JP2524692Y2 - Workpiece holder - Google Patents

Workpiece holder

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JP2524692Y2
JP2524692Y2 JP9446090U JP9446090U JP2524692Y2 JP 2524692 Y2 JP2524692 Y2 JP 2524692Y2 JP 9446090 U JP9446090 U JP 9446090U JP 9446090 U JP9446090 U JP 9446090U JP 2524692 Y2 JP2524692 Y2 JP 2524692Y2
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JP
Japan
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polished
template
backing material
holder
recess hole
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JP9446090U
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Japanese (ja)
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JPH0451358U (en
Inventor
好胤 繁田
Original Assignee
ロデール・ニッタ株式会社
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Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この考案は、フラットディスプレイ用のガラス、反射
鏡、水晶発振子、半導体ウェーハ等の精密加工部品であ
る被研磨物の表面を研磨する際に、被研磨物を、研磨パ
ッドあるいは該研磨パッドを保持する研磨パッド保持部
材に対して相対的に摺動する部材に固定して使用される
被研磨物保持具に関するものである。
[Detailed description of the invention] [Industrial application field] This invention is used for polishing the surface of the object to be polished, which is a precision machined part such as a flat display glass, a reflector, a crystal oscillator, and a semiconductor wafer. The present invention also relates to an object-to-be-polished holder used by fixing an object to be polished to a polishing pad or a member that slides relatively to a polishing pad holding member that holds the polishing pad.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

フラットディスプレイに用いられるガラス、レンズ、
あるいは集積回路の基板である半導体ウェーハ等は、研
磨機により研磨加工される。研磨機は、通常、上側定盤
と下側定盤とを有しており、それぞれが自転及び自・公
転する。下側定盤には研磨パッドが貼着されており、上
側定盤には、被研磨物保持具により被研磨物が保持され
ている。
Glass and lenses used for flat displays,
Alternatively, a semiconductor wafer or the like which is a substrate of an integrated circuit is polished by a polishing machine. The polishing machine usually has an upper surface plate and a lower surface plate, each of which rotates and rotates. A polishing pad is stuck on the lower surface plate, and the object to be polished is held on the upper surface plate by a holder for the object to be polished.

そして、該被研磨物を研磨パッドに押し付け、両者の
間に砥液を介在させながら、両者を回転させつつ摺動さ
せることにより、被研磨物を研磨する。
Then, the object to be polished is pressed against the polishing pad, and the two are rotated and slid while interposing an abrasive liquid therebetween, thereby polishing the object to be polished.

従来の被研磨物保持具は、第5図及び第6図に示すよ
うに、例えば、平面視四角形状被研磨物が嵌合されるリ
セス孔31aが設けられた円形或は矩形状のテンプレート3
1を有する。該テンプレート31の上側定盤に取り付けら
れる側の面には、バッキング材33が接着剤32にて取り付
けられている。
As shown in FIGS. 5 and 6, for example, a conventional workpiece holder has a circular or rectangular template 3 provided with a recess hole 31a into which a rectangular workpiece in plan view is fitted.
With one. A backing material 33 is attached to the surface of the template 31 on the side attached to the upper surface plate with an adhesive 32.

該バッキング材33には、テンプレート31のリセス孔31
a内に嵌合された被研磨物を保持するのに適した高分子
発泡体が用いられる。該バッキング材33は被研磨物が水
等の液体を介して強く押し付けられることにより該被研
磨物に吸着して該被研磨物を固定する。
The backing material 33 has a recess 31 in the template 31.
A polymer foam suitable for holding the object to be polished fitted in a is used. When the object to be polished is strongly pressed through a liquid such as water, the backing material 33 adsorbs to the object to be polished and fixes the object to be polished.

該バッキング材33は、接着剤層34を介して支持材35に
て裏打ちされており、さらに、該支持材35の裏面に、粘
着剤層36及び離型紙37が順次積層されている。
The backing material 33 is lined with a support material 35 via an adhesive layer 34, and an adhesive layer 36 and a release paper 37 are sequentially laminated on the back surface of the support material 35.

このような被研磨物保持具は、離型紙37を剥して上側
定盤に粘着剤層36により接着されて使用される。このと
き、バッキング材33には、水等の液体が含浸されてり、
テンプレート31のリセス孔31a内に被研磨物を嵌合させ
て該パッキング材33に該液体を介して強く押し付けるこ
とにより、該研磨物がバッキング材33に保持される。こ
のような状態で、下側定盤に、研磨砥液を保持し得る布
や発泡体等の研磨パッドを貼着しておき、被研磨物の研
磨すべき面に所定の研磨パッドを当接させて、上側定盤
及び下側定盤をそれぞれ回転させることにより、被研磨
物を研磨パッドとを相対的に摺動させる。そして、砥液
を通流させることにより、該砥液が研磨パッドに保持さ
れ、被研磨物の表面が研磨される。
Such a holder for an object to be polished is used by peeling off the release paper 37 and adhering it to the upper surface plate with an adhesive layer 36. At this time, the backing material 33 is impregnated with a liquid such as water,
The polished object is held in the backing material 33 by fitting the polished object into the recess hole 31a of the template 31 and strongly pressing the polished object against the packing material 33 via the liquid. In such a state, a polishing pad such as a cloth or a foam body capable of holding a polishing abrasive liquid is adhered to the lower surface plate, and a predetermined polishing pad is brought into contact with a surface of the object to be polished to be polished. Then, the object to be polished is slid relatively to the polishing pad by rotating the upper surface plate and the lower surface plate, respectively. Then, by flowing the polishing liquid, the polishing liquid is held by the polishing pad, and the surface of the object to be polished is polished.

