JP2003123316A - Optical information medium - Google Patents

Optical information medium

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JP2003123316A
JP2003123316A JP2001312821A JP2001312821A JP2003123316A JP 2003123316 A JP2003123316 A JP 2003123316A JP 2001312821 A JP2001312821 A JP 2001312821A JP 2001312821 A JP2001312821 A JP 2001312821A JP 2003123316 A JP2003123316 A JP 2003123316A
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recording
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秀樹 平田
Takeshi Komaki
壮 小巻
Tomoki Ushita
智樹 丑田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To minimize a warpage and to prevent a damage of the surface of a light-transmissive layer immediately after manufactured and after stored in an environment under a high temperature and high humidity in the optical information medium which has an information recording layer on the surface of a supporting base body and a light-transmissive layer on the information recording layer, and which information recording layer is irradiated with a laser beam for recording or reproducing through the light-transmissive layer. SOLUTION: The optical information medium has the information recording layer on the supporting base body, the light-transmissive layer on the information recording layer, and is used by making the laser beam for recording or reproducing incident on the information recording layer through the light- transmissive layer. The light-transmissive layer of the optical information medium is composed of a resin and the dynamic elastic modulus of the light- transmissive layer is 1.5 to 3.0 GPa at 25 deg.C.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、再生専用光ディス
ク、光記録ディスク等の光情報媒体に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an optical information medium such as a read-only optical disc and an optical recording disc.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、再生専用光ディスクや光記録ディ
スク等の光記録媒体では、動画情報等の膨大な情報を記
録ないし保存するため、記録密度向上による媒体の高容
量化が求められ、これに応えるために、高記録密度化の
ための研究開発が盛んに行われてきた。
2. Description of the Related Art In recent years, optical recording media such as read-only optical discs and optical recording discs record and store enormous amounts of information such as moving image information. Therefore, it is required to increase the recording density to increase the capacity of the medium. In order to meet the demand, research and development for higher recording density have been actively conducted.

【0003】その中のひとつとして、例えばDVD(Di
gital Versatile Disk)にみられるように、記録・再生
波長を短くし、かつ、記録・再生光学系の対物レンズの
開口数(NA)を大きくして、記録・再生時のレーザー
ビームスポット径を小さくすることが提案されている。
DVDをCDと比較すると、記録・再生波長を780nm
から650nmに変更し、NAを0.45から0.6に変
更することにより、6〜8倍の記録容量(4.7GB/
面)を達成している。
One of them is, for example, a DVD (Di
As can be seen in gital Versatile Disk), the recording / reproducing wavelength is shortened, and the numerical aperture (NA) of the objective lens of the recording / reproducing optical system is increased to reduce the laser beam spot diameter during recording / reproducing. It is suggested to do so.
Comparing DVD and CD, the recording / reproducing wavelength is 780 nm
To 650 nm and NA from 0.45 to 0.6, the recording capacity of 6 to 8 times (4.7 GB /
Aspect) has been achieved.

【0004】さらに、最近、高品位の動画像を長時間記
録するために、記録・再生波長を400nm程度まで短く
し、かつ、対物レンズの開口数を0.85程度まで大き
くすることにより、DVDの4倍以上、すなわち20GB
/面以上の記録容量を達成しようとする試みが行われて
いる。
Furthermore, recently, in order to record a high-quality moving image for a long time, the recording / reproducing wavelength is shortened to about 400 nm, and the numerical aperture of the objective lens is increased to about 0.85. More than 4 times, ie 20GB
Attempts have been made to achieve recording capacities of more than one side.

【0005】しかし、このように高NA化すると、チル
トマージンが小さくなってしまう。チルトマージンは、
光学系に対する光記録媒体の傾きの許容度であり、NA
によって決定される。記録・再生波長をλ、記録・再生
光が入射する透明基体の厚さをtとすると、チルトマー
ジンは λ/(t・NA3) に比例する。また、光記録媒体がレーザービームに対し
て傾くと、すなわちチルトが発生すると、波面収差(コ
マ収差)が発生する。基体の屈折率をn、傾き角をθと
すると、波面収差係数は (1/2)・t・{n2・sinθ・cosθ}・NA3/(n
2−sin2θ)-5/2 で表される。これら各式から、チルトマージンを大きく
し、かつコマ収差の発生を抑えるためには、基体の厚さ
tを小さくすればよいことがわかる。実際、DVDで
は、基体の厚さをCD基体の厚さ(1.2mm程度)の約
半分(0.6mm程度)とすることにより、チルトマージ
ンを確保している。
However, if the NA is increased in this way, the tilt margin becomes small. The tilt margin is
The tolerance of the tilt of the optical recording medium with respect to the optical system, which is NA
Determined by When the recording / reproducing wavelength is λ and the thickness of the transparent substrate on which the recording / reproducing light is incident is t, the tilt margin is proportional to λ / (t · NA 3 ). Further, when the optical recording medium tilts with respect to the laser beam, that is, when tilt occurs, wavefront aberration (coma aberration) occurs. Assuming that the refractive index of the substrate is n and the tilt angle is θ, the wavefront aberration coefficient is (1/2) · t · {n 2 · sin θ · cos θ} · NA 3 / (n
2 −sin 2 θ) -5/2 . From these equations, it is understood that the thickness t of the base body should be reduced in order to increase the tilt margin and suppress the occurrence of coma. In fact, in DVD, the tilt margin is secured by making the thickness of the substrate approximately half (about 0.6 mm) of the thickness of the CD substrate (about 1.2 mm).

【0006】ところで、より高品位の動画像を長時間記
録するために、基体をさらに薄くできる構造が提案され
ている。この構造は、通常の厚さの基体を剛性維持のた
めの支持基体として用い、その表面にピットや記録層を
形成し、その上に薄型の基体として厚さ100μm前後
の光透過層を設け、この光透過層を通して記録・再生光
を入射させるものである。この構造では、従来に比べ基
体を著しく薄くできるため、高NA化による高記録密度
達成が可能である。このような構造をもつ媒体は、例え
ば特開平10−289489号公報に記載されている。
同公報に記載された媒体は、光硬化性樹脂からなる光透
過層を有する。
By the way, there has been proposed a structure in which the base can be made thinner in order to record a higher quality moving image for a long time. In this structure, a substrate having a normal thickness is used as a supporting substrate for maintaining rigidity, pits and recording layers are formed on the surface thereof, and a light transmitting layer having a thickness of about 100 μm is provided as a thin substrate thereon. Recording / reproducing light is made incident through this light transmitting layer. With this structure, the base can be made significantly thinner than in the conventional case, so that it is possible to achieve a high recording density by increasing the NA. A medium having such a structure is described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-289489.
The medium described in the publication has a light transmission layer made of a photocurable resin.

【0007】しかし、紫外線硬化型樹脂等の光硬化性樹
脂から光透過層を構成すると、硬化時に発生する収縮の
ために媒体に反りが発生する。また、媒体を高温・高湿
環境下で保存した場合にも、反りが発生する。媒体に反
りが生じると、読み取りエラーが生じやすくなり、反り
量が大きいと読み取り不能となってしまうことがある。
However, when the light transmitting layer is made of a photocurable resin such as an ultraviolet curable resin, the medium warps due to the shrinkage that occurs during curing. Warping also occurs when the medium is stored in a high temperature and high humidity environment. If the medium warps, a read error is likely to occur, and if the amount of warp is large, the medium may not be readable.

【0008】特開平8−194968号公報には、樹脂
製の保護コートを有する光ディスクが記載されている。
同公報では、保護コートの引張破壊伸びを15%以上と
することにより、高温・高湿環境下で保存したときの光
ディスクの反り発生を抑えている。ただし、同公報に
は、保護コートを通して記録・再生光を入射させる旨の
記載はない。
Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 8-19496 discloses an optical disk having a resin protective coat.
According to the publication, the tensile breaking elongation of the protective coat is set to 15% or more to prevent warpage of the optical disc when stored in a high temperature and high humidity environment. However, this publication does not mention that recording / reproducing light is incident through the protective coat.

【0009】しかし、本発明の発明者らの研究によれ
ば、厚さ100μm前後の光透過層(保護コート)を通
して記録・再生光を入射させる場合、光透過層の引張破
壊伸びを単に15%以上とするだけでは、媒体の反りに
よって良好な記録・再生特性が得られないことがわかっ
た。また、高温・高湿条件下での保存により媒体の反り
が増大するため、記録・再生特性がさらに悪化すること
がわかった。特に、レーザービームのビームスポット径
を小さくし、かつ、高線速度で記録・再生を行う場合に
問題が生じた。特に問題であったのは、フォーカスサー
ボの安定性が不十分となったことである。
However, according to the research conducted by the inventors of the present invention, when recording / reproducing light is incident through a light transmitting layer (protective coat) having a thickness of about 100 μm, the tensile breaking elongation of the light transmitting layer is only 15%. It has been found that good recording / reproducing characteristics cannot be obtained due to the warp of the medium only by the above. Moreover, it was found that the recording / reproducing characteristics were further deteriorated because the warp of the medium was increased by the storage under the conditions of high temperature and high humidity. In particular, there has been a problem when the beam spot diameter of the laser beam is reduced and recording / reproducing is performed at a high linear velocity. A particular problem was that the stability of the focus servo became insufficient.

