JP2563960B2 - Fluorine-containing ether compound and method for producing the same - Google Patents

Fluorine-containing ether compound and method for producing the same

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JP2563960B2 JP63050594A JP5059488A JP2563960B2 JP 2563960 B2 JP2563960 B2 JP 2563960B2 JP 63050594 A JP63050594 A JP 63050594A JP 5059488 A JP5059488 A JP 5059488A JP 2563960 B2 JP2563960 B2 JP 2563960B2
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、新規な含フッ素エーテル化合物,含フッ素
シリル化合物,及びそれらの製造方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel fluorine-containing ether compound, a fluorine-containing silyl compound, and a method for producing them.

(従来技術及び発明が解決しようとする問題点) 従来、含フッ素アルキル基とアルケニル基よりなる含
フッ素化合物は、反応活性なアルケニル基を利用して多
くの有用な化合物の原料として用いられている。例え
ば、他のモノマーと共重合を行い繊維処理剤の合成に用
いられている。また、過酸で酸化してアルケニル基にエ
ポキシ基を導入し、含フッ素アルキル基を有したエポキ
シ化合物の合成原料として、さらにはアルケニル基をシ
リル化し、含フッ素アルキル基を有したシラン化合物の
合成原料として非常に広範囲に利用されている。
(Problems to be Solved by Prior Art and Invention) Conventionally, a fluorine-containing compound composed of a fluorine-containing alkyl group and an alkenyl group has been used as a raw material for many useful compounds by utilizing a reactive alkenyl group. . For example, it is used for synthesizing a fiber treating agent by copolymerizing with another monomer. Also, as a raw material for the synthesis of an epoxy compound having a fluorine-containing alkyl group by introducing an epoxy group into an alkenyl group by oxidation with peracid, further silylation of the alkenyl group to synthesize a silane compound having a fluorine-containing alkyl group. Widely used as a raw material.

このような含フッ素アルキル基とアルケニル基とを有
する含フッ素化合物としては、例れば、米国特許3,382,
222号明細書に次式 で示される化合物が、また、米国特許4,029,867号明細
書には次式 CF3−(CF2aOCH2=CH=CH2(aは2〜13の間の整数) で示される化合物が、さらに、英国特許1,153,187号明
細書には次式 で示される化合物が記載されている。これらの公知の化
合物は、比較的炭素数の少ない簡単な構造の含フッ素有
機基と分子内に1個のアルケニル基を有した含フッ素化
合物である。
Examples of the fluorine-containing compound having such a fluorine-containing alkyl group and an alkenyl group include, for example, U.S. Pat.
The following formula in the specification No. 222 In the compound is shown, also, U.S. Patent 4,029,867 Pat equation CF 3 - (CF 2) a OCH 2 = CH = CH 2 (a is an integer between 2 to 13) Further, the compound represented by the following formula, in the British Patent 1,153,187 Compounds represented by are described. These known compounds are fluorine-containing compounds having a simple structure having a relatively small number of carbon atoms and a fluorine-containing organic group and one alkenyl group in the molecule.

一方、分子内に含フッ素有機基を有するシリル化合物
は、含フッ素有機基及びシリル基の特徴を生かした種々
の有用な材料の原料化合物として用いられている。例え
ば、トリフルオロプロピルメチルジヒドロキシシランの
脱水縮合物は、耐溶剤性,耐熱性を有するシリコンオイ
ルとして市販されている。また、米国特許3,484,470号
明細書には次式 で示される化合物を、織布の撥水,撥油処理剤の原料と
して用いる事が提案されている。また、特開昭62−4760
5号公報には次式 CF3OCF(CF3)CH2O(CH23Si(CH3)Cl2 で示される化合物を他のシリル化合物と共重合したの
ち、光フアイバーのクラッド材として用いる事が提案さ
れている。
On the other hand, a silyl compound having a fluorine-containing organic group in the molecule is used as a raw material compound for various useful materials that make use of the characteristics of the fluorine-containing organic group and the silyl group. For example, a dehydration condensate of trifluoropropylmethyldihydroxysilane is commercially available as a solvent-resistant and heat-resistant silicone oil. In addition, U.S. Pat. It has been proposed to use the compound represented by as a raw material for a water-repellent and oil-repellent treatment agent for woven fabric. In addition, JP-A-62-4760
No. 5 discloses that a compound represented by the following formula CF 3 OCF (CF 3 ) CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) Cl 2 is copolymerized with other silyl compounds and then used as a cladding material for optical fibers. Proposed to be used.

しかしながら、上述したような含フッ素有機基と共に
アルケニル基又はシリル基を有する公知の化合物は、表
面処理剤として用いた場合には接着強度が必ずしも強い
とはいえず、また、重合した、場合、その重合体の機械
的強度は必ずしも十分とはいえないといった欠点を有し
ていた。
However, known compounds having an alkenyl group or a silyl group together with the above-mentioned fluorine-containing organic group, the adhesive strength is not necessarily strong when used as a surface-treating agent, and when polymerized, The polymer has a drawback that the mechanical strength is not always sufficient.

(問題点を解決するための手段) 本発明者らは、以上の点に鑑み、他のモノマーと共重
合をおこなった場合には有効な架橋剤として働き、又単
独で重合した場合には高度に架橋した重合体を与え、さ
らにまた表面処理剤として用いた場合には、基質に対し
強固な接着性を有する含フッ素化合物を得ることを目的
として鋭意研究を重ねた。その結果、一分子内に2〜4
個のアルケニル基を有する新規な含フッ素エーテル化合
物の製造に成功し、該化合物が上記の目的を達成する化
合物であることを見い出した。また、上記の含フッ素エ
ーテル化合物から、一分子中に2〜4個のケイ素原子を
有する新規な含フッ素シリル化合物を製造することにも
成功し、該化合物もまた上記目的を達成する化合物であ
る事を見い出し、本発明を完成させるに至った。
(Means for Solving Problems) In view of the above points, the inventors of the present invention act as an effective cross-linking agent when copolymerized with another monomer, and when the monomer is polymerized alone, it is highly advanced. When a cross-linked polymer was given to the above, and when used as a surface treatment agent, further intensive studies were conducted for the purpose of obtaining a fluorine-containing compound having strong adhesion to a substrate. As a result, 2-4 in one molecule
The present inventors succeeded in producing a novel fluorine-containing ether compound having alkenyl groups and found that the compound achieves the above object. Further, from the above-mentioned fluorine-containing ether compound, a novel fluorine-containing silyl compound having 2 to 4 silicon atoms in one molecule has been successfully produced, and the compound is also a compound which achieves the above object. I found things and came to complete the present invention.

即ち、本発明は、下記一般式〔I〕 RfOCFHCF2OR) 〔I〕 で示される含フッ素エーテル化合物および上記一般式
〔I〕の化合物から製造される、下記一般式〔II〕 RfOCFHCF2OR′SiR1R2R3 〔II〕 で示される含フッ素シリル化合物である。
That is, the present invention provides the following general formula [I] RfOCFHCF 2 OR) n [I] The following general formula [II] RfOCFHCF 2 OR'SiR 1 R 2 R 3 ) n [II] produced from the fluorine-containing ether compound represented by the formula and the compound of the above general formula [I] Is a fluorinated silyl compound.

まず、上記一般式〔I〕で示される含フッ素エーテル
化合物について説明する。
First, the fluorine-containing ether compound represented by the above general formula [I] will be described.

上記一般式〔I〕中、Rfは2〜4価の含フッ素有機基
であればどのような基であっても採用できるが、好適な
基としては、以下の一般式で示されるような基である。
In the above general formula [I], Rf may be any group as long as it is a divalent to tetravalent fluorine-containing organic group, but a preferable group is a group represented by the following general formula. Is.

2価の基: CF2CFYO)(CF2x+1(OCFYCF2 z, CH2y+1(CF2(CH2 z+1, 3価の基: 4価の基: 本発明に於いては、上記一般式で示した少なくとも一
種の2〜4価のパーフルオロ有機基中、Yで示されるパ
ーフルオロアルキル基は炭素数1〜4のパーフルオロア
ルキル基であり、xは1〜7の範囲の整数であり、y及
びzは0〜3の範囲の整数である。
Divalent group: CF 2 CFYO) y (CF 2 ) x + 1 (OCFYCF 2 z , CH 2 ) y + 1 (CF 2 ) x (CH 2 z + 1 , Trivalent group: Tetravalent group: In the present invention, in at least one divalent to tetravalent perfluoroorganic group represented by the above general formula, the perfluoroalkyl group represented by Y is a C1-4 perfluoroalkyl group, x Is an integer in the range of 1 to 7, and y and z are integers in the range of 0 to 3.

次に、前記一般式〔I〕中、Rで示されるアルケニル
基としては特に制限されるものではないが、本発明に於
いては、炭素数2〜18のアルケニル基である。例えば、
一般式(A) あるいは、一般式(B) で示されるアルケニル基が本発明に於いて好適に採用さ
れる。上記式中A1,A2,A3,A4及びA5で示されるアルキル
基としては、本発明の化合物の合成のしやすさ等の理由
から炭素数は1〜3の範囲である。即ち、上記一般式
(B)中のA1、A2及びA3が全て水素原子である場合に
は、アルケニル基の炭素数は2をとり得る。また、上記
一般式(A)中のA1、A2、A3、A4及びA5が全て炭素数3
のアルキル基である場合には、アルケニル基の炭素数は
18をとり得る。
Next, in the general formula [I], the alkenyl group represented by R is not particularly limited, but in the present invention, it is an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms. For example,
General formula (A) Alternatively, the general formula (B) The alkenyl group represented by is preferably used in the present invention. The alkyl group represented by A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 in the above formula has a carbon number in the range of 1 to 3 for reasons such as ease of synthesis of the compound of the present invention. That is, when all of A 1 , A 2 and A 3 in the general formula (B) are hydrogen atoms, the alkenyl group can have 2 carbon atoms. In addition, all of A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 in the general formula (A) have 3 carbon atoms.
When it is an alkyl group of, the carbon number of the alkenyl group is
Can take 18.

又、前記一般式〔I〕中、Rで示されるアルキル基と
しては特に制限はないが、本発明に於いては、炭素数1
〜6のアルキル基を用いる。また、該アルキル基は基内
にフッ素原子,塩素原子,臭素原子及びヨウ素原子を有
していても何らさしつかえない。前記一般式〔I〕中、
Rで示されるアルキル基として好適に採用されるものを
例示すれば、メチル基,エチル基,2−ブロモエチル基,2
−クロロエチル基,n−プロピル基,イソプロピル基,3−
トリフルオロ−n−プロピル基,2−クロロ−n−プロピ
ル基,2−ブロモ−n−プロピル基,n−ブチル基,sec−ブ
チル基,t−ブチル基,n−ペンチル基及びn−ヘキシル基
等が挙げられる。
In the general formula [I], the alkyl group represented by R is not particularly limited, but in the present invention, it has 1 carbon atom.
~ 6 alkyl groups are used. Further, the alkyl group may have a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom in the group, and it does not matter at all. In the general formula [I],
Examples of the alkyl group suitably represented by R are methyl group, ethyl group, 2-bromoethyl group, 2
-Chloroethyl group, n-propyl group, isopropyl group, 3-
Trifluoro-n-propyl group, 2-chloro-n-propyl group, 2-bromo-n-propyl group, n-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group and n-hexyl group Etc.

