JP2508505B2 - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JP2508505B2
JP2508505B2 JP61167603A JP16760386A JP2508505B2 JP 2508505 B2 JP2508505 B2 JP 2508505B2 JP 61167603 A JP61167603 A JP 61167603A JP 16760386 A JP16760386 A JP 16760386A JP 2508505 B2 JP2508505 B2 JP 2508505B2
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【発明の詳細な説明】 A.産業上の利用分野 本発明は、メモリセルのセル容量に情報信号の読み出
しや書き込みを行う所謂DRAM(ダイナミックRAM)等の
半導体記憶装置に関する。
The present invention relates to a semiconductor memory device such as a so-called DRAM (Dynamic RAM) for reading and writing an information signal in a cell capacity of a memory cell.

B.発明の概要 本発明は、メモリセルのセル容量に対して情報信号の
読み出しや書き込みを行う所謂DRAM等の半導体記憶装置
において、メモリセルの情報信号が読み出されるビット
線を単一にし、このビット線に参照電圧を印加してリセ
ット状態としたときの電圧をサンプルホールドしてお
き、このサンプルホールドした参照電圧とメモリセルか
ら当該ビット線に読み出された情報信号による電圧とを
互いに比較してセンシングすることにより、センシング
の高感度化及びセル容量の低減による記憶容量の増大等
を実現するものである。
B. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is a semiconductor memory device such as a so-called DRAM for reading and writing an information signal with respect to the cell capacity of a memory cell, and uses a single bit line from which the information signal of the memory cell is read. The voltage when the reference voltage is applied to the bit line and the reset state is sampled and held, and the sampled and held reference voltage and the voltage based on the information signal read from the memory cell to the bit line are compared with each other. By performing the sensing by performing the sensing, it is possible to increase the sensitivity of the sensing and increase the storage capacity by reducing the cell capacity.

C.従来の技術 一般に、セル容量とスイッチングトラジスタをそれぞ
れ有するメモリセルを配列させ、ワードラインの選択信
号に基づき上記セル容量に蓄積された情報信号をビット
ラインを通じて読み出し且つ書き込みを行う所謂DRAM等
の半導体記憶装置は、上記情報信号の読み出し時に、セ
ル容からの電荷による微小な電位差を検知して増幅する
所謂センスアンプを用いている。
C. Conventional Technology In general, so-called DRAM, etc., in which memory cells each having a cell capacitance and a switching transistor are arranged, and the information signal stored in the cell capacitance is read and written through a bit line based on a selection signal of a word line. The semiconductor memory device uses a so-called sense amplifier that detects and amplifies a minute potential difference due to charges from the cell volume at the time of reading the information signal.

第4図は、このようなセンスアンプを用いた半導体記
憶装置の一例の要部を示し、図中破線で示す各メモリセ
ルMCには、それぞれセル容量Cs及びスイッチングトラン
ジスタTsが設けられている。この第4図の構成におい
て、各セルの記憶内容の読み出し時には、先ずプリチャ
ージパルスφによってトランジスタTp 1、Tp 2がオン
し、ビット線BL 1、BL 2がいずれも基準電位Vref、例え
ばVcc/2となる。次に、一対のセルMC 1、MC 2のうちの
一方、例えばセルMC 1を読み出すために、ワード線WL 1
が選択されて、トランジスタTs 1を介してセル容量Cs 1
に蓄積された情報信号がビット線BL 1に読み出される。
このセル容量Cs1に蓄積された情報信号に応じてビット
線BL 1の電位が上記基準電位VCC/2に対して±ΔVsだけ
変化し、例えばVCC/2−ΔVsになるとすると、トランジ
スタTr 2のゲート電位もVCC/2−ΔVsとなる。これに対
して、ビット線BL 2の電位及びトランジスタTr 1のゲー
ト電位は、上記基準電位VCC/2のままであるから、信号
φによってトランジスタTqがオンとなると、トランジ
スタTr 1,Tr 2による増幅が開始され、この増幅が進ん
でトランジスタTr 1がオン、トランジスタTr 2がオフに
略確定される。これによって、セル容量CS 1に蓄積され
た情報信号の読み出しが行われる。
FIG. 4 shows an essential part of an example of a semiconductor memory device using such a sense amplifier. Each memory cell MC shown by a broken line in the drawing is provided with a cell capacitance Cs and a switching transistor Ts. In the configuration of FIG. 4, when reading the stored contents of each cell, first, the transistors Tp 1 and Tp 2 are turned on by the precharge pulse φ P , and the bit lines BL 1 and BL 2 are both set to the reference potential V ref , for example. It becomes V cc / 2. Next, in order to read one of the pair of cells MC 1 and MC 2, for example, cell MC 1, word line WL 1
Is selected and the cell capacitance Cs 1
The information signal stored in the bit line BL 1 is read out to the bit line BL 1.
If the potential of the bit line BL 1 changes by ± ΔVs with respect to the reference potential V CC / 2 in accordance with the information signal stored in the cell capacitance Cs 1, and becomes, for example, V CC / 2-ΔVs, the transistor Tr 2 Also has a gate potential of V CC / 2−ΔVs. On the other hand, since the potential of the bit line BL 2 and the gate potential of the transistor Tr 1 remain the above-mentioned reference potential V CC / 2, when the signal T q is turned on by the signal φ q , the transistors Tr 1 and Tr 1 are turned on. Amplification by 2 is started, and as this amplification progresses, the transistor Tr 1 is turned on and the transistor Tr 2 is almost turned off. As a result, the information signal stored in the cell capacitor CS 1 is read.

