JP2508611B2 - Driving method for solid-state imaging device - Google Patents

Driving method for solid-state imaging device

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JP2508611B2
JP2508611B2 JP7033154A JP3315495A JP2508611B2 JP 2508611 B2 JP2508611 B2 JP 2508611B2 JP 7033154 A JP7033154 A JP 7033154A JP 3315495 A JP3315495 A JP 3315495A JP 2508611 B2 JP2508611 B2 JP 2508611B2
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transfer register
charge
solid
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storage unit
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哲郎 粂沢
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  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、固体撮像装置の駆動方
法に関し、特にインターライン型固体撮像装置に用いて
好適なものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of driving a solid-state image pickup device, and is particularly suitable for use in an interline type solid-state image pickup device.

【0002】[0002]

【従来の技術】インターライン型CCD固体撮像素子
は、図3の原理的構成図に示すように、水平及び垂直方
向に所定ピッチで配列した絵素となる複数の受光部1
と、各列の受光部1の一側に設けた垂直方向に延びるC
CD構造の垂直転送レジスタ2と、各垂直転送レジスタ
2の一端に設けたCCD構造の水平転送レジスタ3とを
有し、各受光部1にその受光量に応じて生じた信号電荷
をそれぞれ対応する垂直転送レジスタ2に転送し、これ
ら各垂直転送レジスタ2の信号電荷を水平転送レジスタ
3へと転送し、1水平ライン毎の信号電荷を読み出すよ
うに構成される。
2. Description of the Related Art An interline CCD solid-state image pickup device has a plurality of light receiving portions 1 which are picture elements arranged at a predetermined pitch in the horizontal and vertical directions, as shown in the principle configuration diagram of FIG.
And C extending in the vertical direction provided on one side of the light receiving unit 1 in each row
A vertical transfer register 2 having a CD structure and a horizontal transfer register 3 having a CCD structure provided at one end of each vertical transfer register 2 are provided, and each light receiving portion 1 corresponds to a signal charge generated according to the amount of light received. It is configured to transfer to the vertical transfer register 2, transfer the signal charge of each vertical transfer register 2 to the horizontal transfer register 3, and read the signal charge for each horizontal line.

【0003】具体的に1画素(ユニットセル)に対応す
る部分では、図5に示すように、受光部1と垂直転送レ
ジスタ2間に読出しゲート部4が配され、また、受光部
1の他側にオーバーフローコントロールゲート部5を介
してオーバーフロードレイン6が設けられる。各画素は
チャンネルストップ領域7にて区分される。
Specifically, in a portion corresponding to one pixel (unit cell), as shown in FIG. 5, a read gate portion 4 is arranged between the light receiving portion 1 and the vertical transfer register 2, and other portions of the light receiving portion 1 are provided. An overflow drain 6 is provided on the side through an overflow control gate unit 5. Each pixel is divided in the channel stop area 7.

【0004】図4Aは、受光状態のポテンシャル図であ
り、受光部1に受光量に応じた電荷8が蓄積され、読出
し時には、図4Bのポテンシャル図で示すように、読出
しゲート部4を通じて受光部1の電荷8が垂直転送レジ
スタ2へ転送される。
FIG. 4A is a potential diagram of a light receiving state, in which charges 8 corresponding to the amount of light received are accumulated in the light receiving unit 1, and at the time of reading, as shown in the potential diagram of FIG. The charge 8 of 1 is transferred to the vertical transfer register 2.

【0005】このような固体撮像素子において、更に垂
直転送レジスタ2の電荷を排出するオーバーフロードレ
イン部を垂直転送レジスタ2の長手側に隣接して設けた
横型オーバーフロードレイン構造の固体撮像素子が提案
されている(例えば特開昭63−20976号公報参
照)。
In such a solid-state image pickup device, there is proposed a solid-state image pickup device having a horizontal overflow drain structure in which an overflow drain portion for discharging charges of the vertical transfer register 2 is further provided adjacent to the longitudinal side of the vertical transfer register 2. (See, for example, JP-A-63-20976).