更に、前記一般式〔I〕中、Rで示されるアリール基
としては特に制限はないが、原料の入手の容易さ等か
ら、一般には炭素数6〜12のアリール基が好ましく、本
願発明に於いては、Rはフェニル基、ナフチル基であ
る。
Further, in the general formula [I], the aryl group represented by R is not particularly limited, but an aryl group having a carbon number of 6 to 12 is generally preferable because of easy availability of raw materials and the like. In addition, R is a phenyl group or a naphthyl group.

又、前記一般式〔I〕中、nは2〜4の整数を取り得
る。
In the general formula [I], n can be an integer of 2-4.

本発明の前記一般式〔I〕で示される化合物は、新規
化合物であり、その構造は次の手段によって確認する事
ができる。
The compound represented by the above general formula [I] of the present invention is a novel compound, and its structure can be confirmed by the following means.

(イ) 赤外吸収スペクトル(以下、IRと略称する。)
を測定する事により、本発明の前記一般式〔I〕で示さ
れる化合物中に存在する特定の原子団を知る事が出来
る。
(A) Infrared absorption spectrum (hereinafter abbreviated as IR)
It is possible to know the specific atomic group present in the compound represented by the general formula [I] of the present invention by measuring.

本発明の前記一般式〔I〕で示される化合物の代表例
として、下記式 CH2=CHCH2OCF2CFHOCF2CF2OCFHCF2OCF2CH=CH2 で示される化合物のIRチヤートを第1図に示した。
As a representative example of the compound represented by the above general formula [I] of the present invention, IR chart of the compound represented by the following formula CH 2 = CHCH 2 OCF 2 CFHOCF 2 CF 2 OCFHCF 2 OCF 2 CH = CH 2 is shown in FIG. It was shown to.

(ロ) 19F−核磁気共鳴スペクトル(以下、19F−NMR
と略称する。)(トリクロロフルオロメタン基準;高磁
場側を正としppmで表わす)を測定する事により、前記
一般式〔I〕で示される化合物中に存在するフッ素原子
の結合様式を知ることができる。また1H−核磁気共鳴ス
ペクトル(以下、1H−NMRと略称する。)(テトラメチ
ルシラン基準;低磁場側を正とし、ppmで表わす)を測
定する事により該化合物中に存在する水素原子の結合様
式を知ることができる。
(B) 19 F-nuclear magnetic resonance spectrum (hereinafter, 19 F-NMR
Is abbreviated. ) (Trichlorofluoromethane standard; expressed in ppm with the high magnetic field side being positive), the binding mode of the fluorine atom present in the compound represented by the general formula [I] can be known. In addition, 1 H-nuclear magnetic resonance spectrum (hereinafter, abbreviated as 1 H-NMR) (tetramethylsilane standard; low magnetic field side is positive and expressed in ppm) to measure hydrogen atoms present in the compound. You can know the binding mode of.

本発明の前記一般式〔I〕で示される化合物の代表例
として、下式 CH2=CHCH2OCF2CFHOCF2CF2OCFHCF2OCH2CH=CH2 で示される化合物の19F−NMRチヤートを第2図に、1H−
NMRチヤートを第3図に示した。
Typical examples of the general formula (I) compounds represented by the present invention, the 19 F-NMR Chiyato of the compound represented by the following formula CH 2 = CHCH 2 OCF 2 CFHOCF 2 CF 2 OCFHCF 2 OCH 2 CH = CH 2 In Figure 2, 1 H-
The NMR chart is shown in FIG.

(ハ) 質量スペクトル(以下、MSと略称する)を測定
し、観察された各ピーク(一般にはイオン質量Mをイオ
ンの荷電数eで除したM/eで表わされる値)に相当する
組成式を算出する事により、測定に供した化合物の分子
量ならびに、該分子内における各原子団の結合様式を知
る事ができる。
(C) Composition formula corresponding to each observed peak (generally represented by M / e obtained by dividing ion mass M by the charge number e of ions) by measuring a mass spectrum (hereinafter abbreviated as MS) By calculating, it is possible to know the molecular weight of the compound used for the measurement and the binding mode of each atomic group in the molecule.

(ニ) 元素分析によって、炭素,水素,及びハロゲン
の各重量%を求め、さらに認知された各元素を重量%の
和を100から減じる事により酸素の重量%を算出する事
ができ、従って、該化合物の組成式を決定する事ができ
る。
(D) By elemental analysis, the weight% of carbon, hydrogen, and halogen can be obtained, and the weight% of oxygen can be calculated by subtracting the sum of the weight% of each recognized element from 100. The composition formula of the compound can be determined.

本発明は、前記一般式〔I〕で示される新規化合物の
製造方法も併せて提供する。以下、製造法について説明
するが、本発明の前記一般式〔I〕で示される新規化合
物は、本発明の製造によらずとも他の方法で合成されて
もよい。
The present invention also provides a method for producing the novel compound represented by the general formula [I]. Hereinafter, the production method will be described, but the novel compound represented by the above general formula [I] of the present invention may be synthesized by another method without depending on the production of the present invention.

本発明の前記一般式〔I〕で示される化合物の製造方
法は、下記一般式〔III〕 RfOCF=CF2 〔III〕 で示される含フッ素ビニルエーテル化合物と下記一般式
〔IV〕 R−OM 〔IV〕 で示されるアルコキシド化合物を反応させ、得られた反
応生成物をアルコール又は水と接触させる方法である。
The method for producing the compound represented by the above general formula [I] of the present invention includes the following general formula [III] RfOCF = CF 2 ) n [III] And a fluorine-containing vinyl ether compound represented by the following general formula [IV] R-OM [IV] Is a method of reacting the alkoxide compound represented by and contacting the obtained reaction product with alcohol or water.

前記一般式〔III〕中、Rfは2〜4価の含フッ素有機
基が何ら制限なく採用される。本発明の前記一般式
[I]で示される新規化合物の製造方法に於いては、前
記一般式[III]で示される含フッ素ビニルエーテル化
合物の合成のしやすさから、Rfは本発明の前記一般式
[I]で示される新規化合物中のRfと同じである。前記
一般式〔III〕で示される含フッ素ビニルエーテル化合
物は、いかなる方法で合成してもさしつかえない。以下
に、前記一般式〔III〕で示される含フッ素ビニルエー
テル化合物の合成例について説明する。
In the above general formula [III], a fluorine-containing organic group having a valence of 2 to 4 is adopted as Rf without any limitation. In the method for producing the novel compound represented by the general formula [I] of the present invention, Rf is represented by the general formula of the present invention because of the ease of synthesizing the fluorine-containing vinyl ether compound represented by the general formula [III]. It is the same as Rf in the novel compound represented by the formula [I]. The fluorine-containing vinyl ether compound represented by the general formula [III] may be synthesized by any method. Hereinafter, a synthesis example of the fluorine-containing vinyl ether compound represented by the general formula [III] will be described.

2価の含フッ素ビニルエーテルのうち、 CF2=CFO(CF2CFYO)(CF2x+1(OCFYCF2zOCF=CF
2(但し、YはF又は炭素数1〜4のパーフルオロアル
キル基であり、xは1〜7の整数であり、y及びzは0
〜3の整数である。)で示されるものは (但し、xは1〜7の整数である。)で示される2価の
酸フルオリド化合物に、テトラフルオロエチレンオキシ
ド(以下、TFEOと略称する。)を反応させたのち、更に
ヘキサフルオロプロピレンオキシド(以下、HFPOと略称
する。)を反応させるか、又は、上記の で示される2価の酸フルオリド化合物に直接HFPOを反応
させ、その後に熱分解することによって得られる。例え
ば、 の場合は次の様なものが得られる。
Among the divalent fluorine-containing vinyl ether, CF 2 = CFO (CF 2 CFYO) y (CF 2) x + 1 (OCFYCF 2) z OCF = CF
2 (provided that Y is F or a perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, x is an integer of 1 to 7, and y and z are 0
Is an integer of ˜3. ) Is (However, x is an integer of 1 to 7.) Tetrafluoroethylene oxide (hereinafter, abbreviated as TFEO) is reacted with a divalent acid fluoride compound and then hexafluoropropylene oxide (hereinafter, referred to as TFEO). , HFPO). It can be obtained by directly reacting HFPO with a divalent acid fluoride compound represented by and then thermally decomposing it. For example, In the case of, the following is obtained.

〔但し、YはF又は炭素数1〜4のパーフルオロアルキ
ル基であり、y及びzは0〜3の整数である。〕また、
前記一般式〔III〕で示される含フッ素ビニルエーテル
化合物のうち、 CF2=CFO(CH2y+1(CF2(CH2z+1OCF=CF2(但
し、xは1〜7の整数であり、y及びzは0〜3の整数
である。)で示されるものは、 HO(CH2y+1(CF2(CH2z+1OHで示される2価の
アルコールをアルカリ金属又はアルカリ金属水素化物で
アルコキシドとしたのち、テトラフルオロエチレンと反
応させる事によって得る事ができる。
[However, Y is F or a perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and y and z are integers of 0 to 3. 〕Also,
Of the fluorine-containing vinyl ether compound represented by the general formula [III], CF 2 = CFO (CH 2 ) y + 1 (CF 2 ) x (CH 2 ) z + 1 OCF = CF 2 (where x is 1 to 7 is an integer of 7, and y and z are integers of 0 to 3. ) is represented by HO (CH 2 ) y + 1 (CF 2 ) x (CH 2 ) z + 1 OH 2 It can be obtained by converting a hydric alcohol into an alkoxide with an alkali metal or an alkali metal hydride and then reacting it with tetrafluoroethylene.

また、2価の含フッ素ビニルエーエル化合物は、以下
の方法によっても製造する事ができる。即ち、下記式で
示される1価のカルボン酸フルオリド化合物 ZClF2lCOF 〔Zはハロゲン原子又は水素原子であり、lは1以上の
整数である。〕 又は、 〔Yはフッ素原子又は炭素数1〜4のパーフルオロアル
キル基であり、Zはハロゲン原子又は水素原子であり、
xは1〜7の整数であり、yは0〜3の整数である。〕 と次式〔V〕で示されるエポキシ化合物 〔但し、R″はアルキル基である。〕 とを、フッ素イオン生成化合物としてNaF,KF,CsF,RbF,A
gF,N(CH34F等の存在下にジグライム,トリグライ
ム,テトラグライム等のクライム類;アセトニトリル;
スルホラン;ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極
性溶媒中で−20〜80℃の温度下に数時間〜数日間反応さ
せることにより、次に示される化合物が得られる。
Further, the divalent fluorine-containing vinyl ether compound can also be produced by the following method. That is, a monovalent carboxylic acid fluoride compound ZClF 2 lCOF represented by the following formula [Z is a halogen atom or a hydrogen atom, and l is an integer of 1 or more. ] Or [Y is a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, Z is a halogen atom or a hydrogen atom,
x is an integer of 1 to 7 and y is an integer of 0 to 3. ] And an epoxy compound represented by the following formula [V] [However, R ″ is an alkyl group.] As NaF, KF, CsF, RbF, A
Climes such as diglyme, triglyme, and tetraglyme in the presence of gF, N (CH 3 ) 4 F, etc .; acetonitrile;
Sulfolane; by reacting in an aprotic polar solvent such as dimethylformamide at a temperature of −20 to 80 ° C. for several hours to several days, the compound shown below is obtained.