〔考案が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

被研磨物を保持する被研磨物保持具は、上側定盤に取
り付けられて使用される。このとき、該被研磨物保持具
により保持される被研磨物は、上側定盤の自転による回
転力が作用して、該被研磨物がテンプレート31のリセス
孔31a内にて、上側定盤の自転方向へ移動しようとす
る。このため、テンプレート31におけるリセット孔31a
の周縁部には、被研磨物の周縁部における回転力作用方
向側部分、特に角形リセス孔におけるコーナー部及びそ
の近傍部が強く当接し、この部分が選択的に損傷する傾
向がある。被研磨物が角形状をしていると、被研磨物の
角部が、該角部に対して上側定盤の自転(例えば、第5
図に矢印Bで示す方向)に対向しているリセス孔31a周
縁部(第5図に斜線Aで示す)に特に強く当接し、その
部分が最初に破損する。テンプレート31の損傷が、ごく
わずかであっても、リセス孔31aと被研磨物との間に、
空隙が生じると、リセス孔31a内にて被研磨物が遊動し
得る状態になり、研磨精度が低下するという問題があ
る。さらに、当接部の磨耗によって被研磨物とリセス孔
31a周縁部との間に空隙が増加すると、当接時の衝撃力
が増加し、加速度的に損傷が拡大される。
The holder for holding the object to be polished is used by being attached to the upper surface plate. At this time, the object to be polished held by the object to be polished is rotated by the rotation of the upper surface plate, and the object to be polished is placed in the recess hole 31a of the template 31 so that the upper surface plate is Attempts to move in the direction of rotation. Therefore, the reset hole 31a in the template 31
, A portion of the peripheral portion of the object to be polished on the side of the rotational force acting direction, in particular, a corner portion of the rectangular recess hole and the vicinity thereof are strongly in contact with each other, and this portion tends to be selectively damaged. When the object to be polished has a square shape, the corner of the object to be polished is rotated with respect to the corner by rotation of the upper platen (for example, the fifth
The peripheral edge of the recess 31a (indicated by an oblique line A in FIG. 5) is particularly strongly contacted with the peripheral edge of the recess 31a facing in the direction indicated by the arrow B in FIG. Even if the damage of the template 31 is very small, between the recess hole 31a and the object to be polished,
When a gap is generated, the object to be polished can move freely in the recess hole 31a, and there is a problem that polishing accuracy is reduced. In addition, the workpiece and the recess
When the gap increases with the peripheral edge of the 31a, the impact force at the time of contact increases, and the damage is accelerated.

損傷がさらに進むと、被研磨物がテンプレート31の残
った部分に乗り上げリセス孔31aから飛び出すと該被研
磨物が破損したり機械の定盤を傷つける等の損害を及ぼ
す事故をおこす。
If the damage further progresses, the object to be polished rides on the remaining portion of the template 31 and jumps out of the recess hole 31a, causing an accident such as damage to the object to be polished or damage to the platen of the machine.

このような問題は、被研磨物のサイズが大きくなる
と、被研磨物の回転力及びリセス孔内にて遊動する被研
磨物が繰り返し衝突する衝撃荷重が大きくなる。つま
り、被研磨物のサイズが大きくなるにつれて、リセス孔
内周面の角部の近傍部の長さは1次元的にしか大きくな
らないのに対し、被研磨物の回転力及び衝撃荷重は、辺
長の自乗に比例して大きくなると考えられる。従って、
リセス孔の面積が増加すると被研磨物の回転力及び衝撃
荷重を受けとめるリセス孔内周面の増加分に対し、被研
磨物の回転による局所的衝撃圧力は加速度的に大きくな
って行くので、被研磨物保持具の使用寿命も加速度的に
低下する。
Such a problem is such that as the size of the object to be polished increases, the rotational force of the object to be polished and the impact load at which the object to be polished floating in the recess hole repeatedly collides increases. That is, as the size of the object to be polished increases, the length near the corner of the inner peripheral surface of the recess hole increases only one-dimensionally, whereas the rotational force and the impact load of the object to be polished are It is thought that it increases in proportion to the square of the length. Therefore,
When the area of the recess hole increases, the local impact pressure due to the rotation of the workpiece increases at an accelerated rate with respect to the increase in the inner peripheral surface of the recess hole that receives the rotational force and the impact load of the workpiece. The service life of the abrasive holder also decreases at an accelerated rate.

上記従来の問題に対処するために、テンプレートの材
料を選定することが考えられるが、そのためには、種々
の困難がある。
In order to address the above-mentioned conventional problems, it is conceivable to select a material for the template, but for that purpose, there are various difficulties.

