JP2024085353A - Method for manufacturing a press plate, a press plate manufactured by the method, and a processing method for processing a workpiece using the press plate - Google Patents

Method for manufacturing a press plate, a press plate manufactured by the method, and a processing method for processing a workpiece using the press plate Download PDF

Info

Publication number
JP2024085353A
JP2024085353A JP2022212919A JP2022212919A JP2024085353A JP 2024085353 A JP2024085353 A JP 2024085353A JP 2022212919 A JP2022212919 A JP 2022212919A JP 2022212919 A JP2022212919 A JP 2022212919A JP 2024085353 A JP2024085353 A JP 2024085353A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
concave
convex
inkjet
film
fine
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2022212919A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
豊 ▲辻▼川
邦生 斎藤
Original Assignee
ツジカワ株式会社
Filing date
Publication date
Application filed by ツジカワ株式会社 filed Critical ツジカワ株式会社
Publication of JP2024085353A publication Critical patent/JP2024085353A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

【課題】従来の汎用の化学的腐蝕エッチング加工よりも簡単な工程を有する化学的腐蝕エッチング加工であって、所望の凸部、凹部、凹凸部、微細凹凸部、等の所望の形状精度や寸法精度を有し、「版型用基板のエッチングされてはならない領域」の腐蝕エッチングが抑制されてなる所望形状を備えた押圧加工用版の製造方法を提供。
【解決手段】既成凹凸部45を形成してなる版型用基板1の所望領域に、インクジェットレジスト材2をインクジェット方式により付着して所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成し、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成した版型用基板1の表面にエッチング液を接触して、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が付着されていない版型用基板の領域をエッチングすることにより、版型用基板の表面に凹形状で形成されたインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成する押圧加工用版の製造方法。
【選択図】図1

[Problem] To provide a method for manufacturing a pressing plate having a desired shape, in which the desired convex portions, concave portions, uneven portions, fine uneven portions, etc. have the desired shape accuracy and dimensional accuracy, and in which etching of the "areas of the plate mold substrate that should not be etched" is suppressed, using a chemical corrosive etching process that has simpler steps than conventional general-purpose chemical corrosive etching processes.
[Solution] A method for manufacturing a press processing plate, in which an inkjet resist material 2 is applied by an inkjet method to a desired area of a plate mold substrate 1 having a pre-formed uneven portion 45 formed thereon, to form a desired area inkjet resist hardened film 3, and an etching liquid is brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the desired area inkjet resist hardened film 3 has been formed, to etch the areas of the plate mold substrate to which the desired area inkjet resist hardened film 3 is not attached, thereby forming an inkjet resist film etched second recess formation portion 121 formed in a recessed shape on the surface of the plate mold substrate.
[Selected Figure] Figure 1

Description

本発明は、押圧加工により、紙、ダンボール紙、プラスチック製品、シート状転写箔材、金属製品、これらの複合製品、などの被加工物を所定形状に加工するために使用される押圧加工用板の製造方法、及び、その製造方法により製造された押圧加工用版、並びに、その押圧加工用版を用いて被加工物を加工する加工方法に関する。The present invention relates to a method for manufacturing a press processing plate used for processing workpieces such as paper, cardboard, plastic products, sheet-like transfer foil materials, metal products, and composite products of these into a predetermined shape by press processing, a press processing plate manufactured by the manufacturing method, and a processing method for processing a workpiece using the press processing plate.

押圧加工用版としては、その用途に応じて、金属製、プラスチック製、樹脂製、又は、ゴム製であって、箔押用版、型押用版、切抜用刃型、これらを組み合わせた加工用版型などが使用されている。箔押用版は、押圧加工用版に凹凸形状で形成された図文字絵柄模様に一致して転写箔材を被加工物に転写形成するために使用される押圧加工用版である。型押用版は、型押用版に凹凸形状で形成された図文字絵柄模様に一致して被加工物に凹凸形状で形成された図文字絵柄模様を転写形成するために使用される押圧加工用版である。切抜用刃型は、切断切抜用刃型に形成された図文字絵柄模様に一致して被加工物を所定形状に切断又は抜き切断切抜加工を行うために使用される押圧加工用版である。The pressing plate is made of metal, plastic, resin, or rubber depending on the application, and includes a foil stamping plate, an embossing plate, a cutting blade, a processing plate that combines these, etc. The foil stamping plate is a pressing plate used to transfer and form a transfer foil material on a workpiece in accordance with a graphic and letter pattern formed in a concave-convex shape on the pressing plate. The embossing plate is a pressing plate used to transfer and form a graphic and letter pattern formed in a concave-convex shape on a workpiece in accordance with a graphic and letter pattern formed in a concave-convex shape on the embossing plate. The cutting blade is a pressing plate used to cut or punch-cut the workpiece into a predetermined shape in accordance with a graphic and letter pattern formed on the cutting blade.

押圧加工用版を構成した公知の押圧加工装置の概略模式図を図16に示す。図16において、(A)は平板型押圧加工装置であり、上下動自在の第一基盤92の表面に押圧加工用版100が装着され、第一基盤92に対向する位置の上下動自在の第二基盤93に受版94が装着され、これらの押圧加工用版100と受版94との間に被加工物108が配置され、この状態で、第一基盤92と第二基盤93のうちの少なくとも一つが稼働することにより、押圧加工用版100が被加工物108を押圧して、押圧加工用版100に凹凸形状で形成された図文字絵柄模様に一致する図文字絵柄模様が、被加工物に凹凸形状で形成される。
この平板型押圧加工装置において、被加工物108が帯状形状の場合には、第一基盤92と第二基盤93のうちの少なくとも一つの稼働に連動して、押圧加工用版100と受版94との間に、被加工物108が断続的に供給されて所定の凹凸形状に加工形成される。
また、図示されていないが、被加工物が受版94の上に載置できる成形品、等の場合には、第一基盤92と第二基盤93のうちの少なくとも一つの稼働に連動して、押圧加工用版100と受版94との間に、被加工物108を載置供給して、被加工物を押圧加工して、所定形状に加工形成された加工物が得られる。
このようにして、所定の凹凸形状に加工された加工物、及び/又は切断切抜された加工物が得られる。
A schematic diagram of a known pressing device that includes a pressing plate is shown in Fig. 16. In Fig. 16, (A) shows a flat pressing device, in which a pressing plate 100 is attached to the surface of a first base 92 that can move up and down, a receiving plate 94 is attached to a second base 93 that can move up and down at a position opposite to the first base 92, and a workpiece 108 is placed between the pressing plate 100 and the receiving plate 94. In this state, at least one of the first base 92 and the second base 93 is operated, so that the pressing plate 100 presses the workpiece 108, and a graphic character pattern that matches the graphic character pattern formed in a concave-convex shape on the pressing plate 100 is formed in the workpiece in a concave-convex shape.
In this flat plate pressing processing device, when the workpiece 108 has a belt-like shape, the workpiece 108 is intermittently supplied between the pressing processing plate 100 and the receiving plate 94 in conjunction with the operation of at least one of the first base 92 and the second base 93, and is processed into a predetermined uneven shape.
Also, although not shown, in the case where the workpiece is a molded product that can be placed on the receiving plate 94, etc., the workpiece 108 is placed and supplied between the pressing plate 100 and the receiving plate 94 in conjunction with the operation of at least one of the first base 92 and the second base 93, and the workpiece is pressed to obtain a processed product formed into a predetermined shape.
In this manner, a workpiece that has been machined into a predetermined uneven shape and/or a cut-out workpiece is obtained.

図16の(B)は、ロール状押圧装置であり、円筒状又は円柱状を有する回転自在の主ロール96の表面に押圧加工用版100が構成され、回転自在の対ロール97が主ロール96に対向する位置に構成され、これらの主ロール96と対ロール97との間に被加工物108が配置され、この状態で、主ロール96と対ロール97が稼働することにより、押圧加工用版100が被加工物108を押圧して、所定の凹凸形状に加工された加工物が得られる。この場合、押圧加工用版100としては、主ロール96の周囲に装着可能な程度のフレキシブル性を有する押圧加工用版100が可能であり、又は、主ロール96の所定位置に固定治具により固定して設置されたフレキシブル性のない押圧加工用版100も可能である。
又は、主ロール96としては、主ロール96の表面に直接に所定の凹凸形状で形成された図文字絵柄模様を有する構成も実施されている。
対ロール97としては、凹凸を形成しない滑らかな面を有するアンビルロール、又は、主ロールに形成された凹凸形状に係合可能な凹凸形状で形成された凹凸面を有する対ロールも実施されている。
このようなロール状押圧装置においては、主ロール96と対ロール97との間に帯状の被加工物108が連続して供給され、この状態で、主ロール96と対ロール97が稼働することにより、主ロール96と対ロール97とが被加工物108を押圧して、所定の凹凸形状に加工された加工物、及び/又は切断切抜された加工物が得られる。
16B shows a roll-shaped pressing device, in which a pressing plate 100 is formed on the surface of a rotatable main roll 96 having a cylindrical or columnar shape, a rotatable counter roll 97 is formed in a position facing the main roll 96, and a workpiece 108 is placed between the main roll 96 and the counter roll 97. In this state, the main roll 96 and the counter roll 97 are operated, so that the pressing plate 100 presses the workpiece 108 to obtain a workpiece processed into a predetermined uneven shape. In this case, the pressing plate 100 can be a pressing plate 100 having a flexibility that can be attached around the main roll 96, or a pressing plate 100 with no flexibility that is fixed and installed at a predetermined position on the main roll 96 by a fixing jig is also possible.
Alternatively, the main roll 96 may have a graphic, letter, and design pattern formed in a predetermined concave-convex shape directly on the surface of the main roll 96 .
The counter roll 97 may be an anvil roll having a smooth surface with no irregularities, or a counter roll having an irregular surface formed with irregularities that can engage with the irregularities formed on the main roll.
In such a roll-shaped pressing device, a strip-shaped workpiece 108 is continuously supplied between the main roll 96 and the counter roll 97, and in this state, the main roll 96 and the counter roll 97 operate to press the workpiece 108, thereby obtaining a workpiece that has been processed into a predetermined uneven shape and/or a cut-out workpiece.

被加工物としては、紙類、各種プラスチック材料、ゴム、軟質材料、柔軟材料、皮革、布、金属などの種々の材料、及び、段ボール紙、プラスチック製品、皮革製品、布製品、金属製品、エンブレムなどの各種製品、並びに、ラベル、接着テープ、粘着剤、貼付剤などの複数の材料から構成された複合構成製品などの種々の被加工物が使用されている。The workpieces used include various materials such as paper, various plastic materials, rubber, soft materials, flexible materials, leather, cloth, metal, and various products such as cardboard, plastic products, leather products, cloth products, metal products, emblems, and composite products made up of multiple materials such as labels, adhesive tapes, pressure sensitive adhesives, and patches.

押圧加工用版が箔押用版である場合、箔押用版の表面には、所定の文字・数字・模様・紋様・図柄・絵柄・画像、等の図文字絵柄模様が凹凸形状で形成されている。その箔押用版を、転写箔材料を介して被加工物に押圧することにより、凹凸形状で形成された図文字絵柄模様に合致する転写箔材料により形成された図文字絵柄模様が、被加工物の表面に転写形成される。被加工物としては、紙、紙類、各種プラスチック材料、皮革、木材、布、金属などの殆どののあらゆる材料が使用可能であり、包装容器、包装紙、装飾用品、本、ラベル、プラスチッ製品、皮革製品、布製品、金属製品、エンブレム等の各種製品に応用されている。このような凹凸部を形成した箔押用版は、支持板や受部、等の対向基板を備えた押圧加工装置に設置構成され、箔押用版と対向基板のうちの少なくとも一方が駆動することにより、箔押用版と対向基板とが互いに押圧されて、凹凸形状で形成された図文字絵柄模様に一致する箔押転写された図文字絵柄模様が、被加工物の表面に転写形成される。When the pressing plate is a foil stamping plate, a graphic pattern such as a predetermined letter, number, design, pattern, design, picture, image, etc. is formed in an uneven shape on the surface of the foil stamping plate. By pressing the foil stamping plate against the workpiece via a transfer foil material, a graphic pattern formed by the transfer foil material that matches the graphic pattern formed in the uneven shape is transferred and formed on the surface of the workpiece. Almost any material can be used as the workpiece, such as paper, various plastic materials, leather, wood, cloth, metal, etc., and it is applied to various products such as packaging containers, wrapping paper, decorative items, books, labels, plastic products, leather products, cloth products, metal products, emblems, etc. A foil stamping plate having such an uneven portion formed thereon is installed in a pressing processing device having an opposing substrate such as a support plate or a receiving portion, and by driving at least one of the foil stamping plate and the opposing substrate, the foil stamping plate and the opposing substrate are pressed against each other, and a foil-transferred graphic character pattern that matches the graphic character pattern formed in the uneven shape is transferred and formed on the surface of the workpiece.

一般に、箔押用版は鋼鉄、真鍮、銅、マグネシウム、ステンレス、その他の金属、プラスチック、又は、樹脂、等の材料により作製され、対向基板は金属、プラスチック、樹脂、ゴム、その他の材料により作製されている。箔押用版の表面に、所定図文字絵柄模様が凹凸形状で刻設されている。
箔押用版と被加工物との間に転写箔材料が位置する状態で、箔押用版と対向基板とが互いに押圧されることにより、箔押用版表面と対向基板表面のそれぞれの全領域が、同時に、押圧接触されて、転写箔材料により形成された所定の図文字絵柄模様、が凹凸形状で被加工物の表面に転写形成される。この際、熱盤を使用して加熱された箔押用版により押圧加工する押圧加工システムも使用され、いわゆるホットスタンピング押圧加工システムも使用されている。また、このような押圧加工システムおいて、一個の箔押用版が使用される場合と、複数個の箔押用版が同時に使用される場合とがある。
Generally, the stamping plate is made of steel, brass, copper, magnesium, stainless steel, other metals, plastics, resins, etc., and the counter substrate is made of metal, plastics, resins, rubber, etc. A predetermined graphic, letter, and picture pattern is engraved in an uneven shape on the surface of the stamping plate.
With the transfer foil material between the stamping plate and the workpiece, the stamping plate and the opposing substrate are pressed against each other, so that the entire areas of the stamping plate surface and the opposing substrate surface are simultaneously pressed into contact with each other, and a predetermined graphic, letter, and pattern formed by the transfer foil material is transferred and formed in an uneven shape onto the surface of the workpiece. At this time, a pressing system is also used in which pressing is performed using a stamping plate heated by a hot platen, and a so-called hot stamping pressing system is also used. In addition, in such a pressing system, there are cases where one stamping plate is used and cases where multiple stamping plates are used simultaneously.

押圧加工用版が型押用版である場合、型押用版は、転写箔材料を使用することなく、紙類、プラスチック、皮革、木材、布、ラミネート材料等の加工製品に直接に型押用版を押圧して、型押用版に刻設された所定の凹凸形状で形成された図文字絵柄模様を、被加工物の表面に転写して型押加工するための押圧加工システムに使用される。このような押圧加工システムは、上記の箔押押圧加工システムと同様に型押用版と対向基板とより構成され、その型押用版の表面に図文字絵柄模様が凹凸形状で形成されている。例えば、型押用版と対向基板のうちの少なくとも一方が駆動することにより型押用版と対向基板とが互いに押圧される。被加工物が対向基板と型押用版との間に位置する状態で、型押用版と対向基板とが互いに押圧されることにより、型押用版表面と対向基板表面のそれぞれの全領域が、同時に、被加工物を介して、互いに押圧されて、所定の図文字絵柄模様が凹凸形状で被加工物に転写形成される。このような押圧加工システムおいて、使用される被加工物としては、紙、紙類、軟質プラスチック材料、皮革、木材、布、等の、押圧により圧縮変形する材料が使用可能である。また、一個の型押用版が使用される場合と、複数個の型押用版が同時に使用される場合とがある。When the pressing plate is an embossing plate, the embossing plate is used in a pressing system for pressing the embossing plate directly onto a processed product such as paper, plastic, leather, wood, cloth, laminate material, etc., without using a transfer foil material, to transfer the graphic, letter, and picture pattern formed in a predetermined concave-convex shape engraved on the embossing plate to the surface of the workpiece for embossing. This pressing system is composed of an embossing plate and an opposing substrate, similar to the above-mentioned foil pressing system, and the graphic, letter, and picture pattern is formed in a concave-convex shape on the surface of the embossing plate. For example, the embossing plate and the opposing substrate are pressed against each other by driving at least one of the embossing plate and the opposing substrate. When the workpiece is located between the opposing substrate and the embossing plate, the embossing plate and the opposing substrate are pressed against each other, so that the entire areas of the embossing plate surface and the opposing substrate surface are pressed against each other simultaneously through the workpiece, and the predetermined graphic, letter, and picture pattern is transferred and formed in a concave-convex shape on the workpiece. In such a pressing system, the workpieces that can be used include materials that are compressed and deformed by pressing, such as paper, paper products, soft plastic materials, leather, wood, cloth, etc. Also, there are cases where one embossing plate is used and cases where multiple embossing plates are used simultaneously.

押圧加工用版が切断切抜用刃型である場合、切断切抜用刃型は、紙類、プラスチック、皮革、木材、布、ラミネート材料、貼付剤シート、転写箔材料、等の薄片状の被加工物に切抜用刃型を押圧することにより、薄片状被加工物を所定形状に切断加工又は抜き加工するための押圧加工システムに使用される。切断切抜用刃型には、凹凸の刃形状で所定の刃が形成され、この刃の形状に一致して加工製品が切断又は抜き加工される。このような押圧加工システムは、上記の型押用版または箔押用版を使用した押圧加工システムと類似して、切抜用刃型と対向基板とより構成され、その切断切抜用刃型の表面に凹凸形状の刃型パターンが形成されている。例えば、切断切抜用刃型と対向基板のうちの少なくとも一方が駆動することにより切断切抜用刃型と対向基板とが互いに押圧される機構である。被加工物が対向基板と切断切抜用刃型との間に位置する状態で、切断切抜用刃型と対向基板とが互いに押圧されることにより、切断切抜用刃型表面と対向基板表面のそれぞれの全領域が、同時に、被加工物を介して、互いに押圧されて、被加工物の所定の領域が所定の形状で切断または抜き加工される。なお、このような押圧加工システムにおいて、一個の切抜用刃型が使用される場合と、複数個の切断切抜用刃型が同時に使用される場合とがある。また、このような切断・抜き加工と同時に、上記の箔押し加工または型押し加工とを併用して同時加工することも可能である。When the pressing plate is a cutting blade, the cutting blade is used in a pressing system for cutting or punching a thin workpiece such as paper, plastic, leather, wood, cloth, laminate material, patch sheet, transfer foil material, etc. into a predetermined shape by pressing the cutting blade against the thin workpiece. A predetermined blade with a concave and convex blade shape is formed on the cutting blade, and the processed product is cut or punched in accordance with the shape of this blade. This pressing system is similar to the pressing system using the above-mentioned embossing plate or foil stamping plate, and is composed of a cutting blade and an opposing substrate, and a blade pattern with a concave and convex shape is formed on the surface of the cutting blade. For example, it is a mechanism in which at least one of the cutting blade and the opposing substrate is driven to press the cutting blade and the opposing substrate against each other. With the workpiece positioned between the opposing substrate and the cutting and cutting die, the cutting and cutting die and the opposing substrate are pressed against each other, so that the entire areas of the cutting and cutting die surface and the opposing substrate surface are simultaneously pressed against each other via the workpiece, and a predetermined area of the workpiece is cut or punched into a predetermined shape. In this type of pressing system, one cutting and cutting die may be used, or multiple cutting and cutting die may be used at the same time. In addition, the above-mentioned foil stamping or embossing may be used simultaneously with the cutting and punching.

このような押圧加工用版として、例えば下記の技術が知られている。
特開2002-99196号公報には、押圧加工用版としての箔押用版であるホットスタンプ版と、対向基板としての受け部との間に、転写箔材料としてのホログラム転写箔と、被加工物を構成した押圧転写加工方法が開示されている。
また、実公平7-55065号公報には、箔押用版としてのホットスタンピング加工用版型と、対向基板としての支持台との間に、転写箔材料としての転写箔と、被加工物としての被転写物を構成したホットスタンピング転写機が開示され、特に、加工用版型の凹凸で形成されている凹部にゴム素材を付着して、凸部と同一平面となるように加工用版型の表面を形成した加工用版型が開示されている。
また、実用新案登録第3130674号公報には、図文字絵柄模様が凹凸形状で刻設された加工用版型の表面の少なくとも一方向の表面が、曲面形状またはアール形状の頂部と、その頂部から離れるにしたがって連続的に滑らかに低くなるような傾斜面とからなる表面形状を有する加工用版型と、対向基板としての平面形状表面を有する支持板と、その加工用版型と支持板との間に位置する転写箔材料としての転写箔フィルムと、加工製品としての被転写物を構成した平圧式転写装置が開示されている。
For example, the following techniques are known for such press processing plates.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-99196 discloses a pressure transfer processing method in which a hologram transfer foil as a transfer foil material and a workpiece are placed between a hot stamp plate, which is a foil stamping plate as a pressure processing plate, and a receiving portion as an opposing substrate.
Furthermore, Japanese Utility Model Publication No. 7-55065 discloses a hot stamping transfer machine in which a hot stamping processing mold as a foil stamping plate and a support table as an opposing substrate are sandwiched between a transfer foil as a transfer foil material and an object to be transferred as a workpiece, and in particular, a processing mold is disclosed in which a rubber material is attached to the recesses formed by the unevenness of the processing mold, and the surface of the processing mold is formed so as to be flush with the protrusions.
In addition, Utility Model Registration No. 3130674 discloses a flat pressure transfer device which comprises a processing plate on which a graphic, letter, and design pattern is engraved in an uneven shape, at least one surface of which has a surface shape consisting of a curved or radiused top and a sloping surface that continuously and smoothly becomes lower as it moves away from the top, a support plate having a flat surface as an opposing substrate, a transfer foil film as a transfer foil material located between the processing plate and the support plate, and a transfer target as a processed product.

特開平8-85099号公報には、化学的腐食エッチング加工により、高刃部と低刃部とを有する抜き型の製造方法が開示され、また、エッチングの後、低刃部先端をヤスリ等で丸く機械加工する方法が記載され、さらに、従来技術として、エッチング後に、グラインダ等で削り低刃を形成する方法も開示されている。
再表2002-53332号公報には、エッチングによりフレキシブルベースとこのベースから突出する突部を形成した後、その突部の側面を切削して垂直突部を形成し、次いで垂直突部の先端に両刃または片刃の刃先を加工して押切刃を形成するフレキシブルダイ及びフレキシブルダイの製造方法が開示され、これにより、押切刃の根元側面の幅を、従来のフレキシブルダイの根元側面の幅よりも小さくすることができ、厚みの厚い材料を打抜く場合であっても、材料の加工部分の上下の寸法の差を小さくすることができ、加工精度を高めることができ、しかも、垂直突部の先端のみに刃先加工しているので、材料を打抜く際に押切刃に掛かる圧力が小さくて済み、押切刃の耐久性が向上し、生産性の向上とともに製品コストを抑えることができる効果が開示されている。
Japanese Patent Laid-Open Publication No. 8-85099 discloses a method for manufacturing a die having a high cutting edge and a low cutting edge by chemical corrosive etching, and also describes a method in which, after etching, the tip of the low cutting edge is machined to be rounded with a file or the like. Furthermore, as prior art, a method in which, after etching, the low cutting edge is formed by grinding with a grinder or the like is also disclosed.
REPRESENTATION No. 2002-53332 discloses a flexible die and a method for manufacturing a flexible die in which a flexible base and a protrusion protruding from the base are formed by etching, the side of the protrusion is cut to form a vertical protrusion, and then a double-edged or single-edged cutting edge is machined onto the tip of the vertical protrusion to form a cutting blade, thereby making it possible to make the width of the base side of the cutting blade smaller than the width of the base side of a conventional flexible die, and even when punching thick material, it is possible to reduce the dimensional difference between the top and bottom of the processed part of the material, thereby improving processing accuracy, and moreover, because the cutting edge is machined only on the tip of the vertical protrusion, less pressure is applied to the cutting blade when punching the material, improving the durability of the cutting blade and enabling productivity to be improved while reducing product costs.

凹部と、該凹部から突出した突起部とを備え、その突起部の表面に、複数の凹部と複数の凸部とを有する複数の凹凸部が形成されてなる押圧加工用版を製造する場合、従来、一般に、押圧加工用版の製造方法としては、機械的加工による製造方法と、化学的腐蝕エッチング加工による製造方法と、化学的腐蝕エッチング加工と機械的加工との組み合わせによる製造方法とが知られている。
なお、一般に、凹部の深さ寸法(「凸部の高さ寸法」と同じ意味)は、被加工物の種類により異なるが、約0.5mm以上である。また、凹部または凸部の幅寸法は、特に制限はなく、所望の寸法である。
When manufacturing a plate for pressing processing which has a recess and a protrusion protruding from the recess, and in which a plurality of uneven portions having a plurality of recesses and a plurality of protrusions are formed on the surface of the protrusion, conventionally, the following methods have generally been known for manufacturing a plate for pressing processing: a manufacturing method using mechanical processing, a manufacturing method using chemical corrosive etching processing, and a manufacturing method using a combination of chemical corrosive etching processing and mechanical processing.
Generally, the depth of the recess (which has the same meaning as the height of the protrusion) varies depending on the type of workpiece, but is about 0.5 mm or more. There is no particular restriction on the width of the recess or protrusion, and it may be any desired dimension.

従来の、機械的加工による押圧加工用版の製造方法を説明する概略断面模式図を図18に示す。図18において、(A)表面が凹凸のない無凹凸部を有する厚さ寸法が約3mmの版型用基板1を準備し、(B)版型用基板1の表面の所望の領域を機械的に切削加工して、複数の凹形状の既成複数凹凸部凹部452を形成するとともに、既成複数凹凸部凹部452から突出する複数の既成複数凹凸部凸部451を形成して、既成複数凹凸部45を形成する。この場合、既成複数凹凸部凹部452の深さ寸法「D1」(既成複数凹凸部凸部451の高さ寸法「D1」)は、例えば、約0.9mmである。
(C)次に、上記のようにして形成した複数の既成複数凹凸部凹部452と複数の既成複数凹凸部凸部451とよりなる既成複数凹凸部45の周囲を機械加工により切削加工して、従来慣用第二凹形成部121aを形成し、これにより、複数の既成複数凹凸部凸部451と複数の既成複数凹凸部凹部452とを有する従来慣用の機械加工により形成された従来慣用機械加工凹凸部突出部450と、従来慣用第二凹形成部121aとを形成した押圧加工用版が製造される。この場合、従来慣用第二凹形成部121aの深さ寸法「D12a」は、例えば、約2mmである。
A schematic cross-sectional view illustrating a conventional method for manufacturing a pressing plate by mechanical processing is shown in Fig. 18. In Fig. 18, (A) a plate mold substrate 1 having a thickness of about 3 mm and a non-relief portion on the surface is prepared, and (B) a desired area on the surface of the plate mold substrate 1 is mechanically cut to form a plurality of concave-shaped pre-formed multiple concave-convex portions 452, and a plurality of pre-formed multiple concave-convex portions 451 protruding from the pre-formed multiple concave-convex portions 452 are formed to form the pre-formed multiple concave-convex portions 45. In this case, the depth dimension "D1" of the pre-formed multiple concave-convex portions 452 (height dimension "D1" of the pre-formed multiple concave-convex portions 451) is, for example, about 0.9 mm.
(C) Next, the periphery of the pre-formed multiple concave-convex portion 45 consisting of the pre-formed multiple concave-convex portion concaves 452 and the pre-formed multiple concave-convex portion convexs 451 formed as described above is cut by machining to form the conventional second concave-forming portion 121a, thereby manufacturing a pressing plate having the conventional machined concave-convex portion protrusion 450 formed by conventional machining having the pre-formed multiple concave-convex portion convexs 451 and the pre-formed multiple concave-convex portion concaves 452 and the conventional second concave-forming portion 121a. In this case, the depth dimension "D12a" of the conventional second concave-forming portion 121a is, for example, about 2 mm.

従来の、慣用の化学的腐蝕エッチング加工により既成複数凹凸部45を形成した後、更に、該既成複数凹凸部45の周囲を、機械加工により加工して、従来慣用の機械加工により形成された従来慣用機械加工凹凸部突出部450を形成する製造方法を説明する概略断面模式図を図19に示す。
図19において、(A)厚さ寸法が約3mmの版型用基板1の表面の所望の領域に従来の慣用の慣用レジスト材20を付着し、(液状レジスト材を使用した場合には、更に乾燥し)、(B)その慣用レジスト材を覆って所定の図文字絵柄模様を開口形成してなる露光用マスク部材23を設置して、露光用マスク部材を介して版型用基板に付着した慣用レジスト材に紫外線等を照射して露光して慣用レジスト材を化学的に変質し、(C)不要部分のレジスト材を溶解除去して現像して、露光用マスク部材の図文字絵柄模様に一致するレジスト硬化膜30を形成し、必要に応じてアフターベーキングし、(D)その慣用レジスト硬化膜30を形成した版型用基板100の表面にエッチング液を接触して、慣用レジスト材30が付着されていない版型用基板面が露出している領域の版型用基板表面を腐蝕溶解(エッチング)して凹形状の従来慣用凹凸部凹部452を形成し、(E)慣用レジスト硬化膜を除去し、これにより、凹形状の既成複数凹凸部凹部452を形成するとともに、凸形状の既成複数凹凸部凸部451を形成して、既成凹凸部45を形成する。この場合、既成複数凹凸部凹部452の深さ寸法D1(既成複数凹凸部凸部451の高さ寸法D1)は、例えば、約0.9mmである。
(F)さらに、上記のようにして形成した複数の凹形状の既成複数凹凸部凹部452と凸形状の既成複数凹凸部凸部451とよりなる既成凹凸部45の周囲を機械加工により切削加工して、従来慣用第二凹形成部121aを形成し、これにより、複数の既成複数凹凸部凸部451と複数の既成複数凹凸部凹部452とを有する従来慣用の機械加工により形成された従来慣用機械加工凹凸部突出部450と、従来慣用第二凹形成部121aとを形成した押圧加工用版が製造されている。この場合、従来慣用第二凹形成部121aの深さ寸法「D12a」は、例えば、約2mmである。
FIG. 19 is a schematic cross-sectional view illustrating a manufacturing method in which a preformed multiple uneven portion 45 is formed by conventional, conventional chemical corrosion etching processing, and then the periphery of the preformed multiple uneven portion 45 is machined to form a conventional machined uneven portion protrusion 450 formed by conventional, conventional machining.
In FIG. 19, (A) a conventional resist material 20 is applied to a desired area on the surface of a plate mold substrate 1 having a thickness of about 3 mm (if a liquid resist material is used, it is further dried), (B) an exposure mask member 23 is placed covering the conventional resist material and having openings formed therein with a predetermined graphic, letter, and design pattern, and the conventional resist material attached to the plate mold substrate is exposed to ultraviolet light or the like through the exposure mask member to chemically alter the conventional resist material, and (C) the resist material in the unnecessary portion is dissolved and removed and developed to match the graphic, letter, and design pattern on the exposure mask member. (D) an etching solution is brought into contact with the surface of the plate mold substrate 100 on which the conventional resist hardened film 30 is formed, and the surface of the plate mold substrate in the region where the plate mold substrate surface to which the conventional resist material 30 is not attached is exposed, thereby forming a concave conventional conventional uneven portion concave portion 452, and (E) the conventional resist hardened film is removed, thereby forming a concave pre-formed multiple uneven portion concave portion 452 and a convex pre-formed multiple uneven portion convex portion 451, thereby forming the pre-formed uneven portion 45. In this case, the depth dimension D1 of the pre-formed multiple uneven portion concave portion 452 (height dimension D1 of the pre-formed multiple uneven portion convex portion 451) is, for example, about 0.9 mm.
(F) Furthermore, the periphery of the existing uneven portion 45 consisting of the multiple concave-shaped existing uneven portion concaves 452 and the convex-shaped existing uneven portion convex portions 451 formed as described above is cut by machining to form the conventional second concave-forming portion 121a, thereby manufacturing a pressing plate having the conventional machined uneven portion protrusion 450 formed by conventional machining having the multiple existing uneven portion convex portions 451 and the multiple existing uneven portion concaves 452, and the conventional second concave-forming portion 121a. In this case, the depth dimension "D12a" of the conventional second concave-forming portion 121a is, for example, about 2 mm.

図19の(A)において、一般に、従来の慣用の慣用レジスト材20としては、慣用液状レジスト材、又は、シート状フィルム形状の慣用ドライフィルムレジスト材が使用されている。
従来、一般に、慣用液状レジスト材は、従来の慣用のスクリーン印刷方式、スプレーコート方式、カーテンコート方式、等により、版型用基板の所望の領域に付着形成される。
スクリーン印刷方式は、所定の貫通孔を形成したスクリーン印刷版を介して版型用基板の所望の領域に液状レジスト材を付着する方式である。スプレーコート方式は、所定の多数の微細穴を有するノズルからスプレー状で液状レジスト材を吹き付けて版型用基板の所望の領域に付着する方式である。
慣用ドライフィルムレジスト材は、接着方式により、版型用基板の所望の領域に付着されている。
図19の(B)、(C)において、露光用マスク部材を使用することなく、直接に、レーザー、電子線等を照射して慣用レジスト材を化学的に変質する方法も実施されている。
In FIG. 19A, a conventional resist material 20 is generally a conventional liquid resist material or a conventional dry film resist material in the form of a sheet film.
Conventionally, conventional liquid resist materials are generally applied to desired areas of a plate mold substrate by conventional screen printing, spray coating, curtain coating, or the like.
The screen printing method is a method in which a liquid resist material is applied to desired areas of a plate mold substrate via a screen printing plate with a predetermined number of through holes, while the spray coating method is a method in which a liquid resist material is sprayed from a nozzle with a predetermined number of fine holes to apply to desired areas of a plate mold substrate.
Conventional dry film resist materials are adhered to the desired areas of the plate substrate by an adhesive system.
In FIGS. 19B and 19C, a method is also practiced in which a conventional resist material is chemically altered by directly irradiating it with a laser, electron beam, or the like without using an exposure mask member.

実公平7-55065号公報Japanese Utility Model Publication No. 7-55065 特開2002-99196号公報JP 2002-99196 A 実用新案登録第3130674号公報Utility Model Registration No. 3130674 特開平8-85099号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-85099 再表2002-53332号公報Publication No. 2002-53332

従来、凹部と該凹部から突出した突起部とを備え、その突起部の表面に、複数の凹部と複数の凸部とを有する複数の凹凸部が形成されてなる押圧加工用版を製造する場合、一般に、押圧加工用版の製造方法としては、機械的加工による製造方法と、化学的腐蝕エッチング加工による製造方法と、化学的腐蝕エッチング加工と機械的加工との組み合わせによる製造方法とが知られている。
前述の図18に示されるような機械的加工による製造方法、及び、図19に示されるような化学的腐蝕エッチング加工と機械的加工との組み合わせによる製造方法において、機械的加工は、高価な精密な機械加工装置が必要、所望の精密精度で加工できる熟練した機械加工技術者が必要、等の理由により、従来の化学的腐蝕エッチング加工と比べて、製造コスト及び技術保有人材的に劣る傾向がある、という課題がある。
Conventionally, when manufacturing a plate for pressing processing which has a recess and a protrusion protruding from the recess, and in which a plurality of uneven portions having a plurality of recesses and a plurality of protrusions are formed on the surface of the protrusion, the following methods are generally known for manufacturing a plate for pressing processing: a manufacturing method using mechanical processing, a manufacturing method using chemical corrosive etching processing, and a manufacturing method using a combination of chemical corrosive etching processing and mechanical processing.
In the manufacturing method using mechanical processing as shown in FIG. 18 described above, and the manufacturing method using a combination of chemical corrosive etching processing and mechanical processing as shown in FIG. 19, there are problems in that mechanical processing tends to be inferior in terms of manufacturing costs and technical personnel, compared to conventional chemical corrosive etching processing, for reasons such as the need for expensive precision machining equipment and skilled machining engineers who can process with the desired precision.

また、従来の化学的腐蝕エッチング加工において、従来の汎用の慣用液状のレジスト材を使用して従来慣用のスプレーコート方式、スクリーン印刷方式、カーテンコート方式、スピンコート方式、等の従来のレジスト塗布方式によりレジスト付着膜を形成し、そのレジスト付着膜を、露光用マスク部材を介して露光して、所望形状を有する慣用レジスト硬化膜を形成して、その慣用レジスト硬化膜をエッチング用マスクとして基板を腐蝕エッチングする腐蝕エッチング加工は、凹部及び凸部の高さ寸法や凹部の深さ寸法、等の高い高さや深い深さを形成する目的の場合、形状精度や寸法精度、等の加工精度に劣るという課題がある。Furthermore, in conventional chemical corrosive etching processes, a resist deposition film is formed using a conventional general-purpose conventional liquid resist material by a conventional resist application method such as a conventional spray coating method, screen printing method, curtain coating method or spin coating method, the resist deposition film is exposed through an exposure mask member to form a conventional hardened resist film having a desired shape, and a substrate is corroded and etched using the conventional hardened resist film as an etching mask. However, when the purpose is to form high heights or deep depths such as the height dimensions of recesses and protrusions or the depth dimensions of recesses, the processing accuracy is poor in terms of shape accuracy, dimensional accuracy, and the like.

また、一般に、慣用レジスト付着膜の厚さは約50μm(約0.05mm)未満である。
塗布、付着された慣用レジスト付着膜材の厚さが約50μm以上の場合には、厚さが厚くなるに従って慣用レジスト付着膜材の平面領域の厚さのバラツキが大きくなり、均一な慣用レジスト付着膜を形成できなくなる傾向があり、そのために、露光用マスク部材を使用する紫外線等の露光時において露光にバラツキが生じて、所望の形状精度や寸法精度を有する現像された慣用レジスト硬化膜を形成できなくなり、その結果、その慣用レジスト硬化膜をエッチング用マスクとして版型容器場を腐蝕エッチングしたときに、所望の形状精度や寸法精度を有する凹凸部を形成できなく、エッチング加工精度が劣るという課題がある。
Also, typically, conventional resist deposits are less than about 50 μm (about 0.05 mm) thick.
When the thickness of the applied or adhered conventional resist film material is about 50 μm or more, as the thickness increases, the variation in the thickness of the planar region of the conventional resist film material increases, and there is a tendency that a uniform conventional resist film cannot be formed. As a result, during exposure to ultraviolet light or the like using an exposure mask member, variation in exposure occurs, making it impossible to form a developed conventional resist hardened film having the desired shape accuracy and dimensional accuracy. As a result, when the conventional resist hardened film is used as an etching mask to corrode and etch a plate-shaped container field, it is not possible to form uneven parts having the desired shape accuracy and dimensional accuracy, resulting in a problem of poor etching processing accuracy.

特に、所望の凹部や凸部の側面に汎用の慣用液状レジスト材を付着しようとする場合に、側面に塗布された慣用液状レジスト材が凹部底面側に流れ落ちて、凸部や凹部の側面の所望の領域に慣用液状レジスト材を付着させるすることが困難であり、その付着形成した慣用レジスト硬化膜をエッチング用マスクとして版型用基板を腐蝕エッチングした場合に、所望の凹部や凸部等の凹凸部を形成することが不可能であり、所望の、形状精度や寸法精度、等の加工精度に劣るという課題がある。
従来慣用のスプレーコート方式、スクリーン印刷方式、カーテンコート方式、スピンコート方式、等の従来のレジスト塗布方式により、版型用基板に形成された凹凸部の凹部の窪み全体を埋めて、凹部の側面及び凸部の側面に慣用レジスト硬化膜を形成しようとした場合においても、上記と同様に、慣用レジスト硬化膜の厚さのバラツキが大きくなり均一な慣用レジスト硬化膜を形成できなくなり、そのために、そのために、露光用マスク部材を使用する紫外線等の露光時において露光にバラツキが生じ、そのために、寸法精度が低下して、所望の形状精度や寸法精度を有する現像された慣用レジスト硬化膜を形成できなく、その結果、その慣用レジスト硬化膜をエッチング用マスクとして腐蝕エッチングしたときに、所望の形状精度や寸法精度を有する凹凸部を形成できなく、エッチング加工精度が劣るという課題がある。
In particular, when attempting to adhere a general-purpose conventional liquid resist material to the side surfaces of desired recesses or protrusions, the conventional liquid resist material applied to the side surfaces flows down to the bottom surface of the recesses, making it difficult to adhere the conventional liquid resist material to the desired areas on the side surfaces of the protrusions or recesses. When the conventional resist cured film thus formed is used as an etching mask to corrode and etch a plate mold substrate, it is impossible to form the desired recesses, protrusions, and other uneven parts, resulting in a problem of inferior processing accuracy, such as the desired shape accuracy and dimensional accuracy.
Even when an attempt is made to fill the entire recesses of the concaves of the unevenness formed on the plate mold substrate by a conventional resist coating method such as a conventional spray coating method, a screen printing method, a curtain coating method, a spin coating method, or the like, and form a conventional resist hardened film on the side surfaces of the concaves and the convexities, as described above, the thickness of the conventional resist hardened film varies greatly and a uniform conventional resist hardened film cannot be formed. As a result, exposure to ultraviolet light or the like using an exposure mask member varies, and the dimensional accuracy decreases, making it impossible to form a developed conventional resist hardened film having the desired shape accuracy and dimensional accuracy. As a result, when the conventional resist hardened film is used as an etching mask to perform corrosion etching, it is impossible to form unevenness having the desired shape accuracy and dimensional accuracy, and there is a problem that the etching processing accuracy is poor.

従来の汎用のシート状の慣用ドライフィルムレジスト材を使用してレジスト硬化膜を形成する腐蝕エッチング加工は、凹部及び凸部の高さ寸法や凹部の深さ寸法、等の高い高さや深い深さを形成する目的において、形状精度や寸法精度、等の加工精度に劣るという課題がある。特に、凹凸部の表面を有する版型用基板を使用して、その凹凸部を有する版型用基板に、更に、所望の凹部や凸部等の凹凸部を形成する場合に、凹凸部の表面を有する版型用基板と慣用ドライフィルムレジスト材との密着性が不十分になって、版型用基板と慣用ドライフィルムレジスト材との間に隙間が発生し、凹部側面や凹部底面がレジスト材により覆われることなく、レジスト材と基板との隙間を通じてもエッチングが生じ、その結果、所望の、形状精度や寸法精度、等の加工精度に劣るという課題がある。The corrosive etching process for forming a resist hardened film using a conventional general-purpose sheet-like conventional dry film resist material has a problem of poor processing accuracy such as shape accuracy and dimensional accuracy when forming high heights and deep depths such as the height dimensions of concaves and convexities and the depth dimensions of concaves. In particular, when a plate mold substrate having a concave-convex surface is used and a desired concave-convex portion is further formed on the plate mold substrate having the concave-convex surface, the adhesion between the plate mold substrate having the concave-convex surface and the conventional dry film resist material becomes insufficient, a gap occurs between the plate mold substrate having the concave-convex surface and the conventional dry film resist material, and etching occurs through the gap between the resist material and the substrate without the side surface and the bottom surface of the concave portion being covered by the resist material, resulting in a problem of poor processing accuracy such as desired shape accuracy and dimensional accuracy.

また、従来技術において、凹部と該凹部から突出した突起部とを備え、その突起部の表面に、複数の凹部と複数の凸部とを有する複数の凹凸部が形成されてなる押圧加工用版を製造する場合、複数の凹部と複数の凸部のそれぞれの凹部と凸部の側面がエッチングされてしまって、その結果、所望の凹凸を有する突出部を形成できないという、課題がある。Furthermore, in the conventional technology, when manufacturing a pressing plate having a recess and a protrusion protruding from the recess, with multiple uneven portions having multiple recesses and multiple protrusions formed on the surface of the protrusion, there is a problem in that the side surfaces of each of the multiple recesses and multiple protrusions are etched, and as a result, it is not possible to form a protrusion having the desired unevenness.

このような、凹部と該凹部から突出した突起部とを備え、その突起部の表面に、複数の凹部と複数の凸部とを有する複数の凹凸部が形成されてなる押圧加工用版を製造する場合、従来の、化学的腐蝕エッチング加工による製造方法の一例を、図20を用いて説明する。
図20は、従来の慣用レジスト材を使用した化学的腐蝕エッチング工程により押圧加工用版を製造する模式的工程説明図である。
図20において、(A)機械加工、又は、従来の慣用レジスト材を使用した化学的腐蝕エッチング加工により、複数の既成複数凹凸部凸部451と複数の既成複数凹凸部凹部452とを有る既成複数凹凸部45を形成した版型用基板を準備する。既成複数凹凸部凹部452の深さ寸法D1(既成複数凹凸部凸部451の高さ寸法と同じ)は、約0.9mmである。
(B)その既成複数凹凸部45の表面に従来の慣用液状レジスト材20を付着する。この場合、既成複数凹凸部凹部452の凹部側面に慣用液状レジスト材が付着することなく、既成複数凹凸部凹部452の底面に落ちてしまう傾向がある。既成複数凹凸部凸部451の上面と既成複数凹凸部凹部452の底面に付着された慣用液状レジスト材20の厚さは、約10μm(約0.01mm)以上であって、約50μm(約0.05mm)未満である。
(C)既成複数凹凸部45の表面に付着した慣用液状レジスト材を覆って、予め準備した露光用マスク部材23を設置して、その後、(D)紫外線照射等の露光、現像、硬化、等を行って、所望形状を有する慣用レジスト硬化膜30を形成する。
(E)慣用レジスト硬化膜30を付着した基板にエッチング液を接触させて、慣用レジスト硬化膜30が付着していない領域の版型用基板の表面の腐蝕エッチングを行い、既成複数凹凸部45の周囲領域を、エッチング途中のエッチング深さ寸法「D3」が約1mmの深さ迄、腐蝕エッチングして、エッチング途中の腐蝕第二凹形成部121bを形成する。
(F)更に続けて、既成複数凹凸部45の周囲領域の深さが所定深さになる迄、腐蝕エッチングを続行して、深さ寸法「D12a」が約2mmの従来慣用第二凹形成部121aを形成する。
(G)慣用レジスト硬化膜30を除去する。
When manufacturing a pressing plate having a recess and a protrusion protruding from the recess, with multiple projections having multiple recesses and multiple protrusions formed on the surface of the protrusion, an example of a conventional manufacturing method using chemical corrosive etching will be described with reference to Figure 20.
FIG. 20 is a schematic process diagram for producing a pressing plate by a chemical etching process using a conventional resist material.
20, (A) a plate-form substrate is prepared on which a pre-formed multiple uneven portion 45 having a plurality of pre-formed multiple uneven portion convex portions 451 and a plurality of pre-formed multiple uneven portion concave portions 452 is formed by mechanical processing or chemical etching processing using a conventional conventional resist material. The depth dimension D1 of the pre-formed multiple uneven portion concave portions 452 (same as the height dimension of the pre-formed multiple uneven portion convex portions 451) is about 0.9 mm.
(B) A conventional liquid resist material 20 is applied to the surface of the existing multiple concave-convex portions 45. In this case, the conventional liquid resist material does not adhere to the side surface of the concave portion 452 of the existing multiple concave-convex portions, and tends to fall onto the bottom surface of the existing multiple concave-convex portions 452. The thickness of the conventional liquid resist material 20 applied to the upper surface of the existing multiple convex-convex portions 451 and the bottom surface of the existing multiple concave-convex portions 452 is about 10 μm (about 0.01 mm) or more and less than about 50 μm (about 0.05 mm).
(C) A previously prepared exposure mask member 23 is placed to cover the conventional liquid resist material adhering to the surface of the existing multiple concave-convex portions 45, and then (D) exposure to ultraviolet light, etc., development, hardening, etc. are performed to form a conventional resist hardened film 30 having the desired shape.
(E) An etching solution is brought into contact with the substrate having the conventional resist hardened film 30 attached thereto, and the surface of the mold substrate in the area where the conventional resist hardened film 30 is not attached is corroded and etched to a depth of approximately 1 mm as the etching depth dimension "D3" during etching, thereby forming the second recess forming portion 121b during etching.
(F) Then, the etching is continued until the depth of the surrounding area of the existing multiple concave and convex portions 45 reaches a predetermined depth, thereby forming a conventional second concave forming portion 121a having a depth dimension "D12a" of about 2 mm.
(G) The conventional resist hardened film 30 is removed.

このような製造方法において、(E)において、慣用レジスト硬化膜30が付着していない既成複数凹凸部凹部452の凹部側面も腐蝕エッチングされて、サイドエッチング現象により既成複数凹凸部凸部451の側面が腐蝕エッチングされたサイドエッチング部が生じて、サイドエッチングされた既成複数凹凸部凸部側面451s(サイドエッチングされた既成複数凹凸部凹部側面452s)が形成され、その結果、正常な、所望の凹凸模様の形状維持した既成凹凸部突出部が形成されないという課題がある。なお、既成複数凹凸部凸部451の側面は既成複数凹凸部凹部452の側面と同じ部位を意味するため、サイドエッチングされた既成複数凹凸部凸部側面451sはサイドエッチングされた既成複数凹凸部凹部側面452sと同じ部位を意味する。また、「サイドエッチング」は「側面エッチング」と同じ意味であり、凹凸部の凸部の側面、又は、凹凸部の凹部の側面がエッチングされる現象を意味する。
(F)において、深さ寸法「D12a」が約2mmの凹部(従来慣用第二凹形成部121a)と、該凹部から突出した突起部とを備え、その突起部の表面に、サイドエッチングされた既成複数凹凸部凸部側面451sとサイドエッチングされた既成複数凹凸部凹部側面452sとを有する複数のサイドエッチングされた既成凹凸部突起部455sが形成されてなる押圧加工用版が製造される。また、従来慣用の第二凹形成部121aはサイドエッチングされた腐蝕第二凹形成部121sの形態を有する。
In this manufacturing method, in (E), the concave side of the pre-formed multiple concave-convex portion concave 452 to which the conventional resist hardened film 30 is not attached is also corroded and etched, and a side-etched portion is generated in which the side of the pre-formed multiple concave-convex portion convex 451 is corroded and etched due to the side-etching phenomenon, and a side-etched pre-formed multiple concave-convex portion convex side 451s (side-etched pre-formed multiple concave-convex portion concave side 452s) is formed, resulting in a problem that a pre-formed concave-convex portion protrusion that maintains a normal, desired concave-convex pattern shape is not formed. Note that the side of the pre-formed multiple concave-convex portion convex 451 means the same part as the side of the pre-formed multiple concave-convex portion concave 452, so the side-etched pre-formed multiple concave-convex portion convex side 451s means the same part as the side-etched pre-formed multiple concave-convex portion concave side 452s. Also, "side etching" has the same meaning as "side etching" and means a phenomenon in which the side of the convex portion of the concave portion of the concave portion or the side of the concave portion of the concave portion of the concave portion is etched.
In (F), a pressing plate is manufactured which has a recess (conventional second recess-forming portion 121a) with a depth dimension "D12a" of about 2 mm, a protrusion protruding from the recess, and a plurality of side-etched pre-formed uneven portion protrusions 455s having side-etched pre-formed multiple uneven portion protrusion side surfaces 451s and side-etched pre-formed multiple uneven portion recess side surfaces 452s formed on the surface of the protrusion. Also, the conventional second recess-forming portion 121a has the form of a side-etched corroded second recess-forming portion 121s.

以上のように、従来の慣用の慣用液状レジスト材20を使用した押圧加工用版の製造方法においては、複数の既成複数凹凸部凸部451の側面(又は、複数の既成複数凹凸部凹部452の側面)もエッチングされ、初期の複数の既成複数凹凸部凸部451及び複数の既成複数凹凸部凹部452の形状を維持できなく、所望の正常な押圧加工用版を製造できないという課題がある。As described above, in the method of manufacturing a pressing plate using the conventional liquid resist material 20, the side surfaces of the multiple pre-formed multiple concave-convex portions 451 (or the side surfaces of the multiple pre-formed multiple concave-convex portions 452) are also etched, making it impossible to maintain the initial shapes of the multiple pre-formed multiple convex portions 451 and the multiple pre-formed multiple concave-convex portions 452, and therefore there is a problem in that it is not possible to manufacture a desired normal pressing plate.

また、従来技術において、凹部と該凹部から突出した突起部とを備え、その突起部の表面に、複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462を有する既成複数微細凹凸部466が形成されてなる押圧加工用版を製造する場合、複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462の側面がエッチングされてしまって、その結果、所望の複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462を有する部突起部を形成できないという、課題がある。
このような、凹部と該凹部から突出した突起部とを備え、その突起部の表面に、複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462とを有する複数の既成複数微細凹凸部が形成されてなる押圧加工用版を製造する場合、従来の、化学的腐蝕エッチング加工による製造方法の一例を、図21を用いて説明する。
Furthermore, in the conventional technology, when manufacturing a pressing plate having a recess and a protrusion protruding from the recess, in which a pre-formed multiple fine unevenness 466 having a plurality of pre-formed multiple fine unevenness convex portions 461 and a plurality of pre-formed multiple fine unevenness concave portions 462 is formed on the surface of the protrusion, there is a problem in that the side surfaces of the pre-formed multiple fine unevenness convex portions 461 and the pre-formed multiple fine unevenness concave portions 462 are etched, and as a result, it is not possible to form a protrusion having the desired plurality of pre-formed multiple fine unevenness convex portions 461 and the plurality of pre-formed multiple fine unevenness concave portions 462.
When manufacturing a pressing plate having a recess and a protrusion protruding from the recess, on the surface of which a plurality of pre-formed multiple fine unevenness portions are formed, each having a plurality of pre-formed multiple fine unevenness portion convex portions 461 and a plurality of pre-formed multiple fine unevenness portion concave portions 462, an example of a conventional manufacturing method using chemical corrosive etching will be described using Figure 21.

図21は、従来の慣用レジスト材を使用した化学的腐蝕エッチング工程により押圧加工用版を製造する模式的工程説明図である。
図21において、(A)機械加工、又は、従来慣用レジスト材を使用した化学的腐蝕エッチング加工により、複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462とを有る既成複数微細凹凸部46を形成した版型用基板を準備する。複数の既成複数微細凹凸部凹部462の深さ寸法(既成複数微細凹凸部凸部461の高さ寸法)「d1」は、約0.05mm(約50μm)~約1mm(約1000μm)であり、複数の既成複数微細凹凸部凹部462の幅寸法、及び、既成複数微細凹凸部凸部461の幅寸法は、約0.01mm(約10μm)~約1mm(約1000μm)である。
(B)その既成複数微細凹凸部46の表面に従来のシート状の慣用ドライフィルムレジスト材20を付着する。この場合、既成複数微細凹凸部凸部461の上面にシート状の汎用の慣用ドライフィルムレジスト材20が完全に密着することなく、また、既成複数微細凹凸部凹部452の側面や底面にもシート状の慣用ドライフィルムレジスト材20が完全に密着することなく、シート状の慣用ドライフィルムレジスト材30と既成複数微細凹凸部45との間に隙間が生じる傾向がある。シート状の慣用ドライフィルムレジスト材30の厚さ寸法は、約0.02mm~0.04mm(約20μm~約40μm)である。
(C)既成複数微細凹凸部46の表面に付着した慣用ドライフィルムレジスト材を覆って、予め準備した露光用マスク部材23を設置して、その後、(D)紫外線照射等の露光、現像、硬化、等を行って、所望形状を有する慣用レジスト硬化膜30を形成する。
(D)慣用レジスト硬化膜30を付着した基板にエッチング液を接触させて、慣用レジスト硬化膜30が付着していない領域の版型用基板の表面の腐蝕エッチングを行い、既成複数微細凹凸部46の周囲領域を、エッチング途中のエッチング深さ寸法「d3」が約1mmの深さ迄、腐蝕エッチングして、エッチング途中の腐蝕第二凹形成部121bを形成する。
(E)更に続けて、既成複数微細凹凸部46の周囲領域の深さが所定深さになる迄、腐蝕エッチングを続行して、深さ寸法「d12a」が約2mmの従来慣用の腐蝕第二凹形成部121aを形成する。
(F)慣用レジスト硬化膜30を除去する。
FIG. 21 is a schematic process diagram for producing a pressing plate by a chemical etching process using a conventional resist material.
21, (A) a plate-form substrate is prepared on which a pre-formed multiple fine unevenness 46 having a plurality of pre-formed multiple fine unevenness convex portions 461 and a plurality of pre-formed multiple fine unevenness concave portions 462 is formed by machining or chemical etching using a conventionally used resist material. The depth dimension "d1" of the pre-formed multiple fine unevenness concave portions 462 (the height dimension of the pre-formed multiple fine unevenness convex portions 461) is about 0.05 mm (about 50 μm) to about 1 mm (about 1000 μm), and the width dimension of the pre-formed multiple fine unevenness concave portions 462 and the width dimension of the pre-formed multiple fine unevenness convex portions 461 are about 0.01 mm (about 10 μm) to about 1 mm (about 1000 μm).
(B) A conventional sheet-like conventional dry film resist material 20 is attached to the surface of the pre-formed multiple fine concave-convex portions 46. In this case, the sheet-like general-purpose conventional dry film resist material 20 does not completely adhere to the upper surface of the pre-formed multiple fine concave-convex portion convex portion 461, and the sheet-like conventional dry film resist material 20 does not completely adhere to the side surface and bottom surface of the pre-formed multiple fine concave-convex portion concave portion 452, and a gap tends to occur between the sheet-like conventional dry film resist material 30 and the pre-formed multiple fine concave-convex portions 45. The thickness dimension of the sheet-like conventional dry film resist material 30 is about 0.02 mm to 0.04 mm (about 20 μm to about 40 μm).
(C) A previously prepared exposure mask member 23 is placed to cover the conventional dry film resist material adhered to the surface of the existing multiple fine concave-convex portions 46, and then (D) exposure to ultraviolet light, etc., development, hardening, etc. are performed to form a conventional resist hardened film 30 having the desired shape.
(D) An etching solution is brought into contact with the substrate having the conventional resist hardened film 30 attached thereto, and the surface of the mold substrate in the area where the conventional resist hardened film 30 is not attached is corroded and etched to a depth of approximately 1 mm such that the etching depth dimension "d3" during etching is the surrounding area of the pre-formed multiple fine concave and convex portions 46, thereby forming the second concave forming portion 121b during etching.
(E) Then, the etching is continued until the depth of the surrounding area of the existing multiple fine concave and convex portions 46 reaches a predetermined depth, thereby forming a conventional corroded second concave forming portion 121a having a depth dimension "d12a" of approximately 2 mm.
(F) The conventional resist hardened film 30 is removed.

このような製造方法において、(E)において、慣用レジスト硬化膜30が付着していない既成複数微細凹凸部凹部462の凹部側面も腐蝕エッチングされて、サイドエッチング現象により既成複数微細凹凸部凸部461の側面が腐蝕エッチングされたサイドエッチング部が生じて、サイドエッチングされた既成複数微細凹凸部凸部側面461s(サイドエッチングされた既成複数微細凹凸部凹部側面462s)が形成され、その結果、正常な、所望の複数微細凹凸模様の形状維持した既成複数微細凹凸部突出部が形成されないという課題がある。なお、既成複数微細凹凸部凸部461の側面は既成複数微細凹凸部凹部462の側面と同じ部位を意味するため、サイドエッチングされた既成複数微細凹凸部凸部側面461sはサイドエッチングされた既成複数微細凹凸部凹部側面462sと同じ部位を意味する。
(F)深さ寸法「D12a」が約2mmの凹部(従来慣用第二凹形成部121a)と、該凹部から突出した突起部とを備え、その突起部の表面に、サイドエッチングされた既成複数微細凹凸部凸部側面461sとサイドエッチングされた既成複数微細凹凸部凹部側面462sとを有するサイドエッチングされた既成複数微細凹凸部突起部466sが形成されてなる押圧加工用版が製造される。また、従来慣用第二凹形成部121aはサイドエッチングされた腐蝕第二凹形成部121sの形態を有する。
In this manufacturing method, in (E), the concave side of the pre-formed multiple fine concave-convex portion concave 462 to which the conventional resist hardened film 30 is not attached is also corroded and etched, and a side-etched portion is generated in which the side of the pre-formed multiple fine concave-convex portion convex 461 is corroded and etched due to the side-etching phenomenon, and a side-etched pre-formed multiple fine concave-convex portion convex side 461s (side-etched pre-formed multiple fine concave-convex portion concave side 462s) is formed, resulting in a problem that a pre-formed multiple fine concave-convex portion protrusion that maintains the normal shape of the desired multiple fine concave-convex pattern is not formed. Note that the side of the pre-formed multiple fine concave-convex portion convex 461 means the same part as the side of the pre-formed multiple fine concave-convex portion concave 462, so the side-etched pre-formed multiple fine concave-convex portion convex side 461s means the same part as the side of the pre-formed multiple fine concave-convex portion concave 462s.
(F) A pressing plate is manufactured which has a recess (conventional second recess-forming portion 121a) with a depth dimension "D12a" of about 2 mm, a protrusion protruding from the recess, and a side-etched pre-formed multiple fine recess-forming portion protrusion 466s having a side-etched pre-formed multiple fine recess-forming portion protrusion side 461s and a side-etched pre-formed multiple fine recess-forming portion recess side 462s on the surface of the protrusion. Also, the conventional second recess-forming portion 121a has the form of a side-etched corroded second recess-forming portion 121s.

以上のように、従来の慣用ドライフィルムレジスト材20を使用した押圧加工用版の製造方法においては、既成複数微細凹凸部凸部461の側面(又は、既成複数微細凹凸部凹部462の側面)もエッチングされ、初期の既成複数微細凹凸部凸部461及び既成複数微細凹凸部凹部462の形状を維持できなく、所望の形状精度や寸法精度を有する押圧加工用版を製造できないという課題がある。As described above, in the method of manufacturing a pressing plate using the conventional dry film resist material 20, the side surfaces of the pre-formed multiple fine unevenness convex portions 461 (or the side surfaces of the pre-formed multiple fine unevenness concave portions 462) are also etched, making it impossible to maintain the initial shapes of the pre-formed multiple fine unevenness convex portions 461 and the pre-formed multiple fine unevenness concave portions 462, and therefore it is not possible to manufacture a pressing plate having the desired shape accuracy and dimensional accuracy.

なお、上記の図21を用いて説明した押圧加工用版の製造方法において、図示されていないが、(B)「慣用ドライフィルムレジスト材30を付着する」工程に替えて、前述の図20の従来慣用液状レジスト材20を使用した場合と類似の「その既成複数微細凹凸部46の表面に従来の慣用液状レジスト材20を付着し」、(C)現像・レジスト硬化膜形成(露光用マスク部材の設置・露光、現像)、を経て、(D)腐蝕エッチング、(E)腐蝕エッチング続行、(F)レジスト硬化膜除去、等の工程を経て、押圧加工用版を製造する場合においても、所望の形状精度や寸法精度を有する押圧加工用版を製造できないという課題がある。
すなわち、この場合においても、腐蝕第二凹形成部121aの深さ寸法「d12a」が約2mmの凹部(従来慣用第二凹形成部121a)と、該凹部から突出した突起部とを備え、その突起部の表面に、サイドエッチングされた既成複数微細凹凸部凸部側面461sとサイドエッチングされた既成複数微細凹凸部凹部側面462sとを有するサイドエッチングされた既成複数微細凹凸部突起部466sが形成されてなる押圧加工用版が製造され、既成複数微細凹凸部凸部461の側面(又は、既成複数微細凹凸部凹部462の側面)もエッチングされ、初期の既成複数微細凹凸部凸部461及び既成複数微細凹凸部凹部462の形状を維持できなく、所望の形状精度や寸法精度を有する押圧加工用版を製造できないという課題がある。
In the method for manufacturing a pressing plate described above using Figure 21, although not shown, instead of the process of (B) "adhering a conventional dry film resist material 30", a process of "adhering a conventional conventional liquid resist material 20 to the surface of the existing multiple fine concave-convex portions 46" similar to the process of using the conventional conventional liquid resist material 20 in Figure 20 described above, followed by processes of (C) development and resist hardened film formation (installation of an exposure mask member, exposure, development), (D) corrosive etching, (E) continued corrosive etching, (F) removal of the resist hardened film, etc., is carried out to manufacture a pressing plate, but even in this case, there is a problem that a pressing plate having the desired shape accuracy and dimensional accuracy cannot be manufactured.
That is, even in this case, a pressing plate is manufactured which has a recess (conventional second recess forming portion 121a) having a depth dimension "d12a" of approximately 2 mm of the corroded second recess forming portion 121a and a protrusion protruding from the recess, and on the surface of the protrusion, a side-etched pre-formed multiple fine unevenness protrusion portion 466s is formed which has a side-etched pre-formed multiple fine unevenness convex portion side surface 461s and a side-etched pre-formed multiple fine unevenness concave portion side surface 462s, but the side surface of the pre-formed multiple fine unevenness convex portion 461 (or the side surface of the pre-formed multiple fine unevenness concave portion 462) is also etched, and the initial shapes of the pre-formed multiple fine unevenness convex portion 461 and the pre-formed multiple fine unevenness concave portion 462 cannot be maintained, resulting in the problem that a pressing plate having the desired shape accuracy and dimensional accuracy cannot be manufactured.

所望の形状精度や寸法精度を有する押圧加工用版を使用して被加工物を加工した場合に、所望の形状精度や寸法精度を有する加工物が形成できないという課題がある。When a workpiece is processed using a press processing plate having the desired shape accuracy and dimensional accuracy, there is a problem in that the workpiece cannot have the desired shape accuracy and dimensional accuracy.

本発明の押圧加工用版の製造方法は、上記の従来の課題を解決するものであり、被加工物を押圧により所定形状に加工するための押圧加工用版の製造方法であって、従来汎用の化学的腐蝕エッチング加工よりも簡単な工程を有する化学的腐食エッチングを備えた工程により、所望の凸部、所望の凹部、所望の凹凸部、所望の微細凹凸部、等の所望形状を有するとともに、「版型用基板のエッチングされてはならない領域」の腐蝕エッチングが抑制されてなる所望の形状精度や寸法精度を備えた押圧加工用版の製造方法を提供する。The method for manufacturing a press processing plate of the present invention solves the above-mentioned conventional problems, and is a method for manufacturing a press processing plate for processing a workpiece into a predetermined shape by pressing, and provides a method for manufacturing a press processing plate having the desired shape such as a desired convex portion, a desired concave portion, a desired uneven portion, a desired fine uneven portion, etc., by using a process including chemical corrosive etching which has a simpler process than the conventional general-purpose chemical corrosive etching process, and having the desired shape accuracy and dimensional accuracy by suppressing corrosive etching of "areas of the plate mold substrate that should not be etched."

本発明の押圧加工用版は、所望の凸部、所望の凹部、所望の凹凸部、所望の微細凹凸部、等の所望形状を有するとともに、「版型用基板のエッチングされてはならない領域」の腐蝕エッチングが抑制されてなる所望の形状精度や寸法精度を備えた押圧加工用版を提供する。The pressing plate of the present invention has the desired shape, such as the desired convex portion, the desired concave portion, the desired uneven portion, the desired fine uneven portion, etc., and provides a pressing plate with the desired shape accuracy and dimensional accuracy by suppressing corrosive etching of "areas of the plate mold substrate that should not be etched."

本発明の被加工物の加工方法は、紙、段ボール紙、プラスチック製フィルム、プラスチック製ボード、プラスチック成型物、これらの積層物、等の被加工物を、、所望の凸部、所望の凹部、所望の凹凸部、所望の微細凹凸部、等の所望形状を有するとともに、所望の形状精度や寸法精度を有して加工形成されてなる加工物を調製できる被加工物の加工方法を提供する。The present invention provides a method for processing a workpiece, which can prepare a workpiece having a desired shape, such as a desired convex portion, a desired concave portion, a desired uneven portion, a desired fine uneven portion, etc., and having the desired shape accuracy and dimensional accuracy, from a workpiece such as paper, corrugated cardboard, plastic film, plastic board, plastic molded product, or a laminate of these.

本発明の押圧加工用版の製造方法は、
被加工物を押圧により所定形状に加工するための押圧加工用版の製造方法であって、
(A)版型用基板第一領域表面(11)と版型用基板第二領域表面(12)を備えた版型用基板(1)を供給する版型用基板供給工程、
(B)前記版型用基板(1)の前記版型用基板第一領域表面(11)の所望領域にインクジェットレジスト材(2)をインクジェット方式により付着して所望領域インクジェットレジスト付着膜を形成する所望領域インクジェットレジスト付着膜形成工程、及び、
前記所望領域インクジェットレジスト付着膜を硬化して所望領域インクジェットレジスト硬化膜(3)を形成する所望領域インクジェットレジスト硬化膜形成工程、
(C)前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜(3)を形成した前記版型用基板(1)の表面にエッチング液を接触して、前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜(3)が付着されていない版型用基板の表面をエッチングする版型用基板エッチング工程、
これにより、前記版型用基板(1)の表面に凹部形状で形成されたインクジェットレジスト膜腐蝕凹形成部を形成し、
及び、
(D)前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜を除去する所望領域インクジェットレジスト硬化膜除去工程、
を備えてなることを特徴とする。
The method for producing a pressing plate of the present invention comprises the steps of:
A method for manufacturing a press plate for processing a workpiece into a predetermined shape by pressing the workpiece, comprising the steps of:
(A) a plate mold substrate supplying step of supplying a plate mold substrate (1) having a plate mold substrate first area surface (11) and a plate mold substrate second area surface (12);
(B) a desired area inkjet resist deposition film formation step of depositing an inkjet resist material (2) on a desired area of the first area surface (11) of the plate mold substrate (1) by an inkjet method to form a desired area inkjet resist deposition film; and
a desired area inkjet resist cured film forming step of curing the desired area inkjet resist deposited film to form a desired area inkjet resist cured film (3);
(C) a plate mold substrate etching step of contacting an etching solution with the surface of the plate mold substrate (1) on which the desired region inkjet resist cured film (3) is formed, to etch the surface of the plate mold substrate on which the desired region inkjet resist cured film (3) is not attached;
As a result, a recessed portion formed by etching the inkjet resist film is formed in a recessed shape on the surface of the plate mold substrate (1),
as well as,
(D) a desired area inkjet resist cured film removal step of removing the desired area inkjet resist cured film;
The present invention is characterized in that it comprises:

好ましくは、
前記(A)工程において、
前記版型用基板第二領域表面(12)は一つ又は複数の凹凸のない無凹凸部を有し、
前記版型用基板第一領域表面(11)は一つ又は複数の既成凹凸部(4)を有し、
(i)前記版型用基板第二領域表面(12)が一つの凹凸のない無凹凸部を有するとともに、
前記版型用基板第一領域表面(11)が一つの既成凹凸部(4)を有する場合、
前記無凹凸部は前記既成凹凸部(4)の周囲領域に位置し、
前記既成凹凸部(4)は、
(イ)複数の凸形状で形成された複数の既成複数凹凸部凸部(451)と複数の凹形状で形成された複数の既成複数凹凸部凹部(452)とを有してなる既成複数凹凸部(45)、
又は、
(ロ)複数の微細凸形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凸部(461)と複数の微細凹形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凹部(462)とを有してなる既成複数微細凹凸部(46)、を有し、
(ii)前記版型用基板第二領域表面(12)が複数の凹凸のない無凹凸部を有するとともに、
前記版型用基板第一領域表面(11)が複数の既成凹凸部(4)を有する場合、
前記複数の無凹凸部のうちのそれぞれの前記無凹凸部は前記複数の既成凹凸部(4)のうちのそれぞれの既成凹凸部(4)の周囲領域に位置し、
前記複数の既成凹凸部(4)のうちのそれぞれの前記既成凹凸部(4)は、
(イ)複数の凸形状で形成された複数の既成複数凹凸部凸部(451)と複数の凹形状で形成された複数の既成複数凹凸部凹部(452)とを有してなる既成複数凹凸部(45)、
及び/又は、
(ロ)複数の微細凸形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凸部(461)と複数の微細凹形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凹部(462)とを有してなる既成複数微細凹凸部(46)、を有し、
前記(B)工程において、
前記版型用基板(1)の前記版型用基板第一領域表面(11)の前記既成凹凸部(4)を覆ってインクジェットレジスト材(2)をインクジェット方式により付着して所望領域インクジェットレジスト付着膜を形成する所望領域インクジェットレジスト付着膜形成工程、
及び、
前記所望領域インクジェットレジスト付着膜を硬化して所望領域インクジェットレジスト硬化膜(3)を形成する所望領域インクジェットレジスト硬化膜形成工程、を備え、
前記(C)工程において、
前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜(3)を形成した前記版型用基板(1)の表面にエッチング液を接触して、前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜が付着されていない前記版型用基板第二領域表面(12)をエッチングする版型用基板エッチング工程を備え、これにより、前記既成凹凸部(4)をエッチングすることなく、前記版型用基板第二領域表面(12)をエッチングして、凹部形状で形成されたインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成し、ここで、該インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121は前記インクジェットレジスト膜腐蝕凹形成部に相当し、
前記(D)工程において、
前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜(3)を除去する所望領域インクジェットレジスト硬化膜除去工程を備え、
これにより、前記既成凹凸部(4)をエッチングすることなく、前記版型用基板第二領域表面(12)をエッチングして、凹部形状で形成されたインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部(121)を形成するとともに、前記既成凹凸部(4)を、前記インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121から突出した突出形状に形成する、
ことを特徴とする。
Preferably,
In the step (A),
The second region surface (12) of the plate mold substrate has one or more non-irregular portions,
The first area surface (11) of the plate mold substrate has one or more preformed projections and recesses (4),
(i) the second region surface (12) of the plate mold substrate has one non-irregular portion,
When the first area surface (11) of the plate mold substrate has one preformed uneven portion (4),
The non-relief portion is located in the surrounding area of the existing relieving portion (4),
The preformed uneven portion (4) is
(a) A prefabricated multiple concave-convex portion (45) having a plurality of prefabricated multiple concave-convex portion convex portions (451) formed with a plurality of convex shapes and a plurality of prefabricated multiple concave-convex portion concave portions (452) formed with a plurality of concave shapes;
Or,
(B) A pre-formed multiple fine concave-convex portion (46) having a plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portion convex portions (461) formed with a plurality of fine convex shapes and a plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portion concave portions (462) formed with a plurality of fine concave shapes;
(ii) the second region surface (12) of the plate mold substrate has a plurality of non-irregular portions,
When the first region surface (11) of the plate mold substrate has a plurality of preformed concave-convex portions (4),
Each of the plurality of non-relief portions is located in a peripheral region of each of the plurality of pre-formed recessed and protruding portions (4),
Each of the plurality of pre-formed uneven portions (4) is
(a) A prefabricated multiple concave-convex portion (45) having a plurality of prefabricated multiple concave-convex portion convex portions (451) formed with a plurality of convex shapes and a plurality of prefabricated multiple concave-convex portion concave portions (452) formed with a plurality of concave shapes;
and/or
(B) A pre-formed multiple fine concave-convex portion (46) having a plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portion convex portions (461) formed with a plurality of fine convex shapes and a plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portion concave portions (462) formed with a plurality of fine concave shapes;
In the step (B),
a desired area inkjet resist deposition film forming step of depositing an inkjet resist material (2) by an inkjet method to cover the existing uneven portion (4) on the first area surface (11) of the plate mold substrate (1) to form a desired area inkjet resist deposition film;
as well as,
and a desired area inkjet resist cured film forming step of curing the desired area inkjet resist deposited film to form a desired area inkjet resist cured film (3),
In the step (C),
a plate mold substrate etching step of contacting an etching solution with the surface of the plate mold substrate (1) on which the desired region inkjet resist cured film (3) is formed, to etch the plate mold substrate second region surface (12) on which the desired region inkjet resist cured film is not attached, thereby etching the plate mold substrate second region surface (12) without etching the existing uneven portion (4), and forming an inkjet resist film etched second recessed portion 121 formed in a recess shape, wherein the inkjet resist film etched second recessed portion 121 corresponds to the inkjet resist film etched recessed portion;
In the step (D),
a desired area inkjet resist cured film removal step of removing the desired area inkjet resist cured film (3),
As a result, the second region surface (12) of the plate mold substrate is etched without etching the existing uneven portion (4), forming an inkjet resist film etched second recessed portion (121) formed in a recessed shape, and forming the existing uneven portion (4) into a protruding shape protruding from the inkjet resist film etched second recessed portion 121.
It is characterized by:

本発明の押圧加工用版は、本発明の押圧加工用版の製造方法により製造されてなる押圧加工用版である。The plate for press processing of the present invention is a plate for press processing manufactured by the manufacturing method for a plate for press processing of the present invention.

本発明の被加工物の加工方法は、
(S-a)本発明の押圧加工用版の製造方法により製造されてなる押圧加工用版(10)を供給する工程、
(S-b)互いに対向する第一基盤(92)と第二基盤(93)を備えた押圧加工装置を準備する工程、
(S-d)所定の受版(94)を、前記押圧加工装置の第二基盤(93)に設置する工程、
(S-e)前記押圧加工用版(10)と前記受版(94)との間に、被加工物(108)を位置する状態で、前記第一基盤(92)と前記第二基盤(93)とのうちの少なくとも一つの基盤を駆動して、前記押圧加工用版(10)と受版(94)とが前記被加工物を押圧する工程、
これにより、前記被加工物(108)の表面に、前記既成凹凸部(4)の凹凸形状に一致する凹凸形状を有する被加工物凹凸形成部を形成し、
及び、
(S-f)前記押圧加工用版(10)と前記受版(94)のうちの少なくとも一つの基盤を駆動して、前記押圧加工用版(10)と受版(94)とを互いに離反して、前記被加工物への押圧を解除する工程、
これにより、前記被加工物(108)の表面に、前記既成凹凸部(4)の凹凸形状に一致する凹凸形状を有する形態で転写形成された前記被加工物凹凸形成部が形成されてなる加工物を調製する、
を備えてなることを特徴とする。
The method for processing a workpiece of the present invention includes the steps of:
(S-a) a step of supplying a press processing plate (10) manufactured by the method for manufacturing a press processing plate of the present invention;
(S-b) preparing a pressing device having a first base (92) and a second base (93) facing each other;
(S-d) a step of placing a predetermined receiving plate (94) on the second base (93) of the pressing device;
(S-e) a step of driving at least one of the first base (92) and the second base (93) while a workpiece (108) is positioned between the pressing plate (10) and the receiving plate (94), so that the pressing plate (10) and the receiving plate (94) press the workpiece;
As a result, a workpiece unevenness forming portion having an uneven shape that matches the uneven shape of the existing uneven portion (4) is formed on the surface of the workpiece (108),
as well as,
(S-f) a step of driving at least one of the bases of the pressing plate (10) and the receiving plate (94) to move the pressing plate (10) and the receiving plate (94) away from each other, thereby releasing the pressing force on the workpiece;
As a result, a workpiece is prepared in which the workpiece unevenness forming portion is formed on the surface of the workpiece (108) in a form having an uneven shape that matches the uneven shape of the existing unevenness portion (4).
The present invention is characterized in that it comprises:

本発明の押圧加工用版の製造方法により、[(製造方法効果イ:インクジェットレジストによる所望寸法の凹凸表面形状を形成可能効果)従来汎用の化学的腐蝕エッチング加工よりも簡単な工程を有する化学的腐食エッチングを備えた工程により、所望の凸部、所望の凹部、所望の凹凸部、所望の微細凹凸部、等の所望形状を有するとともに、「版型用基板のエッチングされてはならない領域」の腐蝕エッチングが抑制されてなる所望の形状精度や寸法精度を備えた押圧加工用版を製造することが可能になる効果]が得られる。The method for manufacturing a plate for pressing according to the present invention can achieve the effect of (manufacturing method effect A: effect of being able to form an uneven surface shape of desired dimensions using inkjet resist) making it possible to manufacture a plate for pressing having the desired shape, such as the desired convex portion, the desired concave portion, the desired uneven portion, the desired fine uneven portion, etc., by using a process including chemical corrosive etching which has a simpler process than the conventional general-purpose chemical corrosive etching process, and which has the desired shape accuracy and dimensional accuracy by suppressing corrosive etching of "areas of the plate mold substrate that should not be etched").

