JP2537356B2 - Method for producing heat-resistant film or its analogue - Google Patents

Method for producing heat-resistant film or its analogue

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JP2537356B2
JP2537356B2 JP62059675A JP5967587A JP2537356B2 JP 2537356 B2 JP2537356 B2 JP 2537356B2 JP 62059675 A JP62059675 A JP 62059675A JP 5967587 A JP5967587 A JP 5967587A JP 2537356 B2 JP2537356 B2 JP 2537356B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ポリエチレンテレフタレート樹脂よりなる
基材にコーティング層を形成した耐熱性フィルム又はそ
の類似物を製造する方法に関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing a heat-resistant film having a coating layer formed on a substrate made of polyethylene terephthalate resin, or a similar product.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

熱可塑性樹脂を基材とする柔軟なフィルムやその類似
物であるシート(以下、これらを総称してフィルムとい
う。)などは、それらに具備された可撓性のためにデザ
インの自由度が高く、しかもある程度の絶縁性を有して
いるが、一般的には耐熱性が不十分であるために、その
用途が限られている。従来、基材として使用される無処
理フィルムの中で、比較的優れた耐熱性を有するものと
して、ポリイミド(PI)、ポリエーテルエーテルケトン
(PEEK)、ポリエーテルサルファイド(PES)、ポリフ
ェニレンサルファイド(PPS)、ポリパラバン酸(PP
A)、ポリアリレート(PAR)等のようなエンジニアリン
グプラスチックよりなるフィルムがあったが、樹脂自体
が高価であり、また、これをフィルムに加工するのに高
度な加工技術が加わり、一層高価なものとなり、汎用的
に使用されることが期待できにくかった。そこで、近年
では、基材自体に安価な熱可塑性樹脂を用いているにも
かかわらず、基材自体よりなる無処理フィルムよりも優
れた耐熱性を具備するフィルムについて種々の研究がな
され、現実にそのようなフィルムも種々提案されてい
る。
A flexible film having a thermoplastic resin as a base material or a sheet similar thereto (hereinafter collectively referred to as a film) has a high degree of freedom in design because of the flexibility provided therein. Moreover, although it has a certain degree of insulation, its use is generally limited due to insufficient heat resistance. Conventionally, among the untreated films used as a base material, polyimide (PI), polyether ether ketone (PEEK), polyether sulfide (PES), polyphenylene sulfide (PPS) have relatively high heat resistance. ), Polyparabanic acid (PP
There were films made of engineering plastics such as A) and polyarylate (PAR), but the resin itself is expensive, and more advanced processing technology is added to process this into a film, making it more expensive. It was difficult to expect that it would be used universally. Therefore, in recent years, various researches have been conducted on a film having heat resistance superior to that of an untreated film made of a base material itself, even though an inexpensive thermoplastic resin is used for the base material itself. Various such films have also been proposed.

例えば、安価でかつ入手が容易な熱可塑性樹脂の代表
であるポリ塩化ビニル樹脂(PVC)に所定の添加剤を混
和した組成物を基材とするフィルムもその一つである。
ところが、添加材を混和して基材の耐熱性を改善する方
法では、目標とする耐熱特性を得るために種々の添加物
を混和して調整しなければならないことが多く、添加物
の混和に伴って透明度やその他の物性値も大きく変化し
てしまうという難点が指摘されていた。
For example, a film having a base material of a composition in which a predetermined additive is mixed with polyvinyl chloride resin (PVC), which is a typical thermoplastic resin that is inexpensive and easily available, is one of them.
However, in the method of improving the heat resistance of the base material by mixing the additive material, it is often necessary to adjust various additives by mixing them in order to obtain the target heat resistance property. It has been pointed out that the transparency and other physical properties also change significantly.

他方、熱可塑性樹脂よりなる基材にコーティング層を
形成することによって、基材自体では得られなかった耐
熱特性を持つフィルムを得ることも考えられる。このよ
うなフィルムによると、基材自体が持つ透明度などの物
性が余り損なわれず、コーティング層によって基材自体
では得られない耐熱特性を得られる可能性がある。この
ようなフィルムの製造方法としては、一般に、熱可塑性
樹脂よりなる基材に収縮やしわを生じるおそれがない低
温条件下でコーティング層を焼き付けるという手段が考
えられる。しかし、コーティング層を有するフィルムの
耐熱性はコーティング層の焼付温度と相関するものであ
るから、そのような低温で焼き付けると、耐熱性の改善
度合が比較的小さいものにしかならないと想定された。
また、耐熱性繊維やガラス繊維のシート状のものに耐熱
性樹脂を含浸し、それを既存フィルムにラミネートした
耐熱性フィルムが存在するが、厚みが厚く、柔軟性が失
われ、特に厚みが薄く柔軟性の要求されるような可撓性
プリント配線基板等の用途には完全ではなかった。その
ため、従来のフィルムは、いずれにしても耐熱性フィル
ムとしては未だ十分なものであるとはいい難いものであ
った。
On the other hand, by forming a coating layer on a base material made of a thermoplastic resin, it may be possible to obtain a film having heat resistance characteristics that cannot be obtained by the base material itself. According to such a film, the physical properties such as transparency of the base material itself are not significantly impaired, and the coating layer may provide heat resistance characteristics that cannot be obtained by the base material itself. As a method for producing such a film, generally, a method of baking the coating layer on a base material made of a thermoplastic resin under low temperature conditions in which shrinkage and wrinkles are not likely to occur can be considered. However, since the heat resistance of a film having a coating layer correlates with the baking temperature of the coating layer, it was assumed that baking at such a low temperature would result in a relatively small degree of improvement in heat resistance.
Also, there is a heat resistant film obtained by impregnating a heat resistant resin into a sheet of heat resistant fiber or glass fiber and laminating it on an existing film, but it is thick, loses flexibility and is particularly thin. It has not been perfect for applications such as flexible printed wiring boards where flexibility is required. Therefore, it is difficult to say that the conventional film is still a sufficient heat-resistant film in any case.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

