JP2567775B2 - Solder plating equipment for semiconductor device lead frame - Google Patents

Solder plating equipment for semiconductor device lead frame

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JP2567775B2
JP2567775B2 JP4030188A JP3018892A JP2567775B2 JP 2567775 B2 JP2567775 B2 JP 2567775B2 JP 4030188 A JP4030188 A JP 4030188A JP 3018892 A JP3018892 A JP 3018892A JP 2567775 B2 JP2567775 B2 JP 2567775B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体素子が実装された
半導体素子リードフレームにはんだ鍍金を施すための半
導体素子リードフレーム用はんだ鍍金装置に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a solder plating apparatus for a semiconductor element lead frame for solder plating a semiconductor element lead frame on which a semiconductor element is mounted.

【0002】[0002]

【従来技術】従来この種の半導体素子リードフレーム用
はんだ鍍金装置は、図4に示すように、アンロード部5
1ではんだ鍍金処理前のリードフレームを収納したカセ
ット(図示せず)からはんだ鍍金処理前のリードフレー
ムを1枚ずつ取り出し、はんだ鍍金のための処理槽列5
2で各処理を施し、はんだ鍍金処理を施した後のリード
フレームをロード部53において、空カセットに収納す
るように構成されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as shown in FIG. 4, a solder plating apparatus for a lead frame of a semiconductor device of this type has an unload part 5 as shown in FIG.
The lead frame before solder plating treatment is taken out one by one from the cassette (not shown) in which the lead frame before solder plating treatment is stored in 1, and the treatment bath row 5 for solder plating treatment
The lead frame after each treatment in 2 and the solder plating treatment is housed in the empty cassette in the load portion 53.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上記、従来構成のリー
ドフレームはんだ鍍金処理装置においては、アンロード
部51、処理槽列52及びロード部53を一列に直線状
に配列しているため、大きな配置スペースを必要とし、
オペレータがこのはんだ鍍金処理装置を使用してリード
フレームにはんだ鍍金を施すためには、カセットを装着
したり脱着する場合に一列に配列された処理装置の端か
ら端まで移動する必要がある等その操作性に問題がある
ばかりか、複数のオペレータが必要になるという問題が
あった。
In the above-described lead frame solder plating apparatus having the conventional structure, the unloading section 51, the processing bath row 52, and the loading section 53 are linearly arranged in a line, so that a large arrangement is required. Need space,
In order for the operator to perform the solder plating on the lead frame using this solder plating processing device, it is necessary to move the processing devices arranged in a row from one end to the other when mounting or removing the cassette. Not only is there a problem in operability, but there is also the problem that multiple operators are required.

【0004】本発明は上述の点に鑑みてなされたもの
で、配置スペースが少なく且つ操作性に優れた半導体素
子リードフレーム用はんだ鍍金装置を提供することを目
的とする。
The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a solder plating apparatus for a lead frame of a semiconductor element, which has a small arrangement space and is excellent in operability.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
本発明は、半導体素子リードフレームを収納したカセッ
トより1枚ずつ該リードフレームを取り出し、はんだ鍍
金処理を施す各処理工程の槽及び装置で各処理を施し、
はんだ鍍金の終了したリードフレームを空のカセットに
収納するように構成された半導体素子リードフレーム用
はんだ鍍金装置において、はんだ鍍金処理を施す各処理
工程の槽及び装置を順次配列すると共に、はんだ鍍金処
理前のリードフレームを収納したカセット及びはんだ鍍
金処理後のリードフレームを収納する空カセットを移動
する装置を前記槽及び装置列の手前に並べてこれらを略
コ字状に配置し、カセットからはんだ鍍金処理前のリー
ドフレームを1枚ずつ取り出し、該リードフレームを各
処理工程で各処理を施し、はんだ鍍金処理が施されたリ
ードフレームを空カセットに収納するまで、略コ字状の
配置に沿ってリードフレームを移送する装置を設けたこ
とを特徴とする。
In order to solve the above problems, the present invention provides a tank and an apparatus for each processing step in which the lead frames are taken out one by one from a cassette containing a semiconductor element lead frame and subjected to a solder plating process. After each treatment,
In a solder plating device for a semiconductor element lead frame, which is configured to store the lead frame after the solder plating in an empty cassette, the baths and devices for each processing step for performing the solder plating process are sequentially arranged, and the solder plating process is performed. A device that moves the cassette that contains the lead frame before and the lead frame that contains the lead frame after the solder plating process is placed in front of the tank and the device row, and these are arranged in a substantially U shape, and the solder plating process is performed from the cassette. The lead frames are taken out one by one, each lead frame is subjected to each treatment in each treatment step, and the lead frame subjected to the solder plating treatment is lead in a substantially U-shaped arrangement until it is housed in an empty cassette. It is characterized in that a device for transferring the frame is provided.

