JP2509035B2 - ペンタシル型高シリカ沸石及びその合成方法 - Google Patents
ペンタシル型高シリカ沸石及びその合成方法Info
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Description
沸石及びその合成方法に関する。
ZSM−5沸石(USA 3,702,886 )はペンタシル型構造
を有し、空孔の直径が0.54×0.54ナノメ−タ−
(nm)の高シリカ沸石であり、その骨組となるシリカ
とアルミナとの比率は12以上である。この沸石は特殊
な空孔構造をもっているため、触媒材料として異性化、
不均化、触媒分解、接触脱蝋等のプロセスに幅広く利用
される。
いる。例えば、これが石油の接触分解に使われる時に、
産物となるガソリンのオクタンの量が高くなると同時に
ガソリンの収率が顕著に下がるということは避けられな
い(J.Oil &Gas,May13,1985,p108 )。これは触媒の活
性化組成が触媒の水熱再生法で再生する時、骨組みの脱
アルミナ現象が起こり、触媒の滑性や選択性を大幅に低
下させることになる(USA 4,490,241 )。ところで、沸
石の吸着性能と転化分解性能がイオン交換法によって調
整することができるが、例えばNaA沸石がCa++とイ
オン交換して得たCaA沸石が炭化水素類に対して良好
な分離能力を有し、制油工業の脱蝋プロセスに使われる
(USP3,201,440)。また、NaY沸石がRe3+交換して
得たREY沸石は活性と安定性が前者よりずっとよくな
り、最近数十年来接触分解の触媒剤として最も多く使わ
れている(USA 3,402,976 )。但し、ZSM−5沸石に
対しては、シリカとアルミナの比率が高く、生じた空孔
に電荷中心が少なく、疎水性が強くなり、また、チャン
ネルの直径が小さくて(0.54×0.56nm)、そ
の結晶内に希土類酸化の陽イオンを挿入することが相当
困難である(P.Cho and F.G.Dwyer,ACSSymp.Ser 218,59
-78,1983)。
で、格子空孔が小さく、活性組成の触媒として水熱再生
の時骨組の組成が安定で、かつ活性組成の触媒剤として
利用可能なペンタシル型高シリカ沸石及びその合成方法
を提供することを目的とする。
組成には希土類元素を含有して下記化学式を有し、その
結晶構造がペンタシル型をもって所定のX線回析パタ−
ンを有し、かつn−ヘキサンとシクロヘキサンとに対す
る吸着量の比率がZSM−5沸石より2〜4倍高いこと
を特徴とするペンタシル型高シリカ沸石である。
ZSiO2 (但し、X=0.01〜0.30、Y=0.
4〜1.0、Z=20〜60) 本願第2の発明は、含希土類元素の八面体沸石の結晶種
と、水ガラスと、アルミナ塩類と、無機酸類及び水より
なるコロイド状態の系で反応させて合成することを特徴
とするペンタシル型高シリカ沸石の合成方法である。
晶種にし、水ガラス、アルミナ塩類、無機酸と水との組
成比がモル比でSiO2 /AI2 O3 =30〜120,
Na 2 O/AI2 O3 =2〜15,H2 O/SiO2 =
20〜100になるように混合しているコロイド状の系
の中へ均一に分散した後、130℃〜200℃の温度下
にしずかに置き、12〜60時間をもって結晶化させ、
更にろ過、洗浄、乾燥のプロセスを経て合成することを
特徴とするペンタシル型高シリカ沸石の合成方法であ
る。
石とは含希土類ペンタシル型構造を有する高シリカ沸石
であり、結晶質アルミノ珪酸塩沸石である。本発明に係
る沸石は、表1に示す粉末X線回折パタ−ンを有する。
カ沸石とZSM−5とHZSM−5沸石(U.K.P 1,164,
974 )のX線回析デ−タの比較表である。表2に示すよ
うに、本発明は高沸石とZSM−5沸石と比較したらLi
ne intesifies上非常に顕著な区別がある。それに本発
明の高シリカ沸石はZSM−5になかったピ−クもあ
る。化学組成的には本発明の高シリカ沸石には希土類元
素を含有しいることであり、結晶内に三価の希土類金属
陽イオンがあり、その空孔の直径がZSM−5より高く
なる。
沸石がn−ヘキサンとシクロヘキサンの吸着量の比率の
比較表である。但し、表3においてヘキサンの動力学直
径は0.43nm、シクロヘキサンの動力学直径は0.
