JP2545116B2 - Transparent conductive laminate - Google Patents

Transparent conductive laminate

Info

Publication number
JP2545116B2
JP2545116B2 JP63157565A JP15756588A JP2545116B2 JP 2545116 B2 JP2545116 B2 JP 2545116B2 JP 63157565 A JP63157565 A JP 63157565A JP 15756588 A JP15756588 A JP 15756588A JP 2545116 B2 JP2545116 B2 JP 2545116B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
transparent conductive
thin film
transparent
conductive laminate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP63157565A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH026126A (en
Inventor
英 山本
善一 上田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Priority to JP63157565A priority Critical patent/JP2545116B2/en
Publication of JPH026126A publication Critical patent/JPH026126A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2545116B2 publication Critical patent/JP2545116B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明はエレクトロルミネツセンス素子やエレクト
ロクロミツク素子などを用いた表示装置における上記各
素子の透明電極として有用な透明導電性積層体に関す
る。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a transparent electroconductive laminate useful as a transparent electrode of each of the above-mentioned elements in a display device using an electroluminescence element, an electrochromic element or the like.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

エレクトロルミネツセンス素子やエレクトロクロミツ
ク素子などでは、その少なくとも表示側に透明電極を用
いているが、かかる透明電極として、従来では、透明プ
ラスチツクフイルムからなる基材フイルム上に酸化イン
ジウム、酸化スズなどの透明導電性薄膜を設けた透明導
電性積層体が多く用いられている。
In electroluminescent elements and electrochromic elements, a transparent electrode is used at least on the display side.As such a transparent electrode, in the past, indium oxide, tin oxide, etc. were formed on a base film made of a transparent plastic film. The transparent conductive laminate provided with the transparent conductive thin film is used in many cases.

このような透明導電性積層体は、たとえば有機分散型
エレクトロルミネツセンス素子では、この積層体の透明
導電性薄膜上にリード電極用の銀ペーストと有機分散型
発光体層用材料を順次スクリーン印刷し、各印刷後に所
要の加熱乾燥を経て所定パターンのリード電極および発
光体層を形成し、さらにこの発光体層上に適宜の絶縁層
(誘電体層)を介して背面電極を積層することにより、
エレクトロルミネツセンス素子を構成させるようにして
いる。
Such a transparent conductive laminate is, for example, in an organic dispersion type electroluminescence element, a silver paste for a lead electrode and a material for an organic dispersion type light emitting layer are sequentially screen-printed on the transparent conductive thin film of this laminate. Then, after each printing, after heating and drying as required, a lead electrode and a light emitting layer having a predetermined pattern are formed, and a back electrode is laminated on the light emitting layer via an appropriate insulating layer (dielectric layer). ,
The electroluminescence element is configured.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be Solved by the Invention]

しかるに、上記従来の透明導電性積層体は、熱的スト
レスにより収縮する傾向があり、この収縮が前記リード
電極や発光体層を形成する際の加熱乾燥工程などで起こ
る結果、スクリーン印刷に微妙なずげをきたし、精密な
パターン形成が望まれるエレクトロルミネツセンス素子
などの表示装置、特に大型な表示装置において表示性能
の低下を招いていた。
However, the above-mentioned conventional transparent conductive laminate has a tendency to shrink due to thermal stress, and as a result of this shrinkage occurring in the heating and drying step when forming the lead electrode or the light emitting layer, it is delicate for screen printing. The display performance is deteriorated in a display device such as an electroluminescence element for which precise pattern formation is desired, particularly in a large display device.

また、上記従来の透明導電性積層体は、そのヘイズ値
が高く、エレクトロルミネツセンス素子などの表示装置
では視認性の低下をきたし、これがやはり表示性能を低
下させる原因となつていた。
Further, the above-mentioned conventional transparent conductive laminate has a high haze value, which causes a reduction in visibility in a display device such as an electroluminescence element, which also causes a reduction in display performance.

