JP2024517601A - 異なるタイプのｌｅｄを有する消毒のためのｌｅｄアレイ - Google Patents

Abstract

本発明は、１つ以上の第１光源１１０と、１つ以上の第２光源１２０とを有する放射線生成システム１０００であって、前記１つ以上の第１光源１１０及び前記１つ以上の第２光源１２０が、固体光源であり、前記１つ以上の第１光源１１０が、動作モードにおいて、最大で３８０ｎｍの波長範囲内に規定される第１重心波長λｃ１を持つ第１光源光１１１を生成するよう構成され、前記１つ以上の第２光源１２０が、動作モードにおいて、最大で４２０ｎｍの波長範囲内に規定される第２重心波長λｃ２を持つ第２光源光１２１を生成するよう構成され、λｃ２＞λｃ１であり、前記放射線生成システム１０００が、（ｉ）半値全幅によって定義される第１ビーム角α１を持つ第１光源光１１１を有する第１ビーム２１１１１、及び（ｉｉ）半値全幅によって定義される第２ビーム角α２を持つ第２光源光１２１を有する第２ビーム２１２１のうちの１つ以上を有する放射線ビーム１００１を供給するよう構成され、前記第１ビーム２１１１と前記第２ビーム２１２１とが、少なくとも部分的に重なり合い、α１＜α２である放射線生成システム１０００を提供する。

Description

本発明は、放射線生成システムに関する。本発明は、光生成システムを有する消毒デバイスにも関する。更に、本発明は、ガス又は表面を処理するための方法に関する。

放射線源は、当技術分野においては知られている。例えば、US2006/02619291は、複数の波長分布の放射線のうちの１つ以上を選択的に放出するための装置であって、ハウジング内に配置される一次ＵＶ放射線源であって、一次波長分布を生成する一次ＵＶ放射線源と、一次ＵＶ放射線源のエンベロープの外部に配置される少なくとも１つの波長変換材料であって、前記一次ＵＶ放射線源による照射に応じて変換放射線を放出する少なくとも１つの波長変換材料と、ハウジングの内部に配置される選択機構であり、ハウジングに実質的に取り外し不能に結合される選択機構であって、前記少なくとも１つの波長変換材料の少なくとも１つの選択部分を前記一次ＵＶ放射線源に対して配置する選択機構と、前記一次ＵＶ放射線源に近接して配置される反射器ユニットであり、前記一次ＵＶ放射線源からの一次波長分布放射線を前記少なくとも１つの波長変換材料に向ける反射器ユニットであって、前記少なくとも１つの波長変換材料の非選択部分が陰になって前記一次ＵＶ放射源によって照射されないようにするように、前記一次ＵＶ放射源に対して配置される反射器ユニットとを有する装置について記載している。前記波長変換フィルタは、前記波長変換フィルタの少なくとも一部に開口部を形成するよう構成され、それによって、前記一次波長分布が減衰せずにそこを通って放出されることを可能にする。

US2019/022263A1は、消毒用光源、非消毒用光源、ビーム角調節器、動きセンサ、及び距離センサを含む、ターゲット面を消毒するための照明器具を開示している。消毒光の放射輝度は、ターゲット面までの検出された距離及びビーム角に基づいて計算され、ターゲット面の所定の放射照度を達成するよう選択され得る。動きセンサによって動きが検出されない場合には、消毒用光源はオンに設定され、非消毒用光源はオフに設定される。動きが検出され、距離センサによってビーム遮断が検出されない場合には、消毒用光源は減光（ＤＩＭ）に設定され、非消毒用光源はオンに設定される。動きが検出され、ビーム遮断が検出される場合には、消毒用光源はオフに設定され、非消毒用光源はオンに設定される。

KR20210004549Aは、流体の流路及び滞留時間を増加させることが可能な滅菌ユニット、より具体的には、第１方向に延在する流路を含む流路ユニットと、流路ユニット内に配置され、流路の延在方向とは異なる方向に延在する固定ユニットと、固定ユニットに配置され、紫外線を放出する光源とを有する滅菌ユニットを開示している。流路ユニットに供給される流体は、第１方向に流れ、固定ユニットは、第１方向に垂直な方向に延在し、光源の光軸は、第１方向に平行である。

ＵＶ光は１００年以上にわたって消毒に使用されてきた。約１９０ｎｍと３００ｎｍとの間の波長は、核酸によって強く吸収される可能性があり、このことは、生物のゲノムに欠陥を生じさせる可能性がある。このことは、細菌及びウイルスを不活性化する（死滅させる）ためには望ましい可能性があるが、人間にとって望ましくない副作用がある可能性もある。それ故、オフィス、公共交通機関、映画館、レストラン、店舗などのような、人が存在する可能性がある環境においては、放射線の波長、放射線の強度、照射の継続時間の選択が制限されることがあり、従って、消毒能力を制限する。特にこのような環境においては、追加の消毒措置が、インフルエンザ、又はＣＯＶＩＤ－１９、ＳＡＲＳ及びＭＥＲＳのような新型（コロナ）ウイルスなどの細菌及びウイルスの蔓延を防止するために有利である可能性がある。

紫外線波長範囲は、１００ｎｍから３８０ｎｍまでの波長範囲内の光として定義され、異なるタイプのＵＶ光／ＵＶ波長範囲に分けられることができる（表１）。異なるＵＶ波長の放射線は、異なる特性を有することがあり、従って、人間の存在との適合性が異なることがあり、消毒のために使用される場合の効果が異なることがある（表1）。

各ＵＶタイプ／波長範囲は、異なる利点及び／又は不利な点を有し得る。関連する側面は、（相対的）殺菌有効性、(放射線に関する)安全性、及び(その放射の結果としての)オゾン発生であり得る。用途に応じて、特定のタイプのＵＶ光、又はＵＶ光のタイプの特定の組み合わせが、選択されることができ、他のタイプのＵＶ光より優れた性能を発揮する。ＵＶ－Ａは、（相対的に）安全である可能性があり、細菌を不活性化する（死滅させる）可能性があるが、ウイルスを不活性化する（死滅させる）ことにおいて効果が低い可能性がある。ＵＶ－Ｂは、低線量（即ち、低露光時間及び／又は低強度）が使用される場合に（相対的に）安全である可能性があり、細菌を不活性化する（死滅させる）可能性があり、ウイルスを不活性化する（死滅させる）ことにおいて効果が中程度である可能性がある。ＵＶ－Ｂは、人又は動物の皮膚におけるビタミンＤの産生において効果的に使用されることができるという更なる利点も有し得る。近ＵＶ－Ｃは、相対的に危険である可能性があるが、細菌及びウイルスを効果的に不活性化する、特に死滅させる可能性がある。遠ＵＶ－Ｃも細菌及びウイルスを不活性化する（死滅させる）のに効果的である可能性があるが、（他のＵＶ－Ｃ波長範囲に対して相対的に）（むしろ）安全である可能性がある。遠ＵＶ光は、人間及び動物にとって有害である可能性があるオゾンを幾らか発生させる可能性がある。極ＵＶ－Ｃも細菌及びウイルスを不活性化する（死滅させる）のに効果的である可能性があるが、相対的に危険である可能性がある。極ＵＶ－Ｃは、人間又は動物にさらされると望ましくない可能性があるオゾンを発生させる可能性がある。幾つかの用途においては、オゾンは、望ましい可能性があり、消毒に寄与する可能性があるが、その場合、人間及び動物からのその遮蔽が望まれる可能性がある。従って、表におけるオゾン発生の「＋」は、特に、消毒用途には有用である可能性があるが、人間／動物がそれにさらされると人間／動物にとって有害である可能性があるオゾンが発生することを意味する。従って、この「＋」は、多くの用途においては、実際には望ましくないかもしれないが、他の用途においては、望ましいかもしれない。ウイルスに関して「不活性化する」及び「死滅させる」という用語は、本明細書においては、特に、前記ウイルスが、もはや宿主細胞に感染させること及び／又は宿主細胞において増殖することができないように、即ち、前記ウイルスが、不活性化又は死滅後には（本質的に）無害であり得るように、前記ウイルスに損傷を与えることを指すことがある。

従って、実施形態においては、光は、ＵＶ－Ａ範囲内の波長を有してもよい。更なる実施形態においては、前記光は、ＵＶ－Ｂ範囲内の波長を有してもよい。更なる実施形態においては、前記光は、近ＵＶ－Ｃ範囲内の波長を有してもよい。更なる実施形態においては、前記光は、遠ＵＶ－Ｃ範囲内の波長を有してもよい。更なる実施形態においては、前記光は、極ＵＶ－Ｃ範囲内の波長を有してもよい。前記近ＵＶ－Ｃ範囲、前記遠ＵＶ－Ｃ範囲及び前記極ＵＶ－Ｃ範囲は、本明細書においては、まとめてＵＶ－Ｃ範囲と呼ばれることもある。従って、実施形態においては、前記光は、前記ＵＶ－Ｃ範囲内の波長を有してもよい。他の実施形態においては、前記光は、紫色放射線を有してもよい。

特に選択された位置のみで特に選択された波長を持つ、且つ／又は波長に依存して空間的に制御可能なパワー分布を持つ放射線を供給するシステムを提供することは望ましいと思われる。従って、代替放射線生成システムを提供することが、本発明の或る態様であり、前記代替放射線生成システムは、好ましくは、更に、上記の不利な点のうちの１つ以上を少なくとも部分的に取り除く。本発明は、従来技術の不利な点のうちの少なくとも１つを解消若しくは改善すること、又は有用な代替手段を提供することを目的とし得る。

それ故、本発明は、第１態様においては、（「第１放射線源」又は「第１放射線の第１供給源」と示されることもある）１つ以上の第１光源と、（「第２放射線源」又は「第２放射線の第２供給源」と示されることもある）１つ以上の第２光源とを有する（「光生成システム」と示されることもある）放射線生成システムを提供する。実施形態においては、前記１つ以上の第１光源及び前記１つ以上の第２光源のうちの１つ以上は、特に、固体光源であってもよい。特に、前記１つ以上の第１光源は、動作モードにおいて、第１重心波長（λｃ１）を持つ第１光源光（又は「第１光源放射線」）を生成するよう構成される。実施形態においては、前記第１重心波長（λｃ１）は、最大で３８０ｎｍなどの、最大で４２０ｎｍの波長範囲内に規定されてもよい。特に、前記１つ以上の第２光源は、動作モードにおいて、第２重心波長（λｃ２）を持つ第２光源光（又は「第２光源放射線」）を生成するよう構成される。実施形態においては、前記第２重心波長（λｃ２）は、最大で３８０ｎｍなどの、最大で４２０ｎｍの波長範囲内に規定されてもよい。特定の実施形態においては、前記第２重心波長（λｃ２）＞前記第１重心波長（λｃ１）である。本発明の実施形態においては、前記放射線生成システムは、（ｉ）前記第１光源光及び（ｉｉ）前記第２光源光のうちの１つ以上を有する放射線ビームを供給するよう構成されてもよい。特に、前記第１光源光は、第１ビーム角（α１）を持ち、前記第２光源光は、第２ビーム角（α２）を持つ。実施形態においては、前記第１ビーム角（α１）＜前記第２ビーム角（α２）である。前記第１光源光は、第１光源光の（第１）ビームとして供給されてもよく、前記第２光源光は、第２光源光の（第２）ビームとして供給されてもよい。従って、前記放射線生成システムは、（ｉ）半値全幅（full width half maxima）によって定義される前記第１ビーム角（α１）を持つ第１光源光を有する第１ビーム、及び（ｉｉ）半値全幅によって定義される前記第２ビーム角（α２）を持つ第２光源光を有する第２ビームのうちの１つ以上を有する放射線ビームを供給するよう構成されてもよく、特に、前記第１ビームと前記第２ビームとが、少なくとも部分的に重なり合ってもよい。それ故、特定の実施形態においては、本発明は、１つ以上の第１光源と、１つ以上の第２光源とを有する放射線生成システムであって、（ｉ）前記１つ以上の第１光源及び前記１つ以上の第２光源は、固体光源であり、（ｉｉ）前記１つ以上の第１光源は、動作モードにおいて、最大で３８０ｎｍの波長範囲内に規定される第１重心波長（λｃ１）を持つ第１光源光を生成するよう構成され、（ｉｉｉ）前記１つ以上の第２光源は、動作モードにおいて、最大で４２０ｎｍの波長範囲内に規定される第２重心波長（λｃ２）を持つ第２光源光を生成するよう構成され、前記第２重心波長（λｃ２）＞前記第１重心波長（λｃ１）であり、（ｉｖ）前記放射線生成システムは、（ｉ）前記第１光源光及び（ｉｉ）前記第２光源光のうちの１つ以上を有する放射線ビームを供給するよう構成され、前記第１光源光は、第１ビーム角（α１）を持ち、前記第２光源光は、第２ビーム角（α２）を持ち、前記第１ビーム角（α１）＜前記第２ビーム角（α２）である放射線生成システムを提供する。特に、前記ビーム角は、半値全幅によって定義される。それ故、特定の実施形態においては、前記放射線生成システムは、１つ以上の第１光源と、１つ以上の第２光源とを有し、（Ａ）前記１つ以上の第１光源及び前記１つ以上の第２光源は、固体光源であり、（Ｂ）前記１つ以上の第１光源は、動作モードにおいて、最大で３８０ｎｍの波長範囲内に規定される第１重心波長（λｃ１）を持つ第１光源光を生成するよう構成され、（Ｃ）前記１つ以上の第２光源は、動作モードにおいて、最大で４２０ｎｍの波長範囲内に規定される第２重心波長（λｃ２）を持つ第２光源光を生成するよう構成され、前記第２重心波長（λｃ２）＞前記第１重心波長（λｃ１）であり、（Ｄ）前記放射線生成システムは、（ｉ）半値全幅によって定義される第１ビーム角（α１）を持つ第１光源光を有する第１ビーム、及び（ｉｉ）半値全幅によって定義される第２ビーム角（α２）を持つ第２光源光を有する第２ビームのうちの１つ以上を有する放射線ビームを供給するよう構成され、前記第１ビームと前記第２ビームとが、少なくとも部分的に重なり合い、前記第１ビーム角（α１）＜前記第２ビーム角（α２）である。

このようなシステムは、特に選択された位置のみで特に選択された波長供給し得る。特に、放射線ビームの中心は、細菌及び／又はウイルスの不活性化においてより効率的である放射線を含み得る。このやり方においては、人間にとって有害である可能性がある放射線は、特定の位置のみに向けられる可能性があり、より害の少ない放射線によって囲まれる可能性がある。従って、このようなシステムでは、スペクトルパワーの空間分布が制御され得る。例えば、より効果的な且つ／又より危険な放射線は、効果が低く且つ／又は危険性が低い放射線よりも狭いビーム幅を有し得る。

上記のように、前記放射線生成システムは、１つ以上の第１光源と、１つ以上の第２光源とを有してもよい。前記１つ以上の第１光源は、実施形態においては、全て、同じタイプのものであってもよく、又は他の実施形態においては、２つなどの、２つ以上の異なるタイプのものであってもよい。前記１つ以上の第２光源は、実施形態においては、全て、同じタイプのものであってもよく、又は他の実施形態においては、２つ若しくは３つ若しくは４つなどの、２つ若しくは３つなどの、２つ以上の異なるタイプのものであってもよい。

