JP2518971B2 - Surface cleaning equipment - Google Patents

Surface cleaning equipment

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JP2518971B2
JP2518971B2 JP3049596A JP4959691A JP2518971B2 JP 2518971 B2 JP2518971 B2 JP 2518971B2 JP 3049596 A JP3049596 A JP 3049596A JP 4959691 A JP4959691 A JP 4959691A JP 2518971 B2 JP2518971 B2 JP 2518971B2
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surface cleaning
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【技術分野】本発明はガラス面、壁面等のほぼ平滑な表
面を洗浄する装置に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an apparatus for cleaning a substantially smooth surface such as a glass surface or a wall surface.

【0002】[0002]

【背景技術】建物の窓ガラス、壁等の外気にさらされる
表面には塵埃、ばい煙等の浮遊粒子状物質が付着するた
め定期的な洗浄を行う必要がある。従来、かかる洗浄作
業は人手により行われることが一般的で有り、例えば洗
浄液の吹き付け、ワイパーによる拭き取りなどの一連の
作業を順次行う必要があり、特にかかる作業を垂直面に
対して行うことは容易でなかった。また、特に高所の壁
面等の洗浄を行う場合は危険を伴う。更には、表面洗浄
後の洗浄液の浄化処理等の対策は採られていなかった。
このため人手に依らずに表面の洗浄が可能な装置の必要
が有った。
BACKGROUND ART It is necessary to perform periodic cleaning because suspended particulate matter such as dust and soot adheres to surfaces of buildings such as window glass and walls exposed to the outside air. Conventionally, such cleaning work is generally performed manually, and for example, it is necessary to perform a series of operations such as spraying a cleaning liquid and wiping with a wiper in sequence, and it is particularly easy to perform such a work on a vertical surface. It wasn't. In addition, there is a danger especially when cleaning the walls of high places. Furthermore, no measures such as purification treatment of the cleaning liquid after surface cleaning have been taken.
Therefore, there is a need for an apparatus that can clean the surface without manual labor.

【0003】一方、光学機械のレンズ面等の様に表面を
完全に洗浄する必要がある場合等には従来、被洗浄物を
全体を水、洗剤等の洗浄液を満たした容器に入れて洗浄
を行うことが行われている。しかし乍ら、この方法では
被洗浄物全体を洗浄容器内に入れる必要が有るため洗浄
すべき表面以外の部分も洗浄液に接触することになるた
め限られた被洗浄物のみが洗浄可能であり、改善が望ま
れていた。
On the other hand, when it is necessary to completely clean the surface such as the lens surface of an optical machine, conventionally, the entire object to be cleaned is put in a container filled with a cleaning liquid such as water or detergent and cleaned. Things are being done. However, in this method, since it is necessary to put the entire object to be cleaned in the cleaning container, parts other than the surface to be cleaned also come into contact with the cleaning liquid, so that only a limited object can be cleaned. Improvement was desired.

【0004】[0004]

【発明の目的】従って、本発明は手作業に依らず表面の
洗浄を行うことが可能であり、洗浄に用いた流体の
理が可能な表面洗浄装置を提供することを目的とする。
本発明の他の目的は洗浄すべき表面を含む物体の形状に
依らず、種々の物体の表面の完全な洗浄を行うことが可
能な表面洗浄装置を提供することである。本発明のまた
他の目的は洗浄装置を被洗浄面に対して相対移動させな
がら洗浄動作を行うことが可能な表面洗浄装置を提供す
ることである。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention provides a surface cleaning apparatus capable of cleaning a surface without manual operation and capable of post- processing a fluid used for cleaning. To aim.
Another object of the present invention is to provide a surface cleaning apparatus capable of completely cleaning the surface of various objects regardless of the shape of the object including the surface to be cleaned. The invention also
For other purposes, do not move the cleaning device relative to the surface to be cleaned.
Provide a surface cleaning device capable of performing a cleaning operation
Is Rukoto.

【0005】[0005]

【発明の構成】本発明による表面洗浄装置は物体の被洗
浄表面の少なくとも一部分に密着して流体を保持するこ
とが可能な保持空間を画定する空間画定手段と、保持空
間内に作動流体を導入する導入手段と、保持空間内に導
入された作動流体内に被洗浄面上の付着物質を分散させ
る分散手段とからなることを特徴とする。空間画定手段
は弾性を有する幅広の環状帯であって、その外部表面に
おいて前記被洗浄面に接触可能であり、前記外部表面の
接触可能な部分が順次移動するようにその各部が環状の
経路に沿って移動する回転運動が可能な前記環状帯と、
前記環状帯を前記回転運動可能に支持し、更に前記被洗
浄表面に対する前記環状帯の接触面の形状が凹形となり
前記凹型の内側に位置する前記被接触面と前記環状帯の
外部表面の部分との間に前記保持空間を画定しつつ前記
環状帯が前記回転運動可能であるように前記環状帯を前
記被洗浄面に圧着可能に支持する案内支持手段とから成
り、前記案内支持手段により前記環状帯の外部表面を前
記被洗浄面に対して圧着させることにより前記保持空間
を形成し、前記保持空間を前記被洗浄面に対して相対移
動させながら前記分散手段を動作させることにより前記
被洗浄面を洗浄することが可能である。
The surface cleaning apparatus according to the present invention comprises space defining means for holding a fluid in close contact with at least a part of a surface to be cleaned of an object, and a working fluid introduced into the holding space. And a dispersing means for dispersing the adhered substance on the surface to be cleaned in the working fluid introduced into the holding space. Space definition means
Is a wide elastic band with an outer surface
And can contact the surface to be cleaned,
Each part has an annular shape so that the contactable parts move sequentially.
The annular band capable of rotational movement moving along a path,
The annular belt is rotatably supported and is further washed.
The shape of the contact surface of the annular band with respect to the clean surface becomes concave
Of the contacted surface and the annular band located inside the concave mold
While defining the holding space with a portion of the outer surface,
In front of the annulus so that the annulus is capable of the rotational movement.
Guide supporting means for supporting the surface to be cleaned so that it can be crimped.
The guide support means to move the outer surface of the annular band forward.
The holding space is formed by pressing the surface to be cleaned.
And the holding space is moved relative to the surface to be cleaned.
By operating the dispersing means while moving
It is possible to clean the surface to be cleaned.

【0006】[0006]

【発明の作用】本発明に依れば、被洗浄表面の少なくと
も一部分に密着する手段により保持された作動流体内に
被洗浄面上の付着物を分散させる構成である。また洗浄
装置を移動させながら表面の洗浄を行うことができるた
、洗浄装置を使用する面の大きさが限定されることが
なく、建造物の壁面などを洗浄することができる。また
被洗浄面以外の部分に作動流体が接触することを防止す
ることができ、光学機械の光学面を洗浄することなどの
種々の洗浄方法が可能になる。
According to the present invention, the deposits on the surface to be cleaned are dispersed in the working fluid held by the means for adhering to at least a part of the surface to be cleaned . Wash again
The surface can be cleaned while moving the equipment.
Because the size of the surface using a cleaning device Without being limited and can be cleaned like the wall of a building. Further, it is possible to prevent the working fluid from coming into contact with a portion other than the surface to be cleaned, and various cleaning methods such as cleaning the optical surface of the optical machine become possible.

