JP2507132B2 - Play-only optical disc - Google Patents

Play-only optical disc

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JP2507132B2
JP2507132B2 JP2117255A JP11725590A JP2507132B2 JP 2507132 B2 JP2507132 B2 JP 2507132B2 JP 2117255 A JP2117255 A JP 2117255A JP 11725590 A JP11725590 A JP 11725590A JP 2507132 B2 JP2507132 B2 JP 2507132B2
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reflective layer
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optical disc
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貢 若林
喜光 小林
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光学的読み出しを行なう再生専用型光ディス
クに関する。
The present invention relates to a read-only optical disc that performs optical reading.

〔従来の技術とその課題〕[Conventional technology and its problems]

再生専用型光ディスクは低コストな大容量の記録媒体
として既に広く実用化されている。特に音楽再生用、画
像再生用として普及がめざましい。
The read-only optical disc has been widely put into practical use as a low-cost, large-capacity recording medium. It is especially popular for music playback and image playback.

再生専用型光ディスクの構成は記録信号に相当するピ
ット(凹凸)を表面に形成した透明基板上に反射膜(通
常Al)を蒸着し、さらに樹脂による保護コートをしてな
る。
The structure of the read-only type optical disc is such that a reflective film (usually Al) is vapor-deposited on a transparent substrate having pits (concavities and convexities) corresponding to recording signals formed on the surface, and a protective coat made of resin is further applied.

しかしながら、この構成には耐候性に問題が残ってい
る。例えば、温湿度の急激な変化を与えた場合の基板の
膨張、収縮に伴う反射膜の剥離または高温、高湿下での
反射膜の腐食等は直接エラーレートの増加とつながり、
光ディスクの信頼性を大きく低下させる。
However, this structure still has a problem in weather resistance. For example, the expansion and shrinkage of the substrate when a sudden change in temperature and humidity is applied, or peeling of the reflective film due to contraction or high temperature, corrosion of the reflective film under high humidity, etc. directly leads to an increase in error rate,
It greatly reduces the reliability of the optical disc.

特に高温、低温等の特殊環境下における使用をおこな
う場合、上記耐候性の問題は非常に重要になる。
Especially when used in a special environment such as high temperature or low temperature, the problem of weather resistance becomes extremely important.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本発明者等は、上述の課題に鑑み、高耐候性を持った
再生専用型光ディスクを提供すべく鋭意検討した結果特
定の構造を選択することにより非常に耐候性に優れたデ
ィスクが得られることを見出した。
In view of the above problems, the inventors of the present invention have made earnest studies to provide a read-only optical disc having high weather resistance, and as a result, a disc having extremely excellent weather resistance can be obtained by selecting a specific structure. Found.

〔発明の構成〕[Structure of Invention]

本発明の要旨は、凹凸情報が形成された円環状のポリ
カーボネート製透明基板上に反射層及び保護層を設けて
なる再生専用型光ディスクにおいて、反射層を円環状基
板の外周縁部と内周縁部との間の中間部にのみ設け、保
護層を反射層の上面部並びに基板の外周縁部及び内周縁
部を覆うように設けてなり、ポリカーボネート基板とし
て残留するハロゲンが20ppm以下のポリカーボネート基
板を用い、反射層をTaを0.1〜15at%含有するAl合金と
し、保護層を硬化性の樹脂であり、残留するアルカリ金
属又はアルカリ土類金属が10ppm以下、残留するハロゲ
ンが20ppm以下の樹脂としたことを特徴とする再生専用
型光ディスクに存する。
The gist of the present invention is to provide a read-only optical disc comprising a transparent substrate made of polycarbonate having an annular shape on which concave and convex information is formed, and a reflective layer and a protective layer provided on the transparent substrate. It is provided only in an intermediate portion between the protective layer and the protective layer so as to cover the upper surface portion of the reflective layer and the outer peripheral edge portion and the inner peripheral edge portion of the substrate, and a polycarbonate substrate with residual halogen of 20 ppm or less is used as the polycarbonate substrate. The reflective layer is an Al alloy containing 0.1 to 15 at% Ta, the protective layer is a curable resin, the residual alkali metal or alkaline earth metal is 10 ppm or less, and the residual halogen is a resin of 20 ppm or less. The present invention resides in a read-only optical disc characterized by.