【0006】[0006]

【作用】上記のようにはんだ鍍金処理前のリードフレー
ムを収納したカセット及びはんだ鍍金処理後のリードフ
レームを収納する空カセットを処理槽列の手前に並べ、
はんだ鍍金処理前のリードフレームを1枚ずつ取り出
し、略コ字状経路に沿ってリードフレームを移送しなが
らはんだ鍍金処理を施すので、装置の設置スペースが小
さく、且つ1人のオペレータで操作できる等操作性能及
び生産性が大幅に向上する。
[Operation] As described above, the cassette containing the lead frame before the solder plating treatment and the empty cassette containing the lead frame after the solder plating treatment are arranged in front of the processing bath line,
Each lead frame before solder plating treatment is taken out one by one, and the solder plating treatment is carried out while transferring the lead frames along the substantially U-shaped path, so the installation space of the device is small and it can be operated by one operator. Operating performance and productivity are greatly improved.

【0007】[0007]

【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説
明する。図1は本発明の半導体素子リードフレーム用は
んだ鍍金装置の平面を示す図である。図示するように、
アルカリ脱脂3−1、水洗3−2,3−3、エッチング
3−4、シャワー3−5、水洗3−6、酸中和3−7、
はんだ鍍金3−8、純水洗3−9、純湯洗3−10、ブ
ロー3−11及び乾燥3−12の処理工程に使用される
槽や装置が配列されてなる処理ライン3が配列されてい
る。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view of a solder plating apparatus for a semiconductor element lead frame according to the present invention. As shown
Alkali degreasing 3-1, water washing 3-2, 3-3, etching 3-4, shower 3-5, water washing 3-6, acid neutralization 3-7,
A processing line 3 is arranged in which baths and devices used in the processing steps of solder plating 3-8, pure water washing 3-9, pure hot water washing 3-10, blow 3-11 and drying 3-12 are arranged. There is.

【0008】前記処理ライン3の手前には、はんだ剥離
5−1,水洗5−2,水洗5−3、ブロー5−4の処理
に使用される槽や装置が配列された処理ライン5が配列
されている。
Arranged in front of the processing line 3 is a processing line 5 in which tanks and devices used for the processing of solder stripping 5-1, washing with water 5-2, washing with water 5-3, and blow 5-4 are arranged. Has been done.

【0009】また、前記処理ライン5の手前に図3に示
すようなはんだ鍍金処理前のリードフレーム32を収納
したカセット31−1及びリードフレームを全て投入
し、空となったカセット31−2を載置して移送するカ
セット移送装置1、そしてはんだ鍍金処理後のリードフ
レームを収納する空のカセット及び処理済リードフレー
ムを収納したカセットを載置して移送するカセット移送
装置6,7が配置されている。
Before the processing line 5, a cassette 31-1 accommodating the lead frame 32 before the solder plating process as shown in FIG. 3 and all the lead frames are loaded, and an empty cassette 31-2 is inserted. A cassette transfer device 1 for mounting and transferring, and a cassette transfer device 6, 7 for mounting and transferring an empty cassette storing a lead frame after solder plating and a cassette storing a processed lead frame are arranged. ing.