「光源」という用語は、原則として、当技術分野において知られている任意の光源に関し得る。それは、従来の（タングステン）電球、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、蛍光灯、ＬＥＤ（発光ダイオード）であってもよい。特定の実施形態においては、前記光源は、（ＬＥＤ又はレーザダイオード（若しくは「ダイオードレーザ」）などの）固体ＬＥＤ光源を有する。「光源」という用語は、２乃至２００個の（固体）ＬＥＤ光源などの複数の光源に関することもある。従って、ＬＥＤという用語は、複数のＬＥＤを指すこともある。更に、「光源」という用語は、実施形態においては、所謂チップオンボード（ＣＯＢ）光源を指すこともある。「ＣＯＢ」という用語は、特に、包まれてもおらず、接続されてもおらず、ＰＣＢのような基板上に直接取り付けられている半導体チップの形態のＬＥＤチップを指す。従って、複数の光半導体光源が同じ基板上に構成されてもよい。実施形態においては、ＣＯＢは、単一の照明モジュールとして一緒に構成されるマルチＬＥＤチップである。

前記光源は、光脱出面（light escape surface）を有する。電球又は蛍光灯のような従来の光源に関しては、前記光脱出面は、ガラス又は石英のエンベロープの外面であり得る。ＬＥＤの場合は、前記光脱出面は、例えば前記ＬＥＤダイであり得る、又は前記ＬＥＤダイに樹脂が塗布される場合、前記樹脂の外面であり得る。原理上、前記光脱出面は、ファイバの終端である可能性もある。脱出面という用語は、特に、前記光源の、光が実際に前記光源から出る又は脱出する部分に関する。前記光源は、光ビームを供給するよう構成される。（従って）前記光源の光出射面からこの光ビームが脱出する。

「光源」という用語は、発光ダイオード（ＬＥＤ）、共振空洞発光ダイオード（ＲＣＬＥＤ）、垂直キャビティレーザダイオード（ＶＣＳＥＬ）、端面発光レーザなどのような半導体発光デバイスを指し得る。「光源」という用語は、パッシブマトリクス（ＰＭＯＬＥＤ）又はアクティブマトリクス（ＡＭＯＬＥＤ）などの有機発光ダイオードを指すこともある。特定の実施形態においては、前記光源は、（ＬＥＤ又はレーザダイオードなどの）固体光源を有する。実施形態においては、前記光源は、ＬＥＤ（発光ダイオード）を有する。「光源」又は「固体光源」という用語は、スーパールミネッセントダイオード（superluminescent diode）（ＳＬＥＤ）を指すこともある。

ＬＥＤという用語は、複数のＬＥＤを指すこともある。更に、「光源」という用語は、実施形態においては、所謂チップオンボード（ＣＯＢ）光源を指すこともある。「ＣＯＢ」という用語は、特に、包まれてもおらず、接続されてもおらず、ＰＣＢのような基板上に直接取り付けられている半導体チップの形態のＬＥＤチップを指す。従って、複数の半導体光源が同じ基板上に構成されてもよい。実施形態においては、ＣＯＢは、単一の照明モジュールとして一緒に構成されるマルチＬＥＤチップである。

「光源」という用語は、２乃至２０００個の固体光源などの複数の（本質的に同一の（又は異なる））光源に関することもある。実施形態においては、前記光源は、ＬＥＤなどの単一の固体光源の下流に、又は複数の固体光源の下流に（即ち、例えば複数のＬＥＤによって共有される）、１つ以上のマイクロ光学要素（マイクロレンズのアレイ）を有してもよい。実施形態においては、前記光源は、オンチップ光学系を備えるＬＥＤを有してもよい。実施形態においては、前記光源は、（実施形態においては、オンチップビームステアリングを提供する）（光学系を備える又は備えない）ピクセル化された単一のＬＥＤを有する。

実施形態においては、例えば、青色ＬＥＤのような青色光源、又は緑色ＬＥＤのような緑色光源、及び赤色ＬＥＤのような赤色光源などの、前記光源は、その自体として使用される一次放射線を供給するよう構成されてもよい。ルミネッセンス材料（「蛍光体」）を含まないことがある、このようなＬＥＤは、ダイレクトカラーＬＥＤ（direct color LED）と示されることがある。しかしながら、他の実施形態においては、前記光源は、一次放射線を供給するよう構成されてもよく、前記一次放射線の一部は、二次放射線に変換される。二次放射線は、ルミネッセンス材料による変換に基づき得る。それ故、前記二次放射線は、ルミネッセンス材料放射線と示されることもある。前記ルミネッセンス材料は、実施形態においては、ルミネッセンス材料を含むルミネッセンス材料層又はドームを備えるＬＥＤなどの、前記光源によって含まれてもよい。このようなＬＥＤは、蛍光体変換ＬＥＤ又はＰＣ ＬＥＤ（phosphor converted LED）と示されることがある。他の実施形態においては、前記ルミネッセンス材料は、前記ＬＥＤのダイと物理的に接触していないルミネッセンス材料層を備えるＬＥＤのように、前記光源から幾らかの距離を置いて（「遠隔」に）構成されてもよい。従って、特定の実施形態においては、前記光源は、動作中、少なくとも、３８０乃至４７０ｎｍの範囲から選択される波長において光を発する光源であり得る。しかしながら、他の波長も可能であり得る。この光は、部分的に、前記ルミネッセンス材料によって使用され得る。実施形態においては、前記光生成デバイスは、ルミネッセンス材料を有してもよい。実施形態においては、前記光生成デバイスは、ＰＣ ＬＥＤを有してもよい。他の実施形態においては、前記光生成デバイスは、直射ＬＥＤ（direct LED）（即ち、蛍光体なし）を有してもよい。実施形態においては、前記光生成デバイスは、レーザダイオードのような、レーザデバイスを有してもよい。実施形態においては、前記光生成デバイスは、スーパールミネッセントダイオードを有してもよい。

「レーザ光源」という用語は、特にレーザを指す。このようなレーザは、特に、ＵＶ、可視、又は赤外において１つ以上の波長を有する、特に、３００乃至１５００ｎｍなどの、２００乃至２０００ｎｍのスペクトル波長範囲から選択される波長を有するレーザ光源光を生成するよう構成されて得る。「レーザ」という用語は、特に、電磁放射線の誘導放出に基づく光増幅のプロセスを通して光を発するデバイスを指す。特に、実施形態においては、「レーザ」という用語は、固体レーザを指し得る。特定の実施形態においては、「レーザ」若しくは「レーザ光源」という用語、又は同様の用語は、レーザダイオード（又はダイオードレーザ）を指す。

従って、実施形態においては、前記光源は、レーザ光源を有する。実施形態においては、「レーザ」又は「固体レーザ」という用語は、セリウムドープリチウムストロンチウム（又はカルシウム）フッ化アルミニウム（Ｃｅ：ＬｉＳＡＦ、Ｃｅ：ＬｉＣＡＦ）、クロムドープクリソベリル（アレキサンドライト）レーザ、クロムＺｎＳｅ（Ｃｒ：ＺｎＳｅ）レーザ、二価サマリウムドープフッ化カルシウム（Ｓｍ：ＣａＦ_２）レーザ、Ｅｒ：ＹＡＧレーザ、エルビウムドープ及びエルビウムイッテルビウムコドープガラスレーザ、Ｆ－センターレーザ、ホルミウム（Ｈｏ：ＹＡＧ）レーザ、Ｎｄ：ＹＡＧレーザ、ＮｄＣｒＹＡＧレーザ、ネオジウムドープイットリウムカルシウムオキソボレートＮｄ：ＹＣａ_４Ｏ（ＢＯ_３）_３又はＮｄ：ＹＣＯＢ、ネオジウムドープオルトバナジウム酸イットリウム（Ｎｄ：ＹＶＯ_４）レーザ、ネオジウムガラス（Ｎｄ：ガラス）レーザ、ネオジウムＹＬＦ（Ｎｄ：ＹＬＦ）固体レーザ、プロメチウム１４７ドープリン酸ガラス（１４７Ｐｍ^３＋：ガラス）固体レーザ、ルビーレーザ（Ａｌ_２Ｏ_３：Ｃｒ^３＋）、ツリウムＹＡＧ（Ｔｍ：ＹＡＧ）レーザ、チタンサファイア（Ｔｉ：サファイア；Ａｌ_２Ｏ_３：Ｔｉ^３＋）レーザ、三価ウランドープフッ化カルシウム（Ｕ：ＣａＦ_２）固体レーザ、イッテルビウムドープガラスレーザ（ロッド、プレート／チップ及びファイバ）、イッテルビウムＹＡＧ（Ｙｂ：ＹＡＧ）レーザ、Ｙｂ_２Ｏ_３（ガラス又はセラミックス）レーザなどのうちの１つ以上を指し得る。

実施形態においては、「レーザ」又は「固体レーザ」という用語は、ＧａＮ、ＩｎＧａＮ、ＡｌＧａＩｎＰ、ＡｌＧａＡｓ、ＩｎＧａＡｓＰ、鉛塩、垂直共振器面発光レーザ（vertical cavity surface emitting laser）（ＶＣＳＥＬ）、量子カスケードレーザ、ハイブリッドシリコンレーザなどの半導体レーザダイオードのうちの１つ以上を指し得る。

レーザは、より短い（レーザ）波長に達するために、アップコンバータ（upconverter）と組み合わされてもよい。例えば、何らかの（三価）希土類イオンで、アップコンバージョン（upconversion）が達成され得る、又は非線形結晶で、アップコンバージョンが達成され得る。他の例においては、色素レーザなどのレーザは、より長い（レーザ）波長に達するために、ダウンコンバータ（downconverter）と組み合わされ得る。

以下から導き出され得るように、「レーザ光源」という用語は、複数の（異なる又は同一の）レーザ光源を指すこともある。特定の実施形態においては、「レーザ光源」という用語は、複数のＮ個の（同一の）レーザ光源を指し得る。実施形態においては、Ｎ＝２以上である。特定の実施形態においては、Ｎは、特に少なくとも８などの、少なくとも５であり得る。このやり方においては、より高い輝度が得られ得る。実施形態においては、レーザ光源は、レーザバンク（laser bank）内に配設されてもよい（上記も参照）。前記レーザバンクは、実施形態においては、ヒートシンク、及び／又は光学系、例えば、レーザ光をコリメートするためのレンズを含んでもよい。

前記レーザ光源は、レーザ光源光（又は「レーザ光」）を生成するよう構成される。前記光源光は、本質的に、前記レーザ光源光から成っていてもよい。前記光源光は、２つ以上の（異なる又は同一の）レーザ光源のレーザ光源光を有することもある。例えば、２つ以上の（異なる又は同一の）レーザ光源の前記レーザ光源光を有する単一の光ビームを供給するために、前記２つ以上の（異なる又は同一の）レーザ光源の前記レーザ光源光が、光ガイドに結合されてもよい。従って、特定の実施形態においては、前記光源光は、特に、コリメート光源光である。更に他の実施形態においては、前記光源光は、特に、（コリメート）レーザ光源光である。

「異なる光源」又は「複数の異なる光源」という語句、及び同様の語句は、実施形態においては、少なくとも２つの異なるビン（bin）から選択される複数の固体光源を指し得る。同様に、「同一の光源」又は「複数の同じ光源」という語句、及び同様の語句は、実施形態においては、同じビンから選択される複数の固体光源を指し得る。

前記光源は、特に、光軸（Ｏ）、（ビーム形状、）及びスペクトルパワー分布を有する光源光を生成するよう構成される。前記光源光は、実施形態においては、レーザについて知られているような帯域幅を有する、１つ以上の帯域を有し得る。特定の実施形態においては、前記帯域は、１０ｎｍ以下などの、室温（ＲＴ）において２０ｎｍ未満の範囲内の半値全幅（full width half maximum）（ＦＷＨＭ）を有するものなどの、相対的にシャープな（sharp）線であってもよい。従って、前記光源光は、１つ以上の（狭）帯域を含み得るスペクトルパワー分布（波長の関数としての、エネルギ尺度における強度）を有する。

（光源光の）ビームは、（レーザ）光源光の、集束又はコリメートビームであってもよい。「集束」という用語は、特に、小さいスポットに収束していることを指し得る。この小さいスポットは、個別の変換器領域（discrete converter region）にあってもよく、又は前記個別の変換器領域の（わずかに）上流若しくは前記個別の変換器領域の（わずかに）下流にあってもよい。特に、集束及び／又はコリメーションは、（側面における）前記個別の変換器領域における前記ビームの（前記光軸に対して垂直な）断面形状が、（前記光源光が前記個別の変換器領域を照射する場所での）前記個別の変換器領域の（前記光軸に対して垂直な）断面形状よりも、本質的に大きくはないようなものであり得る。集束は、（集束）レンズのような１つ以上の光学系で実行され得る。特に、前記レーザ光源光を集束させるために、２つのレンズが適用されてもよい。コリメーションは、レンズ及び／又は放物面鏡などの、コリメーション要素のような１つ以上の（他の）光学系で実行され得る。

従って、特定の実施形態においては、前記光源は、レーザダイオード及びスーパールミネッセントダイオードのグループから選択されてもよい。他の実施形態においては、前記光源は、ＬＥＤを有してもよい。組み合わせも可能であり得る。それ故、特に、前記１つ以上の第１光源及び前記１つ以上の第２光源は、固体光源である。

特に、前記第１光源は、前記第２光源よりも短い波長において強度を持つ放射線を供給してもよい。更に、前記第１光源は、４２０ｎｍ以下の１つ以上の波長において、更により特には、３８０ｎｍ以下の１つ以上の波長において強度を持つ放射線を供給してもよい。

本明細書においては、前記第１光源が、３８０ｎｍより大きい（又は４２０ｎｍよりも更に大きい）１つ以上の波長において放射線を供給する可能性もあることは除外されない。しかしながら、前記光源は、特に、１００乃至４２０ｎｍの波長範囲内などの、４２０ｎｍ以下の１つ以上の波長において、更により特に、１００乃至３８０ｎｍの波長範囲内などの、３８０ｎｍ以下の１つ以上の波長において放射線を供給する。前記１つ以上の第１光源によって供給されるこの第１光源光は、１００乃至４２０ｎｍの波長範囲内などの、最大で４２０ｎｍの波長範囲内の前記重心波長、更により特に、１００乃至３８０ｎｍの波長範囲内などの、３８０ｎｍ以下の１つ以上の波長における前記重心波長によって規定され得る。本明細書においては、本発明は、特に、前記１つ以上の第１光源によって供給される前記第１光源光が最大で３８０ｎｍの波長範囲内の前記重心波長によって規定され得る実施形態に関して、更に説明される。

従って、実施形態においては、前記１つ以上の第１光源は、動作モードにおいて、最大で３８０ｎｍの波長範囲内に規定される第１重心波長（λｃ１）を持つ第１光源光を生成するよう構成される。