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
固体撮像素子においては、横型オーバーフロードレイン
部を受光部1と垂直転送レジスタ2にそれぞれ設ける構
成となるため、素子の面積が増大するという問題があ
る。
However, in the above-mentioned solid-state image pickup device, since the horizontal overflow drain portions are provided in the light receiving portion 1 and the vertical transfer register 2, respectively, there is a problem that the area of the element increases. .

【0007】オーバーフロードレイン部を共に縦型とす
れば素子の面積は縮小されるが、このような構造にする
と、垂直転送レジスタ下部の濃度プロファイル等の設計
の自由度が低下し、電子シャッタ動作が困難となった
り、スミア特性を維持することができないおそれがあ
る。
If both the overflow drains are of vertical type, the area of the device is reduced. However, such a structure reduces the degree of freedom in designing the density profile under the vertical transfer register and the electronic shutter operation. It may become difficult or the smear characteristics may not be maintained.

【0008】本発明は、上記の課題に鑑みてなされたも
ので、その目的とするところは、転送レジスタに電荷排
出手段を設ける必要がなく、素子の面積の縮小化を図る
ことができると共に、縦型オーバーフロードレイン構造
をとる場合に、転送レジスタ下部に電荷排出手段を設け
る必要がなく、転送レジスタ下部の半導体領域の不純物
濃度やそのプロファイルについて設計の自由度を確保す
ることができる固体撮像装置の駆動方法を提供すること
にある。
The present invention has been made in view of the above problems. An object of the present invention is to eliminate the need for providing charge discharging means in the transfer register, and to reduce the area of the element. In the case of adopting the vertical overflow drain structure, it is not necessary to provide a charge discharging unit in the lower part of the transfer register, and a solid-state imaging device capable of ensuring the degree of freedom in designing the impurity concentration of the semiconductor region under the transfer register and its profile. It is to provide a driving method.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、入射光の光量
に応じた量の電荷を蓄積する蓄積部と、該蓄積部に隣接
して設けられ、上記蓄積部の電荷を排出する電荷排出手
段と、上記蓄積部に蓄積された電荷を転送する転送レジ
スタとを備えた固体撮像装置の駆動方法において、上記
転送レジスタの電荷を上記蓄積部を介して上記電荷排出
手段により排出することを特徴とする。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention is directed to a storage unit that stores an amount of electric charge according to the amount of incident light, and a charge discharge unit that is provided adjacent to the storage unit and discharges the electric charge of the storage unit. In the method for driving a solid-state image pickup device, comprising: means and a transfer register for transferring the charge accumulated in the accumulating unit, the charge in the transfer register is discharged by the charge discharging unit via the accumulating unit. And

【0010】この場合、上記電荷排出手段として縦型オ
ーバーフロードレイン構造をもつようにしてもよい。
In this case, the charge discharging means may have a vertical overflow drain structure.

【0011】[0011]

【作用】本発明に係る固体撮像装置の駆動方法において
は、転送レジスタの電荷を蓄積部を介して電荷排出手段
により排出するので、転送レジスタには別途電荷排出手
段を設ける必要がない。
In the driving method of the solid-state image pickup device according to the present invention, since the charge of the transfer register is discharged by the charge discharging means via the accumulating portion, it is not necessary to separately provide the charge discharging means in the transfer register.

【0012】[0012]

【実施例】以下、図面を参照して本発明によるインター
ライン型CCD固体撮像素子の実施例を説明する。な
お、本例では横型オーバーフロードレイン構造を有する
固体撮像素子について説明するが、縦型オーバーフロー
ドレイン構造を有する固体撮像素子でも基本的考え方は
変わらない。
Embodiments of the interline CCD solid-state image pickup device according to the present invention will be described below with reference to the drawings. In this example, a solid-state image sensor having a horizontal overflow drain structure will be described, but the basic idea is the same even for a solid-state image sensor having a vertical overflow drain structure.

【0013】図1A〜Dは、本発明の固体撮像素子にお
ける動作の一実施例を示したものであり、受光部1にて
蓄積された受光量に応じた電荷8が読出しゲート部4を
通じて垂直転送レジスタ2へ転送された後(同図A及び
B)、電荷8が垂直転送レジスタ2で計量される(同図
C)。
1A to 1D show an embodiment of the operation of the solid-state image pickup device of the present invention, in which the charge 8 according to the amount of light received accumulated in the light receiving portion 1 is vertically passed through the read gate portion 4. After being transferred to the transfer register 2 (A and B in the same figure), the electric charge 8 is measured in the vertical transfer register 2 (C in the same figure).

