JP2567840B2 - Crystal orientation determination device - Google Patents

Crystal orientation determination device

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JP2567840B2
JP2567840B2 JP61065882A JP6588286A JP2567840B2 JP 2567840 B2 JP2567840 B2 JP 2567840B2 JP 61065882 A JP61065882 A JP 61065882A JP 6588286 A JP6588286 A JP 6588286A JP 2567840 B2 JP2567840 B2 JP 2567840B2
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【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) この発明は、例えばシリコンや水晶等の単結晶試料の
結晶方位をX線回折を利用して決定する結晶方位決定装
置に関する。
The present invention relates to a crystal orientation determination apparatus for determining the crystal orientation of a single crystal sample such as silicon or quartz by using X-ray diffraction. .

(従来の技術) シリコンや水晶等の単結晶を半導体や発振体等の工業
製品として使用するためには、その表面が結晶格子面に
対して特定の角度になるように切断する必要がある。そ
のために、試料の結晶格子面を知る必要があるが、最も
一般に用いられている結晶の格子面決定方法は、X線回
折を利用するものである。このX線回折を利用した試料
の結晶格子面の決定方法は、第3図に示されている。つ
まり、試料2に対しX線を入射させる時、X線の入射角
がある角度θになると、そのX線が原子Aにより回折さ
れる。この時の角度を回折角度と称し、その角度θは次
の(1)で求められる。
(Prior Art) In order to use a single crystal such as silicon or quartz as an industrial product such as a semiconductor or an oscillator, it is necessary to cut it so that its surface forms a specific angle with respect to a crystal lattice plane. Therefore, it is necessary to know the crystal lattice plane of the sample, but the most commonly used crystal lattice plane determination method is to use X-ray diffraction. The method for determining the crystal lattice plane of the sample using this X-ray diffraction is shown in FIG. That is, when an X-ray is incident on the sample 2, the X-ray is diffracted by the atom A when the incident angle of the X-ray becomes a certain angle θ. The angle at this time is called a diffraction angle, and the angle θ is obtained by the following (1).

nλ=2dsinθ …(1) n=1,2,3,…の整数 λ=X線の波長(Å) d=格子面間隔(Å) θ=回折角(度) そこで一般に、半導体基板のためのシリコン等は種結
晶を成長させてインゴット状の単結晶を作るが、そのイ
ンゴットの長手方向の結晶格子面の測定には従来、この
X線回折を利用した第4図に示すゴニオメータが使用さ
れている。
nλ = 2d sinθ (1) n = 1,2,3, ... Integer λ = wavelength of X-ray (Å) d = lattice spacing (Å) θ = diffraction angle (degree) Therefore, generally, for semiconductor substrates Silicon or the like grows a seed crystal to form an ingot-shaped single crystal. Conventionally, the goniometer shown in FIG. 4 utilizing X-ray diffraction has been used to measure the crystal lattice plane in the longitudinal direction of the ingot. There is.

この従来のゴニオメータでは、X線管1の入射X線束
の中心が試料インゴット2の表面にあたる点をゴニオメ
ータの中心Pとし、入射X線束中心とゴニオメータ中心
Pとを結ぶ線をx軸に取り、点Pを通り、このx軸に垂
直な軸をy軸とする。またインゴット2の半径をrとす
ると、ゴニオメータ中心PからX[=rsinθ],Y〔=rc
osθ〕の点がインゴット中心Oとなる。そしてこのイン
ゴット中心を軸として試料回転機構3によりインゴット
2を回転するようにしている。さらに、ゴニオメータで
は、その回転中心Pの周りにX線検出器4が所定の角度
回転できるように配置されている。
In this conventional goniometer, the point where the center of the incident X-ray flux of the X-ray tube 1 is the surface of the sample ingot 2 is the goniometer center P, and the line connecting the center of the incident X-ray flux and the goniometer center P is taken as the x-axis. The axis that passes through P and is perpendicular to this x-axis is the y-axis. If the radius of the ingot 2 is r, then from the goniometer center P, X [= rsin θ], Y [= rc
osθ] is the center O of the ingot. Then, the ingot 2 is rotated by the sample rotating mechanism 3 with the center of the ingot as an axis. Further, in the goniometer, the X-ray detector 4 is arranged around the rotation center P so as to be rotatable by a predetermined angle.