以上のように、従来想定される耐熱性フィルムは、基
材自体よりなる無処理フィルムに比べると幾分かは耐熱
性が改善される可能性はあり得るが、未だ十分な耐熱性
を有するものであるとはいい難く、また既存のその他の
耐熱性フィルムは上記に述べた如く厚み・柔軟性やコス
ト面で、また、添加材の混和によって耐熱性を改善する
と他の物性が損なわれる等、耐熱性フィルムとしては未
だ不十分なものであるという問題があった。
As described above, the heat-resistant film that has been assumed in the past may have some improved heat resistance as compared with the untreated film composed of the base material itself, but it still has sufficient heat resistance. It is hard to say that other existing heat-resistant films are in terms of thickness, flexibility and cost as described above, and other physical properties are impaired when heat resistance is improved by admixture of additives, etc. There is a problem that it is still insufficient as a heat resistant film.

本発明は以上の事情に鑑みてなされたもので、コーテ
ィング層となる薄膜を比較的高温度で焼き付けても、得
られるフィルムにしわが存在せず、フィルムとしての性
能が損なわれることのない耐熱性フィルムの製造方法を
提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, even if the thin film to be the coating layer is baked at a relatively high temperature, there is no wrinkle in the obtained film and heat resistance without impairing the performance as a film. It is an object to provide a method for producing a film.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

上記目的を達成するため、本発明の耐熱性フィルムの
製造方法は、ポリエチレンテレフタレート樹脂(PET)
よりなる基材にポリイミド樹脂(PI)、ポリアミドイミ
ド樹脂(PAI)、ポリパラバン酸樹脂(PPA)、ポリヒダ
ントイン樹脂(PH)から選ばれる一種又は二種以上の溶
液の薄膜、或いは上記各樹脂の一種又は二種以上とフェ
ノール樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂から選ばれる
一種又は二種以上との溶液の薄膜を形成し、その薄膜
を、乾燥後、基材を一対の無端回動体間に保持し、該無
端回動体の間隔を出口側ほど漸次広く又は狭くして弛み
を生じさせることなく上記基材を平坦に保形した状態に
維持して200〜300℃の温度で焼き付けることを特徴とす
る。
In order to achieve the above object, the method for producing a heat-resistant film of the present invention is a polyethylene terephthalate resin (PET)
A thin film of one or more solutions selected from polyimide resin (PI), polyamideimide resin (PAI), polyparabanic acid resin (PPA), and polyhydantoin resin (PH), or one of the above resins. Alternatively, a thin film of a solution of two or more kinds and one or more kinds selected from a phenol resin, an epoxy resin, and a melamine resin is formed, and after the thin film is dried, the base material is held between a pair of endless rotating bodies, The endless rotary member is characterized in that it is baked at a temperature of 200 to 300 ° C. by gradually widening or narrowing the interval toward the outlet side and maintaining the above-mentioned base material in a flat shape without causing slack.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例を説明する。 Examples of the present invention will be described below.

第1図は本発明方法を実施するためのフローシートで
あり、1は基材の繰出機、2はコーティング溶液のディ
ッピングコータ、3は乾燥炉、4は焼付炉、5はトリミ
ング装置、6は巻取機である。同図から明らかなよう
に、繰出機1から繰り出された基材100はディッピング
コータ2を通過する間にその片面又は両面にコーティン
グ溶液の薄膜が形成され、その薄膜が乾燥炉3を通る間
に乾燥される。その後、上記基材100が無端回動体11間
に保持されて焼付炉4を通過する間に上記薄膜が所定温
度で焼き付けられ、コーティング層を形成する。こうし
て得られたフィルムはトリミング加工された後、巻取機
6に巻き取られる。
FIG. 1 is a flow sheet for carrying out the method of the present invention, wherein 1 is a substrate feeding device, 2 is a coating solution dipping coater, 3 is a drying oven, 4 is a baking oven, 5 is a trimming device, and 6 is It is a winder. As is clear from the figure, the substrate 100 fed from the feeding machine 1 is coated with a thin film of the coating solution on one or both surfaces while passing through the dipping coater 2, and while the thin film passes through the drying oven 3. To be dried. After that, while the base material 100 is held between the endless rotating bodies 11 and passes through the baking oven 4, the thin film is baked at a predetermined temperature to form a coating layer. The film thus obtained is trimmed and then wound up by the winder 6.