【0010】また、処理ライン5とカセット移動装置の
間の両端には後述するようにはんだ鍍金処理前のリード
フレームを収納したカセットをカセット移送装置1から
処理ライン5の所定位置及び該処理ライン5の所定位置
から空のカセットをカセット移送装置1まで移動させる
カセット位置決め機構8と、はんだ鍍金処理後のリード
フレームを収納する空のカセットをカセット移送6から
処理ライン5の所定位置及び該処理ライン5の所定位置
からはんだ鍍金処理後のリードフレームを収納したカセ
ットをカセット移送装置6まで移動させるカセット位置
決め機構9が配置されている。また、処理ライン3と処
理ライン5の間の両端には互いのラインを連結するトラ
バース14及びトラバース15が配置されている。ま
た、2ははんだ鍍金処理前のリードフレームをカセット
から取り出すフレームローダであり、4ははんだ鍍金処
理前のリードフレームをカセットに収納するフレームア
ンローダである。
At both ends between the processing line 5 and the cassette moving device, as will be described later, a cassette containing a lead frame before the solder plating process is installed from the cassette transfer device 1 to a predetermined position of the processing line 5 and the processing line 5. Cassette positioning mechanism 8 for moving an empty cassette from a predetermined position to the cassette transfer device 1, and an empty cassette for housing the lead frame after the solder plating process from the cassette transfer 6 to a predetermined position of the processing line 5 and the processing line 5 A cassette positioning mechanism 9 for moving the cassette housing the lead frame after the solder plating treatment to the cassette transfer device 6 from the predetermined position of is arranged. A traverse 14 and a traverse 15 that connect the processing lines 3 and 5 are arranged at both ends between the processing lines 3 and 5. Further, 2 is a frame loader for taking out the lead frame before the solder plating treatment from the cassette, and 4 is a frame unloader for storing the lead frame before the solder plating treatment in the cassette.

【0011】上記のように配置構成されたはんだ鍍金装
置において、カセット移送装置1上のはんだ鍍金処理前
のリードフレームを収納したカセットはカセット位置決
め機構8により、処理ライン5の所定位置に移動され、
ここでフレームローダ2により1枚ずつ取り出される。
そして後述するリードフレーム掴み治具により、その上
端部を挟持して、処理ライン3のアルカリ脱脂3−1、
水洗3−2、3−3、エッチング3−4、シャワー3−
5、水洗3−6、酸中和3−7、はんだ鍍金3−8、純
水洗3−9、純湯洗3−10、ブロー3−11及び乾燥
3−12と順次移送し各処理工程で処理を施した後、は
んだ鍍金処理されたリードフレームをカセット位置決め
機構9により待機する空のカセットに収納する。また、
リードフレームがフレームローダ2により1枚ずつ取り
出され、空になったカセットはカセット位置決め機構8
でカセット移送装置1に移送される。
In the solder plating apparatus arranged as described above, the cassette that contains the lead frame before the solder plating processing on the cassette transfer apparatus 1 is moved to a predetermined position on the processing line 5 by the cassette positioning mechanism 8.
Here, the frame loader 2 takes out the sheets one by one.
The upper end of the lead frame is held by a lead frame gripping jig, which will be described later, to degrease the alkali in the processing line 3 3-1.
Washing with water 3-2, 3-3, etching 3-4, shower 3-
5, washing with water 3-6, acid neutralization 3-7, solder plating 3-8, washing with pure water 3-9, washing with pure water 3-10, blow 3-11 and drying 3-12 are sequentially transferred in each processing step. After the treatment, the lead frame subjected to the solder plating treatment is stored in the empty cassette which is on standby by the cassette positioning mechanism 9. Also,
The lead frames are taken out one by one by the frame loader 2 and the empty cassette is replaced with the cassette positioning mechanism 8
Is transferred to the cassette transfer device 1.

【0012】図2はカセット移送装置1、カセット位置
決め機構8及びフレームローダ2等の概略構成例を示す
図である。図示するように、カセット移送装置1、カセ
ット位置決め機構8、フレームローダ2、フレーム回転
機構10及びフレーム掴み治具11が配置されている。
カセット移送装置1は矢印A方向に移動でき所定の位置
に停止している。該カセット移送装置1上のはんだ鍍金
処理前のリードフレーム13が収容されたカセット31
−1を位置決め機構8の腕部8−1で掴み所定位置に移
動する(矢印B方向)。ここでフレームローダ2の一対
の爪部材2−1,2−1でリードフレーム13の幅方向
の両辺を掴み、1枚ずつ取り出す。該1枚ずつ取り出さ
れたリードフレーム13は矢印D方向に移動されフレー
ム回転機構10のベット10−1に載置される。フレー
ム回転機構10はリードフレーム13をフレーム掴み治
具11が掴むことができるように、矢印Cに示すように
回転させ垂直状態にすると共に、所定位置に該リードフ
レーム13を垂直保持した状態で矢印E方向に移動させ
る。
FIG. 2 is a diagram showing an example of a schematic configuration of the cassette transfer device 1, the cassette positioning mechanism 8, the frame loader 2, and the like. As shown in the figure, a cassette transfer device 1, a cassette positioning mechanism 8, a frame loader 2, a frame rotating mechanism 10, and a frame gripping jig 11 are arranged.
The cassette transfer device 1 can move in the direction of arrow A and is stopped at a predetermined position. A cassette 31 containing the lead frame 13 before the solder plating process on the cassette transfer device 1
-1 is grasped by the arm portion 8-1 of the positioning mechanism 8 and moved to a predetermined position (arrow B direction). Here, the pair of claw members 2-1 and 2-1 of the frame loader 2 grasp both sides in the width direction of the lead frame 13 and take out one by one. The lead frames 13 taken out one by one are moved in the direction of arrow D and placed on the bed 10-1 of the frame rotating mechanism 10. The frame rotating mechanism 10 rotates the lead frame 13 in a vertical state as indicated by an arrow C so that the frame holding jig 11 can hold the lead frame 13, and at the same time, holds the lead frame 13 vertically at a predetermined position. Move in E direction.