したがつて、この発明は、ヘイズ値を低くてかつ上述
の如き加熱による収縮を引き起こしにくい、エレクトロ
ルミネツセンス素子やエレクトロクロミツク素子などの
透明電極に適用したとき従来のものに比し表示性能には
るかにすぐれる表示装置を付与しうる透明導電性積層体
を提供することを目的としている。
Therefore, the present invention has a low haze value and is unlikely to cause shrinkage due to heating as described above, and when applied to a transparent electrode such as an electroluminescent element or an electrochromic element, has a display performance higher than that of a conventional one. It is an object of the present invention to provide a transparent conductive laminate that can provide a display device that is far superior.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

この発明者らは、上記の目的を達成するための鋭意検
討の過程において、まず従来の透明導電性積層体のヘイ
ズ値と加熱による収縮が基材フイルムとして用いる透明
プラスチツクフイルに起因する。つまりこのフイルム中
の滑剤などの添加剤成分が光の拡散を招いてフイルム自
体のヘイズ値が高くなり、またこのフイルムが熱収縮を
起こしやすいものであることを知つた。
In the process of earnestly studying for achieving the above-mentioned objects, the inventors of the present invention firstly attribute the haze value and shrinkage due to heating of the conventional transparent conductive laminate to the transparent plastic film used as the base film. That is, it has been known that an additive component such as a lubricant in the film causes diffusion of light to increase the haze value of the film itself, and that the film is apt to cause heat shrinkage.

そこで、この知見にもとにさらに上記プラスチツクフ
イルムの材料構成やフイルム作製法などの因子につき試
行錯誤的な実験検討を加えた結果、上記プラスチツクフ
イルムとして上述の因子などにて決定される特定のヘイ
ズ値および熱収縮率を有するものを用いることにより、
つまりこのフイルムを基材フイルムとしてこの上に透明
電請薄膜を形成することにより、ヘイズ値が低くてかつ
加熱による収縮を引き起こしにくい、エレクトロルミネ
ツセンス素子やエレクトロクロミツク表示素子などの透
明電極として有用な透明導電性積層体が得られるもので
あることを知り、この発明を完成するに至つた。
Therefore, based on this finding, as a result of further trial-and-error experimental study on factors such as the material composition of the plastic film and the film manufacturing method, the specific haze determined by the factors described above as the plastic film was determined. By using one having a value and a heat shrinkage factor,
That is, by forming a transparent electroconducting thin film on this film as a base film, it has a low haze value and is less likely to cause shrinkage due to heating, and as a transparent electrode for an electroluminescence element or an electrochromic display element. The inventors have found that a useful transparent electroconductive laminate can be obtained, and have completed the present invention.

すなわち、この発明は、ヘイズ値が1%以下で、かつ
150℃,30分の加熱条件での熱収縮率が0.5%以下である
透明プラスチツクフイルムの少なくとも片面に透明導電
性薄膜が形成されてなる透明導電性積層体に係るもので
ある。
That is, the present invention has a haze value of 1% or less, and
The present invention relates to a transparent conductive laminate, in which a transparent conductive thin film is formed on at least one surface of a transparent plastic film having a heat shrinkage rate of 0.5% or less under heating conditions of 150 ° C. for 30 minutes.

〔発明の構成・作用〕[Structure and operation of the invention]

この発明において使用する透明プラスチツクフイルム
は、上述のとおり、ヘイズ値が1%以下で、かつ150℃
で30分間加熱したときの熱収縮率が縦横共に0.5%以下
となるものであり、従来の透明導電性積層体に用いられ
ていた透明プラスチツクフイルムのヘイズ値および上記
同様の熱収縮率がそれぞれ約2〜4%および約2〜5%
であつたのに較べて、ヘイズ値が低くてかつ加熱による
収縮が非常に抑えられたものであることを特徴としてい
る。
The transparent plastic film used in the present invention has a haze value of 1% or less and a temperature of 150 ° C. as described above.
The heat shrinkage rate when heated for 30 minutes in both the vertical and horizontal directions is 0.5% or less, and the haze value and the same heat shrinkage rate of the transparent plastic film used for the conventional transparent conductive laminate are about each. 2-4% and about 2-5%
Compared with the above, the haze value is low and the shrinkage due to heating is extremely suppressed.