【0010】媒体の反りを小さくするためには、硬化時
の収縮が著しく小さく、かつ柔らかい樹脂から光透過層
を構成すればよいが、その場合、光透過層の表面硬度が
不十分となるため、光透過層の表面が傷つきやすい。上
記した薄い光透過層では、光透過層表面と情報記録層と
の距離が近いため、光透過層表面におけるレーザービー
ムの直径が小さい。そのため、光透過層表面の傷つき
は、記録再生特性に著しい悪影響を及ぼす。
In order to reduce the warp of the medium, it is sufficient to form the light transmitting layer from a resin which has a very small shrinkage upon curing and is soft, but in that case, the surface hardness of the light transmitting layer becomes insufficient. , The surface of the light transmitting layer is easily scratched. In the thin light transmitting layer described above, the diameter of the laser beam on the surface of the light transmitting layer is small because the distance between the surface of the light transmitting layer and the information recording layer is short. Therefore, scratches on the surface of the light transmitting layer have a bad influence on recording / reproducing characteristics.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、支持
基体表面に情報記録層を有し、この情報記録層上に光透
過層を有し、この光透過層を通して記録または再生用の
レーザービームが情報記録層に照射される光情報媒体に
おいて、製造直後および高温・高湿条件下で保存した後
の反りを小さくし、かつ、光透過層表面の傷つきを防ぐ
ことである。
It is an object of the present invention to have an information recording layer on the surface of a supporting substrate and a light transmitting layer on the information recording layer, and a laser for recording or reproducing through the light transmitting layer. In an optical information medium in which a beam is irradiated on the information recording layer, it is to reduce warpage immediately after production and after storage under high temperature and high humidity conditions, and prevent scratches on the surface of the light transmitting layer.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(16)の本発明により達成される。 (1) 支持基体上に情報記録層を有し、この情報記録
層上に光透過層を有し、この光透過層を通して記録また
は再生のためのレーザービームが情報記録層に入射する
ように使用される光情報媒体であって、光透過層が樹脂
から構成され、光透過層の25℃における動的弾性率が
1.5〜3.0GPaである光情報媒体。 (2) 光透過層の80℃における動的弾性率が0.0
5〜1.0GPaである上記(1)の光情報媒体。 (3) 光透過層の25℃における引張弾性率が0.6
〜1.5GPaである上記(1)または(2)の光情報媒
体。 (4) 光透過層のガラス転移点が70〜140℃であ
る上記(1)〜(3)のいずれかの光情報媒体。 (5) 記録または再生のためのレーザービームの波長
における光透過層の透過率が80%以上である上記
(1)〜(4)のいずれかの光情報媒体。 (6) 光透過層が、放射線硬化型組成物の硬化物を含
有する上記(1)〜(5)のいずれかの光情報媒体。 (7) 光透過層に、前記放射線硬化型組成物に含まれ
ていた反応開始剤が含有されており、この反応開始剤の
波長405nmにおける吸光係数が500以下である上記
(6)の光情報媒体。 (8) 光透過層の厚さが30〜200μmである上記
(1)〜(7)のいずれかの光情報媒体。 (9) 記録または再生のためのレーザービームの波長
をλとし、前記レーザービームを照射する光学系の対物
レンズの開口数をNAとしたとき、λ/NA≦680nm
が成立する条件で記録または再生が行われる上記(1)
〜(8)のいずれかの光情報媒体。 (10) 支持基体上に情報記録層を有し、この情報記
録層上に光透過層を有し、この光透過層を通して記録ま
たは再生のためのレーザービームが情報記録層に入射す
るように使用され、前記レーザービームの波長をλと
し、前記レーザービームを照射する光学系の対物レンズ
の開口数をNAとしたとき、λ/NA≦680nmが成立
する条件で記録または再生が行われる光情報媒体であっ
て、前記支持基体が直径60〜135mmのディスク状で
あり、半径方向の反り角をR-Skewとし、周方向の反り角
をT-Skewとしたとき、80℃・80%RHの環境下で5
0時間保存する高温・高湿保存試験の前後のいずれにお
いても、 |R-Skew|≦0.4deg、 |T-Skew|≦0.15deg である光情報媒体。 (11) ディスク状の支持基体上に情報記録層を有
し、この情報記録層上に光透過層を有し、この光透過層
を通して記録または再生のためのレーザービームが情報
記録層に入射するように使用され、前記レーザービーム
の波長をλとし、前記レーザービームを照射する光学系
の対物レンズの開口数をNAとしたとき、λ/NA≦6
80nmが成立する条件で記録または再生が行われる光情
報媒体であって、前記支持基体が直径60〜135mmの
ディスク状であり、半径方向の反り角をR-Skewとし、周
方向の反り角をT-Skewとしたとき、80℃の乾燥環境下
で50時間保存する高温ドライ保存試験の前後のいずれ
においても、 |R-Skew|≦0.4deg、 |T-Skew|≦0.15deg である光情報媒体。 (12) ディスク状の支持基体上に情報記録層を有
し、この情報記録層上に光透過層を有し、この光透過層
を通して記録または再生のためのレーザービームが情報
記録層に入射するように使用され、前記レーザービーム
の波長をλとし、前記レーザービームを照射する光学系
の対物レンズの開口数をNAとしたとき、λ/NA≦6
80nmが成立する条件で記録または再生が行われる光情
報媒体であって、前記支持基体が直径60〜135mmの
ディスク状であり、半径方向の反り角をR-Skewとし、周
方向の反り角をT-Skewとしたとき、−25℃の環境下で
50時間保存する低温保存試験の前後のいずれにおいて
も、 |R-Skew|≦0.4deg、 |T-Skew|≦0.15deg である光情報媒体。 (13) ディスク状の支持基体上に情報記録層を有
し、この情報記録層上に光透過層を有し、この光透過層
を通して記録または再生のためのレーザービームが情報
記録層に入射するように使用され、前記レーザービーム
の波長をλとし、前記レーザービームを照射する光学系
の対物レンズの開口数をNAとしたとき、λ/NA≦6
80nmが成立する条件で記録または再生が行われる光情
報媒体であって、前記支持基体が直径60〜135mmの
ディスク状であり、半径方向の反り角をR-Skewとし、周
方向の反り角をT-Skewとしたとき、50%RHの恒湿環
境下において、20℃で12時間保存する常温保存と6
0℃で12時間保存する高温保存とを行う温度サイクル
を6サイクル繰り返し、かつ、前記常温保存から前記高
温保存に移行する際の昇温速度および前記高温保存から
前記常温保存に移行する際の降温速度を10℃/時間と
する温度サイクル試験の前後のいずれにおいても、 |R-Skew|≦0.4deg、 |T-Skew|≦0.15deg である光情報媒体。 (14) ディスク状の支持基体上に情報記録層を有
し、この情報記録層上に光透過層を有し、この光透過層
を通して記録または再生のためのレーザービームが情報
記録層に入射するように使用され、前記レーザービーム
の波長をλとし、前記レーザービームを照射する光学系
の対物レンズの開口数をNAとしたとき、λ/NA≦6
80nmが成立する条件で記録または再生が行われる光情
報媒体であって、前記支持基体が直径60〜135mmの
ディスク状であり、半径方向の反り角をR-Skewとし、周
方向の反り角をT-Skewとしたとき、60℃の恒温環境下
において、20%RHで12時間保存する常湿保存と8
0%RHで12時間保存する高湿保存とを行う湿度サイ
クルを6サイクル繰り返し、かつ、前記常湿保存から前
記高湿保存に移行する際の湿度上昇速度および前記高湿
保存から前記常湿保存に移行する際の湿度低下速度を1
0%/時間とする湿度サイクル試験の前後のいずれにお
いても、 |R-Skew|≦0.4deg、 |T-Skew|≦0.15deg である光情報媒体。 (15) ディスク状の支持基体上に情報記録層を有
し、この情報記録層上に光透過層を有し、この光透過層
を通して記録または再生のためのレーザービームが情報
記録層に入射するように使用され、前記レーザービーム
の波長をλとし、前記レーザービームを照射する光学系
の対物レンズの開口数をNAとしたとき、λ/NA≦6
80nmが成立する条件で記録または再生が行われる光情
報媒体であって、前記支持基体が直径60〜135mmの
ディスク状であり、半径方向の反り角をR-Skewとし、周
方向の反り角をT-Skewとしたとき、−20℃の環境下で
1時間保存した直後に、70℃のドライ環境下で1時間
保存する温度サイクルを50サイクル繰り返す熱衝撃試
験の前後のいずれにおいても、 |R-Skew|≦0.4deg、 |T-Skew|≦0.15deg である光情報媒体。 (16) 上記(10)〜(15)のいずれかの光情報
媒体である上記(1)〜(9)のいずれかの光情報媒
体。
The above object is achieved by the present invention described in (1) to (16) below. (1) An information recording layer is provided on a supporting substrate, and a light transmission layer is provided on the information recording layer, and a laser beam for recording or reproduction is incident on the information recording layer through the light transmission layer. The optical information medium, wherein the light transmitting layer is made of resin, and the dynamic elastic modulus of the light transmitting layer at 25 ° C. is 1.5 to 3.0 GPa. (2) The dynamic elastic modulus of the light transmitting layer at 80 ° C. is 0.0
The optical information medium of (1) above, which is 5 to 1.0 GPa. (3) The tensile elastic modulus at 25 ° C. of the light transmitting layer is 0.6.
The optical information medium according to (1) or (2) above, which has a density of up to 1.5 GPa. (4) The optical information medium according to any one of (1) to (3), wherein the glass transition point of the light transmitting layer is 70 to 140 ° C. (5) The optical information medium according to any one of (1) to (4) above, wherein the transmittance of the light transmission layer at the wavelength of the laser beam for recording or reproduction is 80% or more. (6) The optical information medium according to any one of (1) to (5) above, wherein the light transmitting layer contains a cured product of the radiation curable composition. (7) The light information of the above (6), wherein the light transmission layer contains the reaction initiator contained in the radiation-curable composition, and the absorption coefficient of the reaction initiator at a wavelength of 405 nm is 500 or less. Medium. (8) The optical information medium according to any one of (1) to (7), wherein the thickness of the light transmission layer is 30 to 200 μm. (9) When the wavelength of the laser beam for recording or reproduction is λ and the numerical aperture of the objective lens of the optical system for irradiating the laser beam is NA, then λ / NA ≦ 680 nm
Recording or reproduction is performed under the condition that (1) above is satisfied.
An optical information medium according to any one of (8) to (8). (10) An information recording layer is provided on a supporting substrate, a light transmitting layer is provided on the information recording layer, and a laser beam for recording or reproducing is incident on the information recording layer through the light transmitting layer. An optical information medium for recording or reproducing under the condition that λ / NA ≦ 680 nm is satisfied, where λ is the wavelength of the laser beam and NA is the numerical aperture of the objective lens of the optical system that irradiates the laser beam. When the supporting substrate is a disk with a diameter of 60 to 135 mm, the radial warp angle is R-Skew, and the circumferential warp angle is T-Skew, an environment of 80 ° C. and 80% RH 5 down
An optical information medium having | R-Skew | ≦ 0.4 deg and | T-Skew | ≦ 0.15 deg both before and after a high temperature / high humidity storage test in which it is stored for 0 hours. (11) An information recording layer is provided on a disc-shaped supporting substrate, and a light transmitting layer is provided on the information recording layer. A laser beam for recording or reproduction is incident on the information recording layer through the light transmitting layer. Λ / NA ≦ 6, where λ is the wavelength of the laser beam and NA is the numerical aperture of the objective lens of the optical system that irradiates the laser beam.
An optical information medium for recording or reproducing under the condition that 80 nm is satisfied, wherein the supporting substrate is a disk having a diameter of 60 to 135 mm, the radial warp angle is R-Skew, and the circumferential warp angle is When T-Skew is set, | R-Skew | ≦ 0.4deg and | T-Skew | ≦ 0.15deg both before and after the high temperature dry storage test in which it is stored in a dry environment at 80 ° C. for 50 hours. Optical information medium. (12) An information recording layer is provided on a disc-shaped supporting substrate, and a light transmitting layer is provided on the information recording layer, and a laser beam for recording or reproducing is incident on the information recording layer through the light transmitting layer. Λ / NA ≦ 6, where λ is the wavelength of the laser beam and NA is the numerical aperture of the objective lens of the optical system that irradiates the laser beam.
An optical information medium for recording or reproducing under the condition that 80 nm is satisfied, wherein the supporting substrate is a disk having a diameter of 60 to 135 mm, the radial warp angle is R-Skew, and the circumferential warp angle is When T-Skew is used, light with | R-Skew | ≦ 0.4deg and | T-Skew | ≦ 0.15deg both before and after the low temperature storage test in which it is stored at −25 ° C. for 50 hours. Information medium. (13) An information recording layer is provided on a disc-shaped supporting substrate, and a light transmitting layer is provided on the information recording layer, and a laser beam for recording or reproduction is incident on the information recording layer through the light transmitting layer. Λ / NA ≦ 6, where λ is the wavelength of the laser beam and NA is the numerical aperture of the objective lens of the optical system that irradiates the laser beam.
An optical information medium for recording or reproducing under the condition that 80 nm is satisfied, wherein the supporting substrate is a disk having a diameter of 60 to 135 mm, the radial warp angle is R-Skew, and the circumferential warp angle is When T-Skew is used, it should be stored at 20 ° C for 12 hours in a constant humidity environment of 50% RH and at room temperature.
A temperature cycle of performing high temperature storage for 12 hours at 0 ° C. is repeated 6 times, and a temperature rising rate at the time of transition from the room temperature storage to the high temperature storage and a temperature decrease at the time of transition from the high temperature storage to the room temperature storage. An optical information medium having | R-Skew | ≦ 0.4 deg and | T-Skew | ≦ 0.15 deg both before and after a temperature cycle test with a speed of 10 ° C./hour. (14) An information recording layer is provided on a disc-shaped supporting substrate, and a light transmitting layer is provided on the information recording layer. A laser beam for recording or reproducing is incident on the information recording layer through the light transmitting layer. Λ / NA ≦ 6, where λ is the wavelength of the laser beam and NA is the numerical aperture of the objective lens of the optical system that irradiates the laser beam.
An optical information medium for recording or reproducing under the condition that 80 nm is satisfied, wherein the supporting substrate is a disk having a diameter of 60 to 135 mm, the radial warp angle is R-Skew, and the circumferential warp angle is When T-Skew is used, it should be stored under a constant temperature environment of 60 ° C for 12 hours at 20% RH and for 8 hours.
A humidity cycle of performing high humidity storage of 12% RH for 12 hours is repeated, and the rate of increase in humidity at the time of transition from the normal humidity storage to the high humidity storage and the high humidity storage to the normal humidity storage. Humidity decrease rate when shifting to 1
An optical information medium having | R-Skew | ≦ 0.4 deg and | T-Skew | ≦ 0.15 deg both before and after the humidity cycle test with 0% / hour. (15) An information recording layer is provided on a disc-shaped supporting substrate, and a light transmitting layer is provided on the information recording layer. A laser beam for recording or reproduction is incident on the information recording layer through the light transmitting layer. Λ / NA ≦ 6, where λ is the wavelength of the laser beam and NA is the numerical aperture of the objective lens of the optical system that irradiates the laser beam.
An optical information medium for recording or reproducing under the condition that 80 nm is satisfied, wherein the supporting substrate is a disk having a diameter of 60 to 135 mm, the radial warp angle is R-Skew, and the circumferential warp angle is When T-Skew is used, a temperature cycle of 1 hour storage in a -20 ° C environment and 1 hour storage in a 70 ° C dry environment is repeated 50 times before and after a thermal shock test. An optical information medium having -Skew | ≤0.4 deg and | T-Skew | ≤0.15 deg. (16) The optical information medium according to any one of (1) to (9), which is the optical information medium according to any one of (10) to (15).

