JP2505794B2 - センタリングエラ―の検出装置 - Google Patents

センタリングエラ―の検出装置

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JP2505794B2
JP2505794B2 JP62045379A JP4537987A JP2505794B2 JP 2505794 B2 JP2505794 B2 JP 2505794B2 JP 62045379 A JP62045379 A JP 62045379A JP 4537987 A JP4537987 A JP 4537987A JP 2505794 B2 JP2505794 B2 JP 2505794B2
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ヒスベルタス・ブフィス
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Philips Electronics NV
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    • G—PHYSICS
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、物体の回転対称面（rotationally symmetr
ical surface）のセンタリングエラーを検出する装置で
あって、物体の表面の小部分を露光するための光放射源
（radiation source）と、物体を保持するための回転可
能な保持器と、表面から発するビームの経路に配置され
て保持器の回転軸に対するセンタリングエラーの尺度で
ある信号を供給するところの、光線に感応する検出シス
テム（radiationsensitive detection system）と、光
ビームを２つのサブビームに分割し次いで表面から反射
されて来た後の該２つのサブビームを結合するために光
放射源とセンタリングされるべき表面との間の光の経路
内に配置されるビームスプリッタ（beam splitter）
と、ビームスプリッタと表面との間に配置されてサブビ
ームを表面に対し約90゜の角度に指向させるレンジシス
テムと、上記光線に感応する検出システムが供給すると
ころの、センタリングエラーによって生じる２つのサブ
ビーム間の位相差の変動の尺度である出力信号と、を有
して成るセンタリングエラー検出装置に関する。
このタイプの装置は、例えばレンズ素子が保持器に固
定される前にその保持器にレンズ素子をセンタリングす
るために使用されている。特に、投影レンズシステムの
ように多数のレンズ素子から構成されているレンズシス
テムを構成する場合に、レンズ素子の各々を正確に配列
すること、すなわち、一般にすべてのレンズ素子が配列
されねばならぬ保持器の軸である基準軸に各レンズ素子
の光軸が正確に一致することを保証するのは重要であ
る。そのようなレンズシステムの組立において、第１レ
ンズ素子が基準軸に対してセンタリングされかつ固定さ
れ、引続いて第２レンズ素子が同じ基準軸に対してセン
タリングされかつ固定され、そしてすべてのレンズ素子
が保持器に固定されるまでこのことは続けられる。各レ
ンズ素子の屈折面の各々は別々にセンタリングされねば
ならない。球面の場合には、これは関連する面の曲率の
中心が基準軸上に置かれているかどうかを確かめねばな
らぬことを意味している。非球回転対称面の異なる回転
対称セクターはライン上に位置している異なった曲率中
心を有している。そのような面のセンタリングは基準軸
とこのラインとの一致が保証されるべきであることを意
味している。
センリングエラーを検出するために、レンズ素子は基
準軸と一致する軸の周りで回転し、かつ光ビームはセン
タリングされるべき面に向けることができる。もしレン
ズ面が回転軸に対して正確にセンタリングされないと、
この面は振動運動を行うであろう。この運動は面によっ
て反射されたビームの通路中に配列された光線に感応す
る検出システムによって検出でき、このシステムは原理
上１つの出力信号を供給するが、しかしそれ以上の出力
信号が適当であり、４つの出力信号が好ましい。これら
の信号を正しいやい方で処理することにより、検出シス
テム上に形成された放射スポットの運動、ビームの運
動、従ってまたレンズ面のセンタリングエラーは検出で
きる。
このタイプの光線に感応する検出システムは、例え
ば、架空のＸ−Ｙ座標系の４つの象限に配列されている
４つの個別検出器よりなるいわゆる４象限検出器（four
quadrant detector）の形をとろう。しかし、そのよう
な検出器を用いると、レンズ面の正確なセンタリングの
場合に放射スポットが検出器の１つのみあるいはその２
つで映像を結ばぬために、放射スポットは検出器に対し
て前もって整列されなくてはならない。
光線に感応する検出システムはまた、いわゆる２次元
位置感応フォトダイオード（two−dimensional positio
n sensitive photo diode）の形をとろう。そのような
フォトダイオードは２つの電極を有する単一半導体素
子、あるいは２次元フォトダイオードの場合には４つの
電極を有する単一半導体素子を具え、ここで２つの対向
電極における出力信号間の差は２つの電極を結ぶ軸に沿
うこのフォトダイオード上に形成された放射スポットの
強度プロフィルの中心の位置の尺度である。しかし、そ
のような位置感応フォトダイオードによって供給される
信号はこのフォトダイオード上の放射スポットの位置に
依存するだけでなく、また放射ビームの強度変動にもま
た依存している。
上述の装置内で使われると、４象限検出器と位置感応
フォトダイオードの双方はこれらの検出器上の放射スポ
ットの低い光の強度によって小さい信号対雑音比を有す
る信号を供給する。この低い光の強度はセンタリングさ
れるべき面の低い反射係数の結果である。４象限検出器
あるいは位置感応フォトダイオードを使用する上記の装
置はレンズ面の高精度センタリングに対し実際にはあま
り適合しない。さらに、上述の装置におけるセンタリン
グエラー信号は、例えばこの面のコーティングのエラー
によるレンズ面の不規則性によって影響されよう。
本発明の目的は、上記の欠点が無く且つ実際上も更に
使い易く更に正確な、センタリングエラーを検出する装