【0014】この計量によって生じた残余の電荷8’は
一旦受光部1に戻されて後、この残余の電荷8’はオー
バーフローコントロールゲート部5を通じてオーバーフ
ロードレイン6へ捨てられる(同図D)。この実施例に
おいて計量される電荷量は、 QM =Cv×(φv−φROG ) である。但し、Cvは垂直転送レジスタの蓄積容量、
(φv−φROG )は垂直転送レジスタ2と読出しゲート
部4のポテンシャルバリア差である。
The residual electric charge 8'generated by this measurement is once returned to the light receiving portion 1, and then the residual electric charge 8'is discarded to the overflow drain 6 through the overflow control gate portion 5 (D in the same figure). The amount of charge measured in this example is: Q M = Cv × (φv−φ ROG ). However, Cv is the storage capacity of the vertical transfer register,
(Φv-φ ROG) is a potential barrier difference of the vertical transfer register 2 and the read gate portion 4.

【0015】ここで、垂直転送レジスタ2の蓄積電荷量
のばらつきを△Qv、読出し時に直接垂直転送レジスタ
2へ流入する電荷量をδQとして、この実施例にて計量
される電荷量のばらつき要因を考慮すると、ダイナミッ
クレンジは、 Cv×(φv −φROG )+△Cv×(φv −φROG )+Cv×
△(φv −φROG ) に設定される。最後の2項について考察すると、第2項
の△Cv×(φv −φROG)は、△Qvと同等かそれ以下
であり、第3項のCv×△(φv −φROG )は、Cv<C
s(但し、Csは受光部1の蓄積容量)である点から△
Qs以下となる。
Here, letting ΔQv be the variation of the accumulated charge amount of the vertical transfer register 2 and δQ be the amount of charge directly flowing into the vertical transfer register 2 at the time of reading, the variation factor of the amount of charge measured in this embodiment will be described. Considering this, the dynamic range is Cv × (φv −φ ROG ) + △ Cv × (φv −φ ROG ) + Cv ×
Is set to △ (φv -φ ROG). Considering the last two terms, ΔCv × (φv −φ ROG ) of the second term is equal to or less than ΔQv, and Cv × Δ (φv −φ ROG ) of the third term is Cv < C
Δ (since Cs is the storage capacity of the light receiving unit 1)
It becomes Qs or less.

【0016】従って、ばらつき成分は少なく見積っても △Qs+δQ だけ減少する。Therefore, even if the variation component is underestimated, it is reduced by ΔQs + δQ.

【0017】従って、この実施例においては、ダイナミ
ックレンジが受光部1の構造で決まらなくなり、受光部
1の構造に対する自由度が増す。即ち、垂直転送レジス
タ2の面積において、受光部1の蓄積電荷量のばらつき
に起因するマージン成分がなくなり、結果的に受光部1
の面積を大きくすることができ、感度の向上を図ること
ができる。
Therefore, in this embodiment, the dynamic range is not determined by the structure of the light receiving section 1, and the degree of freedom for the structure of the light receiving section 1 is increased. That is, in the area of the vertical transfer register 2, there is no margin component due to the variation in the accumulated charge amount of the light receiving portion 1, and as a result, the light receiving portion 1
The area can be increased and the sensitivity can be improved.

【0018】次に、図2は、受光部1に一旦戻された残
りの電荷8’をオーバーフローコントロールゲート部5
を介してオーバーフロードレイン6へ捨てる方法を実現
するためのポテンシャル関係を示したものである。同図
中、実線(I)は受光部1のポテンシャル、破線(II)
はオーバーフローコントロールゲート部5のポテンシャ
ルである。
Next, referring to FIG. 2, the overflow control gate unit 5 is provided with the remaining charge 8'which has once been returned to the light receiving unit 1.
6 shows a potential relationship for realizing a method of discarding the overflow drain 6 via the. In the figure, the solid line (I) is the potential of the light receiving portion 1, and the broken line (II).
Is the potential of the overflow control gate section 5.