【0007】[0007]

【実施例】図1は本発明による表面洗浄装置の実施例の
主要部を示す斜視図である。図示の如く、本実施例に於
ける表面洗浄装置は参照番号10により一般的に示され
た洗浄ヘッドを有する。洗浄ヘッド10は等長の4本の
内側ガイドローラ12、13、14、15を有し、ガイ
ドローラ12ー15の回りには幅広環状のベルト11が
巻かれている。ベルト11は天然ゴム、SBR、NBR
等の合成ゴムから成る。尚、ベルト11の材料としては
発泡ポリウレタン等の弾性高分子材料を用いても良い。
内側ガイドローラ12ー15は互いに平行な夫々の中心
軸の回りに回転自在に設けられており、該中心軸はそれ
ぞれに直交する面内において台形の各頂点に位置するよ
うに配置されている。また後方の内側ガイトローラ1
4、15と前方の内側ガイドローラ12、13との距離
が調節自在に成されており、かかる構成によってベルト
11はガイドローラ12ー15により内側から押し広げ
る張力が印加されている。
1 is a perspective view showing a main part of an embodiment of a surface cleaning apparatus according to the present invention. As shown, the surface cleaning apparatus in this embodiment has a cleaning head generally designated by the reference numeral 10. The cleaning head 10 has four inner guide rollers 12, 13, 14, 15 of equal length, and a wide annular belt 11 is wound around the guide rollers 12-15. Belt 11 is made of natural rubber, SBR, NBR
Composed of synthetic rubber. An elastic polymer material such as polyurethane foam may be used as the material of the belt 11.
The inner guide rollers 12-15 are rotatably provided around respective central axes that are parallel to each other, and the central axes are arranged so as to be located at the respective apexes of the trapezoid in the planes orthogonal to each other. Also, the inner guide roller 1 at the rear
The distance between the inner side guide rollers 12 and 13 and the front side inner guide rollers 12 and 13 is adjustable, and with such a structure, the belt 11 is applied with a tension to spread it from the inside by the guide rollers 12-15.

【0008】前方の内側ガイドローラ12及び13の間
には一対の外側ガイドローラ16及び17がベルト11
の外側表面に接触するように配置されている。外側ガイ
ドローラ16及び17の中心軸は内側ガイドローラ12
及び13の中心軸に対して平行であり、かつ外側ガイド
ローラ16及び17の前面はベルト11の内側ガイドロ
ーラ12及び13により支持された部分の前端面より後
方に位置している。更に外側ガイドローラ16及び17
の下端部はベルト11の下縁より上方に位置している。
Between the front inner guide rollers 12 and 13, a pair of outer guide rollers 16 and 17 are provided.
Is arranged to contact the outer surface of the. The central axes of the outer guide rollers 16 and 17 are the inner guide rollers 12.
, 13 are parallel to the central axes of the outer guide rollers 16 and 17, and the front surfaces of the outer guide rollers 16 and 17 are located rearward of the front end surfaces of the portions of the belt 11 supported by the inner guide rollers 12 and 13. Further, the outer guide rollers 16 and 17
The lower end of the belt is located above the lower edge of the belt 11.

【0009】内側ガイドローラ12及び13は後方の内
側ガイドローラ14及び15より大径であり、ゴム等の
弾性材料から成っている。従って、例えばベルト11の
表面を介して図1前面側から押圧力が加えられたときに
はやや変形可能である。内側ガイドローラ12、13の
下端を結ぶ線上には更に複数の短い内側ガイドローラ1
8ー22が配置されており、ベルト11の内面の下端に
直線状に接している。
The inner guide rollers 12 and 13 have a larger diameter than the rear inner guide rollers 14 and 15 and are made of an elastic material such as rubber. Therefore, for example, when a pressing force is applied from the front side of FIG. 1 via the surface of the belt 11, the belt 11 can be slightly deformed. A plurality of shorter inner guide rollers 1 are provided on the line connecting the lower ends of the inner guide rollers 12 and 13.
8-22 are arranged and are in linear contact with the lower end of the inner surface of the belt 11.

【0010】ベルト11の下縁部は他の部分に比較して
弾性コンプライアンスが小になるように、即ち応力に対
する変形が小になるように形成されている。かかる特性
によりガイドローラ12ー15、18ー22により案内
されたベルト11の下端部の前面は外側ガイドローラ1
6、17による押圧力を受けた場合にも直線状に保たれ
る。
The lower edge portion of the belt 11 is formed so that the elastic compliance is smaller than that of the other portions, that is, the deformation due to stress is small. Due to this characteristic, the front surface of the lower end portion of the belt 11 guided by the guide rollers 12-15 and 18-22 is the outer guide roller 1
Even when the pressing force of 6, 17 is received, it is kept linear.

【0011】以上の構成に依って、図1に示された如く
ベルト11の前面を例えばガラス板100の被洗浄面1
01に圧着させるとベルト11の表面とガラス板100
の被洗浄面101との間には水平断面の形状が台形であ
りかつ下方が閉じた空間即ち保持空間Sが形成される。
尚、ベルト11の前面とガラス板100の被洗浄面10
1との接触面は図6の二重斜線で示された如き形状であ
る。図2はベルト11の内側の案内手段として前方の内
側ガイドローラ12、13のみを用いた例を示してい
る。この例においてはベルト11の下端部の弾性コンプ
ライアンスを前述の如く低下させるためにベルト11の
内側下縁部に線上の山形断面の凸部を形成する。図2に
おいて、かかる凸部を示すためにベルト11の下縁部を
切り開いた状態が示されている。内側ガイドローラ12
及び13の下端部及びガイドローラ18ー22の周上に
V字溝を設け、これにベルト11の内側の凸部を沿わせ
ることによりガイドローラとベルト11との高さ方向の
位置ずれを防止することが可能になる。尚、ベルト11
に凸部を形成する代わりにベルト11の下縁部内側に非
伸縮性の繊維を含む層を貼付する方法、ベルト11の下
縁部の厚さ或いは材質を変化させる方法等を用いても良
い。
With the above construction, as shown in FIG. 1, the front surface of the belt 11 is, for example, the surface to be cleaned 1 of the glass plate 100.
When pressed onto 01, the surface of the belt 11 and the glass plate 100
A space having a trapezoidal horizontal cross section and a closed space, that is, a holding space S, is formed between the cleaning surface 101 and the cleaning surface 101.
The front surface of the belt 11 and the surface 10 to be cleaned of the glass plate 100
The contact surface with 1 has a shape as shown by the double diagonal line in FIG.
It FIG. 2 shows an example in which only the front inner guide rollers 12 and 13 are used as the guide means inside the belt 11. In this example, in order to reduce the elastic compliance of the lower end portion of the belt 11 as described above, a convex portion having a linear chevron cross section is formed at the inner lower edge portion of the belt 11. FIG. 2 shows a state in which the lower edge of the belt 11 is cut open in order to show such a convex portion. Inner guide roller 12
V-shaped grooves are provided on the lower ends of the guide rollers 13 and 13 and on the circumference of the guide rollers 18-22, and the convex portions on the inside of the belt 11 are arranged along these grooves to prevent the guide rollers and the belt 11 from being displaced in the height direction. It becomes possible to do. The belt 11
Instead of forming the convex portion on the belt 11, a method of sticking a layer containing non-stretchable fibers on the inner side of the lower edge portion of the belt 11 or a method of changing the thickness or material of the lower edge portion of the belt 11 may be used. .