この他、ダミーセルを用いて上記基準となる電圧VCC/
2を供給する構成も知られており、この場合には、各ビ
ット線毎にダミーセル及びゲート用トランジスタが接続
されて構成される。
In addition, a dummy cell is used to provide the reference voltage V CC /
A configuration for supplying 2 is also known, and in this case, a dummy cell and a gate transistor are connected for each bit line.

D.発明が解決しようとする問題点 ところで、このような従来の半導体記憶装置において
は、増幅用のトランジスタ対Tr 1、Tr 2の各閾値Vth
ばらつきが一般に約10mV程度であり、一対のビット線BL
1、BL 2の容量のばらつきによる約10mV相当の感度のば
らつきと合わせて、約20mV程度もの感度劣化が生じてい
る。また、ビット線が1つのセンスアンプに対して2本
必要であり、レイアウト上の制約となる。さらに、ダミ
ーセルを用いるものでは構成が複雑化する。
D. Problems to be Solved by the Invention By the way, in such a conventional semiconductor memory device, the variation in each threshold value V th of the transistor pair for amplification Tr 1 and Tr 2 is generally about 10 mV, and Bit line BL
In addition to the sensitivity variation of about 10 mV due to the variation in capacitance of 1 and BL 2, sensitivity degradation of about 20 mV has occurred. Also, two bit lines are required for one sense amplifier, which is a layout constraint. Further, the structure using the dummy cells becomes complicated.

本発明は、このような従来の実情に鑑みてなされたも
のであり、高感度のセンサ回路を実現でき、これによっ
てセル容量を小さくし、集積度を高めて記憶容量を拡大
し得るような半導体記憶装置を提供することを目的とす
る。
The present invention has been made in view of such conventional circumstances, and is a semiconductor capable of realizing a highly sensitive sensor circuit, thereby reducing the cell capacity and increasing the integration degree to increase the storage capacity. An object is to provide a memory device.

E.問題点を解決するための手段 本発明の半導体記憶装置は、上述の問題点を解決する
ために、セル容量とスイッチングトラジスタをそれぞれ
有するメモリセルが配設され、ワード線の選択信号に基
づき上記セル容量に蓄積された情報信号をビット線を通
じて読み出しを行う半導体記憶装置において、上記メモ
リセルの情報信号が読み出される単一のビット線にプリ
チャージ用のスイッチングトランジスタを介して印加さ
れた参照電圧に基づく正負電源間の略中間の電位を基準
電位としてサンプルホールドし、このホールドされた基
準電位と、上記ワード線の選択信号に基づいて上記セル
容量より当該ビット線に読み出された情報信号に基づく
電位とを互いに比較して、当該セルの情報信号を出力す
るセンス回路を備えて成ることを特徴としている。
E. Means for Solving the Problems In order to solve the above-mentioned problems, the semiconductor memory device of the present invention is provided with memory cells each having a cell capacitance and a switching transistor, and a memory cell having a word line selection signal is provided. In a semiconductor memory device for reading an information signal stored in the cell capacitance through a bit line based on a reference applied to a single bit line from which the information signal of the memory cell is read through a switching transistor for precharge. An information signal read from the cell capacitance to the bit line based on the held reference potential and the word line selection signal based on the held reference potential and a reference potential that is approximately midway between the positive and negative power supplies based on the voltage. It is characterized by comprising a sense circuit for comparing the electric potential based on That.