λｃとも示される「重心波長」という用語は、当技術分野において知られており、光エネルギの半分がより短い波長にあり、光エネルギの半分がより長い波長にある波長値を指し、値はナノメートル（ｎｍ）単位で示される。それは、式λｃ＝Σλ＊Ｉ（λ）／（ΣＩ（λ）によって表されるような、スペクトルパワー分布の積分を２等分に分ける波長であり、総和は、関心のある波長範囲にわたるものであり、Ｉ（λ）は、スペクトルエネルギ密度である（即ち、積分強度に正規化された発光帯域にわたる波長及び強度の積の積分である）。前記重心波長は、例えば、動作条件において決定されてもよい。

特に、前記第２光源は、前記第２光源よりも短い波長において強度を持つ放射線を供給してもよい。更に、前記第２光源は、４２０ｎｍ以下の１つ以上の波長において強度を持つ放射線を供給してもよい。

本明細書においては、前記第２光源が、４２０ｎｍより大きい１つ以上の波長において放射線を供給する可能性もあることは除外されない。しかしながら、前記光源は、特に、１００乃至４２０ｎｍの波長範囲内などの、４２０ｎｍ以下の１つ以上の波長において放射線を供給する。前記１つ以上の第２光源によって供給されるこの第２光源光は、１００乃至４２０ｎｍの波長範囲内などの、最大で４２０ｎｍの波長範囲内の前記重心波長によって規定され得る。本明細書においては、本発明は、特に、前記１つ以上の第２光源によって供給される前記第２光源光が最大で４２０ｎｍの波長範囲内の前記重心波長によって規定され得る実施形態に関して、更に説明される。

特に、前記１つ以上の第２光源は、動作モードにおいて、最大で４２０ｎｍの波長範囲内に規定される第２重心波長（λｃ２）を持つ第２光源光を生成するよう構成される。

「最大で４２０ｎｍの波長範囲内に規定される第２重心波長（λｃ１）を持つ」という語句は、特に、波長範囲１００乃至４２０ｎｍの波長範囲内などの、４２０ｎｍ以下の波長において少なくとも強度を持つ放射線が生成され、前記第２重心波長をもたらすことを示し得る。

複数の第２光源が適用される実施形態においては、特定の実施形態においては、複数の光源は、同じビンから又は２つのビンから選択される。

特に、前記第２重心波長（λｃ２）＞前記第１重心波長（λｃ１）である。従って、（１００乃至３８０ｎｍの波長範囲内のような、≦３８０ｎｍの波長範囲内の）前記第１光源の重心強度は、（１００乃至４２０ｎｍの波長範囲内のような、≦４２０ｎｍの波長範囲内の）前記第２光源の重心強度よりも小さい波長にある。特に、実施形態においては、前記第２重心波長（λｃ２）－前記第１重心波長（λｃ１）≧１０ｎｍなどの、前記第２重心波長（λｃ２）－前記第１重心波長（λｃ１）≧５ｎｍであり、更により特に、実施形態においては、前記第２重心波長（λｃ２）－前記第１重心波長（λｃ１）≧２０ｎｍのような、前記第２重心波長（λｃ２）－前記第１重心波長（λｃ１）≧１５ｎｍである。

実施形態においては、前記１つ以上の第１光源は、動作モードにおいて、（１９０乃至３４０ｎｍのような、１００乃至３４０ｎｍの範囲から選択されるような）最大で３４０ｎｍの波長範囲内に規定される第１重心波長（λｃ１）を持つ第１光源光を生成するよう構成されてもよく、前記１つ以上の第２光源は、動作モードにおいて、（１９０乃至３８０ｎｍのような、１００乃至３８０ｎｍの範囲から選択されるような）最大で３８０ｎｍの波長範囲内に規定される第２重心波長（λｃ２）を持つ第２光源光（即ち、ＵＶ光）を生成するよう構成されてもよく、前記第２重心波長（λｃ２）＞前記第１重心波長（λｃ１）であり、特に、前記第２重心波長（λｃ２）－前記第１重心波長（λｃ１）≧１０ｎｍなどの、前記第２重心波長（λｃ２）－前記第１重心波長（λｃ１）≧５ｎｍであり、更により特に、実施形態においては、前記第２重心波長（λｃ２）－前記第１重心波長（λｃ１）≧２０ｎｍのような、前記第２重心波長（λｃ２）－前記第１重心波長（λｃ１）≧１５ｎｍである。特定の実施形態においては、前記第２重心波長（λｃ２）－前記第１重心波長（λｃ１）≧４０ｎｍのような、前記第２重心波長（λｃ２）－前記第１重心波長（λｃ１）≧３０ｎｍである。

実施形態においては、前記１つ以上の第１光源は、動作モードにおいて、（１９０乃至３１５ｎｍのような、１００乃至３１５ｎｍの範囲から選択されるような）最大で３１５ｎｍの波長範囲内に規定される第１重心波長（λｃ１）を持つ第１光源光（即ち、ＵＶ－Ｃ及び／又はＵＶ－Ｂ光）を生成するよう構成されてもよく、前記１つ以上の第２光源は、動作モードにおいて、（１９０乃至３６５ｎｍのような、１００乃至３６５ｎｍの範囲から選択されるような）最大で３６５ｎｍの波長範囲内に規定される第２重心波長（λｃ２）を持つ第２光源光を生成するよう構成されてもよく、前記第２重心波長（λｃ２）＞前記第１重心波長（λｃ１）であり、特に、前記第２重心波長（λｃ２）－前記第１重心波長（λｃ１）≧１０ｎｍなどの、前記第２重心波長（λｃ２）－前記第１重心波長（λｃ１）≧５ｎｍであり、更により特に、実施形態においては、前記第２重心波長（λｃ２）－前記第１重心波長（λｃ１）≧２０ｎｍのような、前記第２重心波長（λｃ２）－前記第１重心波長（λｃ１）≧１５ｎｍである。

実施形態においては、前記１つ以上の第１光源は、動作モードにおいて、（１９０乃至２８０ｎｍのような、１００乃至２８０ｎｍの範囲から選択されるような）最大で２８０ｎｍの波長範囲内に規定される第１重心波長（λｃ１）を持つ第１光源光（即ち、ＵＶ－Ｃ光）を生成するよう構成されてもよく、前記１つ以上の第２光源は、動作モードにおいて、（１９０乃至３１５ｎｍのような、１００乃至３１５ｎｍの範囲から選択されるような）最大で３１５ｎｍの波長範囲内に規定される第２重心波長（λｃ２）を持つ第２光源光（即ち、ＵＶ－Ｃ及び／又はＵＶ－Ｂ光）を生成するよう構成されてもよく、前記第２重心波長（λｃ２）＞前記第１重心波長（λｃ１）であり、特に、前記第２重心波長（λｃ２）－前記第１重心波長（λｃ１）≧１０ｎｍなどの、前記第２重心波長（λｃ２）－前記第１重心波長（λｃ１）≧５ｎｍであり、更により特に、実施形態においては、前記第２重心波長（λｃ２）－前記第１重心波長（λｃ１）≧２０ｎｍのような、前記第２重心波長（λｃ２）－前記第１重心波長（λｃ１）≧１５ｎｍである。

特に、前記第１光源光は、第１ビームと示されることがある、より狭いビームとして供給されてもよく、前記第２光源光は、第２ビームと示されることがある、より広いビームとして供給されてもよい。従って、実施形態においては、（（前記放射線生成システムの）動作モードにおいて、）前記放射線生成システムは、（ｉ）前記第１光源光及び（ｉｉ）前記第２光源光のうちの１つ以上を有する放射線ビームを供給するよう構成されてもよく、前記第１光源光は、第１ビーム角（α１）を持ち、前記第２光源光は、第２ビーム角（α２）を持ち、前記第１ビーム角（α１）＜前記第２ビーム角（α２）である。

従って、実施形態においては、前記放射線生成システムの動作モードにおいて、（ｉ）半値全幅によって定義される第１ビーム角（α１）を持つ第１光源光を有する第１ビーム、及び（ｉｉ）半値全幅によって定義される第２ビーム角（α２）を持つ第２光源光を有する第２ビームのうちの１つ以上を有する放射線ビームが供給され、前記第１ビームと前記第２ビームとが、少なくとも部分的に重なり合い、前記第１ビーム角（α１）＜前記第２ビーム角（α２）である。

前記第１ビームは第１光軸を有してもよく、前記第２ビームは第２光軸を有してもよい。特に、前記第１ビームの光軸と前記第２ビームの光軸とが、相互角度αｍを有してもよく、０°≦αｍ＜α２－α１である。特に、実施形態においては、前記相互角度は、本質的にゼロ度であってもよい。特に、前記第１光源光と前記第２光源光とが、本質的に同じ方向に供給される。従って、前記第１ビームと前記第２ビームとが、少なくとも部分的に重なり合う。更により特に、前記第１ビーム及び前記第２ビームのうちの一方は、前記第１ビーム及び前記第２ビームのうちの他方と本質的に重なり合ってもよい。特に、前記第１ビームは、（より広い）前記第２ビームと本質的に重なり合ってもよく、前記第２ビームは、（より狭い）前記第１ビームと部分的に重なり合ってもよい。更に、実施形態においては、前記第１ビーム及び前記第２ビームの光軸は、本質的に一致してもよい。従って、前記第１光と前記第２光とが、同じ方向に伝搬し、少なくとも部分的に重なり合ってもよい。

実施形態においては、動作モードにおいて、前記第１光源光と前記第２光源光とが、同時に供給されてもよいことに留意されたい。しかしながら、その代わりに、又は加えて、他の実施形態においては、前記第１光源光及び前記第２光源光は、それらが、同時に供給される可能性があるように、又は同時には供給されない可能性があるように、制御可能であってもよい（更に下記も参照）。

実施形態においては、前記第１光源は、より効果的な放射線を供給してもよく、前記第２光源は、より害の少ない放射線を供給してもよい。従って、前記第１重心波長（λｃ１）は、実施形態においては、１００乃至２８０ｎｍの波長範囲内で、特に１９０乃至２８０ｎｍの波長範囲内で、より特に１９０乃至２３０ｎｍの波長範囲内で選択されてもよい。加えて、又はその代わりに、前記第２重心波長（λｃ２）は、２８０乃至４２０ｎｍの波長範囲内で選択されてもよい。特定の実施形態においては、前記第２重心波長（λｃ２）－前記第１重心波長（λｃ１）≧１０ｎｍなどの、更により特には前記第２重心波長（λｃ２）－前記第１重心波長（λｃ１）≧１５ｎｍのような、前記第２重心波長（λｃ２）－前記第１重心波長（λｃ１）≧５ｎｍである。更により特定の実施形態においては、前記第２重心波長（λｃ２）－前記第１重心波長（λｃ１）≧３０ｎｍなどの、前記第２重心波長（λｃ２）－前記第１重心波長（λｃ１）≧４０ｎｍのような、前記第２重心波長（λｃ２）－前記第１重心波長（λｃ１）≧２０ｎｍである。

前記第１ビーム角（α１）は、実施形態においては、最大で１５°のような、最大で１０°などの、最大で２０°の範囲から選択されてもよい。加えて、又はその代わりに、前記第１ビーム角（α１）は、実施形態においては、少なくとも２°などの、少なくとも５°のような、少なくとも１．５°の範囲から選択されてもよい。加えて、又はその代わりに、前記第２ビーム角（α２）は、実施形態においては、少なくとも１０°などの、少なくとも１５°のような、少なくとも５°の範囲から選択されてもよい。その代わりに、又は加えて、前記第２ビーム角（α２）は、実施形態においては、最大で９０°などの、最大で１００°の範囲から選択されてもよい。更により特には、前記第２ビーム角（α２）は、実施形態においては、最大で６０°などの、最大で７５°の範囲から選択されてもよい。更にもっとより特には、前記第２ビーム角（α２）は、実施形態においては、最大で４０°などの、特定の実施形態においては最大で３０°などの、最大で５０°の範囲から選択されてもよい。しかしながら、本明細書においては、（半値全幅に基づく）ビーム角の他の値は、除外されない。

しかしながら、特に、実施形態においては、前記第１光源光のＦＷＨＭは、前記第２光源光のＦＷＨＭよりも狭い。特に、実施形態においては、前記第２ビーム角（α２）－前記第１ビーム角（α１）≧３°であり、特に、前記第２ビーム角（α２）－前記第１ビーム角（α１）≧５°であり、より特に、前記第２ビーム角（α２）－前記第１ビーム角（α１）≧１０°である。

特に、前記放射線生成システムは、動作モードにおいて、前記第１光源光と前記第２光源光との両方を有する放射線ビームを供給するよう構成されてもよい。

従って、特定の実施形態においては、前記第１重心波長（λｃ１）は、１００乃至２８０ｎｍの波長範囲内で選択され、前記第２重心波長（λｃ２）は、２８０乃至４２０ｎｍの波長範囲内で選択され、前記第２重心波長（λｃ２）－前記第１重心波長（λｃ１）≧３０ｎｍであり、前記第１ビーム角（α１）は、最大で１５°の範囲から選択され、前記第２ビーム角（α２）は、少なくとも１０°の範囲から選択され、前記第２ビーム角（α２）－前記第１ビーム角（α１）≧５°であり、前記放射線生成システムは、動作モードにおいて、前記第１光源光と前記第２光源光との両方を含む前記放射線ビームを供給するよう構成される。

実施形態においては、前記第１光源光によって供給されるビームは、前記第２光源光によって供給されるビームと本質的に同じ断面形状を有してもよい。例えば、両方とも、本質的に円形の断面を有してもよい。他の実施形態においては、両方とも、長円形又は楕円形のような、別のタイプの断面形状を有してもよい。前記断面は、半値全幅における強度によって画定され得る。前記ビームは、異なる断面形状を有することもある。少なくとも前記断面形状における１つの軸に沿って、又は前記断面形状における２つの直交する軸に沿って、前記第２ビーム角（α２）－前記第１ビーム角（α１）≧３°、特に、前記第２ビーム角（α２）－前記第１ビーム角（α１）≧５°、より特に、前記第２ビーム角（α２）－前記第１ビーム角（α１）≧１０°を適用してもよい。特定の実施形態においては、特に、実施形態においては、前記第２ビーム角（α２）－前記第１ビーム角（α１）≦６０°などの、特定の実施形態においては、前記第２ビーム角（α２）－前記第１ビーム角（α１）≦５０°のような、前記第２ビーム角（α２）－前記第１ビーム角（α１）≦７５°である。しかしながら、本明細書においては、他の値は、除外されない。

前記放射線生成システムは、光軸（Ｏ）を有してもよい。実施形態においては、前記１つ以上の第１光源は、前記１つ以上の第２光源より前記光軸（Ｏ）の近くに構成されてもよい。「第１光源は、より前記光軸（Ｏ）の近くに構成されてもよい」という語句及び同様の語句は、特に、前記第１光源は、より前記光軸（Ｏ）又はその伸長部の近くに構成されてもよいことを示し得る。より前記光軸の近くに構成されている場合、下流に構成される光学要素（更に下記も参照）は、前記第２光源が前記光軸からより遠く離して構成される場合の前記第２光源光よりも良好に前記第１光源光をビーム成形し得る。