【0012】更に、外側ガイドローラ16及び17を回
転自在に支持する機構はベルト11の後退距離D及びガ
イドローラ16及び17の下端のベルト11の下縁部に
対する高さHが調節可能であるように構成することがで
きる。かかる調整のためには外側ガイドローラ16及び
17の支持機構としてラック、ピニオンギヤ及びギヤ駆
動用のモータを含む構成を使用し得る。
Further, in the mechanism for rotatably supporting the outer guide rollers 16 and 17, the retreat distance D of the belt 11 and the height H of the lower ends of the guide rollers 16 and 17 with respect to the lower edge of the belt 11 can be adjusted. Can be configured to. For such adjustment, a structure including a rack, a pinion gear, and a gear driving motor can be used as a support mechanism for the outer guide rollers 16 and 17.

【0013】図3及び図4は図2に示されたベルト11
の被洗浄面に対する密着状態を示す平面図である。図3
に示された如くベルト11の上部は被洗浄面に対して左
右の2か所で密着し、ベルト11が回転して左方向L乃
至右方向Rに移動してもベルト11と被洗浄面との間の
空間が保たれる。一方図4に示された如く、ベルト11
は左方向L及び右方向Rに移動してもその下縁部は被洗
浄面に対する密着状態が維持される。尚ベルト11が密
着する面は平面に限らず、内側ガイドローラ12及び1
3の回転軸に平行な曲率中心軸を有する一次曲面であっ
ても良いことは明かである。
3 and 4 show the belt 11 shown in FIG.
FIG. 6 is a plan view showing a close contact state with respect to the surface to be cleaned. FIG.
As shown in FIG. 2, the upper part of the belt 11 is in close contact with the surface to be cleaned at two places on the left and right, and even if the belt 11 rotates and moves from the left direction L to the right direction R, the belt 11 and the surface to be cleaned are The space between them is maintained. On the other hand, as shown in FIG.
Even if it moves in the leftward direction L and the rightward direction R, its lower edge portion maintains a close contact with the surface to be cleaned. The surface with which the belt 11 adheres is not limited to a flat surface, and the inner guide rollers 12 and 1
It is obvious that a linear curved surface having a central axis of curvature parallel to the rotation axis of 3 may be used.

【0014】尚、図1及び図2に示された構成におい
て、複数の短い内側ガイドローラ18ー22に替えて水
平方向に配置されたガイドレールを用いることも可能で
ある。さらに、外側ガイドローラ16及び17の間に更
に内側ガイドローラを配置する方法によって保持空間S
を分割し、ベルト11の表面により同時に2つ以上の保
持空間を形成することも可能である。
In the structure shown in FIGS. 1 and 2, it is also possible to use guide rails arranged in the horizontal direction in place of the plurality of short inner guide rollers 18-22. Furthermore, the holding space S is formed by a method of disposing an inner guide roller between the outer guide rollers 16 and 17.
It is also possible to divide into two and to form two or more holding spaces at the same time by the surface of the belt 11.

【0015】再び図1を参照しつつ実施例について更に
説明する。保持空間Sを形成するベルト11及び複数の
案内ローラに囲まれた位置にはポンプ・フィルタユニッ
ト23が配置されており、更にその内部と保持空間との
間を連絡する供給パイプ24及び排出パイプ25が設け
られている。この実施例においては供給パイプ24及び
排出パイプ25は外側ガイドローラ16及び17の回転
軸を兼ねており、パイプ24及び25の保持空間内に挿
入された直線部分を中心にしてガイドローラ16及び1
7が回転自在に配置されている。
The embodiment will be further described with reference to FIG. 1 again. A pump / filter unit 23 is arranged at a position surrounded by the belt 11 and a plurality of guide rollers that form the holding space S, and further, a supply pipe 24 and a discharge pipe 25 that connect the inside and the holding space. Is provided. In this embodiment, the supply pipe 24 and the discharge pipe 25 also serve as the rotating shafts of the outer guide rollers 16 and 17, and the guide rollers 16 and 1 are centered on the straight line portion inserted into the holding space of the pipes 24 and 25.
7 is rotatably arranged.

【0016】尚、パイプ24及び25のガイドローラ1
6及び17の下端部に位置する先端部分には開口24a
及び25aが夫々設けられている。尚、この例に限ら
ず、供給パイプ及び排出パイプは外側ガイドローラ16
及び17の回転中心軸とは別個に設けても良いことは言
うまでもない。例えば供給パイプを保持空間Sの上部に
配置し、外側ガイドローラ16及び17の回転中心軸を
共に排出パイプとして使用することができる。
The guide roller 1 for the pipes 24 and 25
Openings 24a are provided at the tip portions located at the lower end portions of 6 and 17.
And 25a are provided respectively. Not limited to this example, the supply pipe and the discharge pipe may be the outer guide roller 16
It goes without saying that they may be provided separately from the rotation center axes of 17 and 17. For example, the supply pipe may be arranged above the holding space S, and the rotation center shafts of the outer guide rollers 16 and 17 may both be used as the discharge pipe.

【0017】次に、保持空間S内の外側ガイドローラ1
6及び17の間には分散手段としてベルト11に接触し
ない位置に平板状振動ユニット26が設けられている。
振動ユニット26はバイモルフ形PZT圧電セラミック
振動子27を用いたものであり、セラミック振動子27
は保持空間S内において被洗浄面101との間に一定の
間隙を形成するように内側ガイドローラ12及び13の
中心軸を含む面に対して平行に配置されている。尚圧電
セラミック振動子27の後方にはステンレススチールか
ら成るコの字形断面を有する反射板28が配置されてい
る。尚、圧電セラミック振動子27、反射板28はベー
スブロック29に固定されている。
Next, the outer guide roller 1 in the holding space S
A flat plate vibration unit 26 is provided between 6 and 17 as a dispersion means at a position where it does not contact the belt 11.
The vibration unit 26 uses a bimorph PZT piezoelectric ceramic vibrator 27.
Is arranged parallel to the surface including the central axes of the inner guide rollers 12 and 13 so as to form a constant gap with the surface 101 to be cleaned in the holding space S. A reflecting plate 28 made of stainless steel and having a U-shaped cross section is disposed behind the piezoelectric ceramic vibrator 27. The piezoelectric ceramic vibrator 27 and the reflection plate 28 are fixed to the base block 29.

【0018】保持空間Sの外側ガイドローラ16の近傍
には水位センサ30が挿入されている。尚、内側ガイド
ローラ12から15、ポンプ・フィルタユニット23、
振動ユニット26、水位センサ30の各々はベルト11
の後方に配置された図示しない駆動ユニットに接続され
ている。上述の構成において、ポンプ・フィルタユニッ
ト23により例えば水、中性洗剤溶液、アルコール溶液
等の洗浄液が保持空間S内に供給パイプ24を介して供
給され、かつ排出パイプ25を介してポンプ・フィルタ
ユニット23内に還流する。また保持空間S内の洗浄液
の水位は水位センサ30の出力信号に応じて一定に保た
れる。この様にして、保持空間S内の洗浄液がポンプ・
フィルタユニット23との間で循環する。
A water level sensor 30 is inserted near the outer guide roller 16 in the holding space S. The inner guide rollers 12 to 15, the pump / filter unit 23,
Each of the vibration unit 26 and the water level sensor 30 includes the belt 11
Is connected to a drive unit (not shown) arranged at the rear of the. In the above-described configuration, the pump / filter unit 23 supplies a cleaning liquid such as water, a neutral detergent solution, or an alcohol solution into the holding space S via the supply pipe 24, and also via the discharge pipe 25 to the pump / filter unit. Reflux into 23. Further, the water level of the cleaning liquid in the holding space S is kept constant according to the output signal of the water level sensor 30. In this way, the cleaning liquid in the holding space S is pumped
It circulates with the filter unit 23.