一般的に被研磨物が比較的厚みの薄いものであって、
しかも研磨後の仕上がり時の厚みや平坦度に高い精度を
要求されるものであると、テンプレート自体の厚さにも
高い厚み精度を要求される。このため、テンプレートと
しては、厚さを高精度に制御し得るシート状物として、
産業上入手し得る素材でなければならない。すなわち、
リセス孔内周面の受ける局所的衝撃力に耐えさせようと
して、高強度、高硬度の物質(例えば金属薄板等)をテ
ンプレートに使用すると、被研磨物がガラス等の硬脆な
材質であるときには被研磨物の辺縁が細かく破砕され
る、チッピングといわれる不具合をひきおこす欠点があ
る。また、ガラス繊維等の無機質繊維を充填した樹脂性
シート(例えばガラスエポキシ板等)を使用すると、被
研磨物が繰り返し衝突する際の衝撃力によって前記ガラ
ス繊維等が折損して破砕され被研磨物の辺縁を損傷する
等の欠点がある。織物充填ベークライト等の繊維質充填
樹脂質シートは、被研磨物保持具を組立て製作する際の
接着作業時において必要とされる加熱プレスの熱に対す
る寸法安定性が劣り、また繰り返し衝突する際の衝撃力
によって当接するテンプレートリセス孔角部から早期に
磨耗による損耗が生じるという問題を有する。硬質塩化
ビニールやポリサルホン、ポリカーボネイト等のいわゆ
るエンジニアリングプラスチックシート等においては、
繰り返し衝撃に対する耐磨耗性が優れるものの、被研磨
物保持具を組立て製作する際の接着作業時において必要
とされる加熱プレスの熱に対する寸法安定性に劣り、ま
た前記のようにテンプレートが薄い場合には、研磨パッ
ドとの接触により大型被研磨物が発する大きい回転力に
対してテンプレートの寸法形状を保つための機械強度が
不足し、テンプレートそのものの形状が狭幅部を有する
ものであれば、その狭幅部に被研磨物の回転力による応
力が集中するので、テンプレート材料の機械強度が耐え
られずに少ない使用回数で破壊を始めるという問題、さ
らに前記の連続的に掛かる回転力とエンジニアリングプ
ラスチックシート等の有する粘弾性特性によってテンプ
レートが変形し、リセス孔内にて被研磨物が遊動し得る
状態になり研磨精度が低下するという問題があった。
Generally, the object to be polished is relatively thin,
In addition, if high precision is required for the finished thickness and flatness after polishing, the thickness of the template itself is also required to be high. For this reason, as a template, as a sheet-like material whose thickness can be controlled with high precision,
The material must be industrially available. That is,
When a high-strength, high-hardness material (for example, a thin metal plate) is used as a template to endure the local impact force received by the inner peripheral surface of the recess hole, when the object to be polished is a hard and brittle material such as glass, There is a disadvantage that the edge of the object to be polished is finely crushed, which causes a problem called chipping. In addition, when a resin sheet (for example, a glass epoxy plate or the like) filled with inorganic fibers such as glass fibers is used, the glass fibers and the like are broken and crushed by an impact force when the objects to be polished repeatedly collide, and the polished objects are crushed. Disadvantages such as damage to the edge of Fibrous-filled resinous sheets, such as woven-filled bakelite, have poor dimensional stability against heat of a heating press required during the bonding work when assembling and manufacturing the holder to be polished. There is a problem that abrasion due to abrasion occurs early from the corner portion of the template recess hole contacted by the force. In the case of engineering plastic sheets such as hard vinyl chloride, polysulfone, and polycarbonate,
When the abrasion resistance against repeated impact is excellent, but the dimensional stability against heat of the heating press required at the time of bonding work when assembling and holding the workpiece holder is poor, and the template is thin as described above. In the case where the mechanical strength to maintain the dimensions and shape of the template against the large rotational force generated by the large object to be polished by contact with the polishing pad is insufficient and the shape of the template itself has a narrow portion, The stress caused by the rotational force of the object to be polished concentrates on the narrow portion, so that the mechanical strength of the template material cannot withstand and starts to be destroyed with a small number of uses, furthermore, the rotational force continuously applied and the engineering plastic The template is deformed by the viscoelastic properties of the sheet, etc., and the object to be polished can move freely in the recess hole, and the polishing precision is increased. But there is a problem that decreases.

また、一般的に被研磨物が比較的厚みの薄いものであ
って、しかも研磨後の仕上がり時の厚みや平坦度に高い
精度を要求されるものであると、テンプレート自体も厚
さが同等以下に薄くしかもその厚さにも高い厚み精度を
要求される。このため、テンプレートとしては、厚さを
高精度に制御し得るシート状物として、産業上入手し得
る素材でなければならない。
In general, if the object to be polished is relatively thin, and high precision is required for the finished thickness and flatness after polishing, the thickness of the template itself is equal to or less than the thickness. It is required to be thin and have high thickness accuracy. For this reason, the template must be a material that can be industrially obtained as a sheet-like material whose thickness can be controlled with high precision.