上記において、ディッピングコータ2に入る前の基材
100にプライマー処理やコロナ放電処理を施してその表
面活性を高めると共に、基材100の静電除去処理やごみ
除去処理を行うことは、コーティング層の密着性を高め
る上で有益である。
In the above, the base material before entering the dipping coater 2
It is useful to increase the surface activity of the base material 100 by subjecting it to a primer treatment or corona discharge treatment, and to subject the base material 100 to an electrostatic removal treatment or a dust removal treatment in order to enhance the adhesion of the coating layer.

上記基材100はPETであり、引裂強度に優れ、かつ可撓
性に富んでいる。基材100は、作業性の点から1〜350μ
程度の厚みを有することが望ましい。厚みが1μより薄
いと取扱性に欠け、強度が不十分になり、厚みが350μ
より厚いとデザインの自由度が不足する心配がある。こ
の厚みは上記範囲に限定されるものではなく、耐熱性だ
けを追求する場合にはさらに厚いものであってもよい。
The base material 100 is PET, which has excellent tear strength and is highly flexible. The base material 100 is 1 to 350 μ in terms of workability.
It is desirable to have a certain thickness. If the thickness is less than 1μ, the handling will be poor, the strength will be insufficient, and the thickness will be 350μ.
If it is thicker, there is a risk that the degree of freedom in design will be insufficient. This thickness is not limited to the above range, and may be thicker if only heat resistance is pursued.

コーティング剤にはPI、PAI、PPA、PHから選ばれる一
種又は二種以上の溶液、或いは上記各樹脂の一種又は二
種以上とフェノール樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂
から選ばれる一種又は二種以上との溶液が用いられる。
コーティング溶液に必要な条件はワニス状であって、20
0〜300℃の温度で硬化し、基材に対する密着性を具備す
ることである。具体的には、PI、PAI、PPA、PHをそれぞ
れ単独で用いる場合と、PI、PAI、PPA、PHの二種以上を
組み合わせて用いる場合と、PI、PAI、PPA、PHのうちの
何れか一つとフェノール樹脂、エポキシ樹脂、メラミン
樹脂から選ばれる一種又は二種以上とを組み合わせて用
いる場合と、、PI、PAI、PPA、PHの二種以上を組み合わ
せたものとフェノール樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹
脂から選ばれる一種又は二種以上とを組み合わせて用い
る場合である。
The coating agent, PI, PAI, PPA, one or more kinds of solutions selected from PH, or one or more kinds of each of the above resins and one or more kinds selected from phenol resin, epoxy resin, melamine resin and Solution is used.
The conditions required for the coating solution are varnish,
It is to be cured at a temperature of 0 to 300 ° C. and have adhesiveness to a substrate. Specifically, one of PI, PAI, PPA, PH is used alone, or two or more of PI, PAI, PPA, PH are used in combination, or PI, PAI, PPA, PH is used. When one is used in combination with one or more selected from phenol resin, epoxy resin and melamine resin, and when used in combination with two or more of PI, PAI, PPA, PH and phenol resin, epoxy resin, melamine This is a case of using one kind or a combination of two or more kinds selected from resins.

PPAとしては例えば東亜燃料工業(株)製,商品各XT
−1,XT−4がある。このものは一般式 を基本単位とする単独重合体又は共重合体である。上記
Arとしては、 等がある。上掲のPPAはN,N−ジメチルホルムアミド(DM
F),N−メチルピロリドン(NMP)等を主溶剤とし、希釈
溶剤としてアセトン、MEK、MIBK等のケトン系溶剤を用
いてワニス状の溶液に調製して使用する。PPAはPIに次
ぐ耐熱性を持ち、本発明の耐熱性フィルムのコーティン
グ剤として好適に使用できるものである。
As PPA, for example, Toa Fuel Co., Ltd. product, each XT
-1, XT-4. This is a general formula Is a homopolymer or a copolymer having as a basic unit. the above
As Ar, Etc. The above PPA is N, N-dimethylformamide (DM
F), N-methylpyrrolidone (NMP) or the like as a main solvent, and a ketone solvent such as acetone, MEK or MIBK as a diluting solvent to prepare a varnish-like solution for use. PPA has heat resistance next to PI and can be suitably used as a coating agent for the heat resistant film of the present invention.

PIとしては例えばカネボーエヌエスシー(株)製,商
品名サーミッド(IP−600)を好適に使用できる。このP
Iは末端にアセチレン基を持つポリイソイミドオリゴマ
ーであり、次の構造式で表される。
As PI, for example, Kanebo NSC Co., Ltd., trade name THERMID (IP-600) can be preferably used. This P
I is a polyisoimide oligomer having an acetylene group at the terminal and is represented by the following structural formula.