従って、加えて、又はその代わりに、実施形態においては、前記放射線生成システムは、複数の第２光源を有してもよい。

特定の実施形態においては、前記１つ以上の第１光源及び前記複数の第２光源は、アレイ状に構成されてもよい。前記アレイは、アレイ中心を有してもよい。特に、前記１つ以上の第１光源は、アレイ中心まで第１平均距離（ｄ_ａ１）を有してもよく、前記複数の第２光源は、アレイ中心まで第２平均距離（ｄ_ａ２）を有してもよい。特定の実施形態においては、前記第１平均距離（ｄ_ａ１）＜前記第２平均距離（ｄ_ａ２）である。

従って、特定の実施形態においては、前記放射線生成システムは、複数の第２光源を有し、前記１つ以上の第１光源及び前記複数の第２光源は、アレイ状に構成され、前記アレイは、アレイ中心を有し、前記１つ以上の第１光源は、アレイ中心まで第１平均距離（ｄ_ａ１）を有し、前記複数の第２光源が、アレイ中心まで第２平均距離（ｄ_ａ２）を有し、前記第１平均距離（ｄ_ａ１）＜前記第２平均距離（ｄ_ａ２）である。このやり方においては、より効果的な放射線が、特に、前記放射線ビームの中心の近くに配置され得る。例えば、実施形態においては、実施形態においては前記第１平均距離（ｄ_ａ１）／前記第２平均距離（ｄ_ａ２）≦０．８などの、前記第１平均距離（ｄ_ａ１）／前記第２平均距離（ｄ_ａ２）≦０．９である。例えば、実施形態においては、０．２≦前記第１平均距離（ｄ_ａ１）／前記第２平均距離（ｄ_ａ２）≦０．７５である。

上記のように、前記放射線生成システムは、第１光源と、第２光源とを有してもよい。実施形態においては、前記第１光源は、多数の選択肢の中から選択され得る。更に、実施形態においては、前記第２光源は、多数の選択肢の中から選択され得る。更に、実施形態においては、前記多数の選択肢が部分的に重複することもある。従って、或る実施形態における第１光源は、他の実施形態においては第２光源として使用されることがあり、且つ／又は或る実施形態における第２光源は、他の実施形態においては第１光源として使用されることがある。しかしながら、上記のように、特に実施形態においては、前記第１光源及び前記第２光源は、前記第２重心波長（λｃ２）＞前記第１重心波長（λｃ１）となるように選択され得る。更に、前記放射線生成システムは、特に、前記第１ビーム角（α１）＜前記第２ビーム角（α２）となるように構成され得る。

特定の実施形態においては、特に、前記第２重心波長（λｃ２）－前記第１重心波長（λｃ１）≧１５ｎｍとなるように（上記も参照）、前記第１重心波長（λｃ１）は、２３０乃至２８０ｎｍの波長範囲内で選択されてもよく、前記第２重心波長（λｃ２）は、２８０乃至３１５ｎｍの波長範囲内で選択されてもよい。

実施形態においては、前記放射線生成システムの前記１つ以上の第１光源及び前記１つ以上の第２光源は、（ａ）最大で２３０ｎｍの波長範囲内に重心波長（λ_１１）を持つ遠ＵＶ－Ｃ光を生成するよう構成される数ｎ１１個（a number n11）の遠ＵＶ－Ｃ光源のうちの１つ以上、特に、２つ以上を有してもよい。その代わりに、又は加えて、実施形態においては、前記放射線生成システムは、２３０乃至２８０ｎｍの波長範囲内に重心波長（λ_１２）を持つ近ＵＶ－Ｃ光を生成するよう構成される数ｎ１２個の近ＵＶ－Ｃ光源を有してもよい。その代わりに、又は加えて、実施形態においては、前記放射線生成システムは、２８０乃至３１５ｎｍの波長範囲から選択される重心波長（λ_２３）を持つＵＶ－Ｂ光を生成するよう構成される数ｎ２３個のＵＶ－Ｂ光源を有してもよい。その代わりに、又は加えて、実施形態においては、前記放射線生成システムは、３１５乃至３８０ｎｍの波長範囲から選択される重心波長（λ_２４）を持つＵＶ－Ａ光を生成するよう構成される数ｎ２４個のＵＶ－Ａ光源を有してもよい。その代わりに、又は加えて、実施形態においては、前記放射線生成システムは、３８０乃至４２０ｎｍの波長範囲から選択される重心波長（λ_２５）を持つ紫色光を生成するよう構成される数ｎ２５個の紫色光源を有してもよい。特に、前記重心波長（λ１１）＜前記重心波長（λ１２）＜前記重心波長（λ２３）＜前記重心波長（λ２４）＜前記重心波長（λ２５）である。例えば、実施形態においては、前記重心波長（λ１２）－前記重心波長（λ１１）は、≧５ｎｍであり、更により特には少なくとも約１０ｎｍであり、更により特には少なくとも約１５ｎｍなどであり、更には少なくとも約２０ｎｍである。例えば、実施形態においては、前記重心波長（λ２１）－前記重心波長（λ１２）は、≧５ｎｍであり、更により特には少なくとも約１０ｎｍであり、更により特には少なくとも約１５ｎｍなどであり、更には少なくとも約２０ｎｍである。例えば、実施形態においては、前記重心波長（λ２２）－前記重心波長（λ２１）は、≧５ｎｍであり、更により特には少なくとも約１０ｎｍであり、更により特には少なくとも約１５ｎｍなどであり、更には少なくとも約２０ｎｍである。例えば、実施形態においては、前記重心波長（λ２３）－前記重心波長（λ２２）は、≧５ｎｍであり、更により特には少なくとも約１０ｎｍであり、更により特には少なくとも約１５ｎｍなどであり、更には少なくとも約２０ｎｍである。上記から導き出され得るように、「光源」は、「放射線源」又は「放射線の供給源」と示されることもある。

従って、特定の実施形態においては、前記放射線生成システムは、（ａ）最大で２３０ｎｍの波長範囲内に重心波長を持つ遠ＵＶ－Ｃ光を生成するよう構成される数ｎ１１個の遠ＵＶ－Ｃ光源、（ｂ）２３０乃至２８０ｎｍの波長範囲内に重心波長を持つ近ＵＶ－Ｃ光を生成するよう構成される数ｎ１２個の近ＵＶ－Ｃ光源、（ｃ）２８０乃至３１５ｎｍの波長範囲から選択される重心波長を持つＵＶ－Ｂ光を生成するよう構成される数ｎ２３個のＵＶ－Ｂ光源、（ｄ）３１５乃至３８０ｎｍの波長範囲から選択される重心波長を持つＵＶ－Ａ光を生成するよう構成される数ｎ２４個のＵＶ－Ａ光源、及び（ｅ）３８０乃至４２０ｎｍの波長範囲から選択される重心波長を持つ紫色光を生成するよう構成される数ｎ２５個の紫色光源のうちの２つ以上を有してもよい。上記から導き出され得るように、遠ＵＶ－Ｃ光は、遠ＵＶ－Ｃ放射線と示されることもあり、近ＵＶ－Ｃ光は、近ＵＶ－Ｃ放射線と示されることもあり、ＵＶ－Ｂ光は、ＵＶ－Ｂ放射線と示されることもあり、ＵＶ－Ａ光は、ＵＶ－Ａ放射線と示されることもあり、紫色光は、紫色放射線と示されることもある。

従って、実施形態においては、前記１つ以上の第１光源光は、１つ以上の遠ＵＶ－Ｃ光及び近ＵＶ－Ｃ光を有してもよい。更に、実施形態においては、前記１つ以上の第２光源光は、ＵＶ－Ｂ光、ＵＶ－Ａ光及び紫色光のうちの１つ以上、更により特には、ＵＶ－Ｂ光及びＵＶ－Ａ光のうちの１つ以上を有してもよい。

従って、実施形態においては、前記１つ以上の第１光源は、数ｎ１１個の遠ＵＶ－Ｃ光源及び数ｎ１２個の近ＵＶ－Ｃ光源のうちの１つ以上を有してもよい。更に、実施形態においては、前記１つ以上の第２光源は、数ｎ２３個のＵＶ－Ｂ光源、数ｎ２４個のＵＶ－Ａ光源及び数ｎ２５個の紫色光源のうちの１つ以上、特に、数ｎ２３個のＵＶ－Ｂ光源及び数ｎ２４個のＵＶ－Ａ光源のうちの１つ以上を有してもよい。

従って、実施形態においては、前記放射線生成システムの動作モードにおいて、（ｉ）半値全幅によって定義される遠ＵＶ－Ｃ光ビーム角（α１１）を持つ遠ＵＶ－Ｃ光を含む遠ＵＶ－Ｃ光ビーム、（ｉｉ）半値全幅によって定義される近ＵＶ－Ｃ光ビーム角（α１２）を持つ近ＵＶ－Ｃ光を含む近ＵＶ－Ｃ光ビーム、（ｉｉｉ）半値全幅によって定義されるＵＶ－Ｂ光ビーム角（α２３）を持つＵＶ－Ｂ光を含むＵＶ－Ｂ光ビーム、（ｉｖ）半値全幅によって定義されるＵＶ－Ａ光ビーム角（α２４）を持つＵＶ－Ａ光を含むＵＶ－Ａ光ビーム、及び（ｖ）半値全幅によって定義される紫色光ビーム角（α２５）を持つ紫色光を含む紫色光ビームのうちの１つ以上を有する放射線ビームが供給され、特に、２つのビームの任意の組み合わせが少なくとも部分的に重なり合う。

前記ビームの各々が、光軸を有してもよい。実施形態においては、２つのビームの任意の組み合わせが、相互角度α_ｍを有してもよく、０°≦α_ｍ＜｜α_ｘ１－α_ｘ２｜であり、α_ｘ１は、前記ビームのうちの一方のビーム角を示し、α_ｘ２は、前記ビームのうちの他方のビーム角を示す。

特に、前記遠ＵＶ－Ｃ光と、前記近ＵＶ－Ｃ光と、前記ＵＶ－Ｂ光と、前記ＵＶ－Ａ光と、前記紫色光とが、本質的に同じ方向に供給される。従って、遠ＵＶ－Ｃ光、近ＵＶ－Ｃ光、ＵＶ－Ｂ光、ＵＶ－Ａ光及び紫色光の２つのビームの任意の組み合わせが、少なくとも部分的に重なり合ってもよい。更により特には、遠ＵＶ－Ｃ光、近ＵＶ－Ｃ光、ＵＶ－Ｂ光、ＵＶ－Ａ光及び紫色光のビームのうちの１つは、遠ＵＶ－Ｃ光、近ＵＶ－Ｃ光、ＵＶ－Ｂ光、ＵＶ－Ａ光及び紫色光のビームのうちの別の１つと本質的に重なり合ってもよい。更に、実施形態においては、遠ＵＶ－Ｃ光、近ＵＶ－Ｃ光、ＵＶ－Ｂ光、ＵＶ－Ａ光及び紫色光の２つ以上の、特に３つ以上の、更により特に４つ以上の、更にもっとより特に全てのビームの光軸は、本質的に一致してもよい。従って、前記遠ＵＶ－Ｃ光と、前記近ＵＶ－Ｃ光と、前記ＵＶ－Ｂ光と、前記ＵＶ－Ａ光と、前記紫色光とが、同じ方向に伝搬し、少なくとも部分的に重なり合ってもよい。

特に、実施形態においては、前記放射線生成システムは、前記遠ＵＶ－Ｃ光源及び前記近ＵＶ－Ｃ光源のうちの少なくとも１つを有する。実施形態においては、前記放射線生成システムは、前記遠ＵＶ－Ｃ光源と前記近ＵＶ－Ｃ光源との両方を有する。特に、（他の）実施形態においては、前記放射線生成システムは、（ａ）前記遠ＵＶ－Ｃ光源及び前記近ＵＶ－Ｃ光源のうちの少なくとも１つと、（ｂ）前記ＵＶ－Ｂ光源、前記ＵＶ－Ａ光源及び前記紫色光源のうちの少なくとも１つとを有する。特に、（他の）実施形態においては、前記放射線生成システムは、（ａ）前記遠ＵＶ－Ｃ光源と、（ｂ）前記近ＵＶ－Ｃ光源、前記ＵＶ－Ｂ光源、前記ＵＶ－Ａ光源及び前記紫色光源のうちの少なくとも１つとを有する。特に、（他の）実施形態においては、前記放射線生成システムは、（ａ）前記近ＵＶ－Ｃ光源と、（ｂ）前記ＵＶ－Ｂ光源、前記ＵＶ－Ａ光源及び前記紫色光源のうちの少なくとも１つとを有する。

特定の実施形態においては、前記数ｎ１１＋前記数ｎ１２≧１である。その代わりに、又は加えて、特定の実施形態においては、前記数ｎ２３＋前記数ｎ２４＋前記数ｎ２５≧１である。より特に、実施形態においては、前記数ｎ２３＋前記数ｎ２４＋前記数ｎ２５≧２である。従って、特に、実施形態においては、前記数ｎ１１≧０、前記数ｎ１２≧０、前記数ｎ２３≧０、前記数ｎ２４≧０、前記数ｎ２５≧０、前記数ｎ１１＋前記数ｎ１２≧１、且つ前記数ｎ２３＋前記数ｎ２４＋前記数ｎ２５≧１、更により特には、前記数ｎ２３＋前記数ｎ２４＋前記数ｎ２５≧２である。

実施形態においては、前記放射線生成システムは、前記近ＵＶ－Ｃ光源よりも少ない前記遠ＵＶ－Ｃ光源を有するが、特には、少なくとも両方を有し、前記紫色光源を更に有してもよい。従って、実施形態においては、前記数ｎ１１＜前記数ｎ１２、且つ前記数ｎ２５≧1である。前記光源がアレイ状に構成される場合、特に、前記紫色光源は、前記アレイの中心から最も遠い所に構成されてもよい。

上記のように、実施形態においては、前記第１光源は、１つ又は２つのタイプの光源を有してもよい。更に、実施形態においては、前記第２光源は、１つ、２つ又は３つの異なるタイプの光源を有してもよい。しかしながら、本明細書においては、更なるタイプは、除外されない。従って、実施形態においては、前記放射線生成システムは、２つのタイプの光源、若しくは３つのタイプの光源を有してもよく、又は特定の実施形態においては、４つのタイプの光源を有してもよく、又は５つのタイプの光源さえも有してもよい。特に、前記ビーム角は、実施形態においては、重心波長の増加とともに増加し得る。

実施形態においては、前記放射線生成システムは、（ｉ）ビーム角（α１２）を持つ近ＵＶ－Ｃ光と、（ｉｉ）ビーム角（α２３）を持つＵＶ－Ｂ光と、（ｉｉｉ）ビーム角（α２４）を持つＵＶ－Ａ光及び／又はビーム角（α２５）を持つ紫色光とを有する放射線ビームを供給するよう構成されてもよい。特に、実施形態においては、前記ビーム角（α１２）＜前記ビーム角（α２３）＜前記ビーム角（α２４）、且つ／又は前記ビーム角（α１２）＜前記ビーム角（α２３）＜前記ビーム角（α２５）である。更に、特定の実施形態においては、前記数ｎ１２≧１、前記数ｎ２３≧１、前記数ｎ２４＋前記数ｎ２５≧１である。

