JP2024529801A - Light-emitting substrate, its manufacturing method, and display device - Google Patents
Light-emitting substrate, its manufacturing method, and display device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2024529801A JP2024529801A JP2022546048A JP2022546048A JP2024529801A JP 2024529801 A JP2024529801 A JP 2024529801A JP 2022546048 A JP2022546048 A JP 2022546048A JP 2022546048 A JP2022546048 A JP 2022546048A JP 2024529801 A JP2024529801 A JP 2024529801A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bonding
- light
- substrate
- emitting substrate
- led chip
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 204
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 11
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 claims description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 92
- 239000000463 material Substances 0.000 description 22
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 18
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 10
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 7
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 5
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 5
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 5
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000012945 sealing adhesive Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 1
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/02—Containers; Seals
- H01L23/06—Containers; Seals characterised by the material of the container or its electrical properties
- H01L23/08—Containers; Seals characterised by the material of the container or its electrical properties the material being an electrical insulator, e.g. glass
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/12—Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
- H01L23/14—Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates characterised by the material or its electrical properties
- H01L23/145—Organic substrates, e.g. plastic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
- H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
- H01L23/3121—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
- H01L23/49827—Via connections through the substrates, e.g. pins going through the substrate, coaxial cables
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/02—Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L24/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/10—Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L24/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/10—Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L24/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/10—Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L24/17—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of a plurality of bump connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L24/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L24/10, H01L24/18, H01L24/26, H01L24/34, H01L24/42, H01L24/50, H01L24/63, H01L24/71
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices
- H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L25/04—Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L25/075—Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H10H20/00
- H01L25/0753—Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H10H20/00 the devices being arranged next to each other
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices
- H01L25/16—Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices the devices being of types provided for in two or more different subclasses of H10B, H10D, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. forming hybrid circuits
- H01L25/167—Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices the devices being of types provided for in two or more different subclasses of H10B, H10D, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. forming hybrid circuits comprising optoelectronic devices, e.g. LED, photodiodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices
- H01L25/50—Multistep manufacturing processes of assemblies consisting of devices, the devices being individual devices of subclass H10D or integrated devices of class H10
-
- H01L33/52—
-
- H01L33/62—
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0556—Disposition
- H01L2224/05568—Disposition the whole external layer protruding from the surface
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/05573—Single external layer
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/13001—Core members of the bump connector
- H01L2224/13099—Material
- H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/13101—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of less than 400°C
- H01L2224/13111—Tin [Sn] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/13001—Core members of the bump connector
- H01L2224/13099—Material
- H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/13117—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
- H01L2224/13123—Magnesium [Mg] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/13001—Core members of the bump connector
- H01L2224/13099—Material
- H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/13117—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
- H01L2224/13124—Aluminium [Al] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/13001—Core members of the bump connector
- H01L2224/13099—Material
- H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/13138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/13139—Silver [Ag] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/13001—Core members of the bump connector
- H01L2224/13099—Material
- H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/13138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/13147—Copper [Cu] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/13001—Core members of the bump connector
- H01L2224/13099—Material
- H01L2224/13186—Material with a principal constituent of the material being a non metallic, non metalloid inorganic material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16135—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/16145—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
- H01L2224/16147—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked the bump connector connecting to a bonding area disposed in a recess of the surface
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16135—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/16145—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
- H01L2224/16148—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked the bump connector connecting to a bonding area protruding from the surface
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/17—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of a plurality of bump connectors
- H01L2224/171—Disposition
- H01L2224/1718—Disposition being disposed on at least two different sides of the body, e.g. dual array
- H01L2224/17181—On opposite sides of the body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/32227—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation the layer connector connecting to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73201—Location after the connecting process on the same surface
- H01L2224/73203—Bump and layer connectors
- H01L2224/73204—Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/053—Oxides composed of metals from groups of the periodic table
- H01L2924/0549—Oxides composed of metals from groups of the periodic table being a combination of two or more materials provided in the groups H01L2924/0531 - H01L2924/0546
-
- H01L2933/0066—
-
- H01L33/0093—
-
- H01L33/504—
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Led Device Packages (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
本発明は、発光基板、その製造方法及び表示装置を開示する。発光基板は、ボンディング電極を含む駆動回路層と、接続電極がボンディング電極に接続されるLEDチップと、LEDチップの駆動回路層から遠い側に設けられ、LEDチップ及び駆動回路層を被覆する封止層と、封止層のLEDチップから遠い側に設けられ、封止層から遠い側の表面が発光基板の発光面であるカバープレートと、を含む。【選択図】図1The present invention discloses a light-emitting substrate, a manufacturing method thereof, and a display device. The light-emitting substrate includes a drive circuit layer including a bonding electrode, an LED chip having a connection electrode connected to the bonding electrode, a sealing layer provided on the side of the LED chip remote from the drive circuit layer and covering the LED chip and the drive circuit layer, and a cover plate provided on the sealing layer remote from the LED chip, the surface of the sealing layer remote from the LED chip being the light-emitting surface of the light-emitting substrate. [Selected Figure] Figure 1
Description
本発明は、表示の技術分野に関し、具体的には発光基板、その製造方法及び表示装置に関する。 The present invention relates to the technical field of displays, and more specifically to a light-emitting substrate, its manufacturing method, and a display device.
Micro-LED(Micro Light-Emitting Diode,マイクロ発光ダイオード)及びMini-LED(Mini Light-Emitting Diode,ミニ発光ダイオード)は、近年市場で盛んに開発された新規表示技術である。このような表示技術は、寿命が長く、画面遅延が低く、色域が広く、リフレッシュレートが高いなどの比べものにならないほど多くの優位性を持っており、コストの低下及び関連技術の成熟に伴い、MLED(Mini-LED/Micro-LED)表示装置は次第に市場の主流となっている。従来のMLED構造を形成する方法は、まず駆動回路及びボンディング電極をガラス基板上に形成し、次にLEDチップを直接ガラス基板上に移載してボンディングし、最後に封止粘着剤を塗布すればよい。この構造は簡単であるが、表示面が封止粘着剤及び駆動回路側に位置するため、表示装置の表面の耐傷性が弱い。 Micro-LED (Micro Light-Emitting Diode) and Mini-LED (Mini Light-Emitting Diode) are new display technologies that have been actively developed in the market in recent years. Such display technologies have many incomparable advantages, such as a long lifespan, low screen delay, wide color gamut, and high refresh rate. With the reduction in cost and the maturity of related technologies, MLED (Mini-LED/Micro-LED) display devices are gradually becoming the mainstream in the market. The conventional method of forming an MLED structure is to first form a driving circuit and bonding electrodes on a glass substrate, then transfer and bond the LED chip directly onto the glass substrate, and finally apply a sealing adhesive. Although this structure is simple, the display surface is located on the sealing adhesive and driving circuit side, so the scratch resistance of the display surface is poor.