置を提供することである。
この目的を達成するため、本発明のセンタリングエラ
ーを検出する装置は、ビーム分割素子がウォラストン
（Wollaston）プリズムであること、光源から発してウ
ォラストンプリズムに入るビームは直線偏光ビームであ
って、その方位はウォラストンプリズムの光軸に対し約
45゜の角度で延びていること、λを光ビームの波長とす
るとき、λ/4平板が上記ウォラストンプリズムと上記光
線に感応する検出システムとの間の光線の経路に配置さ
れており、上記λ/4平板の光軸はサブビームの偏光方向
に対し45゜の角度で延びていること、及び偏光分析器が
λ/4平板と検出システムの間に配置されていることを特
徴とする。
この装置では、測定されるのはビーム移動によってひ
き起こされるところの検出面の光の強度（intensity）
の変動ではなくて、検出された２つのサブビーム間の位
相差の変動であり、この位相差は回転面の振動に依存す
るものである。また、この変動はサブビームの小さい光
の強度に対しても高い精度で測定できる。その上、位相
の検出を用いると、強度の検出又は振幅の検出を用いる
場合よりも分解能は大きい。更に、センタリングされる
べき表面の局所反射差又は装置中の光素子の局所反射差
は、センタリングエラー信号には殆ど何の影響も与えな
い。
本装置の最初の実施例では、ビームスプリッタはビー
ム中に半透明偏光感応鏡又は非感応鏡（semi−transpar
ent polarisation−sensitive or insensitive mirro
r）を具え、また少なくともサブビームのうちの１つの
通路内に少なくとも１つの完全反射鏡を具えている。そ
の場合には鏡がピボット可能（pivotable）でないこと
が保証されなければならない。
あるいはその代わりに、ビームスプリッタとして回折
格子を使用することも可能である。しかし、回折格子は
更に余分の放射損失をひき起こす。
本発明による装置の好適実施例では、放射損失が最小
であり且つ非常に安定である。
ウォラストンプリズム上に入射するビームｂは任意の
楕円率（ellipticity）を持つ、換言すれば、電磁放射
のＥベクトルによって表される楕円は広いものであって
も狭いものであってもよいのである。偏光の方位はこの
楕円の縦方向である。直線偏光光線の場合にはこの楕円
はこの方位の方向の直線に併合される。ビームｂに対し
て、方位がウォラストンプタズムの光軸に約45゜の角度
で延びていることのみが要求されている。
ウォラストンプリズムは入射光線ビームを偏光方向に
対し互いに垂直な方向を持つ２つの直線偏光サブビーム
に分離し、このビームは相互に小さい角度で延びてい
る。センタリングされるべき面によって反射されたサブ
ビームの部分はウォラストンプリズムによって、互いに
垂直に偏光しかつ表面のセンタリングエラーによって決
定される位相差を持つ２つの成分を有する１つのビーム
に再び結合されている。λ/4平板は第１ビーム成分及び
第２ビーム成分をそれぞれ左巻き及び右巻き円偏光ビー
ム成分に変換する。よく知られているように、それぞれ
左巻き及び右巻きに円偏光されている２つの一致ビーム
は、その偏光の方位（直線偏光ビームの場合の偏光方向
としても規定されている）が複合ビーム間の位相差によ
って決められる１つの直線偏光ビームを構成する。
ウォラストンプリズムを使用し、このプリズム上に入
射するビームの偏光方向を適当に選択すれば放射損失は
最小となる。その上、サブビームの通路はできる限り一
致していることが保証されている。これらの通路は、ウ
ォラストンプリズムとセンタリングされるべき表面との
間で異なるのみである。そればかりでなく、ウォラスト
ンプリズムは振動に対して非常に敏感に反応するもので
はない。
λ/4平板から発出するビームの偏光方向は、この平板
と検出システムとの間に固定して配置され且つその光軸
が例えばもし上記サブビーム間の位相差が０ならばλ/4
平板から発出するビームの偏光方向に対して垂直になる
ように配置された分析器（analyser）を用いて、検出す
ることができる。単一フォトダイオードであるような上
記検出システムの信号を、もしセンタリングされるべき
表面が回転しても０のままであるならば、そのときにこ
の表面は正確にセンタリングされたことになろう。
しかし、本発明による装置は更に、回転する偏光分析
器がλ/4平板と光線に感応する検出システムとの間に配
列されること、及び分析器に対する位置検出システム
（position detection system）が設けられていること
を好適とする。
光線に感応する検出システムの信号及び位置検出シス
テムの信号は、例えばオシロスコープを用いて、オペレ
ータが可視化することができる。また、このオペレータ
は、その調整の仕方が光線に感応する検出システムの信
号の安定するようなやり方で、表面を再調整することが
できる。そうすることにより表面は正確にセンタリング
される。
本発明による装置は更に、位置検出システムの電気的
出力及び光線に感応する検出システムの電気的出力が、
位相比較回路の入力に接続され、該位相比較回路の出力
信号はセンタリングエラーを表わすことを特徴とする。
回転する分析器に対する位置検出システムは、該分析
器の一方の側に配置されている補助光源と偏光器、及び
分析器のもう一方の側に配置されている光線に感応する
検出器、という形をとるのが好適である。
本発明による装置は、λ/4平板から発するビームの偏
光の方向を回転させるための能動的電気光学結晶又は能
動的磁気光学結晶が、偏光分析器とλ/4平板との間に配
置されていることを特徴とする。
光線に感応する検出システムの出力信号の位相と、能
動的な結晶に対する制御信号の位相とを比較するため
に、位相比較回路が設けられている。これによって、例
えばレンズのような物体のセンタリングを自動化するこ
とが可能になる。そうすれば、この表面に対する回転軸
に関して表面の回転角がどれほどのときに、サブビーム
間の位相差が最大になるかを決めることもまた可能にな
る。その場合にはセンタリングエラーはその大きさだけ
でなくその方向も既知となり、従って曲率の中心がどの
方向に移動しているのかも同じく既知となる。
上述の実施例によって、微小なセンタリングエラーが
極めて正確に測定できる。しかし、これらの実施例の測
定範囲は比較的小さいので、最適な使用のためには、所