前述したように、これらの精密被研磨物加工作業にお
いては、テンプレート31の一部が損傷、又は変形して
も、被研磨物の研磨加工精度は低下や、被研磨物の飛び
出しというおそれがあるために、被研磨物保持具全体を
頻繁に取り替えなければならない。しかし、被研磨物保
持具を取り替える際には、被研磨物の研磨作業を中断し
なければならず、頻繁に被研磨物保持具を取り替える場
合には、作業効率が著しく低下し、経済性を損なうとい
う問題がある。
As described above, in these precision workpiece processing operations, even if a part of the template 31 is damaged or deformed, there is a possibility that the polishing accuracy of the workpiece is reduced or the workpiece is popped out. Therefore, it is necessary to frequently replace the entire workpiece holder. However, when replacing the workpiece holder, the work of polishing the workpiece must be interrupted.If the workpiece holder is frequently replaced, the work efficiency is significantly reduced, and the economic efficiency is reduced. There is a problem of spoiling.

この考案は、上記従来の問題を解決するものであり、
その目的は、長期にわたって被研磨物のテンプレートの
リセス孔内への保持状態を安定的に維持し得るために、
研磨精度が低下することを抑制できるとともに、被研磨
物保持具の使用可能寿命を延長し交換頻度を著しく軽減
することができるために、研磨作業効率を著しく向上さ
せることができ、経済性にすぐれた被研磨物保持具を提
供するものである。
This invention solves the above conventional problems,
The purpose is to be able to stably maintain the holding state of the object to be polished in the recess hole of the template for a long time,
A reduction in polishing accuracy can be suppressed, and the usable life of the holder to be polished can be extended and the frequency of replacement can be significantly reduced, so that the polishing operation efficiency can be significantly improved and the economy is excellent. The object to be polished is provided.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

前記課題を解決するためこの考案では次のような技術
的手段を講じている。
In order to solve the above problems, the present invention takes the following technical measures.

この考案の被研磨物保持具は、主としてフラットディ
スプレイ用のガラス、反射鏡、水晶発振子、半導体ウェ
ーハ等の被研磨物の表面を研磨する際に使用される被研
磨物保持具であって、 該被研磨物が保持されるリセス孔が開設されたテンプ
レートと、該リセス孔に脱着自在に保持された挿入体と
からなり、 該挿入体は、被研磨物の面に脱着自在に取付けること
ができるようになされた高分子発泡弾性体からなるバッ
キング材と、前記テンプレートと該バッキング材とを一
体に接着または粘着されているシート材料とを具備して
なり、 該テンプレートのリセス孔の内周面におけるバッキン
グ材側の角部において、バッキング材の厚みに相当し且
つ適宜の幅を有する段付部を設けたものとし、この段付
部まで該バッキング材の外周が嵌合されているよう構成
されたことを特徴とする。
The polished work holder of the present invention is mainly used for polishing the surface of the polished work such as a glass for flat display, a reflecting mirror, a crystal oscillator, and a semiconductor wafer. It comprises a template having a recessed hole for holding the object to be polished, and an insert removably held in the recessed hole, wherein the insert is detachably attached to the surface of the object to be polished. A backing material made of a polymer foamed elastic material, and a sheet material in which the template and the backing material are integrally adhered or adhered, and an inner peripheral surface of a recess hole of the template. At the corner on the backing material side, a stepped portion corresponding to the thickness of the backing material and having an appropriate width is provided, and the outer periphery of the backing material is fitted to this stepped portion. Characterized in that it is configured to have.

〔作用〕[Action]

この考案の被研磨物保持具は、エンジニアリングプラ
スチックシート材料の問題点の一つである機械強度の不
足をテンプレートの厚みを厚くすることで十分な機械強
度を得ることが出来る。これにより磨耗して被研磨物が
リセス孔内にて遊嵌状態になることによる被研磨物の磨
耗の促進及び研磨精度の低下を未然に防止し得え、被研
磨物保持具の寿命を大きく延ばすことが可能となる。
The holder for the object to be polished of the present invention can obtain sufficient mechanical strength by increasing the thickness of the template, which is one of the problems of the engineering plastic sheet material. As a result, it is possible to prevent abrasion of the object to be polished and decrease in polishing accuracy due to the looseness of the object to be polished in the recessed hole, thereby preventing the holder of the object to be polished from being extended. It can be extended.

また、前記テンプレートをバッキング材の厚みに相当
するだけ厚みを増したものを用い、そのリセス孔内の内
周面におけるバッキング材側の角部において、バッキン
グ材の厚みに相当し且つ適宜の幅を有する段付部を設け
たものとし、この段付部まで該バッキング材の外周が嵌
合されているよう配置することで被研磨物に対してバッ
キング材が均一に保持されるため研磨精度の低下を防止
することが出来る。
In addition, the template is used by increasing its thickness by a thickness corresponding to the thickness of the backing material, and at the corner on the backing material side on the inner peripheral surface in the recess hole, the template corresponds to the thickness of the backing material and has an appropriate width. It is assumed that the backing material is provided so that the outer periphery of the backing material is fitted to the stepped portion, so that the backing material is uniformly held with respect to the object to be polished, thereby lowering the polishing accuracy. Can be prevented.

〔実施例〕〔Example〕

以下にこの考案を実施例について説明する。 The present invention will be described below with reference to embodiments.