本発明は、従来技術におけるMLED表示装置の表面の耐傷性が弱いという技術的課題を解決するように、発光基板、その製造方法及び表示装置を提供する。 The present invention provides a light-emitting substrate, a manufacturing method thereof, and a display device to solve the technical problem of poor scratch resistance on the surface of MLED display devices in the prior art.
本発明は、
ボンディング電極を含む駆動回路層と、
前記ボンディング電極に接続される接続電極を含むLEDチップと、
前記LEDチップの前記駆動回路層から遠い側に設けられ、前記LEDチップ及び前記駆動回路層を被覆する封止層と、
前記封止層の前記LEDチップから遠い側に設けられ、前記封止層から遠い側の表面が前記発光基板の発光面であるカバープレートと、を含む発光基板を提供する。
The present invention relates to
a drive circuit layer including a bonding electrode;
an LED chip including a connection electrode connected to the bonding electrode;
a sealing layer provided on a side of the LED chip farther from the drive circuit layer and covering the LED chip and the drive circuit layer;
a cover plate provided on a side of the encapsulation layer remote from the LED chip, the surface of the cover plate remote from the encapsulation layer being a light emitting surface of the light emitting substrate.
所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記発光基板は、前記駆動回路層の前記LEDチップから遠い側に設けられる基板をさらに含む。 Optionally, in some embodiments of the present invention, the light-emitting substrate further includes a substrate provided on a side of the driving circuit layer away from the LED chip.
所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記駆動回路層がボンディングパッドをさらに含み、前記基板がフレキシブル基板であり、前記基板上には、前記ボンディングパッドと対応して設けられるとともに、各前記ボンディングパッドの前記カバープレートから遠い側の表面を露出させるビアホールが設けられ、
前記発光基板は、前記ビアホールを介して対応する前記ボンディングパッドに接続されるボンディングピンを含む少なくとも1つの駆動チップをさらに含む。
Optionally, in some embodiments of the present invention, the driving circuit layer further includes bonding pads, the substrate is a flexible substrate, and via holes are provided on the substrate, corresponding to the bonding pads, and exposing the surfaces of the bonding pads on the side away from the cover plate;
The light emitting substrate further includes at least one driver chip including bonding pins connected to the corresponding bonding pads through the via holes.
所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記ビアホールの孔径が対応する前記ボンディングピンの径方向寸法よりも大きく、前記ボンディングピンの少なくとも一部が対応する前記ビアホール内に位置する。 Optionally, in some embodiments of the present invention, the via hole has a diameter larger than a radial dimension of the corresponding bonding pin, and at least a portion of the bonding pin is located within the corresponding via hole.
所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記ボンディングピンは、前記ビアホールと係合固定される。 Optionally, in some embodiments of the present invention, the bonding pin is engaged and fixed with the via hole.
所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記駆動回路層がボンディングパッドをさらに含み、前記発光基板は、前記駆動回路層の前記LEDチップから遠い側に設けられる少なくとも1つの駆動チップをさらに含み、前記駆動チップが対応する前記ボンディングパッドに接続されるボンディングピンを含む。 Optionally, in some embodiments of the present invention, the driving circuit layer further includes bonding pads, and the light emitting substrate further includes at least one driving chip disposed on a side of the driving circuit layer remote from the LED chip, the driving chip including a bonding pin connected to a corresponding one of the bonding pads.
所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記ボンディングピンは対応する前記ボンディングパッドと接触接続され、前記ボンディングピンと対応する前記ボンディングパッドとの間に金属結合が形成されている。 Optionally, in some embodiments of the present invention, the bonding pins are in contact with the corresponding bonding pads such that a metal bond is formed between the bonding pins and the corresponding bonding pads.
所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記発光基板は、前記ボンディングパッドと前記駆動チップとの間に設けられる導電性ペースト層をさらに含み、前記ボンディングピンと対応する前記ボンディングパッドとの間が前記導電性ペースト層を介して接続される。 Optionally, in some embodiments of the present invention, the light-emitting substrate further includes a conductive paste layer provided between the bonding pads and the driving chip, and the bonding pins and the corresponding bonding pads are connected via the conductive paste layer.
所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記発光基板は、表示パネル又はバックライトパネルである。 Optionally, in some embodiments of the present invention, the light-emitting substrate is a display panel or a backlight panel.
したがって、本発明は、少なくとも2つの上記のいずれかに記載の発光基板から接合形成される表示装置をさらに提供する。 Therefore, the present invention further provides a display device formed by bonding at least two of the light-emitting substrates described above.
したがって、本発明は、
硬質基板を提供するステップと、
前記硬質基板上には、基板と、ボンディング電極及びボンディングパッドを含む駆動回路層とを順次形成するステップと、
LEDチップを提供し、前記LEDチップの接続電極を前記ボンディング電極に対応してボンディング接続するステップと、
前記LEDチップの前記硬質基板から遠い側に封止層及びカバープレートを順次形成するステップと、
前記硬質基板を剥離するステップと、を含む発光基板の製造方法をさらに提供する。
Thus, the present invention provides
Providing a rigid substrate;
Sequentially forming a substrate and a driving circuit layer including a bonding electrode and a bonding pad on the hard substrate;
providing an LED chip, and bonding-connecting connection electrodes of the LED chip to the bonding electrodes;
sequentially forming an encapsulation layer and a cover plate on a side of the LED chip away from the rigid substrate;
and peeling off the hard substrate.
所望により、本発明のいくつかの実施例において、
前記ボンディングパッドの前記カバープレートから遠い側の表面を露出させるように、前記基板を全面エッチング又は穿孔エッチングするステップと、
駆動チップを提供するとともに、前記駆動チップを前記ボンディングパッドにボンディング接続するステップと、をさらに含む。
Optionally, in some embodiments of the present invention,
blanket or hole etch the substrate to expose surfaces of the bonding pads remote from the cover plate;
The method further includes providing a driver chip and bonding the driver chip to the bonding pad.