特に、本発明の押圧加工用版の製造方法により、[(製造方法効果イ-a:インクジェットレジストによる突出した形状を有する所望寸法の既成凹凸部を形成可能効果)化学的腐蝕エッチング加工であって、凹部と該凹部から突出した突起部と、その突起部の表面に複数の既成複数凹凸部凹部と複数の既成複数凹凸部凸部とを有する既成複数凹凸部、及び/又は、複数の既成複数微細凹凸部凸部と複数の既成複数微細凹凸部凹部とを有する既成複数微細凹凸部が形成されてなるとともに、「版型用基板のエッチングされてはならない領域」の腐蝕エッチングが抑制されてなる所望の形状を備えた押圧加工用版を製造することが可能になる効果]が得られる。In particular, the manufacturing method for a pressing plate of the present invention can achieve the effect of (manufacturing method effect A-a: effect of being able to form a pre-formed uneven portion of desired dimensions having a protruding shape using inkjet resist) which is a chemical corrosive etching process that forms a pre-formed multiple uneven portion having a concave portion, a protrusion protruding from the concave portion, and a pre-formed multiple fine uneven portion having a plurality of pre-formed multiple uneven portion concave portions and a plurality of pre-formed multiple fine uneven portion convex portions on the surface of the protrusion, and/or a pre-formed multiple fine uneven portion having a plurality of pre-formed multiple fine uneven portion convex portions and a plurality of pre-formed multiple fine uneven portion concave portions, while suppressing corrosive etching of the "areas of the plate mold substrate that should not be etched" to produce a pressing plate having a desired shape.

本発明の押圧加工用版により、[押圧加工用版構成効果イ:、所望の凸部、所望の凹部、所望の凹凸部、所望の微細凹凸部、等の所望形状を有するとともに、「版型用基板のエッチングされてはならない領域」の腐蝕エッチングが抑制されてなる所望の形状精度や寸法精度を備えた押圧加工用版が得られる効果]が得られる。The pressing plate of the present invention can provide [pressing plate configuration effect I: the effect of obtaining a pressing plate having the desired shape, such as the desired convex portion, the desired concave portion, the desired uneven portion, the desired fine uneven portion, etc., and having the desired shape accuracy and dimensional accuracy by suppressing corrosive etching of the "areas of the plate mold substrate that must not be etched."]

本発明の被加工物の加工方法により、[被加工物加工方法効果イ:紙、段ボール紙、プラスチック製フィルム、プラスチック製ボード、プラスチック成型物、これらの積層物、等の被加工物を、、所望の凸部、所望の凹部、所望の凹凸部、所望の微細凹凸部、等の所望形状を有するとともに、所望の形状精度や寸法精度を有して加工形成されてなる加工物を調製できる効果]が得られる。The method for processing a workpiece of the present invention can provide the effect of preparing a processed product by processing a workpiece such as paper, corrugated cardboard, plastic film, plastic board, plastic molding, or a laminate of these, which has the desired shape, such as a desired convex portion, a desired concave portion, a desired uneven portion, or a desired fine uneven portion, and which has the desired shape accuracy and dimensional accuracy.

本発明の一実施例の押圧加工用版の製造方法の製造工程を説明するための模式的概略図。1A to 1C are schematic diagrams illustrating the manufacturing steps of a method for manufacturing a pressing plate according to an embodiment of the present invention. 本発明の他の一実施例の押圧加工用版の製造方法の製造工程を説明するための模式的概略図。5A to 5C are schematic diagrams illustrating the manufacturing steps of a method for manufacturing a pressing plate according to another embodiment of the present invention. 本発明の他の一実施例の押圧加工用版の製造方法の製造工程を説明するための模式的概略図。5A to 5C are schematic diagrams illustrating the manufacturing steps of a method for manufacturing a pressing plate according to another embodiment of the present invention. 本発明の他の一実施例の押圧加工用版の製造方法の製造工程を説明するための模式的概略図。5A to 5C are schematic diagrams illustrating the manufacturing steps of a method for manufacturing a pressing plate according to another embodiment of the present invention. 本発明の一実施例の押圧加工用版の製造方法における押圧加工用版に形成された既成複数微細凹凸部を説明するための模式的概略図。FIG. 2 is a schematic diagram for explaining a plurality of preformed fine concave-convex portions formed on a pressing plate in a method for manufacturing a pressing plate according to one embodiment of the present invention. 本発明の他の一実施例の押圧加工用版の製造方法の製造工程を説明するための模式的概略図。5A to 5C are schematic diagrams illustrating the manufacturing steps of a method for manufacturing a pressing plate according to another embodiment of the present invention. 本発明の他の一実施例の押圧加工用版の製造方法の製造工程を説明するための模式的概略図。5A to 5C are schematic diagrams illustrating the manufacturing steps of a method for manufacturing a pressing plate according to another embodiment of the present invention. 本発明の一実施例の押圧加工用版の製造方法における押圧加工用版に凹凸で形成された図文字絵柄模様形態を説明するための模式的概略図。1 is a schematic diagram for explaining a graphic, letter, and picture pattern shape formed by projections and recesses on a pressing plate in a method for manufacturing a pressing plate according to one embodiment of the present invention; FIG. 本発明の一実施例の押圧加工用版の製造方法における押圧加工用版に凹凸で形成された図文字絵柄模様形態を説明するための模式的概略図。1 is a schematic diagram for explaining a graphic, letter, and picture pattern shape formed by projections and recesses on a pressing plate in a method for manufacturing a pressing plate according to one embodiment of the present invention; FIG. 本発明の他の一実施例の押圧加工用版の製造方法の製造工程を説明するための模式的概略図。5A to 5C are schematic diagrams illustrating the manufacturing steps of a method for manufacturing a pressing plate according to another embodiment of the present invention. 本発明の他の一実施例の押圧加工用版の製造方法の製造工程を説明するための模式的概略図。5A to 5C are schematic diagrams illustrating the manufacturing steps of a method for manufacturing a pressing plate according to another embodiment of the present invention. 従来の押圧加工用版の製造方法の製造工程を説明するための模式的概略図。1A to 1C are schematic diagrams illustrating the manufacturing steps of a conventional method for manufacturing a plate for pressing. 従来の押圧加工用版の製造方法の製造工程を説明するための模式的概略図。1A to 1C are schematic diagrams illustrating the manufacturing steps of a conventional method for manufacturing a plate for pressing. 従来の押圧加工用版の製造方法の製造工程を説明するための模式的概略図。1A to 1C are schematic diagrams illustrating the manufacturing steps of a conventional method for manufacturing a plate for pressing. 従来の押圧加工用版の製造方法の製造工程を説明するための模式的概略図。1A to 1C are schematic diagrams illustrating the manufacturing steps of a conventional method for manufacturing a plate for pressing. 押圧加工用版を構成した公知の押圧加工装置であって、本発明の押圧加工用版にも使用可能な押圧加工装置の概略模式図であり、(A)は平板型押圧加工用版を構成した加工装置であり、(B)はロール状押圧加工装置。1A is a schematic diagram of a known pressing device that is used to form a pressing plate, and that can also be used for the pressing plate of the present invention, where (A) is a processing device that is used to form a flat pressing plate, and (B) is a roll-shaped pressing device. 押圧加工用版を構成した公知の押圧加工装置であって、本発明の押圧加工用版にも使用可能な押圧加工装置の概略模式図。FIG. 2 is a schematic diagram of a known pressing device that constitutes a pressing plate and that can also be used for the pressing plate of the present invention. 従来の押圧加工用版の製造方法の製造工程を説明するための模式的概略図。1A to 1C are schematic diagrams illustrating the manufacturing steps of a conventional method for manufacturing a plate for pressing. 従来の押圧加工用版の製造方法の製造工程を説明するための模式的概略図。1A to 1C are schematic diagrams illustrating the manufacturing steps of a conventional method for manufacturing a plate for pressing. 従来の押圧加工用版の製造方法の製造工程を説明するための模式的概略図。1A to 1C are schematic diagrams illustrating the manufacturing steps of a conventional method for manufacturing a plate for pressing. 従来の押圧加工用版の製造方法の製造工程を説明するための模式的概略図。1A to 1C are schematic diagrams illustrating the manufacturing steps of a conventional method for manufacturing a plate for pressing. 従来の押圧加工用版の製造方法の製造工程を説明するための模式的概略図。1A to 1C are schematic diagrams illustrating the manufacturing steps of a conventional method for manufacturing a plate for pressing. 従来の押圧加工用版の製造方法の製造工程を説明するための模式的概略図。1A to 1C are schematic diagrams illustrating the manufacturing steps of a conventional method for manufacturing a plate for pressing.

<本発明の押圧加工用版の製造方法について>
[基本構成1]
本発明の押圧加工用版の製造方法は、下記の構成を備える。
被加工物を押圧により所定形状に加工するための押圧加工用版の製造方法であって、(A)版型用基板第一領域表面11と版型用基板第二領域表面12を備えた版型用基板1を供給する版型用基板供給工程、(B)前記版型用基板1の前記版型用基板第一領域表面11の所望領域にインクジェットレジスト材2をインクジェット方式により付着して所望領域インクジェットレジスト付着膜を形成する所望領域インクジェットレジスト付着膜形成工程、及び、前記所望領域インクジェットレジスト付着膜を硬化して所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成する所望領域インクジェットレジスト硬化膜形成工程、(C)前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成した前記版型用基板1の表面にエッチング液を接触して、前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が付着されていない版型用基板1の表面をエッチングする版型用基板エッチング工程、これにより、前記版型用基板1の表面に凹部形状で形成された腐蝕凹形成部を形成し、及び、(D)前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を除去する所望領域インクジェットレジスト硬化膜除去工程、を備えてなる。
このようにして、所望の凹凸表面形状で形成されてなる押圧加工用版が製造される。
<About the method for producing the pressing plate of the present invention>
[Basic configuration 1]
The method for producing a press plate of the present invention has the following configuration.
A method for manufacturing a press processing plate for processing a workpiece into a predetermined shape by pressing, comprising: (A) a plate mold substrate supplying step of supplying a plate mold substrate 1 having a plate mold substrate first region surface 11 and a plate mold substrate second region surface 12; (B) a desired region inkjet resist adhered film forming step of adhering an inkjet resist material 2 to a desired region of the plate mold substrate first region surface 11 of the plate mold substrate 1 by an inkjet method to form a desired region inkjet resist adhered film, and a desired region inkjet resist hardened film forming step of hardening the desired region inkjet resist adhered film to form a desired region inkjet resist hardened film 3; (C) a plate mold substrate etching step of contacting an etching solution with the surface of the plate mold substrate 1 on which the desired region inkjet resist hardened film 3 has been formed, to etch the surface of the plate mold substrate 1 to which the desired region inkjet resist hardened film 3 has not been attached, thereby forming a corrosion recess formation portion formed in a recess shape on the surface of the plate mold substrate 1; and (D) a desired region inkjet resist hardened film removal step of removing the desired region inkjet resist hardened film 3.
In this manner, a pressing plate having a desired uneven surface shape is manufactured.

なお、上記の(A)工程において、「版型用基板1を供給する版型用基板供給工程」は、「版型用基板1を準備する版型用基板供給工程」であっても実施可能であり、「供給」と「準備」は類似する意味である。
また、版型用基板第一領域表面11は仮想の版型用基板第一領域表面であり、版型用基板第二領域表面12は仮想の版型用基板第二領域表面である。すなわち、版型用基板第一領域表面11は仮想版型用基板第一領域表面であり、版型用基板第二領域表面12は仮想版型用基板第二領域表面である。
また、版型用基板第一領域表面11と版型用基板第二領域表面12とは互いに隣り合う領域表面に位置する構成、及び/又は、版型用基板第二領域表面12が版型用基板第一領域表面11の周囲領域表面に位置する構成、及び/又は、版型用基板第一領域表面11が版型用基板第二領域表面12の周囲領域表面に位置する構成、が好ましく実施可能である。
また、後述の「従属構成4」及び「従属構成7」で説明するが、既成複数凹凸部凸部451と既成複数凹凸部凹部452を有する既成複数凹凸部45としては、(イ)文字、(ロ)記号、(ハ)図形、(ニ)絵柄、及び、(ホ)模様、からなる群から選ばれる少なくとも一つの凹凸形状で形成されてなる所望の図文字絵柄模様、又は、これらの図文字絵柄模様が微細な凹凸形状で形成された所望の微細図文字絵柄模様が好ましく実施可能である。
In addition, in the above process (A), the "mold substrate supplying process of supplying the mold substrate 1" can also be implemented as the "mold substrate supplying process of preparing the mold substrate 1", and "supply" and "preparation" have similar meanings.
In addition, the first region surface 11 of the plate mold substrate is a virtual first region surface of the plate mold substrate, and the second region surface 12 of the plate mold substrate is a virtual second region surface of the plate mold substrate. That is, the first region surface 11 of the plate mold substrate is a virtual first region surface of the plate mold substrate, and the second region surface 12 of the plate mold substrate is a virtual second region surface of the plate mold substrate.
In addition, a configuration in which the first area surface 11 of the mold substrate and the second area surface 12 of the mold substrate are located on adjacent area surfaces, and/or a configuration in which the second area surface 12 of the mold substrate is located on the surrounding area surface of the first area surface 11 of the mold substrate, and/or a configuration in which the first area surface 11 of the mold substrate is located on the surrounding area surface of the second area surface 12 of the mold substrate, are preferably implemented.
As will be explained in the "subordinate configuration 4" and "subordinate configuration 7" described later, the existing multiple uneven portion 45 having the existing multiple uneven portion convex portion 451 and the existing multiple uneven portion concave portion 452 can preferably be a desired graphic character pattern formed with at least one uneven shape selected from the group consisting of (a) letters, (b) symbols, (c) figures, (d) pictures, and (e) designs, or a desired fine graphic character pattern formed with a fine uneven shape of these graphic character patterns.

本発明の押圧加工用版の製造方法により、[(製造方法効果イ:インクジェットレジストによる所望寸法の凹凸表面形状を形成可能効果)従来汎用の化学的腐蝕エッチング加工よりも簡単な工程を有する化学的腐食エッチングを備えた工程により、所望の凸部、所望の凹部、所望の凹凸部、所望の微細凹凸部、等の所望形状を有するとともに、「版型用基板のエッチングされてはならない領域」の腐蝕エッチングが抑制されてなる所望の形状精度や寸法精度を備えた押圧加工用版を製造することが可能になる効果]が得られる。The method for manufacturing a plate for pressing according to the present invention can achieve the effect of (manufacturing method effect A: effect of being able to form an uneven surface shape of desired dimensions using inkjet resist) making it possible to manufacture a plate for pressing having the desired shape, such as the desired convex portion, the desired concave portion, the desired uneven portion, the desired fine uneven portion, etc., by using a process including chemical corrosive etching which has a simpler process than the conventional general-purpose chemical corrosive etching process, and which has the desired shape accuracy and dimensional accuracy by suppressing corrosive etching of "areas of the plate mold substrate that should not be etched").

版型用基板1としては、特に限定されない。例えば、押圧加工用版として一般に慣用されているところの、金属製、プラスチック製、又は、樹脂製等の版型用基板1が使用できる。
特に好ましくは、ステンレス鋼、真鍮、銅、マグネシウム、ジュラルミン、等の金属製、及び、鉄、超硬合金(GM MF)、粉末ハイス鋼(YXM)、ハイス鋼(高速度鋼、SKH、HSS)、ダイス鋼(SKD)、合金工具鋼(SKT、SKS)、炭素工具鋼(SK)等の鋼鉄製の版型用基板1が好ましく使用できる。
超硬合金は、硬い性質を有し、特に限定されないが、例えば、耐摩耗周期律表のIVa、Va、VIa族金属の炭化物(例えば、炭化タングステン、WC)をFe、Co、Niなどの鉄系金属で焼結した複合材料であり、機械的特性に優れ、破損や傷付き発生が最も少ない鋼材であり、WC-Co、WC-TiC-Co、WC-TaC-Co、WC-TiC-TaC-Co、WC-Ni、WC-Ni-Cr等の超硬合金が使用できる。超硬合金としては、例えば、GM30(硬度HRA90)、MF20(硬度HRA91)等の、硬度HRA90以上、又は、硬度HRC70以上を有する超硬合金が好ましく使用できる。
ハイス鋼は、粘りがあり、優れた靭性、高抗力、高耐熱性等を有し、モリブデン系成分を3~10%を含有し、例えば、SKH51(硬度HRC62~64)、DC53(硬度HRC59~61)、SKD(硬度HRC59~61)の鋼材が好ましく使用できる。
粉末ハイス鋼は、強い靭性、耐摩耗性、ハイス鋼よりも硬い硬度を有し、モリブデン系成分を4.7~5.3%を含有し、例えば、YXM1、等であって、硬度がHRC64~67の鋼材が好ましく使用できる。
ダイス鋼は、熱や物理的インパクトに耐性を有し、SKD11、KD21、KD11、DC53、D2、等であって、硬度が、HRC59~61の鋼材が好ましく使用できる。
There is no particular limitation on the plate mold substrate 1. For example, a plate mold substrate 1 made of metal, plastic, resin, or the like, which is commonly used as a plate for pressing, can be used.
Particularly preferably, the plate mold substrate 1 can be made of metals such as stainless steel, brass, copper, magnesium, duralumin, etc., and steels such as iron, cemented carbide (GM MF), powder high speed steel (YXM), high speed steel (high speed steel, SKH, HSS), die steel (SKD), alloy tool steel (SKT, SKS), carbon tool steel (SK), etc.
The cemented carbide has hard properties and is not particularly limited, but for example, it is a composite material in which a carbide of a metal of group IVa, Va, or VIa of the wear-resistant periodic table (for example, tungsten carbide, WC) is sintered with an iron-based metal such as Fe, Co, or Ni, and is a steel material with excellent mechanical properties and least likely to break or be scratched, and cemented carbide such as WC-Co, WC-TiC-Co, WC-TaC-Co, WC-TiC-TaC-Co, WC-Ni, or WC-Ni-Cr can be used. As the cemented carbide, for example, a cemented carbide having a hardness of HRA90 or more, such as GM30 (hardness HRA90) or MF20 (hardness HRA91), or a hardness of HRC70 or more can be preferably used.
High speed steel is tough and has excellent toughness, high resistance, high heat resistance, etc., and contains 3 to 10% molybdenum-based components. For example, steel materials of SKH51 (hardness HRC 62 to 64), DC53 (hardness HRC 59 to 61), and SKD (hardness HRC 59 to 61) can be preferably used.
Powdered high speed steel has strong toughness, wear resistance, and a hardness greater than that of high speed steel. It contains 4.7 to 5.3% of molybdenum-based components, and a steel material having a hardness of HRC 64 to 67, such as YXM1, can be preferably used.
The die steel has resistance to heat and physical impact, and steel materials such as SKD11, KD21, KD11, DC53, D2, etc., with a hardness of HRC 59 to 61 can be preferably used.

このように、超硬合金は、ハイス鋼、ダイス鋼、合金工具鋼、炭素工具鋼よりも硬い硬度を有する。これらの鋼材の種類及びその性質については、日本工業規格JISに記載されている鋼材を、所望に選択して実施可能である。硬度記号のHRA、HRC等は、日本工業規格JISのロックウェル硬さを示す。
なお、本発明において、少なくとも鉄成分を含有してなる金属類を鋼鉄として定義する。
また、鉄、銅、マグネシウム、ジュラルミン、等の金属は、これらの金属を主成分とする金属を意味するものであり、これらの金属を主成分として、更に、他の金属が添加含有されてなる金属を意味する。
押圧加工用版においては、これらの金属製、プラスチック製、樹脂製、又は、ゴム製の版型用基板が所望に選択されるとともに、所望の大きさ形状を有する版型用基板が使用される。
Thus, cemented carbide has a hardness harder than high speed steel, die steel, alloy tool steel, and carbon tool steel. The types and properties of these steel materials can be selected as desired from the steel materials described in the Japanese Industrial Standards (JIS). The hardness symbols HRA, HRC, etc. indicate Rockwell hardness according to the Japanese Industrial Standards (JIS).
In the present invention, metals containing at least iron are defined as steel.
Furthermore, metals such as iron, copper, magnesium, duralumin, etc. refer to metals containing these metals as the main component, or metals containing these metals as the main component with other metals added thereto.
For the pressing plate, a plate mold substrate made of metal, plastic, resin, or rubber is selected as desired, and a plate mold substrate having a desired size and shape is used.

版型用基板1の版型用基板第一領域表面11の所望領域にインクジェットレジスト材2をインクジェット方式により付着して所望領域インクジェットレジスト付着膜を形成する所望領域インクジェットレジスト付着膜形成工程としては、例えば、電子部品の配線基板や印刷分野において汎用されているインクジェット印刷システム装置に類似する装置を使用して、インクジェット方式によりインクジェットレジスト材2を版型用基板の所望領域に付着する工程が実施できる。例えば、オンデマンド方式のインクジェット印刷システム装置を使用して、所定の微細な複数個の穴を備えた吐出ノズルからインクジェットレジスト材2を吐出して、CADデータにより制御されて、版型用基板に対して相対的に移動して、インクジェットレジスト材2を、所望の微細液滴状態で、版型用基板表面の所望領域に高精度で着弾して塗り分け付着し、これにより、版型用基板1の所望の領域に、高精度に付着された所望領域インクジェットレジスト付着膜を形成する。
吐出ノズルとしては、例えば、多数個(約1000個~約10000個)の微少口径を有する吐出ノズルを有するノズルヘッドを備えたインクジェット印刷システム装置が使用できる。
インクジェット印刷システム装置としては、特に限定されないが、例えば、マイクロクラフト社製のオンデマンド・インクジェット印刷システム装置、富士フィルム社製、石井表紀社製、キーエンス社製、SSIジャパン社製、又は、これらのインクジェット印刷システム装置に類似するその他の企業製の装置であって、所望の吐出周波数、解像度、液滴量、ノズル数、等の仕様を、所望仕様に改良したインクジェット印刷システム装置が使用できる。
後で説明する実施例においては、マイクロクラフト社製のオンデマンド・インクジェット印刷システム装置を使用して、インクジェットレジスト材をインクジェット方式により版型用基板に付着した。
As a desired area inkjet resist film forming step of forming a desired area inkjet resist film by applying the inkjet resist material 2 to a desired area of the first area surface 11 of the plate mold substrate 1 by an inkjet method, for example, a step of applying the inkjet resist material 2 to a desired area of the plate mold substrate by an inkjet method using an apparatus similar to an inkjet printing system apparatus commonly used in the fields of wiring boards for electronic components and printing can be carried out. For example, an on-demand inkjet printing system apparatus is used to discharge the inkjet resist material 2 from a discharge nozzle having a predetermined number of fine holes, and is controlled by CAD data to move relative to the plate mold substrate, so that the inkjet resist material 2 is landed in a desired fine droplet state on the desired area of the plate mold substrate surface with high precision and applied separately, thereby forming a desired area inkjet resist film that is applied with high precision to the desired area of the plate mold substrate 1.
As the ejection nozzle, for example, an inkjet printing system device equipped with a nozzle head having a large number (about 1,000 to about 10,000) of ejection nozzles with minute apertures can be used.
The inkjet printing system device is not particularly limited, but examples thereof include on-demand inkjet printing system devices manufactured by MicroCraft, Fujifilm, Ishii Omokki, Keyence, SSI Japan, or devices manufactured by other companies that are similar to these inkjet printing system devices, and inkjet printing system devices that have been modified to meet the desired specifications, such as the desired ejection frequency, resolution, droplet volume, and number of nozzles, can be used.
In the examples described below, an on-demand inkjet printing system manufactured by Microcraft was used to inkjet-apply the inkjet resist material to the plate substrate.

好ましくは、下記の仕様を有するインクジェット印刷システム装置が好ましい。
吐出ノズルから吐出されるインクジェットレジスト材液滴量は3pl~15plであり、横方向解像度は360dpi、720dpi、1080dpi、1440dpi、又は、600dpi、900dpi、1200dpi、1500dpi、2400dpiであり、縦方向解像度は720dpi、1440dpi、2160dpi、又は、1200dpi、2400dpiであり、標準解像度は720dpi~1200dpiであり、所望領域インクジェットレジスト付着膜が線形状の場合における最小線幅は40μm~90μmである。
なお、所望領域インクジェットレジスト付着膜の厚さは、特に限定されないが、例えば、硬化後の、所望領域インクジェットレジスト硬化膜の厚さが、約5μm~約100μmの範囲にある所望領域インクジェットレジスト付着膜が好ましく実施できる。また、更に好ましくは、所望領域インクジェットレジスト付着膜の厚さが、約5μm~約50μmの範囲にある所望領域インクジェットレジスト付着膜が好ましく実施できる。
Preferably, an inkjet printing system having the following specifications is preferred:
The amount of inkjet resist material droplets ejected from the ejection nozzle is 3 pl to 15 pl, the horizontal resolution is 360 dpi, 720 dpi, 1080 dpi, 1440 dpi, or 600 dpi, 900 dpi, 1200 dpi, 1500 dpi, or 2400 dpi, the vertical resolution is 720 dpi, 1440 dpi, 2160 dpi, or 1200 dpi, or 2400 dpi, the standard resolution is 720 dpi to 1200 dpi, and the minimum line width when the inkjet resist deposition film in the desired area is linear is 40 μm to 90 μm.
The thickness of the inkjet resist film in the desired area is not particularly limited, but for example, the thickness of the inkjet resist cured film in the desired area after curing is preferably in the range of about 5 μm to about 100 μm, and more preferably, the thickness of the inkjet resist film in the desired area is in the range of about 5 μm to about 50 μm.

従来の慣用液状レジスト材を使用した場合、約50μm以上の厚さであって、厚さが厚くなるに従って慣用レジスト付着膜材の平面領域の厚さのバラツキが大きくなり、均一な慣用レジスト付着膜を形成できなくなる傾向があり、そのために、露光用マスク部材を使用する紫外線等の露光時において露光にバラツキが生じて、所望の形状精度や寸法精度を有する現像された慣用レジスト硬化膜を形成できなくなり、その結果、その慣用レジスト硬化膜をエッチング用マスクとして版型用基板を腐蝕エッチングしたときに、所望の形状精度や寸法精度を有する凹凸部を形成できなくなる傾向がある。When a conventional liquid resist material is used, the thickness is about 50 μm or more, and as the thickness increases, the variation in thickness of the planar region of the conventional resist deposition film material increases, and it tends to be impossible to form a uniform conventional resist deposition film. As a result, during exposure to ultraviolet light, etc. using an exposure mask member, variation in exposure occurs, making it impossible to form a developed conventional resist hardened film having the desired shape accuracy and dimensional accuracy. As a result, when the conventional resist hardened film is used as an etching mask to corrode and etch a plate substrate, it tends to be impossible to form uneven portions having the desired shape accuracy and dimensional accuracy.

これに対して、所望領域インクジェットレジスト付着膜を形成した場合には、従来の慣用液状レジスト材を使用した場合と比べて、より厚い厚さの約100μmまで付着可能であり、露光用マスク部材を使用して現像することなく、その所望領域インクジェットレジスト付着膜を直接に露光して、所望領域インクジェットレジスト硬化膜を形成するために、約50μm以上の所望領域インクジェットレジスト付着膜であっても、所望形状を有する所望領域インクジェットレジスト硬化膜を形成することが可能であり、その結果、その所望領域インクジェットレジスト硬化膜をエッチング用マスクとして版型用基板を腐蝕エッチングしたときに、所望の形状精度や寸法精度を有する凹凸部を形成できる。
但し、インクジェットレジスト材を使用した場合において、約5μm~約50μmの範囲にある所望領域インクジェットレジスト付着膜が好ましく実施できる。
In contrast, when a desired area inkjet resist deposited film is formed, it can be deposited to a thickness of about 100 μm, which is thicker than when a conventional liquid resist material is used, and since the desired area inkjet resist deposited film is directly exposed to light without development using an exposure mask member to form a desired area inkjet resist cured film, it is possible to form a desired area inkjet resist cured film having a desired shape even for a desired area inkjet resist deposited film of about 50 μm or more. As a result, when a plate mold substrate is corroded and etched using the desired area inkjet resist cured film as an etching mask, unevenness having the desired shape accuracy and dimensional accuracy can be formed.
However, when an inkjet resist material is used, a desired area inkjet resist deposition film in the range of about 5 μm to about 50 μm is preferably achieved.

インクジェットレジスト材2としては、特に限定されないが、例えば、電子部品の配線板の製造分野、フォトリソグラフィ技術分野、等において使用されている従来の汎用の慣用液状インクジェットレジスト材であって、所望の粘度、感光反応性、温度反応性、等を有するインクジェットレジスト材が使用可能である。インクジェットレジスト材は、化学的腐蝕エッチング時の部分的保護、すなわち、化学的腐蝕エッチング時におけるエッチングに対する腐蝕エッチング用マスクとして用いられるレジスト材であり、版型用基板の腐蝕エッチング時のエッチング処理薬品に応じて、耐アルカリ性、耐酸性、等の、エッチング液に対して耐溶解性を有するエッチングレジスト材2を所望に選択して使用する。
例えば、二次元化学構造の有機高分子材を主成分とする流動性材であって、紫外線照射、電子線照射、レーザー照射又は加熱昇温により、化学構造的に架橋して三次元化学構造の架橋有機高分子の状態に変化して硬化する性質を有するネガ型フォトレジストの一種である汎用の慣用のインクジェットレジスト材2が使用できる。特に好ましくは、汎用の紫外線照射、紫外線露光により化学的に反応して架橋するインクジェットレジスト材が好ましく実施可能である。なお、三次元化学構造の架橋有機高分子の状態に硬化した後に、更に、80℃~150℃の温度で加熱して、更に熟成された硬化膜を形成することも、好ましく実施可能である。
このように硬化されて形成されたインクジェットレジスト硬化膜3は化学的腐蝕エッチング時の部分的保護、すなわち、腐蝕エッチング時における腐蝕エッチング用マスクとしての機能を発揮する。
The inkjet resist material 2 is not particularly limited, but may be, for example, a conventional general-purpose liquid inkjet resist material used in the fields of manufacturing wiring boards for electronic components, photolithography technology, etc., and having the desired viscosity, photosensitive reactivity, temperature reactivity, etc. The inkjet resist material is a resist material used for partial protection during chemical corrosive etching, i.e., as a corrosive etching mask against etching during chemical corrosive etching, and an etching resist material 2 having resistance to dissolution in etching solutions, such as alkali resistance or acid resistance, is selected as desired and used according to the etching treatment chemicals used during the corrosive etching of the plate mold substrate.
For example, a general-purpose conventional inkjet resist material 2, which is a type of negative photoresist that is a fluid material mainly composed of an organic polymer material with a two-dimensional chemical structure and has the property of being crosslinked in chemical structure and changing to a crosslinked organic polymer state with a three-dimensional chemical structure and curing by ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, laser irradiation, or heating, can be used. Particularly preferably, a general-purpose inkjet resist material that chemically reacts and crosslinks by ultraviolet irradiation or exposure to ultraviolet light can be preferably implemented. Note that, after curing into a crosslinked organic polymer state with a three-dimensional chemical structure, it can also be preferably implemented by further heating at a temperature of 80°C to 150°C to form a further matured cured film.
The inkjet resist hardened film 3 thus formed provides partial protection during chemical corrosive etching, that is, functions as a corrosive etching mask during corrosive etching.

また、インクジェットレジスト材2の粘度、粘性としては、特に限定されない。例えば、好ましくは5mPa・s~100mPa・s(25℃)、更に好ましくは10mPa・s~50mPa・s(25℃)の粘度、粘性を有するインクジェットレジスト材2が好ましい。
インクジェットレジスト材2の粘度が小さくなるに従ってインクジェットレジスト付着膜の厚さが薄くなり、インクジェットレジスト材2の粘度が大きくなるに従ってインクジェットレジスト付着膜の厚さが厚くなる傾向がある。腐蝕エッチング用マスクとしての機能に必要な所望の厚さにインクジェットレジスト付着膜を形成できる粘度を有するインクジェットレジスト材を選択して使用する。最適な粘性を有するインクジェットレジスト材2を使用して、版型用基板表面の所望の領域に高精度で所望の図文字絵柄模様形態を有する所望領域インクジェットレジスト付着膜を形成する。
There is no particular limitation on the viscosity of the inkjet resist material 2. For example, the inkjet resist material 2 preferably has a viscosity of 5 mPa·s to 100 mPa·s (25° C.), and more preferably has a viscosity of 10 mPa·s to 50 mPa·s (25° C.).
The thickness of the inkjet resist deposition film tends to be thinner as the viscosity of the inkjet resist material 2 decreases, and the thickness of the inkjet resist deposition film tends to be thicker as the viscosity of the inkjet resist material 2 increases. An inkjet resist material having a viscosity capable of forming an inkjet resist deposition film of a desired thickness required for the function as a corrosive etching mask is selected and used. Using the inkjet resist material 2 having the optimum viscosity, an inkjet resist deposition film having a desired graphic, letter, or picture pattern shape with high accuracy is formed in a desired area on the surface of the plate mold substrate.

上記のインクジェットレジスト材2をしようして、凹凸部を形成した版型用基板を使用した場合において、その凹凸部の凹部の側面又は凸部の側面に、インクジェットレジスト材が垂れ落ちることなく、所望領域インクジェットレジスト付着膜を形成することができる。
そして、その所望領域インクジェットレジスト付着膜を硬化して形成された所望領域インクジェットレジスト硬化膜(3)を腐食エッチング用マスクとして、版型用基板の凹凸部のエッチング時における凹凸部の側面の部分的保護膜としての作用を有し、凹凸部の側面の腐蝕エッチングが抑制された所望の領域のみをエッチング可能である作用効果が著しく発揮される。
When the above-mentioned inkjet resist material 2 is used on a plate mold substrate having an uneven portion formed thereon, an inkjet resist film can be formed in a desired area without the inkjet resist material dripping onto the side of the concave or convex portions of the uneven portion.
The desired area inkjet resist cured film (3) formed by curing the desired area inkjet resist deposited film is used as a mask for corrosive etching and acts as a partial protective film for the side of the unevenness of the unevenness of the plate mold substrate when etching the unevenness, thereby exerting a remarkable effect of being able to etch only the desired area with corrosive etching of the side of the unevenness suppressed.

インクジェットレジスト材の具体的材料としては、特に限定されなく、例えば、電子部品分野としての印刷配線基板の金属を腐蝕エッチングするために使用される汎用のインクジェットレジスト材が使用可能であり、例えば、太陽インキ製造社製、三井化学社製、互応化学工業社製、JNC社製、ニッコーマテリアル社製、旭化成社製、日本アグファレバルト社製、東京応化工業社製、等から多種類の物性を有するインクジェットレジスト材が市販されて、供給されているしている企業製インクジェットレジスト材であって、例えば、紫外線照射において化学的反応して不溶化してレジスト硬化膜を形成する所望の粘度を有するインクジェットレジスト材、を所望に選択して使用する。The specific material of the inkjet resist material is not particularly limited, and for example, a general-purpose inkjet resist material used for corroding and etching metals on printed wiring boards in the field of electronic components can be used. For example, inkjet resist materials having a wide variety of physical properties are commercially available and supplied by companies such as Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd., Mitsui Chemicals, Inc., GOO Chemical Industry Co., Ltd., JNC Corporation, Nikko Materials Co., Ltd., Asahi Kasei Corporation, Nippon Agfa Lewald AG, Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd., and the like. An inkjet resist material having a desired viscosity that undergoes a chemical reaction upon exposure to ultraviolet light to become insoluble and form a hardened resist film can be selected as desired and used.

版型用基板1の所望領域を腐蝕エッチングするためのエッチング液としては、特に限定されなく、一般に、押圧加工用半の製造に使用されている汎用のエッチング液を、所望に選択して使用する。エッチング液としては、時に限定されないが、例えば、汎用の「塩化第二鉄水溶液」が好ましく実施可能である。
例えば、版型用基板1が銅製、真鍮製、マグネシウム合金製、鉄製、鋼鉄製の版型用基板1である場合には、第2塩化鉄水溶液を使用して、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成した版型用基板1の表面にエッチング液を接触して、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が付着されていない版型用基板1の表面をエッチングする。
例えば、版型用基板が樹脂製、プラスチック製、又は、ゴム製の版型用基板である場合には、その樹脂、プラスチック、又は、ゴムを溶解可能な液剤を使用して、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成した版型用基板1の表面にエッチング液を接触して、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が付着されていない版型用基板1の表面をエッチングする。
There is no particular limitation on the etching solution used to etch the desired area of the mold substrate 1, and any general-purpose etching solution generally used in the manufacture of pressing dies can be selected and used as desired. The etching solution is not particularly limited, but for example, a general-purpose "aqueous solution of ferric chloride" is preferably used.
For example, when the plate mold substrate 1 is made of copper, brass, magnesium alloy, iron, or steel, an aqueous solution of ferric chloride is used to bring an etching solution into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the desired region inkjet resist hardened film 3 is formed, and the surface of the plate mold substrate 1 on which the desired region inkjet resist hardened film 3 is not attached is etched.
For example, when the plate mold substrate is made of resin, plastic, or rubber, a liquid capable of dissolving the resin, plastic, or rubber is used to bring an etching solution into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the desired region inkjet resist hardened film 3 is formed, and the surface of the plate mold substrate 1 on which the desired region inkjet resist hardened film 3 is not attached is etched.

版型用基板1の表面にエッチング液を接触する方法としては、特に限定されなく、例えば、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成した版型用基板1の表面にエッチング液をシャワー方式で接触させる方法、エッチング液が入っているエッチング液容器の中に所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成した版型用基板1を浸漬する方法、又は、パドル吹上方法、等の接触方法が好ましく使用できる。
なお、この所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成した版型用基板1の表面にエッチング液を接触している時間が長くなるにしたがって、版型用基板のエッチングの深さが深くなっていく。従って、所望のエッチング深さになるようにエッチング時間を制御してエッチングが行われる。
The method for contacting the surface of the plate mold substrate 1 with the etching solution is not particularly limited, and for example, a method of contacting the surface of the plate mold substrate 1 on which the desired area inkjet resist hardened film 3 has been formed with the etching solution by a shower method, a method of immersing the plate mold substrate 1 on which the desired area inkjet resist hardened film 3 has been formed in an etching solution container containing the etching solution, a paddle blowing method, or other contact methods can be preferably used.
The etching depth of the plate mold substrate increases as the time that the etching solution is in contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the desired region inkjet resist cured film 3 is formed increases. Therefore, the etching time is controlled to perform etching so as to obtain the desired etching depth.

所望領域インクジェットレジスト硬化膜を除去するためのレジスト除去方法としては、特に限定されなく、そのインクジェットレジスト硬化膜を化学的に分解可能な液剤、例えば、水酸化ナトリウム水溶液を使用して、その水酸化ナトリウム水溶液をインクジェットレジスト硬化膜に接触させて、インクジェットレジスト硬化膜を化学的に分解、分解溶解、膨潤及び/又は剥離して、所望領域がエッチングされた版型用基板からインクジェットレジスト硬化膜を除去する。The resist removal method for removing the inkjet resist cured film in the desired region is not particularly limited, and may be such that a liquid agent capable of chemically decomposing the inkjet resist cured film, such as an aqueous sodium hydroxide solution, is used, and the aqueous sodium hydroxide solution is brought into contact with the inkjet resist cured film to chemically decompose, decompose and dissolve, swell and/or peel off the inkjet resist cured film, thereby removing the inkjet resist cured film from the plate mold substrate with the desired region etched.

その後、水洗、乾燥等の工程を経て、版型用基板1の表面に凹形状で形成された腐蝕凹形成部を形成する。
なお、前述のように、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3により覆われている領域が、エッチングされることなく残って、腐蝕凹形成部の凹形状の底面から突出した形状を有する腐蝕凸形成部が凸形状として形成される。
このようにして、凹凸表面形状で形成されてなる押圧加工用版が製造される。
Thereafter, through processes such as washing with water and drying, a corroded recess is formed in the surface of the plate mold substrate 1 in a recessed shape.
As described above, the area covered by the desired area inkjet resist hardened film 3 remains without being etched, and a corroded protrusion-forming portion having a shape protruding from the bottom surface of the concave shape of the corroded recess-forming portion is formed as a convex shape.
In this manner, a pressing plate having an uneven surface shape is manufactured.

[従属構成2]
上記の[基本構成1]の本発明の押圧加工用版の製造方法において、好ましくは、下記の構成を備えた押圧加工用版の製造方法が実施可能である。
[基本構成1]の前記(A)工程において、版型用基板第二領域表面12は一つ又は複数の凹凸のない無凹凸部を有し、版型用基板第一領域表面11は一つ又は複数の既成凹凸部4を有する。
(i)版型用基板第二領域表面12が一つの凹凸のない無凹凸部を有するとともに、版型用基板第一領域表面11が一つの既成凹凸部4を有する場合、無凹凸部は前記既成凹凸部(4)の周囲領域に位置し、既成凹凸部4は、(イ)複数の凸形状で形成された複数の既成複数凹凸部凸部45と複数の凹形状で形成された複数の既成複数凹凸部凹部452とを有してなる既成複数凹凸部45、又は、(ロ)複数の微細凸形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の微細凹形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凹部462とを有してなる既成複数微細凹凸部46を有する。
(ii)版型用基板第二領域表面12が複数の凹凸のない無凹凸部を有するとともに、版型用基板第一領域表面11が複数の既成凹凸部4を有する場合、複数の無凹凸部のうちのそれぞれの無凹凸部は複数の既成凹凸部4のうちのそれぞれの既成凹凸部4の周囲領域に位置し、複数の既成凹凸部4のうちのそれぞれの既成凹凸部4は、(イ)複数の凸形状で形成された複数の既成複数凹凸部凸部451と複数の凹形状で形成された複数の既成複数凹凸部凹部452とを有してなる既成複数凹凸部45、及び/又は、(ロ)複数の微細凸形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の微細凹形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凹部462とを有してなる既成複数微細凹凸部46を有する。
[Subordinate configuration 2]
In the method for producing a press plate of the present invention described above in [Basic Configuration 1], it is possible to preferably implement a method for producing a press plate having the following configuration.
In the step (A) of [Basic Configuration 1], the second region surface 12 of the plate mold substrate has one or more non-relief portions without any irregularities, and the first region surface 11 of the plate mold substrate has one or more pre-formed irregular portions 4 .
(i) When the second region surface 12 of the substrate for the mold has one uneven portion without any irregularities and the first region surface 11 of the substrate for the mold has one pre-formed uneven portion 4, the uneven portion is located in the surrounding region of the pre-formed uneven portion (4), and the pre-formed uneven portion 4 has (a) a pre-formed multiple uneven portion 45 having a plurality of pre-formed multiple uneven portion convex portions 45 formed with a plurality of convex shapes and a plurality of pre-formed multiple uneven portion concave portions 452 formed with a plurality of concave shapes, or (b) a pre-formed multiple fine uneven portion 46 having a plurality of pre-formed multiple fine uneven portion convex portions 461 formed with a plurality of fine convex shapes and a plurality of pre-formed multiple fine uneven portion concave portions 462 formed with a plurality of fine concave shapes.
(ii) when the second region surface 12 of the substrate for the mold has a non-irregular portion without multiple irregularities and the first region surface 11 of the substrate for the mold has a multiple pre-formed uneven portion 4, each of the multiple non-irregular portions is located in the surrounding region of each of the multiple pre-formed uneven portions 4, and each of the multiple pre-formed uneven portions 4 has (a) a pre-formed multiple uneven portion 45 having a multiple pre-formed multiple uneven portion convex portions 451 formed with a multiple convex shapes and a multiple pre-formed multiple uneven portion concave portions 452 formed with a multiple concave shapes, and/or (b) a pre-formed multiple fine uneven portion 46 having a multiple pre-formed multiple fine uneven portion convex portions 461 formed with a multiple fine convex shapes and a multiple pre-formed multiple fine uneven portion concave portions 462 formed with a multiple fine concave shapes.

[基本構成1]の前記(B)工程において、版型用基板1の版型用基板第一領域表面11の既成凹凸部4を覆ってインクジェットレジスト材2をインクジェット方式により付着して所望領域インクジェットレジスト付着膜を形成する所望領域インクジェットレジスト付着膜形成工程、及び、その所望領域インクジェットレジスト付着膜を硬化して所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成する所望領域インクジェットレジスト硬化膜形成工程、を備える。The process (B) of [Basic Configuration 1] includes a desired area inkjet resist deposition film formation process in which an inkjet resist material 2 is deposited by an inkjet method to cover the existing uneven portion 4 on the plate mold substrate first area surface 11 of the plate mold substrate 1 to form a desired area inkjet resist deposition film, and a desired area inkjet resist hardened film formation process in which the desired area inkjet resist deposition film is hardened to form a desired area inkjet resist hardened film 3.

[基本構成1]の前記(C)工程において、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成した版型用基板1の表面にエッチング液を接触して、所望領域インクジェットレジスト硬化膜が付着されていない版型用基板第二領域表面12をエッチングする版型用基板エッチング工程を備え、これにより、既成凹凸部4をエッチングすることなく、版型用基板第二領域表面12をエッチングして、凹部形状で形成されたインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成する。
ここで、凹部形状で形成された「インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121」は、前記「基本構成1」の凹部形状で形成された「腐蝕凹形成部」に相当する。
[基本構成1]の前記(D)工程において、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を除去する所望領域インクジェットレジスト硬化膜除去工程を備える。
The step (C) of [Basic Configuration 1] includes a step of etching the plate mold substrate by contacting an etching solution with the surface of the plate mold substrate 1 on which the desired region inkjet resist hardened film 3 is formed, and etching the plate mold substrate second region surface 12 on which the desired region inkjet resist hardened film is not attached. This etches the plate mold substrate second region surface 12 without etching the existing uneven portion 4, and forms the inkjet resist film etched second recess formation portion 121 formed in a recess shape.
Here, the "inkjet resist film etched second recessed portion 121" formed in a recessed shape corresponds to the "etched recessed portion" formed in a recessed shape of the "basic configuration 1" described above.
The step (D) of [Basic Configuration 1] includes a desired area inkjet resist hardened film removal step of removing the desired area inkjet resist hardened film 3.

これにより、既成凹凸部4を、エッチングすることなく、版型用基板第二領域表面12をエッチングして、凹部形状で形成されたインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成するとともに、既成凹凸部4を、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121から突出した突出形状に形成する。
このようにして、押圧加工用版が製造される。
なお、本従属構成2における「インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121」は、前述の基本構成1における「腐蝕凹形成部」に相当する。
As a result, the second area surface 12 of the mold substrate is etched without etching the existing uneven portion 4, thereby forming the inkjet resist film etched second recessed portion 121 formed in a recessed shape, and the existing uneven portion 4 is formed into a protruding shape protruding from the inkjet resist film etched second recessed portion 121.
In this manner, a pressing plate is manufactured.
It should be noted that the “inkjet resist film etching second recess forming portion 121 ” in this subordinate configuration 2 corresponds to the “etched recess forming portion” in the basic configuration 1 described above.

本構成において、特に、前述のように、インクジェットレジスト材2の粘度、粘性としては特に限定されない。例えば、好ましくは5mPa・s~100mPa・s(25℃)、更に好ましくは10mPa・s~50mPa・s(25℃)の粘度、粘性を有するインクジェットレジスト材2が好ましい。
インクジェットレジスト材2の粘度が小さくなるに従ってインクジェットレジスト付着膜の厚さが薄くなり、インクジェットレジスト材2の粘度が大きくなるに従ってインクジェットレジスト付着膜の厚さが厚くなる傾向がある。腐蝕エッチング用マスクとしての機能に必要な所望の厚さにインクジェットレジスト付着膜を形成できる粘度を有するインクジェットレジスト材を選択して使用する。
最適な粘性を有するインクジェットレジスト材2を使用することにより、所望の厚さを有すると共に、版型用基板表面の所望の領域に高精度で所望の所望領域インクジェットレジスト付着膜を形成可能になる。更に、例えば、複数の既成凹凸部4を形成した版型用基板を使用した場合において、複数の凸形状で形成された複数の既成複数凹凸部凸部451と複数の凹形状で形成された複数の既成複数凹凸部凹部452、及び/又は、複数の微細凸形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の微細凹形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凹部462のそれぞれの側面に付着されたインクジェットレジスト材が垂れ落ちることなく、それぞれの側面に所望領域インクジェットレジスト付着膜を形成する。
そして、所望領域インクジェットレジスト付着膜が、版型用基板の腐蝕エッチング時における凹凸部の複数の既成複数凹凸部凸部451と複数の既成複数凹凸部凹部452、及び/又は、複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462のそれぞれの側面の部分的保護膜としての作用を有し、これにより、複数の既成複数凹凸部凸部451と複数の既成複数凹凸部凹部452、及び/又は、複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462のそれぞれの側面の腐蝕エッチングが抑制され、既成凹凸部4の周囲のみの所望の領域のみをエッチング可能である作用効果が著しく発揮される。
In this configuration, as described above, there is no particular limitation on the viscosity of the inkjet resist material 2. For example, the inkjet resist material 2 preferably has a viscosity of 5 mPa·s to 100 mPa·s (25° C.), and more preferably has a viscosity of 10 mPa·s to 50 mPa·s (25° C.).
There is a tendency that the thickness of the inkjet resist deposited film becomes thinner as the viscosity of the inkjet resist material 2 becomes lower, and the thickness of the inkjet resist deposited film becomes thicker as the viscosity of the inkjet resist material 2 becomes higher. An inkjet resist material having a viscosity capable of forming an inkjet resist deposited film of a desired thickness required for functioning as a corrosive etching mask is selected and used.
By using the inkjet resist material 2 having an optimal viscosity, it is possible to form a desired thickness and a desired inkjet resist attached film with high accuracy in a desired region on the surface of the plate mold substrate. Furthermore, for example, when a plate mold substrate having a plurality of pre-formed concave and convex portions 4 is used, the inkjet resist material attached to each side of the pre-formed convex portions 451 formed with a plurality of convex shapes and the pre-formed concave portions 452 formed with a plurality of concave shapes, and/or the pre-formed fine convex portions 461 formed with a plurality of fine convex shapes and the pre-formed fine concave portions 462 formed with a plurality of fine concave shapes forms a desired region inkjet resist attached film on each side without dripping.
Furthermore, the desired area inkjet resist deposition film acts as a partial protective film for the side surfaces of the multiple pre-formed multiple concave-convex portions 451 and the multiple pre-formed multiple concave-convex portions 452, and/or the multiple pre-formed multiple fine concave-convex portions 461 and the multiple pre-formed multiple fine concave-convex portions 462 of the concave-convex portion during corrosive etching of the plate mold substrate, thereby suppressing corrosive etching of the side surfaces of the multiple pre-formed multiple concave-convex portions 451 and the multiple pre-formed multiple concave-convex portions 452, and/or the multiple pre-formed multiple fine concave-convex portions 461 and the multiple pre-formed multiple fine concave-convex portions 462, and significantly exhibiting the effect of being able to etch only the desired area around the pre-formed concave-convex portions 4.

本発明の構成により、前述の「(製造方法効果イ:インクジェットレジストによる所望寸法の凹凸表面形状を形成可能効果)」が得られるとともに、特に、「(製造方法効果イ-a:インクジェットレジストによる突出した形状を有する所望寸法の既成凹凸部を形成可能効果)化学的腐蝕エッチング加工であって、凹部と該凹部から突出した突起部と、その突起部の表面に複数の既成複数凹凸部凹部と複数の既成複数凹凸部凸部とを有する既成複数凹凸部、及び/又は、複数の既成複数微細凹凸部凸部と複数の既成複数微細凹凸部凹部とを有する既成複数微細凹凸部が形成されてなるとともに、「版型用基板のエッチングされてはならない領域」の腐蝕エッチングが抑制されてなる所望の形状を備えた押圧加工用版を製造することが可能になる効果」が得られる。The configuration of the present invention provides the aforementioned "(Manufacturing method effect A: effect of being able to form an uneven surface shape of desired dimensions using inkjet resist)" and, in particular, provides the effect of "(Manufacturing method effect A-a: effect of being able to form a pre-formed uneven portion of desired dimensions having a protruding shape using inkjet resist) an effect of being able to manufacture a pressing plate having a desired shape by chemical corrosive etching processing, in which a pre-formed multiple uneven portion having a concave portion and a protrusion protruding from the concave portion, and a pre-formed multiple fine uneven portion having a plurality of pre-formed multiple uneven portion concave portions and a plurality of pre-formed multiple fine uneven portion convex portions and a plurality of pre-formed multiple fine uneven portion concave portions is formed on the surface of the protrusion, and/or a pre-formed multiple fine uneven portion having a plurality of pre-formed multiple fine uneven portion convex portions and a plurality of pre-formed multiple fine uneven portion concave portions, and in which corrosive etching of the 'areas of the plate mold substrate that must not be etched' is suppressed."

以下に本発明の押圧加工用版の製造方法について、図面を示しながら説明する。図面において、押圧加工用版及び構成要素等の形状・大きさ・寸法等は正確に示すものではなく、形状、構成、システム、作用効果等の特徴を説明するための模式的概略を示すものである。The method for manufacturing a pressing plate of the present invention will be described below with reference to the drawings. The drawings do not accurately show the shapes, sizes, dimensions, etc. of the pressing plate and components, but show a schematic outline for explaining the features such as the shapes, configurations, systems, and effects.

[従属構成3]
上記の[基本構成1]の本発明の押圧加工用版の製造方法において、好ましくは、下記の「従属構成3」を備えた押圧加工用版の製造方法が実施可能である。
図1、及び、図2は本発明の一実施例の押圧加工用版の製造方法の製造工程を説明するための模式的概略図であり、
図1、図2のそれぞれの(A-b)、(B-b)、(C-b)、(D-b)は平面模式的概略図であり、(A)、(B)、(C)、(D)は、平面模式的概略図のA-A線における断面模式的概略図である。
図3は、本発明の他の一実施例の押圧加工用版の製造方法の製造工程を説明するための模式的概略図であり、図3の(A)、(B)、(C)、(D)は、断面模式的概略図である。
[Subordinate structure 3]
In the manufacturing method of a press plate of the present invention having the above-mentioned [Basic Configuration 1], it is possible to preferably implement a manufacturing method of a press plate having the following "Sub-Configuration 3".
FIG. 1 and FIG. 2 are schematic diagrams for explaining the manufacturing steps of a method for manufacturing a press plate according to one embodiment of the present invention;
In Figures 1 and 2, (A-b), (B-b), (C-b), and (D-b) are schematic plan views, and (A), (B), (C), and (D) are schematic cross-sectional views taken along line A-A of the schematic plan views.
FIG. 3 is a schematic diagram for explaining the manufacturing steps of a method for manufacturing a press processing plate according to another embodiment of the present invention, and (A), (B), (C), and (D) of FIG. 3 are schematic cross-sectional views.

前述の従属構成2の(A)工程において、図1、図2の(A)、(A-b)、図3の(A)に示されるように、前記版型用基板第二領域表面12は凹凸のない無凹凸部を有し、版型用基板第一領域表面11は既成凹凸部4を有し、版型用基板第二領域表面12は版型用基板第一領域表面11の周囲領域に位置する。既成凹凸部4は既成複数凹凸部45を有する。
(イ)前記既成複数凹凸部45は複数の凸形状で形成された複数の既成複数凹凸部凸部451と複数の凹形状で形成された複数の既成複数凹凸部凹部452とを有し、複数の既成複数凹凸部凸部451は複数の既成複数凹凸部凸部上面451aと複数の既成複数凹凸部凸部側面451bとを有し、複数の既成複数凹凸部凹部452は複数の既成複数凹凸部凹部底面452cと複数の既成複数凹凸部凹部側面452bとを有する。
ここで、複数の既成複数凹凸部凸部側面451bと複数の既成複数凹凸部凹部側面452bとは、互いに同じ側面領域に相当する。
In step (A) of the aforementioned subordinate configuration 2, as shown in Fig. 1, Fig. 2(A), (A-b), and Fig. 3(A), the second region surface 12 of the plate mold substrate has a non-relief portion without any irregularities, the first region surface 11 of the plate mold substrate has a pre-formed irregular portion 4, and the second region surface 12 of the plate mold substrate is located in the peripheral region of the first region surface 11 of the plate mold substrate. The pre-formed irregular portion 4 has a plurality of pre-formed irregular portions 45.
(i) The preformed multiple uneven portion 45 has a plurality of preformed multiple uneven portion convex portions 451 formed with a plurality of convex shapes and a plurality of preformed multiple uneven portion concave portions 452 formed with a plurality of concave shapes, the plurality of preformed multiple uneven portion convex portions 451 have a plurality of preformed multiple uneven portion convex portion upper surfaces 451a and a plurality of preformed multiple uneven portion convex portion side surfaces 451b, and the plurality of preformed multiple uneven portion concave portions 452 have a plurality of preformed multiple uneven portion concave portion bottom surfaces 452c and a plurality of preformed multiple uneven portion concave portion side surfaces 452b.
Here, the multiple convex portion side surfaces 451b of the existing multiple concave-convex portions and the multiple concave-convex portion side surfaces 452b of the existing multiple concave-convex portions correspond to the same side surface region.

前述の従属構成2の前記(B)工程において、図1、図2の(B)、(B-b)、図3の(B)に示されるように、複数の既成複数凹凸部凸部上面451aと複数の既成複数凹凸部凸部側面451bと複数の既成複数凹凸部凹部底面452cとを覆って、インクジェットレジスト材2をインクジェット方式で付着して、インクジェットレジスト凸部上面付着膜とインクジェットレジスト凸部側面付着膜とインクジェット凹部底面付着膜とを形成するインクジェットレジスト付着膜形成工程を備える。ここで、既成複数凹凸部45の周囲領域に位置する前記版型用基板第二領域表面12にはインクジェットレジスト材2が付着されない。
前記(B)工程において、更に、インクジェットレジスト凸部上面付着膜とインクジェットレジスト凸部側面付着膜とインクジェット凹部底面付着膜とを硬化して、所望領域インクジェットレジスト凸部上面硬化膜3aと所望領域インクジェットレジスト凸部側面硬化膜3bと所望領域インクジェットレジスト凹部底面硬化膜3cとを有する所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成する所望領域インクジェットレジスト硬化膜形成工程、を備える。
このようにして、所望領域インクジェットレジスト凸部上面硬化膜3aと所望領域インクジェットレジスト凸部側面硬化膜3bと所望領域インクジェットレジスト凹部底面硬化膜3cとを有する所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が形成される。
1, 2B, 2B-b, and 3B, the step (B) of the subordinate configuration 2 includes an inkjet resist film forming step of applying an inkjet resist material 2 by an inkjet method to cover the convex portion top surfaces 451a, the convex portion side surfaces 451b, and the concave portion bottom surfaces 452c of the pre-formed multiple concave-convex portions to form an inkjet resist convex portion top surface adhering film, an inkjet resist convex portion side surface adhering film, and an inkjet concave portion bottom surface adhering film, as shown in FIG. 1, FIG. 2B, (B-b), and FIG. 3B. Here, the inkjet resist material 2 is not applied to the second region surface 12 of the plate mold substrate located in the peripheral region of the pre-formed multiple concave-convex portions 45.
The process (B) further includes a desired region inkjet resist hardened film formation process, in which the film adhered to the top surface of the inkjet resist convex portion, the film adhered to the side surface of the inkjet resist convex portion, and the film adhered to the bottom surface of the inkjet recess portion are hardened to form a desired region inkjet resist hardened film 3 having a desired region inkjet resist convex portion top surface hardened film 3a, a desired region inkjet resist convex portion side surface hardened film 3b, and a desired region inkjet resist recess bottom surface hardened film 3c.
In this manner, a desired region inkjet resist hardened film 3 is formed, which has a desired region inkjet resist convex portion top surface hardened film 3a, a desired region inkjet resist convex portion side surface hardened film 3b, and a desired region inkjet resist concave portion bottom surface hardened film 3c.

ここで、複数の既成複数凹凸部凸部側面451bと複数の既成複数凹凸部凹部側面452bとは互いに同じ側面領域に相当するため、インクジェットレジスト凸部側面付着膜とインクジェット凹部側面付着膜とは互いに同じ付着膜に相当し、所望領域インクジェットレジスト凸部側面硬化膜3bは所望領域インクジェットレジスト凹部側面硬化膜と同じ硬化膜を意味する。Here, since the multiple pre-formed multiple concave-convex portion convex side surfaces 451b and the multiple pre-formed multiple concave-convex portion concave side surfaces 452b correspond to the same side surface region, the inkjet resist convex portion side adhered film and the inkjet concave portion side adhered film correspond to the same adhered film, and the desired area inkjet resist convex portion side surface hardened film 3b means the same hardened film as the desired area inkjet resist concave portion side surface hardened film.

前述の従属構成2の前記(C)工程において、図1、図2の(C)、(C-b)、図3の(C)に示されるように、所望領域インクジェットレジスト凸部上面硬化膜3aと所望領域インクジェットレジスト凸部側面硬化膜3bと所望領域インクジェットレジスト凹部底面硬化膜3cとを形成した版型用基板1の表面にエッチング液を接触して、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が付着されていない版型用基板第二領域表面12をエッチングする版型用基板エッチング工程を備える。
これにより、前記既成複数凹凸部45をエッチングすることなく、版型用基板第二領域表面12をエッチングして、エッチングされてなる凹部形状を有するインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成するとともに、既成複数凹凸部45を、該インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121から突出されてなる突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部455の形態に形成する。
The step (C) of the aforementioned subordinate configuration 2 includes a plate mold substrate etching step of contacting an etching solution with the surface of the plate mold substrate 1 on which the desired region inkjet resist convex portion top surface hardened film 3a, the desired region inkjet resist convex portion side surface hardened film 3b, and the desired region inkjet resist concave portion bottom surface hardened film 3c are formed, to etch the plate mold substrate second region surface 12 on which the desired region inkjet resist hardened film 3 is not attached, as shown in Figs. 1, 2(C), (C-b), and 3(C).
As a result, the second area surface 12 of the plate mold substrate is etched without etching the pre-formed multiple concave-convex portions 45, thereby forming an inkjet resist film etched second concave formation portion 121 having an etched concave shape, and the pre-formed multiple concave-convex portions 45 are formed into the form of an inkjet film etched pre-formed multiple concave-convex portion protrusion portion 455 having a protruding shape protruding from the inkjet resist film etched second concave formation portion 121.

前述の従属構成2の前記(D)工程において、図1、図2の(D)、(D-b)、図3の(D)に示されるように、所望領域インクジェットレジスト凸部上面硬化膜3aと所望領域インクジェットレジスト凸部側面硬化膜3bと所望領域インクジェットレジスト底面硬化膜3cとを除去するレジスト硬化膜除去工程を備える。The step (D) of the aforementioned subordinate configuration 2 includes a resist hardened film removal step of removing the hardened film 3a on the top surface of the desired region inkjet resist convex portion, the hardened film 3b on the side surface of the desired region inkjet resist convex portion, and the hardened film 3c on the bottom surface of the desired region inkjet resist, as shown in Figs. 1, 2(D), (D-b), and 3(D).

これにより、既成複数凹凸部45がエッチングされることなく、版型用基板第二領域表面12がエッチングされてなるインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121が形成されるとともに、複数の既成複数凹凸部凸部451と複数の既成複数凹凸部凹部452とを有する既成複数凹凸部45を備えた版型用基板第一領域表面11が、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の底面から突出してなる突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部455の形態に形成される。
なお、図1、図2の(D)、(D-b)、図3の(D)に示されるように、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の深さ寸法は「D12」であり、複数の既成複数凹凸部凸部451と複数の既成複数凹凸部凹部452のそれぞれの深さ寸法は初期の深さ寸法「D1」を維持する。
このようにして、押圧加工用版が製造される。
As a result, the second region surface 12 of the plate mold substrate is etched to form an inkjet resist film corrosion second recess formation portion 121 without etching the pre-formed multiple uneven portions 45, and the first region surface 11 of the plate mold substrate having a pre-formed multiple uneven portion 45 having a plurality of pre-formed multiple uneven portion convex portions 451 and a plurality of pre-formed multiple uneven portion concave portions 452 is formed in the form of an inkjet film corrosion pre-formed multiple uneven portion protrusion portion 455 having a protruding shape protruding from the bottom surface of the inkjet resist film corrosion second recess formation portion 121.
As shown in Figures 1, 2(D), (D-b), and 3(D), the depth dimension of the inkjet resist film corrosion second recess formation portion 121 is "D12", and the depth dimensions of the multiple existing multiple uneven portion convex portions 451 and the multiple existing multiple uneven portion concave portions 452 each maintain the initial depth dimension "D1".
In this manner, a pressing plate is manufactured.

この構成により、前述の「(製造方法効果イ:インクジェットレジストによる所望寸法の凹凸表面形状を形成可能効果)」が得られるとともに、特に、「(製造方法効果イ-a:インクジェットレジストによる突出した形状を有する所望寸法の既成凹凸部を形成可能効果)化学的腐蝕エッチング加工であって、凹部と該凹部から突出した突起部と、その突起部の表面に複数の既成複数凹凸部凹部と複数の既成複数凹凸部凸部とを有する既成複数凹凸部、が形成されてなるとともに、「版型用基板のエッチングされてはならない領域」の腐蝕エッチングが抑制されてなる所望の形状を備えた押圧加工用版を製造することが可能になる効果」が得られる。
すなわち、腐蝕エッチングされてなるインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121が形成されるとともに、「版型用基板のエッチングされてはならない領域としての『複数の既成複数凹凸部凸部側面451b(複数の既成複数凹凸部凹部側面452bと同じ側面)』の腐蝕エッチングが抑制されてなる所望の形状を備えた押圧加工用版を製造することが可能になる効果」が得られる。
This configuration provides the aforementioned "(Manufacturing method effect A: effect of being able to form an uneven surface shape of desired dimensions using inkjet resist)" and, in particular, provides the effect of "(Manufacturing method effect A-a: effect of being able to form a pre-formed uneven portion of desired dimensions with a protruding shape using inkjet resist) an effect of being able to manufacture a pressing processing plate having a desired shape by chemical corrosive etching processing, in which a concave portion and a protrusion protruding from the concave portion, and a pre-formed multiple uneven portion having a plurality of pre-formed multiple uneven portion concave portions and a plurality of pre-formed multiple uneven portion convex portions on the surface of the protrusion, are formed, and corrosive etching of the "areas of the plate mold substrate that must not be etched" is suppressed."
In other words, the inkjet resist film is etched to form a second recessed portion 121, and the effect of "making it possible to manufacture a pressing plate having a desired shape by suppressing the etching of the convex portion side 451b of the multiple pre-formed multiple concave-convex portions (the same side as the concave portion side 452b of the multiple pre-formed multiple concave-convex portions) which is an area of the plate mold substrate that must not be etched" is obtained.

図1、図2、及び、図3に示されるそれぞれの押圧加工用版の製造工程は、下記の点において、互いに異なる製造工程を示す。The manufacturing processes for the pressing plate shown in FIGS. 1, 2 and 3 are different from each other in the following respects.

図1に示される押圧加工用版の製造工程において、(A)工程において、図1(A)の既成複数凹凸部45の既成複数凹凸部凹部452は深さ「D1」を有し、版型用基板第二領域表面12は既成複数凹凸部45の既成複数凹凸部凸部上面451aと同じ高さを有する形状を有する。
(B)工程において、図1(B)に示されるように、既成複数凹凸部凸部側面451bと複数の既成複数凹凸部凹部底面452cと複数の既成複数凹凸部凹部側面452bの全ての領域を覆ってインクジェットレジスト硬化膜3を形成する。
(C)工程において、図1(C)に示されるように、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が形成されていない領域を腐蝕エッチングして、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成する。
(D)工程において、図1(D)に示されるように、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を除去し、これにより、既成複数凹凸部45が、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の底面から突出してなる突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部455に形成される。
すなわち、図1(D)に示されるように、既成複数凹凸部45の周囲領域が初期の既成複数凹凸部凹部底面452cの深さ「D1」を維持した状態を有するとともに、その周囲領域に深さ「D12」を有するインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成して、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121から突出してなる形態を有するインクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部455が形成される。
In the manufacturing process of the pressing plate shown in Figure 1, in process (A), the concave portion 452 of the pre-formed multiple uneven portion 45 of Figure 1 (A) has a depth "D1", and the second area surface 12 of the plate mold substrate has a shape having the same height as the upper surface 451a of the convex portion of the pre-formed multiple uneven portion 45 of the pre-formed multiple uneven portion 45.
In step (B), as shown in FIG. 1(B), an inkjet resist hardened film 3 is formed covering all areas of the convex portion side surface 451b of the existing multiple concave-convex portions, the concave bottom surfaces 452c of the existing multiple concave-convex portions, and the concave side surfaces 452b of the existing multiple concave-convex portions.
In step (C), as shown in FIG. 1(C), a region where the inkjet resist hardened film 3 is not formed in the desired region is etched to form an inkjet resist film etched second recess forming portion 121.
In step (D), as shown in FIG. 1(D), the inkjet resist hardened film 3 in the desired region is removed, whereby the pre-formed multiple concave-convex portions 45 are formed into inkjet film etched pre-formed multiple concave-convex portion protrusions 455 having a protruding shape protruding from the bottom surface of the inkjet resist film etched second concave forming portion 121.
That is, as shown in FIG. 1(D), the surrounding area of the existing multiple unevenness portion 45 maintains the initial depth "D1" of the existing multiple unevenness portion recess bottom surface 452c, and an inkjet resist film etched second recess formation portion 121 having a depth "D12" is formed in the surrounding area, so that an inkjet film etched existing multiple unevenness portion protrusion portion 455 having a shape protruding from the inkjet resist film etched second recess formation portion 121 is formed.

図2に示される押圧加工用版の製造工程において、(A)工程において、図2(A)の既成複数凹凸部45の既成複数凹凸部凹部452は深さ「D1」を有し、版型用基板第二領域表面12は既成複数凹凸部45の既成複数凹凸部凹部452cの底面と同じ高さ形状を有する。この版型用基板第二領域表面12の高さ形状が図1(A)の版型用基板第二領域表面12の高さ形状と比べて異なる。
(B)工程において、図2(B)に示されるように、既成複数凹凸部凸部側面451bと複数の既成複数凹凸部凹部底面452cと複数の既成複数凹凸部凹部側面452bの全ての領域を覆って所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成する。
(C)工程において、図2(C)に示されるように、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が形成されていない領域を腐蝕エッチングして、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成する。
(D)工程において、図2(D)に示されるように、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を除去し、これにより、既成複数凹凸部45が、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の底面から突出してなる突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部455に形成される。
すなわち、図2(D)に示されるように、既成複数凹凸部45の周囲領域が深さ「D12」を有するインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成するとともに、既成複数凹凸部45が、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の底面から突出してなる突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部455に形成される。
In the manufacturing process of the pressing plate shown in Fig. 2, in step (A), the pre-formed multiple concave-convex portion concave 452 of the pre-formed multiple concave-convex portion 45 in Fig. 2(A) has a depth "D1", and the plate mold substrate second region surface 12 has the same height shape as the bottom surface of the pre-formed multiple concave-convex portion concave 452c of the pre-formed multiple concave-convex portion 45. The height shape of this plate mold substrate second region surface 12 is different from the height shape of the plate mold substrate second region surface 12 in Fig. 1(A).
In step (B), as shown in FIG. 2(B), a desired region inkjet resist hardened film 3 is formed by covering all of the regions of the convex portion side surface 451b of the existing multiple concave-convex portions, the concave bottom surfaces 452c of the existing multiple concave-convex portions, and the concave side surfaces 452b of the existing multiple concave-convex portions.
In step (C), as shown in FIG. 2(C), a region where the inkjet resist hardened film 3 is not formed in the desired region is etched to form an inkjet resist film etched second recess forming portion 121.
In step (D), as shown in FIG. 2(D), the inkjet resist hardened film 3 in the desired area is removed, whereby the pre-formed multiple concave-convex portions 45 are formed into inkjet film etched pre-formed multiple concave-convex portion protrusions 455 having a protruding shape protruding from the bottom surface of the inkjet resist film etched second concave forming portion 121.
That is, as shown in FIG. 2(D), the surrounding area of the existing multiple unevenness portion 45 forms an inkjet resist film etched second recess formation portion 121 having a depth "D12", and the existing multiple unevenness portion 45 is formed into an inkjet film etched existing multiple unevenness portion protrusion portion 455 having a protruding shape protruding from the bottom surface of the inkjet resist film etched second recess formation portion 121.

図3に示される押圧加工用版の製造工程において、前記(A)工程において、図3(A)に示されるように、版型用基板第二領域表面12は複数の凹凸のない無凹凸部を有し、版型用基板第一領域表面11は複数の既成凹凸部4を有する。
複数の既成凹凸部4のそれぞれの既成凹凸部4は、既成複数凹凸部45を有し、既成複数凹凸部45の既成複数凹凸部凹部452は深さ(既成複数凹凸部凸部451の高さと同じ)は「D1」を有する。
版型用基板第二領域表面12のそれぞれの凹凸のない無凹凸部の表面は既成複数凹凸部45の既成複数凹凸部凸部上面451aと同じ高さ形状を有する。
(B)工程において、図3(B)に示されるように、それぞれの既成複数凹凸部凸部側面451bとそれぞれの複数の既成複数凹凸部凹部底面452cと複数の既成複数凹凸部凹部側面452bの全ての領域を覆って所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成する。更に、既成複数凹凸部45の周囲領域のみの版型用基板第二領域表面12の領域にも所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成する。この場合、互いに隣り合う既成複数凹凸部45の間に位置する版型用基板第二領域表面12の中央領域には所望領域インクジェットレジスト硬化膜3は形成されない。
(C)工程において、図3(C)に示されるように、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が形成されていない領域を腐蝕エッチングして、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成する。
(D)工程において、図3(D)に示されるように、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を除去し、これにより、複数のインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成するとともに、既成複数凹凸部45がインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の底面から突出してなる突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部455の形態に形成される。
すなわち、図3(D)に示されるように、深さ「D12」を有する複数のインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成するとともに、複数の既成複数凹凸部45がその既成複数凹凸部45が初期の既成複数凹凸部凹部底面452cの深さ「D1」を維持した状態を有する複数のインクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部455が形成される。
In the manufacturing process for the pressing plate shown in Figure 3, in step (A), as shown in Figure 3 (A), the second area surface 12 of the plate mold substrate has a non-irregular portion having multiple irregularities, and the first area surface 11 of the plate mold substrate has a multiple preformed irregular portions 4.
Each of the multiple pre-formed uneven portions 4 has a pre-formed multiple uneven portion 45, and the pre-formed multiple uneven portion concave portion 452 of the pre-formed multiple uneven portion 45 has a depth (the same as the height of the pre-formed multiple uneven portion convex portion 451) of "D1".
The surface of each non-relief portion of the second region surface 12 of the mold substrate has the same height as the upper surface 451 a of the convex portion of the existing multiple concave-convex portion 45 .
3B, the desired area inkjet resist hardened film 3 is formed covering all areas of the convex portion side surface 451b of each of the preformed multiple concave-convex portions, the concave bottom surface 452c of each of the preformed multiple concave-convex portions, and the concave side surface 452b of each of the preformed multiple concave-convex portions. Furthermore, the desired area inkjet resist hardened film 3 is also formed in the area of the plate mold substrate second area surface 12 only in the peripheral area of the preformed multiple concave-convex portions 45. In this case, the desired area inkjet resist hardened film 3 is not formed in the central area of the plate mold substrate second area surface 12 located between the preformed multiple concave-convex portions 45 adjacent to each other.
In step (C), as shown in FIG. 3(C), a region where the inkjet resist cured film 3 is not formed in the desired region is etched to form an inkjet resist film etched second recess forming portion 121.
In step (D), as shown in FIG. 3(D), the inkjet resist hardened film 3 in the desired region is removed, thereby forming a plurality of inkjet resist film etched second recessed formation portions 121, and the pre-formed multiple uneven portions 45 are formed in the form of inkjet film etched pre-formed multiple uneven portion protrusions 455 having a protruding shape protruding from the bottom surface of the inkjet resist film etched second recessed formation portion 121.
That is, as shown in FIG. 3(D), a plurality of inkjet resist film corrosion second recess formation portions 121 having a depth "D12" are formed, and a plurality of inkjet film corrosion existing multiple uneven portion protrusion portions 455 are formed in which the existing multiple uneven portions 45 maintain the initial depth "D1" of the existing multiple uneven portion recess bottom surfaces 452c.

なお、図1、図2、図3において、「D1」は既成複数凹凸部凸部451の高さ寸法、及び、既成複数凹凸部凹部452の深さ寸法を示し、既成複数凹凸部凹部452の深さは既成複数凹凸部凸部451の高さと同じ領域を意味するため、既成複数凹凸部凹部452の深さ寸法は既成複数凹凸部凸部451の高さ寸法と同じ「D1」を有する。
「W1」は既成複数凹凸部凸部451の幅寸法を示し、「W2」は既成複数凹凸部凹部452の幅寸法を示す。
In addition, in Figures 1, 2, and 3, "D1" indicates the height dimension of the existing multiple unevenness portion convex portion 451 and the depth dimension of the existing multiple unevenness portion concave portion 452, and since the depth of the existing multiple unevenness portion concave portion 452 means the same area as the height of the existing multiple unevenness portion convex portion 451, the depth dimension of the existing multiple unevenness portion concave portion 452 has the same "D1" as the height dimension of the existing multiple unevenness portion convex portion 451.
"W1" indicates the width dimension of the convex portion 451 of the existing multiple concave-convex portion, and "W2" indicates the width dimension of the concave portion 452 of the existing multiple concave-convex portion.

[従属構成4]
上記の[従属構成3]の押圧加工用版の製造方法において、好ましくは、下記の構成を備えた押圧加工用版の製造方法が実施可能である。
前記(A)工程において、既成複数凹凸部凸部451と既成複数凹凸部凹部452を有する既成複数凹凸部45は、(イ)文字、(ロ)記号、(ハ)図形、(ニ)絵柄、及び、(ホ)模様、からなる群から選ばれる少なくとも一つの凹凸形状で形成されてなる図文字絵柄模様を形成してなる。
[Subordinate structure 4]
In the method for manufacturing a press plate according to the above-mentioned [subordinate configuration 3], it is preferable to implement a method for manufacturing a press plate having the following configuration.
In the process (A), the existing multiple uneven portion 45 having the existing multiple uneven portion convex portion 451 and the existing multiple uneven portion concave portion 452 forms a graphic character picture pattern formed with at least one uneven shape selected from the group consisting of (a) letters, (b) symbols, (c) figures, (d) pictures, and (e) designs.