（代替）実施形態においては、前記放射線生成システムは、（ｉ）ビーム角（α１２）を持つ近ＵＶ－Ｃ光と、（ｉｉ）ビーム角（α１１）を持つ遠ＵＶ－Ｃ光と、（ｉｉｉ）ビーム角（α２３）を持つＵＶ－Ｂ光、ビーム角（α２４）を持つＵＶ－Ａ光及びビーム角（α２５）を持つ紫色光のうちの１つ以上とを有する放射線ビームを供給するよう構成されてもよい。特に、実施形態においては、前記ビーム角（α１２）＜前記ビーム角（α１１）＜前記ビーム角（α２３）、且つ／又は前記ビーム角（α１２）＜前記ビーム角（α１１）＜前記ビーム角（α２４）、且つ／又は前記ビーム角（α１２）＜前記ビーム角（α１１）＜前記ビーム角（α２５）である。更に、特定の実施形態においては、前記数ｎ１１≧１、前記数ｎ１２≧１、前記数ｎ２４＋前記数ｎ２３＋前記数ｎ２５≧１である。

「前記放射線生成システムは、（ｉ）近ＵＶ－Ｃ光と、（ｉｉ）ＵＶ－Ｂ光と、（ｉｉｉ）ＵＶ－Ａ光及び／又は紫色光とを有する放射線ビームを供給するよう構成されてもよい」というような語句、又は「前記放射線生成システムは、（ｉ）近ＵＶ－Ｃ光と、（ｉｉ）遠ＵＶ－Ｃ光と、（ｉｉｉ）ＵＶ－Ｂ光、ＵＶ－Ａ光及び紫色光のうちの１つ以上とを有する放射線ビームを供給するよう構成されてもよい」というような語句、及び同様の語句は、特に、動作モードにおいて、このようなビームが供給されることを示し得るが、より少ない又はより多い成分を備える他の動作モードを除外するものではない。例えば、前記光源が制御可能である場合、前者の実施形態の前記放射線生成システムは、別の動作モードにおいて、近ＵＶ－Ｃ光のみを含む放射線ビーム、又はＵＶ－Ｂ光のみを含む放射線ビーム、又はこれらの組み合わせのみを含む放射線ビーム、又はＵＶ－Ａ光のみを含む放射線ビーム、又はＵＶ－Ａ光及び紫色光の組み合わせを含む放射線ビームなどを供給するよう構成される可能性もある。

実施形態においては、前記ビーム角（α１１）＜前記ビーム角（α２３）、前記ビーム角（α１１）＜前記ビーム角（α２４）、前記ビーム角（α１１）＜前記ビーム角（α２５）、前記ビーム角（α１２）＜前記ビーム角（α２３）、前記ビーム角（α１２）＜前記ビーム角（α２４）、及び前記ビーム角（α１２）＜前記ビーム角（α２５）のうちの少なくとも１つ以上が適用され得る。更に、特に、前記ビーム角（α２５）は、他のビーム角のどれよりも大きい。

上記のように、第１タイプの光源のうちの１つによって供給されるビームは、第２タイプの光源のうちの１つによって供給されるビームと本質的に同じ断面形状を有してもよい。例えば、両方とも、本質的に円形の断面を有してもよい。他の実施形態においては、両方とも、長円形又は楕円形のような、別のタイプの断面形状を有してもよい。前記断面は、半値全幅における強度によって画定され得る。前記ビームは、異なる断面形状を有することもある。少なくとも前記断面形状における１つの軸に沿って、又は前記断面形状における２つの直交する軸に沿って、（ｉ）前記ビーム角（α２３）－前記ビーム角（α１１）≧３°、特に、前記ビーム角（α２３）－前記ビーム角（α１１）≧５°、より特に、前記ビーム角（α２３）－前記ビーム角（α１１）≧１０°、（ｉｉ）前記ビーム角（α２４）－前記ビーム角（α１１）≧３°、特に、前記ビーム角（α２４）－前記ビーム角（α１１）≧５°、より特に、前記ビーム角（α２４）－前記ビーム角（α１１）≧１０°、（ｉｉｉ）前記ビーム角（α２５）－前記ビーム角（α１１）≧３°、特に、前記ビーム角（α２５）－前記ビーム角（α１１）≧５°、より特に、前記ビーム角（α２５）－前記ビーム角（α１１）≧１０°、（ｉｖ）前記ビーム角（α２３）－前記ビーム角（α１２）≧３°、特に、前記ビーム角（α２３）－前記ビーム角（α１２）≧５°、より特に、前記ビーム角（α２３）－前記ビーム角（α１２）≧１０°、（ｖ）前記ビーム角（α２４）－前記ビーム角（α１２）≧３°、特に、前記ビーム角（α２４）－前記ビーム角（α１２）≧５°、より特に、前記ビーム角（α２４）－前記ビーム角（α１２）≧１０°、及び（ｖｉ）前記ビーム角（α２５）－前記ビーム角（α１２）≧３°、特に、前記ビーム角（α２５）－前記ビーム角（α１２）≧５°、より特に、前記ビーム角（α２５）－前記ビーム角（α１２）≧１０°のうちの少なくとも１つ以上が適用され得る。

実施形態においては、前記放射線生成システムは、（ｉ）遠ＵＶ－Ｃ光、（ｉｉ）近ＵＶ－Ｃ光、（ｉｉｉ）ＵＶ－Ｂ光、（ｉｖ）ＵＶ－Ａ光、及び（ｖ）紫色光のうちの少なくとも２つを有する放射線ビームを供給するよう構成されてもよい。

特定の実施形態においては、（前記放射線生成システム（又は消毒デバイス（下記も参照））の）動作モードにおいて、前記第１光源光と前記第２光源光とが、異なる形状の断面を有してもよく、前記第１光源光及び前記第２光源光のうちの一方は、円形断面ビーム形状を供給してもよく、前記第１光源光及び前記第２光源光のうちの他方は、非円形断面ビーム形状を供給してもよい。

上記のように、前記光源は、アレイ状に、特に２Ｄアレイ状に構成されてもよい。このようなアレイは、より前記アレイの中心の近くに構成される光源と、より前記アレイの縁端部の近くに構成される光源とを含み得る。特に、第１光源は、より前記アレイの中心の近くに構成されてもよく、第２光源は、より前記アレイの縁端部の近くに構成されてもよい。例えば紫色光源を外側光源として使用する場合、これは、紫色ハロー効果を提供し得る。これは、前記ビームにその有用な特性で印を付けるのに役立ち得る。従って、実施形態においては、前記アレイは、アレイ縁端部を有してもよく、前記アレイ縁端部を画定する前記光源（１１０、１２０）の大部分は、紫色光源のグループから選択されてもよい。特定の実施形態においては、前記重心波長が大きければ大きいほど、アレイ中心から遠くなる。実施形態においては、前記アレイは、少なくとも１２個の光源などの、少なくとも７個の光源を有してもよい。

従って、実施形態においては、前記放射線生成システムは、（ａ）遠ＵＶ－Ｃ光源、（ｂ）近ＵＶ－Ｃ光源、（ｃ）ＵＶ－Ｂ光源、（ｄ）ＵＶ－Ａ光源、及び（ｅ）紫色光を生成するよう構成される紫色光源のうちの２つ以上を有してもよく、前記アレイ縁端部を画定する前記光源（１１０、１２０）の大部分は、紫色光源のグループから選択されてもよい。

他の実施形態においては、前記放射線生成システムは、（ａ）遠ＵＶ－Ｃ光源、（ｂ）近ＵＶ－Ｃ光源、（ｃ）ＵＶ－Ｂ光源、及び（ｄ）ＵＶ－Ａ光源のうちの２つ以上を有してもよく、前記アレイ縁端部を画定する前記光源（１１０、１２０）の大部分は、ＵＶ－Ａ光源のグループから選択されてもよい。

実施形態においては、前記放射線生成システムは、制御システムを更に有してもよい。特に、前記制御システムは、前記システム光のスペクトルパワー分布及び前記システム光の空間的なパワー分布のうちの１つ以上を制御するよう構成されてもよい。特に、前記制御システムは、前記システム光の前記スペクトルパワー分布と、前記システム光の前記空間的なパワー分布とを、同時に制御するよう構成されてもよい。

実施形態においては、前記制御システムは、前記システム光を、第１スペクトルパワー分布及び第１の空間的なパワー分布（を持つ第１動作モード）から、前記第１スペクトルパワー分布とは異なる第２スペクトルパワー分布及び前記第１の空間的なパワー分布とは異なる第２の空間的なパワー分布（を持つ第２動作モード）へ制御するよう構成されてもよい。例えば、前記第１動作モードにおいては、前記システム光に対する第１光源光の相対的な寄与は、前記システム光に対する第２光源光の相対的な寄与より大きくてもよく、前記第２動作モードにおいては、前記システム光に対する第１光源光の相対的な寄与は、前記システム光に対する第２光源光の相対的な寄与より小さくてもよい。

特に、実施形態においては、各タイプの光源が、個別に制御されてもよい。更に、或るタイプの光源は、よりアレイの中心に近いそのタイプの光源のサブセット、及び前者のサブセットを取り囲むように構成される同じタイプの光源の別のサブセットのような、このようなタイプの光源の２つ以上のサブセットに分けられてもよい。従って、特定の実施形態においては、前記制御システムは、（ａ）数ｎ１１個の遠ＵＶ－Ｃ光源、（ｂ）数ｎ１２個の近ＵＶ－Ｃ光源、（ｃ）数ｎ２３個のＵＶ－Ｂ光源、（ｄ）数ｎ２４個のＵＶ－Ａ光源、及び（ｅ）数ｎ２５個の紫色光源のうちの２つ以上、特に３つ以上を個別に制御するよう構成される。

５つの異なるタイプの光源全てが前記放射線生成システムに含まれている場合があるが、より少ないタイプが利用可能である場合もあることに留意されたい。例えば、上記の実施形態のうちの１つを参照すると、前記放射線生成システムは、（ｉ）近ＵＶ－Ｃ光と、（ｉｉ）ＵＶ－Ｂ光と、（ｉｉｉ）ＵＶ－Ａ光及び／又は紫色光とを有する放射線ビームを供給するよう構成されてもよく、前記制御システムは、（ａ）数ｎ１２個の近ＵＶ－Ｃ光源と、（ｂ）数ｎ２３個のＵＶ－Ｂ光源と、（ｃ）数ｎ２４個のＵＶ－Ａ光源及び／又は数ｎ２５個の紫色光源とを個別に制御するよう構成されてもよい。更なる特定の実施形態については、上記も参照されたい。光源の制御とは、特に、パルス幅変調などによる前記光源の強度の制御、並びに少なくともオン及びオフ状態の制御を指し得る。

上記のように、実施形態においては、前記制御システムは、前記システム光を、第１スペクトルパワー分布及び第１の空間的なパワー分布（を持つ第１動作モード）から、前記第１スペクトルパワー分布とは異なる第２スペクトルパワー分布及び前記第１の空間的なパワー分布とは異なる第２の空間的なパワー分布（を持つ第２動作モード）へ制御するよう構成されてもよい。例えば、前記第１動作モードにおいては、前記システム光に対する、前記遠ＵＶ－Ｃ光、前記近ＵＶ－Ｃ光、前記ＵＶ－Ｂ光、前記ＵＶ－Ａ光、前記紫色光のうちの１つ以上の相対的な寄与は、前記システム光に対する、前記遠ＵＶ－Ｃ光、前記近ＵＶ－Ｃ光、前記ＵＶ－Ｂ光、前記ＵＶ－Ａ光、前記紫色光のうちの１つ以上の他の光の相対的な寄与より大きくてもよく、前記第２動作モードにおいては、前記システム光に対する、前記遠ＵＶ－Ｃ光、前記近ＵＶ－Ｃ光、前記ＵＶ－Ｂ光、前記ＵＶ－Ａ光、前記紫色光のうちの１つ以上の相対的な寄与は、前記システム光に対する、前記遠ＵＶ－Ｃ光、前記近ＵＶ－Ｃ光、前記ＵＶ－Ｂ光、前記ＵＶ－Ａ光、前記紫色光のうちの１つ以上の他の光の相対的な寄与より小さくてもよい。

特定の実施形態においては、前記制御システムは、前記システム光のスペクトルパワー分布と、前記システム光の空間的なパワー分布とを、同時に制御するよう構成されてもよく、前記制御システムは、（ａ）数ｎ１１個の遠ＵＶ－Ｃ光源、（ｂ）数ｎ１２個の近ＵＶ－Ｃ光源、（ｃ）数ｎ２３個のＵＶ－Ｂ光源、（ｄ）数ｎ２４個のＵＶ－Ａ光源、及び（ｅ）数ｎ２５個の紫色光源のうちの３つ以上を個別に制御するよう構成される。

（ａ）数ｎ１１個の遠ＵＶ－Ｃ光源、（ｂ）数ｎ１２個の近ＵＶ－Ｃ光源、（ｃ）数ｎ２３個のＵＶ－Ｂ光源、（ｄ）数ｎ２４個のＵＶ－Ａ光源、及び（ｅ）数ｎ２５個の紫色光源のうちの２つ以上、特に３つ以上を個別に制御することによって、前記システム光の前記スペクトルパワー分布及び前記空間的なパワー分布が制御され得る。

「制御する」という用語及び同様の用語は、特に、少なくとも、要素の挙動を決定すること、又は要素の動作を管理する（supervise）ことを指す。従って、本明細書においては、「制御する」という用語及び同様の用語は、例えば、測定する、表示する、作動する、開く、シフトする、温度を変更するなどのような、挙動を前記要素に課すこと（要素の挙動を決定すること又は要素の動作を管理すること）などを指すことがある。「制御する」という用語及び同様の用語は、その上、モニタすることを更に含むことがある。従って、「制御する」という用語及び同様の用語は、要素に挙動を課すことを含むことがあり、要素に挙動を課し、前記要素をモニタすることを含むこともある。前記要素の制御は、「コントローラ」と示されることもある制御システムで行われ得る。従って、前記制御システム及び前記要素は、少なくとも一時的に、又は恒久的に、機能的に結合されてもよい。前記要素が、前記制御システムを有してもよい。実施形態においては、前記制御システム及び前記要素は、物理的に結合されていなくてもよい。制御は、有線及び／又は無線制御を介して行われることができる。「制御システム」という用語は、特に機能的に結合されている、複数の異なる制御システムを指すこともあり、例えば、前記複数の異なる制御システムのうちの１つの制御システムは、マスタ制御システムであってもよく、１つ以上の他の制御システムは、スレーブ制御システムであってもよい。制御システムは、ユーザインターフェースを有してもよく、又はユーザインターフェースに機能的に結合されてもよい。

前記制御システムはまた、遠隔制御装置からの命令を受信し、実行するよう構成されてもよい。実施形態においては、前記制御システムは、スマートフォン、例えばｉＰｈｏｎｅ、タブレットなどのようなポータブルデバイスなどのデバイスにおけるアプリを介して制御されてもよい。従って、前記デバイスは、必ずしも前記照明システムに結合されないが、前記照明システムに（一時的に）機能的に結合されてもよい。