このような従来の結晶方位決定装置においては、X線
検出器4をまず回折角(θ)に対し、2θの位置に設置
し、X線管1から入射X線ビームを試料2の表面に照射
させながら、試料2はインゴット中心Oの周りに回転さ
せる。そこで試料インゴット2の結晶格子面がX軸に対
してθ度になると、ゴニオメータ中心Pに向けて2θ度
の位置に設置された検出器4は、回折X線を検出して最
大のX線強度を示す。そこで、この最大X線強度を示す
ときのインゴット2の回転位置が結晶格子面であると決
定される。
In such a conventional crystal orientation determination apparatus, the X-ray detector 4 is first installed at a position of 2θ with respect to the diffraction angle (θ), and the incident X-ray beam is irradiated from the X-ray tube 1 onto the surface of the sample 2. While doing so, the sample 2 is rotated around the center O of the ingot. Then, when the crystal lattice plane of the sample ingot 2 becomes θ degrees with respect to the X axis, the detector 4 installed at a position of 2 degrees toward the goniometer center P detects the diffracted X-rays and detects the maximum X-ray intensity. Indicates. Therefore, the rotation position of the ingot 2 when the maximum X-ray intensity is shown is determined to be the crystal lattice plane.

ところがこのような従来の結晶方位決定装置にあって
は、試料インゴットの回転中心Oがゴニオメータの回転
中心Pとは別の位置にあるため、入射X線束中心とゴニ
オメータ中心に加えて、ゴニオメータ中心と試料の回転
中心との位置関係も精度よく設定しなければならない。
さらに、試料の回転中心は、第4図に示したようにXYの
2要素で決定されるため、このようなXY軸位置決定機構
として通常XYテーブルを使用するが、X軸とY軸の直角
度が完全でないならば、X,Yを独立に設定できない。と
ころが、例えば8インチ×650mmのシリコンインゴット
を試料とする場合、その重量は約50kgにもなる。
However, in such a conventional crystal orientation determination apparatus, since the rotation center O of the sample ingot is located at a position different from the rotation center P of the goniometer, in addition to the incident X-ray flux center and the goniometer center, The positional relationship with the center of rotation of the sample must also be set accurately.
Furthermore, since the center of rotation of the sample is determined by the two elements of XY as shown in FIG. 4, an XY table is usually used as such an XY axis position determining mechanism. If the angle is not perfect, X and Y cannot be set independently. However, for example, when a silicon ingot of 8 inches x 650 mm is used as a sample, its weight becomes about 50 kg.

そこで、前述したようにゴニオメータ回転機構の他に
高精度のインゴット回転及びX,Y方向移動機構が必要と
されるが、インゴット回転機構は偏心が小さく、しかも
回転中心軸がゴニオメータの回転中心軸と高い平行度を
保たせなければならず、さらにXYテーブルについてもそ
のX軸,Y軸の直角精度を高く保ち、しかもX,Yの寸法を
高精度で設定しなければならない。そこで、約50kgに及
ぶ重量の試料の位置を上記のように高精度で決定するた
めの機械構成を実現することは極めて困難であり、誤差
が生ずる問題があった。また誤差を最小に抑えるために
努力する時には、機構が複雑、大型となる問題もあっ
た。
Therefore, as described above, in addition to the goniometer rotation mechanism, a highly accurate ingot rotation and X, Y direction movement mechanism is required, but the ingot rotation mechanism has small eccentricity, and the rotation center axis is the same as the rotation center axis of the goniometer. It is necessary to maintain a high degree of parallelism, and also for the XY table, it is necessary to maintain high X-axis and Y-axis right angle accuracy, and to set the X and Y dimensions with high accuracy. Therefore, it is extremely difficult to realize a mechanical structure for determining the position of a sample having a weight of about 50 kg with high accuracy as described above, and there is a problem that an error occurs. Moreover, when efforts are made to minimize the error, there is a problem that the mechanism becomes complicated and large.