この構成により、前述の「(製造方法効果イ:インクジェットレジストによる所望寸法の凹凸表面形状を形成可能効果)」及び(製造方法効果イ-a:インクジェットレジストによる突出した形状を有する所望寸法の既成凹凸部を形成可能効果)が得られるとともに、特に、「(製造方法効果イ-ab:所望の図文字絵柄模様形態を有する凹部、凸部、及び/又は凹凸部で形成された表面を備えた押圧加工用版を製造可能効果)所望の寸法形状を有し、(イ)文字、(ロ)記号、(ハ)図形、(ニ)絵柄、及び、(ホ)模様、等の所望の図文字絵柄模様形態を有する凹部、凸部、及び/又は凹凸部で形成された表面を備えた押圧加工用版を製造可能であるとともに、エッチングされてはならない領域の腐蝕エッチングが抑制されて、所望の形状であるとともに、所望の凸部の高さ寸法、凹部の深さ寸法、所望の凹凸部の高さ寸法及び深さ寸法、等の所望の凹部、所望の凸部、及び/又は所望の凹凸部、等の所望の形状及び所望大きさ寸法を有する押圧加工用版を製造することが可能になる効果」が得られる。
特に、エッチングされてはならない領域としての「それぞれの既成複数凹凸部凸部側面451bとそれぞれの既成複数凹凸部凹部側面452bの側面」が腐蝕エッチングされる「サイドエッチング」が抑制される。
This configuration provides the aforementioned "(Manufacturing method effect A: Effect of being able to form a concave-convex surface shape of desired dimensions using inkjet resist)" and (Manufacturing method effect A-a: Effect of being able to form a pre-formed concave-convex portion of desired dimensions having a protruding shape using inkjet resist), and in particular, "(Manufacturing method effect A-ab: Effect of being able to manufacture a pressing plate having a surface formed of concaves, convex portions, and/or concave-convex portions having a desired graphic, letter, or picture pattern shape) Effect of being able to manufacture a pressing plate having a desired size and shape, and capable of forming (A) letters, (B) symbols, (C) figures, (D) pictures, etc. and (e) it is possible to manufacture a pressing plate having a surface formed of recesses, protrusions, and/or uneven portions having a desired graphic, letter, design, pattern, etc., and corrosive etching of areas that should not be etched is suppressed, thereby making it possible to manufacture a pressing plate having the desired shape and desired size dimensions, such as the desired height dimensions of the protrusions, the desired depth dimensions of the recesses, the desired height dimensions and depth dimensions of the uneven portions, etc.
In particular, "side etching" in which "the side surfaces of the convex portions 451b of the existing multiple concave-convex portions and the side surfaces of the concave portions 452b of the existing multiple concave-convex portions" which are regions that should not be etched are corroded and etched is suppressed.

[従属構成5]
上記の[従属構成3]及び/又は[従属構成4]の押圧加工用版の製造方法において、それぞれの形状寸法は、特に限定されないが、例えば、下記の構成を備えた押圧加工用版の製造方法が望ましく実施可能である。
上記の[従属構成3]及び/又は[従属構成4]の前記(A)工程において、複数の既成複数凹凸部凸部451のそれぞれの既成複数凹凸部凸部の高さ寸法「D1」は、特に限定されないが、好ましくは0.1mm以上であり、更に好ましくは0.1mm~3.0mmであり、更に好ましくは0.3mm~2.0mmであり、更に好ましくは0.5mm~1.0mmである。
複数の既成複数凹凸部凸部451のそれぞれの既成複数凹凸部凸部の幅寸法「W1」は、特に限定されない。
前記複数の既成複数凹凸部凹部452のそれぞれの既成複数凹凸部凹部の深さ寸法「D1」は、特に限定されないが、好ましくは0.1mm以上であり、更に好ましくは0.1mm~3.0mmであり、更に好ましくは0.3mm~2.0mmであり、更に好ましくは0.5mm~1.0mmである。
前記複数の既成複数凹凸部凹部452のそれぞれの既成複数凹凸部凹部の幅寸法「W2」は、特に限定されない。
ここで、既成複数凹凸部凹部452の深さは既成複数凹凸部凸部451の高さと同じ部位を意味し、既成複数凹凸部凹部452の深さ寸法「D1」は既成複数凹凸部凸部451の高さ寸法「D1」である。
既成複数凹凸部凹部452の深さ寸法「D1」(既成複数凹凸部凸部451の高さ寸法「D1」)が0.1mm未満の場合は、既成複数凹凸部45を形成した押圧加工用版を使用して被加工物を押圧加工したときに、所望の深さの既成複数凹凸部凹部452、所望の高さの既成複数凹凸部凸部451を有する凹凸形状に加工された加工物が得られない傾向がある。
[Subordinate structure 5]
In the manufacturing method of a pressing plate of the above-mentioned [subordinate configuration 3] and/or [subordinate configuration 4], the respective shape dimensions are not particularly limited. For example, a manufacturing method of a pressing plate having the following configuration can be desirably implemented.
In the step (A) of the above-mentioned [dependent structure 3] and/or [dependent structure 4], the height dimension "D1" of each of the preformed multiple uneven portion convex portions 451 is not particularly limited, but is preferably 0.1 mm or more, more preferably 0.1 mm to 3.0 mm, more preferably 0.3 mm to 2.0 mm, and even more preferably 0.5 mm to 1.0 mm.
The width dimension "W1" of each of the preformed multiple concave-convex portions of the multiple preformed multiple concave-convex portions 451 is not particularly limited.
The depth dimension "D1" of each of the preformed multiple uneven portion concaves of the plurality of preformed multiple uneven portion concaves 452 is not particularly limited, but is preferably 0.1 mm or more, more preferably 0.1 mm to 3.0 mm, more preferably 0.3 mm to 2.0 mm, and even more preferably 0.5 mm to 1.0 mm.
The width dimension "W2" of each of the preformed multiple concave-convex portions of the plurality of preformed multiple concave-convex portions 452 is not particularly limited.
Here, the depth of the existing multiple uneven portion concave portion 452 means the same portion as the height of the existing multiple uneven portion convex portion 451, and the depth dimension "D1" of the existing multiple uneven portion concave portion 452 is the height dimension "D1" of the existing multiple uneven portion convex portion 451.
If the depth dimension "D1" of the preformed multiple uneven portion concave portion 452 (height dimension "D1" of the preformed multiple uneven portion convex portion 451) is less than 0.1 mm, when a pressing plate on which the preformed multiple uneven portions 45 are formed is used to press a workpiece, it tends not to be possible to obtain a workpiece processed into an uneven shape having the preformed multiple uneven portion concave portion 452 of the desired depth and the preformed multiple uneven portion convex portion 451 of the desired height.

一般に、平圧式の押圧加工用装置としては、定格化された平板式押圧加工装置の基盤の稼働可能なストロークに対応して、例えば、版型用基板の厚さとしては、7mm厚さの版型用基板が汎用されている。そして、加工する被加工物の厚さや凹凸部深さ、等を勘案して、既成複数凹凸部凹部452の深さ寸法「D1」を有する押圧加工用版を製造している。このような観点から、既成複数凹凸部凹部452の深さ寸法「D1」は0.1mm~3mmの寸法が好ましい。Generally, as a flat pressure type pressing device, a plate mold substrate having a thickness of, for example, 7 mm is generally used in accordance with the operable stroke of the base of the rated flat plate type pressing device. Then, taking into consideration the thickness of the workpiece to be processed and the depth of the unevenness, a pressing plate having a depth dimension "D1" of the preformed multiple uneven portion concaves 452 is manufactured. From this viewpoint, the depth dimension "D1" of the preformed multiple uneven portion concaves 452 is preferably 0.1 mm to 3 mm.

インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の深さ寸法「D12」は、特に限定されないが、前記の既成複数凹凸部凹部の深さ寸法「D1」よりも大きい深さ寸法であって、好ましくは、1.0mm以上であり、更に好ましくは1.5mm~5mmであり、更に好ましくは1.8mm~3mmである。
インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の深さ寸法「D12」が既成複数凹凸部凹部452の深さ寸法「D1」よりも小さい深さ寸法の場合には、既成複数凹凸部45を形成した押圧加工用版を使用して被加工物を押圧加工したときに、押圧加工用版の既成複数凹凸部45の領域が被加工物の表面を所望の深さ迄押圧することができなくなる傾向があり、所望の深さの既成複数凹凸部凹部452、所望の高さの既成複数凹凸部凸部451を有する凹凸形状に加工された加工物が得られない傾向がある。
The depth dimension "D12" of the inkjet resist film etching second recess formation portion 121 is not particularly limited, but is a depth dimension larger than the depth dimension "D1" of the recess of the existing multiple uneven portion, and is preferably 1.0 mm or more, more preferably 1.5 mm to 5 mm, and even more preferably 1.8 mm to 3 mm.
If the depth dimension "D12" of the inkjet resist film corrosion second recess forming portion 121 is a depth dimension smaller than the depth dimension "D1" of the existing multiple uneven portion concave portion 452, when a pressing plate on which the existing multiple uneven portions 45 are formed is used to press a workpiece, the area of the existing multiple uneven portions 45 of the pressing plate tends to be unable to press the surface of the workpiece to the desired depth, and it tends not to be possible to obtain a workpiece processed into an uneven shape having the existing multiple uneven portion concave portion 452 of the desired depth and the existing multiple uneven portion convex portion 451 of the desired height.

一般に、慣用技術として、既成複数凹凸部45のそれぞれの部位の寸法が上記の範囲に含まれない場合には、被加工物を所望の形状に加工できなくなる傾向がある。しかしながら、本発明においては、上記の範囲に含まれない場合にも実施可能であるが、上記の範囲に含まれない場合には上記範囲の場合と比べて、若干に所望の形状を有する加工物が得られない傾向がある。Generally, in the conventional technology, if the dimensions of each portion of the preformed multiple concave-convex portions 45 are not within the above range, there is a tendency that the workpiece cannot be machined into the desired shape. However, in the present invention, the present invention can be carried out even if the dimensions are not within the above range, but if the dimensions are not within the above range, there is a tendency that the workpiece having the desired shape is not obtained as compared to the case where the dimensions are within the above range.

図8は、本発明の一実施例の押圧加工用版の製造方法における押圧加工用版に凹凸で形成された図文字絵柄模様形態を説明するための模式的概略図である。
本発明において、複数個のインクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部455を備えた押圧加工用版も実施可能であり、例えば、図8の(A)に図示されているような複数個のインクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部455を備えた押圧加工用版が実施可能である。図8において、黒色で示される「ABCDE模様」、「ハート模様」、「星模様」が、インクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部455として形成された押圧加工用版である。
FIG. 8 is a schematic diagram for explaining a graphic, letter, and picture pattern formed by projections and recesses on a press plate in a method for producing a press plate according to one embodiment of the present invention.
In the present invention, a pressing plate having a plurality of inkjet film etched preformed uneven portions 455 can also be implemented, for example, a pressing plate having a plurality of inkjet film etched preformed uneven portions 455 as shown in Fig. 8A can be implemented. In Fig. 8, the "ABCDE pattern", "heart pattern", and "star pattern" shown in black are pressing plates formed as inkjet film etched preformed uneven portions 455.

[従属構成6]
上記の[基本構成1]の本発明の押圧加工用版の製造方法において、好ましくは、下記の「従属構成6」を備えた押圧加工用版の製造方法が実施可能である。
図4、図6は本発明の一実施例の押圧加工用版の製造方法の製造工程を説明するための模式的概略図である。
図4の(A-b)、(B-b)、(C-b)、(D-b)は平面模式的概略図であり、(A)、(B)、(C)、(D)は、平面模式的概略図のB-B線における断面模式的概略図である。
なお、図4において、平面模式的概略図と断面模式的概略図とは互いに一致する凹凸形状を示すものではなく、例えば、平面模式的概略図における「ハート模様」は、断面模式的概略図に示すような複数の微細凹凸によって形成されてなるとともに全体としてハート模様を形成してなる構成を説明するものであり、また、断面模式的概略図における凹凸の数は平面模式的概略図における「ハート模様」を形成する凹凸の数とは一致して示すものではなく、実際には、断面模式的概略図における凹部と凸部の数は図示された数よりも著しく多い形状を有する。
[Subordinate structure 6]
In the manufacturing method of a press plate of the present invention having the above-mentioned [Basic configuration 1], it is possible to preferably implement a manufacturing method of a press plate having the following "Sub-configuration 6".
4 and 6 are schematic diagrams for explaining the manufacturing steps of the method for manufacturing a pressing plate according to one embodiment of the present invention.
In FIG. 4, (A-b), (B-b), (C-b), and (D-b) are schematic plan views, and (A), (B), (C), and (D) are schematic cross-sectional views taken along line B-B of the schematic plan views.
In addition, in FIG. 4, the schematic plan view and the schematic cross-sectional view do not show the same uneven shapes. For example, the "heart pattern" in the schematic plan view is intended to explain a configuration formed by a plurality of minute unevennesses as shown in the schematic cross-sectional view, which together form a heart pattern, and the number of unevennesses in the schematic cross-sectional view is not shown to match the number of unevennesses that form the "heart pattern" in the schematic cross-sectional view. In reality, the number of concaves and convexities in the schematic cross-sectional view is significantly greater than the number shown.

図4の(A)、(A-b)に示されるように、前述の従属構成2の前記(A)工程において、版型用基板1は、版型用基板第一領域表面11と版型用基板第二領域表面12を有し、版型用基板第二領域表面12は凹凸のない無凹凸部を有し、版型用基板第一領域表面11は既成凹凸部4を有する。版型用基板第二領域表面12は前記版型用基板第一領域表面11の周囲領域に位置する。
図4においては、版型用基板第一領域表面11は一つの既成凹凸部4を有する。
(ロ)既成凹凸部4は既成複数微細凹凸部46を有し、既成複数微細凹凸部46は複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462とを有し、複数の既成複数微細凹凸部凸部461は複数の既成複数微細凹凸部凸部上面461aと複数の既成複数微細凹凸部凸部側面461bとを有し、複数の既成複数微細凹凸部凹部462は複数の既成複数微細凹凸部凹部底面462cと複数の既成複数微細凹凸部凹部側面462bとを有する。
ここで、複数の既成複数微細凹凸部凸部側面461bと複数の既成複数微細凹凸部凹部側面462bは、互いに同じ側面領域に相当する。
なお、図4(A)に示されるように、版型用基板1の厚さ寸法は「h」であり、複数の既成複数微細凹凸部凹部462のそれぞれの既成複数微細凹凸部凹部462の深さ寸法「d1」であり、幅寸法は「w2」である。また複数の既成複数微細凹凸部凸部461のそれぞれの既成複数微細凹凸部凸部461の高さ寸法「d1」であり、幅寸法は「w1」である。ここで、既成複数微細凹凸部凹部462の深さは既成複数微細凹凸部凸部461の高さと同じ領域を示し、既成複数微細凹凸部凹部462の深さ寸法「d1」は既成複数微細凹凸部凸部461の高さ寸法「d1」と同じ寸法を有する。
4A and 4B, in the step (A) of the aforementioned subordinate configuration 2, the plate mold substrate 1 has a plate mold substrate first region surface 11 and a plate mold substrate second region surface 12, the plate mold substrate second region surface 12 has a non-relief portion without any unevenness, and the plate mold substrate first region surface 11 has a preformed uneven portion 4. The plate mold substrate second region surface 12 is located in the peripheral region of the plate mold substrate first region surface 11.
In FIG. 4, the first region surface 11 of the plate mold substrate has one preformed uneven portion 4 .
(b) The existing uneven portion 4 has existing multiple fine uneven portions 46, the existing multiple fine uneven portion 46 has existing multiple fine uneven portion convex portions 461 and existing multiple fine uneven portion concave portions 462, the existing multiple fine uneven portion convex portions 461 have existing multiple fine uneven portion convex portion top surfaces 461a and existing multiple fine uneven portion convex portion side surfaces 461b, and the existing multiple fine uneven portion concave portions 462 have existing multiple fine uneven portion concave portion bottom surfaces 462c and existing multiple fine uneven portion concave portion side surfaces 462b.
Here, the multiple convex portion side surfaces 461b of the preformed multiple fine concave-convex portions and the multiple concave-convex portion side surfaces 462b of the preformed multiple fine concave-convex portions correspond to the same side surface region.
As shown in Fig. 4A, the thickness dimension of the plate mold substrate 1 is "h", the depth dimension of each of the multiple pre-formed multiple fine unevenness concaves 462 is "d1", and the width dimension is "w2". Also, the height dimension of each of the multiple pre-formed multiple fine unevenness convex parts 461 is "d1", and the width dimension is "w1". Here, the depth of the pre-formed multiple fine unevenness concaves 462 indicates the same area as the height of the pre-formed multiple fine unevenness convex parts 461, and the depth dimension "d1" of the pre-formed multiple fine unevenness concaves 462 has the same dimension as the height dimension "d1" of the pre-formed multiple fine unevenness convex parts 461.

図4の(B)、(B-b)に示されるように、(B)工程において、複数の既成複数微細凹凸部凸部上面461aと複数の既成複数微細凹凸部凸部側面461bと複数の既成複数微細凹凸部凹部底面462cとを覆って、インクジェットレジスト材2をインクジェット方式で付着して、インクジェットレジスト微細凸部上面付着膜とインクジェットレジスト微細凸部側面付着膜とインクジェット微細凹部底面付着膜とを形成するインクジェットレジスト付着膜形成工程を備える。ここで、既成微細複数凹凸部46の周囲領域に位置する前記版型用基板第二領域表面12にはインクジェットレジスト材2が付着されない。
更に、インクジェットレジスト微細凸部上面付着膜とインクジェットレジスト微細凸部側面付着膜と前記インクジェット微細凹部側面付着膜とを硬化して、所望領域インクジェットレジスト微細凸部上面硬化膜3eと所望領域インクジェットレジスト微細凸部側面硬化膜3fと所望領域インクジェットレジスト微細凹部底面硬化膜3gとを有する所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成するインクジェットレジスト硬化膜形成工程、を備える。
このようにして、所望領域インクジェットレジスト微細凸部上面硬化膜3eと所望領域インクジェットレジスト微細凸部側面硬化膜3fと所望領域インクジェットレジスト微細凹部底面硬化膜3gとを有する所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が形成される。
4B and 4B-b, the process (B) includes an inkjet resist film formation process for covering the upper surfaces 461a of the preformed fine concave-convex portions, the side surfaces 461b of the preformed fine concave-convex portions, and the bottom surfaces 462c of the preformed fine concave-convex portions by applying an inkjet resist material 2 by an inkjet method to form an inkjet resist fine convex portion upper surface attachment film, an inkjet resist fine convex portion side surface attachment film, and an inkjet fine concave portion bottom surface attachment film. Here, the inkjet resist material 2 is not attached to the second region surface 12 of the plate mold substrate located in the peripheral region of the preformed fine concave-convex portions 46.
The method further includes an inkjet resist hardened film formation step of hardening the film attached to the top surface of the inkjet resist fine convex portion, the film attached to the side surface of the inkjet resist fine convex portion, and the film attached to the side surface of the inkjet resist fine recess portion to form a desired region inkjet resist hardened film 3 having a desired region inkjet resist fine convex portion top surface hardened film 3e, a desired region inkjet resist fine convex portion side surface hardened film 3f, and a desired region inkjet resist fine recess portion bottom surface hardened film 3g.
In this manner, a desired region inkjet resist hardened film 3 is formed, which has a desired region inkjet resist fine convex portion top surface hardened film 3e, a desired region inkjet resist fine convex portion side surface hardened film 3f, and a desired region inkjet resist fine recess portion bottom surface hardened film 3g.

ここで、複数の既成微細複数凹凸部凸部側面461bと複数の既成微細複数凹凸部凹部側面462bとは互いに同じ側面領域に相当するため、インクジェットレジスト微細凸部側面付着膜とインクジェット微細凹部側面付着膜とは互いに同じ付着膜に相当し、所望領域インクジェットレジスト微細凸部側面硬化膜3fは所望領域インクジェットレジスト微細凹部側面硬化膜と同じ硬化膜を意味する。Here, since the multiple pre-formed fine multiple concave-convex portion convex portion side surfaces 461b and the multiple pre-formed fine multiple concave-convex portion concave portion side surfaces 462b correspond to the same side surface region, the inkjet resist fine convex portion side adhesive film and the inkjet fine concave portion side adhesive film correspond to the same adhesive film, and the desired area inkjet resist fine convex portion side surface hardened film 3f means the same hardened film as the desired area inkjet resist fine concave portion side surface hardened film.

図4の(C)、(C-b)に示されるように、(C)工程において、所望領域インクジェットレジスト微細凸部上面硬化膜3eと所望領域インクジェットレジスト微細凸部側面硬化膜3fと所望領域インクジェットレジスト微細凹部底面硬化膜3gとを形成した版型用基板1の表面にエッチング液を接触して、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が付着されていない版型用基板第二領域表面12をエッチングする版型用基板エッチング工程を備える。
これにより、既成複数微細凹凸部46をエッチングすることなく、版型用基板第二領域表面12を深さ寸法が「d12」になるまで腐蝕エッチングして、エッチングされてなる凹部形状を有するインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成するとともに、既成複数微細凹凸部46を、該インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121から突出されてなる突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466に形成する。
As shown in (C) and (C-b) of FIG. 4, the process (C) includes a plate mold substrate etching process in which an etching solution is brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the desired area inkjet resist fine convex portion top surface hardened film 3e, the desired area inkjet resist fine convex portion side surface hardened film 3f, and the desired area inkjet resist fine concave portion bottom surface hardened film 3g are formed, to etch the plate mold substrate second area surface 12 on which the desired area inkjet resist hardened film 3 is not attached.
As a result, the second area surface 12 of the plate mold substrate is corroded and etched until the depth dimension becomes "d12" without etching the pre-formed multiple fine concave-convex portions 46, thereby forming an inkjet resist film corroded second concave forming portion 121 having an etched concave shape, and the pre-formed multiple fine concave-convex portions 46 are formed into inkjet film corroded pre-formed multiple fine concave-convex portion protrusion portions 466 having a protruding shape protruding from the inkjet resist film corroded second concave forming portion 121.

図4の(D)、(D-b)に示されるように、(D)工程において、所望領域インクジェットレジスト微細凸部上面硬化膜3eと所望領域インクジェットレジスト微細凸部側面硬化膜3fと所望領域インクジェットレジスト微細凹部底面硬化膜3gとを除去するレジスト硬化膜除去工程を備える。
これにより、既成複数微細凹凸部46がエッチングされることなく、版型用基板第二領域表面12がエッチングされてなるインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121が形成されるとともに、複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462とを有する既成複数微細凹凸部46を備えた版型用基板第一領域表面11が、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の底面から突出してなる突出形状を有するインクジェト膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466の形態に形成される。
なお、図4(D)に示されるように、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の深さ寸法は「d12」であり、複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462のそれぞれの深さ寸法は初期の深さ寸法「d1」を維持する。
このようにして、押圧加工用版が製造される。
As shown in (D) and (D-b) of FIG. 4, the process (D) includes a resist hardened film removal process for removing the hardened film 3e on the top surface of the inkjet resist fine convex portion in the desired region, the hardened film 3f on the side surface of the inkjet resist fine convex portion in the desired region, and the hardened film 3g on the bottom surface of the inkjet resist fine concave portion in the desired region.
As a result, the pre-formed multiple fine unevenness portions 46 are not etched, and the second inkjet resist film corrosion recessed portion 121 is formed by etching the second area surface 12 of the plate mold substrate, and the first area surface 11 of the plate mold substrate having the pre-formed multiple fine unevenness portions 46 having a plurality of pre-formed multiple fine unevenness portion convex portions 461 and a plurality of pre-formed multiple fine unevenness portion concave portions 462 is formed in the form of an inkjet film corrosion pre-formed multiple fine unevenness portion protrusion portion 466 having a protruding shape protruding from the bottom surface of the second inkjet resist film corrosion recessed portion 121.
As shown in FIG. 4(D), the depth dimension of the inkjet resist film corrosion second recess formation portion 121 is "d12", and the depth dimensions of the multiple pre-formed multiple fine unevenness portion convex portions 461 and the multiple pre-formed multiple fine unevenness portion concave portions 462 each maintain the initial depth dimension "d1".
In this manner, a pressing plate is manufactured.

この構成により、前述の「(製造方法効果イ:インクジェットレジストによる所望寸法の凹凸表面形状を形成可能効果)」が得られるとともに、特に、「(製造方法効果イ-b:インクジェットレジストによる突出した形状を有する所望寸法の既成複数微細凹凸部を形成可能効果)化学的腐蝕エッチング加工であって、凹部と該凹部から突出した突起部と、その突起部の表面に複数の既成複数微細凹凸部凹部と複数の既成複数微細凹凸部凸部とを有する既成複数微細凹凸部、が形成されてなるとともに、「版型用基板のエッチングされてはならない領域」の腐蝕エッチングが抑制されてなる所望の形状を備えた押圧加工用版を製造することが可能になる効果」が得られる。
すなわち、腐蝕エッチングされてなるインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121が形成されるとともに、「版型用基板のエッチングされてはならない領域としての『複数の既成複数微細凹凸部凸部側面461b(複数の既成複数微細凹凸部凹部側面462bと同じ側面)』の腐蝕エッチングが抑制されてなる所望の形状を備えた押圧加工用版を製造することが可能になる効果」が得られる。
特に、エッチングされてはならない領域としての「それぞれの既成複数微細凹凸部凸部側面461bとそれぞれの既成複数微細凹凸部凹部側面462bの側面」が腐蝕エッチングされる「サイドエッチング」が抑制される。
This configuration provides the aforementioned "(Manufacturing method effect A: effect of being able to form an uneven surface shape of desired dimensions using inkjet resist)" and, in particular, provides the effect of "(Manufacturing method effect A-b: effect of being able to form pre-formed multiple fine uneven portions of desired dimensions with protruding shapes using inkjet resist) an effect of being able to manufacture a pressing processing plate having a desired shape by chemical corrosive etching processing, in which a pre-formed multiple fine uneven portion having a recess and a protrusion protruding from the recess, and a plurality of pre-formed multiple fine uneven portion recesses and a plurality of pre-formed multiple fine uneven portion protrusions on the surface of the protrusion, is formed, and corrosive etching of the "areas of the plate mold substrate that must not be etched" is suppressed."
In other words, the inkjet resist film is etched to form a second recessed portion 121, and the effect of "making it possible to manufacture a pressing plate having a desired shape by suppressing the etching of the convex portion side 461b of the multiple pre-formed multiple fine concave-convex portions (the same side as the concave portion side 462b of the multiple pre-formed multiple fine concave-convex portions) which is an area of the plate mold substrate that must not be etched" is obtained.
In particular, "side etching" in which the "sides of the convex portion 461b of each of the existing multiple fine concave-convex portions and the side surfaces of the concave portion 462b of each of the existing multiple fine concave-convex portions" which are areas that should not be etched are corroded and etched is suppressed.

上記の「従属構成6」において、版型用基板第一領域表面11が複数の既成凹凸部4を有する構成も実施可能である。
図6の(A-b)、(B-b)、(C-b)、(D-b)は平面模式的概略図であり、(A)、(B)、(C)、(D)は、平面模式的概略図のB-B線における断面模式的概略図である。
前述の「従属構成2」の前記(A)工程において、版型用基板1は、版型用基板第一領域表面11と版型用基板第二領域表面12を有し、版型用基板第二領域表面12は凹凸のない無凹凸部を有し、版型用基板第一領域表面11は複数の既成凹凸部4を有する。
図6においては、前記版型用基板第一領域表面11は複数の既成凹凸部4を有する。
(ロ)複数の既成凹凸部4のそれぞれの既成凹凸部4は既成複数微細凹凸部46を有し、既成複数微細凹凸部46は複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462とを有し、複数の既成複数微細凹凸部凸部461は複数の既成複数微細凹凸部凸部上面と複数の既成複数微細凹凸部凸部側面とを有し、複数の既成複数微細凹凸部凹部462は複数の既成複数微細凹凸部凹部底面と複数の既成複数微細凹凸部凹部側面とを有する。
ここで、複数の既成複数微細凹凸部凸部側面と複数の既成複数微細凹凸部凹部側面は、互いに同じ側面領域に相当する。
In the above-mentioned “sub-structure 6”, a structure in which the first area surface 11 of the plate mold substrate has a plurality of preformed uneven portions 4 can also be implemented.
In FIG. 6, (A-b), (B-b), (C-b), and (D-b) are schematic plan views, and (A), (B), (C), and (D) are schematic cross-sectional views taken along line B-B of the schematic plan views.
In the (A) step of the aforementioned "subordinate structure 2", the mold substrate 1 has a first region surface 11 of the mold substrate and a second region surface 12 of the mold substrate, the second region surface 12 of the mold substrate has a non-irregular portion having no irregularities, and the first region surface 11 of the mold substrate has a plurality of preformed irregular portions 4.
In FIG. 6, the first region surface 11 of the plate mold substrate has a plurality of preformed irregularities 4 .
(b) Each of the multiple preformed uneven portions 4 has a preformed multiple fine uneven portions 46, the preformed multiple fine uneven portions 46 have a plurality of preformed multiple fine uneven portion convex portions 461 and a plurality of preformed multiple fine uneven portion concave portions 462, the plurality of preformed multiple fine uneven portion convex portions 461 have a plurality of preformed multiple fine uneven portion convex portion top surfaces and a plurality of preformed multiple fine uneven portion convex portion side surfaces, and the plurality of preformed multiple fine uneven portion concave portions 462 have a plurality of preformed multiple fine uneven portion concave portion bottom surfaces and a plurality of preformed multiple fine uneven portion concave portion side surfaces.
Here, the plurality of convex portion side surfaces of the preformed plurality of fine concave-convex portions and the plurality of concave portion side surfaces of the preformed plurality of fine concave-convex portions correspond to the same side surface region.

図6の(B)、(B-b)に示されるように、(B)工程において、複数の既成複数微細凹凸部凸部上面と複数の既成複数微細凹凸部凸部側面(複数の既成複数微細凹凸部凹部側面)と複数の既成複数微細凹凸部凹部底面とを覆って、インクジェットレジスト材2をインクジェット方式で付着して、インクジェットレジスト微細凸部上面付着膜とインクジェットレジスト微細凸部側面付着膜とインクジェット微細凹部底面付着膜とを形成するインクジェットレジスト付着膜形成工程を備える。ここで、既成微細複数凹凸部46の周囲領域に位置する版型用基板第二領域表面12にはインクジェットレジスト材2が付着されない。
更に、インクジェットレジスト微細凸部上面付着膜とインクジェットレジスト微細凸部側面付着膜とインクジェット微細凹部底面付着膜とを硬化して、所望領域インクジェットレジスト微細凸部上面硬化膜3eと所望領域インクジェットレジスト微細凸部側面硬化膜3fと所望領域インクジェットレジスト微細凹部底面硬化膜3gを形成する所望領域インクジェットレジスト硬化膜形成工程、を備える。
6(B) and (B-b), the process (B) includes an inkjet resist film formation process for covering the upper surfaces of the convex portions of the multiple pre-formed multiple fine concave-convex portions, the side surfaces of the multiple pre-formed multiple fine concave-convex portions (side surfaces of the multiple pre-formed multiple fine concave-convex portions), and the bottom surfaces of the multiple pre-formed multiple fine concave-convex portions by applying an inkjet resist material 2 by an inkjet method to form an inkjet resist fine convex portion upper surface attachment film, an inkjet resist fine convex portion side surface attachment film, and an inkjet fine concave portion bottom surface attachment film. Here, the inkjet resist material 2 is not attached to the second region surface 12 of the plate mold substrate located in the peripheral region of the pre-formed multiple fine concave-convex portions 46.
The method further includes a desired region inkjet resist hardened film formation step of hardening the film adhered to the top surface of the inkjet resist fine convex portion, the film adhered to the side surface of the inkjet resist fine convex portion, and the film adhered to the bottom surface of the inkjet resist fine concave portion to form a desired region inkjet resist fine convex portion top surface hardened film 3e, a desired region inkjet resist fine convex portion side surface hardened film 3f, and a desired region inkjet resist fine concave portion bottom surface hardened film 3g.

図6の(C)、(C-b)に示されるように、(C)工程において、所望領域インクジェットレジスト微細凸部上面硬化膜3eと、所望領域インクジェットレジスト微細凸部側面硬化膜3fと所望領域インクジェットレジスト微細凹部底面硬化膜3gとを形成した版型用基板1の表面にエッチング液を接触して、所望領域インクジェットレジスト硬化膜が付着されていない版型用基板第二領域表面12をエッチングする版型用基板エッチング工程を備える。
これにより、複数の既成複数微細凹凸部46をエッチングすることなく、版型用基板第二領域表面12を深さ寸法が「d12」になるまで腐蝕エッチングして、エッチングされてなる凹部形状を有するインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成するとともに、複数の既成複数微細凹凸部46を、該インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121から突出されてなる突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466の形態に形成する。
As shown in (C) and (C-b) of FIG. 6, the process (C) includes a plate mold substrate etching process in which an etching solution is brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the desired region inkjet resist fine convex portion top surface hardened film 3e, the desired region inkjet resist fine convex portion side surface hardened film 3f, and the desired region inkjet resist fine concave portion bottom surface hardened film 3g are formed, to etch the plate mold substrate second region surface 12 on which the desired region inkjet resist hardened film is not attached.
As a result, the second area surface 12 of the plate mold substrate is corroded and etched until the depth dimension becomes "d12" without etching the multiple pre-formed multiple fine concave-convex portions 46, thereby forming an inkjet resist film corroded second concave forming portion 121 having an etched concave shape, and the multiple pre-formed multiple fine concave-convex portions 46 are formed into the form of an inkjet film corroded pre-formed multiple fine concave-convex portion protrusion portion 466 having a protruding shape protruding from the inkjet resist film corroded second concave forming portion 121.

図6の(D)、(D-b)に示されるように、(D)工程において、所望領域インクジェットレジスト微細凸部上面硬化膜3eと所望領域インクジェットレジスト微細凸部側面硬化膜3fと所望領域インクジェットレジスト微細凹部底面硬化膜3gを除去するレジスト硬化膜除去工程を備える。
これにより、複数の既成複数微細凹凸部46がエッチングされることなく、版型用基板第二領域表面12がエッチングされてなるインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121が形成されるとともに、複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462を有するそれぞれの既成複数微細凹凸部46を備えた版型用基板第一領域表面11が、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の底面から突出してなる突出形状を有するインクジェト膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466の形態に形成されてなる。
なお、図6(D)に示されるように、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の深さ寸法は「d13」であり、複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462のそれぞれの深さ寸法は初期の深さ寸法「d1」を維持する。
このようにして、押圧加工用版が製造される。
As shown in (D) and (D-b) of FIG. 6, the process (D) includes a resist hardened film removal process for removing the hardened film 3e on the top surface of the inkjet resist fine convex portion in the desired region, the hardened film 3f on the side surface of the inkjet resist fine convex portion in the desired region, and the hardened film 3g on the bottom surface of the inkjet resist fine concave portion in the desired region.
As a result, the second region surface 12 of the plate mold substrate is etched without etching the multiple pre-formed multiple fine unevenness portions 46, thereby forming an inkjet resist film corrosion second recess formation portion 121, and the first region surface 11 of the plate mold substrate having pre-formed multiple fine unevenness portions 46 each having a multiple pre-formed multiple fine unevenness portion convex portions 461 and a multiple pre-formed multiple fine unevenness portion concave portions 462 is formed in the form of an inkjet film corrosion pre-formed multiple fine unevenness portion protrusion portion 466 having a protruding shape protruding from the bottom surface of the inkjet resist film corrosion second recess formation portion 121.
As shown in FIG. 6(D), the depth dimension of the inkjet resist film corrosion second recess formation portion 121 is "d13", and the depth dimensions of the multiple pre-formed multiple fine unevenness portion convex portions 461 and the multiple pre-formed multiple fine unevenness portion concave portions 462 each maintain the initial depth dimension "d1".
In this manner, a pressing plate is manufactured.

この構成により、前述の「(製造方法効果イ:インクジェットレジストによる所望寸法の凹凸表面形状を形成可能効果)」が得られるとともに、特に、前述の「(製造方法効果イ-b:インクジェットレジストによる突出した形状を有する所望寸法の既成複数微細凹凸部を形成可能効果)」が得られる。This configuration makes it possible to obtain the aforementioned "(Manufacturing method effect A: effect of being able to form an uneven surface shape of desired dimensions using inkjet resist)" and, in particular, to obtain the aforementioned "(Manufacturing method effect A-b: effect of being able to form multiple prefabricated fine uneven portions of desired dimensions having protruding shapes using inkjet resist)"

[従属構成9]
上記の[従属構成6]の本発明の押圧加工用版の製造方法において、好ましくは、下記の「従属構成10」を備えた押圧加工用版の製造方法が実施可能である。
図5は、本発明の一実施例の押圧加工用版の製造方法における押圧加工用版に形成された既成複数微細凹凸部を説明するための模式的概略図であり、図5の(A-b)は平面模式的概略図であり、(A-a)は平面模式的概略図のB-B線における断面模式的概略図であり、図5の(B)は、図5(A-b)の丸に囲まれた領域の模式的拡大図である。図5(A-a)は図4(D)に相当し、図5(A-b)は図4(D-b)に相当する。
図4、図5において、エッチングされて窪んだ凹形状を有するインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121から突出した形態で、インクジェト膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466が形成されてなる。インクジェト膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466の表面には、複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462が形成されてなる。
但し、図4、図5において、インクジェト膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466の複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462の形状は、正確な形状、寸法を示すものではなく、形状構成を説明するための模式的な概略形状を示すものである。
[Subordinate structure 9]
In the method for manufacturing a press plate of the present invention described above in [subordinate configuration 6], it is possible to preferably implement a method for manufacturing a press plate having the following "subordinate configuration 10".
Fig. 5 is a schematic diagram for explaining a plurality of preformed fine concave-convex portions formed on a pressing plate in a method for manufacturing a pressing plate according to an embodiment of the present invention, in which (A-b) of Fig. 5 is a schematic plan view, (A-a) is a schematic cross-sectional view taken along line B-B of the schematic plan view, and (B) of Fig. 5 is a schematic enlarged view of the area surrounded by a circle in (A-b) of Fig. 5. (A-a) of Fig. 5 corresponds to (D) of Fig. 4, and (A-b) of Fig. 5 corresponds to (D-b) of Fig. 4.
4 and 5, a plurality of previously formed fine unevenness protrusions 466 are formed by etching the inkjet film in a form protruding from the inkjet resist film corrosion second concave forming portion 121 having an etched concave shape. A plurality of previously formed fine unevenness protrusions 461 and a plurality of previously formed fine unevenness concaves 462 are formed on the surface of the previously formed fine unevenness protrusions 466 by etching the inkjet film.
However, in Figures 4 and 5, the shapes of the multiple pre-formed multiple fine unevenness convex portions 461 and the multiple pre-formed multiple fine unevenness concave portions 462 of the inkjet film corrosion pre-formed multiple fine unevenness protrusion portions 466 do not indicate the exact shapes and dimensions, but rather indicate a schematic outline shape for explaining the shape configuration.

複数の既成複数微細凹凸部凸部461のそれぞれの既成複数微細凹凸部凸部の高さ寸法「d1」は、特に制限されないが、好ましくは0.05mm以上であり、更に好ましくは0.05mm~1mmであり、更に好ましくは0.05mm~0.5mmであり、更に好ましくは0.08mm~0.3mmである。
複数の既成複数微細凹凸部凸部461のそれぞれの既成複数微細凹凸部凸部の幅寸法「w1」は、特に制限されないが、好ましくは0.0005mm~1mmであり、更に好ましくは0.05mm~0.5mmであり、更に好ましくは0.05mm~0.1mmである。
The height dimension "d1" of each of the preformed multiple fine unevenness convex portions 461 is not particularly limited, but is preferably 0.05 mm or more, more preferably 0.05 mm to 1 mm, more preferably 0.05 mm to 0.5 mm, and even more preferably 0.08 mm to 0.3 mm.
The width dimension "w1" of each of the multiple preformed multiple fine unevenness convex portions 461 is not particularly limited, but is preferably 0.0005 mm to 1 mm, more preferably 0.05 mm to 0.5 mm, and even more preferably 0.05 mm to 0.1 mm.

複数の既成複数微細凹凸部凹部462のそれぞれの既成複数微細凹凸部凹部の深さ寸法「d1」は、特に制限されないが、好ましくは0.05mm以上であり、更に好ましくは0.05mm~1mmであり、更に好ましくは0.05mm~0.5mmであり、更に好ましくは0.08mm~0.3mmである。
なお、既成複数微細凹凸部凹部の深さは既成複数微細凹凸部凸部の高さと同じ領域を意味し、既成複数微細凹凸部凸部の高さ寸法「d1」は既成複数微細凹凸部凹部の深さ寸法「d1」と同じ寸法である。
複数の既成複数微細凹凸部凹部462のそれぞれの既成複数微細凹凸部凹部の幅寸法「w2」は、特に制限されないが、好ましくは0.0005mm~1mmであり、更に好ましくは0.05mm~0.5mmであり、更に好ましくは0.05mm~0.1mmである。
既成複数微細凹凸部凹部の深さ寸法「d1」(既成複数微細凹凸部凸部の高さ寸法「d1」)が0.05mm未満の場合は、既成複数微細凹凸部を形成した押圧加工用版を使用して被加工物を押圧加工したときに、所望の深さの既成複数微細凹凸部凹部、所望の高さの既成複数微細凹凸部凸部を有する凹凸形状に加工された加工物が得られない傾向がある。
既成複数微細凹凸部凹部の深さ寸法「d1」(既成複数微細凹凸部凸部の高さ寸法「d1」)が大きくなるに従って、複数の既成複数微細凹凸部を形成した押圧加工用版を使用して被加工物を押圧加工した場合に、所望の優れた微細凹凸形状の寸法精度を有する加工物を得ることが可能になり、「d1」が1mmを超えていくに従って、例えば、シート状箔材料を使用して箔押し加工した場合に、押圧加工時にシート状箔材料が破れるなどの不都合が生じる割合が多くなる傾向がある。
The depth dimension "d1" of each of the multiple preformed multiple fine unevenness recesses 462 is not particularly limited, but is preferably 0.05 mm or more, more preferably 0.05 mm to 1 mm, more preferably 0.05 mm to 0.5 mm, and even more preferably 0.08 mm to 0.3 mm.
In addition, the depth of the concave portion of the existing multiple fine unevenness portion means the same area as the height of the convex portion of the existing multiple fine unevenness portion, and the height dimension "d1" of the convex portion of the existing multiple fine unevenness portion is the same dimension as the depth dimension "d1" of the concave portion of the existing multiple fine unevenness portion.
The width dimension "w2" of each of the preformed multiple fine unevenness recesses 462 is not particularly limited, but is preferably 0.0005 mm to 1 mm, more preferably 0.05 mm to 0.5 mm, and even more preferably 0.05 mm to 0.1 mm.
If the depth dimension "d1" of the concave portions of the preformed multiple fine unevenness portions (height dimension "d1" of the convex portions of the preformed multiple fine unevenness portions) is less than 0.05 mm, when a workpiece is pressed using a pressing plate on which the preformed multiple fine unevenness portions are formed, it tends not to be possible to obtain a workpiece that has an uneven shape having preformed multiple fine unevenness portion concave portions of the desired depth and preformed multiple fine unevenness portion convex portions of the desired height.
As the depth dimension "d1" of the concave portions of the preformed multiple fine unevenness portions (height dimension "d1" of the convex portions of the preformed multiple fine unevenness portions) becomes larger, when a pressing plate on which multiple preformed multiple fine unevenness portions are formed is used to press a workpiece, it becomes possible to obtain a workpiece having the desired excellent dimensional accuracy of the fine uneven shape.As "d1" exceeds 1 mm, for example, when foil stamping is performed using a sheet-like foil material, there is a tendency for inconveniences such as the sheet-like foil material tearing during pressing to occur more frequently.

これらの既成複数微細凹凸部凸部461と既成複数微細凹凸部凹部462との複数個が集まってインクジェト膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466が形成されてなる。複数の既成複数微細凹凸部凸部461と既成複数微細凹凸部凹部462の複数個の数は、特に限定されないが、例えば、10個~10000個である。A plurality of these pre-formed multiple fine concave-convex portion convex portions 461 and pre-formed multiple fine concave-convex portion concave portions 462 are gathered together to form the inkjet film corrosion pre-formed multiple fine concave-convex portion protrusion portion 466. The number of the pre-formed multiple fine concave-convex portion convex portions 461 and the pre-formed multiple fine concave-convex portion concave portions 462 is not particularly limited, but is, for example, 10 to 10,000.

インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の深さ寸法「d12」は、特に制限されないが、前記既成複数微細凹凸部凹部の深さ寸法「d1」よりも大きい深さ寸法であって、好ましくは、1.0mm以上であり、更に好ましくは1.5mm~5mmであり、更に好ましくは1.8mm~2mmである。
インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の深さ寸法「d12」が既成複数微細凹凸部凹部462の深さ寸法「d1」よりも小さい深さ寸法の場合には、既成複数微細凹凸部46を形成した押圧加工用版を使用して被加工物を押圧加工したときに、押圧加工用版の既成複数微細凹凸部46の領域が被加工物の表面を所望の深さ迄押圧することができなくなる傾向があり、所望の深さの既成複数微細凹凸部凹部462、所望の高さの既成複数微細凹凸部凸部461を有する凹凸形状に加工された加工物が得られない傾向がある。
The depth dimension "d12" of the inkjet resist film etching second recess formation portion 121 is not particularly limited, but is a depth dimension larger than the depth dimension "d1" of the recess of the existing multiple fine unevenness portion, and is preferably 1.0 mm or more, more preferably 1.5 mm to 5 mm, and even more preferably 1.8 mm to 2 mm.
If the depth dimension "d12" of the inkjet resist film corrosion second recess forming portion 121 is a depth dimension smaller than the depth dimension "d1" of the existing multiple fine unevenness portion concave portion 462, when a pressing plate on which the existing multiple fine unevenness portions 46 are formed is used to press a workpiece, the area of the existing multiple fine unevenness portions 46 of the pressing plate tends to be unable to press the surface of the workpiece to the desired depth, and it tends not to be possible to obtain a workpiece processed into an uneven shape having the existing multiple fine unevenness portion concave portion 462 of the desired depth and the existing multiple fine unevenness portion convex portions 461 of the desired height.

図8は、本発明の一実施例の押圧加工用版の製造方法における押圧加工用版に凹凸で形成された図文字絵柄模様形態を説明するための模式的概略図である。
例えば、図8の(B)、(D)に図示されているような複数個のインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466を備えた押圧加工用版が実施可能である。図8の(B)、(D)において、「ABCDE模様」、「ハート模様」、「星模様」のインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466が形成され、それぞれの模様の表面は、複数の既成複数微細凹凸部凸部と複数の既成複数微細凹凸部凹部とを有して形成されてなる。
FIG. 8 is a schematic diagram for explaining a graphic, letter, and picture pattern formed by projections and recesses on a press plate in a method for manufacturing a press plate according to one embodiment of the present invention.
For example, a pressing plate having a plurality of inkjet film etching preformed multiple fine concave-convex protrusions 466 as shown in Fig. 8B and 8D can be produced. In Fig. 8B and 8D, inkjet film etching preformed multiple fine concave-convex protrusions 466 of "ABCDE pattern", "heart pattern", and "star pattern" are formed, and the surface of each pattern is formed with a plurality of preformed multiple fine concave-convex protrusions and a plurality of preformed multiple fine concave-convex recesses.

[従属構成7]
上記の[従属構成6]の押圧加工用版の製造方法において、好ましくは、下記の構成を備えた押圧加工用版の製造方法が実施可能である。
前記(A)工程において、複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462を有する既成複数微細凹凸部46は、(ヘ)微細点模様、微細図柄模様、微細絵柄模様、及び/又は、微細格子模様、(ト)微細万線模様、(チ)微細縞模様、及び、(リ)異なる方向から見て互いに異なる図柄絵文字模様を表す潜像模様、からなる群から選ばれる少なくとも一つの複数微細凹凸形状で形成されてなる微細図文字絵柄模様を形成してなる、押圧加工用版の製造方法。
[Subordinate structure 7]
In the method for manufacturing a press plate according to the above-mentioned [subordinate configuration 6], it is preferable to implement a method for manufacturing a press plate having the following configuration.
In the process (A), the pre-formed multiple fine unevenness 46 having a plurality of pre-formed multiple fine unevenness convex portions 461 and a plurality of pre-formed multiple fine unevenness concave portions 462 forms a fine graphic character pattern formed with at least one multiple fine uneven shape selected from the group consisting of (F) a fine dot pattern, a fine pattern pattern, a fine picture pattern, and/or a fine lattice pattern, (G) a fine line pattern, (H) a fine stripe pattern, and (I) a latent image pattern that displays different graphic character patterns when viewed from different directions.

この構成により、前述の「(製造方法効果イ:インクジェットレジストによる所望寸法の凹凸表面形状を形成可能効果)」及び(製造方法効果イ-b:インクジェットレジストによる突出した形状を有する所望寸法の既成複数微細凹凸部を形成可能効果)が得られるとともに、特に、「(製造方法効果イ-bb:所望の微細図文字絵柄模様形態を有する微細凹凸部で形成された表面を備えた押圧加工用版を製造可能効果)所望の寸法形状を有し、(ヘ)微細点模様、微細図柄模様、微細絵柄模様、及び/又は、微細格子模様、(ト)微細万線模様、チ)微細縞模様、(リ)異なる方向から見て互いに異なる図柄絵文字模様を表す潜像模様、等の微細図文字絵柄模様を形成してなる表面を備えた押圧加工用版を製造可能であるとともに、エッチングされてはならない領域の腐蝕エッチングが抑制されて、複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462を有する既成複数微細凹凸部46)のそれぞれの高さ寸法、深さ寸法、幅寸法、等の所望の形状及び所望大きさ寸法を有する押圧加工用版を製造することが可能になる効果」が得られる。
特に、エッチングされてはならない領域としての「それぞれの既成複数凹凸部凸部側面461bとそれぞれの既成複数凹凸部凹部側面462bの側面」が腐蝕エッチングされる「サイドエッチング現象」が抑制される。
This configuration provides the aforementioned "(Manufacturing method effect A: Effect of being able to form a concave-convex surface shape of desired dimensions using inkjet resist)" and (Manufacturing method effect A-b: Effect of being able to form a plurality of pre-fabricated fine concave-convex portions of desired dimensions having protruding shapes using inkjet resist), and in particular, "(Manufacturing method effect A-bb: Effect of being able to manufacture a pressing plate having a surface formed with fine concave-convex portions having a desired fine graphic, letter, and picture pattern shape) having a desired size and shape, (F) a fine dot pattern, a fine pattern pattern, a fine picture pattern, and/or a fine lattice pattern, (G) "It is possible to manufacture a pressing plate having a surface on which a fine graphic character pattern is formed, such as a fine line pattern, a fine stripe pattern, or a latent image pattern which shows different graphic character patterns when viewed from different directions, and corrosive etching of areas which should not be etched is suppressed, thereby making it possible to manufacture a pressing plate having the desired shape and size dimensions, such as the height, depth, width, etc. of each of the pre-formed multiple fine unevenness portions 46) having a plurality of pre-formed multiple fine unevenness portion convex portions 461 and a plurality of pre-formed multiple fine unevenness portion concave portions 462."
In particular, the "side etching phenomenon" in which the "sides of the convex portion 461b of each of the existing multiple concave-convex portions and the side surfaces of the concave portion 462b of each of the existing multiple concave-convex portions" which are regions that should not be etched are corroded and etched is suppressed.

なお、「微細万線模様」は、直線、破線、点線、一点鎖線等により形成された微細万線模様を含む。「微細縞模様」は所望形状の曲線により形成された微細縞模様、所望形状の波形曲線により形成された微細縞模様を含む。
「(リ)異なる方向から見て互いに異なる図柄絵文字模様を表す潜像模様」は、換言すれば、異なる方向から見て互いに異なる図柄絵文字模様が認識される図柄絵文字模様を意味する。
The "fine line pattern" includes a fine line pattern formed by straight lines, dashed lines, dotted lines, dashed lines, etc. The "fine stripe pattern" includes a fine stripe pattern formed by a curve of a desired shape, and a fine stripe pattern formed by a wavy curve of a desired shape.
"(R) A latent image pattern which displays different pictorial character patterns when viewed from different directions" means, in other words, a pictorial character pattern which is recognized as being different from each other when viewed from different directions.

[従属構成8]
上記の[従属構成6]、又は、[従属構成7]の押圧加工用版の製造方法において、好ましくは、下記の構成を備えた押圧加工用版の製造方法が実施可能である。
図9は本発明の一実施例の押圧加工用版の製造方法における押圧加工用版に凹凸で形成された図文字絵柄模様形態を説明するための模式的概略図であり、模式的平面図である。
図9の(A-a)、(A-b)は所定の形状に区切られて規則性を持って配列された複数のパターンセルの形状を説明する平面図であり、(A-a)は略正方形に区切られた複数のパターンセルを示す。図9の(B-a)、(B-b)、(B-c)、(B-d)、(B-e)、(B-f)は、上記の図9の(A-a)、(A-b)に示される複数のパターンセルに形成されている凹凸形状により形成された凹凸パターンの形状の一実施例を示す模式的拡大図であって、(B-a)は微細左斜線万線、(B-b)は微細右斜線万線、(B-c)は微細水平万線模様、(B-d)は微細縦平行万線模様、(B-e)は微細縞模様、(B-f)は微細点模様を示す。図9の(C)は、複数のパターンセルのそれぞれのパターンセルに凹凸形状で形成されている凹凸パターンの一実施例の形態を示す。図9の(D-a)、(D-b)、(D-c)は、図9(C)に形成されている複数種類の凹凸パターンセルを示す。
[Subordinate structure 8]
In the method for manufacturing a press plate according to the above-mentioned [subordinate configuration 6] or [subordinate configuration 7], it is possible to implement a method for manufacturing a press plate having the following configuration.
FIG. 9 is a schematic outline diagram for explaining the shape of a graphic, letter, and design pattern formed by projections and recesses on a press processing plate in a method for manufacturing a press processing plate according to one embodiment of the present invention, and is a schematic plan view.
(A-a) and (A-b) in Fig. 9 are plan views for explaining the shape of a plurality of pattern cells that are divided into a predetermined shape and arranged with regularity, and (A-a) shows a plurality of pattern cells divided into an approximately square shape. (B-a), (B-b), (B-c), (B-d), (B-e), and (B-f) in Fig. 9 are schematic enlarged views showing an example of the shape of a concave-convex pattern formed by the concave-convex shape formed in the plurality of pattern cells shown in (A-a) and (A-b) in Fig. 9, where (B-a) shows fine left diagonal lines, (B-b) shows fine right diagonal lines, (B-c) shows a fine horizontal line pattern, (B-d) shows a fine vertical parallel line pattern, (B-e) shows a fine stripe pattern, and (B-f) shows a fine dot pattern. (C) in Fig. 9 shows the form of an example of a concave-convex pattern formed in each pattern cell of the plurality of pattern cells in a concave-convex shape. FIGS. 9(Da), (Db), and (Dc) show a plurality of types of concave-convex pattern cells formed in FIG. 9(C).

図9の(A-a)、(A-b)に示されるように、前述の[従属構成6]又は[従属構成7]の前記(A)工程において、複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462を有する既成複数微細凹凸部46は、微細凹凸形状で刻設されて所定の形状に区切られて規則性を持って配列された複数種類の凹凸パターンセルの組み合わせによって形成されてなる。
図9の(B-a)~(B-f)に示されるように、複数種類の凹凸パターンセルのそれぞれの凹凸パターンセルは、微細点模様、微細図柄模様、微細絵柄模様、微細万線模様、及び、微細縞模様、からなる群から選ばれる少なくとも二種類以上の微細凹凸形状で形成されてなる微細図文字絵柄模様を形成してなる。
なお、微細万線模様は、直線、破線、点線、一点鎖線等により形成された微細万線模様を含む。微細縞模様は所望形状の曲線により形成された微細縞模様、所望形状の波形曲線により形成された微細縞模様を含む。
図9の(C)、図9の(D-a)~(D-c)に示されるように、二種類以上の微細図文字絵柄模様のうちの一種類の複数個の微細図文字絵柄模様が集まって第一画像を形成し、前記二種類以上の微細図文字絵柄模様のうちの前記一種類と異なる他の第二種類の複数個の微細図文字絵柄模様が集まって他の画像を形成してなる。
このようにして、押圧加工用版が製造される。
As shown in (A-a) and (A-b) of Figure 9, in the (A) step of the above-mentioned [subordinate structure 6] or [subordinate structure 7], the pre-formed multiple fine unevenness portion 46 having a plurality of pre-formed multiple fine unevenness portion convex portions 461 and a plurality of pre-formed multiple fine unevenness portion concave portions 462 is formed by a combination of multiple types of unevenness pattern cells that are engraved with fine unevenness shapes, divided into predetermined shapes, and arranged with regularity.
As shown in (Ba) to (B-f) of Figure 9, each of the multiple types of concave-convex pattern cells forms a fine graphic, letter, and picture pattern formed of at least two or more types of fine concave-convex shapes selected from the group consisting of a fine dot pattern, a fine design pattern, a fine picture pattern, a fine line pattern, and a fine stripe pattern.
The fine line pattern includes a fine line pattern formed by straight lines, dashed lines, dotted lines, dashed lines, etc. The fine stripe pattern includes a fine stripe pattern formed by a curve of a desired shape, and a fine stripe pattern formed by a wavy curve of a desired shape.
As shown in Figure 9 (C) and Figures 9 (D-a) to (D-c), a plurality of fine graphic character picture patterns of one type among two or more types of fine graphic character picture patterns are gathered together to form a first image, and a plurality of fine graphic character picture patterns of a second type different from the one type among the two or more types of fine graphic character picture patterns are gathered together to form another image.
In this manner, a pressing plate is manufactured.

好ましくは、上記の構成において、一つの方向から見た場合に第一画像が認識され、前記一つの方向とは異なる他の方向から見た場合に他の画像が認識されるように形成されてなる構成が好ましく実施可能である。
換言すれば、二種類以上の微細図文字絵柄模様のうちの一種類の複数個の微細図文字絵柄模様が集まって一つの画像を形成し、他の種類の複数個の微細図文字絵柄模様が集まって他の画像を形成し、互いに異なる方向から見た場合に、互いに異なる画像が現れて認識されるように形成されてなる構成が好ましく実施可能である。
Preferably, in the above configuration, a configuration in which a first image is recognized when viewed from one direction and another image is recognized when viewed from another direction different from the one direction is preferably feasible.
In other words, a configuration in which a plurality of fine graphic character patterns of one type among two or more types of fine graphic character patterns are gathered together to form one image, and a plurality of fine graphic character patterns of the other type are gathered together to form another image, and when viewed from different directions, different images appear and are recognized.

例えば、実施例を示す図9においては、図9(C)における微細左斜線万線模様が集まって、図9(D-a)の「H」文字画像46aを形成し、図9(C)における微細右斜線万線模様が集まって、図9(D-b)の「T」文字画像46bを形成し、図9(C)における微細水平線万線模様が集まって、図9(D-c)の「Z」文字画像46cを形成してなり、これらの文字を、互いに異なる方向から見た場合に、互いに異なる画像文字が認識されるように形成されてなる。
このようにして、押圧加工用版が製造される。
For example, in Figure 9 showing an embodiment, the fine left diagonal line patterns in Figure 9 (C) come together to form the "H" letter image 46a in Figure 9 (D-a), the fine right diagonal line patterns in Figure 9 (C) come together to form the "T" letter image 46b in Figure 9 (D-b), and the fine horizontal line patterns in Figure 9 (C) come together to form the "Z" letter image 46c in Figure 9 (D-c), and these letters are formed so that different image characters are recognized when viewed from different directions.
In this manner, a pressing plate is manufactured.

図9は押圧加工用版の表面の模式的形態を示すが、この押圧加工用版を使用して被加工物を押圧加工して形成された加工物は、使用した押圧加工用版に形成された凹凸形状に一致した凹凸形状を有する形態に加工形成され、互いに異なる方向から見た場合に、互いに異なる画像文字が認識されるように形成されてなる。FIG. 9 shows a schematic form of the surface of a pressing plate. When a workpiece is pressed using this pressing plate, the workpiece is processed into a form having a concave-convex shape that matches the concave-convex shape formed on the pressing plate used, and is formed so that different image characters can be recognized when viewed from different directions.

なお、図9において、「所定の形状に区切られて規則性を持って配列された複数種類の凹凸パターンセル」としては、その所定の形状に区切られてなるそれぞれのパターンセル間の境界線が形成されているが、この構成に限定することなく、それぞれのパターンセル間の境界線が形成されることなく、それぞれのパターンセルが凹凸形状により形成された微細図文字絵柄模様を有する構成が実施可能である。In FIG. 9, the "multiple types of concave-convex pattern cells divided into predetermined shapes and arranged with regularity" have boundaries between each of the pattern cells divided into the predetermined shapes, but this configuration is not limited to this, and it is also possible to implement a configuration in which no boundaries are formed between each of the pattern cells and each pattern cell has a fine graphic, letter, and picture pattern formed by a concave-convex shape.

この構成により、前述の「(製造方法効果イ:インクジェットレジストによる所望寸法の凹凸表面形状を形成可能効果)」が得られるとともに、特に、「(製造方法効果イ-b:インクジェットレジストによる突出した形状を有する所望寸法の既成複数微細凹凸部を形成可能効果)化学的腐蝕エッチング加工であって、凹部と該凹部から突出した突起部と、その突起部の表面に複数の既成複数微細凹凸部凹部と複数の既成複数微細凹凸部凸部とを有する既成複数微細凹凸部、が形成されてなるとともに、「版型用基板のエッチングされてはならない領域」の腐蝕エッチングが抑制されてなる所望の形状を備えた押圧加工用版を製造することが可能になる効果、及び、この押圧加工用版を使用して被加工物を押圧加工した場合に、使用した押圧加工用版に形成された凹凸形状に一致した凹凸形状を有する形態に加工形成され、互いに異なる方向から見た場合に、互いに異なる画像文字が認識されるように形成されてなる押圧加工用版が得られる」効果が得られる。
すなわち、腐蝕エッチングされてなるインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121が形成されるとともに、「版型用基板のエッチングされてはならない領域としての『複数の既成複数微細凹凸部凸部側面461b(複数の既成複数微細凹凸部凹部側面462bと同じ側面)』の腐蝕エッチングが抑制されてなる所望の形状を備えた押圧加工用版を製造することが可能になる効果」が得られる。
特に、エッチングされてはならない領域としての「それぞれの既成複数微細凹凸部凸部側面461bとそれぞれの既成複数微細凹凸部凹部側面462bの側面」が腐蝕エッチングされる「サイドエッチング現象」が抑制される。
This configuration provides the aforementioned "(Manufacturing method effect A: Effect of being able to form an uneven surface shape of desired dimensions using inkjet resist)" and, in particular, the effect of "(Manufacturing method effect A-b: Effect of being able to form pre-formed multiple fine unevenness of desired dimensions having a protruding shape using inkjet resist) an effect of making it possible to manufacture a pressing plate having a desired shape by chemical corrosive etching, in which a pre-formed multiple fine unevenness is formed having a recess, a protrusion protruding from the recess, and a plurality of pre-formed multiple fine unevenness recesses and a plurality of pre-formed multiple fine unevenness protrusions on the surface of the protrusion, and in which corrosive etching of "areas of the plate mold substrate that should not be etched" is suppressed, and when this pressing plate is used to press a workpiece, the workpiece is processed and formed into a shape having an uneven shape that matches the uneven shape formed on the pressing plate used, and a pressing plate formed so that different image characters are recognizable when viewed from different directions" is obtained.
In other words, the inkjet resist film is etched to form a second recessed portion 121, and the effect of "making it possible to manufacture a pressing plate having a desired shape by suppressing the etching of the convex portion side 461b of the multiple pre-formed multiple fine concave-convex portions (the same side as the concave portion side 462b of the multiple pre-formed multiple fine concave-convex portions) which is an area of the plate mold substrate that must not be etched" is obtained.
In particular, the "side etching phenomenon" in which the "sides of the convex portion 461b of each of the existing multiple fine concave-convex portions and the side surfaces of the concave portion 462b of each of the existing multiple fine concave-convex portions," which are areas that should not be etched, are corroded and etched is suppressed.

[従属構成10]
上記の[従属構成1]の押圧加工用版の製造方法において、好ましくは、下記の構成を備えた押圧加工用版の製造方法が実施可能である。
図7は本発明の他の一実施例の押圧加工用版の製造方法の製造工程を説明するための模式的概略図である。
[Subordinate structure 10]
In the method for manufacturing a press plate according to the above-mentioned [subordinate configuration 1], it is preferable to implement a method for manufacturing a press plate having the following configuration.
FIG. 7 is a schematic diagram for explaining the manufacturing steps of a method for manufacturing a pressing plate according to another embodiment of the present invention.

図7(A)に示されるように、前述の[従属構成1]の前記(A)工程において、前記版型用基板第二領域表面12は複数の凹凸のない無凹凸部を有し、版型用基板第一領域表面11は複数の既成凹凸部4を有する。版型用基板第二領域表面12は版型用基板第一領域表面11の周囲領域に位置する。
複数の既成凹凸部4のうちの一つの既成凹凸部4は、(イ)複数の凸形状で形成された複数の既成複数凹凸部凸部451と、複数の凹形状で形成された複数の既成複数凹凸部凹部452とを有してなる既成複数凹凸部45を有する。
複数の既成凹凸部4のうちの他の一つの既成凹凸部4は(ロ)複数の微細凸形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凸部461と、複数の微細凹形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凹部462とを有してなる既成複数微細凹凸部46、を有する。
複数の既成複数凹凸部凸部451は複数の既成複数凹凸部凸部上面451aと複数の既成複数凹凸部凸部側面451bとを有し、複数の既成複数凹凸部凹部452は複数の既成複数凹凸部凹部底面452cと複数の既成複数凹凸部凹部側面452bとを有する。
ここで、複数の既成複数凹凸部凸部側面451bと複数の既成複数凹凸部凹部側面452bは、互いに同じ側面領域に相当する。
複数の既成複数微細凹凸部凸部461は複数の既成複数微細凹凸部凸部上面461aと複数の既成複数微細凹凸部凸部側面461bとを有し、複数の既成複数微細凹凸部凹部462は複数の既成複数微細凹凸部凹部底面462cと複数の既成複数微細凹凸部凹部側面462bとを有する。
ここで、複数の既成複数微細凹凸部凸部側面461bと複数の既成複数微細凹凸部凹部側面456bは、互いに同じ側面領域に相当する。
7(A), in the step (A) of the above-mentioned [Subordinate Structure 1], the second region surface 12 of the plate mold substrate has a plurality of non-relief portions without any unevenness, and the first region surface 11 of the plate mold substrate has a plurality of pre-formed uneven portions 4. The second region surface 12 of the plate mold substrate is located in the peripheral region of the first region surface 11 of the plate mold substrate.
One of the multiple preformed uneven portions 4 has a preformed multiple uneven portion 45 having (i) a plurality of preformed multiple uneven portion convex portions 451 formed with a plurality of convex shapes and a plurality of preformed multiple uneven portion concave portions 452 formed with a plurality of concave shapes.
Another of the multiple preformed uneven portions 4 has (b) a preformed multiple fine uneven portion 46 having a plurality of preformed multiple fine uneven portion convex portions 461 formed with a plurality of fine convex shapes, and a plurality of preformed multiple fine uneven portion concave portions 462 formed with a plurality of fine concave shapes.
The multiple preformed multiple uneven portion convex portions 451 have multiple preformed multiple uneven portion convex portion upper surfaces 451a and multiple preformed multiple uneven portion convex portion side surfaces 451b, and the multiple preformed multiple uneven portion concave portions 452 have multiple preformed multiple uneven portion concave portion bottom surfaces 452c and multiple preformed multiple uneven portion concave portion side surfaces 452b.
Here, the multiple convex portion side surfaces 451b of the existing multiple concave-convex portions and the multiple concave-convex portion side surfaces 452b of the existing multiple concave-convex portions correspond to the same side surface region.
The multiple preformed multiple fine unevenness portion convex portions 461 have multiple preformed multiple fine unevenness portion convex portion top surfaces 461a and multiple preformed multiple fine unevenness portion convex portion side surfaces 461b, and the multiple preformed multiple fine unevenness portion concave portions 462 have multiple preformed multiple fine unevenness portion concave portion bottom surfaces 462c and multiple preformed multiple fine unevenness portion concave portion side surfaces 462b.
Here, the multiple convex portion side surfaces 461b of the already formed multiple fine concave-convex portions and the multiple concave-convex portion side surfaces 456b of the already formed multiple fine concave-convex portions correspond to the same side surface region.

前述の[従属構成1]の前記(B)工程において、複数の既成複数凹凸部凸部上面451aと複数の既成複数凹凸部凸部側面451bと複数の既成複数凹凸部凹部底面452c、及び、複数の既成複数微細凹凸部凸部上面461aと複数の既成複数微細凹凸部凸部側面461bと複数の既成複数微細凹凸部凹部底面462cとを覆って、インクジェットレジスト材2をインクジェット方式で付着して、インクジェットレジスト凸部上面付着膜とインクジェットレジスト凸部側面付着膜とインクジェット凹部底面付着膜、及び、インクジェットレジスト微細凸部上面付着膜とインクジェットレジスト微細凸部側面付着膜とインクジェット微細凹部底面付着膜とを形成するインクジェットレジスト付着膜形成工程を備える。ここで、既成複数凹凸部45の周囲領域に位置する前記版型用基板第二領域表面12にはインクジェットレジスト材2が付着されない。
前記(B)工程において、更に、インクジェットレジスト凸部上面付着膜とインクジェットレジスト凸部側面付着膜とインクジェット凹部底面付着膜、及び、インクジェットレジスト微細凸部上面付着膜とインクジェットレジスト微細凸部側面付着膜とインクジェット微細凹部底面付着膜とを硬化して、所望領域インクジェットレジスト凸部上面硬化膜3aと所望領域インクジェットレジスト凸部側面硬化膜3bと所望領域インクジェットレジスト凹部底面硬化膜3c、及び、所望領域インクジェットレジスト微細凸部上面硬化膜3eと所望領域インクジェットレジスト微細凸部側面硬化膜3fと所望領域インクジェットレジスト微細凹部底面硬化膜3gとを有する所望領域インクジェットレジスト硬化3を形成する所望領域インクジェットレジスト硬化膜形成工程、を備える。
In the step (B) of the above-mentioned [Subordinate Configuration 1], the inkjet resist material 2 is applied by an inkjet method to cover the plurality of pre-formed multiple concave-convex portion convex upper surfaces 451a, the plurality of pre-formed multiple concave-convex portion convex side surfaces 451b, the plurality of pre-formed multiple concave-convex portion concave bottom surfaces 452c, and the plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portion convex upper surfaces 461a, the plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portion convex side surfaces 461b, and the plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portion concave bottom surfaces 462c, thereby forming an inkjet resist convex upper surface attachment film, an inkjet resist convex side surface attachment film, an inkjet concave bottom surface attachment film, and an inkjet resist fine convex upper surface attachment film, an inkjet resist fine convex side surface attachment film, and an inkjet fine concave bottom surface attachment film. Here, the inkjet resist material 2 is not attached to the second region surface 12 of the plate mold substrate located in the peripheral region of the pre-formed multiple concave-convex portions 45.
The process (B) further includes a desired region inkjet resist hardened film formation step of hardening the inkjet resist convex portion top surface adhered film, the inkjet resist convex portion side surface adhered film, and the inkjet resist concave portion bottom surface adhered film, and the inkjet resist fine convex portion top surface adhered film, the inkjet resist fine convex portion side surface adhered film, and the inkjet resist fine convex portion bottom surface adhered film, to form the desired region inkjet resist hardened film 3 having the desired region inkjet resist convex portion top surface hardened film 3a, the desired region inkjet resist convex portion side surface hardened film 3b, the desired region inkjet resist concave portion bottom surface hardened film 3c, the desired region inkjet resist fine convex portion top surface hardened film 3e, the desired region inkjet resist fine convex portion side surface hardened film 3f, and the desired region inkjet resist fine convex portion bottom surface hardened film 3g.

前述の[従属構成1]の前記(C)工程において、所望領域インクジェットレジスト凸部上面硬化膜3aと所望領域インクジェットレジスト凸部側面硬化膜3bと所望領域インクジェットレジスト凹部底面硬化膜c)、及び、前記所望領域インクジェットレジスト微細凸部上面硬化膜3eと所望領域インクジェットレジスト微細凸部側面硬化膜3fと所望領域インクジェットレジスト微細凹部底面硬化膜3gを形成した版型用基板1の表面にエッチング液を接触して、所望領域インクジェットレジスト硬化膜が付着されていない前記版型用基板第二領域表面12をエッチングする版型用基板エッチング工程を備える。
これにより、既成複数凹凸部45及び既成複数微細凹凸部46をエッチングすることなく、版型用基板第二領域表面12をエッチングして、エッチングされてなる凹部形状を有するインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成するとともに、既成複数凹凸部45を、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121から突出されてなる突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部455に形成するとともに、既成複数微細凹凸部46を、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121から突出されてなる突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466の形態に形成する。
The process (C) of the aforementioned [Subordinate Configuration 1] includes a plate mold substrate etching process of contacting an etching solution with a surface of the plate mold substrate 1 on which the desired region inkjet resist convex portion top surface hardened film 3a, the desired region inkjet resist convex portion side surface hardened film 3b, and the desired region inkjet resist concave portion bottom surface hardened film c), and the desired region inkjet resist fine convex portion top surface hardened film 3e, the desired region inkjet resist fine convex portion side surface hardened film 3f, and the desired region inkjet resist fine concave portion bottom surface hardened film 3g are formed, to etch the plate mold substrate second region surface 12 to which the desired region inkjet resist hardened film is not attached.
As a result, the second area surface 12 of the mold substrate is etched without etching the pre-formed multiple uneven portions 45 and the pre-formed multiple fine uneven portions 46, thereby forming an inkjet resist film corrosion second recess formation portion 121 having an etched recess shape, and the pre-formed multiple uneven portions 45 are formed into an inkjet film corrosion pre-formed multiple uneven portion protrusion portion 455 having a protruding shape protruding from the inkjet resist film corrosion second recess formation portion 121, and the pre-formed multiple fine uneven portions 46 are formed into the form of an inkjet film corrosion pre-formed multiple fine uneven portion protrusion portion 466 having a protruding shape protruding from the inkjet resist film corrosion second recess formation portion 121.

前述の[従属構成1]の前記(D)工程において、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を除去するレジスト硬化膜除去工程を備え、これにより、既成凹凸部4を、エッチングすることなく、版型用基板第二領域表面12をエッチングして、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成するとともに、既成凹凸部を、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121から突出した突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成凹凸部突起部に形成する。
すなわち、前記所望領域インクジェットレジスト凸部上面硬化膜3aと所望領域インクジェットレジスト凸部側面硬化膜3bと所望領域インクジェットレジスト底面硬化膜3c、及び、所望領域インクジェットレジスト微細凸部上面硬化膜3eと所望領域インクジェットレジスト微細凸部側面硬化膜3fと所望領域インクジェットレジスト微細凹部底面硬化膜3gを除去するレジスト硬化膜除去工程を備える。
これにより、既成複数凹凸部45及び既成複数微細凹凸部46がエッチングされることなく、版型用基板第二領域表面12がエッチングされてなる前記インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121が形成されるとともに、複数の既成複数凹凸部凸部451と複数の既成複数凹凸部凹部452を有する既成複数凹凸部45、及び、複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462を有する前記既成複数微細凹凸部46を備えた前記版型用基板第一領域表面11が、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の底面から突出してなる突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部455、及び、インクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466の形態に形成される。
このようにして、押圧加工用版が製造される。
The process (D) of the aforementioned [Subordinate Configuration 1] includes a resist hardened film removal process for removing the desired region inkjet resist hardened film 3, whereby the second region surface 12 of the plate mold substrate is etched without etching the existing uneven portion 4 to form the inkjet resist film etched second recessed formation portion 121, and the existing uneven portion is formed into an inkjet film etched existing uneven portion protrusion portion having a protruding shape protruding from the inkjet resist film etched second recessed formation portion 121.
That is, the method includes a resist hardened film removal step of removing the desired region inkjet resist convex portion top surface hardened film 3a, the desired region inkjet resist convex portion side surface hardened film 3b, the desired region inkjet resist bottom surface hardened film 3c, as well as the desired region inkjet resist fine convex portion top surface hardened film 3e, the desired region inkjet resist fine convex portion side surface hardened film 3f, and the desired region inkjet resist fine recess bottom surface hardened film 3g.
As a result, the inkjet resist film corrosion second recess formation portion 121 is formed by etching the second region surface 12 of the plate mold substrate without etching the pre-formed multiple uneven portions 45 and the pre-formed multiple fine uneven portions 46, and the pre-formed multiple uneven portions 45 having a pre-formed multiple uneven portion convex portions 451 and a pre-formed multiple uneven portion concave portions 452, and the pre-formed multiple fine uneven portions 46 having a pre-formed multiple fine uneven portion convex portions 461 and a pre-formed multiple fine uneven portion concave portions 462 are formed in the form of an inkjet film corrosion pre-formed multiple uneven portion protrusion portion 455 and an inkjet film corrosion pre-formed multiple fine uneven portion protrusion portion 466 having a protruding shape protruding from the bottom surface of the inkjet resist film corrosion second recess formation portion 121.
In this manner, a pressing plate is manufactured.

この構成により、上記の(製造方法効果イ-a:インクジェットレジストによる突出した形状を有する所望寸法の既成凹凸部を形成可能効果)が得られるとともに、「(製造方法効果イ-b:インクジェットレジストによる突出した形状を有する所望寸法の既成複数微細凹凸部を形成可能効果)」が得られる。
すなわち、腐蝕エッチングされてなるインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121が形成されるとともに、「版型用基板のエッチングされてはならない領域としての『複数の既成複数凹凸部凸部側面(複数の既成複数凹凸部凹部側面と同じ側面)』、『複数の既成複数微細凹凸部凸部側面(複数の既成複数微細凹凸部凹部側面と同じ側面)』の腐蝕エッチングが抑制されてなる所望の形状を備えた押圧加工用版を製造することが可能になる効果」が得られる。
With this configuration, the above-mentioned (Manufacturing method effect A-a: effect of being able to form pre-formed uneven portions of desired dimensions having protruding shapes using inkjet resist) can be obtained, as well as (Manufacturing method effect A-b: effect of being able to form pre-formed multiple fine uneven portions of desired dimensions having protruding shapes using inkjet resist)).
In other words, the inkjet resist film is etched to form a second recessed portion 121, and the effect of "making it possible to manufacture a pressing plate having a desired shape by suppressing the etching of the 'side surfaces of the convex portions of the multiple pre-formed multiple concave-convex portions (the same sides as the concave side surfaces of the multiple pre-formed multiple concave-convex portions)' and the 'side surfaces of the convex portions of the multiple pre-formed multiple fine concave-convex portions (the same sides as the concave side surfaces of the multiple pre-formed multiple fine concave-convex portions)' which are areas of the plate mold substrate that must not be etched" is obtained.

図8は、本発明の一実施例の押圧加工用版の製造方法における押圧加工用版に凹凸で形成された図文字絵柄模様形態を説明するための模式的概略図である。
本製造方法により製造された一実施例の押圧加工用版としては、図8の(C)、(E)、(F)に図示されているようなインクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部455とインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466との双方を備えた押圧加工用版が実施可能である。
FIG. 8 is a schematic diagram for explaining a graphic, letter, and picture pattern formed by projections and recesses on a press plate in a method for producing a press plate according to one embodiment of the present invention.
As an embodiment of a pressing plate manufactured by this manufacturing method, a pressing plate having both inkjet film etched pre-formed multiple concave-convex protrusions 455 and inkjet film etched pre-formed multiple fine concave-convex protrusions 466 can be realized, as shown in Figures 8(C), (E), and (F).

[従属構成11]
上記の[基本構成1]の押圧加工用版の製造方法において、好ましくは、下記の構成を備えた押圧加工用版の製造方法が実施可能である。
図10は本発明の他の一実施例の押圧加工用版の製造方法の製造工程を説明するための模式的概略図である。
図10の(A)、(B)、(C)、(D)は、押圧加工用版の製造方法を説明するための模式的概略断面図である。図10の(A-a)、(B-a)(C-a)(D-a)は、(A)、(B)、(C)、(D)に相当する模式的概略平面図であって、凹凸により形成された所望の図文字絵柄模様を備えた押圧加工用版の製造方法であり、図10の(A-b)、(B-b)(C-b)(D-b)は、(A)、(B)、(C)、(D)に相当する模式的概略平面図であって、凹凸により形成された所望の微細図文字絵柄模様を備えた、押圧加工用版の製造方法である。
[Subordinate structure 11]
In the method for manufacturing a press plate of the above [Basic Configuration 1], it is possible to preferably implement a method for manufacturing a press plate having the following configuration.
FIG. 10 is a schematic diagram for explaining the manufacturing steps of a method for manufacturing a pressing plate according to another embodiment of the present invention.
(A), (B), (C), and (D) of Fig. 10 are schematic cross-sectional views for explaining a method for manufacturing a pressing plate. (A-a), (B-a), (C-a), and (D-a) of Fig. 10 are schematic plan views corresponding to (A), (B), (C), and (D), which are a method for manufacturing a pressing plate having a desired graphic, letter, and design pattern formed by concaves and convexes, and (A-b), (B-b), (C-b), and (D-b) of Fig. 10 are schematic plan views corresponding to (A), (B), (C), and (D), which are a method for manufacturing a pressing plate having a desired fine graphic, letter, and design pattern formed by concaves and convexes.