本発明は、発光基板、その製造方法及び表示装置を提供する。前記発光基板において、前記駆動回路層は複数のボンディング電極を含む。各前記LEDチップは、対応する前記ボンディング電極にそれぞれ接続される接続電極を2つ含む。前記封止層は、前記LEDチップの前記駆動回路層から遠い側に設けられ、前記LEDチップ及び前記駆動回路層を被覆する。前記カバープレートは、前記封止層の前記LEDチップから遠い側に設けられ、前記封止層から遠い側の表面が前記発光基板の発光面である。本発明は、発光基板にLEDチップを反転ボンディングすることにより、発光基板の表面の耐傷性を向上させ、発光基板の水や酸素への耐食性を向上させ、製品の信頼性を向上させることができる。さらに、基板を剥離又はハーフエッチングすることにより、駆動チップを駆動回路層のカバープレートから遠い側にボンディングし、両面ボンディングの方式を採用して、狭額縁化又はフレームレス化(額縁レス化、ベゼルレス化)の目的を達成することができる。 The present invention provides a light-emitting substrate, a manufacturing method thereof, and a display device. In the light-emitting substrate, the driving circuit layer includes a plurality of bonding electrodes. Each of the LED chips includes two connection electrodes that are respectively connected to the corresponding bonding electrodes. The sealing layer is provided on the side of the LED chips far from the driving circuit layer, and covers the LED chips and the driving circuit layer. The cover plate is provided on the side of the sealing layer far from the LED chips, and the surface far from the sealing layer is the light-emitting surface of the light-emitting substrate. The present invention improves the scratch resistance of the surface of the light-emitting substrate by inverting bonding the LED chip to the light-emitting substrate, improves the corrosion resistance of the light-emitting substrate to water and oxygen, and improves the reliability of the product. Furthermore, by peeling or half-etching the substrate, the driving chip is bonded to the side of the driving circuit layer far from the cover plate, and a double-sided bonding method is adopted to achieve the purpose of narrowing the frame or making it frameless (frameless, bezelless).
本発明の実施例における技術的手段をより明確に説明するために、以下、実施例の説明で使用する必要がある図面を簡単に紹介し、以下の説明における図面は、本発明の幾つかの実施例に過ぎなく、当業者にとっては創造的努力なしにこれらの図面から他の図面を導き出すこともできることは明らかである。
以下、本発明の実施例における図面を参照しながら、本発明の実施例における技術的手段を明確かつ完全に説明するが、説明した実施例は本発明の実施例のすべてではなく、単に実施例の一部であることは明らかである。本発明における実施例に基づいて、当業者が創造的努力なしに取得したすべての他の実施例は、いずれも本発明の保護範囲に属している。 The technical means in the embodiments of the present invention will be described below clearly and completely with reference to the drawings in the embodiments of the present invention, but it is clear that the described embodiments are not all of the embodiments of the present invention, but are merely some of the embodiments. All other embodiments obtained by a person skilled in the art without creative efforts based on the embodiments of the present invention are all within the scope of protection of the present invention.
本発明の説明において、「第一」及び「第二」という用語は、単に説明するためのものであり、相対的な重要性を指示又は示唆するか、又は示される技術的特徴の数を暗示すると理解されるべきではない。したがって、「第一」及び「第二」によって限定されている特徴は、1つ又は複数の前記特徴を含むことを明示又は暗示することができるため、本発明を限定するものとして理解されるべきではない。 In describing the present invention, the terms "first" and "second" are merely for illustrative purposes and should not be understood to indicate or suggest the relative importance or number of technical features depicted. Thus, features qualified by "first" and "second" should not be understood as limiting the present invention, since they may expressly or imply the inclusion of one or more of said features.
本発明は、発光基板、その製造方法及び表示装置を提供し、以下、詳細に説明する。なお、以下の実施例の説明順序は、本発明の実施例の好ましい順序を限定するものではない。 The present invention provides a light-emitting substrate, a manufacturing method thereof, and a display device, which will be described in detail below. Note that the order in which the following examples are described does not limit the preferred order of the examples of the present invention.
図1に示すように、図1は本発明に係る発光基板の第1の構造概略図である。本発明の実施例において、発光基板100は、ボンディング電極11を含む駆動回路層10と、ボンディング電極11に接続される接続電極21を含むLEDチップ20と、LEDチップ20の駆動回路層10から遠い側に設けられ、LEDチップ20及び駆動回路層10を被覆する封止層30と、封止層30のLEDチップ20から遠い側に設けられ、封止層30から遠い側の表面40aが発光基板100の発光面であるカバープレート40と、を含む。
As shown in FIG. 1, FIG. 1 is a first structural schematic diagram of a light-emitting substrate according to the present invention. In an embodiment of the present invention, the light-
