JP2510397Y2 - シ―ル装置 - Google Patents
シ―ル装置Info
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- JP2510397Y2 JP2510397Y2 JP11642090U JP11642090U JP2510397Y2 JP 2510397 Y2 JP2510397 Y2 JP 2510397Y2 JP 11642090 U JP11642090 U JP 11642090U JP 11642090 U JP11642090 U JP 11642090U JP 2510397 Y2 JP2510397 Y2 JP 2510397Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- seal ring
- rotary shaft
- bearing portion
- pressure chamber
- seal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Sealing Using Fluids, Sealing Without Contact, And Removal Of Oil (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 産業上の利用分野 本考案は、蒸気タービンやコンプレッサなどの高圧回
転機械に利用されるシール装置に関する。
転機械に利用されるシール装置に関する。
従来の技術 第10図、第11図は従来のシール装置を示したもので、
実開昭63-51930号公報により公知のものであり、第10図
はシール装置の部分的な断面図で、第11図は第10図の矢
印Ｃ方向から見た部分的な平面図である。
実開昭63-51930号公報により公知のものであり、第10図
はシール装置の部分的な断面図で、第11図は第10図の矢
印Ｃ方向から見た部分的な平面図である。
これらの図で１は高圧回転機械の回転軸であり、２は
そのケーシングである。そして、回転軸１を取り囲んだ
シールリング３がケーシング２に取付けられている。な
お、シールリング３を挟んで回転軸１の右側が高圧室
Ａ、左側が低圧室Ｂとなっている。
そのケーシングである。そして、回転軸１を取り囲んだ
シールリング３がケーシング２に取付けられている。な
お、シールリング３を挟んで回転軸１の右側が高圧室
Ａ、左側が低圧室Ｂとなっている。
そして、高圧室Ａ側のシールリング３の内周面に、回
転軸１に面してラビリンスフィン４が形成されていて、
低圧室Ｂ側のシールリング３の内周面は、静圧軸受部５
となっている。ケーシング２には、外部の圧力源から高
圧流体を導入するための供給孔６が形成されていて、こ
の供給孔６からの高圧流体を、静圧軸受部５の回転軸１
とシールリング３との間の隙間に供給するように、静圧
軸受部５にも周方向に沿って複数の供給孔７が形成され
ている。
転軸１に面してラビリンスフィン４が形成されていて、
低圧室Ｂ側のシールリング３の内周面は、静圧軸受部５
となっている。ケーシング２には、外部の圧力源から高
圧流体を導入するための供給孔６が形成されていて、こ
の供給孔６からの高圧流体を、静圧軸受部５の回転軸１
とシールリング３との間の隙間に供給するように、静圧
軸受部５にも周方向に沿って複数の供給孔７が形成され
ている。
また、外部の圧力源から供給孔６や供給孔７を通して
静圧軸受部５へ供給する高圧流体が、高圧室Ａへ流出し
たり逆に高圧室Ａ側から流入しないようにするために、
シール部材８が設けられている。９はシールリング３の
回転を防止するための回り止めピンである。さらに、静
圧軸受部５には軸線方向に沿う排出孔10が、周方向に複
数本貫通して形成されていて、ラビリンスフィン４と回
転軸１との間の半径方向隙間Ｄを通して流れ出た高圧室
Ａの流体を、低圧室Ｂ側へ排出するようにしている。
静圧軸受部５へ供給する高圧流体が、高圧室Ａへ流出し
