JP2501066B2 - Polychlorotrifluoroethylene film and its use - Google Patents

Polychlorotrifluoroethylene film and its use

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JP2501066B2
JP2501066B2 JP4171832A JP17183292A JP2501066B2 JP 2501066 B2 JP2501066 B2 JP 2501066B2 JP 4171832 A JP4171832 A JP 4171832A JP 17183292 A JP17183292 A JP 17183292A JP 2501066 B2 JP2501066 B2 JP 2501066B2
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film
pctfe
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infrared absorbance
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敏昭 石野
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は防湿用等に用いることの
できるポリクロロトリフルオロエチレン(以下、PCT
FEと称す)フィルム、該フィルムを用いた積層体ある
いはエレクトロルミネセンス素子(以下、EL素子と称
す)に関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to polychlorotrifluoroethylene (hereinafter referred to as PCT) which can be used for moisture prevention and the like.
A film, referred to as FE), a laminate using the film, or an electroluminescence device (hereinafter referred to as an EL device).

【0002】[0002]

【従来の技術】PCTFE製の防湿フィルムは実開昭5
7−128798号公報に記載されているように、EL
素子の被覆材として有用であり、更に、電気部品、電子
部品、医療材料、薬品等の被覆封止にも用いられてい
る。
2. Description of the Related Art Moisture-proof film made of PCTFE
As described in JP-A-7-128798,
It is useful as a covering material for elements, and is also used for covering and sealing electric parts, electronic parts, medical materials, chemicals and the like.

【0003】このPCTFEフィルムは熱溶融性樹脂で
あり、溶融成形により得られている。例えば、PCTF
Eの融点(約210〜220℃)よりも100℃程度高
い温度でフィルム状に押出し、次いで急冷する方法によ
り製造することができる。
This PCTFE film is a heat-meltable resin and is obtained by melt molding. For example, PCTF
It can be produced by a method of extruding into a film at a temperature about 100 ° C. higher than the melting point of E (about 210 to 220 ° C.) and then quenching.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、このPCT
FEフィルムをEL素子等の被覆用に用いる場合には、
通常、加熱によりその片面にホットメルト接着剤層を設
けるが、この際には該フィルム表面にスパッタエッチン
グ処理やコロナ処理のような接着処理を施さなければな
らいという面倒さがあった。
By the way, this PCT
When the FE film is used for coating an EL element or the like,
Usually, a hot-melt adhesive layer is provided on one side by heating, but at this time, the film surface has to be subjected to an adhesion treatment such as a sputter etching treatment or a corona treatment.

【0005】勿論、接着処理を施さずにホットメルト接
着剤層を設けることも考えられるが、この場合には該接
着剤層成形時の温度を約190℃以上にしなければなら
ず、かような高温での作業によるとPCTFEフィルム
の結晶化度が高まって脆くなり、応力ストレスによりク
ラックを生じ易くなるので実用的でない。
Of course, it is conceivable to provide the hot melt adhesive layer without performing the adhesive treatment, but in this case, the temperature at the time of molding the adhesive layer must be about 190 ° C. or higher. The operation at high temperature increases the crystallinity of the PCTFE film and makes it brittle, and cracks easily occur due to stress stress, which is not practical.

【0006】また、上記溶融成形により得たPCTFE
フィルムは成形時に分解を生じ分解ガスを内包している
ことがある。そして、分解ガスを内包するPCTFEフ
ィルム表面にホットメルト接着剤層形成成分を重ね合わ
せて加熱加圧すると、分解ガスが放出され、フィルム自
身やホットメルト接着剤層を発泡させてしまいその価値
を減じてしまうこともあった。
Further, the PCTFE obtained by the above melt molding
The film may decompose during molding and may contain a decomposed gas. When the hot melt adhesive layer forming component is superposed on the surface of the PCTFE film containing the decomposed gas and heated and pressed, the decomposed gas is released and the film itself and the hot melt adhesive layer are foamed to reduce its value. It was sometimes lost.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者は従来技術の有
する上記問題を解決するため鋭意研究の結果、特定の物
性値が特定数値以下であるPCTFEフィルムを得るこ
とにより、所期の目的が達成できることを見い出し、本
発明を完成するに至ったものである。
DISCLOSURE OF THE INVENTION As a result of intensive research to solve the above problems of the prior art, the present inventor has obtained a PCTFE film having a specific physical property value equal to or less than a specific value. The inventors have found what can be achieved and completed the present invention.