【0019】オーバーフローコントロールゲート部5
は、埋込み型MOS構造となっており、受光部1のセン
サー電極とオーバーフローコントロールゲート部5の電
極が共通の場合、オーバーフローコントロールゲート部
5の表面ポテンシャルが、ある時点でピンニングするこ
とにより、ポテンシャルの上下関係が逆転する。
Overflow control gate section 5
Has a buried MOS structure, and when the sensor electrode of the light receiving part 1 and the electrode of the overflow control gate part 5 are common, the surface potential of the overflow control gate part 5 is pinned at a certain point to The vertical relationship is reversed.

【0020】従って、V1 を受光時のセンサー電極に与
える電位とし、V2 を残りの電荷の転送時にセンサー電
極に与える電位とすることによって、受光部1に戻され
た残りの電荷8’を受光部1よりオーバーフロードレイ
ン6へ転送することができる。
Therefore, by setting V 1 to the potential applied to the sensor electrode during light reception and V 2 to the potential applied to the sensor electrode during transfer of the remaining charge, the remaining charge 8'returned to the light receiving portion 1 is set. The light can be transferred from the light receiving unit 1 to the overflow drain 6.

【0021】通常、例えば縦型オーバーフロードレイン
構造では、垂直転送レジスタ2の蓄積量は、垂直転送レ
ジスタ2下部に形成されたオーバーフローバリア領域
(以下、単にOFB領域と記す)のポテンシャルにより
決定される。
Usually, in the vertical overflow drain structure, for example, the amount of accumulation in the vertical transfer register 2 is determined by the potential of the overflow barrier region (hereinafter, simply referred to as OFB region) formed under the vertical transfer register 2.

【0022】しかしながら、垂直転送レジスタ2下部の
領域は、スミア低減や電子シャッタ時のポテンシャルバ
リアとしての機能をも担うものである。上記OFB領域
のポテンシャルをこれら全ての機能を満足するように設
計することは困難である。即ち、例えばスミアを低減す
るには、垂直転送レジスタ2下部の不純物濃度を高くし
てスミア防止障壁を形成する必要があるが、このように
すると、所望のオーバーフローバリア(所定蓄積量に応
じたポテンシャルレベルを有するバリア)を得ることが
難しくなる。また、電子シャッタを行なう際には、転送
レジスタ下のOFB領域の不純物濃度を高くするか、又
はOFB領域の厚みを厚くする必要があるが、このよう
な要求を満足しつつ所望のオーバーフローバリアを得る
ことは困難である。
However, the region below the vertical transfer register 2 also serves as a potential barrier at the time of smear reduction and electronic shutter. It is difficult to design the potential of the OFB region to satisfy all these functions. That is, for example, in order to reduce smear, it is necessary to increase the impurity concentration in the lower portion of the vertical transfer register 2 to form a smear prevention barrier. In this case, however, a desired overflow barrier (potential corresponding to a predetermined accumulation amount) is formed. It becomes difficult to obtain a barrier having levels. Further, when the electronic shutter is performed, it is necessary to increase the impurity concentration of the OFB region under the transfer register or increase the thickness of the OFB region. However, while satisfying such requirements, a desired overflow barrier can be provided. Hard to get.

【0023】この実施例に係る固体撮像素子において
は、残余の信号電荷を垂直転送レジスタ2下のOFB領
域にて形成されるポテンシャルバリアを通じて排出する
のではなく、受光部1を介してオーバーフローコントロ
ールゲート部5及びオーバーフロードレイン6を通じて
排出するようにしている。この場合、垂直転送レジスタ
2下のOFB領域や隣接するチャネルストッパ領域は計
量には関与しないととなる。
In the solid-state image pickup device according to this embodiment, the residual signal charges are not discharged through the potential barrier formed in the OFB region under the vertical transfer register 2, but the overflow control gate is passed through the light receiving section 1. The discharge is performed through the portion 5 and the overflow drain 6. In this case, the OFB area under the vertical transfer register 2 and the adjacent channel stopper area do not participate in the weighing.

