JP2024115530A - Conductive polymer solutions and their applications - Google Patents
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Abstract
【課題】粘着剤に対して導電性高分子の分散性が高く、導電性高分子の凝集等が生じにくい導電性高分子溶液、および前記導電性高分子溶液を含む粘着剤組成物を提供する。【解決手段】下記一般式(7)で表される構造単位を2つ以上含むポリチオフェン(A)と、特定構造の変性ポリアミン化合物(B)と、有機溶媒(C)と、を含むことを特徴とする、導電性高分子溶液を用いる。JPEG2024115530000033.jpg34140【選択図】なし[Problem] To provide a conductive polymer solution in which the conductive polymer has high dispersibility in the adhesive and is less likely to aggregate, and an adhesive composition containing the conductive polymer solution. [Solution] To use a conductive polymer solution that contains polythiophene (A) containing two or more structural units represented by the following general formula (7), modified polyamine compound (B) having a specific structure, and organic solvent (C). JPEG2024115530000033.jpg34140 [Selected Figure] None
Description
本発明は、導電性高分子溶液、及びその用途に関するものである。 The present invention relates to a conductive polymer solution and its uses.
一般に、静電気とは、物体に電荷が蓄えられ、帯電する現象、又は、帯電した電荷そのもののことを指す。静電気は、2種類の誘電体の摩擦によって発生する電荷の蓄積のほか、帯電した物体との接触などによっても生じ、物体の表面に蓄えられる。 Generally speaking, static electricity refers to the phenomenon in which an object accumulates an electric charge and becomes charged, or to the electric charge itself. Static electricity can be generated by the accumulation of electric charge caused by friction between two types of dielectric material, as well as by contact with a charged object, and can accumulate on the surface of the object.
上記静電気は、塵埃等の異物吸入、ディバイスの静電破壊、測定機器の誤作動、又は火災等を引き起こし得る。また、現代の電磁装置は静電気の放出により一時的又は永久損傷を受ける傾向も非常に高い。このことから、静電気は電子産業においては特に問題である。絶縁物体上への静電気の蓄積は、湿度が低い場合、又は液体若しくは固体が互いに接触しながら移動する場合(摩擦帯電)には極めて起こりやすく、大きな問題である。 The static electricity can cause inhalation of foreign objects such as dust, electrostatic damage to devices, malfunction of measuring instruments, or fires. Modern electromagnetic devices are also highly prone to temporary or permanent damage from static electricity discharges, making static electricity a particular problem in the electronics industry. The accumulation of static electricity on insulating objects is very likely and problematic when humidity is low or when liquids or solids are moving in contact with each other (frictional charging).
例えば、液晶パネルにおいては、偏光板又は位相差板を液晶セルのガラス基材等に接着するために、粘着剤組成物から形成された粘着剤層が使用されることが多い。この偏光板及び位相差板等の光学部材は、通常プラスチック材料より構成されているため、電気絶縁性が高く、粘着剤層を剥離する時等に静電気が発生し易い。そのため、このように発生した静電気が残存した状態で、偏光板又は位相差板を液晶セルに貼合すると、埃の引き付け又は液晶分子の配向乱れが発生し、性能低下が起こる可能性がある。 For example, in liquid crystal panels, an adhesive layer formed from an adhesive composition is often used to adhere a polarizing plate or a retardation plate to the glass substrate of a liquid crystal cell. These optical components such as polarizing plates and retardation plates are usually made of plastic materials, and therefore have high electrical insulation properties, so static electricity is likely to be generated when the adhesive layer is peeled off. Therefore, if a polarizing plate or retardation plate is attached to a liquid crystal cell while static electricity remains, dust may be attracted or the alignment of liquid crystal molecules may be disturbed, resulting in a decrease in performance.
また、偏光板が高速で製造される場合、偏光板保護フィルム剥離時、既存の工程では発生しなかった静電気によるTFT、IC素子の破壊現象が起こり、液晶表示パネルの不具合を誘発する可能性がある。 In addition, when polarizing plates are manufactured at high speeds, static electricity can destroy TFTs and IC elements when the polarizing plate protective film is peeled off, something that did not occur in existing processes, and this can lead to malfunctions in the LCD panel.
静電気発生を抑制するため、粘着剤層に帯電防止機能を付与することが求められている。その手段として、例えば、粘着剤層を形成する粘着剤組成物中に、イオン化合物、又はπ共役系導電性高分子及びポリアニオンを含む導電性複合体を配合することが提案されている(特許文献1~3)。 To suppress the generation of static electricity, it is necessary to impart an antistatic function to the adhesive layer. As a means for achieving this, for example, it has been proposed to blend an ionic compound or a conductive complex containing a π-conjugated conductive polymer and a polyanion in the adhesive composition that forms the adhesive layer (Patent Documents 1 to 3).
しかしながら、特許文献1~3等に開示された、導電性材料を含む粘着剤組成物は、導電性材料の分散性が低いという問題があった。また、このような粘着剤組成物から得られる導電性粘着膜は、耐湿性が低い場合もあった。 However, the adhesive compositions containing conductive materials disclosed in Patent Documents 1 to 3 and the like have a problem in that the conductive materials have low dispersibility. Furthermore, the conductive adhesive films obtained from such adhesive compositions sometimes have low moisture resistance.
本発明者らは、鋭意検討した結果、下記に示す発明が、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させるに至った。 As a result of intensive research, the inventors discovered that the invention described below can solve the above problems, and have completed the present invention.
[1]
下記一般式(7)で表される構造単位を2つ以上含むポリチオフェン(A)と、下記一般式(3-1)で表される繰り返し単位、及び/又は下記一般式(3-2)で表される繰り返し単位、並びに下記一般式(3-3)で表される繰り返し単位によって構成される変性ポリアミン化合物(B)と、有機溶媒(C)と、を含むことを特徴とする、導電性高分子溶液。
[1]
A conductive polymer solution comprising: polythiophene (A) containing two or more structural units represented by the following general formula (7); modified polyamine compound (B) constituted by a repeating unit represented by the following general formula (3-1) and/or a repeating unit represented by the following general formula (3-2), and a repeating unit represented by the following general formula (3-3); and an organic solvent (C).
[一般式(7)において、Rは、スルホン酸基、及びホスホン酸基からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基を有する、総炭素数が1~18の有機基を表す。] [In general formula (7), R represents an organic group having a total of 1 to 18 carbon atoms and having at least one substituent selected from the group consisting of sulfonic acid groups and phosphonic acid groups.]
[一般式(3-1)において、R2は、炭素数1~22の脂肪族炭化水素基を表す。Xは、k個のプロピレンオキシ基(-CH2-CH(CH3)-O-)と、j個のエチレンオキシ基(-CH2-CH2-O-)とのランダム重合又はランダムな順序におけるブロック重合により形成された2価の重合体基を表し、kは0~50の整数を表し、jは10~100の整数を表し、但し、k+j=10~150である。pは、1又は2を表す。hは2~6の整数を表す。一般式(3-2)において、R3は、分岐していてもよい炭素数8~22の2価脂肪族炭化水素基を表す。mは、2~11の整数を表し、nは、0~1000の整数を表す。]
[2]
前記有機溶媒(C)が、エステル系溶媒及び芳香族系溶媒からなる群より選ばれる少なくとも一種である、[1]に記載の導電性高分子溶液。
[In the general formula (3-1), R 2 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms. X represents a divalent polymer group formed by random polymerization or block polymerization in a random order of k propyleneoxy groups (-CH 2 -CH(CH 3 )-O-) and j ethyleneoxy groups (-CH 2 -CH 2 -O-), k represents an integer of 0 to 50, j represents an integer of 10 to 100, and k+j=10 to 150. p represents 1 or 2. h represents an integer of 2 to 6. In the general formula (3-2), R 3 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group having 8 to 22 carbon atoms which may be branched. m represents an integer of 2 to 11, and n represents an integer of 0 to 1000.]
[2]
The conductive polymer solution according to [1], wherein the organic solvent (C) is at least one selected from the group consisting of ester-based solvents and aromatic solvents.
[3]
前記有機溶媒(C)が、酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステル、酢酸ノルマルプロピルエステル、酢酸ブチルエステル、酢酸イソブチルエステル、酢酸メトキシブチルエステル、ベンゼン、トルエン、及びキシレンからなる群より選ばれる少なくとも一種である、[1]又は[2]に記載の導電性高分子溶液。
[3]
The conductive polymer solution according to [1] or [2], wherein the organic solvent (C) is at least one selected from the group consisting of methyl acetate, ethyl acetate, n-propyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, methoxybutyl acetate, benzene, toluene, and xylene.
[4]
前記ポリチオフェン(A)の含有量が、前記有機溶媒(C)100重量部に対して、0.01~10重量部である、[1]から[3]のいずれかに記載の導電性高分子溶液。
[4]
The conductive polymer solution according to any one of [1] to [3], wherein the content of the polythiophene (A) is 0.01 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of the organic solvent (C).
[5]
前記変性ポリアミン化合物(B)の含有量が、前記有機溶媒(C)100重量部に対して、0.01~10重量部である、[1]から[4]のいずれかに記載の導電性高分子溶液。
[5]
The conductive polymer solution according to any one of [1] to [4], wherein the content of the modified polyamine compound (B) is 0.01 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the organic solvent (C).
[6]
前記のポリチオフェン(A)が、下記一般式(1)で表される構造単位及び下記一般式(2)で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一種の構造単位を2つ以上含む、[1]から[5]のいずれかに記載の、導電性高分子溶液。
[6]
The conductive polymer solution according to any one of [1] to [5], wherein the polythiophene (A) contains two or more structural units of at least one kind selected from the group consisting of a structural unit represented by the following general formula (1) and a structural unit represented by the following general formula (2):
[一般式(1)において、M+は、プロトン、アミン化合物の共役酸、又は第4級アンモニウムイオンを表す。一般式(1)及び(2)において、R1は、独立して水素原子、メチル基、エチル基、炭素数3~6の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又はフッ素原子を表し、mは独立して1~10の整数を表し、nは独立して0又は1を表す。]
[7]
前記M+が、プロトン若しくは総炭素数が15~24のアミン化合物の共役酸である、[6]に記載の導電性高分子溶液。
[In general formula (1), M + represents a proton, a conjugate acid of an amine compound, or a quaternary ammonium ion. In general formulas (1) and (2), R1 independently represents a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a linear or branched alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or a fluorine atom, m independently represents an integer of 1 to 10, and n independently represents 0 or 1.]
[7]
The conductive polymer solution according to [6], wherein the M + is a proton or a conjugated acid of an amine compound having a total of 15 to 24 carbon atoms.
[8]
前記M+が、ジオクチルアンモニウムイオン、トリデシルアンモニウムイオン、ヘキサデシルアンモニウムイオン、オクタデシルアンモニウムイオン、オレイルアンモニウムイオン、ジ-n-オクチルアンモニウムイオン、ビス(2-エチルヘキシル)アンモニウムイオン、ジメチルステアリルアンモニウムイオン、トリヘキシルアンモニウムイオン、トリオクチルアンモニウムイオン、トリス(2-エチルヘキシル)アンモニウムイオン、ドデシルトリメチルアンモニウムイオン、及びテトラヘキシルアンモニウムイオンからなる群より選ばれる少なくとも1つである、[6]又は[7]に記載の導電性高分子溶液。
[8]
The conductive polymer solution according to [6] or [7], wherein M + is at least one selected from the group consisting of a dioctylammonium ion, a tridecylammonium ion, a hexadecylammonium ion, an octadecylammonium ion, an oleylammonium ion, a di-n-octylammonium ion, a bis(2-ethylhexyl)ammonium ion, a dimethylstearylammonium ion, a trihexylammonium ion, a trioctylammonium ion, a tris(2-ethylhexyl)ammonium ion, a dodecyltrimethylammonium ion, and a tetrahexylammonium ion.
[9]
[1]から[8]のいずれかに記載の導電性高分子溶液と、粘着剤(D)とを含むことを特徴とする、粘着剤組成物。
[9]
A pressure-sensitive adhesive composition comprising the conductive polymer solution according to any one of [1] to [8] and a pressure-sensitive adhesive (D).
[10]
前記粘着剤(D)が、アクリル系粘着剤である、[9]に記載の粘着剤組成物。
[10]
The pressure-sensitive adhesive composition according to [9], wherein the pressure-sensitive adhesive (D) is an acrylic pressure-sensitive adhesive.
[11]
下記一般式(7)で表される構造単位を2つ以上含むポリチオフェン(A)と、下記一般式(3-1)で表される繰り返し単位、及び/又は下記一般式(3-2)で表される繰り返し単位、並びに下記一般式(3-3)で表される繰り返し単位によって構成される変性ポリアミン化合物(B)と、粘着剤(D)とを含むことを特徴とする、導電性粘着膜。
[11]
A conductive adhesive film comprising: polythiophene (A) containing two or more structural units represented by the following general formula (7); modified polyamine compound (B) constituted by a repeating unit represented by the following general formula (3-1) and/or a repeating unit represented by the following general formula (3-2), and a repeating unit represented by the following general formula (3-3); and an adhesive (D).
[一般式(7)において、Rは、スルホン酸基、及びホスホン酸基からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基を有する、総炭素数が1~18の有機基を表す。] [In general formula (7), R represents an organic group having a total of 1 to 18 carbon atoms and having at least one substituent selected from the group consisting of sulfonic acid groups and phosphonic acid groups.]
[一般式(3-1)において、R2は、炭素数1~22の脂肪族炭化水素基を表す。Xは、k個のプロピレンオキシ基(-CH2-CH(CH3)-O-)と、j個のエチレンオキシ基(-CH2-CH2-O-)とのランダム重合又はランダムな順序におけるブロック重合により形成された2価の重合体基を表し、kは0~50の整数を表し、jは10~100の整数を表し、但し、k+j=10~150である。pは、1又は2を表す。hは2~6の整数を表す。一般式(3-2)において、R3は、分岐していてもよい炭素数8~22の2価脂肪族炭化水素基を表す。mは、2~11の整数を表し、nは、0~1000の整数を表す。]
[12]
前記のポリチオフェン(A)が、下記一般式(1)で表される構造単位及び下記一般式(2)で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一種の構造単位を2つ以上含む、[11]に記載の導電性粘着膜。
[In the general formula (3-1), R 2 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms. X represents a divalent polymer group formed by random polymerization or block polymerization in a random order of k propyleneoxy groups (-CH 2 -CH(CH 3 )-O-) and j ethyleneoxy groups (-CH 2 -CH 2 -O-), k represents an integer of 0 to 50, j represents an integer of 10 to 100, and k+j=10 to 150. p represents 1 or 2. h represents an integer of 2 to 6. In the general formula (3-2), R 3 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group having 8 to 22 carbon atoms which may be branched. m represents an integer of 2 to 11, and n represents an integer of 0 to 1000.]
[12]
The conductive adhesive film according to [11], wherein the polythiophene (A) contains two or more structural units selected from the group consisting of a structural unit represented by the following general formula (1) and a structural unit represented by the following general formula (2):
[一般式(1)において、M+は、プロトン、アミン化合物の共役酸、又は第4級アンモニウムイオンを表す。一般式(1)及び(2)において、R1は、独立して水素原子、メチル基、エチル基、炭素数3~6の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又はフッ素原子を表し、mは独立して1~10の整数を表し、nは独立して0又は1を表す。]
[13]
前記粘着剤(D)が、アクリル系粘着剤である、[11]又は[12]に記載の導電性粘着膜。
[In general formula (1), M + represents a proton, a conjugate acid of an amine compound, or a quaternary ammonium ion. In general formulas (1) and (2), R1 independently represents a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a linear or branched alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or a fluorine atom, m independently represents an integer of 1 to 10, and n independently represents 0 or 1.]
[13]
The conductive adhesive film according to [11] or [12], wherein the pressure-sensitive adhesive (D) is an acrylic pressure-sensitive adhesive.
[14]
[1]から[8]のいずれかに記載の導電性高分子溶液と、紫外線硬化性樹脂(E)とを含むことを特徴とする、紫外線硬化型ハードコート用樹脂組成物。
[14]
[9] A resin composition for ultraviolet-curable hard coat, comprising the conductive polymer solution according to any one of [1] to [8] and an ultraviolet-curable resin (E).
[15]
[14]に記載の紫外線硬化型ハードコート用樹脂組成物を基材に塗布し、次いで乾燥した後、紫外線照射する工程を含むことを特徴とする、ハードコートの製造方法。
[15]
A method for producing a hard coat, comprising the steps of applying the ultraviolet-curable hard coat resin composition according to [14] to a substrate, drying the applied composition, and then irradiating the substrate with ultraviolet light.
[16]
[14]に記載の紫外線硬化型ハードコート用樹脂組成物を硬化させてなる硬化物。
[16]
A cured product obtained by curing the ultraviolet-curable hard coat resin composition according to [14].
[17]
下記一般式(7)で表される構造単位を2つ以上含むポリチオフェン(A)と、下記一般式(3-1)で表される繰り返し単位、及び/又は下記一般式(3-2)で表される繰り返し単位、並びに下記一般式(3-3)で表される繰り返し単位によって構成される変性ポリアミン化合物(B)とを含むことを特徴とする、ハードコート。
[17]
A hard coat comprising a polythiophene (A) containing two or more structural units represented by the following general formula (7), and a modified polyamine compound (B) constituted by a repeating unit represented by the following general formula (3-1) and/or a repeating unit represented by the following general formula (3-2), and a repeating unit represented by the following general formula (3-3):
[一般式(7)において、Rは、スルホン酸基、及びホスホン酸基からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基を有する、総炭素数が1~18の有機基を表す。] [In general formula (7), R represents an organic group having a total of 1 to 18 carbon atoms and having at least one substituent selected from the group consisting of sulfonic acid groups and phosphonic acid groups.]
[一般式(3-1)において、R2は、炭素数1~22の脂肪族炭化水素基を表す。Xは、k個のプロピレンオキシ基(-CH2-CH(CH3)-O-)と、j個のエチレンオキシ基(-CH2-CH2-O-)とのランダム重合又はランダムな順序におけるブロック重合により形成された2価の重合体基を表し、kは0~50の整数を表し、jは10~100の整数を表し、但し、k+j=10~150である。pは、1又は2を表す。hは2~6の整数を表す。一般式(3-2)において、R3は、分岐していてもよい炭素数8~22の2価脂肪族炭化水素基を表す。mは、2~11の整数を表し、nは、0~1000の整数を表す。] [In the general formula (3-1), R 2 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms. X represents a divalent polymer group formed by random polymerization or block polymerization in a random order of k propyleneoxy groups (-CH 2 -CH(CH 3 )-O-) and j ethyleneoxy groups (-CH 2 -CH 2 -O-), k represents an integer of 0 to 50, j represents an integer of 10 to 100, and k+j=10 to 150. p represents 1 or 2. h represents an integer of 2 to 6. In the general formula (3-2), R 3 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group having 8 to 22 carbon atoms which may be branched. m represents an integer of 2 to 11, and n represents an integer of 0 to 1000.]
本発明の一態様によれば、粘着剤に対して導電性高分子の分散性が高く、導電性高分子の凝集等が生じにくい導電性高分子溶液等を提供できる。また、本発明の一態様によれば、耐湿性に優れる導電性粘着膜を提供できる。 According to one aspect of the present invention, it is possible to provide a conductive polymer solution or the like in which the conductive polymer has high dispersibility in the adhesive and the conductive polymer is less likely to aggregate. In addition, according to one aspect of the present invention, it is possible to provide a conductive adhesive film with excellent moisture resistance.
以下、本発明の一実施形態を詳細に説明する。なお、本明細書において特記しない限り、数値範囲を表す「A~B」は、「A以上、B以下」を意味する。 One embodiment of the present invention will be described in detail below. In this specification, unless otherwise specified, "A to B" representing a numerical range means "A or more, B or less."
現在、一般的に普及している粘着剤は、酢酸エステル系の溶媒を用いて製造されている。粘着剤に添加剤を加えて機能を付与する場合は、添加剤が粘着剤中に均一に混錬される必要がある為、当該添加剤については、酢酸エステル系溶媒との相溶性に優れることが要求される。後述する、一般式(1)及び一般式(2)で表される構造単位を特徴とする従来公知の自己ドープ型導電性高分子、又はその組成物については、酢酸エステル系溶媒との相溶性に優れるものが見出されていなかった。一方で本発明の一実施形態に係る導電性高分子溶液については、酢酸エステル系溶媒との相溶性に優れることが見出され、市場普及品の粘着剤に対して帯電防止機能を付与することが可能になった。 Currently, commonly used adhesives are manufactured using acetate-based solvents. When adding additives to an adhesive to impart functionality, the additives must be uniformly mixed in the adhesive, and therefore the additives must be highly compatible with acetate-based solvents. As described below, no self-doped conductive polymers or compositions thereof that are known in the art and characterized by structural units represented by general formulas (1) and (2) have been found to have high compatibility with acetate-based solvents. On the other hand, the conductive polymer solution according to one embodiment of the present invention has been found to have high compatibility with acetate-based solvents, making it possible to impart antistatic functionality to adhesives that are widely available on the market.
本発明の一実施形態によれば、従来報告されていない導電性高分子溶液に基づく、帯電防止特性を有する新しい粘着剤組成物を提供することができる。また、本発明の一実施形態によれば、従来報告されているものと比較し、導電性材料の分散性が高く、導電性材料の凝集等に伴う品質低下を起こしにくい粘着剤組成物を提供することができるという効果を奏する。このような粘着剤組成物を用いることにより、耐湿性に優れる導電性粘着膜を提供することもできる。 According to one embodiment of the present invention, it is possible to provide a new adhesive composition having antistatic properties based on a conductive polymer solution that has not been reported before. In addition, according to one embodiment of the present invention, it is possible to provide an adhesive composition that has high dispersibility of the conductive material and is less susceptible to deterioration in quality due to aggregation of the conductive material, compared to those that have been reported before. By using such an adhesive composition, it is also possible to provide a conductive adhesive film with excellent moisture resistance.
また、上述のような構成によれば、例えば、液晶表示パネル等に本発明の一実施形態に係る導電性粘着膜を適用することで、静電気に起因する製品の不具合発生率を低減できる。このような効果は、例えば、国連が提唱する持続可能な開発目標(SDGs)の目標12「持続可能な生産消費形態を確保する」等の達成にも貢献するものである。 In addition, according to the above-mentioned configuration, for example, by applying the conductive adhesive film according to one embodiment of the present invention to a liquid crystal display panel or the like, the occurrence rate of product defects caused by static electricity can be reduced. Such an effect also contributes to the achievement of, for example, Goal 12 of the Sustainable Development Goals (SDGs) advocated by the United Nations, "Ensure sustainable consumption and production patterns."
〔1.導電性高分子溶液〕
本発明の一実施形態に係る導電性高分子溶液は、下記一般式(7)で表される構造単位を2つ以上含むポリチオフェン(A)と、下記一般式(3-1)で表される繰り返し単位、及び/又は下記一般式(3-2)で表される繰り返し単位、並びに下記一般式(3-3)で表される繰り返し単位によって構成される変性ポリアミン化合物(B)と、有機溶媒(C)と、を含む。
[1. Conductive polymer solution]
The conductive polymer solution according to one embodiment of the present invention contains a polythiophene (A) containing two or more structural units represented by the following general formula (7), a modified polyamine compound (B) constituted by a repeating unit represented by the following general formula (3-1) and/or a repeating unit represented by the following general formula (3-2), and a repeating unit represented by the following general formula (3-3), and an organic solvent (C).
[一般式(7)において、Rは、スルホン酸基、及びホスホン酸基からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基を有する、総炭素数が1~18の有機基を表す。] [In general formula (7), R represents an organic group having a total of 1 to 18 carbon atoms and having at least one substituent selected from the group consisting of sulfonic acid groups and phosphonic acid groups.]
[一般式(3-1)において、R2は、炭素数1~22の脂肪族炭化水素基を表す。Xは、k個のプロピレンオキシ基(-CH2-CH(CH3)-O-)と、j個のエチレンオキシ基(-CH2-CH2-O-)とのランダム重合又はランダムな順序におけるブロック重合により形成された2価の重合体基を表し、kは0~50の整数を表し、jは10~100の整数を表し、但し、k+j=10~150である。pは、1又は2を表す。hは2~6の整数を表す。一般式(3-2)において、R3は、分岐していてもよい炭素数8~22の2価脂肪族炭化水素基を表す。mは、2~11の整数を表し、nは、0~1000の整数を表す。]
〔1-1.ポリチオフェン(A)〕
上記の一般式(7)において、Rは、スルホン酸基、及びホスホン酸基からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基を有する総炭素数が1~18の有機基を表す。少なくとも一つの置換基を有していない状態における、総炭素数が1~18の有機基としては、特に限定するものではないが、例えば、メチル基、エチル基、プロプル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2-エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基、ブトキシメチル基、イソブトキシメチル基、tert-ブトキシメチル基、ヘキシルオキシメチル基、イソヘキシルオキシメチル基、ヘプチルオキシメチル基、又はオクチルオキシメチル基等が挙げられる。
[In the general formula (3-1), R 2 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms. X represents a divalent polymer group formed by random polymerization or block polymerization in a random order of k propyleneoxy groups (-CH 2 -CH(CH 3 )-O-) and j ethyleneoxy groups (-CH 2 -CH 2 -O-), k represents an integer of 0 to 50, j represents an integer of 10 to 100, and k+j=10 to 150. p represents 1 or 2. h represents an integer of 2 to 6. In the general formula (3-2), R 3 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group having 8 to 22 carbon atoms which may be branched. m represents an integer of 2 to 11, and n represents an integer of 0 to 1000.]