図10(A)に示されるように、前記版型用基板第一領域表面11は既成凸部47を有し、前記版型用基板第二領域表面12は既成凹部48を有する。版型用基板第一領域表面11は版型用基板第二領域表面12の周囲領域に位置する。既成凸部47は、既成凸部上面47aと既成凸部側面47bを有し、既成凹部48は、既成凹部底面48cと既成凹部側面48bを有する。ここで、既成凸部側面47bと既成凹部側面48bとは互いに同じ側面に相当する。10(A), the plate mold substrate first region surface 11 has a pre-formed convex portion 47, and the plate mold substrate second region surface 12 has a pre-formed concave portion 48. The plate mold substrate first region surface 11 is located in the peripheral region of the plate mold substrate second region surface 12. The pre-formed convex portion 47 has a pre-formed convex portion top surface 47a and a pre-formed convex portion side surface 47b, and the pre-formed concave portion 48 has a pre-formed concave portion bottom surface 48c and a pre-formed concave portion side surface 48b. Here, the pre-formed convex portion side surface 47b and the pre-formed concave portion side surface 48b correspond to the same side surface.

図10(B)に示されるように、前述の[基本構成1]の前記(B)工程において、既成凸部側面47bと既成凹部側面48bと既成凹部底面48cを覆うとともに、既成凸部上面47aに、インクジェットレジスト材2をインクジェット方式により付着して、(イ)所望の図文字絵柄模様、又は、(ロ)所望の微細図文字絵柄模様、を有する所望領域インクジェットレジスト付着膜を形成する所望領域インクジェットレジスト付着膜形成工程、及び、前記所望領域インクジェットレジスト付着膜を硬化して所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成する所望領域インクジェットレジスト硬化膜形成工程、を備える。
例えば、図10(B)、(B-a)、(B-b)に示されるように、既成凸部上面47aに、所望領域インクジェットレジスト硬化膜により形成された「ABCDE模様」、又は、「微細図文字絵柄模様で形成されたハート模様」が形成され、その「ABCDE模様」、又は、「微細図文字絵柄模様で形成されハート模様」を除く領域には、所望領域インクジェットレジスト付着膜が形成されていない。
As shown in FIG. 10(B), in the step (B) of the aforementioned [Basic configuration 1], a desired area inkjet resist deposition film formation step is provided in which an inkjet resist material 2 is applied to an existing convex upper surface 47a by an inkjet method while covering the existing convex side surface 47b, the existing concave side surface 48b, and the existing concave bottom surface 48c, to form a desired area inkjet resist deposition film having (a) a desired graphic/character pattern, or (b) a desired fine graphic/character pattern, and a desired area inkjet resist hardened film formation step is provided in which the desired area inkjet resist deposition film is hardened to form a desired area inkjet resist hardened film 3.
For example, as shown in Figures 10 (B), (Ba), and (B-b), an "ABCDE pattern" or a "heart pattern formed with a fine graphic character picture pattern" is formed on the upper surface 47a of the existing convex portion by a desired area inkjet resist hardened film, and a desired area inkjet resist attached film is not formed in the area other than the "ABCDE pattern" or the "heart pattern formed with a fine graphic character picture pattern."

図10(C)に示されるように、前述の[基本構成1]の前記(C)工程において、前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成した版型用基板1の表面にエッチング液を接触して、既成凸部上面47aにおける所望領域インクジェットレジスト硬化膜が付着されていない領域をエッチングする版型用基板エッチング工程を備える。
これにより、既成凸部側面47bと既成凹部側面48bと既成凹部底面48cをエッチングすることなく、既成凸部上面47aにおける所望領域インクジェットレジスト硬化膜が付着されていない領域をエッチングして複数の凹部と複数の凸部とを有する既成凸部上面凹凸部477を形成する。
ここで、前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が(イ)所望の図文字絵柄模様を有する場合には、図10(C-a)に示されるように、既成凸部上面凹凸部477は(イ)所望の図文字絵柄模様に相当する複数の凹形状で形成された既成凸部上面複数凹凸部凹部472aと複数の凸形状で形成された既成凸部上面複数凹凸部凸部471aとを有してなる既成凸部上面複数凹凸部477aである。
又は、前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が(ロ)所望の微細図文字絵柄模様を有する場合には、図10(C-b)に示されるように、前記既成凸部上面凹凸部477は(ロ)所望の微細図文字絵柄模様に相当する複数の微細凹形状で形成された既成凸部上面複数微細凹凸部凹部472bと複数の微細凸形状で形成された既成凸部上面複数微細凹凸部凸部471bとを有してなる既成凸部上面複数微細凹凸部477bである。
As shown in FIG. 10(C), the step (C) of the above-mentioned [Basic Configuration 1] includes a step of etching a plate mold substrate, in which an etching solution is brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the desired region inkjet resist hardened film 3 is formed, to etch away the region on the existing convex portion upper surface 47a where the desired region inkjet resist hardened film is not attached.
This allows etching of the desired area on the existing convex portion top surface 47a where the inkjet resist hardened film is not attached, without etching the existing convex portion side surface 47b, the existing concave portion side surface 48b, and the existing concave portion bottom surface 48c, thereby forming the existing convex portion top surface uneven portion 477 having multiple concave portions and multiple convex portions.
Here, in the case where the desired region inkjet resist cured film 3 has (a) a desired graphic, letter, or picture pattern, as shown in FIG. 10 (C-a), the existing convex portion upper surface uneven portion 477 is (a) an existing convex portion upper surface multiple uneven portion 477a including an existing convex portion upper surface multiple uneven portion concave portion 472a formed with a plurality of concave shapes corresponding to the desired graphic, letter, or picture pattern, and an existing convex portion upper surface multiple uneven portion convex portion 471a formed with a plurality of convex shapes.
Alternatively, in the case where the desired region inkjet resist cured film 3 has (b) a desired fine graphic, letter, and picture pattern, as shown in FIG. 10 (C-b), the existing convex portion upper surface uneven portion 477 is an existing convex portion upper surface multiple fine uneven portion 477b including (b) a existing convex portion upper surface multiple fine uneven portion concave portion 472b formed with a plurality of fine concave shapes corresponding to the desired fine graphic, letter, and picture pattern, and an existing convex portion upper surface multiple fine uneven portion convex portion 471b formed with a plurality of fine convex shapes.

図10(D)に示されるように、前述の[基本構成1]の前記(D)工程において、前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を除去する所望領域インクジェットレジスト硬化膜除去工程を備える。
これにより、前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が(イ)所望の図文字絵柄模様を有する場合には、図10(D-a)に示されるように、既成凸部上面47aに、既成凸部上面凹凸部477としての既成凸部上面複数凹凸部477aを形成する。
又は、前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が(ロ)所望の微細図文字絵柄模様を有する場合には、図10(D-b)に示されるように、既成凸部上面47aに、既成凸部上面凹凸部477としての既成凸部上面複数微細凹凸部477bを形成する。
このようにして、既成凹部48と既成凸部47とを有し、該既成凸部47の上面に、既成凸部上面凹凸部477としての既成凸部上面複数凹凸部477a、又は、既成凸部上面凹凸部477としての既成凸部上面複数微細凹凸部477bを形成した押圧加工用版を製造する。
As shown in FIG. 10(D), the step (D) of the above-mentioned [Basic Configuration 1] includes a desired area inkjet resist hardened film removal step of removing the desired area inkjet resist hardened film 3.
As a result, when the desired region inkjet resist cured film 3 has (i) a desired graphic, letter, or picture pattern, multiple existing convex upper surface uneven portions 477a are formed on the existing convex upper surface 47a as the existing convex upper surface uneven portion 477, as shown in Figure 10 (D-a).
Alternatively, when the desired region inkjet resist cured film 3 has (b) a desired fine graphic, letter, and pattern pattern, as shown in Figure 10 (D-b), a plurality of fine uneven portions 477b on the upper surface of the existing convex portion are formed on the upper surface 47a of the existing convex portion as the upper surface uneven portion 477 of the existing convex portion.
In this way, a pressing plate is manufactured which has a preformed recess 48 and a preformed protrusion 47, and on the upper surface of the preformed protrusion 47, multiple preformed protrusion upper surface uneven portions 477a as the preformed protrusion upper surface uneven portion 477, or multiple preformed protrusion upper surface fine uneven portions 477b as the preformed protrusion upper surface uneven portion 477.

なお、本構成において、複数の既成凸部上面複数凹凸部凸部のそれぞれの既成凸部上面複数凹凸部凸部471aの高さ寸法(複数の既成凸部上面複数凹凸部凹部のそれぞれの既成凸部上面複数凹凸部凹部472aの深さ寸法と同じ)は、特に限定されないが、例えば、0.1mm以上であるとともに、既成凹部48の深さ寸法よりも小さい(短い、浅い)深さ寸法が好ましく実施可能である。
また、複数の微細凹凸形状で形成された既成凸部上面複数微細凹凸部のそれぞれの既成凸部上面複数微細凹凸部凸部471bの高さ寸法(既成凸部上面複数微細凹凸部凹部472bの深さ寸法と同じ)は、特に限定されないが、例えば、0.05mm以上であるとともに、既成凹部48の深さ寸法よりも小さい(短い、浅い)深さ寸法が好ましく実施可能である。
また、複数の微細凹凸形状で形成された既成凸部上面複数微細凹凸部のそれぞれの既成凸部上面複数微細凹凸部凸部471bの幅寸法、既成凸部上面複数微細凹凸部凹部472bの幅寸法は、特に限定されないが、例えば、0.0005mm~1mmが好ましく実施可能である。
In this configuration, the height dimension of each of the pre-formed convex portion upper surface multiple uneven portion convex portions 471a of the pre-formed convex portion upper surface multiple uneven portion convex portions (the same as the depth dimension of each of the pre-formed convex portion upper surface multiple uneven portion concave portions 472a of the pre-formed convex portion upper surface multiple uneven portion concave portions) is not particularly limited, but a depth dimension that is, for example, 0.1 mm or more and smaller (shorter, shallower) than the depth dimension of the pre-formed concave portion 48 is preferably implemented.
In addition, the height dimension of each of the multiple fine unevenness portions on the upper surface of the pre-formed convex portion, which are formed with multiple fine unevenness shapes, (same as the depth dimension of the multiple fine unevenness portions on the upper surface of the pre-formed convex portion, concave portion 472b) is not particularly limited, but a depth dimension that is, for example, 0.05 mm or more and smaller (shorter, shallower) than the depth dimension of the pre-formed concave portion 48 is preferably implemented.
In addition, the width dimension of each of the multiple fine unevenness portions on the upper surface of the existing convex portion, which are formed with a plurality of fine unevenness shapes, the convex portion 471b of the multiple fine unevenness portions on the upper surface of the existing convex portion, and the concave portion 472b of the multiple fine unevenness portions on the upper surface of the existing convex portion are not particularly limited, but a width dimension of, for example, 0.0005 mm to 1 mm is preferably usable.

この押圧加工用版の製造方法により、[(製造方法効果イ:インクジェットレジストによる所望寸法の凹凸表面形状を形成可能効果)従来汎用の化学的腐蝕エッチング加工よりも簡単な工程を有する化学的腐食エッチングを備えた工程により、所望の凸部、所望の凹部、所望の凹凸部、所望の微細凹凸部、等の所望形状を有するとともに、「版型用基板のエッチングされてはならない領域」の腐蝕エッチングが抑制されてなる所望の形状精度や寸法精度を備えた押圧加工用版を製造することが可能になる効果]が得られる。
すなわち、エッチングされてはならない領域(既成凸部側面47bと既成凹部側面48bと既成凹部底面48c)をエッチングすることなく、既成凸部上面47aに、所望の凹凸部、所望の微細凹凸部、等の既成凸部上面凹凸部477を形成することができる。
This method of manufacturing a plate for pressing can achieve the effect of (manufacturing method effect A: effect of being able to form an uneven surface shape of desired dimensions using inkjet resist) making it possible to manufacture a plate for pressing having the desired shape, such as the desired convex portion, the desired concave portion, the desired uneven portion, the desired fine uneven portion, etc., by using a process including chemical corrosive etching which has a simpler process than the conventional general-purpose chemical corrosive etching process, and which has the desired shape accuracy and dimensional accuracy by suppressing corrosive etching of "areas of the plate mold substrate that should not be etched").
In other words, it is possible to form a pre-formed convex upper surface unevenness portion 477, such as a desired unevenness portion, a desired fine unevenness portion, etc., on the pre-formed convex upper surface 47a without etching the areas that must not be etched (the pre-formed convex side surface 47b, the pre-formed recess side surface 48b, and the pre-formed recess bottom surface 48c).

[従属構成12]
上記の[基本構成1]の押圧加工用版の製造方法において、好ましくは、下記の構成を備えた押圧加工用版の製造方法が実施可能である。
図11は本発明の他の一実施例の押圧加工用版の製造方法の製造工程を説明するための模式的概略図である。
図11の(A)、(B)、(C)、(D)は、押圧加工用版の製造方法を説明するための模式的概略断面図である。図11の(A-a)、(B-a)(C-a)(D-a)は、(A)、(B)、(C)、(D)に相当する模式的概略平面図であって、凹凸により形成された所望の図文字絵柄模様を備えた、押圧加工用版の製造方法であり、図11の(A-b)、(B-b)(C-b)(D-b)は(A)、(B)、(C)、(D)に相当する模式的概略平面図であって、凹凸により形成された所望の微細図文字絵柄模様を備えた、押圧加工用版の製造方法である。
[Subordinate structure 12]
In the method for manufacturing a press plate of the above [Basic Configuration 1], it is possible to preferably implement a method for manufacturing a press plate having the following configuration.
FIG. 11 is a schematic diagram for explaining the manufacturing steps of a method for manufacturing a pressing plate according to another embodiment of the present invention.
(A), (B), (C), and (D) of Fig. 11 are schematic cross-sectional views for explaining a method for manufacturing a pressing plate. (A-a), (B-a), (C-a), and (D-a) of Fig. 11 are schematic plan views corresponding to (A), (B), (C), and (D), which are a method for manufacturing a pressing plate having a desired graphic, letter, and design pattern formed by concaves and convexes, and (A-b), (B-b), (C-b), and (D-b) of Fig. 11 are schematic plan views corresponding to (A), (B), (C), and (D), which are a method for manufacturing a pressing plate having a desired fine graphic, letter, and design pattern formed by concaves and convexes.

図11(A)に示されるように、版型用基板第一領域表面11は既成凸部47を有し、版型用基板第二領域表面12は既成凹部48を有する。版型用基板第一領域表面11は版型用基板第二領域表面12の周囲領域に位置する。
既成凸部47は、既成凸部上面47aと既成凸部側面47bを有し、既成凹部48は、既成凹部底面48cと既成凹部側面48bを有する。
ここで、既成凸部側面47bと既成凹部側面48bとは互いに同じ側面に相当する。
11A, the plate mold substrate first region surface 11 has a pre-formed convex portion 47, and the plate mold substrate second region surface 12 has a pre-formed concave portion 48. The plate mold substrate first region surface 11 is located in the peripheral region of the plate mold substrate second region surface 12.
The existing convex portion 47 has an existing convex portion upper surface 47a and an existing convex portion side surface 47b, and the existing concave portion 48 has an existing concave portion bottom surface 48c and an existing concave portion side surface 48b.
Here, the existing convex side surface 47b and the existing concave side surface 48b correspond to the same side surface.

図11(B)に示されるように、前述の[基本構成1]の前記(B)工程において、既成凸部側面47bと既成凹部側面48bと既成凸部上面47aを覆うとともに、既成凹部底面48cに、インクジェットレジスト材2をインクジェット方式により付着して、(イ)所望の図文字絵柄模様、又は、(ロ)所望の微細図文字絵柄模様、を有する所望領域インクジェットレジスト付着膜を形成する所望領域インクジェットレジスト付着膜形成工程、及び、所望領域インクジェットレジスト付着膜を硬化して所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成する所望領域インクジェットレジスト硬化膜形成工程、を備える。
例えば、図11(B)、(B-a)、(B-b)に示されるように、既成凹部底面48cに、ABCDE模様」、又は、「微細図文字絵柄模様で形成されたハート模様」の領域には所望領域インクジェットレジスト付着膜が形成されていなく、そのABCDE模様」、又は、「微細図文字絵柄模様で形成されたハート模様」を除く領域に所望領域インクジェットレジスト硬化膜を形成する。
As shown in FIG. 11(B), in the step (B) of the aforementioned [Basic configuration 1], a desired area inkjet resist deposition film formation step is provided in which an inkjet resist material 2 is applied by an inkjet method to cover existing convex side surface 47 b, existing concave side surface 48 b, and existing convex upper surface 47 a, and to an existing concave bottom surface 48 c, to form a desired area inkjet resist deposition film having (a) a desired graphic/character pattern, or (b) a desired fine graphic/character pattern, and a desired area inkjet resist hardened film formation step is provided in which the desired area inkjet resist deposition film is hardened to form a desired area inkjet resist hardened film 3.
For example, as shown in Figures 11 (B), (Ba), and (B-b), a desired area inkjet resist deposition film is not formed in the area of the "ABCDE pattern" or "heart pattern formed with fine graphic character picture pattern" on the bottom surface 48c of the existing recess, and a desired area inkjet resist hardened film is formed in the area excluding the "ABCDE pattern" or "heart pattern formed with fine graphic character picture pattern."

図11(C)に示されるように、前述の[基本構成1]の前記(C)工程において、前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成した版型用基板1の表面にエッチング液を接触して、既成凹部底面48cにおける所望領域インクジェットレジスト硬化膜が付着されていない領域をエッチングする版型用基板エッチング工程を備え、これにより、既成凸部側面47bと既成凹部側面48bと既成凸部上面47aをエッチングすることなく、既成凹部底面48cにおける所望領域インクジェットレジスト硬化膜が付着されていない領域をエッチングして複数の凹部と複数の凸部とを有する既成凹部底面凹凸部488を形成する。
ここで、前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜(3)が(イ)所望の図文字絵柄模様を有する場合には、図11(C-a)に示されるように、既成凹部底面凹凸部488は(イ)所望の図文字絵柄模様に相当する複数の凹形状で形成された既成凹部底面複数凹凸部凹部482aと複数の凸形状で形成された既成凹部底面複数凹凸部凸部481aとを有してなる既成凹部底面複数凹凸部488aである。
又は、前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が(ロ)所望の微細図文字絵柄模様を有する場合には、図11(C-b)に示されるように、前記既成凹部底面凹凸部488は(ロ)前記所望の微細図文字絵柄模様に相当する複数の微細凹形状で形成された既成凹部底面複数微細凹凸部凹部482bと複数の微細凸形状で形成された既成凹部底面複数微細凹凸部凸部481bとを有してなる既成凹部底面複数微細凹凸部488bである。
As shown in FIG. 11(C), in step (C) of the above-mentioned [Basic Configuration 1], a plate mold substrate etching step is provided in which an etching liquid is brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the desired region inkjet resist hardened film 3 is formed, to etch the region on the existing recess bottom surface 48c where the desired region inkjet resist hardened film is not attached, thereby forming a pre-formed recess bottom surface uneven portion 488 having a plurality of recesses and a plurality of protrusions, by etching the region on the existing recess bottom surface 48c where the desired region inkjet resist hardened film is not attached, without etching the existing protrusion side surface 47b, the existing recess side surface 48b, and the existing protrusion top surface 47a.
Here, in the case where the desired region inkjet resist cured film (3) has (a) a desired graphic character pattern, as shown in FIG. 11 (C-a), the existing recess bottom surface uneven portion 488 is (a) an existing recess bottom surface multiple uneven portion 488a having an existing recess bottom surface multiple uneven portion concave portion 482a formed with a plurality of concave shapes corresponding to the desired graphic character pattern, and an existing recess bottom surface multiple uneven portion convex portion 481a formed with a plurality of convex shapes.
Alternatively, in the case where the desired region inkjet resist cured film 3 has (b) a desired fine graphic character pattern, as shown in FIG. 11 (C-b), the existing recess bottom surface unevenness 488 is (b) an existing recess bottom surface multiple fine unevenness 488b having an existing recess bottom surface multiple fine unevenness concaves 482b formed with a plurality of fine concave shapes corresponding to the desired fine graphic character pattern, and an existing recess bottom surface multiple fine unevenness convex portions 481b formed with a plurality of fine convex shapes.

図11(D)に示されるように、前述の[基本構成1]の前記(D)工程において、前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を除去する所望領域インクジェットレジスト硬化膜除去工程を備える。
これにより、前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が(イ)所望の図文字絵柄模様を有する場合には、図11(D-a)に示されるように、既成凹部底面48cに、既成凹部底面凹凸部488としての既成凹部底面複数凹凸部488aを形成する。
又は、前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が(ロ)所望の微細図文字絵柄模様を有する場合には、図11(D-b)に示されるように、既成凹部底面48cに、既成凹部底面凹凸部488としての既成凹部底面複数微細凹凸部488bを形成する。
このようにして、既成凹部48と既成凸部47とを有し、該既成凹部48の底面に、既成凹部底面凹凸部488としての既成凹部底面複数凹凸部488a、又は、既成凹部底面凹凸部488としての既成凹部底面複数微細凹凸部488bを形成した押圧加工用版を製造する。
As shown in FIG. 11(D), the (D) step of the above-mentioned [Basic Configuration 1] includes a desired area inkjet resist hardened film removal step of removing the desired area inkjet resist hardened film 3.
As a result, when the desired region inkjet resist cured film 3 has (i) a desired graphic, letter, and design pattern, a pre-formed recess bottom surface multiple uneven portions 488a are formed as pre-formed recess bottom surface uneven portions 488 on the pre-formed recess bottom surface 48c, as shown in Figure 11 (D-a).
Alternatively, in the case where the desired region inkjet resist cured film 3 has (b) a desired fine graphic, letter, and pattern pattern, as shown in FIG. 11 (D-b), a plurality of fine uneven portions 488b on the bottom surface of the existing recess are formed as the uneven portion 488 on the bottom surface of the existing recess 48c.
In this way, a pressing plate is manufactured which has a preformed recess 48 and a preformed protrusion 47, and on the bottom surface of the preformed recess 48, a preformed recess bottom surface multiple uneven portions 488a as the preformed recess bottom surface uneven portion 488, or a preformed recess bottom surface multiple fine uneven portions 488b as the preformed recess bottom surface uneven portion 488.

なお、本構成において、複数の既成凹部底面凹凸部488のそれぞれの既成凹部底面複数凹凸部凸部481aの高さ寸法(既成凹部底面複数凹凸部凹部482aの深さ寸法と同じ)は、特に制限されないが、例えば、0.1mm以上であるとともに、既成凹部48の深さ寸法よりも小さい(短い、浅い)深さ寸法が好ましく実施可能である。
また、複数の微細凹凸形状で形成された既成凹部底面複数微細凹凸部488bのそれぞれの既成凹部底面複数凹凸部凸部481aの高さ寸法(既成凹部底面複数凹凸部凹部482aの深さ寸法と同じ)は、特に限定されないが、例えば、0.05mm以上であるとともに、既成凹部48の深さ寸法よりも小さい(短い、浅い)深さ寸法が好ましく実施可能である。
また、複数の微細凹凸形状で形成された既成凹部底面複数微細凹凸部488bのそれぞれの既成凹部底面複数凹凸部凸部481aの幅寸法(既成凹部底面複数凹凸部凹部482aの幅寸法と同じ)は、特に限定されないが、例えば、0.0005mm~1mmが好ましく実施可能である。
In this configuration, the height dimension of each of the pre-formed recess bottom surface multiple uneven portion convex portions 481a of the pre-formed recess bottom surface multiple uneven portion convex portions 488 (the same as the depth dimension of the pre-formed recess bottom surface multiple uneven portion concave portions 482a) is not particularly limited, but a depth dimension that is, for example, 0.1 mm or more and smaller (shorter, shallower) than the depth dimension of the pre-formed recess 48 is preferably implemented.
In addition, the height dimension of each of the pre-formed recess bottom surface multiple unevenness portions 481a of the pre-formed recess bottom surface multiple unevenness portions 488b formed with a plurality of fine uneven shapes (the same as the depth dimension of the pre-formed recess bottom surface multiple unevenness portions 482a) is not particularly limited, but a depth dimension that is, for example, 0.05 mm or more and smaller (shorter, shallower) than the depth dimension of the pre-formed recess 48 is preferably implemented.
In addition, the width dimension of each of the pre-formed recess bottom surface multiple unevenness portions 481a of the pre-formed recess bottom surface multiple unevenness portions 488b formed with a plurality of fine uneven shapes (the same as the width dimension of the pre-formed recess bottom surface multiple unevenness portions 482a of the pre-formed recess bottom surface multiple unevenness portions) is not particularly limited, but a value of, for example, 0.0005 mm to 1 mm is preferably usable.

この押圧加工用版の製造方法により、[(製造方法効果イ:インクジェットレジストによる所望寸法の凹凸表面形状を形成可能効果)従来汎用の化学的腐蝕エッチング加工よりも簡単な工程を有する化学的腐食エッチングを備えた工程により、所望の凸部、所望の凹部、所望の凹凸部、所望の微細凹凸部、等の所望形状を有するとともに、「版型用基板のエッチングされてはならない領域」の腐蝕エッチングが抑制されてなる所望の形状精度や寸法精度を備えた押圧加工用版を製造することが可能になる効果]が得られる。
すなわち、エッチングされてはならない領域(既成凸部側面47bと既成凹部側面48bと既成凹部底面48c)をエッチングすることなく、既成凹部底面48cに、所望の凹凸部、所望の微細凹凸部、等の既成凹部底面凹凸部488を形成することができる。
This manufacturing method for pressing plates can provide the effect of (manufacturing method effect I: effect of being able to form an uneven surface shape of desired dimensions using inkjet resist) making it possible to manufacture pressing plates having the desired shapes, such as desired convex portions, desired concave portions, desired uneven portions, desired fine uneven portions, etc., by using a process involving chemical corrosive etching which has simpler steps than conventional general-purpose chemical corrosive etching processes, and which have the desired shape accuracy and dimensional accuracy by suppressing corrosive etching of "areas of the plate mold substrate that should not be etched."
In other words, without etching the areas that must not be etched (the existing convexity side surface 47b, the existing concave-convexity side surface 48b, and the existing concave-convexity bottom surface 48c), a desired concave-convexity portion, a desired fine concave-convexity portion, or the like can be formed on the existing concave-convexity bottom surface 48c.

[従属構成13]
上記の[従属構成2]~[従属構成12]の押圧加工用版の製造方法において、好ましくは、下記の構成を備えた押圧加工用版の製造方法が実施可能である。
[従属構成2]~[従属構成10]において、前記(A)工程において、前記版型用基板第一領域表面11は、(a)インクジェットレジスト材を使用して形成したインクジェットレジスト硬化膜を腐食エッチング用マスクとして用いた化学的腐蝕エッチング加工、及び/又は、(b)従来慣用の液状レジスト材を使用して形成したレジスト硬化膜を腐蝕エッチング用マスクとして用いた化学的腐蝕エッチング加工、及び/又は、(c)従来慣用のシート状のドライフィルムレジスト材を使用して形成したレジスト硬化膜を腐蝕エッチング用マスクとして用いた化学的腐蝕エッチング加工、及び/又は、(d)従来慣用の機械加工装置を使用した機械的加工、等の加工により、前記既成凹凸部4を形成してなる、押圧加工用版の製造方法。
例えば、図1、図2、図3、図6、図7に示されるような既成複数凹凸部45及び/又は既成複数微細凹凸部46を備えた既成凹凸部4が、(a)インクジェットレジスト材、(b)従来慣用の液状レジスト材、(c)従来慣用のシート状ドライフィルムレジスト材、等を使用したレジスト硬化膜を腐蝕エッチング用マスクとして用いた化学的腐蝕エッチング加工、及び/又は、(d)従来慣用の機械加工、等の加工により形成された既成凹凸部4を有する版型用基板が実施可能である。
[Subordinate structure 13]
In the method for manufacturing a press plate according to the above-mentioned [subordinate configuration 2] to [subordinate configuration 12], it is preferable to implement a method for manufacturing a press plate having the following configuration.
In [Subordinate Structure 2] to [Subordinate Structure 10], in the step (A), the first region surface 11 of the plate mold substrate is subjected to a process such as (a) chemical corrosion etching using an inkjet resist hardened film formed using an inkjet resist material as a corrosive etching mask, and/or (b) chemical corrosion etching using a resist hardened film formed using a conventional liquid resist material as a corrosive etching mask, and/or (c) chemical corrosion etching using a resist hardened film formed using a conventional sheet-like dry film resist material as a corrosive etching mask, and/or (d) mechanical processing using a conventional mechanical processing device, to form the pre-formed uneven portion 4.
For example, a substrate for a plate mold having a pre-formed uneven portion 4 having pre-formed multiple uneven portions 45 and/or pre-formed multiple fine uneven portions 46 as shown in Figures 1, 2, 3, 6, and 7 can be produced by chemical corrosive etching processing using a resist hardened film made of (a) an inkjet resist material, (b) a conventional liquid resist material, (c) a conventional sheet-type dry film resist material, etc., as a corrosive etching mask, and/or (d) conventional mechanical processing, etc.

(a)インクジェットレジスト材を使用して形成したインクジェットレジスト硬化膜を腐蝕エッチング用マスクとして用いた化学的腐蝕エッチング加工は、本発明の押圧加工用版の製造方法に使用されるインクジェットレジスト材をインクジェット方式により版型用基板の表面に付着してインクジェットレジスト付着膜を形成し、そのインクジェットレジスト付着膜を硬化してインクジェットレジスト硬化膜を形成し、そのインクジェットレジスト硬化膜を腐蝕エッチング用マスクとして、エッチング液を使用して版型用基板を化学的に腐蝕エッチングして、凹凸形状の既成凹凸部4を形成する加工である。このインクジェットレジスト材を使用した化学的腐蝕エッチング加工において、その加工方法は、前述の「基本構成1」において説明した説明と類似の方法、又は、同じ方法で加工可能である。(a) Chemical corrosive etching using the inkjet resist hardened film formed by using the inkjet resist material as a corrosive etching mask is a process in which the inkjet resist material used in the manufacturing method of the pressing plate of the present invention is adhered to the surface of the plate mold substrate by the inkjet method to form an inkjet resist adhered film, the inkjet resist adhered film is hardened to form an inkjet resist hardened film, and the plate mold substrate is chemically corroded and etched using an etching solution with the inkjet resist hardened film as a corrosive etching mask to form a pre-formed concave-convex portion 4. In the chemical corrosive etching process using the inkjet resist material, the processing method can be similar to or the same as that explained in the above-mentioned "Basic Configuration 1".

インクジェットレジスト材としては、特に限定されることなく、前述の「基本構成1」において説明したように、例えば、太陽インキ製造社製、三井化学社製、互応化学工業社、JNC社製、ニッコーマテリアル社製、旭化成社製、日本アグファレバルト社製、東京応化工業社製、等の汎用のレジスト材を供給している企業製であって、例えば、紫外線照射において化学的反応して不溶化してレジスト硬化を形成する所望の前述の、5mPa・s~100mPa・s(25℃)、好ましくは10mPa・s~50mPa・s(25℃)の粘性、粘性を有するインクジェットレジスト材2が使用できる。The inkjet resist material is not particularly limited, and as explained in the above-mentioned "Basic Configuration 1", for example, inkjet resist material 2 manufactured by companies supplying general-purpose resist materials, such as Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd., Mitsui Chemicals, Inc., GOO Chemical Industry Co., Ltd., JNC Corporation, Nikko Materials Co., Ltd., Asahi Kasei Corporation, Nippon Agfa Lewald AG, Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd., and having the desired viscosity of 5 mPa·s to 100 mPa·s (25° C.), preferably 10 mPa·s to 50 mPa·s (25° C.), which is chemically reacted upon exposure to ultraviolet light to become insoluble and form a hardened resist, can be used.

インクジェットレジスト材2の粘度が小さくなるに従ってインクジェットレジスト付着膜の厚さが薄くなり、インクジェットレジスト材2の粘度が大きくなるに従ってインクジェットレジスト付着膜の厚さが厚くなる傾向がある。腐蝕エッチング用マスクとしての機能に必要な所望の厚さにインクジェットレジスト付着膜を形成できる粘度を有するインクジェットレジスト材を選択して使用する。最適な粘性を有するインクジェットレジスト材2を使用することにより、版型用基板表面の所望の領域に高精度で所望の図文字絵柄模様形態を有する所望領域インクジェットレジスト付着膜を形成可能になるThe thickness of the inkjet resist deposition film tends to become thinner as the viscosity of the inkjet resist material 2 decreases, and the thickness of the inkjet resist deposition film tends to become thicker as the viscosity of the inkjet resist material 2 increases. An inkjet resist material having a viscosity capable of forming an inkjet resist deposition film of the desired thickness required for the function as a corrosive etching mask is selected and used. By using an inkjet resist material 2 having an optimal viscosity, it becomes possible to form an inkjet resist deposition film in a desired area having a desired graphic, letter, or picture pattern shape with high precision in a desired area on the surface of the plate mold substrate.

(b)従来慣用の液状レジスト材を使用して形成したレジスト硬化膜を腐蝕エッチング用マスクとして用いた化学的腐蝕エッチング加工は、従来慣用の液状レジスト材を、従来慣用のスクリーン印刷方式、スプレーコート方式、カーテンコート方式、スピンコート方式、その他の慣用の付着方法、等により、版型用基板の表面に付着し、その液状レジスト材を乾燥してレジスト付着膜を形成し、そして、所望の貫通孔を有する露光用マスク部材を介してレジスト付着膜を紫外線照射、等により露光し、現像、ベーキング、等の工程を経て、レジスト硬化膜を形成し、そのレジスト硬化膜を腐蝕エッチング用マスクとして、エッチング液を使用して版型用基板の表面を化学的に腐蝕エッチングして、凹凸形状の既成凹凸部4を形成する加工である。(b) Chemical corrosive etching processing using a resist hardened film formed from a conventional liquid resist material as a corrosive etching mask is a processing in which a conventional liquid resist material is adhered to the surface of a plate mold substrate by a conventional screen printing method, spray coating method, curtain coating method, spin coating method, or other conventional adhesion method, the liquid resist material is dried to form a resist adhered film, the resist adhered film is exposed to ultraviolet light or the like through an exposure mask member having desired through holes, and a resist hardened film is formed through processes such as development and baking, and the surface of the plate mold substrate is chemically corroded and etched using an etching solution with the resist hardened film as a corrosive etching mask to form a pre-formed uneven portion 4 having an uneven shape.

従来の従来慣用の液状レジスト材としては、特に限定されることなく、例えば、フォトリソグラフィ技術分野において使用されている従来の汎用の慣用液状レジスト材であって、所望の粘度、感光反応性、温度反応性、等を有するインクジェットレジスト材が使用可能である。例えば、二次元化学構造の有機高分子材を主成分とする流動性材であって、紫外線照射、電子線照射、レーザー照射又は加熱昇温により、化学構造的に架橋して三次元化学構造の架橋有機高分子の状態に硬化する性質を有するネガ型フォトレジストの一種である汎用の慣用の液状レジスト材2が使用できる。
また、従来慣用の液状レジスト材の粘度、粘性としては、特に限定されないが、例えば、1mPa・s(25℃)以上の粘度を有する慣用の液状レジスト材を使用して、約50μm(約0.05mm)未満の慣用レジストレジスト硬化膜を形成することが好ましい。
レジスト材2の粘度が小さくなるに従って、レジスト付着膜の厚さが薄くなる。最適な粘性を有する液状レジスト材2を使用することにより、所望の厚さでレジスト硬化膜を形成できる。
The conventional liquid resist material is not particularly limited, and for example, an inkjet resist material that is a conventional general-purpose liquid resist material used in the photolithography technology field and has the desired viscosity, photoreactivity, temperature reactivity, etc. can be used. For example, a general-purpose liquid resist material 2 can be used, which is a type of negative photoresist that is a fluid material mainly composed of an organic polymer material with a two-dimensional chemical structure and has the property of being crosslinked in chemical structure and cured into a crosslinked organic polymer state with a three-dimensional chemical structure by irradiation with ultraviolet rays, electron beams, laser irradiation, or heating.
In addition, the viscosity of the conventional liquid resist material is not particularly limited, but it is preferable to use a conventional liquid resist material having a viscosity of 1 mPa·s (25° C.) or more to form a conventional resist hardened film having a thickness of less than about 50 μm (about 0.05 mm).
The thickness of the deposited resist film decreases as the viscosity of the resist material 2 decreases. By using a liquid resist material 2 having an optimal viscosity, a hardened resist film can be formed with a desired thickness.

液状レジスト材の具体的材料としては、特に限定されることがなく、例えば、版型用基板の金属を腐蝕エッチングするために使用される汎用の液状レジスト材が使用可能であり、例えば、東京応化工業社製、三井化学社製、太陽インキ製造社製、JNC社製、ニッコーマテリアル社製、旭化成社製、住友化学製、日本アグファレバルト社製、等の汎用のレジスト材を供給している企業製であって、例えば、紫外線照射において化学的反応して不溶化してレジスト硬化を形成する所望の粘度を有する液状レジスト材、が好ましく使用できる。The specific material of the liquid resist material is not particularly limited, and for example, a general-purpose liquid resist material used for corroding and etching the metal of a plate mold substrate can be used. For example, a liquid resist material having a desired viscosity that undergoes a chemical reaction when irradiated with ultraviolet light to become insoluble and form a hardened resist can be preferably used, the liquid resist material being manufactured by a company that supplies general-purpose resist materials, such as Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd., Mitsui Chemicals, Inc., Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd., JNC Corporation, Nikko Materials Co., Ltd., Asahi Kasei Corporation, Sumitomo Chemical, Nippon Agfa Lewald, etc.

なお、この慣用液状レジスト材を使用した加工方法において、露光用マスク部材を使用することなく、従来慣用のレジスト付着膜又はレジスト硬化膜をレーザー照射、電子線照射等によりレジスト材を化学的に変質し、現像して、所望形状を有する腐蝕エッチング用マスクを形成し、それを腐蝕エッチング用マスクとしてエッチング液を使用して版型用基板を化学的に腐蝕エッチングして、凹凸形状の既成凹凸部4を形成する方法も実施可能である。In addition, in the processing method using this conventional liquid resist material, it is also possible to implement a method in which, without using an exposure mask member, the resist material is chemically altered by irradiating a conventional resist-adhered film or a resist-hardened film with a laser or electron beam, etc., and then developed to form a corrosive etching mask having a desired shape, and then using this as the corrosive etching mask to chemically corrode and etch the plate mold substrate using an etching solution, thereby forming a pre-formed uneven portion 4 with an uneven shape.

(c)従来慣用のシート状のドライフィルムレジスト材を使用して形成したレジスト硬化膜を腐蝕エッチング用マスクとして用いた化学的腐蝕エッチング加工は、従来慣用のシート状のドライフィルムレジスト材を版型用基板の表面に貼り付けて、そして、所望の貫通孔を有する露光用マスク部材を介してシート状のドライフィルムレジスト材を紫外線照射、等により露光し、現像、ベーキング、等の工程を経て、レジスト硬化膜を形成し、そのレジスト硬化膜を腐蝕エッチング用マスクとして、エッチング液を使用して版型用基板の表面を化学的に腐蝕エッチングして、凹凸形状の既成凹凸部4を形成する加工である。
なお、この加工方法において、露光用マスク部材を使用することなく、従来慣用のシート状のドライフィルムレジスト材をレーザー照射、電子線照射等によりレジスト材を化学的に変質し、現像して、所望形状を有する腐蝕エッチング用マスクを形成し、それを腐蝕エッチング用マスクとしてエッチング液を使用して版型用基板を化学的に腐蝕エッチングして、凹凸形状の既成凹凸部4を形成する方法も実施可能である。レーザー露光装置としては特に限定されなく、例えば、大伸産業社製のレーザー露光装置が使用できる。
(c) Chemical corrosive etching processing using a resist hardened film formed from a conventional sheet-like dry film resist material as a corrosive etching mask is a processing method in which a conventional sheet-like dry film resist material is attached to the surface of a plate mold substrate, the sheet-like dry film resist material is exposed to ultraviolet light or the like through an exposure mask member having desired through holes, and a resist hardened film is formed through processes such as development and baking, and the surface of the plate mold substrate is chemically corroded and etched using an etching solution with the resist hardened film as a corrosive etching mask to form a pre-formed uneven portion 4 having an uneven shape.
It is also possible to carry out this processing method without using an exposure mask member by chemically modifying a conventional sheet-like dry film resist material by irradiating it with a laser or electron beam, developing it, and forming a corrosive etching mask having a desired shape, and then using this as a corrosive etching mask to chemically corrode and etch the plate mold substrate using an etching solution to form the preformed concave-convex portion 4 having a concave-convex shape. There are no particular limitations on the laser exposure device, and for example, a laser exposure device manufactured by Taishin Sangyo Co., Ltd. can be used.

また、この加工方法において、「従来慣用のシート状のドライフィルムレジスト材を版型用基板の表面に貼り付けて」に替えて、「一般に製品化されている版型用基板の表面にシート状のドライフィルムレジスト材を付着形成したレジスト付着版型用基板」を使用することも可能である。
シート状のドライフィルムレジスト材の具体的材料としては、特に限定されることがなく、例えば、東京応化工業社製、三井化学社製、太陽インキ製造社製、JNC社製、ニッコーマテリアル社製、旭化成社製、日本アグファレバルト社製、等が供給している汎用のシート状のドライフィルムレジスト材が使用可能である。
In addition, in this processing method, instead of "attaching the conventional sheet-like dry film resist material to the surface of the plate mold substrate," it is also possible to use "a resist-attached plate mold substrate in which a sheet-like dry film resist material is adhered to the surface of a commonly manufactured plate mold substrate."
The specific material for the sheet-like dry film resist material is not particularly limited, and for example, general-purpose sheet-like dry film resist materials supplied by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd., Mitsui Chemicals, Inc., Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd., JNC Corporation, Nikko Materials Co., Ltd., Asahi Kasei Corporation, Nippon Agfa Lewald Aktiengesellschaft, etc. can be used.

(d)従来慣用の機械加工装置を使用した機械的加工は、従来慣用のNC加工、切削加工、研磨加工その他の汎用の機械加工により、、凹凸形状の既成凹凸部4を形成する加工である。(d) Mechanical processing using conventional machining equipment is processing for forming a pre-formed uneven portion 4 having an uneven shape by conventional NC processing, cutting processing, polishing processing, and other general-purpose machining.

本工程において、従来慣用の液状レジスト材の硬化膜、シート状のドライフィルムレジスト材、等の厚さは、特に限定されないが、例えば、約50μm(約0.05mm)未満のものが好ましく実施できる。
塗布、付着された慣用レジスト付着膜材の厚さが約50μm以上の場合には、厚さが厚くなるに従って慣用レジスト付着膜材の平面領域の厚さのバラツキが大きくなり、均一な慣用レジスト付着膜を形成できなくなる傾向があり、そのために、露光用マスク部材を使用する紫外線等の露光時において露光にバラツキが生じて、所望の形状精度や寸法精度を有する現像された慣用レジスト硬化膜を形成できなくなり、その結果、その慣用レジスト硬化膜をエッチング用マスクとして版型容器場を腐蝕エッチングしたときに、所望の形状精度や寸法精度を有する凹凸部を形成できなく、エッチング加工精度が劣るという課題がある。
In this step, the thickness of the cured film of a conventional liquid resist material, sheet-like dry film resist material, etc. is not particularly limited, but is preferably less than about 50 μm (about 0.05 mm), for example.
When the thickness of the applied or adhered conventional resist film material is about 50 μm or more, as the thickness increases, the variation in the thickness of the planar region of the conventional resist film material increases, and there is a tendency that a uniform conventional resist film cannot be formed. As a result, during exposure to ultraviolet light or the like using an exposure mask member, variation in exposure occurs, making it impossible to form a developed conventional resist hardened film having the desired shape accuracy and dimensional accuracy. As a result, when the conventional resist hardened film is used as an etching mask to corrode and etch a plate-shaped container field, it is not possible to form uneven parts having the desired shape accuracy and dimensional accuracy, resulting in a problem of poor etching processing accuracy.

[従属構成14]
上記の[基本構成1]~[従属構成13]の押圧加工用版の製造方法において、特に限定されないが、押圧加工用版として一般に慣用されているところの、金属製、プラスチック製、又は、樹脂製等の版型用基板1が使用できる。
特に、好ましくは、下記の構成を備えた押圧加工用版の製造方法が実施可能である。
版型用基板1は、鉄、ステンレス鋼、真鍮、銅、マグネシウム鋼、ジュラルミン、超硬合金、粉末ハイス鋼、ハイス鋼、ダイス鋼、合金工具鋼、炭素工具鋼、又は、鋼鉄により形成されてなる押圧加工用版の製造方法。
このような鉄、ステンレス鋼、真鍮、銅、マグネシウム鋼、ジュラルミン、超硬合金、粉末ハイス鋼、ハイス鋼、ダイス鋼、合金工具鋼、炭素工具鋼、又は、鋼鉄については、前述の[基本構成1]の説明において詳細に説明したものが好ましく実施可能である。
[Subordinate structure 14]
In the manufacturing method of the pressing plate of the above [Basic Configuration 1] to [Subordinate Configuration 13], although not particularly limited, a plate mold substrate 1 made of metal, plastic, resin, or the like, which is commonly used as a pressing plate, can be used.
In particular, it is possible to carry out a method for manufacturing a press plate having the following configuration.
A manufacturing method for a pressing plate, in which the plate mold substrate 1 is made of iron, stainless steel, brass, copper, magnesium steel, duralumin, cemented carbide, powdered high speed steel, high speed steel, die steel, alloy tool steel, carbon tool steel, or steel.
Regarding such iron, stainless steel, brass, copper, magnesium steel, duralumin, cemented carbide, powdered high speed steel, high speed steel, die steel, alloy tool steel, carbon tool steel, or steel, those described in detail in the above description of [Basic Configuration 1] can be preferably implemented.

[従属構成15]
上記の[基本構成1]~[従属構成14]の押圧加工用版の製造方法において、好ましくは、下記の(イ)~(ト)のうちの、少なくとも、いずれか一つの形態を備えた押圧加工用版の製造方法が実施可能である。
(イ)互いに対向する平板形状を有する平圧式加工装置に構成される平板型版。
(ロ)互いに対向するロール形状を有するロール式加工装置に構成されるロール版。
(ハ)円筒形又は円柱形のロールの周囲に巻き付け設置固定して構成されるフレキシブル版、又は、平板形状を有する版型用基板の表面に接固定して構成されるフレキシブル版。
(ニ)被加工物を所定凹凸形状に加工するための型押用版。
(ホ)被加工物に箔押し加工するための箔押用版。
(ヘ)被加工物を所定形状に切抜及び/又は切断するための切抜・切断版。
(ト)被加工物を所定凹凸形状に型押又は箔押するとともに切抜及び/又は切断するための型箔押・切抜切断版。
上記の(イ)、(ロ)、(ハ)は押圧加工用版の形状による分類であり、(ニ)、(ホ)、(ヘ)、(ト)は、使用目的、用途による分類である。
[Subordinate structure 15]
In the manufacturing method of a pressing plate having the above-mentioned [Basic configuration 1] to [Subordinate configuration 14], it is preferable to implement a manufacturing method of a pressing plate having at least one of the following forms (i) to (g).
(i) A flat plate mold configured in a flat pressure processing device having flat plate shapes facing each other.
(b) A roll plate configured in a roll-type processing device having roll shapes facing each other.
(c) A flexible plate that is constructed by wrapping and fixing around a cylindrical or columnar roll, or a flexible plate that is constructed by contacting and fixing to the surface of a plate-shaped substrate for a plate mold.
(ii) An embossing plate for processing the workpiece into a specified uneven shape.
(e) A foil stamping plate for foil stamping onto processed items.
(e) A cutting/cutting plate for cutting and/or cutting a workpiece into a specified shape.
(g) A embossing/foil stamping/cutting plate for embossing or foil stamping the workpiece into a specified uneven shape and cutting and/or cutting it.
The above (A), (B), and (C) are classifications based on the shape of the pressing plate, while (D), (E), (F), and (G) are classifications based on the purpose and application of the plate.

本発明の押圧加工用版の製造方法における押圧加工用版の構成を説明するための模式的概略図が図17に示される。
図17は慣用の一般的な平板式又はロール式の押圧加工装置であって、この慣用の押圧加工装置に本発明の押圧加工用版を装着した状態を示す押圧加工装置の概略模式図である。
FIG. 17 is a schematic diagram for explaining the configuration of a press processing plate in the method for producing a press processing plate of the present invention.
FIG. 17 is a schematic diagram of a conventional, ordinary flat plate or roll type pressing device, showing the state in which the pressing plate of the present invention is mounted on this conventional pressing device.

図17(A)に示されるように、所定の凹凸形状で形成された微細図文字絵柄模様形態を形成した押圧加工用版10と受版94との間に、シート状被加工物基材108aとシート状箔材料108bが位置する状態で、押圧加工用版10と受版94とのうちの少なくとも一方が互いに押圧することにより、シート状被加工物基材108aに、押圧加工用版10に合致する凹凸形状で形成された図文字絵柄模様形態が形成されるとともに、シート状箔材料108bの転写により形成された箔転写凹凸図文字絵柄模様形態が転写形成されるように構成されてなる。
この押圧加工用版10は(ホ)被加工物に箔押し加工するための箔押用版に相当する。
As shown in Figure 17 (A), with a sheet-like workpiece substrate 108a and a sheet-like foil material 108b positioned between the pressing plate 10, which has a fine graphic, letter, and design pattern formed with a predetermined uneven shape, and a receiving plate 94, at least one of the pressing plate 10 and the receiving plate 94 is pressed against each other, a graphic, letter, and design pattern formed with an uneven shape that matches the pressing plate 10 is formed on the sheet-like workpiece substrate 108a, and a foil-transferred uneven graphic, letter, and design pattern formed by transferring the sheet-like foil material 108b is transferred and formed.
This pressing plate 10 corresponds to (e) a foil stamping plate for stamping a workpiece with foil.

図17(B)に示されるように、所定の凹凸形状で形成された図文字絵柄模様形態を形成した押圧加工用版10と受版94との間に、シート状被加工物108が位置する状態で、押圧加工用版100と受版94とのうちの少なくとも一方が互いに押圧することにより、シート状被加工物108に、押圧加工用版10に合致する凹凸形状で形成された図文字絵柄模様形態が形成されるように構成されてなる。
この押圧加工用版10は(ニ)被加工物を所定凹凸形状に加工するための型押用版に相当する。
なお、型押用版はエンボス版とも言われる。
As shown in Figure 17 (B), a sheet-like workpiece 108 is positioned between the pressing plate 10, which has a graphic, letter, design, pattern shape formed with a predetermined concave-convex shape, and the receiving plate 94, and at least one of the pressing plate 100 and the receiving plate 94 presses against each other, so that a graphic, letter, design, pattern shape formed with a concave-convex shape that matches the pressing plate 10 is formed on the sheet-like workpiece 108.
This pressing plate 10 corresponds to (iv) an embossing plate for processing a workpiece into a predetermined concave-convex shape.
The embossing plate is also called the embossing plate.

図17(C)に示されるように、所定の凹凸形状で形成された複数個の微細図文字絵柄模様形態、及び、所定の凹凸形状で形成された図文字絵柄模様形態を形成した押圧加工用版10と、受版94との間に、シート状被加工物108が位置する状態で、押圧加工用版10と受版94とのうちの少なくとも一方が互いに押圧することにより、シート状被加工物108に、押圧加工用版10と受版94とに合致する凹凸形状で形成された図文字絵柄模様形態が形成されるように構成されてなる。
また、図示されていないが、微細図文字絵柄模様形態を形成していなく、一つ又は複数の所定の凹凸形状で形成された図文字絵柄模様形態を形成した押圧加工用版10のみを形成した押圧加工用版100も実施可能である。この押圧加工用版10は(ホ)被加工物に箔押し加工するための箔押用版に相当する。
この押圧加工用版10は、例えば、前述の「従属構成3~従属構成5」、及び、「従属構成6~従属構成9」の押圧加工用版に適用される。
As shown in Figure 17 (C), in a state where a sheet-like workpiece 108 is positioned between the pressing plate 10 on which a plurality of fine graphic character pattern forms formed with a predetermined uneven shape and the graphic character pattern forms formed with a predetermined uneven shape are formed, and the receiving plate 94, at least one of the pressing plate 10 and the receiving plate 94 is pressed against each other, so that a graphic character pattern form formed with an uneven shape that matches the pressing plate 10 and the receiving plate 94 is formed on the sheet-like workpiece 108.
In addition, although not shown, it is also possible to use a pressing plate 100 that does not have a fine graphic, letter, or picture pattern, but only has a pressing plate 10 that has one or more predetermined concave and convex shapes. This pressing plate 10 corresponds to (e) a foil stamping plate for foil stamping a workpiece.
This pressing plate 10 is applied to the pressing plates of the above-mentioned "subordinate structure 3 to subordinate structure 5" and "subordinate structure 6 to subordinate structure 9", for example.

図17(D)に示されるように、所定の凹凸形状で形成された図文字絵柄模様形態と、所定の凹凸形状で形成された図文字絵柄模様形態を形成した受版94との間に、シート状被加工物108が位置する状態で、押圧加工用版10と受版94とのうちの少なくとも一方が互いに押圧することにより、シート状被加工物108に、押圧加工用版10と受版94とに合致する凹凸形状で形成された図文字絵柄模様形態が形成されるように構成されてなる。
この押圧加工用版10は(ニ)被加工物を所定凹凸形状に加工するための型押用版に相当する。
As shown in Figure 17 (D), with a sheet-like workpiece 108 positioned between a graphic, letter, and design pattern formed with a predetermined uneven shape and a receiving plate 94 on which a graphic, letter, and design pattern formed with a predetermined uneven shape is formed, at least one of the pressing plate 10 and the receiving plate 94 is pressed against each other, so that a graphic, letter, and design pattern formed with an uneven shape that matches the pressing plate 10 and the receiving plate 94 is formed on the sheet-like workpiece 108.
This pressing plate 10 corresponds to (iv) an embossing plate for processing a workpiece into a predetermined concave-convex shape.

図17(E)に示されるように、所定の形状で形成された刃型模様形態と、受版94との間に、シート状被加工物108が位置する状態で、押圧加工用版10と受版94とのうちの少なくとも一方が互いに押圧することにより、シート状被加工物108に、押圧加工用版10と受版94に合致する形状で切断又は切抜されるように構成されてなる。
この押圧加工用版10は(ヘ)被加工物を所定形状に切抜及び/又は切断するための切抜・切断版、に相当する。
As shown in Figure 17 (E), with a sheet-like workpiece 108 positioned between the blade pattern formed in a predetermined shape and the receiving plate 94, at least one of the pressing plate 10 and the receiving plate 94 is pressed against each other, so that the sheet-like workpiece 108 is cut or cut out in a shape that matches the pressing plate 10 and the receiving plate 94.
This pressing plate 10 corresponds to (f) a cutting plate for cutting and/or punching a workpiece into a predetermined shape.

図示されていないが、所定の凹凸形状で形成された図文字絵柄模様形態を形成した押圧加工用版と受版との間に、シート状被加工物が位置する状態で、押圧加工用版と受版とのうちの少なくとも一方が互いに押圧することにより、シート状被加工物に、押圧加工用版に合致する凹凸形状で形成された図文字絵柄模様形態が形成されるとともに、所定の形状に切抜又は切断形成されるように構成されてなる。Although not shown in the figure, a sheet-like workpiece is positioned between a pressing plate and a receiving plate, which have a graphic, letter, design, pattern shape formed with a predetermined concave-convex shape, and at least one of the pressing plate and the receiving plate press against each other, thereby forming a graphic, letter, design, pattern shape on the sheet-like workpiece, which is formed with a concave-convex shape that matches the pressing plate, and is also cut or formed into the predetermined shape.

図示されていないが、所定の凹凸形状で形成された図文字絵柄模様形態を形成した押圧加工用版と、所定の凹凸形状で形成された図文字絵柄模様形態を形成した受版94との間に、シート状被加工物基材とシート状箔材料が位置する状態で、押圧加工用版と受版とのうちの少なくとも一方が互いに押圧することにより、シート状被加工物基材に、押圧加工用版と受版とに合致する凹凸形状で形成された図文字絵柄模様形態が形成されるとともに、シート状箔材料の転写により形成された箔転写凹凸図文字絵柄模様形態が転写形成されるように構成されてなる。
この押圧加工用版は(ホ)被加工物に箔押し加工するための箔押用版に相当する。
Although not shown in the figure, a sheet-like workpiece substrate and a sheet-like foil material are positioned between a pressing plate forming a graphic, letter, and pattern form formed with a predetermined uneven shape, and a receiving plate 94 forming a graphic, letter, and pattern form formed with a predetermined uneven shape. At least one of the pressing plate and the receiving plate press against each other, so that a graphic, letter, and pattern form formed with uneven shapes that match the pressing plate and the receiving plate is formed on the sheet-like workpiece substrate, and the foil transferred uneven graphic, letter, and pattern form formed by transferring the sheet-like foil material is transferred and formed.
This pressing plate corresponds to (e) a foil stamping plate for stamping a workpiece with foil.

本発明の押圧加工用版において、前述の(イ)互いに対向する平板形状を有する平圧式加工装置に構成される平板型版としては、図16(A)に示されるように、(イ)第一基盤92、第二基盤93を備えた平圧式加工装置であって、それぞれの基盤に互いに対向して設置された押圧加工用版10と受版94とを備えた平圧式加工装置に構成される平板型版として使用される。In the pressing plate of the present invention, the flat plate mold configured in the flat pressure processing device having the above-mentioned (a) flat plate shapes facing each other is used as a flat plate mold configured in the flat pressure processing device having (a) a first base 92 and a second base 93, as shown in Figure 16 (A), and having a pressing plate 10 and a receiving plate 94 installed opposite each other on each base.

本発明の押圧加工用版において、前述の(ロ)互いに対向するロール形状を有するロール式加工装置に構成されるロール版としては、図16(B)に示されるように、互いに対向する円柱形状又は円筒形状等のロール形状を有する主ロール96、対ロール97を備えたロール装置であって、それぞれのロールの表面に構成されたロール版として使用される。
ロール版としては、下記のロール版が適用できる。
(ロ-a)ロールの表面の所望の位置に、直接に凹凸形状で刻設、形成されてなるロール版。
(ロ-b)ロールの表面の所望の位置に、平板状の表面に凹凸形状の凹凸部を備えた平板形状の版型用基板を設置固定されて構成されるなるロール版。
(ロ-c)ロールの表面の所望の位置に、曲面形状の表面に凹凸形状の凹凸部を備えた曲面形状の版型用基板を設置固定されて構成されるなるロール版。
In the press processing plate of the present invention, the roll plate configured in the roll-type processing device having mutually opposing roll shapes as described above (b) is a roll device equipped with a main roll 96 and a counter roll 97 having mutually opposing roll shapes such as cylindrical or cylindrical shapes, as shown in Figure 16 (B), and is used as a roll plate configured on the surface of each roll.
The following roll plates can be used as the roll plate:
(Ro-a) A roll plate formed by directly engraving and forming concave and convex shapes at desired positions on the surface of a roll.
(B-b) A roll plate having a flat plate-shaped substrate having uneven portions on its flat surface, which is fixed at a desired position on the surface of a roll.
(B-c) A roll plate having a curved plate plate substrate having uneven portions on its curved surface, which is fixed at a desired position on the surface of a roll.

前述の(ハ)円筒形又は円柱形のロールの周囲に巻き付け設置固定して構成されるフレキシブル版としては、湾曲できる程度のフレキシブル性を有し、ロールの表面に巻き付けて設置されて適用使用される。
例えば、ロールの周面が磁性を有する構成であって、フレキシブル版が鉄又は鉄含有鋼鉄製などの磁性を奏する金属製の屈曲可能な程度の厚さ寸法で形成された略シート状形状のものが、ロール周面に磁力で吸引密着された状態で設置固定されて適用使用される。
平板形状を有する版型用基板の表面に設置固定して構成されるフレキシブル版としては、平圧式加工装置の平板形状を有する所望の厚さを有する基板の表面に設置固定されて適用使用される。
The aforementioned (c) flexible plate configured by wrapping, installing and fixing around a cylindrical or columnar roll has a degree of flexibility that allows it to be curved, and is applied and used by wrapping it around the surface of the roll.
For example, the peripheral surface of the roll is configured to be magnetic, and the flexible plate is made of a magnetic metal such as iron or iron-containing steel, has a roughly sheet-like shape formed with a thickness large enough to be bent, and is installed and fixed in a state where it is attracted to the peripheral surface of the roll by magnetic force and is then used.
The flexible plate, which is configured to be placed and fixed on the surface of a plate-shaped substrate, is used by being placed and fixed on the surface of a substrate having a desired thickness and a flat shape of a flat pressure processing device.

押圧加工用版を使用した押圧加工装置において、第一基盤92、第二基板93、押圧加工用版100及び受版94のうちの少なくとも一つに、加熱するためのヒーター等の加熱機構が具備された構成も実施可能である。このような加熱機構を備えた装置において、(ホ)被加工物に箔押し加工するための箔押用版を構成した押圧加工装置において、シート状被加工物基材108aとシート状箔材料108bとのシート状被加工物108が使用される場合に、加熱された状態でシート状箔材料108bに箔押し形成される。In a pressing device using a pressing plate, it is also possible to implement a configuration in which a heating mechanism such as a heater for heating is provided on at least one of the first base 92, the second base 93, the pressing plate 100, and the receiving plate 94. In such a device equipped with a heating mechanism, (e) in a pressing device configured with a foil stamping plate for foil stamping a workpiece, when a sheet-like workpiece 108 consisting of a sheet-like workpiece substrate 108a and a sheet-like foil material 108b is used, foil stamping is formed on the sheet-like foil material 108b in a heated state.

<本発明の押圧加工用版の製造方法により製造されてなる押圧加工用版について>
[従属構成16]
本発明の押圧加工用版は、上記の「基本構成1」、「従属構成2」~「従属構成15」のうちの少なくとも一つの押圧加工用版の製造方法により製造されてなる押圧加工用版である。
例えば、本発明の押圧加工用版は、「従属構成1」の製造方法により製造された押圧加工用版である。すなわち、本発明の押圧加工用版は、被加工物を押圧により所定形状に加工するための押圧加工用版の製造方法であって、下記の構成を備える。
(A)版型用基板第一領域表面11と版型用基板第二領域表面12を備えた版型用基板1を供給する版型用基板供給工程。
(B)版型用基板1の版型用基板第一領域表面11の所望領域にインクジェットレジスト材2をインクジェット方式により付着して所望領域インクジェットレジスト付着膜を形成する所望領域インクジェットレジスト付着膜形成工程、及び、インクジェットレジスト付着膜を硬化してインクジェットレジスト硬化膜3を形成する所望領域インクジェットレジスト硬化膜形成工程。
(C)所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成した版型用基板1の表面にエッチング液を接触して、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が付着されていない版型用基板の表面をエッチングする版型用基板エッチング工程、これにより、前記版型用基板の表面に凹形状で形成された腐蝕凹形成部を形成する。
(D)所望領域インクジェットレジスト硬化膜を除去するレジスト硬化膜除去工程。
<Regarding the press processing plate manufactured by the press processing plate manufacturing method of the present invention>
[Subordinate structure 16]
The pressing plate of the present invention is a pressing plate manufactured by at least one of the above-mentioned "basic configuration 1", "subordinate configuration 2" to "subordinate configuration 15".
For example, the press processing plate of the present invention is a press processing plate manufactured by the manufacturing method of "subordinate configuration 1." That is, the press processing plate of the present invention is a manufacturing method of a press processing plate for processing a workpiece into a predetermined shape by pressing, and has the following configuration.
(A) A plate mold substrate supplying step of supplying a plate mold substrate 1 having a plate mold substrate first area surface 11 and a plate mold substrate second area surface 12.
(B) a desired area inkjet resist deposition film formation process in which an inkjet resist material 2 is deposited on a desired area of the plate mold substrate first area surface 11 of the plate mold substrate 1 by an inkjet method to form a desired area inkjet resist deposition film, and a desired area inkjet resist hardened film formation process in which the inkjet resist deposition film is hardened to form an inkjet resist hardened film 3.
(C) A plate mold substrate etching process in which an etching solution is brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the desired region inkjet resist hardened film 3 is formed, and the surface of the plate mold substrate to which the desired region inkjet resist hardened film 3 is not attached is etched, thereby forming a corroded recess formed in a concave shape on the surface of the plate mold substrate.
(D) A resist cured film removal step for removing the inkjet resist cured film from a desired area.

なお、本発明の押圧加工用版は、上記に限定されることなく、前述の「従属構成2」~「従属構成13」のうちの少なくとも一つの押圧加工用版の製造方法により製造されてなる押圧加工用版も実施可能である。In addition, the pressing plate of the present invention is not limited to the above, and it is also possible to implement a pressing plate manufactured by at least one of the pressing plate manufacturing methods of the above-mentioned "subordinate structure 2" to "subordinate structure 13".

本発明の押圧加工用版により、[押圧加工用版イ:所望の凸部、所望の凹部、所望の凹凸部、所望の微細凹凸部、等の所望形状を有するとともに、「版型用基板のエッチングされてはならない領域」の腐蝕エッチングが抑制されてなる所望の形状精度や寸法精度を備えた押圧加工用版が得られる効果」が得られる。The pressing plate of the present invention has the effect of obtaining a pressing plate having the desired shape, such as the desired convex portion, the desired concave portion, the desired uneven portion, the desired fine uneven portion, etc., and also having the desired shape accuracy and dimensional accuracy by suppressing corrosive etching of the "areas of the plate mold substrate that should not be etched."

<本発明の被加工物の加工方法について>
[従属構成17]
本発明の被加工物の加工方法は、上記の「基本構成1」、「従属構成2」~「従属構成15」のうちの少なくとも一つの押圧加工用版の製造方法により製造されてなる押圧加工用版を使用して、被加工物を加工して、所定形状に加工されてなる加工物を製造することを特徴とする被加工物の加工方法である。
<Method of processing workpiece according to the present invention>
[Subordinate structure 17]
The method for processing a workpiece of the present invention is a method for processing a workpiece, characterized in that the workpiece is processed using a pressing plate manufactured by at least one of the above-mentioned "basic configuration 1", "subordinate configuration 2" to "subordinate configuration 15" for manufacturing a pressing plate, to produce a workpiece that has been processed into a predetermined shape.

上記の被加工物の加工方法に使用可能な被加工物としては、特に限定されないが、紙、段ボール紙、プラスチック製フィルム、プラスチック製ボード、プラスチック成型物、皮革、木材、布、軟質金属、これらの積層物、等の被加工物が、好ましく実施できる。
また、型押加工、箔押加工、切断加工、及び、切抜加工からなる群から選ばれる少なくとも一つの加工により、被加工物を所定形状に加工する被加工物の加工方法が、好ましく実施できる。
The workpiece that can be used in the above-mentioned method for processing a workpiece is not particularly limited, but preferably includes paper, corrugated cardboard, plastic films, plastic boards, plastic molded products, leather, wood, cloth, soft metals, and laminates thereof.
Also, a method for processing a workpiece, in which the workpiece is processed into a predetermined shape by at least one process selected from the group consisting of embossing, foil stamping, cutting, and cutout, can be preferably carried out.

[従属構成18]
本発明の被加工物の加工方法は、上記の「基本構成1」、「従属構成2」~「従属構成15」のいずれかに記載の押圧加工用版の製造方法により製造されてなる押圧加工用版が平板形状を有する平板型版であって、その平板形状を有する押圧加工用版を使用して、被加工物を加工して、所定形状に加工されてなる加工物を製造することを特徴とする被加工物の加工方法であって、下記の構成を備える。
(S-a)前述の「基本構成1」、「従属構成2」~「従属構成15」のいずれかの押圧加工用版の製造方法により製造されてなる押圧加工用版10を供給する工程。
(S-b)互いに対向する第一基盤92と第二基盤93を備えた押圧加工装置を準備する工程。
(S-d)所定の受版94を、押圧加工装置の第二基盤93に設置する工程。
(S-e)押圧加工用版10と受版94との間に、被加工物108を位置する状態で、第一基盤92と第二基盤93のうちの少なくとも一つの基盤を駆動して、押圧加工用版10と受版94とが被加工物を押圧する工程。
これにより、被加工物108の表面に、既成凹凸部4の凹凸形状に一致する凹凸形状を有する被加工物凹凸形成部を形成する。
(S-f)押圧加工用版10と受版94のうちの少なくとも一つの基盤を駆動して、押圧加工用版10と受版94とを互いに離反して、被加工物への押圧を解除する工程。
これにより、被加工物108の表面に、既成凹凸部4の凹凸形状に一致する凹凸形状を有する形態で転写形成された被加工物凹凸形成部が形成されてなる加工物を調製する。
[Subordinate structure 18]
The method for processing a workpiece of the present invention is a method for processing a workpiece, characterized in that a pressing plate manufactured by the method for manufacturing a pressing plate described in any one of "Basic configuration 1" and "Subordinate configuration 2" to "Subordinate configuration 15" above is a flat plate having a flat shape, and the pressing plate having a flat shape is used to process the workpiece to produce a workpiece that has been processed into a predetermined shape, and has the following configuration.
(Sa) A step of supplying a pressing plate 10 manufactured by a method for manufacturing a pressing plate according to any one of the above-mentioned "Basic configuration 1", "Subordinate configuration 2" to "Subordinate configuration 15".
(Sb) A step of preparing a pressing device having a first base 92 and a second base 93 facing each other.
(Sd) A process of placing a predetermined receiving plate 94 on the second base 93 of the pressing device.
(S-e) A process of positioning a workpiece 108 between the pressing plate 10 and the receiving plate 94, and driving at least one of the first base 92 and the second base 93, so that the pressing plate 10 and the receiving plate 94 press the workpiece.
As a result, a workpiece unevenness forming portion having an uneven shape that matches the uneven shape of the existing uneven portion 4 is formed on the surface of the workpiece 108.
(Sf) A step of driving at least one of the bases of the pressing plate 10 and the receiving plate 94 to move the pressing plate 10 and the receiving plate 94 away from each other, thereby releasing the pressing force on the workpiece.
This prepares a workpiece having a workpiece unevenness portion formed on the surface of the workpiece 108, the workpiece unevenness portion being transferred and formed in a form having an uneven shape that matches the uneven shape of the existing unevenness portion 4.

上記の(S-d)所定の受版94を押圧加工装置の第二基盤93に設置する工程において、受版94としては、図17(A)に示されるような、表面が滑らかな表面を有し、凹凸形状を有しない受版94を使用して構成した被加工物の加工方法が実施可能である。
また、受版94としては、上記に限定されることなく、図17(D)に示されるような、本発明のインクジェットレジスト材又は従来の慣用のレジスト材を使用して製造した表面に凹凸形状を有する受版94を使用して構成した被加工物の加工方法も実施可能である。
In the above-mentioned (S-d) step of placing a specified receiving plate 94 on the second base 93 of the pressing processing device, a method for processing a workpiece can be carried out using a receiving plate 94 having a smooth surface and no uneven shape, as shown in Figure 17 (A).
Furthermore, the receiving plate 94 is not limited to the above, and a method for processing a workpiece using a receiving plate 94 having an uneven surface manufactured using the inkjet resist material of the present invention or a conventional resist material, as shown in Figure 17 (D), can also be implemented.

この被加工物の加工方法においては、前述の(イ)互いに対向する平板形状を有する平圧式加工装置に構成される押圧加工用版としての平板型版であって、(ニ)被加工物を所定凹凸形状に加工するための型押用版が適用される。In this method of processing a workpiece, the aforementioned (i) flat plate mold as a pressing plate configured in a flat pressure processing device having mutually opposing flat plate shapes, and (ii) a embossing plate for processing the workpiece into a predetermined uneven shape are applied.

本発明の被加工物の加工方法により、[被加工物加工方法効果イ:本発明の被加工物の加工方法は、紙、段ボール紙、プラスチック製フィルム、プラスチック製ボード、プラスチック成型物、これらの積層物、等の被加工物を、、所望の凸部、所望の凹部、所望の凹凸部、所望の微細凹凸部、等の所望形状を有するとともに、所望の形状精度や寸法精度を有して加工形成されてなる加工物を調製できる効果]が得られる。The method for processing a workpiece of the present invention can provide the effect of preparing a processed product from a workpiece such as paper, corrugated cardboard, plastic film, plastic board, plastic molding, or a laminate of these, which has a desired shape such as a desired convex portion, a desired concave portion, a desired uneven portion, or a desired fine uneven portion, and which has the desired shape accuracy and dimensional accuracy.

[従属構成19]
本発明の他の被加工物の加工方法は、上記の「基本構成1」、「従属構成2」~「従属構成15」のいずれかに記載の押圧加工用版の製造方法により製造されてなる押圧加工用版が平板形状を有する平板型版であって、その平板形状を有する押圧加工用版を使用して、被加工物を箔押し加工して、所定形状に箔押し加工されてなる加工物を製造することを特徴とする被加工物の加工方法であって、下記の構成を備える。
(S-a)「基本構成1」、「従属構成2」~「従属構成13」のいずれかの押圧加工用版の製造方法により製造されてなる押圧加工用版10を供給する工程。
(S-b)互いに対向する第一基盤92と第二基盤93を備えた押圧加工装置を準備する工程。
(S-d)所定の受版94を、押圧加工装置の第二基盤93に設置する工程。
(S-e)押圧加工用版10と受版94との間に被加工物基材108aとシート状箔材料108bとを位置する状態で、第一基盤92と第二基盤93のうちの少なくとも一つの基盤を駆動して、押圧加工用版10と受版94とが被加工物を押圧する工程。
これにより、シート状箔材料108bを、被加工物基材108aの表面に、既成凹凸部4の凹凸形状に一致する凹凸形状を有する被加工物箔押転写形成部を転写形成する。
(S-f)押圧加工用版10と受版94のうちの少なくとも一つの基盤を駆動して、押圧加工用版10と受版94とを互いに離反して、被加工物への押圧を解除する工程。
これにより、被加工物基材108aの表面に、既成凹凸部4の凹凸形状に一致する形状を有する形態でシート状箔材料108bにより転写形成された被加工物箔押転写形成部が形成されてなる加工物を調製する。
[Subordinate structure 19]
Another method for processing a workpiece of the present invention is a method for processing a workpiece, characterized in that a pressing plate manufactured by the method for manufacturing a pressing plate described in any one of "Basic configuration 1" and "Subordinate configuration 2" to "Subordinate configuration 15" above is a flat plate having a flat shape, and the pressing plate having a flat shape is used to foil stamp the workpiece to produce a workpiece that has been foil stamped into a predetermined shape, and has the following configuration.
(Sa) A step of supplying a pressing plate 10 manufactured by a method for manufacturing a pressing plate according to any one of "Basic Configuration 1", "Subordinate Configuration 2" to "Subordinate Configuration 13".
(Sb) A step of preparing a pressing device having a first base 92 and a second base 93 facing each other.
(Sd) A process of placing a predetermined receiving plate 94 on the second base 93 of the pressing device.
(S-e) A process in which, with the workpiece substrate 108a and the sheet-like foil material 108b positioned between the pressing plate 10 and the receiving plate 94, at least one of the first base 92 and the second base 93 is driven so that the pressing plate 10 and the receiving plate 94 press the workpiece.
As a result, the sheet-like foil material 108b is transferred onto the surface of the workpiece base material 108a to form a workpiece foil stamping transfer formation portion having a concave-convex shape that matches the concave-convex shape of the existing concave-convex portion 4.
(Sf) A step of driving at least one of the bases of the pressing plate 10 and the receiving plate 94 to move the pressing plate 10 and the receiving plate 94 away from each other, thereby releasing the pressure on the workpiece.
This prepares a workpiece in which a workpiece foil stamping transfer formation portion is formed on the surface of the workpiece base material 108a by transferring the sheet-shaped foil material 108b in a form having a shape that matches the uneven shape of the existing uneven portion 4.

この被加工物の加工方法においては、前述の(イ)互いに対向する平板形状を有する平圧式加工装置に構成される平板型版であって、(ホ)被加工物に箔押し加工するための箔押用版としての平板型版が適用される。
なお、この箔押し加工方法において、第一基盤92、第二基盤93、押圧加工用版10及び受版94のうちの少なくとも一つが加熱されて状態で箔押し加工される構成も好ましく実施可能である。加熱により、シート状箔材料108bの所望の領域が被加工物の表面に転写するとともに接合して、被加工物箔押転写形成部が形成される。
In this method of processing a workpiece, the above-mentioned (i) flat plate mold configured in a flat pressure processing device having mutually opposing flat plate shapes, and (e) a flat plate mold used as a foil stamping plate for foil stamping the workpiece are applied.
In addition, in this foil stamping method, it is also possible to preferably implement a configuration in which the foil stamping is performed in a state in which at least one of the first base 92, the second base 93, the pressing plate 10, and the receiving plate 94 is heated. By heating, a desired area of the sheet-like foil material 108b is transferred to and bonded to the surface of the workpiece, forming a foil stamping transfer formation portion of the workpiece.

本発明の被加工物の加工方法により、「被加工物加工方法効果ロ:紙、段ボール紙、プラスチック製フィルム、プラスチック製ボード、プラスチック成型物、これらの積層物、等の被加工物を、所望の文字、所望の記号、所望の図形所望の絵柄、所望の格子模様、及び、所望の微細複数凹凸模様、等の所望の図文字絵柄模様形態を有する凹部、凸部、及び/又は凹凸部で形成された形状に、優れた形状寸法精度で、箔押し加工形成されてなる加工物を調製できる効果」が得られる。
特に、「優れた形状寸法精度で、箔押し加工形成されてなる加工物を調製できる効果」が得られる。また、特に、「従属構成8」によって製造されてなる「複数種類の複数個の微細図文字絵柄模様が集まって、互いに異なる他の画像を形成してなる押圧加工用版」を使用した場合には、「互いに異なる方向から見た場合に、互いに異なる画像が見えるように形成されてなる加工物」が、箔押し加工されてなることに起因して、著しく優れた箔押し加工物を調製することが可能になる。
The method for processing a workpiece of the present invention can provide "effect B of the method for processing a workpiece: the effect of being able to prepare a processed product by foil stamping a workpiece such as paper, corrugated cardboard, plastic film, plastic board, plastic molding, or a laminate of these, into a shape formed with recesses, protrusions, and/or uneven parts having a desired graphic, letter, pattern, or picture pattern form, such as a desired character, desired symbol, desired figure, desired picture, desired lattice pattern, and desired fine multiple concave-convex pattern, with excellent shape and dimensional precision."
In particular, "the effect of being able to prepare a workpiece formed by stamping with excellent shape and dimensional accuracy" is obtained. In particular, when "a pressing plate formed by assembling a plurality of types of fine graphic and letter patterns to form mutually different images" manufactured by "subordinate configuration 8" is used, "a workpiece formed so that mutually different images can be seen when viewed from mutually different directions" is stamped by the foil processing, and therefore it is possible to prepare a significantly excellent stamped workpiece.

