JP2024093367A - 反射装置 - Google Patents

Abstract

【課題】広い範囲から入射した光を再帰反射可能な反射装置を提供する。
【解決手段】照射された光を再帰反射する反射装置であって、前記再帰反射を可能とする再帰性反射体を配列して構成された再帰反射部を備え、前記再帰反射部は、再帰反射の方向が異なる方向に設定された複数の反射領域を備える構成とした。
【選択図】図１

Description

本発明は、反射装置に関し、特に、広い範囲から入射した光を再帰反射可能な反射装置に関する。

従来、反射装置は、車両や道路標識、測量等に利用されている。例えば、測地測量、土木工事測量及び建築測量では、測量対象物の目標位置に、反射度の大きい反射シートや三角プリズム等の標的（ターゲット）を配置し、自動視準機能を有する測量機によりターゲットから反射された光を自動的に捕捉することでなされている。反射された光の強度は、目標物に対する視準線と、反射シートの反射面又はプリズム面とのなす角度により左右される。例えば、自動視準可能な角度は、反射シートでは約±２０°、三角プリズムで約±２０°の範囲がそれぞれ限界とされている。このため、近年では、特許文献１に開示されるような、全方向、３６０°の角度において自動視準可能な三角プリズムを主体とするターゲット装置が開発されている。

特開２０２０－９８１７５号公報

しかしながら、自動視準可能な三角プリズムを主体とするターゲット装置は、非常に高価であり、破損しやすい構造となっており、取り扱いに注意が必要とされる。また、反射シートや三角プリズムは、前述のように自動視準可能な範囲に制限があるため、自動視準機能を生かすには、測量機械の位置を都度変更する必要が生じていた。測量機械の位置を変更する都度、測量機械の運搬、組み立て、整準操作などの作業が発生し、測量対象物の連続的な捕捉を阻害している。
また、車両や道路標識に用いられている反射装置も、認識に至る光の入射角度が限定的であるため、より広範な角度からの認識が可能とされることが好ましい。
本発明は、広い範囲から入射した光を再帰反射可能な反射装置を提供することを目的とする。

上記課題を解決するための反射装置の構成として、照射された光を再帰反射する反射装置であって、前記再帰反射を可能とする再帰性反射体を配列して構成された再帰反射部を備え、前記再帰反射部は、再帰反射の方向が異なる方向に設定された複数の反射領域を備える構成とした。
本構成によれば、広い範囲から入射した光を再帰反射させることができる。
また、前記再帰性反射体は、マイクロプリズムで構成されたことにより、例えば、視認や測量等に必要とされる光束を有する再帰反射光が得やすくなる。
また、前記再帰反射部は、基盤に設けられ、該再帰反射部と基板との間に空気層を形成する構成としたことにより、反射装置を安価、かつ容易に製造することができる。
また、前記基盤は、前記反射装置を固定するための固定手段を備えた構成とすることにより、反射装置の設置作業を容易にすることができる。
また、反射装置の他の構成として、測量対象物に設けられ、測量機から照射される光を再帰反射する反射装置であって、前記再帰反射を可能とする再帰性反射体を配列して構成された再帰反射部を備え、前記再帰反射部は、再帰反射の方向が異なる方向に設定された複数の反射領域を有し、測量対象物に取り付けられたときに、再帰反射の方向が同じ反射領域が左右対称の位置に設けられた構成とした。
本構成によれば、測量機の自動視準機能を利用した測量対象物の連続的な捕捉が可能となり、測量作業の効率を向上させることができる。

本実施形態に係るターゲット１の平面図である。 本実施形態に係るターゲット１の分解図である。 ターゲット１の断面図である。 再帰性反射体を示す図である。 各反射領域Ｒ１～Ｒ５における再帰性反射体の向き及び配列状態を示す平面図である。 各反射領域Ｒ１～Ｒ５における再帰性反射体の向き及び配列状態を示す平面図である。 ターゲットの作用を示す図である。

以下、発明の実施形態を通じて本発明を詳説するが、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではなく、また実施形態の中で説明される特徴の組み合わせのすべてが発明の解決手段に必須であるとは限らず、選択的に採用される構成を含むものである。