61である。
サンとシクロヘキサンの吸着量比率がZSM−5より高
いことがわかる。
I2 (SO4 )3 、AICI3 、AIPO4 、AI
2 (HPO4 )3 、AI(H2 PO4 )3 、あるいはA
IPO4が挙げられるが、このうちAIPO4 が望まし
い。特にコロイド状のAIPO4が最適である。ここ
で、このコロイド状のAIPO4 の調製は、水酸化アル
ミニウムとリン酸水溶液をAI2 O3 :H3 PO4 :H
2 O=1:1.5〜3.0:5〜15の重量比で均一に
混合した後、室温で4時間以上置くことにより得られ
る。置く時間は24時間が最も望ましい。
酸、硫酸、塩酸あるいは硝酸が挙げられ、無機酸の用量
はその径のPH値を10〜12になるように入れる。
晶の調製方法は、次に述べる通りである。
3 :H2 O=1:0.01〜1.0:10〜100の比
で混合し、望ましいのは1:0.1〜0.5:20〜5
0の重量比で50〜150℃であり、60〜120℃で
0.2〜2.0時間交換した後、ろ過する。次に、ろ過
して得たものを400〜600℃の流している乾燥空気
中または100%の水蒸気中0.5〜4.0時間ばい焼
きする。ばい焼きした沸石は、以上の交換、ばい焼きを
繰り返すことができる。
基):(NH4 )2 SO4:H2 O=1:0.2〜4.
0:10〜100、望ましいのが1:0.8〜2.0:
20〜30の重量比で混合し、50〜150℃、望まし
いのが80〜120℃で0.2〜2.0時間交換した
後、ろ過する。ろ過プロセスは、1〜2回繰り返しても
よい。ろ過した過餅を400〜600℃の流す乾燥空気
中0.5〜4.0時間ばい焼きする。ばい焼きした沸石
はRECI3 水溶液に沸石(灼基):RECI3 :H2
O=1:0.05〜1.0:10〜100、望ましいの
が1:0.2〜0.8:20〜50の重量比で混合し、
80〜180℃、望ましいのが80〜120℃で2.0
時間交換した後、ろ過する。ろ過餅は400〜600℃
の乾燥空気中、0.5〜4.0時間ばい焼きする。ばい
焼しなくてもよい。
I3 :H2 Oを1:0.01〜1.0:10〜100の
比で混合し、最も望ましいのが1:0.1〜0.6:2
0〜60の重量比で混合し、50〜150℃、望ましい
のが80〜120℃で0.2〜2.0時間交換した後、
ろ過する。ろ過した過餅を400〜550℃の流す乾燥
空気中、または100%水蒸気中、0.5〜4.0時間
ばい焼きする。ばい焼きした沸石は、以上の交換、焼き
を繰り返すことができる。
類元素を含有し、ペンタシル型構造を有するが、その空
孔のサイズがZSM−5より狭くて、水熱劣化後の活性
化安定性、形状選択性はZSM−5より優れている。本
発明の高シリカ沸石は通常のNH4 の交換後、Naを洗
落して、ほかの組成、例えば、ほかの活性化組成あるい
はSiO2 、AI2 O3 、SiO2 、粘土などのマトリ
ックスとを組み合わせして、炭化水素加工あるいは石油
加工の接触転化過程の触媒に使われる。例えば、接触分
解、接触分裂、接触脱ろう、水素添加分解、ハイドロ異
性化等の過程の触媒である。
測定する、下記は同様)NaY沸石100g(灼基)
を、2100gのRECI3 1.5重量%(Ce2 O3
49重量%、Lu2 O3 重量%)の溶液の中に入れ、攪拌
しながら30分間90℃にてイオン交換をし、ろ過後、
ろ過餅が550℃空気中に流れて2時間ばい焼を行う。
上記の交換を繰り返し1回ばい焼をし、化学成分(重量