たり逆に高圧室Ａ側から流入しないようにするために、
シール部材８が設けられている。９はシールリング３の
回転を防止するための回り止めピンである。さらに、静
圧軸受部５には軸線方向に沿う排出孔10が、周方向に複
数本貫通して形成されていて、ラビリンスフィン４と回
転軸１との間の半径方向隙間Ｄを通して流れ出た高圧室
Ａの流体を、低圧室Ｂ側へ排出するようにしている。
なお、12はケーシング２とシールリング３とが摺接す
る接触面であり、排出孔10の位置よりも半径方向の外側
に設けられており、シールリング３がこの接触面12に、
図示しないばねにより軸方向の高圧室Ａ側から押し付け
るようにして取付けられている。すなわち、シールリン
グ３はこのばねの力と、高圧室Ａと低圧室Ｂとの圧力差
による軸方向の流体力によって、ケーシング２に保持さ
れているのである。
る接触面であり、排出孔10の位置よりも半径方向の外側
に設けられており、シールリング３がこの接触面12に、
図示しないばねにより軸方向の高圧室Ａ側から押し付け
るようにして取付けられている。すなわち、シールリン
グ３はこのばねの力と、高圧室Ａと低圧室Ｂとの圧力差
による軸方向の流体力によって、ケーシング２に保持さ
れているのである。
そして、静圧軸受部５の回転軸１とシールリング３と
の間の隙間に、外部の圧力源から供給孔６や供給孔７を
通して供給される高圧流体によって、シールリング３を
回転軸１の半径方向の挙動に対して追随させて動かすこ
とにより、ラビリンスフィン４が回転軸１に接触しない
ようにして、その磨耗を防止するとともにシール性能を
発揮している。
の間の隙間に、外部の圧力源から供給孔６や供給孔７を
通して供給される高圧流体によって、シールリング３を
回転軸１の半径方向の挙動に対して追随させて動かすこ
とにより、ラビリンスフィン４が回転軸１に接触しない
ようにして、その磨耗を防止するとともにシール性能を
発揮している。
考案が解決しようとする課題 ところで、上記のような従来のシール装置では、回転
軸１の半径方向の挙動に対してラビリンスフィン４が、
回転軸１に接触して摩耗しないように、回転軸１とシー
ルリング３との半径方向隙間に高圧流体を導いて、シー
ルリング３を回転軸１に追随して動かせているが、この
動きがシールリング３とケーシング２との接触面12に作
用する、シールリング３の軸方向合力に比例する摩擦力
のために低減されてしまうという問題があった。そのた
め、静圧軸受部５の回転軸１とシールリング３との間の
隙間に、外部の圧力源から供給する高圧流体の量や圧力
を増加しなければならないという問題があった。
軸１の半径方向の挙動に対してラビリンスフィン４が、
回転軸１に接触して摩耗しないように、回転軸１とシー
ルリング３との半径方向隙間に高圧流体を導いて、シー
ルリング３を回転軸１に追随して動かせているが、この
動きがシールリング３とケーシング２との接触面12に作
用する、シールリング３の軸方向合力に比例する摩擦力
のために低減されてしまうという問題があった。そのた
め、静圧軸受部５の回転軸１とシールリング３との間の
隙間に、外部の圧力源から供給する高圧流体の量や圧力
を増加しなければならないという問題があった。
本考案は、このような問題を解決することを目的とし
てなされたものである。
てなされたものである。
課題を解決するための手段 この考案は、回転軸に面してラビリンスフィンを設け
たシールリングにより構成されるラビリンスシール部
と、同シールリング外方のケーシングの外部より同ケー
シングおよびシールリングの供給孔を経て回転軸とシー
ルリングとの間の隙間に高圧流体を供給する静圧軸受部
とを組合わせて、回転軸に沿った高圧室と低圧室との間
をシールするシール装置において、シールリングに高圧
室側から低圧室側へ通じるバランス孔を貫通させるとと
もに、ラビリンスフィンの内径よりも静圧軸受部の内径
を小さく形成し、これに対応して回転軸の外径を、ラビ
リンスフィンと相対する部分について静圧軸受部に相対