【0013】ここでフレーム掴み治具11の爪部材11
−1,11−1でリードフレーム13の上部を掴み、矢
印F方向に移動させ上記のように、アルカリ脱脂3−
1、水洗3−2、3−3、エッチング3−4、シャワー
3−5、水洗3−6、酸中和3−7、はんだ鍍金3−
8、純水洗3−9、純湯洗3−10、ブロー3−11及
び乾燥3−12と順次移送し各工程の処理を施す。はん
だ鍍金処理されたリードフレーム13はフレームローダ
2と略同じ構造のフレームアンローダでカセット位置決
め機構9上に待機する空のカセットに収納する。はんだ
鍍金処理されたリードフレームで満たされたカセットは
カセット位置決め機構9により、カセット移送装置6上
に載置される。
Here, the claw member 11 of the frame gripping jig 11
Grab the upper part of the lead frame 13 with -1, 11-1 and move it in the direction of arrow F to remove the alkaline degreasing 3-
1, water washing 3-2, 3-3, etching 3-4, shower 3-5, water washing 3-6, acid neutralization 3-7, solder plating 3-
8, washing with pure water 3-9, washing with pure water 3-10, blow 3-11 and drying 3-12 are sequentially carried out to carry out the treatment of each step. The lead frame 13 subjected to the solder plating process is stored in an empty cassette waiting on the cassette positioning mechanism 9 by a frame unloader having substantially the same structure as the frame loader 2. The cassette filled with the solder-plated lead frame is placed on the cassette transfer device 6 by the cassette positioning mechanism 9.

【0014】なお、カセット位置決め機構8の側部に
は、カセット31に収容されたリードフレーム13を1
枚ずつ取り出す際、リードフレーム13を序々に押し上
げる(矢印Gに示す方向)リフタ12が設けられてい
る。また、処理ライン5は処理ライン3のはんだ鍍金3
−8の処理工程で、フレーム掴み治具11の爪部材11
−1,11−1の先端部表面に付着したはんだ鍍金を剥
離するための処理ラインである。
The lead frame 13 housed in the cassette 31 is provided on the side of the cassette positioning mechanism 8.
A lifter 12 is provided for gradually pushing up the lead frame 13 (in the direction indicated by an arrow G) when picking up one by one. Further, the processing line 5 is the solder plating 3 of the processing line 3.
In the process step of -8, the claw member 11 of the frame gripping jig 11
-1 and 11-1 are processing lines for peeling the solder plating adhered to the surfaces of the tip portions of -1, 11-1.

【0015】なお、図2に示す装置はリードフレームを
カセットから1枚ずつ取り出し、垂直に挟持し各処理工
程を移送させる装置の一構成例を示す図であり、この装
置はこれに限定されるものではない。
The device shown in FIG. 2 is a diagram showing an example of the structure of the device in which the lead frames are taken out from the cassette one by one, vertically held, and each processing step is transferred. This device is not limited to this. Not a thing.