%)RE 2O3 :18.2,Na2 O:1.5,AI2
O3 :19.5とSiO2 :60.7のREY種晶を得
る。このうち、Na2 Oの含有量は原子吸光スペクトル
で測定し得たもので、他の組成はX線蛍光法で測定した
ものである。
攪拌しながら均等に375g 30重量%のH3 PO4
水溶液の中に入れ、室温下24時間静置すれば、AI2
O33.5重量%のコロイドAIPO4 を得る。使用
時、これを任意の温度にしても可能。
gのNa2 O3.5重量%、SiO2 11.1重量%の
ウォ−タガラスの中に分散、撹拌しながらAI2 O
3 1.1重量%を含むコロイド状AIPO4 を54.9
g入れ、25重量%のH2 SO4溶液調節体等のPH値
11でゲル状にし、このゲル状のモル組成は0.26R
E 2 O、3.8.9 Na2 O,AI2 O3 ,60.0SiO2 ,
0.98P2 O5 ,2220H2 O(種晶の中のAI2 O3 を計
算入れず、下記も同様)得たゲル状を180℃下で22
時間結晶化する。冷却後にろ過、中性になるまで水洗
し、110〜120℃で乾燥、化学組成(酸化物モル比
で計算、下記も同様)は 0.9 Na2 O・0.13RE2 O3 ・AI2 O3 ・31.2SiO2 の高シリカ沸石であり、そのSiO2 /AI2 O3 モル
比は31.2である。
で3.8 %Na2 O+11.0%SiO2 の水ガラスに分散
し、撹拌しながら、重量比のAI2 O3 を1.1 重量%を
含有するAIPO4 を38.3g加えて、11.0%
(重量比)のH3 PO4 でその系がゲル状になるように
PHを調整する。そのゲルのモル組成は、0.07RE 2 O
7 、4.05Na2 O、AI2 O3 、80.0SiO2 、7.6 P
2 O5 、3142H2 Oである。
させてから、実施例1に述べた方法でろ過、洗浄、乾燥
する。得たものは、モル比化学組成で 0.95Na2 O・0.03RE 2 O3 ・AI2 O3 ・52.0SiO2 の高シリカ沸石であり、そのSiO2 /AI2 O3 モル
比は520である。
の比が4.2となるNaY沸石をシリカ/アルミナのモ
ル比で5.0の沸石に入れ換えて、下記の組成のREY
種晶を製造する。
Na 2 O+11.7%SiO2 の水ガラスに分散し、撹拌し
ながら、重量比でAI2 O3 を1.5 重量%を含有するA
IPO4 を51.7g加えて、23%(重量比)のH3
PO4 でその系がゲル状になるまでPHを調整する。そ
のゲルのモル組成は 0.21RE 2 O7 ,3.10Na2 O,AI2 O3 ,50.0SiO2 ,4.08P2 O5 , 1680H2 O 得られたゲルが185℃で20時間結晶化させてから、
実施例1に述べた方法でろ過、洗浄、乾燥する。得たも
のは、モル比化学組成で 0.77Na2 O・0.14RE 2 O3 ・AI2 O3 ・36.3SiO2 である。
石100gを2100gの5.0%(NH4 )2 SO4
の溶液中に分散し、沸騰温度でイオン交換を30分間行
う。交換中には蒸留水を絶えず補給し、溶液の体積を保
つようにする。交換した後のろ過餅を550℃の流動性
空気中で2時間ばい焼を行う。ばい焼した後の試料はイ
オン交換を30分間行った後、ろ過して重量比でRE 2
O3 10.0,Na2 O0.6 ,AI2 O3 20.5とSiO2 6
8.7のREHY種晶を得る。
重量比の3.8 %Na 2 O+11.0%SiO2 の水ガラスに