定の予備的なセンタリング（pre−centration）を行わ
なければならない。該予備的なセンタリングが必要とす
る大雑把な（coarser）センタリングエラー検出は：光
放射源が直線偏光ビームを供給し、その方位はウォラス
トンプリズムの光軸の１つに平行であること;1/4≦ｎ≦
3/4とするとき、ｎ・λ平板が光放射源とウォラストン
プリズムとの間に配置され、該平板は２つの位置の間を
切り替えることができるものであり、それによってこの
平板から発するビームの方位が、フォラストンプリズム
の光軸に対して０゜と45゜との間で切り替えられるこ
と；及び、光線に感応する検出システムは４つの電気信
号を供給するのに適するものであり、その４つの電気信
号から、概略センタリングエラー信号と精密センタリン
グエラー信号との双方を共に導出できること；を更に特
徴とする本発明の装置を用いて実現できる。
光線に感応する検出システムは４象限検出器で構成さ
れるか、あるいは２次元位置感応フォトダイオードで構
成される。概略（coarse）センタリングエラー信号を求
めるために、ｎ・λ平板は第１の位置に設定される、こ
れを０位置と称する。そのとき光線のビームは分割され
ていないので、センタリングされようとする表面には１
つのビームのみが入射する。次いで光線に感応する検出
システムの４つの出力信号は処理されて第１信号及び第
２信号になり、それらの信号は、検出システム上で互い
に垂直な２つの方向に形成される光スポットを移動させ
ることについての指示を与える。センタリングエラーが
所与の値より小さいことが見出されたときには、ｎ・λ
平板は第２位置に設定される。２つのビームは、センタ
リングされようとする面上に、上述の位相測定が実行で
きるように入射する。次いで４つの検出器信号が加え合
わされる。
４つの出力信号を供給する光線に感応する検出器シス
テムを見える装置は：光線の経路内で、この検出システ
ムの前に、第１の軸の周りで旋回可能な第１の付加鏡な
らびに第１の軸に垂直な第２の軸の周りで旋回可能な第
２の付加鏡が配置され、これらの付加鏡によって、光線
に感応する検出システム上に形成される光スポットは、
検出システムの平面内で２つのお互いに垂直な方向に移
動可能であること；及び４つの検出器信号は処理されて
制御信号となり、それらの制御信号によって、上記光ス
ポットの中心が検出システムの中心と一致するように、
また鏡の位置がセンタリングエラーを表わすように、鏡
を調整すること；を更に特徴とする。
もし４象限検出器が使用されるなら、この検出器上の
放射スポットの予備的な整列（pre−alignment）は、こ
の検出方法ではもはや必要でない。また、この検出方法
は２次元位置感応フォトダイオードとともに使用するこ
ともできる。
もしレンズ素子の第２表面のセンタリングが第１表面
のセンタリングの後にはもはや実行されないけれども、
両者が同時に実行されることはあり得る、というのであ
れば、多重レンズシステムの組立はかなりスピードアッ
プされることがあろう。このことが本発明による装置で
は可能であり、その場合に該装置は：第３のサブビーム
及び第４のサブビームを形成する第２のビームスプリッ
タと;2番目の表面上に、第３のサブビームおよび第４の
サブビームを約90゜の角度で指向させるために、上記第
２のビームスプリッタと物体との間に配置されたレンズ
シテムと;2番目の表面用のセンタリングエラー信号を供
給するための、第３のサブビーム及び第４のサブビーム
に関連する第２の光線に感応する検出システムと；を更
に有することを特徴とする。
この装置は、２番目の表面から反射された第３のサブ
ビーム及び第４のサブビームのうちの１つの経路は、ビ
ーム反転素子（beam inverter element）が配置されて
いることを更に特徴とする。
以下、添付の図面を参照して本発明を詳細に説明す
る。
第１図は、本発明によるセンタリングエラーを検出す
る装置の実施例の概略図であって、この図中では、O1と
記されているのが、センタリングされるべき表面、例え
ばレンズ又は鏡の表面である。この表面の曲率半径をＲ
とし、曲率の中心をｍとする。該表面O1は保持器11内に
設けられ、該保持器は軸ARの周りを矢印12の方向に回転
可能である。回転軸すなわち基準軸ARは、センタリング
検出装置の光軸Ａ−Ａ′と一致してもよい。しかし、軸
ARと軸Ａ−Ａ′とは互いに角度をもっていることもあ
り、又は交差していることもあろう。
この装置は、ビームｂを発出するコヒーレント光源
１、例えばレーザ光源と、ビームｂを２つのサブビーム
b1,b2に分離するビームスプリッタ５と、レンズシステ
ム9,10とを具えている。このレンズシステムは原理的に
は単一レンズから成るものでもよいが、それはサブビー
ムを表面O1に90゜の角度で向けているのが好適である。
両サブビームは曲率の中心ｍの近傍の点C1に向けられて
おり、表面O1によって部分的に反射される。反射された
サブビームは前進したサブビームとほぼ同じ経路を通っ
て帰り、ビームスプリッタ５によって１つのビームに結
合される。このビームｂ′はビーム分割器（beam divid
er）３によって反射され、光線に感応する検出システム
15に至る。ビーム分割器３は例えば半透明鏡あるいは半
透明プリズムであり、光線に感応する検出システム15は
原理的には１個の検出器から成り例えばフォトダイオー
ドである。
回転対称面O1の曲率の中心ｍが、もし回転軸上に位置
しているならば、サブビームb1,b2はこの面上に対称的
に入射される。第３図では、この状態がセンタリングさ
れるべき表面を表す実線のカーブO1によって示されてい
る。そこではサブビームb1とb2とはいずれも、往路と復
路とで同一の光路長を通過する。しかし、センタリング
されるべき表面の曲率の中心ｍが、もし回転軸に対して
距離εだけ移動しているならば、そしてもし表面O1′
が、第３図で破線のカーブによって示される位置にある
とするならば、ある所与の瞬間においてビームb2がその
往路と復路とで通過する経路の長さは２Δだけ増大し、
またビームb1がその往路と復路とで通過する経路の長さ
は２Δだけ減少するから、従ってビームb1とビームb2と
の経路長の差は４Δである。その場合に、λを使用され
た光線の波長とするとき、両サブビームの間にはφ＝８
πΔ／λの位相差が存在する。表面O1のセンタリングエ