ZClF2COFの場合には が得られ、また、 の場合には、 が得られる。これらの化合物を一般式で下記のように表
わす。
In the case of ZClF 2 COF Is obtained, and In Case of, Is obtained. These compounds are represented by the general formula as follows:

得られた化合物をさらにSbF5等のルイス酸触媒と室温
〜150℃の温度下で数時間〜数日間反応させることによ
り、−CF2OR″基を−COF基に変換することができる。こ
の反応は一般的に下記の反応式(I)で表わされる。
By further reacting the obtained compound with a Lewis acid catalyst such as SbF 5 at a temperature of room temperature to 150 ° C. for several hours to several days, the —CF 2 OR ″ group can be converted to a —COF group. The reaction is generally represented by the following reaction formula (I).

このようにして得られた2価の酸フルオリド化合物と
HFPOとを反応させ、ついで熱分解する事によって、2価
の含フッ素ビニルエーテル化合物を得る事ができる。
Thus obtained divalent acid fluoride compound
By reacting with HFPO and then thermally decomposing, a divalent fluorine-containing vinyl ether compound can be obtained.

次に、前記一般式〔III〕で示される含フッ素ビニル
エーテル化合物中、3価の化合物の製造には多くの方法
が考えられる。例えば、2価の酸フルオリド化合物(一
般的にはFOCR″fCOFで表わす。但しRf″は含フッ素有機
基である。)の一方の−COF基に一般式〔V〕で示され
るエポキシ化合物を前述した方法で反応させ、さらに前
述したSbF5等のルイス酸と反応させることで反応式
(I)と同様にして3価の酸フルオリド化合物を得るこ
とができる。
Next, many methods are conceivable for producing a trivalent compound in the fluorine-containing vinyl ether compound represented by the general formula [III]. For example, one of the divalent acid fluoride compounds (generally represented by FOCR ″ fCOF, where Rf ″ is a fluorine-containing organic group) is the epoxy compound represented by the general formula [V] as described above. The trivalent acid fluoride compound can be obtained in the same manner as in the reaction formula (I) by reacting with the above method and further reacting with the above-mentioned Lewis acid such as SbF 5 .

反応は次のようになる。 The reaction is as follows.

また、一般式〔V〕で示されるエポキシ化合物からフ
ッ素アニオンを触媒として2量体をつくり、さらにその
2量体を反応式(I)に準じてSbF5等のルイス酸触媒に
よる3価の酸フルオリド化合物を得ることができる。反
応は次のようになる。
Further, a dimer is prepared from an epoxy compound represented by the general formula [V] by using a fluorine anion as a catalyst, and the dimer is converted to a trivalent acid by a Lewis acid catalyst such as SbF 5 according to the reaction formula (I). A fluoride compound can be obtained. The reaction is as follows.

こうして得られた3価の酸フルオリド化合物をHFPOと
反応させたのち、熱分解する事によって、3価の含フッ
素ビニルエーテル化合物を得る事ができる。
The trivalent acid fluoride compound thus obtained is reacted with HFPO and then thermally decomposed to obtain a trivalent fluorine-containing vinyl ether compound.

更に前記一般式〔III〕で示される含フッ素ビニルエ
ーテル化合物中、4価の化合物はFOCR″fCOFの両方の−
COF基と一般式〔V〕で示されるエポキシ化合物を反応
させ、さらに前述したSbF5等のルイス酸触媒と反応させ
ることで4価の酸フルオリド化合物を得る事ができ、次
にこの4価の酸フルオリド化合物をHFPOと反応させたの
ち、熱分解する事によって得る事ができる。反応は次の
ようになる。
Further, in the fluorine-containing vinyl ether compound represented by the above general formula [III], the tetravalent compound is FOCR ″ fCOF
A tetravalent acid fluoride compound can be obtained by reacting a COF group with an epoxy compound represented by the general formula [V] and further reacting with the Lewis acid catalyst such as SbF 5 mentioned above. It can be obtained by reacting an acid fluoride compound with HFPO and then thermally decomposing it. The reaction is as follows.

次に、本発明の前記一般式〔I〕で示される化合物の
もう一方の原料は、前記一般式〔IV〕で示されるアルコ
キシド化合物である。前記一般式〔IV〕中、Rは炭素数
2〜18のアルケニル基、炭素数1〜6のアルキル基、フ
ェニル基又はナフチル基である。また、前記一般式〔I
V〕中、Mで示されるアルカリ金属としては、リチウ
ム,ナトリウム,カリウム,ルビジウム及びセシウムが
何ら制限なく用いられる。
Next, the other raw material of the compound represented by the general formula [I] of the present invention is an alkoxide compound represented by the general formula [IV]. In the above general formula [IV], R represents an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group or a naphthyl group. In addition, the general formula [I
V], as the alkali metal represented by M, lithium, sodium, potassium, rubidium and cesium are used without any limitation.

前記一般式〔IV〕で示されるアルコキシド化合物は、
市販品をそのまま使用することができる。また、該アル
コキシド化合物を合成した場合には、合成反応で得られ
た反応混合液をそのまま使用することもできる。
The alkoxide compound represented by the general formula [IV] is
A commercially available product can be used as it is. Further, when the alkoxide compound is synthesized, the reaction mixture obtained in the synthetic reaction can be used as it is.

前記一般式〔III〕で示される含フッ素ビニルエーテ
ル化合物と前記一般式〔IV〕で示されるアルコキシド化
合物の反応は、溶媒の存在下又は不存在下に行なわれ
る。溶媒を使用する場合は、非プロトン性溶媒が何ら制
限なく用いることができる。例えば、エーテル,テトラ
ヒドロフラン,ジグライム,テトラグライム,アセトニ
トリル,ジメチルホルムアミド,ベンゼン,トルエン,
キシレン等が好適に使用し得る。
The reaction between the fluorine-containing vinyl ether compound represented by the general formula [III] and the alkoxide compound represented by the general formula [IV] is carried out in the presence or absence of a solvent. When using a solvent, an aprotic solvent can be used without any limitation. For example, ether, tetrahydrofuran, diglyme, tetraglyme, acetonitrile, dimethylformamide, benzene, toluene,
Xylene etc. can be used conveniently.

前記一般式〔I〕で示される化合物を製造する反応に
おいて、前記一般式〔IV〕で示されるアルコキシド化合
物の使用量は、前記一般式〔III〕で示される含フッ素
ビニルエーテル化合物の−OCF=CF2基1当量に対し、0.
05〜4当量、好ましくは0.1〜2当量の範囲が好適であ
る。ただし、前記一般式〔IV〕で示されるアルコキシド
化合物を−OCF=CF2基1当量に対し1当量以下用いる場
合には、後述する該アルコキシド化合物に対応するアル
コールを上記のアルコキシド化合物との和が−OCF=CF2
基に対し1当量以上となる様に反応系に加えた方が好ま
しい。
In the reaction for producing the compound represented by the general formula [I], the alkoxide compound represented by the general formula [IV] is used in an amount of -OCF = CF of the fluorine-containing vinyl ether compound represented by the general formula [III]. For 1 equivalent of 2 units, 0.
A range of 05 to 4 equivalents, preferably 0.1 to 2 equivalents is suitable. However, when the alkoxide compound represented by the general formula [IV] is used in an amount of 1 equivalent or less relative to 1 equivalent of —OCF═CF 2 group, the alcohol corresponding to the alkoxide compound described below is added to the above alkoxide compound in a sum. -OCF = CF 2
It is preferable to add it to the reaction system in an amount of 1 equivalent or more relative to the group.

反応温度は広い範囲から選ぶことができ、好適には−
20℃〜150℃の範囲から選ぶことができる。また反応時
間は、原料化合物の量比にも依存するが、数分〜数日
間、好ましくは10分〜5日間の範囲から選ばれる。
The reaction temperature can be selected from a wide range, and preferably-
It can be selected from the range of 20 ° C to 150 ° C. The reaction time is selected from the range of several minutes to several days, preferably 10 minutes to 5 days, though it depends on the amount ratio of the raw material compounds.

上記の反応により得られた反応生成物をアルコール又
は水と接触させることによって本発明の前記一般式
〔I〕で示される含フッ素エーテル化合物が得られる。
アルコール又は水との接触方法は、特に制限されず任意
の方法が採用される。例えば、上記の反応で得られた反
応混合物をアルコール又は水の中に投入する方法、上記
の反応で得られた反応混合物中にアルコール又は水を投
入する方法等が挙げられる。また、上記の一般式〔II
I〕で示される化合物と一般式〔IV〕で示される化合物
とをアルコールを含む溶媒中で反応させることによって
も、該反応で得られた反応生成物とアルコールとを接触
させることができる。
By contacting the reaction product obtained by the above reaction with alcohol or water, the fluorine-containing ether compound represented by the above general formula [I] of the present invention can be obtained.
The method of contacting with alcohol or water is not particularly limited and any method can be adopted. For example, a method of introducing the reaction mixture obtained by the above reaction into alcohol or water, a method of introducing alcohol or water into the reaction mixture obtained by the above reaction, and the like can be mentioned. In addition, the above general formula [II
The reaction product obtained by the reaction and the alcohol can also be contacted by reacting the compound represented by I] with the compound represented by the general formula [IV] in a solvent containing alcohol.

ここで使用させるアルコールは、前記一般式〔IV〕で
示されるアルコキシド化合物に対応するものであること
が好ましい。アルコール又は水の使用量は、通常は、前
記一般式〔III〕で示される含フッ素ビニルエーテル化
合物の−OCF=CF2基1当量に対して1当量〜過剰量の範
囲から選択される。
The alcohol used here preferably corresponds to the alkoxide compound represented by the general formula [IV]. The amount of alcohol or water used is usually selected from the range of 1 equivalent to an excess amount with respect to 1 equivalent of —OCF═CF 2 group of the fluorine-containing vinyl ether compound represented by the general formula [III].

このような反応によって本発明の前記一般式〔I〕で
示される含フッ素エーテル化合物を得ることができる。
By such a reaction, the fluorine-containing ether compound represented by the above general formula [I] of the present invention can be obtained.

前記一般式〔I〕において、Rがハロゲンを有するア
ルキル基である場合、アンモニウム化合物、あるいは金
属水酸化物等の塩基と反応させる事により、Rがアルケ
ニル基である本発明の前記一般式〔I〕で示される化合
物に変換する事もできる。
In the above general formula [I], when R is an alkyl group having a halogen, it is reacted with a base such as an ammonium compound or a metal hydroxide so that R is an alkenyl group. ] It can also be converted into the compound shown by.

本発明は、前記一般式〔II〕で示される含フッ素シリ
ル化合物及びその製造方法についても併せて提供する。
The present invention also provides the fluorine-containing silyl compound represented by the general formula [II] and a method for producing the same.