本発明の実施例は、LEDチップ20を反転ボンディングする方法により、カバープレート40の封止層30から遠い側の表面40aを発光基板100の発光面とする。カバープレート40の硬度が高いため、発光基板100の表面の耐傷性を向上させ、LEDチップ20及び駆動回路層10に外部から傷つけることを防止することができる。また、従来技術では、ボンディング電極11及び接続電極21が外側に設けられることで、封止層30を露出させ、水や酸素からの腐食を受けやすい。本発明の実施例の発光基板100において、ボンディング電極11と接続電極21とが発光基板100の内側に設けられているので、発光基板100の水や酸素への耐食性を向上させ、製品の信頼性を向上させることができる。
In the embodiment of the present invention, the
本発明の実施例において、駆動回路層10は、駆動電圧及び電源電圧などの駆動信号をLEDチップ20に供給するためのものであり、基板上に設けられる薄膜トランジスタ機能層を含んでいてもよく、薄膜トランジスタ機能層の具体的な構成については従来技術を参照することができ、ここではその説明を省略する。
In an embodiment of the present invention, the
本発明の実施例において、ボンディング電極11は、駆動回路層10上の駆動信号を引き出すための信号出力端子であり、少なくとも2つ設けられていてもよく、具体的にはLEDチップ20の数によって決まり、銅、アルミニウム、マグネシウム、銀、スズ、酸化インジウムスズ等の導電率が良好で、比較的低い融点を有する導電材料からなり、アレイ状に配列されてもよい。ボンディング電極11の数及び配列構造が、発光基板100の解像度等の実際の要件に応じて設計することができ、本発明はこれに限定されるものではない。
In an embodiment of the present invention, the
本発明の実施例において、LEDチップ20は、少なくとも2つ設けられていてもよい。各LEDチップ20に2つの接続電極21が設けられている。駆動回路層10において各LEDチップ20に対応して間隔をおいて設けられるボンディング電極11が設けられている。2つのボンディング電極11は、それぞれ駆動回路層10における異なる駆動信号を引き出すためのものである。各接続電極21と対応するボンディング電極11との間は、半田ペースト13を介して接続されていてもよいし、溶融溶接、金属結合等の直接接触方法により接続されていてもよく、本発明はこれを特に限定するものではない。
In an embodiment of the present invention, at least two
本発明の実施例において、LEDチップ20は、Mini-LEDチップ、Micro-LEDチップ等であってもよい。LEDチップ20の数が、発光基板100のサイズ及び発光輝度等の要件に応じて設定することができる。LEDチップ20は、発光材料層23、保護層22、発光材料層23上に堆積される第1電極及び第2電極をさらに含む。各接続電極21が第1電極又は第2電極に接続される。又はLEDチップ20において、一方の接続電極21が第1電極であり、他方の接続電極21が第2電極である。勿論、本発明におけるLEDチップ20の構成はこれに限定されるものではない。
In the embodiment of the present invention, the
LEDチップ20の発光材料が、窒化ガリウム等の無機発光材料又は量子ドット等の有機発光材料であってもよい。LEDチップ20は、赤色光、青色光、緑色光、白色光又は黄色光等を発光することができる。LEDチップ20を製造する際に、発光色のニーズに応じて異なる発光材料を選択することができる。
The light-emitting material of the
本発明の一実施例において、複数のLEDチップ20は、赤色LEDチップ、緑色LEDチップ及び青色LEDチップを含む。赤色LEDチップにおいて、発光材料層23は、赤色発光材料層201である。緑色LEDチップにおいて、発光材料層23は、緑色発光材料層202である。青色LEDチップにおいて、発光材料層23は、青色発光材料層203である。
In one embodiment of the present invention, the plurality of
本発明の実施例において、封止層30の材料が、通常、発光基板100の光透過率を高めるように透明なものである。具体的には、封止層30の材料がOCA(Optically Clear Adhesive:光学用透明粘着シート)又は他の透明粘着剤であってもよい。本発明の実施例は透明粘着剤を用いて封止層30を形成することにより、発光基板100の光取り出し効率を向上させる一方で、駆動回路層10とカバープレート40との粘着性を高め、発光基板100の構造安定性を高めることができる。さらに、封止層30がLEDチップ20を被覆するので、LEDチップ20を固定保護する役割を果たすことができる。
In the embodiment of the present invention, the material of the
本発明の実施例において、カバープレート40は、ガラスカバープレート又は他の硬質透明カバープレートであってもよく、発光基板100における他の機能膜層を支持保護する役割を果たす。カバープレート40の封止層30から遠い側の表面40aが発光基板100の発光面であるため、カバープレート40を透明カバープレートとして設けることにより、発光基板100の光取り出し効率を向上させることができる。
In an embodiment of the present invention, the
本発明のいくつかの実施例において、発光基板100は、駆動回路層10のLEDチップ20から遠い側に設けられる基板50をさらに含む。
In some embodiments of the present invention, the
基板50は、フレキシブル基板であってもよいし、硬質基板であってもよく、1層又は2層以上のフレキシブルPI(Polyimide,ポリイミド)を含むことができ、樹脂等の材料で製造されていてもよい。
The
本発明の実施例は、駆動回路層10のLEDチップ20から遠い側に基板50を設けることにより、駆動回路層10を保護支持する役割を果たし、発光基板100の構造安定性を向上させることができる。
In the embodiment of the present invention, by providing a
本発明の実施例において、発光基板100は、駆動信号又は電源電圧を駆動回路層10に供給するための駆動チップをさらに含むことができる。駆動チップは、発光基板100の額縁領域に設けられていてもよいし、発光基板100の側辺に設けられていてもよいか、又は発光基板100の裏面に設けられていてもよく、具体的な内容は以下の実施例で説明され、ここではその説明を省略する。
In an embodiment of the present invention, the
図2に示すように、図2は本発明に係る発光基板の第2の構造概略図である。図1に記載の発光基板100との相違点は、本発明の実施例において、駆動回路層10はボンディングパッド12をさらに含むことにある。基板50はフレキシブル基板であり、基板50上にビアホール50aが設けられている。ビアホール50aは、ボンディングパッド12と対応して設けられて、各ボンディングパッド12のカバープレート40から遠い側の表面を露出させる。
As shown in FIG. 2, FIG. 2 is a second structural schematic diagram of the light emitting substrate according to the present invention. The difference from the
発光基板100は、ビアホール50aを介して対応するボンディングパッド12に接続されるボンディングピン61を含む少なくとも1つの駆動チップ60をさらに含む。
The light-emitting
駆動チップ60は、1つ設けられてもよいし、2つ以上設けられてもよい。駆動チップ60の数が、具体的に発光基板100のサイズによって設定することができる。ボンディングパッド12が複数設けられてもよい。ボンディングピン61の数がボンディングパッド12の数と等しくてもよい。ボンディングパッド12がボンディングピン61と一対一で対応してボンディング接続される。
One or more
駆動チップ60から出力される駆動電圧又は電源電圧を駆動回路層10における駆動回路又は電源配線に出力するように、ボンディングパッド12がボンディングピン61にボンディング接続される。
The
具体的には、図3及び図4を参照されたい。図3は本発明に係る発光基板の発光面の平面構造概略図である。図4は本発明に係る発光基板の裏面の平面構造概略図である。図3に示すように、発光基板100は、表示領域DAと、表示領域DAに接続される非表示領域NAとを含む。駆動チップ60が表示領域DAに設けられる。非表示領域NAに主に信号を転送する複数の配線が設けられ、ここではその説明を省略する。勿論、いくつかの実施例において、発光基板100は表示領域DAのみを含むことで、フレームレス化を実現することができる。駆動チップ60が発光基板100の裏面にボンディングされる。駆動チップ60が複数設けられてもよく、複数の駆動チップ60が発光基板100の裏面にアレイ状に配列されてもよい。勿論、駆動チップ60の設定については、本発明はこれに限定されるものではなく、具体的に発光基板100の実際の構成によって設定することができる。