[1-1. Polythiophene (A)]
In the above general formula (7), R represents an organic group having a total of 1 to 18 carbon atoms and having at least one substituent selected from the group consisting of a sulfonic acid group and a phosphonic acid group. The organic group having a total of 1 to 18 carbon atoms in a state not having at least one substituent is not particularly limited, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a hexyl group, an isohexyl group, a heptyl group, an octyl group, a 2-ethylhexyl group, a nonyl group, a decyl group, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, a propoxymethyl group, an isopropoxymethyl group, a butoxymethyl group, an isobutoxymethyl group, a tert-butoxymethyl group, a hexyloxymethyl group, an isohexyloxymethyl group, a heptyloxymethyl group, and an octyloxymethyl group.
上記の一般式(7)において、スルホン酸基、及びホスホン酸基からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基を有する総炭素数が1~18の有機基としては、特に限定するものではないが、例えば、スルホン酸メチル基、ホスホン酸メチル基、2-スルホン酸エチル基、2-ホスホン酸エチル基、3-スルホン酸プロプル基、3-ホスホン酸プロプル基、2-スルホン酸プロプル基、2-ホスホン酸プロプル基、4-スルホン酸ブチル基、4-ホスホン酸ブチル基、3-スルホン酸ブチル基、3-ホスホン酸ブチル基、6-スルホン酸ヘキシル基、6-ホスホン酸ヘキシル基、5-スルホン酸ヘキシル基、5-ホスホン酸ヘキシル基、スルホン酸メトキシメチル基、ホスホン酸メトキシメチル基、2-スルホン酸エトキシメチル基、2-ホスホン酸エトキシメチル基、3-スルホン酸プロポキシメチル基、3-ホスホン酸プロポキシメチル基、2-スルホン酸プロポキシメチル基、2-ホスホン酸プロポキシメチル基、4-スルホン酸ブトキシメチル基、4-ホスホン酸ブトキシメチル基、3-スルホン酸ブトキシメチル基、3-ホスホン酸ブトキシメチル基、6-スルホン酸ヘキシルオキシメチル基、6-ホスホン酸ヘキシルオキシメチル基、5-スルホン酸ヘキシルオキシメチル基、又は5-ホスホン酸ヘキシルオキシメチル基等が挙げられる。 In the above general formula (7), the organic group having a total of 1 to 18 carbon atoms and having at least one substituent selected from the group consisting of sulfonic acid groups and phosphonic acid groups is not particularly limited, but examples thereof include methyl sulfonate group, methyl phosphonate group, 2-ethyl sulfonate group, 2-ethyl phosphonate group, 3-propyl sulfonate group, 3-propyl phosphonate group, 2-propyl sulfonate group, 2-propyl phosphonate group, 4-butyl sulfonate group, 4-butyl phosphonate group, 3-butyl sulfonate group, 3-butyl phosphonate group, 6-hexyl sulfonate group, 6-hexyl phosphonate group, 5-hexyl sulfonate group, 5-hexyl phosphonate ... Examples of the alkoxyl group include methoxymethyl sulfonate, methoxymethyl phosphonate, ethoxymethyl 2-sulfonate, ethoxymethyl 2-phosphonate, propoxymethyl 3-sulfonate, propoxymethyl 3-phosphonate, propoxymethyl 2-sulfonate, propoxymethyl 2-phosphonate, butoxymethyl 4-sulfonate, butoxymethyl 4-phosphonate, butoxymethyl 3-sulfonate, butoxymethyl 3-phosphonate, hexyloxymethyl 6-sulfonate, hexyloxymethyl 6-phosphonate, hexyloxymethyl 5-sulfonate, and hexyloxymethyl 5-phosphonate.
なお、上記の一般式(7)で表される構造単位を2つ以上含むポリチオフェン(A)を含む導電性高分子溶液については、塩基又は4級アンモニウム塩化合物を含有していてもよい。前記導電性高分子溶液が塩基又は4級アンモニウム塩化合物を含有する場合、上記の一般式(7)で表される構造単位を2つ以上含むポリチオフェン(A)が有するスルホン酸基、又はホスホン酸基は、前記の塩基又は4級アンモニウム塩化合物と反応して塩を形成する。 The conductive polymer solution containing polythiophene (A) containing two or more structural units represented by the above general formula (7) may contain a base or a quaternary ammonium salt compound. When the conductive polymer solution contains a base or a quaternary ammonium salt compound, the sulfonic acid group or phosphonic acid group of polythiophene (A) containing two or more structural units represented by the above general formula (7) reacts with the base or quaternary ammonium salt compound to form a salt.
前記の塩基としては、アルカリ性アルカリ金属塩化合物、モノアミン化合物、又はジアミン化合物が挙げられる。 The base may be an alkaline alkali metal salt compound, a monoamine compound, or a diamine compound.
前記のアルカリ性アルカリ金属塩化合物としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、又は炭酸水素カリウム等が挙げられる。 Examples of the alkaline alkali metal salt compound include lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, and potassium hydrogen carbonate.
前記のモノアミン化合物としては、例えば、アンモニア、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジオクチルアミン、トリデシルアミン、ヘキサデシルアミン、オクタデシルアミン、オレイルアミン、ジ-n-オクチルアミン、ビス(2-エチルヘキシル)アミン、ジメチルステアリルアミン、トリヘキシルアミン、トリオクチルアミン、又はトリス(2-エチルヘキシル)アミン等が挙げられる。 Examples of the monoamine compounds include ammonia, trimethylamine, triethylamine, dioctylamine, tridecylamine, hexadecylamine, octadecylamine, oleylamine, di-n-octylamine, bis(2-ethylhexyl)amine, dimethylstearylamine, trihexylamine, trioctylamine, and tris(2-ethylhexyl)amine.
前記のジアミン化合物としては、例えば、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ノルボルナンジアミン、ジメチルアミノプロピルアミン、メタキシレンジアミン、又は1,3-ビスアミノメチルシクロヘキサン等が挙げられる。 Examples of the diamine compound include ethylenediamine, hexamethylenediamine, norbornanediamine, dimethylaminopropylamine, metaxylenediamine, and 1,3-bisaminomethylcyclohexane.
上記のポリチオフェン(A)については、成膜性の点で、下記一般式(1)で表される構造単位及び下記一般式(2)で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一種の構造単位を2つ以上含むポリチオフェン(A)であることが好ましい。 From the viewpoint of film-forming properties, the polythiophene (A) is preferably a polythiophene (A) containing two or more structural units selected from the group consisting of structural units represented by the following general formula (1) and structural units represented by the following general formula (2).
[一般式(1)において、M+は、プロトン、アミン化合物の共役酸、又は第4級アンモニウムイオンを表す。一般式(1)及び(2)において、R1は、独立して水素原子、メチル基、エチル基、炭素数3~6の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又はフッ素原子を表し、mは独立して1~10の整数を表し、nは独立して0又は1を表す。]
上記一般式(2)で表される構造単位は、上記一般式(1)で表される構造単位のドーピング状態を表し、そのドーピング状態は、上記一般式(1)で表される構造単位中のスルホ基又はスルホナート基がp型ドーパントとして作用することにより発現する。
[In general formula (1), M + represents a proton, a conjugate acid of an amine compound, or a quaternary ammonium ion. In general formulas (1) and (2), R1 independently represents a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a linear or branched alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or a fluorine atom, m independently represents an integer of 1 to 10, and n independently represents 0 or 1.]
The structural unit represented by the general formula (2) represents a doped state of the structural unit represented by the general formula (1), and the doped state is realized by the sulfo group or sulfonate group in the structural unit represented by the general formula (1) acting as a p-type dopant.
上記一般式(1)及び(2)中のR1で示される炭素数3~6の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基としては、特に限定されないが、例えば、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert-ペンチル基、シクロペンチル基、n-へキシル基、2-エチルブチル基、又はシクロヘキシル基等が挙げられる。 The linear or branched alkyl group having 3 to 6 carbon atoms represented by R 1 in the above general formulas (1) and (2) is not particularly limited, and examples thereof include an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an n-pentyl group, an isopentyl group, a neopentyl group, a tert-pentyl group, a cyclopentyl group, an n-hexyl group, a 2-ethylbutyl group, and a cyclohexyl group.
R1については、成膜性に優れる点で、水素原子、メチル基、エチル基、又はフッ素原子であることが好ましく、水素原子、メチル基、又はフッ素原子であることがより好ましく、メチル基であることがさらに好ましい。 From the viewpoint of excellent film-forming properties, R 1 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or a fluorine atom, more preferably a hydrogen atom, a methyl group, or a fluorine atom, and even more preferably a methyl group.
上記一般式(1)中、M+は、プロトン、アミン化合物の共役酸、又は第4級アンモニウムイオンを表す。 In the above general formula (1), M + represents a proton, a conjugate acid of an amine compound, or a quaternary ammonium ion.
上記アミン化合物の共役酸は、アミン化合物にプロトンが付加したカチオン化合物を表す。当該アミン化合物としては、特に限定されないが、例えば、アンモニア、一般式NH2(R4)、NH(R5)(R6)、及びN(R4)(R5)(R6)で表されるアミン化合物、ピリジン化合物、又はイミダゾール化合物等が挙げられる。 The conjugate acid of the amine compound is a cationic compound in which a proton is added to an amine compound. Examples of the amine compound include, but are not limited to, ammonia, amine compounds represented by the general formulas NH2 ( R4 ), NH( R5 )( R6 ), and N( R4 )( R5 )( R6 ), pyridine compounds, and imidazole compounds.
上記R4~R6は、各々独立して、置換基を有していてもよい総炭素数1~40のアルキル基(このうち、炭素数3~40のアルキル基については、直鎖状、分岐鎖状、又は環状のいずれであってもよい)を表す。このうち、R4~R6は、各々独立して、置換基を有していてもよい総炭素数1~20のアルキル基(このうち、炭素数3~20のアルキル基については、直鎖状、分岐鎖状、又は環状のいずれであってもよい)であることがより好ましく、各々独立して、置換基を有していてもよい総炭素数1~6のアルキル基(このうち、炭素数3~6のアルキル基については、直鎖状、分岐鎖状、又は環状のいずれであってもよい)であることがさらに好ましい。 The above R 4 to R 6 each independently represent an alkyl group having a total of 1 to 40 carbon atoms which may have a substituent (among which, the alkyl group having 3 to 40 carbon atoms may be linear, branched, or cyclic). Of these, it is more preferable that R 4 to R 6 each independently represent an alkyl group having a total of 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent (among which, the alkyl group having 3 to 20 carbon atoms may be linear, branched, or cyclic), and it is even more preferable that R 4 to R 6 each independently represent an alkyl group having a total of 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent (among which, the alkyl group having 3 to 6 carbon atoms may be linear, branched, or cyclic).
また、R4~R6が置換基を有するアルキル基である場合の当該置換基としては、例えば、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数1~20のアリール基、ヒドロキシ基、アミノ基、アルキルエーテル基、アリールエーテル基、チオール基、アルキルスルフィド基、又はカルボキシル基等を挙げることができ、より好ましくは、2-ヒドロキシエチル基、3-ヒドロキシプロピル基、2-ヒドロキシプロピル基、又は2,3-ジヒドロキシプロピル基等のヒドロキシ基を有するアルキル基が挙げられる。 Furthermore, when R to R are alkyl groups having a substituent, examples of the substituent include an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 1 to 20 carbon atoms, a hydroxy group, an amino group, an alkyl ether group, an aryl ether group, a thiol group, an alkyl sulfide group, or a carboxyl group, and more preferably, an alkyl group having a hydroxy group such as a 2-hydroxyethyl group, a 3-hydroxypropyl group, a 2-hydroxypropyl group, or a 2,3-dihydroxypropyl group.
ここで、置換基を有していてもよい総炭素数1~40のアルキル基、又は置換基を有していてもよい総炭素数1~20のアルキル基としては、特に限定されないが、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、t-ブチル基、n-ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、デシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、オレイル基、2-エチルヘキシル基、ジメチルステアリル基、2-ヒドロキシエチル基、3-ヒドロキシプロピル基、2-ヒドロキシプロピル基、2,3-ジヒドロキシプロピル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、ヒドロキシエトキシエチル基、ヒドロキシエトキシエトキシエチル基、ベンジル基、フェネチル基、又はアミノエチル基等が挙げられる。 Here, examples of the alkyl group having a total of 1 to 40 carbon atoms, which may have a substituent, or the alkyl group having a total of 1 to 20 carbon atoms, which may have a substituent, include, but are not limited to, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an n-butyl group, a t-butyl group, an n-hexyl group, a cyclohexyl group, an octyl group, a decyl group, a hexadecyl group, an octadecyl group, an oleyl group, a 2-ethylhexyl group, a dimethylstearyl group, a 2-hydroxyethyl group, a 3-hydroxypropyl group, a 2-hydroxypropyl group, a 2,3-dihydroxypropyl group, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, a hydroxyethoxyethyl group, a hydroxyethoxyethoxyethyl group, a benzyl group, a phenethyl group, and an aminoethyl group.
上記の置換基を有していてもよい総炭素数1~6のアルキル基としては、特に限定されないが、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、t-ブチル基、n-ヘキシル基、シクロヘキシル基、2-ヒドロキシエチル基、3-ヒドロキシプロピル基、2-ヒドロキシプロピル基、2,3-ジヒドロキシプロピル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、ヒドロキシエトキシエチル基、又はヒドロキシエトキシエトキシエチル基等が挙げられる。 The alkyl group having a total of 1 to 6 carbon atoms, which may have the above-mentioned substituent, is not particularly limited, but examples thereof include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an n-butyl group, a t-butyl group, an n-hexyl group, a cyclohexyl group, a 2-hydroxyethyl group, a 3-hydroxypropyl group, a 2-hydroxypropyl group, a 2,3-dihydroxypropyl group, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, a hydroxyethoxyethyl group, and a hydroxyethoxyethoxyethyl group.
このうち、R4~R6としては、より好ましくは、各々独立して、メチル基、エチル基、オクチル基、デシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、オレイル基、2-エチルヘキシル基、ジメチルステアリル基、又はヒドロキシエチル基が挙げられる。 Of these, more preferred examples of R 4 to R 6 are each independently a methyl group, an ethyl group, an octyl group, a decyl group, a hexadecyl group, an octadecyl group, an oleyl group, a 2-ethylhexyl group, a dimethylstearyl group, or a hydroxyethyl group.
前記ピリジン化合物としては、特に限定されないが、例えば、ピリジン、2-メチルピリジン、3-メチルピリジン、4-メチルピリジン、ピコリン、又はルチジン等が挙げられる。これらのうち、ピリジン、ピコリン、又はルチジン等が好ましい。 The pyridine compound is not particularly limited, but examples thereof include pyridine, 2-methylpyridine, 3-methylpyridine, 4-methylpyridine, picoline, and lutidine. Of these, pyridine, picoline, and lutidine are preferred.
前記イミダゾール化合物としては、特に限定されないが、例えば、イミダゾール、2-メチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾール、1-メチルイミダゾール、又は1,2-ジメチルイミダゾール等が挙げられる。これらのうち、イミダゾール、1-メチルイミダゾール、又は1,2-ジメチルイミダゾール等が好ましい。 The imidazole compound is not particularly limited, but examples thereof include imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-methylimidazole, and 1,2-dimethylimidazole. Of these, imidazole, 1-methylimidazole, and 1,2-dimethylimidazole are preferred.
上記アミン化合物の共役酸の総炭素数としては、特に限定されないが、例えば、総炭素数が1~30であってもよく、溶解性の観点から総炭素数が5~30であることが好ましく、総炭素数が8~30であることがより好ましく、総炭素数が15~24であることがより好ましい。 The total number of carbon atoms in the conjugated acid of the amine compound is not particularly limited, but may be, for example, 1 to 30, and from the viewpoint of solubility, the total number of carbon atoms is preferably 5 to 30, more preferably 8 to 30, and even more preferably 15 to 24.
アミン化合物の共役酸としては、より具体的には、例えば、メチルアンモニウムイオン、ジメチルアンモニウムイオン、トリメチルアンモニウムイオン、エチルアンモニウムイオン、トリエチルアンモニウムイオン、ノルマルプロピルアンモニウムイオン、イソプロピルアンモニウムイオン、ノルマルブチルアンモニウムイオン、ペンチルアンモニウムイオン、ヘキシルアンモニウムイオン、ジメチルイソプロピルアンモニウムイオン、ジエチルメチルアンモニウムイオン、ヘプチルアンモニウムイオン、ジイソプロピルメチルアンモニウムイオン、2-ヒドロキシエチルアンモニウムイオン、N,N-ジメチル-N-(2-ヒドロキシエチル)アンモニウムイオン、N-メチル-N-(2-ヒドロキシエチル)アンモニウムイオン、ジ(2-ヒドロキシエチル)アンモニウムイオン、N-メチル-N,N-ジ(2-ヒドロキシエチル)アンモニウムイオン、N,N,N-トリ(2-ヒドロキシエチル)アンモニウムイオン、2,3-ジヒドロキシプロピルアンモニウムイオン、N-メチル-N-(2,3-ジヒドロキシプロピル)アンモニウムイオン、N,N-ジメチル-N-(2,3-ジヒドロキシプロピル)アンモニウムイオン、1,4-ブタンジアンモニウムイオン、トリイソブチルアンモニウムイオン、トリイソペンチルアンモニウムイオン、トリイソオクチルアンモニウムイオン、オクチルアンモニウムイオン、ジオクチルアンモニウムイオン、2-エチルヘキシルアンモニウムイオン、ジイソプロピルエチルアンモニウムイオン、デシルアンモニウムイオン、ドデシルアンモニウムイオン、トリデシルアンモニウムイオン、ペンタデシルアンモニウムイオン、ヘキサデシルアンモニウムイオン、オクタデシルアンモニウムイオン、オレイルアンモニウムイオン、ジ-n-オクチルアンモニウムイオン、ビス(2-エチルヘキシル)アンモニウムイオン、ジメチルオクチルアンモニウムイオン、ジメチルデシルアンモニウムイオン、ジメチルドデシルアンモニウムイオン、ジメチルステアリルアンモニウムイオン、トリヘキシルアンモニウムイオン、トリオクチルアンモニウムイオン、トリス(2-エチルヘキシル)アンモニウムイオン、又はフェニルアンモニウムイオン等が挙げられる。これらのうち、ペンチルアンモニウムイオン、ジメチルイソプロピルアンモニウムイオン、ジエチルメチルアンモニウムイオン、ヘキシルアンモニウムイオン、トリエチルアンモニウムイオン、ヘプチルアンモニウムイオン、ジイソプロピルメチルアンモニウムイオン、オクチルアンモニウムイオン、ジオクチルアンモニウムイオン、2-エチルヘキシルアンモニウムイオン、ジイソプロピルエチルアンモニウムイオン、デシルアンモニウムイオン、ドデシルアンモニウムイオン、トリデシルアンモニウムイオン、ペンタデシルアンモニウムイオン、ヘキサデシルアンモニウムイオン、オクタデシルアンモニウムイオン、オレイルアンモニウムイオン、ジ-n-オクチルアンモニウムイオン、ビス(2-エチルヘキシル)アンモニウムイオン、ジメチルオクチルアンモニウムイオン、ジメチルデシルアンモニウムイオン、ジメチルドデシルアンモニウムイオン、ジメチルステアリルアンモニウムイオン、トリヘキシルアンモニウムイオン、トリオクチルアンモニウムイオン、トリス(2-エチルヘキシル)アンモニウムイオン、及びフェニルアンモニウムイオンからなる群より選ばれる少なくとも1つであることが好ましい。 More specifically, examples of the conjugate acid of the amine compound include methylammonium ion, dimethylammonium ion, trimethylammonium ion, ethylammonium ion, triethylammonium ion, normal propylammonium ion, isopropylammonium ion, normal butylammonium ion, pentylammonium ion, hexylammonium ion, dimethylisopropylammonium ion, diethylmethylammonium ion, heptylammonium ion, diisopropylmethylammonium ion, 2-hydroxyethylammonium ion, N,N-dimethyl-N-(2-hydroxyethyl)ammonium ion, N-methyl-N-(2-hydroxyethyl)ammonium ion, di(2-hydroxyethyl)ammonium ion, N-methyl-N,N-di(2-hydroxyethyl)ammonium ion, N,N,N-tri(2-hydroxyethyl)ammonium ion, 2,3-dihydroxypropylammonium ion, and N-methyl-N-(2,3-dihydroxypropyl)ammonium ion. , N,N-dimethyl-N-(2,3-dihydroxypropyl)ammonium ion, 1,4-butanediammonium ion, triisobutylammonium ion, triisopentylammonium ion, triisooctylammonium ion, octylammonium ion, dioctylammonium ion, 2-ethylhexylammonium ion, diisopropylethylammonium ion, decylammonium ion, dodecylammonium ion, tridecylammonium ion, pentadecylammonium ion, hexadecylammonium ion, octadecylammonium ion, oleylammonium ion, di-n-octylammonium ion, bis(2-ethylhexyl)ammonium ion, dimethyloctylammonium ion, dimethyldecylammonium ion, dimethyldodecylammonium ion, dimethylstearylammonium ion, trihexylammonium ion, trioctylammonium ion, tris(2-ethylhexyl)ammonium ion, or phenylammonium ion. Among these, at least one selected from the group consisting of pentylammonium ion, dimethylisopropylammonium ion, diethylmethylammonium ion, hexylammonium ion, triethylammonium ion, heptylammonium ion, diisopropylmethylammonium ion, octylammonium ion, dioctylammonium ion, 2-ethylhexylammonium ion, diisopropylethylammonium ion, decylammonium ion, dodecylammonium ion, tridecylammonium ion, pentadecylammonium ion, hexadecylammonium ion, octadecylammonium ion, oleylammonium ion, di-n-octylammonium ion, bis(2-ethylhexyl)ammonium ion, dimethyloctylammonium ion, dimethyldecylammonium ion, dimethyldodecylammonium ion, dimethylstearylammonium ion, trihexylammonium ion, trioctylammonium ion, tris(2-ethylhexyl)ammonium ion, and phenylammonium ion is preferred.
上記ピリジン化合物の共役酸の総炭素数としては、総炭素数3~20であることが好ましい。ピリジン化合物の共役酸としては、特に限定されないが、例えば、ピリジニウムイオン、2-メチルピリジニウムイオン、3-メチルピリジニウムイオン、4-メチルピリジニウムイオン、ピコリニウムイオン、又はルチジニウムイオン等が挙げられる。これらのうち、ピリジニウムイオン、ピコリニウムイオン、又はルチジニウムイオン等が好ましい。 The total number of carbon atoms in the conjugate acid of the pyridine compound is preferably 3 to 20. The conjugate acid of the pyridine compound is not particularly limited, but examples thereof include a pyridinium ion, a 2-methylpyridinium ion, a 3-methylpyridinium ion, a 4-methylpyridinium ion, a picolinium ion, and a lutidinium ion. Of these, a pyridinium ion, a picolinium ion, and a lutidinium ion are preferred.
上記イミダゾール化合物の共役酸の総炭素数としては、総炭素数3~20であることが好ましい。イミダゾール化合物の共役酸としては、特に限定されないが、例えば、イミダゾリウムイオン、2-メチルイミダゾリウムイオン、2-エチル-4-メチルイミダゾリウムイオン、2-フェニルイミダゾリウムイオン、2-フェニル-4-メチルイミダゾリウムイオン、1-メチルイミダゾリウムイオン、又は1,2-ジメチルイミダゾリウムイオン等が挙げられる。これらのうち、イミダゾリウムイオン、1-メチルイミダゾリウムイオン、又は1,2-ジメチルイミダゾリウムイオン等が好ましい。 The total number of carbon atoms in the conjugate acid of the imidazole compound is preferably 3 to 20. The conjugate acid of the imidazole compound is not particularly limited, but examples thereof include imidazolium ion, 2-methylimidazolium ion, 2-ethyl-4-methylimidazolium ion, 2-phenylimidazolium ion, 2-phenyl-4-methylimidazolium ion, 1-methylimidazolium ion, and 1,2-dimethylimidazolium ion. Of these, imidazolium ion, 1-methylimidazolium ion, and 1,2-dimethylimidazolium ion are preferred.
上記第4級アンモニウムイオンの総炭素数としては、特に限定されないが、例えば、総炭素数が4~30であってもよく、総炭素数が5~30であることがより好ましく、総炭素数が8~30であることがより好ましく、総炭素数が15~24であることがさらに好ましい。 The total number of carbon atoms in the quaternary ammonium ion is not particularly limited, but may be, for example, 4 to 30, more preferably 5 to 30, even more preferably 8 to 30, and even more preferably 15 to 24.
上記第4級アンモニウムイオンとしては、特に限定されないが、例えば、テトラメチルアンモニウムイオン、テトラエチルアンモニウムイオン、テトラノルマルプロピルアンモニウムイオン、テトラノルマルブチルアンモニウムイオン、テトラノルマルヘキシルアンモニウムイオン、デシルトリメチルアンモニウムイオン、ドデシルトリメチルアンモニウムイオン、又はテトラヘキシルアンモニウムイオン等が挙げられる。これらのうち、デシルトリメチルアンモニウムイオン、ドデシルトリメチルアンモニウムイオン、及びテトラヘキシルアンモニウムイオンからなる群より選ばれる少なくとも1つであることが好ましい。 The above-mentioned quaternary ammonium ion is not particularly limited, but examples thereof include tetramethylammonium ion, tetraethylammonium ion, tetra-normal-propylammonium ion, tetra-normal-butylammonium ion, tetra-normal-hexylammonium ion, decyltrimethylammonium ion, dodecyltrimethylammonium ion, and tetrahexylammonium ion. Among these, at least one selected from the group consisting of decyltrimethylammonium ion, dodecyltrimethylammonium ion, and tetrahexylammonium ion is preferable.