【0013】[0013]

【作用および効果】本発明では、厚さ100μm前後の
光透過層を通してレーザービームを情報記録層に照射す
ることにより情報の再生が行われる光情報媒体におい
て、25℃における光透過層の動的弾性率を、所定範囲
内の値とする。これにより、媒体の反りが小さくなり、
しかも、光透過層表面が傷つきやすくなることもない。
In the present invention, in the optical information medium in which information is reproduced by irradiating the information recording layer with a laser beam through the light transmitting layer having a thickness of about 100 μm, the dynamic elasticity of the light transmitting layer at 25 ° C. The rate is a value within a predetermined range. This reduces the warp of the medium,
Moreover, the surface of the light transmitting layer is not easily scratched.

【0014】また、本発明の好ましい態様では、80℃
における光透過層の動的弾性率を、所定範囲内の値とす
る。これにより、高温・高湿条件下で保存しても、媒体
の反りが著しく大きくなることはない。
In a preferred embodiment of the present invention, 80 ° C.
The dynamic elastic modulus of the light transmitting layer at is a value within a predetermined range. As a result, even if the medium is stored under high temperature and high humidity conditions, the warp of the medium does not significantly increase.

【0015】また、本発明の好ましい態様では、光透過
層の25℃における引張弾性率を、所定範囲内の値とす
る。これにより、媒体の反りがさらに減少し、しかも、
光透過層表面がさらに傷つきにくくなる。
Further, in a preferred embodiment of the present invention, the tensile elastic modulus at 25 ° C. of the light transmitting layer is set to a value within a predetermined range. This further reduces the warpage of the medium, and
The surface of the light transmission layer becomes more difficult to be damaged.

【0016】また、本発明の好ましい態様では、光透過
層のガラス転移点を、所定範囲内の値とする。これによ
り、媒体の反りがさらに減少し、しかも、光透過層表面
がさらに傷つきにくくなる。
Further, in a preferred aspect of the present invention, the glass transition point of the light transmitting layer is set to a value within a predetermined range. As a result, the warp of the medium is further reduced, and the surface of the light transmission layer is further hard to be damaged.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】本発明の光情報媒体の構成例を、
図1に示す。この光情報媒体は記録媒体であり、支持基
体20上に、情報記録層として記録層4を有し、この記
録層4上に光透過層2を有する。記録または再生のため
のレーザービームは、光透過層2を通して入射する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A configuration example of an optical information medium of the present invention,
As shown in FIG. This optical information medium is a recording medium, and has a recording layer 4 as an information recording layer on a support base 20, and a light transmission layer 2 on this recording layer 4. A laser beam for recording or reproduction enters through the light transmitting layer 2.

【0018】本発明は、記録層の種類によらず適用でき
る。すなわち、例えば、相変化型記録媒体であっても、
ピット形成タイプの記録媒体であっても、光磁気記録媒
体であっても適用できる。なお、通常は、記録層の少な
くとも一方の側に、記録層の保護や光学的効果を目的と
して誘電体層や反射層が設けられるが、図1では図示を
省略してある。また、本発明は、図示するような記録可
能タイプに限らず、再生専用タイプにも適用可能であ
る。その場合、ピットを一体的に設けた支持基体20を
用い、その上に金属膜、半金属膜、誘電体多層膜などか
らなる反射層を設けて、この反射層に前記ピットの形状
を転写させる。この場合、反射層が情報記録層を構成す
ることになる。
The present invention can be applied regardless of the type of recording layer. That is, for example, even if it is a phase change recording medium,
It can be applied to both a pit formation type recording medium and a magneto-optical recording medium. Incidentally, a dielectric layer or a reflective layer is usually provided on at least one side of the recording layer for the purpose of protecting the recording layer and optical effects, but it is omitted in FIG. Further, the present invention is applicable not only to the recordable type shown in the drawing but also to the read-only type. In that case, a supporting substrate 20 having pits integrally formed thereon is used, and a reflecting layer made of a metal film, a semi-metal film, a dielectric multilayer film or the like is provided thereon, and the shape of the pits is transferred to this reflecting layer. . In this case, the reflective layer constitutes the information recording layer.

【0019】次に、本発明の媒体各部の具体的構成を説
明する。
Next, the specific structure of each part of the medium of the present invention will be described.

【0020】支持基体20は、媒体の剛性を維持するた
めに設けられる。支持基体20の厚さは、通常、0.2
〜1.2mm、好ましくは0.4〜1.2mmとすればよ
く、透明であっても不透明であってもよい。支持基体2
0は、通常の光記録媒体と同様に樹脂から構成すればよ
いが、ガラスから構成してもよい。光記録媒体において
通常設けられるグルーブ(案内溝)21は、図示するよ
うに、支持基体20に設けた溝を、その上に形成される
各層に転写することにより、形成できる。グルーブ21
は、記録再生光入射側から見て手前側に存在する領域で
あり、隣り合うグルーブ間に存在する領域はランドと呼
ばれる。
The support substrate 20 is provided to maintain the rigidity of the medium. The thickness of the supporting substrate 20 is usually 0.2.
˜1.2 mm, preferably 0.4 to 1.2 mm, and it may be transparent or opaque. Support base 2
0 may be made of resin as in the ordinary optical recording medium, but may be made of glass. The groove (guide groove) 21 usually provided in the optical recording medium can be formed by transferring the groove provided in the supporting substrate 20 to each layer formed thereon, as shown in the figure. Groove 21
Is an area existing on the front side when viewed from the recording / reproducing light incident side, and an area existing between adjacent grooves is called a land.

【0021】光透過層2は、レーザービームを透過する
ために透光性を有する。本発明における光透過層2の厚
さは、好ましくは30〜200μm、より好ましくは5
0μm超200μm以下、さらに好ましくは70〜150
μmである。光透過層が薄すぎると、光透過層表面に付
着した塵埃による光学的な影響が大きくなる。また、高
NA化により光ピックアップと媒体との距離が小さくな
って光ピックアップが媒体表面と接触しやすくなるが、
光透過層が薄いと光ピックアップの接触に対して十分な
保護効果が得られなくなる。一方、光透過層が厚すぎる
と、高NA化による高記録密度達成が難しくなる。な
お、光透過層が厚いと、光透過層を形成する際の硬化に
よる収縮が大きくなり、その結果、媒体の反りが大きく
なる。しかし、本発明における光透過層は、動的弾性率
が小さいため、50μm超、さらには70μm以上と比較
的厚い光透過層であっても、硬化時に生じる反りが小さ
く、しかも、生じた反りが経時的に緩和される。その結
果、従来になく反りの小さい媒体が得られる。
The light transmitting layer 2 has a light transmitting property for transmitting a laser beam. The thickness of the light transmitting layer 2 in the present invention is preferably 30 to 200 μm, more preferably 5
More than 0 μm and 200 μm or less, more preferably 70 to 150
μm. If the light transmitting layer is too thin, the optical influence of dust adhering to the surface of the light transmitting layer becomes large. Also, due to the higher NA, the distance between the optical pickup and the medium becomes smaller, and the optical pickup easily contacts the medium surface.
If the light transmission layer is thin, a sufficient protection effect cannot be obtained against the contact of the optical pickup. On the other hand, if the light transmission layer is too thick, it becomes difficult to achieve a high recording density by increasing the NA. If the light transmission layer is thick, the shrinkage due to curing during formation of the light transmission layer becomes large, and as a result, the warp of the medium becomes large. However, since the light transmission layer in the present invention has a small dynamic elastic modulus, even if it is a relatively thick light transmission layer having a thickness of more than 50 μm, or even 70 μm or more, the warp that occurs during curing is small and the warp that occurs is small. Relaxed over time. As a result, it is possible to obtain a medium with less warpage than ever before.

【0022】光透過層2は、25℃における動的弾性率
が1.5〜3.0GPa、好ましくは1.8〜2.8GPaで
ある。25℃における動的弾性率が小さすぎると、光透
過層表面が傷つきやすくなる。一方、25℃における動
的弾性率が大きすぎると、媒体の反りが大きくなってし
まう。
The light transmission layer 2 has a dynamic elastic modulus at 25 ° C. of 1.5 to 3.0 GPa, preferably 1.8 to 2.8 GPa. If the dynamic elastic modulus at 25 ° C. is too small, the surface of the light transmitting layer is likely to be damaged. On the other hand, if the dynamic elastic modulus at 25 ° C. is too large, the warp of the medium becomes large.

【0023】光透過層2は、80℃における動的弾性率
が好ましくは0.05〜1.0GPaであり、より好まし
くは0.1〜0.9GPaである。80℃における動的弾
性率が小さすぎると、高温・高湿条件下での保存の際に
光透過層表面が傷つきやすくなる。一方、80℃におけ
る動的弾性率が大きすぎると、高温・高湿条件下での保
存により媒体の反りが大きくなってしまう。
The light transmission layer 2 has a dynamic elastic modulus at 80 ° C. of preferably 0.05 to 1.0 GPa, more preferably 0.1 to 0.9 GPa. If the dynamic elastic modulus at 80 ° C. is too small, the surface of the light transmission layer is likely to be damaged during storage under high temperature and high humidity conditions. On the other hand, if the dynamic elastic modulus at 80 ° C. is too large, the warp of the medium becomes large due to storage under high temperature and high humidity conditions.