以下本発明を詳細に説明する。 The present invention will be described in detail below.

本発明に用いられる基板は再生光を透過する為に透明
なものであり、ポリカーボネートが用いられる。
The substrate used in the present invention is transparent for transmitting reproduction light, and polycarbonate is used.

ポリカーボネートは通常、溶融状態にして金型に射出
する所謂、射出成形により基板に成形される。この際金
型中に予め凹凸情報が記録されたスタンパーを設置して
おくことにより凹凸情報は基板に転写される。直径130m
mφ又は86mmφの基板の場合、基板の厚さは1.2mmが標準
である。
Polycarbonate is usually molded into a substrate by so-called injection molding in which a polycarbonate is melted and injected into a mold. At this time, by installing a stamper in which unevenness information is recorded in advance in the mold, the unevenness information is transferred to the substrate. Diameter 130m
For mφ or 86 mmφ substrates, the standard thickness of the substrate is 1.2 mm.

ポリカーボネートは射出成形した際の残留歪が大きす
ぎると光学的に好ましくないので通常13000〜16000程度
の重量平均分子量のものを樹脂温320〜380℃程度で射出
成形するのが好ましい。
Polycarbonate is optically unfavorable if the residual strain upon injection molding is too large. Therefore, it is usually preferable to injection-mold a polycarbonate having a weight average molecular weight of about 13,000 to 16000 at a resin temperature of about 320 to 380 ° C.

再にポリカーボネート上に設けられる反射層の腐食や
劣化の防止の上からポリカーボネート中に含有される残
留ハロゲンは20ppm以下、好ましくは5ppm以下とされる
のが良い。
In order to prevent corrosion and deterioration of the reflective layer provided on the polycarbonate again, the residual halogen content in the polycarbonate is preferably 20 ppm or less, more preferably 5 ppm or less.

ポリカーボネートは、ハロゲン化炭化水素を溶媒とし
てフェノール系化合物(ビースフェノールA)とホスゲ
ンを反応させて得るものであるが、この反応時に用いら
れるハロゲン(塩素)化合物はポリカーボネート中に残
留すると反射層を構成する金属と反応し反射層の腐食の
原因となる。
Polycarbonate is obtained by reacting a phenolic compound (Bethphenol A) with phosgene using a halogenated hydrocarbon as a solvent, and the halogen (chlorine) compound used during this reaction forms a reflective layer if it remains in the polycarbonate. Reacts with the metal to cause corrosion of the reflective layer.

ハロゲン化合物の除去は製造されたポリカーボネート
溶液に、該樹脂の非溶媒を加え、温水中に噴霧するなど
してゲル化させ溶媒を留去する方法等や水洗による精製
が採用される。
The removal of the halogen compound is carried out by adding a non-solvent for the resin to the produced polycarbonate solution, spraying it into warm water to cause gelation, and distilling off the solvent, or purification by washing with water.

前記基板上に通常再生光を反射させる為の反射層を形
成するが、本発明においては反射層としてTaを含有する
Al合金を用いる。Taを含有するAl合金はAl単体の膜に比
べ耐食性に優れ、ディスクの高信頼性を確保することに
なる。Taの含有量としては好ましくは0.1〜15原子%(a
t%)さらに好ましくは0.5〜10at%である反射層の膜厚
としては好ましくは300Å以上1μm以下、さらに好ま
しくは500Å以上3000Å以下である。
A reflective layer for reflecting the reproduction light is usually formed on the substrate, but in the present invention, Ta is contained as the reflective layer.
Use an Al alloy. The Al alloy containing Ta is superior in corrosion resistance to the film of Al alone and ensures high reliability of the disk. The content of Ta is preferably 0.1 to 15 atomic% (a
The thickness of the reflective layer is preferably 0.5 to 10 at%, more preferably 300 Å or more and 1 μm or less, and further preferably 500 Å or more and 3000 Å or less.