このものは溶剤にはDMF、NMP等を主溶剤とし、希釈剤
としてアセトン、MEK、MIBK等のケトン系溶剤を使用す
る。またPIとしてビスマレイミド・トリアジン樹脂のよ
うな熱硬化性ポリイミド樹脂(三菱瓦斯化学(株),BT
レジンBT−2170)を使用できる。
This solvent uses DMF, NMP, etc. as a main solvent and a ketone solvent such as acetone, MEK, MIBK, etc. as a diluent. As a PI, thermosetting polyimide resin such as bismaleimide / triazine resin (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., BT
Resin BT-2170) can be used.

PAIとしては例えば次の構造式で表されるバイエル社
製,商品面レジスサーム(AI 133L)を使用できる。
As PAI, for example, a product surface resist therm (AI 133L) manufactured by Bayer and represented by the following structural formula can be used.

このものの溶剤にはNMP、DMAC(ジメチルアセトアミ
ド)等を主溶剤とし、希釈剤としてアセトン、MEK、MIB
K等のケトン系溶剤を使用する。
The solvent for this product is NMP, DMAC (dimethylacetamide), etc. as the main solvent and acetone, MEK, MIB as diluents.
Use a ketone solvent such as K.

PHとしては例えば次の構造式で表される住友バイエル
ウレタン(株)製,商品名レジスサーム(PH20)を使用
できる。
As the PH, for example, Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd., trade name Registherm (PH20) represented by the following structural formula can be used.

このものの溶剤にはクレゾール、フェノール等を主溶
剤とし、希釈剤としてアセトン、MEK、MIBK等のケトン
系溶剤を使用する。
Cresol, phenol and the like are mainly used as the solvent, and ketone solvents such as acetone, MEK and MIBK are used as diluents.

フェノール樹脂はストレートフェノール樹脂でも変性
フェノール樹脂でもよい。この溶剤にはメタノール、イ
ソプロパノール(IPA)等のアルコール系、アセトン、M
EK等のケトン系、またセロソルブ系が用いられる。ま
た、コーティング溶液に必要に応じて界面活性剤や有
機、無機、金属の微粉末充填材を適宜添加する場合もあ
る。変形フェノール樹脂としては、エポキシ変性、メラ
ミン変性、無機物変性(B2O3,P2O5)などのフェノール
樹脂があり、特にメラミン変性やエポキシ変性のフェノ
ール樹脂を用いると、基材に対する高い密着性が確保さ
れる。これら二者の中でも、エポキシ変性フェノール樹
脂は特に高い密着性を示す。
The phenol resin may be a straight phenol resin or a modified phenol resin. This solvent includes alcohols such as methanol and isopropanol (IPA), acetone, M
Ketones such as EK and cellosolves are used. In addition, a surfactant and a fine powder filler of organic, inorganic, or metal may be appropriately added to the coating solution as needed. Modified phenolic resins include phenolic resins such as epoxy-modified, melamine-modified, and inorganic-modified (B 2 O 3 , P 2 O 5 ). Especially, when melamine-modified or epoxy-modified phenolic resin is used, high adhesion to the substrate is achieved. Sex is secured. Of these two, the epoxy-modified phenolic resin exhibits particularly high adhesion.

PAI溶液とエポキシ樹脂溶液とを組み合わせて用いる
と、コーティング層の基材への密着性が向上すると共
に、耐薬性や吸水性も改善される。また、PI溶液とエポ
キシ樹脂溶液とを組み合わせると成形温度が低くなる。
さらにメラミン樹脂溶液をコーティング層として用いる
と耐熱性が向上する。以上は例示であり、コーティング
層を形成させる溶液としてはその性質を勘案し、製造す
べきフィルムの使用目的に適うものを適宜選択すべきで
ある。また、メラミン樹脂、エポキシ樹脂のそれぞれと
しては、通常一般的に知られているものが使用される。
さらにフェノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂の
それぞれは変性体もしくは誘導体として使用されてもよ
い。
When the PAI solution and the epoxy resin solution are used in combination, the adhesion of the coating layer to the substrate is improved, and the chemical resistance and water absorption are also improved. Also, the combination of the PI solution and the epoxy resin solution lowers the molding temperature.
Furthermore, when a melamine resin solution is used as a coating layer, heat resistance is improved. The above is an example, and the solution for forming the coating layer should be appropriately selected in consideration of its properties and suitable for the purpose of use of the film to be produced. Further, as the melamine resin and the epoxy resin, generally known ones are used.
Further, each of the phenol resin, melamine resin and epoxy resin may be used as a modified product or derivative.

焼付後の薄膜の厚みはドライで1〜10μであることが
望ましく、その程度の厚みであっても十分な耐熱性・難
燃性が得られる。
It is desirable that the thickness of the thin film after baking is 1 to 10 μ in dry, and sufficient heat resistance and flame retardancy can be obtained even with such a thickness.