F.作 用 メモリセルの情報信号が単一のビット線に読み出され
ることにより得られた電位を、この読み出し前の参照電
圧の印加により当該ビット線に現れた正負電源間の略中
間の電位をホールドした基準電位と比較、増幅すること
により、センシングの安定化及び高感度化が図れ、セル
容量を小さくして記憶容量を拡大できる。
F. The potential obtained when the information signal of the working memory cell is read out to a single bit line is the potential between the positive and negative power supplies that appears at the bit line by applying the reference voltage before this read out. By comparing and amplifying with the held reference potential, it is possible to stabilize the sensing and increase the sensitivity, and to reduce the cell capacity and expand the storage capacity.

G.実施例 第1図は本発明の一実施例となる半導体記憶装置の概
略構成を示す回路図である。この第1図の例では、所謂
ビデオメモリ等のようなライン単位でデータの入出力を
行うことを前提としたDRAMの構成を示している。
G. Embodiment FIG. 1 is a circuit diagram showing a schematic configuration of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention. The example of FIG. 1 shows the configuration of a DRAM such as a so-called video memory which is premised on inputting / outputting data in line units.

第1図において、セル容量Csとスイッチングトランジ
スタTsをそれぞれ有するメモリセルMCは、2次元画像情
報に対応して例えばm行n列(m、nは自然数)の2次
元マトリクス状に配列されており、図中の任意の位置、
例えば第i行、第j列の位置のメモリセルMCij、セル容
量Csij、スイッチングトラジスタをTsijとそれぞれ表し
ている。これらのメモリセルMCの任意の行、例えば第i
行のトランジスタTsil〜Tsinの各ゲートにはワード線W
Liが共通接続され、任意の列、例えば第j列の各トラン
ジスタTslj〜Tsmjにはビット線BL jが共通接続されてい
る。これらビット線BL 1〜BL nには、それぞれプリチャ
ージ用のスイッチングトランジスタTp 1〜Tp nを介して
参照電圧、例えばVCC/2が供給されるようになってお
り、また各ビット線BL 1〜BL nに現れた信号を、それぞ
れ出力ゲート用のスイッチングトランジスタTo 1〜To n
を介してセンス回路SA 1〜SA nにそれぞれ送るようにな
っている。これらのセンス回路SA 1〜SA nからの各出力
は、1ラインバッファメモリ11に送られて外部に取り出
される。
In FIG. 1, memory cells MC each having a cell capacitance Cs and a switching transistor Ts are arranged in a two-dimensional matrix of, for example, m rows and n columns (m and n are natural numbers) corresponding to two-dimensional image information. , Any position in the figure,
For example, the memory cell MC ij at the position of the i-th row and the j-th column, the cell capacitance Cs ij , and the switching transistor are represented as Ts ij . Any row of these memory cells MC, for example the i-th
The word line W is connected to each gate of the transistors Ts il to Ts in of the row.
Li is commonly connected, and the bit line BL j is commonly connected to each of the transistors Ts lj to Ts mj in an arbitrary column, for example, the j-th column. A reference voltage, for example, V CC / 2, is supplied to these bit lines BL 1 to BL n via switching transistors Tp 1 to Tpn for precharging, respectively. Signals appearing at ~ BL n are output gate switching transistors To 1 ~ To n, respectively.
To the sense circuits SA 1 to SA n. The respective outputs from these sense circuits SA 1 to SA n are sent to the 1-line buffer memory 11 and taken out.