[従属構成20]
本発明の他の被加工物の加工方法は、上記の「基本構成1」、「従属構成2」~「従属構成15」のいずれかに記載の押圧加工用版の製造方法により製造されてなる押圧加工用版を、ロール装置に設置して、被加工物を加工して、所定形状に加工されてなる加工物を製造することを特徴とする被加工物の加工方法であって、下記の構成を備える。
(S-a)「基本構成1」、「従属構成2」~「従属構成13」のいずれかの押圧加工用版の製造方法により製造されてなる押圧加工用版10を供給する工程。
(S-b)互いに対向する主ロール96と対ロール97を備えた押圧加工装置を準備する工程。
(S-c)押圧加工用版10を、主ロール96に設置する工程。
(S-d)所定の受版94を、押圧加工装置の前記対ロール97に設置する工程。
(S-e)主ロール96と対ロール97とを駆動するとともに、主ロール96と対ロール97との間に被加工物を供給して、押圧加工用版10と受版94とが被加工物を押圧する工程。
これにより、被加工物108の表面に、既成凹凸部4の凹凸形状に一致する凹凸形状を有する被加工物凹凸形状部を形成する。
(S-f)被加工物が前記主ロール96と対ロール97との間から離反して、前記被加工物への押圧を解除する工程。
これにより、被加工物108の表面に、既成凹凸部4の凹凸形状に一致する凹凸形状を有する形態で転写形成された被加工物転写形成部が形成されてなる加工物を調製する。
[Subordinate structure 20]
Another method for processing a workpiece of the present invention is a method for processing a workpiece, characterized in that a press processing plate manufactured by the method for manufacturing a press processing plate described in any one of the above ``Basic configuration 1'' and ``Subordinate configuration 2'' to ``Subordinate configuration 15'' is placed in a roll device, the workpiece is processed, and a workpiece is produced that has been processed into a predetermined shape, and has the following configuration.
(Sa) A step of supplying a pressing plate 10 manufactured by a method for manufacturing a pressing plate according to any one of "Basic Configuration 1", "Subordinate Configuration 2" to "Subordinate Configuration 13".
(Sb) A step of preparing a pressing device having a main roll 96 and a counter roll 97 opposed to each other.
(Sc) A process of placing the pressing plate 10 on the main roll 96.
(Sd) A step of placing a predetermined receiving plate 94 on the pair of rolls 97 of the pressing device.
(S-e) A process of driving the main roll 96 and the counter roll 97 while supplying a workpiece between the main roll 96 and the counter roll 97, so that the pressing plate 10 and the receiving plate 94 press the workpiece.
As a result, a workpiece uneven shape portion having an uneven shape that matches the uneven shape of the existing uneven portion 4 is formed on the surface of the workpiece 108.
(Sf) A process in which the workpiece is separated from between the main roll 96 and the counter roll 97, and the pressure on the workpiece is released.
This prepares a workpiece having a workpiece transfer portion formed on the surface of the workpiece 108 in a form having a concave-convex shape that matches the concave-convex shape of the existing concave-convex portion 4 .

この被加工物の加工方法においては、前述の(ロ)互いに対向するロール形状を有するロール式加工装置に構成されるロール版であって、ロールの所定の位置に設置固定して構成されるロール版、又は、(ハ)ロール装置の円筒形又は円柱形のロールの周囲に巻き付け設置固定して構成されるフレキシブル版、が適用される。In this method of processing the workpiece, the above-mentioned (b) roll plate configured in a roll-type processing device having mutually opposing roll shapes and configured by installing and fixing at a predetermined position on the roll, or (c) a flexible plate configured by wrapping around a cylindrical or columnar roll of a roll device and installing and fixing, is applied.

本発明の被加工物の加工方法により、前述の「被加工物加工方法効果イ」の効果が得られる。
特に、「優れた形状寸法精度で、加工形成されてなる加工物を調製できる効果」が得られる。
According to the method for processing a workpiece of the present invention, the above-mentioned effect "Effect A of the method for processing a workpiece" can be obtained.
In particular, "the effect of being able to prepare a processed product that is processed with excellent shape and dimensional accuracy" can be obtained.

[従属構成21]
本発明の他の被加工物の加工方法は、上記の「基本構成1」、「従属構成2」~「従属構成15」のいずれかに記載の押圧加工用版の製造方法により製造されてなる押圧加工用版を、ロール装置に設置して、被加工物を加工して、所定形状に箔押し形成されて加工されてなる加工物を製造することを特徴とする被加工物の加工方法であって、下記の構成を備える。
(S-a)「基本構成1」、「従属構成2」~「従属構成13」のいずれかの押圧加工用版の製造方法により製造されてなる押圧加工用版10を供給する工程。
(S-b)互いに対向する主ロール96と対ロール97を備えた押圧加工装置を準備する工程。
(S-c)押圧加工用版10を、主ロール96に設置する工程。
(S-d)所定の受版94を、押圧加工装置のロール97に設置する工程。
(S-e)主ロール96と対ロール97とを駆動するとともに、主ロール96と対ロール97との間に被加工物基材108aとシート状箔材料108bとを供給して、押圧加工用版10と受版94とが被加工物を押圧する工程。
これにより、シート状箔材料108bを、被加工物基材108aの表面に、既成凹凸部4の凹凸形状に一致する凹凸形状を有する被加工物箔押転写形成部を転写形成する。
(S-f)被加工物が前記主ロール96と対ロール97との間から離反して、被加工物への押圧を解除する工程。
これにより、被加工物108の表面に、既成凹凸部4の凹凸形状に一致する凹凸形状を有する形態でシート状箔材料108bにより転写形成された被加工物転写形成部が形成されてなる加工物を調製する。
[Subordinate structure 21]
Another method for processing a workpiece of the present invention is a method for processing a workpiece, characterized in that a press processing plate manufactured by the method for manufacturing a press processing plate described in any one of the above ``Basic configuration 1'' and ``Subordinate configuration 2'' to ``Subordinate configuration 15'' is placed in a roll device, the workpiece is processed, and a workpiece is produced that is foil-stamped and processed into a predetermined shape, and has the following configuration.
(Sa) A step of supplying a pressing plate 10 manufactured by a method for manufacturing a pressing plate according to any one of "Basic Configuration 1", "Subordinate Configuration 2" to "Subordinate Configuration 13".
(Sb) A step of preparing a pressing device having a main roll 96 and a counter roll 97 opposed to each other.
(Sc) A process of placing the pressing plate 10 on the main roll 96.
(Sd) A process of placing a predetermined receiving plate 94 on the roll 97 of the pressing device.
(S-e) A process in which the main roll 96 and the counter roll 97 are driven, and the workpiece substrate 108a and the sheet-like foil material 108b are supplied between the main roll 96 and the counter roll 97, so that the pressing plate 10 and the receiving plate 94 press the workpiece.
As a result, the sheet-like foil material 108b is transferred onto the surface of the workpiece base material 108a to form a workpiece foil stamping transfer formation portion having a concave-convex shape that matches the concave-convex shape of the existing concave-convex portion 4.
(Sf) A process in which the workpiece is separated from between the main roll 96 and the counter roll 97, and the pressure on the workpiece is released.
This prepares a workpiece having a workpiece transfer formation portion formed on the surface of the workpiece 108 by transferring the sheet-shaped foil material 108b in a form having an uneven shape that matches the uneven shape of the existing uneven portion 4.

この被加工物の加工方法においては、前述の(ロ)互いに対向するロール形状を有するロール式加工装置に構成されるロール版であって、(ハ)円ロール装置の筒形又は円柱形のロールの周囲に巻き付け設置固定して構成されるフレキシブル版、が適用される。
なお、この箔押し加工方法において、主ロール96、対ロール97、及び、押圧加工用版10のうちの少なくとも一つが加熱されて状態で箔押し加工される構成も好ましく実施可能である。加熱により、シート状箔材料108bの所望の領域が被加工物の表面に転写するとともに接合して、被加工物箔押転写形成部が形成される。
In this method of processing the workpiece, the aforementioned (b) roll plate configured in a roll-type processing device having mutually opposing roll shapes, and (c) a flexible plate configured by wrapping, installing and fixing around a cylindrical or cylindrical roll of a circular roll device are applied.
In addition, in this foil stamping method, it is also possible to preferably implement a configuration in which foil stamping is performed in a state in which at least one of the main roll 96, the counter roll 97, and the pressing plate 10 is heated. By heating, a desired area of the sheet-like foil material 108b is transferred to and bonded to the surface of the workpiece, forming a foil stamping transfer formation portion on the workpiece.

本発明の被加工物の加工方法により、前述の「被加工物加工方法効果ロ」の効果が得られる。
特に、「優れた形状寸法精度で、箔押し加工形成されてなる加工物を調製できる効果」が得られる。また、特に、「従属構成8」によって製造されてなる「複数種類の複数個の微細図文字絵柄模様が集まって、互いに異なる他の画像を形成してなる押圧加工用版」を使用した場合には、「互いに異なる方向から見た場合に、互いに異なる画像が見えるように形成されてなる加工物」が、箔押しされてなることに起因して、著しく優れた箔押し加工物を調製することが可能になる。
According to the method for processing a workpiece of the present invention, the above-mentioned effect "Effect B of the method for processing a workpiece" can be obtained.
In particular, "the effect of being able to prepare a workpiece formed by stamping with excellent shape and dimensional accuracy" is obtained. In particular, when "a pressing plate formed by assembling a plurality of types of fine graphic and letter patterns to form mutually different images" manufactured by "subordinate configuration 8" is used, "a workpiece formed so that mutually different images can be seen when viewed from mutually different directions" is stamped with foil, and therefore it is possible to prepare a significantly excellent stamped workpiece.

[従属構成22]
上記の「従属構成17」~「従属構成21」のいずれかに記載の被加工物の加工方法において、下記の構成を備えた被加工物の加工方法が好ましく実施可能である。
前記被加工物は、紙、段ボール紙、プラスチック製フィルム、プラスチック製ボード、プラスチック成型物、皮革、木材、布、軟質金属、及び、これらの積層物からなる群から選ばれる少なくとも一つの被加工物である、被加工物の加工方法」。
この構成により、前述の「被加工物加工方法効果イ」、「被加工物加工方法効果ロ」の効果が得られ、特に「優れた形状寸法精度で、加工形成されてなる加工物を調製できる効果」が得られる。
[Subordinate structure 22]
In the method for processing a workpiece according to any one of the above-mentioned "sub-configuration 17" to "sub-configuration 21," a method for processing a workpiece having the following configuration can be preferably implemented.
"A method for processing a workpiece, wherein the workpiece is at least one workpiece selected from the group consisting of paper, corrugated cardboard, plastic film, plastic board, plastic molded product, leather, wood, cloth, soft metal, and laminates thereof."
This configuration provides the aforementioned "Workpiece Processing Method Effect A" and "Workpiece Processing Method Effect B," and in particular the "effect of being able to prepare a workpiece that has been processed with excellent shape and dimensional accuracy."

以下に本発明の押押圧加工用版の製造方法、押圧加工用版の製造方法により製造されてなる押圧加工用版、及び、押圧加工用版の製造方法により製造されてなる押圧加工用版を使用して被加工物を所定形状に加工する被加工物の加工方法、等について、典型的実施例を説明する。図面において、構成要素の形状・大きさ・寸法等は正確に示すものではなく形状、構成、作用効果等の特徴を説明するための概略を模式的に示すものである。Typical examples of the manufacturing method of a press processing plate of the present invention, the press processing plate manufactured by the manufacturing method of a press processing plate, and the processing method of a workpiece in which the press processing plate manufactured by the manufacturing method of a press processing plate is used to process the workpiece into a predetermined shape will be described below. In the drawings, the shapes, sizes, dimensions, etc. of the components are not shown accurately, but are shown as a schematic outline to explain the features such as the shapes, configurations, and effects.

<実施例1A(押圧加工用版としての平板型版・型押用版の製造A)>
本実施例は、前述の「従属構成3」に類似する押圧加工用版の製造方法であり、図1に示される押圧加工用版であって、凹部から突出した凸部の表面に「ABCDE」の図文字絵柄模様が凸形状で形成された押圧加工用版の製造方法である。本押圧加工用版は平板型版、型押用版として使用される。
本実施例において、従来慣用のレジスト材を使用して既成複数凹凸部45を形成し、その既成複数凹凸部45を形成した版型用基板の表面に、インクジェットレジスト材を使用して、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成するとともに、「既成複数凹凸部45がインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の底面から突出してなる突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部455に形成されてなる形態に調製したものである。
以下に本実施例を詳細に説明する。
<Example 1A (Production of flat plate mold/embossing plate as pressing plate A)>
This embodiment is a method for manufacturing a pressing plate similar to the above-mentioned "subordinate configuration 3", and is a method for manufacturing a pressing plate shown in Fig. 1, in which a graphic pattern of "ABCDE" is formed in a convex shape on the surface of a convex portion protruding from a concave portion. This pressing plate is used as a flat plate and an embossing plate.
In this embodiment, a conventional resist material is used to form pre-formed multiple concave-convex portions 45, and an inkjet resist material is used to form inkjet resist film etched second concave-forming portion 121 on the surface of the plate mold substrate on which the pre-formed multiple concave-convex portions 45 are formed, and the pre-formed multiple concave-convex portions 45 are prepared to be formed into inkjet film etched pre-formed multiple concave-convex portion protrusion portion 455 having a protruding shape protruding from the bottom surface of inkjet resist film etched second concave-forming portion 121.
This embodiment will be described in detail below.

(A)既成複数凹凸部45を有する版型用基板第一領域表面11と版型用基板第二領域表面12を備えた版型用基板1を調製し、供給する工程.
平面表面形状を有する版型用基板第一領域表面11と平面表面形状を有する版型用基板第二領域表面12を備えた平面表面形状を有する版型用基板1を準備した。版型用基板1は、ステンレス製であって、厚さ「h」7.0mm、横幅125mm、縦幅90mmの略平板形状を有する。
次に、版型用基板1の版型用基板第一領域表面11の所望の領域に(i)慣用レジスト材としての紫外線照射により化学反応して3次元化学構造に架橋する性質を有する汎用の慣用液状レジスト材(製版、プリント基板の腐蝕エッチングのために汎用に使用されている慣用の液状レジスト材であって、市販されている汎用の慣用液状レジスト材のうちから所望の慣用液状レジスト材)選択して使用して、従来慣用のスプレーコート方式により、約0.02mm~約0.04mmの厚さで付着し、所定の方法で乾燥してレジスト付着膜を形成した。
そして、光透過用の貫通孔を有して所望の図文字絵柄模様(ABCDE模様)を形成した露光用マスク部材を介して、レジスト付着膜に紫外線を照射し、その後、市販されている汎用の慣用の現像剤(炭酸ナトリウム水溶液)を使用して、紫外線が照射されていない領域の不要なレジスト付着膜を除去した。その後、所定の慣用の方法で加熱ベーキングを行って熟成した。このようにして所望の図文字絵柄模様(ABCDE模様)を有するレジスト硬化膜を形成した。
(A) A step of preparing and supplying a plate mold substrate 1 having a plate mold substrate first area surface 11 and a plate mold substrate second area surface 12 having a preformed multiple concave and convex portions 45.
A plate mold substrate 1 having a planar surface shape was prepared, which includes a plate mold substrate first region surface 11 having a planar surface shape and a plate mold substrate second region surface 12 having a planar surface shape. The plate mold substrate 1 is made of stainless steel and has a generally flat plate shape with a thickness "h" of 7.0 mm, a width of 125 mm, and a length of 90 mm.
Next, (i) a general-purpose conventional liquid resist material having the property of undergoing a chemical reaction when irradiated with ultraviolet light and crosslinking into a three-dimensional chemical structure (a general-purpose conventional liquid resist material that is generally used for plate making and etching of printed circuit boards, and a desired conventional liquid resist material is selected from among commercially available general-purpose conventional liquid resist materials) was used on a desired area of the first region surface 11 of the plate mold substrate 1, and applied to the desired area by a conventional spray coating method to a thickness of about 0.02 mm to about 0.04 mm, and dried by a prescribed method to form a resist application film.
Then, the resist film was irradiated with ultraviolet light through an exposure mask member having through holes for light transmission and forming a desired pictorial pattern (ABCDE pattern), and then unnecessary resist film in the area not irradiated with ultraviolet light was removed using a commercially available general-purpose conventional developer (aqueous sodium carbonate solution). Then, the resist film was aged by heating and baking in a predetermined conventional manner. In this way, a resist cured film having the desired pictorial pattern (ABCDE pattern) was formed.

次に、レジスト硬化膜を形成した版型用基板1の表面に市販されている汎用の慣用のエッチング液(塩化第二鉄水溶液)を接触して、レジスト硬化膜が付着されていない版型用基板の表面を深さ「D1」が0.9mmになるまでエッチングして、版型用基板に凹形状で形成された複数の既成複数凹凸部凹部452を形成するとともに、凸形状で形成された複数の既成複数凹凸部凸部451を形成した。
次に、市販されている汎用の慣用のレジスト除去剤(苛性ソーダ水溶液)を使用して、レジスト硬化膜を除去した。
このようにして、凸形状で形成された複数の既成複数凹凸部凸部451と、凹形状で形成された複数の既成複数凹凸部凹部452を形成した。
なお、上記の凸形状で形成された複数の既成複数凹凸部凸部451と、凹形状で形成された複数の既成複数凹凸部凹部452とを有する既成複数凹凸部45を形成する工程を説明する図は、図1には図示されていない。
Next, a commercially available general-purpose conventional etching solution (aqueous ferric chloride solution) was brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the resist hardened film had been formed, and the surface of the plate mold substrate to which the resist hardened film had not been attached was etched until the depth "D1" reached 0.9 mm, thereby forming a plurality of pre-formed multiple concave-convex portions 452 formed in a concave shape on the plate mold substrate, and a plurality of pre-formed multiple convex portions 451 formed in a convex shape.
Next, the hardened resist film was removed using a commercially available general-purpose conventional resist remover (aqueous caustic soda solution).
In this manner, a plurality of preformed multiple convex portions 451 formed in a convex shape and a plurality of preformed multiple concave portions 452 formed in a concave shape were formed.
In addition, a diagram explaining the process of forming a preformed multiple uneven portion 45 having a plurality of preformed multiple uneven portion convex portions 451 formed in the above-mentioned convex shape and a plurality of preformed multiple uneven portion concave portions 452 formed in a concave shape is not shown in Figure 1.

すなわち、版型用基板第二領域表面12は凹凸のない無凹凸部を有し、版型用基板第一領域表面11は既成凹凸部4を有し、既成凹凸部4は既成複数凹凸部45を有する。
既成複数凹凸部45は複数の凸形状で形成された複数の既成複数凹凸部凸部451と、複数の凹形状で形成された複数の既成複数凹凸部凹部452とを有し、複数の既成複数凹凸部凸部451は複数の既成複数凹凸部凸部上面451aと複数の既成複数凹凸部凸部側面451bとを有し、複数の既成複数凹凸部凹部452は複数の既成複数凹凸部凹部底面452cと複数の既成複数凹凸部凹部側面452bとを有する。
このようにして、既成凹凸部4としての既成複数凹凸部45を有する版型用基板を準備した。
なお、前記複数の既成複数凹凸部凸部側面451bと前記複数の既成複数凹凸部凹部側面452bは、互いに同じ側面領域に相当する。
また、エッチングされた既成複数凹凸部凸部451の高さ寸法「D1」は既成複数凹凸部凹部の深さ寸法「D1」に相当し、0.9mmである。既成複数凹凸部凸部451の幅寸法「W1」、既成複数凹凸部凹部452の幅寸法「W2」は、概略、図1の(A-b)で示されるような所望の寸法を有していた。
このようにして、図1の(A-b)の黒色で示される既成複数凹凸部凸部451で形成された図文字絵柄模様(ABCDE模様)と、白色で示される複数の既成複数凹凸部凹部452を有する版型用基板1を調製し、供給した。
That is, the second region surface 12 of the plate mold substrate has a non-relief portion without any irregularities, the first region surface 11 of the plate mold substrate has a pre-formed irregular portion 4 , and the pre-formed irregular portion 4 has a plurality of pre-formed irregular portions 45 .
The preformed multiple uneven portion 45 has a plurality of preformed multiple uneven portion convex portions 451 formed with a plurality of convex shapes, and a plurality of preformed multiple uneven portion concave portions 452 formed with a plurality of concave shapes, the plurality of preformed multiple uneven portion convex portions 451 have a plurality of preformed multiple uneven portion convex portion upper surfaces 451a and a plurality of preformed multiple uneven portion convex portion side surfaces 451b, and the plurality of preformed multiple uneven portion concave portions 452 have a plurality of preformed multiple uneven portion concave portion bottom surfaces 452c and a plurality of preformed multiple uneven portion concave portion side surfaces 452b.
In this manner, a plate-form substrate having a plurality of preformed concave-convex portions 45 as the preformed concave-convex portion 4 was prepared.
The plurality of already formed concave-convex side surfaces 451b of the multiple already formed concave-convex portions and the plurality of already formed concave-convex side surfaces 452b of the multiple already formed concave-convex portions correspond to the same side surface region.
The height dimension "D1" of the etched pre-formed convex portion 451 corresponds to the depth dimension "D1" of the pre-formed concave portion, which is 0.9 mm. The width dimension "W1" of the pre-formed convex portion 451 and the width dimension "W2" of the pre-formed concave portion 452 had the desired dimensions as shown in FIG. 1 (A-b).
In this manner, a plate mold substrate 1 having a graphic letter pattern (ABCDE pattern) formed of preformed multiple concave-convex portions 451 shown in black in (A-b) of Figure 1 and multiple preformed multiple concave-convex portions 452 shown in white was prepared and supplied.

(B)所望領域インクジェットレジスト硬化膜形成工程.
上記(A)工程により調製された版型用基板1を使用して、図1の(B)に示されるように、複数の既成複数凹凸部凸部上面451aと複数の既成複数凹凸部凸部側面451bと複数の既成複数凹凸部凹部底面452cと複数の既成複数凹凸部凹部側面452bとを覆って、インクジェットレジスト材2をインクジェット方式で付着して、インクジェットレジスト凸部上面付着膜とインクジェットレジスト凹部側面付着膜とインクジェット凹部底面付着膜を形成した。ここで、既成複数凹凸部45の周囲領域に位置する版型用基板第二領域表面12にはインクジェットレジスト材2は付着されない。
その後、インクジェットレジスト凸部上面付着膜とインクジェットレジスト凹部側面付着膜とインクジェット凹部底面付着膜を硬化して、所望領域インクジェットレジスト凸部上面硬化膜3aと所望領域インクジェットレジスト凸部側面硬化膜3bと所望領域インクジェットレジスト凹部底面硬化膜3cを形成し、このようにして所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成した。
なお、所望領域インクジェットレジスト凸部側面硬化膜と所望領域インクジェットレジスト凹部側面硬化膜とは互いに同じ側面硬化膜に相当する。
(B) Step of forming a hardened inkjet resist film in a desired area.
Using the plate mold substrate 1 prepared by the above process (A), as shown in Fig. 1 (B), the inkjet resist material 2 was applied by the inkjet method to cover the multiple already formed multiple concave-convex portion convex portion upper surfaces 451a, the multiple already formed multiple concave-convex portion convex portion side surfaces 451b, the multiple already formed multiple concave-convex portion concave bottom surfaces 452c, and the multiple already formed multiple concave-convex portion concave side surfaces 452b, thereby forming an inkjet resist convex portion upper surface attachment film, an inkjet resist concave portion side surface attachment film, and an inkjet concave portion bottom surface attachment film. Here, the inkjet resist material 2 was not attached to the plate mold substrate second region surface 12 located in the peripheral region of the already formed multiple concave-convex portions 45.
Thereafter, the film adhered to the top surfaces of the inkjet resist convex portions, the film adhered to the side surfaces of the inkjet resist concave portions, and the film adhered to the bottom surface of the inkjet resist concave portions are hardened to form cured films 3a on the top surfaces of the inkjet resist convex portions in the desired region, cured films 3b on the side surfaces of the inkjet resist convex portions in the desired region, and cured films 3c on the bottom surfaces of the inkjet resist concave portions in the desired region, thus forming cured films 3 on the desired region inkjet resist.
The cured film on the side surface of the convex portion of the desired region inkjet resist and the cured film on the side surface of the concave portion of the desired region inkjet resist correspond to the same lateral surface cured film.

なお、所望領域インクジェットレジスト硬化膜形成工程において、マイクロクラフト社製のオンデマンド・インクジェット印刷システム装置を使用した。インクジェットレジスト材としては、電子部品としての金属配線板の製造に汎用使用されている市販のインクジェットレジスト材のうち、紫外線照射により化学反応して3次元化学構造に架橋する性質を有するとともに、「10mPa・s~20mPa・s(25℃)の粘度のインクジェットレジスト材」を選択して使用し、吐出ノズルから吐出される液滴量が2pl~15plの条件で版型用基板に付着した。そして、版型用基板に付着形成された上記のインクジェットレジスト付着膜に紫外線を照射して、インクジェットレジスト材を化学反応させ、その後、120℃で10分間の加熱バーニングを行って、硬化された所望領域インクジェットレジスト凸部上面硬化膜3aと所望領域インクジェットレジスト凸部側面硬化膜3bと所望領域インクジェットレジスト凹部底面硬化膜3cを形成した。このようにして、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成した。
所望領域インクジェットレジスト硬化膜の厚さは約0.03mm~約0.05mmの範囲であった。
In addition, in the desired area inkjet resist hardened film formation step, an on-demand inkjet printing system device manufactured by Microcraft was used. As the inkjet resist material, among commercially available inkjet resist materials that are widely used in the manufacture of metal wiring boards as electronic components, a material that has a property of chemically reacting with ultraviolet light irradiation to crosslink into a three-dimensional chemical structure and has a viscosity of 10 mPa·s to 20 mPa·s (25°C) was selected and used, and the inkjet resist material was attached to the plate mold substrate under the condition that the amount of droplets discharged from the discharge nozzle was 2 pl to 15 pl. Then, the inkjet resist adhesion film formed on the plate mold substrate was irradiated with ultraviolet light to chemically react the inkjet resist material, and then, heating and burning were performed at 120°C for 10 minutes to form the hardened desired area inkjet resist convex upper surface hardened film 3a, the desired area inkjet resist convex side surface hardened film 3b, and the desired area inkjet resist concave bottom surface hardened film 3c. In this way, the desired area inkjet resist hardened film 3 was formed.
The thickness of the cured inkjet resist film in the desired area ranged from about 0.03 mm to about 0.05 mm.

本工程において、インクジェットレジスト材は、既成複数凹凸部凸部側面451b(既成複数凹凸部凹部側面452b)から流れ落ちることなく、既成複数凹凸部凸部側面451b(既成複数凹凸部凹部側面452b)に良好に付着するとともに、既成複数凹凸部凸部上面451aと複数の既成複数凹凸部凹部底面452cにも良好に付着形成され、更に、所望の領域に硬化された所望領域インクジェットレジスト凸部上面硬化膜3aと所望領域インクジェットレジスト凸部側面硬化膜3bと所望領域インクジェットレジスト凹部底面硬化膜3cとが形成されていることを確認した。In this process, the inkjet resist material adheres well to the convex portion side surface 451b (concave portion side surface 452b) of the pre-formed multiple uneven portions without flowing off from the pre-formed multiple uneven portion convex portion side surface 451b (concave portion side surface 452b of the pre-formed multiple uneven portion), and also adheres well to the convex portion upper surfaces 451a of the pre-formed multiple uneven portions and the concave bottom surfaces 452c of the pre-formed multiple uneven portions; further, it was confirmed that a hardened film 3a of the desired region inkjet resist convex portion upper surface, a hardened film 3b of the side surface of the desired region inkjet resist convex portion, and a hardened film 3c of the desired region inkjet resist concave portion bottom surface were formed in the desired region.

(C)腐蝕エッチング工程.
図1の(C)に示されるように、所望領域インクジェットレジスト凸部上面硬化膜3aと、所望領域インクジェットレジスト凸部側面硬化膜3bと所望領域インクジェットレジスト凹部底面硬化膜3cとを形成した版型用基板1の表面にエッチング液(塩化第二鉄水溶液)をパドル吹上方式で接触して、所望領域インクジェットレジスト硬化膜が付着されていない版型用基板第二領域表面12を深さ寸法(D12)が約1.9mmになるまでエッチングした。
これにより、既成複数凹凸部45をエッチングすることなく、版型用基板第二領域表面12をエッチングして、エッチングされてなる凹部形状を有するインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成するとともに、既成複数凹凸部45を、該インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121から突出されてなる突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部455の形態に形成した。
(C) Corrosive Etching Process.
As shown in FIG. 1C , an etching solution (aqueous ferric chloride solution) was brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1, on which the desired region inkjet resist convex portion top surface hardened film 3a, the desired region inkjet resist convex portion side surface hardened film 3b, and the desired region inkjet resist concave portion bottom surface hardened film 3c were formed, by using a paddle blow-up method, and the plate mold substrate second region surface 12, on which the desired region inkjet resist hardened film was not attached, was etched until the depth dimension (D12) became approximately 1.9 mm.
As a result, the second area surface 12 of the plate mold substrate is etched without etching the pre-formed multiple concave-convex portions 45, thereby forming an inkjet resist film etched second concave-forming portion 121 having an etched concave shape, and the pre-formed multiple concave-convex portions 45 are formed into the form of an inkjet film etched pre-formed multiple concave-convex portion protrusion portion 455 having a protruding shape protruding from the inkjet resist film etched second concave-forming portion 121.

(D)所望領域インクジェットレジスト硬化膜除去工程.
図1の(D-b)に示されるように、所望領域インクジェットレジスト凸部上面硬化膜3aと所望領域インクジェットレジスト凸部側面硬化膜3bと所望領域インクジェットレジスト凹部底面硬化膜3cを市販されている汎用の慣用レジスト除去剤(苛性ソータ水溶液、又は、水酸化ナトリウム水溶液)を使用して除去した。
(D) Removal process of hardened inkjet resist film from desired area.
As shown in FIG. 1 (D-b), the cured film 3a on the top surface of the inkjet resist convex portion in the desired region, the cured film 3b on the side surface of the inkjet resist convex portion in the desired region, and the cured film 3c on the bottom surface of the inkjet resist concave portion in the desired region were removed using a commercially available general-purpose conventional resist remover (caustic soda solution or sodium hydroxide solution).

このようにして、凹凸形状で形成された既成複数凹凸部45をエッチングすることなく、版型用基板第二領域表面12をエッチングしてなるインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成するとともに、複数の既成複数凹凸部凸部451と複数の既成複数凹凸部凹部452を有する既成複数凹凸部45を備えた版型用基板第一領域表面11が、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の底面から突出してなる突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部455の形態に形成されてなる形態に調製した。In this manner, the second concave-convex portion 121 is formed by etching the second region surface 12 of the substrate for the mold without etching the pre-formed multiple concave-convex portion 45 formed in an uneven shape, and the first region surface 11 of the substrate for the mold having the pre-formed multiple concave-convex portion 45 having a plurality of pre-formed multiple concave-convex portion convex portions 451 and a plurality of pre-formed multiple concave-convex portion concave portions 452 is formed in the form of the inkjet film etched pre-formed multiple concave-convex portion protrusion portion 455 having a protruding shape protruding from the bottom surface of the second concave-convex portion 121 of the inkjet resist film etched.

なお、図1(D)に示されるように、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の深さ寸法「D12」は1.9mmであり、複数の既成複数凹凸部凸部451の高さ寸法「D1」と複数の既成複数凹凸部凹部452の深さ寸法「D1」は互いに同じ領域を示すものであって、それぞれの初期の寸法を維持して、0.9mmであった。このようにして、押圧加工用版を製造した。1D, the depth dimension "D12" of the inkjet resist film etching second recess forming portion 121 is 1.9 mm, and the height dimension "D1" of the multiple existing multiple concave-convex portions 451 and the depth dimension "D1" of the multiple existing multiple concave-convex portions 452 indicate the same area, and each initial dimension is maintained, being 0.9 mm. In this way, the pressing plate was manufactured.

以上のように、本実施例において、従来慣用のレジスト材を使用して、版型用基板の版型用基板第一領域表面11に高さ寸法「D1」の既成複数凹凸部凸部451と深さ寸法「D1」の既成複数凹凸部凹部452とを有する既成複数凹凸部45を形成した版型用基板1を調製し、その既成複数凹凸部45を形成した版型用基板1を使用するとともにインクジェットレジスト材を使用して、腐蝕エッチングを行って、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成し、これにより、凹凸形状で形成された「ABCDE模様」を有する既成複数凹凸部45が、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の底面から突出してなる突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部455に形成されてなる形態に調製した。As described above, in this embodiment, a conventional resist material was used to prepare a plate mold substrate 1 having a pre-formed multiple uneven portion 45 formed on the plate mold substrate first area surface 11 of the plate mold substrate, the pre-formed multiple uneven portion 45 having a pre-formed multiple uneven portion convex portion 451 with a height dimension "D1" and a pre-formed multiple uneven portion concave portion 452 with a depth dimension "D1". The plate mold substrate 1 having the pre-formed multiple uneven portion 45 formed thereon was used together with an inkjet resist material to perform corrosion etching to form an inkjet resist film corrosion second concave forming portion 121, thereby preparing a form in which the pre-formed multiple uneven portions 45 having an "ABCDE pattern" formed in an uneven shape are formed into inkjet film corrosion pre-formed multiple uneven portion protrusion portion 455 having a protruding shape protruding from the bottom surface of the inkjet resist film corrosion second concave forming portion 121.

なお、本実施例において、所望の形状精度や寸法精度を有する既成複数凹凸部45を有するとともに、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の底面から突出してなる突出形状を有する所望のインクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部455が形成されていることを確認した。
また、所望の既成複数凹凸部凸部側面451b(既成複数凹凸部凹部側面452b)には、窪んだ状態でエッチングされたサイドエッチング現象が生じていなく、所望の形状精度や寸法精度を有することを確認した。
In addition, in this embodiment, it was confirmed that the desired inkjet film corrosion pre-formed multiple uneven portions 45 having the desired shape accuracy and dimensional accuracy were formed, and the desired inkjet film corrosion pre-formed multiple uneven portion protrusion portion 455 having a protruding shape protruding from the bottom surface of the inkjet resist film corrosion second recess formation portion 121 was formed.
Furthermore, it was confirmed that the side surface 451b of the convex portion of the pre-formed multiple concave-convex portion (side surface 452b of the pre-formed multiple concave-convex portion) does not suffer from the side etching phenomenon in which the portion is etched in a recessed state, and has the desired shape accuracy and dimensional accuracy.

<実施例1B(押圧加工用版としての平板型版・型押用版の製造B)>
本実施例は、前述の「従属構成3」に類似する押圧加工用版の製造方法であり、図2に示される押圧加工用版であって、凹部から突出した凸部の表面に「ABCDE模様」の図文字絵柄模様が凸形状で形成された押圧加工用版の製造方法である。本押圧加工用版は平板型版、型押用版として使用される。
なお、本実施例において、インクジェットレジスト材を使用して、既成複数凹凸部45を形成し、その既成複数凹凸部45を形成した版型用基板の表面に、インクジェットレジスト材を使用して、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成するとともに、「既成複数凹凸部45がインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の底面から突出してなる突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部455に形成されてなる形態に調製した。
以下に本実施例を詳細に説明する。
<Example 1B (Production of flat plate mold/embossing plate as pressing plate B)>
This embodiment is a method for manufacturing a pressing plate similar to the above-mentioned "subordinate configuration 3", and is a method for manufacturing a pressing plate shown in Fig. 2, in which a graphic picture pattern of "ABCDE pattern" is formed in a convex shape on the surface of the convex portion protruding from the concave portion. This pressing plate is used as a flat plate and an embossing plate.
In this embodiment, an inkjet resist material is used to form pre-formed multiple concave-convex portions 45, and an inkjet resist film etched second concave-forming portion 121 is formed on the surface of the plate mold substrate on which the pre-formed multiple concave-convex portions 45 are formed, using an inkjet resist material, and the pre-formed multiple concave-convex portions 45 are formed into inkjet film etched pre-formed multiple concave-convex portion protrusions 455 having a protruding shape protruding from the bottom surface of the inkjet resist film etched second concave-forming portion 121.
This embodiment will be described in detail below.

(A)既成複数凹凸部45を有する版型用基板第一領域表面11と版型用基板第二領域表面12を備えた版型用基板1を調製し、供給する工程.
平面表面形状を有する版型用基板第一領域表面11と平面表面形状を有する版型用基板第二領域表面12を備えた平面表面形状を有する版型用基板1を準備した。版型用基板1は、真鍮製であって、厚さ「h」7mm、横幅125mm、縦幅90mmの略平板形状を有する。
(A) A step of preparing and supplying a plate mold substrate 1 having a plate mold substrate first area surface 11 and a plate mold substrate second area surface 12 having a preformed multiple concave and convex portions 45.
A plate mold substrate 1 having a planar surface shape was prepared, which includes a plate mold substrate first region surface 11 having a planar surface shape and a plate mold substrate second region surface 12 having a planar surface shape. The plate mold substrate 1 is made of brass and has a generally flat plate shape with a thickness "h" of 7 mm, a width of 125 mm, and a length of 90 mm.

次に、版型用基板1の表面に、インクジェッレジスト材を使用して、インクジェット方式で付着して「ABCD模様の図文字絵柄模様」を有するインクジェットレジスト付着膜を形成した。
本工程において、マイクロクラフト社製のオンデマンド・インクジェット印刷システム装置を使用した。インクジェットレジスト材としては、市販されているインクジェットレジスト材のうち、前述の実施例1Aの(B)工程で使用したインクジェットレジスト材と同じであって、紫外線照射により化学反応して3次元化学構造に架橋する性質を有するとともに、「10mPa・s~20mPa・s(25℃)の粘度のインクジェットレジスト(前述の実施例1Aの(B)工程で使用したものと同じインクジェットレジスト材)」を選択して使用し、吐出ノズルから吐出される液滴量が2pl~15plの条件で付着した。そして、版型用基板に付着形成された上記のインクジェットレジスト付着膜に紫外線を照射し、その後、120℃で10分間のバーニングを行って、所望のABCDE模様であって模様図柄を有する硬化されたインクジェットレジスト硬化膜を形成した。
このようにして、ABCD模様の図文字絵柄模様を有するインクジェットレジスト硬化膜を形成した。インクジェットレジスト硬化膜の厚さは約0.03~約0.05mmの範囲であった。
Next, an inkjet resist material was applied to the surface of the plate mold substrate 1 by an inkjet method to form an inkjet resist film having an "ABCD graphic letter pattern."
In this step, an on-demand inkjet printing system device manufactured by Microcraft was used. As the inkjet resist material, among commercially available inkjet resist materials, the same inkjet resist material used in the step (B) of the above-mentioned Example 1A was selected and used, which has the property of chemically reacting with ultraviolet light irradiation to crosslink into a three-dimensional chemical structure, and has a viscosity of 10 mPa·s to 20 mPa·s (25°C) (the same inkjet resist material used in the step (B) of the above-mentioned Example 1A), and was attached under the condition that the amount of droplets discharged from the discharge nozzle was 2 pl to 15 pl. Then, the inkjet resist film formed and attached to the plate mold substrate was irradiated with ultraviolet light, and then burning was performed at 120°C for 10 minutes to form a cured inkjet resist film having a desired ABCDE pattern and a pattern design.
In this manner, an inkjet resist film having an ABCD graphic pattern was formed. The thickness of the inkjet resist film ranged from about 0.03 to about 0.05 mm.

インクジェットレジスト硬化膜を形成した版型用基板1の表面に市販されている慣用のエッチング液(塩化第二鉄水溶液)を接触して、レジスト硬化膜が付着されていない版型用基板の表面を深さ「D1」が約0.9mmになるまでエッチングして、版型用基板に複数の既成複数凹凸部凸部451と複数の既成複数凹凸部凹部452とを有する既成複数凹凸部45を形成した。A commercially available conventional etching solution (aqueous ferric chloride solution) was brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the inkjet resist cured film had been formed, and the surface of the plate mold substrate to which the resist cured film had not been attached was etched until the depth "D1" reached approximately 0.9 mm, thereby forming a pre-formed multiple concave-convex portion 45 having a plurality of pre-formed multiple concave-convex portion convex portions 451 and a plurality of pre-formed multiple concave-convex portion concave portions 452 on the plate mold substrate.

次に、市販されている慣用のレジスト除去剤を使用して、インクジェットレジスト硬化膜を除去した。
なお、以上に記載の既成複数凹凸部45を形成する工程を説明する図は、図2には図示されていない。
The hardened inkjet resist film was then removed using a conventional commercially available resist remover.
It should be noted that the diagrams for explaining the process of forming the preformed multiple concave-convex portions 45 described above are not shown in FIG.

このようにして、図2(A)に示されるような版型用基板に版型用基板1の版型用基板第一領域表面11に複数の既成複数凹凸部凸部451と複数の既成複数凹凸部凹部452とを有する既成複数凹凸部45を形成した。
それぞれの既成複数凹凸部凹部452の深さ「D1」は約0.9mmであり、既成複数凹凸部凸部451の高さは既成複数凹凸部凹部452の深さに相当する約0.9mmであった。
このようにして、図2の(A-b)の黒色で示される図文字絵柄模様(ABCDE模様)と、白色で示される複数の既成複数凹凸部凹部452を有する版型用基板1を調製し、供給した。
In this manner, a preformed multiple uneven portion 45 having a plurality of preformed multiple uneven portion convex portions 451 and a plurality of preformed multiple uneven portion concave portions 452 was formed on the first region surface 11 of the plate mold substrate 1 as shown in Figure 2 (A).
The depth "D1" of each of the existing multiple concave-convex portions 452 was approximately 0.9 mm, and the height of the existing multiple concave-convex portions 451 was approximately 0.9 mm, which corresponds to the depth of the existing multiple concave-convex portions 452.
In this manner, a plate mold substrate 1 having a graphic character design (ABCDE pattern) shown in black in FIG. 2 (A-b) and a plurality of preformed concave portions 452 shown in white was prepared and supplied.

(B)所望領域インクジェットレジスト硬化膜形成工程.
図2の(B)に示されるように、複数の既成複数凹凸部凸部上面451aと複数の既成複数凹凸部凸部側面451bと複数の既成複数凹凸部凹部底面452cと複数の既成複数凹凸部凹部側面452bを覆って、インクジェットレジスト材2をインクジェット方式で付着して、インクジェットレジスト凸部上面付着膜とインクジェットレジスト凸部側面付着膜とインクジェット凹部底面着膜を形成した。ここで、既成複数凹凸部45の周囲領域に位置する版型用基板第二領域表面12にはインクジェットレジスト材2は付着されない。
その後、インクジェットレジスト凸部上面付着膜とインクジェットレジスト凸部側面付着膜とインクジェット凹部底面着膜を硬化して、所望領域インクジェットレジスト凸部上面硬化膜3aと所望領域インクジェットレジスト凸部側面硬化膜3bと所望領域インクジェットレジスト凹部底面硬化膜3cを有する所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成した。
なお、所望領域インクジェットレジスト凸部側面硬化膜3bと所望領域インクジェットレジスト凹部側面硬化膜とは互いに同じ側面硬化膜に相当する。
(B) Step of forming a hardened inkjet resist film in a desired area.
2B, the inkjet resist material 2 is applied by the inkjet method to cover the multiple previously formed multiple concave-convex portion convex portion top surfaces 451a, the multiple previously formed multiple concave-convex portion convex portion side surfaces 451b, the multiple previously formed multiple concave-convex portion concave bottom surfaces 452c, and the multiple previously formed multiple concave-convex portion concave side surfaces 452b, forming an inkjet resist convex portion top surface attachment film, an inkjet resist convex portion side surface attachment film, and an inkjet concave portion bottom surface attachment film. Here, the inkjet resist material 2 is not applied to the second region surface 12 of the plate mold substrate located in the peripheral region of the previously formed multiple concave-convex portions 45.
Thereafter, the film adhered to the top surfaces of the inkjet resist convex portions, the film adhered to the side surfaces of the inkjet resist convex portions, and the film adhered to the bottom surface of the inkjet resist concave portions were hardened to form a desired region inkjet resist hardened film 3 having a desired region inkjet resist top surface hardened film 3a, a desired region inkjet resist side surface hardened film 3b, and a desired region inkjet resist bottom surface hardened film 3c.
The cured film 3b on the side surface of the convex portion of the desired region inkjet resist and the cured film on the side surface of the concave portion of the desired region inkjet resist correspond to the same lateral surface cured film.

なお、マイクロクラフト社製のオンデマンド・インクジェット印刷システム装置を使用した。インクジェットレジスト材としては、市販されているインクジェットレジスト材のうち、市販されているインクジェットレジスト材のうち、前述の実施例1Aの(B)工程で使用したインクジェットレジスト材と同じであって、紫外線照射により化学反応して3次元化学構造に架橋する性質を有するとともに、「10mPa~20mPa・s(25℃)の粘度のインクジェットレジスト材(前述の実施例1Aの(B)工程、本実施例2Bの(A)工程で使用したものと同じインクジェットレジスト材)」を選択して使用し、吐出ノズルから吐出される液滴量が2pl~15plの条件で付着した。そして、版型用基板に付着形成された上記のインクジェットレジスト付着膜に紫外線を照射し、その後、120℃で10分間のバーニングを行って、硬化された所望領域インクジェットレジスト凸部上面硬化膜3aと所望領域インクジェットレジスト凸部側面硬化膜3bと所望領域インクジェットレジスト凹部底面硬化膜3cを形成した。
所望領域インクジェットレジスト硬化膜3の厚さは約0.03~約0.05mmの範囲であった。
An on-demand inkjet printing system device manufactured by Microcraft was used. As the inkjet resist material, among commercially available inkjet resist materials, the inkjet resist material used in the step (B) of the above-mentioned Example 1A was selected and used, which has a property of chemically reacting with ultraviolet light irradiation to crosslink into a three-dimensional chemical structure, and has a viscosity of 10 mPa to 20 mPa·s (25°C) (the same inkjet resist material used in the step (B) of the above-mentioned Example 1A and the step (A) of this Example 2B), and was attached under the condition that the amount of droplets discharged from the discharge nozzle was 2 pl to 15 pl. Then, the inkjet resist adhesion film formed on the plate mold substrate was irradiated with ultraviolet light, and then burning was performed at 120°C for 10 minutes to form a hardened film 3a on the top surface of the inkjet resist convex portion in the desired area, a hardened film 3b on the side surface of the inkjet resist convex portion in the desired area, and a hardened film 3c on the bottom surface of the inkjet resist concave portion in the desired area.
The thickness of the desired area inkjet resist cured film 3 was in the range of about 0.03 to about 0.05 mm.

本工程において、インクジェットレジスト材は、既成複数凹凸部凸部側面451b(既成複数凹凸部凹部側面452b)から流れ落ちることなく、既成複数凹凸部凸部側面451b(既成複数凹凸部凹部側面452b)に良好に付着するとともに、既成複数凹凸部凸部上面451aと複数の既成複数凹凸部凹部底面452cにも良好に付着形成され、更に、所望の領域に硬化された所望領域インクジェットレジスト凸部上面硬化膜3aと所望領域インクジェットレジスト凸部側面硬化膜3bと所望領域インクジェットレジスト凹部底面硬化膜3cとが形成されていることを確認した。In this process, the inkjet resist material adheres well to the convex portion side surface 451b (concave portion side surface 452b) of the pre-formed multiple uneven portions without flowing off from the pre-formed multiple uneven portion convex portion side surface 451b (concave portion side surface 452b of the pre-formed multiple uneven portion), and also adheres well to the convex portion upper surfaces 451a of the pre-formed multiple uneven portions and the concave bottom surfaces 452c of the pre-formed multiple uneven portions; further, it was confirmed that a hardened film 3a of the desired region inkjet resist convex portion upper surface, a hardened film 3b of the side surface of the desired region inkjet resist convex portion, and a hardened film 3c of the desired region inkjet resist concave portion bottom surface were formed in the desired region.

(C)腐蝕エッチング工程.
図2の(C)に示されるように、所望領域インクジェットレジスト凸部上面硬化膜3aと、所望領域インクジェットレジスト凸部側面硬化膜3bと所望領域インクジェットレジスト凹部底面硬化膜3cとを形成した版型用基板1の表面に市販されている慣用のエッチング液(塩化第二鉄水溶液)をパドル吹上方式で接触して、所望領域インクジェットレジスト硬化膜が付着されていない版型用基板第二領域表面12を深さ寸法「D12」が約1.9mmになるまでエッチングした。
これにより、既成複数凹凸部45をエッチングすることなく、版型用基板第二領域表面12をエッチングして、エッチングされてなる凹部形状を有するインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成するとともに、既成複数凹凸部45を、該インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121から突出されてなる突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部455の形態に形成した。
(C) Corrosive Etching Process.
As shown in FIG. 2C , a commercially available conventional etching solution (aqueous ferric chloride solution) was brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1, on which the desired region inkjet resist convex portion top surface cured film 3a, the desired region inkjet resist convex portion side surface cured film 3b, and the desired region inkjet resist concave portion bottom surface cured film 3c were formed, using a paddle blow-up method to etch the plate mold substrate second region surface 12, on which the desired region inkjet resist cured film was not attached, until the depth dimension "D12" became approximately 1.9 mm.
As a result, the second area surface 12 of the plate mold substrate is etched without etching the pre-formed multiple concave-convex portions 45, thereby forming an inkjet resist film etched second concave-forming portion 121 having an etched concave shape, and the pre-formed multiple concave-convex portions 45 are formed into the form of an inkjet film etched pre-formed multiple concave-convex portion protrusion portion 455 having a protruding shape protruding from the inkjet resist film etched second concave-forming portion 121.

(D)所望領域インクジェットレジスト硬化膜除去工程.
図2の(D-b)に示されるように、所望領域インクジェットレジスト凸部上面硬化膜3aと所望領域インクジェットレジスト凸部側面硬化膜3bと所望領域インクジェットレジスト凹部底面硬化膜3cを市販されている慣用のレジスト除去剤(苛性ソータ水溶液、又は、水酸化ナトリウム水溶液)を使用して除去した。
(D) Removal process of hardened inkjet resist film from desired area.
As shown in FIG. 2 (D-b), the cured film 3a on the top surface of the inkjet resist convex portion in the desired region, the cured film 3b on the side surface of the inkjet resist convex portion in the desired region, and the cured film 3c on the bottom surface of the inkjet resist concave portion in the desired region were removed using a commercially available conventional resist remover (aqueous caustic soda solution or aqueous sodium hydroxide solution).

このようにして、凹凸形状で形成された「ABCDE模様」を有する既成複数凹凸部45をエッチングすることなく、版型用基板第二領域表面12をエッチングしてなるインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成するとともに、複数の既成複数凹凸部凸部451と複数の既成複数凹凸部凹部452を有する既成複数凹凸部45を備えた版型用基板第一領域表面11が、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の底面から突出してなる突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部455に形成されてなる形態に調製した。In this manner, the second concave-convex portion 121 formed by etching the second region surface 12 of the substrate for the mold is formed without etching the pre-formed multiple concave-convex portion 45 having the "ABCDE pattern" formed in an uneven shape, and the first region surface 11 of the substrate for the mold having the pre-formed multiple concave-convex portion 45 having a plurality of pre-formed multiple concave-convex portion convex portions 451 and a plurality of pre-formed multiple concave-convex portion concave portions 452 is formed into an inkjet film etched pre-formed multiple concave-convex portion protrusion portion 455 having a protruding shape protruding from the bottom surface of the second concave-convex portion 121 of the inkjet resist film etched.

なお、図2(D)に示されるように、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の深さ寸法「D12」は1.9mmであり、複数の既成複数凹凸部凸部451の高さ寸法「D1」と複数の既成複数凹凸部凹部452の深さ寸法は互いに同じ領域を示すものであって、それぞれの初期の寸法を維持して、0.9mmであった。
このようにして、押圧加工用版を製造した。
As shown in FIG. 2(D), the depth dimension "D12" of the inkjet resist film etched second recess formation portion 121 is 1.9 mm, and the height dimension "D1" of the multiple existing multiple uneven portion convex portions 451 and the depth dimension of the multiple existing multiple uneven portion concave portions 452 indicate the same area, and each maintains its initial dimension, being 0.9 mm.
In this manner, a pressing plate was produced.

以上のように、本実施例においては、インクジェットレジスト材を使用して、版型用基板の版型用基板第一領域表面11に高さ寸法D1の既成複数凹凸部凸部451と深さ寸法D既成複数凹凸部凹部452とを有する既成複数凹凸部45を形成した版型用基板1を調製し、その既成複数凹凸部45を形成した版型用基板1を使用するとともにインクジェットレジスト材を使用して、腐蝕エッチングを行って、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成し、これにより、「既成複数凹凸部45がインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の底面から突出してなる突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部455に形成されてなる形態に調製した。As described above, in this embodiment, an inkjet resist material is used to prepare a plate mold substrate 1 on which a pre-formed multiple uneven portion 45 having a pre-formed multiple uneven portion convex portion 451 with a height dimension D1 and a pre-formed multiple uneven portion concave portion 452 with a depth dimension D is formed on the plate mold substrate first area surface 11 of the plate mold substrate. The plate mold substrate 1 on which the pre-formed multiple uneven portions 45 are formed is used together with an inkjet resist material to perform corrosion etching to form an inkjet resist film corrosion second concave formation portion 121, thereby preparing a form in which "the pre-formed multiple uneven portions 45 are formed into inkjet film corrosion pre-formed multiple uneven portion protrusion portions 455 having a protruding shape protruding from the bottom surface of the inkjet resist film corrosion second concave formation portion 121."

なお、本実施例において、所望の形状精度や寸法精度を有する所望の既成複数凹凸部45を有するとともに、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の底面から突出してなる突出形状を有する所望のインクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部455が形成されていることを確認した。
また、所望の既成複数凹凸部凸部側面451b(既成複数凹凸部凹部側面452bには窪んだ状態でエッチングされたサイドエッチング現象が生じていなく、所望の形状精度や寸法精度を有することを確認した。
In addition, in this embodiment, it was confirmed that the desired pre-formed multiple uneven portions 45 having the desired shape accuracy and dimensional accuracy were formed, and the desired inkjet film etched pre-formed multiple uneven portion protrusion portion 455 having a protruding shape protruding from the bottom surface of the inkjet resist film etched second recess formation portion 121 was formed.
In addition, it was confirmed that the side etching phenomenon in which the desired convex portion side surface 451 b of the already-formed multiple concave-convex portion (the concave portion side surface 452 b of the already-formed multiple concave-convex portion) was etched in a recessed state did not occur, and that the desired shape accuracy and dimensional accuracy were obtained.

<実施例1B-a(実施例1Bの押圧加工用版を使用した被加工物の加工)>
本実施例は、上記の実施例1Bにおいて製造した押圧加工用版10を、平圧加圧式加工装置の型押用版10として使用して、被加工物108としての紙製シート108を型押し加工するものである。
下記の工程によって被加工物を型押加工した。
(S-a)実施例1Bにおいて製造した既成凹凸部4を形成した押圧加工用版10としての型押用版10を準備した。
(S-b)図16(A)に示されるように、互いに対向する第一基盤92と第二基盤93を備えた押圧加工装置を準備した。
(S-d)別途調製した滑らかな凹凸を有しない平面を有するステンレス製の受版94を、押圧加工装置の第二基盤93に設置した。
(S-e)この状態で、押圧加工用版10(型押用版)と受版94との間に、被加工物108としての厚さ約1.5mmの紙製シート108を位置し、その状態で、慣用の駆動方法により第一基盤92と第二基盤93のうちの少なくとも一つの基盤を駆動して、押圧加工用版10と受版94とが被加工物108を押圧した。
これにより、被加工物108の表面に、既成凹凸部4の凹凸形状に一致する凹凸形状を有する被加工物凹凸形成部を形成した。
(S-f)押圧加工用版10(型押用版)と受版94のうちの少なくとも一つの基盤を駆動して、押圧加工用版10(型押用版)と受版94とを互いに離反して、被加工物への押圧を解除した。
これにより、被加工物108としての紙製シート108に、既成凹凸部4に凹凸形状で形成されている図文字絵柄模様に一致した図文字絵柄模様を有する約0.9mm深さの凹凸形状のエンボス形状で形成された加工物を調製した。
<Example 1B-a (Processing of workpiece using the pressing plate of Example 1B)>
In this embodiment, the pressing plate 10 manufactured in the above-mentioned embodiment 1B is used as the embossing plate 10 of a flat pressure type processing device to emboss a paper sheet 108 as a workpiece 108.
The workpiece was embossed according to the following steps:
(Sa) An embossing plate 10 was prepared as the pressing plate 10 having the preformed uneven portion 4 formed thereon, which was manufactured in Example 1B.
(Sb) As shown in FIG. 16(A), a pressing device having a first base 92 and a second base 93 facing each other was prepared.
(Sd) A separately prepared stainless steel receiving plate 94 having a smooth flat surface without irregularities was placed on the second base 93 of the pressing device.
(S-e) In this state, a paper sheet 108 having a thickness of approximately 1.5 mm was positioned as the workpiece 108 between the pressing plate 10 (embossing plate) and the receiving plate 94, and in this state, at least one of the first base 92 and the second base 93 was driven by a conventional driving method, so that the pressing plate 10 and the receiving plate 94 pressed the workpiece 108.
As a result, a workpiece unevenness-forming portion having an uneven shape that matches the uneven shape of the existing uneven portion 4 was formed on the surface of the workpiece 108.
(S-f) At least one of the bases of the pressing plate 10 (embossing plate) and the receiving plate 94 was driven to move the pressing plate 10 (embossing plate) and the receiving plate 94 away from each other, thereby releasing the pressure on the workpiece.
This resulted in the preparation of a processed product in which a paper sheet 108 serving as the workpiece 108 was embossed with a concave-convex shape of approximately 0.9 mm depth having a graphic character pattern that matched the graphic character pattern formed in a concave-convex shape on the existing concave-convex portion 4.

本被加工物の加工方法の実施例において、被加工物108としての紙製シート108に、何らの異常が発生することなく、所望の形状精度や寸法精度を有する凹凸形状で形成された「ABCDE模様」の図文字絵柄模様を形成した加工物が得られた。加工物に形成された「ABCDE模様」の図文字絵柄模様は、異常なく、所望の約0.9mmの段差を有する凹凸で形成されてなることを確認した。In the embodiment of the method for processing the workpiece, a workpiece was obtained in which a graphic picture pattern of "ABCDE pattern" formed with a concave-convex shape having the desired shape accuracy and dimensional accuracy was formed on the paper sheet 108 as the workpiece 108 without any abnormality. It was confirmed that the graphic picture pattern of "ABCDE pattern" formed on the workpiece was formed with concave-convex shapes having a step of about 0.9 mm as desired without any abnormality.

<比較例1A(従来の慣用液状レジスト材を使用した押圧加工用版の製造)>
本比較例は、上記の実施例1Aの「(B)所望領域インクジェットレジスト硬化膜形成工程」において、インクジェットレジスト材に替えて、従来の慣用液状レジスト材を使用した押圧加工用版の製造方法である。
本比較例の製造工程を説明するための模式的概略図が図12、図13に示される。
図12、図13は、従来の押圧加工用版の製造方法の製造工程を説明するための模式的概略図である。
Comparative Example 1A (Production of a press-processing plate using a conventional liquid resist material)
This comparative example is a method for manufacturing a press processing plate using a conventional liquid resist material instead of the inkjet resist material in the "(B) Desired area inkjet resist hardened film forming step" of Example 1A above.
12 and 13 are schematic diagrams illustrating the manufacturing process of this comparative example.
12 and 13 are schematic diagrams for explaining the manufacturing steps of a conventional method for manufacturing a pressing plate.

(A)既成複数凹凸部45を有する版型用基板第一領域表面11と版型用基板第二領域表面12を備えた版型用基板1を調製し、供給する工程.
図12の(A)に示されるような、版型用基板の材質及び形状は実施例1Aと同じであって、ステンレス製であって、厚さ7.0mm、横幅125mm、縦幅90mmの略平板形状を有する版型用基板を準備した。
図12の(B)に示されるような、前述の実施例1Aの(A)工程と同じ方法により、従来の汎用の慣用液状レジスト材(前述の実施例1Aの(A)工程で使用した液状レジスト材と同じであって、製版、プリント基板の腐蝕エッチングのために汎用に使用されている慣用の液状レジスト材)を使用して、スプレーコート方式により約0.02mm~約0.04mmの厚さで付着し、乾燥し、レジスト付着膜を形成し、光透過用の貫通孔を有する所望の露光用マスク部材を介してレジスト付着膜に紫外線を照射し、アフターベーキング、現像、等の工程により、所望の図文字絵柄模様(ABCDE模様)を有するレジスト硬化膜を形成した。
その後、レジスト硬化膜を形成した版型用基板をエッチング液により腐蝕エッチングして、既成複数凹凸部凸部451と既成複数凹凸部凹部452とを有する既成複数凹凸部45を形成した。
このようにして、図12(B)に示されるような版型用基板第一領域表面11に既成複数凹凸部45を形成した版型用基板を調製した。
調製した版型用基板の材質及び形状は実施例1Aと同じであって、の高さ寸法D1(既成複数凹凸部凹部452の深さ寸法D1)は実施例1と同じ0.9mmであった。
版型用基板第二領域表面12は凹凸のない無凹凸部を有し、版型用基板第一領域表面11は既成凹凸部4を有し、既成凹凸部4は既成複数凹凸部45を有し、既成複数凹凸部45は複数の凸形状で形成された複数の既成複数凹凸部凸部451と、複数の凹形状で形成された複数の有し、複数の既成複数凹凸部凸部451は複数の既成複数凹凸部凸部上面451aと複数の既成複数凹凸部凸部側面451bを有し、複数の既成複数凹凸部凹部452は複数の既成複数凹凸部凹部底面452cと複数の既成複数凹凸部凹部側面452bを有する。
なお、複数の既成複数凹凸部凸部側面451bと複数の既成複数凹凸部凹部側面452bとは互いに同じ側面を意味する。
(A) A step of preparing and supplying a plate mold substrate 1 having a plate mold substrate first area surface 11 and a plate mold substrate second area surface 12 having a preformed multiple concave and convex portions 45.
As shown in FIG. 12A, the material and shape of the plate mold substrate were the same as those of Example 1A. A plate mold substrate was prepared which was made of stainless steel and had an approximately flat plate shape with a thickness of 7.0 mm, a width of 125 mm, and a length of 90 mm.
As shown in FIG. 12B, by the same method as in step (A) of Example 1A described above, a conventional general-purpose common liquid resist material (the same liquid resist material used in step (A) of Example 1A described above, a common liquid resist material generally used for plate making and etching of printed circuit boards) was applied to a thickness of about 0.02 mm to about 0.04 mm by a spray coating method, dried to form a resist deposition film, irradiated with ultraviolet rays through a desired exposure mask member having through holes for light transmission, and by steps such as after-baking and development, a resist hardened film having a desired pictorial pattern (ABCDE pattern) was formed.
Thereafter, the plate-form substrate on which the hardened resist film was formed was corroded and etched with an etching solution to form a preformed multiple concave-convex portion 45 having a preformed multiple concave-convex portion convex portion 451 and a preformed multiple concave-convex portion concave portion 452 .
In this manner, a plate mold substrate having a plurality of preformed projections and recesses 45 formed on the first region surface 11 of the plate mold substrate as shown in FIG. 12(B) was prepared.
The material and shape of the prepared plate mold substrate were the same as those in Example 1A, and the height dimension D1 (depth dimension D1 of the preformed concave portions 452 of the multiple concave and convex portions) was 0.9 mm, the same as in Example 1.
The second area surface 12 of the substrate for the mold has a non-irregular portion with no irregularities, and the first area surface 11 of the substrate for the mold has a pre-formed irregular portion 4, and the pre-formed irregular portion 4 has pre-formed multiple irregular portions 45, and the pre-formed multiple irregular portion 45 has a plurality of pre-formed multiple irregular portion convex portions 451 formed with a plurality of convex shapes and a plurality of pre-formed multiple irregular portion convex portions 451 formed with a plurality of concave shapes, and the plurality of pre-formed multiple irregular portion convex portions 451 have a plurality of pre-formed multiple irregular portion convex portion top surfaces 451a and a plurality of pre-formed multiple irregular portion convex portion side surfaces 451b, and the plurality of pre-formed multiple irregular portion concave portions 452 have a plurality of pre-formed multiple irregular portion concave portion bottom surfaces 452c and a plurality of pre-formed multiple irregular portion concave portion side surfaces 452b.
In addition, the multiple convex portion side surfaces 451b of the existing multiple concave-convex portions and the multiple concave-convex portion side surfaces 452b of the existing multiple concave-convex portions refer to the same side surfaces.

(B)従来の慣用液状レジスト硬化膜形成工程.
複数の既成複数凹凸部凸部上面451aと複数の既成複数凹凸部凸部側面451b(複数の既成複数凹凸部凹部側面452b)と複数の既成複数凹凸部凹部底面452cとを形成した版型用基板1の表面を覆って、従来の慣用液状レジスト材20(本比較例1Aの(A)工程で使用した液状レジスト材と同じであって、紫外線照射により化学反応して3次元化学構造に架橋する性質を有し、製版、プリント基板の腐蝕エッチングのために汎用に使用されている慣用の液状レジスト材)を使用して、従来慣用のスプレーコート方式によって塗布して液状レジスト付着膜を形成した。
その後、所望の形状の露光用マスク部材(露光用マスク部材を版型用基板の表面に設置した場合に、版型用基板の版型用基板第一領域表面11に形成された「ABCDE模様」領域に相当する部分に貫通孔を有するとともに周囲領域に光遮断用部分を有する露光用マスク部材)を介して、紫外線照射露光し、その後、現像剤(炭酸ナトリウム水溶液)を使用して紫外線が照射されていない領域のレジスト付着膜を除去して現像し、その後、アフターベーキング、等の慣用の方法により、付着した慣用レジスト付着膜を硬化して、図12の(C)に示されるような、慣用レジスト凸部上面硬化膜30aと慣用レジスト凹部底面硬化膜30cを有する慣用レジスト硬化膜30を形成した。但し、既成複数凹凸部凸部側面451b(既成複数凹凸部凹部側面452b)に付着した慣用レジスト材は既成複数凹凸部凹部の底面に流れ落ちて、慣用レジスト凹部側面硬化膜は形成されなかった。
慣用レジスト硬化膜30の厚さは約0.02mm~約0.04mmの範囲であった。
(B) A conventional liquid resist hardened film forming process.
The surface of the plate mold substrate 1, on which multiple pre-formed multiple concave-convex portion convex top surfaces 451a, multiple pre-formed multiple concave-convex portion convex side surfaces 451b (multiple pre-formed multiple concave-convex portion concave side surfaces 452b), and multiple pre-formed multiple concave-convex portion concave bottom surfaces 452c were formed, was covered with a conventional liquid resist material 20 (the same liquid resist material as used in process (A) of this Comparative Example 1A, which has the property of chemically reacting when exposed to ultraviolet light and crosslinking into a three-dimensional chemical structure, and is a conventional liquid resist material that is widely used for plate making and corrosive etching of printed circuit boards) by a conventional spray coating method to form a liquid resist adhesion film.
Then, the plate was exposed to ultraviolet light through a desired shape of exposure mask member (an exposure mask member having through holes in the area corresponding to the "ABCDE pattern" area formed on the plate substrate first area surface 11 of the plate substrate when the exposure mask member is placed on the surface of the plate substrate), and then developed by removing the resist film in the area not irradiated with ultraviolet light using a developer (aqueous sodium carbonate solution), and then hardening the attached conventional resist film by a conventional method such as after-baking to form a conventional resist hardened film 30 having a conventional resist convex upper surface hardened film 30a and a conventional resist concave bottom surface hardened film 30c as shown in FIG. 12(C). However, the conventional resist material attached to the existing multiple concave-convex convex side surface 451b (existing multiple concave-convex concave side surface 452b) flowed down to the bottom surface of the existing multiple concave-convex concave, and a conventional resist concave side surface hardened film was not formed.
The thickness of the conventional resist hardened film 30 ranged from about 0.02 mm to about 0.04 mm.

この場合、版型用基板の周囲領域にレジスト硬化膜が形成されていなく、その内部領域に慣用レジスト硬化膜を有する形態のレジスト硬化膜を形成した。
また、慣用液状レジスト材は、既成複数凹凸部凸部上面451aと複数の既成複数凹凸部凹部底面452cに良好に付着形成されて、所望の領域に硬化された慣用レジスト凸部上面硬化膜30aと慣用レジスト凹部底面硬化膜30cとを良好に形成していたが、しかしながら、慣用液状レジスト材は、既成複数凹凸部凸部側面451b(既成複数凹凸部凹部側面452b)から流れ落ちて、既成複数凹凸部凸部側面451b(既成複数凹凸部凹部側面452b)には硬化膜は形成されなかった。
In this case, the cured resist film was formed in such a form that no cured resist film was formed in the peripheral region of the plate mold substrate, and a conventional cured resist film was formed in the inner region.
In addition, the conventional liquid resist material was well adhered to the convex upper surfaces 451a of the existing multiple uneven portions and the concave bottom surfaces 452c of the existing multiple uneven portions, forming a conventional resist convex upper surface hardened film 30a and a conventional resist concave bottom surface hardened film 30c that were hardened in the desired areas; however, the conventional liquid resist material flowed down from the convex side surfaces 451b of the existing multiple uneven portions (concave side surfaces 452b of the existing multiple uneven portions), and no hardened film was formed on the convex side surfaces 451b of the existing multiple uneven portions (concave side surfaces 452b of the existing multiple uneven portions).

(C)腐蝕エッチング工程.
図13の(D)に示されるように、慣用レジスト凸部上面硬化膜30aと、慣用レジスト凹部底面硬化膜30cとを形成した版型用基板1の表面にエッチング液(塩化第二鉄水溶液)をパドル吹上方式で接触して、慣用レジスト硬化膜が付着されていない版型用基板第二領域表面12を深さ寸法(D3)が約1.0mmになるまでエッチングした。この場合、既成複数凹凸部凸部側面451b(既成複数凹凸部凹部側面452b)には僅かなサイドエッチングが生じていた。
(C) Corrosive Etching Process.
As shown in Fig. 13D, an etching solution (aqueous ferric chloride solution) was applied to the surface of the plate mold substrate 1 on which the conventional resist convex upper surface hardened film 30a and the conventional resist concave bottom surface hardened film 30c were formed, by using a paddle blow-up method, and the plate mold substrate second region surface 12 on which the conventional resist hardened film was not attached was etched until the depth dimension (D3) was about 1.0 mm. In this case, slight side etching occurred on the side surface 451b of the convex portion of the existing multiple concave portions (side surface 452b of the existing multiple concave portions of the concave portions).

図13の(E)に示されるように、更にエッチングを続行して版型用基板第二領域表面12を深さ寸法(D12a)が約1.9mmになるまでエッチングした。
これにより、版型用基板第二領域表面12をエッチングして、エッチングされてなる凹部形状を有する従来慣用第二凹形成部121aを形成するとともに、既成複数凹凸部45を、該従来慣用第二凹形成部121aから突出されてなる形態を形成した。
As shown in FIG. 13(E), the etching was continued further to etch the second region surface 12 of the plate mold substrate until the depth dimension (D12a) became about 1.9 mm.
As a result, the second area surface 12 of the mold substrate was etched to form a conventional second recess forming portion 121a having an etched recess shape, and the pre-formed multiple recesses 45 were formed in a shape protruding from the conventional second recess forming portion 121a.

(D)従来慣用レジスト硬化膜除去工程.
図13の(F)に示されるように、慣用レジスト凸部上面硬化膜30aと、慣用レジスト凹部底面硬化膜30cを、汎用のレジスト除去剤(苛性ソータ水溶液、又は、水酸化ナトリウム水溶液)を使用して除去した。
(D) Conventional resist hardened film removal process.
As shown in FIG. 13F, the hardened film 30a on the top surface of the conventional resist protrusions and the hardened film 30c on the bottom surface of the conventional resist recesses were removed using a general-purpose resist remover (caustic soda solution or sodium hydroxide solution).

前述の「(C)腐蝕エッチング工程」において、硬化膜が付着形成されていない既成複数凹凸部凸部側面451b(既成複数凹凸部凹部側面452b)も腐蝕エッチングされて、図13(D)に示されるようなサイドエッチングされた既成複数凹凸部凸部側面451s(複数のサイドエッチングされた既成複数凹凸部凹部側面452s)が生じていた。すなわち、所望の形状精度や寸法精度を有する押圧加工用版を得られなかった。
このようなサイドエッチングされた既成複数凹凸部凸部側面451s(複数のサイドエッチングされた既成複数凹凸部凹部側面452s)は所望の形状ではなく、好ましくない形状であり、このようなサイドエッチングされた凹凸部を形成した押圧加工用版型を使用して被加工物を加工した場合に、所望の凹凸形状に加工された加工物が得られないという課題があり、好ましくない。
なお、サイドエッチングとは、既成複数凹凸部凸部側面451b又は既成複数凹凸部凹部側面452bが、その側面の内面側に向けて窪んだ状態でエッチングされた形状を意味し、押圧加工用版としては、好ましくない形状である。
In the above-mentioned "(C) corrosion etching step", the already-formed multiple concave-convex portion side surface 451b (already-formed multiple concave-convex portion concave side surface 452b) on which no hardened film was attached was also corroded and etched, resulting in the side-etched already-formed multiple concave-convex portion convex side surface 451s (a plurality of side-etched already-formed multiple concave-convex portion concave side surfaces 452s) as shown in Fig. 13(D). In other words, a pressing plate having the desired shape accuracy and dimensional accuracy was not obtained.
Such side-etched convex side surfaces 451s of pre-formed multiple concave-convex portions (multiple side-etched concave side surfaces 452s of pre-formed multiple concave-convex portions) are not the desired shape but are undesirable shapes, and when a pressing mold having such side-etched concave-convex portions formed therein is used to process a workpiece, there is a problem that a workpiece processed into the desired concave-convex shape cannot be obtained, which is undesirable.
In addition, side etching refers to a shape in which the convex side surface 451b of the existing multiple uneven portions or the concave side surface 452b of the existing multiple uneven portions is etched in a recessed state toward the inner surface of the side surface, and this shape is not preferable for a pressing processing plate.

<比較例1Ab(従来の慣用ドライフィルムレジスト材を使用した押圧加工用版の製造)>
上記実施例1Aの他の比較例について、下記に説明する。
本比較例1Abは、上記実施例1Aの(B)工程において、インクジェットレジスト材に替えて、従来の慣用ドライフィルムレジスト材を使用した押圧加工用版の製造方法である。
なお、本比較例の一連の工程を説明する図面は図示されていないが、一部の構成要素は上記の比較例1Aと類似し、一部の構成要素にはその構成要素の符号を付して説明する。
(A)既成複数凹凸部45を有する版型用基板第一領域表面11と版型用基板第二領域表面12を備えた版型用基板1を調製し、供給する工程.
前述の実施例1Aの(A)工程と同じ方法により、従来の慣用液状レジスト材を使用して、版型用基板第二領域表面12は凹凸のない無凹凸部を有し、版型用基板第一領域表面11は既成凹凸部4を有し、既成凹凸部4は既成複数凹凸部45を有し、(イ)既成複数凹凸部45は複数の凸形状で形成された複数の既成複数凹凸部凸部451と、複数の凹形状で形成された複数の既成複数凹凸部凹部452を有し、複数の既成複数凹凸部凸部451は複数の既成複数凹凸部凸部上面451aと複数の既成複数凹凸部凸部側面451bを有し、複数の既成複数凹凸部凹部452は複数の既成複数凹凸部凹部底面452cと複数の既成複数凹凸部凹部側面452bを有する版型用基板を調製して、準備した。
版型用基板の材質及び形状は実施例1Aと同じであって、ステンレス製であって、厚さ7.0mm、横幅125mm、縦幅90mmの略平板形状を有する。また、既成複数凹凸部凸部451の高さ寸法D1(既成複数凹凸部凹部452の深さ寸法D1)は実施例1Aと同じ0.9mmである。
<Comparative Example 1Ab (Production of a pressing plate using a conventional dry film resist material)>
Another comparative example to Example 1A will be described below.
Comparative Example 1Ab is a method for producing a press processing plate in which a conventional dry film resist material is used in place of the inkjet resist material in step (B) of Example 1A.
Although no drawings are shown to explain the series of steps in this comparative example, some components are similar to those in the above-mentioned comparative example 1A, and some components will be described by using the reference numerals of those components.
(A) A step of preparing and supplying a plate mold substrate 1 having a plate mold substrate first area surface 11 and a plate mold substrate second area surface 12 having a preformed multiple concave and convex portions 45.
Using the same method as in step (A) of the aforementioned Example 1A, using a conventional liquid resist material, a plate mold substrate was prepared and prepared in which the second region surface 12 of the plate mold substrate has a non-relief portion with no recesses or projections, the first region surface 11 of the plate mold substrate has a pre-formed recessed portion 4, and the pre-formed recessed portion 4 has a pre-formed multiple recessed portion 45, (a) the pre-formed multiple recessed portion 45 has a plurality of pre-formed multiple recessed portion convex portions 451 formed with a plurality of convex shapes and a plurality of pre-formed multiple recessed portion concave portions 452 formed with a plurality of concave shapes, the plurality of pre-formed multiple recessed portion convex portions 451 have a plurality of pre-formed multiple recessed portion convex portion top surfaces 451a and a plurality of pre-formed multiple recessed portion convex portion side surfaces 451b, and the plurality of pre-formed multiple recessed portion concave portions 452 have a plurality of pre-formed multiple recessed portion concave bottom surfaces 452c and a plurality of pre-formed multiple recessed portion concave side surfaces 452b.
The material and shape of the plate mold substrate are the same as those of Example 1A, that is, it is made of stainless steel and has a generally flat plate shape with a thickness of 7.0 mm, a width of 125 mm, and a length of 90 mm. The height dimension D1 of the convex portion 451 of the existing multiple concave-convex portion (the depth dimension D1 of the concave portion 452 of the existing multiple concave-convex portion) is 0.9 mm, the same as in Example 1A.

(B)従来慣用レジスト硬化膜形成工程.
その既成複数凹凸部45を形成した版型用基板の表面に、従来の慣用ドライフィルムレジスト材(厚さが約0.02mm~約0.04mm)を貼り付けた。この場合、版型用基板に形成された既成複数凹凸部45の複数の既成複数凹凸部凸部側面451b(既成複数凹凸部凹部側面452b)と既成複数凹凸部凹部底面452cには、ドライフィルムレジスト材が接触することなく、隙間が発生していた。ドライフィルムレジスト材としては、市販されている慣用のシート状のドライフィルムレジスト材のうちから所望の「厚さが約0.02mm~約0.04mm」を有するシート状のドライフィルムレジスト材を選択して使用した。
その従来の慣用ドライフィルムレジスト材を貼り付けた版型用基板に、露光用マスク部材(露光用マスク部材を版型用基板の表面に設置した場合に、版型用基板の版型用基板第一領域表面11に形成されたABCDE模様」領域に相当する部分に貫通孔を有するとともに周囲領域に光遮断用部分を有する露光用マスク部材)を介して、従来汎用の慣用の紫外線を照射、現像、等の慣用の工程を経て、レジスト硬化膜を形成した。
この場合、版型用基板の周囲領域にレジスト硬化膜が形成されていなく、版型用基板の内部領域の凹凸形状で形成された「ABCDE模様」領域を覆って慣用レジスト硬化膜を有する形態のレジスト硬化膜を形成した。また、内部領域に形成されたレジスト硬化膜において、既成複数凹凸部凸部側面451b(既成複数凹凸部凹部側面452b)と既成複数凹凸部凹部底面452cには、慣用レジスト硬化膜が接触しなく、慣用レジスト硬化膜が付着形成されていなかった。
(B) Conventional resist hardened film forming process.
A conventional dry film resist material (having a thickness of about 0.02 mm to about 0.04 mm) was attached to the surface of the plate mold substrate on which the pre-formed multiple concave-convex portions 45 were formed. In this case, the dry film resist material did not come into contact with the multiple pre-formed multiple concave-convex portion convex portion side surfaces 451b (pre-formed multiple concave-convex portion concave portion side surfaces 452b) of the pre-formed multiple concave-convex portions 45 formed on the plate mold substrate, and a gap was generated between the multiple pre-formed multiple concave-convex portion concave portion bottom surfaces 452c. As the dry film resist material, a sheet-shaped dry film resist material having a desired "thickness of about 0.02 mm to about 0.04 mm" was selected from commercially available conventional sheet-shaped dry film resist materials and used.
The plate mold substrate with the conventional dry film resist material attached thereto was irradiated with conventional ultraviolet light via an exposure mask member (an exposure mask member which, when the exposure mask member is placed on the surface of the plate mold substrate, has through holes in areas corresponding to the " ABCDE pattern" area formed on the plate mold substrate first area surface 11 of the plate mold substrate and has light-blocking areas in the surrounding areas), and then subjected to conventional processes such as development, to form a resist hardened film.
In this case, the hardened resist film was not formed in the peripheral region of the plate mold substrate, and the hardened resist film was formed in the form of a conventional resist film covering the "ABCDE pattern" region formed by the concave-convex shape in the inner region of the plate mold substrate. In addition, in the hardened resist film formed in the inner region, the conventional resist film was not in contact with the convex portion side surface 451b of the existing multiple concave-convex portions (the concave portion side surface 452b of the existing multiple concave-convex portions) and the concave portion bottom surface 452c of the existing multiple concave-convex portions, and the conventional resist hardened film was not attached and formed.