従って、実施形態においては、前記制御システムは（また）、遠隔デバイスにおけるアプリによって制御されるよう構成されてもよい。このような実施形態においては、前記照明システムの前記制御システムは、スレーブ制御システムであってもよく、又はスレーブモードで制御してもよい。例えば、前記照明システムは、コード、特にそれぞれの照明システムのための固有のコードで識別可能であってもよい。前記照明システムの前記制御システムは、（固有の）コードの光学センサ（例えばＱＲコードリーダ）を備えるユーザインターフェースによって入力される知識に基づいて前記照明システムにアクセスする外部の制御システムによって制御されるよう構成されてもよい。前記照明システムはまた、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ、ＷＩＦＩ、ＬｉＦｉ、ＺｉｇＢｅｅ、ＢＬＥ若しくはＷｉＭＡＸ、又は別の無線技術などに基づいて、他のシステム又はデバイスと通信するための手段を有してもよい。

前記システム、又は装置、又はデバイスは、或る「モード」又は「動作モード」又は「動作のモード」又は「動作可能モード」で動作を実行し得る。同様に、方法においては、動作、又は段階、又はステップが、或る「モード」又は「動作モード」又は「動作のモード」又は「動作可能モード」で実行され得る。これは、前記システム、又は装置、又はデバイスが、別の制御モード、又は複数の他の制御モードを提供するよう適合されることもあることを除外しない。同様に、これは、前記モードを実行する前に及び／又は前記モードを実行した後に、１つ以上の他のモードが実行され得ることを除外しない場合がある。

しかしながら、実施形態においては、少なくとも前記制御モードを提供するよう適合される制御システムが利用可能である場合がある。他のモードが利用可能である場合には、このようなモードの選択は、特には、ユーザインターフェースを介して実行されてもよいが、センサ信号又は（時間）スキームに依存してモードを実行するような他の選択肢も可能であってもよい。前記動作モードは、実施形態においては、単一の動作モード（即ち、更なる調整可能性のない、「オン」）でしか動作することができないシステム、又は装置、又はデバイスを指すこともある。

従って、実施形態においては、前記制御システムは、ユーザインターフェースの入力信号、（センサの）センサ信号、及びタイマのうちの１つ以上に依存して制御してもよい。「タイマ」という用語は、クロック及び／又は所定の時間スキームを指すことがある。

従って、前記放射線生成システムはまた、センサを有してもよく、又はセンサに機能的に結合されてもよい。「センサ」という用語は、複数の（異なる）センサを指すこともある。実施形態においては、前記センサは、動作センサ、存在センサ、距離センサ、イオンセンサ、ガスセンサ、揮発性有機化合物センサ、病原体センサ、気流センサ、音センサ及び通信受信機を含むグループから選択される１つ以上のセンサを有してもよい。前記病原体センサは、細菌、ウイルス及び胞子のうちの１つ以上のためのセンサを有してもよい。その代わりに、又は加えて、前記センサは、温度センサを有してもよい。更に、その代わりに、又は加えて、前記センサは、湿度センサを有してもよい。前記制御システムは、このセンサに機能的に結合されてもよい。

前記制御システムは、前記センサのセンサ信号に依存して前記１つ以上の第１光源及び前記１つ以上の第２光源を個別に制御するよう構成されてもよい。従って、特定の実施形態においては、前記制御システムは、前記センサのセンサ信号に依存して、（ａ）数ｎ１１個の遠ＵＶ－Ｃ光源、（ｂ）数ｎ１２個の近ＵＶ－Ｃ光源、（ｃ）数ｎ２３個のＵＶ－Ｂ光源、（ｄ）数ｎ２４個のＵＶ－Ａ光源、及び（ｅ）数ｎ２５個の紫色光源のうちの２つ以上を個別に制御するよう構成されてもよい。

前記光源を制御することによって、前記システム光の前記スペクトルパワー分布が制御されてもよく、且つ／又は前記システム光の前記空間的なパワー分布が制御されてもよい。例えば、動作させられる光源に依存して、ビーム形状が制御されてもよい（空間的なパワー分布）。

特に、前記放射線生成システムは、ビーム成形要素を有してもよく、前記ビーム成形要素は、実施形態においては、コリメータ、反射器、レンズ、レンズアレイのうちの１つ以上を有してもよい。実施形態においては、前記ビーム成形要素は、前記放射線生成システムの前記光軸を規定し得る。特に、前記ビーム成形要素及び光源は、前記１つ以上の第１光源が、前記１つ以上の第２光源に比べてよりコリメートされたビームを備える前記第１光源光を供給するように構成されてもよく、即ち、前記ビーム成形要素と、前記１つ以上の第１光源と、前記１つ以上の第２光源とが、前記第１光源光のビームが、前記第２光源光のビームに比べてよりコリメートされるように構成される。特に、前記ビーム成形要素は、前記第１光源及び／又は第２光源の下流に構成される。特に、前記ビーム成形要素は、前記放射線ビームを供給する全ての光源の下流に構成される。

「上流」及び「下流」という用語は、光生成手段（ここでは、特に、前記光源）からの光の伝搬に対するアイテム又は特徴の配置に関し、前記光生成手段からの光ビーム内の第１位置に対して、前記光生成手段により近い前記光ビーム内の第２位置は「上流」であり、前記光生成手段からより遠く離れた前記光ビーム内の第３位置は「下流」である。

実施形態においては、前記放射線生成システムは、複数のユニットを有してもよく、各ユニットは、（ｉ）１つ以上の第１光源と、（ｉｉ）１つ以上の第２光源と、（ｉｉｉ）前記１つ以上の第１光源、前記１つ以上の第２光源の下流に構成される前記ビーム成形要素とを有し、各ユニットは、（ｉ）前記第１光源光及び（ｉｉ）前記第２光源光のうちの１つ以上を有する放射線のビーム（又はビームレット）を供給するよう構成され、前記第１光源光は、第１ビーム角（α１）を持ち、前記第２光源光は、第２ビーム角（α２）を持ち、前記第１ビーム角（α１）＜前記第２ビーム角（α２）である。

更に他の態様においては、本発明は、本明細書において規定されているような光生成システムを有する消毒デバイスを提供する。実施形態においては、前記１つ以上の第１光源は、特にＬＥＤ及びスーパールミネッセントダイオードのグループから選択される、１つ以上の固体光源を有してもよい。実施形態においては、その代わりに、又は加えて、前記１つ以上の第２光源は、特にＬＥＤ及びスーパールミネッセントダイオードのグループから選択される、１つ以上の固体光源を有してもよい。特定の実施形態においては、前記１つ以上の第１光源及び前記１つ以上の第２光源は、ＬＥＤ及びスーパールミネッセントダイオードのうちの１つ以上を有してもよい。

実施形態においては、消毒は、スポットライトとして提供されてもよい。例えば、前記ビームは、最大で約６０°の最大ビーム角を有してもよい。前記ビーム角は、実施形態においては、最大で４０°などの、特定の実施形態においては最大で３０°などの、最大で５０°の範囲から選択されてもよい。前記放射線ビームの前記ビーム角は、実施形態においては、特に、最も広いビーム角を持つ放射成分によって規定され得ることに留意されたい。

それ故、実施形態においては、前記消毒デバイス（又は前記放射線生成システム）は、スポットライトの形状を有してもよい。

更に他の態様においては、本発明は、本明細書において記載されているような放射線生成システム又は消毒デバイスの外部の空間内のガス又は表面を処理するための方法も提供する。特に、前記方法は、前記放射線生成システム又は前記消毒デバイスで前記ガス又は前記表面に前記放射線を供給するステップを有してもよい。

「空間」という用語は、例えば、レストラン、ホテル、診療所、又は病院などのような、ホスピタリティエリア（hospitality area）（の一部）に関することがある。「空間」という用語は、オフィス、デパート、倉庫、映画館、教会、 劇場、図書館など（の一部）に関することもある。しかしながら、「空間」という用語は、トラックのキャビン、飛行機のキャビン、船舶（船）のキャビン、乗用車のキャビン、クレーンのキャビン、トラクタのような作業車両（engineering vehicle）のキャビンなどのような、乗り物（vehicle）内の作業空間（の一部）に関することもある。「空間」という用語は、オフィス、（生産）工場、（原子力発電所、ガス発電所、石炭発電所などのような）発電所などのような、作業空間（の一部）に関することもある。例えば、「空間」という用語は、制御室、セキュリティルームなどに関することもある。特に、「空間」という用語は、本明細書においては、屋内空間を指すことがある。更に他の実施形態においては、「空間」という用語は、化粧室又は浴室に関することもある。更に他の実施形態においては、「空間」という用語は、エレベータに関することもある。実施形態においては、「空間」という用語は、会議室、教室、屋内玄関ホール（indoor hallway）、屋内廊下（indoor corridor）、老人ホームにおける屋内空間、介護施設における屋内空間などを指すこともある。実施形態においては、「空間」という用語は、ジム、体育館（gymnastics hall）、屋内球技空間、バレエルーム、水泳プール、更衣室などのような、屋内スポーツ空間を指すことがある。実施形態においては、「空間」という用語は、（屋内）バー、（屋内）ディスコなどを指すことがある。

上記のように、前記放射線生成システムの前記放射線ビームの前記スペクトルパワー分布及び／又は前記空間的なパワー分布は、センサ信号に依存して制御されてもよい。

「可視」、「可視光」又は「可視発光」という用語、及び同様の用語は、約３８０乃至７８０ｎｍの範囲内に１つ以上の波長を有する光を指す。本明細書においては、ＵＶは、特に、２００乃至３８０ｎｍの範囲から選択される波長を指すことがある。本明細書においては、「光」という用語が可視光のみを指すことが文脈から明らかな場合を除き、「光」及び「放射線」という用語は交換可能に使用される。特に照明アプリケーションのための、特定の実施形態においては、「光」及び「放射線」という用語は、（少なくとも）可視光を指す。「紫色光」又は「紫色発光」という用語は、特に、約３８０乃至４４０ｎｍの範囲内に波長を有する光に関する。

更に他の態様においては、本発明は、本明細書において規定されているような放射線生成システムを有するランプ又は照明器具も提供する。前記照明器具は、ハウジング、光学要素、ルーバーなどなどを更に有してもよい。前記ランプ又は前記照明器具は、前記光生成システムを囲むハウジングを更に有してもよい。前記ランプ又は前記照明器具は、前記ハウジングにおける光窓（light window）、又はハウジング開口部を有してもよく、前記システム光は、前記光窓又は前記ハウジング開口部を通して、前記ハウジングから脱出し得る。前記光生成デバイスは、前記光生成システムの１つ以上の要素を、収容するよう構成されるハウジング、又は支持するよう構成される担体を有してもよい。

ここで、ほんの一例として、対応する参照符号が対応する部分を示す添付の概略的な図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。
幾つかの態様及び実施形態を概略的に図示する。 幾つかの態様及び実施形態を概略的に図示する。 幾つかの態様及び実施形態を概略的に図示する。 幾つかの態様及び実施形態を概略的に図示する。 幾つかの態様及び実施形態を概略的に図示する。 幾つかの態様及び実施形態を概略的に図示する。 幾つかの（応用）実施形態を概略的に図示する。

概略的な図面は、必ずしも縮尺通りではない。

図１ａは、１つ以上の第１光源１１０と、１つ以上の第２光源１２０とを有する放射線生成システム１０００を概略的に図示している。１つ以上の第１光源１１０及び１つ以上の第２光源１２０は、固体光源である。実施形態においては、１つ以上の第１光源１１０及び１つ以上の第２光源１２０は、ＬＥＤ及びスーパールミネッセントダイオードのうちの１つ以上を有してもよい。放射線生成システム１０００は、（ｉ）第１光源光１１１及び（ｉｉ）第２光源光１２１のうちの１つ以上を有する放射線ビーム１００１を供給するよう構成される。第１光源光１１１は、第１ビーム角α１を持つ。第２光源光１２１は、第２ビーム角α２を持つ。第１ビーム角α１＜第２ビーム角α２である。ビーム角は、参照符号α１及びα２で示されている。ビーム幅、例えば本質的に円形の断面の場合においてはビーム径は、参照符号Ｗ１及びＷ２で示されている。放射線ビームのビーム角は、実施形態においては、特に、最も広いビーム角（ここではα_２）を持つ放射成分によって規定され得ることに留意されたい。

実施形態においては、第１ビーム角α１は、最大で１５°のような、最大で２０°の範囲から選択されてもよい。加えて、又はその代わりに、第２ビーム角α２は、少なくとも１５°のような、少なくとも１０°の範囲から選択されてもよい。特定の実施形態においては、α２－α１＞５°である。放射線生成システム１０００は、動作モードにおいて、第１光源光１１１と第２光源光１２１との両方を有する放射線ビーム１００１を供給するよう構成される。

放射線生成システム１０００は、光軸Ｏを有してもよい。１つ以上の第１光源１１０の各々が、第１光軸Ｏ１を有してもよく、１つ以上の第２光源１２０の各々が、第２光軸Ｏ２を有してもよい。実施形態においては、１つ以上の第１光源１１０は、１つ以上の第２光源１２０より光軸Ｏの近くに構成されてもよい。従って、実施形態においては、光軸Ｏと１つ以上の第１光軸Ｏ１との間の距離ｄ１は、光軸Ｏと１つ以上の第２光軸Ｏ２との間の距離ｄ２より小さくてもよい。

実施形態においては、放射線生成システム１０００の動作モードにおいて、（ｉ）半値全幅によって定義される第１ビーム角α１を持つ第１光源光１１１を有する第１ビーム２１１１、及び（ｉｉ）半値全幅によって定義される第２ビーム角α２を持つ第２光源光１２１を有する第２ビーム２１２１のうちの１つ以上を有する放射線ビーム１００１で、放射線ビーム１００１が供給される。第１ビーム２１１１及び第２ビーム２１２１は、少なくとも部分的に重なり合う。更に、上記のようにα１＜α２である。第１ビームは第１光軸を有してもよく、第２ビームは第２光軸を有してもよい。特に、第１ビームの光軸と第２ビームの光軸とが、相互角度αｍを有してもよく、０°≦αｍ＜α２－α１である。特に、実施形態においては、相互角度は、本質的にゼロ度であってもよい。特に、第１光源光と第２光源光とが、本質的に同じ方向に供給される。従って、第１ビーム２１１１及び第２ビーム２１２１は、少なくとも部分的に重なり合う。更により特に、第１ビーム及び第２ビームのうちの一方は、第１ビーム及び第２ビームのうちの他方と本質的に重なり合ってもよい。特に、第１ビームは、より広い第２ビームと本質的に重なり合ってもよく、第２ビームは、より狭い第１ビームと部分的に重なり合ってもよい。更に、実施形態においては、第１ビーム及び第２ビームの光軸は、本質的に一致してもよい。従って、第１光と第２光とが、同じ方向に伝搬し、少なくとも部分的に重なり合ってもよい。図１ａにおいては、第１ビーム２１１１及び第２ビーム２１２１の光軸は、放射線ビーム１００１の光軸Ｏと本質的に一致する。