【0019】ここで、振動ユニット26にその共振周波
数に応じた例えば周波数が30kHz前後の駆動電圧を
印加すると、圧電セラミック振動子27が洗浄液内で振
動し、かかる振動が保持空間内Sの洗浄液に伝播するこ
とにより、キャビテーション効果等の洗浄効果が生じ、
被洗浄面101に付着した塵埃、ばい煙等の微粒子が被
洗浄面101から分離して洗浄液中に分散する。尚キャ
ビテーション効果発生に要するエネルギーと励起周波数
は反比例する関係にあり、また20kHz以下の周波数
ではは可聴音が発生するため振動ユニット26の振動周
波数は装置の使用条件に応じて適宜選択することが好ま
しい。
When a drive voltage having a frequency of, for example, about 30 kHz according to the resonance frequency is applied to the vibration unit 26, the piezoelectric ceramic vibrator 27 vibrates in the cleaning liquid, and the vibration acts on the cleaning liquid in the holding space S. By the propagation, cleaning effect such as cavitation effect occurs,
Fine particles such as dust and smoke attached to the surface to be cleaned 101 are separated from the surface to be cleaned 101 and dispersed in the cleaning liquid. The energy required to generate the cavitation effect is inversely proportional to the excitation frequency, and an audible sound is generated at a frequency of 20 kHz or less. Therefore, it is preferable to appropriately select the vibration frequency of the vibration unit 26 according to the usage conditions of the device. .

【0020】図5はポンプ・フィルタユニット23の構
成の一例を示している。図において、ポンプ・フィルタ
ユニット23は洗浄液を保持した貯留槽31を有する。
貯留槽31はフィルタ32によって第1のチャンバ33
と第2のチャンバ34に分割されており、貯留槽31内
の洗浄液はフィルタ32を介して第2のチャンバ34か
ら第1のチャンバ33に移動する過程で浮遊粒子が濾過
される。第1のチャンバ33内の洗浄液はロータリーポ
ンプ35により吸い上げられて三方電磁弁37を介して
図1に示された供給パイプ24に供給される。一方、排
出パイプ25の先端には吸引ポンプ36が接続されてお
り、保持空間S内の洗浄液を第2のチャンバ34内に排
出する。これらのポンプ35、36の動作により保持空
間S及び貯留槽31の間で洗浄液が循環する。
FIG. 5 shows an example of the structure of the pump / filter unit 23. In the figure, the pump / filter unit 23 has a storage tank 31 holding a cleaning liquid.
The storage tank 31 includes a filter 32 and a first chamber 33.
The cleaning solution in the storage tank 31 is filtered through the filter 32 to remove suspended particles in the process of moving from the second chamber 34 to the first chamber 33. The cleaning liquid in the first chamber 33 is sucked up by the rotary pump 35 and supplied to the supply pipe 24 shown in FIG. 1 via the three-way solenoid valve 37. On the other hand, a suction pump 36 is connected to the tip of the discharge pipe 25, and the cleaning liquid in the holding space S is discharged into the second chamber 34. The cleaning liquid circulates between the holding space S and the storage tank 31 by the operation of these pumps 35 and 36.

【0021】例えば吸引ポンプ36による洗浄液の排出
量を一定に保ち、水位センサ30の出力信号に応じてロ
ータリーポンプ35による洗浄液の供給量を制御すると
良い。また、三方電磁弁37の他方の入力端にはヒータ
ー38H及びイオン発生装置38Iを有するエアーポン
プ38ユニットが接続されており、電磁弁37が切り換
えられたときにエアーフィルタ39から吸入された外気
を加熱した温風が供給パイプ24に供給される。更に、
エアーポンプユニット38には電気集塵器を組み込んで
も良く、エアーフィルタ39の吸気口を排出パイプ25
に接続し、保持空間S内の気体を循環させても良い。
For example, the discharge amount of the cleaning liquid by the suction pump 36 may be kept constant, and the supply amount of the cleaning liquid by the rotary pump 35 may be controlled according to the output signal of the water level sensor 30. Further, an air pump 38 unit having a heater 38H and an ion generator 38I is connected to the other input end of the three-way solenoid valve 37, so that the outside air sucked from the air filter 39 when the solenoid valve 37 is switched is removed. The heated hot air is supplied to the supply pipe 24. Furthermore,
An electric dust collector may be incorporated in the air pump unit 38, and the intake port of the air filter 39 is connected to the exhaust pipe 25.
, And the gas in the holding space S may be circulated.

【0022】図6は図1に示された洗浄ヘッドの具体的
なこ構成の例を示している。図1に示された各部品は駆
動ユニット40の前面に接続されている。駆動ユニット
40上部空間内には後述するコントロールユニット、ガ
イドローラ12から17の軸受け等が配置されており、
更に内側ガイドローラ12及び13の回転軸を回転駆動
し、ベルト11を循環させるための二つのモータMが設
けられている。更に、駆動ユニット40の前面には回転
ローラから成る被洗浄面の凹凸センサ41、被洗浄面と
の距離を測定するための超音波センサ43、被洗浄面の
材質、汚れ状態等を検出するための発光素子42a及び
発光素子42aによる光線の反射光を受光する受光素子
42bから成る光学センサ42が設けられている。
FIG. 6 shows an example of the specific construction of the cleaning head shown in FIG. Each component shown in FIG. 1 is connected to the front surface of the drive unit 40. In the upper space of the drive unit 40, a control unit, which will be described later, and bearings for the guide rollers 12 to 17 are arranged.
Further, two motors M for rotating the rotation shafts of the inner guide rollers 12 and 13 and circulating the belt 11 are provided. Further, on the front surface of the drive unit 40, in order to detect the unevenness sensor 41 on the surface to be cleaned, which is composed of a rotating roller, the ultrasonic sensor 43 for measuring the distance to the surface to be cleaned, the material on the surface to be cleaned, the state of contamination, etc. The optical sensor 42 including the light emitting element 42a and the light receiving element 42b that receives the reflected light of the light beam by the light emitting element 42a is provided.

【0023】図7は図1に示された平板状振動ユニット
26に代えて洗浄ヘッドの保持空間S内に挿入して使用
する分散手段の他の例を示している。この例においては
平面状に配置された複数の円盤状ブラシ44から46、
柱状ブラシ47及び駆動モータ48がベース49上に設
けられており、駆動モータ48の回転がベルトを介して
ブラシ44から47に伝達され、ブラシ44から47の
毛先が被洗浄面に接触して被洗浄面に付着した粒子等を
洗浄液中に分散させる。
FIG. 7 shows another example of the dispersing means which is used by inserting it into the holding space S of the cleaning head instead of the flat plate vibration unit 26 shown in FIG. In this example, a plurality of disc-shaped brushes 44 to 46 arranged in a plane,
The columnar brush 47 and the drive motor 48 are provided on the base 49, the rotation of the drive motor 48 is transmitted to the brushes 44 to 47 via the belt, and the tips of the brushes 44 to 47 contact the surface to be cleaned. Particles attached to the surface to be cleaned are dispersed in the cleaning liquid.