【0008】即ち、本発明に係るPCTFEフィルムは
1783cm-1における赤外線吸光度(A)と、227
6cm-1における赤外線吸光度(B)との比、(A)/
(B)が0.35以下であることを特徴とするものであ
る。
That is, the PCTFE film according to the present invention has an infrared absorbance (A) at 1783 cm −1 and 227
Ratio with infrared absorbance (B) at 6 cm -1 , (A) /
(B) is 0.35 or less.

【0009】PCTFEフィルムの赤外線吸収スペクト
ルにおいて、1783cm-1のピークは−CF=CF2
によるものであり、一方、2276cm-1のピークは−
CF2 −によるものと認識されている。そして、178
3cm-1の吸光度(A)と2273cm-1の吸光度
(B)の比、即ち、(A)/(B)は分子末端の多さ、
換言すると劣化の尺度と考えることができる。しかしな
がら、本発明のようにPCTFEフィルムの1783c
-1における赤外線吸光度(A)と、2276cm-1
おける赤外線吸光度(B)の比、(A)/(B)が0.
35以下であると何故、脆くなく、また分解ガスも生じ
ないかは未だ解明されていないが、後述の実施例に示す
ように、その効果が確認されている。
In the infrared absorption spectrum of the PCTFE film, the peak at 1783 cm -1 is -CF = CF 2
While the peak at 2276 cm −1 is −
CF 2 - are recognized to be due. And 178
The ratio of the absorbance of 3 cm -1 (A) and the absorbance of 2273 cm -1 (B), i.e., (A) / (B) is the molecular terminal abundance,
In other words, it can be considered as a measure of deterioration. However, as in the present invention, 1783c of PCTFE film
The ratio of the infrared absorbance (A) at m −1 and the infrared absorbance (B) at 2276 cm −1 , (A) / (B), is 0.
It is not yet clarified why it is not brittle and does not generate decomposition gas when it is 35 or less, but its effect has been confirmed as shown in Examples described later.

【0010】かような本発明に係るPCTFEフィルム
は格別な接着処理を施すことなく、その表面に接着剤層
を容易に設けることができるという予想外の効果をも有
する。これに対し、上記従来の溶融成形法によって得ら
れるPCTFEフィルムは、予めその表面にコロナ放電
処理、スパッタエッチング処理等の接着処理を施してお
かなければ、接着剤層の接着力が弱く、EL素子等の被
覆に用いた場合、フィルムと接着剤層との界面から水分
が浸透し素子寿命の短命化を招くというような不都合を
生ずる。
The PCTFE film according to the present invention also has an unexpected effect that an adhesive layer can be easily provided on the surface of the PCTFE film without any special adhesion treatment. On the other hand, in the PCTFE film obtained by the above-mentioned conventional melt molding method, the adhesive force of the adhesive layer is weak unless the surface is previously subjected to an adhesive treatment such as a corona discharge treatment or a sputter etching treatment. When it is used for coating such as, there arises such a disadvantage that moisture permeates from the interface between the film and the adhesive layer to shorten the life of the device.

【0011】この本発明に係る新規なPCTFEフィル
ムは従来の溶融成形法とは全く異なる方法により得られ
る。例えば、このPCTFEの粉末またはペレットを熱
プレスで加圧してフィルム化する方法により得ることが
できる。このときの温度は280℃以下、圧力は約10
〜150kg/cm2 、加熱加圧時間は約1〜10分と
する。また、PCTFE濃度が約30〜60重量%のデ
ィスパージョンを金属等の耐熱性基材上に流延した後、
加熱(温度は280℃以下とする)し溶媒を除去すると
共にPCTFEを焼成し、次いで基材表面から剥離する
方法(必要により、流延、加熱を繰り返し行なってもよ
い)によっても得ることができる。
The novel PCTFE film according to the present invention can be obtained by a method completely different from the conventional melt molding method. For example, it can be obtained by a method of pressing the PCTFE powder or pellets with a hot press to form a film. At this time, the temperature is 280 ° C or lower, and the pressure is about 10
˜150 kg / cm 2 , and heating / pressurizing time is about 1 to 10 minutes. Further, after casting a dispersion having a PCTFE concentration of about 30 to 60% by weight on a heat resistant substrate such as a metal,
It can also be obtained by heating (the temperature is 280 ° C. or lower) to remove the solvent, baking PCTFE, and then peeling it from the surface of the base material (casting and heating may be repeated if necessary). .