(発明が解決しようとする問題点) 上記のように従来の結晶方位決定装置にあっては、試
料の回転中心がゴニオメータの回転中心とは別の位置に
あるために、入射X線束中心とゴニオメータ中心とに加
えて、ゴニオメータ中心と試料中心との位置関係を精度
よく設定しなければならず、この試料中心の位置決定機
構に複雑なX,Y軸移動テーブルを使用し、機構が複雑で
大型化する問題があった。
(Problems to be Solved by the Invention) In the conventional crystal orientation determination apparatus as described above, since the rotation center of the sample is located at a position different from the rotation center of the goniometer, the incident X-ray flux center and the goniometer are In addition to the center, the positional relationship between the goniometer center and the sample center must be set accurately, and a complicated X and Y axis moving table is used for the position determining mechanism of the sample center. There was a problem to turn.

この発明はこのような従来の問題に鑑みて成されたも
のであって、各構成機器の位置関係の設定のための機構
を簡略化し、小型化できるようにした結晶方位決定装置
を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of such a conventional problem, and provides a crystal orientation determination apparatus that simplifies a mechanism for setting the positional relationship of each component and enables miniaturization. With the goal.

[発明の構成] (問題点を解決するための手段) 試料に照射されるX線を射出するX線源とこのX線源
から射出されたX線束の進行方向を決定するコリメータ
とこのコリメータから所定の角度で射出されたX線束が
前記試料の表面に入射された回折X線を検出するX線検
出器とを有するゴニオメータと、このゴニオメータと中
心軸を共通にするように前記試料を搭載し、この搭載し
た試料を所定角度回転させる試料回転機構を有する試料
台と、前記X線源の中心の周りに所定角度前記X線源及
びコリメータを回転させ、前記X線束の進行方向を決定
するX線源回転機構と、前記X線検出器の検出面の中心
の周りに所定角度前記X線検出器を回転させる検出器回
転機構と、前記ゴニオメータの中心の周りに所定角度前
記X線源とX線検出器との少なくとも一方を回転させる
回転機構とを具備し、前記X線源とX線検出器と試料と
を各々独立に回転させるようにしている。
[Structure of the Invention] (Means for Solving Problems) From an X-ray source that emits X-rays irradiated to a sample, a collimator that determines the traveling direction of an X-ray flux emitted from this X-ray source, and this collimator A goniometer having an X-ray detector for detecting a diffracted X-ray that is incident on the surface of the sample, the X-ray flux emitted at a predetermined angle, and the sample is mounted so that the central axis is common to the goniometer. A sample stage having a sample rotation mechanism for rotating the mounted sample by a predetermined angle, and the X-ray source and the collimator are rotated by a predetermined angle around the center of the X-ray source to determine the traveling direction of the X-ray flux. A radiation source rotation mechanism, a detector rotation mechanism that rotates the X-ray detector around a center of a detection surface of the X-ray detector, and a predetermined angle around the center of the goniometer. With line detector ; And a rotating mechanism for rotating at least one, and to rotate each independently and said X-ray source and an X-ray detector samples.

(作用) この発明の結晶方位決定装置では、ゴニオメータ中心
に対し試料の中心を一致させて設置し、ゴニオメータ中
心の周りにX線管又は検出器を所定角度回転させ、さら
にX線管角度設定機構によりX線管を所定角度回転さ
せ、検出器角度設定機構により検出器を所定角度回転さ
せ、X線管からの入射X線束が所定の回折角度で試料の
表面に入射し、その回折X線が検出器に入射するように
設定し、この状態でゴニオメータ若しくは試料をその回
転中心の周りに回転させ、検出器が回折X線の最大量を
検出することにより試料の結晶格子面を決定する。
(Operation) In the crystal orientation determination device of the present invention, the center of the sample is aligned with the center of the goniometer, the X-ray tube or the detector is rotated around the center of the goniometer by a predetermined angle, and the X-ray tube angle setting mechanism is further provided. The X-ray tube is rotated by a predetermined angle by the detector, the detector is rotated by the detector angle setting mechanism by a predetermined angle, and the incident X-ray flux from the X-ray tube is incident on the surface of the sample at a predetermined diffraction angle. The crystal lattice plane of the sample is determined by setting the incidence on the detector, rotating the goniometer or the sample around its rotation center in this state, and detecting the maximum amount of the diffracted X-rays by the detector.