ラーの尺度であるこの位相差は、非常に正確に測定でき
るのであって、それについては相互に垂直に偏光される
サブビームを用いた実施例を参照して、以下に説明す
る。
このやり方によれば、球面の曲率の中心と回転軸との
間の偏差だけでなく、回転対称な非球面の光軸と回転軸
との間の偏差も決定できる。球面の場合には、光軸は回
転面の回転対称セクターの個々の曲率の中心の累積であ
る。
第２図に示すビームスプリッタによるビームの分離
は、ブームｂの経路中の半透明鏡51を用いて実行され、
ビームｂはその半分がサブビームb2として通過し、残り
が反射してサブビームb1として完全反射鏡52に向かう。
この鏡52はサブビームb1がサブビームb2と平行になるこ
とを保証する。これら２つの鏡51,52は、例えばガラス
製の１つのブロック50内に設置されて、２つの鏡が常に
相互に精確に整列される。しかしブロック50はピボット
可能（pivotable）でないことが保証されなければなら
ない。もしビームｂとして非コヒーレント光が使われる
ならば、サブビームb1,b2の経路長は等しいことが保証
されなければならない。
鏡51,52を持つブロック50は、第１図のプリズム５及
びレンズ９の代替を意図したものであることに留意され
たい。
更に別の案として、ビームｂは回折格子によってサブ
ビームb1,b2に分離することもできる。この回折格子
は、光線の大部分が＋１次と−１次で回折され、更に高
次の回折サブビームはレンズシステム9,10の入射瞳孔
（entrance pupil）を越えて偏向される形のものであ
る。０次サブビームは、例えば吸収板を用いる等の簡単
なやり方で消去することができる。
ビーム分離のために回折格子を使用すると光線の損失
が生じる。これは第１図に示す好適実施例の装置では防
止され、そのときは偏光手段がビーム分離及びビーム結
合に用いられる。第１図では素子５がウォラストンプリ
ズムである。このプリズムはその主軸すなわち光軸７及
び８が相互に直角になっている複屈折素材の２つのサブ
プリズム5a及び5bから構成されている。プリズム５に入
射するビームｂは任意の偏光ビームであり、その方位は
光軸7,8に対し約45゜の角度で延びている。ウォラスト
ンプリズムはこのビームを相互に垂直な偏光方向を有す
る２つのサブビームに分離し、それらのビームは相互に
小さい角度で延びている。これらのビームは例えば軸Ａ
−Ａ′に対して小さい反対の角度で対称的に偏向してい
る。反射サブビームはそれらがウォラストンプリズムを
通過すると１つのビームｂ′に結合される。このビーム
はお互いに垂直な偏光方向を持つ２つの成分を有し、こ
の成分は表面O1の回転の間に変化する相互位相差を有し
ている。この変化の大きさは表面O1のセンタリングエラ
ーの程度によって決定される。
ウォラストンプリズムは、２つのサブプリズムの代わ
りに３つのサブプリズムを具えることもあり、その場合
は外側の２つのサブプリズムの光軸は同じ方向を有し、
内側のサブプリズムの光軸は２つの外側のサブプリズム
の光軸に対して直角である。
ビーム分割器３と検出器15との間に、λ/4平板13が対
角線の位置に配置される、換言すれば、この平板の光軸
はビーム成分の偏光方向に45゜の角度で延びている。こ
の平板は、２つの直線偏光ビーム成分を２つの反対方向
の円偏光ビーム成分に変換し、これらは一致しているか
ら１つの直線偏向ビームを構成する。このビームの偏光
方向は、複合ビーム成分間の位相差によって決定され、
この位相差は、表面O1が中心を外れて回転する場合には
変動する。
単一ビームｂ′の偏光方向は偏光分析器14によって決
定でき、この偏光分析器は検出器15の前に置かれ、か
つ、例えば、表面O1が正確にセンタリングされる場合に
ビームｂ′の偏光方向に対してその偏光の送出方向が直
角であるように方向付けられている。正確なセンタリン
グの場合、検出器15は光線を何ら受け取らずその出力信
号は０である。センタリングエラーが大きくなるにつれ
て検出器信号も大きくなるであろう。
この検出器信号は、表面O1の保持器11に嵌合された
（図示されていない）偏位デバイスに制御増幅器（これ
も図示されていない）を介して供給することができる。
このデバイスは固定された分析器を第１図に矢印16で
示されている回転する分析器によって置換えることによ
り改善できる。そのとき検出器15はその位相がビーム
ｂ′の偏光方向によって決められる周期的正弦波信号を
供給する。この位相を決めるために、このデバイスは分
析器用の位置検出システムをも具えている。このシステ
ムは補助光源17、該補助光源17から発する光線の直線偏
光ビームｂ″を通る偏光器18、及び補助検出器19を具え
ており、該補助検出器19はフォトダイオードであること
を好適とする。又は代案としてビームｂ″を主光源１か
ら導いてもよい。分析器14が回転する場合、検出器19は
第４図でS19によって示されている周期的正弦波信号を
供給する。この図はまた検出器15の信号S15を示してい
る。信号S15とS19は位相比較回路20に供給され、その出
力信号SCは信号S15とS19との間の位相差Δｆによって、
すなわちビームｂ′の偏光方向及び結果的にセンタリン
グエラーεによって決定される。
信号S15とS19とは、信号S15が装置のオペレータによ
って観測できるようにオシロスコープ21にも印加するこ
とができる。そこでオペレータは、表面O1が回転する場
合、すなわち換言すれば、S15の位相が一定の場合、信
号S15がもはや「流れ」ない（no longer“runs"）よう
なやり方でマニピュレータを介して表面O1の保持器を動
かすことができる。
上述の位相測定は非常に正確であり、12゜の偏光方向
の回転を正確に検出できる。この角度は光路長差４Δ＝
λ/30に対応する。波長λ＝633nmに対して、光路長差Δ
＝5nm,は原理上正確に検出でき、これはこの特定の実施
例においてはε＝50nmに対応する。装置がダイナミック
であるから、すなわち検出信号は交流信号であるから、
ビームの強さに影響するような装置中の比較的ゆっくり
した変動は求められたセンタリングエラーには何の影響
を与えない。
この装置はまた第５図に示されているようなファラデ
ィ（Faraday）回転子60と固定分析器63との結合で分析
器14を置換かえることによりダイナミックにできる。フ