前記一般式〔II〕中、Rfは2〜4価の含フッ素有機基
であればどの様な基であっても良いが、本発明に於いて
は、本発明の前記一般式[I]で示される新規化合物中
のRfと同じである。また、前記一般式〔II〕中、R′は
アルキレン基が何ら制限なく採用されるが、本発明に於
いては、炭素数2〜18のアルキレン基である。例えば、
一般式(C) あるいは、一般式(D) で示されるアルキレン基が本発明において好適に使用さ
れる。上記式中のA1,A2,A3,A4及びA5で示されるアルキ
ル基としては、炭素数に特に制限はされないが、本発明
に於いては、本発明の化合物の合成のしやすさ等の理由
から炭素数1〜3の範囲である。即ち、上記式(D)中
のA1、A2及びA3が全て水素原子である場合には、アルキ
レン基の炭素数は2をとり得る。また、上記式(C)中
のA1、A2、A3、A4及びA5が全て炭素数3のアルキル基で
ある場合には、アルキレン基の炭素数は18をとり得る。
In the general formula [II], Rf may be any group as long as it is a divalent to tetravalent fluorine-containing organic group. In the present invention, in the general formula [I] of the present invention, It is the same as Rf in the novel compound shown. In the general formula [II], R'may be an alkylene group without any limitation, but in the present invention, it is an alkylene group having 2 to 18 carbon atoms. For example,
General formula (C) Alternatively, the general formula (D) The alkylene group represented by is preferably used in the present invention. The alkyl group represented by A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 in the above formula is not particularly limited in carbon number, but in the present invention, the compound of the present invention can be synthesized. The carbon number is in the range of 1 to 3 for reasons such as easiness. That is, when A 1 , A 2 and A 3 in the above formula (D) are all hydrogen atoms, the alkylene group may have 2 carbon atoms. When all of A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 in the above formula (C) are alkyl groups having 3 carbon atoms, the alkylene group can have 18 carbon atoms.

次に前記一般式〔II〕中、R1,R2及びR3で示されるハ
ロゲン原子としては、フッ素,塩素,臭素及びヨウ素が
用いられる。また、前記一般式[II]中、R1,R2及びR3
で示されるアルキル基,アルコキシ基としては特に制限
されるものではないが、本発明に於いては、生成物の反
応性等の理由から、炭素数1〜4の範囲のアルキル基、
アルコキシ基である。また、R1,R2及びR3で示されるア
ルキル基及びアルコキシ基は、部分フッ素化物であって
も良い。具体的には、アルキル基としては、メチル基,
エチル基,プロピル基,トリフルオロプロピル基,ブチ
ル基,トリフルオロブチル基等が挙げられる。又、アル
コキシ基としては、メトキシ基,エトキシ基,プロポキ
シ基,トリフルオロプロポキシ基,ブトキシ基,トリフ
ルオロブトキシ基等が挙げられる。
Next, in the general formula [II], as the halogen atom represented by R 1 , R 2 and R 3 , fluorine, chlorine, bromine and iodine are used. Further, in the general formula [II], R 1 , R 2 and R 3
The alkyl group and the alkoxy group represented by are not particularly limited, but in the present invention, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, for the reason of reactivity of the product,
It is an alkoxy group. The alkyl group and alkoxy group represented by R 1 , R 2 and R 3 may be partially fluorinated. Specifically, as the alkyl group, a methyl group,
Examples thereof include ethyl group, propyl group, trifluoropropyl group, butyl group and trifluorobutyl group. Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a trifluoropropoxy group, a butoxy group and a trifluorobutoxy group.

また、前記一般式〔II〕中、nは2〜4の整数を取り
得る。
Moreover, in the said general formula [II], n can take the integer of 2-4.

本発明の前記一般式〔II〕で示される含フッ素シリル
化合物は新規化合物であり、その構造は、IR,19F−NMR,
1H−NMR,MS及び元素分析で確認する事ができる。
The fluorine-containing silyl compound represented by the general formula [II] of the present invention is a novel compound, and its structure is IR, 19 F-NMR,
It can be confirmed by 1 H-NMR, MS and elemental analysis.

本発明の前記一般式〔II〕で示される含フッ素シリル
化合物の代表例として、下記式 で示される化合物について、IRチヤートを第4図に、19
F−NMRチヤートを第5図に、また1H−NMRチヤートを第
6図に示した。
As a typical example of the fluorine-containing silyl compound represented by the above general formula [II] of the present invention, the following formula In the compound represented by, in Figure 4 the IR Chiyato, 19
The F-NMR chart is shown in FIG. 5, and the 1 H-NMR chart is shown in FIG.

本発明の前記一般式〔II〕で示される化合物の製造方
法は、特に制限されるものではなく、どのような方法で
あっもよいが、例えば、本発明の前記一般式〔I〕で示
される含フッ素エーテル化合物中、Rがアルケニル基で
ある化合物から容易に導くことができる。即ち、下記一
般式〔VI〕 RfOCFHCF2OR) 〔VI〕 で示される含フッ素エーテル化合物を、下記一般式〔VI
I〕 HSiR1R2R3 〔VII〕 で示されるシラン化合物とを反応させ(以下、該反応を
ヒドロシル化反応と称する。)、必要によっては更に加
水分解反応をおこなう事により、本発明の前記一般式
〔II〕で示される含フッ素シリル化合物を得る事ができ
る。
The method for producing the compound represented by the general formula [II] of the present invention is not particularly limited and may be any method, for example, represented by the general formula [I] of the present invention. It can be easily derived from a compound in which R is an alkenyl group in the fluorine-containing ether compound. That is, the following general formula [VI] RfOCFHCF 2 OR) n [VI] The fluorine-containing ether compound represented by the following general formula [VI
I) HSiR 1 R 2 R 3 (VII) The fluorinated silyl compound represented by the above general formula [II] of the present invention is reacted with a silane compound represented by the formula (hereinafter, this reaction is referred to as a hydrosilation reaction) and, if necessary, further hydrolyzed. The compound can be obtained.

上記した本発明の前記一般式〔II〕で示される含フッ
素シリル化合物の製造における反応及び原料化合物につ
いて、以下詳細に説明する。
The reaction and the starting compound in the production of the fluorine-containing silyl compound represented by the above general formula [II] of the present invention will be described in detail below.

前記一般式〔VI〕で示される含フッ素アルケニルエー
テル化合物は、本発明の前記一般式[I]で示される新
規化合物においてRが炭素数2〜18のアルケニル基であ
る化合物であり、すでに詳細に説明したとおりである。
また、前記一般式〔VII〕で示されるシラン化合物は、
水素原子を1個以上有する化合物であれば良く、市販品
や公知の方法で合成したものが何ら制限なく用いる事が
できる。
The fluorinated alkenyl ether compound represented by the general formula [VI] is a compound of the novel compound represented by the general formula [I] of the present invention in which R is an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms. As explained.
Further, the silane compound represented by the general formula [VII],
Any compound having at least one hydrogen atom may be used, and commercially available products and compounds synthesized by known methods can be used without any limitation.

本発明の前記一般式〔VI〕で示される化合物のヒドロ
シリル化反応の方法は特に制限されず、一般に二重結合
を有する化合物をヒドロシリル化する公知の方法が採用
される。ヒドロシリル化反応には、触媒を用いることが
好ましい。触媒としては公知のものが何ら制限なく用い
る事ができる。具体的には、過酸化ジベンゾイル,過酸
化ジブチル,過酸化ジクミル,過安息香酸ブチル,過酢
酸ブチル,アゾイビスイソブチロニトリル等の有機過酸
化物;塩化白金酸,塩化イリジウム,塩化ルテニウム,
白金黒等の遷移金属化合物;テトラメチルエチレンジア
ミン,トリブチルアミン等の塩基が挙げられる。該反応
において使用する触媒量は、一般的には前記一般式〔V
I〕で示される化合物中に存在する二重結合に対し10-8
〜0.3当量、好ましくは10-6〜0.2当量の範囲から選ばれ
る。また、前記一般式〔VII〕で示される化合物は、前
記一般式〔VI〕で示される化合物に存在する二重結合に
対し1.0〜4.0当量の範囲で用いる事が好ましい。該反応
は、前記一般式〔VI〕及び前記一般式〔VII〕で示され
る化合物並びに触媒に対して実質的に不活性な触媒でお
こなう事もできるし、無溶媒でおこなう事もできる。さ
らに、該反応における反応温度は一般には50〜300℃、
好ましくは80〜200℃の範囲から選ばれる。また反応時
間は、1分〜2日、好ましくは5分〜24時間である。
The method for the hydrosilylation reaction of the compound represented by the general formula [VI] of the present invention is not particularly limited, and a known method for hydrosilylating a compound having a double bond is generally used. A catalyst is preferably used for the hydrosilylation reaction. Any known catalyst can be used without any limitation. Specifically, organic peroxides such as dibenzoyl peroxide, dibutyl peroxide, dicumyl peroxide, butyl perbenzoate, butyl peracetate, and azoibisisobutyronitrile; chloroplatinic acid, iridium chloride, ruthenium chloride,
Examples include transition metal compounds such as platinum black; bases such as tetramethylethylenediamine and tributylamine. The amount of catalyst used in the reaction is generally the above general formula [V
10-8 for the double bond present in the compound represented by [I]
To 0.3 equivalent, preferably 10 −6 to 0.2 equivalent. The compound represented by the general formula [VII] is preferably used in the range of 1.0 to 4.0 equivalents with respect to the double bond present in the compound represented by the general formula [VI]. The reaction can be carried out with a catalyst which is substantially inactive to the compounds represented by the general formula [VI] and the general formula [VII] and the catalyst, or without a solvent. Furthermore, the reaction temperature in the reaction is generally 50 to 300 ° C,
It is preferably selected from the range of 80 to 200 ° C. The reaction time is 1 minute to 2 days, preferably 5 minutes to 24 hours.

本発明の含フッ素シリル化合物は、既述の方法によっ
て製造した後、ケイ素原子の置換基を変換することによ
って製造する事ができる。ケイ素原子の置換基の変換
は、何ら制限なく公知の方法を採用することができる。
例えば、ケイ素原子に結合しているハロゲン原子及びア
ルコキシ基は、加水分解によって水酸基に変換すること
ができる。また、ケイ素原子に結合しているハロゲン原
子は、アルコールとの反応によりアルコキシ基に、グリ
ニヤール試薬等の炭素求核剤との反応によりアルキル基
に、また、水素化リチウムアルミニウム等の還元剤によ
り水素原子に変換する事ができる。更に、ケイ素原子に
結合している水素原子は、ハロゲン又はハロゲン化水素
との反応によってハロゲン原子に変換する事ができる。
The fluorine-containing silyl compound of the present invention can be produced by the method described above and then converting the substituent of the silicon atom. For the conversion of the substituent of the silicon atom, a known method can be adopted without any limitation.
For example, a halogen atom and an alkoxy group bonded to a silicon atom can be converted into a hydroxyl group by hydrolysis. Further, the halogen atom bonded to the silicon atom is converted into an alkoxy group by a reaction with an alcohol, an alkyl group by a reaction with a carbon nucleophile such as a Grignard reagent, and a hydrogen atom by a reducing agent such as lithium aluminum hydride. It can be converted into an atom. Further, the hydrogen atom bonded to the silicon atom can be converted into a halogen atom by a reaction with halogen or hydrogen halide.