本発明に係る反射装置は、例えば、測量用のターゲット１として利用することができる。以下の説明では、反射装置について測量用のターゲット１を用いて説明する。
本実施形態に係るターゲット１は、測量対象物に取り付けられ、測量機から測距光を照射して測量対象物の位置や向き等の測量に利用されるものであって、例えば、一つの測量対象物の複数箇所に取り付けたり、複数の測量対象物に複数取り付けたりしたときに、測量対象物への取り付けを容易にするとともに、例えば、測量機が自動視準機能を備えている場合には、一つ箇所から複数の測定位置の測量を可能に構成されている。以下の説明では、測量機４は、自動視準機能を有しているものとして説明する。

図１は、本実施形態に係るターゲット１の一例を示す平面図である。図２は、本実施形態に係るターゲット１の構成を示す分解斜視図である。
図３は、ベース部材１０と反射部材２０を一体化させてターゲット１を構成したときのベース部材１０と反射部材２０の関係を示す断面図である。
なお、ターゲット１には、測量対象物へ取り付けるための向きを規定する上下方向が設定されている。以下の説明では、例えば、ターゲット１を柱などに取り付けられたときを想定し、図中矢印で示すように、上下方向、左右方向、前後方向として方向を特定して説明する。

ターゲット１は、平面視において正方形状（図１（ａ）参照）、側方視において平板状（図１（ｂ）参照）に形成され、例えば、ベース部材１０と、反射部材２０とを備えた構成とされる。ベース部材１０は、ターゲット１における一面側をなし、反射部材２０は、ターゲット１における他面側をなすように構成されている。

図１，図２に示すように、ベース部材１０は、正方形状に形成された基板１０Ａと、該基板１０Ａの外周を囲むように立ち上がる枠１０Ｂを有する一方（前方）側が開口する箱型に形成されている。基板１０Ａは、例えば、厚みが一定の平板状に形成されている。枠１０Ｂは、例えば、基板１０Ａの一方側に向けて均一の高さで立ち上がり、厚みが一定の板状に形成されている。

ベース部材１０は、例えば、樹脂材、ポリエチレン材等を素材として構成することができ、例えば、白や黒などに着色され、光の透過を許容しないように構成することができる。

反射部材２０は、光透過性を有する樹脂等を素材として構成される。図３に示すように、反射部材２０は、光の再帰反射を可能とする再帰性反射体５０を支持層２２上に複数配置して構成される。以下の説明では、複数配列された再帰性反射体５０の集合を反射構造部２０Ａという場合がある。支持層２２及び再帰性反射体５０は、反射部材２０として一体的に形成されている。

支持層２２は、ベース部材１０との重ね合わせが可能となるように、例えば、平面視においてベース部材１０の枠１０Ｂの外周寸法（外形形状）に一致する正方形の板状に形成される。複数の再帰性反射体５０は、支持層２２をベース部材１０に重ね合わせたときに、枠１０Ｂの内周寸法内に含まれるように一面側に整列して設けられる。

即ち、反射部材２０は、一方の面が平面、他方の面に複数の再帰性反射体５０が突出する反射構造部２０Ａを備えた構成とされている。反射構造部２０Ａは、例えば、ベース部材１０の枠１０Ｂ内に収容可能な範囲、ベース部材１０の枠１０Ｂの内側の形状に沿う正方形を描くように配列して支持層２２に形成されている。

ターゲット１は、例えば、反射部材２０の支持層２２をベース部材１０の枠１０Ｂ上に接触させ、重ね合わせたときに、反射部材２０の支持層２２から突出する反射構造部２０Ａと、ベース部材１０の基板１０Ａとの間に空気層３０が形成されるように、ベース部材１０及び反射部材２０を一体化して構成される。

なお、反射部材２０の支持層２２から突出する反射構造部２０Ａと、ベース部材１０の基板１０Ａとの間は、空気層３０に限定されない。例えば、空気層３０に代えて反射部材２０よりも屈折率の小さい物質を充填するようにしても良く、また、反射部材２０の反射構造部２０Ａに対してベース部材１０の基板１０Ａが合致するようにベース部材１０を形成しても良い。