M+が第4級アンモニウムイオンであるポリチオフェン(A)は、第4級アンモニウム塩を、M+がプロトンであるポリチオフェン(A)と混合することにより調製することができる。上記の第4級アンモニウム塩としては、特に限定されないが、例えば、塩化物、臭化物、水酸化物、又は硫酸水素塩等が挙げられる。具体的には、テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラノルマルプロピルアンモニウムクロリド、テトラノルマルブチルアンモニウムクロリド、テトラノルマルヘキシルアンモニウムクロリド、デシルトリメチルアンモニウムクロリド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド、テトラヘキシルアンモニウムヒドロキシド、テトラヘキシルアンモニウム硫酸水素塩、又はテトラヘキシルアンモニウムブロミドが挙げられる。これらのうち、デシルトリメチルアンモニウムクロリド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド、テトラヘキシルアンモニウムヒドロキシド、テトラヘキシルアンモニウム硫酸水素塩、及びテトラヘキシルアンモニウムブロミドからなる群より選ばれる少なくとも1つであることが好ましい。 Polythiophene (A) in which M + is a quaternary ammonium ion can be prepared by mixing a quaternary ammonium salt with polythiophene (A) in which M + is a proton. The above-mentioned quaternary ammonium salt is not particularly limited, but examples thereof include chlorides, bromides, hydroxides, and hydrogen sulfates. Specific examples include tetramethylammonium chloride, tetraethylammonium chloride, tetranormalpropylammonium chloride, tetranormalbutylammonium chloride, tetranormalhexylammonium chloride, decyltrimethylammonium chloride, dodecyltrimethylammonium chloride, tetrahexylammonium hydroxide, tetrahexylammonium hydrogen sulfate, and tetrahexylammonium bromide. Among these, at least one selected from the group consisting of decyltrimethylammonium chloride, dodecyltrimethylammonium chloride, tetrahexylammonium hydroxide, tetrahexylammonium hydrogen sulfate, and tetrahexylammonium bromide is preferred.
上記M+は、プロトン若しくは総炭素数が15~24のアミン化合物の共役酸であることが好ましい。また、上記M+は、塗膜塗工性に優れる点で、ジオクチルアンモニウムイオン、トリデシルアンモニウムイオン、ヘキサデシルアンモニウムイオン、オクタデシルアンモニウムイオン、オレイルアンモニウムイオン、ジ-n-オクチルアンモニウムイオン、ビス(2-エチルヘキシル)アンモニウムイオン、ジメチルステアリルアンモニウムイオン、トリヘキシルアンモニウムイオン、トリオクチルアンモニウムイオン、トリス(2-エチルヘキシル)アンモニウムイオン、ドデシルトリメチルアンモニウムイオン、及びテトラヘキシルアンモニウムイオンからなる群より選ばれる少なくとも1つであることが好ましい。 The above M + is preferably a proton or a conjugate acid of an amine compound having a total carbon number of 15 to 24. From the viewpoint of excellent coating film coatability, the above M + is preferably at least one selected from the group consisting of a dioctylammonium ion, a tridecylammonium ion, a hexadecylammonium ion, an octadecylammonium ion, an oleylammonium ion, a di-n-octylammonium ion, a bis(2-ethylhexyl)ammonium ion, a dimethylstearylammonium ion, a trihexylammonium ion, a trioctylammonium ion, a tris(2-ethylhexyl)ammonium ion, a dodecyltrimethylammonium ion, and a tetrahexylammonium ion.
上記一般式(1)及び(2)中、mは独立して1~10の整数を表し、nは独立して0又は1を表す。上記一般式(1)及び(2)中のmについては、導電性高分子溶液の溶解性及び塗布性の観点から、2~6の整数であることが好ましく、2、3、4、又は5であることがより好ましく、2、又は3であることがさらに好ましい。また、上記一般式(1)及び(2)中のnについては、導電性高分子溶液の溶解性及び塗布性の観点から、1であることが好ましい。 In the above general formulas (1) and (2), m independently represents an integer of 1 to 10, and n independently represents 0 or 1. From the viewpoint of the solubility and coatability of the conductive polymer solution, m in the above general formulas (1) and (2) is preferably an integer of 2 to 6, more preferably 2, 3, 4, or 5, and even more preferably 2 or 3. Furthermore, from the viewpoint of the solubility and coatability of the conductive polymer solution, n in the above general formulas (1) and (2) is preferably 1.
導電性高分子溶液の塗布性が良好であれば、後述する粘着剤組成物の塗布性についても良好となる。 If the conductive polymer solution has good coatability, the adhesive composition described below will also have good coatability.
上記の一般式(1)で表される構造単位及び一般式(2)で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一種の構造単位を少なくとも2つ以上含むポリチオフェンについては、高い導電率が得られる点で、ゲル浸透クロマトグラフィー測定におけるポリスチレンスルホン酸換算数平均分子量が、3,500以上であることが好ましく、4,000以上であることがより好ましく、5,000以上であることが更に好ましい。なお、上記導電性高分子溶液の操作性の点で、上記ポリチオフェン(A)のゲル浸透クロマトグラフィー測定におけるポリスチレンスルホン酸換算数平均分子量は、30,000以下であることが好ましく、20,000以下であることがより好ましく、15,000以下であることがより好ましい。そのため、上記ポリチオフェン(A)のポリスチレンスルホン酸換算数平均分子量は、3,500~30,000であることが好ましく、4,000~20,000であることがより好ましく、5,000~15,000であることが更に好ましい。 For polythiophenes containing at least two or more structural units selected from the group consisting of structural units represented by the general formula (1) and structural units represented by the general formula (2), the number average molecular weight in terms of polystyrene sulfonic acid measured by gel permeation chromatography is preferably 3,500 or more, more preferably 4,000 or more, and even more preferably 5,000 or more, in terms of obtaining high electrical conductivity. In addition, in terms of the operability of the conductive polymer solution, the number average molecular weight in terms of polystyrene sulfonic acid measured by gel permeation chromatography of the polythiophene (A) is preferably 30,000 or less, more preferably 20,000 or less, and even more preferably 15,000 or less. Therefore, the number average molecular weight in terms of polystyrene sulfonic acid of the polythiophene (A) is preferably 3,500 to 30,000, more preferably 4,000 to 20,000, and even more preferably 5,000 to 15,000.
上記のポリチオフェン(A)のゲル浸透クロマトグラフィー法による分子量測定の方法及び条件については、ISO 16014-3:2012(JIS K 7252-3:2016)に従う。 The method and conditions for measuring the molecular weight of the above polythiophene (A) by gel permeation chromatography shall comply with ISO 16014-3:2012 (JIS K 7252-3:2016).
〔1-1-1.ポリチオフェン(A)の製造方法〕
上記の一般式(7)で表される構造単位を少なくとも2つ以上含むポリチオフェンについては、下記一般式(8)で表されるチオフェンモノマーを、水又はアルコール溶媒中、鉄塩及び/又は過硫酸等の酸化剤の存在下に重合させることによって製造することができる。なお、必要に応じて、溶媒洗浄、再沈殿、遠心沈降、限外ろ過、透析、又はイオン交換樹脂処理等の操作を組み合わせることもできる。
[1-1-1. Method for producing polythiophene (A)]
A polythiophene containing at least two or more structural units represented by the above general formula (7) can be produced by polymerizing a thiophene monomer represented by the following general formula (8) in a water or alcohol solvent in the presence of an oxidizing agent such as an iron salt and/or persulfuric acid. If necessary, operations such as solvent washing, reprecipitation, centrifugal sedimentation, ultrafiltration, dialysis, or ion exchange resin treatment can be combined.
[一般式(8)において、Rは、スルホン酸基、及びホスホン酸基からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基を有する総炭素数が1~18の有機基を表す。なお、上記のスルホン酸基、及び/又はホスホン酸基については、アルカリ金属塩であってもよい。]
一般式(8)中、Rは、上記一般式(7)のRと同じ定義である。
[In the general formula (8), R represents an organic group having a total of 1 to 18 carbon atoms and having at least one substituent selected from the group consisting of a sulfonic acid group and a phosphonic acid group. The sulfonic acid group and/or the phosphonic acid group may be an alkali metal salt.]
In the general formula (8), R has the same definition as R in the above general formula (7).
一般式(8)中のアルカリ金属塩としては、例えば、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、ルビジウム塩、又はセシウム塩が挙げられる。 Examples of the alkali metal salt in general formula (8) include lithium salt, sodium salt, potassium salt, rubidium salt, and cesium salt.
また、上記の一般式(1)で表される構造単位及び一般式(2)で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一種の構造単位を少なくとも2つ以上含むポリチオフェンについては、下記一般式(4)で表されるチオフェンモノマーを、水又はアルコール溶媒中、鉄塩及び/又は過硫酸等の酸化剤の存在下に重合させることによって製造することができる。なお、必要に応じて、溶媒洗浄、再沈殿、遠心沈降、限外ろ過、透析、又はイオン交換樹脂処理等の操作を組み合わせることもできる。 In addition, polythiophenes containing at least two or more structural units selected from the group consisting of structural units represented by the above general formula (1) and structural units represented by the general formula (2) can be produced by polymerizing a thiophene monomer represented by the following general formula (4) in water or an alcohol solvent in the presence of an oxidizing agent such as an iron salt and/or persulfuric acid. If necessary, operations such as solvent washing, reprecipitation, centrifugal sedimentation, ultrafiltration, dialysis, or ion exchange resin treatment can also be combined.
上記一般式(4)中、R1、m、nは、上記一般式(1)及び(2)のR1、m、nと同じ定義である。上記一般式(4)中、M+は、プロトン又はアルカリ金属イオンを表す。 In the above general formula (4), R 1 , m, and n are defined the same as R 1 , m, and n in the above general formulas (1) and (2). In the above general formula (4), M + represents a proton or an alkali metal ion.
上記一般式(4)で表されるチオフェンモノマーとしては、特に限定されないが、具体的には、3-[(2,3-ジヒドロチエノ[3,4-b]-[1,4]ジオキシン-2-イル)メトキシ]-1-プロパンスルホン酸ナトリウム、3-[(2,3-ジヒドロチエノ[3,4-b]-[1,4]ジオキシン-2-イル)メトキシ]-1-プロパンスルホン酸カリウム、3-[(2,3-ジヒドロチエノ[3,4-b]-[1,4]ジオキシン-2-イル)メトキシ]-1-メチル-1-プロパンスルホン酸ナトリウム、3-[(2,3-ジヒドロチエノ[3,4-b]-[1,4]ジオキシン-2-イル)メトキシ]-1-エチル-1-プロパンスルホン酸ナトリウム、3-[(2,3-ジヒドロチエノ[3,4-b]-[1,4]ジオキシン-2-イル)メトキシ]-1-プロピル-1-プロパンスルホン酸ナトリウム、3-[(2,3-ジヒドロチエノ[3,4-b]-[1,4]ジオキシン-2-イル)メトキシ]-1-ブチル-1-プロパンスルホン酸ナトリウム、3-[(2,3-ジヒドロチエノ[3,4-b]-[1,4]ジオキシン-2-イル)メトキシ]-1-ペンチル-1-プロパンスルホン酸ナトリウム、3-[(2,3-ジヒドロチエノ[3,4-b]-[1,4]ジオキシン-2-イル)メトキシ]-1-ヘキシル-1-プロパンスルホン酸ナトリウム、3-[(2,3-ジヒドロチエノ[3,4-b]-[1,4]ジオキシン-2-イル)メトキシ]-1-イソプロピル-1-プロパンスルホン酸ナトリウム、3-[(2,3-ジヒドロチエノ[3,4-b]-[1,4]ジオキシン-2-イル)メトキシ]-1-イソブチル-1-プロパンスルホン酸ナトリウム、3-[(2,3-ジヒドロチエノ[3,4-b]-[1,4]ジオキシン-2-イル)メトキシ]-1-イソペンチル-1-プロパンスルホン酸ナトリウム、3-[(2,3-ジヒドロチエノ[3,4-b]-[1,4]ジオキシン-2-イル)メトキシ]-1-フルオロ-1-プロパンスルホン酸ナトリウム、3-[(2,3-ジヒドロチエノ[3,4-b]-[1,4]ジオキシン-2-イル)メトキシ]-1-メチル-1-プロパンスルホン酸カリウム、3-[(2,3-ジヒドロチエノ[3,4-b]-[1,4]ジオキシン-2-イル)メトキシ]-1-メチル-1-プロパンスルホン酸、3-[(2,3-ジヒドロチエノ[3,4-b]-[1,4]ジオキシン-2-イル)メトキシ]-1-メチル-1-プロパンスルホン酸アンモニウム、3-[(2,3-ジヒドロチエノ[3,4-b]-[1,4]ジオキシン-2-イル)メトキシ]-1-メチル-1-プロパンスルホン酸トリエチルアンモニウム、4-[(2,3-ジヒドロチエノ[3,4-b]-[1,4]ジオキシン-2-イル)メトキシ]-1-ブタンスルホン酸ナトリウム、4-[(2,3-ジヒドロチエノ[3,4-b]-[1,4]ジオキシン-2-イル)メトキシ]-1-ブタンスルホン酸カリウム、4-[(2,3-ジヒドロチエノ[3,4-b]-[1,4]ジオキシン-2-イル)メトキシ]-1-メチル-1-ブタンスルホン酸ナトリウム、4-[(2,3-ジヒドロチエノ[3,4-b]-[1,4]ジオキシン-2-イル)メトキシ]-1-メチル-1-ブタンスルホン酸カリウム、4-[(2,3-ジヒドロチエノ[3,4-b]-[1,4]ジオキシン-2-イル)メトキシ]-1-フルオロ-1-ブタンスルホン酸ナトリウム、4-[(2,3-ジヒドロチエノ[3,4-b]-[1,4]ジオキシン-2-イル)メトキシ]-1-フルオロ-1-ブタンスルホン酸カリウム、6-(2,3-ジヒドロ-チエノ[3,4-b][1,4]ジオキシン-2-イル)ヘキサン-1-スルホン酸、6-(2,3-ジヒドロ-チエノ[3,4-b][1,4]ジオキシン-2-イル)ヘキサン-1-スルホン酸ナトリウム、6-(2,3-ジヒドロ-チエノ[3,4-b][1,4]ジオキシン-2-イル)ヘキサン-1-スルホン酸リチウム、6-(2,3-ジヒドロ-チエノ[3,4-b][1,4]ジオキシン-2-イル)ヘキサン-1-スルホン酸カリウム、8-(2,3-ジヒドロ-チエノ[3,4-b][1,4]ジオキシン-2-イル)オクタン-1-スルホン酸、8-(2,3-ジヒドロ-チエノ[3,4-b][1,4]ジオキシン-2-イル)オクタン-1-スルホン酸ナトリウム、及び8-(2,3-ジヒドロ-チエノ[3,4-b][1,4]ジオキシン-2-イル)オクタン-1-スルホン酸カリウム等が例示される。 The thiophene monomer represented by the above general formula (4) is not particularly limited, but specific examples include sodium 3-[(2,3-dihydrothieno[3,4-b]-[1,4]dioxin-2-yl)methoxy]-1-propanesulfonate, potassium 3-[(2,3-dihydrothieno[3,4-b]-[1,4]dioxin-2-yl)methoxy]-1-propanesulfonate, sodium 3-[(2,3-dihydrothieno[3,4-b]-[1,4]dioxin-2-yl)methoxy]-1-methyl-1-propanesulfonate, sodium 3-[( Sodium 2,3-dihydrothieno[3,4-b]-[1,4]dioxin-2-yl)methoxy]-1-ethyl-1-propanesulfonate, sodium 3-[(2,3-dihydrothieno[3,4-b]-[1,4]dioxin-2-yl)methoxy]-1-propyl-1-propanesulfonate, sodium 3-[(2,3-dihydrothieno[3,4-b]-[1,4]dioxin-2-yl)methoxy]-1-butyl-1-propanesulfonate, sodium 3-[(2,3-dihydrothieno[3,4-b]-[1,4]dioxin-2-yl)methoxy]-1-butyl-1-propanesulfonate ) methoxy]-1-pentyl-1-propanesulfonic acid sodium salt, 3-[(2,3-dihydrothieno[3,4-b]-[1,4]dioxin-2-yl) methoxy]-1-hexyl-1-propanesulfonic acid sodium salt, 3-[(2,3-dihydrothieno[3,4-b]-[1,4]dioxin-2-yl) methoxy]-1-isopropyl-1-propanesulfonic acid sodium salt, 3-[(2,3-dihydrothieno[3,4-b]-[1,4]dioxin-2-yl) methoxy]-1-isobutyl-1-propanesulfonic acid sodium salt 3-[(2,3-dihydrothieno[3,4-b]-[1,4]dioxin-2-yl)methoxy]-1-isopentyl-1-propanesulfonate, sodium 3-[(2,3-dihydrothieno[3,4-b]-[1,4]dioxin-2-yl)methoxy]-1-fluoro-1-propanesulfonate, potassium 3-[(2,3-dihydrothieno[3,4-b]-[1,4]dioxin-2-yl)methoxy]-1-methyl-1-propanesulfonate, oxin-2-yl)methoxy]-1-methyl-1-propanesulfonic acid, ammonium 3-[(2,3-dihydrothieno[3,4-b]-[1,4]dioxin-2-yl)methoxy]-1-methyl-1-propanesulfonate, triethylammonium 3-[(2,3-dihydrothieno[3,4-b]-[1,4]dioxin-2-yl)methoxy]-1-methyl-1-propanesulfonate, sodium 4-[(2,3-dihydrothieno[3,4-b]-[1,4]dioxin-2-yl)methoxy]-1-butanesulfonate, 4-[(2,3-dihydrothieno[3,4-b]-[1,4]dioxin-2-yl)methoxy]-1-butanesulfonic acid potassium salt, 4-[(2,3-dihydrothieno[3,4-b]-[1,4]dioxin-2-yl)methoxy]-1-methyl-1-butanesulfonic acid sodium salt, 4-[(2,3-dihydrothieno[3,4-b]-[1,4]dioxin-2-yl)methoxy]-1-methyl-1-butanesulfonic acid potassium salt, 4-[(2,3-dihydrothieno[3,4-b]-[1,4]dioxin-2-yl)methoxy]-1-methyl-1-butanesulfonic acid potassium salt, 4-[(2,3-dihydrothieno[3,4-b]-[1,4]dioxin-2-yl)methoxy]-1 -fluoro-1-butanesulfonic acid sodium salt, 4-[(2,3-dihydrothieno[3,4-b][1,4]dioxin-2-yl)methoxy]-1-fluoro-1-butanesulfonic acid potassium salt, 6-(2,3-dihydro-thieno[3,4-b][1,4]dioxin-2-yl)hexane-1-sulfonic acid, 6-(2,3-dihydro-thieno[3,4-b][1,4]dioxin-2-yl)hexane-1-sulfonic acid sodium salt, 6-(2,3-dihydro-thieno[3,4-b][1,4]dioxin-2-yl)hexane- Examples include lithium 1-sulfonate, potassium 6-(2,3-dihydro-thieno[3,4-b][1,4]dioxin-2-yl)hexane-1-sulfonate, potassium 8-(2,3-dihydro-thieno[3,4-b][1,4]dioxin-2-yl)octane-1-sulfonic acid, sodium 8-(2,3-dihydro-thieno[3,4-b][1,4]dioxin-2-yl)octane-1-sulfonate, and potassium 8-(2,3-dihydro-thieno[3,4-b][1,4]dioxin-2-yl)octane-1-sulfonate.
上記のM+で表されるアルカリ金属イオンとしては、特に限定されないが、例えば、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、又はセシウムイオンを挙げることができる。 The alkali metal ion represented by M + is not particularly limited, but examples thereof include a lithium ion, a sodium ion, a potassium ion, and a cesium ion.
上記一般式(8)又は(4)で表されるチオフェンモノマーの重合反応に用いる溶媒は、水、アルコール、又はアルコール水溶液であることが好ましい。水としては、例えば、純水が挙げられ、蒸留水、又はイオン交換水でもよい。アルコール溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、又はブタノール等のアルコール類が挙げられる。これらのアルコール溶媒は、単独で使用しても、水と併用してもよい。これらの溶媒のうち、好ましくは水又はメタノールであり、より好ましくは水である。また、溶媒を脱気してもよく、窒素等の不活性ガスで置換していてもよい。 The solvent used in the polymerization reaction of the thiophene monomer represented by the above general formula (8) or (4) is preferably water, alcohol, or an aqueous alcohol solution. Examples of water include pure water, and may be distilled water or ion-exchanged water. Examples of alcohol solvents include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, and butanol. These alcohol solvents may be used alone or in combination with water. Of these solvents, water or methanol is preferred, and water is more preferred. The solvent may be degassed or replaced with an inert gas such as nitrogen.
上記のチオフェンモノマーの重合反応に用いる溶媒量は、例えば、チオフェンモノマーが溶解する量であり、特に限定されないが、上記のチオフェンモノマーの仕込量に対して0.1~100重量倍の範囲が好ましく、1~20重量倍の範囲がより好ましい。 The amount of solvent used in the polymerization reaction of the thiophene monomer is, for example, an amount that dissolves the thiophene monomer, and is not particularly limited. The amount is preferably in the range of 0.1 to 100 times by weight, more preferably 1 to 20 times by weight, relative to the amount of the thiophene monomer charged.
上記のチオフェンモノマーの重合反応に用いる酸化剤は、酸化的脱水素化反応による酸化重合を進行させる。当該酸化剤は、特に限定されないが、例えば、過硫酸類、鉄塩(II又はIII)、過酸化水素、過マンガン酸塩、重クロム酸塩、硫酸セリウム(IV)、又は酸素等が挙げられ、これらを単独で又は二種以上を混合して使用してもよい。 The oxidizing agent used in the polymerization reaction of the thiophene monomer promotes oxidative polymerization by oxidative dehydrogenation. The oxidizing agent is not particularly limited, but examples thereof include persulfates, iron salts (II or III), hydrogen peroxide, permanganates, dichromates, cerium sulfate (IV), and oxygen, and these may be used alone or in combination of two or more.
ここで、過硫酸類としては、具体的には、過硫酸、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、又は過硫酸カリウム等が例示される。 Specific examples of persulfates include persulfuric acid, ammonium persulfate, sodium persulfate, and potassium persulfate.
鉄塩としては、具体的には、FeCl3、FeBr3、Fe2(SO4)3、Fe(NO3)3・9H2O、過塩素酸鉄、パラ-トルエンスルホン酸鉄(III)等の3価の鉄塩、FeCl2、FeBr2、FeSO4・7H2O、酢酸鉄(II)等の2価の鉄塩が挙げられる。これらは無水物を使用しても、水和物を使用してもよい。 Specific examples of iron salts include trivalent iron salts such as FeCl 3 , FeBr 3 , Fe 2 (SO 4 ) 3 , Fe (NO 3 ) 3.9H 2 O, iron perchlorate, and iron (III) para-toluenesulfonate, and divalent iron salts such as FeCl 2 , FeBr 2 , FeSO 4.7H 2 O, and iron (II) acetate. These may be used in the form of anhydride or hydrate.
また、過マンガン酸塩としては、具体的には、過マンガン酸ナトリウム、過マンガン酸カリウム、又は過マンガン酸マグネシウム等が例示される。 Specific examples of permanganate salts include sodium permanganate, potassium permanganate, and magnesium permanganate.
また、重クロム酸塩としては、具体的には、重クロム酸アンモニウム、又は重クロム酸カリウム等が例示される。 Specific examples of dichromates include ammonium dichromate and potassium dichromate.
これらの酸化剤のうち、FeCl3、Fe2(SO4)3、Fe2(SO4)3、又は過硫酸塩と鉄塩(II又はIII)との併用系が特に好ましい。 Among these oxidizing agents, FeCl 3 , Fe 2 (SO 4 ) 3 , Fe 2 (SO 4 ) 3 , or a combination of a persulfate and an iron salt (II or III) is particularly preferred.
上記のチオフェンモノマーの重合反応に用いる酸化剤の量としては、特に限定されないが、チオフェンモノマーの仕込モル数に対して0.5~50倍モルが好ましい。より好ましくは、1~20倍モルである。更に好ましくは、1~10倍モルである。 The amount of oxidizing agent used in the polymerization reaction of the thiophene monomer is not particularly limited, but is preferably 0.5 to 50 times the number of moles of the charged thiophene monomer. More preferably, it is 1 to 20 times the number of moles. Even more preferably, it is 1 to 10 times the number of moles.
上記のチオフェンモノマーの重合反応に用いる酸化剤が、例えば、鉄塩(III)単独系の場合、原料として用いられるチオフェンモノマーの仕込モル数に対して、鉄塩(III)が等倍モル以上であり、且つ溶媒に対する鉄濃度が10重量%以上になるように用いて重合させることが好ましい。より良好な導電性を発現させるためには、溶媒に対する鉄濃度が20重量%以上であることが更に好ましい。尚、ここでいう鉄濃度とは、鉄塩/(鉄塩+水)×100(重量%)で表される値であり、鉄塩は無水物として計算する。 When the oxidizing agent used in the polymerization reaction of the thiophene monomer is, for example, a system of iron salt (III) alone, it is preferable to use iron salt (III) in an amount equal to or greater than the number of moles of the thiophene monomer used as the raw material, and to polymerize the thiophene monomer so that the iron concentration in the solvent is 10% by weight or more. In order to achieve better conductivity, it is even more preferable that the iron concentration in the solvent is 20% by weight or more. The iron concentration here is a value expressed as iron salt / (iron salt + water) x 100 (weight%), and the iron salt is calculated as anhydrous.