For details, please refer to FIG. 3 and FIG. 4. FIG. 3 is a schematic diagram of the planar structure of the light-emitting surface of the light-emitting substrate according to the present invention. FIG. 4 is a schematic diagram of the planar structure of the back surface of the light-emitting substrate according to the present invention. As shown in FIG. 3, the light-emitting
本発明の実施例において、基板50がフレキシブル基板であり、エッチング技術により基板50を穿孔して、駆動チップ60と駆動回路層10とのボンディングを実現することができる。例えば、基板50がPIフレキシブル基板である場合に、PI材料の特性に基づいて、基板50を薬液によりエッチングすることができる。
In an embodiment of the present invention, the
本発明の実施例は、LEDチップ20を駆動回路層10のカバープレート40に近い側にボンディングし、駆動チップ60を基板50のカバープレート40から遠い側にボンディングし、両面ボンディング及び基板50のエッチング技術により、駆動チップ60を発光基板100の裏面に設けることができ、独立して側辺に駆動チップ60をボンディングする空間を省くことで、狭額縁化又はフレームレス化の目的を達成する。また、従来技術における回路基板に駆動チップ60を直接搭載する場合に比べて、技術的な難度が低い。
In the embodiment of the present invention, the
引続き図2を参照されたく、本発明の実施例において、ビアホール50aの孔径が対応するボンディングピン61の径方向寸法よりも大きく、ボンディングピン61の少なくとも一部が対応するビアホール50a内に位置する。
Continuing to refer to FIG. 2, in an embodiment of the present invention, the diameter of the via
本発明の実施例は、ビアホール50aの孔径を対応するボンディングピン61の径方向寸法よりも大きく設けることにより、駆動チップ60をボンディングする際に、ボンディングピン61をビアホール50a内に深く挿入することで、発光基板100の厚さを薄くし、駆動チップ60のボンディング安定性を向上させることができる。
In an embodiment of the present invention, the hole diameter of the via
本発明の実施例において、ビアホール50aの形状がボンディングピン61の形状に一致することができる。例えば、ビアホール50aとボンディングピン61の断面構造とがいずれも矩形などであってもよい。駆動チップ60のボンディング安定性をさらに向上させるように、ボンディングピン61がビアホール50aと係合固定されてもよい。
In an embodiment of the present invention, the shape of the via
本発明の実施例において、ボンディングピン61の深さがビアホール50aの深さよりも大きくなってもよい。この場合に、ボンディングピン61が対応するボンディングパッド12に接触接続されてもよい。ボンディングピン61と対応するボンディングパッド12との間に金属結合が形成される。
In an embodiment of the present invention, the depth of the
金属結合は、金属中の原子を一緒に接続する化学結合である。これらは、金属結合における電子が非局在化しているものであり、つまり、2つの原子間のみで共有されているわけではないことから、共有結合及びイオン結合とは異なる。逆に、金属結合における電子が金属原子核の結晶格子中を自由に浮遊する。このタイプの結合は、優れた熱伝導性、導電性、高融点及び延性を含める多くの特有の材料特性を金属に付与する。金属結合によりボンディングピン61と対応するボンディングパッド12との間に優れた導電性を有する。
Metallic bonds are chemical bonds that connect atoms in metals together. They differ from covalent and ionic bonds because the electrons in metallic bonds are delocalized, that is, not shared solely between two atoms. Conversely, the electrons in metallic bonds float freely in the crystal lattice of the metal nuclei. This type of bond gives metals many unique material properties, including excellent thermal and electrical conductivity, high melting points, and ductility. Metallic bonds provide excellent electrical conductivity between the
図5に示すように、図5は本発明に係る発光基板の第3の構造概略図である。図2に示す発光基板100との相違点は、本発明の実施例において、発光基板100は、ボンディングパッド12と駆動チップ60との間に設けられる導電性ペースト層70をさらに含むことにある。ボンディングピン61と対応するボンディングパッド12とが導電性ペースト層70を介して接続される。
As shown in FIG. 5, FIG. 5 is a schematic diagram of a third structure of the light emitting substrate according to the present invention. The difference from the
導電性ペースト層70の材料が異方性導電フィルム(Anisotropic Conductive Film,ACF)であってもよい。異方性導電フィルム中の導電粒子を用いてボンディングピン61と対応するボンディングパッド12とを接続して導通させることにより、隣接するボンディングピン61の間又は隣接するボンディングパッド12の間の短絡を防止することができる。勿論、導電性ペースト層70が他の導電性ペーストで製造されてもよい。各ボンディングピン61と対応するボンディングパッド12とに対して独立して導電性ペースト層70を設けてもよい。
The material of the
図6に示すように、図6は本発明に係る発光基板の第4の構造概略図である。図2に示す発光基板100との相違点は、本発明の実施例において、発光基板100に基板50が設けられていないことにある。
As shown in FIG. 6, FIG. 6 is a schematic diagram of a fourth structure of a light-emitting substrate according to the present invention. The difference from the light-emitting
同様に、本発明の実施例において、駆動回路層10はボンディングパッド12をさらに含む。発光基板100は、駆動回路層10のLEDチップ20から遠い側に設けられる駆動チップ60をさらに含む。駆動チップ60は、対応するボンディングパッド12に接続されるボンディングピン61を含む。
Similarly, in an embodiment of the present invention, the driving
ボンディングピン61が対応するボンディングパッド12に接触接続されてもよい。ボンディングピン61と対応するボンディングパッド12との間に金属結合が形成される。つまり、ボンディングピン61と対応するボンディングパッド12との間が金属結合を介して接続されることで、ボンディングピン61と対応するボンディングパッド12との間に優れた導電性を有する。
The
本発明の実施例に係る発光基板100は、基板を含まないことにより、発光基板100の厚さをさらに薄くし、発光基板100の薄型化を実現することができる一方で、各ボンディングピン61と対応するボンディングパッド12との間のボンディングをより容易にし、ボンディング不良を防止することができる。
The