ァラディ回転子において、それを横切る直線偏光ビーム
の偏光方向は回転子の周りに印加され、かつ電流源62に
よって付勢される磁気コイル61によって発生された磁場
によって回転される。ダイナミック・センタリングエラ
ー信号は、第６図に示されているようなファラディ回転
子の位置のポッケルス（Pockels）効果セルあるいはカ
ー（Kerr）効果セルのような電気光学セル64によっても
得ることができる。そのような電気光学セルは、セルに
わたって印加され、かつ電圧源65によって供給された電
場の影響の下で、それを横切る直線偏光ビームの偏光方
向を変化させる。
電気光学セルあるいは磁気光学セルを用いる場合、光
線に感応する検出システムの出力信号S15の位相は位相
比較回路20中のセルの制御信号の位相と比較できる。２
つの信号をオシロスコープ21に印加することもまた可能
である。
相互に小さい角度で延びている２つの相互に垂直な偏
光サブビームb1とb2は、代案としてウォラストンプリズ
ムをいわゆるゼーマン（Zeeman）レーザから発生するビ
ームで露光することで得られる。Philips'Technical Re
view,Vol.30,1969年,No.6,7,160−166ページに記載のこ
のタイプのレーザは、周波数差のある２つの反対方向の
円偏光ビーム成分よりなるビームを供給する。ウォラス
トンプリズム５の前のλ/4平板によって、これらのビー
ム成分はお互いに垂直な偏光方向を有する２つの直線偏
光成分に変換され、そしてウォラストンプリズムはこれ
らの成分に再び異なる方向を与える。反射されかつウォ
ラストンプリズムによって結合されたビームは検出器15
へのそれらの通路でλ/4平板13と固定分析器14を横切る
であろう。ゼーマンレーザによって供給されたビームの
一部分は分離され、その部分は位相検出の基準信号とし
て役立っている。
既に示されているように、サブビームb1とb2とを表面
O1と回転軸上の点C1とに直角に向けるために単一レンズ
を使うことができる。しかし、この目的のためには第１
図に示すように２つのレンズを用いることが好ましい。
第１のレンズ９は、その物体焦点がプリズム５の中心Ｃ
と一致するような倍率を持ち、且つそのように配列され
ている。第２レンズ10の倍率は、その映像焦点が点C1と
一致するようになっている。２つのレンズ間のビーム
は、レンズ10が表面O1の軸位置に依存して移動できるよ
うに、平行になっている。
装置は更にレンズ４を具えている。このレンズは、検
出器15に向かって反射されたビームが光源１によって検
出されたビームと同じ幅を持つことを保証している。ビ
ームｂ′を検出器上に集束するレンズ21aはビームス分
割器３と検出器15との間に配列される。
第１図の光源１は直線偏光ビームを発出し、かつこの
ビームの偏光方向がウォラストンプリズム５の光軸に対
して45゜の角度で延びるように回転されている。しか
し、光源１によって発出された直線偏光ビームｂはウォ
ラストンプリズムの光軸の１つに平行である偏光方向を
有し、かつλ/2平板２が光源とビームスプリッタ３との
間に配列されることが好ましい。この光軸がビームｂの
偏光方向に対して22.5゜の角度で延びるようにこの平板
が回転される場合、平板２は２つのサブビームがこのウ
ォラストンプリズムによって形成され、かつ精密センタ
リングエラー信号が得られるようにウォラストンプリズ
ムの光軸に対して45゜の角度で延びている偏光方向を有
している。
もしλ/2平板がその０位置にセットされるなら、すな
わち、もしその光軸がビームｂの光軸に平行なら、この
平板から現出するビームはウォラストンプリズムの光軸
の１つに平行な偏光方向をもつ。このプリズムおよび装
置から現出する１つの放射ビームのみが表面O1の概略セ
ンタリングに使用できる。この目的で、偏光分析器14は
固定されている。そこで検出器15は４象限検出器あるい
は２次元位置感応フォトセルの形をした複合検出器によ
って構成されなくてはならない。単一ビームによって検
出器上に２つのお互いに垂直な方向に形成された放射ス
ポットの移動および検出器に向けてこのビームを反射す
る表面O1のセンタリングエラーはそのような複合検出器
によって決定できる。
第７図においては、４つの検出器23,24,25,26からな
る４象限検出器15′が示されている。もしこれらの検出
器の出力信号がS23,S24,S25,S26で表わされるなら、第
１方向（Ｘ方向）への光スポット27の移動は： SX＝（S23＋S26）−（S24＋S25） によって与えられる。第２方向（Ｙ方向）への光スポッ
ト27の移動は： SY＝（S23＋S24）−（S25＋S26） によって与えられる。ここで信号SXとSYは４つの加算回
路28,29,31,32及び２つの減算回路30,33によって簡単に
得ることができる。信号SXとSYはオシロスコープ上のＸ
信号とＹ信号として可視化され、オペレータは信号が表
面O1の回転の間に安定に維持されるように保持器11を調
整することができる。
それに引き続いて、装置は精密センタリングに適合す
るようにできる。この目的は、λ/2平板２が位置22.5゜
に設定され、そしてこれらの検出器が効率的に１つの検
出器を構成するように分析器は回転され、且つ検出器の
信号は加算回路31,32,34によって一緒に加え合わされ
る。
４象限検出器の代案として、第８図には、２次元位置
感応フォトセルと、信号SX,SY及びSSを導くために関連
電子回路とが示されている。この回路は２つの減算回路
35,36と３つの加算回路37,38,39を具えており、それら
については第４図の記述に従ってこれ以上説明する必要
はない。
λ/2平板２は、任意の1/4≦ｎ≦3/4なるｎ・λ平板で
置き換えることができ、平板が回転せねばならぬ角度は
ｎによっている。
第９図は１つの放射ビームによってセンタリングエラ
ーを検出する別の方法を例示し、この方法は本発明によ
る位相測定方法と結び付けることができる。この図で記
号ｂ′はセンタリングされるべき表面から発生し、かつ
ビームスプリッタ３によって反射されたビームである。
４象限検出器15′の形をした光線に感応する検出システ
ムへその通路上で、このビームは次々に第１付加鏡70お
よび第２付加鏡72に出会う。第１の鏡は第９図に示され
たＸ−Ｙ−Ｚ座標系のＺ方向に軸71の周りでピボット可
能である。検出器15′の平面はＹ−Ｚ面に平行である。