又、上記のチオフェンモノマーの重合反応に用いる酸化剤が、過硫酸塩と鉄塩(II又はIII)との併用系である場合には、チオフェンモノマーの仕込モル数に対して、過硫酸塩が0.5~20倍モルの範囲であり、且つ鉄塩(II又はIII)が0.01~10倍モルの範囲であることが好ましく、過硫酸塩が1.5~10倍モルの範囲であり、且つ、鉄塩(II又はIII)が0.05~5倍モルの範囲であることがより好ましい。 When the oxidizing agent used in the polymerization reaction of the thiophene monomer is a combination of persulfate and iron salt (II or III), it is preferable that the persulfate is in the range of 0.5 to 20 times the molar amount and the iron salt (II or III) is in the range of 0.01 to 10 times the molar amount of the charged thiophene monomer, and it is more preferable that the persulfate is in the range of 1.5 to 10 times the molar amount and the iron salt (II or III) is in the range of 0.05 to 5 times the molar amount of the charged thiophene monomer.
上記のチオフェンモノマーの重合反応の圧力は、常圧、減圧、又は加圧のいずれであってもよい。 The pressure for the polymerization reaction of the thiophene monomer may be normal pressure, reduced pressure, or increased pressure.
上記のチオフェンモノマーの重合反応の反応雰囲気は、大気中であっても、窒素又はアルゴン等の不活性ガス中であってもよい。より好ましくは不活性ガス中である。 The reaction atmosphere for the polymerization reaction of the thiophene monomer may be air or an inert gas such as nitrogen or argon. An inert gas is more preferable.
上記のチオフェンモノマーの重合反応の反応温度は、特に限定されないが、-10~100℃の範囲が好ましく、0~50℃の範囲が更に好ましい。 The reaction temperature for the polymerization reaction of the thiophene monomer is not particularly limited, but is preferably in the range of -10 to 100°C, and more preferably in the range of 0 to 50°C.
上記のチオフェンモノマーの重合反応の反応時間は、酸化重合が十分進行する時間であればよく、特に限定されないが、0.5~200時間の範囲が好ましく、0.5~80時間の範囲が更に好ましい。 The reaction time for the polymerization reaction of the thiophene monomer is not particularly limited as long as the oxidative polymerization proceeds sufficiently, but is preferably in the range of 0.5 to 200 hours, and more preferably in the range of 0.5 to 80 hours.
上記のチオフェンモノマーの重合反応の反応方法は、特に限定されないが、例えば、上記一般式(8)又は(4)で表されるチオフェンモノマーをあらかじめ水に溶解させ、これに酸化剤を一度に又はゆっくりと滴下してもよく、逆に酸化剤の固体又は水溶液に上記一般式(8)又は(4)で表されるチオフェンモノマーの水溶液を一度に又はゆっくりと滴下してもよい。また、2種以上の酸化剤を用いる場合には、各酸化剤を順次添加してもよく、予め混合した状態で添加してもよい。 The reaction method for the polymerization reaction of the thiophene monomer is not particularly limited. For example, the thiophene monomer represented by the general formula (8) or (4) may be dissolved in water in advance, and the oxidizing agent may be added dropwise to the solution all at once or slowly. Conversely, an aqueous solution of the thiophene monomer represented by the general formula (8) or (4) may be added dropwise to a solid or aqueous solution of the oxidizing agent all at once or slowly. When two or more types of oxidizing agents are used, the oxidizing agents may be added sequentially, or may be added in a premixed state.
尚、上記のチオフェンモノマーの重合反応は、酸化剤の添加に伴い液粘度が上昇する傾向があるため、液全体を均一に撹拌する必要がある。撹拌翼については、プロペラ翼、パドル翼、マックスブレンド(登録商標)翼(住友重機械プロセス機器社製)、フルゾーン(登録商標)翼(神鋼環境ソリューション社製)、又はディスクタービンが使用でき、反応容器内をより均一に混合するためにはマックスブレンド翼又はフルゾーン翼などの大型翼が好ましい。その他として、乳化又は分散に使用されるホモミキサー、又はホモジナイザー等も組み合わせて使用してもよい。一般的な撹拌翼を使用する撹拌法を用いる場合は、反応液に反応容器の気相部のガスが多量に取り込まれて撹拌効率が低下することがない範囲で撹拌翼の回転速度をできるだけ速くすることが好ましい。 In addition, the above-mentioned polymerization reaction of thiophene monomers tends to increase the liquid viscosity with the addition of an oxidizing agent, so it is necessary to stir the entire liquid uniformly. As for the stirring blades, propeller blades, paddle blades, Maxblend (registered trademark) blades (manufactured by Sumitomo Heavy Industries Process Equipment Co., Ltd.), Fullzone (registered trademark) blades (manufactured by Kobelco Environmental Solutions Co., Ltd.), or disk turbines can be used, and large blades such as Maxblend blades or Fullzone blades are preferred to mix more uniformly inside the reaction vessel. In addition, a homomixer or homogenizer used for emulsification or dispersion may also be used in combination. When using a stirring method using general stirring blades, it is preferable to make the rotation speed of the stirring blades as fast as possible within the range in which a large amount of gas from the gas phase of the reaction vessel is not taken into the reaction liquid and the stirring efficiency is not reduced.
上記のポリチオフェン(A)の典型的な単離精製方法は、例えば、以下のとおりである。 A typical method for isolating and purifying the above polythiophene (A) is, for example, as follows.
まず、上記のチオフェンモノマーの重合反応後の溶液を、そのまま限外ろ過し、透析等の膜分離法を用いて脱塩精製し、その後、陽イオン及び陰イオン交換樹脂に通液することによりM+がプロトンである酸型のポリチオフェン(A)の溶液を得ることができる。 First, the solution after the polymerization reaction of the thiophene monomer is subjected to ultrafiltration as it is, and desalted and purified using a membrane separation method such as dialysis, and then passed through a cation and anion exchange resin to obtain a solution of an acid-type polythiophene (A) in which M + is a proton.
更に、必要に応じて、得られた溶液を粗濃縮し、アセトン等の貧溶媒に添加して沈殿させることにより粉末としてポリチオフェン(A)を得ることもできる。 If necessary, the resulting solution can be roughly concentrated and added to a poor solvent such as acetone to cause precipitation, thereby obtaining polythiophene (A) as a powder.
また、塩型ポリチオフェン(A)を形成させる場合には、例えば、上記酸型のポリチオフェン(A)の溶液に、各種アミン化合物、その水溶液、又はそれらをその他適当な溶媒で希釈した液を加える。特に限定されないが、例えば、酸型のポリチオフェン(A)の溶液にアンモニアを添加することによって、M+がNH4 +であるアンモニウム塩型ポリチオフェン(A)の溶液を形成させることができる。必要に応じて、得られた上記溶液をアセトン等の貧溶媒に添加して粉末状の各種アンモニウム塩型ポリチオフェン(A)を得ることもできる。 In addition, when forming a salt-type polythiophene (A), for example, various amine compounds, their aqueous solutions, or solutions obtained by diluting them with other suitable solvents are added to the solution of the acid-type polythiophene (A). Although not particularly limited, for example, a solution of an ammonium salt-type polythiophene (A) in which M + is NH4 + can be formed by adding ammonia to the solution of the acid-type polythiophene (A). If necessary, the obtained solution can be added to a poor solvent such as acetone to obtain various ammonium salt-type polythiophenes (A) in powder form.
〔1-2.変性ポリアミン化合物(B)〕
本願明細書において、変性ポリアミン化合物(B)とは、下記一般式(3-1)で表される繰り返し単位、及び/又は下記一般式(3-2)で表される繰り返し単位、並びに下記一般式(3-3)で表される繰り返し単位によって構成される重合物である。
[1-2. Modified polyamine compound (B)]
In the present specification, the modified polyamine compound (B) refers to a polymer constituted of a repeating unit represented by the following general formula (3-1) and/or a repeating unit represented by the following general formula (3-2), and a repeating unit represented by the following general formula (3-3):
[一般式(3-1)において、R2は、炭素数1~22の脂肪族炭化水素基を表す。Xは、k個のプロピレンオキシ基(-CH2-CH(CH3)-O-)と、j個のエチレンオキシ基(-CH2-CH2-O-)とのランダム重合又はランダムな順序におけるブロック重合により形成された2価の重合体基を表し、kは0~50の整数を表し、jは10~100の整数を表し、但し、k+j=10~150である。pは、1又は2を表す。hは2~6の整数を表す。一般式(3-2)において、R3は、分岐していてもよい炭素数8~22の2価脂肪族炭化水素基を表す。mは、2~11の整数を表し、nは、0~1000の整数を表す。]
R2における炭素数1~22の脂肪族炭化水素基は、脂肪族飽和炭化水素基であってもよく、脂肪族不飽和炭化水素基であってもよい。R2における炭素数1~22の脂肪族炭化水素基としては、特に限定するものではないが、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、ヘキシル基、オクチル基、2-エチルヘキシル基、デシル基、ドデシル基、ラウリル基、ヘキサデシル基、パルミチル基、オクタデシル基、ステアリル基、オレイル基、エイコサペンタジエニル基、又はドコサヘキサエニル基等を挙げることができる。
[In the general formula (3-1), R 2 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms. X represents a divalent polymer group formed by random polymerization or block polymerization in a random order of k propyleneoxy groups (-CH 2 -CH(CH 3 )-O-) and j ethyleneoxy groups (-CH 2 -CH 2 -O-), k represents an integer of 0 to 50, j represents an integer of 10 to 100, and k+j=10 to 150. p represents 1 or 2. h represents an integer of 2 to 6. In the general formula (3-2), R 3 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group having 8 to 22 carbon atoms which may be branched. m represents an integer of 2 to 11, and n represents an integer of 0 to 1000.]
The aliphatic hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms in R2 may be a saturated aliphatic hydrocarbon group or an unsaturated aliphatic hydrocarbon group. The aliphatic hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms in R2 is not particularly limited, but examples thereof include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, a hexyl group, an octyl group, a 2-ethylhexyl group, a decyl group, a dodecyl group, a lauryl group, a hexadecyl group, a palmityl group, an octadecyl group, a stearyl group, an oleyl group, an eicosapentadienyl group, and a docosahexaenyl group.
R3における分岐していてもよい炭素数8~22の2価脂肪族炭化水素基は、分岐していてもよい炭素数8~22の2価脂肪族飽和炭化水素基であってもよく、分岐していてもよい炭素数8~22の2価脂肪族不飽和炭化水素基であってもよい。 The divalent aliphatic hydrocarbon group having 8 to 22 carbon atoms which may be branched for R3 may be a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 8 to 22 carbon atoms which may be branched, or a divalent aliphatic unsaturated hydrocarbon group having 8 to 22 carbon atoms which may be branched.
R3における分岐していてもよい炭素数8~22の2価脂肪族炭化水素基としては、特に限定するものではないが、例えば、オクタンジイル基、イソオクタンジイル基、2-エチルヘキサンジイル基、デカンジイル基、ドデカンジイル基、テトラデカンジイル基、ペンタデカンジイル基、ヘキサデカンジイル基、ヘプタデカンジイル基、オクタデカンジイル基、シス-9-オクタデカンジイル基、エイコサペンタジエンジイル基、又はドコサヘキサエンジイル基等を挙げることができる。 The optionally branched divalent aliphatic hydrocarbon group having 8 to 22 carbon atoms for R3 is not particularly limited, and examples thereof include an octanediyl group, an isooctanediyl group, a 2-ethylhexanediyl group, a decanediyl group, a dodecanediyl group, a tetradecanediyl group, a pentadecanediyl group, a hexadecanediyl group, a heptadecanediyl group, an octadecanediyl group, a cis-9-octadecanediyl group, an eicosapentadienediyl group, and a docosahexaenediyl group.
R3については、ヘプタデカンジイル基であることが好ましく、ヘプタデカン-1,11-ジイル基であることが好ましい。 R3 is preferably a heptadecanediyl group, and more preferably a heptadecane-1,11-diyl group.
前記の変性ポリアミン化合物(B)については、一般式(3-1)で表される繰り返し単位及び下記一般式(3-3)で表される繰り返し単位によって構成される重合物、又は一般式(3-2)で表される繰り返し単位及び下記一般式(3-3)で表される繰り返し単位によって構成される重合物であることが好ましい。また、前記の変性ポリアミン化合物(B)は、一般式(3-1)で表される繰り返し単位、一般式(3-2)で表される繰り返し単位、及び一般式(3-3)で表される繰り返し単位によって構成される重合物であってもよい。 The modified polyamine compound (B) is preferably a polymer composed of a repeating unit represented by general formula (3-1) and a repeating unit represented by the following general formula (3-3), or a polymer composed of a repeating unit represented by general formula (3-2) and a repeating unit represented by the following general formula (3-3). The modified polyamine compound (B) may also be a polymer composed of a repeating unit represented by general formula (3-1), a repeating unit represented by general formula (3-2), and a repeating unit represented by general formula (3-3).
〔1-3.有機溶媒(C)〕
本発明の一実施形態において、有機溶媒(C)としては、エステル系溶媒及び芳香族系溶媒からなる群より選ばれる少なくとも一種を用いることができる。
[1-3. Organic solvent (C)]
In one embodiment of the present invention, as the organic solvent (C), at least one selected from the group consisting of ester-based solvents and aromatic-based solvents can be used.
エステル系溶媒としては、特に限定されないが、酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステル、酢酸ノルマルプロピルエステル、酢酸ブチルエステル、酢酸イソブチルエステル、酢酸メトキシブチルエステル、γ-ブチロラクトン、γ-バレロラクトン、γ-ノナラクトン、δ-バレロラクトン、ε-カプロラクトン、及びα-アセチル-γ-ブチロラクトンからなる群より選ばれる少なくとも一種が挙げられる。 The ester solvent is not particularly limited, but may be at least one selected from the group consisting of methyl acetate, ethyl acetate, normal propyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, methoxybutyl acetate, γ-butyrolactone, γ-valerolactone, γ-nonalactone, δ-valerolactone, ε-caprolactone, and α-acetyl-γ-butyrolactone.
芳香族系溶媒としては、特に限定されないが、ベンゼン、トルエン、又はキシレン等が挙げられる。 Aromatic solvents include, but are not limited to, benzene, toluene, xylene, etc.
有機溶媒(C)としては、塗膜塗工性に優れる点で、酢酸エチルエステル、酢酸ブチルエステル、又はトルエンを含むことが好ましい。 As the organic solvent (C), it is preferable to include ethyl acetate, butyl acetate, or toluene, in view of excellent coating film application properties.
また、有機溶媒(C)の全量、又は一部として、γ-ブチロラクトンのような高極性溶媒を含むことで、様々な極性の粘着剤に対する相溶性が改善する場合がある。 In addition, by including a highly polar solvent such as gamma-butyrolactone as all or part of the organic solvent (C), compatibility with adhesives of various polarities may be improved.
本発明の一実施形態に係る導電性高分子溶液については、後述する粘着剤(D)と混合して粘着剤組成物を製造する観点から、有機溶媒(C)の含有量が、ポリチオフェン(A)と変性ポリアミン化合物(B)と有機溶媒(C)との合計を100重量%として、80~99.9重量%であることが好ましく、90~99.9重量%であることがより好ましい。 In the conductive polymer solution according to one embodiment of the present invention, from the viewpoint of producing an adhesive composition by mixing with the adhesive (D) described below, the content of the organic solvent (C) is preferably 80 to 99.9% by weight, and more preferably 90 to 99.9% by weight, with the total of the polythiophene (A), the modified polyamine compound (B), and the organic solvent (C) being 100% by weight.
本発明の一実施形態に係る導電性高分子溶液については、導電性向上の観点から、ポリチオフェン(A)の含有量が、上記有機溶媒(C)100重量部に対して、0.01~10重量部であることが好ましく、0.05~5重量部であることがより好ましく、0.1~3重量部であることがより好ましい。 For the conductive polymer solution according to one embodiment of the present invention, from the viewpoint of improving conductivity, the content of polythiophene (A) is preferably 0.01 to 10 parts by weight, more preferably 0.05 to 5 parts by weight, and even more preferably 0.1 to 3 parts by weight, per 100 parts by weight of the organic solvent (C).
本発明の一実施形態に係る導電性高分子溶液については、粘着剤(D)と混合して粘着剤組成物を製造する観点から、変性ポリアミン化合物(B)の含有量が、上記有機溶媒(C)100重量部に対して、0.01~10重量部であることが好ましく、0.05~7.5重量部であることがより好ましく、0.1~5重量部であることがより好ましい。 For the conductive polymer solution according to one embodiment of the present invention, from the viewpoint of producing an adhesive composition by mixing with the adhesive (D), the content of the modified polyamine compound (B) is preferably 0.01 to 10 parts by weight, more preferably 0.05 to 7.5 parts by weight, and even more preferably 0.1 to 5 parts by weight, per 100 parts by weight of the organic solvent (C).
〔1-4.導電性高分子溶液の製造方法〕
本実施形態に係る導電性高分子溶液の製造方法としては、特に限定するものではないが、例えば、本実施形態のポリチオフェン(A)の溶液又は固体と、変性ポリアミン化合物(B)と、有機溶媒(C)と、を混合し、撹拌等によって均一化する方法が挙げられる。
[1-4. Method for producing conductive polymer solution]
The method for producing the conductive polymer solution according to this embodiment is not particularly limited, but may be, for example, a method in which a solution or solid of the polythiophene (A) according to this embodiment, a modified polyamine compound (B), and an organic solvent (C) are mixed and homogenized by stirring or the like.
混合する際の温度は、特に限定するものではないが、例えば、室温~加温下で行うことができる。好ましくは0℃以上100℃以下であってよい。混合する際の雰囲気は、特に限定するものではないが、大気中でも、不活性ガス中でもよい。なお、本明細書において、室温とは15~25℃を意図する。 The temperature during mixing is not particularly limited, but may be, for example, room temperature or heated. It may be preferably 0°C or higher and 100°C or lower. The atmosphere during mixing is not particularly limited, but may be air or an inert gas. In this specification, room temperature refers to 15°C to 25°C.
更に、本発明の一実施形態に係る導電性高分子溶液は、上記以外の成分を含んでいてもよい。上記以外の成分としては、特に限定されないが、例えば、バインダー、及び界面活性剤等を挙げることができる。 Furthermore, the conductive polymer solution according to one embodiment of the present invention may contain components other than those described above. The components other than those described above are not particularly limited, but may include, for example, a binder and a surfactant.
上記のバインダーとしては、特に限定するものではないが、例えば、セルロース系樹脂、ビニルピロリドン樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、メチルメタクリレート樹脂、スチレンブタジエン樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、熱硬化性ポリイミド、ニトロセルロース若しくはその他のセルロース樹脂、又はポリビニルアルコール樹脂等が挙げられる。 The above-mentioned binder is not particularly limited, but examples thereof include cellulose-based resins, vinylpyrrolidone resins, acrylic resins, urethane resins, methyl methacrylate resins, styrene butadiene resins, vinyl acetate resins, polyamide resins, phenolic resins, epoxy resins, melamine resins, thermosetting polyimides, nitrocellulose or other cellulose resins, and polyvinyl alcohol resins.
上記のバインダー樹脂については、成膜性に優れる点で、セルロース系樹脂、ビニルピロリドン樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、及びエポキシ樹脂からなる群より選択される少なくとも1種が好ましい。 As for the binder resin, at least one selected from the group consisting of cellulose-based resins, vinylpyrrolidone resins, urethane resins, acrylic resins, and epoxy resins is preferred because of its excellent film-forming properties.
本発明の一実施形態に係る導電性高分子溶液が、上記のバインダーを含有する場合、バインダーの含有量は、ポリチオフェン(A)と、変性ポリアミン化合物(B)と、有機溶媒(C)との合計を100重量部として、0.01~20重量部であることが好ましく、0.1~10重量部であることがより好ましい。 When the conductive polymer solution according to one embodiment of the present invention contains the above-mentioned binder, the content of the binder is preferably 0.01 to 20 parts by weight, and more preferably 0.1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total of the polythiophene (A), the modified polyamine compound (B), and the organic solvent (C).
上記の界面活性剤としては、特に限定されないが、例えば、アニオン界面活性剤(例えば、ラウリルアルコール硫酸エステルナトリウム及びドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等)、カチオン界面活性剤(例えば、ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド等)、非イオン性界面活性剤、両性界面活性剤、フッ素系界面活性剤、又はシリコーン系界面活性剤等が使用できるが、より好ましくは非イオン性界面活性剤及び両性界面活性剤からなる群より選ばれる少なくとも一種である。 The above-mentioned surfactant is not particularly limited, but examples thereof include anionic surfactants (e.g., sodium lauryl alcohol sulfate and sodium dodecylbenzenesulfonate), cationic surfactants (e.g., dodecyltrimethylammonium chloride), nonionic surfactants, amphoteric surfactants, fluorine-based surfactants, and silicone-based surfactants, and more preferably at least one selected from the group consisting of nonionic surfactants and amphoteric surfactants.
本発明の一実施形態に係る導電性高分子溶液が、上記の界面活性剤を含有する場合、界面活性剤の含有量は、ポリチオフェン(A)と、変性ポリアミン化合物(B)と、有機溶媒(C)との合計を100量部として、0.1~60重量部であることが好ましく、1~40重量部であることがより好ましい。 When the conductive polymer solution according to one embodiment of the present invention contains the above-mentioned surfactant, the content of the surfactant is preferably 0.1 to 60 parts by weight, and more preferably 1 to 40 parts by weight, per 100 parts by weight of the total of the polythiophene (A), the modified polyamine compound (B), and the organic solvent (C).
〔1-5.粘着剤組成物〕
本発明の一実施形態に係る粘着剤組成物は、上記の導電性高分子溶液と粘着剤(D)とを含むことを特徴とする。粘着剤(D)としては、一般公知のものを用いることができる。
[1-5. Pressure-sensitive adhesive composition]
The pressure-sensitive adhesive composition according to one embodiment of the present invention is characterized by containing the conductive polymer solution and a pressure-sensitive adhesive (D). As the pressure-sensitive adhesive (D), a generally known pressure-sensitive adhesive can be used.
上記粘着剤(D)としては、特に限定するものではないが、例えば、アクリル系粘着剤、シリコーン粘着剤、ウレタン粘着剤、又はゴム系粘着剤が挙げられる。 The adhesive (D) is not particularly limited, but examples thereof include acrylic adhesives, silicone adhesives, urethane adhesives, and rubber adhesives.
アクリル系粘着剤は、アクリルポリマーを主成分とする粘着剤を示す。シリコーン粘着剤は、シロキサン結合を主骨格にもつポリマーを主成分とする粘着剤を示す。ウレタン粘着剤は、イソシアネート基とヒドロキシ基をもつ化合物同士を縮合し得られるポリウレタンを主成分とする粘着剤を示す。ゴム系粘着剤は、天然ゴム又は合成ゴムを主成分とする粘着剤を示す。 Acrylic adhesives refer to adhesives whose main component is acrylic polymer. Silicone adhesives refer to adhesives whose main component is a polymer with a siloxane bond as the main skeleton. Urethane adhesives refer to adhesives whose main component is polyurethane obtained by condensing compounds with isocyanate groups and hydroxyl groups. Rubber adhesives refer to adhesives whose main component is natural rubber or synthetic rubber.
これらの粘着剤(D)のうち、光学部材用の粘着特性に優れる点で、アクリル系粘着剤が好ましく、アロンタック粘着剤、又はサイビノール粘着剤であることがより好ましい。なお、アロンタック及びサイビノールは、登録商標である。 Among these adhesives (D), acrylic adhesives are preferred because of their excellent adhesive properties for optical components, and ARONTAC adhesive or Cyvinol adhesive is more preferred. ARONTAC and Cyvinol are registered trademarks.
具体的な商品名として、アロンタック粘着剤としては、アロンタックS-1601、アロンタックS-1605、アロンタックS-1511X、アロンタックS-1511改、アロンタックS-3403、又はアロンタックS-3452YKF等が挙げられる。サイビノール粘着剤としては、サイビノールAT-245、サイビノールAT-191、サイビノールATR-340、サイビノールAT-D37L、サイビノールAT-211、サイビノールAT-262、サイビノールAT-197、サイビノールAT-193、サイビノールATR-1、サイビノールATR-373、サイビノールATR-347、サイビノールATR-300、サイビノールAT-420NT、サイビノールAT-422NT、サイビノールAT-260NT、サイビノールAT-D54、サイビノールAT-352、サイビノールAT-D50、サイビノールAT-D40、サイビノールAT-D37、又はサイビノールAT-D45等が挙げられる。粘着剤(D)としては、これらの粘着剤を単独で使用してもよく、また、2種類以上を混合してもよい。 Specific product names for ARONTAC adhesives include ARONTAC S-1601, ARONTAC S-1605, ARONTAC S-1511X, ARONTAC S-1511 modified, ARONTAC S-3403, and ARONTAC S-3452YKF. Examples of the Saibinol adhesive include Saibinol AT-245, Saibinol AT-191, Saibinol ATR-340, Saibinol AT-D37L, Saibinol AT-211, Saibinol AT-262, Saibinol AT-197, Saibinol AT-193, Saibinol ATR-1, Saibinol ATR-373, Saibinol ATR-347, Saibinol ATR-300, Saibinol AT-420NT, Saibinol AT-422NT, Saibinol AT-260NT, Saibinol AT-D54, Saibinol AT-352, Saibinol AT-D50, Saibinol AT-D40, Saibinol AT-D37, and Saibinol AT-D45. As the adhesive (D), these adhesives may be used alone or in a mixture of two or more types.
また、上記粘着剤(D)は固化材、又は架橋剤を含んでいてもよい。上記架橋剤としては、特に限定するものではないが、例えば、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、メラミン系樹脂、アジリジン誘導体、又は金属キレート化合物等が挙げられる。これらの架橋剤は単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。 The adhesive (D) may also contain a solidifying agent or a crosslinking agent. The crosslinking agent is not particularly limited, but examples thereof include isocyanate compounds, epoxy compounds, melamine resins, aziridine derivatives, and metal chelate compounds. These crosslinking agents may be used alone or in combination of two or more.