(C)腐蝕エッチング工程.
次に、慣用レジスト硬化膜を形成した版型用基板1の表面にエッチング液(塩化第二鉄水溶液)を接触して、慣用レジスト硬化膜が付着されていない版型用基板第二領域表面12を深さ寸法「D3」が約1.0mmまでエッチングし、更に続けて、深さ寸法「D12a」が約1.9mmになるまでエッチングした。
これにより、版型用基板第二領域表面12をエッチングして、エッチングされてなる凹部形状を有する従来慣用第二凹形成部121aを形成するとともに、「ABCDE模様」を形成した既成複数凹凸部45を、該従来慣用第二凹形成部121aから突出されてなる形態を形成した。
(C) Corrosive Etching Process.
Next, an etching solution (aqueous ferric chloride solution) was brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the conventional resist hardened film had been formed, and the plate mold substrate second region surface 12 on which the conventional resist hardened film had not been attached was etched until the depth dimension "D3" reached approximately 1.0 mm, and then further etched until the depth dimension "D12a" reached approximately 1.9 mm.
As a result, the second area surface 12 of the mold substrate was etched to form a conventional second recess forming portion 121a having an etched recess shape, and the pre-formed multiple recesses 45 forming the "ABCDE pattern" were formed in a shape protruding from the conventional second recess forming portion 121a.

(C)慣用レジスト硬化膜除去工程.
次に、慣用レジスト硬化膜をレジスト除去剤(苛性ソータ水溶液、又は、水酸化ナトリウム水溶液)を使用して除去した。
(C) Conventional resist hardened film removal step.
The conventional resist hardened film was then removed using a resist remover (aqueous caustic soda or aqueous sodium hydroxide solution).

このような「腐蝕エッチング工程」において、硬化膜が付着形成されていない既成複数凹凸部凸部側面451b(既成複数凹凸部凹部側面452b)も腐蝕エッチングされて、サイドエッチングされた既成複数凹凸部凸部側面451s(複数のサイドエッチングされた既成複数凹凸部凹部側面452s)が生じていた。すなわち、所望の形状精度や寸法精度を有する押圧加工用版が得られなかった。
このようなサイドエッチングされた既成複数凹凸部凸部側面451s(複数のサイドエッチングされた既成複数凹凸部凹部側面452s)は所望の形状ではなく、好ましくない形状であり、このようなサイドエッチングされた凹凸部を形成した押圧加工用版型を使用して被加工物を過去した場合に、所望の凹凸形状に加工された加工物が得られないという課題があり、好ましくない。
このサイドエッチング現象は、既成複数凹凸部45を形成した版型用基板の表面に従来の慣用レジスト材(厚さが約0.02mm~約0.04mm)を貼り付けた場合、複数の既成複数凹凸部凸部側面451b(既成複数凹凸部凹部側面452b)と既成複数凹凸部凹部底面452cには、ドライフィルムレジスト材が接触することなく隙間が発生し、既成複数凹凸部凸部側面451b(既成複数凹凸部凹部側面452b)と既成複数凹凸部凹部底面452cには、慣用レジスト硬化膜が形成されていなかったことに起因して、この側面と底面がエッチングされたものであった。
In such a "corrosive etching step", the side surface 451b of the convex portion of the pre-formed multiple concave-convex portions (the side surface 452b of the pre-formed multiple concave-convex portions) on which no hardened film was attached was also corrosively etched, resulting in a side-etched side surface 451s of the pre-formed multiple concave-convex portions (a plurality of side-etched side surfaces 452s of the pre-formed multiple concave-convex portions). In other words, a pressing plate having the desired shape accuracy and dimensional accuracy was not obtained.
Such side-etched convex side surfaces 451s of the pre-formed multiple concave-convex portions (multiple side-etched concave side surfaces 452s of the pre-formed multiple concave-convex portions) are not the desired shape but are an undesirable shape, and when a workpiece is pressed using a pressing mold on which such side-etched concave-convex portions are formed, there is a problem that a workpiece processed into the desired concave-convex shape cannot be obtained, which is undesirable.
This side etching phenomenon occurs when a conventional resist material (having a thickness of approximately 0.02 mm to approximately 0.04 mm) is applied to the surface of a plate mold substrate on which the pre-formed multiple uneven portions 45 are formed, and gaps are generated between the multiple pre-formed multiple uneven portion convex portion side surfaces 451 b (pre-formed multiple uneven portion concave portion side surfaces 452 b) and the pre-formed multiple uneven portion concave portion bottom surfaces 452 c because the dry film resist material does not come into contact with them, and a conventional resist hardened film is not formed on the pre-formed multiple uneven portion convex portion side surfaces 451 b (pre-formed multiple uneven portion concave portion side surfaces 452 b) and the pre-formed multiple uneven portion concave portion bottom surfaces 452 c, resulting in etching of these sides and bottom surfaces.

<比較例1A-a(比較例1Aの押圧加工用版を使用した被加工物の加工)>
本比較例は、上記の「比較例1A」において製造した押圧加工用版10を、平圧加圧式加工装置の型押用版10として使用して、被加工物108としての紙製シート108を型押し加工するものである。
本比較例は、前述の「実施例1A-a」において構成した押圧加工用版10に替えて、上記の「比較例1A」において構成した押圧加工用版10を使用したものであり、その他の構成は、前述の「実施例1B-a」と同じ工程を備える。
すなわち、下記の工程によって被加工物を型押加工した。
(S-a)比較例1Aにおいて製造した既成凹凸部4を形成した押圧加工用版10としての型押用版10を準備した。
(S-b)図16(A)に示されるように、互いに対向する第一基盤92と第二基盤93を備えた押圧加工装置を準備した。
(S-d)別途調製した滑らかな平面を有するステンレス製の受版94を、押圧加工装置の第二基盤93に設置した。
(S-e)この状態で、押圧加工用版10(型押用版)と受版94との間に、被加工物108としての厚さ約1.5mmの紙製シート108を位置し、その状態で、慣用の駆動方法により第一基盤92と第二基盤93のうちの少なくとも一つの基盤を駆動して、押圧加工用版10と受版94とが被加工物108を押圧した。
これにより、被加工物108の表面に、既成凹凸部4の凹凸形状に一致する凹凸形状を有する被加工物凹凸形成部を形成した。
(S-f)押圧加工用版10(型押用版)と受版94のうちの少なくとも一つの基盤を駆動して、押圧加工用版10(型押用版)と受版94とを互いに離反して、被加工物への押圧を解除した。
このようにして、被加工物108としての紙製シート108に、既成凹凸部4に凹凸形状で形成されている図文字絵柄模様に一致した図文字絵柄模様を有する凹凸形状のエンボス形状で形成された加工物を調製した。
<Comparative Example 1A-a (Processing of workpiece using the pressing plate of Comparative Example 1A)>
In this comparative example, the pressing plate 10 manufactured in the above "Comparative Example 1A" is used as the embossing plate 10 of a flat pressure processing device to emboss a paper sheet 108 as the workpiece 108.
In this comparative example, instead of the pressing plate 10 constructed in the aforementioned "Example 1A-a", the pressing plate 10 constructed in the aforementioned "Comparative Example 1A" is used, and the other configurations include the same processes as those of the aforementioned "Example 1B-a".
That is, the workpiece was embossed by the following steps.
(Sa) An embossing plate 10 was prepared as the pressing plate 10 having the preformed uneven portion 4 formed thereon, which was manufactured in Comparative Example 1A.
(Sb) As shown in FIG. 16(A), a pressing device having a first base 92 and a second base 93 facing each other was prepared.
(Sd) A separately prepared stainless steel receiving plate 94 having a smooth flat surface was placed on the second base 93 of the pressing device.
(S-e) In this state, a paper sheet 108 having a thickness of approximately 1.5 mm was positioned as the workpiece 108 between the pressing plate 10 (embossing plate) and the receiving plate 94, and in this state, at least one of the first base 92 and the second base 93 was driven by a conventional driving method, so that the pressing plate 10 and the receiving plate 94 pressed the workpiece 108.
As a result, a workpiece unevenness-forming portion having an uneven shape that matches the uneven shape of the existing uneven portion 4 was formed on the surface of the workpiece 108.
(S-f) At least one of the bases of the pressing plate 10 (embossing plate) and the receiving plate 94 was driven to move the pressing plate 10 (embossing plate) and the receiving plate 94 away from each other, thereby releasing the pressure on the workpiece.
In this manner, a processed product was prepared in which the paper sheet 108 as the workpiece 108 was embossed with a concave-convex shape having a graphic character pattern that matches the graphic character pattern formed in a concave-convex shape on the existing concave-convex portion 4.

この場合、凹凸形状で形成された図文字絵柄模様に乱れ箇所が確認されるなど、所望の形状精度、寸法精度の加工物が得られなかった。また、繰り返し押圧加工しているときに、被加工物108が、押圧加工用版から離れることなく、押圧加工用版に引っ付き又は引っ掛かり状態で、離反駆動される現象が一部認められた。
すなわち、押圧加工用版のサイドエッチングされた既成複数凹凸部凸部側面451s(複数のサイドエッチングされた既成複数凹凸部凹部側面452s)が形成された形状に起因して、そのサイドエッチングの形状により、所望の形状精度、寸法精度の図文字絵柄模様を有する加工物が得られなかった。
In this case, disturbances were found in the graphic, letter, and picture patterns formed with the uneven shape, and the processed product did not have the desired shape and dimensional accuracy. In addition, during repeated pressing, the workpiece 108 was partially driven to separate from the pressing plate while being stuck or caught on the pressing plate.
In other words, due to the shape of the side-etched convex portion side surface 451s of the pre-formed multiple concave-convex portions (multiple side-etched concave portion side surfaces 452s of the pre-formed multiple concave-convex portions) of the pressing processing plate, a workpiece having a graphic, letter, or picture pattern with the desired shape accuracy and dimensional accuracy could not be obtained due to the shape of the side etching.

<実施例2A(押圧加工用版としてのフレキシブル版・箔押用版の製造)>
本実施例は、前述の「従属構成6」に類似する押圧加工用版の製造方法であり、図4に示される押圧加工用版であって、凹部から突出した凸部の表面に「微細凹凸形状で形成されたハート模様」を形成した押圧加工用版の製造方法である。本押圧加工用版は、ロールの表面に巻き付けて設置されて使用されるフレキシブル版、箔押用版として使用される。
本実施例において、従来慣用のレジスト材を使用して既成複数微細凹凸部46を形成し、その既成複数微細凹凸部46を形成した版型用基板の表面に、インクジェットレジスト材を付着、硬化、腐蝕エッチング、等の工程により、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成するとともに、「既成複数微細凹凸部46がインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の底面から突出してなる突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466に形成されてなる形態に調製したものである。
以下に、本実施例を詳細に説明する。
<Example 2A (Production of flexible plate/foil stamping plate as pressing processing plate)>
This embodiment is a method for manufacturing a pressing plate similar to the above-mentioned "subordinate configuration 6", and is a method for manufacturing a pressing plate shown in Fig. 4, in which a "heart pattern formed of fine unevenness" is formed on the surface of the protrusions protruding from the recesses. This pressing plate is used as a flexible plate or foil stamping plate that is wound around the surface of a roll and used.
In this embodiment, a conventional resist material is used to form the pre-formed multiple fine concave-convex portions 46, and then an inkjet resist material is applied to the surface of the plate mold substrate on which the pre-formed multiple fine concave-convex portions 46 are formed, followed by processes such as hardening, corrosive etching, etc. to form the inkjet resist film etched second recessed portion 121, and the pre-formed multiple fine concave-convex portions 46 are formed into the inkjet film etched pre-formed multiple fine concave-convex portion protrusion portion 466 having a protruding shape protruding from the bottom surface of the inkjet resist film etched second recessed portion 121.
This embodiment will be described in detail below.

(A)既成複数微細凹凸部46を有する版型用基板第一領域表面11と版型用基板第二領域表面12を備えた版型用基板1を調製し、供給する工程.
平面表面形状を有する版型用基板第一領域表面11と平面表面形状を有する版型用基板第二領域表面12を備えた平面表面形状を有する版型用基板1を準備した。版型用基板1は、鋼鉄製であって、厚さ「h」0.5mm、横幅125mm、縦幅90mmのフレキシブル性を有する略平板形状を有する。
次に、版型用基板1の版型用基板第一領域表面11の所望の領域に(i)慣用レジスト材としての紫外線照射により化学反応して3次元化学構造に架橋する性質を有する汎用の慣用液状レジスト材(製版、プリント基板の腐蝕エッチングのために汎用に使用されている慣用の液状レジスト材であって、市販されている汎用の慣用液状レジスト材のうちから所望の慣用液状レジスト材、前述の実施例1Aの(A)工程で使用したものと同じ慣用液状レジスト材)を選択して使用して、スプレーコート方式の慣用の方法により、約0.02mm~約0.04mmの厚さで付着し、所定の方法で乾燥してレジスト付着膜を形成した。
そして、貫通孔を有して光透過用の所望の微細図文字絵柄模様(ハート模様)を形成した露光用マスク部材を介して、レジスト付着膜に紫外線を照射し、実施例1Aと類似の方法で現像液を使用して不要な領域のレジスト付着膜を除去し、アフターベーキングして、所望の微細図文字絵柄模様(ハート模様)を有するレジスト硬化膜を形成した。
(A) A step of preparing and supplying a plate mold substrate 1 having a plate mold substrate first area surface 11 and a plate mold substrate second area surface 12 having a plurality of preformed fine concave and convex portions 46.
A plate mold substrate 1 having a planar surface shape was prepared, which includes a plate mold substrate first area surface 11 having a planar surface shape and a plate mold substrate second area surface 12 having a planar surface shape. The plate mold substrate 1 is made of steel, and has a flexible, generally flat plate shape with a thickness "h" of 0.5 mm, a width of 125 mm, and a length of 90 mm.
Next, (i) a general-purpose conventional liquid resist material having the property of undergoing a chemical reaction when irradiated with ultraviolet light and crosslinking into a three-dimensional chemical structure (a general-purpose conventional liquid resist material that is widely used for plate making and etching of printed circuit boards, and a desired general-purpose conventional liquid resist material is selected from among commercially available general-purpose conventional liquid resist materials, the same conventional liquid resist material as used in step (A) of Example 1A described above) was used on a desired region of the first region surface 11 of the plate mold substrate 1, and applied to the desired region by a conventional method such as spray coating to a thickness of about 0.02 mm to about 0.04 mm, and then dried by a prescribed method to form a resist application film.
Then, the resist film was irradiated with ultraviolet light through an exposure mask member having through holes and having the desired fine graphic and letter pattern (heart pattern) formed thereon for light transmission, and the resist film in unnecessary regions was removed using a developer in a manner similar to that of Example 1A. After baking, a hardened resist film having the desired fine graphic and letter pattern (heart pattern) was formed.

レジスト硬化膜を形成した版型用基板1の表面に市販されている汎用のエッチング液(塩化第二鉄水溶液)を接触して、レジスト硬化膜が付着されていない版型用基板の表面を深さ「d1」が0.1mmになるまでエッチングして、版型用基板に凹形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凹部462を形成するとともに、凸形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凸部461を形成した。
次に、市販されている汎用のレジスト除去剤(苛性ソーダ水溶液)を使用して、レジスト硬化膜を除去した。
このようにして、凸形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凸部461と、凹形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凹部462を形成し、このようにして、既成複数微細凹凸部46を形成した。
なお、以上の複数の既成複数微細凹凸部凸部461と凹形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凹部462とを有する既成複数微細凹凸部46を形成する説明図は、図4には図示されていない。
A commercially available general-purpose etching solution (aqueous ferric chloride solution) was brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the resist hardened film was formed, and the surface of the plate mold substrate to which the resist hardened film was not attached was etched until the depth "d1" reached 0.1 mm, thereby forming a plurality of pre-formed multiple fine unevenness concave portions 462 formed in a concave shape on the plate mold substrate, and a plurality of pre-formed multiple fine unevenness convex portions 461 formed in a convex shape.
Next, the hardened resist film was removed using a commercially available general-purpose resist remover (aqueous caustic soda solution).
In this way, a plurality of preformed multiple fine unevenness convex portions 461 formed in a convex shape and a plurality of preformed multiple fine unevenness concave portions 462 formed in a concave shape were formed, and in this way, a preformed multiple fine unevenness portion 46 was formed.
In addition, an explanatory diagram for forming the preformed multiple fine unevenness portion 46 having the above-mentioned preformed multiple fine unevenness portion convex portions 461 and the preformed multiple fine unevenness portion concave portions 462 formed in a concave shape is not shown in Figure 4.

すなわち、版型用基板第二領域表面12は凹凸のない無凹凸部を有し、版型用基板第一領域表面11は既成凹凸部4を有し、既成凹凸部4は既成複数微細凹凸部46を有し、既成複数微細凹凸部46は複数の凸形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凸部461と、複数の凹形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凹部462を有し、複数の既成複数微細凹凸部凸部461は複数の既成複数微細凹凸部凸部上面461aと複数の既成複数微細凹凸部凸部側面461bを有し、複数の既成複数微細凹凸部凹部462は複数の既成複数微細凹凸部凹部底面462cと複数の既成複数微細凹凸部凹部側面462bを有する、版型用基板を準備した。
なお、前記複数の既成複数微細凹凸部凸部側面461bと前記複数の既成複数微細凹凸部凹部側面462bは、互いに同じ側面領域に相当する。
That is, a substrate for a plate mold was prepared in which the second area surface 12 of the substrate for the plate mold has a non-irregular portion with no irregularities, the first area surface 11 of the substrate for the plate mold has a pre-formed irregular portion 4, the pre-formed irregular portion 4 has pre-formed multiple fine irregular portions 46, the pre-formed multiple fine irregular portions 46 have a plurality of pre-formed multiple fine irregular portion convex portions 461 formed with a plurality of convex shapes and a plurality of pre-formed multiple fine irregular portion concave portions 462 formed with a plurality of concave shapes, the plurality of pre-formed multiple fine irregular portion convex portions 461 have a plurality of pre-formed multiple fine irregular portion convex portion top surfaces 461a and a plurality of pre-formed multiple fine irregular portion convex portion side surfaces 461b, and the plurality of pre-formed multiple fine irregular portion concave portions 462 have a plurality of pre-formed multiple fine irregular portion concave portion bottom surfaces 462c and a plurality of pre-formed multiple fine irregular portion concave portion side surfaces 462b.
The plurality of preformed fine concave-convex portion side surfaces 461b and the plurality of preformed fine concave-convex portion side surfaces 462b correspond to the same side surface region.

このようにして、図4(A)に示されるような版型用基板に版型用基板に複数の既成複数微細凹凸部凸部(461)と複数の既成複数微細凹凸部凹部462とを有する既成複数微細凹凸部46を形成した。
それぞれの既成複数微細凹凸部凹部462の深さ「d1」は約0.1mmであり、既成複数微細凹凸部凸部(461)の高さは既成複数微細凹凸部凹部462の深さに相当する約0.1mmであった。それぞれの既成複数微細凹凸部凹部462幅「w1」は約0.05mm(50μm)であり、既成複数微細凹凸部凸部461の幅「w2」は約0.05mm(50μm)であった。
このようにして、図4の(A-b)の凹凸形状で形成された「ハート模様」の微細模様で示される複数の既成複数微細凹凸部46を有する版型用基板1を調製し、供給した。
In this manner, a preformed multiple fine concave-convex portion 46 having a plurality of preformed multiple fine concave-convex portion convex portions (461) and a plurality of preformed multiple fine concave-convex portion concave portions 462 was formed on the plate mold substrate as shown in Figure 4 (A).
The depth "d1" of each of the preformed multiple fine unevenness concaves 462 was about 0.1 mm, and the height of the preformed multiple fine unevenness convex parts (461) was about 0.1 mm, which corresponds to the depth of the preformed multiple fine unevenness concaves 462. The width "w1" of each of the preformed multiple fine unevenness concaves 462 was about 0.05 mm (50 μm), and the width "w2" of the preformed multiple fine unevenness convex parts 461 was about 0.05 mm (50 μm).
In this manner, a plate mold substrate 1 having a plurality of preformed multiple fine concave-convex portions 46 shown in the fine pattern of a "heart pattern" formed in the concave-convex shape of Figure 4 (A-b) was prepared and supplied.

(B)所望領域インクジェットレジスト硬化膜形成工程.
次に、図4(B)に示されるように、インクジェットレジスト材2をインクジェット方式で付着して、版型用基板1の複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462との既成複数微細凹凸部46を覆って既成複数微細凹凸部インクジェットレジスト付着膜を形成した。この場合、複数の既成複数微細凹凸部凸部上面461a、複数の既成複数微細凹凸部凸部側面461b)、及び、複数の既成複数微細凹凸部凹部側面462b、複数の既成複数微細凹凸部凹部底面462cにインクジェットレジスト材が付着していることを確認した。
なお、複数の既成複数微細凹凸部凸部上面461aと複数の既成複数微細凹凸部凹部側面462bは互いに同じ側面を意味する。
(B) Step of forming a hardened inkjet resist film in a desired area.
4(B), an inkjet resist material 2 was applied by an inkjet method to form a pre-formed multiple fine unevenness inkjet resist-adhered film covering the pre-formed multiple fine unevenness portions 46 of the pre-formed multiple fine unevenness portions convex portions 461 and the pre-formed multiple fine unevenness portions concave portions 462 of the plate mold substrate 1. In this case, it was confirmed that the inkjet resist material was adhered to the pre-formed multiple fine unevenness portions convex portion top surfaces 461a, the pre-formed multiple fine unevenness portions convex portion side surfaces 461b), the pre-formed multiple fine unevenness portions concave portion side surfaces 462b, and the pre-formed multiple fine unevenness portions concave bottom surfaces 462c.
In addition, the plurality of preformed fine concave-convex upper surfaces 461a and the plurality of preformed fine concave-convex side surfaces 462b refer to the same side surfaces.

本工程において、マイクロクラフト社製のオンデマンド・インクジェット印刷システム装置を使用した。インクジェットレジスト材としては、電子部品としての金属配線板の製造に汎用使用されている市販されているインクジェットレジスト材のうち、紫外線照射により化学反応して3次元化学構造に架橋する性質を有するとともに、10mPa・s~20mPa・s(25℃)の粘度のインクジェットレジスト材(前述の実施例1Aの(B)工程で使用したものと同じインクジェットレジスト材)を選択して使用し、吐出ノズルから吐出される液滴量が2pl~15plの条件で付着した。そして、版型用基板に付着形成された上記のインクジェットレジスト付着膜に紫外線を照射し、その後、120℃で10分間のバーニングを行って、硬化された所望領域インクジェットレジスト微細凸部上面硬化膜3e、所望領域インクジェットレジスト微細凸部側面硬化膜3f、及び、所望領域インクジェットレジスト微細凹部底面硬化膜3gを形成した。それぞれの所望領域インクジェットレジスト硬化膜の厚さは約0.03mm~約0.05mmの範囲であった。このようにして、それぞれの所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成した。In this step, an on-demand inkjet printing system device manufactured by Microcraft was used. As the inkjet resist material, an inkjet resist material (the same inkjet resist material as that used in step (B) of the above-mentioned Example 1A) having a property of chemically reacting with ultraviolet light to crosslink into a three-dimensional chemical structure and having a viscosity of 10 mPa·s to 20 mPa·s (25°C) was selected and used from among commercially available inkjet resist materials that are widely used in the manufacture of metal wiring boards as electronic components, and was attached under the condition that the amount of droplets discharged from the discharge nozzle was 2 pl to 15 pl. Then, the above-mentioned inkjet resist attached film formed on the plate mold substrate was irradiated with ultraviolet light, and then burning was performed at 120°C for 10 minutes to form a hardened desired area inkjet resist fine convex upper surface hardened film 3e, desired area inkjet resist fine convex side surface hardened film 3f, and desired area inkjet resist fine concave bottom surface hardened film 3g. The thickness of each of the desired area inkjet resist hardened films was in the range of about 0.03 mm to about 0.05 mm. In this manner, the inkjet resist cured film 3 was formed in each desired area.

(C)腐蝕エッチング工程.
次に、図4(C)に示されるように、所望領域インクジェットレジスト微細凸部上面硬化膜3e、所望領域インクジェットレジスト微細凸部側面硬化膜3f、及び、所望領域インクジェットレジスト微細凹部底面硬化膜3gとを形成した版型用基板1の表面にエッチング液を接触して記所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が付着されていない版型用基板1の版型用基板第二領域表面12を深さが約0.3mmになる迄エッチングし、これにより、エッチングされて凹部形状を有するインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成するとともに、既成複数微細凹凸部46がインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121から突出してなる突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466の形態に形成した。
(C) Corrosive Etching Process.
Next, as shown in FIG. 4(C), an etching solution is brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the desired region inkjet resist fine convex portion top surface hardened film 3e, the desired region inkjet resist fine convex portion side surface hardened film 3f, and the desired region inkjet resist fine recess bottom surface hardened film 3g are formed, and the plate mold substrate second region surface 12 of the plate mold substrate 1 to which the desired region inkjet resist hardened film 3 is not attached is etched to a depth of about 0.3 mm, thereby forming the inkjet resist film etched second recess formation portion 121 having an etched recess shape, and also forming the previously formed multiple fine recesses 46 in the form of the inkjet film etched previously formed multiple fine recesses protruding from the inkjet resist film etched second recess formation portion 121.

(D)所望領域インクジェットレジスト硬化膜除去工程.
図4(D)に示されるように、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を除去した。
これにより、エッチングされてなるインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成するとともに、複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462を有する既成複数微細凹凸部46(ハート模様)を備えたインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466を形成した。
(D) Removal process of hardened inkjet resist film from desired area.
As shown in FIG. 4(D), the inkjet resist hardened film 3 was removed from the desired area.
This forms an etched inkjet resist film corrosion second recess formation portion 121, and also forms an inkjet film corrosion pre-formed multiple fine unevenness portion protrusion portion 466 having a pre-formed multiple fine unevenness portion 46 (heart pattern) having a plurality of pre-formed multiple fine unevenness portion convex portions 461 and a plurality of pre-formed multiple fine unevenness portion concave portions 462.

既成複数微細凹凸部凹部462の深さ「d1」は約0.1mm(100μm)であり、既成複数微細凹凸部凸部461の高さ「d1」は既成複数微細凹凸部凹部462の深さ「d1」に相当する約0.1mm(100μm)であった。既成複数微細凹凸部凹部462の幅「w2」は約0.05mm(約50μm)であり既成複数微細凹凸部凸部461の幅「w1」は約0.05mm(約50μm)であった。
また、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の深さ「d12」は、約0.3mmであった。
The depth "d1" of the existing multiple fine unevenness portion concave portion 462 was about 0.1 mm (100 μm), and the height "d1" of the existing multiple fine unevenness portion convex portion 461 was about 0.1 mm (100 μm), which corresponds to the depth "d1" of the existing multiple fine unevenness portion concave portion 462. The width "w2" of the existing multiple fine unevenness portion concave portion 462 was about 0.05 mm (about 50 μm), and the width "w1" of the existing multiple fine unevenness portion convex portion 461 was about 0.05 mm (about 50 μm).
The depth "d12" of the inkjet resist film etched second recess formation portion 121 was about 0.3 mm.

なお、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の側面には、サイドエッチング現象が生じていなく、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の側面は、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の底面からインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466に向かって滑らかな所望の傾斜した側面を有することを確認した。
また、図4(D)における複数の既成複数微細凹凸部凹部462の側面(複数の既成複数微細凹凸部凸部461の側面に相当)は、エッチングされることなく、図4(A)に示される正常な所望の形状を維持していたことを確認した。
このようにして、微細凹凸形状で形成された「ハート模様」のインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466を形成した「ロールの表面の球面に一致するように変形可能な程度のフレキシブル性を有するフレキシブル型押用版」を製造した。
Furthermore, it was confirmed that no side etching phenomenon occurred on the side of the inkjet resist film etched second recess formation portion 121, and that the side of the inkjet resist film etched second recess formation portion 121 has a smooth, desired inclined side from the bottom surface of the inkjet resist film etched second recess formation portion 121 toward the inkjet film etched pre-formed multiple fine unevenness portion protrusion portion 466.
It was also confirmed that the side surfaces of the multiple pre-formed multiple fine unevenness concave portions 462 in Figure 4 (D) (corresponding to the side surfaces of the multiple pre-formed multiple fine unevenness convex portions 461) were not etched and maintained the normal desired shape shown in Figure 4 (A).
In this way, a "flexible embossing plate having enough flexibility to be deformed to match the spherical surface of the roll" was produced, in which multiple fine unevenness protrusions 466 formed by etching the inkjet film in a "heart pattern" with fine unevenness were formed.

なお、本実施例において、正常な所望の既成複数微細凹凸部46を有するとともに、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の底面から突出してなる突出形状を有する所望のインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466が形成されていることを確認した。
また、所望の既成複数微細凹凸部凸部側面461b(既成複数微細凹凸部凹部側面462b)には窪んだ状態でエッチングされたサイドエッチング現象が生じていなく、所望の形状精度や寸法精度を有していることを確認した。
In addition, in this embodiment, it was confirmed that the desired pre-formed multiple fine unevenness portions 46 were formed as normal, and the desired inkjet film corrosion pre-formed multiple fine unevenness portion protrusion portions 466 were formed having a protruding shape protruding from the bottom surface of the inkjet resist film corrosion second recess formation portion 121.
Furthermore, it was confirmed that the side surface 461b of the convex portion of the pre-formed multiple fine concave-convex portions (side surface 462b of the pre-formed multiple fine concave-convex portions) does not suffer from the side etching phenomenon in which the portion is etched in a recessed state, and that the desired shape accuracy and dimensional accuracy are obtained.

<実施例2B(押圧加工用版としてのフレキシブル版・箔押用版の製造)>
本実施例は、前述の「従属構成6」に類似する押圧加工用版の製造方法であり、図4に示される押圧加工用版であって、凹部から突出した凸部の表面に「微細凹凸形状で形成されたハート模様」を形成した押圧加工用版の製造方法である。本押圧加工用版は、ロールの表面に巻き付けて設置されて使用されるフレキシブル版、箔押用版として使用される。
前述の実施例2Aにおいては、既成複数微細凹凸部46が従来の慣用液状レジスト材を使用してスプレーコート方式により付着する工程を含む工程により形成されているが、これに替えて、本実施例は、既成複数微細凹凸部46がインクジェットレジスト材を使用してインクジェット方式により付着形成した工程を含む工程により既成複数微細凹凸部46を形成した版型用基板を調製する実施例である。
以下に本実施例を詳細に説明する。
<Example 2B (Production of flexible plate/foil stamping plate as pressing processing plate)>
This embodiment is a method for manufacturing a pressing plate similar to the above-mentioned "subordinate configuration 6", and is a method for manufacturing a pressing plate shown in Fig. 4, in which a "heart pattern formed of fine unevenness" is formed on the surface of the protrusions protruding from the recesses. This pressing plate is used as a flexible plate or foil stamping plate that is wound around the surface of a roll and used.
In the above-mentioned Example 2A, the pre-formed multiple fine unevenness portions 46 are formed by a process including a step of adhering the pre-formed multiple fine unevenness portions 46 by a spray coating method using a conventional liquid resist material. Instead, this example is an example in which a substrate for a mold having pre-formed multiple fine unevenness portions 46 formed thereon is prepared by a process including a step of adhering the pre-formed multiple fine unevenness portions 46 by an inkjet method using an inkjet resist material.
This embodiment will be described in detail below.

(A)既成複数微細凹凸部46を有する版型用基板第一領域表面11と版型用基板第二領域表面12を備えた版型用基板1を調製し、供給する工程.
平面表面形状を有する版型用基板第一領域表面11と平面表面形状を有する版型用基板第二領域表面12を備えた平面表面形状を有する版型用基板1を準備した。版型用基板1は、鋼鉄製であって、厚さ「h」0.5mm、横幅125mm、縦幅90mmのフレキシブル性を有するとともに略平板形状を有する。
(A) A step of preparing and supplying a plate mold substrate 1 having a plate mold substrate first area surface 11 and a plate mold substrate second area surface 12 having a plurality of preformed fine concave and convex portions 46.
A plate mold substrate 1 having a planar surface shape was prepared, which includes a plate mold substrate first region surface 11 having a planar surface shape and a plate mold substrate second region surface 12 having a planar surface shape. The plate mold substrate 1 is made of steel, has a thickness "h" of 0.5 mm, a width of 125 mm, a length of 90 mm, is flexible, and has a substantially flat plate shape.

次に、版型用基板1の表面に、「ハート模様」の微細図文字絵柄模様を、インクジェッレジスト材を使用して、インクジェット方式でインクジェットレジスト材を付着し、硬化して、インクジェットレジスト硬化膜を形成した。
本工程において、マイクロクラフト社製のオンデマンド・インクジェット印刷システム装置を使用した。インクジェットレジスト材としては、市販されているインクジェットレジスト材のうち、紫外線照射により化学反応して3次元化学構造に架橋する性質を有するとともに、10mPa・s~20mPa・s(25℃)の粘度のインクジェットレジスト材(前述の実施例1Aの(B)工程で使用したものと同じインクジェットレジスト材)を選択して使用し、吐出ノズルから吐出される液滴量が2pl~15plの条件で付着した。そして、版型用基板に付着形成された上記のインクジェットレジスト付着膜に紫外線を照射し、その後、120℃で10分間のバーニングを行って、所望のハート模様であって微細模様図柄を有する硬化されたインクジェットレジスト硬化膜3を形成した。インクジェットレジスト硬化膜の厚さは約0.03mm~約0.05mmの範囲であった。
Next, a fine graphic and letter pattern of a "heart pattern" was applied to the surface of the plate mold substrate 1 using an inkjet resist material by the inkjet method, and the inkjet resist material was hardened to form an inkjet resist hardened film.
In this step, an on-demand inkjet printing system device manufactured by Microcraft was used. As the inkjet resist material, an inkjet resist material (the same inkjet resist material as that used in step (B) of the above-mentioned Example 1A) having a property of chemically reacting with ultraviolet light irradiation to crosslink into a three-dimensional chemical structure and having a viscosity of 10 mPa·s to 20 mPa·s (25°C) was selected from among commercially available inkjet resist materials and used, and the amount of droplets discharged from the discharge nozzle was 2 pl to 15 pl. Then, the inkjet resist film formed on the plate mold substrate was irradiated with ultraviolet light, and then burning was performed at 120°C for 10 minutes to form a cured inkjet resist cured film 3 having a desired heart pattern and a fine pattern design. The thickness of the inkjet resist cured film was in the range of about 0.03 mm to about 0.05 mm.

次に、インクジェットレジスト硬化膜を形成した版型用基板1の表面にエッチング液を接触して、レジスト硬化膜が付着されていない版型用基板の表面を深さ「d1」が約0.1mm(100μm)になるまでエッチングして、版型用基板に複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462とを有する既成複数微細凹凸部46を形成した。Next, an etching liquid was brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the inkjet resist hardened film was formed, and the surface of the plate mold substrate to which the resist hardened film was not attached was etched until the depth "d1" reached approximately 0.1 mm (100 μm), thereby forming a pre-formed multiple fine unevenness portion 46 having a plurality of pre-formed multiple fine unevenness portion convex portions 461 and a plurality of pre-formed multiple fine unevenness portion concave portions 462 on the plate mold substrate.

次に、レジスト除去剤を使用して、インクジェットレジスト硬化膜を除去した。
このようにして、図4(A)に示されるような版型用基板に複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462とを有する「ハート模様」の既成複数微細凹凸部46を形成した。
それぞれの既成複数微細凹凸部凹部462の深さ「d1」は約0.1mmであり、既成複数微細凹凸部凸部461の高さは既成複数微細凹凸部凹部462の深さに相当する約0.1mmであった。それぞれの既成複数微細凹凸部凹部462幅「w1」は約0.05mm(約50μm)であり、既成複数微細凹凸部凸部461の幅「w2」は約0.05(約50μm)であった。
Next, the cured inkjet resist film was removed using a resist remover.
In this manner, a preformed multiple fine concave-convex portion 46 having a "heart pattern" and having multiple preformed multiple fine concave-convex portions 461 and multiple preformed multiple fine concave-convex portions 462 was formed on the mold substrate as shown in Figure 4 (A).
The depth "d1" of each of the preformed multiple fine unevenness portion concaves 462 was about 0.1 mm, and the height of the preformed multiple fine unevenness portion convex parts 461 was about 0.1 mm corresponding to the depth of the preformed multiple fine unevenness portion concaves 462. The width "w1" of each of the preformed multiple fine unevenness portion concaves 462 was about 0.05 mm (about 50 μm), and the width "w2" of the preformed multiple fine unevenness portion convex parts 461 was about 0.05 (about 50 μm).

(B)所望領域インクジェットレジスト硬化膜形成工程.
次に、図4(B)に示されるように、インクジェットレジスト材2をインクジェット方式で付着して、版型用基板1の複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462との既成複数微細凹凸部46を覆って既成複数微細凹凸部インクジェットレジスト付着膜を形成した。この場合、複数の既成複数微細凹凸部凸部上面461a、複数の既成複数微細凹凸部凸部側面461b、及び、複数の既成複数微細凹凸部凹部側面462b、複数の既成複数微細凹凸部凹部底面462cにインクジェットレジスト材が付着していることを確認した。
なお、複数の既成複数微細凹凸部凸部側面461bと複数の既成複数微細凹凸部凹部側面462bは、互いに同じ領域を意味する。
(B) Step of forming a hardened inkjet resist film in a desired area.
4B, the inkjet resist material 2 was applied by an inkjet method to form a pre-formed multiple fine unevenness inkjet resist applied film by covering the pre-formed multiple fine unevenness portions 46 of the pre-formed multiple fine unevenness portions convex portions 461 and the pre-formed multiple fine unevenness portions concave portions 462 of the plate mold substrate 1. In this case, it was confirmed that the inkjet resist material was applied to the pre-formed multiple fine unevenness portions convex portion top surfaces 461a, the pre-formed multiple fine unevenness portions convex portion side surfaces 461b, the pre-formed multiple fine unevenness portions concave portion side surfaces 462b, and the pre-formed multiple fine unevenness portions concave bottom surfaces 462c.
In addition, the multiple convex portion side surfaces 461b of the preformed multiple fine concave-convex portions and the multiple concave portion side surfaces 462b of the preformed multiple fine concave-convex portions refer to the same region.

本工程において、マイクロクラフト社製のオンデマンド・インクジェット印刷システム装置を使用した。インクジェットレジスト材としては、市販されているインクジェットレジスト材のうち、紫外線照射により化学反応して3次元化学構造に架橋する性質を有するとともに、10mPa・s~20mPa・s(25℃)の粘度のインクジェットレジスト材(前述の実施例1Aの(B)工程、本実施例の(A)工程で使用したものと同じインクジェットレジスト材)を選択して使用し、吐出ノズルから吐出される液滴量が2pl~15plの条件で付着した。そして、前述の実施例1Aの(B)工程と類似の方法により、版型用基板に付着形成された上記のインクジェットレジスト付着膜に紫外線を照射し、その後、120℃で10分間のバーニングを行って、硬化された所望領域インクジェットレジスト微細凸部上面硬化膜3e、所望領域インクジェットレジスト微細凸部側面硬化膜3f、及び、所望領域インクジェットレジスト微細凹部底面硬化膜3gを形成した。それぞれの所望領域インクジェットレジスト硬化膜の厚さは約0.03mm~約0.05mmの範囲であった。このようにして、それぞれの所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成した。In this step, an on-demand inkjet printing system device manufactured by Microcraft was used. As the inkjet resist material, an inkjet resist material (the same inkjet resist material as used in the step (B) of the above-mentioned Example 1A and the step (A) of this embodiment) that has a property of chemically reacting with ultraviolet light irradiation to crosslink into a three-dimensional chemical structure and has a viscosity of 10 mPa·s to 20 mPa·s (25°C) was selected from among commercially available inkjet resist materials and used, and the amount of droplets discharged from the discharge nozzle was 2 pl to 15 pl. Then, by a method similar to the step (B) of the above-mentioned Example 1A, the inkjet resist adhesion film formed on the plate mold substrate was irradiated with ultraviolet light, and then burning was performed at 120°C for 10 minutes to form a hardened desired area inkjet resist fine convex upper surface hardened film 3e, desired area inkjet resist fine convex side surface hardened film 3f, and desired area inkjet resist fine concave bottom surface hardened film 3g. The thickness of each of the desired area inkjet resist cured films was in the range of about 0.03 mm to about 0.05 mm. In this manner, each of the desired area inkjet resist cured films 3 was formed.

(C)腐蝕エッチング工程.
次に、図4(C)に示されるように、所望領域インクジェットレジスト微細凸部上面硬化膜3e、所望領域インクジェットレジスト微細凸部側面硬化膜3f、及び、所望領域インクジェットレジスト微細凹部底面硬化膜3gとを形成した版型用基板1の表面にエッチング液を接触して記所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が付着されていない版型用基板1の版型用基板第二領域表面12を深さが約0.3mmになる迄エッチングし、これにより、エッチングされて凹部形状を有するインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成するとともに、既成複数微細凹凸部46がインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121から突出してなる突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466の形態に形成した。
(C) Corrosive Etching Process.
Next, as shown in FIG. 4(C), an etching solution is brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the desired region inkjet resist fine convex portion top surface hardened film 3e, the desired region inkjet resist fine convex portion side surface hardened film 3f, and the desired region inkjet resist fine recess bottom surface hardened film 3g are formed, and the plate mold substrate second region surface 12 of the plate mold substrate 1 to which the desired region inkjet resist hardened film 3 is not attached is etched to a depth of about 0.3 mm, thereby forming the inkjet resist film etched second recess formation portion 121 having an etched recess shape, and also forming the previously formed multiple fine recesses 46 in the form of the inkjet film etched previously formed multiple fine recesses protruding from the inkjet resist film etched second recess formation portion 121.

(D)所望領域インクジェットレジスト硬化膜除去工程.
図4(D)に示されるように、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を除去した。
これにより、エッチングされてなるインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成するとともに、複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462を有する既成複数微細凹凸部46を備えたインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466を形成した。
(D) Removal process of hardened inkjet resist film from desired area.
As shown in FIG. 4(D), the inkjet resist hardened film 3 was removed from the desired area.
This forms an etched inkjet resist film corrosion second recess formation portion 121, and also forms an inkjet film corrosion pre-formed multiple fine unevenness protrusion portion 466 having a pre-formed multiple fine unevenness portion 46 having a plurality of pre-formed multiple fine unevenness portion convex portions 461 and a plurality of pre-formed multiple fine unevenness portion concave portions 462.

既成複数微細凹凸部凹部462の深さ「d1」は約0.1mm(100μm)であり、既成複数微細凹凸部凸部461の高さ「d1」は既成複数微細凹凸部凹部462の深さ「d1」に相当する約0.1mm(約100μm)であった。既成複数微細凹凸部凹部462の幅「w2」は約0.05mm(約50μm)であり既成複数微細凹凸部凸部461の幅「w1」は約50μmであった。
また、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の深さ「d12」は、約0.3mmであった。
The depth "d1" of the existing multiple fine unevenness portion concave portion 462 was about 0.1 mm (100 μm), and the height "d1" of the existing multiple fine unevenness portion convex portion 461 was about 0.1 mm (about 100 μm), which corresponds to the depth "d1" of the existing multiple fine unevenness portion concave portion 462. The width "w2" of the existing multiple fine unevenness portion concave portion 462 was about 0.05 mm (about 50 μm), and the width "w1" of the existing multiple fine unevenness portion convex portion 461 was about 50 μm.
The depth "d12" of the inkjet resist film etched second recess formation portion 121 was about 0.3 mm.

なお、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の側面には、サイドエッチング現象が生じていなく、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の側面は、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の底面からインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466に向かって滑らかな所望の傾斜した側面を有することを確認した。
また、図4(D)における複数の既成複数微細凹凸部凹部462の側面(複数の既成複数微細凹凸部凸部461の側面に相当)は、エッチングされることなく、図4(A)に示される正常な所望の形状を維持していたことを確認した。
このようにして、微細凹凸形状で形成された「ハート模様」のインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466を形成した「ロールの表面の球面に一致するように変形可能な程度のフレキシブル性を有するフレキシブル型押用版」を製造した。
Furthermore, it was confirmed that no side etching phenomenon occurred on the side of the inkjet resist film etched second recess formation portion 121, and that the side of the inkjet resist film etched second recess formation portion 121 has a smooth, desired inclined side from the bottom surface of the inkjet resist film etched second recess formation portion 121 toward the inkjet film etched pre-formed multiple fine unevenness portion protrusion portion 466.
It was also confirmed that the side surfaces of the multiple pre-formed multiple fine unevenness concave portions 462 in Figure 4 (D) (corresponding to the side surfaces of the multiple pre-formed multiple fine unevenness convex portions 461) were not etched and maintained the normal desired shape shown in Figure 4 (A).
In this way, a "flexible embossing plate having enough flexibility to be deformed to match the spherical surface of the roll" was produced, in which multiple fine unevenness protrusions 466 formed by etching the inkjet film in a "heart pattern" with fine unevenness were formed.

なお、本実施例において、正常な所望の既成複数微細凹凸部46を有するとともに、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の底面から突出してなる突出形状を有する所望のインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466が形成されていることを確認した。
また、所望の既成複数微細凹凸部凸部側面461b(既成複数微細凹凸部凹部側面462b)には窪んだ状態でエッチングされたサイドエッチング現象が生じていなく、所望の形状精度や寸法精度を有することを確認した。
In addition, in this embodiment, it was confirmed that the desired pre-formed multiple fine unevenness portions 46 were formed as normal, and the desired inkjet film corrosion pre-formed multiple fine unevenness portion protrusion portions 466 were formed having a protruding shape protruding from the bottom surface of the inkjet resist film corrosion second recess formation portion 121.
Furthermore, it was confirmed that the side surface 461b of the convex portion of the pre-formed multiple fine concave-convex portion (side surface 462b of the pre-formed multiple fine concave-convex portion) does not suffer from the side etching phenomenon in which the portion is etched in a recessed state, and that the desired shape accuracy and dimensional accuracy are obtained.

<実施例2B-a(実施例2Bの押圧加工用版をロール装置に設置して使用した被加工物の加工)>
本実施例は、上記の実施例2Bにおいて製造した押圧加工用版10を、ロール式加工装置に設置して箔押用版10として使用して、箔押加工するものである。
下記の工程によって被加工物を箔押加工した。
(S-a)実施例2Bにおいて製造した既成凹凸部4としての既成複数微細凹凸部46を形成した押圧加工用版10としての箔押用版10を準備して、供給した。
(S-b)互いに対向する主ロール96と対ロール97を備えた押圧加工装置を準備した。
(S-c)押圧加工用版10としての箔押用版を、主ロール96の周囲に巻き付けて設置した。この場合、主ロール96の内部には磁力を発生する磁力部材が構成され、フレキシビル性を有する圧加工用版10としての箔押用版10が磁力により主ロール96の周囲に巻き付けて設置される。
(S-d)所定の受版94を、前記押圧加工装置の対ロール97に設置した。
本実施例においては、対ロール97としては、別途調製した滑らかな球面を有するステンレス製のアンビルロール97を準備して設置した。
(S-e)主ロール96と対ロール97とを駆動するとともに、主ロール96と対ロール97との間に、被加工物基材108aとしての厚さ1mmの紙製シートと、厚さ約30μmの薄い金色のシート状箔材料108bとの被加工物を互いに平行なる状態で連続的に供給して、押圧加工用版10と受版94とが回転しながら被加工物を連続的に押圧した。
これにより、被加工物基材108aの表面に、既成凹凸部4としての既成複数微細凹凸部46の凹凸形状に一致する微細凹凸形状を有するシート状箔材料を転写して、被加工物箔押転写形成部を転写形成した。
(S-f)ロールの回転に伴って、被加工物を、前記主ロール96と対ロール97との間から離反して、被加工物への押圧を解除した。
これにより、被加工物108の表面に、既成凹凸部4しての既成複数微細凹凸部46の凹凸形状に一致する微細な凹凸形状を有する形態で転写形成された被加工物転写形成部を形成してなる加工物を調製した。
このようにして、被加工物108としての紙製シート108aの表面に、ハート模様であって複数微細凹凸模様図柄有する金属箔が転写形成されてなる加工物を調製した。
<Example 2B-a (Processing of a workpiece using the pressing plate of Example 2B installed in a roll device)>
In this embodiment, the pressing plate 10 manufactured in the above-mentioned embodiment 2B is placed in a roll-type processing device and used as the foil stamping plate 10 for foil stamping.
The workpiece was stamped using the following process.
(Sa) A foil stamping plate 10 was prepared as a pressing plate 10 having a plurality of preformed fine concave-convex portions 46 formed thereon as the preformed concave-convex portion 4 produced in Example 2B and was supplied.
(Sb) A pressing device having a main roll 96 and a counter roll 97 facing each other was prepared.
(Sc) A foil stamping plate as the pressing plate 10 was wrapped around the main roll 96. In this case, a magnetic member that generates a magnetic force is configured inside the main roll 96, and the foil stamping plate 10 as the flexible pressing plate 10 is wrapped around the main roll 96 by the magnetic force.
(Sd) A predetermined receiving plate 94 was placed on the paired roll 97 of the pressing device.
In this embodiment, as the counter roll 97, a separately prepared stainless steel anvil roll 97 having a smooth spherical surface was prepared and installed.
(S-e) The main roll 96 and the counter roll 97 were driven, and the workpieces, which were a 1 mm thick paper sheet serving as the workpiece substrate 108a and a thin gold sheet-like foil material 108b having a thickness of approximately 30 μm, were continuously supplied between the main roll 96 and the counter roll 97 in a mutually parallel state, and the pressing plate 10 and the receiving plate 94 were rotated to continuously press the workpieces.
This resulted in a sheet-like foil material having a fine uneven shape that matches the uneven shape of the pre-formed multiple fine uneven portions 46 as the pre-formed uneven portion 4 being transferred onto the surface of the workpiece substrate 108a, thereby transferring and forming the workpiece foil stamping transfer formation portion.
(Sf) As the rolls rotated, the workpiece was separated from between the main roll 96 and the counter roll 97, and the pressure on the workpiece was released.
This resulted in the preparation of a workpiece having a workpiece transfer formation portion formed on the surface of the workpiece 108 in a form having a fine uneven shape that matches the uneven shape of the pre-formed multiple fine uneven portions 46 as the pre-formed uneven portion 4.
In this manner, a workpiece was prepared in which the metal foil having a heart pattern and a plurality of fine concave-convex patterns was transferred onto the surface of the paper sheet 108a serving as the workpiece 108.

この場合、被加工物108としての紙製シート108a及び金属箔シート108bに何らの異常が発生することなく、正常な状態で、被加工物108としての紙製シート108aに、所望の形状精度や寸法精度を有する微細凹凸形状であって金属箔が転写形成された複数微細凹凸模様を形成した加工物が得られた。In this case, no abnormalities occurred in the paper sheet 108a and metal foil sheet 108b serving as the workpiece 108, and a workpiece was obtained in which the paper sheet 108a serving as the workpiece 108 was in a normal state, with multiple fine uneven patterns formed by transferring the metal foil and having the desired shape and dimensional accuracy.

<比較例2A(慣用液状レジスト材を使用した押圧加工用版の製造)>
本比較例は、上記の実施例2Aの(B)工程において、インクジェットレジスト材に替えて従来の慣用液状レジスト材を使用してインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成する押圧加工用版の製造方法である。
本比較例の製造工程を説明するための模式的概略図が図14、図15示される。図14、図15は、従来の押圧加工用版の製造方法の製造工程を説明するための模式的概略図である。
Comparative Example 2A (Production of a press-processing plate using a conventional liquid resist material)
This comparative example is a manufacturing method of a pressing plate in which a conventional liquid resist material is used instead of the inkjet resist material in step (B) of Example 2A described above to form the inkjet resist film etched second recess forming portion 121.
Schematic diagrams for explaining the manufacturing process of this comparative example are shown in Figures 14 and 15. Figures 14 and 15 are schematic diagrams for explaining the manufacturing process of a conventional method for producing a pressing plate.

(A)既成複数凹凸部46有する版型用基板第一領域表面11と版型用基板第二領域表面12を備えた版型用基板1を調製し、供給する工程.
図14(A)、(B)に示されるように、平面表面形状を有する版型用基板第一領域表面11と平面表面形状を有する版型用基板第二領域表面12を備えた平面表面形状を有する版型用基板1を準備した。版型用基板1は、鋼鉄製であって、厚さ「h」0.5mm、横幅125mm、縦幅90mmの略平板形状を有する。
次に、実施例2Aの(A)工程と同じように、版型用基板1の版型用基板第一領域表面11を含む版型用基板1の表面に(i)慣用レジスト材としての慣用液状レジスト材(紫外線照射により化学反応して3次元化学構造に架橋する性質を有し、製版、プリント基板の腐蝕エッチングのために汎用に使用されている慣用の液状レジスト材であって、市販されている汎用の慣用液状レジスト材のうちから所望の慣用液状レジスト材、前述の実施例1Aの(A)工程で使用したものと同じ慣用の液状レジスト材)を使用して、慣用のスプレーコート方式により、約0.02mm~約0.04mmの範囲の厚さで付着し、所定の方法で乾燥してレジスト付着膜を形成した。
そして、光遮断用の所望の微細図文字絵柄模様(ハート模様)を形成した露光用マスク部材を介して、レジスト付着膜に紫外線を照射し、現像、アフターベーキング、現像、等により、所望の微細図文字絵柄模様(ハート図柄模様)を有するレジスト硬化膜を形成した。
(A) A step of preparing and supplying a plate mold substrate 1 having a plate mold substrate first area surface 11 and a plate mold substrate second area surface 12 having a plurality of preformed concave and convex portions 46.
14(A) and (B), a plate mold substrate 1 having a planar surface shape was prepared, which includes a plate mold substrate first area surface 11 having a planar surface shape and a plate mold substrate second area surface 12 having a planar surface shape. The plate mold substrate 1 is made of steel, and has a generally flat plate shape with a thickness "h" of 0.5 mm, a width of 125 mm, and a length of 90 mm.
Next, in the same manner as in step (A) of Example 2A, a conventional liquid resist material (a conventional liquid resist material which has the property of undergoing a chemical reaction upon exposure to ultraviolet light and crosslinking into a three-dimensional chemical structure and is widely used for plate making and etching of printed circuit boards, and which is a desired conventional liquid resist material selected from among commercially available general-purpose conventional liquid resist materials, the same conventional liquid resist material as that used in step (A) of Example 1A described above) was applied to the surface of the plate mold substrate 1 including the first region surface 11 of the plate mold substrate 1 by a conventional spray coating method to a thickness in the range of about 0.02 mm to about 0.04 mm, and then dried in a prescribed manner to form a resist deposition film.
Then, the resist film was irradiated with ultraviolet light through an exposure mask member on which the desired fine graphic and letter pattern (heart pattern) for light blocking was formed, and a hardened resist film having the desired fine graphic and letter pattern (heart pattern) was formed by developing, after-baking, developing, etc.

レジスト硬化膜を形成した版型用基板1の表面にエッチング液(塩化第二鉄水溶液)を接触して、レジスト硬化膜が付着されていない版型用基板の表面を深さ「d1」が約0.1mm(100μm)になるまでエッチングして、版型用基板に凹形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凹部462を形成するとともに、凸形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凸部461を形成した。
次に、レジスト除去剤(苛性ソーダ水溶液)を使用して、レジスト硬化膜を除去した。
このようにして、図14(B)に示されるように、凸形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凸部461と、凹形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凹部462を形成した。
An etching solution (aqueous ferric chloride solution) was brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the resist hardened film was formed, and the surface of the plate mold substrate on which the resist hardened film was not attached was etched until the depth "d1" reached approximately 0.1 mm (100 μm), thereby forming a plurality of pre-formed multiple fine unevenness concave portions 462 formed in a concave shape on the plate mold substrate, and a plurality of pre-formed multiple fine unevenness convex portions 461 formed in a convex shape.
Next, the hardened resist film was removed using a resist remover (aqueous caustic soda solution).
In this manner, as shown in FIG. 14(B), a plurality of preformed multiple fine unevenness convex portions 461 formed in a convex shape and a plurality of preformed multiple fine unevenness concave portions 462 formed in a concave shape were formed.

このようにして、版型用基板第二領域表面12は凹凸のない無凹凸部を有し、版型用基板第一領域表面11は既成凹凸部4を有し、既成凹凸部4は既成複数微細凹凸部46を有し、既成複数微細凹凸部46は複数の微細凸形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凸部461と、複数の微細凹形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凹部462を有し、複数の既成複数微細凹凸部凸部461は複数の既成複数微細凹凸部凸部上面461aと複数の既成複数微細凹凸部凸部側面461bを有し、複数の既成複数微細凹凸部凹部462は複数の既成複数微細凹凸部凹部底面462cと複数の既成複数微細凹凸部凹部側面462bを有する、版型用基板を準備した。
なお、複数の既成複数微細凹凸部凸部側面461bと複数の既成複数微細凹凸部凹部462は互いに同じ側面領域であり、同じ側面を意味する。
版型用基板の材質及び形状は実施例2Aと同じであって、鋼鉄製あって、厚さ「h」0.5mm、横幅125mm、縦幅90mmのフレキシブル性を有し、略平板形状を有する。
また、それぞれの既成複数微細凹凸部凹部462の深さ「d1」は約0.1mm(約100μm)であり、既成複数微細凹凸部凸部461の高さ「d1」は既成複数微細凹凸部凹部462の深さに相当する約0.1mm(約100μm)であった。それぞれの既成複数微細凹凸部凹部462幅「w1」は約0.05mm(約50μm)であり、既成複数微細凹凸部凸部461の幅「w2」は約0.05mm(約50μm)であった。
In this way, a plate mold substrate was prepared in which the second area surface 12 of the plate mold substrate has a non-irregular portion with no irregularities, the first area surface 11 of the plate mold substrate has a pre-formed irregular portion 4, the pre-formed irregular portion 4 has pre-formed multiple fine irregular portions 46, the pre-formed multiple fine irregular portions 46 have a plurality of pre-formed multiple fine irregular portion convex portions 461 formed with a plurality of fine convex shapes and a plurality of pre-formed multiple fine irregular portion concave portions 462 formed with a plurality of fine concave shapes, the plurality of pre-formed multiple fine irregular portion convex portions 461 have a plurality of pre-formed multiple fine irregular portion convex portion top surfaces 461a and a plurality of pre-formed multiple fine irregular portion convex portion side surfaces 461b, and the plurality of pre-formed multiple fine irregular portion concave portions 462 have a plurality of pre-formed multiple fine irregular portion concave portion bottom surfaces 462c and a plurality of pre-formed multiple fine irregular portion concave portion side surfaces 462b.
In addition, the multiple convex portion side surfaces 461b of the preformed multiple fine concave-convex portions and the multiple concave portions 462 of the preformed multiple fine concave-convex portions are the same side surface area and refer to the same side surface.
The material and shape of the plate mold substrate are the same as those of Example 2A, that is, it is made of steel, has a thickness "h" of 0.5 mm, a width of 125 mm, a length of 90 mm, is flexible, and has a substantially flat plate shape.
Further, the depth "d1" of each of the existing multiple fine unevenness portion concaves 462 was about 0.1 mm (about 100 μm), and the height "d1" of the existing multiple fine unevenness portion convex parts 461 was about 0.1 mm (about 100 μm) corresponding to the depth of the existing multiple fine unevenness portion concaves 462. The width "w1" of each of the existing multiple fine unevenness portion concaves 462 was about 0.05 mm (about 50 μm), and the width "w2" of the existing multiple fine unevenness portion convex parts 461 was about 0.05 mm (about 50 μm).

(B)従来の慣用の慣用レジスト硬化膜形成工程.
図14の(C)に示されるように、複数の既成複数微細凹凸部凸部上面461aと複数の既成複数微細凹凸部凸部側面461bと複数の既成複数微細凹凸部凹部底面462cと複数の既成複数微細凹凸部凹部側面462bを覆って版型用基板1の表面に慣用液状レジスト材(紫外線照射により化学反応して3次元化学構造に架橋する性質を有し、製版、プリント基板の腐蝕エッチングのために汎用に使用されている慣用の液状レジスト材であって、市販されている汎用の慣用液状レジスト材のうちから所望の慣用液状レジスト材、本実施例2Aの上記(A)工程で使用したものと同じの慣用液状レジスト材)を使用して、従来の慣用のスプレーコート方式によって付着して液状レジスト付着膜を形成した。
(B) A conventional resist hardened film forming process.
As shown in (C) of Figure 14, the multiple pre-formed multiple fine concave-convex portion convex upper surfaces 461a, the multiple pre-formed multiple fine concave-convex portion convex side surfaces 461b, the multiple pre-formed multiple fine concave-convex portion concave bottom surfaces 462c, and the multiple pre-formed multiple fine concave-convex portion concave side surfaces 462b were covered on the surface of the plate mold substrate 1, and a conventional liquid resist material (a conventional liquid resist material which has the property of chemically reacting with ultraviolet light irradiation to crosslink into a three-dimensional chemical structure and is generally used for plate making and corrosive etching of printed circuit boards, and which is a desired conventional liquid resist material from among commercially available general-purpose conventional liquid resist materials, the same conventional liquid resist material as that used in the above step (A) of this Example 2A) was used to adhere the liquid resist adhesion film by a conventional conventional spray coating method.

その後、所望の形状の露光用マスク部材(露光用マスク部材を版型用基板の表面に設置した場合に、版型用基板の版型用基板第一領域表面11に形成された「ハート模様」領域に相当する部分に貫通孔を有するとともに周囲領域に光遮断用部分を有する露光用マスク部材)を介して、紫外線照射露光、現像、アフターベーキング、等の慣用の方法により、付着した液状レジスト付着膜を硬化して、図14の(C)に示されるような、慣用レジスト微細凸部上面硬化膜30eと慣用レジスト微細凹部底面硬化膜30gを形成する慣用レジスト硬化膜30を形成した。但し、既成複数微細凹凸部凸部側面461b(既成複数微細凹凸部凹部側面462b)に付着した慣用レジスト材は既成複数微細凹凸部凹部の底面に流れ落ちて、慣用レジスト微細凹部側面硬化膜(慣用レジスト微細凸部側面硬化膜)は形成されなかった。
慣用レジスト硬化膜30の厚さは約0.02mm~約0.04mmの範囲であった。
Thereafter, the liquid resist film was cured by conventional methods such as ultraviolet light exposure, development, and after-baking through a desired shape of exposure mask member (an exposure mask member having a through hole in the portion corresponding to the "heart pattern" region formed on the first region surface 11 of the plate mold substrate when the exposure mask member is placed on the surface of the plate mold substrate and having a light blocking portion in the surrounding region) to form a conventional resist cured film 30 that forms a conventional resist fine convex upper surface cured film 30e and a conventional resist fine concave bottom surface cured film 30g as shown in FIG. 14(C). However, the conventional resist material that was attached to the existing multiple fine concave convex portion convex portion side surface 461b (existing multiple fine concave convex portion concave side surface 462b) flowed down to the bottom surface of the existing multiple fine concave convex portion concave, and a conventional resist fine concave side surface cured film (conventional resist fine convex side surface cured film) was not formed.
The thickness of the conventional resist hardened film 30 ranged from about 0.02 mm to about 0.04 mm.

本工程において、版型用基板の周囲領域にレジスト硬化膜が形成されていなく、その内部領域に慣用レジスト硬化膜を有する形態のレジスト硬化膜を形成した。
また、その内部領域において、慣用の液状トレジスト材は、既成複数微細凹凸部凸部上面461aと複数の既成複数微細凹凸部凹部底面462cに良好に付着形成されて、所望の領域に硬化された慣用レジスト微細凸部上面硬化膜30eと慣用レジスト微細凹部底面硬化膜30gとを良好に形成していたが、しかしながら、慣用液状レジスト材は、既成複数微細凹凸部凸部側面461b(既成複数微細凹凸部凹部側面462bから流れ落ちて、既成複数微細凹凸部凸部側面461b(既成複数微細凹凸部凹部側面462bには慣用レジスト硬化膜は形成されなかった。
In this step, a cured resist film was formed in such a manner that no cured resist film was formed in the peripheral region of the plate mold substrate, and a conventional cured resist film was formed in the inner region.
Furthermore, in the internal region, the conventional liquid resist material was well adhered to the convex portion upper surfaces 461a of the preformed multiple fine unevenness portions and the concave portion bottom surfaces 462c of the preformed multiple fine unevenness portions, and well formed the conventional resist fine convex portion upper surface hardened film 30e and the conventional resist fine concave portion bottom surface hardened film 30g which were hardened in the desired region; however, the conventional liquid resist material flowed down from the convex portion side surfaces 461b of the preformed multiple fine unevenness portions (convex portion side surfaces 462b of the preformed multiple fine unevenness portions), and the conventional resist hardened film was not formed on the convex portion side surfaces 461b of the preformed multiple fine unevenness portions (convex portion side surfaces 462b of the preformed multiple fine unevenness portions).

(C)腐蝕エッチング工程.
図15の(D)に示されるように、慣用レジスト微細凸部上面硬化膜30eと、慣用レジスト微細凹部底面硬化膜30gとを形成した版型用基板1の表面にエッチング液(塩化第二鉄水溶液)をパドル吹上方式で接触して、慣用レジスト硬化膜が付着されていない版型用基板第二領域表面12を深さ寸法「d3」が約0.1mmになるまでエッチングして、エッチング途中の腐蝕第二凹形成部121bを形成した。この場合、既成複数微細凹凸部凸部側面461b(既成複数微細凹凸部凹部側面462b)には僅かなサイドエッチングが生じていた。
(C) Corrosive Etching Process.
As shown in Fig. 15(D), an etching solution (aqueous ferric chloride solution) was applied to the surface of the plate mold substrate 1 on which the conventional resist fine convex upper surface hardened film 30e and the conventional resist fine concave bottom surface hardened film 30g were formed, and the plate mold substrate second region surface 12 on which the conventional resist hardened film was not attached was etched until the depth dimension "d3" was about 0.1 mm, forming the etching second concave forming portion 121b. In this case, slight side etching was generated on the side surface 461b of the convex portion of the existing fine concave portion (side surface 462b of the existing fine concave portion).

図15の(E)に示されるように、更にエッチングを続行して版型用基板第二領域表面12を深さ寸法「d12a」が約0.3mmになるまでエッチングした。
これにより、版型用基板第二領域表面12をエッチングして、エッチングされてなる凹部形状を有する従来慣用の腐蝕第二凹形成部121sを形成するとともに、既成複数微細凹凸部46を、該従来慣用の腐蝕第二凹形成部121sから突出されてなる形態を形成した。
As shown in FIG. 15(E), the etching was continued further to etch the second region surface 12 of the plate mold substrate until the depth dimension "d12a" became about 0.3 mm.
As a result, the second area surface 12 of the mold substrate is etched to form a conventional corroded second recess formation portion 121s having an etched recess shape, and the pre-formed multiple fine recess and protrusion portions 46 are formed in a shape protruding from the conventional corroded second recess formation portion 121s.

(D)慣用レジスト硬化膜除去工程.
図15の(F)に示されるように、慣用レジスト微細凸部上面硬化膜30eと、慣用レジスト微細凹部底面硬化膜30gをレジスト除去剤(苛性ソータ水溶液、又は、水酸化ナトリウム水溶液)を使用して除去した。
(D) Conventional resist hardened film removal step.
As shown in FIG. 15F, the conventional resist fine convex upper surface hardened film 30e and the conventional resist fine concave bottom surface hardened film 30g were removed using a resist remover (caustic soda solution or sodium hydroxide solution).

このような前述の「(C)腐蝕エッチング工程」において、硬化膜が付着形成されていない既成複数微細凹凸部凸部側面461b(既成複数微細凹凸部凹部側面462b)も腐蝕エッチングされて、図15(D)に示されるようなサイドエッチングされた既成複数微細凹凸部凸部側面461s(複数のサイドエッチングされた既成複数微細凹凸部凹部側面462s)が生じていた。すなわち、所望の形状精度や寸法精度を有する押圧加工用版が得られなかった。
このようなサイドエッチングされた既成複数微細凹凸部凸部側面461s(複数のサイドエッチングされた既成複数微細凹凸部凹部側面462s)は所望の形状精度や寸法精度を有するものではなく、好ましくない形状であり、このようなサイドエッチングされた微細凹凸部を形成した押圧加工用版型を使用して被加工物を加工した場合に、所望の凹凸形状に加工された加工物が得られないという課題があり、好ましくない。
なお、サイドエッチングとは、既成複数微細凹凸部凸部側面461b又は既成複数微細凹凸部凹部側面462bが、その側面の内面側に向けて窪んだ状態でエッチングされた形状を意味し、押圧加工用版としては、好ましくない形状である。
In the above-mentioned "(C) corrosion etching step", the side surface 461b of the convex portion of the already-formed multiple fine concave-convex portions (side surface 462b of the already-formed multiple fine concave-convex portions) on which no cured film was attached was also corroded and etched, resulting in the side-etched side surface 461s of the already-formed multiple fine concave-convex portions (side-etched side surfaces 462s of the already-formed multiple fine concave-convex portions) as shown in Fig. 15(D). In other words, a pressing plate having the desired shape accuracy and dimensional accuracy was not obtained.
Such side-etched convex portion side surfaces 461s of pre-formed multiple fine concave-convex portions (multiple side-etched concave-convex portion side surfaces 462s of pre-formed multiple fine concave-convex portions) do not have the desired shape precision or dimensional precision, and are undesirable shapes. When a workpiece is processed using a pressing mold on which such side-etched fine concave-convex portions are formed, there is a problem that a workpiece processed into the desired concave-convex shape cannot be obtained, which is undesirable.
In addition, side etching refers to a shape in which the convex side surface 461b of the existing multiple fine unevenness portion or the concave side surface 462b of the existing multiple fine unevenness portion is etched in a recessed state toward the inner surface of the side surface, and this shape is not preferable for a pressing processing plate.

<比較例2Ab(従来の慣用ドライフィルムレジスト材を使用した押圧加工用版の製造)>
上記実施例2Aの他の比較例について、下記に説明する。
本比較例は、上記実施例2Aの(A)工程と同じ工程の、従来の慣用液状レジスト材を使用して、凹凸のない無凹凸部を有する版型用基板第二領域表面12と、既成凹凸部4としての既成複数微細凹凸部46を有する版型用基板第一領域表面11を備えた版型用基板1を使用し、その後、(B)工程において、インクジェットレジスト材に替えて、従来の慣用ドライフィルムレジスト材を使用した押圧加工用版の製造方法である。
本比較例を説明する図が図21の(B)~(F)に示されている。
<Comparative Example 2Ab (Production of a pressing plate using a conventional dry film resist material)>
Another comparative example to Example 2A above is described below.
This comparative example is a method for manufacturing a plate for pressing processing using a conventional liquid resist material in the same process as step (A) of Example 2A above, and using a plate mold substrate 1 having a plate mold substrate second area surface 12 having a non-irregular portion with no irregularities and a plate mold substrate first area surface 11 having pre-formed multiple fine irregularities 46 as pre-formed irregularities 4, and then, in step (B), using a conventional dry film resist material instead of the inkjet resist material.
The diagrams illustrating this comparative example are shown in (B) to (F) of FIG.

(A)既成複数微細凹凸部46を有する版型用基板第一領域表面11と版型用基板第二領域表面12を備えた版型用基板1を調製し、供給する工程.
前述の実施例2Aの(A)工程と同じ方法により、版型用基板第二領域表面12は凹凸のない無凹凸部を有し、版型用基板第一領域表面11は既成凹凸部4を有し、既成凹凸部4は既成複数微細凹凸部46を有し、(ロ)既成複数微細凹凸部46は複数の微細凸形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凸部461と、複数の微細凹形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凹部462を有し、複数の既成複数微細凹凸部凸部461は複数の既成複数微細凹凸部凸部上面461aと複数の既成複数微細凹凸部凸部側面461bを有し、複数の既成複数微細凹凸部凹部462は複数の既成微細凹凸部凹部底面462cと複数の既成複数微細凹凸部凹部側面462bを有する、版型用基板を準備した。
版型用基板の材質及び形状は実施例2Aと同じであって、鋼鉄製であって、厚さ0.5mm、横幅125mm、縦幅90mmのフレキシブル性を有する略平板形状を有する。
また、既成複数微細凹凸部凹部462の深さ「d1」は約0.1mm(約100μm)であり、既成複数微細凹凸部凸部461の高さ「d1」は既成複数微細凹凸部凹部462の深さに相当する約0.1mm(約100μm)であった。それぞれの既成複数微細凹凸部凹部462幅「w1」は約0.05mm(約50μm)であり、既成複数微細凹凸部凸部461の幅「w2」は約0.05mm(約50μm)である。このようにして、図21(A)に示されるような版型用基板を調製して、準備した。
なお、図21(A)において、符号461a、461b、462c、462bは図示されていないが、図14(B)に示される符号と類似であって、複数の既成複数微細凹凸部凸部461は複数の既成複数微細凹凸部凸部上面461aと複数の既成複数微細凹凸部凸部側面461bを有し、複数の既成複数微細凹凸部凹部462は複数の既成微細凹凸部凹部底面462cと複数の既成複数微細凹凸部凹部側面462bとを有する。
(A) A step of preparing and supplying a plate mold substrate 1 having a plate mold substrate first area surface 11 and a plate mold substrate second area surface 12 having a plurality of preformed minute concave and convex portions 46.
Using the same method as process (A) of Example 2A described above, a plate mold substrate was prepared in which the second region surface 12 of the plate mold substrate has a non-relief portion with no recesses or projections, the first region surface 11 of the plate mold substrate has a pre-formed recessed portion 4, the pre-formed recessed portion 4 has pre-formed multiple fine recessed portions 46, (b) the pre-formed multiple fine recessed portions 46 have a plurality of pre-formed multiple fine recessed portion convex portions 461 formed with a plurality of fine convex shapes and a plurality of pre-formed multiple fine recessed portion concave portions 462 formed with a plurality of fine concave shapes, the plurality of pre-formed multiple fine recessed portion convex portions 461 have a plurality of pre-formed multiple fine recessed portion convex portion top surfaces 461a and a plurality of pre-formed multiple fine recessed portion convex portion side surfaces 461b, and the plurality of pre-formed multiple fine recessed portion concave portions 462 have a plurality of pre-formed multiple fine recessed portion concave bottom surfaces 462c and a plurality of pre-formed multiple fine recessed portion concave side surfaces 462b.
The material and shape of the plate mold substrate are the same as those of Example 2A, that is, it is made of steel and has a flexible, generally flat plate shape with a thickness of 0.5 mm, a width of 125 mm and a length of 90 mm.
Further, the depth "d1" of the preformed multiple fine concave-convex portion concave 462 was about 0.1 mm (about 100 μm), and the height "d1" of the preformed multiple fine concave-convex portion convex 461 was about 0.1 mm (about 100 μm), which corresponds to the depth of the preformed multiple fine concave-convex portion concave 462. The width "w1" of each preformed multiple fine concave-convex portion concave 462 was about 0.05 mm (about 50 μm), and the width "w2" of each preformed multiple fine concave-convex portion convex 461 was about 0.05 mm (about 50 μm). In this manner, a plate mold substrate as shown in FIG. 21(A) was prepared and prepared.
In addition, in Figure 21 (A), the symbols 461a, 461b, 462c, and 462b are not shown, but are similar to the symbols shown in Figure 14 (B), and the multiple pre-formed multiple fine unevenness portion convex portions 461 have multiple pre-formed multiple fine unevenness portion convex portion top surfaces 461a and multiple pre-formed multiple fine unevenness portion convex portion side surfaces 461b, and the multiple pre-formed multiple fine unevenness portion concave portions 462 have multiple pre-formed multiple fine unevenness portion concave portion bottom surfaces 462c and multiple pre-formed multiple fine unevenness portion concave portion side surfaces 462b.

(B)慣用レジスト硬化膜形成工程.
次に、図21(B)に示されるように、その既成複数微細凹凸部46を形成した版型用基板の表面に、従来の慣用の方法により慣用ドライフィルムレジスト材20(厚さが約0.02mm~約0.04mm)を貼り付けた。慣用ドライフィルムレジスト材20としては、市販されている慣用のシート状のドライフィルムレジスト材のうち、(厚さが約0.02mm~約0.04mm)のシート状のドライフィルムレジスト材を選択して使用した。
この場合、版型用基板に形成された既成複数微細凹凸部46の複数の既成複数微細凹凸部凸部側面461b(既成複数微細凹凸部凹部側面462b)と既成複数微細凹凸部凹部底面462cには、慣用ドライフィルムレジスト材が接触することなく、隙間が発生していた。
次に、図21(C)に示されるように、その従来の慣用ドライフィルムレジスト材を貼り付けた版型用基板に、露光用マスク部材(露光用マスク部材を版型用基板の表面に設置した場合に、版型用基板の版型用基板第一領域表面11に形成された「ハート模様」領域に相当する部分に貫通孔を有するとともに周囲領域に光遮断用部分を有する露光用マスク部材)を介して紫外線を照射、現像、等の慣用の工程を経て、レジスト硬化膜を形成した。
この場合、版型用基板の周囲領域にレジスト硬化膜が形成されていなく、その内部領域に慣用レジスト硬化膜を有する形態のレジスト硬化膜を形成した。また、既成複数微細凹凸部凸部側面461b(既成複数微細凹凸部凹部側面462b)と既成複数微細凹凸部凹部底面462cには、慣用レジスト硬化膜が形成されていなかった。
(B) Conventional resist hardened film forming step.
21(B), a conventional dry film resist material 20 (having a thickness of about 0.02 mm to about 0.04 mm) was attached by a conventional method to the surface of the plate-form substrate on which the preformed multiple fine concave-convex portions 46 were formed. As the conventional dry film resist material 20, a sheet-form dry film resist material (having a thickness of about 0.02 mm to about 0.04 mm) was selected from among conventional sheet-form dry film resist materials available on the market.
In this case, gaps were generated between the multiple pre-formed multiple fine unevenness convex portion side surfaces 461b (pre-formed multiple fine unevenness concave portion side surfaces 462b) and the pre-formed multiple fine unevenness concave portion bottom surfaces 462c of the pre-formed multiple fine unevenness portions 46 formed on the mold substrate, without the conventional dry film resist material coming into contact with them.
Next, as shown in Figure 21 (C), the plate mold substrate with the conventional dry film resist material attached was irradiated with ultraviolet light through an exposure mask member (an exposure mask member which, when the exposure mask member is placed on the surface of the plate mold substrate, has a through hole in a portion corresponding to the "heart pattern" area formed on the plate mold substrate first area surface 11 of the plate mold substrate and has a light-blocking portion in the surrounding area), and subjected to conventional processes such as development to form a resist hardened film.
In this case, the hardened resist film was not formed in the peripheral region of the plate mold substrate, and the hardened resist film was formed in the form of having a conventional hardened resist film in the inner region. Also, the conventional hardened resist film was not formed on the side surface 461b of the convex portion of the existing multiple fine concave-convex portions (side surface 462b of the existing multiple fine concave-convex portions) and the bottom surface 462c of the concave portion of the existing multiple fine concave-convex portions.

