JP2567064B2 - Antireflection film and manufacturing method thereof - Google Patents
Antireflection film and manufacturing method thereofInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はVDT等の反射防止に用いるシートに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a sheet used for antireflection of VDT and the like.
（従来の技術） プラスチツクフイルムを基材とする反射防止膜として
は、フイルム上にZrO2およびSiO2の２層膜を設けたもの
が知られている（例えば特開昭57−139702号公報）。(Prior Art) As an antireflection film having a plastic film as a base material, a film having a two-layer film of ZrO 2 and SiO 2 provided on the film is known (for example, JP-A-57-139702). .
この反射防止膜は、例えば真空雰囲気内においてフイ
ルムを走行させ、ほぼ同位置に配置されたO2ガス供給部
およびZrターゲツトから、フイルム表面にO2ガスとZrを
供給し、フイルム表面にZrO2層を形成し、次いでSiO2層
を形成する方法により製造し得る。The anti-reflection film, for example film is traveling in a vacuum atmosphere, the O 2 gas supply and Zr Tagetsuto disposed at substantially the same position, supplies O 2 gas and Zr to the film surface, ZrO 2 on the film surface It may be produced by a method of forming a layer and then forming a SiO 2 layer.
かようにして得られる反射防止膜におけるZrO2層の屈
折率はフイルム表面側とSiO2層側での差違はなく、ZrO2
層のどの部位でも「約2.05」である。Refractive index of the ZrO 2 layer in the antireflection film obtained in the song is not differences in the film surface side and the SiO 2 layer side, ZrO 2
It is "about 2.05" in any part of the layer.
そして、この反射防止膜はZrO2、SiO2いずれの薄層も
機械的強度が大きく、耐久性に優れている利点がある。
また、反射防止のための層数もZrO2、SiO2の２層と少な
く、安価である。This antireflection film has the advantage that both ZrO 2 and SiO 2 thin layers have high mechanical strength and excellent durability.
Further, the number of layers for preventing reflection is as small as two layers of ZrO 2 and SiO 2 , and it is inexpensive.
（発明が解決しようとする課題） ところで、近年、反射防止膜に対する性能改善の強い
要望がある。(Problems to be Solved by the Invention) By the way, in recent years, there has been a strong demand for improving the performance of antireflection films.
しかしながら、上記従来品の反射率は0.7％程度が限
界で、２層膜のままでの反射率低減手段は見出されてい
ない。However, the reflectance of the conventional product is limited to about 0.7%, and no means for reducing the reflectance of the two-layer film has been found.
このため、フイルム表面にZrO2、MgF2およびSiO2の３
薄層を順次形成する方法が提案された。この反射防止層
を３層構造とする方法によれば、反射率を0.3％程度に
低減できるが、MgF2層の機械的強度が弱く、実用に供し
た場合、耐久性に問題があり、また層数の増加により製
造コストの上昇が不可避である。For this reason, the surface of the film has 3 layers of ZrO 2 , MgF 2 and SiO 2 .
A method of sequentially forming thin layers has been proposed. According to the method in which the antireflection layer has a three-layer structure, the reflectance can be reduced to about 0.3%, but the mechanical strength of the MgF 2 layer is weak and there is a problem in durability when used in practice. An increase in manufacturing cost is inevitable due to an increase in the number of layers.
従って、本発明は従来品の利点を維持しつつ、反射率
のより低減された反射防止膜を提供することを目的とす
る。Therefore, it is an object of the present invention to provide an antireflection film having a reduced reflectance while maintaining the advantages of the conventional products.
（課題を解決するための手段） 本発明者は従来技術の有する上記問題を解決するた
め、種々検討の結果、ZrO2およびSiO2の２層構造の反射
防止層を有する反射防止膜において、ZrO2層の屈折率を
一方の面と他面とで異ならしめることによって、反射率
を低減し得ることを見出し、本発明を完成するに至った
ものである。To solve the above problems the present inventor (Means for Solving the Problems) of the prior art, the results of various studies, the anti-reflection film having an anti-reflection layer of 2-layer structure of ZrO 2 and SiO 2, ZrO The inventors have found that the reflectance can be reduced by making the refractive index of the two layers different between the one surface and the other surface, and completed the present invention.