反射層は基板の外周縁部及び内周縁部には設けず、そ
の両周縁部の中間部にのみ設ける。これは、反射層をス
パッタリング等で設ける際、基板の外周縁部及び内周縁
部をカバーで覆っておくこと等によって行なわれる。
The reflective layer is not provided on the outer peripheral edge portion and the inner peripheral edge portion of the substrate, but is provided only on the intermediate portion between the both peripheral edge portions. This is performed by covering the outer peripheral edge portion and the inner peripheral edge portion of the substrate with a cover when providing the reflective layer by sputtering or the like.

この反射層の形成前に基板の表面を処理し、反射層の
密着性、経時安定性を向上させることも考えられる。
It is also considered that the surface of the substrate is treated before the formation of the reflective layer to improve the adhesiveness and temporal stability of the reflective layer.

表面処理の方法としてはプラズマ処理、紫外線照射処
理等が考えられるが、いずれにしても腐食や剥離の原因
となる基板の表面に吸着された水分や基板の表面に付着
した有機物等を除去する程度の処理、すなわち、水分除
去処理とでも云う処理で良い。
Plasma treatment, ultraviolet irradiation treatment, etc. can be considered as the method of surface treatment, but in any case, it is enough to remove water adsorbed on the surface of the substrate and organic substances adhering to the surface of the substrate that cause corrosion and peeling. Process, that is, a process called a water removal process.

処理の程度は処理の方法により一概に決定できない
が、プラズマ処理の場合は基板表面を水の接触角が60゜
以下のぬれ性となる程度、紫外線照射処理の場合も基板
表面を水の接触角が60゜以下のぬれ性となる程度処理す
るのが良い。
The degree of treatment cannot be unconditionally determined depending on the treatment method, but in the case of plasma treatment, the contact angle of water on the substrate surface is less than 60 °, and in the case of ultraviolet irradiation treatment, the contact angle of water on the substrate surface is It is better to treat so that the wettability is less than 60 °.

この基板の表面処理は、基板成形後、反射層を形成す
るまでの間に付着する水分や有機物を除去するための処
理であるから、基板成形後120分、好ましくは30分以内
に反射層を形成し始める場合には、行なわなくても良い
場合もある。
Since the surface treatment of this substrate is a treatment for removing water and organic substances attached to the reflective layer after forming the substrate, the reflecting layer is formed within 120 minutes, preferably within 30 minutes after forming the substrate. In some cases, it may not be necessary to start the formation.

反射層の上には更に保護層が設けられる。保護層は、
例えばエポキシアクリレートやウレタンアクリレート等
を主成分とした系等の、エネルギー線(紫外線)を照射
することによって硬化する所謂、硬化性樹脂或いはシリ
コン系等の熱硬化型樹脂が好適に用いられる。中でも紫
外線硬化型樹脂が好適である。
A protective layer is further provided on the reflective layer. The protective layer is
For example, a so-called curable resin that cures upon irradiation with energy rays (ultraviolet rays), such as a system containing epoxy acrylate or urethane acrylate as a main component, or a thermosetting resin such as a silicone system is preferably used. Of these, UV curable resins are preferred.

これらの硬化性樹脂からなる保護層は、通常反射層上
に直接スピンコート、バーコーター等の塗布法により塗
布され硬化されるものであるから、本発明のAl−Ta反射
層を腐食したり劣化させたりすることがないものである
ことが必要とされ、また、基板の外周縁部及び内周縁部
の反射層の設けられていない部分では、基板と保護層と
が通常は直接接触するものであるから、基板との密着が
良いこと、基板を劣化させたりしないこと等の性質も要
求される。
The protective layer made of these curable resins is usually applied directly on the reflective layer by spin coating, coating by a coating method such as a bar coater, and is cured, so that the Al-Ta reflective layer of the present invention is corroded or deteriorated. It is necessary that the substrate and the protective layer are normally in direct contact with each other at the outer peripheral edge portion and the inner peripheral edge portion of the substrate where the reflective layer is not provided. Therefore, properties such as good adhesion to the substrate and no deterioration of the substrate are required.