本発明の一実施形態に係る粘着剤組成物については、導電性向上の観点から、ポリチオフェン(A)の含有量が、上記粘着剤(D)100重量部に対して、0.01~10重量部であることが好ましく、0.05~5重量部であることがより好ましく、0.1~3重量部であることがより好ましい。 In the pressure-sensitive adhesive composition according to one embodiment of the present invention, from the viewpoint of improving electrical conductivity, the content of polythiophene (A) is preferably 0.01 to 10 parts by weight, more preferably 0.05 to 5 parts by weight, and even more preferably 0.1 to 3 parts by weight, per 100 parts by weight of the pressure-sensitive adhesive (D).
本発明の一実施形態に係る粘着剤組成物については、変性ポリアミン化合物(B)が、有機溶媒(C)中におけるポリチオフェン(A)と粘着剤(D)との相溶性を向上させることから、変性ポリアミン化合物(B)の含有量が、上記粘着剤(D)100重量部に対して、0.01~15重量部であることが好ましく、0.05~8重量部であることがより好ましく、0.1~6重量部であることがより好ましい。 In the adhesive composition according to one embodiment of the present invention, since the modified polyamine compound (B) improves the compatibility between the polythiophene (A) and the adhesive (D) in the organic solvent (C), the content of the modified polyamine compound (B) is preferably 0.01 to 15 parts by weight, more preferably 0.05 to 8 parts by weight, and even more preferably 0.1 to 6 parts by weight, relative to 100 parts by weight of the adhesive (D).
本発明の一実施形態に係る粘着剤組成物については、塗布性等の操作性の観点から、上記有機溶媒(C)の濃度が、上記粘着剤組成物全体を100重量%として、20~80重量%であることが好ましく、30~70重量%であることがより好ましく、40~60重量%であることがより好ましい。 For the pressure-sensitive adhesive composition according to one embodiment of the present invention, from the viewpoint of operability such as coatability, the concentration of the organic solvent (C) is preferably 20 to 80% by weight, more preferably 30 to 70% by weight, and even more preferably 40 to 60% by weight, with the entire pressure-sensitive adhesive composition being taken as 100% by weight.
〔2.導電性粘着膜の製造方法〕
本発明の一実施形態に係る導電性粘着膜は、特に限定されないが、例えば、本発明の一実施形態に係る粘着剤組成物を、基材に塗布し、次いで乾燥することによって製造することができる。このように製造される導電性粘着膜は、上記のポリチオフェン(A)と、上記の変性ポリアミン化合物(B)と、上記の粘着剤(D)とを含むことを特徴とする。
2. Method for producing conductive adhesive film
The conductive adhesive film according to one embodiment of the present invention is not particularly limited, but can be produced, for example, by applying the adhesive composition according to one embodiment of the present invention to a substrate and then drying it. The conductive adhesive film produced in this manner is characterized by containing the above polythiophene (A), the above modified polyamine compound (B), and the above adhesive (D).
上記の基材としては、特に限定されないが、例えば、ガラス、プラスチック、ポリエステル、ポリアクリレート、ポリカーボネート、又はレジスト基板等が挙げられる。塗布方法としては、特に限定されないが、例えば、スクリーン印刷法、キャスティング法、ディッピング法、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スプレーコート法、又はインクジェット印刷法等が挙げられる。 The above substrate is not particularly limited, but examples thereof include glass, plastic, polyester, polyacrylate, polycarbonate, or resist substrates. The coating method is not particularly limited, but examples thereof include screen printing, casting, dipping, bar coating, roll coating, gravure coating, flexographic printing, spray coating, and inkjet printing.
乾燥温度としては、均一な乾燥状態の導電性粘着膜が得られる温度及び基材の耐熱温度以下であれば特に限定されないが、室温(15~25℃)~300℃の範囲が好ましく、より好ましくは室温~250℃の範囲であり、さらに好ましくは90~250℃の範囲である。 There are no particular limitations on the drying temperature, so long as it is a temperature at which a uniformly dried conductive adhesive film can be obtained and is equal to or lower than the heat resistance temperature of the substrate, but a temperature in the range of room temperature (15-25°C) to 300°C is preferred, a temperature in the range of room temperature to 250°C is more preferred, and a temperature in the range of 90-250°C is even more preferred.
乾燥雰囲気は、大気中、不活性ガス中、真空中、又は減圧下のいずれであってもよい。導電性粘着膜の劣化抑制の観点からは、窒素、又はアルゴン等の不活性ガス中が好ましい。 The drying atmosphere may be air, an inert gas, a vacuum, or a reduced pressure. From the viewpoint of preventing deterioration of the conductive adhesive film, an inert gas such as nitrogen or argon is preferable.
本発明の一実施形態に係る導電性粘着膜の膜厚としては、特に限定されないが、1×10-2~1×102μmの範囲が好ましい。 The thickness of the conductive adhesive film according to one embodiment of the present invention is not particularly limited, but is preferably in the range of 1×10 −2 to 1×10 2 μm.
以上のような製造方法によれば、良好な帯電防止能を有する導電性粘着膜が得られる。導電性粘着膜の帯電防止能は、例えば、表面抵抗率により評価してよい。すなわち、導電性粘着膜の表面抵抗率が低い程、帯電防止能が高いと言える。 According to the above-mentioned manufacturing method, a conductive adhesive film having good antistatic properties can be obtained. The antistatic properties of the conductive adhesive film can be evaluated, for example, by the surface resistivity. In other words, the lower the surface resistivity of the conductive adhesive film, the higher the antistatic properties.
〔3.紫外線硬化型ハードコート用樹脂組成物〕
本発明の一実施形態に係る導電性高分子溶液は紫外線硬化性樹脂(E)と配合することにより、帯電防止能を示すハードコート、及びこのような帯電防止能を示すハードコートを得るための紫外線硬化型ハードコート用樹脂組成物を作製することが可能である。すなわち、本発明の一実施形態に係る紫外線硬化型ハードコート用樹脂組成物は、上述の導電性高分子溶液と紫外線硬化性樹脂(E)とを含む。
[3. UV-curable hard coat resin composition]
The conductive polymer solution according to one embodiment of the present invention can be mixed with an ultraviolet curable resin (E) to produce a hard coat exhibiting antistatic properties, and a resin composition for ultraviolet curable hard coat for obtaining such a hard coat exhibiting antistatic properties. That is, the resin composition for ultraviolet curable hard coat according to one embodiment of the present invention contains the conductive polymer solution and an ultraviolet curable resin (E) described above.
前記紫外線硬化性樹脂(E)としては、一般公知のものを用いることができる。なお、当該紫外線硬化性樹脂(E)については、特に限定するものではないが、一般的には、オリゴマー(e1)、モノマー(e2)、及び光重合開始剤(e3)等を含むものがよく用いられている。 The ultraviolet-curable resin (E) may be any known resin. Although there are no particular limitations on the ultraviolet-curable resin (E), generally, resins containing an oligomer (e1), a monomer (e2), and a photopolymerization initiator (e3) are often used.
前記のオリゴマー(e1)は、複数の繰返し単位によって構成されたポリマーにアクリル基、又はメタクリル基(両者合わせて、以下「(メタ)アクリル」と記載する)等で例示される重合性基を少なくとも一つ以上結合させたものを表し、例えば、ポリオキシエチレン、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、及びポリ(オキシパーフルオロアルキレン)等からなる群より選ばれるいずれかのポリマーに(メタ)アクリル等で例示される重合性基を少なくとも一つ以上結合させたものを挙げることができる。 The oligomer (e1) is a polymer composed of multiple repeating units to which at least one polymerizable group, such as an acrylic group or a methacrylic group (hereinafter, both of which are referred to as "(meth)acrylic"). For example, the oligomer (e1) is a polymer selected from the group consisting of polyoxyethylene, polyurethane, polyester, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, and poly(oxyperfluoroalkylene), to which at least one polymerizable group, such as (meth)acrylic, is bonded.
なお、前記のオリゴマー(e1)が有する(メタ)アクリル基等で表される重合性基の数については、制限は無く、1つでも、2つでも、3つでも、4つでも、5つでもよい。 The number of polymerizable groups represented by (meth)acrylic groups or the like contained in the oligomer (e1) is not limited, and may be one, two, three, four, or five.
前記のオリゴマー(e1)としては、特に限定するものではないが、例えば、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー、エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマー、ポリオキシエチレン(メタ)アクリレートオリゴマー、ポリオキシプロピレン(メタ)アクリレートオリゴマー、ポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマー、ポリ(メタ)アクリル酸(メタ)アクリレートオリゴマー、ポリ(オキシパーフルオロアルキレン)(メタ)アクリレートオリゴマー等が挙げられ、これらのオリゴマー(e1)は、単独で使用してもよく、2種類以上を混合して使用してもよい。これらの中では、ハードコートの硬度を向上させる観点から、ウレタンアクリレートオリゴマー、及びエポキシアクリレートオリゴマーからなる群より選択される少なくとも1種以上を使用するのが好ましい。なお、当該オリゴマー(e1)については、15官能以下(すなわち、オリゴマー中のアクリロイル基数が15以下)のアクリレートオリゴマーを含むことが好ましく、10官能以下のアクリレートオリゴマーを含むことがより好ましい。 The oligomer (e1) is not particularly limited, but examples thereof include urethane (meth)acrylate oligomers, epoxy (meth)acrylate oligomers, polyoxyethylene (meth)acrylate oligomers, polyoxypropylene (meth)acrylate oligomers, polyester (meth)acrylate oligomers, poly(meth)acrylic acid (meth)acrylate oligomers, poly(oxyperfluoroalkylene) (meth)acrylate oligomers, etc., and these oligomers (e1) may be used alone or in combination of two or more. Among these, from the viewpoint of improving the hardness of the hard coat, it is preferable to use at least one selected from the group consisting of urethane acrylate oligomers and epoxy acrylate oligomers. In addition, the oligomer (e1) preferably contains an acrylate oligomer having 15 or less functionalities (i.e., the number of acryloyl groups in the oligomer is 15 or less), and more preferably contains an acrylate oligomer having 10 or less functionalities.
前記のオリゴマー(e1)としては、例えば、商品名:UA-1100H(新中村化学工業)、商品名:UN-904(根上工業)、商品名:RUA-071(亜細亜工業)、商品名:RUA-076MG(亜細亜工業)、商品名:EBECRYL 600(ダイセル・オルネクス)、商品名:X-40-2669(信越シリコーン)、KR-470(信越シリコーン)などが挙げられる。これらは単独で使用してもよく、また、2種類以上を混合してもよい。 Examples of the oligomer (e1) include trade names: UA-1100H (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), UN-904 (Negami Industries Co., Ltd.), RUA-071 (Asia Industries Co., Ltd.), RUA-076MG (Asia Industries Co., Ltd.), EBECRYL 600 (Daicel Allnex Co., Ltd.), X-40-2669 (Shin-Etsu Silicones), and KR-470 (Shin-Etsu Silicones). These may be used alone or in a mixture of two or more types.
前記のモノマー(e2)については、例えば、アクリル基、又はメタクリル基等で例示される重合性基を少なくとも一つ以上(1つでも、2つでも、3つでも、4つでも、5つでもよい)有する単分子化合物又は低分子化合物を挙げることができ、特に限定するものではないが、例えば、アクリレートモノマー、メタクリレートモノマー、又はアクリルシランモノマーが挙げられ、更に詳細には、例えば、2-ヒドロキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、ペンタエリトリトールテトラアクリレート、4-アクリロイルモルホリン、γ-ブチロラクトンアクリレート、γ-ブチロラクトンメタクリレート、5-オキソテトラヒドロフラン-3-イルメタクリレート、グリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールモノメチルエーテルアクリレート、エチレングリコールモノアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールモノメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3-プロパンジオールジアクリレート、グリセロールトリメタクリレート、又は1,3-プロパンジオールジメタクリレート等が挙げられる。これらのモノマー(b2)は、単独で使用してもよく、2種類以上を混合して使用してもよい。これらの中では、アクリレートモノマー、及びメタクリレートモノマーからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましく、組成物の相溶性を高める観点から、2-ヒドロキシエチルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、ペンタエリトリトールテトラアクリレート、イソボルニルアクリレート、又は4-アクリロイルモルホリンがより好ましい。 Examples of the monomer (e2) include monomolecular compounds or low molecular compounds having at least one or more polymerizable groups (one, two, three, four, or five) such as acrylic or methacrylic groups. Examples of the monomer (e2) include, but are not limited to, acrylate monomers, methacrylate monomers, and acrylic silane monomers. More specifically, examples of the monomer (e2) include 2-hydroxyethyl acrylate, isobornyl acrylate, pentaerythritol tetraacrylate, 4-acryloylmorpholine, γ-butyrolactone acrylate ... Examples of the monomer (b2) include methacrylate, 5-oxotetrahydrofuran-3-yl methacrylate, glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, ethylene glycol monomethyl ether acrylate, ethylene glycol monoacrylate, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol monomethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-propanediol diacrylate, glycerol trimethacrylate, and 1,3-propanediol dimethacrylate. These monomers (b2) may be used alone or in combination of two or more. Among these, at least one selected from the group consisting of acrylate monomers and methacrylate monomers is preferred, and from the viewpoint of increasing the compatibility of the composition, 2-hydroxyethyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, pentaerythritol tetraacrylate, isobornyl acrylate, and 4-acryloylmorpholine are more preferred.
前記の光重合開始剤(e3)としては、当該分野で使用されているものであれば、制限なく使用することができ、例えば、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルホリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-(ジメチルアミノ)-1-[4-(モルホリノ)フェニル]-1-ブタノン、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、又は2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノンなどが挙げられる。 The photopolymerization initiator (e3) can be any photopolymerization initiator used in the art without any restrictions, and examples of such initiators include 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-[4-(morpholino)phenyl]-1-butanone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, and 2-hydroxy-2-methylpropiophenone.
前記紫外線硬化性樹脂(E)については、少なくともオリゴマー(e1)を含むものであることが好ましく、オリゴマー(e1)、及びモノマー(e2)を含むものであることがより好ましく、オリゴマー(e1)、モノマー(e2)、及び光重合開始剤(e3)を含むものであることがより好ましい。 The ultraviolet-curable resin (E) preferably contains at least an oligomer (e1), more preferably contains an oligomer (e1) and a monomer (e2), and even more preferably contains an oligomer (e1), a monomer (e2), and a photopolymerization initiator (e3).
前記紫外線硬化型ハードコート用樹脂組成物における、前記紫外線硬化性樹脂(E)の含有量については、限定されないが、紫外線硬化型ハードコート用樹脂組成物全体を100重量%として、10~80重量%であることが好ましく、10~60重量%であることがより好ましい。 The content of the ultraviolet-curable resin (E) in the ultraviolet-curable hard coat resin composition is not limited, but is preferably 10 to 80% by weight, and more preferably 10 to 60% by weight, with the entire ultraviolet-curable hard coat resin composition being 100% by weight.
前記紫外線硬化型ハードコート用樹脂組成物における、前記オリゴマー(e1)の含有量については、限定されないが、紫外線硬化型ハードコート用樹脂組成物全体を100重量%として、5~80重量%であることが好ましく、5~60重量%であることがより好ましく、5~40重量%であることがより好ましく、5~30重量%であることがより好ましい。 The content of the oligomer (e1) in the ultraviolet-curable hard coat resin composition is not limited, but is preferably 5 to 80% by weight, more preferably 5 to 60% by weight, more preferably 5 to 40% by weight, and even more preferably 5 to 30% by weight, based on 100% by weight of the entire ultraviolet-curable hard coat resin composition.
前記紫外線硬化型ハードコート用樹脂組成物における、前記モノマー(e2)の含有量については、限定されないが、紫外線硬化型ハードコート用樹脂組成物全体を100重量%として、10~80重量%であることが好ましく、10~60重量%であることがより好ましく、10~40重量%であることがより好ましい。 The content of the monomer (e2) in the ultraviolet-curable hard coat resin composition is not limited, but is preferably 10 to 80% by weight, more preferably 10 to 60% by weight, and even more preferably 10 to 40% by weight, based on 100% by weight of the entire ultraviolet-curable hard coat resin composition.
前記紫外線硬化型ハードコート用樹脂組成物における、前記光重合開始剤(e3)の含有量については、限定されないが、紫外線硬化型ハードコート用樹脂組成物全体を100重量%として、0.1~10重量%であることが好ましく、0.2~8重量%であることがより好ましく、0.5~5重量%であることがより好ましい。 The content of the photopolymerization initiator (e3) in the ultraviolet-curable hard coat resin composition is not limited, but is preferably 0.1 to 10% by weight, more preferably 0.2 to 8% by weight, and even more preferably 0.5 to 5% by weight, based on 100% by weight of the entire ultraviolet-curable hard coat resin composition.
なお、前記光重合開始剤(e3)の含有量については、前記のオリゴマー(e1)及びモノマー(e2)の合計重量を100重量部として、0.1~30重量部であることが好ましく、1~20重量部であることがより好ましく、5~20重量部であることがより好ましい。 The content of the photopolymerization initiator (e3) is preferably 0.1 to 30 parts by weight, more preferably 1 to 20 parts by weight, and even more preferably 5 to 20 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total weight of the oligomer (e1) and monomer (e2).
前記紫外線硬化型ハードコート用樹脂組成物については、上記以外の成分を含んでいてもよい。当該上記以外の成分としては、特に限定するものではないが、例えば、溶剤、撥水防汚剤(撥水性及び撥油性を付与する添加剤)、紫外線吸収剤、酸化防止剤、着色剤、無機フィラー、消泡剤、増粘剤、沈澱防止剤、防曇剤、抗菌剤、分散剤、表面改質剤等を挙げることができる。 The UV-curable hard coat resin composition may contain components other than those described above. The components other than those described above are not particularly limited, but examples thereof include solvents, water-repellent and antifouling agents (additives that impart water repellency and oil repellency), UV absorbers, antioxidants, colorants, inorganic fillers, defoamers, thickeners, precipitation inhibitors, antifogging agents, antibacterial agents, dispersants, and surface modifiers.
前記溶剤としては、特に限定するものではないが、組成物内に共に含まれる各成分を溶解又は分散させることができるもので、本技術分野のコーティング層形成用組成物の溶剤として知られたものであれば制限なく使用可能である。当該溶剤としては、例えば、アルコール系(エタノール、イソプロパノール、又はトリフルオロエタノール等)、グリコールエーテル系(1-メトキシ-2-プロパノール、又はエチレングリコールn-ブチルエーテル等)、又はケトン系(メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、又はシクロヘキサノン等)等が挙げられる。ここで具体的に例示された溶剤は、それぞれ単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。 The solvent is not particularly limited, but any solvent that can dissolve or disperse each component contained in the composition and is known in the art as a solvent for compositions for forming a coating layer can be used without restriction. Examples of the solvent include alcohols (ethanol, isopropanol, trifluoroethanol, etc.), glycol ethers (1-methoxy-2-propanol, ethylene glycol n-butyl ether, etc.), and ketones (methyl ethyl ketone, methyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, diethyl ketone, dipropyl ketone, cyclohexanone, etc.). The solvents specifically exemplified here can be used alone or in combination of two or more.
前記溶剤については、塗膜作製の操作性に優れる点で、グリコールエーテル系溶媒が好ましく、1-メトキシ-2-プロパノール(PGME)がより好ましい。 As for the solvent, glycol ether solvents are preferred because of their excellent operability in film formation, and 1-methoxy-2-propanol (PGME) is more preferred.
前記紫外線硬化型ハードコート用樹脂組成物における、前記溶剤(C)の含有量については、限定されないが、紫外線硬化型ハードコート用樹脂組成物全体を100重量%として、10~80重量%であることが好ましく、20~70重量%であることがより好ましく、30~60重量%であることがより好ましい。 The content of the solvent (C) in the ultraviolet-curable hard-coat resin composition is not limited, but is preferably 10 to 80% by weight, more preferably 20 to 70% by weight, and even more preferably 30 to 60% by weight, based on 100% by weight of the entire ultraviolet-curable hard-coat resin composition.
無機フィラーとしては単層カーボンナノチューブ、多層カーボンナノチューブ、銀ナノワイヤ、カーボンブラック、シリカ、アルミナ、ベーマイト、酸化アンチモン、酸化クロム、酸化ニッケル、酸化銅、酸化すず、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化インジウム、及び酸化亜鉛などを挙げることができる。 Inorganic fillers include single-walled carbon nanotubes, multi-walled carbon nanotubes, silver nanowires, carbon black, silica, alumina, boehmite, antimony oxide, chromium oxide, nickel oxide, copper oxide, tin oxide, titanium oxide, zirconium oxide, indium oxide, and zinc oxide.
前記の撥水防汚剤としては、特に限定するものではないが、例えば、フッ素化合物、及びシリコーン化合物を挙げることができる。より詳細には、例えば、フッ素化合物として、パーフルオロポリエーテル、商品名:X-71-1203E(信越化学工業)、商品名:KY-1203(信越化学工業)等を挙げることができ、シリコーン化合物として、商品名:KP-112(信越シリコーン)、商品名:KP-341(信越シリコーン)、商品名:KP-423(信越シリコーン)などを挙げることができる。 The water-repellent and stain-resistant agents are not particularly limited, but examples thereof include fluorine compounds and silicone compounds. More specifically, examples of fluorine compounds include perfluoropolyether, product name: X-71-1203E (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), product name: KY-1203 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), etc., and examples of silicone compounds include product name: KP-112 (Shin-Etsu Silicones), product name: KP-341 (Shin-Etsu Silicones), product name: KP-423 (Shin-Etsu Silicones), etc.
前記の分散剤としては、特に限定するものではないが、例えば、主鎖がポリエステル系、ポリアクリル系、ポリウレタン系、ポリアミン系、ポリカプロラクトン系などからなり、側鎖としてアミノ基、カルボキシル基、スルホン基、ヒドロキシル基などの極性基を有するものが挙げられる。 The dispersant is not particularly limited, but examples include those whose main chain is made of polyester, polyacrylic, polyurethane, polyamine, polycaprolactone, etc., and whose side chain has a polar group such as an amino group, a carboxyl group, a sulfone group, or a hydroxyl group.
ポリエステル系分散剤としては、例えば、ディスパロンKS873N、ディスパロンDA703-50、ディスパロンDA7400(楠本化学社製)、などが用いられる。 Examples of polyester-based dispersants that can be used include Disparlon KS873N, Disparlon DA703-50, and Disparlon DA7400 (manufactured by Kusumoto Chemical Co., Ltd.).
ポリアクリル系分散剤では、例えば、Disperbyk-2000、2001、2008、2009、2010、2020、2020N、2022、2025、2050、2070、2095、2150、2151、2155、2163、2164、BYKJET-9130、9131、9132、9133、9151(ビック・ケミー社製)、EfkaPX4310、PX4320、PX4330、PA4401、4402、PA4403、4570、7411、7477、PX4700、PX4701(BASF社製)、TREPLUS D-1200、D-1410、D-1420、MD-1000(大塚化学社製)、フローレンDOPA-15BHFS、17HF、22、G-700、900、NC-500、GW-1500(共栄社化学(株)製)、などが用いられる。 Examples of polyacrylic dispersants include Disperbyk-2000, 2001, 2008, 2009, 2010, 2020, 2020N, 2022, 2025, 2050, 2070, 2095, 2150, 2151, 2155, 2163, 2164, BYKJET-9130, 9131, 9132, 9133, 9151 (manufactured by BYK-Chemie), Efka PX4310, PX4320, PX4330, PA4401, 4402, PA4403, 4570, 7411, 7477, PX4700, PX4701 (manufactured by BASF), and TREPLUS. D-1200, D-1410, D-1420, MD-1000 (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.), FLOWRENE DOPA-15BHFS, 17HF, 22, G-700, 900, NC-500, GW-1500 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), etc. are used.
ポリアミン系分散剤としては、例えば、ディスパロン1860(楠本化学社製)、などが用いられる。 An example of a polyamine-based dispersant is Disparlon 1860 (Kusumoto Chemical Co., Ltd.).
ポリカプロラクトン系分散剤としては、例えば、アジスパーPB821、PB822、PB881(味の素ファインテクノ(株)製)、ヒノアクトKF-1000、KF-1500、KF-1700、T-6000、T-7000、T-8000、T-8000E、T-9050(川研ファインケミカル(株)製)、Solsperse20000、24000、32000、32500、32550、32600、33000、33500、34000、35200、36000、37500、39000、71000、76400、76500、86000、88000、J180、J200(ルーブリゾール社製)、TEGO Dispers652、655、685、688、690(エボニック・ジャパン社製)などが用いられる。 Examples of polycaprolactone-based dispersants include Ajisper PB821, PB822, and PB881 (manufactured by Ajinomoto Fine-Techno Co., Ltd.), Hinoact KF-1000, KF-1500, KF-1700, T-6000, T-7000, T-8000, T-8000E, and T-9050 (manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.), Solsperse 20000, 24000, 32000, 32500, 32550, 32600, 33000, 33500, 34000, 35200, 36000, 37500, 39000, 71000, 76400, 76500, 86000, 88000, J180, J200 (manufactured by Lubrizol Corporation), TEGO Dispers 652, 655, 685, 688, 690 (manufactured by Evonik Japan), etc. are used.