【0024】光透過層2は、25℃における引張弾性率
が好ましくは0.6〜1.5GPaであり、より好ましく
は0.8〜1.4GPaである。25℃における引張弾性
率が小さすぎると、光透過層表面が傷つきやすくなる。
一方、25℃における引張弾性率が大きすぎると、媒体
の反りが大きくなってしまう。
The tensile modulus of the light transmitting layer 2 at 25 ° C. is preferably 0.6 to 1.5 GPa, more preferably 0.8 to 1.4 GPa. If the tensile elastic modulus at 25 ° C. is too low, the surface of the light transmitting layer is likely to be damaged.
On the other hand, if the tensile modulus at 25 ° C. is too large, the warp of the medium becomes large.

【0025】光透過層2は、ガラス転移点が好ましくは
70〜140℃、より好ましくは80〜130℃であ
る。光透過層2が放射線硬化型樹脂や熱硬化型樹脂から
構成される場合、ガラス転移点が高い場合には硬化時の
収縮が大きくなるため、媒体の反りが大きくなってしま
う。これに対し、光透過層2のガラス転移点が低すぎる
と、光透過層表面が傷つきやすくなる。また、ガラス転
移点が低いと、高温環境下で保存したときに媒体の反り
が大きくなりやすい。その理由は以下の通りである。媒
体には、反射層、記録層、誘電体層などの薄膜がスパッ
タ法によって形成されており、これらの薄膜による応力
が存在する。また、媒体には、光透過層2に起因する応
力も存在する。媒体の反りは、これらの応力のバランス
によって決定される。一方、光透過層2のガラス転移点
が低いと、媒体を高温で保存したときに光透過層2が柔
らかくなる。そのため、常温において反りが小さかった
場合でも、光透過層2が軟化して応力のバランスが崩れ
ると、媒体の反りが増大してしまうことになる。
The light transmission layer 2 has a glass transition point of preferably 70 to 140 ° C, more preferably 80 to 130 ° C. When the light transmitting layer 2 is made of a radiation curable resin or a thermosetting resin, when the glass transition point is high, the shrinkage at the time of curing becomes large, and thus the warp of the medium becomes large. On the other hand, if the glass transition point of the light transmitting layer 2 is too low, the surface of the light transmitting layer is likely to be damaged. If the glass transition point is low, the medium tends to warp greatly when stored in a high temperature environment. The reason is as follows. Thin films such as a reflective layer, a recording layer, and a dielectric layer are formed on the medium by a sputtering method, and stress due to these thin films exists. Further, the medium also has a stress due to the light transmitting layer 2. Media warpage is determined by the balance of these stresses. On the other hand, when the glass transition point of the light transmitting layer 2 is low, the light transmitting layer 2 becomes soft when the medium is stored at high temperature. Therefore, even if the warp is small at room temperature, if the light transmission layer 2 is softened and the stress balance is lost, the warp of the medium is increased.

【0026】なお、本明細書における引張弾性率は、JI
S K7127-1989において規定されたものである。測定に際
しては、 試験片の長さ:60mm、 試験片の幅:10mm、 標線間距離:40±1mm、 掴み具間距離:44±1mm、 引張速度:30mm/min とし、そのほかの測定条件はJIS K7127-1989の規定に従
えばよい。これらの条件をJIS K7127-1989と異なるもの
とするのは、媒体から剥離した光透過層で測定できるよ
うに、媒体(光ディスク)の寸法(通常、直径12cm程
度)を考慮したためである。
The tensile modulus in this specification is JI.
It is defined in S K7127-1989. At the time of measurement, the length of the test piece: 60 mm, the width of the test piece: 10 mm, the distance between the marked lines: 40 ± 1 mm, the distance between the grips: 44 ± 1 mm, the pulling speed: 30 mm / min, and other measurement conditions It suffices to comply with JIS K7127-1989. The reason why these conditions are different from JIS K7127-1989 is that the size of the medium (optical disk) (usually, about 12 cm) is taken into consideration so that the light transmission layer separated from the medium can be measured.

【0027】本明細書における動的弾性率は、JIS K724
4-4において規定された動的貯蔵弾性率である。測定に
際しては、周波数を3.5Hz、昇温速度を3℃/分と
し、試験片の平面寸法を50mm×4mmとするほかは、JI
S K7244-4の規定に従えばよい。また、ガラス転移点
は、動的弾性率測定の際に同時に測定することができ
る。
The dynamic elastic modulus in this specification is JIS K724.
It is the dynamic storage modulus specified in 4-4. In the measurement, the frequency was 3.5 Hz, the heating rate was 3 ° C / min, and the plane dimension of the test piece was 50 mm × 4 mm.
The rules of S K7244-4 should be followed. Further, the glass transition point can be measured at the same time when the dynamic elastic modulus is measured.

【0028】このように、光記録層において、室温およ
び高温のそれぞれにおける動的弾性率、室温における引
張弾性率およびガラス転移点をそれぞれ上記範囲内とす
ることにより、製造直後における媒体の反りを小さくで
き、かつ、高温・高湿環境下での保存による反り増大を
抑えることができる。
As described above, by setting the dynamic elastic modulus at room temperature and high temperature, the tensile elastic modulus at room temperature, and the glass transition point in the above ranges in the optical recording layer, the warpage of the medium immediately after production is reduced. In addition, it is possible to suppress an increase in warpage due to storage in a high temperature and high humidity environment.

【0029】なお、記録または再生のためのレーザービ
ームの波長をλ、レーザービームを照射するための光学
系の対物レンズの開口数をNAとしたとき、 λ/NA≦680nm である装置により記録または再生が行われる媒体に適用
したときに、本発明は特に有効である。λ/NAが小さ
いとは、比較的短波長の記録・再生光を、比較的高NA
の対物レンズを用いて照射することを意味し、その場
合、情報記録層表面に合焦したレーザービームのビーム
スポット径が小さくなる。その場合、前述したように媒
体のチルトマージンが小さくなり、また、コマ収差が大
きくなる。その結果、媒体の反りの許容量が小さくな
る。したがって、λ/NAが上記のように小さい場合に
本発明は特に有効である。なお、 400nm≦λ/NA の範囲において良好な記録・再生特性を実現できれば、
一般的には十分である。
When the wavelength of the laser beam for recording or reproduction is λ, and the numerical aperture of the objective lens of the optical system for irradiating the laser beam is NA, recording or recording is performed by an apparatus satisfying λ / NA ≦ 680 nm. The present invention is particularly effective when applied to a medium on which reproduction is performed. A small λ / NA means that recording / reproducing light of a relatively short wavelength is relatively high in NA.
It means that irradiation is performed by using the objective lens, and in that case, the beam spot diameter of the laser beam focused on the surface of the information recording layer becomes small. In that case, as described above, the tilt margin of the medium becomes small and the coma becomes large. As a result, the allowable amount of warp of the medium becomes small. Therefore, the present invention is particularly effective when λ / NA is small as described above. If good recording / reproducing characteristics can be realized in the range of 400 nm ≦ λ / NA,
Generally sufficient.

【0030】本発明は、光透過層の物性を前記範囲内と
することを特徴とし、これにより上記した各種効果が実
現する。したがって、光透過層を構成する樹脂の具体的
構成および光透過層の形成方法は特に限定されない。例
えば、樹脂ないし硬化後に樹脂となる組成物を塗布し、
必要に応じて硬化する方法や、あらかじめ作製した樹脂
シートを、紫外線硬化型接着剤や粘着剤等で貼付する方
法などのいずれを用いてもよい。ただし、動的弾性率、
引張弾性率およびガラス転移点が本発明で限定する範囲
内である光透過層を得るためには、放射線硬化型組成物
をスピンコート法により塗布し、その後、放射線により
硬化することによって光透過層を形成する方法が好まし
い。なお、本明細書において放射線とは、紫外線等の電
磁波および電子線等の粒子線を包含する概念である。
The present invention is characterized in that the physical properties of the light transmitting layer are within the above range, and thereby the above-mentioned various effects are realized. Therefore, the specific configuration of the resin forming the light transmitting layer and the method of forming the light transmitting layer are not particularly limited. For example, applying a resin or a composition that becomes a resin after curing,
Any method may be used, such as a method of curing as necessary, or a method of attaching a resin sheet prepared in advance with an ultraviolet-curable adhesive or pressure-sensitive adhesive. However, the dynamic elastic modulus,
In order to obtain a light-transmitting layer having a tensile elastic modulus and a glass transition point within the ranges defined by the present invention, a radiation-curable composition is applied by a spin coating method and then cured by radiation to form a light-transmitting layer. Is preferred. In this specification, radiation is a concept including electromagnetic waves such as ultraviolet rays and particle beams such as electron beams.

【0031】放射線硬化型組成物には、通常、それぞれ
単官能または多官能のモノマー、オリゴマーおよびポリ
マーの少なくとも1種が含有され、さらに、光重合開始
剤(反応開始剤)、光重合開始助剤、重合禁止剤等が含
有される。このような組成物は、例えば前記特開平8−
194968号公報に記載された高密度光ディスク用保
護コート剤の構成材料から選択することができる。
The radiation-curable composition usually contains at least one of monofunctional or polyfunctional monomers, oligomers and polymers, and further contains a photopolymerization initiator (reaction initiator) and a photopolymerization initiation auxiliary. , A polymerization inhibitor, etc. are contained. Such a composition is disclosed, for example, in the above-mentioned JP-A-8-
It can be selected from the constituent materials of the protective coating agent for high density optical discs described in Japanese Patent No. 194968.

【0032】本発明で用いる組成物としては、両端に官
能基を有する線状の2官能オリゴマーと、単官能モノマ
ーとを少なくとも含有するものが好ましい。上記2官能
オリゴマーの含有量が多すぎたり、2官能オリゴマーの
分子量が大きすぎると、硬化後の動的弾性率および引張
弾性率が小さくなってしまう。また、単官能モノマーの
添加により、光透過層とそれが形成される面との間の接
着性が向上する。ただし、単官能モノマーの添加量が多
すぎると、硬化後の動的弾性率および引張弾性率が小さ
くなってしまう。
The composition used in the present invention is preferably a composition containing at least a linear bifunctional oligomer having functional groups at both ends and a monofunctional monomer. If the content of the bifunctional oligomer is too large or the molecular weight of the bifunctional oligomer is too large, the dynamic elastic modulus and tensile elastic modulus after curing become small. In addition, the addition of the monofunctional monomer improves the adhesion between the light transmission layer and the surface on which it is formed. However, if the addition amount of the monofunctional monomer is too large, the dynamic elastic modulus and the tensile elastic modulus after curing become small.

【0033】また、ガラス転移点、動的弾性率および引
張弾性率を高くするために、3官能モノマーを少量添加
してもよい。また、分子中に環状骨格を有するモノマー
および/またはオリゴマーを添加すれば、硬化時の収縮
率を増大させることなく動的弾性率および引張弾性率を
向上させることが可能である。
A small amount of a trifunctional monomer may be added to increase the glass transition point, dynamic elastic modulus and tensile elastic modulus. Further, by adding a monomer and / or oligomer having a cyclic skeleton in the molecule, it is possible to improve the dynamic elastic modulus and the tensile elastic modulus without increasing the shrinkage rate during curing.