従って、この硬化性樹脂としては反射層を劣化させる
原因となるNa,K、Ca等のアルカリ金属又はアルカリ土類
金属及びCl、Br、F等のハロゲンの含有量がアルカリ金
属又はアルカリ土類金属として、すなわち化合物中のNa
やCa等として10ppm以下、ハロゲンとしては、すなわち
化合物中のClやBr等として20ppm以下のものを用いるの
が良い。これらの樹脂を得る方法としては製造工程中で
洗浄を十分行う方法(水又は溶媒洗浄)や、溶媒による
結晶化(晶折)等により行う方法がある。
Therefore, as the curable resin, the content of alkali metals or alkaline earth metals such as Na, K, and Ca and halogens such as Cl, Br, and F, which cause deterioration of the reflective layer, are alkali metals or alkaline earth metals. As, i.e., Na in the compound
It is preferable that the content of Ca or Ca is 10 ppm or less and the content of halogen, that is, Cl or Br in the compound is 20 ppm or less. As a method of obtaining these resins, there are a method of performing sufficient washing in the manufacturing process (washing with water or a solvent), a method of performing crystallization with a solvent (crystal folding), and the like.

保護層の厚さは(硬化後)1〜20μ程度が好ましく、
これ以上厚くすると保護層の収縮等の影響による基板の
変形が起る場合があり、この対策を講じなければならな
いし、薄すぎれば耐久性が低下する。
The thickness of the protective layer (after curing) is preferably about 1 to 20 μ,
If the thickness is made thicker than this, the substrate may be deformed due to the shrinkage of the protective layer and the like, and it is necessary to take measures against this, and if it is too thin, the durability is deteriorated.

硬化後の保護層としては、鉛筆硬度がHB以上程度、硬
化時から硬化後にかけての収縮率が0〜15%程度のもの
であることが外力に対する保護、基板の変形に対する配
慮、取扱い易さ等の点から好ましい。
The protective layer after curing has a pencil hardness of HB or higher, and a shrinkage rate of about 0 to 15% from the time of curing to the time of curing, protection against external force, consideration of substrate deformation, ease of handling, etc. From the point of, it is preferable.

〔実施例〕〔Example〕

以下に実施例をもって本発明をさらに詳細に説明する
が、本発明はその要旨を越えない限り以下の実施例に限
定されるものではない。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to the following Examples as long as the gist thereof is not exceeded.

本明細書及び実施例中における含有量等の測定法は以
下の通りである。
The methods for measuring the content and the like in the present specification and examples are as follows.

1) アルカリ金属含有量の測定 ・原子吸光分析法で測定。(化合物としてではなく、N
a、K等としての含有量。) 3) ハロゲン含有量の測定 ・試料30mgを酸化分解(酸素気流中で燃焼し、生成する
ハロゲン化水素を銀電極を用いて電量滴定する。含有量
はCl(クロル)換算とする。
1) Measurement of alkali metal content-Measured by atomic absorption spectrometry. (N, not as a compound
Content as a, K, etc. ) 3) Measurement of halogen content ・ Oxidative decomposition of 30 mg of sample (combustion in oxygen stream and coulometric titration of generated hydrogen halide using silver electrode. Content is converted to Cl (chlorine)).

使用装置「三菱化成社製、塩素・硫黄分析装置、TSX
−10」 3) 接触角の測定 ・協和界面科学(株)製 FACE接触角計CA−S150型を用いて測定。
Equipment used "Chlorine and sulfur analyzer manufactured by Mitsubishi Kasei Co., TSX
-10 ”3) Measurement of contact angle-Measured using the FACE contact angle meter CA-S150 type manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.