その他、市販の分散剤として、例えば、エスリームAD-3172M、374M、508E、221P、221J、DP-2、DJ-2、マリアリムAKM-0531、AFB-1521、AAB-0851、SC-0505K、SC-1015F、SC-0708A(日油社製)等が挙げられる。 Other commercially available dispersants include, for example, Esream AD-3172M, 374M, 508E, 221P, 221J, DP-2, DJ-2, Marialim AKM-0531, AFB-1521, AAB-0851, SC-0505K, SC-1015F, and SC-0708A (manufactured by NOF Corporation).
本発明の一実施形態に係る紫外線硬化型ハードコート用樹脂組成物における、前記撥水防汚剤の含有量については、限定されないが、紫外線硬化型ハードコート用樹脂組成物全体を100重量%として、0.1~5重量%であることが好ましく、0.1~2重量%であることがより好ましい。 The content of the water repellent and antifouling agent in the UV-curable hard coat resin composition according to one embodiment of the present invention is not limited, but is preferably 0.1 to 5% by weight, and more preferably 0.1 to 2% by weight, based on 100% by weight of the entire UV-curable hard coat resin composition.
前記の紫外線硬化型ハードコート用樹脂組成物を硬化させることによって、硬化物、ハードコート(ハードコート膜、又はハードコートフィルム)、又は前記ハードコート(ハードコート膜、ハードコートフィルム)を有する積層体等が製造される。前記の硬化物、ハードコート(ハードコート膜、ハードコートフィルム)、又はハードコート(ハードコート膜、ハードコートフィルム)を有する積層体等については、前記のポリチオフェン(A)と変性ポリアミン化合物(B)とを含む。 By curing the UV-curable hard coat resin composition, a cured product, a hard coat (hard coat film or hard coat film), or a laminate having the hard coat (hard coat film, hard coat film) is produced. The cured product, hard coat (hard coat film, hard coat film), or a laminate having the hard coat (hard coat film, hard coat film) contains the polythiophene (A) and the modified polyamine compound (B).
本発明の一実施形態に係る前記の硬化物、ハードコート、又はハードコートを有する積層体については、特に限定されないが、例えば、本発明の一実施形態に係る紫外線硬化型ハードコート用樹脂組成物を基材に塗布し、紫外線照射することによって作製することができる。なお、硬化物、ハードコート、又はハードコートを有する積層体の硬度等の物性を高められる点で、塗布された樹脂組成物については、紫外線照射前に乾燥されることが好ましい。 The cured product, hard coat, or laminate having a hard coat according to one embodiment of the present invention is not particularly limited, but can be produced, for example, by applying the ultraviolet-curable hard coat resin composition according to one embodiment of the present invention to a substrate and irradiating it with ultraviolet light. In order to increase the physical properties such as hardness of the cured product, hard coat, or laminate having a hard coat, it is preferable to dry the applied resin composition before irradiating it with ultraviolet light.
上記の基材としては、特に限定されないが、例えば、ガラス、樹脂フィルム、樹脂板、又はレジスト基板等が挙げられる。 The above substrate is not particularly limited, but examples include glass, a resin film, a resin plate, and a resist substrate.
前記樹脂フィルムとしては、特に限定されないが、例えば、セチルセルロース(TAC)フィルム、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、ジアセチレンセルロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、(メタ)アクリルニトリルフィルム、シクロオレフィンポリマー(COP)フィルム等が挙げられる。 The resin film is not particularly limited, but examples thereof include cetyl cellulose (TAC) film, polyethylene terephthalate (PET) film, diacetylene cellulose film, acetate butyrate cellulose film, polyethersulfone film, polyacrylic resin film, polyurethane resin film, polyester film, polycarbonate film, polysulfone film, polyether film, polymethylpentene film, polyether ketone film, (meth)acrylonitrile film, cycloolefin polymer (COP) film, etc.
また、樹脂板として、例えばアクリル板、トリアセチルセルロース板、ポリエチレンテレフタレート板、ジアセチレンセルロース板、アセテートブチレートセルロース板、ポリエーテルスルホン板、ポリウレタン板、ポリエステル板、ポリカーボネート板、ポリスルホン板、ポリエーテル板、ポリメチルペンテン板、ポリエーテルケトン板、(メタ)アクリルニトリル板などが挙げられる。 Examples of resin plates include acrylic plates, triacetyl cellulose plates, polyethylene terephthalate plates, diacetylene cellulose plates, acetate butyrate cellulose plates, polyethersulfone plates, polyurethane plates, polyester plates, polycarbonate plates, polysulfone plates, polyether plates, polymethylpentene plates, polyether ketone plates, and (meth)acrylonitrile plates.
これらの基材はいずれも透明性に優れ、後述の表示装置への適用にも好ましい。なお、基材の厚さは、用途に応じて適時選択することができるが、一般に25~1000μm程度のものが用いられる。 All of these substrates have excellent transparency and are suitable for use in the display devices described below. The thickness of the substrate can be selected appropriately depending on the application, but generally, a thickness of about 25 to 1000 μm is used.
本発明の一実施形態に係る樹脂組成物の塗布方法としては、特に限定されないが、例えば、スクリーン印刷法、キャスティング法、ディッピング法、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、スピンコート法、ワイヤーバーコート法、エクストルージョンコート法、又はインクジェット印刷法等が挙げられる。 The method of applying the resin composition according to one embodiment of the present invention is not particularly limited, but examples thereof include screen printing, casting, dipping, bar coating, roll coating, gravure coating, flexographic printing, spray coating, air knife coating, curtain coating, spin coating, wire bar coating, extrusion coating, and inkjet printing.
前記のハードコートフィルム(ハードコート層)の厚みは、特に制限されるものではないが、通常、塗布及び乾燥後において、0.01~20μmであることが好ましい。 The thickness of the hard coat film (hard coat layer) is not particularly limited, but it is usually preferable that it be 0.01 to 20 μm after coating and drying.
基材上に塗布され、成膜された塗膜については、硬化させる前に乾燥させておいてもよい。なお乾燥させる際は、適宜加熱してもよい。乾燥温度としては、均一な乾燥状態のハードコートが得られる温度及び基材の耐熱温度以下であれば特に限定されないが、室温(15~25℃)~300℃の範囲が好ましく、より好ましくは室温~250℃の範囲であり、更に好ましくは室温~200℃の範囲である。 The coating film applied to the substrate and formed may be dried before being cured. When drying, heating may be applied as appropriate. The drying temperature is not particularly limited as long as it is a temperature at which a uniformly dried hard coat is obtained and is equal to or lower than the heat resistance temperature of the substrate, but is preferably in the range of room temperature (15-25°C) to 300°C, more preferably in the range of room temperature to 250°C, and even more preferably in the range of room temperature to 200°C.
乾燥雰囲気は、大気中、不活性ガス中、真空中、又は減圧下のいずれであってもよい。ハードコートの劣化抑制の観点からは、窒素、又はアルゴン等の不活性ガス中が好ましい。 The drying atmosphere may be air, an inert gas, a vacuum, or a reduced pressure. From the viewpoint of preventing deterioration of the hard coat, an inert gas such as nitrogen or argon is preferred.
乾燥後に紫外線を照射して硬化させる。UV光の照射量は約100~21000mJ/cm2であり、好ましくは約300~2100mJ/cm2である。照射雰囲気は、大気中、不活性ガス中、真空中、又は減圧下のいずれであってもよい。 After drying, the coating is cured by irradiating with ultraviolet light. The amount of UV light irradiation is about 100 to 21,000 mJ/cm 2 , and preferably about 300 to 2,100 mJ/cm 2. The irradiation atmosphere may be air, an inert gas, a vacuum, or a reduced pressure.
前記のポリチオフェン(A)を含むハードコートの膜厚(乾燥、紫外線照射後)としては、特に限定されないが、1~100μmの範囲が好ましく、より好ましくは1~10μmの範囲である。 The thickness of the hard coat containing the polythiophene (A) (after drying and UV irradiation) is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 to 100 μm, and more preferably in the range of 1 to 10 μm.
本発明の一実施形態に係る樹脂組成物から製造されるハードコートは、高い硬度を有する。例えば、本発明の一実施形態に係る樹脂組成物により、3μmの膜厚で形成されたハードコートについては、JIS K-5600に従って測定される鉛筆硬度が、H以上であることが好ましく、2H以上であることがより好ましい。 The hard coat produced from the resin composition according to one embodiment of the present invention has high hardness. For example, a hard coat formed with a film thickness of 3 μm using the resin composition according to one embodiment of the present invention preferably has a pencil hardness of H or more, and more preferably 2H or more, as measured according to JIS K-5600.
前記の硬化物、ハードコート、又はハードコートを有する積層体については、これを光源と共に用いて表示装置に適用することができる。この場合、ハードコートフィルムを形成する基材については、透光性基材であることが好ましい。透光性基材としては、ハードコートフィルムを形成する基材として前述したものを用いることができる。また、光源については、好ましくは、基材の背面、すなわち基材のハードコート層形成面とは反対側の面に配置され、そこから基材に向けて光を照射するものが好ましい。 The cured product, hard coat, or laminate having a hard coat can be used together with a light source to be applied to a display device. In this case, the substrate on which the hard coat film is formed is preferably a light-transmitting substrate. As the light-transmitting substrate, the substrates described above for forming the hard coat film can be used. In addition, the light source is preferably disposed on the back surface of the substrate, i.e., the surface of the substrate opposite to the surface on which the hard coat layer is formed, and is preferably one that irradiates light toward the substrate from there.
硬化物、ハードコート、又はハードコートを有する積層体と組み合わせることのできる光源としては、光を発することのできるものであれば特に限定はなく、例えば、発光ダイオード、冷陰極管、熱陰極管、EL素子などが挙げられるが、液晶モジュール、バックライトユニットなどを使用してもよい。 There are no particular limitations on the light source that can be combined with the cured product, hard coat, or laminate having a hard coat, so long as it is capable of emitting light. Examples include light-emitting diodes, cold cathode fluorescent lamps, hot cathode fluorescent lamps, and EL elements, but liquid crystal modules, backlight units, and the like may also be used.
液晶モジュールは、上記光源を含み、さらに、その上に偏光板/液晶セル/偏光板がこの順に配置された構成を有するものを表す。液晶セルは、一般に液晶表示装置に用いられているものであれば特に制限されない。例えば、TN型液晶セル、STN型液晶セル、HAN型液晶セル、IPS型液晶セル、VA型液晶セル、MVA型液晶セル、OCB型液晶セルなどを挙げることができる。このような表示装置は、さらに、位相差板、輝度向上フィルム、導光板、光拡散板、光拡散シート、集光シート、反射板などを備えていてもよい。 The liquid crystal module includes the above light source, and further includes a polarizing plate/liquid crystal cell/polarizing plate arranged in this order on top of the light source. There are no particular limitations on the liquid crystal cell, so long as it is one that is generally used in liquid crystal display devices. Examples include TN type liquid crystal cells, STN type liquid crystal cells, HAN type liquid crystal cells, IPS type liquid crystal cells, VA type liquid crystal cells, MVA type liquid crystal cells, and OCB type liquid crystal cells. Such display devices may further include a retardation plate, a brightness enhancement film, a light guide plate, a light diffusion plate, a light diffusion sheet, a light collecting sheet, a reflector, and the like.
前記の本積層体を備えた表示装置としては、液晶表示装置(液晶ディスプレイ)、LED(発光ダイオードディスプレイ)、ELD(エレクトロルミネセンスディスプレイ)、VFD(蛍光ディスプレイ)、PDP(プラズマディスプレイパネル)などといった、フラットパネルディスプレイが挙げられる。また、表示装置の作製に使用される本発明の一実施形態に係る樹脂組成物は、アンチブロッキング性に加えて、耐候性をも有するので、これらの表示装置の屋外での使用が可能となる。例えば、広告などの情報掲示を目的としたパネルディスプレイとして屋外又は半屋外に設置することができる。 Display devices equipped with the laminate include flat panel displays such as liquid crystal displays (liquid crystal displays), LEDs (light emitting diode displays), ELDs (electroluminescence displays), VFDs (fluorescent displays), and PDPs (plasma display panels). The resin composition according to one embodiment of the present invention used to manufacture the display devices has weather resistance in addition to anti-blocking properties, making it possible to use these display devices outdoors. For example, it can be installed outdoors or semi-outdoors as a panel display for the purpose of displaying information such as advertisements.
また、本積層体を備えた表示装置の用途としては、タッチパネルが挙げられ、これは、画面上の表示を押さえることによって機器を操作する機構を有し、例えば、銀行ATM、自動販売機、携帯情報端末(PDA)、複写機、ファクシミリ、ゲーム機、博物館及びデパートなどの施設に設置される案内表示装置、カーナビゲーション、マルチメディアステーション(コンビニエンスストアに設置される多機能端末機)、携帯電話、又は鉄道車両のモニタ装置等において有用である。 Another application of a display device equipped with this laminate is a touch panel, which has a mechanism for operating equipment by pressing the display on the screen, and is useful in, for example, bank ATMs, vending machines, personal digital assistants (PDAs), copiers, facsimiles, game machines, information display devices installed in facilities such as museums and department stores, car navigation systems, multimedia stations (multifunction terminals installed in convenience stores), mobile phones, and monitor devices for railway cars.
〔付記事項〕
本発明は上述した各実施形態に限定されず、請求項に示した範囲で種々の変更が可能である。異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態も、本発明の技術的範囲に含まれる。
[Additional Notes]
The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications are possible within the scope of the claims. Embodiments obtained by appropriately combining the technical means disclosed in the different embodiments are also included in the technical scope of the present invention.
以下に実施例を示すが、本発明はこれら実施例に限定して解釈されるものではない。なお、本実施例で用いた分析機器及び測定方法を以下に列記する。以下の実施例及び比較例で含有量を示す「%」は、特に言及しない限り、重量基準である。 The following examples are provided, but the present invention should not be construed as being limited to these examples. The analytical instruments and measurement methods used in the examples are listed below. In the following examples and comparative examples, the percentages indicating the content are by weight unless otherwise specified.
〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕
導電性高分子溶液の粒子径を、粒子径測定装置(日機装製UPA-UT151)を使用して測定した。
[Measurement of particle size of conductive polymer solution]
The particle size of the conductive polymer solution was measured using a particle size measuring device (UPA-UT151 manufactured by Nikkiso Co., Ltd.).
〔導電性粘着膜の表面抵抗測定方法〕
導電性高分子溶液と粘着剤を含む粘着剤組成物を、Select-Roller/A-Bar(オーエスジーシステムプロダクツ製)を使用して、ポリフィルムに塗工し、80℃で乾燥させて、膜厚52μmの導電性粘着膜を作製した。この導電性粘着膜の表面抵抗を、高抵抗率計 Hiresta(登録商標)-UX MCP-HT800(日東精工アナリテック製)を使用して測定した。
[Method for measuring surface resistance of conductive adhesive film]
A conductive adhesive composition containing a conductive polymer solution and an adhesive was applied to a poly film using a Select-Roller/A-Bar (manufactured by OSG System Products), and dried at 80° C. to prepare a conductive adhesive film having a thickness of 52 μm. The surface resistance of this conductive adhesive film was measured using a high resistivity meter Hiresta (registered trademark)-UX MCP-HT800 (manufactured by Nitto Seiko Analytech).
導電性粘着膜は、表面抵抗率が低い程、帯電防止能が高いと言える。具体的には、導電性粘着膜は、表面抵抗率が1013Ω/□未満であれば帯電防止能を有する導電性粘着膜と言え、1012Ω/□以下であることが好ましく、1011Ω/□以下であることがより好ましく、1010Ω/□以下であることが更に好ましい。 The lower the surface resistivity of the conductive adhesive film, the higher the antistatic ability. Specifically, if the surface resistivity of the conductive adhesive film is less than 10 Ω/□, it can be said to be a conductive adhesive film having antistatic ability, and it is preferably 10 Ω/□ or less, more preferably 10 Ω/□ or less, and even more preferably 10 Ω/□ or less.
[ハードコートの作製法]
ハードコートを、卓上印刷試験機(松尾産業製 K202コントロールコーター)を使用して以下の方法で作製した。塗装直後の膜厚(Wet膜厚)が18μmとなるワイヤーバーを用いて、本発明の一実施形態に係る紫外線硬化型ハードコート用樹脂組成物をPETフィルム(東洋紡製 A4160)に対して塗工した後、80℃に設定した恒温槽中で、大気下、5分間加熱した。その後、卓上UV硬化装置(セン特殊光源製 HC-96X)を用いて大気下で紫外線光を1分間照射し、ハードコートを得た。
[Method of producing hard coat]
A hard coat was prepared using a tabletop printing tester (K202 Control Coater, manufactured by Matsuo Sangyo Co., Ltd.) by the following method. Using a wire bar with a film thickness (wet film thickness) of 18 μm immediately after coating, the ultraviolet-curable hard coat resin composition according to one embodiment of the present invention was applied to a PET film (A4160, manufactured by Toyobo Co., Ltd.), and then heated in a thermostatic chamber set at 80° C. under air for 5 minutes. Thereafter, ultraviolet light was irradiated for 1 minute under air using a tabletop UV curing device (HC-96X, manufactured by Sen Special Light Sources Co., Ltd.) to obtain a hard coat.
[ハードコートの表面抵抗値の測定方法と評価基準]
作製したハードコート表面に面抵抗測定器(日東精工アナリテック製 Hiresta(登録商標)-UX MCP-HT800)の測定プローブ(USP)を押し当て、表面抵抗値(Ω/□)を大気下、室温で測定した。評価結果については、表面抵抗値が1.0×1013Ω/□未満の場合を良好、1.0×1013Ω/□以上の場合を不良とした。
[Method of measuring surface resistance of hard coat and evaluation criteria]
The measurement probe (USP) of a sheet resistance measuring device (Hiresta (registered trademark)-UX MCP-HT800, manufactured by Nitto Seiko Analytech) was pressed against the surface of the prepared hard coat, and the surface resistance value (Ω/□) was measured in air at room temperature. The evaluation results were rated as good when the surface resistance value was less than 1.0× 10 Ω/□, and poor when it was 1.0× 10 Ω/□ or more.
合成例1 ポリチオフェン(PT)の合成
従来公知の製造方法に従って、3-[(2,3-ジヒドロチエノ[3,4-b]-[1,4]ジオキシン-2-イル)メトキシ]-1-メチル-1-プロパンスルホン酸ポリマー(下記式(5)及び下記式(6)で表される繰り返し構造を含む重合体、数平均分子量約7000)を製造した。
Synthesis Example 1 Synthesis of polythiophene (PT) According to a conventionally known production method, 3-[(2,3-dihydrothieno[3,4-b]-[1,4]dioxin-2-yl)methoxy]-1-methyl-1-propanesulfonic acid polymer (a polymer containing repeating units represented by the following formula (5) and formula (6), number average molecular weight: approximately 7000) was produced.
上記の3-[(2,3-ジヒドロチエノ[3,4-b]-[1,4]ジオキシン-2-イル)メトキシ]-1-メチル-1-プロパンスルホン酸ポリマーを1重量%含む水溶液50.0gに、ジオクチルアミンを5重量%含むメタノール溶液7.4gを撹拌し、次いで得られた析出物を濾別し、乾燥させて、上記ポリマーのジオクチルアミン塩(これは、上記のポリアミン(A)に該当し、以下「PT」とも称する)の固体0.6gを得た。すなわち、当該PTは、一般式(1)においてM+としてジオクチルアミンの共役酸(すなわちジオクチルアンモニウムイオン)を含む。 7.4 g of a methanol solution containing 5 wt % dioctylamine was stirred with 50.0 g of an aqueous solution containing 1 wt % of the above 3-[(2,3-dihydrothieno[3,4-b]-[1,4]dioxin-2-yl)methoxy]-1-methyl-1-propanesulfonic acid polymer, and the resulting precipitate was filtered and dried to obtain 0.6 g of a solid of a dioctylamine salt of the above polymer (which corresponds to the above polyamine (A) and is hereinafter also referred to as "PT"). That is, the PT contains a conjugate acid of dioctylamine (i.e., a dioctylammonium ion) as M + in the general formula (1).
変性ポリアミン化合物(B)の製造例
特開2004-89787号公報(川研ファインケミカル株式会社)に記載の方法に従って、エーテルカルボン酸(1)、(2)、(4)、及び(5)(以上、全て特開2004-89787号公報に記載のものと同じもの)を合成した。さらに、上記特開2004-89787号公報に記載の方法に従って、当該エーテルカルボン酸とポリエチレンイミンとを反応させ、変性ポリアミン化合物(1)、(3)、(7)、及び(9)(これらは、上記の変性ポリアミン化合物(B)に該当する。)を合成した。
Production Example of Modified Polyamine Compound (B) According to the method described in JP-A-2004-89787 (Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.), ether carboxylic acids (1), (2), (4), and (5) (all the same as those described in JP-A-2004-89787) were synthesized. Furthermore, according to the method described in the above-mentioned JP-A-2004-89787, the ether carboxylic acids were reacted with polyethyleneimine to synthesize modified polyamine compounds (1), (3), (7), and (9) (which correspond to the above-mentioned modified polyamine compound (B)).
以上の変性ポリアミン化合物(1)、(3)、(7)、及び(9)の製造例の要約について、表1に示す。 A summary of the manufacturing examples of the above modified polyamine compounds (1), (3), (7), and (9) is shown in Table 1.
特開平11-197485号公報(川研ファインケミカル株式会社)に記載の方法に従って、特開平11-197485号公報に記載の中間生成物1である、ポリカルボニルアルキレンオキシ酸(PCAO酸)1を合成した。次いで、ポリエチレンイミン(商品名エポミンSP-018、日本触媒(株)製)22.4gに、前記の中間生成物1 578.9gを添加し窒素雰囲気中、120℃で7時間攪拌した。室温でワックス状の変性ポリアミン化合物(1’)(これは、上記の変性ポリアミン化合物(B)に該当する。)が得られた。 Polycarbonyl alkylene oxy acid (PCAO acid) 1, which is intermediate product 1 described in JP-A-11-197485, was synthesized according to the method described in JP-A-11-197485 (Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.). Next, 578.9 g of the intermediate product 1 was added to 22.4 g of polyethyleneimine (trade name Epomin SP-018, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) and stirred at 120°C for 7 hours in a nitrogen atmosphere. A wax-like modified polyamine compound (1') (corresponding to the above-mentioned modified polyamine compound (B)) was obtained at room temperature.
以上の変性ポリアミン化合物(1’)の製造例の要約について、表2に示す。 A summary of the above-mentioned production examples of modified polyamine compound (1') is shown in Table 2.
実施例1 (導電性高分子溶液の調製と評価)
有機溶媒(C)としての9.7gの酢酸エチルエステルに、上記PT 0.1gと、上記変性ポリアミン化合物(1) 0.2gを加え、撹拌を行って、導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した結果、2.1nmだった。PTが、導電性高分子溶液中に均一に溶解又は分散していることがわかった。
Example 1 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
0.1 g of the PT and 0.2 g of the modified polyamine compound (1) were added to 9.7 g of ethyl acetate as an organic solvent (C) and stirred to prepare a conductive polymer solution. The average particle size of the conductive polymer solution was measured according to the above-mentioned [Particle size measurement of conductive polymer solution] and found to be 2.1 nm. It was found that the PT was uniformly dissolved or dispersed in the conductive polymer solution.
実施例2 (導電性高分子溶液の調製と評価)
実施例1において、変性ポリアミン化合物(1) 0.2gの代わりに、上記変性ポリアミン化合物(3) 0.2gを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行い、導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した結果、2.1nmだった。PTが、導電性高分子溶液中に均一に溶解又は分散していることがわかった。
Example 2 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
A conductive polymer solution was prepared in the same manner as in Example 1, except that 0.2 g of the modified polyamine compound (3) was used instead of 0.2 g of the modified polyamine compound (1) in Example 1. The average particle size of the conductive polymer solution was measured according to the above-mentioned [Particle size measurement of conductive polymer solution], and was found to be 2.1 nm. It was found that PT was uniformly dissolved or dispersed in the conductive polymer solution.
実施例3 (導電性高分子溶液の調製と評価)
実施例1において、変性ポリアミン化合物(1) 0.2gの代わりに、上記変性ポリアミン化合物(7) 0.2gを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行い、導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した結果、2.1nmだった。PTが、導電性高分子溶液中に均一に溶解又は分散していることがわかった。
Example 3 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
A conductive polymer solution was prepared in the same manner as in Example 1, except that 0.2 g of the modified polyamine compound (7) was used instead of 0.2 g of the modified polyamine compound (1) in Example 1. The average particle size of the conductive polymer solution was measured according to the above-mentioned [Particle size measurement of conductive polymer solution], and was found to be 2.1 nm. It was found that PT was uniformly dissolved or dispersed in the conductive polymer solution.
実施例4 (導電性高分子溶液の調製と評価)
実施例1において、変性ポリアミン化合物(1) 0.2gの代わりに、上記変性ポリアミン化合物(9) 0.2gを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行い、導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した結果、2.1nmだった。PTが、導電性高分子溶液中に均一に溶解又は分散していることがわかった。
Example 4 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
A conductive polymer solution was prepared in the same manner as in Example 1, except that 0.2 g of the modified polyamine compound (9) was used instead of 0.2 g of the modified polyamine compound (1) in Example 1. The average particle size of the conductive polymer solution was measured according to the above-mentioned [Particle size measurement of conductive polymer solution], and was found to be 2.1 nm. It was found that PT was uniformly dissolved or dispersed in the conductive polymer solution.
実施例5~12 (導電性高分子溶液の調製と評価)
実施例1~4において、有機溶媒(C)として、9.7gの酢酸エチルエステルを用いる代わりに、9.7gの酢酸ブチルエステル、又は9.7gのトルエンを用いた以外は、実施例1~4と同様の操作を行い、導電性高分子溶液を調製した。それぞれの処方については、表3に示した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した。結果を表3に示した。
Examples 5 to 12 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solutions)
Conductive polymer solutions were prepared in the same manner as in Examples 1 to 4, except that instead of using 9.7 g of ethyl acetate, 9.7 g of butyl acetate or 9.7 g of toluene was used as the organic solvent (C). The respective formulations are shown in Table 3. The average particle size of the conductive polymer solution was measured according to the above-mentioned [Particle size measurement of conductive polymer solution]. The results are shown in Table 3.