基材100に形成した薄膜の焼付温度は200〜300℃であ
ることを要するが、焼付温度が高すぎると基材100から
のブリードや他の物性値の低下を伴うだけでなく、大き
な収縮やしわ等の不都合を生じやすく、フィルムとして
の性能が損なわれる。フィルムとしての性能を維持し得
る焼付温度は300℃以下である。焼付温度が200℃より低
いと十分な耐熱性、密着性などが得られない。また、焼
付時間は0.5〜5分程度にしておくことが望ましい。こ
こで、注意を要することは、焼き付けは温度条件を上記
範囲に設定することのみでなく、基材100を無端回動体
に保持させて弛みを生じさせることなく平坦に保形した
状態に維持して行うことである。このように保形して焼
き付けを行うと、表面に形成されたコーティング樹脂の
耐熱性、形状維持性と相まって基材がその溶融点よりも
高い温度で加熱されるにもかかわらず基材が変形せず、
フィルム表面に高度な平滑性が付与される。フィルム表
面の平滑性を更に高めるためには、ドラムを用いて上下
からフィルムを押圧してもよい。
The baking temperature of the thin film formed on the base material 100 needs to be 200 to 300 ° C. However, if the baking temperature is too high, not only bleeding from the base material 100 and other physical property values decrease, but also large shrinkage and Inconveniences such as wrinkles are likely to occur and the performance as a film is impaired. The baking temperature capable of maintaining the performance as a film is 300 ° C or lower. If the baking temperature is lower than 200 ° C, sufficient heat resistance and adhesion cannot be obtained. Further, it is desirable that the baking time is set to about 0.5 to 5 minutes. Here, it should be noted that not only the temperature condition for baking is set in the above range, but also the base material 100 is held in an endless rotating body to maintain a flat shape without causing slack. Is to be done. When shape-retaining and baking are performed in this way, the base material deforms despite the heat resistance and shape retention of the coating resin formed on the surface, even though the base material is heated at a temperature higher than its melting point. Without
A high degree of smoothness is given to the film surface. In order to further enhance the smoothness of the film surface, a drum may be used to press the film from above and below.

上記保形状態を維持する装置の一例を第2図及び第3
図に示してある。この装置は、第3図に示すクリップ機
構10を無端状に多数連結してなる左右一対の無端回動体
11,11を、その一端部同士又は他端部同士が個別に接近
離反できる状態として基台12に取り付けてなる。第3図
に示すように、上記クリップ機構10は、支持台13に具備
されたブラケット14に、先端の爪15が上記支持台13に対
して基材100を挾み込む位置と支持台13から離れた位置
との間で変位可能となるようにアーム16を取り付け、こ
のアーム16とブラケット14との間に、上記爪15を上記挾
み込み位置側へ常時付勢するばね17を介装してなり、無
端回動体11の巻掛ローラに設けられた制御用回転板18の
外周部に上記アーム16の上端部19を対応させている。
FIGS. 2 and 3 show an example of an apparatus for maintaining the shape retention state.
It is shown in the figure. This device is composed of a pair of left and right endless rotating bodies which are formed by connecting a large number of endless clip mechanisms 10 shown in FIG.
11, 11 are attached to the base 12 so that one ends thereof or the other ends thereof can individually approach and separate from each other. As shown in FIG. 3, in the clip mechanism 10, the bracket 14 provided on the support base 13 includes a position where the claw 15 at the tip of the base material 100 sandwiches the support base 13 from the support base 13. An arm 16 is attached so as to be displaceable from a distant position, and a spring 17 for constantly urging the pawl 15 toward the pinched position side is interposed between the arm 16 and the bracket 14. The upper end portion 19 of the arm 16 corresponds to the outer peripheral portion of the control rotary plate 18 provided on the winding roller of the endless rotary body 11.

以上の構成において、無端回動体11を図中矢印方向に
回転駆動させると、無端回動体11の転向部分ではクリッ
プ機構10のアーム16が制御用回転板18により第3図の仮
想線の位置へ揺動して爪15が支持台13から離れ、その他
の部分ではアーム16が同図実線の位置へ復帰して爪15が
支持台13に対応する。従って、上記薄膜が形成されてい
る基材100を一対の無端回動体11,11の間へ送り込むと、
その基材の両端部が上記装置の入口部分でクリップ機構
10により第3図実線のように支持された後、そのままの
状態で同装置の出口部分に達し、この出口部分でその保
持が解除される。ここで、加熱により伸張する熱可塑性
樹脂よりなる基材100については、一対の無端回動体11,
11の間隔を出口側に近付くほど漸次広くなるようにし、
加熱により収縮する熱可塑性樹脂よりなる基材100につ
いては、上記間隔を出口側に近付くほど漸次狭くなるよ
うにして、焼付炉4を通過中、基材100に張力をかける
ことなく弛みを生じさせずに平坦に保形された形態を維
持して、表面平滑性が損なわれないようになされてい
る。なお、第2図には加熱により収縮する合成樹脂より
なる基材を送る場合を仮想線で例示している。
In the above configuration, when the endless rotary body 11 is rotationally driven in the direction of the arrow in the figure, the arm 16 of the clip mechanism 10 is moved to the position of the phantom line in FIG. The claw 15 swings away from the support base 13, and at other portions, the arm 16 returns to the position shown by the solid line in the figure, and the claw 15 corresponds to the support base 13. Therefore, when the base material 100 on which the thin film is formed is fed between the pair of endless rotating bodies 11, 11,
Both ends of the base material are clipped at the entrance of the device.
After being supported by 10 as shown by the solid line in FIG. 3, it reaches the outlet portion of the same device as it is, and the holding is released at this outlet portion. Here, for the base material 100 made of a thermoplastic resin that expands by heating, a pair of endless rotating bodies 11,
Make the interval of 11 gradually wider as it approaches the exit side,
Regarding the base material 100 made of a thermoplastic resin that shrinks by heating, the above-mentioned interval is gradually narrowed toward the outlet side so that the base material 100 is loosened without passing tension during passing through the baking furnace 4. Instead, the flat shape is maintained and the surface smoothness is not impaired. In FIG. 2, a case where a base material made of a synthetic resin that shrinks by heating is fed is illustrated by an imaginary line.