【0024】この様に分散手段として種々の構成を用い
ることができるが、保持空間S内に気体を導入して気相
洗浄を行う場合は図1に示された平板状振動ユニット2
6の振動素子としてポリフッ化ビニリデン等の高分子化
合物を使用した振動素子を用いるのが効果的である。図
8は既述の洗浄ヘッド10の制御を行う制御装置の一例
を示している。制御装置は参照番号50により一般的に
示されており、マイクロコンピュータ等からなる制御回
路51を有する。制御回路51にはインターフェース5
2を介して水位センサ30、凹凸センサ41、光学セン
サ42、超音波センサ43からの信号が入力信号供給さ
れている。また制御回路51にはポンプ・フィルタユニ
ット23、平板上振動ユニット26の駆動回路53、及
びモータMの駆動回路54が接続されている。駆動回路
53は前述の如く圧電セラミック振動子27のための所
定周波数の駆動電圧を発生する。制御回路51にはさら
にキーボード及び表示装置を有する操作部55が接続さ
れている。操作部55は洗浄ヘッド10とは離れた位置
に設けても良く、これにより操作者が被洗浄面から離れ
た位置から洗浄ヘッドの動作の態様を指令することが可
能になる。
As described above, various structures can be used as the dispersion means. However, in the case where gas is introduced into the holding space S to perform the gas phase cleaning, the flat plate vibration unit 2 shown in FIG. 1 is used.
As the vibrating element of No. 6, it is effective to use a vibrating element using a polymer compound such as polyvinylidene fluoride. FIG. 8 shows an example of a control device for controlling the cleaning head 10 described above. The controller is generally indicated by the reference numeral 50 and has a control circuit 51 which comprises a microcomputer or the like. Interface 5 for control circuit 51
Signals from the water level sensor 30, the unevenness sensor 41, the optical sensor 42, and the ultrasonic sensor 43 are supplied as input signals via the signal line 2. The pump / filter unit 23, the drive circuit 53 for the flat plate vibration unit 26, and the drive circuit 54 for the motor M are connected to the control circuit 51. The drive circuit 53 generates a drive voltage of a predetermined frequency for the piezoelectric ceramic vibrator 27 as described above. An operation unit 55 having a keyboard and a display device is further connected to the control circuit 51. The operation unit 55 may be provided at a position away from the cleaning head 10, and this allows the operator to instruct the operation mode of the cleaning head from a position away from the surface to be cleaned.

【0025】制御回路の第1の作用は保持空間S内への
作動流体、即ち洗浄液或は洗浄用の気体の導入の制御で
あり、第2の作用は振動ユニット等の分散手段手段の動
作制御であり、第3の作用はモータMによる洗浄ヘッド
10の被洗浄面に対する相対移動の制御である。これら
の各制御作用は予め決められた複数の操作モードの内の
操作部55からの指令に応じて選択されたモードに従っ
て同時に行われる。例えば制御回路51内のマイクロコ
ンピュータによってタイマー割り込みにより各制御ルー
チンを実行するように構成する。制御回路51による操
作モードの一例について以下に記述する。
The first function of the control circuit is to control the introduction of the working fluid, that is, the cleaning liquid or the cleaning gas into the holding space S, and the second function is the operation control of the dispersion means such as the vibration unit. The third action is control of the relative movement of the cleaning head 10 with respect to the surface to be cleaned by the motor M. Each of these control operations is simultaneously performed in accordance with a mode selected according to a command from the operation unit 55 among a plurality of predetermined operation modes. For example, the microcomputer in the control circuit 51 is configured to execute each control routine by timer interruption. An example of the operation mode by the control circuit 51 will be described below.

【0026】洗浄ヘッド10は後述する手段により図1
に示されたガラス板100の被洗浄面101に密着して
いるものとする。先ず、制御回路はスタート指令に応じ
て保持空間S内に洗浄液を所定水位で循環させるように
水位センサ30の出力信号に応じてポンプ・フィルタユ
ニット23を動作させる。洗浄液の水位が所定レベルに
達した時点で同時に平板状振動ユニット26の動作をを
開始する。また、これと同時に図6に示されたモータを
所定時間毎に交互に正転及び逆転させる。これにより洗
浄ヘッド10は被洗浄面101に対して図3及び図4に
示された左方向L及び右方向Rに往復運動する。この洗
浄ヘッド10の往復運動中に光学センサ42により被洗
浄面の光反射を監視し、例えば所定レベル以上の反射率
が得られた点で洗浄動作を停止する。尚、洗浄ヘッド
10を往復運動させることは上述の如く、動作モードの
一例であり、被洗浄面の洗浄を開始する位置から終了す
る位置まで一方向にのみ洗浄ヘッドを移動させながら洗
浄動作を行うことも可能であることは言うまでもない。
The cleaning head 10 is shown in FIG.
It is assumed that the glass plate 100 shown in FIG. First, the control circuit operates the pump / filter unit 23 according to the output signal of the water level sensor 30 so as to circulate the cleaning liquid in the holding space S at a predetermined water level in response to the start command. At the time when the water level of the cleaning liquid reaches a predetermined level, the operation of the flat-plate vibration unit 26 is started at the same time. At the same time, the motor shown in FIG. 6 is alternately rotated in the forward direction and the reverse direction every predetermined time. As a result, the cleaning head 10 reciprocates with respect to the surface 101 to be cleaned in the left direction L and the right direction R shown in FIGS. This by the optical sensor 42 during the reciprocation of the cleaning head 10 monitors the light reflection surface to be cleaned, to stop the washing operation example at the time the predetermined level or higher reflectance was obtained. The cleaning head
The reciprocating movement of 10 is, as described above, in the operation mode.
This is an example, and the cleaning is finished from the position to start cleaning the surface to be cleaned.
The cleaning head in one direction only
It goes without saying that it is also possible to perform a cleaning operation.

【0027】また洗浄ヘッド10の往復運動中は凹凸セ
ンサ41及び超音波距離センサ43により被洗浄面の平
滑性を監視し、洗浄ヘッド10の移動範囲が被洗浄面1
01の縁部分のシール材充填部の段差等の非平滑部に入
り込まない様に制御する。また洗浄ヘッド10を被洗浄
面101の周囲の非平滑部を含む領域に移動させる場合
には非平滑部の存在をセンサ41、43により検知して
ポンプ・フィルタユニット23を動作させて保持空間S
内の洗浄液を全て排出させる。尚保持空間Sから洗浄液
を排出した直後にはエアーポンプユニット38から温風
を供給し、被洗浄面を乾燥させる。
During the reciprocating motion of the cleaning head 10, the unevenness sensor 41 and the ultrasonic distance sensor 43 monitor the smoothness of the surface to be cleaned, and the movement range of the cleaning head 10 is the surface 1 to be cleaned.
It is controlled so as not to enter the non-smooth portion such as the step of the sealing material filling portion of the edge portion of 01. When the cleaning head 10 is moved to a region including the non-smooth portion around the surface to be cleaned 101, the presence of the non-smooth portion is detected by the sensors 41 and 43, and the pump / filter unit 23 is operated to hold the holding space S.
Drain all the cleaning solution inside. Immediately after the cleaning liquid is discharged from the holding space S, warm air is supplied from the air pump unit 38 to dry the surface to be cleaned.