図7に示すように、図7は本発明に係る発光基板の第5の構造概略図である。図6に示す発光基板100との相違点は、本発明の実施例において、発光基板100は、ボンディングパッド12と駆動チップ60との間に設けられる導電性ペースト層70をさらに含むことにある。ボンディングピン61と対応するボンディングパッド12とが導電性ペースト層70を介して接続される。
As shown in FIG. 7, FIG. 7 is a fifth structural schematic diagram of the light emitting substrate according to the present invention. The difference from the
同様に、導電性ペースト層70の材料が異方性導電フィルムであってもよい。異方性導電フィルム中の導電粒子を用いてボンディングピン61と対応するボンディングパッド12とを接続して導通させることにより、隣接するボンディングピン61の間又は隣接するボンディングパッド12の間の短絡を防止することができる。勿論、導電性ペースト層70が他の導電性ペーストで製造されてもよい。各ボンディングピン61と対応するボンディングパッド12とに対して独立して導電性ペースト層70を設けることができる。
Similarly, the material of the
本発明のいくつかの実施例において、発光基板100は、Mini-LED表示パネル、Micro-LED表示パネルなどの表示パネルであってもよい。本発明のいくつかの実施例において、発光基板100は、液晶表示装置のバックライトとして、表示パネルに表示するのに必要とするバックライトを供給するバックライトパネルであってもよい。
In some embodiments of the present invention, the light-emitting
したがって、図8に示すように、図8は本発明に係る表示装置の構造概略図である。本発明の実施例において、表示装置1000が少なくとも2つの発光基板100により接合形成される。発光基板100は、上述したいずれかの実施例に記載の発光基板100であるので、ここではその説明を省略する。
Therefore, as shown in FIG. 8, FIG. 8 is a structural schematic diagram of a display device according to the present invention. In an embodiment of the present invention, a
表示装置1000において、本発明の実施例は、LEDチップを反転ボンディングする方法により、カバープレートの封止層から遠い側の表面40aを発光基板の発光面とし、即ち表示装置1000の発光面である。カバープレートの硬度が高いため、発光基板の表面の耐傷性を向上させ、LEDチップ及び駆動回路層に外部から傷つけることを防止することで、表示装置1000の製品信頼性を向上させることができる。
In the
また、本発明のいくつかの実施例は、両面ボンディング及び基板エッチング技術を用いることにより、駆動チップを発光基板100の裏面に設けることで、発光基板100の狭額縁化又はフレームレス化の目的を達成することができる。少なくとも2つの発光基板100を接合して表示装置1000を形成した場合には、継ぎ目を効果的に低減し、表示装置1000の表示効果を改善することができる。
In addition, some embodiments of the present invention use double-sided bonding and substrate etching techniques to provide the driving chip on the back surface of the light-emitting
したがって、本発明は、発光基板の製造方法をさらに提供する。具体的には図9及び図10A~図10Eに示すように、図9は本発明に係る発光基板の製造方法のフローチャートである。図10A~図10Eは本発明に係る発光基板の製造方法におけるステップ101~ステップ105で得られた構造概略図である。発光基板の製造方法は、具体的にステップ101~ステップ105を含む。
Therefore, the present invention further provides a method for manufacturing a light emitting substrate. Specifically, as shown in FIG. 9 and FIG. 10A to FIG. 10E, FIG. 9 is a flow chart of the method for manufacturing a light emitting substrate according to the present invention. FIG. 10A to FIG. 10E are schematic diagrams of the structure obtained in
ステップ101、硬質基板を提供する。 Step 101: Provide a rigid substrate.
図10Aに示すように、硬質基板は、支持する役割を果たすように、ガラス基板、樹脂基板又はリジッド基板であってもよい。 As shown in FIG. 10A, the hard substrate may be a glass substrate, a resin substrate, or a rigid substrate to serve as a support.
ステップ102、前記硬質基板上には、基板と、ボンディング電極及びボンディングパッドを含む駆動回路層とを順次形成する。 Step 102: A substrate and a driving circuit layer including bonding electrodes and bonding pads are sequentially formed on the rigid substrate.
図10Bに示すように、まず硬質基板15上に基板50を堆積形成する。基板50は、フレキシブルPI基板であってもよい。
As shown in FIG. 10B, first, a
その後、基板50上に駆動回路層10を製造形成する。駆動回路層10は、複数のボンディング電極11と、複数のボンディングパッド12とを含むことができ、基板50上に設けられる薄膜トランジスタ機能層を含んでいてもよく、薄膜トランジスタ機能層の具体的な構成については従来技術を参照することができ、ここではその説明を省略する。ボンディング電極11及びボンディングパッド12がそれぞれ薄膜トランジスタ機能層に接続される。
Then, the
本発明の実施例はガラス基板MLEDプロセスを採用して、フラットパネルディスプレイプロセスを利用して駆動トランジスタ、即ち駆動回路層10を製造して、アクティブ駆動を実現することができる。
The embodiment of the present invention adopts a glass substrate MLED process and utilizes a flat panel display process to manufacture the driving transistor, i.e., the driving
ステップ103、複数のLEDチップを提供し、前記LEDチップの接続電極を前記ボンディング電極に対応してボンディング接続する。 Step 103: Provide a plurality of LED chips, and bond and connect the connection electrodes of the LED chips to the bonding electrodes.
図10Cに示すように、LEDチップ20は、Mini-LEDチップ、Micro-LEDチップ等であってもよい。LEDチップ20は、発光材料層23、保護層22、発光材料層23上に堆積される第1電極及び第2電極をさらに含む。各LEDチップ20が2つの接続電極21を含む。各接続電極21が第1電極又は第2電極に接続される。又はLEDチップ20において、一方の接続電極21が第1電極であり、他方の接続電極21が第2電極である。勿論、本発明におけるLEDチップ20の構成はこれに限定されるものではない。
As shown in FIG. 10C, the
具体的には、本発明の実施例は、マストランスファー技術によりLEDチップ20をボンディングすることができる。LEDチップ20を順方向にボンディングして反転して適用する。従来技術にCOB(Chip On Board,ベアチップを回路基板に直接搭載する)/チップ搭載技術を採用することに比べ、ボンディング効率、ボンディング精度、製品仕様などを向上させることができる。
Specifically, in the embodiment of the present invention, the
ステップ104、前記LEDチップの前記硬質基板から遠い側に封止層及びカバープレートを順次形成する。 Step 104: Sequentially form an encapsulation layer and a cover plate on the side of the LED chip farther from the rigid substrate.