叙述のように基材を平坦に保形してその薄膜を焼き付
けると、基材の収縮やしわ等が発生せず、フィルムとし
ての性能が損なわれない。特に、この発明では、焼付温
度が比較的高温であるので、基材を平坦に保形すること
には大きな意味がある。
As described above, when the substrate is held flat and the thin film is baked, the substrate does not shrink or wrinkle, and the performance of the film is not impaired. Particularly, in the present invention, since the baking temperature is relatively high, it is significant to keep the shape of the base material flat.

次に実験例を説明する。 Next, an experimental example will be described.

〔実験例〕[Experimental example]

第1表に本発明方法によって製造したフィルム(以
下、発明品という。)のコーティング層の種類、厚み等
を示し、第2〜8表に発明品1〜7の諸特性を示した。
また、第9表にPET,PPA,PIのそれぞれを基材とするコー
ティング層を有しない無処理フィルム(以下、比較品と
いう。)の諸特性を示した。
Table 1 shows the type and thickness of the coating layer of the film produced by the method of the present invention (hereinafter referred to as the invention product), and Tables 2 to 8 show the characteristics of the invention products 1 to 7.
In addition, Table 9 shows various properties of the untreated film (hereinafter referred to as comparative product) having no coating layer having PET, PPA, and PI as a base material.

第2〜9表より、発明品の耐熱性は、無処理フィルム
のうちPET基材のみのフィルム(比較品1)に比べて大
幅に改善され、コーティング層によって優れた耐熱性を
持つに至り、PETを基材としていながらその耐熱性がPPA
やPIのみを基材とするフィルム(比較品2,3)に近づい
ていることが判る。例えば発明品の耐熱性は、本発明の
焼付温度条件の下限である200℃で焼き付けられたもの
であっても、PET基材のみからなる無処理フィルム(比
較品1)に比べて50℃程度も向上している。そして、焼
付温度を高温、例えば270℃以上にした場合の発明品1
〜7の耐熱性は、PPAやPIのみからなる無処理フィルム
(比較品2,3)の耐熱性に近づいている。このことか
ら、発明品は、その無処理フィルムに対して耐熱特性の
グレードアップが達成されることが判る。従って、これ
らの発明品の用途範囲は、無処理フィルムの用途に比べ
て拡大されることが明らかである。また、加熱収縮率は
PET基材自身のそれによって非常に優れたものとなるの
であって、エンジニアプラスチックと同程度である。こ
のことと、上述した耐熱性のグレードアップ傾向とが相
まって発明品(例えば焼付温度300℃で処理した発明
品)は冒頭で説明したエンジニアリングプラスチックを
基材とするフィルムの代用に用いることができる。
From Tables 2 to 9, the heat resistance of the invention product was significantly improved as compared with the untreated film only the PET substrate (Comparative product 1), and the coating layer had excellent heat resistance. Heat resistance is PPA even though PET is used as the base material
It can be seen that the film is approaching a film (comparative products 2 and 3) using only PI and PI as a base material. For example, the heat resistance of the invention product is about 50 ° C compared to the untreated film made of only the PET substrate (Comparative product 1) even if it is baked at 200 ° C which is the lower limit of the baking temperature condition of the present invention. Is also improving. The invention product 1 when the baking temperature is high, for example, 270 ° C. or higher
The heat resistance of ~ 7 is close to that of the untreated film consisting of PPA and PI only (Comparative products 2 and 3). From this, it is understood that the invention product achieves the upgrade of the heat resistance property with respect to the untreated film. Therefore, it is apparent that the application range of these invention products is expanded as compared with the application of the untreated film. Also, the heat shrinkage is
The PET base material itself makes it very excellent, and is comparable to engineering plastics. In combination with this and the above-mentioned tendency to upgrade the heat resistance, the invention product (for example, the invention product treated at a baking temperature of 300 ° C.) can be used in place of the engineering plastic-based film described at the beginning.