【0028】図9及び図10は洗浄ヘッド10を被洗浄
面に密着させるための手段の一例として、建物の窓ガラ
ス及び壁面の洗浄のために本願発明による表面洗浄装置
を用いた例を示している。図9に示された如く、洗浄ヘ
ッド10は一面が開放された箱型のハウジング56内に
納められている。ハウジング56はその開放面が建物の
壁面に平行になるように建物の屋上等に配置された図示
しない支持装置に結合したワイヤー57及び58により
吊り下げられている。図10はハウジングの背面を示し
ており、ハウジング56の背面には4つのファン59か
ら62が設けられており、ハウジング56内部の空気を
排出する。これによりハウジング56の内部は気圧が低
下し、ハウジング56全体が建物の窓部或は壁面に押し
当てられる。尚、図9に示された如く、ハウジングの開
放面の四隅には回転自在に設けられた4つの車輪63か
ら66が配置されており、ハウジング56は壁面に直接
接触せずに移動可能である。ハウジング56の内部には
洗浄ヘッド10の近傍にブラシ67及びワイパーブレー
ド68が配置されており、洗浄ヘッド10による洗浄動
作に対する補助的な動作を成す。尚、図9及び図10に
示された例に限らず、建物の窓枠沿ってガイドレールを
形成し、かかるガイドレールにより洗浄装置を支持する
ようにしても良く、さらには地上から延びた可動アーム
上に洗浄装置を配置しても良い。
FIGS. 9 and 10 show an example of a means for bringing the cleaning head 10 into close contact with the surface to be cleaned, using the surface cleaning apparatus according to the present invention for cleaning the window glass and walls of the building. There is. As shown in FIG. 9, the cleaning head 10 is housed in a box-shaped housing 56 whose one surface is open. The housing 56 is suspended by wires 57 and 58 connected to a support device (not shown) arranged on the roof of the building so that its open surface is parallel to the wall surface of the building. FIG. 10 shows the rear surface of the housing, and four fans 59 to 62 are provided on the rear surface of the housing 56 to discharge the air inside the housing 56. As a result, the air pressure inside the housing 56 drops, and the entire housing 56 is pressed against the window or wall surface of the building. As shown in FIG. 9, four wheels 63 to 66 that are rotatably provided are arranged at the four corners of the open surface of the housing, and the housing 56 can move without directly contacting the wall surface. . A brush 67 and a wiper blade 68 are arranged in the vicinity of the cleaning head 10 inside the housing 56 and perform an auxiliary operation for the cleaning operation by the cleaning head 10. Not limited to the examples shown in FIGS. 9 and 10, a guide rail may be formed along the window frame of the building, and the cleaning device may be supported by the guide rail. A cleaning device may be arranged on the arm.

【0029】図11は洗浄ヘッドの第2の実施例の断面
図を示している。図示された如く、洗浄ヘッド10′は
ゴム等から成る円柱形のカップ70を有する。カップ7
0の下縁部には図12の斜視図から明かなように同心円
状のコルゲーションが形成されたフランジ71が設けら
れており、フランジ71が被洗浄面に接することによっ
てカップ70の内部がに気密的な保持空間S′が形成さ
れる。カップ70の中央部には供給パイプ72が設けら
れており、周縁部には排出パイプ73が設けけられてい
る。供給パイプ72及び排出パイプ73は図5に示され
たポンプ・フィルタユニット23に接続されている。カ
ップ70の内部において供給パイプ72の先端部分72
aは圧電セラミックからなる振動素子74の支持部材を
構成している。振動素子74は図13に示された如く供
給パイプ72の先端部分72aを中心にして放射状に配
置されており、図1に示された洗浄ヘッド10の場合と
同様に駆動電圧が印加されたときに洗浄液中に振動を伝
幡し、キャビテーション効果等の洗浄作用を発生する。
FIG. 11 shows a sectional view of a second embodiment of the cleaning head. As shown, the cleaning head 10 'has a cylindrical cup 70 made of rubber or the like. Cup 7
As shown in the perspective view of FIG. 12, a flange 71 on which a concentric corrugation is formed is provided at the lower edge of the cup 0, and the inside of the cup 70 is airtight when the flange 71 contacts the surface to be cleaned. Holding space S'is formed. A supply pipe 72 is provided at the center of the cup 70, and a discharge pipe 73 is provided at the peripheral portion. The supply pipe 72 and the discharge pipe 73 are connected to the pump / filter unit 23 shown in FIG. Inside the cup 70, the tip portion 72 of the supply pipe 72
Reference character a constitutes a support member for the vibration element 74 made of piezoelectric ceramic. The vibrating elements 74 are arranged radially around the tip portion 72a of the supply pipe 72 as shown in FIG. 13, and when a drive voltage is applied as in the case of the cleaning head 10 shown in FIG. The vibration is transmitted to the cleaning liquid and the cleaning action such as the cavitation effect is generated.

【0030】この洗浄ヘッド10′を使用する際には図
1に示された洗浄ヘッド10と同様に図9に示されたハ
ウジング56内に配置し、フランジ71を被洗浄面に密
着させる方法が可能である。カップ70を洗浄装置の使
用者が手に持ってフランジ71を被洗浄面に密着させる
方法も可能である。更には被洗浄面の形状が一定である
場合はカップ70を被洗浄面に合わせた形状に形成し、
支持器具を用いてカップ70を被洗浄面に密着させても
良い。
When this cleaning head 10 'is used, it is arranged in the housing 56 shown in FIG. 9 similarly to the cleaning head 10 shown in FIG. 1, and the flange 71 is brought into close contact with the surface to be cleaned. It is possible. A method of holding the cup 70 in the hand of the user of the cleaning device and bringing the flange 71 into close contact with the surface to be cleaned is also possible. Further, when the surface to be cleaned has a constant shape, the cup 70 is formed into a shape matching the surface to be cleaned,
The cup 70 may be brought into close contact with the surface to be cleaned using a supporting device.

【0031】図14はカップ70の中に設けられた分散
手段の他の例を示している。この例の場合はカップ70
の内部空間は円盤状のダイアフラム75により上下に2
分割されておりダイアフラム75の下部の空間に洗浄液
が充填される。ダイアフラム75の中央部にはボイスコ
イル77が結合されている。ボイスコイル77はマグネ
ット76を有する磁気回路の環状ギャップ内に挿入され
ており励起電流が供給されることによりダイアフラム7
5をその面に垂直な方向に振動させる。この例の場合に
も図11から図13に示された洗浄ヘッド10′と同様
の洗浄効果を発生する。また、ダイアフラム75ボイス
コイル77の代わりにはπ形フェライト磁歪振動子を結
合しても良い。
FIG. 14 shows another example of the dispersing means provided in the cup 70. In this case, cup 70
The inner space of is up and down by the disk-shaped diaphragm 75.
The space is divided and the space below the diaphragm 75 is filled with the cleaning liquid. A voice coil 77 is coupled to the center of the diaphragm 75. The voice coil 77 is inserted in the annular gap of the magnetic circuit having the magnet 76, and the excitation current is supplied to the diaphragm 7
5 is vibrated in a direction perpendicular to the plane. Also in this case, the same cleaning effect as the cleaning head 10 'shown in FIGS. 11 to 13 is produced. Further, instead of the diaphragm 75 voice coil 77, a π-type ferrite magnetostrictive vibrator may be coupled.