(効 果) 本発明の前記一般式〔I〕で示される含フッ素エーテ
ル化合物は、各種の含フッ素化合物の製造原料として有
用な化合物である。また本発明の前記一般式〔I〕で示
される含フッ素エーテル化合物から容易に得られる、前
記一般式〔II〕で示される含フッ素シリル化合物のう
ち、ケイ素原子にハロゲン原子,水酸基又はアルコキシ
基を結合して有する化合物は、公知の方法によって高分
子量の化合物に誘導する事ができる。この高分子量の化
合物は、通常のシリコン系高分子とは異なり、フッ素含
量が高く、かつ高度に架橋されているため、耐熱性,低
温特性及び機械的特性が良好でかつ電気的特性が良好で
ある等の数々の特徴を有している。
(Effect) The fluorinated ether compound represented by the above general formula [I] of the present invention is a compound useful as a raw material for producing various fluorinated compounds. In the fluorine-containing silyl compound represented by the general formula [II], which is easily obtained from the fluorine-containing ether compound represented by the general formula [I] of the present invention, a halogen atom, a hydroxyl group or an alkoxy group is added to a silicon atom. The compound having a bond can be derived into a high molecular weight compound by a known method. Unlike ordinary silicone polymers, this high molecular weight compound has a high fluorine content and is highly crosslinked, so it has good heat resistance, low temperature properties, mechanical properties, and electrical properties. It has many features such as certain features.

また、前記一般式〔II〕で示される本発明の含フッ素
シリル化合物を用い、公知の方法により繊維,樹脂,ガ
ラス等の表面を処理すると、通常のフルオロシリコン系
処理剤とは異なり、反応点が多いため、基材に強固に接
着し、また含フッ素シリル化合物どうしも高度に架橋し
ているため、フッ素原子に由来する撥水撥油性、あるい
は低屈折率といった特性が長期間維持されるといった特
徴を有している。
Further, when the surface of the fiber, resin, glass or the like is treated by the known method using the fluorine-containing silyl compound of the present invention represented by the above general formula [II], the reaction point is different from the usual fluorosilicone treating agent. Since it is often present, it firmly adheres to the base material, and since the fluorine-containing silyl compounds are highly cross-linked, the properties such as water and oil repellency derived from the fluorine atom or low refractive index can be maintained for a long time. It has features.

更に、本発明の前記一般式〔II〕で示される含フッ素
シリル化合物は、他の有用な化合物の合成原料となりう
る。例えば、ケイ素原子に水素原子を結合して有する含
フッ素シリル化合物は、新規なヒドロシリル化反応剤と
して用いる事ができる。
Further, the fluorine-containing silyl compound represented by the above general formula [II] of the present invention can be a raw material for synthesizing other useful compounds. For example, a fluorine-containing silyl compound having a hydrogen atom bonded to a silicon atom can be used as a novel hydrosilylation reaction agent.

(実施例) 本発明を更に具体的に説明するため、以下に実施例を
挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定され
るものではない。
(Examples) In order to more specifically describe the present invention, examples will be described below, but the present invention is not limited to these examples.

実施例 1 (a) 撹拌機及び滴下ロートを取り付けた500ml三ッ
口フラスコにNaH17.5g及び乾燥テトラグライム150mlを
入れた。フラスコを氷浴につけ、撹拌しながらアリルア
ルコール100gを90分かけて滴下した。滴下終了後、20分
間氷冷下で撹拌したのち CF2=CFOCF2CF2OCF=CF2 92.1gを徐々に滴下した。滴下
終了後1時間撹拌したのち、氷水に注ぎ、有機層を分離
した。有機層をMgSO4で乾燥、ろ過したのちに蒸留した
ところ、113〜116℃/15mmHgの留分が88.1g得られた。該
留分の化合物の構造はIR,19F−NMR,1H−NMR,MS及び元素
分析により (CH2=CHCH2OCF2CFHOCF2 である事が確認された。
Example 1 (a) To a 500 ml three-necked flask equipped with a stirrer and a dropping funnel, 17.5 g of NaH and 150 ml of dried tetraglyme were placed. The flask was placed in an ice bath and 100 g of allyl alcohol was added dropwise over 90 minutes while stirring. After completion of dropping, the mixture was slowly added dropwise CF 2 = CFOCF 2 CF 2 OCF = CF 2 92.1g After stirring at 20 minutes ice cooling. After completion of dropping, the mixture was stirred for 1 hour, poured into ice water, and the organic layer was separated. The organic layer was dried over MgSO 4 , filtered, and then distilled to obtain 88.1 g of a fraction of 113 to 116 ° C./15 mmHg. The structure of the compound of the fraction was confirmed by IR, 19 F-NMR, 1 H-NMR, MS and elemental analysis to be (CH 2 = CHCH 2 OCF 2 CFHOCF 2 2 ).

イ) IR(第1図にチヤートを示した。) 1655cm-1(−CH2CH=CH2) 1050〜1300cm-1(−CF2−) ロ) 19F−NMR,1H−NMR(第2図及び第3図にチヤート
を示した。) ケミカルシフト (e) 88.0,90.0ppm (f) 142.2ppm (h) 88.7ppm (a) 5.21ppm (b) 5.36ppm (c) 5.84ppm (d) 4.41ppm (g) 5.75ppm ハ) MS M/e 410 M+(分子イオンピーク) M/e 41 +CH2CH=CH2 (b) 内径25mmのパイレックス管に (CH2=CHCH2OCF2CFHOCF2 212.7g,メチルジクロロシラ
ン14.3g及び塩化白金酸の0.1Mイソプロピルアルコール
溶液120μを入れ、これを封じた。油浴中で7.5時間,1
00℃で加熱したのち開封し、内容物を蒸留したところ、
沸点125〜127℃/0.3mmHgの留分が17.3g得られた。該留
分の化合物の構造は、IR,19F−NMR,1H−NMR,MS及び元素
分析により である事が確認された。
B) IR (Chart is shown in Fig. 1 ) 1655cm -1 (-CH 2 CH = CH 2 ) 1050 to 1300cm -1 (-CF 2- ) b) 19 F-NMR, 1 H-NMR ( The chart is shown in FIGS. 2 and 3.) Chemical shift (e) 88.0,90.0ppm (f) 142.2ppm (h) 88.7ppm (a) 5.21ppm (b) 5.36ppm (c) 5.84ppm (d) 4.41ppm (g) 5.75ppm c) MS M / e 410 M + (Molecular ion peak) M / e 41 + CH 2 CH = CH 2 (b) In a Pyrex tube with an inner diameter of 25 mm (CH 2 = CHCH 2 OCF 2 CFHOCF 2 2 12.7 g, methyldichlorosilane 14.3 g and platinum chloride) 120 μ of 0.1 M isopropyl alcohol solution of acid was put and sealed, and then in an oil bath for 7.5 hours, 1
After heating at 00 ° C and opening, and distilling the contents,
As a result, 17.3 g of a fraction having a boiling point of 125 to 127 ° C / 0.3 mmHg was obtained. The structure of the compound of the fraction was determined by IR, 19 F-NMR, 1 H-NMR, MS and elemental analysis. It was confirmed that

イ) IR(第4図にチヤートを示した。) 2940,3000cm-1(−CH2−) 1050〜1300cm-1(−CF2−) ロ) 19F−NMR,1H−NMR(第5図,第6図にチヤートを
示した。) ケミカルシフト (e) 88.2,89.8ppm (f) 142.2ppm (h) 88.7ppm (a) 0.76ppm (b) 1.0〜1.3ppm (c) 1.7〜2.2ppm (d) 3.96ppm (g) 5.74ppm ハ) MS 実施例 2 (a) 撹拌機,還流コンデンサー及び滴下ロートを取
り付けた300mlフラスコにNaH0.2g及び乾燥エーテル50ml
を入れた。フラスコを氷浴につけ、撹拌しながら2−ブ
ロモエタノール62.5gを徐々に滴下した。滴下終了後、
氷冷下、CF2=CFOCF2CF2OCF=CF2 44.1gを徐々に滴下し
たのち昇温し、48時間還流した。反応終了後、氷水に注
ぎ、有機層を分離したのちMgSO4で乾燥し、蒸留により
精製した。該化合物の構造は、IR,19F−NMR,1H−NMR,MS
及び元素分析により (BrCH2CH2OCF2CFHOCF2 である事が確認された。
B) IR (chart is shown in Fig. 4) 2940,3000 cm -1 (-CH 2- ) 1050 to 1300 cm -1 (-CF 2- ) b) 19 F-NMR, 1 H-NMR (fifth Charts are shown in Figures and 6.) Chemical shift (e) 88.2,89.8ppm (f) 142.2ppm (h) 88.7ppm (a) 0.76ppm (b) 1.0 to 1.3ppm (c) 1.7 to 2.2ppm (d) 3.96ppm (g) 5.74ppm c) MS Example 2 (a) 0.2 g NaH and 50 ml dry ether in a 300 ml flask equipped with a stirrer, reflux condenser and dropping funnel.
I put it in. The flask was placed in an ice bath, and 62.5 g of 2-bromoethanol was gradually added dropwise while stirring. After the dropping is completed,
Under ice cooling, CF 2 = CFOCF 2 CF 2 OCF = CF 2 44.1 g was gradually added dropwise, the temperature was raised, and the mixture was refluxed for 48 hours. After completion of the reaction, the mixture was poured into ice water, the organic layer was separated, dried over MgSO 4 , and purified by distillation. The structure of the compound is IR, 19 F-NMR, 1 H-NMR, MS.
And elemental analysis confirmed that it was (BrCH 2 CH 2 OCF 2 CFHOCF 2 2 .

イ) IR 3000cm-1(−CH2−) 1050〜1350cm-1(−CF2−) ロ) 19F−NMR,1H−NMR ケミカルシフト (c) 88.2,89.8ppm (d) 142.3ppm (f) 88.7ppm (a) 3.39ppm (b) 4.20ppm (e) 5.77ppm ハ) MS M/e 107 +CH2CH2Br M/e 463 M+−Br (b) 撹拌機及び還流コンデンサーを取り付けた200m
lフラスコにKOH10.3g,メタノール50ml及び前記(a)で
得られた (BrCH2CH2OCF2CFHOCF2 235.0gを入れ、8時間還流し
た。反応終了後、反応混合液を氷水に注ぎ、有機層を分
離したのち蒸留により(CH2=CHOCF2CFHOCF2 を13.2
g得た。該化合物の構造は、IR,19F−NMR,1H−NMR,MS及
び元素分析により確認した。
A) IR 3000cm -1 (-CH 2- ) 1050 to 1350cm -1 (-CF 2- ) b) 19 F-NMR, 1 H-NMR Chemical shift (c) 88.2,89.8ppm (d) 142.3ppm (f) 88.7ppm (a) 3.39ppm (b) 4.20ppm (e) 5.77ppm c) MS M / e 107 + CH 2 CH 2 Br M / e 463 M + −Br (b) 200m equipped with stirrer and reflux condenser
10.3 g of KOH, 50 ml of methanol and (BrCH 2 CH 2 OCF 2 CFHOCF 2 2 35.0 g) obtained in the above (a) were placed in a flask and refluxed for 8 hours. After completion of the reaction, the reaction mixture was poured into ice water, by distillation after separating the organic layer (CH 2 = CHOCF 2 CFHOCF 2 2 13.2
g got. The structure of the compound was confirmed by IR, 19 F-NMR, 1 H-NMR, MS and elemental analysis.