4) 収縮率の測定 ・硬化前後の密度を求め %で得た値である。4) Measurement of shrinkage rate-Determination of density before and after curing It is the value obtained in%.

ρ1:硬化前(液体)の密度 ρ1:硬化後の密度 実施例1 重量平均分子量15,000、残留塩素5ppmのポリカーボネ
ートを用い、樹脂温350℃でスタンパーを内蔵した金型
に射出形成し、トラッキング用グルーブ及び凹凸情報を
持った130mmmφのポリカーボネート基板を得た。
ρ 1 : Density before curing (liquid) ρ 1 : Density after curing Example 1 Polycarbonate having a weight average molecular weight of 15,000 and residual chlorine of 5 ppm is used, injection molding is performed at a resin temperature of 350 ° C. into a mold having a built-in stamper, and tracking is performed. A polycarbonate substrate of 130 mmmφ having a groove and irregularity information for use was obtained.

この基板をスパッタ装置内に導入し、8×10-7Torr以
下まで排気した後、この基板の凹凸情報が形成された側
に5mmTorr、100w、30秒間の条件でプラズマ処理を行な
った。次いで該基板上にAl97Ta3(at%)の組成を持っ
た合金ターゲットをArガスでDCスパッタリングした。基
板上にはAl96Ta4(at%)の組成を持った反射層が1000
Å形成された。組成の分析は蛍光X線分析を用いて行な
った。
After this substrate was introduced into a sputtering apparatus and evacuated to 8 × 10 −7 Torr or less, plasma treatment was performed on the side of the substrate on which irregularity information was formed under conditions of 5 mm Torr, 100 w, and 30 seconds. Then, an alloy target having a composition of Al 97 Ta 3 (at%) was DC-sputtered on the substrate with Ar gas. A reflective layer with a composition of Al 96 Ta 4 (at%) is 1000 on the substrate.
Å formed. The composition was analyzed by X-ray fluorescence analysis.

反射層は基板の中心から半径22mmの位置から62mmの位
置まで設け、基板の内周縁には幅14.5mm、外周縁には幅
3mmの反射層を設けていない部分を形成した。
The reflective layer is provided from a position with a radius of 22 mm to a position of 62 mm from the center of the substrate, with a width of 14.5 mm at the inner peripheral edge of the substrate and a width at the outer peripheral edge.
A portion having no 3 mm reflective layer was formed.

この反射層を設けた基板にアルカリ金属含有量3ppm、
ハロゲン化合物含有量5ppmのエポキシ系紫外線硬化型樹
脂をスピンコートし、紫外線を照射して硬化させ5μの
保護層を設けた。該保護層の硬度はH、収縮率は8%で
あった。このようにして得られたディスクを70℃、90%
RHの条件で1000時間の加速試験を行ない、経時的にドロ
ップインエラーレートを測定したところ増加は1.6倍に
止まった。
Alkali metal content 3ppm on the substrate provided with this reflective layer,
An epoxy UV curable resin having a halogen compound content of 5 ppm was spin-coated and irradiated with UV to cure the resin to form a protective layer of 5 μm. The hardness of the protective layer was H and the shrinkage rate was 8%. The disc thus obtained is 70 ° C, 90%
An acceleration test was performed for 1000 hours under RH conditions, and when the drop-in error rate was measured over time, the increase stopped at 1.6 times.

実施例2 プラズマ処理に変えて紫外線照射処理を行ない、水の
接触角が45゜となるように処理した。他は実施例1と同
様にしてディスクを得た。
Example 2 Instead of the plasma treatment, an ultraviolet irradiation treatment was carried out so that the contact angle of water was 45 °. A disk was obtained in the same manner as in Example 1 except for the above.

加速試験を行なったところドロップインエラーレート
は1.4倍に止まった。
When an accelerated test was performed, the drop-in error rate stopped at 1.4 times.