する部分よりも大きく形成したものである。
たシールリングにより構成されるラビリンスシール部
と、同シールリング外方のケーシングの外部より同ケー
シングおよびシールリングの供給孔を経て回転軸とシー
ルリングとの間の隙間に高圧流体を供給する静圧軸受部
とを組合わせて、回転軸に沿った高圧室と低圧室との間
をシールするシール装置において、シールリングに高圧
室側から低圧室側へ通じるバランス孔を貫通させるとと
もに、ラビリンスフィンの内径よりも静圧軸受部の内径
を小さく形成し、これに対応して回転軸の外径を、ラビ
リンスフィンと相対する部分について静圧軸受部に相対
する部分よりも大きく形成したものである。
作用 上記の手段によれば、シールリングに貫通させたバラ
ンス孔によって、軸方向に作用する流体圧による力のう
ち、高圧室側の力と低圧室側の力をバランスさせること
ができ、シールリングとケーシングとの接触面に作用す
る力を軽減し、この接触面にシールリングが半径方向に
微動するときに発生する摩擦力を低減できる。
ンス孔によって、軸方向に作用する流体圧による力のう
ち、高圧室側の力と低圧室側の力をバランスさせること
ができ、シールリングとケーシングとの接触面に作用す
る力を軽減し、この接触面にシールリングが半径方向に
微動するときに発生する摩擦力を低減できる。
実施例 以下本考案に係るシール装置の実施例を、第１図ない
し第９図を参照して詳細に説明する。
し第９図を参照して詳細に説明する。
第１図は、本考案に係るシール装置の一実施例の部分
的な断面図であり、第２図は第１図の矢印Ｅ方向から見
たシールリングの内周面の部分的な平面図である。
的な断面図であり、第２図は第１図の矢印Ｅ方向から見
たシールリングの内周面の部分的な平面図である。
これらの図において、回転軸１、ケーシング２、シー
ルリング３、ラビリンスフィン４、静圧軸受部５、供給
孔6,7、シール部材８、回り止めピン９、排出孔10、接
触面12、高圧室Ａ、低圧室Ｂは第10図および第11図と同
様なので同一符号を付して示してあり、その部分の説明
は省略する。
ルリング３、ラビリンスフィン４、静圧軸受部５、供給
孔6,7、シール部材８、回り止めピン９、排出孔10、接
触面12、高圧室Ａ、低圧室Ｂは第10図および第11図と同
様なので同一符号を付して示してあり、その部分の説明
は省略する。
ケーシング２には回転軸１を囲むように周状に溝11が
形成されていて、その中に円周方向に沿って、シールリ
ング３がケーシング２に設けたばね13で、軸方向の低圧
室Ｂ側に押し付けるようにして取付けられている。そし
てシールリング３の内径は、ラビリンスフィン４部分よ
りも静圧軸受部５の方が小さく形成されており、これに
対応するように回転軸１の外径を、ラビリンスフィン４
と相対する部分について静圧軸受部５に相対する部分よ
りも大きく形成してある。
形成されていて、その中に円周方向に沿って、シールリ
ング３がケーシング２に設けたばね13で、軸方向の低圧
室Ｂ側に押し付けるようにして取付けられている。そし
てシールリング３の内径は、ラビリンスフィン４部分よ
りも静圧軸受部５の方が小さく形成されており、これに
対応するように回転軸１の外径を、ラビリンスフィン４
と相対する部分について静圧軸受部５に相対する部分よ
りも大きく形成してある。
これにより高圧室Ａと低圧室Ｂとの流体圧の差による
流体力とばね13の力とにより、シールリング３はケーシ
ング２に接触面12で接触するように押し付けられ、高圧
室Ａ側の流体がラビリンスフィン４と回転軸１との隙間
Ｄを通らずに、直接低圧室Ｂ側へ流出するのを防止して
いる。
流体力とばね13の力とにより、シールリング３はケーシ
ング２に接触面12で接触するように押し付けられ、高圧
室Ａ側の流体がラビリンスフィン４と回転軸１との隙間
Ｄを通らずに、直接低圧室Ｂ側へ流出するのを防止して
いる。
すなわち、第３図に高圧室Ａ側と低圧室Ｂ側との圧力
差をΔＰとするときの、シールリング３に作用する軸方