ここで、任意のセンサ回路SA jは、それぞれ対応する
ビット線BL jに印加された参照電圧(例えばVCC/2)に
基づく電位を基準電位Vrefとしてサンプルホールドし、
このホールドされた基準電位Vrefと、任意のワード線、
例えばWL iの選択信号に応じてメモリセルMCijのセル容
量Csijより当該ビット線BL jに読み出された情報信号に
基づく電圧Vsigとを互いに比較して、当該セルMCijの情
報信号を出力するものである。
Here, the arbitrary sensor circuit SA j samples and holds the potential based on the reference voltage (for example, V CC / 2) applied to the corresponding bit line BL j as the reference potential V ref ,
This held reference potential V ref and any word line,
For example, a voltage V sig which is based on the information signal read from the cell capacitance Cs ij of the memory cell MC ij to the bit lines BL j and compared with one another in response to the selection signal WL i, the cell MC ij information signal Is output.

また、1ラインのバッファメモリ11は、例えばビデオ
信号の水平帰線消去期間(Hブランキング期間)に1ラ
イン(1水平期間)分のデータを一斉に読み出す構成の
例を示しているが、各ビット線BL 1〜BL n毎に1つずつ
読み出す構成を用いてもよい。この場合には、上記バッ
ファメモリ1の代わりに各ビット線BL 1〜BL nを順次選
択するための選択信号を出力するH出力デコーダを設け
るとともに、上記出力ゲート用のスイッチングトランジ
スタTo 1〜To nの代わりに出力選択用のスイッチングト
ランジスタをそれぞれ設け、上記H出力デコーダからの
選択信号によりこれらの出力選択用のトランジスタを順
次選択的にオン制御して、各ビット線BL 1〜BL nに現れ
た情報を順次読み出す。但し、1つのビット線の読み出
しサイクルが長いことを考慮して、読み出し制御動作の
パイプライン化が必要である。
The one-line buffer memory 11 shows an example of a configuration in which data for one line (one horizontal period) is read all at once during a horizontal blanking period (H blanking period) of a video signal. A configuration may be used in which one reading is performed for each of the bit lines BL 1 to BL n. In this case, instead of the buffer memory 1, an H output decoder for outputting a selection signal for sequentially selecting each bit line BL 1 to BL n is provided, and the switching transistors To 1 to Ton for the output gate are provided. Instead of the above, switching switching transistors for output selection are provided respectively, and these output selection transistors are sequentially turned on by a selection signal from the H output decoder to appear on each bit line BL 1 to BL n. Information is read sequentially. However, in consideration of the fact that the read cycle of one bit line is long, it is necessary to pipeline the read control operation.

次に、データ入力(書き込み)側の構成として、入力
バッファ12、H入力デコーダ13及び上記各ビット線BL 1
〜BL nに対応するn個の入力選択用スイッチングトラン
ジスタTIH1〜TIHnが設けられており、H入力デコーダ13
は、トランジスタTIH1〜TIHnを選択的にオンすることに
より、入力バッファ12を介して入力される入力信号DIN
を供給すべきビット線BL 1〜BL nを選択する。
Next, as the configuration on the data input (write) side, the input buffer 12, the H input decoder 13 and the above bit lines BL 1
To BL n, n switching transistors T IH 1 to T IH n for input selection are provided, and the H input decoder 13
, By selectively turns on transistor T IH 1~T IH n, the input signal D IN input via an input buffer 12
Select the bit lines BL 1 to BL n to be supplied.

この入力側の構成は、図中の出力側と同様に、1ライ
ンのバッファメモリを用いて構成してもよく、この場合
には、各ビットBL 1〜BL n毎に設けられる入力ゲート用
スイッチングトランジスタの各ゲートを共通接続して、
入力ゲート制御信号φIGを共通に各入力ゲート用トラン
ジスタに設けるようにすればよい。
The configuration of the input side may be configured by using a one-line buffer memory as in the case of the output side in the figure. In this case, switching for input gates provided for each bit BL 1 to BL n Connect each gate of the transistors in common,
The input gate control signal φ IG may be commonly provided to each input gate transistor.

次に、上記構成の回路の動作について、第2図及び第
3図を参照しながら説明する。
Next, the operation of the circuit having the above configuration will be described with reference to FIGS. 2 and 3.