図10Dに示すように、封止層30を形成するように、LEDチップ20の硬質基板15から遠い側に封止保護粘着剤を塗布する。次に封止層30上にカバープレート40を接合する。
As shown in FIG. 10D, a sealing protection adhesive is applied to the side of the
封止層30の材料がOCA又は他の透明粘着剤であってもよい。透明粘着剤を用いて塗布して封止層30を形成することにより、発光基板100の光取り出し効率を向上させることができる。封止層30がLEDチップ20を被覆するので、LEDチップ20を固定保護する役割を果たすことができる。
The material of the
カバープレート40は、ガラスカバープレート又は他の硬質透明カバープレートであってもよく、発光基板100における他の機能膜層を支持保護する役割を果たす。カバープレート40の封止層30から遠い側の表面40aが発光基板100の発光面であるため、カバープレート40を透明カバープレートとして設けることにより、発光基板100の光取り出し効率を向上させることができる。
The
ステップ105、前記硬質基板を剥離する。 Step 105: Peel off the hard substrate.
図10Eに示すように、ステップ104で形成された発光基板を反転させる。その後、硬質基板15をレーザリフトオフ法又は他の方法により基板50から剥離する。レーザリフトオフ技術は当業者の周知技術であるため、ここではその説明を省略する。
As shown in FIG. 10E, the light-emitting substrate formed in
さらに、発光基板に駆動チップをボンディングすることができる。駆動信号を駆動回路層10に出力するように、駆動チップ60がボンディングパッド12に接続される必要がある。駆動チップが発光基板の側辺にボンディングされてもよいし、駆動基板の裏面にボンディングされてもよい。
In addition, a driver chip can be bonded to the light-emitting substrate. The
具体的には、図11及び図12A~図12Dに示すように、図11は本発明に係る発光基板の製造方法の第2のフローチャートである。図12A~図12Dは本発明に係る発光基板の製造方法におけるステップ106~ステップ107で得られた構造概略図である。図9に示す発光基板の製造方法との相違点は、本発明の実施例において、発光基板の製造方法は、ステップ106~ステップ107をさらに含むことにある。
Specifically, as shown in FIG. 11 and FIG. 12A to FIG. 12D, FIG. 11 is a second flowchart of the manufacturing method of the light-emitting substrate according to the present invention. FIG. 12A to FIG. 12D are schematic diagrams of the structure obtained in
ステップ106、前記ボンディングパッドの前記カバープレートから遠い側の表面を露出させるように、前記基板を全面エッチング又は穿孔エッチングする。 Step 106: The substrate is etched or drilled to expose the surfaces of the bonding pads away from the cover plate.
いくつかの実施例において、図12Aに示すように、基板50を全面エッチングする。つまり、ボンディングパッド12のカバープレート40から遠い側の表面を露出させるように、基板50を除去する。
In some embodiments, as shown in FIG. 12A, the
他のいくつかの実施例において、図12Bに示すように、基板50を穿孔エッチング処理して、ビアホール50aを形成する。各ボンディングパッド12のカバープレート40から遠い側の表面を露出させるように、ビアホール50aがボンディングパッド12と対応して設けられる。
In some other embodiments, the
ステップ107、駆動チップを提供するとともに、前記駆動チップを前記ボンディングパッドにボンディング接続する。 Step 107: Provide a driver chip and bond the driver chip to the bonding pad.
具体的には、駆動チップ60は、複数のボンディングピン61を含むことができる。ボンディングパッド12が複数設けられてもよい。ボンディングピン61の数がボンディングパッド12の数と等しくてもよい。ボンディングパッド12がボンディングピン61と一対一で対応してボンディング接続される。駆動チップ60はボンディングピン61を介して駆動信号又は電源電圧などを出力する。
Specifically, the
いくつかの実施例において、図12Cに示すように、基板50が全面エッチングされた場合には、駆動チップ60はボンディングピン61及びボンディングパッド12を介して駆動回路層10とボンディングされる。
In some embodiments, as shown in FIG. 12C, when the
他のいくつかの実施例において、図12Dに示すように、基板50が穿孔エッチングされた場合には、各ボンディングピン61がビアホール50aを介して対応するボンディングパッド12に接続される。
In some other embodiments, as shown in FIG. 12D, when the
ビアホール50aの形状がボンディングピン61の形状に一致することができる。ビアホール50aの孔径が対応するボンディングピン61の径方向寸法よりも大きくなってもよい。ボンディングピン61の少なくとも一部が対応するビアホール50a内に位置する。
The shape of the via
本発明の実施例において、導電性ペースト層70を用いてボンディングピン61と対応するボンディングパッド12とを接続することができ、金属結合方法によりボンディングピン61と対応するボンディングパッド12との接続を実現することもできる。
In an embodiment of the present invention, the
本発明の実施例に係る発光基板の製造方法は、基板50をエッチング技術により穿孔又は全面エッチングし、駆動チップ60を発光基板100の裏面にボンディングすることができ、独立して側辺に駆動チップ60をボンディングする空間を省くことで、狭額縁化又はフレームレス化の目的を達成する。また、本発明の実施例において、駆動回路層10が薄膜層であり、基板50の剥離やハーフエッチング、及び封止層30の再付着技術により、駆動チップ60及びLEDチップ20はいずれもカバープレート40の片側にある。そして、本発明の実施例は、LEDチップ20を含むカバープレート40側に駆動チップ60を直接ボンディングするため、駆動チップ60が基板50の穿孔や剥離によりボンディングパッド12に接続され、従来技術において駆動チップ60を回路基板に直接搭載した場合に比べて、技術的な難度が低い。
The manufacturing method of the light emitting substrate according to the embodiment of the present invention can bond the driving
以上、本発明に係る発光基板、その製造方法及び表示装置について詳細に説明したが、本明細書では具体的な実施例を用いて本発明の原理及び実施形態について説明したが、以上の実施例の説明は本発明の方法及びその核心的な思想を理解するためのものに過ぎず、一方、当業者であれば、本発明の構想に基づき、具体的な実施形態及び適用範囲に変更を加えることがあり、要約すると、本明細書の内容は本発明を限定するものとして理解されるべきではない。 The light-emitting substrate, its manufacturing method, and display device according to the present invention have been described in detail above. Although the present specification describes the principles and embodiments of the present invention using specific examples, the explanation of the above examples is merely for understanding the method of the present invention and its core idea. Meanwhile, a person skilled in the art may make changes to the specific embodiments and scope of application based on the concept of the present invention. In summary, the contents of this specification should not be understood as limiting the present invention.