【0034】したがって、本発明において要求される光
透過層の物性に応じ、光透過層形成に用いるモノマーお
よびオリゴマーの種類、その分子量、その含有量を適宜
選択すればよい。本発明において好ましく用いられる組
成物は、市販のものから選択することもできる。
Therefore, depending on the physical properties of the light transmitting layer required in the present invention, the types of monomers and oligomers used for forming the light transmitting layer, their molecular weights, and their contents may be appropriately selected. The composition preferably used in the present invention can be selected from commercially available products.

【0035】放射線硬化型組成物に用いるオリゴマーや
モノマーとしては、例えば以下のものが挙げられる。
Examples of the oligomer or monomer used in the radiation-curable composition include the followings.

【0036】2官能オリゴマーとしては、ポリエステル
アクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリ
レートが挙げられる。ポリエステルアクリレートとして
は、東亜合成化学工業(株)製のアロニックスM−620
0、アロニックスM−6400X、アロニックスM−6410X、
アロニックスM−6420Xが挙げられる。エポキシアクリ
レートとしては、昭和高分子(株)製のリポキシSP−15
06、リポキシSP−1509、リポキシSP−1519−1、リポキ
シSP−1563、リポキシVR−77、リポキシVR−60、リポキ
シVR−90;大坂有機化学工業(株)製のビスコート54
0;日本化薬(株)製のカヤラッドR−167;共栄社油脂
(株)製のエポキシエステル3002A、エポキシエステル3
002M、エポキシエステル80MFA;長瀬産業(株)製のナ
デコールDM−851、ナデコールDA−811、ナデコールDM−
811、ナデコールDA−721、ナデコールDA−911が挙げら
れる。ウレタンアクリレートとしては、根上工業(株)
製のアートレンジUN−1000PEP、アートレンジUN−9000P
EP、アートレンジUN−9200A、アートレンジUN−2500、
アートレンジUN−5200、アートレンジUN−llO2、アート
レンジUN−380G、アートレンジUN−500、アートレンジU
N−9832;東亜合成(株)製のアロニックスM−1200;サ
ートマー社製のケムリンク9503、ケムリンク9504、ケム
リンク9505が挙げられる。
Examples of the bifunctional oligomer include polyester acrylate, epoxy acrylate and urethane acrylate. As polyester acrylate, Aronix M-620 manufactured by Toagosei Chemical Industry Co., Ltd.
0, Aronix M-6400X, Aronix M-6410X,
Aronix M-6420X is mentioned. As epoxy acrylate, Showa High Polymer Co., Ltd. Lipoxy SP-15
06, Lipoxy SP-1509, Lipoxy SP-1519-1, Lipoxy SP-1563, Lipoxy VR-77, Lipoxy VR-60, Lipoxy VR-90; Viscoat 54 manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.
0: Kayarad R-167 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .; Epoxy ester 3002A, Epoxy ester 3 manufactured by Kyoeisha Yushi Co., Ltd.
002M, epoxy ester 80MFA; Nadecor DM-851, Nadecor DA-811 and Nadecol DM- manufactured by Nagase & Co., Ltd.
Examples include 811, Nadecor DA-721, and Nadecor DA-911. As a urethane acrylate, Negami Industry Co., Ltd.
Art range UN-1000PEP, Art range UN-9000P
EP, Art Range UN-9200A, Art Range UN-2500,
Art Range UN-5200, Art Range UN-llO2, Art Range UN-380G, Art Range UN-500, Art Range U
N-9832; Aronix M-1200 manufactured by Toagosei Co., Ltd .; Chemlink 9503, Chemlink 9504, Chemlink 9505 manufactured by Sartomer.

【0037】単官能モノマーとしては、べンジルアクリ
レート、ベンジルメタクリレート、ブトキシエチルアク
リレート、ブトキシエチルメタクリレート、ブタンジオ
ールモノアクリレート、シクロへキシルアクリレート、
シクロヘキシルメタクリレート、ジシクロペンタニルア
クリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、脂環
式変性ネオペンチルグリコールアクリレート、ジシクロ
ペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニロキシエチ
ルアクリレート、ジシクロペンテニロキシエチルメタア
クリレート、2−エトキシエチルアクリレート、2−エ
トキシエチルメタクリレート、2−エチルヘキシルアク
リレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、グリシ
ジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、2−ヒ
ドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメ
タクリレート、2−ヒロソキシプロピルアクリレート、
2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、イソボルニル
アクリレート、イソボルニルメタクリレート、イソデシ
ルアクリレート、イソデシルメタクリレート、イソオク
チルアクリレート、イソオクチルメタクリレート、ラウ
リルアクリレート、ラウリルメタクリレート、2−メト
キシエチルアクリレート、メトキシジエチレングリコー
ルメタクリレート、メトキシエチレングリコールアクリ
レート、モルフォリンアクリレート、フェノキシヒドロ
キシプロピルアクリレート、フィノキシエチルアクリレ
ート、フェノキシエチルメタクリレート、フェノキシジ
エチレングリコールアクリレート、EO変性フタル酸ア
クリレート、EO変性フタル酸メタクリレート、ステア
リルアクリレート、ステアリルメタクリレート、テトラ
ヒドロフルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリ
ルメタクリレート、ビニルアセテート、N−ビニルピロ
リドンが挙げられる。
As the monofunctional monomer, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, butoxyethyl acrylate, butoxyethyl methacrylate, butanediol monoacrylate, cyclohexyl acrylate,
Cyclohexyl methacrylate, dicyclopentanyl acrylate, dicyclopentanyl methacrylate, alicyclic modified neopentyl glycol acrylate, dicyclopentenyl acrylate, dicyclopentenyloxyethyl acrylate, dicyclopentenyloxyethyl methacrylate, 2-ethoxyethyl Acrylate, 2-ethoxyethyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate,
2-hydroxypropyl methacrylate, isobornyl acrylate, isobornyl methacrylate, isodecyl acrylate, isodecyl methacrylate, isooctyl acrylate, isooctyl methacrylate, lauryl acrylate, lauryl methacrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxydiethylene glycol methacrylate, methoxyethylene Glycol acrylate, morpholine acrylate, phenoxyhydroxypropyl acrylate, phenoxyethyl acrylate, phenoxyethyl methacrylate, phenoxydiethylene glycol acrylate, EO-modified phthalate acrylate, EO-modified phthalate methacrylate, stearyl acrylate, stearyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl Acrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, vinyl acetate, include N- vinylpyrrolidone.

【0038】本発明で好ましく用いられる放射線硬化型
組成物は、粘度が比較的高く、具体的には、25℃にお
ける粘度が2000〜20000mPa・sであり、好まし
くは3000〜15000mPa・sである。これに対し上
記特開平8−194968号公報には、組成物の25℃
における好ましい粘度として5〜300cP(5〜300
mPa・s)の範囲が開示されている。
The radiation-curable composition preferably used in the present invention has a relatively high viscosity, specifically, the viscosity at 25 ° C. is 2000 to 20000 mPa · s, preferably 3000 to 15000 mPa · s. On the other hand, in JP-A-8-19496, the composition of 25 ° C.
The preferred viscosity is 5 to 300 cP (5 to 300
The range of mPa · s) is disclosed.

【0039】本発明で用いる放射硬化型組成物は、硬化
時の収縮率が7%以下、特に6%以下であることが好ま
しい。動的弾性率、引張弾性率およびガラス転移点が本
発明で限定する範囲内にある硬化物であれば、硬化時の
収縮率をこのように小さくすることが可能である。ただ
し、硬化時の収縮率を極端に小さくする必要はなく、通
常、収縮率を4%未満とする必要はない。
The radiation-curable composition used in the present invention preferably has a shrinkage ratio at the time of curing of 7% or less, particularly 6% or less. If the cured product has a dynamic elastic modulus, a tensile elastic modulus and a glass transition point within the ranges defined by the present invention, it is possible to reduce the shrinkage ratio during curing in this way. However, it is not necessary to make the shrinkage ratio upon curing extremely small, and it is usually not necessary to make the shrinkage ratio less than 4%.

【0040】なお、上記特開平8−194968号公報
には、光ディスクの保護コートを引張破壊伸び15%以
上とすることにより、高温・高湿環境下での保存による
光ディスクの反り発生を抑制できる旨が記載されてい
る。しかし、上記したように、同公報記載の保護コート
形成用組成物と本発明で用いる組成物とは粘度が異なる
ため、同公報記載の組成物を硬化して形成される光透過
層は、本発明における光透過層の物性を備えるとは考え
られない。しかも、同公報には、記録部の腐食を防止す
るために、厚さ1〜50μmの保護コートを設ける旨の
記載があるだけであり、保護コートを通して記録光およ
び再生光が入射する旨の記載はない。したがって同公報
では、厚さ100μm前後の薄い光透過層を通して短波
長の記録・再生ビームを入射させることによって高密度
記録を行うことは、いっさい考慮されていない。また、
同公報に記載されたような低粘度の組成物を用いると、
50μmを超える厚さの光透過層を形成することは実質
的に不可能である。
It should be noted that, in the above-mentioned JP-A-8-194968, it is possible to suppress warpage of the optical disk due to storage in a high temperature and high humidity environment by setting the protective coating of the optical disk to have a tensile breaking elongation of 15% or more. Is listed. However, as described above, since the composition for forming a protective coat described in the publication and the composition used in the present invention have different viscosities, the light transmission layer formed by curing the composition described in the publication is It is not considered to have the physical properties of the light transmitting layer in the invention. Moreover, the publication only mentions that a protective coat having a thickness of 1 to 50 μm is provided to prevent corrosion of the recording portion, and that the recording light and the reproducing light are incident through the protective coat. There is no. Therefore, the publication does not consider high-density recording by injecting a recording / reproducing beam having a short wavelength through a thin light transmitting layer having a thickness of about 100 μm. Also,
When a low-viscosity composition as described in the publication is used,
It is virtually impossible to form a light transmission layer having a thickness of more than 50 μm.

【0041】同公報の実施例では、厚さ0.5mmのポリ
カーボネート板に50μmの厚さとなるように組成物を
塗布して硬化し、硬化直後(25℃、50%RH、1時
間後)および耐久性試験後(85℃、90%RH、3日
後)において反りの程度を評価している。ただし、同公
報の実施例では反りの大小を相対的に評価しているだけ
であり、反りの定量的な評価はなされていない。
In the example of the publication, the composition was applied to a polycarbonate plate having a thickness of 0.5 mm so as to have a thickness of 50 μm and cured, and immediately after curing (25 ° C., 50% RH, after 1 hour) and The degree of warpage is evaluated after the durability test (85 ° C., 90% RH, after 3 days). However, in the example of the publication, only the magnitude of the warp is relatively evaluated, and the warp is not quantitatively evaluated.