ベース部材１０及び反射部材２０は、例えば、接着剤や嵌め合い等の固定手段を利用して一体化することができる。

ベース部材１０及び反射部材２０が一体化されたターゲット１は、反射部材２０における平面２０ａ部分が測量機から照射された視準光や測距光が入射する照射面１ａ、ベース部材１０における平面１０ａ部分がターゲット１を測量対象物に取り付けるための取付面１ｂとして機能する。照射面１ａ及び取付面１ｂは、互いに平行とされている。また、ターゲット１は、ｎ等分された反射部材２０とベース部材１０が一体化された部材を基盤に固定した構成であっても良い。

取付面１ｂには、例えば、ターゲット１の測量対象物への取り付けを容易にするための固定手段（図外）を予め備えた構成としておくと良い。固定手段には、例えば、両面テープやマグネット、接着剤等を利用することができる。これにより、例えば、鉄骨などの建ち精度などを測量するときのターゲット１の設置作業を容易にすることができる。なお、本実施形態に係るターゲット１の利用はこれに限定されない。

図４は、本実施形態に係る再帰性反射体５０を示す図である。
本実施形態では、再帰性反射体５０は、図４に示すようなコーナーキューブ型のマイクロプリズムとして説明するが、再帰反射を可能とするものであれば、ガラスビーズ等の他のマイクロプリズムであっても良い。再帰性反射体５０には、マイクロプリズムを用いることにより、自動視準機能に必要とされる光束が得やすくなる。

図４に示すように、コーナーキューブ型の再帰性反射体５０は、立方体を形成するうちの一つの頂点を三角錐の頂点５１Ａとし、この頂点に隣接する３つの頂点５１Ｂ，５１Ｃ，５１Ｄを通る平面で切り出した形状とされる。

即ち、再帰性反射体５０とされる三角錐は、図４に示すように、側面５２ａ，５２ｂ，５２ｃが互いに直角に交差し、側辺の長さが同じ長さに形成される。
再帰性反射体５０は、図３に示すように、コーナーキューブとして立方体から切り出された三角錐の底面５２ｄを支持層２２に向けて配列され、支持層２２とともに一体的に形成されることで反射構造部（再帰反射部）２０Ａを形成する。

反射構造部２０Ａを構成する（配列された）一つ一つの再帰性反射体５０は、支持層２２を通過し、底面５２ｄから入射した光（入射光）を、３つの側面（のうちの内面）５２ａ，５２ｂ，５２ｃで１回ずつ正反射したのち、再び底面５２ｄから入射方向に反射する（再帰反射）プリズムとして機能する。
なお、再帰性反射体５０は、前述のように支持層２２に一体に形成されるため、図３乃至図６に示した底面５２ｄは、説明の便宜上明示した仮想的な面である。

本実施形態に係る反射部材２０は、測量機から照射される視準光の入射角度が大きな場合であっても測量機に向けた再帰反射を可能に構成されている。具体的には、反射構造部２０Ａは、再帰反射の方向が異なる方向となるように形成された複数の反射領域を有するように構成されている。本実施形態では、５種類の反射領域Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５（図１参照）を有するように構成されている。

各反射領域Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５における再帰反射の方向は、各反射領域Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５を構成する再帰性反射体５０を傾けて配置することで実現される。傾けて配置とは、図３に示すように反射軸Ｊが照射面１ａの法線Ｎとなるように配置したときを基準としている。反射軸Ｊとは、再帰性反射体５０に光が入射したときに最も明るく再帰反射する方向をいい、本実施形態では、再帰性反射体５０の底面５２ｄに直交し、再帰性反射体５０の頂点５１Ａを通る線により定義した。
なお、各反射領域Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５による再帰反射は、反射軸Jの方向のみに限るものではなく、ある程度（例えば±２０°）の範囲（角度）からの光の入射が許容される。

即ち、反射領域Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５は、同一の領域内では、再帰性反射体５０の反射軸Ｊの傾きが同じとなるように配置される。また、異なる反射領域Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５を構成する再帰性反射体５０は、反射軸Ｊが傾斜する角度が異なるように反射部材２０に形成されている。

実施形態では、例えば、図１（ａ）に示すように、平面視において上下、左右方向に均等な間隔で反射構造部２０Ａを２５個の領域に区画され、各区画が正方形状とされている。正方形状に区画された領域には、反射領域Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５が形成されている。