【0012】このような方法によって得られるPCTF
Eフィルムは、1783cm-1における吸光度(A)
と、2276cm-1における吸光度(B)の比、(A)
/(B)は0.35以下である。一方、前記従来の溶融
成形法によって得られるフィルムのそれは0.36以上
であり、この点で両者は異なる。
PCTF obtained by such a method
E film is the absorbance at 1783 cm -1 (A)
And the ratio of absorbance (B) at 2276 cm -1 , (A)
/ (B) is 0.35 or less. On the other hand, the film obtained by the conventional melt molding method has a film thickness of 0.36 or more, which is different in both points.

【0013】そして、かような本発明に係るPCTFE
フィルムをEL素子の被覆用等に用いるには、その片面
または両面にホットメルト接着剤等により接着剤層を設
けることができる。PCTFEフィルム表面へのホット
メルト接着剤層の形成は、従来と同様に該フィルムの表
面にホットメルト接着剤層形成成分を重ね合わせ、加熱
加圧すればよい。このときの温度を190℃以上の高温
に設定しても、フィルムの結晶化度はそれほど大きくな
らず、従って、フィルムも脆くなるようなことがない。
The PCTFE according to the present invention
When the film is used for coating an EL element or the like, an adhesive layer can be provided on one or both sides of the film with a hot melt adhesive or the like. The hot melt adhesive layer may be formed on the surface of the PCTFE film by superposing the hot melt adhesive layer-forming component on the surface of the film and heating and pressing the same as in the conventional case. Even if the temperature at this time is set to a high temperature of 190 ° C. or higher, the crystallinity of the film does not become so large, and therefore the film does not become brittle.

【0014】ホットメルト接着剤としては種々の成分の
ものが知られており、本発明においてもこれらを何ら制
限なく使用できるが、好適には、エチレン−グリシジル
メタクリレート共重合体あるいはエチレン−グリシジル
メタクリレート−酢酸ビニルランダム三元共重合体を用
いる。勿論、これら共重合体に老化防止剤、充填剤等の
添加剤を適量配合することもできる。エチレン−グリシ
ジルメタクリレート共重合体を成分とするホットメルト
接着剤は住友化学工業株式会社から「ボンドファースト
2C」、「ボンドファーストE」として、エチレン−グ
リシジルメタクリレート−酢酸ビニルランダム三元重合
体を成分とするホットメルト接着剤は同社から「ボンド
ファースト2B」、「ボンドファースト7B」として市
販されているので、これらを入手して使用することもで
きる。なお、これらホットメルト接着剤をPCTFEフ
ィルムの表面に設けるには、該接着剤の劣化防止のた
め、260℃以下の温度で作業するのが好ましい。
Various components are known as hot melt adhesives, and they can be used in the present invention without any limitation, but preferably they are ethylene-glycidyl methacrylate copolymer or ethylene-glycidyl methacrylate. A vinyl acetate random terpolymer is used. Of course, it is also possible to add an appropriate amount of additives such as an antioxidant and a filler to these copolymers. Hot melt adhesives containing ethylene-glycidyl methacrylate copolymer as a component are "Bond First 2C" and "Bond First E" from Sumitomo Chemical Co., Ltd., and ethylene-glycidyl methacrylate-vinyl acetate random terpolymer is used as a component. Hot-melt adhesives are available from the same company as "Bond First 2B" and "Bond First 7B", so they can be obtained and used. In order to provide these hot melt adhesives on the surface of the PCTFE film, it is preferable to work at a temperature of 260 ° C. or lower in order to prevent deterioration of the adhesives.

【0015】このPCTFEフィルムあるいは該フィル
ム表面にホットメルト接着剤層を設けた積層体はEL素
子の被覆に用いることができる。そして、このEL素子
は、少なくとも一方が透明な互いに対向する2個の電極
と、両電極間に挟持された発光体層を有し、これらがP
CTFEフィルムまたはPCTFEフィルムに接着剤層
を設けた積層フィルムによって被覆された構造を有す
る。
This PCTFE film or a laminate having a hot melt adhesive layer provided on the surface of the film can be used for coating an EL device. The EL element has two electrodes, at least one of which is transparent and faces each other, and a light emitting layer sandwiched between the two electrodes.
It has a structure covered with a laminated film in which an adhesive layer is provided on a CTFE film or a PCTFE film.