(C)腐蝕エッチング工程.
次に、図21(D)に示されるように、慣用レジスト硬化膜を形成した版型用基板1の表面にエッチング液(塩化第二鉄水溶液)を接触して、慣用レジスト硬化膜が付着されていない版型用基板第二領域表面12を深さ寸法「d3」が約0.1mmになるまでエッチングして、エッチング途中の腐蝕第二凹形成部121bを形成した。
この場合、既成複数微細凹凸部凸部側面461b(既成複数微細凹凸部凹部側面462b)には僅かなサイドエッチング現象が生じるとともに、更に、既成複数微細凹凸部凹部底面462cも腐蝕エッチングされていた。
(C) Corrosive Etching Process.
Next, as shown in FIG. 21(D), an etching solution (aqueous ferric chloride solution) was brought into contact with the surface of the mold substrate 1 on which the conventional resist hardened film had been formed, and the mold substrate second region surface 12 on which the conventional resist hardened film had not been attached was etched until the depth dimension "d3" reached approximately 0.1 mm, thereby forming a second recessed portion 121b that had been etched in the middle of the etching process.
In this case, slight side etching occurred on the convex portion side surface 461b of the existing multiple fine unevenness portions (concave portion side surface 462b of the existing multiple fine unevenness portions), and furthermore, the concave portion bottom surface 462c of the existing multiple fine unevenness portions was also corroded and etched.

更に、図21(E)に示されるように、更にエッチングを続行して、版型用基板第二領域表面12を深さ寸法「d12a」が約0.3mmになるまでエッチングした。
これにより、版型用基板第二領域表面12をエッチングして、エッチングされてなる凹部形状を有する従来慣用の腐蝕第二凹形成部121sを形成するとともに、既成複数微細凹凸部46を、従来慣用の腐蝕第二凹形成部121sから突出されてなる形態を形成した。
Furthermore, as shown in FIG. 21(E), the etching was continued to etch the second region surface 12 of the plate mold substrate until the depth dimension "d12a" became about 0.3 mm.
As a result, the second area surface 12 of the mold substrate is etched to form a conventional corroded second recess formation portion 121s having an etched recess shape, and the pre-formed multiple fine recess and protrusion portions 46 are formed in a shape protruding from the conventional corroded second recess formation portion 121s.

(D)慣用レジスト硬化膜除去工程.
次に、図21(F)に示されるように、慣用レジスト硬化膜をレジスト除去剤(苛性ソータ水溶液、又は、水酸化ナトリウム水溶液)を使用して除去した。
(D) Conventional resist hardened film removal step.
Next, as shown in FIG. 21(F), the conventional resist hardened film was removed using a resist remover (aqueous caustic soda solution or aqueous sodium hydroxide solution).

このような前述の「腐蝕エッチング工程」において、硬化膜が付着形成されていない既成複数微細凹凸部凸部側面461b(既成複数微細凹凸部凹部側面462b)も腐蝕エッチングされて、サイドエッチングされた既成複数微細凹凸部凸部側面461s(複数のサイドエッチングされた既成複数微細凹凸部凹部側面462s)が生じていた。すなわち、所望の形状精度や寸法精度を有する押圧加工用版が得られなかった。
このようなサイドエッチングされた既成複数微細凹凸部凸部側面461s(複数のサイドエッチングされた既成複数微細凹凸部凹部側面462s)は所望の形状ではなく、好ましくない形状であり、このようなサイドエッチングされた微細凹凸部を形成した押圧加工用版型を使用して被加工物を加工した場合に、所望の凹凸形状に加工された加工物が得られないという課題があり、好ましくない。
このサイドエッチング現象は、既成複数微細凹凸部46を形成した版型用基板の表面に従来の慣用の慣用ドライフィルムレジスト材を貼り付けた場合に、複数の既成複数微細凹凸部凸部側面461b(既成複数微細凹凸部凹部側面462b)と既成複数微細凹凸部凹部底面462cには、慣用ドライフィルムレジスト材が接触することなく隙間が発生し、既成複数微細凹凸部凸部側面461b(既成複数微細凹凸部凹部側面462b)と既成複数微細凹凸部凹部底面462cには、慣用レジスト硬化膜が形成されていなかったことに起因して、この側面と底面がエッチングされたものであった。
In the above-mentioned "corrosive etching step", the side surface 461b of the convex portion of the already-formed multiple fine concave-convex portions (the side surface 462b of the already-formed multiple fine concave-convex portions) on which the cured film was not attached was also corrosively etched, resulting in the side-etched side surface 461s of the already-formed multiple fine concave-convex portions (the side-etched side surfaces 462s of the already-formed multiple fine concave-convex portions). In other words, a pressing plate having the desired shape accuracy and dimensional accuracy was not obtained.
Such side-etched convex side surfaces 461s of pre-formed multiple fine concave-convex portions (multiple side-etched concave side surfaces 462s of pre-formed multiple fine concave-convex portions) are not the desired shape but are an undesirable shape, and when a workpiece is processed using a pressing mold on which such side-etched fine concave-convex portions are formed, there is a problem that a workpiece processed into the desired concave-convex shape cannot be obtained, which is undesirable.
This side etching phenomenon occurs when a conventional, conventional dry film resist material is applied to the surface of a plate mold substrate on which the pre-formed multiple fine unevenness portions 46 are formed, and gaps are generated between the pre-formed multiple fine unevenness portion convex portion side surfaces 461b (pre-formed multiple fine unevenness portion concave portion side surfaces 462b) and the pre-formed multiple fine unevenness portion concave portion bottom surfaces 462c without the conventional dry film resist material coming into contact with each other, and a conventional resist hardened film is not formed on the pre-formed multiple fine unevenness portion convex portion side surfaces 461b (pre-formed multiple fine unevenness portion concave portion side surfaces 462b) and the pre-formed multiple fine unevenness portion concave portion bottom surfaces 462c, resulting in etching of these side surfaces and bottom surfaces.

<比較例2A-a(比較例2Aの押圧加工用版をロール装置に設置して使用した被加工物の加工)>
本比較例は、上記の比較例2Aにおいて製造した押圧加工用版10を、ロール式加工装置に設置して箔押用版10として使用して、箔押加工するものである。
下記の工程によって被加工物を箔押加工した。
(S-a)比較例2Aにおいて製造した既成凹凸部4としての既成複数微細凹凸部46を形成した押圧加工用版10としての箔押用版10を準備して、供給した。
(S-b)互いに対向する主ロール96と対ロール97を備えた押圧加工装置を準備した。
(S-c)押圧加工用版10としての箔押用版を、表面に磁力を有する主ロール96の周囲に巻き付けて設置した。
(S-d)所定の受版94を、前記押圧加工装置の対ロール97に設置した。
本実施例においては、対ロール97としては、別途調製した滑らかな球面を有するステンレス製のアンビルロール97を準備して設置した。
(S-e)主ロール96と対ロール97とを駆動するとともに、主ロール96と対ロール97との間に、被加工物基材108aとしての厚さ1mmの紙製シートと、厚さ約30μmの金色の薄いシート状箔材料108bとの被加工物108を互いに平行なる状態で連続的に供給して、押圧加工用版10と受版94とが回転しながら被加工物を連続的に押圧した。
これにより、被加工物基材108aの表面に、既成凹凸部4としての既成複数微細凹凸部46の凹凸形状に一致する微細凹凸形状を有するシート状箔材料を転写して、被加工物箔押転写形成部を転写形成した。
(S-f)ロールの回転に伴って、被加工物を、前記主ロール96と対ロール97との間から離反して、被加工物への押圧を解除した。
これにより、被加工物108の表面に、既成凹凸部4としての既成複数微細凹凸部46の凹凸形状に一致する微細な凹凸形状を有する形態で転写形成された被加工物転写形成部を形成してなる加工物を調製した。
このようにして、被加工物108としての紙製シート108aの表面に、ハート模様であって複数微細凹凸模様図柄有する金属箔が転写形成されてなる加工物を調製した。
<Comparative Example 2A-a (Processing of a workpiece using the pressing plate of Comparative Example 2A installed in a roll device)>
In this comparative example, the pressing plate 10 manufactured in the above comparative example 2A is placed in a roll-type processing device and used as the foil stamping plate 10 for foil stamping.
The workpiece was stamped using the following process.
(Sa) A foil stamping plate 10 was prepared as a pressing plate 10 having a plurality of preformed fine concave-convex portions 46 formed thereon as the preformed concave-convex portion 4 produced in Comparative Example 2A and was supplied.
(Sb) A pressing device having a main roll 96 and a counter roll 97 facing each other was prepared.
(Sc) A foil stamping plate serving as the pressing plate 10 was wound around the periphery of a main roll 96 having a magnetic surface.
(Sd) A predetermined receiving plate 94 was placed on the paired roll 97 of the pressing device.
In this embodiment, as the counter roll 97, a separately prepared stainless steel anvil roll 97 having a smooth spherical surface was prepared and installed.
(S-e) The main roll 96 and the counter roll 97 were driven, and the workpieces 108, consisting of a 1 mm thick paper sheet as the workpiece substrate 108a and a thin gold sheet-like foil material 108b having a thickness of approximately 30 μm, were continuously supplied between the main roll 96 and the counter roll 97 in a mutually parallel state, and the workpieces were continuously pressed while the pressing plate 10 and the receiving plate 94 were rotating.
This resulted in a sheet-like foil material having a fine uneven shape that matches the uneven shape of the pre-formed multiple fine uneven portions 46 as the pre-formed uneven portion 4 being transferred onto the surface of the workpiece substrate 108a, thereby transferring and forming the workpiece foil stamping transfer formation portion.
(Sf) As the rolls rotated, the workpiece was separated from between the main roll 96 and the counter roll 97, and the pressure on the workpiece was released.
This resulted in the preparation of a workpiece having a workpiece transfer formation portion formed on the surface of the workpiece 108 in a form having a fine uneven shape that matches the uneven shape of the pre-formed multiple fine uneven portions 46 as the pre-formed uneven portion 4.
In this manner, a workpiece was prepared in which the metal foil having a heart pattern and a plurality of fine concave-convex patterns was transferred onto the surface of the paper sheet 108a serving as the workpiece 108.

すなわち、比較例2Aにより製造した押圧加工用版としての箔押用版を使用して、上記の実施例2Aと類似の加工方法により、箔押加工した。That is, using the stamping plate as the pressing plate produced in Comparative Example 2A, stamping was performed by a processing method similar to that of Example 2A described above.

この場合、微細凹凸形状で形成された微細図文字絵柄模様に乱れ箇所が確認されるなど、所望の形状精度、寸法精度の加工物が得られなかった。また、繰り返し押圧加工しているときに、紙製シートとシート状箔材料108bとの被加工物108が、押圧加工用版から離れることなく、押圧加工用版に引っ付き又は引っ掛かり状態で、離反駆動される現象が一部認められた。
すなわち、押圧加工用版のサイドエッチングされた既成複数微細凹凸部凸部側面461s(複数のサイドエッチングされた既成複数微細凹凸部凹部側面462s)が形成された形状に起因して、そのサイドエッチングの形状により、所望の形状精度、寸法精度の微細図文字絵柄模様を有する加工物が得られなかった。
In this case, disturbances were found in the fine graphic pattern formed by the fine concave-convex shape, and the processed product could not have the desired shape accuracy and dimensional accuracy. In addition, during repeated pressing, the paper sheet and the sheet-like foil material 108b were partially driven to separate from the pressing plate while being stuck or caught on the pressing plate.
In other words, due to the shape of the side-etched pre-formed multiple fine unevenness convex portion side surface 461s (multiple side-etched pre-formed multiple fine unevenness concave portion side surfaces 462s) of the pressing processing plate, a workpiece having a fine graphic, letter, and pattern with the desired shape accuracy and dimensional accuracy could not be obtained due to the shape of the side etching.

<実施例3A(押圧加工用版としての箔押用版の製造)>
本実施例は、前述の「従属構成8」に類似する押圧加工用版の製造方法であり、図9の(A-a)、図9の(B-a)、(B-b)、(B-c)、図9の(C)に示される押圧加工用版であって、凹部から突出した凸部の表面に「微細凹凸形状で刻設されて所定の形状に区切られて規則性を持って配列された複数種類の凹凸パターンセルの組み合わせによって形成され微細図文字絵柄模様」を形成した押圧加工用版の製造方法である。本押圧加工用版は箔押用型版、又は、型押用版として使用される。
なお、本実施例において、インクジェッレジスト材を使用した工程を含む工程により既成複数微細凹凸部46を形成し、その後、インクジェットレジスト材を使用した工程を含む工程により、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成するとともに、「既成複数微細凹凸部46がインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の底面から突出してなる突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466に形成されてなる形態に調製した。
以下に本実施例を詳細に説明する。
<Example 3A (Production of a foil stamping plate as a pressing processing plate)>
This embodiment is a method for manufacturing a pressing plate similar to the above-mentioned "subordinate configuration 8", and is a method for manufacturing a pressing plate shown in Fig. 9 (A-a), Fig. 9 (B-a), (B-b), (B-c), and Fig. 9 (C), in which "a fine graphic character pattern formed by a combination of multiple types of concave-convex pattern cells engraved with fine concave-convex shapes, partitioned into predetermined shapes, and arranged with regularity" is formed on the surface of the convex parts protruding from the concave parts. This pressing plate is used as a foil stamping mold plate or an embossing plate.
In this embodiment, the pre-formed multiple fine concave-convex portions 46 are formed by a process including a process using an inkjet resist material, and then the inkjet resist film etched second recessed formation portion 121 is formed by a process including a process using an inkjet resist material, and the pre-formed multiple fine concave-convex portions 46 are formed into the inkjet film etched pre-formed multiple fine concave-convex portion protrusions 466 having a protruding shape protruding from the bottom surface of the inkjet resist film etched second recessed formation portion 121.
This embodiment will be described in detail below.

(A)既成複数微細凹凸部46を有する版型用基板第一領域表面11と版型用基板第二領域表面12を備えた版型用基板1を調製し、供給する工程.
平面表面形状を有する版型用基板第一領域表面11と平面表面形状を有する版型用基板第二領域表面12を備えた平面表面形状を有する版型用基板1を準備して供給した。版型用基板1は、銅製であって、厚さ7.0mm、横幅125mm、縦幅90mmの略平板形状を有する。
次に、版型用基板1の表面に、インクジェッレジスト材を使用して、インクジェット方式でインクジェットレジスト材を付着してインクジェットレジスト付着膜を形成し、硬化して、インクジェットレジスト硬化膜を形成した。このようにして、図9(C)に示されるような微細凹凸形状で形成されたインクジェットレジスト硬化膜を形成した。
本工程において、マイクロクラフト社製のオンデマンド・インクジェット印刷システム装置を使用した。インクジェットレジスト材としては、市販されているインクジェットレジスト材のうち、前述の実施例1Aの(B)工程で使用したインクジェットレジスト材と同じであって、電子部品としての金属配線板の製造に汎用使用されている市販されているインクジェットレジスト材のうち、紫外線照射により化学反応して3次元化学構造に架橋する性質を有するとともに、「10mPa・s~20mPa・s(25℃)の粘度のインクジェットレジスト材」を選択して使用し、吐出ノズルから吐出される液滴量が2pl~15plの条件で付着した。そして、版型用基板に付着形成された上記のインクジェットレジスト付着膜に紫外線を照射し、その後、120℃で10分間のバーニングを行って、微細模様図柄を有する硬化されたインクジェットレジスト硬化膜3を形成した。インクジェットレジスト硬化膜の厚さは約0.03mm~約0.05mmの範囲であった。
インクジェットレジスト硬化膜を形成した版型用基板1の表面に市販されている慣用のエッチング液(塩化第二鉄水溶液)を接触して、レジスト硬化膜が付着されていない版型用基板の表面を深さ「d1」が0.1mmになるまでエッチングして、版型用基板に凹形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凹部462を形成するとともに、凸形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凸部461を形成した。
(A) A step of preparing and supplying a plate mold substrate 1 having a plate mold substrate first area surface 11 and a plate mold substrate second area surface 12 having a plurality of preformed fine concave and convex portions 46.
A plate mold substrate 1 having a planar surface shape was prepared and supplied, which includes a plate mold substrate first region surface 11 having a planar surface shape and a plate mold substrate second region surface 12 having a planar surface shape. The plate mold substrate 1 is made of copper and has a substantially flat plate shape with a thickness of 7.0 mm, a width of 125 mm, and a length of 90 mm.
Next, an inkjet resist material was applied to the surface of the mold substrate 1 by an inkjet method to form an inkjet resist applied film, which was then cured to form an inkjet resist cured film. In this way, an inkjet resist cured film formed with a fine concave-convex shape as shown in Fig. 9(C) was formed.
In this step, an on-demand inkjet printing system device manufactured by Microcraft was used. As the inkjet resist material, among commercially available inkjet resist materials, the same inkjet resist material used in the step (B) of the above-mentioned Example 1A was selected from among commercially available inkjet resist materials that are widely used in the manufacture of metal wiring boards as electronic components, and that have the property of chemically reacting with ultraviolet light irradiation to crosslink into a three-dimensional chemical structure, and an inkjet resist material with a viscosity of 10 mPa·s to 20 mPa·s (25°C) was selected for use, and the amount of droplets discharged from the discharge nozzle was 2 pl to 15 pl. Then, the inkjet resist film formed on the plate mold substrate was irradiated with ultraviolet light, and then burning was performed for 10 minutes at 120°C to form a cured inkjet resist cured film 3 having a fine pattern design. The thickness of the inkjet resist cured film was in the range of about 0.03 mm to about 0.05 mm.
A commercially available conventional etching solution (aqueous ferric chloride solution) was brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the inkjet resist cured film had been formed, and the surface of the plate mold substrate on which the resist cured film had not been attached was etched until the depth "d1" reached 0.1 mm, thereby forming a plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portions 462 formed in a concave shape on the plate mold substrate, and a plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portions 461 formed in a convex shape.

次に、市販されている慣用のレジスト除去剤(苛性ソーダ水溶液)を使用して、レジスト硬化膜を除去した。
このようにして、凸形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凸部461と、凹形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凹部462を形成した。
Next, the hardened resist film was removed using a commercially available conventional resist remover (aqueous caustic soda solution).
In this manner, a plurality of preformed multiple fine concave-convex portions 461 formed in a convex shape and a plurality of preformed multiple fine concave-convex portions 462 formed in a concave shape were formed.

すなわち、版型用基板第二領域表面12は凹凸のない無凹凸部を有し、版型用基板第一領域表面11は既成凹凸部4を有し、既成凹凸部4は図9(C)に示されるような微細凹凸形状で形成された既成複数微細凹凸部46を有する。既成複数微細凹凸部46は複数の凸形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凸部461と、複数の凹形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凹部462を有し、複数の既成複数微細凹凸部凸部461は複数の既成複数微細凹凸部凸部上面461aと複数の既成複数微細凹凸部凸部側面461bを有し、複数の既成複数微細凹凸部凹部462は複数の既成複数微細凹凸部凹部底面462cと複数の既成複数微細凹凸部凹部側面462bを有する。
このような、図9(C)に示されるような微細凹凸形状で形成された既成複数微細凹凸部46を有する版型用基板を準備した。
なお、前記複数の既成複数微細凹凸部凸部側面461bと前記複数の既成複数微細凹凸部凹部側面462bは、互いに同じ側面領域に相当する。
なお、図9において、複数の既成複数微細凹凸部凸部461、複数の既成複数微細凹凸部凹部462、複数の既成複数微細凹凸部凸部上面461a、複数の既成複数微細凹凸部凸部側面461b、複数の既成複数微細凹凸部凹部底面462c、複数の既成複数微細凹凸部凹部側面462bのそれぞれの符号は図示されていないが、それぞれの符号は図4に示されている符号と類似する。
That is, the second region surface 12 of the plate mold substrate has a non-relief portion without any irregularities, and the first region surface 11 of the plate mold substrate has a pre-formed irregularity portion 4, and the pre-formed irregularity portion 4 has a pre-formed multiple fine irregularity portions 46 formed in a fine irregularity shape as shown in Fig. 9(C). The pre-formed multiple fine irregularity portions 46 have a plurality of pre-formed multiple fine irregularity portion convex portions 461 formed in a plurality of convex shapes and a plurality of pre-formed multiple fine irregularity portion concave portions 462 formed in a plurality of concave shapes, the plurality of pre-formed multiple fine irregularity portion convex portions 461 have a plurality of pre-formed multiple fine irregularity portion convex portion upper surfaces 461a and a plurality of pre-formed multiple fine irregularity portion convex portion side surfaces 461b, and the plurality of pre-formed multiple fine irregularity portion concave portions 462 have a plurality of pre-formed multiple fine irregularity portion concave portion bottom surfaces 462c and a plurality of pre-formed multiple fine irregularity portion concave portion side surfaces 462b.
A plate-form substrate having a plurality of preformed minute concave-convex portions 46 formed in a minute concave-convex shape as shown in FIG. 9(C) was prepared.
The plurality of preformed fine concave-convex portion side surfaces 461b and the plurality of preformed fine concave-convex portion side surfaces 462b correspond to the same side surface region.
In addition, in Figure 9, the respective symbols of the multiple pre-formed multiple fine unevenness portions convex portions 461, the multiple pre-formed multiple fine unevenness portions concave portions 462, the multiple pre-formed multiple fine unevenness portions convex portion top surfaces 461a, the multiple pre-formed multiple fine unevenness portions convex portion side surfaces 461b, the multiple pre-formed multiple fine unevenness portions concave portion bottom surfaces 462c, and the multiple pre-formed multiple fine unevenness portions concave portion side surfaces 462b are not shown, but each symbol is similar to the symbols shown in Figure 4.

このようにして、図9(C)に示されるような、版型用基板に版型用基板に複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462とを有する既成複数微細凹凸部46を形成した。
それぞれの既成複数微細凹凸部凹部462の深さ「d1」は約0.1mmであり、既成複数微細凹凸部凸部461の高さは既成複数微細凹凸部凹部462の深さに相当する約0.1mmであった。それぞれの既成複数微細凹凸部凹部462幅「w1」は約0.05mm(約50μm)であり、既成複数微細凹凸部凸部461の幅「w2」は約0.05mm(約50μm)であった。
このようにして、複数の既成複数微細凹凸部46を有する版型用基板1を調製し、供給した。
In this manner, a preformed multiple fine unevenness portion 46 having a plurality of preformed multiple fine unevenness portion convex portions 461 and a plurality of preformed multiple fine unevenness portion concave portions 462 was formed on the plate mold substrate as shown in Figure 9 (C).
The depth "d1" of each of the preformed multiple fine unevenness portion concaves 462 was about 0.1 mm, and the height of the preformed multiple fine unevenness portion convex parts 461 was about 0.1 mm corresponding to the depth of the preformed multiple fine unevenness portion concaves 462. The width "w1" of each of the preformed multiple fine unevenness portion concaves 462 was about 0.05 mm (about 50 μm), and the width "w2" of the preformed multiple fine unevenness portion convex parts 461 was about 0.05 mm (about 50 μm).
In this manner, the plate mold substrate 1 having a plurality of preformed fine concave-convex portions 46 was prepared and supplied.

(B)所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成するインクジェットレジスト硬化膜形成工程.
上記のようにして調製した複数の既成複数微細凹凸部46を有する版型用基板1を使用して、インクジェットレジスト材2をインクジェット方式で付着して、版型用基板1の複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462との既成複数微細凹凸部46を覆って既成複数微細凹凸部インクジェットレジスト付着膜を形成した。この場合、複数の既成複数微細凹凸部凸部上面461a、複数の既成複数微細凹凸部凸部側面461b)、及び、複数の既成複数微細凹凸部凹部側面462b、複数の既成複数微細凹凸部凹部底面462cにインクジェットレジスト材が付着していることを確認した。
(B) Inkjet resist hardened film formation step for forming an inkjet resist hardened film 3 in a desired area.
Using the plate mold substrate 1 having the plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portions 46 prepared as described above, the inkjet resist material 2 was adhered by an inkjet method to form a pre-formed multiple fine concave-convex portion inkjet resist adhered film covering the pre-formed multiple fine concave-convex portions 46 of the plate mold substrate 1, which are the plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portion convex portions 461 and the plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portion concave portions 462. In this case, it was confirmed that the inkjet resist material was adhered to the plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portion convex portion top surfaces 461a, the plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portion convex portion side surfaces 461b), the plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portion concave portion side surfaces 462b, and the plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portion concave bottom surfaces 462c.

本工程において、マイクロクラフト社製のオンデマンド・インクジェット印刷システム装置を使用した。インクジェットレジスト材としては、電子部品としての金属配線板の製造に汎用使用されている市販されているインクジェットレジスト材のうち、市販されているインクジェットレジスト材のうち、前述の実施例1Aの(B)工程で使用したインクジェットレジスト材(本実施例3の(A)で使用したものと同じインクジェットレジスト材)と同じであって、紫外線照射により化学反応して3次元化学構造に架橋する性質を有するとともに、10mPa・s~20mPa・s(25℃)の粘度のインクジェットレジスト材を選択して使用し、吐出ノズルから吐出される液滴量が2pl~15plの条件で付着した。そして、版型用基板に付着形成された上記のインクジェットレジスト付着膜に紫外線を照射し、その後、120℃で10分間のバーニングを行って、硬化された所望領域インクジェットレジスト微細凸部上面硬化膜3e、所望領域インクジェットレジスト微細凸部側面硬化膜3f、及び、所望領域インクジェットレジスト微細凹部底面硬化膜3gを形成した。それぞれの所望領域インクジェットレジスト硬化膜の厚さは0.03mm~0.05mmの範囲であった。このようにして、それぞれの所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成した。In this step, an on-demand inkjet printing system device manufactured by Microcraft was used. As the inkjet resist material, among commercially available inkjet resist materials that are widely used in the manufacture of metal wiring boards as electronic components, the inkjet resist material used in the above-mentioned step (B) of Example 1A (the same inkjet resist material used in (A) of this Example 3) was selected and used, which has the property of chemically reacting with ultraviolet light irradiation to crosslink into a three-dimensional chemical structure, and has a viscosity of 10 mPa·s to 20 mPa·s (25°C), and was attached under the condition that the amount of droplets discharged from the discharge nozzle was 2 pl to 15 pl. Then, the above-mentioned inkjet resist adhesion film formed on the plate mold substrate was irradiated with ultraviolet light, and then burning was performed at 120°C for 10 minutes to form the hardened desired area inkjet resist fine convex upper surface cured film 3e, desired area inkjet resist fine convex side surface cured film 3f, and desired area inkjet resist fine concave bottom surface cured film 3g. The thickness of each of the desired area inkjet resist cured films was in the range of 0.03 mm to 0.05 mm. In this manner, each of the desired area inkjet resist cured films 3 was formed.

(C)所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が付着されていない前記版型用基板第二領域表面12をエッチングする版型用基板エッチング工程.
次に、所望領域インクジェットレジスト微細凸部上面硬化膜3e、所望領域インクジェットレジスト微細凸部側面硬化膜3f、及び、所望領域インクジェットレジスト微細凹部底面硬化膜3gとを形成した版型用基板1の表面にエッチング液を接触して、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が付着されていない版型用基板1の版型用基板第二領域表面12を深さが約1.9mmになる迄エッチングし、これにより、エッチングされて凹部形状を有するインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成するとともに、既成複数微細凹凸部46がインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121から突出してなるインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466を形成した。
(C) A step of etching the plate mold substrate, which etches the second region surface 12 of the plate mold substrate to which the desired region inkjet resist cured film 3 is not attached.
Next, an etching liquid is brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the desired region inkjet resist fine convex portion top surface hardened film 3e, the desired region inkjet resist fine convex portion side surface hardened film 3f, and the desired region inkjet resist fine recess bottom surface hardened film 3g are formed, and the plate mold substrate second region surface 12 of the plate mold substrate 1 to which the desired region inkjet resist hardened film 3 is not attached is etched to a depth of approximately 1.9 mm, thereby forming an inkjet resist film etched second recess formation portion 121 having an etched recess shape, and also forming an inkjet film etched pre-formed multiple fine recess protrusion portion 466 in which the pre-formed multiple fine recesses 46 protrude from the inkjet resist film etched second recess formation portion 121.

(D)所望領域インクジェットレジスト硬化膜除去工程.
所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を除去した。
これにより、エッチングされてなるインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成するとともに、複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462を有する既成複数微細凹凸部46を備えたインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466を形成した。
(D) Step of removing the hardened inkjet resist film from the desired area.
The inkjet resist cured film 3 was removed from the desired area.
This forms an etched inkjet resist film corrosion second recess formation portion 121, and also forms an inkjet film corrosion pre-formed multiple fine unevenness protrusion portion 466 having a pre-formed multiple fine unevenness portion 46 having a plurality of pre-formed multiple fine unevenness portion convex portions 461 and a plurality of pre-formed multiple fine unevenness portion concave portions 462.

既成複数微細凹凸部凹部462の深さ「d1」は約0.1mm(100μm)であり、既成複数微細凹凸部凸部461の高さ「d1」は既成複数微細凹凸部凹部462の深さ「d1」に相当する約0.1mm(100μm)であった。既成複数微細凹凸部凹部462の幅「w2」は約0.05mm(50μm)であり既成複数微細凹凸部凸部461の幅「w1」は約0.05mm(約50μm)であった。
また、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の深さ「d12」は、約1.9mmであった。
The depth "d1" of the existing multiple fine unevenness portion concave portion 462 was about 0.1 mm (100 μm), and the height "d1" of the existing multiple fine unevenness portion convex portion 461 was about 0.1 mm (100 μm), which corresponds to the depth "d1" of the existing multiple fine unevenness portion concave portion 462. The width "w2" of the existing multiple fine unevenness portion concave portion 462 was about 0.05 mm (50 μm), and the width "w1" of the existing multiple fine unevenness portion convex portion 461 was about 0.05 mm (about 50 μm).
The depth "d12" of the inkjet resist film etched second recess formation portion 121 was about 1.9 mm.

なお、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の側面には、サイドエッチング現象が生じていなく、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の側面は、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の底面からインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466に向かって滑らかな所望の傾斜した側面を有することを確認した。
また、複数の既成複数微細凹凸部凹部462の側面(複数の既成複数微細凹凸部凸部461の側面に相当)は、エッチングされることなく、正常な所望の形状を維持していたことを確認した。
このようにして、図9(C)に示されるような既成複数微細凹凸部46a、46b、46cを有し、それぞれの既成複数微細凹凸部46a、46b、46cが図9の(D-a)、(D-b)、(D-c)に示されるような既成複数微細凹凸部を形成してなる箔押用版を製造した。
Furthermore, it was confirmed that no side etching phenomenon occurred on the side of the inkjet resist film etched second recess formation portion 121, and that the side of the inkjet resist film etched second recess formation portion 121 has a smooth, desired inclined side from the bottom surface of the inkjet resist film etched second recess formation portion 121 toward the inkjet film etched pre-formed multiple fine unevenness portion protrusion portion 466.
It was also confirmed that the side surfaces of the multiple preformed multiple fine unevenness concave portions 462 (corresponding to the side surfaces of the multiple preformed multiple fine unevenness convex portions 461) were not etched and maintained the normal desired shape.
In this manner, a foil stamping plate was produced having preformed multiple fine uneven portions 46a, 46b, 46c as shown in Figure 9(C), with each of the preformed multiple fine uneven portions 46a, 46b, 46c forming preformed multiple fine uneven portions as shown in Figures 9(D-a), (D-b), and (D-c).

なお、本実施例において、正常な所望の形状精度や寸法精度を有する既成複数微細凹凸部46を有するとともに、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の底面から突出してなる突出形状を有する所望のインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466が形成されていることを確認した。
また、所望の既成複数微細凹凸部凸部側面461b(既成複数微細凹凸部凹部側面462b)には窪んだ状態でエッチングされたサイドエッチング現象が生じていなく、所望の形状精度や寸法精度を有していることを確認した。
In addition, in this embodiment, it was confirmed that the pre-formed multiple fine unevenness portions 46 have the normal desired shape accuracy and dimensional accuracy, and the desired inkjet film corrosion pre-formed multiple fine unevenness portion protrusion portion 466 has a protruding shape protruding from the bottom surface of the inkjet resist film corrosion second recess formation portion 121.
Furthermore, it was confirmed that the side surface 461b of the convex portion of the pre-formed multiple fine concave-convex portions (side surface 462b of the pre-formed multiple fine concave-convex portions) does not suffer from the side etching phenomenon in which the portion is etched in a recessed state, and that the desired shape accuracy and dimensional accuracy are obtained.

<実施例3B(押圧加工用版としての箔押用版の製造)>
本実施例は、前述の実施例3Aの「押圧加工用版としての箔押用版の製造」における「既成複数微細凹凸部46」を、インクジェットレジスト材を使用した工程により「既成複数微細凹凸部46」を形成する工程に替えて、従来の慣用シート状ドライフィルムレジスト材を使用した工程により「既成複数微細凹凸部46」を形成する工程を備えるものであり、その他の工程は、前述の実施例3Aと類似する。
すなわち、本実施例は、前述の「従属構成8」に類似する押圧加工用版の製造方法であり、図9の(A-a)、図9の(B-a)、(B-b)、(B-c)、図9の(C)に示される押圧加工用版であって、凹部から突出した凸部の表面に「微細凹凸形状で刻設されて所定の形状に区切られて規則性を持って配列された複数種類の凹凸パターンセルの組み合わせによって形成され微細図文字絵柄模様」を形成した押圧加工用版の製造方法である。本押圧加工用版は箔押用型版、又は、型押用版として使用される。
以下に本実施例を詳細に説明する。
<Example 3B (Production of a foil stamping plate as a pressing processing plate)>
This embodiment includes a process for forming the "pre-formed multiple fine uneven portions 46" in the "manufacturing of a foil stamping plate as a plate for pressing processing" of the above-mentioned Example 3A using a process that uses an inkjet resist material, instead of the process for forming the "pre-formed multiple fine uneven portions 46" using an inkjet resist material, and includes a process for forming the "pre-formed multiple fine uneven portions 46" using a process that uses a conventional conventional sheet-like dry film resist material, and the other processes are similar to those of the above-mentioned Example 3A.
That is, this embodiment is a method for manufacturing a pressing plate similar to the above-mentioned "subordinate configuration 8", and is a method for manufacturing a pressing plate as shown in Fig. 9 (A-a), Fig. 9 (B-a), (B-b), (B-c), and Fig. 9 (C), in which "a fine graphic character pattern formed by a combination of multiple types of concave-convex pattern cells engraved with fine concave-convex shapes, partitioned into predetermined shapes, and arranged with regularity" is formed on the surface of the convex parts protruding from the concave parts. This pressing plate is used as a foil stamping mold plate or an embossing plate.
This embodiment will be described in detail below.

(A)既成複数微細凹凸部46を有する版型用基板第一領域表面11と版型用基板第二領域表面12を備えた版型用基板1を調製し、供給する工程.
平面表面形状を有する版型用基板第一領域表面11と平面表面形状を有する版型用基板第二領域表面12を備えた平面表面形状を有する版型用基板1を準備して供給した。版型用基板1は、銅製であって、厚さ7.0mm、横幅125mm、縦幅90mmの略平板形状を有する。
次に、版型用基板1の表面に、従来の慣用のシート状ドライフィルムレジスト材を貼り付けた。従来の慣用のシート状ドライフィルムレジスト材は市販されているシート状ドライフィルムレジスト材のうち、厚さ寸法は約0.02mm~約0.04mmのシート状ドライフィルムレジスト材を選択して使用した。
このシート状ドライフィルムレジスト材を貼り付けた版型用基板に、貫通孔を有して光透過用の所望の微細図文字絵柄模様を形成した露光用マスク部材を介して、ドライフィルムレジスト材に紫外線を照射し、市販されている慣用の現像液を使用して不要な領域のレジスト付着膜を除去し、アフターヘ―キングして、図9(C)に示されるような微細図文字絵柄模様を有するレジスト硬化膜を形成した。
レジスト硬化膜を形成した版型用基板1の表面に市販されている慣用のエッチング液(塩化第二鉄水溶液)を接触して、レジスト硬化膜が付着されていない版型用基板の表面を深さ「d1」が0.1mmになるまでエッチングして、版型用基板に凹形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凹部462を形成するとともに、凸形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凸部461を形成した。
次に、レジスト除去剤(苛性ソーダ水溶液)を使用して、レジスト硬化膜を除去した。
このようにして、従来慣用のシート状のドライフィルムレジスト材を使用して形成したレジスト硬化膜を腐蝕エッチング用マスクとして用いた化学的腐蝕エッチング加工により、凹凸形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凸部461と、凹形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凹部462を形成した。
(A) A step of preparing and supplying a plate mold substrate 1 having a plate mold substrate first area surface 11 and a plate mold substrate second area surface 12 having a plurality of preformed fine concave and convex portions 46.
A plate mold substrate 1 having a planar surface shape was prepared and supplied, which includes a plate mold substrate first region surface 11 having a planar surface shape and a plate mold substrate second region surface 12 having a planar surface shape. The plate mold substrate 1 is made of copper and has a substantially flat plate shape with a thickness of 7.0 mm, a width of 125 mm, and a length of 90 mm.
Next, a conventional sheet-like dry film resist material was attached to the surface of the mold substrate 1. As the conventional sheet-like dry film resist material, a sheet-like dry film resist material having a thickness of about 0.02 mm to about 0.04 mm was selected from commercially available sheet-like dry film resist materials and used.
This sheet-like dry film resist material was attached to the plate substrate, and the dry film resist material was irradiated with ultraviolet light through an exposure mask member having through holes and a desired fine graphic, letter, and picture pattern for light transmission. The resist film in unnecessary areas was removed using a commercially available conventional developer, and after-baking was performed to form a hardened resist film having a fine graphic, letter, and picture pattern as shown in Figure 9 (C).
A commercially available conventional etching solution (aqueous ferric chloride solution) was brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the resist hardened film had been formed, and the surface of the plate mold substrate on which the resist hardened film had not been attached was etched until the depth "d1" reached 0.1 mm, thereby forming a plurality of pre-formed multiple fine unevenness concave portions 462 formed in a concave shape on the plate mold substrate, and a plurality of pre-formed multiple fine unevenness convex portions 461 formed in a convex shape.
Next, the hardened resist film was removed using a resist remover (aqueous caustic soda solution).
In this manner, a plurality of preformed multiple fine unevenness convex portions 461 formed in an uneven shape and a plurality of preformed multiple fine unevenness concave portions 462 formed in a concave shape were formed by chemical corrosive etching processing using a resist hardened film formed using a conventional sheet-like dry film resist material as a corrosive etching mask.

すなわち、版型用基板第二領域表面12は凹凸のない無凹凸部を有し、版型用基板第一領域表面11は既成凹凸部4を有し、既成凹凸部4は図9(C)に示されるような微細凹凸形状で形成された既成複数微細凹凸部46を有する。既成複数微細凹凸部46は複数の凸形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凸部461と、複数の凹形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凹部462を有し、複数の既成複数微細凹凸部凸部461は複数の既成複数微細凹凸部凸部上面461aと複数の既成複数微細凹凸部凸部側面461bを有し、複数の既成複数微細凹凸部凹部462は複数の既成複数微細凹凸部凹部底面462cと複数の既成複数微細凹凸部凹部側面462bを有する。
このような、図9(C)に示されるような微細凹凸形状で形成された既成複数微細凹凸部46を有する版型用基板を準備した。
なお、前記複数の既成複数微細凹凸部凸部側面461bと前記複数の既成複数微細凹凸部凹部側面462bは、互いに同じ側面領域に相当する。
なお、図9において、複数の既成複数微細凹凸部凸部461、複数の既成複数微細凹凸部凹部462、複数の既成複数微細凹凸部凸部上面461a、複数の既成複数微細凹凸部凸部側面461b、複数の既成複数微細凹凸部凹部底面462c、複数の既成複数微細凹凸部凹部側面462bのそれぞれの符号は図示されていなく、それぞれの符号は図4に示されている符号と類似する。
That is, the second region surface 12 of the plate mold substrate has a non-relief portion without any irregularities, and the first region surface 11 of the plate mold substrate has a pre-formed irregularity portion 4, and the pre-formed irregularity portion 4 has a pre-formed multiple fine irregularity portions 46 formed in a fine irregularity shape as shown in Fig. 9(C). The pre-formed multiple fine irregularity portions 46 have a plurality of pre-formed multiple fine irregularity portion convex portions 461 formed in a plurality of convex shapes and a plurality of pre-formed multiple fine irregularity portion concave portions 462 formed in a plurality of concave shapes, the plurality of pre-formed multiple fine irregularity portion convex portions 461 have a plurality of pre-formed multiple fine irregularity portion convex portion upper surfaces 461a and a plurality of pre-formed multiple fine irregularity portion convex portion side surfaces 461b, and the plurality of pre-formed multiple fine irregularity portion concave portions 462 have a plurality of pre-formed multiple fine irregularity portion concave portion bottom surfaces 462c and a plurality of pre-formed multiple fine irregularity portion concave portion side surfaces 462b.
A plate-form substrate having a plurality of preformed minute concave-convex portions 46 formed in a minute concave-convex shape as shown in FIG. 9(C) was prepared.
The plurality of preformed fine concave-convex portion side surfaces 461b and the plurality of preformed fine concave-convex portion side surfaces 462b correspond to the same side surface region.
In addition, in Figure 9, the respective symbols of the multiple preformed multiple fine unevenness portions convex portions 461, the multiple preformed multiple fine unevenness portions concave portions 462, the multiple preformed multiple fine unevenness portions convex portion top surfaces 461a, the multiple preformed multiple fine unevenness portions convex portion side surfaces 461b, the multiple preformed multiple fine unevenness portions concave portion bottom surfaces 462c, and the multiple preformed multiple fine unevenness portions concave portion side surfaces 462b are not shown, and each symbol is similar to the symbols shown in Figure 4.

このようにして、図9(C)に示されるような、版型用基板に版型用基板に複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462とを有する既成複数微細凹凸部46を形成した。
それぞれの既成複数微細凹凸部凹部462の深さ「d1」は約0.1mmであり、既成複数微細凹凸部凸部461の高さは既成複数微細凹凸部凹部462の深さに相当する約0.1mmであった。それぞれの既成複数微細凹凸部凹部462幅「w1」は約0.05mm(約50μm)であり、既成複数微細凹凸部凸部461の幅「w2」は約0.05mm(約50μm)であった。
このようにして、複数の既成複数微細凹凸部46を有する版型用基板1を調製し、供給した。
In this manner, a preformed multiple fine unevenness portion 46 having a plurality of preformed multiple fine unevenness portion convex portions 461 and a plurality of preformed multiple fine unevenness portion concave portions 462 was formed on the plate mold substrate as shown in Figure 9 (C).
The depth "d1" of each of the preformed multiple fine unevenness portion concaves 462 was about 0.1 mm, and the height of the preformed multiple fine unevenness portion convex parts 461 was about 0.1 mm corresponding to the depth of the preformed multiple fine unevenness portion concaves 462. The width "w1" of each of the preformed multiple fine unevenness portion concaves 462 was about 0.05 mm (about 50 μm), and the width "w2" of the preformed multiple fine unevenness portion convex parts 461 was about 0.05 mm (about 50 μm).
In this manner, the plate mold substrate 1 having a plurality of preformed fine concave-convex portions 46 was prepared and supplied.

(B)所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成するインクジェットレジスト硬化膜形成工程.
上記のようにして調製した複数の既成複数微細凹凸部46を有する版型用基板1を使用して、インクジェットレジスト材2をインクジェット方式で付着して、版型用基板1の複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462との既成複数微細凹凸部46を覆って既成複数微細凹凸部インクジェットレジスト付着膜を形成した。この場合、複数の既成複数微細凹凸部凸部上面461a、複数の既成複数微細凹凸部凸部側面461b)、及び、複数の既成複数微細凹凸部凹部側面462b、複数の既成複数微細凹凸部凹部底面462cにインクジェットレジスト材が付着していることを確認した。
(B) A process of forming a hardened inkjet resist film 3 in a desired area.
Using the plate mold substrate 1 having the plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portions 46 prepared as described above, the inkjet resist material 2 was adhered by an inkjet method to form a pre-formed multiple fine concave-convex portion inkjet resist adhered film covering the pre-formed multiple fine concave-convex portions 46 of the plate mold substrate 1, which are the plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portion convex portions 461 and the plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portion concave portions 462. In this case, it was confirmed that the inkjet resist material was adhered to the plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portion convex portion top surfaces 461a, the plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portion convex portion side surfaces 461b), the plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portion concave portion side surfaces 462b, and the plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portion concave bottom surfaces 462c.

本工程において、マイクロクラフト社製のオンデマンド・インクジェット印刷システム装置を使用した。インクジェットレジスト材としては、電子部品としての金属配線板の製造に汎用使用されている市販されているインクジェットレジスト材のうち、紫外線照射により化学反応して3次元化学構造に架橋する性質を有するとともに、10mPa・s~20mPa・s(25℃)の粘度のインクジェットレジスト材(前述の実施例1Aの(B)工程で使用したものと同じインクジェットレジスト材)を選択して使用し、吐出ノズルから吐出される液滴量が2pl~15plの条件で付着した。そして、版型用基板に付着形成された上記のインクジェットレジスト付着膜に紫外線を照射し、その後、120℃で10分間のバーニングを行って、硬化された所望領域インクジェットレジスト微細凸部上面硬化膜3e、所望領域インクジェットレジスト微細凸部側面硬化膜3f、及び、所望領域インクジェットレジスト微細凹部底面硬化膜3gを形成した。それぞれの所望領域インクジェットレジスト硬化膜の厚さは0.03mm~0.05mmの範囲であった。
このようにして、それぞれの所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成した。
In this step, an on-demand inkjet printing system device manufactured by Microcraft was used. As the inkjet resist material, an inkjet resist material (the same inkjet resist material as used in step (B) of the above-mentioned Example 1A) having a property of chemically reacting with ultraviolet light to crosslink into a three-dimensional chemical structure and having a viscosity of 10 mPa·s to 20 mPa·s (25°C) was selected and used from among commercially available inkjet resist materials that are widely used in the manufacture of metal wiring boards as electronic components, and was attached under the condition that the amount of droplets discharged from the discharge nozzle was 2 pl to 15 pl. Then, the above-mentioned inkjet resist attached film formed on the plate mold substrate was irradiated with ultraviolet light, and then burning was performed at 120°C for 10 minutes to form a hardened desired area inkjet resist fine convex upper surface hardened film 3e, desired area inkjet resist fine convex side surface hardened film 3f, and desired area inkjet resist fine concave bottom surface hardened film 3g. The thickness of each desired area inkjet resist hardened film was in the range of 0.03 mm to 0.05 mm.
In this manner, the inkjet resist cured film 3 was formed in each desired area.

(C)所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が付着されていない前記版型用基板第二領域表面12をエッチングする版型用基板エッチング工程.
次に、所望領域インクジェットレジスト微細凸部上面硬化膜3e、所望領域インクジェットレジスト微細凸部側面硬化膜3f、及び、所望領域インクジェットレジスト微細凹部底面硬化膜3gとを形成した版型用基板1の表面にエッチング液を接触して、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が付着されていない版型用基板1の版型用基板第二領域表面12を深さが約1.9mmになる迄エッチングし、これにより、エッチングされて凹部形状を有するインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成するとともに、既成複数微細凹凸部46がインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121から突出してなるインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466を形成した。
(C) A step of etching the plate mold substrate, which etches the second region surface 12 of the plate mold substrate to which the desired region inkjet resist cured film 3 is not attached.
Next, an etching liquid is brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the desired region inkjet resist fine convex portion top surface hardened film 3e, the desired region inkjet resist fine convex portion side surface hardened film 3f, and the desired region inkjet resist fine recess bottom surface hardened film 3g are formed, and the plate mold substrate second region surface 12 of the plate mold substrate 1 to which the desired region inkjet resist hardened film 3 is not attached is etched to a depth of approximately 1.9 mm, thereby forming an inkjet resist film etched second recess formation portion 121 having an etched recess shape, and also forming an inkjet film etched pre-formed multiple fine recess protrusion portion 466 in which the pre-formed multiple fine recesses 46 protrude from the inkjet resist film etched second recess formation portion 121.

(D)所望領域インクジェットレジスト硬化膜除去工程.
所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を除去した。
これにより、エッチングされてなるインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成するとともに、複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462を有する既成複数微細凹凸部46を備えたインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466を形成した。
(D) Step of removing the hardened inkjet resist film from the desired area.
The inkjet resist cured film 3 was removed from the desired area.
This forms an etched inkjet resist film corrosion second recess formation portion 121, and also forms an inkjet film corrosion pre-formed multiple fine unevenness protrusion portion 466 having a pre-formed multiple fine unevenness portion 46 having a plurality of pre-formed multiple fine unevenness portion convex portions 461 and a plurality of pre-formed multiple fine unevenness portion concave portions 462.

既成複数微細凹凸部凹部462の深さ「d1」は約0.1mm(100μm)であり、既成複数微細凹凸部凸部461の高さ「d1」は既成複数微細凹凸部凹部462の深さ「d1」に相当する約0.1mm(100μm)であった。既成複数微細凹凸部凹部462の幅「w2」は約0.05mm(50μm)であり既成複数微細凹凸部凸部461の幅「w1」は約0.05mm(約50μm)であった。
また、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の深さ「d12」は、約1.9mmであった。
The depth "d1" of the existing multiple fine unevenness portion concave portion 462 was about 0.1 mm (100 μm), and the height "d1" of the existing multiple fine unevenness portion convex portion 461 was about 0.1 mm (100 μm), which corresponds to the depth "d1" of the existing multiple fine unevenness portion concave portion 462. The width "w2" of the existing multiple fine unevenness portion concave portion 462 was about 0.05 mm (50 μm), and the width "w1" of the existing multiple fine unevenness portion convex portion 461 was about 0.05 mm (about 50 μm).
The depth "d12" of the inkjet resist film etched second recess formation portion 121 was about 1.9 mm.

なお、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の側面には、サイドエッチング現象が生じていなく、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の側面は、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の底面からインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466に向かって滑らかな所望の傾斜した側面を有することを確認した。
また、複数の既成複数微細凹凸部凹部462の側面(複数の既成複数微細凹凸部凸部461の側面に相当)は、エッチングされることなく、正常な所望の形状を維持していたことを確認した。
このようにして、図9(C)に示されるような既成複数微細凹凸部46a、46b、46cを有し、それぞれの既成複数微細凹凸部46a、46b、46cが図9の(D-a)、(D-b)、(D-c)に示されるような既成複数微細凹凸部を形成してなる箔押用版を製造した。
Furthermore, it was confirmed that no side etching phenomenon occurred on the side of the inkjet resist film etched second recess formation portion 121, and that the side of the inkjet resist film etched second recess formation portion 121 has a smooth, desired inclined side from the bottom surface of the inkjet resist film etched second recess formation portion 121 toward the inkjet film etched pre-formed multiple fine unevenness portion protrusion portion 466.
It was also confirmed that the side surfaces of the multiple preformed multiple fine unevenness concave portions 462 (corresponding to the side surfaces of the multiple preformed multiple fine unevenness convex portions 461) were not etched and maintained the normal desired shape.
In this manner, a foil stamping plate was produced having preformed multiple fine uneven portions 46a, 46b, 46c as shown in Figure 9(C), with each of the preformed multiple fine uneven portions 46a, 46b, 46c forming preformed multiple fine uneven portions as shown in Figures 9(D-a), (D-b), and (D-c).

なお、本実施例において、所望の形状精度や寸法精度を有する正常な所望の既成複数微細凹凸部46を有するとともに、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の底面から突出してなる突出形状を有する所望のインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466が形成されていることを確認した。
また、所望の既成複数微細凹凸部凸部側面461b(既成複数微細凹凸部凹部側面462b)には窪んだ状態でエッチングされたサイドエッチング現象が生じていなく、所望の形状精度や寸法精度を有していることを確認した。
In addition, in this embodiment, it was confirmed that the desired pre-formed multiple fine unevenness portions 46 having the desired shape accuracy and dimensional accuracy were formed, and the desired inkjet film corrosion pre-formed multiple fine unevenness portion protrusion portions 466 having a protruding shape protruding from the bottom surface of the inkjet resist film corrosion second recess formation portion 121 were formed.
Furthermore, it was confirmed that the side surface 461b of the convex portion of the pre-formed multiple fine concave-convex portions (side surface 462b of the pre-formed multiple fine concave-convex portions) does not suffer from the side etching phenomenon in which the portion is etched in a recessed state, and that the desired shape accuracy and dimensional accuracy are obtained.

<実施例3A-a(実施例3Aの押圧加工用版を使用した被加工物の加工)>
本実施例は、上記の実施例3Aにおいて製造した押圧加工用版10を、平圧加圧式加工装置の型押用版10として使用して、被加工物基材108aとしての厚さ1mmの紙製シートと、厚さ約30μmの薄い金色のシート状箔材料108bとの被加工物108とを使用して箔押加工するものである。
下記の工程によって被加工物を箔押加工した。
(S-a)実施例3Aにおいて製造した既成凹凸部4を形成した押圧加工用版10としての箔押用版10を準備した。
(S-b)図16(A)に示されるように、互いに対向する第一基盤92と第二基盤93を備えた押圧加工装置を準備した。
(S-d)別途調製した滑らかな平面を有するステンレス製の受版94を、押圧加工装置の第二基盤93に設置した。
(S-e)この状態で、押圧加工用版10(型押用版)と受版94との間に、被加工物108としての厚さ約1mmの紙製シート108aと厚さ約30μmの黄金色のシート状箔材料とを位置し、その状態で、慣用の駆動方法により第一基盤92と第二基盤93のうちの少なくとも一つの基盤を駆動して、押圧加工用版10と受版94とが被加工物108を押圧した。
これにより、紙製シート108aの表面に、金色のシート状箔材料108bが既成凹凸部4の凹凸形状に一致する凹凸形状で転写形成された被加工物凹凸形成部を形成した。
(S-f)押圧加工用版10(箔押用版)と受版94のうちの少なくとも一つの基盤を駆動して、押圧加工用版10(箔押用版)と受版94とを互いに離反して、被加工物への押圧を解除した。
これにより、紙製シート108aに、約0.1mmの深さの凹凸形状で形成された図文字絵柄模様がシート状箔材料108bにより箔押転写形成された加工物を調製した。
<Example 3A-a (Processing of workpiece using the pressing plate of Example 3A)>
In this embodiment, the pressing plate 10 manufactured in the above-mentioned Example 3A is used as the embossing plate 10 of a flat pressure processing device to perform foil stamping on a workpiece 108 consisting of a 1 mm thick paper sheet as the workpiece base material 108a and a thin gold sheet-like foil material 108b having a thickness of approximately 30 μm.
The workpiece was stamped using the following process.
(Sa) A foil stamping plate 10 was prepared as the pressing plate 10 having the preformed uneven portion 4 formed thereon, which was manufactured in Example 3A.
(Sb) As shown in FIG. 16(A), a pressing device having a first base 92 and a second base 93 facing each other was prepared.
(Sd) A separately prepared stainless steel receiving plate 94 having a smooth flat surface was placed on the second base 93 of the pressing device.
(S-e) In this state, a paper sheet 108a with a thickness of approximately 1 mm and a golden-colored sheet-like foil material with a thickness of approximately 30 μm were positioned between the pressing plate 10 (embossing plate) and the receiving plate 94 as the workpiece 108, and in this state, at least one of the first base 92 and the second base 93 was driven by a conventional driving method, so that the pressing plate 10 and the receiving plate 94 pressed the workpiece 108.
This resulted in the formation of a workpiece unevenness portion in which the gold sheet-like foil material 108b was transferred onto the surface of the paper sheet 108a in an uneven shape that matched the uneven shape of the existing unevenness portion 4.
(S-f) At least one of the bases of the pressing plate 10 (foil stamping plate) and the receiving plate 94 was driven to move the pressing plate 10 (foil stamping plate) and the receiving plate 94 away from each other, thereby releasing the pressure on the workpiece.
This resulted in the preparation of a processed product in which a graphic pattern formed in an uneven shape with a depth of about 0.1 mm was stamped and transferred onto the paper sheet 108a using the sheet-like foil material 108b.

この場合、紙製シート108a及びシート状箔材料108b等の被加工物108に、何らの異常が発生することなく、所望の形状精度や寸法精度を有する凹凸形状で形成された図文字絵柄模様を箔押転写形成した加工物が得られた。In this case, no abnormalities occurred in the workpiece 108, such as the paper sheet 108a and the sheet-like foil material 108b, and a workpiece was obtained in which a graphic, letter, and picture pattern formed in an uneven shape with the desired shape accuracy and dimensional accuracy was formed by foil stamping.

上記のようにして調製した加工物において、加工物を異なる方向から見た場合に、それぞれの異なる方向で、「H」、「T」、及び、「Z」の文字が他の文字と比較して明確に見えることを確認した。In the workpiece prepared as described above, it was confirmed that when the workpiece was viewed from different directions, the letters "H," "T," and "Z" were clearly visible compared to other letters in each different direction.

<比較例3B(慣用液状レジスト材を使用した押圧加工用版の製造)>
本比較例は、上記の実施例3Bの(B)工程において、インクジェットレジスト材に替えて従来の慣用液状レジスト材を使用してインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成する押圧加工用版の製造方法である。
Comparative Example 3B (Production of a press-processing plate using a conventional liquid resist material)
This comparative example is a manufacturing method of a pressing plate in which a conventional liquid resist material is used instead of the inkjet resist material in step (B) of Example 3B described above to form the inkjet resist film etched second recess forming portion 121.

(A)既成複数凹凸部46有する版型用基板第一領域表面11と版型用基板第二領域表面12を備えた版型用基板1を調製し、供給する工程.
前述の実施例3Bの(A)工程と同じ工程により、平面表面形状を有する版型用基板第一領域表面11と平面表面形状を有する版型用基板第二領域表面12を備えた平面表面形状を有する版型用基板1を準備して供給した。版型用基板1は、銅製であって、厚さ7.0mm、横幅125mm、縦幅90mmの略平板形状を有する。
次に、版型用基板1の表面に、上記の実施例3Bの(A)工程で使用したものと同じの従来の慣用のシート状ドライフィルムレジスト材を貼り付けた。従来の慣用のシート状ドライフィルムレジスト材は市販されているシート状ドライフィルムレジスト材のうち、厚さ寸法は約0.02mm~約0.04mmのシート状ドライフィルムレジスト材を選択して使用した。
このシート状ドライフィルムレジスト材を貼り付けた版型用基板に、貫通孔を有して光透過用の所望の微細図文字絵柄模様を形成した露光用マスク部材を介して、従来の慣用の方法により、ドライフィルムレジスト材に紫外線を照射し、現像液を使用して不要な領域のレジスト付着膜を除去して、微細図文字絵柄模様を有するレジスト硬化膜を形成した。
そして、従来慣用の方法により、そのレジスト硬化膜を腐蝕エッチング用マスクとして版型用基板を腐蝕エッチングして、複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462とを有する既成複数微細凹凸部46を形成した。
それぞれの既成複数微細凹凸部凹部462の深さ「d1」は約0.1mmであり、既成複数微細凹凸部凸部(461)の高さは既成複数微細凹凸部凹部462の深さに相当する約0.1mmであった。それぞれの既成複数微細凹凸部凹部462幅「w1」は約0.05mm(50μm)であり、既成複数微細凹凸部凸部461の幅「w2」は約0.05mm(50μm)であった。
このようにして複数の既成複数微細凹凸部46を有する版型用基板1を調製し、供給した。
(A) A step of preparing and supplying a plate mold substrate 1 having a plate mold substrate first area surface 11 and a plate mold substrate second area surface 12 having a plurality of preformed concave and convex portions 46.
A plate mold substrate 1 having a planar surface shape was prepared and supplied using the same process as process (A) of Example 3B described above, which includes a plate mold substrate first region surface 11 having a planar surface shape and a plate mold substrate second region surface 12 having a planar surface shape. The plate mold substrate 1 was made of copper and had a generally flat plate shape with a thickness of 7.0 mm, a width of 125 mm, and a length of 90 mm.
Next, the same conventional sheet-like dry film resist material as that used in step (A) of Example 3B above was attached to the surface of the mold substrate 1. The conventional sheet-like dry film resist material was a commercially available sheet-like dry film resist material having a thickness of about 0.02 mm to about 0.04 mm.
This sheet-like dry film resist material was attached to a plate substrate, and ultraviolet light was irradiated onto the dry film resist material in a conventional manner through an exposure mask member having through holes and forming the desired fine graphic, letter, and picture pattern for light transmission. A developer was then used to remove the resist film from unnecessary areas, thereby forming a hardened resist film having a fine graphic, letter, and picture pattern.
Then, using a conventional method, the mold substrate was corroded and etched using the resist hardened film as a corrosive etching mask to form a preformed multiple fine concave-convex portion 46 having a plurality of preformed multiple fine concave-convex portion convex portions 461 and a plurality of preformed multiple fine concave-convex portion concave portions 462.
The depth "d1" of each of the preformed multiple fine unevenness concaves 462 was about 0.1 mm, and the height of the preformed multiple fine unevenness convex parts (461) was about 0.1 mm, which corresponds to the depth of the preformed multiple fine unevenness concaves 462. The width "w1" of each of the preformed multiple fine unevenness concaves 462 was about 0.05 mm (50 μm), and the width "w2" of the preformed multiple fine unevenness convex parts 461 was about 0.05 mm (50 μm).
In this manner, the plate mold substrate 1 having a plurality of preformed fine concave-convex portions 46 was prepared and supplied.

(B)従来の慣用の慣用レジスト硬化膜形成工程.
複数の既成複数微細凹凸部46を有する版型用基板1を使用して、複数の既成複数微細凹凸部凸部上面461aと複数の既成複数微細凹凸部凸部側面461bと複数の既成複数微細凹凸部凹部底面462cと複数の既成複数微細凹凸部凹部側面462bを覆って、慣用液状レジスト材2(製版、プリント基板の腐蝕エッチングのために汎用に使用されている慣用の液状レジスト材であって、市販されている汎用の慣用液状レジスト材のうちから所望の慣用液状レジスト材(前述の実施例1Aの(A)工程で使用したものと同じ慣用液状レジスト材)を慣用のスプレーコート方式によって塗布して液状レジスト付着膜を形成し、慣用の方法で乾燥してレジスト付着膜を形成した。
なお、既成複数微細凹凸部46の周囲領域に位置する版型用基板第二領域表面12には液状レジスト材2は付着されない。
その後、所望の形状の部材(部材を版型用基板の表面に設置した場合に、版型用基板の版型用基板第一領域表面11に形成された「複数の既成複数微細凹凸部46」領域に相当する部分に貫通孔を有するとともに周囲領域に光遮断用部分を有する露光用マスク部材)を介して、紫外線照射露光、現像、アフターベーキング、等の慣用の方法により、付着したレジスト付着膜を硬化して、慣用レジスト微細凸部上面硬化膜30eと慣用レジスト微細凹部底面硬化膜30gを形成する慣用レジスト硬化膜30を形成した。但し、既成複数微細凹凸部凸部側面461b(既成複数微細凹凸部凹部側面462b)に付着した慣用レジスト材は既成複数微細凹凸部凹部の底面に流れ落ちて、慣用レジスト微細凹部側面硬化膜(慣用レジスト微細凸部側面硬化膜)は形成されなかった。
慣用レジスト硬化膜30の厚さは約0.02mm~約0.04mmの範囲であった。
(B) A conventional resist hardened film forming process.
Using a plate mold substrate 1 having a plurality of preformed multiple fine concave-convex portions 46, the plurality of preformed multiple fine concave-convex portion convex portion top surfaces 461a, the plurality of preformed multiple fine concave-convex portion convex portion side surfaces 461b, the plurality of preformed multiple fine concave-convex portion concave bottom surfaces 462c, and the plurality of preformed multiple fine concave-convex portion concave side surfaces 462b were covered with a conventional liquid resist material 2 (a conventional liquid resist material that is generally used for plate making and corrosive etching of printed circuit boards, and a desired conventional liquid resist material (the same conventional liquid resist material as used in step (A) of the above-mentioned Example 1A) from among commercially available general-purpose conventional liquid resist materials) by a conventional spray coating method to form a liquid resist adhesion film, and the film was dried by a conventional method to form a resist adhesion film.
The liquid resist material 2 is not applied to the second region surface 12 of the mold substrate located in the surrounding area of the preformed multiple fine projections and recesses 46 .
Thereafter, the attached resist film was hardened by conventional methods such as ultraviolet light exposure, development, and after-baking through a member of a desired shape (an exposure mask member having through holes in the area corresponding to the "multiple pre-formed multiple fine concave-convex portions 46" area formed on the first region surface 11 of the plate mold substrate when the member is placed on the surface of the plate mold substrate and having a light-shielding portion in the surrounding area) to form a conventional resist hardened film 30 that forms a conventional resist fine convex portion top surface hardened film 30e and a conventional resist fine concave portion bottom surface hardened film 30g. However, the conventional resist material attached to the pre-formed multiple fine concave-convex portion convex portion side surface 461b (pre-formed multiple fine concave-convex portion concave portion side surface 462b) flowed down to the bottom surface of the pre-formed multiple fine concave-convex portion concave portion, and a conventional resist fine concave portion side surface hardened film (conventional resist fine convex portion side surface hardened film) was not formed.
The thickness of the conventional resist hardened film 30 ranged from about 0.02 mm to about 0.04 mm.

本工程において、慣用の液状トレジスト材は、既成複数微細凹凸部凸部上面461aと複数の既成複数微細凹凸部凹部底面462cに良好に付着形成されて、所望の領域に硬化された慣用レジスト微細凸部上面硬化膜30eと慣用レジスト微細凹部底面硬化膜30gとを良好に形成していたが、しかしながら、慣用液状レジスト材は、既成複数微細凹凸部凸部側面461b(既成複数微細凹凸部凹部側面462bから流れ落ちて、既成複数微細凹凸部凸部側面461b(既成複数微細凹凸部凹部側面462bには硬化膜は形成されなかった。In this process, the conventional liquid resist material was well adhered to the convex portion upper surfaces 461a of the existing multiple fine unevenness portions and the concave portion bottom surfaces 462c of the existing multiple fine unevenness portions, and well formed the conventional resist fine convex portion upper surface hardened film 30e and the conventional resist fine concave portion bottom surface hardened film 30g which were hardened in the desired regions; however, the conventional liquid resist material flowed down from the convex portion side surfaces 461b of the existing multiple fine unevenness portions (concave portion side surfaces 462b of the existing multiple fine unevenness portions), and no hardened film was formed on the convex portion side surfaces 461b of the existing multiple fine unevenness portions (concave portion side surfaces 462b of the existing multiple fine unevenness portions).

(C)腐蝕エッチング工程.
慣用レジスト微細凸部上面硬化膜30eと、慣用レジスト微細凹部底面硬化膜30gとを形成した版型用基板1の表面にエッチング液(塩化第二鉄水溶液)をパドル吹上方式で接触して、慣用レジスト硬化膜が付着されていない版型用基板第二領域表面12を深さ寸法が約0.1mmになるまでエッチングして、エッチング途中の腐蝕第二凹形成部121bを形成した。この場合、既成複数微細凹凸部凸部側面461b(既成複数微細凹凸部凹部側面462b)には僅かなサイドエッチングが生じていた。また、既成複数微細凹凸部凹部底面462cも腐蝕エッチングされていた。
(C) Corrosive Etching Process.
The surface of the plate mold substrate 1 on which the conventional resist fine convex upper surface hardened film 30e and the conventional resist fine concave bottom surface hardened film 30g were formed was contacted with an etching solution (aqueous ferric chloride solution) by a paddle blowing method, and the plate mold substrate second region surface 12 on which the conventional resist hardened film was not attached was etched until the depth dimension was about 0.1 mm, forming the second concave forming portion 121b corroded during etching. In this case, slight side etching occurred on the convex portion side surface 461b of the already formed multiple fine concave portions (the concave portion side surface 462b of the already formed multiple fine concave portions). In addition, the concave bottom surface 462c of the already formed multiple fine concave portions was also corroded and etched.

更にエッチングを続行して版型用基板第二領域表面12を深さ寸法が約1.9mmになるまでエッチングした。
これにより、版型用基板第二領域表面12をエッチングして、エッチングされてなる凹部形状を有する従来慣用の腐蝕第二凹形成部121sを形成するとともに、既成複数微細凹凸部46を、該従来慣用の腐蝕第二凹形成部121sから突出されてなる形態を形成した。
Etching was continued further to etch the second region surface 12 of the plate mold substrate until the depth dimension reached about 1.9 mm.
As a result, the second area surface 12 of the mold substrate is etched to form a conventional corroded second recess formation portion 121s having an etched recess shape, and the pre-formed multiple fine recess and protrusion portions 46 are formed in a shape protruding from the conventional corroded second recess formation portion 121s.

(D)慣用レジスト硬化膜除去工程.
慣用レジスト微細凸部上面硬化膜30eと、慣用レジスト微細凹部底面硬化膜30gをレジスト除去剤(苛性ソータ水溶液、又は、水酸化ナトリウム水溶液)を使用して除去した。
(D) Conventional resist hardened film removal step.
The conventional resist fine convex upper surface hardened film 30e and the conventional resist fine concave bottom surface hardened film 30g were removed using a resist remover (caustic soda solution or sodium hydroxide solution).

このような前述の「(C)腐蝕エッチング工程」において、硬化膜が付着形成されていない既成複数微細凹凸部凸部側面461b(既成複数微細凹凸部凹部側面462b)も腐蝕エッチングされて、サイドエッチングされた既成複数微細凹凸部凸部側面461s(複数のサイドエッチングされた既成複数微細凹凸部凹部側面462s)が生じていた。すなわち、所望の形状精度や寸法精度を有する押圧加工用版が得られなかった。
このようなサイドエッチングされた既成複数微細凹凸部凸部側面461s(複数のサイドエッチングされた既成複数微細凹凸部凹部側面462s)は所望の形状ではなく、好ましくない形状であり、このようなサイドエッチングされた微細凹凸部を形成した押圧加工用版型を使用して被加工物を加工した場合に、所望の凹凸形状に加工された加工物が得られないという課題があり、好ましくない。
In the above-mentioned "(C) corrosion etching step", the side surface 461b of the convex portion of the already-formed multiple fine concave-convex portions (side surface 462b of the already-formed multiple fine concave-convex portions) on which no hardened film was attached was also corroded and etched, resulting in side-etched side surfaces 461s of the already-formed multiple fine concave-convex portions (side-etched side surfaces 462s of the already-formed multiple fine concave-convex portions). In other words, a pressing plate having the desired shape accuracy and dimensional accuracy was not obtained.
Such side-etched convex side surfaces 461s of pre-formed multiple fine concave-convex portions (multiple side-etched concave side surfaces 462s of pre-formed multiple fine concave-convex portions) are not the desired shape but are an undesirable shape, and when a workpiece is processed using a pressing mold on which such side-etched fine concave-convex portions are formed, there is a problem that a workpiece processed into the desired concave-convex shape cannot be obtained, which is undesirable.

<比較例3B-a(比較例3Bの押圧加工用版を使用した被加工物の加工)>
本比較例は、上記の比較例3Bにおいて製造した押圧加工用版10を、平圧加圧式加工装置の型押用版10として使用して、被加工物基材108aとしての厚さ1mmの紙製シートと、厚さ約30μmの薄い金色のシート状箔材料108bとの被加工物108とを使用して箔押加工するものである。
下記の工程によって被加工物を箔押加工した。
(S-a)比較例3Aにおいて製造した既成凹凸部4を形成した押圧加工用版10としての箔押用版10を準備した。
(S-b)図16(A)に示されるように、互いに対向する第一基盤92と第二基盤93を備えた押圧加工装置を準備した。
(S-d)別途調製した滑らかな平面を有するステンレス製の受版94を、押圧加工装置の第二基盤93に設置した。
(S-e)この状態で、押圧加工用版10(型押用版)と受版94との間に、被加工物108としての厚さ約1mmの紙製シート108aと厚さ約30μmの金色のシート状箔材料とを位置し、その状態で、慣用の駆動方法により第一基盤92と第二基盤93のうちの少なくとも一つの基盤を駆動して、押圧加工用版10と受版94とが被加工物108を押圧した。
これにより、紙製シート108aの表面に、金色のシート状箔材料108bが既成凹凸部4の凹凸形状に一致する凹凸形状で転写形成された被加工物凹凸形成部を形成した。
(S-f)押圧加工用版10(箔押用版)と受版94のうちの少なくとも一つの基盤を駆動して、押圧加工用版10(箔押用版)と受版94とを互いに離反して、被加工物への押圧を解除した。
これにより、紙製シート108aに、約0.1mmの深さの凹凸形状で形成された図文字絵柄模様がシート状箔材料108bにより箔押転写形成された加工物を調製した。
<Comparative Example 3B-a (Processing of workpiece using the pressing plate of Comparative Example 3B)>
In this comparative example, the pressing plate 10 manufactured in the above comparative example 3B is used as the embossing plate 10 of a flat pressure processing device, and foil stamping is performed on a workpiece 108 consisting of a 1 mm thick paper sheet as the workpiece base material 108a and a thin gold sheet-like foil material 108b having a thickness of approximately 30 μm.
The workpiece was stamped using the following process.
(Sa) A foil stamping plate 10 was prepared as the pressing plate 10 having the preformed uneven portion 4 formed thereon, which was manufactured in Comparative Example 3A.
(Sb) As shown in FIG. 16(A), a pressing device having a first base 92 and a second base 93 facing each other was prepared.
(Sd) A separately prepared stainless steel receiving plate 94 having a smooth flat surface was placed on the second base 93 of the pressing device.
(S-e) In this state, a paper sheet 108a with a thickness of approximately 1 mm and a gold sheet-like foil material with a thickness of approximately 30 μm were positioned between the pressing plate 10 (embossing plate) and the receiving plate 94 as the workpiece 108, and in this state, at least one of the first base 92 and the second base 93 was driven by a conventional driving method, so that the pressing plate 10 and the receiving plate 94 pressed the workpiece 108.
This resulted in the formation of a workpiece unevenness portion in which the gold sheet-like foil material 108b was transferred onto the surface of the paper sheet 108a in an uneven shape that matched the uneven shape of the existing unevenness portion 4.
(S-f) At least one of the bases of the pressing plate 10 (foil stamping plate) and the receiving plate 94 was driven to move the pressing plate 10 (foil stamping plate) and the receiving plate 94 away from each other, thereby releasing the pressure on the workpiece.
This resulted in the preparation of a processed product in which a graphic pattern formed in an uneven shape with a depth of about 0.1 mm was stamped and transferred onto the paper sheet 108a using the sheet-like foil material 108b.

この場合、微細凹凸形状で形成された微細図文字絵柄模様に乱れ箇所が確認されるなど、所望の形状精度、寸法精度の加工物が得られなかった。また、繰り返し押圧加工しているときに、被加工物基材108aとシート状箔材料108bの被加工物108が、押圧加工用版から離れることなく、押圧加工用版に引っ付き又は引っ掛かり状態で、離反駆動される現象が一部認められた。
すなわち、押圧加工用版のサイドエッチングされた既成複数微細凹凸部凸部側面461s(複数のサイドエッチングされた既成複数微細凹凸部凹部側面462s)が形成された形状に起因して、そのサイドエッチングの形状により、所望の形状精度、寸法精度の微細図文字絵柄模様を有する加工物が得られなかった。
In this case, disturbances were observed in the fine graphic pattern formed by the fine uneven shape, and the processed product could not have the desired shape accuracy and dimensional accuracy. In addition, during repeated pressing, a phenomenon was observed in which the workpiece 108, which is the workpiece base material 108a and the sheet-like foil material 108b, was driven to separate from the pressing plate while being stuck or caught on the pressing plate.
In other words, due to the shape of the side-etched pre-formed multiple fine unevenness convex portion side surface 461s (multiple side-etched pre-formed multiple fine unevenness concave portion side surface 462s) of the pressing processing plate, the shape of the side etching did not allow for the production of a workpiece having a fine graphic, letter, and pattern with the desired shape accuracy and dimensional accuracy.

<実施例4A(押圧加工用版としての箔押用版の製造)>
本実施例は、前述の「従属構成10」に類似する押圧加工用版の製造方法であり、図7、図8(F)に示される押圧加工用版であって、複数個の凹部と、凹部から突出した複数個の凸部を備え、一つの凸部の表面に「微細凹凸形状で形成された微細図文字絵柄模様」を有し、他の二つのそれぞれの凸部に「凹凸形状で形成された図文字絵柄模様」を有する押圧加工用版の製造方法である。本押圧加工用版は箔押用型版、又は、型押用版として使用される。
なお、本実施例において、インクジェッレジスト材を使用する工程を含む工程により、既成複数凹凸部45及び既成複数微細凹凸部46を形成し、既成複数凹凸部45及び既成複数微細凹凸部46を形成した版型用基板を、インクジェットレジスト材を使用する工程を含む工程により、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成するとともに、既成複数凹凸部45と既成複数微細凹凸部46がインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の底面から突出してなる突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部455とインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466に形成されてなる形態に調製した。
図7は本発明の一実施例の押圧加工用版の製造方法の製造工程を説明するための模式的概略図である。図8は本発明の一実施例の押圧加工用版の製造方法における押圧加工用版に凹凸で形成された図文字絵柄模様形態を説明するための模式的概略図の模式的平面図であり、本実施例は図8(F)に示される箔押用版である。
以下に本実施例を詳細に説明する。
<Example 4A (Production of a foil stamping plate as a pressing processing plate)>
This embodiment is a method for manufacturing a pressing plate similar to the above-mentioned "subordinate configuration 10", and is a method for manufacturing a pressing plate as shown in Figures 7 and 8 (F), which has a plurality of recesses and a plurality of protrusions protruding from the recesses, with a "fine graphic character pattern formed in a fine uneven shape" on the surface of one of the protrusions, and with "graphic character pattern formed in an uneven shape" on each of the other two protrusions. This pressing plate is used as a foil stamping mold plate or an embossing plate.
In this embodiment, pre-formed multiple uneven portions 45 and pre-formed multiple fine uneven portions 46 are formed by a process including a process using an inkjet resist material, and the mold substrate on which the pre-formed multiple uneven portions 45 and pre-formed multiple fine uneven portions 46 are formed is subjected to a process including a process using an inkjet resist material to form an inkjet resist film corrosion second recess formation portion 121, and the pre-formed multiple uneven portions 45 and the pre-formed multiple fine uneven portions 46 are formed into inkjet film corrosion pre-formed multiple uneven portion protrusion portion 455 and inkjet film corrosion pre-formed multiple fine uneven portion protrusion portion 466 having protruding shapes protruding from the bottom surface of the inkjet resist film corrosion second recess formation portion 121.
Fig. 7 is a schematic diagram for explaining the manufacturing process of a method for manufacturing a press plate according to an embodiment of the present invention. Fig. 8 is a schematic plan view of a schematic diagram for explaining a graphic character pattern formed by projections and recesses on a press plate in a method for manufacturing a press plate according to an embodiment of the present invention. This embodiment is a foil stamping plate shown in Fig. 8(F).
This embodiment will be described in detail below.