Claims (20)
ボンディング電極を含む駆動回路層と、
前記ボンディング電極に接続される接続電極を含むLEDチップと、
前記LEDチップの前記駆動回路層から遠い側に設けられ、前記LEDチップ及び前記駆動回路層を被覆する封止層と、
前記封止層の前記LEDチップから遠い側に設けられ、前記封止層から遠い側の表面が前記発光基板の発光面であるカバープレートと、を含む発光基板。 A light emitting substrate,
a drive circuit layer including a bonding electrode;
an LED chip including a connection electrode connected to the bonding electrode;
a sealing layer provided on a side of the LED chip farther from the drive circuit layer and covering the LED chip and the drive circuit layer;
a cover plate provided on a side of the sealing layer away from the LED chip, the surface of the cover plate away from the sealing layer being a light emitting surface of the light emitting substrate.
前記発光基板は、前記ビアホールを介して対応する前記ボンディングパッドに接続されるボンディングピンを含む少なくとも1つの駆動チップをさらに含む請求項2に記載の発光基板。 the driving circuit layer further includes a bonding pad, the substrate is a flexible substrate, and a via hole is provided on the substrate, the via hole being provided in correspondence with the bonding pad and exposing a surface of the bonding pad on a side farther from the cover plate;
The light emitting substrate according to claim 2 , further comprising at least one driving chip including bonding pins connected to the corresponding bonding pads through the via holes.
前記発光基板は、前記ビアホールを介して対応する前記ボンディングパッドに接続されるボンディングピンを含む少なくとも1つの駆動チップをさらに含む請求項11に記載の表示装置。 the driving circuit layer further includes a bonding pad, the substrate is a flexible substrate, and a via hole is provided on the substrate, the via hole being provided in correspondence with the bonding pad and exposing a surface of the bonding pad on a side farther from the cover plate;
The display device of claim 11 , wherein the light emitting substrate further comprises at least one driving chip including bonding pins connected to the corresponding bonding pads through the via holes.
前記硬質基板上には、基板と、ボンディング電極及びボンディングパッドを含む駆動回路層とを順次形成するステップと、
複数のLEDチップを提供し、前記LEDチップの接続電極を前記ボンディング電極に対応してボンディング接続するステップと、
前記LEDチップの前記硬質基板から遠い側に封止層及びカバープレートを順次形成するステップと、
前記硬質基板を剥離するステップと、を含む発光基板の製造方法。 Providing a rigid substrate;
Sequentially forming a substrate and a driving circuit layer including a bonding electrode and a bonding pad on the hard substrate;
providing a plurality of LED chips, and bonding connection electrodes of the LED chips to the bonding electrodes;
sequentially forming an encapsulation layer and a cover plate on a side of the LED chip away from the rigid substrate;
and peeling off the hard substrate.
前記ボンディングパッドの前記カバープレートから遠い側の表面を露出させるように、前記基板を全面エッチング又は穿孔エッチングするステップと、
駆動チップを提供するとともに、前記駆動チップを前記ボンディングパッドにボンディング接続するステップと、をさらに含む請求項19に記載の発光基板の製造方法。 The method for producing the light emitting substrate includes:
blanket or hole etch the substrate to expose surfaces of the bonding pads remote from the cover plate;
The method for manufacturing a light emitting substrate according to claim 19 , further comprising: providing a driving chip; and bonding the driving chip to the bonding pad.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202210751104.0 | 2022-06-28 | ||
CN202210751104.0A CN115117225A (en) | 2022-06-28 | 2022-06-28 | Light-emitting substrate, manufacturing method thereof and display device |
PCT/CN2022/105166 WO2024000647A1 (en) | 2022-06-28 | 2022-07-12 | Light-emitting substrate and fabrication method therefor, and display apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2024529801A true JP2024529801A (en) | 2024-08-14 |
Family
ID=89323489
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022546048A Pending JP2024529801A (en) | 2022-06-28 | 2022-07-12 | Light-emitting substrate, its manufacturing method, and display device |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20230420431A1 (en) |
JP (1) | JP2024529801A (en) |
KR (1) | KR20240003434A (en) |
-
2022
- 2022-07-12 KR KR1020237014417A patent/KR20240003434A/en not_active Application Discontinuation
- 2022-07-12 JP JP2022546048A patent/JP2024529801A/en active Pending
- 2022-07-12 US US17/793,722 patent/US20230420431A1/en active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20240003434A (en) | 2024-01-09 |
US20230420431A1 (en) | 2023-12-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100321883B1 (en) | Structure and method of mounting semiconductor device and liquid crystal display device | |
CN110018593B (en) | Chip-on-board packaging substrate, manufacturing method thereof, display device and electronic equipment | |
WO2018176545A1 (en) | Display module and terminal | |
US12046591B2 (en) | Light-emitting substrate, method of manufacturing light-emitting substrate, and display device | |
WO2021175320A1 (en) | Array substrate, manufacturing method therefor, light-emitting substrate, and display device | |
CN109300932B (en) | LED display and manufacturing method thereof | |
WO2021087726A1 (en) | Array substrate, manufacturing method therefor and display device | |
CN114556203B (en) | Array substrate, preparation method thereof, display panel and backlight module | |
CN109860143B (en) | Array substrate, display device, preparation method and splicing display device | |
CN114156395B (en) | Array substrate, preparation method thereof, display panel and backlight module | |
TWM268600U (en) | Structure of chip on glass and liquid crystal display device using the structure | |
TW200930169A (en) | Flexible film and display device comprising the same | |
WO2024000647A1 (en) | Light-emitting substrate and fabrication method therefor, and display apparatus | |
JP2024529801A (en) | Light-emitting substrate, its manufacturing method, and display device | |
CN110391200B (en) | Display structure, preparation method thereof and display device | |
KR20080049918A (en) | Liquid crystal display device | |
WO2023005610A1 (en) | Drive substrate and preparation method therefor, and light-emitting apparatus | |
CN112363350B (en) | Back plate, backlight module and preparation method of back plate | |
KR20200080617A (en) | Display apparatus and method of manufacturing the same | |
KR20070051619A (en) | Dual direction displayable oled display device | |
WO2024044912A1 (en) | Wiring substrate and manufacturing method therefor, and light-emitting substrate and display apparatus | |
WO2023159419A1 (en) | Array substrate and display device | |
WO2021120112A1 (en) | Double-sided tft panel, fabrication method therefor, and display device | |
WO2024197852A1 (en) | Driving backplane, light-emitting substrate, display panel, and display apparatus | |
WO2023230977A9 (en) | Wiring substrate and manufacturing method therefor, light-emitting substrate, and display apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20221122 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240827 |