実施例3、4、5 Al97ta3(at%)のターゲット上にTaチップ又はAlチ
ップを置くことによりAl99Ta1、Al97.5Ta2.5、Al95Ta5
の反射層を形成した外は実施例1と同様にしてディスク
を得た。
Examples 3, 4, 5 Al 99 Ta 1 , Al 97.5 Ta 2.5 , Al 95 Ta 5 by placing Ta chip or Al chip on the target of Al 97 ta 3 (at%).
A disk was obtained in the same manner as in Example 1 except that the reflective layer was formed.

加速試験を行なったところドロップインエラーレート
はそれぞれ1.7,1.4及び1.2倍に止まった。
When the accelerated test was performed, the drop-in error rates were 1.7, 1.4 and 1.2 times, respectively.

比較例1 実施例1と同様にして、基板上にAl単体の膜を1000Å
成膜したほかは実施例1と同様にしてディスクを得た。
このディスクを実施例1と同様に加速試験を行なったと
ころ全面に腐食が発生しエラーレートは測定不能だっ
た。
Comparative Example 1 In the same manner as in Example 1, 1000 Å a film of Al alone was formed on the substrate.
A disk was obtained in the same manner as in Example 1 except that the film was formed.
When this disk was subjected to an acceleration test in the same manner as in Example 1, corrosion occurred on the entire surface and the error rate could not be measured.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明の光ディスクは耐候性に優れるので過酷な条件
での使用、長期保存用の光ディスクとして好適である。
Since the optical disk of the present invention has excellent weather resistance, it is suitable as an optical disk for use under severe conditions and for long-term storage.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 橋本 高志 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三菱化成株式会社総合研究所内 (72)発明者 川野 敏史 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三菱化成株式会社総合研究所内 (56)参考文献 特開 平1−169751(JP,A) 特開 昭58−137151(JP,A) 特開 平2−101649(JP,A) 実公 昭63−27298(JP,Y2) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Takashi Hashimoto Inventor Takashi Hashimoto 1000 Kamoshida-cho, Midori-ku, Yokohama, Kanagawa Mitsubishi Kasei Corp. Research Institute (72) Toshifumi Kawano 1000 Kamoshida-cho, Midori-ku, Yokohama, Kanagawa Mitsubishi Kasei Research Institute Co., Ltd. (56) Reference JP-A-1-169751 (JP, A) JP-A-58-137151 (JP, A) JP-A-2-101649 (JP, A) Jitsukoku Sho-63-27298 ( JP, Y2)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】凹凸情報が形成された円環状のポリカーボ
ネート製透明基板上に反射層及び保護層を設けてなる再
生専用型光ディスクにおいて、反射層を円環状基板の外
周縁部と内周縁部との間の中間部にのみ設け、保護層を
反射層の上面部並びに基板の外周縁部及び内周縁部を覆
うように設けてなり、ポリカーボネート基板として残留
するハロゲンが20ppm以下のポリカーボネート基板を用
い、反射層をTaを0.1〜15at%含有するAl合金とし、保
護層を硬化性の樹脂であり、残留するアルカリ金属又は
アルカリ土類金属が10ppm以下、残留するハロゲンが20p
pm以下の樹脂としたことを特徴とする再生専用型光ディ
スク。
1. A read-only optical disc comprising a transparent polycarbonate substrate having an annular shape on which uneven information is formed, and a reflective layer and a protective layer provided on the transparent substrate, the reflective layer having an outer peripheral edge and an inner peripheral edge. Provided only in the intermediate portion between, the protective layer is provided so as to cover the upper surface portion of the reflective layer and the outer peripheral edge portion and the inner peripheral edge portion of the substrate, the remaining halogen as a polycarbonate substrate using a polycarbonate substrate of 20ppm or less, The reflective layer is an Al alloy containing 0.1 to 15 at% Ta, the protective layer is a curable resin, the residual alkali metal or alkaline earth metal is 10 ppm or less, and the residual halogen is 20 p
A read-only optical disc characterized by using a resin of pm or less.
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