【0042】本発明における光透過層は、2層以上の樹
脂層の積層体であってもよい。積層タイプとしては、例
えば、動的弾性率が比較的低い内部層上に、この内部層
よりも耐擦傷性の良好な表面層が積層され、この表面層
が光透過層の表面を構成する構造が挙げられる。この構
造では、表面層を内部層よりかなり薄くしても十分な耐
擦傷性が得られるため、表面層は薄くすることができ
る。そのため、表面層構成材料については、物性に関す
る要求は厳しくない。したがって、表面層構成材料は、
各種樹脂から耐擦傷性の良好なものを比較的自由に選択
できる。
The light transmitting layer in the present invention may be a laminate of two or more resin layers. As the laminated type, for example, a structure in which a surface layer having better scratch resistance than the inner layer is laminated on the inner layer having a relatively low dynamic elastic modulus, and the surface layer constitutes the surface of the light transmitting layer. Is mentioned. In this structure, even if the surface layer is considerably thinner than the inner layer, sufficient scratch resistance can be obtained, so that the surface layer can be thinned. Therefore, the requirements for the physical properties of the surface layer constituent material are not strict. Therefore, the surface layer constituent material is
It is possible to relatively freely select a resin having good scratch resistance from various resins.

【0043】この構造における内部層および表面層は、
上記した放射線硬化型組成物の硬化物であることが好ま
しい。内部層の形成に用いる組成物については、上記し
たように、硬化後の動的弾性率が低くなるように組成を
選択する。一方、表面層の形成に用いる組成物では、多
官能オリゴマーおよび/または多官能モノマーの比率を
比較的高くすることが好ましい。これにより、表面層の
硬度を高くすることができる。また、単官能モノマーの
比率を比較的高くすれば、表面層と内部層との間の接着
性が向上する。
The inner layer and surface layer in this structure are
It is preferably a cured product of the radiation curable composition described above. As for the composition used for forming the internal layer, as described above, the composition is selected so that the dynamic elastic modulus after curing becomes low. On the other hand, in the composition used for forming the surface layer, it is preferable that the ratio of the polyfunctional oligomer and / or the polyfunctional monomer is relatively high. Thereby, the hardness of the surface layer can be increased. Further, when the ratio of the monofunctional monomer is relatively high, the adhesiveness between the surface layer and the inner layer is improved.

【0044】表面層と内部層との2層構造とする場合、
表面層の厚さは、好ましくは0.1〜10μm、より好
ましくは0.3〜5μmである。表面層が薄すぎると、
保護効果が不十分となる。一方、表面層が厚すぎると、
光透過層全体の物性を本発明で限定する範囲内とするこ
とが困難となる。
When a two-layer structure including a surface layer and an inner layer is used,
The thickness of the surface layer is preferably 0.1 to 10 μm, more preferably 0.3 to 5 μm. If the surface layer is too thin,
Insufficient protection effect. On the other hand, if the surface layer is too thick,
It becomes difficult to set the physical properties of the entire light transmission layer within the range limited by the present invention.

【0045】なお、内部層を2層以上の多層構造として
もよい。
The inner layer may have a multi-layer structure of two or more layers.

【0046】光透過層を、放射線硬化型樹脂からなる多
層構造とする場合、通常、下側の層を形成するための組
成物を塗布して硬化した後、上側の層を形成するための
組成物を塗布して硬化する。ただし、下側の層と上側の
層との接着性を向上させるために、下側の層が半硬化状
態のときに上側の層を積層し、最終的に全層を完全に硬
化させる方法を利用してもよい。
When the light transmission layer has a multi-layer structure made of a radiation curable resin, it is usually a composition for forming an upper layer after coating and curing a composition for forming a lower layer. Apply and cure. However, in order to improve the adhesiveness between the lower layer and the upper layer, a method of laminating the upper layer when the lower layer is in a semi-cured state and finally completely curing all layers is proposed. You may use it.

【0047】光透過層は、記録または再生のためのレー
ザービームの透過率が80%以上であることが好まし
い。この透過率が低いと、記録の際に大きなレーザーパ
ワーが必要となり、好ましくない。光透過層の形成に用
いる放射線硬化型組成物が光重合開始剤等の反応開始剤
を含有する場合、この反応開始剤は、波長405nmにお
ける吸光係数が500以下、特に100以下であること
が好ましい。これにより、400nm付近の短波長域にお
ける光透過層の透過率を高くできるので、短波長レーザ
ーを使用する高密度記録・再生システムに好適となる。
なお、波長405nmにおける吸光係数が500以下であ
る反応開始剤としては、例えばベンゾフェノン、ジエト
キシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1
−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロ
ヘキシル−フェニルケトン、メチルベンゾイルホルメー
トが挙げられる。
The light transmission layer preferably has a transmittance of a laser beam for recording or reproduction of 80% or more. If this transmittance is low, a large laser power is required for recording, which is not preferable. When the radiation curable composition used for forming the light transmitting layer contains a reaction initiator such as a photopolymerization initiator, the reaction initiator preferably has an extinction coefficient of 500 or less, particularly 100 or less at a wavelength of 405 nm. . As a result, the transmittance of the light transmission layer in the short wavelength region around 400 nm can be increased, which is suitable for a high density recording / reproducing system using a short wavelength laser.
Examples of the reaction initiator having an absorption coefficient of 500 or less at a wavelength of 405 nm include benzophenone, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1.
-Phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl-phenyl ketone, methyl benzoyl formate.

【0048】本発明を適用した光透過層を有するディス
ク状媒体では、下記保存試験の前後のいずれにおいても
反りが小さい。ディスク状媒体における反り角は、媒体
の構成材料、媒体の直径、媒体の厚さに主として依存す
る。図1に示す構造の媒体において、支持基体20が厚
さ0.4〜1.2mm、直径60〜135mmの樹脂板から
構成される場合、本発明を適用すれば、下記保存試験の
前後における反り角を |R-Skew|≦0.4deg、 |T-Skew|≦0.15deg の範囲内に収めることが容易であり、 |R-Skew|≦0.35deg、 |T-Skew|≦0.14deg の範囲内に収めることも可能である。上記R-Skewは半径
方向の反り角であり、上記T-Skewは周方向の反り角であ
る。保存試験後の反り角の測定は、それぞれの保存試験
を行った後、25℃・50%RHの環境下に24時間放
置し、放置完了後、48時間以内に行う。なお、上記保
存試験とは、以下に挙げる6種類の試験のことである。
In the disk-shaped medium having the light transmitting layer to which the present invention is applied, the warp is small before and after the storage test described below. The warp angle of the disk-shaped medium mainly depends on the constituent material of the medium, the diameter of the medium, and the thickness of the medium. In the medium having the structure shown in FIG. 1, when the supporting substrate 20 is made of a resin plate having a thickness of 0.4 to 1.2 mm and a diameter of 60 to 135 mm, the present invention is applied to warp before and after the following storage test. It is easy to keep the angle within the range of | R-Skew | ≤0.4deg, | T-Skew | ≤0.15deg, and | R-Skew | ≤0.35deg, | T-Skew | ≤0. It is also possible to fit within the range of 14 deg. The R-Skew is a warp angle in the radial direction, and the T-Skew is a warp angle in the circumferential direction. The warp angle after the storage test is measured by leaving each storage test for 24 hours in an environment of 25 ° C. and 50% RH, and within 48 hours after the completion of the storage test. The above-mentioned storage test is the following six types of tests.

【0049】(1)高温・高湿保存試験 80℃・80%RHの環境下で50時間保存する。 (1) High-temperature / high-humidity storage test Stored in an environment of 80 ° C. and 80% RH for 50 hours.

【0050】(2)高温ドライ保存試験 80℃の乾燥環境下で50時間保存する。 (2) High temperature dry storage test Storage is carried out in a dry environment at 80 ° C. for 50 hours.

【0051】(3)低温保存試験 −25℃の環境下で50時間保存する。 (3) Low-temperature storage test Storage at −25 ° C. for 50 hours.

【0052】(4)温度サイクル試験 50%RHの恒湿環境下において、20℃で12時間保
存する常温保存と60℃で12時間保存する高温保存と
を行う温度サイクルを6サイクル繰り返し、かつ、前記
常温保存から前記高温保存に移行する際の昇温速度およ
び前記高温保存から前記常温保存に移行する際の降温速
度を10℃/時間とする。
(4) Temperature Cycle Test In a constant humidity environment of 50% RH, a temperature cycle of performing room temperature storage at 20 ° C. for 12 hours and high temperature storage at 60 ° C. for 12 hours was repeated 6 cycles, and The temperature rising rate at the time of shifting from the room temperature storage to the high temperature storage and the temperature falling rate at the time of shifting from the high temperature storage to the room temperature storage are 10 ° C./hour.

【0053】(5)湿度サイクル試験 60℃の恒温環境下において、20%RHで12時間保
存する常湿保存と80%RHで12時間保存する高湿保
存とを行う湿度サイクルを6サイクル繰り返し、かつ、
前記常湿保存から前記高湿保存に移行する際の湿度上昇
速度および前記高湿保存から前記常湿保存に移行する際
の湿度低下速度を10%/時間とする。
(5) Humidity Cycle Test In a constant temperature environment of 60 ° C., a humidity cycle of performing normal humidity storage of 20% RH for 12 hours and high humidity storage of 80% RH for 12 hours was repeated 6 cycles, And,
The humidity increasing rate at the time of shifting from the normal humidity storage to the high humidity storing and the humidity decreasing rate at the time of shifting from the high humidity storage to the normal humidity storage are 10% / hour.

【0054】(6)熱衝撃試験 −20℃の環境下で1時間保存した直後に、70℃のド
ライ環境下で1時間保存する温度サイクルを50サイク
ル繰り返す。
(6) Thermal shock test [0054] Immediately after storing for 1 hour in an environment of -20 ° C, a temperature cycle of storing for 1 hour in a dry environment of 70 ° C is repeated 50 times.

【0055】[0055]

【実施例】以下の手順で、表1に示す光記録ディスクサ
ンプルを作製した。
EXAMPLES The optical recording disk samples shown in Table 1 were prepared by the following procedure.

【0056】グルーブを形成したディスク状支持基体
(ポリカーボネート製、直径120mm、厚さ1.2mm)
の表面に、Al98Pd1Cu1(原子比)からなる反射層
をスパッタ法により形成した。グルーブ深さは、波長λ
=405nmにおける光路長で表してλ/6とした。ラン
ド・グルーブ記録方式における記録トラックピッチは、
0.3μmとした。
A disc-shaped support substrate having a groove (made of polycarbonate, diameter 120 mm, thickness 1.2 mm)
A reflecting layer made of Al 98 Pd 1 Cu 1 (atomic ratio) was formed on the surface of by using a sputtering method. The groove depth is the wavelength λ
The optical path length at 405 nm was set to λ / 6. The recording track pitch in the land / groove recording method is
It was 0.3 μm.

【0057】次いで、反射層表面に、Al23ターゲッ
トを用いてスパッタ法により厚さ20nmの第2誘電体層
を形成した。
Then, a second dielectric layer having a thickness of 20 nm was formed on the surface of the reflective layer by a sputtering method using an Al 2 O 3 target.

【0058】次いで、第2誘電体層表面に、相変化材料
からなる合金ターゲットを用い、スパッタ法により厚さ
12nmの記録層を形成した。記録層の組成(原子比)
は、Sb74Te18(Ge7In1)とした。
Next, a recording layer having a thickness of 12 nm was formed on the surface of the second dielectric layer by sputtering using an alloy target made of a phase change material. Recording layer composition (atomic ratio)
Was Sb 74 Te 18 (Ge 7 In 1 ).

【0059】次いで、記録層表面に、ZnS(80モル
%)−SiO2(20モル%)ターゲットを用いてスパ
ッタ法により厚さ130nmの第1誘電体層を形成した。
Then, a 130-nm-thick first dielectric layer was formed on the surface of the recording layer by a sputtering method using a ZnS (80 mol%)-SiO 2 (20 mol%) target.