向力Ｆの概略的な説明図を示してあるが、軸方向力Ｆは Ｆ＝Fs＋π(R2 2-R0 2)ΔＰ−π(R2 2-R1 2)αΔＰ で表される。
差をΔＰとするときの、シールリング３に作用する軸方
向力Ｆの概略的な説明図を示してあるが、軸方向力Ｆは Ｆ＝Fs＋π(R2 2-R0 2)ΔＰ−π(R2 2-R1 2)αΔＰ で表される。
ここで、Fsはばね13により押付け力、R1はシールリン
グ３とケーシング２との軸方向接触部12の内半径、R2は
同じく外半径、R0はラビリンスフィン４部の内半径であ
る。また、αは接触部12の圧力分布を補正する係数であ
り、０＜α＜１である。
グ３とケーシング２との軸方向接触部12の内半径、R2は
同じく外半径、R0はラビリンスフィン４部の内半径であ
る。また、αは接触部12の圧力分布を補正する係数であ
り、０＜α＜１である。
ここで、ラビリンスフィン４部の内半径R0を静圧軸受
部５の内半径RBよりも大きくしていくと、第４図に示す
ように軸方向力Ｆが減少していくので、このようにすれ
ば回転軸１の挙動に対して半径方向に追随しようとする
シールリング３の動きを抑制させる摩擦力を低減するこ
とができる。
部５の内半径RBよりも大きくしていくと、第４図に示す
ように軸方向力Ｆが減少していくので、このようにすれ
ば回転軸１の挙動に対して半径方向に追随しようとする
シールリング３の動きを抑制させる摩擦力を低減するこ
とができる。
またシールリング３には、高圧室Ａ側から低圧室Ｂ側
へ通じるようにバランス孔14を貫通させてある。もしこ
のバランス孔14がなければ、ケーシング２、シールリン
グ３、シール部材８および接触部12で囲まれて形成され
る空間Ｇ内の圧力は、組立て時の大気圧のままである
が、バランス孔14を設けたことにより、軸方向に作用す
る流体圧による力のうち、高圧室Ａ側の力と低圧室Ｂ側
の力がバランスするので、シールリング３とケーシング
２との接触面12に作用する力を軽減し、この接触面12に
シールリング３が半径方向に微動するときに発生する摩
擦力を低減させることができる。
へ通じるようにバランス孔14を貫通させてある。もしこ
のバランス孔14がなければ、ケーシング２、シールリン
グ３、シール部材８および接触部12で囲まれて形成され
る空間Ｇ内の圧力は、組立て時の大気圧のままである
が、バランス孔14を設けたことにより、軸方向に作用す
る流体圧による力のうち、高圧室Ａ側の力と低圧室Ｂ側
の力がバランスするので、シールリング３とケーシング
２との接触面12に作用する力を軽減し、この接触面12に
シールリング３が半径方向に微動するときに発生する摩
擦力を低減させることができる。
次に本考案の他の実施例について説明する。
第５図および第６図は本考案の第２の実施例を示した
もので、それぞれ第１図および第２図に対応している。
先に説明した実施例では、供給孔６からの高圧流体を、
静圧軸受部５の回転軸１とシールリング３との間の隙間
に供給する供給孔７を、静圧軸受部５に周方向に沿って
１列に形成したものであったが、この実施例では供給孔
７を第５図および第６図に符号7a、7bとして示すよう
に、静圧軸受部５に回転軸１の軸線方向に間隔を置いて
例えば２列に設けたものである。
もので、それぞれ第１図および第２図に対応している。
先に説明した実施例では、供給孔６からの高圧流体を、
静圧軸受部５の回転軸１とシールリング３との間の隙間
に供給する供給孔７を、静圧軸受部５に周方向に沿って
１列に形成したものであったが、この実施例では供給孔
７を第５図および第６図に符号7a、7bとして示すよう
に、静圧軸受部５に回転軸１の軸線方向に間隔を置いて
例えば２列に設けたものである。
その他の構成は第１図、第２図に示したものと同様な
ので、同一部分には同一符号を付してその部分の説明は
省略する。
ので、同一部分には同一符号を付してその部分の説明は
省略する。
さて、シールリング３の組込み不良などのため、シー
ルリング３が回転軸１に対して傾斜して作動したような