分散し、撹拌しながら、重量比でAI2 O3 を0.8 重量
%を含有するコロイド状のAIPO4 を42.1g加え
て、20%(重量比)のHCIでその系がゲル状になる
までPHを調整する。そのゲルのモル組成は、 0.27RE 2 O7 ,12.5Na2 O・AI2 O3 ,100 SiO2 ,0.97P2 O5 , 3655H2 O 得られたゲルが175℃で30時間結晶化させてから、
ろ過、洗浄、乾燥する。得たものは、モル比化学組成で 0.86Na2 O・0.08RE 2 O3 ・AI2 O3 ・39.5SiO2 の高シリカ沸石であり、そのSiO2 /AI2 O3 モル
比は39.5である。
石100gを2500gの1.5%重量比のRECI3
の溶液中に分散し、撹拌しながら、90℃でイオン交換
を30分間行い、ろ過する。ろ過餅を550℃の流動性
空気中で2時間ばい焼きを行う。これにより、重量比で
RE 2 O3 18.5,Na2 O6.0 ,AI2 O3 27.9とSi
O2 47.6のREX種晶を得る。
の重量比の3.5 %Na 2 O+11.1%SiO2 の水ガラス
に分散し、撹拌しながら、重量比でAI2 O3 を1.0 重
量%を含有するAICI3 を42.5g加えて、30%
(重量比)のH3 PO4 でその系がゲル状になるまでP
Hを調整する。そのゲルのモル組成は、 0.13RE 2 O7 ,7.0 Na2 O・AI2 O3 ,80SiO2 ,7.2 P2 O5 , 2785H2 O 得られたゲルが150℃で45時間結晶化させてから、
ろ過、洗浄、乾燥する。得たものは、モル比化学組成で 0.84Na2 O・0.07RE 2 O3 ・AI2 O3 ・42.9SiO2 の高シリカ沸石であり、そのSiO2 /AI2 O3 モル
比は42.9である。
℃の流動性空気中2時間ばい焼きをした後、上述した交
換、ばい焼きをもう一度繰り返し、下記の組成のREX
種晶を得る。
2 O+11.7%SiO2の水ガラスに分散し、撹拌しなが
ら、重量比でAI2 O3 を1.5 重量%を含有するコロイ
ド状AIPO4 を75.8g加えて、5.1%(重量
比)のH3 PO4でその系がゲル状になるまでPHを調
整する。そのゲルのモル組成は、 0.14RE 2 O7 ,2.2 Na2 O・AI2 O3 ,35.0SiO2 ,2.8 P2 O5 , 1180H2 O 得られたゲルが195℃で13時間結晶化させてから、
ろ過、洗浄、乾燥する。得たものは、モル比化学組成で 0.81Na2 O・0.10RE 2 O3 ・AI2 O3 ・24.8SiO2 の高シリカ沸石であり、そのSiO2 /AI2 O3 モル
比は24.8である。
℃の流動性の100%水蒸気中2時間ばい焼きをした
後、上述した交換、ばい焼きをもう一度繰り返し、下記
の組成(重量比)のREX種晶を得る。
Na 2 O+11.1%SiO2 の水ガラスに分散し、撹拌し
ながら、重量比でAI2 O3 を2.5 重量%を含有するA
I2 (SO4 )3 溶液を130g加えて、20%(重量
比)のH2 SO2 でその系がゲル状になるまでPHを調
整する。そのゲルのモル組成は、 0.36RE 2 O7 ,9.7 Na2 O・AI2 O3 ,65.6SiO2 ,2380H2 O 得られたゲルが180℃で20時間結晶化させてから、
ろ過、洗浄、乾燥する。得たものは、モル比化学組成で 0.77Na2 O・0.15RE 2 O3 ・AI2 O3 ・34.5SiO2 の高シリカ沸石であり、そのSiO2 /AI2 O3 モル