(実施例) 以下、この発明を図に示す実施例に基づいて詳説す
る。第1図は一実施例を示すものであり、X線管11とX
線検出器12とを備えたゴニオメータ13にあっては、X線
検出器12がゴニオメータ中心Pの周りに所望角度回転す
るようにウォーム・ウォーム歯車機構で成る回転機構14
が備えられている。この回転機構14に回転アーム21を介
してX線検出器12が取り付けられていて、回転機構14の
回転操作によって回転アーム21と共にX線検出器12をゴ
ニオメータ中心Pの周りに回転させることができるので
ある。
(Example) Hereinafter, the present invention will be described in detail based on an example shown in the drawings. FIG. 1 shows an embodiment of the X-ray tube 11 and the X-ray tube.
In the goniometer 13 including the line detector 12, a rotating mechanism 14 including a worm / worm gear mechanism is provided so that the X-ray detector 12 rotates about the goniometer center P by a desired angle.
Is provided. The X-ray detector 12 is attached to the rotating mechanism 14 via the rotating arm 21, and the X-ray detector 12 can be rotated around the goniometer center P together with the rotating arm 21 by rotating the rotating mechanism 14. Of.

またゴニオメータ13上において、X線管11を、X線管
11の中心Qの周りに所定角度回転させるためのウォーム
・ウォーム歯車機構で成るX線管角度設定機構15、X線
検出器12をその検出器12の検出面の中心Rの周りに所定
角度回転させるためのウォーム・ウォーム歯車機構で成
る検出器角度設定機構16が設けられている。
Also, on the goniometer 13, replace the X-ray tube 11 with the X-ray tube.
An X-ray tube angle setting mechanism 15 consisting of a worm / worm gear mechanism for rotating the center Q of 11 by a predetermined angle, and an X-ray detector 12 is rotated by a predetermined angle around the center R of the detection surface of the detector 12. A detector angle setting mechanism 16 including a worm / worm gear mechanism is provided.

またゴニオメータ13と中心軸を共通にする試料台17に
は、従来例として示した第4図の機構と同じようなウォ
ーム・ウォーム歯車機構で成る試料回転機構18が備えら
れており、この試料回転機構18により試料台17上の試料
19が所定角度回転される。
The sample stage 17 having the same central axis as the goniometer 13 is provided with a sample rotating mechanism 18 composed of a worm / worm gear mechanism similar to the mechanism shown in FIG. 4 shown as a conventional example. Sample on sample table 17 by mechanism 18
19 is rotated by a predetermined angle.

前記X線管11の入射X線束は、コリメータ20によりそ
の進行方向が決定され、前記X線管角度設定機構15は、
X線管11の回転とともにコリメータ20をも回転させ、入
射X線束の進行方向をこのX線管角度設定機構15により
決定する。
The incident X-ray flux of the X-ray tube 11 has its traveling direction determined by a collimator 20, and the X-ray tube angle setting mechanism 15
The collimator 20 is also rotated with the rotation of the X-ray tube 11, and the traveling direction of the incident X-ray flux is determined by the X-ray tube angle setting mechanism 15.

上記構成の結晶方位決定装置の動作について次に説明
する。第2図に示すように、試料台17上に円柱状の試料
インゴット19をその中心がゴニオメータ13の回転中心P
と一致するように設置する。この試料台17上への試料19
の設置は第4図に示した従来例と同じように従来から行
われている方法による。そして、試料19の回折角度が上
記式(1)で示される値θであり、回転中心PからX線
管11の中心Qまでの距離l1、回転中心Pから検出器12の
検出面の中心Rまでの距離l2、試料19の半径rとする
時、X線管11を中心Qを軸としてX線管角度設定機構15
によりβ度回転させる。また、検出器12を、ゴニオメ
ータ13の回転中心Pから、β度だけ検出器角度設定機
構16により回転させる。この回転角度β1は次の
(2),(3)式によって決定されるものである。
The operation of the crystal orientation determination device having the above configuration will be described next. As shown in FIG. 2, a cylindrical sample ingot 19 is placed on the sample table 17 and its center is the rotation center P of the goniometer 13.
Install it to match. Sample 19 on this sample stand 17
Is installed by a conventional method as in the conventional example shown in FIG. The diffraction angle of the sample 19 is the value θ shown in the above formula (1), the distance l 1 from the rotation center P to the center Q of the X-ray tube 11, and the center of the detection surface of the detector 12 from the rotation center P. When the distance to the R is l 2 and the radius of the sample 19 is r, the X-ray tube angle setting mechanism 15 with the center of the X-ray tube 11 as the axis 15
To rotate β 1 degree. Further, the detector 12 is rotated from the rotation center P of the goniometer 13 by β 2 degrees by the detector angle setting mechanism 16. The rotation angles β 1 and β 2 are determined by the following equations (2) and (3).