【0016】このEL素子の特徴は、被覆フィルムとし
て上記特定の物性値を有するPCTFEフィルムまたは
このフィルムに接着剤層を設けた積層体を用いることで
あり、素子構造自体は従来品と同じであってよい。
The feature of this EL device is that it uses a PCTFE film having the above-mentioned specific physical property values as a coating film or a laminate having an adhesive layer on this film, and the device structure itself is the same as the conventional product. You may

【0017】図1は本発明に係るEL素子の実例を示す
ものであり、透明電極1とそれに対向する背面電極2を
有し、これら両電極1、2間に発光体層3および絶縁層
4が挟持され、これらが厚さ約50〜300μmのPC
TFEフィルムの片面に厚さが各々約10〜150μm
のホットメルト接着剤層を設けた積層体5、6により被
覆封止されている。なお、背面電極は、通常、アルミニ
ウム箔、銅箔等から成るので不透明であるが、所望によ
り透明電極と同様に透明とすることもできる。
FIG. 1 shows an example of an EL device according to the present invention, which has a transparent electrode 1 and a back electrode 2 facing it, and a light emitting layer 3 and an insulating layer 4 between these two electrodes 1, 2. PC with a thickness of 50-300 μm
The thickness of each side of the TFE film is about 10 to 150 μm
Is covered and sealed by the laminated bodies 5 and 6 provided with the hot melt adhesive layer. The back electrode is usually opaque because it is made of aluminum foil, copper foil, or the like, but it can be made transparent like the transparent electrode if desired.

【0018】透明電極1としては透明基材7の片面に可
視光線領域で透明であり且つ導電性を有する透明導電層
8を形成したものが用いられている。透明基材としては
ガラス板、合成樹脂から成るフィルムや板を用いること
ができる。また、透明導電層は金、銀、銅、インジウ
ム、スズ等の金属、酸化インジウム、酸化スズ等の金属
酸化物あるいはこれらの混合物から形成でき、その厚さ
は通常約50〜1000オングストロームである。そし
て、透明基材表面への透明導電層の形成は従来から知ら
れている真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレー
ティング法等によって行なうことができる。
As the transparent electrode 1, there is used a transparent substrate 7 on one side of which a transparent conductive layer 8 which is transparent in the visible light region and has conductivity is formed. As the transparent substrate, a glass plate or a film or plate made of synthetic resin can be used. The transparent conductive layer can be formed from a metal such as gold, silver, copper, indium and tin, a metal oxide such as indium oxide and tin oxide, or a mixture thereof, and the thickness thereof is usually about 50 to 1000 angstrom. The transparent conductive layer can be formed on the surface of the transparent substrate by a conventionally known method such as vacuum deposition method, sputtering method and ion plating method.

【0019】発光体層は電圧の印加により発光するもの
で、例えば、蛍光体とバインダーとしての高分子誘電体
の混合物により形成でき、その厚さは通常約20〜10
0μmである。
The light-emitting layer emits light when a voltage is applied, and can be formed of, for example, a mixture of a phosphor and a polymer dielectric as a binder, and the thickness thereof is usually about 20 to 10.
0 μm.

【0020】蛍光体としては硫化亜鉛、セレン化亜鉛、
硫化亜鉛と硫化カドミウムの混晶等の主剤に活性剤とし
ての銅、金、銀、マンガン等の金属粉末および付活性剤
としての塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲンあるいはアル
ミニウム、ガリウム等の金属粉末を添加した混合物を用
いることができる。この場合、主剤、活性剤および付活
性剤の混合割合は、通常、主剤100重量部に対し、活
性剤0.01〜0.1重量部、付活性剤1〜3重量部で
ある。
As the phosphor, zinc sulfide, zinc selenide,
As a main agent such as a mixed crystal of zinc sulfide and cadmium sulfide, a metal powder such as copper, gold, silver and manganese as an activator and a halogen such as chlorine, bromine and iodine as an activator or a metal powder such as aluminum and gallium. The added mixture can be used. In this case, the mixing ratio of the main agent, the activator and the activator is usually 0.01 to 0.1 part by weight of the activator and 1 to 3 parts by weight of the activator with respect to 100 parts by weight of the main agent.