比は34.5である。
た高シリカ沸石を沸石:(NH4 )2 SO4 :H2 O=
1:1:20の重量比で90℃、1時間にてイオン交換
した後、ろ過する。そして、その交換とろ過をもう1回
繰り返す。得たろ過餅を110〜120℃で乾燥した
後、550℃で2時間ばい焼きをする。得た夫々のプロ
トン型産物の吸着性能は表3の分析を得た。 (比較例1)ZSM−5沸石種晶5gを1リットルの4
0.5gNa2 O+126.0gSiO2 /Iの水ガラ
ス(比重が1.3)中に分散し、撹拌しながら、順序的
に33%のアミン溶液71.6gとAI2 O3 を7.0
重量%を含有するAI2 (SO4 )3 を51.0g加え
て、希H2 SO4 でその系がゲル状になるようにPHを
調整する。そのゲルのモル組成は、 7.9 Na2 O・AI2 O3 ,60.0SiO2 ,15.0C2 H
5 NH2 ,2500H2 O となる。
させてから、冷却して、ろ過、洗浄、乾燥する。得たも
のは、モル比化学組成が1.03Na2 O・AI2 O3 ・4
5.8SiO2 のZSM−5沸石であり、X線回折デ−タ
は既述した表2に示す(ZSM−5項目を参照)。その
SiO2 /AI2 O3 モル比は45.8である。
石種晶5g沸石:(NH4 )2 SO4 :H2 O=1:
1:20重量比を用いて、実施例8〜14に述べた方法で
H型ZSM−5沸石を得る。その吸着性能の分析結果
は、表3に示す通りである。
2 SO4 =1:1重量比を用いて、5重量%の(N
H4 )2 SO4 水溶液中で90℃で1時間イオン交換を
し、2回行った後、ろ過、洗浄をし、110〜120℃
で乾燥した後、550℃で2時間ばい焼きをする。得た
H型沸石の組成は、RE 2 O3 1.9 %、Na2 O0.03%
(重量)である。
%の蒸留水下で夫々1、2、4、8時間処理する。そし
て、その試料をX線粉末回析法でその結晶残留度を測定
する。この試料の結晶残留度は であり、処理前後の試
料が Cuka2θ 23.0一の回折ピ−クの強度の比率
は下記表4に示す。
れの時間で処理した後、常圧脈流装置を用いて、n−テ
トラデガンを原料として480℃で反応し、沸石の分解
活性を測定した。
ラデガン)×100% その結果を、下記表5に示す。
した後、Na2 Oを0.01%(重量比)含むHSZM
−5を得た。洗浄、乾燥したこのHZSM−5を800
℃の100%水蒸気中において夫々1、2、4、8時間
で処理した後、相対結晶残留度を測定し、その結果を下
記表6に示す。
で夫々の時間で処理した後、常圧脈流装置を用いて、n
−テトラデガンを原料として480℃で反応し、沸石の
分解活性を測定した。その結果は、下記表7に示す通り
である。
リカ沸石は、厳しい条件下で処理した後でも、相当結晶
残留度が85%以上を保つことができる。この結晶残留
度の値から、本発明の沸石は水熱中の構造安定性の面で
HSZM−5よりやや低いことがいえるであろうが、水
熱活性安定性に関してはHSZM−5より優れているこ
とが明らかである。
量)の水ガラス(係数3.2)を20Kg用いて、攪拌
しながら、AI2 O3 を7%(重量)含有するAI2 O
3 溶液を5.3Kg加えて、均一に分散した後、10%
(重量比)のアンモニア水溶液でその系のPHが6.5
〜7.5になるように調整する。これでAI2 O3 の含