【0024】そのため、垂直転送レジスタ2下のOFB
領域や隣接するチャネルストッパ領域は、スミア低減や
電子シャッタ時のバリア等の機能に応じて自由に設計す
ることができる。従って、縦形オーバーフロードレイン
構造に適用した場合に、良好なスミア特性を維持でき、
また、良好な電子シャッタ機能を行なわせることができ
る。
Therefore, the OFB under the vertical transfer register 2 is
The region and the adjacent channel stopper region can be freely designed according to functions such as smear reduction and a barrier at the time of electronic shutter. Therefore, when applied to the vertical overflow drain structure, good smear characteristics can be maintained,
In addition, a good electronic shutter function can be performed.

【0025】[0025]

【発明の効果】上述のように、本発明に係る固体撮像装
置の駆動方法によれば、転送レジスタの電荷を蓄積部を
介して電荷排出手段により排出するようにしたので、転
送レジスタに電荷排出手段を設ける必要がなくなる。そ
のため、素子の面積が縮小される。
As described above, according to the driving method of the solid-state image pickup device of the present invention, the charge of the transfer register is discharged by the charge discharging means through the storage section, so that the charge is discharged to the transfer register. It becomes unnecessary to provide means. Therefore, the area of the element is reduced.

【0026】また、縦型オーバーフロードレイン構造を
とる場合に、転送レジスタ下部に電荷排出手段を設ける
必要がなくなるため、転送レジスタ下部の半導体領域の
不純物濃度やそのプロファイルについて、設計の自由度
が確保することができる。
Further, in the case of adopting the vertical overflow drain structure, it is not necessary to provide the charge discharging means under the transfer register, so that the degree of freedom in design is secured with respect to the impurity concentration of the semiconductor region under the transfer register and its profile. be able to.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る固体撮像素子の駆動方法の実施例
による動作の一例を示すポテンシャル図である。
FIG. 1 is a potential diagram showing an example of an operation according to an embodiment of a method for driving a solid-state image sensor according to the present invention.

【図2】本実施例に係る固体撮像素子の駆動方法を実現
するためのオーバーフローコントロールゲート部と受光
部のポテンシャル図である。
FIG. 2 is a potential diagram of an overflow control gate unit and a light receiving unit for realizing the driving method of the solid-state imaging device according to the present embodiment.

【図3】インターライン型CCD固体撮像素子の原理的
構成図である。
FIG. 3 is a principle configuration diagram of an interline CCD solid-state imaging device.

【図4】従来の固体撮像素子の受光状態及び読出し状態
のポテンシャル図である。
FIG. 4 is a potential diagram of a conventional solid-state imaging device in a light receiving state and a reading state.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 受光部 2 垂直転送レジスタ 3 水平転送レジスタ 4 読出しゲート部 5 オーバーフローコントロールゲート部 6 オーバーフロードレイン 7 チャンネルストップ領域 1 Light-receiving part 2 Vertical transfer register 3 Horizontal transfer register 4 Read gate part 5 Overflow control gate part 6 Overflow drain 7 Channel stop area

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 入射光の光量に応じた量の電荷を蓄積す
る蓄積部と、 該蓄積部に隣接して設けられ、上記蓄積部の電荷を排出
する電荷排出手段と、 上記蓄積部に蓄積された電荷を転送する転送レジスタと
を備えた固体撮像装置の駆動方法において、 上記転送レジスタの電荷を上記蓄積部を介して上記電荷
排出手段により排出することを特徴とする固体撮像装置
の駆動方法。
1. A storage unit that stores an amount of electric charge according to the amount of incident light, a charge discharging unit that is provided adjacent to the storage unit and discharges the electric charge of the storage unit, and a storage unit that stores the electric charge in the storage unit. A method for driving a solid-state imaging device, comprising: a transfer register configured to transfer the stored electric charge; wherein the electric charge in the transfer register is discharged by the charge discharging unit via the storage unit. .
【請求項2】 上記電荷排出手段は、縦型オーバーフロ
ードレイン構造をもつことを特徴とする請求項1記載の
固体撮像装置の駆動方法。
2. The method for driving a solid-state image pickup device according to claim 1, wherein the charge discharging means has a vertical overflow drain structure.
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