場合、供給孔７が１列の場合には、第７図に示すように
供給孔７から回転軸１表面に作用する高圧流体の圧力分
布は、シールリング３が平行なときの圧力分布Ｉも傾斜
しているときの圧力分布IIもほぼ同じような形状であ
る。
ルリング３が回転軸１に対して傾斜して作動したような
場合、供給孔７が１列の場合には、第７図に示すように
供給孔７から回転軸１表面に作用する高圧流体の圧力分
布は、シールリング３が平行なときの圧力分布Ｉも傾斜
しているときの圧力分布IIもほぼ同じような形状であ
る。
一方、供給孔７が２列の場合には、第８図に示すよう
に供給孔７から回転軸１表面に作用する高圧流体の圧力
分布は、シールリング３が平行なときの圧力分布Ｉがほ
ぼフラットなのに対し、傾斜しているときの圧力分布II
は、傾斜した側の供給孔7aでは流れが先端で絞られて圧
力が上昇し、逆側の供給孔7bでは流れが先広がりとなる
ために圧力は低下する。従って、この圧力の変化分（図
中の斜線部分）が復元モーメント荷重Ｆとなり、復元モ
ーメントＭは、Ｍ＝Ｆ・ｌ（ｌはうでの長さ）となる。
に供給孔７から回転軸１表面に作用する高圧流体の圧力
分布は、シールリング３が平行なときの圧力分布Ｉがほ
ぼフラットなのに対し、傾斜しているときの圧力分布II
は、傾斜した側の供給孔7aでは流れが先端で絞られて圧
力が上昇し、逆側の供給孔7bでは流れが先広がりとなる
ために圧力は低下する。従って、この圧力の変化分（図
中の斜線部分）が復元モーメント荷重Ｆとなり、復元モ
ーメントＭは、Ｍ＝Ｆ・ｌ（ｌはうでの長さ）となる。
第７図と第８図について復元モーメントＭの大きさを
比較すると、第８図の供給孔７を２列にしたときの方が
大きく、そのため供給孔７を２列にすることが、シール
リング３が回転軸１に対して傾斜したときに、その傾斜
を抑えるために復元モーメントを作用させて、シールリ
ング３と回転軸１との接触を防止する上で有効なことが
わかる。なお、供給孔７を２列以上にしてもよいことは
勿論である。
比較すると、第８図の供給孔７を２列にしたときの方が
大きく、そのため供給孔７を２列にすることが、シール
リング３が回転軸１に対して傾斜したときに、その傾斜
を抑えるために復元モーメントを作用させて、シールリ
ング３と回転軸１との接触を防止する上で有効なことが
わかる。なお、供給孔７を２列以上にしてもよいことは
勿論である。
次に第９図は、上述の第１、第２の実施例における排
出孔10に代えて、静圧軸受部５の内周面に軸線方向に沿
う溝16を周方向に複数条設けるようにした実施例を示し
たもので、第２図および第６図に対応する図である。そ
の他の構成は第１図、第２図および第５図、第６図に示
したものと同様である。
出孔10に代えて、静圧軸受部５の内周面に軸線方向に沿
う溝16を周方向に複数条設けるようにした実施例を示し
たもので、第２図および第６図に対応する図である。そ
の他の構成は第１図、第２図および第５図、第６図に示
したものと同様である。
さて、ケーシング２やシールリング３の加工精度不良
や、シールリング３の組込み不良などのために、シール
リング３が回転軸１に対して傾斜して作動したような場
合、接触面12は片当り状態となり、そのため接触面12の
摩擦力が大きくなる。通常シールリング３は接触面12の
摩擦力よりも静圧軸受部５での負荷能力が大きくなるよ
うに設計されて、シールリング３のフローティング機能
を維持するようにしている。そのため、接触面12の摩擦
力が静圧軸受部５での負荷能力を越えると、そのフロー
ティング機能が保持されず、シールリング３が回転軸１
に接触する恐れがある。
や、シールリング３の組込み不良などのために、シール
リング３が回転軸１に対して傾斜して作動したような場
合、接触面12は片当り状態となり、そのため接触面12の
摩擦力が大きくなる。通常シールリング３は接触面12の
摩擦力よりも静圧軸受部５での負荷能力が大きくなるよ
うに設計されて、シールリング３のフローティング機能