また、X線検出器12を、回転機構14によりゴニオメー
タ13の中心Pの周りに、(2θ+β+β)度X軸か
ら時計周りに回転させ、第2図に示す位置に設定する。
Further, the X-ray detector 12 is rotated about the center P of the goniometer 13 by (2θ + β 1 + β 2 ) degrees from the X-axis in the clockwise direction by the rotating mechanism 14 and set to the position shown in FIG.

このようにしてX線管11、検出器12、試料19の位置関
係を設定するとき、X線管11からの入射X線束はコリメ
ータ20により試料19の表面に、試料19の回折角度θで入
射することになる。
When the positional relationship among the X-ray tube 11, the detector 12, and the sample 19 is set in this way, the incident X-ray flux from the X-ray tube 11 is incident on the surface of the sample 19 by the collimator 20 at the diffraction angle θ of the sample 19. Will be done.

そこで試料回転機構18を駆動させることにより試料19
を回転させると、結晶格子面が入射X線束に対し第3図
に示す位置関係に来たとき、回折X線が検出器12に最大
量入射することになる。従って、検出器12により、入射
するX線量を検出しながら試料19を回転させるとき、検
出器12が示すX線量が最大値となるとき、試料の結晶格
子面を決定することができる。
Then, by driving the sample rotation mechanism 18, the sample 19
When the crystal lattice plane is rotated with respect to the incident X-ray flux as shown in FIG. Therefore, when rotating the sample 19 while detecting the incident X-ray dose by the detector 12, when the X-ray dose indicated by the detector 12 has the maximum value, the crystal lattice plane of the sample can be determined.

なお、上記実施例では、試料インゴット19を試料回転
機構18により回転させ、X線検出器12に入射する回折X
線量の最大値を測定するようにしたが、これとは逆に、
試料インゴットが重量物であり、その回転制御が難しい
場合を考え、試料19は固定して置き、X線管11及び検出
器12を第2図に示した配置関係を保ったまま、両者をゴ
ニオメータ13の中心Pの周りに回転するような回転機構
を設けることも可能である。そしてこのように、X線管
及び検出器を回転させる場合、これらの機器は、シリコ
ンや水晶のインゴットに比べ軽量な物であるため、回転
機構が簡素化できる。
In the above embodiment, the sample ingot 19 is rotated by the sample rotating mechanism 18, and the diffraction X-ray incident on the X-ray detector 12 is detected.
I tried to measure the maximum dose, but on the contrary,
Considering the case where the sample ingot is a heavy object and its rotation control is difficult, the sample 19 is placed fixed, and the X-ray tube 11 and the detector 12 are kept in the positional relationship shown in FIG. It is also possible to provide a rotation mechanism that rotates around the center P of 13. In this way, when rotating the X-ray tube and the detector, since these devices are lighter in weight than silicon or crystal ingots, the rotating mechanism can be simplified.

また、X線検出器12の角度設定はさほど厳密なものと
する必要がなく、入射X線量の最大値を知るに十分なも
のであれば良く、従って検出器角度設定機構16の角度精
度は比較的ラフなもので済む。
Further, the angle setting of the X-ray detector 12 does not have to be so strict, and it is sufficient if it is enough to know the maximum value of the incident X-ray dose. Therefore, the angle accuracy of the detector angle setting mechanism 16 is compared. The rough one is enough.