軸71の周りの鏡70のピボッティングは光スポット27をＹ
方向に移動させる。第２の鏡は72のＸ−Ｙ面にある軸73
のまわりでピボット可能である。軸73の周りのこの鏡の
ピボッティングはＺ方向への光スポットの移動となる。
第10図は４象限検出器の正面部を示している。差動増
幅器76によって得られた検出器23,24の差信号SZは、Ｚ
方向の放射スポット27の位置を示している。差動増幅器
77によって得られた検出器23と26の差信号SYは、Ｙ方向
の放射スポット27の位置を示している。信号SY及びSZは
鏡70及び72の駆動手段74,75にフィードバックされ、従
ってこれらの鏡は放射スポット27が４象限検出器の中心
に位置決めされるようにピボットできる。これらの鏡の
位置は表面O1のセンタリングエラーによって決定されて
いる。このセンタリングエラーは、既知の位置検出手段
による鏡70,72の位置の決定によるか、或いは、もし信
号SYとSZが０ならば、鏡の制御信号の値の測定によって
見出すことができる。このいわゆる零位法において、４
象限検出器はビームに対して再整列する必要はない。第
９図及び第10図に示された検出方法は、２次元位置感応
フォトダイオードにも使用してよい。
２つの屈折面を持つレンズのセンタリングに対して、
センタリングエラーはこれらの表面の各々について決定
されねばならない。これまで説明された装置を用いる
と、第１表面のセンタリングエラーがまず検出されねば
ならず、引続いて第２表面のセンタリングエラーが検出
されねばならない。本発明によると、２つの表面のセン
タリングエラーが同時に検出できるように、装置を拡張
することができる。
そのような装置の実施例は第11図に示されている。こ
の装置も、例えばウォラストンプリズムのような第２ビ
ームスプリッタ５′を具えている。このビームスプリッ
タに入射するビームｄはビーム分割器40を介して光源１
から発生しよう。例えば鏡である反射器41はウォラスト
ンプリズム５′にビームｄを反射し、そしてプリズム
５′から現出するビームはさらに反射器42,43を介して
ビームｂの通路に反射される。レンズ４′と９′はレン
ズ４と９がビーム６に対して有するのと同じ機能をこの
ビームトに対して有している。レンズ10は２つのビーム
ｂとｄの共通経路に配置されている。表面O2によって反
射されたビームはビームｄと同じ経路を横切り、かつビ
ーム分割器40によって第２の光線に感応する検出システ
ム15′に送られている。
第２ビームスプリッタ５′によって形成されたサブビ
ームb3とb4が第１表面O1を横切った後で垂直に、又はほ
ぼ垂直に第２表面O2に入射するために、例えば付加レン
ズ45がこれらのサブビームの経路に配置されよう。レン
ズ10の適用も代案として可能である。このレンズは例え
ばサブビームb1とb2によってのみ横切られるゾーンに分
割され、及びサブビームb3とb4によってのみ横切られる
ゾーンに分割され、それらの異なったゾーンは異なった
倍率を有するであろう。全体を見通す目的で、第11図は
サブビームb3とb4の光路の部分のみを示している。サブ
ビームb3とb4間の距離は、例えばサブビームb1とb2間の
距離より短い。サブビームb3とb4がサブビームb1とb2の
平面と異なる平面に置かれることもまた可能である。例
えば、サブビームb3,b4の１つは図面の平面の前に置か
れ、他のものはこの平面の後に置かれる。
表面O2によって反射されたサブビームb3とb4は、軸AR
の周りのこの表面の回転に基づいて、回転軸ARに対する
この表面のセンタリングエラーに従って変化する位相差
を有している。この位相差はサブビームb1,b2間の位相
差と同様に検出できる。ビーム分割器３とビーム分割器
40の背後の光路の素子、すなわち第11図の素子21a,13,1
4は２つのビームｂ′とｄ′に使われることが好まし
い。
第11図では、もし表面O2が正確にセンタリングされて
いるなら、記号ｍ′はこの表面の曲率の中心である。こ
の中心ｍ′は、表面O2に垂直な光線と第１表面O1によっ
て屈折される光線の回転軸ARとの交点である。屈折表面
O1は表面O2によって反射されたサブビームb3とb4に収差
を導入し、この収差は２つのサブビームに対し反対であ
る。これらの収差は検出器15′に向かう複合ビームｄ′
に干渉縞を生じさせるであろう。これを防ぐために、ビ
ーム反転素子46が反射されたサブビームb3,b4の１つに
配列されよう。そのような素子は、第11図の右下側に示
されたように、例えばドーブプリズム（Dove prism）、
ペーシャンプリズム（Pechan prism）であり、或いは２
つのレンズ47,48の組合せであろう。反転素子46は、表
面O1によって反射されたサブビームb3とb4中に生じた収
差が等しくなり、従って複合ビームｄ′中に干渉縞が生
じ得ないことを保証している。
【図面の簡単な説明】
第１図は、本発明によるセンタリングエラーの検出装置
であって、精密センタリングエラーと概略センタリング
エラーとの双方を検出できる実施例を示す概略図であ
り、 第２図は、該センタリングエラーの検出装置で使用する
ビームスプリッタを示す図であり、 第３図は、本発明の原理を示す図であり、 第４図は、第１図の装置で求められた検出信号及びそれ
に関連する基準信号を示す図であり、 第５図は、磁気光学セルを用いたセンタリングエラーの
検出装置の実施例の一部分を示す図であり、 第６図は、電気光学セルを用いたセンタリングエラーの
検出装置の実施例の一部分を示す図であり、 第７図及び第８図は、複合検出器とそれに関連する信号
処理回路の第１実施例及び第２実施例をそれぞれ示す図
であり、 第９図及び第10図はそれぞれ、１本の光ビームを用いて
センタリングエラーの検出を行う更に別の方法を示す図
であり、 第11図は、２つの表面のセンタリングエラーを同時に検
出する本発明によるセンタリングエラー検出装置を示す