を維持するようにしている。そのため、接触面12の摩擦
力が静圧軸受部５での負荷能力を越えると、そのフロー
ティング機能が保持されず、シールリング３が回転軸１
に接触する恐れがある。
そこで、静圧軸受部５の内周面に軸線方向に沿う溝16
を周方向に複数条設けることにより、シール隙間内の流
れを軸方向以外の周方向にも流すようにして、流量を多
くし、反偏心側の供給孔７内の圧力の低下の度合いを大
きくする。そうすることによって、偏心側と反偏心側と
の圧力差が大きくなり、負荷能力を向上させることにな
るので、接触面12の摩擦力が大きくなってもシールリン
グ３のフローティング機能が維持されるようになる。
を周方向に複数条設けることにより、シール隙間内の流
れを軸方向以外の周方向にも流すようにして、流量を多
くし、反偏心側の供給孔７内の圧力の低下の度合いを大
きくする。そうすることによって、偏心側と反偏心側と
の圧力差が大きくなり、負荷能力を向上させることにな
るので、接触面12の摩擦力が大きくなってもシールリン
グ３のフローティング機能が維持されるようになる。
なお、接触面12の材料は通常同じ部材同志の組合わせ
であるが、接触面12の片方に低摩擦材料を貼り付けた
り、またはセラミックスコーティングを施したりする
と、ケーシング２とシールリング３との接触面で発生す
る摩擦力が低減され、回転軸１とシールリング３の隙間
へ流出する圧力を小さくして、回転軸１とシールリング
３の隙間を通して外部へ流出する流体の量を軽減するこ
とができる。
であるが、接触面12の片方に低摩擦材料を貼り付けた
り、またはセラミックスコーティングを施したりする
と、ケーシング２とシールリング３との接触面で発生す
る摩擦力が低減され、回転軸１とシールリング３の隙間
へ流出する圧力を小さくして、回転軸１とシールリング
３の隙間を通して外部へ流出する流体の量を軽減するこ
とができる。
考案の効果 以上詳述したように本考案によれば、シールリングと
ケーシングとの接触面に作用する力を軽減して、この接
触面にシールリングが半径方向に微動するときに発生す
る摩擦力を低減させることができるとともに、回転軸と
シールリングのシールフィンとの接触を防止することの
できる実用上の効果の大きなシール装置が提供できる。
ケーシングとの接触面に作用する力を軽減して、この接
触面にシールリングが半径方向に微動するときに発生す
る摩擦力を低減させることができるとともに、回転軸と
シールリングのシールフィンとの接触を防止することの
できる実用上の効果の大きなシール装置が提供できる。
第１図は本考案に係るシール装置の一実施例の部分的な
断面図、第２図は第１図の矢印Ｅ方向から見たシールリ
ングの内周面の部分的な平面図、第３図および第４図は
本考案のシール装置の作用を説明するために示した説明
図、第５図は本考案の他の実施例を示したシール装置の
部分的な断面図、第６図は第５図の矢印Ｈ方向から見た
シールリングの内周面の部分的は平面図、第７図および
第８図は第５図、第６図に示した実施例の作用を説明す
るために示した説明図、第９図は本考案の他の実施例の
シールリングの内周面の部分的な平面図、第10図は従来
のシール装置の部分的な断面図、第11図は第10図の矢印
Ｃ方向から見た部分的な平面図である。 １……回転軸、２……ケーシング、３……シールリン
グ、４……ラビリンスフィン、５……静圧軸受部、6,7
……供給孔、10……排出孔、12……接触面、15……バラ
ンス孔、Ａ……高圧室、Ｂ……低圧室。
断面図、第２図は第１図の矢印Ｅ方向から見たシールリ
ングの内周面の部分的な平面図、第３図および第４図は
本考案のシール装置の作用を説明するために示した説明
図、第５図は本考案の他の実施例を示したシール装置の
部分的な断面図、第６図は第５図の矢印Ｈ方向から見た
シールリングの内周面の部分的は平面図、第７図および
第８図は第５図、第６図に示した実施例の作用を説明す
るために示した説明図、第９図は本考案の他の実施例の