また、発明品は、薄膜の焼付温度が高いほど耐熱性が
良く、難燃性は比較品2,3と同等であり、基材とコーテ
ィング層との密着性、耐溶剤性、耐アルカリ性などは各
発明品とも概ね良好であり、吸水率は比較品2,3に比べ
て格段に小さい。また耐アルカリ性は比較品2,3より優
れていることが判る。
In addition, the invention product has better heat resistance as the baking temperature of the thin film is higher, the flame retardancy is equivalent to that of the comparative products 2 and 3, and the adhesion between the base material and the coating layer, solvent resistance, alkali resistance, etc. Each of the invention products is generally good, and the water absorption rate is much smaller than that of the comparative products 2 and 3. It is also found that the alkali resistance is superior to that of the comparative products 2 and 3.

ところで、熱可塑性樹脂を基材とするフィルムの可撓
性を活用することによって、可撓性プリント配線基板
(FPC)やコンデンサや透明電極のベースフィルム、耐
熱導電フィルム、液晶用フィルム、ICキャリアテープな
どのエレクトロニクス分野や、透析・拡散等に用いられ
るメンブレンや、航空機・自動車の内装材や、原子力関
連分野などに用いる試みがなされているが、それらに上
記フィルムを用いる場合には、その加工条件や使用条件
に応じた耐熱性や難燃性が要求される。例えばFPCのベ
ースフィルムとして用いる場合は、半田時に高温にさら
されるため、半田温度である250゜程度の耐熱性・難燃
性が要求される。この要求に応え得るものとして、上表
より、270℃以上で焼付処理した発明品1〜7を使用で
きることが明らかであり、これらを使用すると、その可
撓性を活用して曲面部分へのFPCの配備などが可能にな
る利点がある。また、航空機・自動車の内装材には、特
に難燃性が要求されるが、この要求はすべての発明品が
満たしている。
By utilizing the flexibility of thermoplastic resin-based films, flexible printed wiring boards (FPCs), capacitors and transparent electrode base films, heat-resistant conductive films, liquid crystal films, IC carrier tapes. In the electronics field such as, membranes used for dialysis and diffusion, interior materials for aircraft and automobiles, nuclear power related fields, etc. Also, heat resistance and flame retardancy are required according to the usage conditions. For example, when it is used as a base film for FPC, it is exposed to a high temperature during soldering, and therefore it is required to have heat resistance and flame retardancy of about 250 ° which is the solder temperature. In order to meet this requirement, it is clear from the above table that invention products 1 to 7 baked at 270 ° C or higher can be used. By using them, the flexibility can be utilized to make FPCs on curved surface parts. There is an advantage that can be deployed. Further, the interior materials of aircrafts and automobiles are required to have flame retardancy, which is satisfied by all the invention products.

次に、各項目の試験方法などを説明する。 Next, a test method and the like of each item will be described.

密着性: コーティング層にレザー刃で格子状に切目を付け、24mm
幅のセロファンテープを貼り合わせ、急激にセロファン
テープを剥離したときの塗膜の剥離の有無を目視観察す
る。○は剥離が殆どなかったものを表している。発明品
はすべて剥離していない。
Adhesion: 24mm with a leather blade on the coating layer
A cellophane tape having a width is attached, and the presence or absence of peeling of the coating film when the cellophane tape is rapidly peeled off is visually observed. O indicates that there was almost no peeling. All of the invention products were not peeled off.

耐溶剤性: JIS C−6481 5.13に準じ、アセトン、MEK、トルエン及
びトリクレンの各々に室温下で5分間浸漬する。○は剥
離や溶解が殆どない状態、×は塗膜の剥離や溶解が認め
られ、布でこすると脱離する状態を表している。発明品
は十分な耐溶剤性を有し、このことからエッチング処理
などにも十分耐え得るものであることが判る。
Solvent resistance: According to JIS C-6481 5.13, dip each in acetone, MEK, toluene and trichlene for 5 minutes at room temperature. O indicates that peeling or dissolution was hardly observed, and X indicates that peeling or dissolution of the coating film was observed and the coating film was released by rubbing. The invention product has sufficient solvent resistance, which means that it can sufficiently withstand etching treatment and the like.

耐熱性: 銅箔を貼り合わせたフィルムを5cm×5cmにカットし、表
中に表示した各温度のオイル浴あるいは半田浴の中に10
秒間浸漬する。
Heat resistance: Cut a film with copper foil stuck on it to a size of 5 cm x 5 cm and put it in an oil bath or solder bath at each temperature shown in the table.
Soak for a second.

難燃性: UL−94 VTM法による判定である。Flame retardance: Judgment by UL-94 VTM method.