【0032】図11から図14に示された洗浄ヘッド1
0′の場合はカップ70によって形成される流体保持空
間S′は密閉された状態となるため、図示された水平な
被洗浄面に限らずあらゆる角度の面に対して使用するこ
とができる。この洗浄ヘッドを使用することによって例
えば光学レンズの表面にカップ70を密着させ、レンズ
ボディー等の光学面以外の部分に洗浄液を接触させるこ
となしにレンズ表面の洗浄を行うことが可能になる。ま
たカップ70の形状は円筒形に限らず、直方体、楕円柱
など種々の形状にことができる。
Cleaning head 1 shown in FIGS. 11 to 14.
In the case of 0 ', since the fluid holding space S'formed by the cup 70 is in a sealed state, it can be used not only for the horizontal surface to be cleaned shown but also for any surface. By using this cleaning head, for example, the cup 70 can be brought into close contact with the surface of the optical lens and the lens surface can be cleaned without bringing the cleaning liquid into contact with a portion other than the optical surface of the lens body or the like. Further, the shape of the cup 70 is not limited to the cylindrical shape, but may be various shapes such as a rectangular parallelepiped and an elliptic cylinder.

【0033】[0033]

【発明の効果】以上詳述した如く、本発明による表面洗
浄装置は被洗浄面の少なくとも一部分に密着して流体を
保持する保持空間を画定する手段を用い、かかる保持空
間に導入された洗浄液或は洗浄用気体中に被洗浄面に付
着した付着物を分散させるように構成されている。この
ため洗浄装置を使用する面を限定することなく種々の大
きさの面、或は種々の角度の面の洗浄を行うことが可能
になる。特に流体を保持する空間を維持しつつ、洗浄装
置を被洗浄面に対して相対移動させることができるた
め、洗浄装置を移動させながら表面の洗浄を行うことが
できる。また建物等のまた保持空間内の洗浄液をフィル
タを用いて濾過しながら循環させることにより汚れた洗
浄液を排出する必要がなくなり、環境汚染を防止できる
利点がある。
As described above in detail, the surface cleaning apparatus according to the present invention uses the means for defining the holding space for holding the fluid in close contact with at least a part of the surface to be cleaned, and the cleaning liquid or the cleaning liquid introduced into the holding space. Is configured to disperse the deposits attached to the surface to be cleaned in the cleaning gas. Therefore, it is possible to clean a surface of various sizes or a surface of various angles without limiting the surface on which the cleaning device is used. Particularly, since the cleaning device can be moved relative to the surface to be cleaned while maintaining the space for holding the fluid, the surface can be cleaned while moving the cleaning device.
it can. In addition, by circulating the cleaning liquid in the holding space of a building or the like while filtering it with a filter, it is not necessary to discharge the dirty cleaning liquid, and there is an advantage that environmental pollution can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の表面洗浄装置の洗浄ヘッドの一例の主
要部を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a main part of an example of a cleaning head of a surface cleaning apparatus of the present invention.

【図2】洗浄ヘッドの部分の他の例を示す斜視図であ
る。
FIG. 2 is a perspective view showing another example of a cleaning head portion.

【図3】図2に示された洗浄ヘッドの一部分のベルト1
1の上部と被洗浄面の密着状態を示す図である。
FIG. 3 is a belt 1 of a part of the cleaning head shown in FIG.
It is a figure which shows the contact | adherence state of the upper part of 1 and the to-be-cleaned surface.

【図4】図2に示された洗浄ヘッドの一部分のベルト1
1の下部と被洗浄面の密着状態を示す図である。
FIG. 4 is a belt 1 of a part of the cleaning head shown in FIG.
It is a figure which shows the contact | adherence state of the lower part of 1 and the to-be-cleaned surface.

【図5】図1に示された洗浄ヘッドのポンプ・フィルタ
ユニット23の構成の一例を示す図である。
5 is a diagram showing an example of a configuration of a pump / filter unit 23 of the cleaning head shown in FIG.

【図6】図1に示された部分を用いた洗浄ヘッドの一例
を示す正面図である。
FIG. 6 is a front view showing an example of a cleaning head using the portion shown in FIG.

【図7】分散手段の他の例を示す斜視図である。FIG. 7 is a perspective view showing another example of the dispersing means.

【図8】表面洗浄装置の制御装置の一例を示すブロック
図である。
FIG. 8 is a block diagram showing an example of a control device of the surface cleaning device.

【図9】建物の窓及び壁面の洗浄装置として本発明によ
る表面洗浄装置を実施した例を示す斜視図である。
FIG. 9 is a perspective view showing an example in which a surface cleaning device according to the present invention is implemented as a cleaning device for windows and walls of a building.

【図10】図9に示された装置の背面を示す斜視図であ
る。
FIG. 10 is a perspective view showing the back of the device shown in FIG.

【図11】本発明による表面洗浄装置の洗浄ヘッドの他
の例を示す断面図である。
FIG. 11 is a sectional view showing another example of the cleaning head of the surface cleaning apparatus according to the present invention.

【図12】図11に示された洗浄ヘッドの外観を示す斜
視図である。
12 is a perspective view showing the appearance of the cleaning head shown in FIG.

【図13】図11に示された洗浄ヘッド内の振動素子の
配置を示す平面図である。
13 is a plan view showing the arrangement of vibration elements in the cleaning head shown in FIG. 11. FIG.

【図14】図11に示された洗浄ヘッドと同様の構成に
おける振動部分の構成の他の例を示す断面図である。
14 is a cross-sectional view showing another example of the configuration of the vibrating portion in the same configuration as the cleaning head shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10・・・・・・洗浄ヘッド 11・・・・・・幅広ベルト 12、13・・・・・・内側ガイドローラ 16、17・・・・・・外側ガイドローラ 23・・・・・・ポンプ・フィルタユニット 26・・・・・・振動ユニット 30・・・・・・水位センサ 51・・・・・・制御回路 10 ··· Washing head 11 ··· Wide belt 12/13 ··· Inner guide roller 16/17 ··· Outer guide roller 23 ··· Pump・ Filter unit 26 ・ ・ Vibration unit 30 ・ ・ ・ ・ ・ ・ Water level sensor 51 ・ ・ Control circuit