即ち、本発明に係る反射防止膜は、プラスチツクフイ
ルムの表面にZrO2層およびSiO2層が順次形成されてお
り、前記ZrO2層の屈折率はフイルム側よりもSiO2層側が
高くなっていることを特徴とするものである。That is, the antireflection film according to the present invention, the ZrO 2 layer and the SiO 2 layer are sequentially formed on the surface of the plastic film, and the refractive index of the ZrO 2 layer is higher on the SiO 2 layer side than on the film side. It is characterized by that.
以下、図面を参照しながら本発明の実例を説明する。
第１図において、１は反射防止膜の基材としてのプラス
チツクフイルムであり、その厚さは通常約25〜250μｍ
である。このフイルム１は透明であればその材質は特に
限定されず種々のものを用いることができ、例えばポリ
エチレンテレフタレート（PET）、ポリカーボネート、
ポリメチルメタクリレート、ジエチレングリコールビス
アリルカーボネート等をその具体例として挙げることが
できる。Hereinafter, examples of the present invention will be described with reference to the drawings.
In FIG. 1, reference numeral 1 is a plastic film as a base material of the antireflection film, and its thickness is usually about 25 to 250 μm.
Is. The material of the film 1 is not particularly limited as long as it is transparent, and various materials can be used, such as polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate,
Specific examples thereof include polymethyl methacrylate and diethylene glycol bisallyl carbonate.
このフイルム１の片面にはZrO2層２（厚さは通常約11
00〜1300Å）が形成され、更にその上にSiO2層３（厚さ
は通常800〜1000Å）が形成されている。The ZrO 2 layer 2 (thickness is usually about 11
00 to 1300Å) is formed, and a SiO 2 layer 3 (thickness is usually 800 to 1000Å) is further formed thereon.
ZrO2層２はその厚さ方向において屈折率が変化してお
り、フイルム１側の屈折率（n1）よりもSiO2層３側の屈
折率（n2）が高く設定されている。そして、本発明者に
より、反射率低減のため、n1を1.95〜2.00とし、n2を2.
10〜2.20とするのが最も好ましいことが確認された。The refractive index of the ZrO 2 layer 2 changes in the thickness direction, and the refractive index (n 2 ) on the SiO 2 layer 3 side is set higher than the refractive index (n 1 ) on the film 1 side. Then, by the present inventor, in order to reduce the reflectance, n 1 is 1.95 to 2.00, n 2 is 2.
It was confirmed that 10 to 2.20 was most preferable.
次に、本発明の反射防止膜の製造法の一例について述
べる。この製造法はプラスチツクフイルムを真空雰囲気
内において走行させ、このフイルム表面にO2ガスを供給
すると共に該ガス供給部よりも後段に配置されたZrター
ゲツトからZrを供給することにより、フイルム表面側の
屈折率がそれと反対側の屈折率よりも低いZrO2層を形成
し、次いで該ZrO2層上にSiO2層を形成することを特徴と
するものである。Next, an example of a method for producing the antireflection film of the present invention will be described. This manufacturing method is a plastisol poke film is run in a vacuum atmosphere, by supplying the Zr from Zr Tagetsuto disposed downstream than the gas supply unit supplies the O 2 gas to the film surface, the film surface side It is characterized in that a ZrO 2 layer having a refractive index lower than that on the opposite side is formed, and then a SiO 2 layer is formed on the ZrO 2 layer.
この方法においては、プラスチツクフイルム表面に先
ずZrO2層が形成される。ZrO2層の形成はZrとO2を反応せ
しめ、この反応生成物たるZrO2によるものであれば何れ
でもよいが、一般には反応性蒸着法または反応性スパツ
タリング法が採用され、例えば第２図に示す装置を用い
て行なうことができる。In this method, a ZrO 2 layer is first formed on the surface of the plastic film. The ZrO 2 layer may be formed by reacting Zr with O 2 , and any reaction product of ZrO 2 may be used, but in general, a reactive vapor deposition method or a reactive sputtering method is adopted. It can be performed using the device shown in.
第２図において、４は真空ポンプ（図示省略）に連結
された排気管５を有する耐圧の真空容器であり、その内
部には繰出しロール６、巻取りロール７、ガイドロール
８、９、10、11、メインキヤン（main can）12が配置
され、長尺のプラスチツクフイルム１は繰出しロール６
上に巻回され、その一端は巻取りロール７に導かれてい
る。13はフイルム１の表面にO2ガスを供給するためのガ
ス供給部であり、その後段にはZrターゲツト14およびス
パツタ電極15が配置されている。In FIG. 2, reference numeral 4 denotes a pressure-resistant vacuum container having an exhaust pipe 5 connected to a vacuum pump (not shown). 11 and a main can 12 are arranged, and the long plastic film 1 is a feeding roll 6
It is wound up and one end thereof is guided to the winding roll 7. Reference numeral 13 is a gas supply unit for supplying O 2 gas to the surface of the film 1, and a Zr target 14 and a sputtering electrode 15 are arranged in the subsequent stage.