なお、上記のヘイズ値は、フイルムに可視光を照射し
たときの全透過光に対する拡散透過光の割合として表わ
されるものであり、この明細書では全光線透過率と拡散
透過率との測定を日本電色工業株式会社製のオートマチ
ツクデジタルヘーズメータ(NDH−20D)を用いて行い、
下記の式; にしたがつて算出した。このヘイズ値が小さいほどフイ
ルムの透明性にすぐれていることを意味している。
The haze value is expressed as a ratio of diffuse transmitted light to total transmitted light when the film is irradiated with visible light, and in this specification, the total light transmittance and the diffuse transmittance are measured in Japan. Using an automatic digital haze meter (NDH-20D) manufactured by Denshoku Industries Co., Ltd.,
The following formula; Calculated according to the above. The smaller the haze value, the better the transparency of the film.

また、上記の熱収縮率は、縦横共に50mmの大きさに切
断した試験フイルムを用いて、加熱試験後に縦横の寸法
を測定し、これと加熱試験前の寸法との差を収縮長さと
して、下記の式; にしたがつて縦横の熱収縮率を算出したものである。こ
の明細書において、縦横の表示をせず、ただ単に熱収縮
率が0.5%以下というときは、縦方向および横方向共に
0.5%以下の熱収縮率であることを意味している。
Further, the heat shrinkage rate, using a test film cut into a size of 50 mm in both length and width, to measure the vertical and horizontal dimensions after the heating test, as the shrinkage length the difference between this and the dimensions before the heating test, The following formula; Therefore, the heat shrinkage ratios in the vertical and horizontal directions are calculated. In this specification, when the heat shrinkage rate is 0.5% or less without displaying the vertical and horizontal directions, both the vertical and horizontal directions
This means that the heat shrinkage rate is 0.5% or less.

一般に、透明プラスチツクフイルムは、プラスチツク
素材を押出加工などの公知の各種加工手段でフイルム成
形したのち、延伸加工などの所要の工程を経てつくられ
ているが、上記のプラスチツク素材には種々の目的で滑
剤や触媒、促進剤などの添加剤が添加されることが多
い。
In general, a transparent plastic film is formed by subjecting a plastic material to film formation by various known processing means such as extrusion, and then undergoing necessary steps such as stretching, but the above plastic material has various purposes. Additives such as lubricants, catalysts and promoters are often added.

この発明の上記透明プラスチツクフイルムは、たとえ
ば上記の添加剤成分のうち、酸化チタンや炭酸カルシウ
ムの如き滑剤などを極力少なくし、かつこの成形材料を
用いて上記公知の方法で作製された加工フイルム(これ
は市販フイルムであつてもよい)にさらに特定の熱固定
を施すことにより、得ることができる。
The transparent plastic film of the present invention is, for example, a processing film (lipids such as titanium oxide and calcium carbonate) among the above-mentioned additive components which is minimized and which is produced by the above-mentioned known method using this molding material ( This can be obtained by further subjecting a commercially available film) to specific heat setting.

上記の熱固定とは、プラスチツク素材の融点に近い温
度まで加熱し、テンシヨンをかけたまま徐冷、つまりゆ
つくりと室温まで冷却するものである。加熱温度はプラ
スチツク素材により異なるから一概には決められない
が、一般には180〜220℃の範囲とするのがよく、最も代
表的なプラスチツク素材として知られるポリエチレンテ
レフタレートでは特に190〜200℃の範囲が好適である。
加熱時間は通常1〜10分間程度で充分である。
The above-mentioned heat setting is to heat to a temperature close to the melting point of the plastic material and gradually cool it while applying a tension, that is, to cool it slowly to room temperature. The heating temperature differs depending on the plastic material, so it cannot be determined in a general manner, but it is generally good to set it in the range of 180 to 220 ° C, and in the case of polyethylene terephthalate known as the most representative plastic material, the range of 190 to 200 ° C is particularly desirable. It is suitable.
A heating time of about 1 to 10 minutes is usually sufficient.

この発明に使用可能なプラスチツク素材としては、上
述のポリエチレンテレフタレートをはじめとするポリエ
ステルのほか、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、
ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリ
イミド、トリアセテートなどが挙げられ、100℃以上の
耐熱性を有するものが好ましく用いられる。
Examples of the plastic material usable in the present invention include polyesters such as polyethylene terephthalate, polysulfone, polyether sulfone,
Examples thereof include polypropylene, polycarbonate, polyamide, polyimide, triacetate and the like, and those having heat resistance of 100 ° C. or higher are preferably used.