次に、本出願人は、ポリ塩化ビニル樹脂(PVC)、ポ
リカーボネート樹脂(PC)、ポリアリレート樹脂(PA
R)、PETより選ばれる基材をフェノール樹脂でコーティ
ングした耐熱性フィルムを提案した。この耐熱性フィル
ムはコーティング層が130℃以上の高温で焼き付けられ
ており、耐熱性、密着性等の諸特性が上記FPCに要求さ
れるそれを満足する。第10表にその諸特性を示す。
Next, the applicant of the present invention has found that polyvinyl chloride resin (PVC), polycarbonate resin (PC), polyarylate resin (PA
We proposed a heat-resistant film in which a base material selected from R) and PET was coated with phenolic resin. The coating layer of this heat-resistant film is baked at a high temperature of 130 ° C. or higher, and various properties such as heat resistance and adhesion satisfy those required for the FPC. Table 10 shows its characteristics.

第10表と第2〜8表より、発明品は耐熱性に関してP
C,PVC、PAR、PET等の基材にフェノール樹脂をコーティ
ングしたフィルムよりも一層優れている。また、引張強
さについてはPC,PVC、PAR等の基材にフェノール樹脂を
コーティングしたフィルムに比べて格段に優れている。
From Table 10 and Tables 2-8, the invention products are
It is even better than a film made by coating a phenolic resin on a base material such as C, PVC, PAR or PET. In addition, regarding tensile strength, it is significantly superior to films made by coating phenolic resins on substrates such as PC, PVC, and PAR.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上説明したように、本発明の耐熱性フィルムは、薄
膜を形成した基材を無端回動体間に保持させ該無端回動
体の間隔を出口側ほど漸次広く又は狭くして弛みを生じ
させることなく平坦に保形した状態に維持するので、表
面に形成されたコーティング樹脂の耐熱性、形状維持性
と相まって基材の溶融点より高い温度である200〜300℃
度の高温度でコーティング層を焼き付けても、基材が変
形せず、しわなどが発生してフィルム性能が損なわれ
ず、表面平滑性が損なわれない。そのため、十分な耐熱
性・難燃性を示し、しかも、優れた柔軟性を有する薄肉
のものが得られ、かつ、コーティング層と基材との密着
性や、耐溶剤性、耐収縮性等に優れるため、特に過酷な
温度条件やエッチング条件の製造過程や使用条件におか
れるFPCとしての用途に適するばかりでなく、絶縁用フ
ィルム、耐熱導電フィルム、メンブレンやその他種々の
用途にも汎用できるものである。
As described above, the heat-resistant film of the present invention holds the base material on which the thin film is formed between the endless rotary bodies and gradually widens or narrows the interval of the endless rotary bodies toward the outlet side without causing slack. Since the shape is kept flat, the temperature is higher than the melting point of the base material, which is higher than the melting point of the base material, which is 200-300 ℃, combined with the heat resistance and shape retention of the coating resin formed on the surface.
Even when the coating layer is baked at a high temperature, the substrate does not deform, wrinkles and the like do not impair the film performance, and the surface smoothness is not impaired. Therefore, a thin product with sufficient heat resistance and flame retardancy and excellent flexibility can be obtained, and the adhesion between the coating layer and the substrate, solvent resistance, shrinkage resistance, etc. Because it is excellent, it is not only suitable for use as an FPC under the manufacturing process and use conditions of harsh temperature conditions and etching conditions, but also versatile for insulating films, heat-resistant conductive films, membranes and various other applications. is there.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明方法を説明するためのフローシート、第
2図は基材を保形した状態に維持するための装置の概略
平面図、第3図はクリップ機構の概略一部切欠側面図で
ある。 100……基材。
FIG. 1 is a flow sheet for explaining the method of the present invention, FIG. 2 is a schematic plan view of an apparatus for maintaining a shape of a substrate, and FIG. 3 is a schematic partial cutaway side view of a clip mechanism. Is. 100 ... Base material.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】ポリエチレンテレフタレート樹脂よりなる
基材にポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリパ
ラバン酸樹脂、ポリヒダントイン樹脂から選ばれる一種
又は二種以上の溶液の薄膜、或いは上記各樹脂の一種又
は二種以上とフェノール樹脂、エポキシ樹脂、メラミン
樹脂から選ばれる一種又は二種以上との溶液の薄膜を形
成し、その薄膜を、乾燥後、基材を一対の無端回動体間
に保持し、該無端回動体の間隔を出口側ほど漸次広く又
は狭くして弛みを生じさせることなく上記基材を平坦に
保形した状態に維持して200〜300℃の温度で焼き付ける
ことを特徴とする耐熱性フィルム又はその類似物の製造
方法。
1. A substrate made of polyethylene terephthalate resin, a thin film of one or more solutions selected from polyimide resins, polyamideimide resins, polyparabanic acid resins and polyhydantoin resins, or one or more of the above resins. A thin film of a solution of one or more selected from phenol resin, epoxy resin, and melamine resin, the thin film is dried, and then the base material is held between a pair of endless rotating bodies. A heat-resistant film or a heat-resistant film characterized by being baked at a temperature of 200 to 300 ° C. while maintaining the flat shape of the substrate without causing slack by gradually widening or narrowing the interval toward the outlet side. Manufacturing method of analogues.
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