上記装置を用いてフイルム表面にZrO2層を形成するに
は、先ず真空ポンプにより真空容器内を真空とする。次
に、ガス供給部からO2ガスを供給せしめ、引き続き真空
ポンプを駆動し雰囲気圧を調整維持する。To form a ZrO 2 layer on the film surface using the above apparatus, first, the inside of the vacuum container is evacuated by a vacuum pump. Next, O 2 gas is supplied from the gas supply unit, and then the vacuum pump is driven to adjust and maintain the atmospheric pressure.
雰囲気圧調整後、フイルム１を走行せしめ、スパツタ
電極15に電圧を印加すれば、ターゲツト14からZrが放出
され、これがO2と反応してZrO2となり、フイルム１の片
面上に薄層が形成される。After adjusting the atmospheric pressure, run the film 1 and apply a voltage to the sputtering electrode 15 to release Zr from the target 14, which reacts with O 2 to become ZrO 2 and a thin layer is formed on one side of the film 1. To be done.
ZrとO2の反応に際し、ガス供給部がZrターゲツトより
も前段に配置されているので、該供給部近傍ではO2が豊
富な状態でZrと反応し、ここより離れるに従ってZrと反
応するO2量が減少する。During the reaction of Zr and O 2 , since the gas supply part is arranged in front of the Zr target, it reacts with Zr in the vicinity of the supply part in a state of being rich in O 2 and reacts with Zr further away. 2 Volume is reduced.
このO2量の違いによつて、フイルム表面に形成される
ZrO2層の屈折率が変化することが見出された。Due to this difference in O 2 amount, it is formed on the film surface
It has been found that the refractive index of the ZrO 2 layer changes.
即ち、Zrと豊富なO2ガスが反応し、これによって生ず
るZrO2により形成される薄層（フイルム表面側の薄層）
は屈折率が低く、Zrと少量のO2ガスが反応して生成する
ZrO2により形成される薄層（SiO2側の薄層）は屈折率が
高いのである。That is, a thin layer formed by ZrO 2 generated by the reaction of Zr and abundant O 2 gas (thin layer on the film surface side)
Has a low refractive index and is produced by the reaction of Zr with a small amount of O 2 gas.
The thin layer formed by ZrO 2 (thin layer on the SiO 2 side) has a high refractive index.
この方法では、上記のようにしてフイルム表面に屈折
率がその厚さ方において傾斜したZrO2層を形成した後、
該ZrO2層上にSiO2層を形成する。SiO2層の形成は、従来
から行なわれているスパツタリング、真空蒸着、イオン
プレーティング等の方法によることができる。In this method, after forming a ZrO 2 layer whose refractive index is inclined in the thickness direction on the film surface as described above,
A SiO 2 layer is formed on the ZrO 2 layer. The SiO 2 layer can be formed by a conventionally used method such as sputtering, vacuum deposition, or ion plating.
（実施例） 以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。(Examples) Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.
実施例 第２図に示す装置を用い、これに厚さ75μｍの長尺PE
Tフイルム（屈折率1.69）をセツトする。Example Using the apparatus shown in FIG. 2, a long PE having a thickness of 75 μm was used.
Set T film (refractive index 1.69).
次に、真空ポンプにより容器内の雰囲気圧を一旦10-5
Torr以下とし、その後Arガスを100sccm、O2ガスを15scc
mの流量でガス供給部から流入させ雰囲気圧を３×10-3T
orrに調整維持する。Next, once the atmospheric pressure in the container was adjusted to 10 -5 with a vacuum pump.
Torr or less, then Ar gas 100sccm, O 2 gas 15scc
Atmosphere pressure of 3 × 10 -3 T by flowing in from the gas supply unit at a flow rate of m
Keep adjusted to orr.
次いで、ロールを駆動しPETフイルムを走行せしめる
と共にスパツタ電極に400Vの電圧を印加し、ターゲツト
からZrを放出せしめ、反応性スパツタリングにより、フ
イルム片面に厚さ1200ÅのZrO2層を形成した。Then, the roll was driven to run the PET film, a voltage of 400 V was applied to the spatula electrode to release Zr from the target, and reactive spattering formed a ZrO 2 layer with a thickness of 1200 Å on one surface of the film.