反射領域Ｒ１は、反射構造部２０Ａの中央に配置され、反射領域Ｒ１を囲むように反射領域Ｒ２，Ｒ３が配置され、反射領域Ｒ２，Ｒ３を囲むように反射領域Ｒ４，Ｒ５が配置される。
詳細には、反射領域Ｒ１として区画された正方形の中心と、ターゲット１における中心Ｏとが一致するように配置される。また、反射領域Ｒ２は、反射領域Ｒ１の４辺に接するように反射領域Ｒ１の上下左右に配置され、反射領域Ｒ３は、反射領域Ｒ１の頂点で隣接するように反射領域Ｒ１の４つの対角位置に配置されている。また、反射領域Ｒ４は、反射領域Ｒ１を取り囲む反射領域Ｒ２，Ｒ３の外側において、反射領域Ｒ１の上下左右及び対角の位置に配置され、反射領域Ｒ５は、反射領域Ｒ１を取り囲む反射領域Ｒ２，Ｒ３の外側に設けられた反射領域Ｒ４の間に配置される。

即ち、ターゲット１は、反射軸Jの傾きが同じ領域が、反射構造部２０Ａの中心Ｏ周りに対称となるように配置されている。このように反射軸Jの傾きが同じ反射領域Ｒ１～Ｒ５を反射構造部２０Ａの中心Ｏ周りに対称となるように配置することにより、各反射領域Ｒ１～Ｒ５から反射された光からターゲット１の中心Ｏの位置を検出することができ、測量における精度を維持することができる。

図５，図６は、各反射領域Ｒ１～Ｒ５における再帰性反射体５０の配列を示す平面図である。詳細には、図５は、ターゲット１を上方から見たときの各反射領域Ｒ１～Ｒ５における再帰性反射体５０の配列状態を示し、図６は、ターゲット１を側方から見たときの各反射領域Ｒ１～Ｒ５における再帰性反射体５０の配列状態を示している。なお、図５，図６では、側方や上方から見えるすべてを記載したものではなく、一列に並ぶ再帰性反射体５０の一部を抽出して示したものである。

反射領域Ｒ１は、照射面１ａの法線Ｎに対して、反射軸Ｊが左右方向には０°（図５（ａ）参照）、上下方向には下に１５°（図６（ａ）参照）傾斜するように再帰性反射体５０を傾けて配置される。

反射領域Ｒ２は、照射面１ａの法線Ｎに対して、反射軸Ｊが左右方向には左に１５°（図５（ｂ）参照）、上下方向には下に１５°（図６（ｂ）参照）傾斜するように再帰性反射体５０を傾けて配置される。

反射領域Ｒ３は、照射面１ａの法線Ｎに対して、反射軸Ｊが左右方向には右に１５°（図５（ｃ）参照）、上下方向には下に１５°（図６（ｃ）参照）傾斜するように再帰性反射体５０を傾けて配置される。

反射領域Ｒ４は、照射面１ａの法線Ｎに対して、反射軸Ｊが左右方向には左に３０°（図５（ｄ）参照）、上下方向には下に３０°（図６（ｄ）参照）傾斜するように再帰性反射体５０を傾けて配置される。

反射領域Ｒ５は、照射面１ａの法線Ｎに対して、反射軸Ｊが左右方向には右に３０°（図５（ｅ）参照）、上下方向には下に３０°（図６（ｅ）参照）傾斜するように再帰性反射体５０を傾けて配置される。

即ち、ターゲット１を鉛直方向に延びる柱等の測量対象物の表面に取り付けたときに、反射領域Ｒ１は、測量機から照射された視準光が方向角０°、伏角１５°で、照射面１ａから入射したときに最も明るく反射するように構成されている。
また、反射領域Ｒ２は、測量機から照射された視準光が方向角左に１５°、伏角１５°で、照射面１ａから入射したときに最も明るく反射するように構成されている。
また、反射領域Ｒ３は、測量機から照射された視準光が方向角右に１５°、伏角１５°で、照射面１ａから入射したときに最も明るく反射するように構成されている。
また、反射領域Ｒ４は、測量機から照射された視準光が方向角左に３０°、伏角３０°で、照射面１ａから入射したときに最も明るく反射するように構成されている。
また、反射領域Ｒ５は、測量機から照射された視準光が方向角右に３０°、伏角３０°で、照射面１ａから入射したときに最も明るく反射するように構成されている。