この発明の透明プラスチツクフイルムは、ヘイズ値お
よび150℃,30分の加熱条件での熱収縮率が前記要件を満
足する限り、上述とは異なる方法で作製されたものであ
つてもよい。フイルムの厚みも特に限定されるものでは
ないが、一般には50〜200μm程度の厚みを有している
のが好ましい。
The transparent plastic film of the present invention may be produced by a method different from the above as long as the haze value and the heat shrinkage rate under the heating condition of 150 ° C. for 30 minutes satisfy the above requirements. The thickness of the film is not particularly limited, but it is generally preferable that the film has a thickness of about 50 to 200 μm.

この発明において上記の透明プラスチツクフイルムか
らなる基材フイルムの少なくとも片面に形成される透明
導電性薄膜としては、酸化インジウム、酸化スズ、これ
らの混合酸化物、酸化スズと酸化アンチモンとの混合酸
化物などからなる酸化物薄膜、金、銀、銅、白金、パラ
ジウム、アルミニウム、インジウム、スズ、カドミウ
ム、亜鉛などの金属薄膜、または上記の酸化物薄膜と金
属薄膜とを好ましくはこの順に積層した積層薄膜などか
挙げられる。これらの中でも、酸化インジウムと酸化ス
ズとの混合酸化物薄膜上にパラジウム薄膜を積層してな
る積層薄膜が、透明性、導電性およびフイルム基材への
密着性の点で、最も好ましい。
In the present invention, as the transparent conductive thin film formed on at least one surface of the base film made of the transparent plastic film, indium oxide, tin oxide, a mixed oxide thereof, a mixed oxide of tin oxide and antimony oxide, etc. Oxide thin film consisting of, metal thin film such as gold, silver, copper, platinum, palladium, aluminum, indium, tin, cadmium, zinc, or a laminated thin film in which the above oxide thin film and metal thin film are preferably laminated in this order. Can be mentioned. Among these, a laminated thin film obtained by laminating a palladium thin film on a mixed oxide thin film of indium oxide and tin oxide is most preferable in terms of transparency, conductivity and adhesion to a film substrate.

これら各薄膜の形成手段は任意であり、公知の薄膜形
成技術、たとえば真空蒸着法、スパツタリング法、イオ
ンプレーテイング法などの方法を任意に採用することが
できる。膜厚としては、酸化物薄膜では通常100〜1,000
Å、金属薄膜では通常10〜200Åとするのがよく、個々
の薄膜形成材料に応じて透明を保有しかつ薄膜形成後の
表面電気抵抗が通常100〜1,000Ω/□の範囲となるよう
に適宜設定される。
Means for forming each of these thin films is arbitrary, and a known thin film forming technique such as a vacuum deposition method, a sputtering method, or an ion plating method can be arbitrarily adopted. The film thickness is usually 100 to 1,000 for oxide thin films.
Å, usually 10 to 200Å for metal thin film, it is suitable to have transparency depending on each thin film forming material and the surface electric resistance after forming thin film is usually 100 to 1,000Ω / □. Is set.

第1図は、以上の構成要素からなるこの発明の透明導
電性積層体の一例を示したもので、図中、1は前記した
特定の透明プラスチツクフイルム、2はこのフイルム1
の片面に形成された酸化物薄膜2aと金属薄膜2bとの積層
薄膜からなる透明導電性薄膜である。
FIG. 1 shows an example of a transparent electroconductive laminate of the present invention comprising the above components. In the figure, 1 is the specific transparent plastic film described above, 2 is this film 1
Is a transparent conductive thin film composed of a laminated thin film of an oxide thin film 2a and a metal thin film 2b formed on one surface of the.