実施例13 (導電性高分子溶液の調製と評価)
有機溶媒(C)としての9.7gの酢酸エチルエステルに、上記PT 0.1gと、上記変性ポリアミン化合物(1’) 0.2gとを加え、撹拌を行って、導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した結果、2.1nmだった。上記PTが、導電性高分子溶液中に均一に溶解又は分散していることがわかった。結果を表3に示した。
Example 13 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
0.1 g of the PT and 0.2 g of the modified polyamine compound (1') were added to 9.7 g of ethyl acetate as an organic solvent (C) and stirred to prepare a conductive polymer solution. The average particle size of the conductive polymer solution was measured according to the above-mentioned [Particle size measurement of conductive polymer solution] and found to be 2.1 nm. It was found that the PT was uniformly dissolved or dispersed in the conductive polymer solution. The results are shown in Table 3.
実施例14~15 (導電性高分子溶液の調製と評価)
実施例13において、有機溶媒(C)として、9.7gの酢酸エチルエステルを用いる代わりに、9.7gの酢酸ブチルエステル、又は9.7gのトルエンを用いた以外は、実施例13と同様の操作を行い、導電性高分子溶液を調製した。それぞれの処方については、表3に示した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した。結果を表3に示した。
Examples 14 to 15 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solutions)
Conductive polymer solutions were prepared in the same manner as in Example 13, except that 9.7 g of butyl acetate or 9.7 g of toluene was used as the organic solvent (C) instead of 9.7 g of ethyl acetate. The respective formulations are shown in Table 3. The average particle size of the conductive polymer solution was measured according to the above-mentioned [Particle size measurement of conductive polymer solution]. The results are shown in Table 3.
実施例16 (導電性高分子溶液の調製と評価)
実施例1において、有機溶媒(C)として、9.7gの酢酸エチルエステルを用いる代わりに、0.97gのγ-ブチロラクトン、及び8.73gの酢酸エチルエステルを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行い、導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した。結果を表3に示した。
Example 16 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
A conductive polymer solution was prepared in the same manner as in Example 1, except that 0.97 g of γ-butyrolactone and 8.73 g of ethyl acetate were used as the organic solvent (C) instead of 9.7 g of ethyl acetate in Example 1. The average particle size of the conductive polymer solution was measured according to the above-mentioned [Particle size measurement of conductive polymer solution]. The results are shown in Table 3.
実施例17 (導電性高分子溶液の調製と評価)
実施例1において、有機溶媒(C)として、9.7gの酢酸エチルエステルを用いる代わりに、4.85gのγ-ブチロラクトン、及び4.85gの酢酸エチルエステルを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行い、導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した。結果を表3に示した。
Example 17 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
A conductive polymer solution was prepared in the same manner as in Example 1, except that 4.85 g of γ-butyrolactone and 4.85 g of ethyl acetate were used as the organic solvent (C) instead of 9.7 g of ethyl acetate in Example 1. The average particle size of the conductive polymer solution was measured according to the above-mentioned [Particle size measurement of conductive polymer solution]. The results are shown in Table 3.
実施例18 (導電性高分子溶液の調製と評価)
実施例1において、有機溶媒(C)として、9.7gの酢酸エチルエステルを用いる代わりに、8.73gのγ-ブチロラクトン、及び0.97gの酢酸エチルエステルを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行い、導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した。結果を表3に示した。
Example 18 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
A conductive polymer solution was prepared in the same manner as in Example 1, except that 8.73 g of γ-butyrolactone and 0.97 g of ethyl acetate were used as the organic solvent (C) instead of 9.7 g of ethyl acetate in Example 1. The average particle size of the conductive polymer solution was measured according to the above-mentioned [Particle size measurement of conductive polymer solution]. The results are shown in Table 3.
実施例19 (導電性高分子溶液の調製と評価)
実施例1において、有機溶媒(C)として、9.7gの酢酸エチルエステルを用いる代わりに、0.97gのγ-ブチロラクトン、及び8.73gの2-ブタノンを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行い、導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した。結果を表3に示した。
Example 19 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
A conductive polymer solution was prepared in the same manner as in Example 1, except that 0.97 g of γ-butyrolactone and 8.73 g of 2-butanone were used instead of 9.7 g of ethyl acetate as the organic solvent (C) in Example 1. The average particle size of the conductive polymer solution was measured according to the above-mentioned [Particle size measurement of conductive polymer solution]. The results are shown in Table 3.
実施例20 (導電性高分子溶液の調製と評価)
実施例1において、有機溶媒(C)として、9.7gの酢酸エチルエステルを用いる代わりに、4.85gのγ-ブチロラクトン、及び4.85gの2-ブタノンを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行い、導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した。結果を表3に示した。
Example 20 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
A conductive polymer solution was prepared in the same manner as in Example 1, except that 4.85 g of γ-butyrolactone and 4.85 g of 2-butanone were used instead of 9.7 g of ethyl acetate as the organic solvent (C). The average particle size of the conductive polymer solution was measured according to the above-mentioned [Particle size measurement of conductive polymer solution]. The results are shown in Table 3.
実施例21 (導電性高分子溶液の調製と評価)
実施例1において、有機溶媒(C)として、9.7gの酢酸エチルエステルを用いる代わりに、8.73gのγ-ブチロラクトン、及び0.97gの2-ブタノンを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行い、導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した。結果を表3に示した。
Example 21 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
A conductive polymer solution was prepared in the same manner as in Example 1, except that 8.73 g of γ-butyrolactone and 0.97 g of 2-butanone were used instead of 9.7 g of ethyl acetate as the organic solvent (C). The average particle size of the conductive polymer solution was measured according to the above-mentioned [Particle size measurement of conductive polymer solution]. The results are shown in Table 3.
実施例22 (導電性高分子溶液の調製と評価)
実施例1において、有機溶媒(C)として、9.7gの酢酸エチルエステルを用いる代わりに、0.97gのγ-ブチロラクトン、及び8.73gのトルエンを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行い、導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した。結果を表3に示した。
Example 22 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
A conductive polymer solution was prepared in the same manner as in Example 1, except that 0.97 g of γ-butyrolactone and 8.73 g of toluene were used instead of 9.7 g of ethyl acetate as the organic solvent (C) in Example 1. The average particle size of the conductive polymer solution was measured according to the above-mentioned [Particle size measurement of conductive polymer solution]. The results are shown in Table 3.
実施例23 (導電性高分子溶液の調製と評価)
実施例1において、有機溶媒(C)として、9.7gの酢酸エチルエステルを用いる代わりに、4.85gのγ-ブチロラクトン、及び4.85gのトルエンを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行い、導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した。結果を表3に示した。
Example 23 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
A conductive polymer solution was prepared in the same manner as in Example 1, except that 4.85 g of γ-butyrolactone and 4.85 g of toluene were used instead of 9.7 g of ethyl acetate as the organic solvent (C). The average particle size of the conductive polymer solution was measured according to the above-mentioned [Particle size measurement of conductive polymer solution]. The results are shown in Table 3.
実施例24 (導電性高分子溶液の調製と評価)
実施例1において、有機溶媒(C)として、9.7gの酢酸エチルエステルを用いる代わりに、8.73gのγ-ブチロラクトン、及び0.97gのトルエンを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行い、導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した。結果を表3に示した。
Example 24 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
A conductive polymer solution was prepared in the same manner as in Example 1, except that 8.73 g of γ-butyrolactone and 0.97 g of toluene were used instead of 9.7 g of ethyl acetate as the organic solvent (C). The average particle size of the conductive polymer solution was measured according to the above-mentioned [Particle size measurement of conductive polymer solution]. The results are shown in Table 3.
実施例25 (導電性高分子溶液の調製と評価)
実施例1において、変性ポリアミン化合物(1) 0.2gを用いる代わりに、変性ポリアミン化合物(1) 0.01gを用い、有機溶媒(C)として、9.7gの酢酸エチルエステルを用いる代わりに、4.94gのγ-ブチロラクトン、及び4.95gの酢酸エチルエステルを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行い、導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した。結果を表3に示した。
Example 25 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
A conductive polymer solution was prepared by the same procedure as in Example 1, except that 0.01 g of modified polyamine compound (1) was used instead of 0.2 g of modified polyamine compound (1) in Example 1, and 4.94 g of γ-butyrolactone and 4.95 g of ethyl acetate were used instead of 9.7 g of ethyl acetate as the organic solvent (C). The average particle size of the conductive polymer solution was measured according to the above-mentioned [Particle size measurement of conductive polymer solution]. The results are shown in Table 3.
実施例26 (導電性高分子溶液の調製と評価)
実施例1において、変性ポリアミン化合物(1) 0.2gを用いる代わりに、変性ポリアミン化合物(1) 0.1gを用い、有機溶媒(C)として、9.7gの酢酸エチルエステルを用いる代わりに、4.90gのγ-ブチロラクトン、及び4.90gの酢酸エチルエステルを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行い、導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した。結果を表3に示した。
Example 26 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
A conductive polymer solution was prepared by the same procedure as in Example 1, except that 0.1 g of modified polyamine compound (1) was used instead of 0.2 g of modified polyamine compound (1) in Example 1, and 4.90 g of γ-butyrolactone and 4.90 g of ethyl acetate were used instead of 9.7 g of ethyl acetate as the organic solvent (C). The average particle size of the conductive polymer solution was measured according to the above-mentioned [Particle size measurement of conductive polymer solution]. The results are shown in Table 3.
実施例27 (導電性高分子溶液の調製と評価)
実施例1において、変性ポリアミン化合物(1) 0.2gを用いる代わりに、変性ポリアミン化合物(1) 0.5gを用い、有機溶媒(C)として、9.7gの酢酸エチルエステルを用いる代わりに、4.70gのγ-ブチロラクトン、及び4.70gの酢酸エチルエステルを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行い、導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した。結果を表3に示した。
Example 27 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
A conductive polymer solution was prepared by the same procedure as in Example 1, except that 0.5 g of the modified polyamine compound (1) was used instead of 0.2 g of the modified polyamine compound (1) in Example 1, and 4.70 g of γ-butyrolactone and 4.70 g of ethyl acetate were used instead of 9.7 g of ethyl acetate as the organic solvent (C). The average particle size of the conductive polymer solution was measured according to the above-mentioned [Particle size measurement of conductive polymer solution]. The results are shown in Table 3.
実施例28 (導電性高分子溶液の調製と評価)
実施例1において、変性ポリアミン化合物(1) 0.2gを用いる代わりに、変性ポリアミン化合物(1) 0.01gを用い、有機溶媒(C)として、9.7gの酢酸エチルエステルを用いる代わりに、4.94gのγ-ブチロラクトン、及び4.95gの2-ブタノンを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行い、導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した。結果を表4に示した。
Example 28 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
A conductive polymer solution was prepared by the same procedure as in Example 1, except that 0.01 g of modified polyamine compound (1) was used instead of 0.2 g of modified polyamine compound (1) in Example 1, and 4.94 g of γ-butyrolactone and 4.95 g of 2-butanone were used instead of 9.7 g of ethyl acetate as the organic solvent (C). The average particle size of the conductive polymer solution was measured according to the above-mentioned [Particle size measurement of conductive polymer solution]. The results are shown in Table 4.
実施例29 (導電性高分子溶液の調製と評価)
実施例1において、変性ポリアミン化合物(1) 0.2gを用いる代わりに、変性ポリアミン化合物(1) 0.1gを用い、有機溶媒(C)として、9.7gの酢酸エチルエステルを用いる代わりに、4.90gのγ-ブチロラクトン、及び4.90gの2-ブタノンを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行い、導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した。結果を表4に示した。
Example 29 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
A conductive polymer solution was prepared by the same procedure as in Example 1, except that 0.1 g of modified polyamine compound (1) was used instead of 0.2 g of modified polyamine compound (1) in Example 1, and 4.90 g of γ-butyrolactone and 4.90 g of 2-butanone were used instead of 9.7 g of ethyl acetate as the organic solvent (C). The average particle size of the conductive polymer solution was measured according to the above-mentioned [Particle size measurement of conductive polymer solution]. The results are shown in Table 4.
実施例30 (導電性高分子溶液の調製と評価)
実施例1において、変性ポリアミン化合物(1) 0.2gを用いる代わりに、変性ポリアミン化合物(1) 0.5gを用い、有機溶媒(C)として、9.7gの酢酸エチルエステルを用いる代わりに、4.70gのγ-ブチロラクトン、及び4.70gの2-ブタノンを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行い、導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した。結果を表4に示した。
Example 30 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
A conductive polymer solution was prepared by the same procedure as in Example 1, except that 0.5 g of the modified polyamine compound (1) was used instead of 0.2 g of the modified polyamine compound (1) in Example 1, and 4.70 g of γ-butyrolactone and 4.70 g of 2-butanone were used instead of 9.7 g of ethyl acetate as the organic solvent (C). The average particle size of the conductive polymer solution was measured according to the above-mentioned [Particle size measurement of conductive polymer solution]. The results are shown in Table 4.
実施例31 (導電性高分子溶液の調製と評価)
実施例1において、変性ポリアミン化合物(1) 0.2gを用いる代わりに、変性ポリアミン化合物(3) 0.2gを用い、有機溶媒(C)として、9.7gの酢酸エチルエステルを用いる代わりに、4.85gのγ-ブチロラクトン、及び4.85gの酢酸エチルエステルを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行い、導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した。結果を表4に示した。
Example 31 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
A conductive polymer solution was prepared by the same procedure as in Example 1, except that 0.2 g of modified polyamine compound (3) was used instead of 0.2 g of modified polyamine compound (1) in Example 1, and 4.85 g of γ-butyrolactone and 4.85 g of ethyl acetate were used instead of 9.7 g of ethyl acetate as the organic solvent (C). The average particle size of the conductive polymer solution was measured according to the above-mentioned [Particle size measurement of conductive polymer solution]. The results are shown in Table 4.
実施例32 (導電性高分子溶液の調製と評価)
実施例1において、変性ポリアミン化合物(1) 0.2gを用いる代わりに、変性ポリアミン化合物(7) 0.2gを用い、有機溶媒(C)として、9.7gの酢酸エチルエステルを用いる代わりに、4.85gのγ-ブチロラクトン、及び4.85gの酢酸エチルエステルを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行い、導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した。結果を表4に示した。
Example 32 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
A conductive polymer solution was prepared by the same procedure as in Example 1, except that 0.2 g of modified polyamine compound (7) was used instead of 0.2 g of modified polyamine compound (1) in Example 1, and 4.85 g of γ-butyrolactone and 4.85 g of ethyl acetate were used instead of 9.7 g of ethyl acetate as the organic solvent (C). The average particle size of the conductive polymer solution was measured according to the above-mentioned [Particle size measurement of conductive polymer solution]. The results are shown in Table 4.
実施例33 (導電性高分子溶液の調製と評価)
実施例1において、変性ポリアミン化合物(1) 0.2gを用いる代わりに、変性ポリアミン化合物(9) 0.2gを用い、有機溶媒(C)として、9.7gの酢酸エチルエステルを用いる代わりに、4.85gのγ-ブチロラクトン、及び4.85gの酢酸エチルエステルを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行い、導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した。結果を表4に示した。
Example 33 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
A conductive polymer solution was prepared by the same procedure as in Example 1, except that 0.2 g of modified polyamine compound (9) was used instead of 0.2 g of modified polyamine compound (1) in Example 1, and 4.85 g of γ-butyrolactone and 4.85 g of ethyl acetate were used instead of 9.7 g of ethyl acetate as the organic solvent (C). The average particle size of the conductive polymer solution was measured according to the above-mentioned [Particle size measurement of conductive polymer solution]. The results are shown in Table 4.
実施例34 (導電性高分子溶液の調製と評価)
実施例1において、変性ポリアミン化合物(1) 0.2gを用いる代わりに、変性ポリアミン化合物(1’) 0.2gを用い、有機溶媒(C)として、9.7gの酢酸エチルエステルを用いる代わりに、4.85gのγ-ブチロラクトン、及び4.85gの酢酸エチルエステルを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行い、導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した。結果を表4に示した。
Example 34 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
A conductive polymer solution was prepared by the same procedure as in Example 1, except that 0.2 g of modified polyamine compound (1') was used instead of 0.2 g of modified polyamine compound (1) in Example 1, and 4.85 g of γ-butyrolactone and 4.85 g of ethyl acetate were used instead of 9.7 g of ethyl acetate as the organic solvent (C). The average particle size of the conductive polymer solution was measured according to the above-mentioned [Particle size measurement of conductive polymer solution]. The results are shown in Table 4.
実施例35 (導電性高分子溶液の調製と評価)
実施例1において、有機溶媒(C)として、9.7gの酢酸エチルエステルを用いる代わりに、3.233gのγ-ブチロラクトン、3.234gの酢酸エチルエステル、及び3.233gの2-ブタノンを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行い、導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した。結果を表4に示した。
Example 35 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
A conductive polymer solution was prepared in the same manner as in Example 1, except that 3.233 g of γ-butyrolactone, 3.234 g of ethyl acetate, and 3.233 g of 2-butanone were used instead of 9.7 g of ethyl acetate as the organic solvent (C). The average particle size of the conductive polymer solution was measured according to the above-mentioned [Particle size measurement of conductive polymer solution]. The results are shown in Table 4.
実施例36 (導電性高分子溶液の調製と評価)
実施例1において、有機溶媒(C)として、9.7gの酢酸エチルエステルを用いる代わりに、3.233gのγ-ブチロラクトン、3.234gのトルエン、及び3.233gの2-ブタノンを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行い、導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した。結果を表4に示した。
Example 36 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
A conductive polymer solution was prepared in the same manner as in Example 1, except that 3.233 g of γ-butyrolactone, 3.234 g of toluene, and 3.233 g of 2-butanone were used instead of 9.7 g of ethyl acetate as the organic solvent (C). The average particle size of the conductive polymer solution was measured according to the above-mentioned [Particle size measurement of conductive polymer solution]. The results are shown in Table 4.
実施例37 (導電性高分子溶液の調製と評価)
有機溶媒(C)としての9.85gの酢酸エチルエステルに、上記PT 0.05gと、上記変性ポリアミン化合物(1) 0.1gを加え、撹拌を行って、導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した。結果を表4に示した。
Example 37 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
0.05 g of the PT and 0.1 g of the modified polyamine compound (1) were added to 9.85 g of ethyl acetate as an organic solvent (C) and stirred to prepare a conductive polymer solution. The conductive polymer solution was measured for average particle size according to the above-mentioned [Measurement of particle size of conductive polymer solution]. The results are shown in Table 4.
実施例38 (導電性高分子溶液の調製と評価)
有機溶媒(C)としての9.40gの酢酸エチルエステルに、上記PT 0.2gと、上記変性ポリアミン化合物(1) 0.4gを加え、撹拌を行って、導電性高分子溶液を調製した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した。結果を表4に示した。
Example 38 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
0.2 g of the PT and 0.4 g of the modified polyamine compound (1) were added to 9.40 g of ethyl acetate as an organic solvent (C) and stirred to prepare a conductive polymer solution. The conductive polymer solution was measured for average particle size according to the above-mentioned [Measurement of particle size of conductive polymer solution]. The results are shown in Table 4.
実施例39~44 (導電性高分子溶液の調製と評価)
実施例37、又は38において、変性ポリアミン化合物(B)として変性ポリアミン化合物(1)を用いる代わりに上記変性ポリアミン化合物(3)、上記変性ポリアミン化合物(7)、又は上記変性ポリアミン化合物(9)を用いた以外は、実施例37、又は38と同様の操作を行い、導電性高分子溶液を調製した。それぞれの処方については、表4に示した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した。結果を表4に示した。
Examples 39 to 44 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solutions)
Conductive polymer solutions were prepared in the same manner as in Example 37 or 38, except that the modified polyamine compound (3), the modified polyamine compound (7), or the modified polyamine compound (9) was used instead of the modified polyamine compound (1) as the modified polyamine compound (B). The respective formulations are shown in Table 4. The average particle size of the conductive polymer solution was measured according to the above-mentioned [Particle size measurement of conductive polymer solution]. The results are shown in Table 4.
実施例45~48 (導電性高分子溶液の調製と評価)
実施例37、又は38において、有機溶媒(C)として酢酸エチルエステルの代わりに酢酸ブチルエステル、又はトルエンを用いた以外は、実施例37、又は38と同様の操作を行い、導電性高分子溶液を調製した。それぞれの処方については、表4に示した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した。結果を表4に示した。
Examples 45 to 48 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solutions)
Conductive polymer solutions were prepared in the same manner as in Example 37 or 38, except that butyl acetate or toluene was used instead of ethyl acetate as the organic solvent (C). The respective formulations are shown in Table 4. The conductive polymer solutions were measured for average particle size according to the above-mentioned [Particle size measurement of conductive polymer solution]. The results are shown in Table 4.
実施例49、50 (導電性高分子溶液の調製と評価)
実施例37、又は38において、変性ポリアミン化合物(B)として変性ポリアミン化合物(1)を用いる代わりに上記変性ポリアミン化合物(1’)を用いた以外は、実施例37、又は38と同様の操作を行い、導電性高分子溶液を調製した。それぞれの処方については、表4に示した。当該導電性高分子溶液について、上記の〔導電性高分子溶液の粒子径測定〕に従って平均粒子径を測定した。結果を表4に示した。
Examples 49 and 50 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solutions)
Conductive polymer solutions were prepared in the same manner as in Example 37 or 38, except that the modified polyamine compound (1') was used as the modified polyamine compound (B) instead of the modified polyamine compound (1) in Example 37 or 38. The respective formulations are shown in Table 4. The average particle size of the conductive polymer solution was measured according to the above-mentioned [Particle size measurement of conductive polymer solution]. The results are shown in Table 4.
比較例1 (導電性高分子溶液の調製と評価)
9.9gの酢酸エチルエステルに、上記PT 0.1gを加え、撹拌を行って、混合溶液を調製した。しかし、PTは混合溶液中において溶解も分散もしなかった。
Comparative Example 1 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
0.1 g of the above PT was added to 9.9 g of ethyl acetate and stirred to prepare a mixed solution, but the PT was not dissolved or dispersed in the mixed solution.
比較例2 (導電性高分子溶液の調製と評価)
9.7gの酢酸エチルエステルに、上記PT 0.1gと、ポリアリルアミンPAA―01(ニットーボーメディカル株式会社製)0.2gとを加え、撹拌を行って、混合溶液を調製した。しかし、PTは混合溶液中において溶解も分散もしなかった。
Comparative Example 2 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
0.1 g of the above PT and 0.2 g of polyallylamine PAA-01 (manufactured by Nittobo Medical Co., Ltd.) were added to 9.7 g of ethyl acetate and stirred to prepare a mixed solution. However, PT was not dissolved or dispersed in the mixed solution.
比較例3 (導電性高分子溶液の調製と評価)
9.7gの酢酸エチルエステルに、PEDOT:PSSの固体(ALDRICH社製 Orbacon DRY) 0.1gと、上記変性ポリアミン化合物(1) 0.2gとを加え、撹拌を行って、混合溶液を調製した。しかし、PEDOT:PSSの固体は混合溶液中において溶解も分散もしなかった。
Comparative Example 3 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
0.1 g of PEDOT:PSS solid (Orbacon DRY, manufactured by ALDRICH) and 0.2 g of the modified polyamine compound (1) were added to 9.7 g of ethyl acetate and stirred to prepare a mixed solution. However, the PEDOT:PSS solid was not dissolved or dispersed in the mixed solution.
比較例4 (導電性高分子溶液の調製と評価)
4.85gのγ-ブチロラクトン、及び4.85gの酢酸エチルエステルの混合溶液に、PEDOT:PSSの固体(ALDRICH社製 Orbacon DRY) 0.1gを加え、撹拌を行って、混合溶液を調製した。しかし、PEDOT:PSSの固体は混合溶液中において溶解も分散もしなかった。
Comparative Example 4 (Preparation and Evaluation of Conductive Polymer Solution)
A mixed solution was prepared by adding 0.1 g of PEDOT:PSS solid (Orbacon DRY, manufactured by ALDRICH) to a mixed solution of 4.85 g of γ-butyrolactone and 4.85 g of ethyl acetate and stirring the mixture. However, the PEDOT:PSS solid was not dissolved or dispersed in the mixed solution.
各実施例、及び各比較例の要約について、平均粒子径の測定結果を表3、及び4に示す。なお、比較例2では、変性ポリアミン化合物(B)を添加していない。また、比較例3及び4では、ポリチオフェン(A)を添加していない。そのため、比較例2~4では、これらの代替として加えた化合物を丸括弧書きにて示している。表3及び4の角括弧内の数値の単位は、表の冒頭の行の角括弧内の単位であり、このことは以下の表でも同様である。 For a summary of each Example and Comparative Example, the measurement results of the average particle size are shown in Tables 3 and 4. In Comparative Example 2, modified polyamine compound (B) was not added. In Comparative Examples 3 and 4, polythiophene (A) was not added. Therefore, in Comparative Examples 2 to 4, the compounds added as substitutes are shown in parentheses. The units of the numbers in square brackets in Tables 3 and 4 are the units in square brackets in the first row of the table, and this also applies to the following tables.
実施例及び比較例の結果から、ポリチオフェン(A)と変性ポリアミン化合物(B)を加えることによって、有機溶媒に均一に溶解又は分散された導電性高分子溶液を製造できることが確認できた。 The results of the examples and comparative examples confirmed that by adding polythiophene (A) and modified polyamine compound (B), it is possible to produce a conductive polymer solution that is uniformly dissolved or dispersed in an organic solvent.