【0021】また、バインダーとしての高分子誘電体の
具体例として、シアノエチルセルロース等のセルロース
系樹脂、ポリフッ化ビニリデン、フッ化ビニリデンを含
む共重合体等のフッ素樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリ
エステル樹脂、有機ケイ素樹脂、メラミン樹脂、尿素樹
脂、ポリウレタン樹脂等を用いることができる。
Specific examples of the polymer dielectric as the binder include cellulosic resins such as cyanoethyl cellulose, fluororesins such as polyvinylidene fluoride and copolymers containing vinylidene fluoride, epoxy resins, unsaturated polyester resins, Organosilicon resin, melamine resin, urea resin, polyurethane resin and the like can be used.

【0022】発光体層形成成分としての蛍光体とバイン
ダーとの混合割合は種々の条件によって変わり得るが通
常はバイインダー100重量部に対し、蛍光体50〜6
00重量部である。
The mixing ratio of the phosphor as the component for forming the luminous body layer and the binder may vary depending on various conditions, but usually 50 to 6 of the phosphors are added to 100 parts by weight of the binder.
It is 00 parts by weight.

【0023】発光体層は、例えば、バインダー粉末をア
セトン、メチルエチルケトン、ジメチルフォルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等の
有機溶媒に溶解せしめ、この溶液中に蛍光体粉末を分散
させ、この液を透明電極上に塗布乾燥する方法により形
成できる。また、絶縁層は発光体層形成に用いたのと同
様な高分子誘電体(所望により、チタン酸バリウム、酸
化チタン等の高誘電率粉末を混合)により形成できる。
この絶縁層は省略も可能である。
For the light emitting layer, for example, a binder powder is dissolved in an organic solvent such as acetone, methyl ethyl ketone, dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, and the phosphor powder is dispersed in this solution. It can be formed by a method of coating and drying on top. In addition, the insulating layer can be formed of the same polymer dielectric as that used for forming the light emitting layer (if desired, a high dielectric constant powder such as barium titanate or titanium oxide is mixed).
This insulating layer can be omitted.

【0024】[0024]

【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
する。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples.

【0025】実施例1 ステンレス板上にPCTFE濃度50重量%の水性ディ
スパージョンを塗布し、次いで温度250℃で5分間加
熱してフィルムを形成する。そして、この塗布および加
熱を更に8回ずつ繰り返した後、フィルムをステンレス
板から剥離する。
Example 1 An aqueous dispersion having a PCTFE concentration of 50% by weight was coated on a stainless steel plate and then heated at a temperature of 250 ° C. for 5 minutes to form a film. Then, after repeating this application and heating eight times each, the film is peeled from the stainless plate.

【0026】このPCTFEフィルムは厚さ100μm
であり、その1783cm-1における赤外線吸光度
(A)は0.040、2276cm-1における赤外線吸
光度(B)は0.184、吸光度比(A)/(B)は
0.22であった。なお、赤外線吸光度の測定にはニコ
レ社製、赤外分光光度計5DXCを用い、チャート紙に
記録されたグラフから1783cm-1および2276c
-1におけるピーク高さを読取り吸光度とした。
This PCTFE film has a thickness of 100 μm.
, And the its 1783cm infrared absorbance at -1 (A) an infrared absorbance at 0.040,2276cm -1 (B) is 0.184, absorbance ratio (A) / (B) was 0.22. An infrared spectrophotometer 5DXC manufactured by Nikole Co., Ltd. was used to measure the infrared absorbance, and the graphs recorded on the chart paper were used at 1783 cm −1 and 2276 c.
The peak height at m −1 was read and used as the absorbance.

【0027】このPCTFEフィルムの片面に厚さ50
μmのエチレン−グリシジルメタクリレート共重合体フ
ィルム(住友化学工業社製、商品名ボンドファースト2
B)を重ね合わせ、温度200℃、圧力1kg/cm2
の条件で3分間加熱加圧し、積層体を得た。
This PCTFE film has a thickness of 50 on one side.
μm ethylene-glycidyl methacrylate copolymer film (Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name Bond First 2
B) are overlaid and the temperature is 200 ° C and the pressure is 1 kg / cm 2.
By heating and pressurizing for 3 minutes under the conditions described above, a laminate was obtained.