第2図は、上記第1図の透明導電性積層体をエレクロ
ルミネツセンス素子の透明電極として応用した例を示し
たものである。すなわち、透明プラスチツクフイルム1
と透明導電性薄膜2とからなる透明導電性積層体3の上
記薄膜2上にリード電極用の銀ペーストと有機分散型発
光体層用材料を順次スクリーン印刷し、各印刷後に所要
の加熱乾燥を経て所定パターンのリード電極4および発
光体層5を形成し、さらにこの発光体層5上に絶縁層
(誘導体層)6を介して背面電極7を積層することによ
り、エレクトロルミネツセンス素子を構成させるように
したものである。
FIG. 2 shows an example in which the transparent conductive laminate of FIG. 1 is applied as a transparent electrode of an electroluminescent element. That is, transparent plastic film 1
A silver paste for a lead electrode and a material for an organic dispersion type light emitting layer are sequentially screen-printed on the thin film 2 of the transparent conductive laminate 3 composed of the transparent conductive thin film 2 and the required heat drying after each printing. After that, the lead electrode 4 and the light emitting layer 5 having a predetermined pattern are formed, and the back electrode 7 is laminated on the light emitting layer 5 with the insulating layer (derivative layer) 6 interposed therebetween, thereby forming an electroluminescence element. It was made to let.

このように構成されるエレクトロルミネツセンス素子
においては、用いる透明導電性積層体3がその透明プラ
スチツクフイルム1の低熱収縮性に起因して加熱による
収縮を引き起こしにくいものであるために、リード電極
4や発光体層5などのスクリーン印刷にほとんどずれが
みられず、かつ上記フイルムのヘイズ値が低くて視認性
の悪化もないことから、この素子を表示装置に組み込ん
だとき非常にすぐれた表示性能が得られる。
In the electroluminescent element having such a structure, since the transparent conductive laminate 3 used is less likely to cause shrinkage due to heating due to the low heat shrinkability of the transparent plastic film 1, the lead electrode 4 The screen printing of the light emitting layer 5 and the light emitting layer 5 shows almost no deviation, and the haze value of the film is low and the visibility is not deteriorated. Therefore, when this element is incorporated into a display device, a very excellent display performance is obtained. Is obtained.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上のように、この発明によれば、ヘイズ値が低くて
かつ加熱による収縮を引き起こしにくい、エレクトルミ
ネツセンス素子やエレクトロクロミツク素子などの透明
電極に適用したとき従来のもの比しはるかに表示性能に
すぐれる表示装置を付与しうる透明導電性積層体を提供
することができる。
As described above, according to the present invention, the haze value is low and it is difficult to cause shrinkage due to heating, and when applied to a transparent electrode such as an electroluminescence element or an electrochromic element, it is far more displayed than the conventional one. It is possible to provide a transparent conductive laminate that can provide a display device with excellent performance.

〔実施例〕〔Example〕

つぎに、この発明の実施例を記載してより具体的に説
明する。
Next, an embodiment of the present invention will be described in more detail.

実施例 厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートフイルム
〔帝人(株)製のテトロンフイルム、Oタイプ;ヘイズ
値0.3%〕を用い、このフイルムを200℃で3分間加熱し
たのち、テンシヨンをかけたまま徐冷した。得られたフ
イルムは、150℃,30分の加熱条件での熱収縮率が縦方向
で0.4%、横方向で0.1%であつた。
Example Using a polyethylene terephthalate film [Tetoron film manufactured by Teijin Ltd., O type; haze value 0.3%] having a thickness of 75 μm, this film was heated at 200 ° C. for 3 minutes and then gradually cooled while being subjected to tension. . The obtained film had a heat shrinkage ratio of 0.4% in the longitudinal direction and 0.1% in the transverse direction under the heating condition of 150 ° C. for 30 minutes.