【0060】次いで、第1誘電体層表面に、紫外線硬化
型樹脂をスピンコートにより塗布し、紫外線を照射する
ことにより厚さ100μmの光透過層を形成し、光記録
ディスクサンプルを得た。各サンプルに用いた紫外線硬
化型樹脂およびその25℃における粘度を、表1に示
す。なお、紫外線硬化型樹脂はいずれも日本化薬(株)
製である。また、全ての紫外線硬化型樹脂に対し、波長
405nmにおける吸光係数がゼロである反応開始剤(1
−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン:チバ・
スペシャルティ・ケミカルズ(株)のイルガキュア18
4)を用いた。
Then, an ultraviolet curable resin was applied on the surface of the first dielectric layer by spin coating, and a light transmitting layer having a thickness of 100 μm was formed by irradiating with ultraviolet rays to obtain an optical recording disk sample. The ultraviolet curable resin used for each sample and its viscosity at 25 ° C. are shown in Table 1. All UV curable resins are Nippon Kayaku Co., Ltd.
It is made. In addition, for all UV curable resins, reaction initiators (1
-Hydroxycyclohexyl-phenyl ketone: Ciba
Specialty Chemicals Co., Ltd. Irgacure 18
4) was used.

【0061】次いで、各サンプルの記録層をバルクイレ
ーザーにより初期化(結晶化)した。
Next, the recording layer of each sample was initialized (crystallized) by a bulk eraser.

【0062】各サンプルについて、(株)コアーズ製の
光ディスク機械特性評価装置DC-1010Cを用いて、半径方
向の反り角R-Skewおよび周方向の反り角T-Skewを測定し
た。また、80℃・80%RHの環境下で50時間保存
し、さらに、25℃・50%RHの環境下に24時間放
置した直後にも同様な測定を行った。これらの結果を表
1に示す。
With respect to each sample, the radial warp angle R-Skew and the circumferential warp angle T-Skew were measured using an optical disk mechanical property evaluation device DC-1010C manufactured by Cores Co., Ltd. Further, the same measurement was carried out immediately after the sample was stored in an environment of 80 ° C. and 80% RH for 50 hours and further left in the environment of 25 ° C. and 50% RH for 24 hours. The results are shown in Table 1.

【0063】また、スチールウール#0000を荷重24.
5kPaで押しつけながら各サンプルの光透過層表面で1
0往復させた後、光透過層表面の傷つき具合を調べるこ
とにより、耐摩耗性を評価した。結果を表1に示す。な
お、表1において、「最良」とは傷がほとんど認められ
ない場合であり、「良」とは傷つきが少ない場合であ
り、「やや不良」とは傷つきが多い場合であり、「不
良」とは傷つきが激しい場合である。
Further, steel wool # 0000 was loaded 24.
While pressing at 5 kPa, 1 on the surface of the light transmission layer of each sample
After reciprocating 0 times, the abrasion resistance was evaluated by examining the degree of scratches on the surface of the light transmitting layer. The results are shown in Table 1. In Table 1, "best" means that almost no scratches were observed, "good" means that there were few scratches, "somewhat bad" means that there were many scratches, and "bad". Is when the wound is severe.

【0064】また、各サンプルの光透過層の波長405
nmにおける透過率を、(株)島津製作所性の分光光度計
により測定した。結果を表1に示す。
The wavelength of the light transmission layer of each sample is 405.
The transmittance at nm was measured by a spectrophotometer manufactured by Shimadzu Corporation. The results are shown in Table 1.

【0065】各サンプルの光透過層について、25℃お
よび80℃のそれぞれにおける動的弾性率、25℃にお
ける引張弾性率およびガラス転移点Tgを、表1に示
す。
Table 1 shows the dynamic elastic modulus at 25 ° C. and 80 ° C., the tensile elastic modulus at 25 ° C. and the glass transition point Tg of the light transmitting layer of each sample.

【0066】なお、動的弾性率およびガラス転移点Tg
の測定に際しては、サンプルから光透過層をカッターナ
イフで平面寸法50mm×4mmの矩形に切り取って試験片
とし、この試験片を用いて、(株)オリエンテック社製
の動的粘弾性測定器レオバイブロン(Dynamic Viscoela
stometer RHEOVIBRON)Model-01FPにより測定した。こ
の測定は、本明細書で限定する前記条件にて行った。ま
た、引張弾性率の測定に際しては、平面寸法60mm×1
0mmの矩形となるように切り取った試験片を用いて、JI
S K7127-1989および本明細書で限定する前記測定条件に
基づき、(株)オリエンテック社製のTRM-100型テンシ
ロンにより測定した。なお、試験片を切り出す際には、
試験片に誘電体層、記録層、反射層等が付着しているこ
とがあったが、これらの層の付着は、動的弾性率および
引張弾性率の測定値に影響しなかった。
The dynamic elastic modulus and the glass transition point Tg
At the time of measurement, a light transmission layer was cut from the sample into a rectangle having a plane size of 50 mm × 4 mm with a cutter knife to prepare a test piece, and this test piece was used to make a rheovibron dynamic viscoelasticity measuring instrument manufactured by Orientec Co., Ltd. (Dynamic Viscoela
stometer RHEOVIBRON) Model-01FP. This measurement was carried out under the conditions defined herein. In addition, when measuring the tensile modulus, the plane dimension is 60 mm x 1
Using a test piece cut into a 0 mm rectangle, JI
Based on S K7127-1989 and the measurement conditions defined in this specification, the measurement was performed using TRM-100 type Tensilon manufactured by Orientec Co., Ltd. In addition, when cutting out the test piece,
There were cases where a dielectric layer, a recording layer, a reflective layer, etc. were attached to the test piece, but the attachment of these layers did not affect the measured values of the dynamic elastic modulus and the tensile elastic modulus.

【0067】[0067]

【表1】 [Table 1]

【0068】表1から本発明の効果が明らかである。す
なわち、光透過層の動的弾性率、引張弾性率およびガラ
ス転移点がいずれも本発明で限定する範囲内にあるサン
プルでは、製造直後および高温・高湿保存試験後のいず
れにおいても反り角が十分に小さい。
The effects of the present invention are clear from Table 1. That is, in the sample in which the dynamic elastic modulus of the light transmitting layer, the tensile elastic modulus and the glass transition point are all within the limits defined in the present invention, the warp angle is measured immediately after the production and after the high temperature and high humidity storage test. Small enough.

【0069】なお、引張弾性率および保存後の反り角が
記載されていない比較サンプルは、引張弾性率測定のた
めにサンプルをチャッキングする際、および、高温・高
湿保存試験の際に、光透過層にクラックが入ったり光透
過層が割れてしまったりしたものである。
The comparative sample in which the tensile elastic modulus and the warp angle after storage are not described is subjected to light exposure when chucking the sample for measuring the tensile elastic modulus and during the high temperature and high humidity storage test. The light transmitting layer is cracked or the light transmitting layer is broken.

【0070】なお、表1に示す各サンプルについて、前
記した高温ドライ保存試験、低温保存試験、温度サイク
ル試験、湿度サイクル試験および熱衝撃試験を行ったと
ころ、本発明サンプルでは、試験後の反り角がいずれの
場合でも |R-Skew|≦0.4deg、 |T-Skew|≦0.15deg の範囲に収まっていた。
The samples shown in Table 1 were subjected to the above-mentioned high temperature dry storage test, low temperature storage test, temperature cycle test, humidity cycle test and thermal shock test. In any case, it was within the range of | R-Skew | ≦ 0.4 deg and | T-Skew | ≦ 0.15 deg.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の光情報媒体の構成例を示す部分断面図
である。
FIG. 1 is a partial cross-sectional view showing a configuration example of an optical information medium of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 光透過層 20 支持基体 21 グルーブ 4 記録層 2 Light transmission layer 20 Support substrate 21 groove 4 recording layers

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G11B 7/24 G11B 7/24 535G 7/004 7/004 Z (72)発明者 丑田 智樹 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 Fターム(参考) 5D029 LA02 LB07 LC04 LC11 LC12 LC21 5D090 AA01 CC18 DD01 JJ01 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G11B 7/24 G11B 7/24 535G 7/004 7/004 Z (72) Inventor Tomoki Takita Chuo-ku, Tokyo Nihonbashi 1-chome 13-1 F-term in TDK Corporation (reference) 5D029 LA02 LB07 LC04 LC11 LC12 LC21 5D090 AA01 CC18 DD01 JJ01