イ) IR 1655cm-1(−CH=CH2) 1050〜1350cm-1(−CF2−) ロ) 19F−NMR,1H−NMR ケミカルシフト (d) 88.0,90.0ppm (e) 142.2ppm (g) 88.7ppm (a) 4.61ppm (b) 4.90ppm (c) 6.56ppm (f) 5.81ppm ハ) MS M/e 93 +CF2OCH=CH2 M/e 241 CH2=CHOCF2CFHOCF2CF2 + (c) 実施例1−(b)に詳細に説明したのちと同様
な方法で を得た。該化合物の構造はIR,19F−NMR,1H−NMR,MS及び
元素分析により確認した。
A) IR 1655cm -1 (-CH = CH 2 ) 1050 to 1350cm -1 (-CF 2- ) b) 19 F-NMR, 1 H-NMR Chemical shift (d) 88.0,90.0ppm (e) 142.2ppm (g) 88.7ppm (a) 4.61ppm (b) 4.90ppm (c) 6.56ppm (f) 5.81ppm c) MS M / e 93 + CF 2 OCH = CH 2 M / e 241 CH 2 = CHOCF 2 CFHOCF 2 CF 2 + (c) In the same manner as described in detail in Example 1- (b). I got The structure of the compound was confirmed by IR, 19 F-NMR, 1 H-NMR, MS and elemental analysis.

イ) IR 2950,2990cm-1(−CH2−) 1050〜1350cm-1(−CF2−) ロ) 19F−NMR,1H−NMR ケミカルシフト (d) 88.1,89.8ppm (e) 142.2ppm (g) 88.7ppm (a) 0.79ppm (b) 1.59ppm (c) 4.21ppm (f) 5.76ppm 実施例 3 (a) 撹拌機,−20℃の温度の還流コンデンサー及び
滴下ロートを取り付けた500ml三ッ口フラスコに乾燥テ
トラグライム200mlと無水KF1.6gを入れた。反応器を5
℃に冷却し、 90.0gを30分かけて滴下したのち、16時間撹拌を続け
た。
A) IR 2950,2990 cm -1 (-CH 2- ) 1050 to 1350 cm -1 (-CF 2- ) b) 19 F-NMR, 1 H-NMR Chemical shift (d) 88.1,89.8ppm (e) 142.2ppm (g) 88.7ppm (a) 0.79ppm (b) 1.59ppm (c) 4.21ppm (f) 5.76ppm Example 3 (a) Stirrer, -20 200 ml of dried tetraglyme and 1.6 g of anhydrous KF were placed in a 500 ml three-necked flask equipped with a reflux condenser having a temperature of ° C and a dropping funnel. 5 reactors
Cooled to ℃, After 90.0 g was added dropwise over 30 minutes, stirring was continued for 16 hours.

反応器のコンデンサーを取りはずし、蒸留装置を取り
付け、蒸留により沸点79℃/26mmHgの留分を得た。該留
分の構造はIR,19F−NMR,1H−NMR,MS,元素分析により、 であることが確認された。
The condenser of the reactor was removed, a distillation apparatus was attached, and a fraction having a boiling point of 79 ° C / 26 mmHg was obtained by distillation. The structure of the fraction was determined by IR, 19 F-NMR, 1 H-NMR, MS, and elemental analysis. Was confirmed.

イ) IR 2900,3000,3030cm-1(−CH3) 1890cm-1(−COF) ロ) MS M/e 181 CH3OCF2CF2CF2 + M/e 81 +CF2OCH3 (b) コンデンサー,滴下ロート,撹拌機を取り付け
た200ml三ッ口フラスコにSbF5 5.0gとクライトックスAZ
(商品名:デュポン社製)を70ml入れたのち、反応器を
0℃に冷却し、 76.0gを20分かけて滴下した。滴下終了後、徐々に温度
を上げてゆき、80℃まで昇温した。60℃で反応液からガ
スが発生しだした。分析の結果、このガスはCH3Fであっ
た。100℃で4時間撹拌を続けたのち、反応器より直接
蒸留により を得た。該化合物の構造は、IR,19F−NMR,MS及び元素分
析により確認した。
B) IR 2900,3000,3030cm -1 (-CH 3 ) 1890cm -1 (-COF) b) MS M / e 181 CH 3 OCF 2 CF 2 CF 2 + M / e 81 + CF 2 OCH 3 (B) In a 200 ml three-necked flask equipped with a condenser, dropping funnel and stirrer, 5.0 g of SbF 5 and Krytox AZ
(Product name: made by DuPont) After adding 70 ml, cool the reactor to 0 ° C, 76.0 g was added dropwise over 20 minutes. After the dropping was completed, the temperature was gradually raised to 80 ° C. Gas started to be generated from the reaction solution at 60 ° C. As a result of analysis, this gas was CH 3 F. Continue stirring at 100 ° C for 4 hours, then by direct distillation from the reactor. I got The structure of the compound was confirmed by IR, 19 F-NMR, MS and elemental analysis.

イ) IR 1885cm-1(−COF) ロ) 19F−NMR ケミカルシフト (a) −23.7ppm (b) 118.9ppm (c) 82.9ppm (d) 117.4ppm (e),(f) −21.3ppm ハ) MS (c) 200mlガラス製オートクレーブに乾燥テトラグ
ライム10ml,無水KF1.0g及び 65.2gを入れた。−78℃に冷却し、オートクレーブ内を
脱気したのち、−10℃まで昇温し、−10℃で撹拌しなが
らHFPO150gを5時間かけて導入した。撹拌を中止すると
2層にわかれた。下層を取り出して蒸留し を96g得た。該化合物の構造はIR,19F−NMR,MS及び元素
分析で確認した。
B) IR 1885cm -1 (-COF) b) 19 F-NMR Chemical shift (a) -23.7ppm (b) 118.9ppm (c) 82.9ppm (d) 117.4ppm (e), (f) -21.3ppm c) MS (C) 10 ml of dried tetraglyme, 1.0 g of anhydrous KF and 200 ml of glass autoclave Added 65.2g. After cooling to −78 ° C. and degassing the inside of the autoclave, the temperature was raised to −10 ° C., and 150 g of HFPO was introduced over 5 hours while stirring at −10 ° C. When the stirring was stopped, it was divided into two layers. Take out the lower layer and distill it 96g was obtained. The structure of the compound was confirmed by IR, 19 F-NMR, MS and elemental analysis.

イ) IR 1890cm-1(−COF) 1050〜1400cm-1(−CF2−) ロ) MS (d) 撹拌機及び蒸留装置を取り付けた100ml三ッ口
フラスコに希釈剤としてフオンブリンYR(商品名:旭硝
子(株)製)90g及び を76.3gを入れた。反応器内を3mmHgに減圧し、200℃で
1時間撹拌したところ、42.1gの留出物が得られた。蒸
留によって精製して CF2=CFOCF2CF2CF2OCF(CF2OCF=CF2 を29.6g得た。該化合物の構造はIR,19F−NMR,MS及び元
素分析により確認した。
B) IR 1890cm -1 (-COF) 1050 to 1400cm -1 (-CF 2- ) b) MS (D) 90 g of Huomblin YR (trade name: manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) as a diluent in a 100 ml three-necked flask equipped with a stirrer and a distillation device 76.3g was put. The pressure in the reactor was reduced to 3 mmHg, and the mixture was stirred at 200 ° C. for 1 hour to obtain 42.1 g of distillate. Purification by distillation to give 29.6g of CF 2 = CFOCF 2 CF 2 CF 2 OCF (CF 2 OCF = CF 2) 2. The structure of the compound was confirmed by IR, 19 F-NMR, MS and elemental analysis.

イ) IR 1845cm-1(−OCF=CF2) 1050〜1400cm-1(−CF2−) ロ) MS M/e 341 +CF(CF2OCF=CF2 M/e 247 CF2=CFOCF2CF2CF2 + (e) 撹拌機及び滴下ロートを取り付けた200ml三ッ
口フラスコにNaH4.3g及び乾燥ジグライム50mlを入れ
た。フラスコを氷浴につけ、アリルアルコール35.0gを
徐々に滴下した。滴下終了後、30分間氷冷下で撹拌した
のちCF2=CFOCF2CF2CF2OCF(CF2OCF=CF2 32.3gを徐々に滴下した。滴下終了後昇温し、室温で1
時間撹拌をしたのち、氷水に注ぎ、有機層を分離し、Mg
SO4で乾燥した。その後、蒸留により CH2=CHCH2OCF2CFHOCF2CF2CF2OCF(CF2OCFHCF2OCH2CH=CH2 を27.3g得た。該化合物の構造はIR,19F−NMR,1H−NMR,M
S及び元素分析により確認した。
B) IR 1845cm -1 (-OCF = CF 2 ) 1050 to 1400cm -1 (-CF 2- ) b) MS M / e 341 + CF (CF 2 OCF = CF 2 ) 2 M / e 247 CF 2 = CFOCF 2 CF 2 CF 2 + (e) 4.3 g of NaH and 50 ml of dry diglyme were placed in a 200 ml three-necked flask equipped with a stirrer and a dropping funnel. The flask was placed in an ice bath, and 35.0 g of allyl alcohol was gradually added dropwise. After completion of the dropwise addition, CF 2 = CFOCF 2 CF 2 CF 2 OCF After stirring 30 minutes under ice-cooling (CF 2 OCF = CF 2) was gradually added dropwise 2 32.3 g. After the dropping, the temperature is raised to 1 at room temperature.
After stirring for a period of time, pour into ice water and separate the organic layer.
Dried with SO 4 . Then, 27.3 g of CH 2 = CHCH 2 OCF 2 CFHOCF 2 CF 2 CF 2 OCF (CF 2 OCFHCF 2 OCH 2 CH = CH 2 ) 2 was obtained by distillation. The structure of the compound is IR, 19 F-NMR, 1 H-NMR, M
Confirmed by S and elemental analysis.

イ) IR 1655cm-1(−CH2CH=CH2) 1050〜1400cm-1(−CF2−) ロ) MS M/e 441 +CF(CF2OCFHCF2OCH2CH=CH2 M/e 41 +CH2CH=CH2 (f) 実施例1−(b)で詳細に説明したのと同様な
方法により、 CH2=CHCH2OCF2CFHOCF2CF2CF2OCF(CF2OCFHCF2OCH2CH=CH2 と HSiCl3から Cl3Si(CH23OCF2CFHOCF2CF2CF2OCF〔CF2OCFHCF2O(CH23SiCl3 を得た。該化合物の構造は、IR,19F−NMR,1H−NMR,MS及
び元素分析により確認した。
B) IR 1655cm -1 (-CH 2 CH = CH 2 ) 1050 to 1400cm -1 (-CF 2- ) b) MS M / e 441 + CF (CF 2 OCFHCF 2 OCH 2 CH = CH 2 ) 2 M / e 41 + CH 2 CH = CH 2 (f) By the same method as described in detail in Example 1- (b), CH 2 = CHCH 2 OCF 2 CFHOCF 2 CF 2 CF 2 OCF (CF 2 OCFHCF 2 OCH 2 CH = CH 2) 2 and Cl 3 Si (CH 2 from HSiCl 3) 3 OCF 2 CFHOCF 2 CF 2 CF 2 OCF [CF 2 OCFHCF 2 O (CH 2 ) 3 SiCl 3 ] to give 2. The structure of the compound was confirmed by IR, 19 F-NMR, 1 H-NMR, MS and elemental analysis.