図７は、ターゲット１の作用を示す図である。本実施形態に係るターゲット１は、前述したように反射軸Ｊの向きが異なる反射領域Ｒ１～Ｒ５を備えた構成とされていることから、例えば、図７に示すような範囲に配置に対応することができる。

図７に示す１（ａ）は測量機４から見て方向角０°，仰角１５°に配置されたターゲットを示し、１（ｂ）は測量機４から見て方向角左１５°、仰角１５°に配置されたターゲットを示し、１（ｃ）は測量機４から見て方向角右１５°、仰角１５°に配置されたターゲットを示し、１（ｄ）は測量機４から見て方向角左３０°、仰角３０°に配置されたターゲットを示し、１（ｅ）は測量機４から見て方向角右３０°、仰角３０°に配置されたターゲットを示している。なお、ターゲット１（ａ）～１（ｅ）は、同一のものである。

即ち、測量機４の視準機能により視準光が方向角０°，仰角１５°に向けて照射されたときに、ターゲット１（ａ）において反射軸Ｊが方向角０°，伏角１５°とされた反射領域Ｒ１から最も明るく測量機４に向けて視準光を反射する。
また、測量機４の視準機能により視準光が方向角右１５°，仰角１５°に向けて照射されたときに、ターゲット１（ｂ）において反射軸Ｊが方向角右１５°，伏角１５°とされた４つの反射領域Ｒ２から最も明るく測量機４に向けて視準光を反射する。
また、測量機４の視準機能により視準光が方向角左１５°，仰角１５°に向けて照射されたときに、ターゲット１（ｃ）において反射軸Ｊが方向角左１５°，伏角１５°とされた４つの反射領域Ｒ３から最も明るく測量機４に向けて視準光を反射する。
また、測量機４の視準機能により視準光が方向角右３０°，仰角３０°に向けて照射されたときに、ターゲット１（ｄ）において反射軸Ｊが方向角右３０°，伏角３０°とされた８つの反射領域Ｒ４から最も明るく測量機４に向けて視準光を反射する。
また、測量機４の視準機能により視準光が方向角左３０°，仰角３０°に向けて照射されたときに、ターゲット１（ｅ）において反射軸Ｊが方向角左３０°，伏角３０°とされた８つの反射領域Ｒ５から最も明るく測量機４に向けて視準光を反射する。

このように、ターゲット１が複数の反射軸Ｊを備えた構成とすることにより、図７に示すように１種類のターゲットを共通して利用することができるので、ターゲット１の設置作業を容易にすることができるとともに、測量機４の位置を動かすことなく、複数箇所に設置されたターゲット１を連続的に視準し、測量できる。

図７に係る説明では、説明の便宜上ターゲット１に設定された反射軸Ｊ上に測量機４が位置するものとしたが、ターゲット１は、必ずしも測量機４から照射される視準光が反射軸Ｊに一致するように配置されている必要はない。各反射領域Ｒ１～Ｒ５を構成する再帰性反射体５０は、反射軸Ｊを中心として、反射軸Ｊからずれた光の再帰反射を許容するので、より幅広い範囲での自動視準が可能とされる。

前述した各反射領域Ｒ１～Ｒ５に設定される反射軸Ｊの向きは、上記実施形態の角度に限定されず、適宜変更しても良い。例えば、仰角が低く、方向角が広い測量に好適にターゲット１を構成する場合には、仰角に比べて方向角について反射軸Ｊが多く変化するように反射領域を設定すれば良く、仰角が高く、方向角が狭い測量に好適にターゲット１を構成する場合には、方向角に比べて仰角について反射軸Ｊが多く変化するように反射領域を設定するなどしてターゲット１を構成すれば良い。

上記実施形態では、ターゲット１の形状を正方形として説明したが、これに限定されない。ターゲット１の形状は、例えば、長方形や矩形以外の多角形、或いは円や楕円であっても良い。ここで言うターゲット１の形状とは、ターゲット１の平面形状やターゲット１における反射構造部２０Ａの平面形状を意味する。