放射線生成システム１０００は、実施形態においては、ビーム成形要素４００を更に有してもよく、ビーム成形要素４００は、コリメータ、反射器、レンズ、レンズアレイのうちの１つ以上を有してもよい。

図１ａは、１つ以上の第１光源１１０と、１つ以上の第２光源１２０とを有する放射線生成システム１０００の実施形態を概略的に図示している。特に、１つ以上の第１光源１１０及び１つ以上の第２光源１２０は、固体光源である。更に、１つ以上の第１光源１１０は、動作モードにおいて、最大で３８０ｎｍの波長範囲内に規定される第１重心波長λｃ１を持つ第１光源光１１１を生成するよう構成されてもよい。更に、１つ以上の第２光源１２０は、動作モードにおいて、最大で４２０ｎｍの波長範囲内に規定される第２重心波長λｃ２を持つ第２光源光１２１を生成するよう構成されてもよい。特に、λｃ２＞λｃ１である。更に、放射線生成システム１０００は、（ｉ）第１光源光１１１及び（ｉｉ）第２光源光１２１のうちの１つ以上を有する放射線ビーム１００１を供給するよう構成されてもよい。第１光源光１１１は、第１ビーム角α１を有してもよく、第２光源光１２１は、第２ビーム角α２を有してもよく、α１＜α２である。それぞれのビーム角は、それぞれの半値全幅によって定義される。

図１ａを参照すると、２１１１と２１２１とが少なくとも部分的に重なり合っている。前者は、後者によって完全に重ね合わされてもよい。更に、概略的に図示されている実施形態は、対称ビームを示している。従って、光軸Ｏの一方の側における半値全幅及び光軸Ｏの他方の側における半値全幅が、ビーム角を規定する（図１ｃも参照）。

参照符号５は、ビームが供給され得る面を示している。このような面においては、例えばスポットが見られ得る（図１ｃ参照）。

図１ｂは、第１光源光１１１及び第２光源光１２１の発光ピークを概略的に図示している。１つ以上の第１光源１１０は、実施形態においては、動作モードにおいて、最大で４２０ｎｍ、更により特に、最大で３８０ｎｍの波長範囲内に規定される第１重心波長λｃ１を持つ第１光源光１１１を生成するよう構成されてもよい。加えて、又はその代わりに、１つ以上の第２光源１２０は、動作モードにおいて、最大で４２０ｎｍの波長範囲内に規定される第２重心波長λｃ２を持つ第２光源光１２１を生成するよう構成されてもよい。特定の実施形態においては、λｃ２＞λｃ１である。

第１重心波長λｃ１は、実施形態においては、１００乃至２８０ｎｍの波長範囲内で、特に２３０乃至２８０ｎｍの範囲内で選択されてもよい。加えて、又はその代わりに、第１重心波長λｃ１は、実施形態においては、１９０乃至２８０ｎｍの波長範囲内で、特に１９０乃至２３０ｎｍの波長範囲内で選択されてもよい。しかしながら、他の範囲も可能であり得る（下記参照）。

第２重心波長λｃ２は、実施形態においては、２８０乃至４２０ｎｍの波長範囲内で選択されてもよい。加えて、又はその代わりに、第２重心波長λｃ２は、２３０乃至２８０ｎｍの波長範囲内で選択されてもよい。特定の実施形態においては、λｃ２－λｃ１≧３０ｎｍである。

参照符号Ｗ１'及びＷ２'は、この概略的な（波長依存性）スペクトルパワー分布におけるスペクトル半値全幅を示している。

図１ｃは、第１光源光１１１と第２光源光１２１との両方が円形状の断面を持つ、消毒デバイス１２００の動作モードの実施形態を概略的に図示している。例えば、これは、面におけるスポットを概略的に図示したものであり得る（図１ａも参照）。

第１光源光１１１は、第１半値全幅Ｗ１を有してもよい。第２光源光１２１は、第２半値全幅Ｗ２を有してもよい。実施形態においては、Ｗ１＜Ｗ２である。消毒デバイス１２００の動作モードの代替実施形態においては、１光源光１１１と第２光源光１２１とが異なる形状の断面を有してもよい（図示せず）。特に、実施形態においては、第１光源光１１１及び第２光源光１２１のうちの一方は、円形断面ビーム形状を供給してもよく、第１光源光１１１及び第２光源光１２１のうちの他方は、非円形断面ビーム形状を供給してもよい。

ここでは、円形断面が図示されている。実施形態においては、半値全幅は、直交軸に沿って示され得る。このような実施形態においては、第１光源光の半値全幅は、それぞれ、参照符号Ｗ１ａ及びＷ１ｂで示されることができ、第２光源光の半値全幅は、それぞれ、参照符号Ｗ２ａ及びＷ２ｂで示されることができる。例えば、Ｗ１ａ及びＷ２ａは、互いに平行に選ばれ得る（従って、Ｗ１ｂ及びＷ２ｂも、互いに平行に選ばれ得る）。最大軸として、最も広いビームの最も広い部分の軸が選ばれ得る。

図１ｃを参照すると、ビーム２１１１とビーム２１２１とが、少なくとも部分的に重なり合っている。前者は、後者によって完全に重ね合わされてもよい。更に、概略的に図示されている実施形態は、対称ビームを示している。従って、ビームの一方の側における半値全幅及びビームのもう一方の側における半値全幅が、ビーム角を規定する（図１ｃも参照）。Ｗ１は、半値全幅を示すので、Ｗ１を超えても、第１光の強度はあるが、その強度は、ビーム２１１１の最大値の５０％より低い。同様に、Ｗ２は、半値全幅を示すので、Ｗ２を超えても、第２光の強度はあるが、その強度は、ビーム２１２１の最大値の５０％より低い。

図２ａは、複数の第２光源１２０を有する放射線生成システム１０００の実施形態を概略的に図示している。１つ以上の第１光源１１０及び複数の第２光源１２０は、アレイ１５０状に構成されてもよい。アレイ１５０は、アレイ中心１５１を有してもよく、１つ以上の第１光源１１０は、アレイ中心１５１まで第１平均距離ｄ_ａ１を有し、複数の第２光源１２０は、アレイ中心１５１まで第２平均距離ｄ_ａ２を有する。実施形態においては、ｄ_ａ１＜ｄ_ａ２である。実施形態においては、アレイ１５０は、アレイ縁端部１５２を有してもよく、アレイ縁端部１５２を画定する光源１１０、１２０の大部分は、紫色光源１２５０のグループから選択されてもよい。

実施形態においては、放射線生成システム１０００は、最大で２３０ｎｍの波長範囲内に重心波長を持つ遠ＵＶ－Ｃ光１１１１を生成するよう構成される数ｎ１１個の遠ＵＶ－Ｃ光源１１１０を有してもよい。加えて、又はその代わりに、放射線生成システム１０００は、実施形態においては、２３０乃至２８０ｎｍの波長範囲内に重心波長を持つ近ＵＶ－Ｃ光１１２１を生成するよう構成される数ｎ１２個の近ＵＶ－Ｃ光源１１２０を有してもよい。加えて、又はその代わりに、放射線生成システム１０００は、実施形態においては、２８０乃至３１５ｎｍの波長範囲から選択される重心波長を持つＵＶ－Ｂ光１２３１を生成するよう構成される数ｎ２３個のＵＶ－Ｂ光源１２３０を有してもよい。加えて、又はその代わりに、放射線生成システム１０００は、実施形態においては、３１５乃至３８０ｎｍの波長範囲から選択される重心波長を持つＵＶ－Ａ光１２４１を生成するよう構成される数ｎ２４個のＵＶ－Ａ光源１２４０を有してもよい。加えて、又はその代わりに、放射線生成システム１０００は、実施形態においては、３８０乃至４２０ｎｍの波長範囲から選択される重心波長を持つ紫色光１２５１を生成するよう構成される数ｎ２５個の紫色光源１２５０を有してもよい。特定の実施形態においては、ｎ１１≧０、ｎ１２≧０、ｎ２３≧０、ｎ２４≧０、ｎ２５≧０、ｎ１１＋ｎ１２≧１、且つｎ２３＋ｎ２４＋ｎ２５≧２である。特定の実施形態においては、ｎ１１＜ｎ１２である。加えて、又はその代わりに、ｎ２５≧１である。

図２ｂは、アレイ中心１５１とアレイ縁端部１５２とを有する、図２ａにおいて図示されているアレイ１５０の断面を概略的に図示している。更に、制御システム３００が概略的に図示されている。

実施形態においては、制御システム３００は、（ａ）ｎ１１個の遠ＵＶ－Ｃ光源１１１０、（ｂ）ｎ１２個の近ＵＶ－Ｃ光源１１２０、（ｃ）ｎ２３個のＵＶ－Ｂ光源１２３０、（ｄ）ｎ２４個のＵＶ－Ａ光源１２４０、及び（ｅ）ｎ２５個の紫色光源１２５０のうちの２つ以上を個別に制御するよう構成されてもよい。

図２ａ及び２ｂ、更に図２ｃは、（ａ）最大で２３０ｎｍの波長範囲内に重心波長を持つ遠ＵＶ－Ｃ光１１１１を生成するよう構成されるｎ１１個の遠ＵＶ－Ｃ光源１１１０、（ｂ）２３０乃至２８０ｎｍの波長範囲内に重心波長を持つ近ＵＶ－Ｃ光１１２１を生成するよう構成されるｎ１２個の近ＵＶ－Ｃ光源１１２０、（ｃ）２８０乃至３１５ｎｍの波長範囲から選択される重心波長を持つＵＶ－Ｂ光１２３１を生成するよう構成されるｎ２３個のＵＶ－Ｂ光源１２３０、（ｄ）３１５乃至３８０ｎｍの波長範囲から選択される重心波長を持つＵＶ－Ａ光１２４１を生成するよう構成されるｎ２４個のＵＶ－Ａ光源１２４０、及び（ｅ）３８０乃至４２０ｎｍの波長範囲から選択される重心波長を持つ紫色光１２５１を生成するよう構成されるｎ２５個の紫色光源１２５０のうちの１つ以上、特に２つ以上を有する放射線生成システム１０００の実施形態を概略的に図示している。特に、ｎ１１≧０、ｎ１２≧０、ｎ２３≧０、ｎ２４≧０、ｎ２５≧０である。実施形態においては、ｎ１１＋ｎ１２≧１であり、且つｎ２３＋ｎ２４＋ｎ２５は、少なくとも２などの、≧１である。

図２ｃは、（ａ）ビーム角α１１を持つ遠ＵＶ－Ｃ光１１１１と、（ｂ）ビーム角α１２を持つ近ＵＶ－Ｃ光１１２１と、（ｃ）ビーム角α２３を持つＵＶ－Ｂ光１２３１と、（ｄ）ビーム角α２４を持つＵＶ－Ａ光１２４１と、（ｅ）ビーム角α２５を持つ紫色光１２５１とを生成するよう構成される、上記のような、放射線生成システム１０００の実施形態を概略的に図示している。

非限定的な数の実施形態（ｅｍｂ）を含む、第１光源１１０、第２光源１２０と、遠ＵＶ－Ｃ光源１１１０、ＵＶ－Ｃ光源１１２０、ＵＶ－Ｂ光源１２３０、ＵＶ－Ａ光源１２４０、及び紫色光源１２５０との関係：

従って、実施形態においては、放射線生成システム１０００は、（ｉ）ビーム角α１２を持つＵＶ－Ｃ光１１２１、（ｉｉ）ビーム角α２３を持つＵＶ－Ｂ光１２３１、並びに（ｉｉｉ）ビーム角α２４を持つＵＶ－Ａ光１２４１及び／又はビーム角α２５を持つ紫色光１２５１のうちの１つ以上を有する放射線ビーム１００１を供給するよう構成されてもよい。特定の実施形態においては、α１２＜α２３＜α２４である。加えて、又はその代わりに、α１２＜α２３＜α２５である。更なる実施形態においては、ｎ１２≧１、ｎ２３≧１、ｎ２４＋ｎ２５≧１である。

放射線生成システム１０００は、実施形態においては、（ｉ）ビーム角α１２を持つＵＶ－Ｃ光１１２１と、（ｉｉ）ビーム角α１１を持つ遠ＵＶ－Ｃ光１１１１と、（ｉｉｉ）ビーム角α２３を持つＵＶ－Ｂ光１２３１、ビーム角α２４を持つＵＶ－Ａ光１２４１及びビーム角α２５を持つ紫色光１２５１のうちの１つ以上とのうちの１つ以上を有する放射線ビーム１００１を供給するよう構成されてもよい。特定の実施形態においては、α１２＜α１１＜α２３である。加えて、又はその代わりに、α１２＜α１１＜α２４である。加えて、又はその代わりに、α１２＜α１１＜α２５である。更なる実施形態においては、ｎ１１≧１、ｎ１２≧１、ｎ２４＋ｎ２３＋ｎ２５≧１である。

図２ｃを参照すると、放射線ビーム１００１のビーム角は、特に、最も広いビーム角（即ち、ここではα₂₅）を持つ放射成分によって規定され得る。

図２ｃを参照すると、実施形態においては、放射線生成システムの動作モードにおいて、（ｉ）半値全幅によって定義される遠ＵＶ－Ｃ光ビーム角α１１を持つ遠ＵＶ－Ｃ光１１１１を含む遠ＵＶ－Ｃ光ビーム３１１１、（ｉｉ）半値全幅によって定義される近ＵＶ－Ｃ光ビーム角α１２を持つ近ＵＶ－Ｃ光１１２１を含む近ＵＶ－Ｃ光ビーム３１２１、（ｉｉｉ）半値全幅によって定義されるＵＶ－Ｂ光ビーム角α２３を持つＵＶ－Ｂ光１２３１を含むＵＶ－Ｂ光ビーム３２３１、（ｉｖ）半値全幅によって定義されるＵＶ－Ａ光ビーム角α２４を持つＵＶ－Ａ光１２４１を含むＵＶ－Ａ光ビーム３２４１、及び（ｖ）半値全幅によって定義される紫色光ビーム角α２５を持つ紫色光１２５１を含む紫色光ビーム３２５１のうちの１つ以上を有する放射線ビーム１００１が供給されてもよい。特に、２つのビームの任意の組み合わせが少なくとも部分的に重なり合う。

ビームの各々が、光軸を有してもよい。実施形態においては、２つのビームの任意の組み合わせが、相互角度α_ｍを有してもよく、０°≦α_ｍ＜｜α_ｘ１－α_ｘ２｜であり、α_ｘ１は、ビームのうちの一方のビーム角を示し、α_ｘ２は、ビームのうちの他方のビーム角を示す。