有量が25%のアルミノシリカコロイドを得る。
145Kgを用い、粉砕した後、上述下アルミノシリカ
コロイド中に分散し、均一になった後、スプレ−ドライ
ア法で乾燥させる。(NH4 )2 SO4 で2回交換した
後、洗浄、乾燥する。これで本発明の高シリカ沸石9%
(重量比)の接触分解触媒を得る。そのNa2 Oの含有
量は0.1%(重量)より低い。得た触媒を800℃
で、100%の水蒸気中、4時間処理した後、小型固定
式流動装置の上に197〜479℃、炭素(C)の残留
量が0.06%となるVGOを原料とし、560℃で触
媒とオイルの比が8.0であるようにし、重量空速が
1.0/時間の条件下で接触分解反応を行い、その結果
を下記表8に示す。
23KgのZSM−5沸石を用いて、実施例2で製造さ
れた本発明の高シリカ沸石を取り替えて、18%(重量
比)のZSM−5を含有する転化分解触媒を得た。実施
例16と同じ条件下、同じ原料で転化分解実験を行っ
た。その結果は、下記表9に示す。
の中に、本発明の高シリカ沸石の含有量はZSM−5の
1/2の時でも、ZSM−5と同じ転化率、またはそれ
よりやや高い転化率の水産物を得ることができる。
6の方法で得た25%のAI2 O3 を含有するアルミノ
シリカコロイドを用いる。
368Kgを用い、粉砕した後、上述したアルミノシリ
カコロイド中に分散し、均一になった後、スプレ−ドラ
イア法で乾燥させる。(NH4 )2 SO4 で2回交換し
た後、洗浄、乾燥する。これで本発明の高シリカ沸石2
0%(重量比)の接触分解助オクタン助剤を得る。その
Na2 Oの含有量は0.1%(重量)より低い。
蒸気中、4時間処理した後、1:99の重量比でそれぞ
れY−7工業平衡触媒(REY転化分解触媒であり、斉
魯石化公司触媒工場にて生産されるもの)中に分散し、
均一に混合した後、小型流動装置の上に、実施例16で
示すVGOを原料とし、500℃で触媒とオイルの比が
3.8であるようにし、重量空気速度が8.0/時間の
条件下で接触分解反応を行い、その結果は下記表10に
示す通りである。
るが、ここで0.368KgのZSM−5で実施例1で
製造された高シリカ沸石を取り替えて、20%(重量
比)ZSM−5を含有する助オクタンの接触分解助剤を
得る。
触分解助剤を760℃で、100%の水蒸気中、4時間
処理した後、1:99の重量比でそれぞれY−7工業平
衡触媒蒸気中、4時間処理した後、実施例17で述べた
方法で接触分解反応を行い、その結果を下記表11に示
す。
シリカ沸石を含有するの転化分解助剤はZSM−5を含
有する添加分解助剤に比べて、もっと高いオクタン価の
ガソリン産出率と高い水熱活性安定性を有することが明
らかである。
空孔が小さく、活性組成の触媒として水熱再生の時骨組
の組成が安定で、かつ活性組成の触媒剤として利用可能
で、もって炭化水素加工と石油加工プロセスに使われる
多種類分解転化の炭化水素転化触媒として利用可能なペ
ンタシル型高シリカ沸石及びその合成方法を提供でき
る。
Claims (11)
- 【請求項1】 化学組成には希土類元素を含有して下記
化学式を有し、その結晶構造がペンタシル型をもって後
記表1に示す粉末X線回析パタ−ンを有し、かつn−ヘ
キサンとシクロヘキサンとに対する吸着量の比率がZS
M−5沸石より2〜4倍高いことを特徴とするペンタシ
ル型高シリカ沸石。 XRE 2 O3 ・YNa2 O・AI2 O3 ・ZSiO
2 (但し、X=0.01〜0.30、Y=0.4〜1.