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持基体上に情報記録層を有し、この情
報記録層上に光透過層を有し、この光透過層を通して記
録または再生のためのレーザービームが情報記録層に入
射するように使用される光情報媒体であって、 光透過層が樹脂から構成され、光透過層の25℃におけ
る動的弾性率が1.5〜3.0GPaである光情報媒体。
1. An information recording layer is provided on a supporting substrate, a light transmitting layer is provided on the information recording layer, and a laser beam for recording or reproducing is incident on the information recording layer through the light transmitting layer. The optical information medium used in 1., wherein the light transmitting layer is made of resin, and the dynamic elastic modulus of the light transmitting layer at 25 ° C. is 1.5 to 3.0 GPa.
【請求項2】 光透過層の80℃における動的弾性率が
0.05〜1.0GPaである請求項1の光情報媒体。
2. The optical information medium according to claim 1, wherein the dynamic elastic modulus of the light transmitting layer at 80 ° C. is 0.05 to 1.0 GPa.
【請求項3】 光透過層の25℃における引張弾性率が
0.6〜1.5GPaである請求項1または2の光情報媒
体。
3. The optical information medium according to claim 1, wherein the tensile modulus of elasticity of the light transmitting layer at 25 ° C. is 0.6 to 1.5 GPa.
【請求項4】 光透過層のガラス転移点が70〜140
℃である請求項1〜3のいずれかの光情報媒体。
4. The glass transition point of the light transmitting layer is 70 to 140.
The optical information medium according to any one of claims 1 to 3, which has a temperature of ° C.
【請求項5】 記録または再生のためのレーザービーム
の波長における光透過層の透過率が80%以上である請
求項1〜4のいずれかの光情報媒体。
5. The optical information medium according to claim 1, wherein the transmittance of the light transmission layer at the wavelength of the laser beam for recording or reproduction is 80% or more.
【請求項6】 光透過層が、放射線硬化型組成物の硬化
物を含有する請求項1〜5のいずれかの光情報媒体。
6. The optical information medium according to claim 1, wherein the light transmitting layer contains a cured product of a radiation curable composition.
【請求項7】 光透過層に、前記放射線硬化型組成物に
含まれていた反応開始剤が含有されており、この反応開
始剤の波長405nmにおける吸光係数が500以下であ
る請求項6の光情報媒体。
7. The light according to claim 6, wherein the light transmitting layer contains the reaction initiator contained in the radiation curable composition, and the absorption coefficient of the reaction initiator at a wavelength of 405 nm is 500 or less. Information medium.
【請求項8】 光透過層の厚さが30〜200μmであ
る請求項1〜7のいずれかの光情報媒体。
8. The optical information medium according to claim 1, wherein the thickness of the light transmitting layer is 30 to 200 μm.
【請求項9】 記録または再生のためのレーザービーム
の波長をλとし、前記レーザービームを照射する光学系
の対物レンズの開口数をNAとしたとき、λ/NA≦6
80nmが成立する条件で記録または再生が行われる請求
項1〜8のいずれかの光情報媒体。
9. When the wavelength of the laser beam for recording or reproduction is λ and the numerical aperture of the objective lens of the optical system for irradiating the laser beam is NA, λ / NA ≦ 6.
The optical information medium according to any one of claims 1 to 8, wherein recording or reproduction is performed under the condition that 80 nm is satisfied.
【請求項10】 支持基体上に情報記録層を有し、この
情報記録層上に光透過層を有し、この光透過層を通して
記録または再生のためのレーザービームが情報記録層に
入射するように使用され、前記レーザービームの波長を
λとし、前記レーザービームを照射する光学系の対物レ
ンズの開口数をNAとしたとき、λ/NA≦680nmが
成立する条件で記録または再生が行われる光情報媒体で
あって、 前記支持基体が直径60〜135mmのディスク状であ
り、 半径方向の反り角をR-Skewとし、周方向の反り角をT-Sk
ewとしたとき、 80℃・80%RHの環境下で50時間保存する高温・
高湿保存試験の前後のいずれにおいても、 |R-Skew|≦0.4deg、 |T-Skew|≦0.15deg である光情報媒体。
10. An information recording layer is provided on a supporting substrate, a light transmitting layer is provided on the information recording layer, and a laser beam for recording or reproducing is incident on the information recording layer through the light transmitting layer. And a wavelength of the laser beam is λ and a numerical aperture of an objective lens of an optical system for irradiating the laser beam is NA, recording / reproducing is performed under the condition of λ / NA ≦ 680 nm. An information medium, wherein the supporting substrate is a disk having a diameter of 60 to 135 mm, a radial warp angle is R-Skew, and a circumferential warp angle is T-Sk.
Ew, high temperature to store for 50 hours in an environment of 80 ° C and 80% RH
An optical information medium having | R-Skew | ≦ 0.4 deg and | T-Skew | ≦ 0.15 deg both before and after the high humidity storage test.
【請求項11】 ディスク状の支持基体上に情報記録層
を有し、この情報記録層上に光透過層を有し、この光透
過層を通して記録または再生のためのレーザービームが
情報記録層に入射するように使用され、前記レーザービ
ームの波長をλとし、前記レーザービームを照射する光
学系の対物レンズの開口数をNAとしたとき、λ/NA
≦680nmが成立する条件で記録または再生が行われる
光情報媒体であって、 前記支持基体が直径60〜135mmのディスク状であ
り、 半径方向の反り角をR-Skewとし、周方向の反り角をT-Sk
ewとしたとき、 80℃の乾燥環境下で50時間保存する高温ドライ保存
試験の前後のいずれにおいても、 |R-Skew|≦0.4deg、 |T-Skew|≦0.15deg である光情報媒体。
11. An information recording layer is provided on a disc-shaped supporting substrate, and a light transmitting layer is provided on the information recording layer. A laser beam for recording or reproducing is applied to the information recording layer through the light transmitting layer. When the wavelength of the laser beam used for incidence is λ and the numerical aperture of the objective lens of the optical system for irradiating the laser beam is NA, λ / NA
An optical information medium for recording or reproducing under the condition that ≦ 680 nm is established, wherein the supporting substrate is a disk shape having a diameter of 60 to 135 mm, a radial warp angle is R-Skew, and a circumferential warp angle is To T-Sk
ew, optical information that is | R-Skew | ≦ 0.4deg and | T-Skew | ≦ 0.15deg both before and after the high temperature dry storage test of storing in a dry environment at 80 ° C for 50 hours Medium.
【請求項12】 ディスク状の支持基体上に情報記録層
を有し、この情報記録層上に光透過層を有し、この光透
過層を通して記録または再生のためのレーザービームが
情報記録層に入射するように使用され、前記レーザービ
ームの波長をλとし、前記レーザービームを照射する光
学系の対物レンズの開口数をNAとしたとき、λ/NA
≦680nmが成立する条件で記録または再生が行われる
光情報媒体であって、 前記支持基体が直径60〜135mmのディスク状であ
り、 半径方向の反り角をR-Skewとし、周方向の反り角をT-Sk
ewとしたとき、 −25℃の環境下で50時間保存する低温保存試験の前
後のいずれにおいても、 |R-Skew|≦0.4deg、 |T-Skew|≦0.15deg である光情報媒体。
12. An information recording layer is provided on a disc-shaped supporting substrate, and a light transmitting layer is provided on the information recording layer. A laser beam for recording or reproducing is applied to the information recording layer through the light transmitting layer. When the wavelength of the laser beam used for incidence is λ and the numerical aperture of the objective lens of the optical system for irradiating the laser beam is NA, λ / NA
An optical information medium for recording or reproducing under the condition that ≦ 680 nm is established, wherein the supporting substrate is a disk shape having a diameter of 60 to 135 mm, a radial warp angle is R-Skew, and a circumferential warp angle is To T-Sk
ew, an optical information medium having | R-Skew | ≦ 0.4deg and | T-Skew | ≦ 0.15deg both before and after a low temperature storage test in which it is stored for 50 hours in an environment of −25 ° C. .
【請求項13】 ディスク状の支持基体上に情報記録層
を有し、この情報記録層上に光透過層を有し、この光透
過層を通して記録または再生のためのレーザービームが
情報記録層に入射するように使用され、前記レーザービ
ームの波長をλとし、前記レーザービームを照射する光
学系の対物レンズの開口数をNAとしたとき、λ/NA
≦680nmが成立する条件で記録または再生が行われる
光情報媒体であって、 前記支持基体が直径60〜135mmのディスク状であ
り、 半径方向の反り角をR-Skewとし、周方向の反り角をT-Sk
ewとしたとき、 50%RHの恒湿環境下において、20℃で12時間保
存する常温保存と60℃で12時間保存する高温保存と
を行う温度サイクルを6サイクル繰り返し、かつ、前記
常温保存から前記高温保存に移行する際の昇温速度およ
び前記高温保存から前記常温保存に移行する際の降温速
度を10℃/時間とする温度サイクル試験の前後のいず
れにおいても、 |R-Skew|≦0.4deg、 |T-Skew|≦0.15deg である光情報媒体。
13. An information recording layer is provided on a disc-shaped supporting substrate, and a light transmitting layer is provided on the information recording layer. A laser beam for recording or reproducing is applied to the information recording layer through the light transmitting layer. When the wavelength of the laser beam used for incidence is λ and the numerical aperture of the objective lens of the optical system for irradiating the laser beam is NA, λ / NA
An optical information medium for recording or reproducing under the condition that ≦ 680 nm is established, wherein the supporting substrate is a disk shape having a diameter of 60 to 135 mm, a radial warp angle is R-Skew, and a circumferential warp angle is To T-Sk
When ew, in a constant humidity environment of 50% RH, a temperature cycle of storing at room temperature at 20 ° C. for 12 hours and at room temperature at 60 ° C. for 12 hours is repeated 6 times, Before and after the temperature cycle test in which the temperature rising rate at the time of shifting to the high temperature storage and the temperature lowering rate at the time of shifting from the high temperature storage to the room temperature storage are 10 ° C./hour, | R-Skew | ≦ 0 An optical information medium having a value of 4 deg and | T-Skew | ≦ 0.15 deg.
【請求項14】 ディスク状の支持基体上に情報記録層
を有し、この情報記録層上に光透過層を有し、この光透
過層を通して記録または再生のためのレーザービームが
情報記録層に入射するように使用され、前記レーザービ
ームの波長をλとし、前記レーザービームを照射する光
学系の対物レンズの開口数をNAとしたとき、λ/NA
≦680nmが成立する条件で記録または再生が行われる
光情報媒体であって、 前記支持基体が直径60〜135mmのディスク状であ
り、 半径方向の反り角をR-Skewとし、周方向の反り角をT-Sk
ewとしたとき、 60℃の恒温環境下において、20%RHで12時間保
存する常湿保存と80%RHで12時間保存する高湿保
存とを行う湿度サイクルを6サイクル繰り返し、かつ、
前記常湿保存から前記高湿保存に移行する際の湿度上昇
速度および前記高湿保存から前記常湿保存に移行する際
の湿度低下速度を10%/時間とする湿度サイクル試験
の前後のいずれにおいても、 |R-Skew|≦0.4deg、 |T-Skew|≦0.15deg である光情報媒体。
14. An information recording layer is provided on a disc-shaped supporting substrate, and a light transmitting layer is provided on the information recording layer. A laser beam for recording or reproducing is applied to the information recording layer through the light transmitting layer. When the wavelength of the laser beam used for incidence is λ and the numerical aperture of the objective lens of the optical system for irradiating the laser beam is NA, λ / NA
An optical information medium for recording or reproducing under the condition that ≦ 680 nm is established, wherein the supporting substrate is a disk shape having a diameter of 60 to 135 mm, a radial warp angle is R-Skew, and a circumferential warp angle is To T-Sk
When ew, in a constant temperature environment of 60 ° C., a humidity cycle of performing a normal humidity storage of 20% RH for 12 hours and a high humidity storage of 80% RH for 12 hours is repeated 6 cycles, and
Before or after a humidity cycle test in which the humidity increase rate at the time of transition from the normal humidity storage to the high humidity storage and the humidity decrease rate at the transition from the high humidity storage to the normal humidity storage are 10% / hour. Also, an optical information medium having | R-Skew | ≦ 0.4 deg and | T-Skew | ≦ 0.15 deg.
【請求項15】 ディスク状の支持基体上に情報記録層
を有し、この情報記録層上に光透過層を有し、この光透
過層を通して記録または再生のためのレーザービームが
情報記録層に入射するように使用され、前記レーザービ
ームの波長をλとし、前記レーザービームを照射する光
学系の対物レンズの開口数をNAとしたとき、λ/NA
≦680nmが成立する条件で記録または再生が行われる
光情報媒体であって、 前記支持基体が直径60〜135mmのディスク状であ
り、 半径方向の反り角をR-Skewとし、周方向の反り角をT-Sk
ewとしたとき、 −20℃の環境下で1時間保存した直後に、70℃のド
ライ環境下で1時間保存する温度サイクルを50サイク
ル繰り返す熱衝撃試験の前後のいずれにおいても、 |R-Skew|≦0.4deg、 |T-Skew|≦0.15deg である光情報媒体。
15. An information recording layer is provided on a disc-shaped supporting substrate, and a light transmitting layer is provided on the information recording layer. A laser beam for recording or reproducing is applied to the information recording layer through the light transmitting layer. When the wavelength of the laser beam used for incidence is λ and the numerical aperture of the objective lens of the optical system for irradiating the laser beam is NA, λ / NA
An optical information medium for recording or reproducing under the condition that ≦ 680 nm is established, wherein the supporting substrate is a disk shape having a diameter of 60 to 135 mm, a radial warp angle is R-Skew, and a circumferential warp angle is To T-Sk
ew, before and after a thermal shock test in which a temperature cycle in which a temperature cycle of storing for 1 hour in a dry environment of 70 ° C is repeated immediately after storage for 1 hour in an environment of -20 ° C | R-Skew An optical information medium with | ≦ 0.4 deg and | T-Skew | ≦ 0.15 deg.
【請求項16】 請求項10〜15のいずれかの光情報
媒体である請求項1〜9のいずれかの光情報媒体。
16. The optical information medium according to claim 1, which is the optical information medium according to any one of claims 10 to 15.
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