【0016】[0016]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば下記
のような優れた効果が得られる。 (1)はんだ鍍金処理前のリードフレームを収納したカ
セット及びはんだ鍍金処理後のリードフレームを収納す
る空カセットを移送する装置をはんだ鍍金処理を施す各
処理工程の槽及び装置の手前に並べてこれらを略コ字状
に配置するので、オペレータがカセットを装置に装着
し、或るいは脱着するために位置する部分が1個所で且
つ殆どその場所を動かさずに済むから、操作性及び生産
性の向上が図れる。
As described above, according to the present invention, the following excellent effects can be obtained. (1) Arrange a device for transferring a cassette containing lead frames before solder plating treatment and an empty cassette for storing lead frames after solder plating treatment, in front of the tank and the device for each treatment step for performing the solder plating treatment Since it is arranged in a substantially U-shape, the operator can mount the cassette on the apparatus, or only one part is located for detaching or attaching the cassette, and it is almost unnecessary to move the position, thereby improving operability and productivity. Can be achieved.

【0017】(2)また、コ字状に配置するので、従来
の直線状に配置したのと比較し設置スペースも少なくて
済む。
(2) Further, since the U-shaped arrangement is employed, the installation space can be reduced as compared with the conventional linear arrangement.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の半導体素子リードフレーム用はんだ鍍
金装置の平面を示す図である。
FIG. 1 is a plan view of a solder plating apparatus for a semiconductor element lead frame according to the present invention.

【図2】カセット移送装置、トラバース及びフレームア
ンローダ等の概略構成を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a schematic configuration of a cassette transfer device, a traverse, a frame unloader, and the like.

【図3】リードフレームを収納したカセットの構造を示
す斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view showing the structure of a cassette accommodating a lead frame.

【図4】従来の半導体素子リードフレーム用はんだ鍍金
装置の平面を示す図である。
FIG. 4 is a plan view of a conventional solder plating apparatus for semiconductor element lead frame.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 カセット移送装置 2 フレームローダ 3 処理ライン 4 フレームアンローダ 5 処理ライン 6,7 カセット移送装置 8,9 カセット位置決め機構 10 フレーム回転機構 11 フレーム掴み治具 12 リフタ 13 リードフレーム 14 トラバース 15 トラバース 1 cassette transfer device 2 frame loader 3 processing line 4 frame unloader 5 processing line 6,7 cassette transfer device 8,9 cassette positioning mechanism 10 frame rotating mechanism 11 frame gripping jig 12 lifter 13 lead frame 14 traverse 15 traverse

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−101274(JP,A) 特開 平2−61094(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-59-101274 (JP, A) JP-A-2-61094 (JP, A)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 半導体素子リードフレームを収納したカ
セットより1枚ずつ該リードフレームを取り出し、はん
だ鍍金処理を施す各処理工程の槽及び装置で各処理を施
し、はんだ鍍金の終了したリードフレームを空のカセッ
トに収納するように構成された半導体素子リードフレー
ム用はんだ鍍金装置において、 前記はんだ鍍金処理を施す各処理工程の槽及び装置を順
次配列すると共に、はんだ鍍金処理前のリードフレーム
を収納したカセット及びはんだ鍍金処理後のリードフレ
ームを収納する空カセットを移動する装置を前記槽及び
装置列の手前に並べてこれらを略コ字状に配置し、 前記カセットからはんだ鍍金処理前のリードフレームを
1枚ずつ取り出し、該リードフレームを前記各処理工程
で各処理を施し、はんだ鍍金処理が施されたリードフレ
ームを空カセットに収納されるまで、前記略コ字状の配
置に沿ってリードフレームを移送する装置を設けたこと
を特徴とする半導体素子リードフレーム用はんだ鍍金装
置。
1. A lead frame is taken out one by one from a cassette in which a semiconductor element lead frame is housed, and each treatment is performed in a bath and an apparatus for each treatment step in which a solder plating treatment is performed, and the lead frame after the solder plating is emptied. In a solder plating apparatus for a semiconductor element lead frame configured to be housed in a cassette of a cassette, the tank and the apparatus for each processing step for performing the solder plating process are sequentially arranged, and a cassette that contains the lead frame before the solder plating process is housed. And a device for moving an empty cassette for storing the lead frame after the solder plating treatment is arranged in front of the tank and the device row and arranged in a substantially U-shape, and one lead frame before the solder plating treatment is arranged from the cassette. Of the lead frame, and the lead frame was subjected to each treatment in each of the above-mentioned treatment steps, and the solder-plated Until receiving the lead frame in the empty cassette, the generally U-shaped semiconductor device lead frame for solder plating apparatus characterized in that a device for transferring the lead frame along the arrangement.
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