第2図は情報読出時の動作を示している。この第2図
において、先ずプリチャージゲートパルスφPGが各トラ
ンジスタTp 1〜Tp nに供給されることによって、各ビッ
ト線BL 1〜BL nに上記参照電圧(例えばVCC/2)が印加
される。このときの各ビット線BL 1〜BL nに現れた電位
Vrefを第1のサンプルホールドパルスφSHIに応じてセ
ンス回路SA 1〜SA nによりそれぞれ検知し、検知された
電位Vrefを情報読取のための基準電位あるいは判定レベ
ルとしてホールドする。
FIG. 2 shows the operation at the time of reading information. In FIG. 2, first, the precharge gate pulse φ PG is supplied to the transistors Tp 1 to Tpn, so that the reference voltage (for example, V CC / 2) is applied to the bit lines BL 1 to BL n. It Potential appearing on each bit line BL 1 to BL n at this time
V ref is detected by each of the sense circuits SA 1 to SA n according to the first sample hold pulse φ SHI , and the detected potential V ref is held as a reference potential or a determination level for reading information.

次に、例えばワード線選択パルスφwiがワード線WL i
に供給されることにより、第i行の各メモリセルMCil
MCinのトランジスタTsil〜Tsinがオンし、各セル容量Cs
il〜Csinに蓄積された情報信号がそれぞれ対応するビッ
ト線BL 1〜BL nに読み出される。これらの情報信号に応
じて、各ビット線BL 1〜BL nの電位は上記基準電位Vref
に対して±ΔVsだけ変化した電位Vsigとなる。次に、第
2のサンプルホールドパルスφSH2に応じて、各ビット
線BL 1〜BL nの電位Vsigを各センス回路SA 1〜SA nによ
ってそれぞれ検出し、先にサンプルしてホールドしてい
る上記基準電位Vrefとそれぞれ比較し、各電位差をそれ
ぞれ増幅する。この増幅が進み、各ビット線BL 1〜BL n
の電位が略確定したタイミングで再びワード線選択パル
スφwiをワード線WL iに供給し、各メモリセルMCil〜MC
inのセル容量Csil〜Csinに対する情報信号のリストア
(再書込)を行う。これらの読出動作が行われる間に
は、出力ゲートパルスφOGにより各出力ゲート用のスイ
ッチングトラジスタTo 1〜To nがオンされている。
Next, for example, the word line selection pulse φ wi is changed to the word line WL i.
Is supplied to each memory cell MC il of the i-th row.
Transistor Ts il ~Ts in the MC in is turned on, each cell capacity Cs
The information signals accumulated in il to Cs in are read out to the corresponding bit lines BL 1 to BL n. In accordance with these information signals, the potential of each bit line BL 1 to BL n becomes the above reference potential V ref.
The potential V sig changes by ± ΔVs. Next, the potentials V sig of the bit lines BL 1 to BL n are detected by the sense circuits SA 1 to SA n in response to the second sample hold pulse φ SH2 , and sampled and held in advance. The potential differences are respectively amplified by comparing with the reference potential V ref . As this amplification progresses, each bit line BL 1 to BL n
The word line selection pulse φ wi is again supplied to the word line WL i at the timing when the potential of the memory cells MC il to MC
Restores (rewrites) the information signal for the cell capacity Cs il to Cs in of in . While these read operations are being performed, the switching transistors To 1 to Ton for each output gate are turned on by the output gate pulse φ OG .

ここで、ワード線選択パルスφwiによるワード線WL i
の選択動作については、上記第1のサンプルホールドの
直後と、第2のサンプルホールドの直後との2回に分け
て行っており、先の動作で各セルからの情報信号の読出
を行い、後の動作で各セルへの情報のリストアを行って
いる。また上記第1、第2のサンプルホールド動作は、
いずれもワード線選択パルスφwiによるワード線選択動
作がオフ状態の等しい条件の下で行われる。
Here, the word line WL i generated by the word line selection pulse φ wi
The selection operation is performed twice, that is, immediately after the first sample hold and immediately after the second sample hold, and the information signal is read from each cell by the previous operation. Information is restored to each cell by the operation of. The first and second sample hold operations are
In both cases, the word line selection operation by the word line selection pulse φ wi is performed under the same condition of OFF state.

次に、情報書込時の動作は従来と同様であるため、第
3図を参照しながら簡単に説明する。
Next, since the operation at the time of writing information is the same as the conventional one, a brief description will be given with reference to FIG.