図である。 １……（コヒーレント）光源 ２……λ/2平板 3,40……ビーム分割器（beam divider） 4,4′,9,9′,10,21a,45,47,48……レンズ 5,5′……ビームスプリッタ（beam splitter） 5a,5b……サブプリズム 11……保持器 13……λ/4平板 14……偏光分析器 15……光に感応する検出器 15′,15″……４象限検出器 17……補助光源 18……偏光器 19……補助検出器 20……位相比較回路 21……オシロスコープ 23,24,25,26……検出器 27……光スポット 28,29,31,32,34,37,38,39……加算回路 30,33,35,36……減算回路 41,42,43……反射器（反射鏡） 46……ビーム反転素子 51……半透明鏡 52……完全反射鏡 60……ファラディ回転子 61……磁気コイル 62……電流源 63……固定分析器 64……電気光学セル 65……電圧源 70……第１付加鏡 72……第２付加鏡 74,75……駆動手段 76,77……差動増幅器

Claims (12)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】物体の回転対称面のセンタリングエラーを
    検出する装置であって、 物体の表面の小部分を露光するための光放射源と、 物体を保持するための回転可能な保持器と、 表面から発するビームの経路に配置されて、保持器の回
    転軸に対するセンタリングエラーの尺度である信号を供
    給するところの、光線に感応する検出システムと、 光ビームを２つのサブビームに分割し、次いで表面から
    反射されて来た後の該２つのサブビームを結合するため
    に、光放射源とセンタリングされるべき表面との間の光
    の経路内に配置されるビームスプリッタと、 ビームスプリッタと表面との間に配置されて、サブビー
    ムを表面に対し約90゜の角度に指向させるレンズシステ
    ムと、 上記光線に感応する検出システムが供給するところの、
    センタリングエラーによって生じる２つのサブビーム間
    の位相差の変動の尺度である出力信号と、 を有して成るセンタリングエラー検出装置において、 ビーム分割素子がウォラストン（Wollaston）プリズム
    であること、 光源から発してウォラストンプリズムに入るビームは直
    線偏光ビームであって、その方位はウォラストンプリズ
    ムの光軸に対し約45゜の角度で延びていること、 λを光ビームの波長とするとき、λ/4平板が上記ウォラ
    ストンプリズムと上記光線に感応する検出システムとの
    間の光線の経路に配置されており、上記λ/4平板の光軸
    はサブビームの偏光方向に対し45゜の角度で延びている
    こと、及び 偏光分析器がλ/4平板と検出システムの間に配置されて
    いること を特徴とするセンタリングエラーを検出する装置。
  2. 【請求項２】特許請求の範囲第１項に記載のセンタリン
    グエラーを検出する装置において、光放射源を、ゼーマ
    ン（Zeeman）レーザと、該レーザ光の波長をλとすると
    きのλ/4平板との組合せで置き換えたことを特徴とする
    センタリングエラーを検出する装置。
  3. 【請求項３】特許請求の範囲第１項に記載のセンタリン
    グエラーを検出する装置において、偏光分析器は静止型
    であることを特徴とするセンタリングエラーを検出する
    装置。
  4. 【請求項４】特許請求の範囲第１項に記載のセンタリン
    グエラーを検出する装置において、偏光分析器は回転可
    能であること、及び該偏光分析器には位置検出システム
    が具えられていることを特徴とするセンタリングエラー
    を検出する装置。
  5. 【請求項５】特許請求の範囲第４項に記載のセンタリン
    グエラーを検出する装置において、位置検出システムの
    電気的出力及び光線に感応する検出システムの電気的出
    力は、位相比較回路の入力に接続され、その出力信号が
    センタリングエラーを表わすことを特徴とするセンタリ
    ングエラーを検出する装置。
  6. 【請求項６】特許請求の範囲第４項又は第５項に記載の
    センタリングエラーを検出する装置において、位置検出
    システムは、上記分析器の一方の側に配置されている補
    助光源及び偏光器を有し、また、上記分析器のもう一方
    の側に配置されている光線に感応する検出器を有するこ
    とを特徴とするセンタリングエラーを検出する装置。
  7. 【請求項７】特許請求の範囲第３項に記載のセンタリン
    グエラーを検出する装置において、λ/4平板から発する
    ビームの偏光の方向を回転させるための能動的電気光学
    結晶又は能動的磁気光学結晶が、偏光分析器とλ/4平板
    との間に配置されていることを特徴とするセンタリング
    エラーを検出する装置。
  8. 【請求項８】特許請求の範囲第７項に記載のセンタリン
    グエラーを検出する装置において、光線に感応する検出
    システムの出力信号の位相と、能動的結晶用の制御信号
    の位相とを比較するために、位相比較回路が設けられて
    いることを特徴とするセンタリングエラーを検出する装
    置。
  9. 【請求項９】特許請求の範囲１項ないし第８項のうちの
    いずれか１項に記載のセンタリングエラーを検出する装
    置において、 光放射源が直線偏光ビームを供給し、その方位はウォラ
    ストンプリズムの光軸の１つに平行であること、 1/4≦ｎ≦3/4とするとき、ｎ・λ平板が光放射源とウォ
    ラストンプリズムとの間に配置され、該平板は２つの位
    置の間を切り替えることができるものであり、それによ
    ってこの平板から発するビームの方位が、フォラストン
    プリズムの光軸に対して０゜と45゜との間で切り替えら
    れること、及び 光線に感応する検出システムは４つの電気信号を供給す
    るのに適するものであり、その４つの電気信号から、概
    略センタリングエラー信号と精密センタリングエラー信
    号との双方を共に導出できること を特徴とするセンタリングエラーを検出する装置。
  10. 【請求項１０】４つの出力信号を供給する光線に感応す
    る検出システムを有する特許請求の範囲第１項ないし第
    ９項のうちのいずれか１項に記載のセンタリングエラー
    を検出する装置において、 光線の経路内で、この検出システムの前に、第１の軸の
    周りで旋回可能な第１の付加鏡ならびに第１の軸に垂直
    な第２の軸の周りで旋回可能な第２の付加鏡が配置さ
    れ、これらの付加鏡によって、光線に感応する検出シス