この実施例の被研磨物保持具は、例えば、平面視で長
方形状をした板状の被研磨物を研磨する際に使用され
る。該被研磨物保持具は、第1図及び第2図に示すよう
に、中央部に四角形状のリセス孔11aが開設されたテン
プレート11を有する。該テンプレート11は、靱性と耐摩
耗性に優れた材質で構成されており、裏面に接着層又
は、粘着剤層13を介して支持材14に接着されており、該
支持材の裏面に粘着剤層15を介して、離型紙16が貼着さ
れている。該リセス孔にはバッキング材12が接着層又
は、粘着剤層13を介して支持材14に接着されており、該
支持材の裏面に粘着剤層15を介して離型紙16が貼着され
ている。
The holder for an object to be polished of this embodiment is used, for example, when polishing an object to be polished having a rectangular shape in plan view. As shown in FIGS. 1 and 2, the holder for the object to be polished has a template 11 in which a rectangular recess hole 11a is opened in the center. The template 11 is made of a material having excellent toughness and abrasion resistance, is adhered to a backing material 14 via an adhesive layer or a pressure-sensitive adhesive layer 13 on the back surface, and an adhesive is provided on the back surface of the supporting material. Release paper 16 is adhered via the layer 15. A backing material 12 is bonded to the support material 14 through an adhesive layer or an adhesive layer 13 in the recess hole, and a release paper 16 is adhered to the back surface of the support material through an adhesive layer 15. I have.

バッキング材12は内部に微細な空隙を有するようにミ
クロポーラス状に発泡された高分子体により構成されて
いる。
The backing material 12 is made of a polymer that is microporously foamed so as to have fine voids inside.

テンプレート11におけるリセス孔11aは該リセス孔の
内周面18におけるバッキング材側の角部において、バッ
キング材の厚みに相当し且つ適宜の幅を有する段付部19
を設けたものとし、この段付部まで該バッキング材の外
周が嵌合されている。
The recess hole 11a in the template 11 has a stepped portion 19 having an appropriate width corresponding to the thickness of the backing material at a corner of the inner peripheral surface 18 of the recess hole on the backing material side.
The outer periphery of the backing material is fitted to this stepped portion.

テンプレート11は、靱性と耐磨耗性に優れたエンジニ
アリングプラスチックで構成されており、ポリカーボネ
ート、硬質ポリウレタン、硬質塩化ビニル、等の半剛性
材料のほか、さらに高硬度な充填樹脂複合材シートなど
も使用し得る。
Template 11 is made of engineering plastic with excellent toughness and abrasion resistance, and uses semi-rigid materials such as polycarbonate, hard polyurethane, hard vinyl chloride, etc., as well as higher hardness filled resin composite sheets. I can do it.

テンプレート11に開設されるリセス孔11aは、1個に
限らず、複数個であってもよい。リセス孔11aは、一般
に角形状で、例えば長方形状(例えば、350mm×250mm)
や正方形状(例えば、300mm×300mm)など、被研磨物の
寸法に合わせて定められる。また、三角形、五角以上の
多角形、星形等の角形状であってもよい。
The number of the recess holes 11a formed in the template 11 is not limited to one, and may be plural. The recess hole 11a is generally square, for example, rectangular (eg, 350 mm × 250 mm)
It is determined according to the size of the object to be polished, such as a square shape (for example, 300 mm × 300 mm). Further, the shape may be a triangular shape, a polygon having five or more angles, a square shape such as a star shape, or the like.

テンプレート11におけるリセス孔11aは該リセス孔の
内周面18におけるバッキング材側の角部における該テン
プレートと該バッキング材が嵌合された段付き部分19の
幅は通常、テンプレートの厚みに対しての0.3倍から15
倍になるよう構成する。第4図に示すように該段付き嵌
合部分においてテンプレートとバッキング材が接着材17
によって接着されていてもよい。また、該段付き嵌合部
分の形状は第2図に示すように角型或は、第4図に示す
ように弧型であっても良く、テンプレート側に段付き部
分があり該バッキング材の外周がリセス孔内周よりさら
に外方へテンプレートの段付き部まで嵌合していること
が肝要である。また、第4図に示すように、テンプレー
ト11の外周縁部における角部が、全周にわたって面取り
されていてもよい。
The width of the stepped portion 19 in which the template and the backing material are fitted at the corner on the backing material side of the inner peripheral surface 18 of the template hole is usually smaller than the thickness of the template. 0.3 to 15
It is configured to be doubled. As shown in FIG. 4, the template and the backing material are bonded to the adhesive 17 at the stepped fitting portion.
May be bonded together. Further, the shape of the stepped fitting portion may be square as shown in FIG. 2 or arcuate as shown in FIG. 4, and there is a stepped portion on the template side and the backing material is It is important that the outer periphery is fitted to the stepped portion of the template further outward than the inner periphery of the recess hole. Further, as shown in FIG. 4, the corners of the outer peripheral edge of the template 11 may be chamfered over the entire circumference.

さらに第2図に示す接着層又は、粘着剤層13、支持材
14、粘着剤層15及び、離型紙16から成るシート材料は第
4図13a、16に示すように粘着剤を不織布に含浸させた
両面粘着テープ或は、接着層と粘着剤層から成るシート
材料であってもよい。
Further, an adhesive layer or an adhesive layer 13 shown in FIG.
14, a sheet material comprising an adhesive layer 15 and a release paper 16 is a double-sided adhesive tape in which a nonwoven fabric is impregnated with an adhesive, or a sheet material comprising an adhesive layer and an adhesive layer, as shown in FIGS. It may be.