つぎに、スパツタ装置の基板側に上記の低熱収縮フイ
ルムを基材フイルムとして取り付け、スパツタ電極上に
インジウム90重量%とスズ10重量%とからなる合金ター
ゲツトを装着し、1×10-3Paまで真空引きを行つたうえ
で、アルゴンガスを100cc/分、酸素ガスを15cc/分流入
させて、装置内を4×10-1paに保つた。この状態で上記
のスパツタ電極に直流電圧400Vを印加してグロー放電さ
せ、30秒間スパツタリングを行うことにより、つまり反
応性マグネトロンスパツタリングを行うことにより、低
収縮フイルムの片面に酸化インジウムと酸化スズとの混
合酸化物からなる厚さが200Åの酸化物薄膜を形成し
た。
Next, the above-mentioned low heat shrinkable film was attached as a base material film to the substrate side of the sputtering device, and an alloy target consisting of 90% by weight of indium and 10% by weight of tin was mounted on the sputtering electrode, and up to 1 × 10 -3 Pa. After evacuation, 100 cc / min of argon gas and 15 cc / min of oxygen gas were introduced to keep the inside of the apparatus at 4 × 10 −1 pa. In this state, a DC voltage of 400 V was applied to the above-mentioned sputter electrode to cause glow discharge, and spattering was performed for 30 seconds, that is, by performing reactive magnetron spattering, indium oxide and tin oxide on one side of the low-shrinkage film. An oxide thin film with a thickness of 200Å made of mixed oxide with was formed.

ついで、上記のスパツタ装置をそのまま用いて、ター
ゲツトをパラジウムに変え、かつアルゴンガスのみを流
入させるようにした以外は、上記と同様にして3秒間ス
パツタリングを行うことにより、酸化物薄膜上に厚さが
20Åのパラジウム薄膜からなる金属薄膜を形成した。
Then, using the above-mentioned sputtering device as it is, except that the target was changed to palladium and only argon gas was allowed to flow in, the sputtering was performed for 3 seconds in the same manner as described above to obtain the thickness on the oxide thin film. But
A metal thin film composed of a 20Å palladium thin film was formed.

このようにして得られたポリエチレンテレフタレート
からなる透明プラスチツクフイルムとこの上の上記酸化
物薄膜および上記金属薄膜からなる透明導電性薄膜とで
構成された第1図に示す構造の透明導電性積層体は、そ
の表面電気抵抗が300Ω/□、550nmでの光透過率が82
%、ヘイズ値が0.8%であり、また150℃,30分の加熱条
件での熱収縮率が縦方向で0.4%、横方向で0.1%であつ
た。
A transparent conductive laminate having the structure shown in FIG. 1, which is composed of the transparent plastic film made of polyethylene terephthalate thus obtained and the transparent conductive thin film made of the oxide thin film and the metal thin film formed thereon, , Its surface electric resistance is 300Ω / □, and the light transmittance at 550nm is 82.
%, The haze value was 0.8%, and the heat shrinkage percentage under the heating condition of 150 ° C. for 30 minutes was 0.4% in the longitudinal direction and 0.1% in the lateral direction.

つぎに、この透明導電性積層体を用いて以下の方法で
エレクトロルミネツセンス素子を作製した。まず、上記
積層体の透明導電性薄膜上に銀ペーストをスクリーン印
刷し、150℃で30分間加熱乾燥して厚さ40μmのリード
電極を形成した。ついで、上記薄膜上にバインダとして
のシアノエチルセルロースのアセトン溶液にけい光体粉
末を分散させてなる液をスクリーン印刷し、60℃で120
分間加熱したのち、150℃に昇温して2分間加熱し、厚
さが60μmの発光体層を形成した。なお、上記のけい光
体粉末としては硫化亜鉛を主成分とする粉末を用い、こ
の粉末とシアノエチルセルロースとの重量配合比は84:1
6とした。
Next, an electroluminescent element was produced by the following method using this transparent conductive laminate. First, a silver paste was screen-printed on the transparent conductive thin film of the above laminated body, and dried by heating at 150 ° C. for 30 minutes to form a lead electrode having a thickness of 40 μm. Then, a liquid obtained by dispersing the phosphor powder in an acetone solution of cyanoethyl cellulose as a binder is screen-printed on the above-mentioned thin film, and at 120 ° C. at 120 ° C.
After heating for 1 minute, the temperature was raised to 150 ° C. and heating was performed for 2 minutes to form a phosphor layer having a thickness of 60 μm. As the phosphor powder, a powder containing zinc sulfide as a main component was used, and the weight mixing ratio of this powder and cyanoethyl cellulose was 84: 1.
It was set to 6.