Claims (15)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 物体の表面を洗浄する装置であって、 前記物体の被洗浄表面の少なくとも一部分に密着して流
体を保持することが可能な保持空間を画定する空間画定
手段と、 前記保持空間内に作動流体を導入する導入手段と、 前記保持空間内に導入された作動流体内に前記被洗浄面
上の付着物質を分散させる分散手段とから成り、前記空
間画定手段は、 弾性を有する幅広の環状帯であって、その外部表面にお
いて前記被洗浄面に接触可能であり、前記外部表面の接
触可能な部分が順次移動するようにその各部が環状の経
路に沿って移動する回転運動が可能な前記環状帯と、 前記環状帯を前記回転運動可能に支持し、更に前記被洗
浄表面に対する前記環状帯の接触面の形状が凹形となり
前記凹型の内側に位置する前記被接触面と前記環状帯の
外部表面の部分との間に前記保持空間を画定しつつ前記
環状帯が前記回転運動可能であるように前記環状帯を前
記被洗浄面に圧着可能に支持する案内支持手段とから成
り、前記案内支持手段により前記環状帯の外部表面を前
記被洗浄面に対して圧着させることにより前記保持空間
を形成し、前記保持空間を前記被洗浄面に対して相対移
動させながら前記分散手段を動作させることにより前記
被洗浄面を洗浄することが可能である ことを特徴とする
表面洗浄装置。
1. A device for cleaning a surface of an object, comprising: a space defining means for closely contacting at least a part of a surface to be cleaned of the object to define a holding space; and the holding space. and introducing means for introducing a working fluid within, it consists of a dispersion means for dispersing the deposited material on the surface to be cleaned in the working fluid introduced into the holding space, the air
The space-defining means is a wide elastic band which is attached to the outer surface of the band.
And can contact the surface to be cleaned and contact the external surface.
Each part of the touchable part moves circularly so that it can move sequentially.
The ring-shaped band that moves along a path and is rotatable, and the ring-shaped band is rotatably supported.
The shape of the contact surface of the annular band with respect to the clean surface becomes concave
Of the contacted surface and the annular band located inside the concave mold
While defining the holding space with a portion of the outer surface,
In front of the annulus so that the annulus is capable of the rotational movement.
Guide supporting means for supporting the surface to be cleaned so that it can be crimped.
The guide support means to move the outer surface of the annular band forward.
The holding space is formed by pressing the surface to be cleaned.
And the holding space is moved relative to the surface to be cleaned.
By operating the dispersing means while moving
A surface cleaning apparatus capable of cleaning a surface to be cleaned .
【請求項2】 前記案内支持手段は 各々が垂直方向に伸びたそれぞれの回転軸の回りに回転
自在であり、前記環状帯の内部表面に回転自在に接する
少なくとも2個の内側ローラと、 前記内側ローラに支持された前記環状帯の外部表面に対
して、前記少なくとも2個の内側ローラにより支持され
た前記環状帯の二つの部分を結ぶ面より前記環状帯の内
側方向に変位した位置において回転自在に圧接して前記
環状帯の前記外部表面に前記保持空間となる凹部を形成
する少なくとも1個の外側ローラを含み、前記凹部は前
記外側ローラの下端が前記内側ローラの下端より高い位
置にあることにより形成され、前記環状帯が前記被洗浄
面に接触した状態においては前記内側ローラ及び前記外
側ローラの回転に伴う前記環状帯の回転運動に応じて前
記保持空間が前記被洗浄面に対して相対移動可能である
ことを特徴とする請求項記載の表面洗浄装置。
Wherein said guide support means is rotated about a respective each of which extends in a vertical axis of rotation
And freely rotatably contacts the inner surface of the annular band.
At least two inner rollers paired with the outer surface of the annular band supported by the inner rollers.
And is supported by the at least two inner rollers
The inside of the ring-shaped zone from the surface connecting the two parts of the ring-shaped zone
At the position displaced in the lateral direction, press contact rotatably and
Forming a recess serving as the holding space on the outer surface of the annular band
At least one outer roller, the recess being
The lower end of the outer roller is higher than the lower end of the inner roller.
The annular band is formed by being placed in
When in contact with the surface, the inner roller and the outer roller
In response to the rotational movement of the annular band accompanying the rotation of the side roller
Surface cleaning apparatus of claim 1, wherein the serial holding space can be moved relative to the surface to be cleaned.
【請求項3】 前記環状帯は前記外側ローラの下端より
下方に位置する辺縁部の弾性コンプライアンスが他の部
分より小であることを特徴とする請求項2記載の表面洗
浄装置。
3. The surface cleaning apparatus according to claim 2, wherein the peripheral portion of the annular belt located below the lower end of the outer roller has a smaller elastic compliance than other portions.
【請求項4】 前記分散手段は前記空間内の前記作動流
体に振動を伝播する振動子からなることを特徴とする請
求項1記載の表面洗浄装置。
4. The surface cleaning apparatus according to claim 1, wherein the dispersing means comprises a vibrator that propagates vibration to the working fluid in the space.
【請求項5】 前記振動子は圧電振動素子から成ること
を特徴とする請求項に記載の表面洗浄装置。
5. The surface cleaning apparatus according to claim 4 , wherein the vibrator includes a piezoelectric vibrating element.
【請求項6】 前記分散手段は前記空間内に配置された
ブラシと、前記ブラシを駆動する駆動手段とから成るこ
とを特徴とする請求項1記載の表面洗浄装置。
6. The surface cleaning apparatus according to claim 1, wherein the dispersing means includes a brush arranged in the space and a driving means for driving the brush.
【請求項7】 前記ブラシは前記被清浄化面に平行又は
垂直な回転軸の回りに回転駆動されることを特徴とする
請求項記載の表面洗浄装置。
7. The surface cleaning apparatus according to claim 6, wherein the brush is rotationally driven about a rotation axis parallel or perpendicular to the surface to be cleaned.
【請求項8】 前記導入手段は前記保持空間内に前記作
動流体を供給する供給流路と、前記保持空間から前記作
動流体を排出する排出流路との少なくとも一方を有する
ことを特徴とする請求項1記載の表面洗浄装置。
8. The introducing means has at least one of a supply flow path for supplying the working fluid into the holding space and a discharge flow path for discharging the working fluid from the holding space. Item 1. The surface cleaning apparatus according to item 1.
【請求項9】 前記導入手段は前記保持空間内に前記作
動流体を供給する供給流路と、前記保持空間から前記作
動流体を排出する排出流路と、前記供給流路と前記排出
流路を介して前記保持空間内の作動流体を循環させる循
環装置とからなり、前記循環装置にはフィルタが設けら
れていることを特徴とする請求項1記載の表面洗浄装
置。
9. The introducing means includes a supply flow path for supplying the working fluid into the holding space, a discharge flow path for discharging the working fluid from the holding space, and a supply flow path and a discharge flow path. The surface cleaning apparatus according to claim 1, further comprising a circulation device that circulates the working fluid in the holding space via the circulation device, and the circulation device is provided with a filter.
【請求項10】 前記作動流体は液体であることを特徴
とする請求項記載の表面洗浄装置。
10. The surface cleaning apparatus according to claim 9 , wherein the working fluid is a liquid.
【請求項11】 前記作動流体は気体であることを特徴
とする請求項記載の表面洗浄装置。
11. The surface cleaning apparatus according to claim 9 , wherein the working fluid is a gas.
【請求項12】 前記分散手段は前記気体をイオン化す
る手段から成ることを特徴とする請求項11記載の表面
洗浄装置。
12. The surface cleaning apparatus according to claim 11, wherein the dispersing means comprises means for ionizing the gas.
【請求項13】 前記循環装置は前記作動流体として液
体及び気体を選択的に前記保持空間内に循環させること
を特徴とする請求項記載の表面洗浄装置。
13. The surface cleaning apparatus according to claim 9, wherein the circulation device selectively circulates liquid and gas as the working fluid in the holding space.
【請求項14】 前記作動流体導入手段及び前記分散手
段の動作を制御する制御手段を更に有することを特徴と
する請求項1記載の表面洗浄装置。
14. The surface cleaning apparatus according to claim 1, further comprising control means for controlling operations of the working fluid introducing means and the dispersing means.
【請求項15】 前記被洗浄表面の状態を検知するセン
サを更に有し、前記制御手段は前記センサの出力信号に
応じて前記作動流体導入手段及び前記分散手段の動作を
制御することを特徴とする請求項14記載の表面洗浄装
15. A sensor for detecting the condition of the surface to be cleaned, wherein the control means controls the operations of the working fluid introducing means and the dispersing means in accordance with an output signal of the sensor. 15. The surface cleaning apparatus according to claim 14 .
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