その後、反応性スパツタリング法により、厚さ900Å
のSiO2層を形成し、反射防止膜を得た。Then, by the reactive sputtering method, the thickness is 900Å
An SiO 2 layer was formed to obtain an antireflection film.
この反射防止膜における反射防止層（ZrO2およびSiO2
の両層）の反射率は0.3％であった。また、ZrO2層のフ
イルム表面側の屈折率は1.95であり、SiO2層側の屈折率
は2.10であった。The antireflection layer (ZrO 2 and SiO 2 in this antireflection film
The reflectance of both layers was 0.3%. The refractive index of the ZrO 2 layer on the film surface side was 1.95, and the refractive index of the SiO 2 layer side was 2.10.
比較例 ガス供給部を第２図中の点線13aの位置に配する以外
は全て実施例と同様に作業した。Comparative Example All operations were performed in the same manner as in the example except that the gas supply section was arranged at the position of the dotted line 13a in FIG.
この反射防止膜における反射防止層の反射率は0.7％
であった。また、ZrO2薄層の屈折率はフイルム表面側と
SiO2薄層側とで差違は無く、何れの部位でも2.05であっ
た。The reflectance of the antireflection layer in this antireflection film is 0.7%.
Met. In addition, the refractive index of the ZrO 2 thin layer is
There was no difference from the SiO 2 thin layer side, and it was 2.05 at any part.
（発明の効果） 本発明は上記のように構成されており、反射防止層と
してのZrO2層の屈折率をその厚さ方向において変化させ
たので、反射率が小さく、また層数も少なく安価であ
る。(Effects of the Invention) The present invention is configured as described above, and since the refractive index of the ZrO 2 layer as an antireflection layer is changed in the thickness direction, the reflectance is small, the number of layers is small, and the cost is low. Is.
第１図は本発明に係る反射防止膜の実例を示す正面図、
第２図は本発明の方法に用いる装置の実例を示す概略図
である。 １……プラスチツクフイルム、２……ZrO2層 ３……SiO2層FIG. 1 is a front view showing an example of an antireflection film according to the present invention,
FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of an apparatus used in the method of the present invention. 1 ... Plastic film, 2 ... ZrO 2 layer 3 ... SiO 2 layer
Claims (2)
びSiO2層が順次形成されており、前記ZiO2層の屈折率は
フイルム側よりもSiO2層側が高くなっていることを特徴
とする反射防止膜。1. A reflection characterized in that a ZrO 2 layer and a SiO 2 layer are sequentially formed on the surface of a plastic film, and the refractive index of the ZiO 2 layer is higher on the SiO 2 layer side than on the film side. Preventive film.
いて走行させ、このフイルム表面にO2ガスを供給すると
共に該ガス供給部よりも後段に配置されたZrターゲツト
からZrを供給することにより、フイルム表面側の屈折率
がそれと反対側の屈折率よりも低いZrO2層を形成し、次
いで該ZrO2層上にSiO2層を形成することを特徴とする反
射防止膜の製造法。2. A plastic film is run in a vacuum atmosphere, O 2 gas is supplied to the surface of the film, and Zr is supplied from a Zr target arranged at a stage subsequent to the gas supply section, whereby the film surface side. A method for producing an antireflection film, comprising forming a ZrO 2 layer having a lower refractive index than that of the opposite side thereof, and then forming an SiO 2 layer on the ZrO 2 layer.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63251639A JP2567064B2 (en) | 1988-10-05 | 1988-10-05 | Antireflection film and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63251639A JP2567064B2 (en) | 1988-10-05 | 1988-10-05 | Antireflection film and manufacturing method thereof |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0299901A JPH0299901A (en) | 1990-04-11 |
| JP2567064B2 true JP2567064B2 (en) | 1996-12-25 |
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ID=17225813
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP63251639A Expired - Lifetime JP2567064B2 (en) | 1988-10-05 | 1988-10-05 | Antireflection film and manufacturing method thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2567064B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU679072B2 (en) * | 1993-06-01 | 1997-06-19 | Hopgood, Eric Arthur | Rotary drive mechanism |
-
1988
- 1988-10-05 JP JP63251639A patent/JP2567064B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0299901A (en) | 1990-04-11 |
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