ターゲット１の形成において肝要なのは、反射軸Ｊの傾きが異なる反射領域Ｒを複数（２以上）種類、反射構造部２０Ａに備えた構成とすると良い。また、反射軸Ｊの傾きが同じ反射領域Ｒは、ターゲット１に設定される上下方向に対して少なくとも左右対称に設けると良い。

また、上記実施形態では、ターゲット１は、複数の反射領域を一つの反射部材２０に形成するものとして説明したが、反射軸Ｊの傾きが異なる反射領域毎に反射部材を個別に形成し、個別に形成した複数の反射部材をベース部材１０によって一体化するように構成しても良い。

本発明に係る反射装置について測量用のターゲット１に用いて説明したが、その対象は限定されない。例えば、車両用や道路標識等であっても良い。この場合、測量用のターゲット１のように、再帰反射の方向が異なる方向に設定された複数の反射領域が左右対称の位置に配置されている必要はなく、広い範囲から入射した光を再帰反射可能となるように、各反射領域における再帰反射の方向を設定すれば良い。

また、各反射領域間に設定される再帰反射の方向は、１つの反射領域における再帰反射の範囲内にあっても良いが、１つの反射領域における再帰反射の範囲外とすることにより、より広い範囲から入射した光について再帰反射を可能とすることができる。

１ （測量用）ターゲット、１ａ 照射面、４ 測量機、１０ ベース部材、
２０ 反射部材、２０Ａ 反射構造部（再帰反射部）、２２ 支持層、３０ 空気層、
５０ 再帰性反射体、Ｊ 反射軸、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５ 反射領域。

上記課題を解決するための反射装置の構成として、測量対象物に設けられ、測量機から照射される光を再帰反射する反射装置であって、一方が平面であり、他方に再帰反射を可能とする再帰性反射体が配列して構成された支持層を有する再帰反射部を備え、再帰反射部は、再帰反射の方向が異なる方向に設定された複数の反射領域を有し、複数の反射領域のうち、測量対象物に取り付けられたときに、再帰反射の方向が同じ反射領域が左右対称の位置に設けられ、各反射領域の再帰性反射体における光が入射したときに最も明るく再帰反射する反射軸が、支持層の一方の平面の法線方向から光が照射されたときを基準として、伏角を含んで傾いて設けられた構成とした。
本構成によれば、広い範囲から入射した光を再帰反射させることができる。また、測量機の自動視準機能を利用した測量対象物の連続的な捕捉が可能となり、測量作業の効率を向上させることができる。
また、再帰性反射体が、マイクロプリズムで構成されたことにより、例えば、視認や測量等に必要とされる光束を有する再帰反射光が得やすくなる。
また、再帰反射部は、基盤に設けられ、該基盤と再帰反射部との間に空気層を有する構成としたことにより、反射装置を安価、かつ容易に製造することができる。
また、基盤は、反射装置を固定するための固定手段を備えた構成とすることにより、反射装置の設置作業を容易にすることができる。

Claims (5)

1. 照射された光を再帰反射する反射装置であって、
   前記再帰反射を可能とする再帰性反射体を配列して構成された再帰反射部を備え、
   前記再帰反射部は、再帰反射の方向が異なる方向に設定された複数の反射領域を備えることを特徴とする反射装置。
2. 前記再帰性反射体は、マイクロプリズムであることを特徴とする請求項１に記載の反射装置。
3. 前記再帰反射部は、基盤に設けられ、該再帰反射部と基盤との間に空気層を形成することを特徴とする請求項１に記載の反射装置。
4. 前記基盤は、反射装置を固定するための固定手段を備えたことを特徴とする請求項３に記載の反射装置。
5. 測量対象物に設けられ、測量機から照射される光を再帰反射する反射装置であって、
   前記再帰反射を可能とする再帰性反射体を配列して構成された再帰反射部を備え、
   前記再帰反射部は、再帰反射の方向が異なる方向に設定された複数の反射領域を有し、
   測量対象物に取り付けられたときに、再帰反射の方向が同じ反射領域が左右対称の位置に設けられたことを特徴とする反射装置。
   

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