部を貫通させて水冷ケーブルにより接続する構成である
ので、コンデンサ設備装置と真空槽の電源接続部の近傍
までをブスバー配線する必要がなくなって、コンデンサ
設備装置のブスバーの部分における損失電力を少なくで
きると共に、給電装置の製作コストを低下させることが
できる。また、ブスバーとの接触による感電事故が少な
くなって安全性が高まると共に、メンテナンス性も高ま
り、更に現地における電気設備工事の期間も短縮され
る。更に、真空槽の中心線とほぼ同一ライン上にコンデ
ンサ設備装置を配置すると共に、真空槽に装備する２つ
の電源接続部と、コンデンサ設備装置に設けられる２つ
のケーブル接続部とを、いずれも真空槽の中心線に対し
て対称に配置して、真空槽の中心に対して同一側に配置
された前記電源接続部と前記ケーブル接続部とを水冷ケ
ーブルでそれぞれ接続すると、真空槽に対するコンデン
サ設備装置及び各水冷ケーブルをコンパクトに配置でき
て、工場内におけるこれらの専有面積を最少にすること
ができる。
２箇所にそれぞれケーブル接続部を設けて、各ケーブル
接続部と誘導炉とを真空槽に設けられた２つの電源導入
部を貫通させて水冷ケーブルにより接続する構成である
ので、コンデンサ設備装置と真空槽の電源接続部の近傍
までをブスバー配線する必要がなくなって、コンデンサ
設備装置のブスバーの部分における損失電力を少なくで
きると共に、給電装置の製作コストを低下させることが
できる。また、ブスバーとの接触による感電事故が少な
くなって安全性が高まると共に、メンテナンス性も高ま
り、更に現地における電気設備工事の期間も短縮され
る。更に、真空槽の中心線とほぼ同一ライン上にコンデ
ンサ設備装置を配置すると共に、真空槽に装備する２つ
の電源接続部と、コンデンサ設備装置に設けられる２つ
のケーブル接続部とを、いずれも真空槽の中心線に対し
て対称に配置して、真空槽の中心に対して同一側に配置
された前記電源接続部と前記ケーブル接続部とを水冷ケ
ーブルでそれぞれ接続すると、真空槽に対するコンデン
サ設備装置及び各水冷ケーブルをコンパクトに配置でき
て、工場内におけるこれらの専有面積を最少にすること
ができる。
【図１】本考案に係る真空誘導溶解炉の給電装置を構成
する各電気機器の配置図である。
する各電気機器の配置図である。
【図２】本考案に係るコンデンサ設備装置４の平面図で
ある。
ある。
【図３】同じく正面図である。
【図４】誘導炉の給電装置の主回路系統図である。
【図５】コンデンサ設備装置４’と真空槽７の電源接続
部８の近傍の部分をブスバー配線している従来の技術の
説明図である。
部８の近傍の部分をブスバー配線している従来の技術の
説明図である。
Ｌ1 ：真空槽の縦中心線 Ｌ2 ：真空槽の横中心線 ４：コンデンサ設備装置 ５：誘導炉 ６：水冷ケーブル ７：真空槽 ８：真空槽の電源接続部 １１：ブスバー（ケーブル接続部）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭56−126293（ＪＰ，Ａ) 特開 昭49−57426（ＪＰ，Ａ) 特開 昭53−122156（ＪＰ，Ａ) 実開 昭54−7442（ＪＰ，Ｕ) 実開 平３−115391ＪＰ，Ｕ) 実開 昭50−34082（ＪＰ，Ｕ) 実開 平３−115391（ＪＰ，Ｕ) 特公 昭40−22098（ＪＰ，Ｂ１) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H05B 6/26 F27B 14/06 F27D 11/06 H01G 4/236
Claims (2)
- 【請求項１】 力率改善用のコンデンサ設備装置に設け
られたケーブル接続部と、真空槽内に設置された誘導炉
とを、該真空槽の電源接続部を貫通させて水冷ケーブル
により接続してある真空誘導溶解炉において、前記コン
デンサ設備装置の異なる２箇所にそれぞれケーブル接続
部を設けて、各ケーブル接続部と前記誘導炉とを前記真
空槽に設けられた２つの電源接続部を貫通させて水冷ケ
ーブルにより接続することを特徴とする真空誘導溶解炉
における給電装置。 - 【請求項２】 真空槽の中心線とほぼ同一のライン上に
コンデンサ設備装置を配置すると共に、真空槽に装備す
る２つの電源接続部と、コンデンサ設備装置に設けられ
る２つのケーブル接続部とを、いずれも真空槽の前記中
心線に対してほぼ対称に配置したことを特徴とする請求
項１に記載の真空誘導溶解炉における給電装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1992028312U JP2574226Y2 (ja) | 1992-04-02 | 1992-04-02 | 真空誘導溶解炉における給電装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1992028312U JP2574226Y2 (ja) | 1992-04-02 | 1992-04-02 | 真空誘導溶解炉における給電装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0581988U JPH0581988U (ja) | 1993-11-05 |
| JP2574226Y2 true JP2574226Y2 (ja) | 1998-06-11 |
Family
ID=12245105
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1992028312U Expired - Lifetime JP2574226Y2 (ja) | 1992-04-02 | 1992-04-02 | 真空誘導溶解炉における給電装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2574226Y2 (ja) |
-
1992
- 1992-04-02 JP JP1992028312U patent/JP2574226Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 実開 平３−１１５３９１ＪＰ，Ｕ） |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0581988U (ja) | 1993-11-05 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080327 Year of fee payment: 10 |