情報書込時には、任意の1本のワード線WL iが選択さ
れている間に、H入力デコーダ13からのビット線選択パ
ルスφIH1〜φIHnによって入力選択用スイッチングトラ
ンジスタTIH1〜TIHnが順次オンし、入力バッファ12を介
して入力される入力信号DINが上記オンされたトランジ
スタTIH1〜TIHnを介して各ビット線BL 1〜BL nにそれぞ
れ供給されることによって、対応するメモリセルMCil
MCinのセル容量Csil〜Csinに対する情報信号の書き込み
が順次行われる。なお、前述したように、1ラインのバ
ッファメモリを用いて、例えばHブランキング期間等に
1ライン分の情報を各メモリセルMCil〜MCinに一斉に書
き込むようにしてもよい。
During information writing, while the word line WL i of any one is selected, the input selection switching transistors by the bit line selection pulse phi IH1 to [phi] Ihn from H-decoder 13 T IH 1~T IH n Are sequentially turned on, and the input signal D IN input via the input buffer 12 is supplied to each bit line BL 1 to BL n via the turned-on transistors T IH 1 to T IH n, respectively, Corresponding memory cell MC il ~
Writing of the cell capacitance Cs il to CS in the information signal with respect to the MC in are sequentially performed. As described above, one line by using a buffer memory, for example, the one line information H blanking period or the like may be written simultaneously to the memory cells MC il to MC in.

以上のような本発明実施例の半導体記憶装置によれ
ば、センス回路SAは単一のビット線に現れる電位をサン
プルホールドして比較しているため、従来の2本ビット
線を用いるものに比べて、ビット線容量のばらつきやセ
ンスアンプのトランジスタ対の各閾値V thのばらつき等
による感度劣化の制限を受けることがない。また、ビッ
ト線の本数が半減するため、半導体基板上での素子形成
時に所謂オープンビットライン型の配置が可能となり、
高密度化、大記憶容量化に貢献し得る。
According to the semiconductor memory device of the embodiment of the present invention as described above, since the sense circuit SA samples and holds the potential appearing on a single bit line and compares the potentials, the sense circuit SA is different from the conventional one using two bit lines. Therefore, there is no limitation on sensitivity deterioration due to variations in bit line capacitance or variations in threshold values V th of the transistor pairs of the sense amplifier. Also, since the number of bit lines is halved, it is possible to arrange a so-called open bit line type when forming elements on a semiconductor substrate.
It can contribute to high density and large storage capacity.

ここで、上記実施例のようなサンプルホールド型のコ
ンパレータの検出感度は、数mV程度と高感度であり、メ
モリセルからビット線への読出時の容量性の熱雑音は、
メモリセル容量をCs、ビット線容量をCBとするとき、 程度となり、具体的には1mV以下となる。また、ワード
線とビット線との容量結合によるビット線の電位変動に
ついては、一般にビット線の1%程度の容量結合がある
ことを考慮して、上記第2のサンプルホールドパルスφ
SH2を上記ワード線選択パルスφwiがオフしてから行っ
ている。すなわち、上記基準電位Vref及び情報信号電位
Vsigを検出して保持するための上記第1、第2のサンプ
ルホールド動作は、いずれもワード線選択パルスφwi
よるワード線選択動作がオフ状態の等しい条件の下で行
われるため、ばらつきが極めて少なく、ノイズに対して
有利であり、感度を高めることができる。さらに、急峻
な電源変動については、実際にノイズが問題となるのは
1H(約63μs)に1回で約200nsの期間であるから、シ
ステム上で注意を払うか、パスコンを付加することで容
易に解決できる。
Here, the detection sensitivity of the sample-hold type comparator as in the above embodiment is as high as several mV, and the capacitive thermal noise at the time of reading from the memory cell to the bit line is
When the memory cell capacity is Cs and the bit line capacity is C B , It is about 1mV or less. Regarding the potential variation of the bit line due to the capacitive coupling between the word line and the bit line, considering that there is generally about 1% capacitive coupling of the bit line, the second sample hold pulse φ
SH2 is performed after the word line selection pulse φ wi is turned off. That is, the reference potential V ref and the information signal potential
The first and second sample-hold operations for detecting and holding V sig are both performed under the condition that the word line selection pulse φ wi is equal to the OFF state, and therefore variations occur. It is extremely low, has an advantage over noise, and can increase sensitivity. Furthermore, noise does not really matter for abrupt power fluctuations.
Since it takes about 200ns per 1H (about 63μs), it can be solved easily by paying attention to the system or adding a decap.