概略的に図示されているように、遠ＵＶ－Ｃ光１１１１と、近ＵＶ－Ｃ光１１２１と、ＵＶ－Ｂ光１２３１と、ＵＶ－Ａ光１２４１と、紫色光１２５１とが、本質的に同じ方向に供給される。従って、遠ＵＶ－Ｃ光１１１１、近ＵＶ－Ｃ光１１２１、ＵＶ－Ｂ光１２３１、ＵＶ－Ａ光１２４１及び紫色光１２５１の２つのビームの任意の組み合わせが、少なくとも部分的に重なり合ってもよい。更により特には、遠ＵＶ－Ｃ光１１１１、近ＵＶ－Ｃ光１１２１、ＵＶ－Ｂ光１２３１、ＵＶ－Ａ光１２４１及び紫色光１２５１のビームのうちの１つは、遠ＵＶ－Ｃ光１１１１、近ＵＶ－Ｃ光１１２１、ＵＶ－Ｂ光１２３１、ＵＶ－Ａ光１２４１及び紫色光１２５１のビームのうちの別の１つと本質的に重なり合ってもよい。更に、実施形態においては、遠ＵＶ－Ｃ光１１１１、近ＵＶ－Ｃ光１１２１、ＵＶ－Ｂ光１２３１、ＵＶ－Ａ光１２４１及び紫色光１２５１の２つ以上の、特に３つ以上の、更により特に４つ以上の、更にもっとより特に全てのビームの光軸は、本質的に一致してもよい。従って、遠ＵＶ－Ｃ光１１１１と、近ＵＶ－Ｃ光１１２１と、ＵＶ－Ｂ光１２３１と、ＵＶ－Ａ光１２４１と、紫色光１２５１とが、同じ方向に伝搬し、少なくとも部分的に重なり合ってもよい。

図２ｃは、それぞれのビームであって、それらのそれぞれの半値全幅によって定義されるようなそれぞれのビームを下部に示している。

図３は、上記のようなシステム光１００１を供給する放射線生成システム１０００を有する消毒デバイス１２００の実施形態を概略的に図示している。消毒デバイス１２００は、実施形態においては、ランプ１として概略的に図示されている、スポットライトの形状を有してもよい。参照符号３０１は、放射線生成システム１０００によって含まれる又は放射線生成システム１０００に機能的に結合される制御システム３００と機能的に結合され得るユーザインターフェースを示している。

制御システム３００は、実施形態においては、システム光１００１のスペクトルパワー分布及びシステム光１００１の空間的なパワー分布のうちの１つ以上を制御するよう構成されてもよい。放射線生成システム１０００は、実施形態においては、センサ３１０を更に有してもよく、制御システム３００は、センサ３１０のセンサ信号に依存して１つ以上の第１光源１１０及び１つ以上の第２光源１２０を個別に制御するよう構成されてもよい。実施形態においては、本発明は、放射線生成システム１０００又は消毒デバイス１２００の外部の空間内のガス又は表面を処理するための方法を更に含み得る。方法は、特に、放射線生成システム１０００又は消毒デバイス１２００でガス又は表面に放射線１００１を供給するステップを有してもよい。

「複数」という用語は、２つ以上を指す。

本明細書における「実質的に」又は「本質的に」という用語、及び同様の用語は、当業者には理解されるだろう。「実質的に」又は「本質的に」という用語は、「全体的に」、「完全に」、「全て」などを備える実施形態も含み得る。従って、実施形態においては、実質的に又は本質的にという形容詞が取り除かれることもある。適用可能な場合には、「実質的に」という用語又は「本質的に」という用語は、１００％を含む、９５％以上、特に９９％以上、更により特に９９．５％以上などの、９０％以上に関することもある。

「有する」という用語は、「有する」という用語が「から成る」ことを意味する実施形態も含む。

「及び／又は」という用語は、特に、「及び／又は」の前及び後で言及されている項目のうちの１つ以上に関する。例えば、「項目１及び／又は項目２」という語句、及び同様の語句は、項目１及び項目２のうちの１つ以上に関し得る。「有する」という用語は、或る実施形態においては、「から成る」ことを指す場合があるが、別の実施形態においては、「少なくとも規定されている種を含み、随意に、１つ以上の他の種を含む」ことを指す場合もある。

更に、明細書及び特許請求の範囲における、第１、第２、第３などの用語は、同様の要素を区別するために使用されるものであり、必ずしも、逐次的又は時間的な順序を説明するために使用されるものではない。そのように使用される用語は、適切な状況下で交換可能であり、本明細書において記載されている本発明の実施形態は、本明細書において記載又は図示されている順序以外の順序で動作が可能であることは理解されるべきである。

本明細書においては、とりわけ、動作中の、デバイス、装置、又はシステムが記載されているかもしれない。当業者には明らかであるだろうように、本発明は、動作の方法、又は動作中の、デバイス、装置、若しくはシステムに限定されるものではない。

上述の実施形態は、本発明を限定するものではなく、本発明を説明するものであり、当業者は、添付の特許請求の範囲の範囲から逸脱することなく、多くの他の実施形態を設計することができるだろうことに留意されたい。

特許請求の範囲において、括弧内に配置される如何なる参照符号も、請求項を限定するものとして解釈されるべきではない。

「有する」という動詞及びその語形変化の使用は、請求項において示されている要素又はステップ以外の要素又はステップの存在を除外するものではない。文脈から明らかに別の意味が必要とされない限り、明細書及び特許請求の範囲全体を通して、「有する」などの単語は、排他的又は網羅的な意味とは対照的な、包括的な意味で、即ち、「含むが、これに限定されない」という意味で解釈されるべきである。

要素の単数形表記は、このような要素の複数の存在を除外するものではない。

本発明は、幾つかの別個の要素を有するハードウェアによって実施されてもよく、又は適切にプログラムされたコンピュータによって実施されてもよい。幾つかの手段を列挙している、デバイスの請求項、又は装置の請求項、又はシステムの請求項においては、これらの手段のうちの幾つかは、ハードウェアの全く同一のアイテムによって実施されてもよい。単に、或る特定の手段が、相互に異なる従属請求項において挙げられているという事実は、これらの手段の組み合わせは有利になるようには使用されることができないことを示すものではない。（従って、）更に他の態様においては、本発明は、コンピュータにおいて実行するときに、本明細書において記載されているような方法（の１つ以上の実施形態）を実現することが可能であるソフトウェアを提供する。

本発明は、デバイス、装置、若しくはシステムを制御し得る、又は本明細書において記載されている方法若しくはプロセスを実行し得る制御システムも提供する。更に他に、本発明は、デバイス、装置、又はシステムに機能的に結合される又は含まれるコンピュータにおいて実行するときに、このようなデバイス、装置、又はシステムの１つ以上の制御可能な要素を制御するコンピュータプログラム製品も提供する。

本発明は、更に、明細書において記載されている、及び／又は添付の図面において示されている、特徴付けている特徴のうちの１つ以上を有するデバイス、装置、又はシステムに当てはまる。本発明は、更に、明細書において記載されている、及び／又は添付の図面において示されている、特徴付けている特徴のうちの１つ以上を有する方法又はプロセスに関する。

この特許において説明されている様々な態様は、更なる利点を提供するために組み合わされることができる。更に、当業者は、実施形態は組み合わされることができること、及び３つ以上の実施形態も組み合わされることができることを理解するだろう。更に、特徴のうちの幾つかは、１つ以上の分割出願のための基礎を形成することができる。

Claims (15)

1. １つ以上の第１光源と、１つ以上の第２光源とを有する放射線生成システムであって、
   前記１つ以上の第１光源及び前記１つ以上の第２光源が、固体光源であり、
   前記１つ以上の第１光源が、動作モードにおいて、最大で３８０ｎｍの波長範囲内に規定される第１重心波長を持つ第１光源光を生成するよう構成され、
   前記１つ以上の第２光源が、動作モードにおいて、最大で４２０ｎｍの波長範囲内に規定される第２重心波長を持つ第２光源光を生成するよう構成され、前記第２重心波長＞前記第１重心波長であり、
   前記放射線生成システムが、（ｉ）半値全幅によって定義される第１ビーム角を持つ第１光源光を有する第１ビーム、及び（ｉｉ）半値全幅によって定義される第２ビーム角を持つ第２光源光を有する第２ビームのうちの１つ以上を有する放射線ビームを供給するよう構成され、前記第１ビームと前記第２ビームとが、少なくとも部分的に重なり合い、前記第１ビーム角＜前記第２ビーム角である放射線生成システム。
2. 前記第１重心波長が、１００乃至２８０ｎｍの波長範囲内で選択され、前記第２重心波長が、２８０乃至４２０ｎｍの波長範囲内で選択され、前記第２重心波長－前記第１重心波長≧３０ｎｍであり、前記第１ビーム角が、最大で１５°の範囲から選択され、前記第２ビーム角が、少なくとも１０°の範囲から選択され、前記第２ビーム角－前記第１ビーム角≧５°であり、前記放射線生成システムが、動作モードにおいて、前記第１光源光と前記第２光源光との両方を含む前記放射線ビームを供給するよう構成される請求項１に記載の放射線生成システム。
3. 前記第１重心波長が、１９０乃至２３０ｎｍの波長範囲内で選択される請求項１乃至２のいずれか一項に記載の放射線生成システム。
4. 光軸を有し、前記１つ以上の第１光源が、前記１つ以上の第２光源より前記光軸の近くに構成される請求項１乃至３のいずれか一項に記載の放射線生成システム。
5. 複数の第２光源を有し、前記１つ以上の第１光源及び前記複数の第２光源が、アレイ状に構成され、前記アレイが、アレイ中心を有し、前記１つ以上の第１光源が、アレイ中心まで第１平均距離を有し、前記複数の第２光源が、アレイ中心まで第２平均距離を有し、前記第１平均距離＜前記第２平均距離である請求項１乃至４のいずれか一項に記載の放射線生成システム。
6. 前記１つ以上の第１光源及び前記１つ以上の第２光源が、（ａ）最大で２３０ｎｍの波長範囲内に重心波長を持つ遠ＵＶ－Ｃ光を生成するよう構成される数ｎ１１個の遠ＵＶ－Ｃ光源、（ｂ）２３０乃至２８０ｎｍの波長範囲内に重心波長を持つ近ＵＶ－Ｃ光を生成するよう構成される数ｎ１２個の近ＵＶ－Ｃ光源、（ｃ）２８０乃至３１５ｎｍの波長範囲から選択される重心波長を持つＵＶ－Ｂ光を生成するよう構成される数ｎ２３個のＵＶ－Ｂ光源、（ｄ）３１５乃至３８０ｎｍの波長範囲から選択される重心波長を持つＵＶ－Ａ光を生成するよう構成される数ｎ２４個のＵＶ－Ａ光源、及び（ｅ）３８０乃至４２０ｎｍの波長範囲から選択される重心波長を持つ紫色光を生成するよう構成される数ｎ２５個の紫色光源のうちの２つ以上を有し、前記数ｎ１１≧０、前記数ｎ１２≧０、前記数ｎ２３≧０、前記数ｎ２４≧０、前記数ｎ２５≧０、前記数ｎ１１＋前記数ｎ１２≧１、且つ前記数ｎ２３＋前記数ｎ２４＋前記数ｎ２５≧２である請求項１乃至５のいずれか一項に記載の放射線生成システム。
7. 前記放射線生成システムが、（ｉ）ビーム角α１２を持つ近ＵＶ－Ｃ光と、（ｉｉ）ビーム角α２３を持つＵＶ－Ｂ光と、（ｉｉｉ）ビーム角α２４を持つＵＶ－Ａ光及び／又はビーム角α２５を持つ紫色光とを有する前記放射線ビームを供給するよう構成され、前記ビーム角α１２＜前記ビーム角α２３＜前記ビーム角α２４、且つ／又は前記ビーム角α１２＜前記ビーム角α２３＜前記ビーム角α２５である請求項６に記載の放射線生成システム。
8. 前記放射線生成システムが、（ｉ）ビーム角α１２を持つ近ＵＶ－Ｃ光と、（ｉｉ）ビーム角α１１を持つ遠ＵＶ－Ｃ光と、（ｉｉｉ）ビーム角α２３を持つＵＶ－Ｂ光、ビーム角α２４を持つＵＶ－Ａ光及びビーム角α２５を持つ紫色光のうちの１つ以上とを有する前記放射線ビームを供給するよう構成され、前記ビーム角α１２＜前記ビーム角α１１＜前記ビーム角α２３、且つ／又は前記ビーム角α１２＜前記ビーム角α１１＜前記ビーム角α２４、且つ／又は前記ビーム角α１２＜前記ビーム角α１１＜前記ビーム角α２５である請求項６に記載の放射線生成システム。
9. 前記アレイが、アレイ縁端部を有し、前記アレイ縁端部を画定する前記光源の大部分が、紫色光源のグループから選択される請求項５に記載の、且つ請求項６乃至８のいずれか一項に記載の放射線生成システム。
10. 同時に、前記システム光のスペクトルパワー分布を、第１スペクトルパワー分布から、前記第１スペクトルパワー分布とは異なる第２スペクトルパワー分布へ制御すると共に、前記システム光の空間的なパワー分布を、第１の空間的なパワー分布から、前記第１の空間的なパワー分布とは異なる第２の空間的なパワー分布へ制御するよう構成される制御システムを更に有し、前記システム光が、前記第１光源光と、前記第２光源光とを有する請求項１乃至９のいずれか一項に記載の放射線生成システム。
11. 前記制御システムが、（ａ）前記数ｎ１１個の遠ＵＶ－Ｃ光源、（ｂ）前記数ｎ１２個の近ＵＶ－Ｃ光源、（ｃ）前記数ｎ２３個のＵＶ－Ｂ光源、（ｄ）前記数ｎ２４個のＵＶ－Ａ光源、及び（ｅ）前記数ｎ２５個の紫色光源のうちの２つ以上を個別に制御するよう構成される請求項１０に記載の、且つ請求項６乃至８のいずれか一項に記載の放射線生成システム。
12. 前記制御システムが、前記システム光のスペクトルパワー分布と、前記システム光の空間的なパワー分布とを、同時に制御するよう構成され、前記制御システムが、（ａ）前記数ｎ１１個の遠ＵＶ－Ｃ光源、（ｂ）前記数ｎ１２個の近ＵＶ－Ｃ光源、（ｃ）前記数ｎ２３個のＵＶ－Ｂ光源、（ｄ）前記数ｎ２４個のＵＶ－Ａ光源、及び（ｅ）前記数ｎ２５個の紫色光源のうちの３つ以上を個別に制御するよう構成される請求項１０乃至１１のいずれか一項に記載の放射線生成システム。
13. ビーム成形要素を有し、前記ビーム成形要素と、前記１つ以上の第１光源と、前記１つ以上の第２光源とが、前記第１光源光のビームが、前記第２光源光のビームに比べてよりコリメートされるように構成される請求項１乃至１２のいずれか一項に記載の放射線生成システム。
14. 請求項１乃至１３のいずれか一項に記載の放射線生成システムを有する消毒デバイスであって、前記１つ以上の第１光源及び前記１つ以上の第２光源が、ＬＥＤ及びスーパールミネッセントダイオードのうちの１つ以上を有する消毒デバイス。
15. 請求項１乃至１３のいずれか一項に記載の放射線生成システム、又は請求項１４に記載の消毒デバイスの外部の空間内のガス又は表面を処理するための方法であって、前記放射線生成システム又は前記消毒デバイスで前記ガス又は前記表面に前記放射線を供給するステップを有する方法。

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