イ) IR 2940,2990cm-1(−CH2−) 1050〜1400cm-1(−CF2−) ロ) MS M/e 709 +CF(CF2OCFHCF2O(CH23SiCl3 M/e 133 +SiCl3 実施例 4 (a) 撹拌機,−20℃の温度の還流コンデンサー及び
滴下ロートを取り付けた300mlの三ッ口フラスコに乾燥
テトラグラム150mlと無水KF12.0を入れた。反応器を0
℃に冷却し、パーフルオログルタリルフルオライド30.0
gを10分間で滴下した後、更に1時間撹拌し、アルコキ
シドを十分生成させた。
B) IR 2940,2990cm -1 (-CH 2- ) 1050 to 1400cm -1 (-CF 2- ) b) MS M / e 709 + CF (CF 2 OCFHCF 2 O (CH 2 ) 3 SiCl 3 ) 2 M / e 133 + SiCl 3 Example 4 (a) 150 ml of dried tetragram and anhydrous KF12.0 were put into a 300 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a reflux condenser at a temperature of -20 ° C and a dropping funnel. 0 reactor
Cool to ℃, perfluoroglutaryl fluoride 30.0
After g was added dropwise over 10 minutes, the mixture was stirred for 1 hour to sufficiently generate alkoxide.

反応器を0℃に保ちながら 44.2gを30分かけて徐々に滴下した。滴下終了後、2時
間撹拌し、反応器の温度を室温に上昇させ、更に6時間
撹拌した。
While keeping the reactor at 0 ° C 44.2 g was gradually added dropwise over 30 minutes. After completion of dropping, the mixture was stirred for 2 hours, the temperature of the reactor was raised to room temperature, and further stirred for 6 hours.

反応器のコンデンサーをはずし、蒸留装置を取り付
け、蒸流により を38.6g得た。該化合物の構造は、IR,19F−NMR,1H−NM
R,MS,元素分析により確認した。
Remove the condenser of the reactor, attach the distillation device, and steam 38.6 g was obtained. The structure of the compound is IR, 19 F-NMR, 1 H-NM.
It was confirmed by R, MS and elemental analysis.

イ) IR 3030,3000,2900cm-1(−CH3) 1880cm-1(−COF) ロ) MS M/e 81 +CF2OCH3 (b) 実施例3−(b)で詳細に説明したのと同様な
方法を用いて、 を得た。該化合物の構造はIR,19F−NMR,MS,元素分析に
より確認した。
B) IR 3030,3000,2900cm -1 (-CH 3 ) 1880cm -1 (-COF) b) MS M / e 81 + CF 2 OCH 3 (B) Using a method similar to that described in detail in Example 3- (b), I got The structure of the compound was confirmed by IR, 19 F-NMR, MS and elemental analysis.

イ) IR 1890cm-1(−COF) ロ) 19F−NMR ケミカルシフト (a),(b),(j),(k) −21.5ppm (c),(i) 117.0ppm (d),(h) 80.2ppm (e),(g) 123.0ppm (f) 121.1ppm ハ) MS (c) 実施例3−(c)及び(d)で詳細に説明した
のと同様な方法を用いて (CF2=CFOCF22CFO(CF25OCF(CF2OCF=CF2 を得た。該化合物の構造は、IR,19F−NMR,1H−NMR,MS及
び元素分析により確認した。
B) IR 1890cm -1 (-COF) b) 19 F-NMR Chemical shift (a), (b), (j), (k) -21.5ppm (c), (i) 117.0ppm (d), (h) 80.2ppm (e), (g) 123.0ppm (f) 121.1ppm c) MS (C) Using a method similar to that described in detail in Example 3- (c) and (d). (CF 2 = CFOCF 2 ) 2 CFO (CF 2 ) 5 OCF (CF 2 OCF = CF 2 ) 2 was obtained. The structure of the compound was confirmed by IR, 19 F-NMR, 1 H-NMR, MS and elemental analysis.

(d) 実施例1−(a)で詳細に説明したのと同様な
方法を用いて (CF2=CFOCF22CFO(CF25OCF(CF2OCF=CF2 から (CH2=CHCH2OCF2CFHOCF22CFO(CF25OCF(CF2OCFHCF2OCH2CH=CH2 を合成した。該化合物の構造はIR,19F−NMR,1H−NMR,MS
及び元素分析により確認した。
(D) Using the same method as described in detail in Example 1- (a), (CF 2 = CFOCF 2 ) 2 CFO (CF 2 ) 5 OCF (CF 2 OCF = CF 2 ) 2 to (CH 2 = CHCH 2 OCF 2 CFHOCF 2 ) 2 CFO (CF 2) 5 OCF (CF 2 OCFHCF 2 OCH 2 CH = CH 2) 2 was synthesized. The structure of the compound is IR, 19 F-NMR, 1 H-NMR, MS
And confirmed by elemental analysis.

イ) IR 1655cm-1(−CH2CH=CH2) 1050〜1400cm-1(−CF2−) ロ) MS M/e 441 +CF(CF2OCFHCF2OCH2CH=CH2 M/e 41 +CH2CH=CH2 (e) 実施例1−(b)で詳細に説明したのと同様な
方法により、 (CH2=CHCH2OCF2CFHOCF22CFO(CF25OCF(CF2OCFHCF2OCH2CH=CH2 を得た。該化合物の構造はIR,19F−NMR,1H−NMR,MS及び
元素分析により確認した。
B) IR 1655cm -1 (-CH 2 CH = CH 2 ) 1050 to 1400cm -1 (-CF 2- ) b) MS M / e 441 + CF (CF 2 OCFHCF 2 OCH 2 CH = CH 2 ) 2 M / e 41 + CH 2 CH = CH 2 (e) By the same method as described in detail in Example 1- (b), (CH 2 = CHCH 2 OCF 2 CFHOCF 2 ) 2 CFO (CF 2 ) 5 OCF (CF 2 OCFHCF 2 OCH 2 CH = CH 2 ) 2 I got The structure of the compound was confirmed by IR, 19 F-NMR, 1 H-NMR, MS and elemental analysis.

イ) IR 2945,2990cm-1(−CH2−) 1050〜1400cm-1(−CF2−) ロ) MS 実施例 5 (a) 撹拌機及び滴下ロートを取り付けた200mlフラ
スコにNaH2.9g,ジオキサン50mlを入れたのち、氷冷下で
HOCH2(CF23CH2OH12.6gを徐々に滴下した。滴下終了
後、反応液を200mlステンレス製オートクレーブに移し
たのち、オートクレーブを30℃に加熱し、テトラフルオ
ロエチレンで20Kg/cm2に加圧した。5時間撹拌を続けた
ところでテトラフルオロエチレンの吸収が止った。未反
応のテトラフルオロエチレンを放出したのち、オートク
レーブから直接CF2=CFOCH2(CF23CH2OCF=CF2を留出
させた。該化合物の構造はIR,19F−NMR,1H−NMR,MS及び
元素分析で確認した。
B) IR 2945, 2990cm -1 (-CH 2- ) 1050 to 1400cm -1 (-CF 2- ) b) MS Example 5 (a) After putting 2.9 g of NaH and 50 ml of dioxane into a 200 ml flask equipped with a stirrer and a dropping funnel, under ice cooling.
12.6 g of HOCH 2 (CF 2 ) 3 CH 2 OH was gradually added dropwise. After completion of the dropping, the reaction solution was transferred to a 200 ml stainless steel autoclave, the autoclave was heated to 30 ° C., and pressurized with tetrafluoroethylene to 20 kg / cm 2 . When stirring was continued for 5 hours, the absorption of tetrafluoroethylene stopped. After releasing unreacted tetrafluoroethylene, CF 2 = CFOCH 2 (CF 2 ) 3 CH 2 OCF = CF 2 was directly distilled from the autoclave. The structure of the compound was confirmed by IR, 19 F-NMR, 1 H-NMR, MS and elemental analysis.

イ) IR 2980cm-1(−CH2−) 1835cm-1(−CF=CF2) 1050〜1400cm-1(−CF2−) ロ) MS M/e 372 M+(分子イオンピーク) (b) 撹拌機及び滴下ロートを取り付けた100mlフラ
スコにNaH1.9g,エーテル30mlを入れた。フラスコを氷水
につけ、撹拌しつつアリルアルコール13.6gを徐々に滴
水した。氷冷下30分撹拌したのち、前記(a)で得られ
たCF2=CFOCH2(CF23CH2OCF=CF2 13.3gを加え、その後室温で1時間撹拌したのち、氷浴
に注ぎ、有機層を分離し、乾燥後、蒸留により CH2=CHCH2OCF2CFHOCH2(CF23CH2OCFHCF2OCH2CH=CH2 を12.1gを得た。該化合物の構造はIR,19F−NMR,1H−NM
R,MS及び元素分析により確認した。
B) IR 2980cm -1 (-CH 2- ) 1835cm -1 (-CF = CF 2 ) 1050 to 1400cm -1 (-CF 2- ) b) MS M / e 372 M + (Molecular ion peak) (b) In a 100 ml flask equipped with a stirrer and a dropping funnel, 1.9 g of NaH and 30 ml of ether were placed. The flask was immersed in ice water, and 13.6 g of allyl alcohol was gradually added dropwise with stirring. After stirring for 30 minutes under ice-cooling, 13.2 g of CF 2 = CFOCH 2 (CF 2 ) 3 CH 2 OCF = CF 2 obtained in (a) above was added, and then stirred at room temperature for 1 hour, and then placed in an ice bath. It was poured, the organic layer was separated, dried, and then distilled to obtain 12.1 g of CH 2 = CHCH 2 OCF 2 CFHOCH 2 (CF 2 ) 3 CH 2 OCFHCF 2 OCH 2 CH = CH 2 . The structure of the compound is IR, 19 F-NMR, 1 H-NM.
Confirmed by R, MS and elemental analysis.

イ) IR 2930,2980cm-1(−CH2−) 1655cm-1(−CH2CH=CH2) 1050〜1400cm-1(−CF2−) ロ) 19F−NMR,1H−NMR ケミカルシフト (e) 88.0ppm (f) 143.8ppm (i) 122.8ppm (j) 126.9ppm (a) 5.19ppm (b) 5.33ppm (c) 5.88ppm (d) 4.38ppm (g) 5.20ppm (h) 4.15ppm ハ) MS M/e 488 M+(分子イオンピーク) M/e 41 +CH2CH=CH2 (c) 内径20mmのパイレックス管に、前記(b)で得
られた CH2=CHCH2OCF2CFHOCH2(CF23CH2OCFHCF2OCH2CH=CH2 9.5g,メチルジクロロシラン5.6g及び塩化白金酸の0.1
Mイソプロピルアルコール溶液100μを入れたのち、こ
れを封じた。油浴中で16時間,90℃で加熱したのち開封
し、内容物を蒸留し、 10.2gを得た。該化合物の構造は、IR,19F−NMR,1H−NM
R,MS及び元素分析により確認した。
A) IR 2930, 2980cm -1 (-CH 2- ) 1655cm -1 (-CH 2 CH = CH 2 ) 1050 to 1400cm -1 (-CF 2- ) b) 19 F-NMR, 1 H-NMR Chemical shift (e) 88.0ppm (f) 143.8ppm (i) 122.8ppm (j) 126.9ppm (a) 5.19ppm (b) 5.33ppm (c) 5.88ppm (d) 4.38ppm (g) 5.20ppm (h) 4.15ppm c) MS M / e 488 M + (Molecular ion peak) M / e 41 + CH 2 CH = CH 2 (c) In a Pyrex tube with an inner diameter of 20 mm, CH 2 = CHCH 2 obtained in (b) above OCF 2 CFHOCH 2 (CF 2 ) 3 CH 2 OCFHCF 2 OCH 2 CH = CH 2 9.5 g, methyldichlorosilane 5.6 g and chloroplatinic acid 0.1
After adding 100 μ of M isopropyl alcohol solution, this was sealed. After heating in an oil bath at 90 ° C for 16 hours, the bag is opened, the contents are distilled, 10.2 g was obtained. The structure of the compound is IR, 19 F-NMR, 1 H-NM.
Confirmed by R, MS and elemental analysis.