    テム上に形成される光スポットは、検出システムの平面
    内で２つの互いに垂直な方向に移動可能であること、及
    び ４つの検出器信号は処理されて制御信号となり、それら
    の制御信号によって、上記光スポットの中心が検出シス
    テムの中心と一致するように、また鏡の位置がセンタリ
    ングエラーを表わすように、鏡を調整すること を特徴とするセンタリングエラーを検出する装置。
  11. 【請求項１１】物体の２つの表面のセンタリングエラー
    を同時に検出する特許請求の範囲第１項ないし第10項の
    うちのいずれか１項に記載のセンタリングエラーを検出
    する装置において、 第３のサブビーム及び第４のサブビームを形成する第２
    のビームスプリッタと、 ２番目の表面上に、第３のサブビームおよび第４のサブ
    ビームを約90゜の角度で指向させるために、上記第２の
    ビームスプリッタと物体との間に配置されたレンズシテ
    ムと、 ２番目の表面用のセンタリングエラー信号を供給するた
    めの、第３のサブビーム及び第４のサブビームに関連す
    る第２の光線に感応する検出システムと、 を更に有することを特徴とするセンタリングエラーを検
    出する装置。
  12. 【請求項１２】特許請求の範囲第11項に記載のセンタリ
    ングエラーを検出する装置において、２番目の表面から
    反射された第３のサブビーム及び第４のサブビームのう
    ちの１つの経路に、ビーム反転素子が配置されているこ
    とを特徴とするセンタリングエラーを検出する装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102175189A (zh) * 2011-02-14 2011-09-07 中国科学院光电技术研究所 双光束干涉透镜中心误差测量系统
CN108168466A (zh) * 2017-12-23 2018-06-15 西安交通大学 一种大范围及高精度的滚转角测量装置及测量方法

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01243086A (ja) * 1988-03-24 1989-09-27 Nakamura Rika Kogyo Kk レンズを通過する光の集束及び拡散等を可視的に実験する装置
FR2674164B1 (fr) * 1991-03-18 1993-06-18 Buchmann Optical Eng Dispositif pour le positionnement precis d'une ebauche de verre optique par rapport a une surface plane de reference.
DE4135959C2 (de) * 1991-10-31 1994-01-20 Leica Ag Heerbrugg Verfahren zur Messung der Neigungen von Grenzflächen in einem optischen System
CN111678674B (zh) * 2020-06-09 2022-08-19 中佳盛建设股份有限公司 近眼显示测量方法及近眼显示测量系统
CN113588216B (zh) * 2021-08-02 2023-09-19 中国科学院光电技术研究所 一种偏振片光学零位快速高精度定标装置和方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5142495A (ja) * 1974-10-08 1976-04-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd Danseihyomenhakinososhi
DE2851750B1 (de) * 1978-11-30 1980-03-06 Ibm Deutschland Verfahren und Vorrichtung zur Messung der Ebenheit der Rauhigkeit oder des Kruemmungsradius einer Messflaeche
EP0112399B1 (de) * 1982-12-20 1987-03-11 Ibm Deutschland Gmbh Interferometrisches Messverfahren für Oberflächen
DE3310875A1 (de) * 1983-03-25 1984-09-27 Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart Strahlablenksystem
FR2561377B1 (fr) * 1984-03-14 1986-10-17 Centre Nat Rech Scient Dispositif et procede pour controler et stabiliser angulairement un objet pouvant se deplacer en translation, utilisant un cristal anisotrope

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102175189A (zh) * 2011-02-14 2011-09-07 中国科学院光电技术研究所 双光束干涉透镜中心误差测量系统
CN108168466A (zh) * 2017-12-23 2018-06-15 西安交通大学 一种大范围及高精度的滚转角测量装置及测量方法
CN108168466B (zh) * 2017-12-23 2019-07-23 西安交通大学 一种大范围及高精度的滚转角测量装置及测量方法

Also Published As

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EP0235861A1 (en) 1987-09-09
EP0235861B1 (en) 1990-11-14
JPS62235508A (ja) 1987-10-15
DE3766131D1 (de) 1990-12-20

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