【0028】実施例2 ディスパージョン塗布後の温度を275℃とすること以
外は実施例1と同様に作業して、厚さ100μmのPC
TFEフィルムおよびこのフィルムの片面にホットメル
ト接着剤層を形成した積層体を得た。このPCTFEフ
ィルムの1783cm-1における赤外線吸光度(A)は
0.059、2276cm-1における吸光度(B)は
0.185、吸光度比(A)/(B)は0.32であっ
た。
Example 2 A PC having a thickness of 100 μm was prepared in the same manner as in Example 1 except that the temperature after the dispersion was applied was 275 ° C.
A TFE film and a laminate having a hot melt adhesive layer formed on one surface of the TFE film were obtained. The infrared absorbance (A) at 1783 cm −1 of this PCTFE film was 0.059, the absorbance (B) at 2276 cm −1 was 0.185, and the absorbance ratio (A) / (B) was 0.32.

【0029】比較例1 PCTFE粉末をTダイ押出機により、温度310℃で
押出して急冷し、厚さ100μmのフィルムを得る。こ
のフィルムの1783cm-1における赤外線吸光度
(A)は0.071、2276cm-1における吸光度
(B)は0.187、吸光度比(A)/(B)は0.3
8であった。
Comparative Example 1 PCTFE powder was extruded by a T-die extruder at a temperature of 310 ° C. and rapidly cooled to obtain a film having a thickness of 100 μm. The infrared absorbance (A) at 1783 cm −1 of this film was 0.071, the absorbance (B) at 2276 cm −1 was 0.187, and the absorbance ratio (A) / (B) was 0.3.
It was 8.

【0030】次に、このPCTFEフィルムの片面に実
施例1と同様にしてホットメルト接着剤層を形成し積層
体を得た。
Next, a hot melt adhesive layer was formed on one surface of this PCTFE film in the same manner as in Example 1 to obtain a laminate.

【0031】比較例2 PCTFEフィルムの片面をスパッタエッチング処理
し、この処理面にホットメルト接着剤層を設けること以
外は比較例1と同様に作業して積層体を得た。
Comparative Example 2 A laminate was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that one side of the PCTFE film was subjected to sputter etching and a hot melt adhesive layer was provided on this treated surface.

【0032】なお、スパッタエッチング処理には特公昭
53−22108号公報に記載された装置を用い、雰囲
気圧0.07Torr、雰囲気ガスAr、放電電力9W
att/cm2 、処理時間1minの条件で行なった。
For the sputter etching treatment, the apparatus described in Japanese Patent Publication No. 53-22108 was used. Atmospheric pressure 0.07 Torr, atmospheric gas Ar, discharge power 9 W
It was performed under the conditions of att / cm 2 and processing time of 1 min.

【0033】これら実施例および比較例によって得られ
た積層体について、下記要領により性能試験を行なっ
た。得られた結果を表1に示す。
Performance tests were conducted on the laminates obtained in these Examples and Comparative Examples according to the following procedure. The results obtained are shown in Table 1.

【0034】〔接着力試験〕積層体を2枚ずつ用意し、
ホットメルト接着剤層相互が向き合うように重ね合わ
せ、温度150℃、圧力1kg/cm2 の条件で1分間
加熱加圧して接合し、次に、インストロン型引張試験機
(オリエンテック社製、テンシロン)を用い、温度25
℃、引張速度300mm/minの条件で90°ピーリ
ング法により接着力を測定した。なお、接着力の単位は
「kg/cm」である。
[Adhesive strength test] Two laminated bodies were prepared,
The hot-melt adhesive layers are superposed so that they face each other, heated and pressed under the conditions of a temperature of 150 ° C. and a pressure of 1 kg / cm 2 for 1 minute to bond, and then an Instron type tensile tester (Tensilon manufactured by Orientec Co., Ltd.). ) With a temperature of 25
The adhesive strength was measured by the 90 ° peeling method under conditions of ° C and a pulling speed of 300 mm / min. The unit of the adhesive force is "kg / cm".

【0035】〔クラック試験〕接着力試験の場合と同様
にして積層体2枚を接合し、その曲率半径が5mmにな
るように折り曲げて試験片とし、この試験片各5個を温
度50℃、相対湿度95%の雰囲気中に1週間放置し、
クラック発生の有無を目視により観察した。表1には5
個の試験片のうちクラックが発生した試験片の個数を示
した。
[Crack Test] Two laminates were joined in the same manner as in the adhesive strength test, and bent so as to have a radius of curvature of 5 mm to obtain a test piece. Leave it in an atmosphere of 95% relative humidity for 1 week,
The presence or absence of cracks was visually observed. 5 in Table 1
The number of test pieces in which cracks occurred among the test pieces was shown.