テンプレート11は、靱性と耐磨耗性にすぐれた材質に
て構成され、例えば、繊維質充填材と高靱性エンジニア
リングプラスチック、熱硬化性樹脂或は、炭素繊維など
の高機能性無機繊維或はケプラー繊維などの高耐磨耗性
繊維とプラスチック、樹脂或は、合成ゴムなどとの複合
物、またはこれらマトリックス物質単体或は強化フィラ
ー充填物、等、を用いてシート状にプレス成形、押出し
成型或は、カレンダー加工したもの或は、さらに機械加
工して作られる。
The template 11 is made of a material having excellent toughness and abrasion resistance. For example, a fibrous filler and a high-toughness engineering plastic, a thermosetting resin, or a highly functional inorganic fiber such as carbon fiber or a Kepler. Press-forming, extruding, or forming into a sheet using a composite of high-abrasion-resistant fiber such as fiber and plastic, resin, or synthetic rubber, or a matrix substance alone or a filler filler. Are made by calendering or by further machining.

テンプレート11の材質はこの考案の目的を達成するた
めに、被研磨物の材質と面寸法及び厚み、テンプレート
の形状を勘案して適当な物性を有する素材を選ぶが、被
研磨物がフラツトディスプレイ用ガラスの場合は、硬度
がロックウエルM125以下であって、R60以上、さらには
圧縮強度が、400〜2500kg/cm2の範囲が望ましく、さら
に耐磨耗性はいわゆる微振動繰り返し衝撃磨耗に対する
耐性が特に重要である。この耐性は、落球式衝撃試験機
を使用して、小エネルギー水準での繰り返し落球衝撃試
験を行い、破壊するまでの累積衝撃エネルギーの大きい
材質が良好な結果を与えた。
In order to achieve the object of the present invention, the material of the template 11 is selected from materials having appropriate physical properties in consideration of the material and surface dimensions and thickness of the object to be polished and the shape of the template. for use glass, comprising a hardness Rockwell M125 less, R60 or more, more compressive strength, preferably in the range of 400~2500kg / cm 2, further wear resistance is resistance to so-called micro-vibration repeated impact wear Of particular importance. As for this resistance, a repetitive falling ball impact test was performed at a low energy level using a falling ball impact tester, and a material having a large cumulative impact energy until breaking was given a good result.

バッキング材12は、水等の液体をその表面に介在させ
ることにより、被研磨物が強く押し付けられたときに、
該被研磨物を吸着保持し得るものであればよい。該バッ
キング材12は、支持材14と接着剤層13を介して接着され
ているが、所定の発泡組成物を支持材14上に直接設け
て、湿式凝固法により一体化してもよい。
The backing material 12, by interposing a liquid such as water on the surface, when the object to be polished is strongly pressed,
Any material can be used as long as it can hold the object to be polished by suction. The backing material 12 is adhered to the support material 14 via the adhesive layer 13. However, the foaming composition may be provided directly on the support material 14 and integrated by a wet solidification method.

この実施例の被研磨物保持具は、まず、支持材14に接
着剤層又は、粘着材層13を介してバッキング材12を積層
しておく。そして、このような積層体に、第2図に示す
ように、テンプレート11を接着剤層又は、粘着剤層13を
介して接着され、該テンプレート11とバッキング材とは
リセス孔11aの内周面18におけるバッキング材側の角部
において、バッキング材の厚みに相当し且つ適宜の幅を
有する段付部19を設けたものとし、この段付部まで該バ
ッキング材の外周が嵌合されている。
In the holder for the object to be polished in this embodiment, first, the backing material 12 is laminated on the support member 14 via the adhesive layer or the adhesive layer 13. Then, as shown in FIG. 2, a template 11 is adhered to such a laminate via an adhesive layer or an adhesive layer 13, and the template 11 and the backing material are connected to the inner peripheral surface of the recess hole 11a. At a corner of the backing material side 18, a stepped portion 19 having an appropriate width corresponding to the thickness of the backing material is provided, and the outer periphery of the backing material is fitted to this stepped portion.

次にこの考案の実施例の具体例を示す。 Next, a specific example of the embodiment of the present invention will be described.

中央部に、300.1mm×300.1mm穴部が設けられ、テンプ
レートの穴部周縁部に深さ0.5mm、幅5mmの角状切り欠き
部を設けた厚さ1.0mmのポリカーボネート製のテンプレ
ートを準備し、該挿入体を構成する表面が微細発泡構造
のバッキング材(ロデール・ニッタ社製、商品名「DF-2
00」)を304mm×304mmに切り出した。ポリエステルシー
トを芯材とする両面粘着テープに、切り出したバッキン
グ材を熱ローラを用いて貼り合わせ、続いてテンプレー
トを該両面粘着テープに該テンプレートのリセス孔内周
の角に設けた段付部に該バッキング材の外周とが嵌合さ
れるように熱ローラを用いて張り合わせ第1図、第2図
に示すこの実施例の被研磨物保持具を得た。
Prepare a 1.0 mm thick polycarbonate template with a 300.1 mm x 300.1 mm hole in the center and a 0.5 mm deep and 5 mm wide square cutout on the periphery of the hole in the template. A backing material having a fine foam structure on the surface constituting the insert (Rodel Nitta Co., Ltd., trade name "DF-2
00 ") was cut into 304 mm x 304 mm. The cut backing material is bonded to a double-sided adhesive tape using a polyester sheet as a core material by using a heat roller, and then the template is formed on the double-sided adhesive tape at the stepped portion provided at the corner of the inner periphery of the recess hole of the template. FIGS. 1 and 2 show a holder for the object to be polished shown in FIGS. 1 and 2 which was bonded using a heat roller so that the outer periphery of the backing material was fitted.