なお、本発明は上記実施例のみに限定されるものでは
なく、例えば、ワード線選択パルスφwiによるワード線
WL iの選択動作については、上記第1のサンプルホール
ドの直後と、第2のサンプルホールドの直後との2回に
分けて行っているが、途中のオフ期間を無くして連続し
た1回のワード線選択動作にまとめてもよい。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and for example, the word line selection pulse φ wi
The selection operation of WL i is performed twice, that is, immediately after the first sample and hold and immediately after the second sample and hold. The line selection operation may be combined.

H.発明の効果 本発明の半導体記憶装置によれば、メモリセルに記憶
された情報信号の読み出しのための信号検出用センサ回
路を高感度化でき、しかも安定に動作させることがで
き、ビット線を単一とすることと合わせてセル面積を縮
小して集積度を高め、大記憶容量のメモリの実現を容易
化することができる。
H. Effect of the Invention According to the semiconductor memory device of the present invention, the signal detection sensor circuit for reading the information signal stored in the memory cell can be highly sensitive and can be operated stably, and the bit line It is possible to reduce the cell area, increase the degree of integration, and facilitate the realization of a memory having a large storage capacity.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の一実施例を示す回路図、第2図は読出
時の動作を説明するためのタイムチャート、第3図の書
込時の動作を説明するためのタイムチャート、第4図は
従来の半導体記憶装置の一例を概略的に示す回路図であ
る。 11……1ラインのバッファメモリ 12……H入力デコーダ 13……入力バッファ MC……メモリセル Ts……スイッチングトランジスタ Cs……セル容量 WL……ワード線 BL……ビット線 SA……センス回路 φSH1……第1のサンプルホールドパルス φSH2……第2のサンプルホールドパルス
FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a time chart for explaining a read operation, FIG. 3 is a time chart for explaining a write operation, and FIG. FIG. 1 is a circuit diagram schematically showing an example of a conventional semiconductor memory device. 11 …… 1 line buffer memory 12 …… H input decoder 13 …… input buffer MC …… memory cell Ts …… switching transistor Cs …… cell capacity WL …… word line BL …… bit line SA …… sense circuit φ SH1 …… 1st sample hold pulse φ SH2 …… 2nd sample hold pulse

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】セル容量とスイッチングトランジスタをそ
れぞれ有するメモリセルを配設され、ワード線の選択信
号に応じて上記セル容量に蓄積された情報信号をビット
線を通じて読み出しを行う半導体記憶装置において、 上記メモリセルの情報信号が読み出される単一のビット
線に接続されるプリチャージ用のスイッチングトランジ
スタとセンス回路を備え、 上記プリチャージ用のスイッチングトランジスタを介し
て正負電源間の略中間の電位の参照電圧を上記単一のビ
ット線に印加し、 上記センス回路は、上記単一のビット線に印加された参
照電圧に基づく電位を基準電位としてサンプルホールド
し、このホールドされた基準電位と、上記ワード線の選
択信号に応じて上記セル容量より当該ビット線に読み出
された情報信号に基づく電位とを互いに比較して、当該
セルの情報信号を出力することを特徴とする半導体記憶
装置。
1. A semiconductor memory device in which memory cells each having a cell capacitance and a switching transistor are provided, and an information signal accumulated in the cell capacitance is read through a bit line in accordance with a selection signal of a word line. It has a switching transistor for precharging connected to a single bit line from which the information signal of the memory cell is read out and a sense circuit, and a reference voltage of a potential approximately midway between the positive and negative power supplies via the switching transistor for precharging. Is applied to the single bit line, the sense circuit samples and holds the potential based on the reference voltage applied to the single bit line as a reference potential, and the held reference potential and the word line Potential based on the information signal read from the cell capacitance to the bit line according to the selection signal of The compared with each other, the semiconductor memory device and outputs the information signal of the cell.
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