イ) IR 2940,2990cm-1(−CH2−) 1050〜1400cm-1(−CF2−) ロ) 19F−NMR,1H−NMR ケミカルシフト (e) 88.1ppm (f) 143.7ppm (i) 122.7ppm (j) 126.9ppm (a) 0.75ppm (b) 0.9〜1.3ppm (c) 1.6〜2.2ppm (d) 3.93ppm (g) 5.20ppm (h) 4.13ppm ハ) MS 実施例 6 磁気撹拌子を入れた100mlのフラスコに、ヘキサン25m
lを入れ0℃に冷却した。撹拌しながらメタノール2.6g,
ピリジン6.4gを加えたのち、実施例1で得られた 12.2gを滴下した。30分撹拌したのち、ろ過して沈殿物
を除去し、減圧下溶媒を留去した。残査を蒸留により留
去したところ が10.1g得られた。該化合物の構造は、IR,19F−NMR,1H
−NMR,MS及び元素分析で確認した。
B) IR 2940,2990 cm -1 (-CH 2- ) 1050 to 1400 cm -1 (-CF 2- ) b) 19 F-NMR, 1 H-NMR Chemical shift (e) 88.1ppm (f) 143.7ppm (i) 122.7ppm (j) 126.9ppm (a) 0.75ppm (b) 0.9 to 1.3ppm (c) 1.6 to 2.2ppm (d) 3.93ppm (g) 5.20 ppm (h) 4.13ppm c) MS Example 6 In a 100 ml flask containing a magnetic stirring bar, 25 m of hexane was added.
1 was charged and cooled to 0 ° C. 2.6 g of methanol with stirring,
Obtained in Example 1 after adding 6.4 g of pyridine 12.2 g was added dropwise. After stirring for 30 minutes, the precipitate was removed by filtration, and the solvent was evaporated under reduced pressure. When the residue was distilled off Was obtained 10.1 g. The structure of the compound is IR, 19 F-NMR, 1 H
-Confirmed by NMR, MS and elemental analysis.

実施例 7 回転子を入れた側管付100mlフラスコに水35ml,エーテ
ル15ml及びNaHCO34.0gを入れ、激しく撹拌しながら、実
施例1で得られた 7.0を滴下した。6時間反応したのち、有機層を分離
し、飽和食塩水で洗い、CaSO4で乾燥後、溶媒を留去し
た。残査を90℃で減圧乾燥した後、IRを測定すると3350
cm-1付近にSiOH基に由来する吸収が観測され が得られている事がわかった。
Example 7 35 ml of water, 15 ml of ether and 4.0 g of NaHCO 3 were placed in a 100 ml flask with a side tube containing a rotor and obtained in Example 1 with vigorous stirring. 7.0 was added dropwise. After reacting for 6 hours, the organic layer was separated, washed with saturated brine, dried over CaSO 4 , and the solvent was distilled off. After drying the residue at 90 ° C under reduced pressure, the IR was measured to be 3350.
Absorption derived from SiOH group was observed near cm -1. It was found that

実施例 8 撹拌機及び還流コンデンサーを取り付けた100mlフラ
スコに、エーテル20ml,LiAlH4 0.35gを入れた。激しく
撹拌しつつ、実施例1で詳細に説明したのと同様な方法
で合成した を10.0gのエーテル溶液を、エーテルがおだやかに還流
する様に滴下した。滴下終了後、更に6時間反応を続け
たのち、ソックスレー抽出器を用いて、無機塩類を除去
した。エーテルを留去したのち、分留して を4.5g得た。該化合物の構造はIR,19F−NMR,1H−NMR及
びMSで確認した。
Example 8 20 ml of ether and 0.35 g of LiAlH 4 were placed in a 100 ml flask equipped with a stirrer and a reflux condenser. Synthesis was carried out in the same manner as described in detail in Example 1 with vigorous stirring. Was added dropwise to a solution of 10.0 g of ether so that the ether was gently refluxed. After the dropping was completed, the reaction was continued for 6 hours, and then inorganic salts were removed using a Soxhlet extractor. After distilling off the ether, fractional distillation 4.5g was obtained. The structure of the compound was confirmed by IR, 19 F-NMR, 1 H-NMR and MS.

実施例 9 回転子の入った側管付100mlフラスコにエーテル20ml
及び実施例1で詳細に説明したのと同様な方法で合成し
を6.3g入れ、これに、予め調整しておいたCH3MgBrのエ
ーテル溶液を加えた。反応終了後、反応混合液を氷水に
注ぎ、有機層を分離したのち、溶媒を留去した。この化
合物の1H−NMRを測定したところ、0.02ppm付近に水素原
子3個分の吸収が認められ が得られている事がわかった。
Example 9 20 ml of ether in a 100 ml flask with a side tube containing a rotor
And was synthesized in the same manner as described in detail in Example 1. Was added to this, and a previously adjusted ether solution of CH 3 MgBr was added thereto. After the reaction was completed, the reaction mixture was poured into ice water to separate the organic layer, and then the solvent was distilled off. When 1 H-NMR of this compound was measured, absorption of three hydrogen atoms was observed near 0.02 ppm. It was found that

実施例10 実施例1〜5で詳細に述べたのと同様な方法により、
第1表に示した含フッ素エーテル化合物を合成した。な
お、第1表には、合成した含フッ素エーテル化合物の赤
外吸収スペクトルにおける特性吸収及びMSの結果を併せ
て略記した。
Example 10 By a method similar to that described in detail in Examples 1 to 5,
The fluorine-containing ether compounds shown in Table 1 were synthesized. In addition, in Table 1, the characteristic absorption in the infrared absorption spectrum of the synthesized fluorine-containing ether compound and the results of MS are also summarized.

実施例11 実施例1〜9で詳細に説明したのと同様な方法によ
り、第2表に示した含フッ素シリル化合物を合成した。
なお、第2表には、合成した含フッ素シリル化合物のMS
の結果も併せて略記した。
Example 11 The fluorine-containing silyl compounds shown in Table 2 were synthesized by the same method as described in detail in Examples 1-9.
Table 2 shows the MS of the synthesized fluorine-containing silyl compound.
The results are also summarized.

用途例 実施例6で得られた をメタノール100重量部に溶解したものに、0.1N−塩酸
0.2重量部を加えた処理液を予めアルカリ処理したCR−3
9(ジエチレングリコールビスアリルカーボネートの重
合体)の板を浸漬したのち、100℃で2時間加熱硬化さ
せた。得られたサンプルを沸騰水中に1時間浸漬したの
ち、乾燥させた。このサンプルの表面にナイフで1mm間
隔で縦横に各11本の平行線を入れて100個のマス目をク
ロスカットし、その上にセロフアンテープを付着させた
後テープを剥離した(クロスカットテープテスト)とこ
ろ、100個のマス目中剥離したマス目は無かった。
Application Example Obtained in Example 6 Dissolved in 100 parts by weight of methanol, 0.1N-hydrochloric acid
CR-3, which was prepared by adding 0.2 parts by weight of alkali to the alkaline solution.
A plate of 9 (polymer of diethylene glycol bisallyl carbonate) was dipped and then heat-cured at 100 ° C. for 2 hours. The obtained sample was immersed in boiling water for 1 hour and then dried. 11 parallel lines were put on the surface of this sample with a knife at 1 mm intervals vertically and horizontally, and 100 squares were cross-cut. After the cellophane tape was attached to the square, the tape was peeled off (cross-cut tape (Test) However, there was no peeled square in 100 squares.

比較用途例 CF3CH2CH2Si(OCH32CH3 10重量部,メタノール100重
量部及び0.1N−塩酸0.2重量部より処理液を調製した。
予めアルカリ処理したCR−39の板を用途例と同様にして
処理したのち、クロスカットテープテストをおこなった
ところ、100個のマス目中、剥離したものが38個あっ
た。
Comparative application example A treatment solution was prepared from 10 parts by weight of CF 3 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 2 CH 3 , 100 parts by weight of methanol and 0.2 parts by weight of 0.1N hydrochloric acid.
A CR-39 plate that had been alkali-treated in advance was treated in the same manner as in the application example, and then a cross-cut tape test was conducted. 38 out of 100 squares were peeled off.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図,第2図及び第3図は、それぞれ実施例1−
(a)で得られた化合物の赤外吸収スペクトル、19F−
核磁気共鳴スペクトル及び1H−核磁気共鳴スペクトルで
あり、第4図,第5図及び第6図はそれぞれ実施例1−
(b)で得られた化合物の赤外吸収スペクトル、19F−
核磁気共鳴スペクトル及び1H−核磁気共鳴スペクトルで
ある。
FIG. 1, FIG. 2 and FIG. 3 show Example 1-
Infrared absorption spectrum of the compound obtained in (a), 19 F-
FIG. 4 is a nuclear magnetic resonance spectrum and a 1 H-nuclear magnetic resonance spectrum, and FIGS. 4, 5 and 6 show Example 1-
Infrared absorption spectrum of the compound obtained in (b), 19 F-
It is a nuclear magnetic resonance spectrum and a 1 H-nuclear magnetic resonance spectrum.

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】下記式 RfOCFHCF2OR) で示される含フッ素エーテル化合物。1. The following formula RfOCFHCF 2 OR) n A fluorine-containing ether compound represented by. 【請求項2】下記式 RfOCF=CF2 で示される含フッ素ビニルエーテル化合物と下記式 R−OM で示されるアルコキシド化合物とを反応させ、得られた
反応生成物をアルコール又は水と接触させることを特徴
とする特許請求の範囲第(1)項記載の含フッ素エーテ
ル化合物の製造方法。
2. The following formula RfOCF = CF 2 ) n And a fluorine-containing vinyl ether compound represented by the following formula R-OM The method for producing a fluorine-containing ether compound according to claim (1), wherein the reaction product obtained is reacted with an alcohol or water.
【請求項3】下記式 RfOCFHCF2OR′SiR1R2R3 で示される含フッ素シリル化合物。3. The following formula RfOCFHCF 2 OR′SiR 1 R 2 R 3 ) n A fluorine-containing silyl compound represented by. 【請求項4】下記式 RfOCFHCF2OR) で示される含フッ素エーテル化合物と下記式 H−SiR1R2R3 で示されるシラン化合物とを反応させ、必要により更に
加水分解をすることを特徴とする特許請求の範囲第
(3)項記載の含フッ素シリル化合物の製造方法。
4. The following formula RfOCFHCF 2 OR) n And a fluorine-containing ether compound represented by the following formula H-SiR 1 R 2 R 3 The method for producing a fluorine-containing silyl compound according to claim (3), characterized in that the silane compound represented by the formula (3) is reacted and further hydrolyzed if necessary.
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