得られた被研磨物保持具におけるテンプレートのリセ
ス孔内に、液晶ディスプレイ用の角形ガラス(厚さ0.8m
m、大きさ300.0×300.0mm)を嵌合させて、酸化セリウ
ム混入砥液により該角形ガラスを研磨した。このときの
研磨レートは、0.6μm/分であり、研磨布の温度は53℃
であった。このような条件で、被研磨物である角形ガラ
スを順次リセス孔内に嵌合させて研磨したところ、1354
個の角形ガラスを、仕上げ精度(平面精度)を低下させ
ることなく研磨することができた。このときリセス孔周
縁部は約0.2mm磨耗していたので、研磨作業を中止し被
研磨物保持具を取り替えた。研磨された角形ガラス仕上
がり平面精度は、25mm×25mm当り、0.2μm以内であっ
た。
Square glass (0.8 m thick) for liquid crystal display is inserted into the recessed hole of the template in the obtained holder.
m, size 300.0 × 300.0 mm), and the square glass was polished with a cerium oxide-mixed abrasive. The polishing rate at this time is 0.6 μm / min, and the temperature of the polishing cloth is 53 ° C.
Met. Under these conditions, square glass, which is the object to be polished, was sequentially fitted into the recess hole and polished.
Each square glass could be polished without reducing the finishing accuracy (plane accuracy). At this time, the periphery of the recess hole was worn by about 0.2 mm, so the polishing operation was stopped and the holder for the object to be polished was replaced. The finished planar accuracy of the polished square glass was within 0.2 μm per 25 mm × 25 mm.

この考案のさらに他の具体例について説明する。中央
部に、350.1mm×250.1mmの長方形状のリセス孔を設けた
テンプレート孔周縁部に深さ0.6mm、幅10mmの弧状切り
欠き部を設けた厚さ1.5mmのポリサルホン樹脂製のテン
プレートを準備し、先の実施例と同様に貼着して被研磨
物保持具を製作した。得られた被研磨物保持具における
テンプレートのリセス孔内に、液晶ディスプレイ用の角
形ガラス(厚さ1.1mm×350.0mm×250.0mm)を嵌合させ
て、酸化セリウム混入砥液により該角形ガラスを研磨し
た。このときの研磨レートは、0.7μm/分であり、研磨
布の温度は55℃であった。このような条件で、被研磨物
である角形ガラスを順次リセス孔内に嵌合、研磨したと
ころ、1475個の角形ガラスを、仕上げ精度(平面精度)
を低下させることなく研磨することができた。研磨され
た角形ガラスの仕上がり平面精度は、25mm×25mm当り、
0.2μm以内であり、高精度であった。
Another specific example of the present invention will be described. Prepare a template made of polysulfone resin with a thickness of 1.5 mm and an arc-shaped notch with a depth of 0.6 mm and a width of 10 mm at the periphery of a template hole with a rectangular recess hole of 350.1 mm × 250.1 mm at the center. Then, it was adhered in the same manner as in the previous example to produce a holder for the object to be polished. A rectangular glass (thickness: 1.1 mm × 350.0 mm × 250.0 mm) for a liquid crystal display is fitted into the recessed hole of the template in the obtained holder for the object to be polished, and the rectangular glass is mixed with a cerium oxide mixed abrasive liquid. Polished. The polishing rate at this time was 0.7 μm / min, and the temperature of the polishing pad was 55 ° C. Under these conditions, the square glass to be polished was sequentially fitted into the recess hole and polished.
Was able to be polished without lowering. The finished flatness of polished square glass is 25mm x 25mm,
It was within 0.2 μm, which was high precision.

この実施例の被研磨物保持具は、テンプレートの材質
として靱性と耐磨耗性に優れた産業上容易に入手し得る
エンジリアリングプラスチックシート材料を用いること
が出来る。これによって、繰り返し衝突する際の衝撃力
によって当接するテンプレートリセス孔角部から早期に
磨耗による損耗が生じるという問題を解消できる。つま
り、この実施例の被研磨物保持具は、靱性及び耐磨耗性
に優れたテンプレート材料からなり被研磨物との当接に
よる磨耗作用を受容する能力を有しているため、被研磨
物に対してチッピング等の悪影響を与えるおそれがな
い。
The holder for the object to be polished of this embodiment can use an industrially easily available engineering plastic sheet material having excellent toughness and abrasion resistance as a material of the template. This can solve the problem that the wear due to abrasion occurs early from the corner of the template recess hole that comes into contact with the impact force at the time of repeated collision. That is, the holder for the object to be polished of this embodiment is made of a template material having excellent toughness and abrasion resistance, and has the ability to receive the abrasion action caused by contact with the object to be polished. There is no risk of adversely affecting chipping and the like.