【0036】〔発泡試験〕接着力試験に際して、分解ガ
スによるホットメルト接着剤層、PCTFEフィルムへ
の発泡の有無を目視により観察した。
[Foaming Test] In the adhesive strength test, the presence or absence of foaming on the hot melt adhesive layer and the PCTFE film due to decomposition gas was visually observed.

【0037】 [0037]

【0038】[0038]

【発明の効果】本発明は上記のように構成されているの
で、その表面に接着剤層を設けても結晶化度が高まるこ
とがなく、応力ストレスによってもクラックを生じ難
く、分解ガスによる発泡も少なく、また、接着剤層を強
固に接着できる。
EFFECTS OF THE INVENTION Since the present invention is constituted as described above, even if an adhesive layer is provided on the surface thereof, the degree of crystallinity does not increase, cracking does not easily occur due to stress stress, and foaming by decomposition gas occurs. In addition, the adhesive layer can be firmly adhered.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係るEL素子の実例を示す断面図であ
る。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an actual example of an EL element according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透明電極 2 背面電極 3 発光体層 4 絶縁層 5 積層体 6 積層体 1 Transparent Electrode 2 Back Electrode 3 Light-Emitting Layer 4 Insulating Layer 5 Laminated Body 6 Laminated Body

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 1783cm-1における赤外線吸光度
(A)と、2276cm-1における赤外線吸光度(B)
の比、(A)/(B)が0.35以下であることを特徴
とするポリクロロトリフルオロエチレンフィルム。
1. An infrared absorbance (A) at 1783 cm -1 and an infrared absorbance (B) at 2276 cm -1 .
The ratio (A) / (B) is 0.35 or less, a polychlorotrifluoroethylene film.
【請求項2】 1783cm-1における赤外線吸光度
(A)と、2276cm-1における赤外線吸光度(B)
の比、(A)/(B)が0.35以下であるポリクロロ
トリフルオロエチレンフィルムの表面に接着剤層を設け
て成る積層体。
Wherein the infrared absorbance at 1783 cm -1 and (A), an infrared absorbance at 2276cm -1 (B)
And a ratio of (A) / (B) is 0.35 or less, a laminate comprising an adhesive layer provided on the surface of a polychlorotrifluoroethylene film.
【請求項3】 接着剤層が、エチレン−グリシジルメタ
クリレート共重合体またはエチレン−グリシジルメタク
リレート−酢酸ビニル三元ランダム共重合体の少なくと
も一方を必須成分とするホットメルト接着剤により形成
されている請求項2記載の積層体。
3. The adhesive layer is formed by a hot-melt adhesive containing at least one of an ethylene-glycidyl methacrylate copolymer and an ethylene-glycidyl methacrylate-vinyl acetate ternary random copolymer as an essential component. 2. The laminate according to 2.
【請求項4】 少なくとも一方が透明な互いに対向する
2個の電極と、両電極間に挟持された発光体層およびこ
れらを被覆するポリクロロトリフルオロエチレン層から
成り、この被覆層が請求項1記載のフィルム、請求項2
記載の積層体または請求項3記載の積層体のいずれかで
あるエレクトロルミネセンス素子。
4. An electrode comprising two electrodes, at least one of which is transparent and facing each other, a light emitting layer sandwiched between the two electrodes, and a polychlorotrifluoroethylene layer which covers the two layers, the coating layer comprising: A film according to claim 2,
An electroluminescent device which is either the laminate according to claim 3 or the laminate according to claim 3.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57165994A (en) * 1981-04-03 1982-10-13 Alps Electric Co Ltd Electric field light emitting element
JPS58117676A (en) * 1981-12-29 1983-07-13 日東電工株式会社 Electroluminescent element
JPS63224943A (en) * 1987-03-16 1988-09-20 住友ベークライト株式会社 Moisture-proof film

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57165994A (en) * 1981-04-03 1982-10-13 Alps Electric Co Ltd Electric field light emitting element
JPS58117676A (en) * 1981-12-29 1983-07-13 日東電工株式会社 Electroluminescent element
JPS63224943A (en) * 1987-03-16 1988-09-20 住友ベークライト株式会社 Moisture-proof film

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