0、Z=20〜60) - 【請求項2】 含希土類元素の八面体沸石の結晶種と、
水ガラスと、アルミナ塩類と、無機酸類及び水よりなる
コロイド状態の系で反応させて合成することを特徴とす
るペンタシル型高シリカ沸石の合成方法。 - 【請求項3】 前記含希土類元素の八面体沸石の晶種
は、REY、REHY、あるいはREXである請求項1
記載のペンタシル型高シリカ沸石の合成方法。 - 【請求項4】 前記含希土類元素の八面体沸石の晶種
は、該晶種の化学組成の中に酸化物の重量比で希土類元
素を2〜27%、ナトリウム(Na2 O)を≦7.0%
含有するREY、REHY、あるいはREXである請求
項1記載のペンタシル型高シリカ沸石の合成方法。 - 【請求項5】 希土類の八面体沸石を晶種にし、水ガラ
ス、アルミナ塩類、無機酸と水との組成比がモル比でS
iO2 /AI2 O3 =30〜120,Na2O/AI2
O3 =2〜15,H2 O/SiO2 =20〜100にな
るように混合しているコロイド状の系の中へ均一に分散
した後、130℃〜200℃の温度下にしずかに置き、
12〜60時間をもって結晶化させ、更にろ過、洗浄、
乾燥のプロセスを経て合成することを特徴とするペンタ
シル型高シリカ沸石の合成方法。 - 【請求項6】 前記含希土類元素の八面体沸石の晶種
は、該晶種の化学組成の中に酸化物の重量比で希土類元
素を2〜27%、ナトリウム(Na2 O)を≦7.0%
含有するREY、REHY、あるいはREXである請求
項5記載のペンタシル型高シリカ沸石の合成方法。 - 【請求項7】 前記含希土類元素の八面体沸石の晶種の
使用量は、該晶種に含まれるRE 2 O3 の量とコロイド
系に含まれるAI2 O3 の量がモル比で0.01〜0.
40になるようにする請求項5記載のペンタシル型高シ
リカ沸石の合成方法。 - 【請求項8】 前記アルミナ塩類は、AI2 (SO4 )
3 、AICI3 、AIPO4 、AI2 (HPO4 )3 、
AI(H2 PO4 )3 、あるいはAIPO4である請求
項5記載のペンタシル型高シリカ沸石の合成方法。 - 【請求項9】 前記無機酸は、りん酸、硫酸、塩酸ある
いは硝酸である請求項5記載のペンタシル型高シリカ沸
石の合成方法。 - 【請求項10】 前記無機酸の使用量は、その系のPH
値が10〜12になるようにする請求項5記載のペンタ
シル型高シリカ沸石の合成方法。 - 【請求項11】 結晶化を160℃〜190℃の温度下
で16〜30時間を行う請求項5記載のペンタシル型高
シリカ沸石の合成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP4006704A JP2509035B2 (ja) | 1992-01-17 | 1992-01-17 | ペンタシル型高シリカ沸石及びその合成方法 |
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JP4006704A JP2509035B2 (ja) | 1992-01-17 | 1992-01-17 | ペンタシル型高シリカ沸石及びその合成方法 |
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Publication Number | Publication Date |
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JPH06199518A JPH06199518A (ja) | 1994-07-19 |
JP2509035B2 true JP2509035B2 (ja) | 1996-06-19 |
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Family Applications (1)
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JP4006704A Expired - Lifetime JP2509035B2 (ja) | 1992-01-17 | 1992-01-17 | ペンタシル型高シリカ沸石及びその合成方法 |
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JP (1) | JP2509035B2 (ja) |
-
1992
- 1992-01-17 JP JP4006704A patent/JP2509035B2/ja not_active Expired - Lifetime
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JPH06199518A (ja) | 1994-07-19 |
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