これらによって、被研磨物保持具を長寿命化すること
が出来、しかもその寿命の期間中においてリセス孔内の
被研磨物の遊嵌状態を極力抑制し得るので、加工精度を
安定的に保持しながら高い生産性をあげることが出来
る。
As a result, the life of the workpiece holder can be prolonged, and the play-fit state of the workpiece in the recess hole can be suppressed as much as possible during the life of the workpiece holder. However, high productivity can be achieved.

これによって、加工精度を安定させることができ、被
研磨物の品質を安定的に向上させることが可能となり、
研磨作業の生産性と経済性を著しく向上させ得る。
Thereby, the processing accuracy can be stabilized, and the quality of the object to be polished can be stably improved.
The productivity and economy of the polishing operation can be significantly improved.

〔考案の効果〕[Effect of the invention]

この考案の被研磨物保持具は、テンプレートがバッキ
ング材の厚みに相当する分だけ厚いために被研磨物との
当接による応力を受容する能力を有しているため、高強
度高耐久性とすることができ被研磨物保持具の寿命を大
きく延ばすことが可能となる。
The holder for the object to be polished of the present invention has the ability to receive the stress caused by contact with the object to be polished because the template is thicker by an amount corresponding to the thickness of the backing material. It is possible to greatly extend the life of the holder for the object to be polished.

また、テンプレートのリセス孔の内周面におけるバッ
キング材側の角部において、テンプレート側に段付き部
分があり該バッキング材の外周がリセス孔内周よりさら
に外方へテンプレートの段付き部まで嵌合しているよう
配置されているため被研磨物に対してバッキング材が均
一に保持され研磨精度の低下を防止可能となる。
In addition, at the corner of the inner peripheral surface of the recess hole of the template on the backing material side, there is a stepped portion on the template side, and the outer periphery of the backing material fits further outward from the inner periphery of the recess hole to the stepped portion of the template. As a result, the backing material is uniformly held with respect to the object to be polished, so that a reduction in polishing accuracy can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図はこの考案の被研磨物保持具の一例を示す平面
図、第2図は第1図のII-II線における断面図、第3図
はこの考案の被研磨物保持具のさらに他の例を示す平面
図、第4図はこの考案の被研磨物保持具のさらに他の例
を示す断面図、第5図は従来の被研磨物保持具の平面
図、第6図は第5図のIX-IXにおける断面図である。 11……テンプレート、11a……リセス孔、12……バッキ
ング材、14……支持材、18……テンプレートリセス内周
面、19……段付嵌合部。
FIG. 1 is a plan view showing an example of the holder for a polished work of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II of FIG. 1, and FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view showing still another example of the polished work holder of the present invention, FIG. 5 is a plan view of a conventional polished work holder, and FIG. It is sectional drawing in IX-IX of a figure. 11 ... template, 11a ... recess hole, 12 ... backing material, 14 ... support material, 18 ... inner peripheral surface of template recess, 19 ... stepped fitting part.

Claims (1)

(57)【実用新案登録請求の範囲】(57) [Scope of request for utility model registration] 【請求項1】主としてフラットディスプレイ用のガラ
ス、反射鏡、水晶発振子、半導体ウェーハ等の被研磨物
の表面を研磨する際に使用される被研磨物保持具であっ
て、 該被研磨物が嵌合されるリセス孔が開設されたテンプレ
ートと、 該リセス孔に、被研磨物の面に脱着自在に取付けること
ができるようになされた高分子発泡弾性体からなるバッ
キング材と、 該テンプレートと該バッキング材とを一体に接着または
粘着されているシート材料とを具備してなり、 前記テンプレートをバッキング材の厚みに相当するだけ
厚みを増したものを用い、そのリセス孔の内周面におけ
るバッキング材側の角部において、バッキング材の厚み
に相当し且つ適宜の幅を有する段付部を設けたものと
し、この段付部まで該バッキング材の外周が嵌合されて
いるよう構成されたことを特徴とする被研磨物保持具。
An object holder mainly used for polishing the surface of an object to be polished such as a glass for flat display, a reflector, a crystal oscillator, a semiconductor wafer, etc., wherein the object to be polished is A template having a recess hole to be fitted therein; a backing material made of a polymer foamed elastic body which can be detachably attached to the surface of the object to be polished in the recess hole; A sheet material integrally adhered or adhered to a backing material, wherein the template has a thickness increased by a thickness corresponding to the thickness of the backing material, and a backing material on an inner peripheral surface of the recess hole. A stepped portion corresponding to the thickness of the backing material and having an appropriate width is provided at the side corner, and the outer periphery of the backing material is fitted to this stepped portion. A holder for an object to be polished, characterized in that it is configured as follows.
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JP2010201534A (en) * 2009-03-02 2010-09-16 Fujibo Holdings Inc Holder
TW201505763A (en) * 2013-05-20 2015-02-16 Success Yk Semiconductor waver holding jig, semiconductor waver polishing apparatus, and work holding jig
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