[発明の効果] この発明は、ゴニオメータ中心に試料中心を一致さ
せ、回転機構によりX線管または検出器の一方をゴニオ
メータ中心に対し所定角度回転できるようにし、X線管
に対してはそのX線源の中心の周りに所定角度回転でき
るようにし、X線検出器については検出器の検出面の中
心の周りに所定角度回転できるようにし、X線管からの
入射X線束が試料表面に入射するように設定し、その試
料表面からの回折X線が検出器に入射するようにし、さ
らにこれらX線管及び検出器と試料との一方が他方に対
して相対的にゴニオメータ中心の周りに回転できるよう
にしたものである。
[Effect of the Invention] The present invention makes the center of the sample coincide with the center of the goniometer, and enables one of the X-ray tube and the detector to rotate by a predetermined angle with respect to the center of the goniometer by using the rotating mechanism. The X-ray detector can be rotated by a predetermined angle around the center of the radiation source, and the X-ray detector can be rotated by a predetermined angle around the center of the detection surface of the detector, and the incident X-ray flux from the X-ray tube is incident on the sample surface. So that the diffracted X-rays from the sample surface are incident on the detector, and one of the X-ray tube and the detector and the sample is rotated around the goniometer center relative to the other. It was made possible.

従って、従来のようにゴニオメータ中心と試料回転中
心とがずれているため、試料の半径により試料中心とゴ
ニオメータ中心との位置関係を設定するためのXY2軸平
行移動機構を必要としない。そのため、重量物の試料の
XY2軸移動のために必要であった高精度のXY2軸制御機構
が省略でき、装置全体の簡素化ができ、小型化、低コス
ト化が可能である。
Therefore, since the center of the goniometer and the center of rotation of the sample are displaced as in the conventional case, an XY biaxial translation mechanism for setting the positional relationship between the center of the sample and the center of the goniometer by the radius of the sample is not required. Therefore, for heavy samples
The high-accuracy XY2-axis control mechanism required for XY2-axis movement can be omitted, the entire device can be simplified, and the size and cost can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図はこの発明の一実施例の機構図、第2図は上記実
施例の動作説明図、第3図は試料のX線の回折現象説明
図、第4図は従来例の機構図である。 11……X線管、12……X線検出器 13……ゴニオメータ、14……回転機構 15……X線管角度設定機構 16……検出器角度設定機構 18……試料回転機構、19……試料
FIG. 1 is a mechanism diagram of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an operation explanatory diagram of the above embodiment, FIG. 3 is an explanatory diagram of X-ray diffraction phenomenon of a sample, and FIG. 4 is a mechanism diagram of a conventional example. is there. 11 …… X-ray tube, 12 …… X-ray detector 13 …… Goniometer, 14 …… Rotation mechanism 15 …… X-ray tube angle setting mechanism 16 …… Detector angle setting mechanism 18 …… Sample rotation mechanism, 19… …sample

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】試料に照射されるX線を射出するX線源と
このX線源から射出されたX線束の進行方向を決定する
コリメータとこのコリメータから所定の角度で射出され
たX線束が前記試料の表面に入射された回折X線を検出
するX線検出器とを有するゴニオメータと、このゴニオ
メータと中心軸を共通にするように前記試料を搭載し、
この搭載した試料を所定角度回転させる試料回転機構を
有する試料台と、前記X線源の中心の周りに所定角度前
記X線源及びコリメータを回転させ、前記X線束の進行
方向を決定するX線源回転機構と、前記X線検出器の検
出面の中心の周りに所定角度前記X線検出器を回転させ
る検出器回転機構と、前記ゴニオメータの中心の周りに
所定角度前記X線源とX線検出器との少なくとも一方を
回転させる回転機構とを具備し、前記X線源とX線検出
器と試料とを各々独立に回転させることを特徴とする結
晶方位決定装置。
1. An X-ray source that emits X-rays that irradiates a sample, a collimator that determines the traveling direction of the X-ray flux emitted from the X-ray source, and an X-ray flux that is emitted from the collimator at a predetermined angle. A goniometer having an X-ray detector for detecting diffracted X-rays incident on the surface of the sample, and the sample is mounted so that the central axis is common to the goniometer,
A sample stage having a sample rotating mechanism that rotates the mounted sample by a predetermined angle, and an X-ray that determines the traveling direction of the X-ray flux by rotating the X-ray source and the collimator around the center of the X-ray source by a predetermined angle. A source rotation mechanism, a detector rotation mechanism that rotates the X-ray detector at a predetermined angle around the center of the detection surface of the X-ray detector, and a predetermined angle around the center of the goniometer. A crystal orientation determining apparatus, comprising: a rotating mechanism that rotates at least one of a detector and rotating the X-ray source, the X-ray detector, and the sample independently.
JP61065882A 1986-03-26 1986-03-26 Crystal orientation determination device Expired - Lifetime JP2567840B2 (en)

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