しかるのち、上記の発光体層上に上記と同じシアノエ
チルセルロースのアセトン溶液にチタン酸バリウム粉末
を分散させたものを塗布した。なお、チタン酸バリウム
粉末とシアノエチルセルロースとの重量配合比は1:1と
した。その後、60℃で120分間加熱して大部分のアセト
ンを除去したうえで、厚さ200μmのアルミニウム箔を
載置し、このアルミニウム箔と一体に150℃に昇温して
2分間加熱することにより、厚さが40μmの絶縁層を形
成するとともに、この絶縁層上に背面電極としてのアル
ミニウム箔を密着一体化させた第2図に示す構造のエレ
クトロルミネツセンス素子を得た。
After that, the above-mentioned phosphor layer was coated with a dispersion of barium titanate powder in the same acetone solution of cyanoethyl cellulose as described above. The weight mixing ratio of barium titanate powder and cyanoethyl cellulose was 1: 1. After that, after heating for 120 minutes at 60 ℃ to remove most of the acetone, put an aluminum foil with a thickness of 200 μm, raise the temperature to 150 ℃ together with this aluminum foil and heat for 2 minutes. An electroluminescent element having a structure shown in FIG. 2 was obtained in which an insulating layer having a thickness of 40 μm was formed and an aluminum foil as a back electrode was closely adhered and integrated on the insulating layer.

この素子は、加熱工程での透明導電性積層体の熱収縮
が小さいため、リード電極や発光体層の印刷ずれが0.1
%以下に抑えられており、また表示側(透明電極側)の
透明性の低下もみられず、これを組み込んだ表示装置は
すぐれた表示性能を発揮するものであることが確認され
た。
In this device, the thermal shrinkage of the transparent conductive laminate during the heating process is small, so that the print displacement of the lead electrodes and the light emitting layer is 0.1%.
% Or less, and no decrease in transparency on the display side (transparent electrode side) was observed, and it was confirmed that a display device incorporating the same exhibits excellent display performance.

比較例 厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートフイルム
〔帝人(株)製のテトロンフイルム、Sタイプ;ヘイズ
値2%〕をそのまま、つまり200℃,3分の熱固定処理を
施さないで用いた以外は、実施例と全く同様にして第1
図に示す構造の透明導電性積層体を得た。
Comparative Example Performed except that a polyethylene terephthalate film having a thickness of 75 μm (Tetoron film manufactured by Teijin Ltd., S type; haze value 2%) was used as it was, that is, without heat setting treatment at 200 ° C. for 3 minutes. Exactly the same as the example 1
A transparent conductive laminate having the structure shown in the figure was obtained.

なお、上記基材フイルムの150℃,30分の加熱条件での
熱収縮率は縦方向で3%、横方向で1.5%であつた。ま
た、得られた積層体の表面電気抵抗は300Ω/□、550nm
での光透過率は80%、ヘイズ値は2.2%であり、さらに1
50℃,30分の加熱条件での熱収縮率は縦方向で2.8%、横
方向で1.4%であつた。
The heat shrinkage of the above base material film under the heating conditions of 150 ° C. and 30 minutes was 3% in the longitudinal direction and 1.5% in the lateral direction. The surface electric resistance of the obtained laminate is 300Ω / □, 550nm
The light transmittance at 80%, the haze value at 2.2%, and 1
The heat shrinkage rate under the heating condition of 50 ℃ for 30 minutes was 2.8% in the longitudinal direction and 1.4% in the transverse direction.

つぎに、この透明導電性積層体を用いて実施例と同様
にしてエレクトロルミネツセンス素子を作製したとこ
ろ、リード電極や発光体層の印刷ずれが2%と大きく、
かつ表示側の透明性が大きく損なわれており、これを組
み込だ表示装置は実施例のものに比し表示性能に著しく
劣つていた。
Next, using this transparent conductive laminate, an electroluminescence element was produced in the same manner as in the example. The print displacement of the lead electrodes and the light emitting layer was as large as 2%,
In addition, the transparency on the display side was greatly impaired, and the display device incorporating this was remarkably inferior in display performance to those of the examples.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図はこの発明の透明導電性積層体の一例を示す断面
図、第2図は上記積層体を用いて作製したエレクトロル
ミネツセンス素子の構成例を示す断面図である。 1……透明プラスチツクフイルム、2(2a,2b)……透
明導電性薄膜、3……透明導電性積層体
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the transparent conductive laminate of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view showing a constitutional example of an electroluminescence element produced by using the laminate. 1 ... Transparent plastic film, 2 (2a, 2b) ... Transparent conductive thin film, 3 ... Transparent conductive laminate