シールリングの内周面の部分的な平面図、第10図は従来
のシール装置の部分的な断面図、第11図は第10図の矢印
Ｃ方向から見た部分的な平面図である。 １……回転軸、２……ケーシング、３……シールリン
グ、４……ラビリンスフィン、５……静圧軸受部、6,7
……供給孔、10……排出孔、12……接触面、15……バラ
ンス孔、Ａ……高圧室、Ｂ……低圧室。
Claims (4)
- 【請求項１】回転軸に面してラビリンスフィンを設けた
シールリングにより構成されるラビリンスシール部と、
同シールリング外方のケーシングの外部より同ケーシン
グおよびシールリングの供給孔を経て前記回転軸とシー
ルリングとの間の隙間に高圧流体を供給する静圧軸受部
とを組合わせて、前記回転軸に沿った高圧室と低圧室と
の間をシールするシール装置において、前記シールリン
グに高圧室側から低圧室側へ通じるバランス孔を貫通さ
せるとともに、前記ラビリンスフィンの内径よりも前記
静圧軸受部の内径を小さく形成し、これに対応して前記
回転軸の外径を、前記ラビリンスフィンと相対する部分
について前記静圧軸受部に相対する部分よりも大きく形
成して成るシール装置。 - 【請求項２】請求項１記載のシール装置において、前記
回転軸とシールリングとの間の隙間に高圧流体を供給す
るために前記静圧軸受部に形成される高圧流体供給孔
を、回転軸の軸線方向に複数設けて成るシール装置。 - 【請求項３】請求項１または２記載のシール装置におい
て、前記静圧軸受部の内周面に軸線方向に沿う溝を周方
向に複数条設けて成るシール装置。 - 【請求項４】請求項１ないし３のいずれか１項に記載の
シール装置において、摺動部を形成する一方の部材の摺
動面に低摩擦部材を設けて成るシール装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11642090U JP2510397Y2 (ja) | 1990-11-06 | 1990-11-06 | シ―ル装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11642090U JP2510397Y2 (ja) | 1990-11-06 | 1990-11-06 | シ―ル装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0473664U JPH0473664U (ja) | 1992-06-29 |
| JP2510397Y2 true JP2510397Y2 (ja) | 1996-09-11 |
Family
ID=31864245
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11642090U Expired - Lifetime JP2510397Y2 (ja) | 1990-11-06 | 1990-11-06 | シ―ル装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2510397Y2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1117217C (zh) * | 1998-03-13 | 2003-08-06 | 株式会社日立制作所 | 离心压缩机以及其所用的轴封装置 |
| US7726661B2 (en) * | 2002-06-21 | 2010-06-01 | Inpro/Seal Llc | Pressure balanced shaft seal assembly |
-
1990
- 1990-11-06 JP JP11642090U patent/JP2510397Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0473664U (ja) | 1992-06-29 |
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