実施例51 (粘着剤組成物の調製と評価)
上記実施例1で調製した導電性高分子溶液 2gと、粘着剤(D)としてのサイビノールAT-245(サイデン化学社製) 2gとを混合し、撹拌を行って、粘着剤組成物を調製した。上記の〔導電性粘着膜の表面抵抗測定方法〕に従って導電性粘着膜を製造し、表面抵抗を測定した結果、1010Ω/□だった。
Example 51 (Preparation and Evaluation of Pressure-Sensitive Adhesive Composition)
An adhesive composition was prepared by mixing 2 g of the conductive polymer solution prepared in Example 1 above and 2 g of Saibinol AT-245 (manufactured by Saiden Chemical Industry Co., Ltd.) as adhesive (D) and stirring. A conductive adhesive film was produced according to the above [Method for measuring surface resistance of conductive adhesive film], and the surface resistance was measured, which was 10 10 Ω/□.
耐湿性を評価するために上記粘着膜を温度85℃、湿度85%の環境下で150時間静置した後、外観を確認したところ、外観の変化はなかった。結果を表5に示した。 To evaluate moisture resistance, the adhesive film was left to stand for 150 hours in an environment with a temperature of 85°C and a humidity of 85%, and the appearance was then checked, and no change was found in appearance. The results are shown in Table 5.
実施例52~100 (粘着剤組成物の調製と評価)
実施例51において、上記実施例1で調製した導電性高分子溶液 2gの代わりに、上記実施例2~50で調製した導電性高分子溶液 2gを用いて、それぞれ粘着剤組成物を調製した。上記の〔導電性粘着膜の表面抵抗測定方法〕に従って導電性粘着膜を製造し、表面抵抗を測定した。また、実施例51と同様にして外観評価を行った。結果を表5、及び6に示した。
Examples 52 to 100 (Preparation and Evaluation of Pressure-Sensitive Adhesive Compositions)
In Example 51, instead of the 2 g of the conductive polymer solution prepared in Example 1, 2 g of the conductive polymer solution prepared in each of Examples 2 to 50 was used to prepare a pressure-sensitive adhesive composition. A conductive adhesive film was produced according to the above-mentioned [Method for measuring surface resistance of conductive adhesive film], and the surface resistance was measured. In addition, an appearance evaluation was performed in the same manner as in Example 51. The results are shown in Tables 5 and 6.
比較例5、6 (粘着剤を含む混合溶液の調製と評価)
実施例51において、実施例1で調製した導電性高分子溶液 2gの代わりに、比較例1、又は2で調製した導電性高分子溶液 2gを用いて、粘着剤組成物の調製を試みた。しかしPTは混合溶液中において溶解せず、導電性粘着膜を製造することができなかった。
Comparative Examples 5 and 6 (Preparation and Evaluation of Mixed Solutions Containing Adhesive)
In Example 51, an attempt was made to prepare an adhesive composition by using 2 g of the conductive polymer solution prepared in Comparative Example 1 or 2 instead of 2 g of the conductive polymer solution prepared in Example 1. However, PT did not dissolve in the mixed solution, and a conductive adhesive film could not be produced.
比較例7、8 (粘着剤を含む混合溶液の調製と評価)
実施例51において、実施例1で調製した導電性高分子溶液 2gの代わりに、比較例3、又は4で調製した導電性高分子溶液 2gを用いて、粘着剤組成物の調製を試みた。しかしPEDOT:PSSは混合溶液中において溶解せず、導電性粘着膜を製造することができなかった。
Comparative Examples 7 and 8 (Preparation and Evaluation of Mixed Solutions Containing Adhesive)
In Example 51, an attempt was made to prepare an adhesive composition by using 2 g of the conductive polymer solution prepared in Comparative Example 3 or 4 instead of 2 g of the conductive polymer solution prepared in Example 1. However, PEDOT:PSS did not dissolve in the mixed solution, and a conductive adhesive film could not be produced.
比較例9 (粘着剤を含む混合溶液の調製と評価)
実施例51において、実施例1で調製した導電性高分子溶液 2gの代わりに、テトラブチルアンモニウムブロミド(TBABr) 1重量%、及び酢酸エチルエステル 99重量%からなる組成物 2gを用いて、粘着剤組成物を調製した。上記の〔導電性粘着膜の表面抵抗測定方法〕に従って導電性粘着膜を製造し、表面抵抗を測定した。また、実施例51と同様にして外観評価を行ったところ、粘着膜の溶解がみられた。結果を表6に示した。
Comparative Example 9 (Preparation and Evaluation of Mixed Solution Containing Adhesive)
In Example 51, instead of 2 g of the conductive polymer solution prepared in Example 1, 2 g of a composition consisting of 1 wt % tetrabutylammonium bromide (TBABr) and 99 wt % ethyl acetate was used to prepare a pressure-sensitive adhesive composition. A conductive adhesive film was produced according to the above-mentioned [Method for measuring the surface resistance of a conductive adhesive film], and the surface resistance was measured. In addition, when the appearance was evaluated in the same manner as in Example 51, dissolution of the adhesive film was observed. The results are shown in Table 6.
比較例10 (粘着剤を含む混合溶液の調製と評価)
実施例51において、実施例1で調製した導電性高分子溶液 2gの代わりに、1-エチル-3-イミダゾリウムテトラフルオロボラート(EMIMBF4) 1重量%、及び酢酸エチルエステル 99重量%からなる組成物 2gを用いて、粘着剤組成物を調製した。上記の〔導電性粘着膜の表面抵抗測定方法〕に従って導電性粘着膜を製造し、表面抵抗を測定した。また、実施例51と同様にして外観評価を行ったところ、粘着膜の溶解がみられた。結果を表6に示した。
Comparative Example 10 (Preparation and Evaluation of Mixed Solution Containing Adhesive)
In Example 51, instead of 2 g of the conductive polymer solution prepared in Example 1, 2 g of a composition consisting of 1 wt % 1-ethyl-3-imidazolium tetrafluoroborate (EMIMBF4) and 99 wt % ethyl acetate was used to prepare an adhesive composition. A conductive adhesive film was produced according to the above [Method for measuring surface resistance of conductive adhesive film], and the surface resistance was measured. In addition, when the appearance was evaluated in the same manner as in Example 51, dissolution of the adhesive film was observed. The results are shown in Table 6.
比較例11 (粘着剤を含む混合溶液の調製と評価)
実施例51において、実施例1で調製した導電性高分子溶液 2gの代わりに、テトラブチルアンモニウムブロミド(TBABr) 1重量%、前記の変性ポリアミン化合物(1)2重量%、及び酢酸エチルエステル 97重量%からなる組成物 2gを用いて、粘着剤組成物を調製した。上記の〔導電性粘着膜の表面抵抗測定方法〕に従って導電性粘着膜を製造し、表面抵抗を測定した。また、実施例51と同様にして外観評価を行ったところ、粘着膜の溶解がみられた。結果を表6に示した。
Comparative Example 11 (Preparation and Evaluation of Mixed Solution Containing Adhesive)
In Example 51, instead of 2 g of the conductive polymer solution prepared in Example 1, 2 g of a composition consisting of 1 wt % tetrabutylammonium bromide (TBABr), 2 wt % of the modified polyamine compound (1), and 97 wt % ethyl acetate was used to prepare a pressure-sensitive adhesive composition. A conductive adhesive film was produced according to the above-mentioned [Method for measuring the surface resistance of a conductive adhesive film], and the surface resistance was measured. In addition, when the appearance was evaluated in the same manner as in Example 51, dissolution of the adhesive film was observed. The results are shown in Table 6.
各実施例、及び各比較例の要約について、表面抵抗の測定結果を表5、及び6に示す。なお、比較例9~11では、本発明の一実施形態に係る導電性高分子溶液を用いていない。そのため、比較例9~11では、本発明の一実施形態に係る導電性高分子溶液の代替として用いた組成物を丸括弧書きにて示している。 Tables 5 and 6 show the results of measuring the surface resistance for each example and comparative example. Note that in comparative examples 9 to 11, the conductive polymer solution according to one embodiment of the present invention was not used. Therefore, in comparative examples 9 to 11, the composition used as a substitute for the conductive polymer solution according to one embodiment of the present invention is shown in parentheses.
実施例及び比較例の結果から、本発明の一実施形態に係る導電性高分子溶液を加えることにより、表面抵抗が比較的小さく帯電防止能を示す導電性粘着膜、及びこのような導電性粘着膜を得るための粘着剤組成物が得られることが確認できた。また、本発明の一実施形態に係るポリチオフェン(A)と変性ポリアミン化合物(B)を含む導電性粘着膜は、イオン化合物を含む導電性粘着膜と比べ、耐湿性に優れることが確認できた。 From the results of the Examples and Comparative Examples, it was confirmed that by adding a conductive polymer solution according to one embodiment of the present invention, a conductive adhesive film having a relatively low surface resistance and exhibiting antistatic properties, and an adhesive composition for obtaining such a conductive adhesive film, can be obtained. In addition, it was confirmed that a conductive adhesive film containing polythiophene (A) and modified polyamine compound (B) according to one embodiment of the present invention has superior moisture resistance compared to a conductive adhesive film containing an ionic compound.
実施例101 (粘着剤組成物の調製と評価)
上記実施例16で調製した導電性高分子溶液 2gと、粘着剤(D)としてのサイビノールAT-352(サイデン化学社製) 2gとを混合し、撹拌を行って、粘着剤組成物を調製した。上記の〔導電性粘着膜の表面抵抗測定方法〕に従って導電性粘着膜を製造し、表面抵抗を測定した結果、1012Ω/□だった。
Example 101 (Preparation and Evaluation of Pressure-Sensitive Adhesive Composition)
2 g of the conductive polymer solution prepared in Example 16 above and 2 g of Saibinol AT-352 (manufactured by Saiden Chemical Industry Co., Ltd.) as adhesive (D) were mixed and stirred to prepare an adhesive composition. A conductive adhesive film was produced according to the above [Method for measuring surface resistance of conductive adhesive film], and the surface resistance was measured to be 10 12 Ω/□.
耐湿性を評価するために上記粘着膜を温度85℃、湿度85%の環境下で150時間静置した後、外観を確認したところ、変化は見られなかった。結果を表7に示した。 To evaluate moisture resistance, the adhesive film was left to stand for 150 hours in an environment with a temperature of 85°C and a humidity of 85%, and the appearance was then checked, with no change observed. The results are shown in Table 7.
実施例102~121 (粘着剤組成物の調製と評価)
実施例101において、実施例16で調製した導電性高分子溶液 2gの代わりに、上記実施例17~36で調製した導電性高分子溶液 2gを用いて、それぞれ粘着剤組成物を調製した。上記の〔導電性粘着膜の表面抵抗測定方法〕に従って導電性粘着膜を製造し、表面抵抗を測定した。また、実施例51と同様にして外観評価を行った。結果を表7に示した。
Examples 102 to 121 (Preparation and Evaluation of Pressure-Sensitive Adhesive Compositions)
In Example 101, instead of the 2 g of the conductive polymer solution prepared in Example 16, 2 g of the conductive polymer solution prepared in each of Examples 17 to 36 was used to prepare a pressure-sensitive adhesive composition. A conductive adhesive film was produced according to the above-mentioned [Method for measuring the surface resistance of a conductive adhesive film], and the surface resistance was measured. In addition, an appearance evaluation was performed in the same manner as in Example 51. The results are shown in Table 7.
比較例12 (粘着剤を含む混合溶液の調製と評価)
実施例101において、実施例16で調製した導電性高分子溶液 2gの代わりに、比較例4で調製した導電性高分子溶液 2gを用いて、粘着剤組成物の調製を試みた。しかしPEDOT:PSSは混合溶液中において溶解せず、導電性粘着膜を製造することができなかった。結果を表7に示した。
Comparative Example 12 (Preparation and Evaluation of Mixed Solution Containing Adhesive)
In Example 101, instead of the conductive polymer solution 2g prepared in Example 16, the conductive polymer solution 2g prepared in Comparative Example 4 was used to prepare an adhesive composition. However, PEDOT:PSS did not dissolve in the mixed solution, and a conductive adhesive film could not be produced. The results are shown in Table 7.
比較例13 (粘着剤を含む混合溶液の調製と評価)
実施例101において、実施例16で調製した導電性高分子溶液 2gの代わりに、テトラブチルアンモニウムブロミド(TBABr) 1重量%、及び酢酸エチルエステル 99重量%からなる組成物 2gを用いて、粘着剤組成物を調製した。上記の〔導電性粘着膜の表面抵抗測定方法〕に従って導電性粘着膜を製造し、表面抵抗を測定した。また、実施例101と同様にして外観評価を行ったところ、粘着層の溶解がみられた。結果を表7に示した。
Comparative Example 13 (Preparation and Evaluation of Mixed Solution Containing Pressure-Sensitive Adhesive)
In Example 101, instead of 2 g of the conductive polymer solution prepared in Example 16, 2 g of a composition consisting of 1 wt % tetrabutylammonium bromide (TBABr) and 99 wt % ethyl acetate was used to prepare an adhesive composition. A conductive adhesive film was produced according to the above [Method for measuring surface resistance of conductive adhesive film], and the surface resistance was measured. In addition, when the appearance was evaluated in the same manner as in Example 101, dissolution of the adhesive layer was observed. The results are shown in Table 7.
比較例14 (粘着剤を含む混合溶液の調製と評価)
実施例101において、実施例16で調製した導電性高分子溶液 2gの代わりに、1-エチル-3-イミダゾリウムテトラフルオロボラート(EMIMBF4) 1重量%、及び酢酸エチルエステル 99重量%からなる組成物 2gを用いて、粘着剤組成物を調製した。上記の〔導電性粘着膜の表面抵抗測定方法〕に従って導電性粘着膜を製造し、表面抵抗を測定した。また、実施例101と同様にして外観評価を行ったところ、粘着膜の溶解がみられた。結果を表7に示した。
Comparative Example 14 (Preparation and Evaluation of Mixed Solution Containing Pressure-Sensitive Adhesive)
In Example 101, instead of 2 g of the conductive polymer solution prepared in Example 16, 2 g of a composition consisting of 1 wt % 1-ethyl-3-imidazolium tetrafluoroborate (EMIMBF4) and 99 wt % ethyl acetate was used to prepare an adhesive composition. A conductive adhesive film was produced according to the above [Method for measuring surface resistance of conductive adhesive film], and the surface resistance was measured. In addition, when the appearance was evaluated in the same manner as in Example 101, dissolution of the adhesive film was observed. The results are shown in Table 7.
比較例15 (粘着剤を含む混合溶液の調製と評価)
実施例101において、実施例16で調製した導電性高分子溶液 2gの代わりに、テトラブチルアンモニウムブロミド(TBABr) 1重量%、前記の変性ポリアミン(1)2重量%、及び酢酸エチルエステル 97重量%からなる組成物 2gを用いて、粘着剤組成物を調製した。上記の〔導電性粘着膜の表面抵抗測定方法〕に従って導電性粘着膜を製造し、表面抵抗を測定した。また、実施例101と同様にして外観評価を行ったところ、粘着膜の溶解がみられた。結果を表7に示した。
Comparative Example 15 (Preparation and Evaluation of Mixed Solution Containing Pressure-Sensitive Adhesive)
In Example 101, instead of 2 g of the conductive polymer solution prepared in Example 16, 2 g of a composition consisting of 1 wt% tetrabutylammonium bromide (TBABr), 2 wt% of the modified polyamine (1), and 97 wt% ethyl acetate was used to prepare a pressure-sensitive adhesive composition. A conductive adhesive film was produced according to the above-mentioned [Method for measuring the surface resistance of a conductive adhesive film], and the surface resistance was measured. In addition, when the appearance was evaluated in the same manner as in Example 101, dissolution of the adhesive film was observed. The results are shown in Table 7.
各実施例、及び各比較例の要約について、表面抵抗の測定結果を表7に示す。なお、比較例13~15では、本発明の一実施形態に係る導電性高分子溶液を用いていない。そのため、比較例13~15では、本発明の一実施形態に係る導電性高分子溶液の代替として用いた組成物を括弧書きにて示している。 Table 7 shows the results of measuring the surface resistance for each example and comparative example. Note that in comparative examples 13 to 15, the conductive polymer solution according to one embodiment of the present invention was not used. Therefore, in comparative examples 13 to 15, the composition used as a substitute for the conductive polymer solution according to one embodiment of the present invention is shown in parentheses.
これらの実施例及び比較例の結果からも、本発明の一実施形態に係る導電性高分子溶液を加えることにより、表面抵抗が比較的小さく帯電防止能を示す導電性粘着膜、及びこのような導電性粘着膜を得るための粘着剤組成物が得られることが確認できた。また、本発明の一実施形態に係るポリチオフェン(A)と変性ポリアミン化合物(B)を含む導電性粘着膜は、イオン化合物を含む導電性粘着膜と比べ、耐湿性に優れることが確認できた。 From the results of these examples and comparative examples, it was confirmed that by adding a conductive polymer solution according to one embodiment of the present invention, a conductive adhesive film having a relatively low surface resistance and exhibiting antistatic properties, and an adhesive composition for obtaining such a conductive adhesive film, can be obtained. In addition, it was confirmed that a conductive adhesive film containing polythiophene (A) and modified polyamine compound (B) according to one embodiment of the present invention has superior moisture resistance compared to a conductive adhesive film containing an ionic compound.
実施例122 (導電性高分子溶液を用いたハードコート用樹脂組成物の調整と評価)
上記実施例1で調製した導電性高分子溶液 0.9gと、紫外線硬化性樹脂(E)として、ウレタンアクリレートオリゴマー(新中村化学工業、商品名:UA-1100H、前記のオリゴマー(e1)に該当。) 1.8gと、2-ヒドロキシエチルアクリレート(前記のモノマー(e2)に該当。) 1.8gと、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(前記の光重合開始剤(e3)に該当。) 0.3gと、PGME(前記の溶剤に該当。) 5.2gからなる紫外線硬化性樹脂(E)と、を混合し、均一に溶解分散するまで攪拌して、導電性高分子を含む本発明の一実施形態に係る紫外線硬化型ハードコート用樹脂組成物を調製した。紫外線硬化型ハードコート用樹脂組成物の組成を表1に示した。この調製した組成物から、上記の[ハードコートの作製法]にしたがって、ハードコートを作製し、[ハードコートの表面抵抗値の測定方法と評価基準]に従って評価した。得られた評価結果を表8に示す。
Example 122 (Preparation and Evaluation of Resin Composition for Hard Coating Using Conductive Polymer Solution)
0.9 g of the conductive polymer solution prepared in Example 1 above, 1.8 g of a urethane acrylate oligomer (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., product name: UA-1100H, corresponding to the oligomer (e1) described above) as the ultraviolet curable resin (E), 1.8 g of 2-hydroxyethyl acrylate (corresponding to the monomer (e2) described above), 0.3 g of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (corresponding to the photopolymerization initiator (e3) described above), and 5.2 g of PGME (corresponding to the solvent described above) were mixed with the ultraviolet curable resin (E) and stirred until uniformly dissolved and dispersed to prepare an ultraviolet curable hard coat resin composition according to one embodiment of the present invention containing a conductive polymer. The composition of the ultraviolet curable hard coat resin composition is shown in Table 1. A hard coat was prepared from this prepared composition according to the above-mentioned [Hard coat preparation method], and evaluated according to [Method of measuring surface resistance of hard coat and evaluation criteria]. The obtained evaluation results are shown in Table 8.
実施例123~171 (導電性高分子溶液を用いたハードコート用樹脂組成物の調整と評価)
実施例122において、上記実施例1で調製した導電性高分子溶液 2gの代わりに、上記実施例2~50で調製した導電性高分子溶液 0.9gを用いて、それぞれ紫外線硬化型ハードコート用樹脂組成物を調製した。上記の〔ハードコートの作製法〕に従ってハードコートを作製し、[ハードコートの表面抵抗値の測定方法と評価基準]に従って評価した。得られた評価結果を表8、及び表9に示す。
Examples 123 to 171 (Preparation and Evaluation of Resin Compositions for Hard Coating Using Conductive Polymer Solutions)
In Example 122, 0.9 g of the conductive polymer solution prepared in Examples 2 to 50 was used instead of 2 g of the conductive polymer solution prepared in Example 1 to prepare UV-curable hard coat resin compositions. Hard coats were prepared according to the above [Hard coat preparation method] and evaluated according to [Method of measuring surface resistance of hard coat and evaluation criteria]. The obtained evaluation results are shown in Tables 8 and 9.
比較例16、17 (導電性高分子溶液を用いたハードコート用樹脂組成物の調整と評価)
実施例122において、実施例1で調製した導電性高分子溶液 0.9gの代わりに、比較例1、又は2で調製した導電性高分子溶液 0.9gを用いて、紫外線硬化型ハードコート用樹脂組成物を調製した。上記の〔ハードコートの作製法〕に従ってハードコートを作製し、[ハードコートの表面抵抗値の測定方法と評価基準]に従って評価した。しかしPTは樹脂組成物中において十分に溶解していなかったため、得られたハードコート膜は表面抵抗率が1013Ω/□を超えており、帯電防止能のないものであった。
Comparative Examples 16 and 17 (Preparation and Evaluation of Resin Composition for Hard Coat Using Conductive Polymer Solution)
In Example 122, instead of 0.9 g of the conductive polymer solution prepared in Example 1, 0.9 g of the conductive polymer solution prepared in Comparative Example 1 or 2 was used to prepare a resin composition for ultraviolet-curable hard coat. A hard coat was prepared according to the above [Hard coat preparation method] and evaluated according to [Method of measuring surface resistance value of hard coat and evaluation criteria]. However, since PT was not sufficiently dissolved in the resin composition, the surface resistivity of the obtained hard coat film exceeded 10 13 Ω/□ and it had no antistatic ability.
比較例18、19 (導電性高分子溶液を用いたハードコート用樹脂組成物の調整と評価)
実施例122において、実施例1で調製した導電性高分子溶液 0.9gの代わりに、比較例3、又は4で調製した導電性高分子溶液 0.9gを用いて、紫外線硬化型ハードコート樹脂組成物を調製した。上記の〔ハードコートの作製法〕に従ってハードコートを作製し、[ハードコートの表面抵抗値の測定方法と評価基準]に従って評価した。しかしPEDOT:PSSは樹脂組成物中において十分に溶解していなかったため、得られたハードコート膜は表面抵抗率が1013Ω/□を超えており、帯電防止能のないものであった。
Comparative Examples 18 and 19 (Preparation and Evaluation of Resin Composition for Hard Coat Using Conductive Polymer Solution)
In Example 122, instead of 0.9 g of the conductive polymer solution prepared in Example 1, 0.9 g of the conductive polymer solution prepared in Comparative Example 3 or 4 was used to prepare an ultraviolet-curable hard coat resin composition. A hard coat was prepared according to the above [Hard coat preparation method] and evaluated according to [Method of measuring surface resistance value of hard coat and evaluation criteria]. However, since PEDOT:PSS was not sufficiently dissolved in the resin composition, the surface resistivity of the obtained hard coat film exceeded 10 13 Ω/□ and it had no antistatic ability.
比較例20 (導電性高分子溶液を用いたハードコート用樹脂組成物の調整と評価)
実施例122において、実施例1で調製した導電性高分子溶液 0.9gの代わりに、テトラブチルアンモニウムブロミド(TBABr) 1重量%、及び酢酸エチルエステル 99重量%からなる組成物 0.9gを用いて、紫外線硬化型ハードコート樹脂組成物を調製した。上記の〔ハードコートの作製法〕に従ってハードコートを作製し、[ハードコートの表面抵抗値の測定方法と評価基準]に従って評価した。得られた評価結果を表9に示す。
Comparative Example 20 (Preparation and Evaluation of Resin Composition for Hard Coating Using Conductive Polymer Solution)
In Example 122, instead of 0.9 g of the conductive polymer solution prepared in Example 1, 0.9 g of a composition consisting of 1 wt % tetrabutylammonium bromide (TBABr) and 99 wt % ethyl acetate was used to prepare an ultraviolet-curable hard coat resin composition. A hard coat was prepared according to the above [Hard coat preparation method] and evaluated according to [Method of measuring surface resistance value of hard coat and evaluation criteria]. The obtained evaluation results are shown in Table 9.
各実施例、及び各比較例の要約について、表面抵抗の測定結果を表8、及び表9に示す。なお、比較例20では、本発明の一実施形態に係る導電性高分子溶液を用いていない。そのため、比較例20では、本発明の一実施形態に係る導電性高分子溶液の代替として用いた組成物を丸括弧書きにて示している。 Tables 8 and 9 show the results of measuring the surface resistance for each example and comparative example. Note that in Comparative Example 20, the conductive polymer solution according to one embodiment of the present invention was not used. Therefore, in Comparative Example 20, the composition used as a substitute for the conductive polymer solution according to one embodiment of the present invention is shown in parentheses.
これらの実施例及び比較例の結果からも、本発明の一実施形態に係る導電性高分子溶液を加えることにより、表面抵抗が比較的小さく帯電防止能を示す導電性ハードコート、及びこのような導電性ハードコートを得るための組成物が得られることが確認できた。 From the results of these examples and comparative examples, it was confirmed that by adding a conductive polymer solution according to one embodiment of the present invention, a conductive hard coat having a relatively low surface resistance and exhibiting antistatic properties, as well as a composition for obtaining such a conductive hard coat, can be obtained.
本発明は、例えば粘着剤、帯電防止材、LCD、有機EL、又は透明電極等に利用することができる。 The present invention can be used, for example, in adhesives, antistatic materials, LCDs, organic electroluminescence, or transparent electrodes.
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