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】ヘイズ値が1%以下で、かつ150℃,30分の
加熱条件での熱収縮率が0.5%以下である透明プラスチ
ツクフイルムの少なくとも片面に透明導電性薄膜が形成
されてなる透明導電性積層体。
1. A transparent conductive thin film formed on at least one side of a transparent plastic film having a haze value of 1% or less and a heat shrinkage rate of 0.5% or less under heating conditions of 150 ° C. and 30 minutes. Conductive laminate.
JP63157565A 1988-06-25 1988-06-25 Transparent conductive laminate Expired - Lifetime JP2545116B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63157565A JP2545116B2 (en) 1988-06-25 1988-06-25 Transparent conductive laminate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63157565A JP2545116B2 (en) 1988-06-25 1988-06-25 Transparent conductive laminate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH026126A JPH026126A (en) 1990-01-10
JP2545116B2 true JP2545116B2 (en) 1996-10-16

Family

ID=15652462

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63157565A Expired - Lifetime JP2545116B2 (en) 1988-06-25 1988-06-25 Transparent conductive laminate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2545116B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04163138A (en) * 1990-10-26 1992-06-08 Diafoil Co Ltd Laminate for safety glass

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5874324A (en) * 1981-10-30 1983-05-04 Toray Ind Inc Heat treatment of polyester film
JPS59158015A (en) * 1983-02-28 1984-09-07 住友ベークライト株式会社 Transparent conductive film
JPS60229009A (en) * 1984-04-27 1985-11-14 Sumitomo Bakelite Co Ltd Transparent conductive film for liquid crystal electrode
JPS61255847A (en) * 1985-05-09 1986-11-13 コニカ株式会社 Manufacture of transparent conductive film
JPS6218254A (en) * 1985-07-16 1987-01-27 日東電工株式会社 Laminate
JPS62140828A (en) * 1985-12-13 1987-06-24 Diafoil Co Ltd Polyester film for transparent electrically conductive film
JPS632129A (en) * 1986-06-20 1988-01-07 Dainippon Printing Co Ltd Protection film for optical information recording medium

Also Published As

Publication number Publication date
JPH026126A (en) 1990-01-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0781076B1 (en) Transparent conductive laminate and electroluminescence element
EP0830807B1 (en) Electroluminescent lamp having a terpolymer binder
JP2651203B2 (en) Transparent body and method for producing the same
JP2002015623A (en) Transparent electrode
JP3610042B2 (en) EL panel made from low molecular weight PVDF / HFP resin
US3218194A (en) Gold loaded tantalum film
JPH09291356A (en) Transparent conductive film-provided substrate and its production
JP4010587B2 (en) Transparent conductive laminate and electroluminescence light emitting device using the same
JP2545116B2 (en) Transparent conductive laminate
CA1227522A (en) Electrical circuits and components
JP2002343150A (en) Transparent electric conductive film and its manufacturing method
JP2000108244A (en) Transparent conductive film, its manufacture, and base having transparent conductive film
JP3476277B2 (en) Transparent conductive laminate
JP3654841B2 (en) Transparent conductive film and method for producing the same
JPH02192691A (en) El luminous element
JP3146059B2 (en) Transparent conductive film
CN101060319A (en) Piezoelectric crystal oscillating element pole and its application and manufacture method
JP3466001B2 (en) Transparent conductive laminate
JP3698493B2 (en) Transparent conductive laminate and method for producing the same
JPH0547474A (en) Electroluminescence element
JPS6391995A (en) Thin film el device
JPH08288066A (en) Dispersed powder type electroluminescent element
JP3856357B2 (en) Transparent conductive laminate and method for producing the same
JP3361640B2 (en) Transparent conductive laminate
KR19980051991A (en) High adhesive transparent conductive film for electro luminescence display element and manufacturing method thereof