(A)既成複数凹凸部45と既成複数微細凹凸部46を有する版型用基板第一領域表面11と版型用基板第二領域表面12を備えた版型用基板1を調製し、供給する工程.
(A-a)平面表面形状を有する版型用基板第一領域表面11と平面表面形状を有する版型用基板第二領域表面12を備えた平面表面形状を有する版型用基板1を準備して供給した。版型用基板1は、真鍮製であって、厚さ7.0mm、横幅125mm、縦幅90mmの略平板形状を有する。(図示無し)
(A) A step of preparing and supplying a plate mold substrate 1 having a plate mold substrate first area surface 11 and a plate mold substrate second area surface 12 having a preformed multiple concave-convex portion 45 and a preformed multiple fine concave-convex portion 46.
(A-a) A plate mold substrate 1 having a planar surface shape was prepared and supplied, which includes a plate mold substrate first region surface 11 having a planar surface shape and a plate mold substrate second region surface 12 having a planar surface shape. The plate mold substrate 1 was made of brass and had a generally flat plate shape with a thickness of 7.0 mm, a width of 125 mm, and a length of 90 mm (not shown).

次に、版型用基板1の表面に、図8(F)に示されるような模様のうち、「ハート模様の微細図文字絵柄模様」のみを、インクジェッレジスト材を使用してレジスト硬化膜を形成した。
本工程において、マイクロクラフト社製のオンデマンド・インクジェット印刷システム装置を使用した。インクジェットレジスト材としては、電子部品としての金属配線板の製造に汎用使用されている市販されているインクジェットレジスト材のうち、市販されているインクジェットレジスト材のうち、前述の実施例1Aの(B)工程で使用したインクジェットレジスト材と同じであって、紫外線照射により化学反応して3次元化学構造に架橋する性質を有するとともに、「10mPa・s~20mPa・s(25℃)の粘度のインクジェットレジスト材」を選択して使用し、吐出ノズルから吐出される液滴量が2pl~15plの条件で付着した。そして、版型用基板に付着形成された上記のインクジェットレジスト付着膜に紫外線を照射し、その後、バーニングを行って、所望のハート模様であって微細模様図柄を有する硬化されたインクジェットレジスト付着硬化膜を形成した。インクジェットレジスト硬化膜の厚さは約0.03mm~約0.05mmの範囲内であった。
Next, on the surface of the plate mold substrate 1, a resist hardened film was formed using an inkjet resist material to cover only the "heart-shaped fine graphic character picture pattern" among the patterns shown in FIG. 8(F).
In this step, an on-demand inkjet printing system device manufactured by Microcraft was used. As the inkjet resist material, among commercially available inkjet resist materials that are widely used in the manufacture of metal wiring boards as electronic components, the inkjet resist material used in the step (B) of the above-mentioned Example 1A was selected and used, which has the property of chemically reacting with ultraviolet light irradiation to crosslink into a three-dimensional chemical structure, and "an inkjet resist material with a viscosity of 10 mPa·s to 20 mPa·s (25°C)" was selected and used, and the amount of droplets discharged from the discharge nozzle was 2 pl to 15 pl. Then, the inkjet resist film formed on the plate mold substrate was irradiated with ultraviolet light, and then burning was performed to form a cured inkjet resist film having a desired heart pattern and a fine pattern design. The thickness of the inkjet resist cured film was within the range of about 0.03 mm to about 0.05 mm.

インクジェットレジスト硬化膜を形成した版型用基板1の表面にエッチング液を接触して、レジスト硬化膜が付着されていない版型用基板の表面を深さ「d1」が約0.1mmになるまでエッチングして、版型用基板に複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462とを有する既成複数微細凹凸部46を形成した。
次に、レジスト除去剤を使用して、インクジェットレジスト硬化膜を除去した。
このようにして、ハート模様の既成複数微細凹凸部46を形成した。
それぞれの既成複数微細凹凸部凹部462の深さ「d1」は約0.1mm(100μm)であり、既成複数微細凹凸部凸部461の高さ「d1」は既成複数微細凹凸部凹部462の深さに相当する約0.1mm(100μm)であった。それぞれの既成複数微細凹凸部凹部462幅「w1」は約0.05mm(50μm)であり、既成複数微細凹凸部凸部461の幅「w2」は約0.05mm(50μm)であった。
なお、図7には、符号「d1」、「w1」、「w2」は記載されていないが、これらの符号は前述の図4及び図5(B)の説明において説明した符号と同じ深さ、高さ、又は、幅を意味する。
An etching liquid was brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the inkjet resist hardened film was formed, and the surface of the plate mold substrate to which the resist hardened film was not attached was etched until the depth "d1" reached approximately 0.1 mm, thereby forming a pre-formed multiple fine unevenness portion 46 having a plurality of pre-formed multiple fine unevenness portion convex portions 461 and a plurality of pre-formed multiple fine unevenness portion concave portions 462 on the plate mold substrate.
Next, the cured inkjet resist film was removed using a resist remover.
In this manner, a plurality of preformed minute concave-convex portions 46 in a heart pattern were formed.
The depth "d1" of each of the preformed multiple fine unevenness portion concaves 462 was about 0.1 mm (100 μm), and the height "d1" of the preformed multiple fine unevenness portion convex parts 461 was about 0.1 mm (100 μm) corresponding to the depth of the preformed multiple fine unevenness portion concaves 462. The width "w1" of each of the preformed multiple fine unevenness portion concaves 462 was about 0.05 mm (50 μm), and the width "w2" of the preformed multiple fine unevenness portion convex parts 461 was about 0.05 mm (50 μm).
Although the symbols "d1", "w1", and "w2" are not shown in FIG. 7, these symbols mean the same depth, height, and width as the symbols explained in the description of FIG. 4 and FIG. 5(B) above.

(A-b)次に、上記の版型用基板に複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462とを有する既成複数微細凹凸部46を形成した版型用基板1の上記の既成複数微細凹凸部凸部461の上面と側面、及び、既成複数微細凹凸部凹部462の側面(既成複数微細凹凸部凸部461の側面と同じ領域)と底面を覆うとともに、図8(F)に示されるような模様のうち、「乙模様」と「桟模様」とを、上記の(A-a)と類似のインクジェットレジスト材を使用して、レジスト硬化膜を形成した。
その後、インクジェットレジスト硬化膜を形成した版型用基板1の表面にエッチング液を接触して、レジスト硬化膜が付着されていない版型用基板の表面を深さ「D1」が約0.9mmになるまでエッチングして、版型用基板に複数の既成複数凹凸部凸部451と複数の既成複数凹凸部凹部452とを有する既成複数凹凸部45を形成した。
次に、レジスト除去剤を使用して、インクジェットレジスト硬化膜を除去した。
このようにして、図7(A)に示されるような、「微細凹凸形状で形成されたハート模様の微細図文字絵柄模様」と「凹凸形状で形成された乙模様」と「凹凸形状で形成された桟模様」を形成した版型用基板を調製した。
なお、図7には符号「D1」は記載されていないが、符号「D1」は前述の図1、図2、図3の説明において説明した符号と同じで深さ「D1」を意味する。
(A-b) Next, a resist hardened film was formed on the above-mentioned plate mold substrate 1 having a pre-formed multiple fine unevenness 46 having a plurality of pre-formed multiple fine unevenness convex portions 461 and a plurality of pre-formed multiple fine unevenness concave portions 462, covering the top and side surfaces of the above-mentioned pre-formed multiple fine unevenness convex portions 461 and the side surfaces (the same areas as the side surfaces of the pre-formed multiple fine unevenness convex portions 461) and bottom surface of the pre-formed multiple fine unevenness concave portions 462, and forming the "B pattern" and "crosspiece pattern" of the patterns shown in Figure 8 (F) using an inkjet resist material similar to that of (A-a) above.
Thereafter, an etching liquid was brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the inkjet resist hardened film had been formed, and the surface of the plate mold substrate to which the resist hardened film had not been attached was etched until the depth "D1" reached approximately 0.9 mm, thereby forming a pre-formed multiple concave-convex portion 45 having a plurality of pre-formed multiple concave-convex portion convex portions 451 and a plurality of pre-formed multiple concave-convex portion concave portions 452 on the plate mold substrate.
Next, the cured inkjet resist film was removed using a resist remover.
In this manner, a substrate for a mold was prepared having a "fine graphic and letter pattern in the shape of a heart formed with a fine concave-convex shape," a "second pattern formed with a concave-convex shape," and a "crosspiece pattern formed with a concave-convex shape," as shown in FIG. 7(A).
Although the reference symbol "D1" is not shown in FIG. 7, the reference symbol "D1" is the same as the reference symbol explained in the explanation of FIGS. 1, 2, and 3 and means the depth "D1".

(B)所望領域インクジェットレジスト硬化膜形成工程.
図7の(B)に示されるように、「ハート模様の微細図文字絵柄模様」の既成複数微細凹凸部凸部上面461aと既成複数微細凹凸部凸部側面461bと既成複数微細凹凸部凹部底面462cと既成複数微細凹凸部凹部側面462b、及び、「凹凸形状で形成された乙模様」の既成複数凹凸部凸部上面451aと既成複数凹凸部凸部側面451bと既成複数凹凸部凹部底面452cと既成複数凹凸部凹部側面452b、及び、「凹凸形状で形成された桟模様」の既成複数凹凸部凸部上面451aと既成複数凹凸部凸部側面451bと既成複数凹凸部凹部底面452cと既成複数凹凸部凹部側面452b、を覆って、インクジェットレジスト材2をインクジェット方式で付着して、それぞれのインクジェットレジスト付着膜を形成した。ここで、既成複数微細凹凸部46の周囲領域、及び、それそれの既成複数凹凸部45の周囲領域に位置する版型用基板第二領域表面12にはインクジェットレジスト材2は付着されない。
その後、インクジェットレジスト付着膜を硬化して、所望領域インクジェットレジスト微細凸部上面硬化膜3eと所望領域インクジェットレジスト微細凸部側面硬化膜3fと所望領域インクジェットレジスト微細凹部底面硬化膜3g、及び、所望領域インクジェットレジスト凸部上面硬化膜3aと所望領域インクジェットレジスト凸部側面硬化膜3bと所望領域インクジェットレジスト凹部底面硬化膜3cを形成するインクジェットレジスト硬化膜3を形成した。
(B) Step of forming a hardened inkjet resist film in a desired area.
As shown in (B) of FIG. 7 , inkjet resist material 2 was applied by an inkjet method to cover upper surfaces 461a, convex portions 461b, bottom surfaces 462c, and side surfaces 462b of the existing multiple fine uneven portions of the "heart-shaped fine graphic character picture pattern", upper surfaces 451a, convex portions 451b, bottom surfaces 452c, and side surfaces 452b of the existing multiple fine uneven portions of the "pattern B formed with an uneven shape", and upper surfaces 451a, convex portions 451b, bottom surfaces 452c, and side surfaces 452b of the existing multiple uneven portions of the "barrel pattern formed with an uneven shape", to form respective inkjet resist applied films. Here, the inkjet resist material 2 is not attached to the surrounding areas of the pre-formed multiple fine concave-convex portions 46 and the second area surface 12 of the plate-form substrate located in the surrounding areas of each of the pre-formed multiple concave-convex portions 45 .
Thereafter, the inkjet resist deposited film was hardened to form an inkjet resist hardened film 3 which forms a hardened film 3e on the top surface of the inkjet resist fine convex portion in the desired region, a hardened film 3f on the side surface of the inkjet resist fine convex portion in the desired region, a hardened film 3g on the bottom surface of the inkjet resist fine concave portion in the desired region, and a hardened film 3a on the top surface of the inkjet resist convex portion in the desired region, a hardened film 3b on the side surface of the inkjet resist convex portion in the desired region, and a hardened film 3c on the bottom surface of the inkjet resist concave portion in the desired region.

なお、マイクロクラフト社製のオンデマンド・インクジェット印刷システム装置を使用した。インクジェットレジスト材としては、「電子部品としての金属配線板の製造に汎用使用されている市販されているインクジェットレジスト材のうち、本実施例4Aの前記(A)工程で使用したものと同じ(本実施例4Aの(A)工程で使用したインクジェットレジスト材と同じ)であって、紫外線照射により化学反応して3次元化学構造に架橋する性質を有するとともに、10mPa・s~20mPa・s(25℃)の粘度のインクジェットレジスト材」を選択して使用し、吐出ノズルから吐出される液滴量が2pl~15plの条件で付着した。そして、版型用基板に付着形成された上記のインクジェットレジスト付着膜に紫外線を照射し、その後、120℃で10分間のバーニングを行って、それぞれの所望領域インクジェットレジスト硬化膜を形成した。
所望領域インクジェットレジスト硬化膜の厚さは約0.03mm~約0.05mmの範囲であった。
An on-demand inkjet printing system device manufactured by Microcraft was used. As the inkjet resist material, "an inkjet resist material that is the same as that used in the step (A) of this Example 4A among commercially available inkjet resist materials that are widely used in the manufacture of metal wiring boards as electronic components (the same as the inkjet resist material used in the step (A) of this Example 4A), has a property of crosslinking into a three-dimensional chemical structure by chemical reaction upon irradiation with ultraviolet light, and has a viscosity of 10 mPa·s to 20 mPa·s (25°C)" was selected and used, and the inkjet resist material was attached under the condition that the amount of droplets discharged from the discharge nozzle was 2 pl to 15 pl. Then, the inkjet resist film formed on the plate mold substrate was irradiated with ultraviolet light, and then burning was performed for 10 minutes at 120°C to form inkjet resist cured films in the desired areas.
The thickness of the cured inkjet resist film in the desired area ranged from about 0.03 mm to about 0.05 mm.

本工程において、インクジェットレジスト材は、既成複数微細凹凸部凸部側面461b(既成複数微細凹凸部凹部側面462b)、既成複数凹凸部凸部側面451b(既成複数凹凸部凹部側面452b)から流れ落ちることなく、既成複数微細凹凸部凸部側面461b(既成複数微細凹凸部凹部側面462b)、既成複数凹凸部凸部側面451b(既成複数凹凸部凹部側面452b)に良好に付着するとともに、既成複数微細凹凸部凸部上面461a、複数の既成複数微細凹凸部凹部底面462c、既成複数凹凸部凸部上面451a、複数の既成複数凹凸部凹部底面452cにも良好に付着形成されていた。
また、所望の領域に、硬化された所望領域インクジェットレジスト微細凸部上面硬化膜3e、所望領域インクジェットレジスト微細凸部側面硬化膜3f、所望領域インクジェットレジスト微細凹部底面硬化膜3g、所望領域インクジェットレジスト凸部上面硬化膜3a、所望領域インクジェットレジスト凸部側面硬化膜3b、所望領域インクジェットレジスト凹部底面硬化膜3cが形成されていることを確認した。
In this process, the inkjet resist material adheres well to the pre-formed multiple fine unevenness convex portion side surface 461b (pre-formed multiple fine unevenness concave portion side surface 462b) and the pre-formed multiple unevenness convex portion side surface 451b (pre-formed multiple unevenness concave portion side surface 452b) without flowing off the pre-formed multiple fine unevenness convex portion side surface 461b (pre-formed multiple fine unevenness concave portion side surface 462b) and the pre-formed multiple unevenness convex portion side surface 451b (pre-formed multiple unevenness concave portion side surface 452b), and is also well adhered to the pre-formed multiple fine unevenness convex portion upper surface 461a, the multiple pre-formed multiple fine unevenness concave portion bottom surfaces 462c, the pre-formed multiple unevenness convex portion upper surfaces 451a, and the multiple pre-formed multiple unevenness concave bottom surfaces 452c.
It was also confirmed that the following were formed in the desired regions: hardened film 3e on the top surface of the inkjet resist fine convex portion, hardened film 3f on the side surface of the inkjet resist fine convex portion, hardened film 3g on the bottom surface of the inkjet resist fine concave portion in the desired region, hardened film 3a on the top surface of the inkjet resist convex portion in the desired region, hardened film 3b on the side surface of the inkjet resist convex portion in the desired region, and hardened film 3c on the bottom surface of the inkjet resist concave portion in the desired region.

(C)腐蝕エッチング工程.
図7の(C)に示されるように、それぞれの所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成した版型用基板1の表面に市販されている汎用の慣用エッチング液(塩化第二鉄水溶液)をパドル吹上方式で接触して、所望領域インクジェットレジスト硬化膜が付着されていない版型用基板第二領域表面12を深さ寸法「D12」が約1.9mmになるまでエッチングした。
これにより、既成複数微細凹凸部46、及び、既成複数凹凸部45をエッチングすることなく、版型用基板第二領域表面12をエッチングして、エッチングされてなる凹部形状を有するインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成するとともに、既成複数微細凹凸部46、及び、既成複数凹凸部45を、該インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121から突出されてなる形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466、及び、インクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部455に形成した。
(C) Corrosive Etching Process.
As shown in FIG. 7C , a commercially available general-purpose conventional etching solution (aqueous ferric chloride solution) was brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which each of the desired region inkjet resist cured films 3 was formed, using a paddle blow-up method, and the plate mold substrate second region surface 12 on which the desired region inkjet resist cured film was not attached was etched until the depth dimension “D12” became approximately 1.9 mm.
As a result, the second area surface 12 of the plate mold substrate is etched without etching the pre-formed multiple fine unevenness portions 46 and the pre-formed multiple unevenness portions 45, thereby forming an inkjet resist film corrosion second recess formation portion 121 having an etched recess shape, and the pre-formed multiple fine unevenness portions 46 and the pre-formed multiple unevenness portions 45 are formed into inkjet film corrosion pre-formed multiple fine unevenness portion protrusion portion 466 and inkjet film corrosion pre-formed multiple unevenness portion protrusion portion 455, which have shapes protruding from the inkjet resist film corrosion second recess formation portion 121.

(D)所望領域インクジェットレジスト硬化膜除去工程.
図7の(D-b)に示されるように、それぞれの所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を市販されている慣用のレジスト除去剤(苛性ソータ水溶液、又は、水酸化ナトリウム水溶液)を使用して除去した。
(D) Removal process of hardened inkjet resist film from desired area.
As shown in FIG. 7(Db), the inkjet resist hardened film 3 in each desired area was removed using a commercially available conventional resist remover (aqueous caustic soda solution or aqueous sodium hydroxide solution).

このようにして、既成複数微細凹凸部46、及び、既成複数凹凸部45をエッチングすることなく、版型用基板第二領域表面12をエッチングしてなるインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成するとともに、複数の既成複数微細凹凸部凸部461と複数の既成複数微細凹凸部凹部462を有する既成複数微細凹凸部46を備えた版型用基板第一領域表面11が、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の底面から突出してなる突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466に形成されてなるとともに、複数の既成複数凹凸部凸部451と複数の既成複数凹凸部凹部452を有する既成複数凹凸部45を備えた他の版型用基板第一領域表面11が、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の底面から突出してなる突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部455に形成されてなる形態に調製した。In this way, the second concave-convex portion 121 formed by etching the second region surface 12 of the plate mold substrate is formed without etching the pre-formed multiple fine concave-convex portions 46 and the pre-formed multiple concave-convex portions 45, and the plate mold substrate first region surface 11 having the pre-formed multiple fine concave-convex portions 46 having a plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portions convex portions 461 and a plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portions concave portions 462 is formed into an inkjet film etched pre-formed multiple fine concave-convex portion protrusion portion 466 having a protruding shape protruding from the bottom surface of the inkjet resist film etched second concave-formation portion 121, and the other first region surface 11 of the plate mold substrate having the pre-formed multiple concave-convex portions 45 having a plurality of pre-formed multiple concave-convex portions convex portions 451 and a plurality of pre-formed multiple concave-convex portions concave portions 452 is formed into an inkjet film etched pre-formed multiple concave-convex portion protrusion portion 455 having a protruding shape protruding from the bottom surface of the inkjet resist film etched second concave-formation portion 121.

なお、本実施例において、正常な所望の形状精度や寸法精度を有する既成複数凹凸部45及び既成複数微細凹凸部46を有するとともに、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121の底面から突出してなる突出形状を有する所望のインクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部455及び所望のインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部466が形成されていることを確認した。
また、所望の既成複数凹凸部凸部側面451b(既成複数凹凸部凹部側面452b)及び所望の既成複数微細凹凸部凸部側面461b(既成複数微細凹凸部凹部側面462b)には窪んだ状態でエッチングされたサイドエッチング現象が生じていなく、所望の形状精度や寸法精度を有することを確認した。
In addition, in this embodiment, it was confirmed that the pre-formed multiple uneven portions 45 and the pre-formed multiple fine uneven portions 46 have the normal desired shape accuracy and dimensional accuracy, and that the desired inkjet film corrosion pre-formed multiple uneven portion protrusion portion 455 and the desired inkjet film corrosion pre-formed multiple fine uneven portion protrusion portion 466 having a protruding shape protruding from the bottom surface of the inkjet resist film corrosion second recess formation portion 121 are formed.
Furthermore, it was confirmed that the side surface 451b of the convex portion of the desired pre-formed multiple uneven portions (side surface 452b of the concave portion of the pre-formed multiple uneven portions) and the side surface 461b of the convex portion of the desired pre-formed multiple fine uneven portions (side surface 462b of the concave portion of the pre-formed multiple fine uneven portions) do not suffer from the side etching phenomenon in which they are etched in a recessed state, and that they have the desired shape accuracy and dimensional accuracy.

<実施例4A-a(実施例4Aの押圧加工用版を使用した被加工物の加工)>
本実施例は、上記の実施例4Aにおいて製造した押圧加工用版10を、平圧加圧式加工装置の型押用版10として使用して、被加工物108としての表面を金色に着色した金色着色光沢紙製シート108を型押し加工するものである。
下記の工程によって被加工物を型押加工した。
(S-a)実施例4Aにおいて製造した既成凹凸部4を形成した押圧加工用版10としての型押用版10を準備した。
(S-b)図16(A)に示されるように、互いに対向する第一基盤92と第二基盤93を備えた押圧加工装置を準備した。
(S-d)別途調製した滑らかな平面を有するステンレス製の受版94を、押圧加工装置の第二基盤93に設置した。
(S-e)この状態で、押圧加工用版10(型押用版)と受版94との間に、被加工物108としての厚さ約1.5mmの表面を金色に着色した「金色着色光沢紙製シート108」を位置し、その状態で、慣用の駆動方法により第一基盤92と第二基盤93のうちの少なくとも一つの基盤を駆動して、押圧加工用版10と受版94とが被加工物108を押圧した。
これにより、被加工物108の表面に、既成凹凸部4の凹凸形状に一致する凹凸形状を有する被加工物凹凸形成部を形成した。
(S-f)押圧加工用版10(型押用版)と受版94のうちの少なくとも一つの基盤を駆動して、押圧加工用版10(型押用版)と受版94とを互いに離反して、被加工物への押圧を解除した。
これにより、被加工物108としての紙製シート108に、「既成複数微細凹凸部46に一致するハート模様の微細図文字絵柄模様」と「既成複数凹凸部45に一致するZ模様と桟模様」を有する凹凸形状のエンボス形状で形成された加工物を調製した。
<Example 4A-a (Processing of workpiece using the pressing plate of Example 4A)>
In this embodiment, the pressing plate 10 manufactured in the above-mentioned Example 4A is used as the embossing plate 10 of a flat pressure processing device to emboss a gold-colored glossy paper sheet 108 having a gold-colored surface as the workpiece 108.
The workpiece was embossed according to the following steps:
(Sa) An embossing plate 10 was prepared as the pressing plate 10 having the preformed uneven portion 4 formed thereon, which was manufactured in Example 4A.
(Sb) As shown in FIG. 16(A), a pressing device having a first base 92 and a second base 93 facing each other was prepared.
(Sd) A separately prepared stainless steel receiving plate 94 having a smooth flat surface was placed on the second base 93 of the pressing device.
(S-e) In this state, a "gold-colored glossy paper sheet 108" with a thickness of approximately 1.5 mm and a gold-colored surface was positioned between the pressing plate 10 (embossing plate) and the receiving plate 94 as the workpiece 108, and in this state, at least one of the first base 92 and the second base 93 was driven by a conventional driving method, so that the pressing plate 10 and the receiving plate 94 pressed the workpiece 108.
As a result, a workpiece unevenness-forming portion having an uneven shape that matches the uneven shape of the existing uneven portion 4 was formed on the surface of the workpiece 108.
(S-f) At least one of the bases of the pressing plate 10 (embossing plate) and the receiving plate 94 was driven to move the pressing plate 10 (embossing plate) and the receiving plate 94 away from each other, thereby releasing the pressure on the workpiece.
This resulted in the preparation of a processed product formed on a paper sheet 108 as the workpiece 108, with an embossed uneven shape having a "fine graphic heart pattern matching the existing multiple fine uneven portions 46" and a "Z pattern and checkerboard pattern matching the existing multiple fine uneven portions 45".

この場合、被加工物108としての「金色着色光沢紙製シート108」に、何らの異常が発生することなく、所望の形状精度や寸法精度を有する凹凸形状で形成された「微細図文字絵柄模様」と「図文字絵柄模様」を形成した加工物が得られた。In this case, no abnormalities occurred in the "gold colored glossy paper sheet 108" serving as the workpiece 108, and a workpiece was obtained having a "fine graphic and letter pattern" and a "graphic and letter pattern" formed in an uneven shape with the desired shape accuracy and dimensional accuracy.

<比較例4A(慣用液状レジスト材を使用した押圧加工用版の製造)>
本比較例は、上記の実施例4Aの「(A)工程の既成複数微細凹凸部46を形成する工程において、インクジェットレジスト材に替えて従来の慣用液状レジスト材を使用して既成複数微細凹凸部46を形成するとともに、更に、その既成複数微細凹凸部46を形成した版型用基板に既成複数凹凸部45を形成する工程において、インクジェットレジスト材に替えて従来の慣用液状レジスト材を使用して版型用基板に既成複数凹凸部45を形成する押圧加工用版の製造方法である。
Comparative Example 4A (Production of a press-processing plate using a conventional liquid resist material)
This comparative example is a manufacturing method for a pressing processing plate in which, in the step of forming pre-formed multiple fine uneven portions 46 in step (A) of Example 4A above, a conventional liquid resist material is used instead of an inkjet resist material to form pre-formed multiple fine uneven portions 46, and further, in the step of forming pre-formed multiple uneven portions 45 on the plate mold substrate on which the pre-formed multiple fine uneven portions 46 have been formed, a conventional liquid resist material is used instead of an inkjet resist material to form pre-formed multiple uneven portions 45 on the plate mold substrate.

(A)既成複数凹凸部45と既成複数微細凹凸部46を有する版型用基板第一領域表面11と版型用基板第二領域表面12を備えた版型用基板1を調製し、供給する工程.
(A-a)既成複数微細凹凸部46を形成する工程.
(A-a-a)平面表面形状を有する版型用基板第一領域表面11と平面表面形状を有する版型用基板第二領域表面12を備えた半面表面形状を有する版型用基板1を準備して供給した。版型用基板1は、真鍮製であって、厚さ7.0mm、横幅125mm、縦幅90mmの略平板形状を有する。
(図示無し)
(A-a-b)次に、版型用基板1の版型用基板第一領域表面11の所望の領域に(i)慣用レジスト材としての慣用液状レジスト材(紫外線照射により化学反応して3次元化学構造に架橋する性質を有し、製版、プリント基板の腐蝕エッチングのために汎用に使用されている慣用の液状レジスト材であって、市販されている汎用の慣用液状レジスト材のうちから所望の慣用液状レジスト材、前述の実施例1Aの(A)工程で使用したものと同慣用液状レジスト材じ)を選択して使用して、慣用のスプレーコート方式により、約0.02mm~約0.04mmの範囲の厚さで付着し、所定の方法で乾燥してレジスト付着膜を形成した。
そして、光遮断用の所望の図文字絵柄模様(ハート模様)を形成した露光用マスク部材を介して、レジスト付着膜に紫外線を照射し、現像、アフターベーキング、等の慣用の工程により所望の図文字絵柄模様(ハート図柄模様)を有するレジスト硬化膜を形成した。
(A-a-c)レジスト硬化膜を形成した版型用基板1の表面にエッチング液(塩化第二鉄水溶液)を接触して、レジスト硬化膜が付着されていない版型用基板の表面を深さ「d1」が約0.1mm(100μm)になるまでエッチングして、版型用基板に凹形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凹部462を形成するとともに、凸形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凸部461を形成した。
(A-a-d)次に、レジスト除去剤(苛性ソーダ水溶液)を使用して、レジスト硬化膜を除去した。
(A) A step of preparing and supplying a plate mold substrate 1 having a plate mold substrate first area surface 11 and a plate mold substrate second area surface 12 having preformed multiple concave-convex portions 45 and preformed multiple fine concave-convex portions 46.
(Aa) Step of forming multiple preformed minute concave-convex portions 46.
(A-a-a) A plate mold substrate 1 having a half surface shape was prepared and supplied, which had a plate mold substrate first region surface 11 having a planar surface shape and a plate mold substrate second region surface 12 having a planar surface shape. The plate mold substrate 1 was made of brass and had a generally flat plate shape with a thickness of 7.0 mm, a width of 125 mm, and a length of 90 mm.
(not shown)
(A-a-b) Next, (i) a conventional liquid resist material (a conventional liquid resist material which has the property of reacting chemically with ultraviolet light irradiation to crosslink into a three-dimensional chemical structure and is generally used for plate making and etching of printed circuit boards, and which is a desired conventional liquid resist material selected from commercially available general-purpose conventional liquid resist materials, such as the same conventional liquid resist material used in step (A) of Example 1A) was applied to a desired region of the surface 11 of the first region of the plate mold substrate 1 by a conventional spray coating method to a thickness in the range of about 0.02 mm to about 0.04 mm, and then dried by a prescribed method to form a resist-adhered film.
Then, the resist film was irradiated with ultraviolet light through an exposure mask member having a desired light-blocking graphic pattern (heart pattern), and a hardened resist film having the desired graphic pattern (heart pattern) was formed by conventional processes such as development and after-baking.
(A-a-c) An etching solution (aqueous ferric chloride solution) was brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the resist hardened film was formed, and the surface of the plate mold substrate on which the resist hardened film was not attached was etched until the depth "d1" reached approximately 0.1 mm (100 μm), thereby forming a plurality of pre-formed multiple fine unevenness concave portions 462 formed in a concave shape on the plate mold substrate, and a plurality of pre-formed multiple fine unevenness convex portions 461 formed in a convex shape.
(Aad) Next, the hardened resist film was removed using a resist remover (aqueous caustic soda solution).

このようにして、凸形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凸部上面461aと複数の既成複数微細凹凸部凸部側面461bを有する複数の既成複数微細凹凸部凸部461と、凹形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凹部底面462cと複数の既成複数微細凹凸部凹部側面462bを有する複数の既成複数微細凹凸部凹部462を備えた既成複数微細凹凸部46(ハート模様の微細図文字絵柄模様)を形成した。
それぞれの既成複数微細凹凸部凹部462の深さ「d1」は約0.1mm(100μm)であり、既成複数微細凹凸部凸部461の高さ「d1」は既成複数微細凹凸部凹部462の深さに相当する約0.1mm(100μm)であった。それぞれの既成複数微細凹凸部凹部462幅「w1」は約0.05mm(50μm)であり、既成複数微細凹凸部凸部461の幅「w2」は約0.05mm(50μm)であった。
In this way, a preformed multiple fine unevenness portion 46 (a fine graphic letter pattern with a heart shape) was formed, which includes a plurality of preformed multiple fine unevenness portion convex portions 461 having a plurality of preformed multiple fine unevenness portion convex portion upper surfaces 461a formed in a convex shape and a plurality of preformed multiple fine unevenness portion convex portion side surfaces 461b, and a plurality of preformed multiple fine unevenness portion concave portions 462 having a plurality of preformed multiple fine unevenness portion concave bottom surfaces 462c formed in a concave shape and a plurality of preformed multiple fine unevenness portion concave side surfaces 462b.
The depth "d1" of each of the preformed multiple fine unevenness portion concaves 462 was about 0.1 mm (100 μm), and the height "d1" of the preformed multiple fine unevenness portion convex parts 461 was about 0.1 mm (100 μm) corresponding to the depth of the preformed multiple fine unevenness portion concaves 462. The width "w1" of each of the preformed multiple fine unevenness portion concaves 462 was about 0.05 mm (50 μm), and the width "w2" of the preformed multiple fine unevenness portion convex parts 461 was about 0.05 mm (50 μm).

(A-b)既成複数凹凸部45を形成する工程.
(A-b-b)上記の既成複数微細凹凸部46を形成した版型用基板の表面に、慣用液状レジスト材(前記の「A-a-b」工程で使用した慣用液状レジスト材と同じ慣用液状レジスト材)を使用して、慣用のスプレーコート方式により約0.02mm~約0.04mmの範囲の厚さで付着し、所定の方法で乾燥してレジスト付着膜を形成した。
そして、光遮断用の所望の図文字絵柄模様(「Z模様」と「桟模様」)を形成した露光用マスク部材を介して、レジスト付着膜に紫外線を照射し、現像、アフターベーキング、等の慣用の工程により所望の図文字絵柄模様(「Z模様」と「桟模様」)を有するレジスト硬化膜を形成した。
この場合、液状レジスト材を塗布したときに、既成複数微細凹凸部凸部側面461b(既成複数微細凹凸部凹部側面462bと同じ)に付着した液状レジスト材が既成複数微細凹凸部凹部底面462cに流れ落ちて、既成複数微細凹凸部46の既成複数微細凹凸部凸部側面461b(既成複数微細凹凸部凹部側面462bと同じ)には、レジスト付着膜は形成されていなかった。
(A-b-c)レジスト硬化膜を形成した版型用基板1の表面にエッチング液(塩化第二鉄水溶液)を接触して、レジスト硬化膜が付着されていない版型用基板の表面を深さが約0.9mmになるまでエッチングして、版型用基板に凹形状で形成された複数の既成複数凹凸部凹部452を形成するとともに、凸形状で形成された複数の既成複数凹凸部凸部451を形成した。
(A-b-d)次に、レジスト除去剤(苛性ソーダ水溶液)を使用して、レジスト硬化膜を除去した。
(A-b) Step of forming preformed multiple concave-convex portions 45.
(A-b-b) A conventional liquid resist material (the same conventional liquid resist material as that used in the above-mentioned "A-a-b" process) was applied to the surface of the plate mold substrate on which the above-mentioned pre-formed multiple fine concave-convex portions 46 was formed, using a conventional spray coating method, to a thickness in the range of about 0.02 mm to about 0.04 mm, and then dried in a prescribed manner to form a resist deposition film.
The resist film was then irradiated with ultraviolet light through an exposure mask member on which the desired light-blocking graphic pattern (the "Z pattern" and the "crossbar pattern") was formed, and a hardened resist film having the desired graphic pattern (the "Z pattern" and the "crossbar pattern") was formed by conventional processes such as development and after-baking.
In this case, when the liquid resist material was applied, the liquid resist material adhering to the convex portion side surface 461b of the existing multiple fine unevenness portions (same as the concave portion side surface 462b of the existing multiple fine unevenness portions) flowed down to the concave bottom surface 462c of the existing multiple fine unevenness portions, and no resist adhesion film was formed on the convex portion side surface 461b of the existing multiple fine unevenness portions (same as the concave portion side surface 462b of the existing multiple fine unevenness portions) of the existing multiple fine unevenness portions 46.
(A-b-c) An etching solution (aqueous ferric chloride solution) was brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the resist hardened film was formed, and the surface of the plate mold substrate on which the resist hardened film was not attached was etched to a depth of approximately 0.9 mm, thereby forming a plurality of pre-formed multiple concave-convex portions 452 formed in a concave shape on the plate mold substrate, and a plurality of pre-formed multiple convex portions 451 formed in a convex shape.
(Abd) Next, the hardened resist film was removed using a resist remover (aqueous caustic soda solution).

このようにして、凸形状で形成された既成複数凹凸部凸部上面451aと既成複数凹凸部凸部側面451bを有する既成複数凹凸部凸部451と、凹形状で形成された既成複数凹凸部凹部底面452cと既成複数凹凸部凹部側面452bを有する既成複数凹凸部凹部452を備えた既成複数凹凸部45で形成された所望の図文字絵柄模様(「Z模様」と「桟模様」)を形成した。
しかしながら、既成複数微細凹凸部46(ハート模様の微細図文字絵柄模様)の既成複数微細凹凸部凸部側面461b(既成複数微細凹凸部凹部側面462b)には僅かなサイドエッチングが生じていた。
レジスト硬化膜が付着形成されていない既成複数微細凹凸部凸部側面461b(既成複数微細凹凸部凹部側面462b)も腐蝕エッチングされて、図15(D)に類似のサイドエッチングされた既成複数微細凹凸部凸部側面461s(複数のサイドエッチングされた既成複数微細凹凸部凹部側面462s)が生じていた。すなわち、所望の形状精度や寸法精度を有する押圧加工用版が得られなかった。
このようなサイドエッチングされた既成複数微細凹凸部凸部側面461s(複数のサイドエッチングされた既成複数微細凹凸部凹部側面462s)は所望の形状ではなく、好ましくない形状であり、このようなサイドエッチングされた微細凹凸部を形成した押圧加工用版型を使用して被加工物を加工した場合に、所望の形状精度や寸法精度、等を有する加工物が得られないという課題がある。
In this way, the desired graphic pattern ("Z pattern" and "crosspiece pattern") was formed using pre-formed multiple uneven portions 45 including pre-formed multiple uneven portion convex portion 451 having pre-formed multiple uneven portion convex portion top surface 451a formed in a convex shape and pre-formed multiple uneven portion convex portion side surface 451b, and pre-formed multiple uneven portion concave portion 452 having pre-formed multiple uneven portion concave bottom surface 452c formed in a concave shape and pre-formed multiple uneven portion concave portion side surface 452b.
However, slight side etching occurred on the convex portion side surface 461b (concave portion side surface 462b) of the existing multiple fine concave-convex portions 46 (fine heart-shaped graphic character design).
The side surface 461b of the convex portion of the already formed multiple fine concave-convex portions (side surface 462b of the already formed multiple fine concave-convex portions) on which the hardened resist film was not attached was also corroded and etched, resulting in a side-etched side surface 461s of the already formed multiple fine concave-convex portions of the already formed multiple fine concave-convex portions (side-etched side surfaces 462s of the already formed multiple fine concave-convex portions) similar to that shown in Fig. 15(D). In other words, a pressing plate having the desired shape accuracy and dimensional accuracy was not obtained.
Such side-etched convex portion side surfaces 461s of pre-formed multiple fine concave-convex portions (multiple side-etched concave-convex portion side surfaces 462s of pre-formed multiple fine concave-convex portions) are not the desired shape but are undesirable shapes, and there is a problem that when a workpiece is processed using a pressing processing mold on which such side-etched fine concave-convex portions are formed, a workpiece having the desired shape accuracy, dimensional accuracy, etc. cannot be obtained.

(B)上記のようにして調製した既成複数微細凹凸部46(ハート模様の微細図文字絵柄模様)と既成複数凹凸部45(図文字絵柄模様「Z模様」と「桟模様」)とを形成した版型用基板を使用して、レジスト塗布、レジスト硬化、腐蝕エッチング、エッチング液除去、等の工程により、凹部を形成するとともに、凹部から突出した形状を有する既成複数微細凹凸部突起部と既成複数凹凸部突起部を形成する予定であったが、上記の(A)工程において、所望の凹凸形状を有する既成複数微細凹凸部46が形成できなかった為に、その後の工程の実施を中止した。(B) Using the mold substrate having the preformed multiple fine uneven portions 46 (fine graphic and letter pattern in a heart shape) and the preformed multiple uneven portions 45 (graphic and letter pattern "Z pattern" and "crosspiece pattern") prepared as described above, it was planned to form recesses and form preformed multiple fine uneven portion protrusions and preformed multiple uneven portion protrusions having a shape protruding from the recesses by processes such as applying resist, hardening the resist, corrosive etching, and removing the etching solution. However, since preformed multiple fine uneven portions 46 having the desired uneven shape could not be formed in the above process (A), the subsequent processes were discontinued.

<実施例5A(押圧加工用版としての箔押用版の製造)>
本実施例は、前述の「従属構成11」に類似する押圧加工用版の製造方法であり、図10の(A)~(D)、(A―b)~(D―b)に示される押圧加工用版であって、既成凸部47と既成凹部48とを備えた版型用基板の既成凸部47の上面に「微細凹凸形状で形成された微細図文字絵柄模様」を形成する押圧加工用版の製造方法である。本押圧加工用版は箔押用型版、又は、型押用版として使用される。
なお、本実施例において、インクジェッレジスト材を使用する工程を含む工程により、既成凹凸部47と既成凹部48とを形成し、その既成凸部47と既成凹部48とを形成した版型用基板を、インクジェットレジスト材を使用する工程を含む工程により、既成凸部47の上面に「微細凹凸形状で形成された微細図文字絵柄模様に相当する複数の微細凹形状で形成された既成凸部上面複数微細凹凸部477、477b」を形成して、押圧加工用版を調製した。
以下に本実施例を詳細に説明する。
<Example 5A (Production of a foil stamping plate as a pressing processing plate)>
This embodiment is a method for manufacturing a pressing plate similar to the above-mentioned "subordinate configuration 11," and is a method for manufacturing a pressing plate shown in Fig. 10 (A) to (D), (A-b) to (D-b), which forms a "fine graphic character pattern formed with a fine concave-convex shape" on the upper surface of a pre-formed convex portion 47 of a plate mold substrate having a pre-formed convex portion 47 and a pre-formed concave portion 48. This pressing plate is used as a foil stamping mold plate or an embossing plate.
In this embodiment, a pre-formed uneven portion 47 and a pre-formed recess 48 were formed by a process including a process using an inkjet resist material, and a plate mold substrate on which the pre-formed convex portion 47 and the pre-formed recess 48 were formed was prepared by a process including a process using an inkjet resist material to form "multiple fine uneven portions 477, 477b on the upper surface of the pre-formed convex portion formed with a plurality of fine concave shapes corresponding to a fine graphic character pattern formed with the fine uneven shapes" on the upper surface of the pre-formed convex portion 47, thereby preparing a plate for pressing processing.
This embodiment will be described in detail below.

(A)既成凸部47を有する版型用基板第一領域表面11と既成凹部48を有する版型用基板第二領域表面12を備えた版型用基板1を調製し、供給する工程.
平面表面形状を有する版型用基板第一領域表面11と平面表面形状を有する版型用基板第二領域表面12を備えた平面表面形状を有する版型用基板1を準備した。版型用基板1は、鋼鉄製であって、厚さ「h」0.5mm、横幅125mm、縦幅90mmのフレキシブル性を有するとともに略平板形状を有する。
(A) A step of preparing and supplying a plate mold substrate 1 having a plate mold substrate first area surface 11 having a preformed convex portion 47 and a plate mold substrate second area surface 12 having a preformed concave portion 48.
A plate mold substrate 1 having a planar surface shape was prepared, which includes a plate mold substrate first region surface 11 having a planar surface shape and a plate mold substrate second region surface 12 having a planar surface shape. The plate mold substrate 1 is made of steel, has a thickness "h" of 0.5 mm, a width of 125 mm, a length of 90 mm, is flexible, and has a substantially flat plate shape.

次に、版型用基板1の表面の版型用基板第一領域表面11に、略長方形状図柄を、インクジェッレジスト材を使用して、インクジェット方式でインクジェットレジスト材を付着し、硬化して、インクジェットレジスト硬化膜を形成した。
本工程において、マイクロクラフト社製のオンデマンド・インクジェット印刷システム装置を使用した。インクジェットレジスト材としては、市販されているインクジェットレジスト材のうち、紫外線照射により化学反応して3次元化学構造に架橋する性質を有するとともに、10mPa・s~20mPa・s(25℃)の粘度のインクジェットレジスト材(前述の実施例1Aの(B)工程で使用したものと同じインクジェットレジスト材)を選択して使用し、吐出ノズルから吐出される液滴量が2pl~15plの条件で付着した。そして、版型用基板に付着形成された上記のインクジェットレジスト付着膜に紫外線を照射し、その後、120℃で10分間のバーニングを行って、所望のハート模様であって微細模様図柄を有する硬化されたインクジェットレジスト硬化膜3を形成した。インクジェットレジスト硬化膜の厚さは約0.03mm~約0.05mmの範囲であった。
Next, an inkjet resist material was applied by an inkjet method to the first region surface 11 of the plate mold substrate 1 in a substantially rectangular pattern, and the inkjet resist material was then hardened to form an inkjet resist hardened film.
In this step, an on-demand inkjet printing system device manufactured by Microcraft was used. As the inkjet resist material, an inkjet resist material (the same inkjet resist material as that used in step (B) of the above-mentioned Example 1A) having a property of chemically reacting with ultraviolet light irradiation to crosslink into a three-dimensional chemical structure and having a viscosity of 10 mPa·s to 20 mPa·s (25°C) was selected from among commercially available inkjet resist materials and used, and the amount of droplets discharged from the discharge nozzle was 2 pl to 15 pl. Then, the inkjet resist film formed on the plate mold substrate was irradiated with ultraviolet light, and then burning was performed at 120°C for 10 minutes to form a cured inkjet resist cured film 3 having a desired heart pattern and a fine pattern design. The thickness of the inkjet resist cured film was in the range of about 0.03 mm to about 0.05 mm.

次に、インクジェットレジスト硬化膜を形成した版型用基板1の表面にエッチング液を接触して、レジスト硬化膜が付着されていない版型用基板の表面を深さが約0.3mm(300μm)になるまでエッチングして、版型用基板に既成凸部47と既成凹部48とを形成した。既成凸部47は既成凸部上面47aと既成凸部側面47bとを有し、既成凹部48は既成凹部底面48cと既成凹部側面48bとを有する。なお、既成凸部側面47bと既成凹部側面48bとは互いに同じ側面領域を意味する。Next, an etching solution was brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the inkjet resist cured film was formed, and the surface of the plate mold substrate on which the resist cured film was not attached was etched to a depth of about 0.3 mm (300 μm), forming a pre-formed convex portion 47 and a pre-formed concave portion 48 on the plate mold substrate. The pre-formed convex portion 47 has a pre-formed convex upper surface 47a and a pre-formed convex side surface 47b, and the pre-formed concave portion 48 has a pre-formed concave bottom surface 48c and a pre-formed concave side surface 48b. The pre-formed convex side surface 47b and the pre-formed concave side surface 48b refer to the same side surface region.

次に、レジスト除去剤を使用して、インクジェットレジスト硬化膜を除去した。
このようにして、図10(A)、(A-b)に示されるような版型用基板に既成凸部47と既成凹部48とを有する既成凹凸部を形成した。
既成凹部48の深さは約0.3mmであり、既成凸部47の高さは既成凹部48の深さに相当する約0.3mmであった。
Next, the cured inkjet resist film was removed using a resist remover.
In this manner, a pre-formed concave-convex portion having a pre-formed convex portion 47 and a pre-formed concave portion 48 was formed on the plate mold substrate as shown in FIGS. 10(A) and (Ab).
The depth of the existing recess 48 was about 0.3 mm, and the height of the existing protrusion 47 was about 0.3 mm, which corresponds to the depth of the existing recess 48 .

(B)所望領域インクジェットレジスト硬化膜形成工程.
次に、図10(B)、(B-b)に示されるように、インクジェットレジスト材2をインクジェット方式で付着して、版型用基板1の既成凸部側面47bと既成凹部側面48bと既成凹部底面48cの全面を覆うとともに、既成凸部上面47aの上面に、インクジェットレジスト材(2)をインクジェット方式により付着して、(ロ)図10(B-b)に示されるような微細ハート模様の所望の微細図文字絵柄模様、を有する所望領域インクジェットレジスト付着膜を形成した。この場合、既成凸部側面47bと既成凹部側面48bにインクジェットレジスト材が付着していることを確認した。
なお、既成凸部側面47bと既成凹部側面48bは、互いに同じ領域を意味する。
(B) Step of forming a hardened inkjet resist film in a desired area.
Next, as shown in Fig. 10(B) and (B-b), the inkjet resist material 2 was applied by the inkjet method to cover the entire surfaces of the existing convex side 47b, the existing concave side 48b, and the existing concave bottom 48c of the plate mold substrate 1, and the inkjet resist material (2) was applied by the inkjet method to the upper surface of the existing convex top 47a to form a desired area inkjet resist applied film having the desired fine graphic and letter picture pattern of a fine heart pattern as shown in Fig. 10(B-b). In this case, it was confirmed that the inkjet resist material was applied to the existing convex side 47b and the existing concave side 48b.
The existing convex side surface 47b and the existing concave side surface 48b refer to the same region.

本工程において、マイクロクラフト社製のオンデマンド・インクジェット印刷システム装置を使用した。インクジェットレジスト材としては、市販されているインクジェットレジスト材のうち、紫外線照射により化学反応して3次元化学構造に架橋する性質を有するとともに、10mPa・s~20mPa・s(25℃)の粘度のインクジェットレジスト材(前述の実施例1Aの(B)工程、本実施例の(A)工程で使用したものと同じインクジェットレジスト材)を選択して使用し、吐出ノズルから吐出される液滴量が2pl~15plの条件で付着してインクジェットレジスト付着膜を形成した。そして、前述の実施例1Aの(B)工程と類似の方法により、版型用基板に付着形成された上記のインクジェットレジスト付着膜に紫外線を照射し、その後、120℃で10分間のバーニングを行って、既成凸部側面47bの全面と既成凹部側面48bの全面と既成凹部底面48cの全面に硬化された所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成するとともに、既成凸部上面47aの上面に微細図文字絵柄模様(微細ハート模様)の硬化された所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成した。それぞれの所望領域インクジェットレジスト硬化膜の厚さは約0.03mm~約0.05mmの範囲であった。このようにして、それぞれの所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成した。In this step, an on-demand inkjet printing system device manufactured by Microcraft was used. As the inkjet resist material, an inkjet resist material (the same inkjet resist material used in step (B) of Example 1A and step (A) of this example) that has a property of chemically reacting with ultraviolet light irradiation to crosslink into a three-dimensional chemical structure and has a viscosity of 10 mPa·s to 20 mPa·s (25° C.) was selected from among commercially available inkjet resist materials and used, and the inkjet resist deposition film was formed by deposition under the condition that the amount of droplets discharged from the discharge nozzle was 2 pl to 15 pl. Then, by a method similar to the process (B) of Example 1A described above, the inkjet resist film formed on the plate mold substrate was irradiated with ultraviolet light, and then burned at 120° C. for 10 minutes to form a cured desired area inkjet resist cured film 3 on the entire surface of the existing convex side 47b, the entire surface of the existing concave side 48b, and the entire surface of the existing concave bottom 48c, and also formed a cured desired area inkjet resist cured film 3 with a fine graphic pattern (fine heart pattern) on the upper surface of the existing convex upper surface 47a. The thickness of each of the desired area inkjet resist cured films was in the range of about 0.03 mm to about 0.05 mm. In this manner, each of the desired area inkjet resist cured films 3 was formed.

(C)腐蝕エッチング工程.
次に、図10(C)、(C―b)に示されるように、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成した版型用基板1の表面にエッチング液(塩化第二鉄水溶液)を接触して記所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が付着されていない版型用基板1の版型用基板第二領域表面12を深さが約0.1mm(100μm)になる迄エッチングし、これにより、所望の微細図文字絵柄模様に相当する複数の微細凹形状で形成された既成凸部上面複数微細凹凸部凹部472bと複数の微細凸形状で形成された既成凸部上面複数微細凹凸部凸部471bとを有してなる既成凸部上面複数微細凹凸部477bを形成した。なお、既成凸部上面複数微細凹凸部477bは既成凸部上面凹凸部477に相当する。
(C) Corrosive Etching Process.
Next, as shown in Fig. 10(C) and (C-b), an etching solution (aqueous ferric chloride solution) was brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the desired region inkjet resist cured film 3 was formed, and the plate mold substrate second region surface 12 of the plate mold substrate 1 on which the desired region inkjet resist cured film 3 was not attached was etched to a depth of about 0.1 mm (100 µm), thereby forming a pre-formed convex portion upper surface multiple fine unevenness 477b having a pre-formed convex portion upper surface multiple fine unevenness concave portion 472b formed with a plurality of fine concave shapes corresponding to the desired fine graphic character pattern and a pre-formed convex portion upper surface multiple fine unevenness convex portion 471b formed with a plurality of fine convex shapes. Note that the pre-formed convex portion upper surface multiple fine unevenness 477b corresponds to the pre-formed convex portion upper surface unevenness 477.

(D)所望領域インクジェットレジスト硬化膜除去工程.
図10(D)、(D-b))に示されるように、市販されている汎用の慣用のレジスト除去剤(苛性ソーダ水溶液)を使用して、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を除去した。
このようにして、既成凸部上面47aの上面に、複数の微細凹形状で形成された既成凸部上面複数微細凹凸部凹部(472b)と複数の微細凸形状で形成された既成凸部上面複数微細凹凸部凸部471bとを有してなる既成凸部上面複数微細凹凸部477bを形成した。
(D) Removal process of hardened inkjet resist film from desired area.
As shown in FIG. 10(D) and (Db), the inkjet resist hardened film 3 was removed from the desired area using a commercially available general-purpose conventional resist remover (aqueous caustic soda solution).
In this way, multiple fine unevenness portions 477b were formed on the upper surface of the existing convex portion 47a, comprising multiple fine unevenness portion concave portions (472b) on the upper surface of the existing convex portion formed with multiple fine concave shapes and multiple fine unevenness portion convex portions 471b on the upper surface of the existing convex portion formed with multiple fine convex shapes.

既成凸部上面複数微細凹凸部凹部472bの深さ寸法(既成凸部上面複数微細凹凸部凸部471bの高さ寸法)は約0.1mm(100μm)であった。既成凸部上面複数微細凹凸部凹部472bの幅寸法は約0.05mm(約50μm)であり、既成凸部上面複数微細凹凸部凹部472bの幅寸法は約50μmであった。
また、既成凹部48の深さ寸法(既成凸部47の高さ寸法)は0.3mmであった。
The depth dimension of the multiple fine unevenness recesses 472b on the upper surface of the existing convex portion (the height dimension of the multiple fine unevenness protrusions 471b on the upper surface of the existing convex portion) was about 0.1 mm (100 μm). The width dimension of the multiple fine unevenness recesses 472b on the upper surface of the existing convex portion was about 0.05 mm (about 50 μm), and the width dimension of the multiple fine unevenness recesses 472b on the upper surface of the existing convex portion was about 50 μm.
The depth dimension of the existing recess 48 (the height dimension of the existing protrusion 47) was 0.3 mm.

また、図10(D)、(D-b)における既成凸部47の側面(既成凹部48の側面に相当)は、エッチングされることなく、図10(D)に示される正常な所望の形状を維持していたことを確認した。
このようにして、既成凸部47と既成凹部48を有するとともに、既成凸部47の上面に微細凹凸形状で形成された「ハート模様」の既成凸部上面複数微細凹凸部477bを形成した「ロールの表面の球面に一致するように変形可能な程度のフレキシブル性を有するフレキシブル型押用版(押圧加工用版10)」を製造した。
It was also confirmed that the side surface of the existing convex portion 47 in Figures 10(D) and (D-b) (corresponding to the side surface of the existing concave portion 48) was not etched and maintained the normal desired shape shown in Figure 10(D).
In this way, a "flexible embossing plate (pressing processing plate 10)" was produced, which has a pre-formed convex portion 47 and a pre-formed concave portion 48, and has multiple fine concave-convex portions 477b on the upper surface of the pre-formed convex portion 47 in a "heart pattern" formed in a fine concave-convex shape on the upper surface of the pre-formed convex portion. The "flexible embossing plate (pressing processing plate 10)" has a flexibility sufficient to enable it to be deformed to conform to the spherical surface of the roll.

なお、本実施例において、正常な所望の形状精度や寸法精度を有する既成凸部47と既成凹部48を有するとともに、既成凸部47に、正常な所望の形状精度や寸法精度を有する既成凸部上面複数微細凹凸部477bが形成されていることを確認した。
また、既成凸部47の側面(既成凹部48に相当)には窪んだ状態でエッチングされたサイドエッチング現象が生じていなく、所望の形状精度を有することを確認した。
In addition, in this embodiment, it was confirmed that the pre-formed convex portion 47 and the pre-formed concave portion 48 have normal desired shape accuracy and dimensional accuracy, and that the pre-formed convex portion 47 has multiple fine uneven portions 477b formed on the upper surface of the pre-formed convex portion 477 having normal desired shape accuracy and dimensional accuracy.
It was also confirmed that the side surface of the existing convex portion 47 (corresponding to the existing concave portion 48) was not etched in a concave state due to the side etching phenomenon, and the desired shape precision was obtained.

<実施例5A-a(実施例5Aの押圧加工用版をロール装置に設置して使用した被加工物の加工)>
本実施例は、前述の実施例5Aにおいて製造した押圧加工用版10を、ロール式加工装置に設置して箔押用版10として使用して、箔押加工するものである。
下記の工程によって被加工物を箔押加工した。
(S-a)実施例5Aにおいて製造した押圧加工用版10としての箔押用版10を準備して、供給した。
(S-b)互いに対向する主ロール96と対ロール97を備えた押圧加工装置を準備した。
(S-c)押圧加工用版10としての箔押用版を、主ロール96の周囲に巻き付けて設置した。この場合、主ロール96の内部には磁力を発生する磁力部材が構成され、フレキシビル性を有する圧加工用版10としての箔押用版10が磁力により主ロール96の周囲に巻き付けて設置される。
(S-d)所定の受版94を、前記押圧加工装置の対ロール97に設置した。
本実施例においては、対ロール97としては、別途調製した滑らかな球面を有するステンレス製のアンビルロール97を準備して設置した。
(S-e)主ロール96と対ロール97とを駆動するとともに、主ロール96と対ロール97との間に、被加工物基材108aとしての厚さ1mmの紙製シートと、厚さ約30μmの薄い銀色のシート状箔材料108bとの被加工物を互いに平行なる状態で連続的に供給して、押圧加工用版10と受版94とが回転しながら被加工物を連続的に押圧した。
これにより、被加工物基材108aの表面に、既成凸部47に形成された既成凸部上面複数微細凹凸部477bの凹凸形状に一致する微細凹凸形状を有するシート状箔材料を転写して、被加工物箔押転写形成部を転写形成した。
(S-f)ロールの回転に伴って、被加工物を、前記主ロール96と対ロール97との間から離反して、被加工物への押圧を解除した。
これにより、被加工物108の表面に、既成凸部47に形成された既成凸部上面複数微
細凹凸部477bの凹凸形状に一致する微細な凹凸形状を有する形態で転写形成された被加工物転写形成部を形成してなる加工物を調製した。
このようにして、被加工物108としての紙製シート108aの表面に、「ハート模様」であって複数微細凹凸模様図柄有する箔材料が転写形成されてなる加工物を調製した。
<Example 5A-a (Processing of a workpiece using the pressing plate of Example 5A installed in a roll device)>
In this embodiment, the pressing plate 10 manufactured in the above-mentioned embodiment 5A is placed in a roll-type processing device and used as the foil stamping plate 10 for foil stamping.
The workpiece was stamped using the following process.
(Sa) A foil stamping plate 10 as the pressing processing plate 10 manufactured in Example 5A was prepared and supplied.
(Sb) A pressing device having a main roll 96 and a counter roll 97 facing each other was prepared.
(Sc) A foil stamping plate as the pressing plate 10 was wrapped around the main roll 96. In this case, a magnetic member that generates a magnetic force is configured inside the main roll 96, and the foil stamping plate 10 as the flexible pressing plate 10 is wrapped around the main roll 96 by the magnetic force.
(Sd) A predetermined receiving plate 94 was placed on the paired roll 97 of the pressing device.
In this embodiment, as the counter roll 97, a separately prepared stainless steel anvil roll 97 having a smooth spherical surface was prepared and installed.
(S-e) The main roll 96 and the counter roll 97 were driven, and the workpieces, which were a 1 mm thick paper sheet serving as the workpiece substrate 108a and a thin silver sheet-like foil material 108b having a thickness of approximately 30 μm, were continuously supplied between the main roll 96 and the counter roll 97 in a mutually parallel state, and the workpieces were continuously pressed while the pressing plate 10 and the receiving plate 94 were rotated.
As a result, a sheet-like foil material having a fine uneven shape that matches the uneven shape of the multiple fine uneven portions 477b on the upper surface of the existing convex portion 47 formed in the existing convex portion 47 was transferred to the surface of the workpiece substrate 108a, thereby transferring and forming the workpiece foil stamping transfer formation portion.
(Sf) As the rolls rotated, the workpiece was separated from between the main roll 96 and the counter roll 97, and the pressure on the workpiece was released.
This resulted in the preparation of a workpiece having a workpiece transfer formation portion formed on the surface of the workpiece 108, which has a fine uneven shape that matches the uneven shape of the multiple fine uneven portions 477b on the upper surface of the existing convex portion 47 formed on the existing convex portion 47.
In this manner, a workpiece was prepared in which a foil material having a "heart pattern" and a plurality of fine concave-convex patterns was transferred onto the surface of the paper sheet 108a serving as the workpiece 108.

この場合、被加工物108としての紙製シート108a及び金属箔シート108bに何らの異常が発生することなく、順調な状態で、被加工物108としての紙製シート108aに、所望の形状精度や寸法精度を有する微細凹凸形状であって金属箔が転写形成された「ハート模様」の複数微細凹凸模様を形成した加工物が得られた。In this case, no abnormalities occurred in the paper sheet 108a and metal foil sheet 108b serving as the workpiece 108, and a workpiece was obtained in which the paper sheet 108a serving as the workpiece 108 had multiple fine uneven patterns of "heart patterns" formed by transferring metal foil and having the desired shape and dimensional accuracy, all in a smooth state.

<実施例5B(押圧加工用版としての型押用版の製造)>
本実施例は、前述の「従属構成11」に類似する押圧加工用版の製造方法であり、図10の(A)~(D)、(A―a)~(D―a)に示される押圧加工用版であって、既成凸部47と既成凹部48とを備えた版型用基板の既成凸部47の上面に「凹凸形状で形成された図文字絵柄模様」を形成する押圧加工用版の製造方法である。本押圧加工用版は型押用版として使用される。
なお、本実施例において、従来汎用の慣用液状レジスト材を使用する工程を含む工程により、既成凹凸部47と既成凹部48とを形成し、その既成凸部47と既成凹部48とを形成した版型用基板を、インクジェットレジスト材を使用する工程を含む工程により、既成凸部47の上面に「凹凸形状で形成された図文字絵柄模様に相当する複数の凹凸形状で形成された既成凸部上面複数凹凸部477、477a」を形成して、押圧加工用版を調製した。
以下に本実施例を詳細に説明する。
Example 5B (Production of embossing plate as pressing plate)
This embodiment is a method for manufacturing a pressing plate similar to the above-mentioned "subordinate configuration 11," and is a method for manufacturing a pressing plate shown in (A) to (D) and (A-a) to (D-a) of Fig. 10, which forms a "graphical character pattern formed in a concave-convex shape" on the upper surface of a pre-formed convex portion 47 of a plate mold substrate having a pre-formed convex portion 47 and a pre-formed concave portion 48. This pressing plate is used as an embossing plate.
In this embodiment, a pre-formed uneven portion 47 and a pre-formed recess 48 were formed by a process including a process using a conventional general-purpose liquid resist material, and a plate mold substrate on which the pre-formed convex portion 47 and the pre-formed recess 48 were formed was prepared by a process including a process using an inkjet resist material to form "multiple pre-formed convex portion upper surface uneven portions 477, 477a formed with a plurality of uneven shapes corresponding to a graphic, letter, and picture pattern formed with uneven shapes" on the upper surface of the pre-formed convex portion 47, thereby preparing a plate for pressing processing.
This embodiment will be described in detail below.

(A)既成凸部47を有する版型用基板第一領域表面11と既成凹部48を有する版型用基板第二領域表面12を備えた版型用基板1を調製し、供給する工程.
平面表面形状を有する版型用基板第一領域表面11と平面表面形状を有する版型用基板第二領域表面12を備えた平面表面形状を有する版型用基板1を準備した。版型用基板1は、銅製であって、厚さ「h」7mm、横幅125mm、縦幅90mmの略平板形状を有する。
(A) A step of preparing and supplying a plate mold substrate 1 having a plate mold substrate first area surface 11 having a preformed convex portion 47 and a plate mold substrate second area surface 12 having a preformed concave portion 48.
A plate mold substrate 1 having a planar surface shape was prepared, which includes a plate mold substrate first region surface 11 having a planar surface shape and a plate mold substrate second region surface 12 having a planar surface shape. The plate mold substrate 1 is made of copper and has a substantially flat plate shape with a thickness "h" of 7 mm, a width of 125 mm, and a length of 90 mm.

次に、版型用基板1の全表面に従来汎用の慣用液状レジスト材(製版、プリント基板の腐蝕エッチングのために汎用に使用されている慣用の液状レジスト材であって、市販されている汎用の慣用液状レジスト材のうちから所望の慣用液状レジスト材、前述の実施例1Aの(A)工程で使用した慣用液状レジスト材)を選択して使用して、慣用のスプレーコート方式により、約0.02mm~約0.04mmの厚さで付着し、所定の方法で乾燥してレジスト付着膜を形成した。
そして、版型用基板第一領域表面11に光透過用の貫通孔を形成した露光用マスク部材を介して、レジスト付着膜に紫外線を照射し、その後、市販されている汎用の慣用の現像剤(炭酸ナトリウム水溶液)を使用して、紫外線が照射されていない領域の不要なレジスト付着膜を除去した。その後、所定の慣用の方法で加熱ベーキングを行って熟成した。このようにして所望の略長方形を有するレジスト硬化膜を形成した。
Next, a conventional general-purpose liquid resist material (a general-purpose liquid resist material that is generally used for plate making and etching of printed circuit boards, and a desired general-purpose liquid resist material is selected from commercially available general-purpose general-purpose liquid resist materials, such as the general-purpose liquid resist material used in step (A) of Example 1A described above) was applied to the entire surface of the mold substrate 1 by a conventional spray coating method to a thickness of about 0.02 mm to about 0.04 mm, and then dried by a prescribed method to form a resist coating film.
Then, the resist film was irradiated with ultraviolet light through an exposure mask member having through holes for light transmission formed on the first region surface 11 of the plate mold substrate, and then unnecessary resist film was removed from the region not irradiated with ultraviolet light using a commercially available general-purpose conventional developer (aqueous sodium carbonate solution). Then, the resist film was aged by heating and baking in a predetermined conventional manner. In this way, a resist cured film having a desired approximately rectangular shape was formed.

次に、レジスト硬化膜を形成した版型用基板1の表面に市販されている汎用の慣用のエッチング液(塩化第二鉄水溶液)を接触して、レジスト硬化膜が付着されていない版型用基板の表面を深さ寸法が1.9mmになるまでエッチングして、版型用基板に凹形状で形成された既成凹部48を形成するとともに、凸形状で形成された既成凸部47を形成した。
次に、市販されている汎用の慣用のレジスト除去剤(苛性ソーダ水溶液)を使用して、レジスト硬化膜を除去した。
このようにして、図10(A)、(A-a)に示されるような版型用基板に凸形状で形成された既成凸部47と、凹形状で形成され既成凹部48を形成した。
既成凹部48の深さは約1.9mmであり、既成凸部47の高さは既成凹部48の深さに相当する約1.9mmであった。
Next, a commercially available general-purpose conventional etching solution (aqueous ferric chloride solution) was brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the resist hardened film had been formed, and the surface of the plate mold substrate on which the resist hardened film had not been attached was etched until the depth dimension reached 1.9 mm, thereby forming a pre-formed recess 48 formed in a concave shape on the plate mold substrate, and a pre-formed protrusion 47 formed in a convex shape.
Next, the hardened resist film was removed using a commercially available general-purpose conventional resist remover (aqueous caustic soda solution).
In this manner, a pre-formed convex portion 47 formed in a convex shape and a pre-formed concave portion 48 formed in a concave shape were formed on the plate mold substrate as shown in FIGS. 10(A) and (Aa).
The depth of the existing recess 48 was about 1.9 mm, and the height of the existing protrusion 47 was about 1.9 mm, which corresponds to the depth of the existing recess 48 .

(B)所望領域インクジェットレジスト硬化膜形成工程.
次に、図10(B)、(B-a)に示されるように、インクジェットレジスト材2をインクジェット方式で付着して、版型用基板1の既成凸部側面47bと既成凹部側面48bと既成凹部底面48cの全面を覆うとともに、既成凸部上面47aの上面に、インクジェットレジスト材(2)をインクジェット方式により付着して、(イ)図10(B-a)に示されるような「ABCDE模様」の所望の図文字絵柄模様、を有する所望領域インクジェットレジスト付着膜を形成した。この場合、既成凸部側面47bと既成凹部側面48bにインクジェットレジスト材が付着していることを確認した。
なお、既成凸部側面47bと既成凹部側面48bは、互いに同じ領域を意味する。
(B) Step of forming a hardened inkjet resist film in a desired area.
Next, as shown in Figures 10(B) and (B-a), the inkjet resist material 2 was applied by the inkjet method to cover the entire surfaces of the existing convex side 47b, the existing concave side 48b, and the existing concave bottom 48c of the plate mold substrate 1, and the inkjet resist material (2) was applied by the inkjet method to the upper surface of the existing convex top 47a to form a desired region inkjet resist applied film having the desired graphic letter pattern of "ABCDE pattern" as shown in Figure 10(B-a). In this case, it was confirmed that the inkjet resist material was applied to the existing convex side 47b and the existing concave side 48b.
The existing convex side surface 47b and the existing concave side surface 48b refer to the same region.

本工程において、マイクロクラフト社製のオンデマンド・インクジェット印刷システム装置を使用した。インクジェットレジスト材としては、市販されているインクジェットレジスト材のうち、紫外線照射により化学反応して3次元化学構造に架橋する性質を有するとともに、10mPa・s~20mPa・s(25℃)の粘度のインクジェットレジスト材(前述の実施例1Aの(B)工程、本実施例5の(A)工程、本実施例5の(B)工程で使用したものと同じインクジェットレジスト材)を選択して使用し、吐出ノズルから吐出される液滴量が2pl~15plの条件で付着してインクジェットレジスト付着膜を形成した。そして、前述の実施例1Aの(B)工程と類似の方法により、版型用基板に付着形成された上記のインクジェットレジスト付着膜に紫外線を照射し、その後、120℃で10分間のバーニングを行って、既成凸部側面47bの全面と既成凹部側面48bの全面と既成凹部底面48cの全面に硬化された所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成するとともに、既成凸部上面47aの上面に図文字絵柄模様(ABCDE模様)の硬化された所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成した。それぞれの所望領域インクジェットレジスト硬化膜の厚さは約0.03mm~約0.05mmの範囲であった。このようにして、それぞれの所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成した。In this step, an on-demand inkjet printing system device manufactured by Microcraft was used. As the inkjet resist material, an inkjet resist material (the same inkjet resist material used in the above-mentioned step (B) of Example 1A, step (A) of this Example 5, and step (B) of this Example 5) that has a property of chemically reacting with ultraviolet light irradiation to crosslink into a three-dimensional chemical structure and has a viscosity of 10 mPa·s to 20 mPa·s (25° C.) was selected from among commercially available inkjet resist materials and used, and the inkjet resist deposition film was formed by deposition under the condition that the amount of droplets discharged from the discharge nozzle was 2 pl to 15 pl. Then, by a method similar to the process (B) of Example 1A described above, the inkjet resist film formed on the plate mold substrate was irradiated with ultraviolet light, and then burned at 120° C. for 10 minutes to form a cured desired area inkjet resist cured film 3 on the entire surface of the existing convex side 47b, the entire surface of the existing concave side 48b, and the entire surface of the existing concave bottom 48c, and also formed a cured desired area inkjet resist cured film 3 with a graphic character pattern (ABCDE pattern) on the upper surface of the existing convex upper surface 47a. The thickness of each of the desired area inkjet resist cured films was in the range of about 0.03 mm to about 0.05 mm. In this manner, each of the desired area inkjet resist cured films 3 was formed.

(C)腐蝕エッチング工程.
次に、図10(C)、(C―a)に示されるように、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成した版型用基板1の表面にエッチング液を接触して記所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が付着されていない版型用基板1の既成凸部上面47aの上面において深さが約0.9mmになる迄エッチングし、これにより、所望の図文字絵柄模様に相当する複数の凹形状で形成された既成凸部上面複数凹凸部凹部472aと複数の凸形状で形成された既成凸部上面複数凹凸部凸部471aとを有してなる既成凸部上面複数凹凸部477aを形成した。なお、既成凸部上面複数凹凸部477aは既成凸部上面凹凸部477に相当する。
(C) Corrosive Etching Process.
10(C) and (C-a), an etching solution was brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the desired region inkjet resist cured film 3 was formed, and etching was performed until the depth reached about 0.9 mm on the upper surface of the existing convex portion upper surface 47a of the plate mold substrate 1 to which the desired region inkjet resist cured film 3 was not attached, thereby forming a pre-existing convex portion upper surface multiple convex/concave portion 472a formed with multiple concave shapes corresponding to the desired graphic character pattern, and a pre-existing convex portion upper surface multiple convex/concave portion 471a formed with multiple convex shapes. The pre-existing convex portion upper surface multiple convex/concave portion 477a corresponds to the pre-existing convex portion upper surface multiple convex/concave portion 477.

(D)所望領域インクジェットレジスト硬化膜除去工程.
図10(D)、(D-a)に示されるように、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を除去した。
このようにして、既成凸部上面47aの上面に、複数の凹形状で形成された既成凸部上面複数凹凸部凹部472aと複数の凸形状で形成された既成凸部上面複数凹凸部凸部471aとを有してなる既成凸部上面複数凹凸部477aを形成した。
(D) Removal process of hardened inkjet resist film from desired area.
As shown in FIG. 10(D) and (Da), the inkjet resist hardened film 3 was removed from the desired area.
In this way, a pre-formed convex portion upper surface multiple uneven portion 477a was formed on the upper surface of the pre-formed convex portion 47a, comprising a pre-formed convex portion upper surface multiple uneven portion concave portion 472a formed with multiple concave shapes and a pre-formed convex portion upper surface multiple uneven portion convex portion 471a formed with multiple convex shapes.

既成凸部上面複数凹凸部凹部472aの深さ寸法(既成凸部上面複数凹凸部凸部471aの高さ寸法)は約0.9mmであった。
また、既成凹部48の深さ寸法(既成凸部47の高さ寸法)は1.9mmであった。
The depth dimension of the concave portion 472a of the multiple uneven portions on the upper surface of the existing convex portion (the height dimension of the convex portion 471a of the multiple uneven portions on the upper surface of the existing convex portion) was approximately 0.9 mm.
The depth dimension of the existing recess 48 (the height dimension of the existing protrusion 47) was 1.9 mm.

また、図10(D)、(D-a)における既成凸部47の側面(既成凹部48の側面に相当)は、エッチングされることなく、図10(D)に示される正常な所望の形状を維持していたことを確認した。
このようにして、既成凸部47と既成凹部48を有するとともに、既成凸部47の上面に凹凸形状で形成された「ABCDE模様」の既成凸部上面複数凹凸部477aを形成した押圧加工用版10を製造した。
It was also confirmed that the side surface of the existing convex portion 47 in Figures 10(D) and (Da) (corresponding to the side surface of the existing concave portion 48) was not etched and maintained the normal desired shape shown in Figure 10(D).
In this way, a pressing processing plate 10 was manufactured having a preformed convex portion 47 and a preformed concave portion 48, and having multiple preformed convex portion upper surface uneven portions 477a formed in an uneven shape on the upper surface of the preformed convex portion 47 in an "ABCDE pattern."

なお、本実施例において、正常な所望の形状精度や寸法精度を有する既成凸部47と既成凹部48を有するとともに、既成凸部47に、正常な所望の既成凸部上面複数凹凸部477aが形成されていることを確認した。
また、既成凸部47の側面(既成凹部48に相当)には窪んだ状態でエッチングされたサイドエッチング現象が生じていなく、所望の形状精度を有することを確認した。
In addition, in this embodiment, it was confirmed that the pre-formed convex portion 47 and the pre-formed concave portion 48 have the normal desired shape accuracy and dimensional accuracy, and that the pre-formed convex portion 47 has multiple normal and desired uneven portions 477a formed on the upper surface of the pre-formed convex portion.
It was also confirmed that the side surface of the existing convex portion 47 (corresponding to the existing concave portion 48) was not etched in a concave state due to the side etching phenomenon, and the desired shape precision was obtained.

<実施例5B-a(実施例5Bの押圧加工用版を使用した被加工物の加工)>
本実施例は、前述の実施例5Bにおいて製造した押圧加工用版10を、平圧加圧式加工装置の型押用版10として使用して、被加工物108としての紙製シート108を型押し加工するものである。
下記の工程によって被加工物を型押加工した。
(S-a)実施例5Bにおいて製造した既成凸部と既成凹部を形成した押圧加工用版10としての型押用版10を準備した。
(S-b)図16(A)に示されるように、互いに対向する第一基盤92と第二基盤93を備えた押圧加工装置を準備した。
(S-d)別途調製した滑らかな凹凸を有しない平面を有するステンレス製の受版94を、押圧加工装置の第二基盤93に設置した。
(S-e)この状態で、押圧加工用版10(型押用版)と受版94との間に、被加工物108としての厚さ約1.5mmの紙製シート108を位置し、その状態で、慣用の駆動方法により第一基盤92と第二基盤93のうちの少なくとも一つの基盤を駆動して、押圧加工用版10と受版94とが被加工物108を押圧した。
これにより、被加工物108の表面に、版型用基板の既成凸部47の上面に形成された既成凸部上面複数凹凸部477aの凹凸形状に一致する凹凸形状を有する被加工物凹凸形成部を形成した。
(S-f)押圧加工用版10(型押用版)と受版94のうちの少なくとも一つの基盤を駆動して、押圧加工用版10(型押用版)と受版94とを互いに離反して、被加工物への押圧を解除した。
これにより、被加工物108としての紙製シート108に、版型用基板の既成凸部47の上面に形成された既成凸部上面複数凹凸部477aに凹凸形状で形成されている図文字絵柄模様に一致した図文字絵柄模様を有する約0.9mm深さの凹凸形状のエンボス形状で形成された加工物を調製した。
<Example 5B-a (Processing of workpiece using the pressing plate of Example 5B)>
In this embodiment, the pressing plate 10 manufactured in the above-mentioned embodiment 5B is used as the embossing plate 10 of a flat pressure type processing device to emboss a paper sheet 108 as a workpiece 108.
The workpiece was embossed according to the following steps:
(Sa) An embossing plate 10 was prepared as the pressing plate 10 having the previously formed convex portions and previously formed concave portions manufactured in Example 5B.
(Sb) As shown in FIG. 16(A), a pressing device having a first base 92 and a second base 93 facing each other was prepared.
(Sd) A separately prepared stainless steel receiving plate 94 having a smooth flat surface without irregularities was placed on the second base 93 of the pressing device.
(S-e) In this state, a paper sheet 108 having a thickness of approximately 1.5 mm was positioned as the workpiece 108 between the pressing plate 10 (embossing plate) and the receiving plate 94, and in this state, at least one of the first base 92 and the second base 93 was driven by a conventional driving method, so that the pressing plate 10 and the receiving plate 94 pressed the workpiece 108.
This resulted in the formation of a workpiece unevenness formation portion on the surface of the workpiece 108 having an uneven shape that matches the uneven shape of the multiple uneven portions 477a on the upper surface of the existing convex portion 47 of the mold substrate.
(S-f) At least one of the bases of the pressing plate 10 (embossing plate) and the receiving plate 94 was driven to move the pressing plate 10 (embossing plate) and the receiving plate 94 away from each other, thereby releasing the pressure on the workpiece.
This resulted in the preparation of a workpiece 108 made of a paper sheet 108 having an embossed uneven shape of about 0.9 mm depth having a graphic character pattern that matches the graphic character pattern formed in an uneven shape on the multiple uneven portions 477a on the upper surface of the existing convex portion formed on the upper surface of the existing convex portion 47 of the plate mold substrate.

本被加工物の加工方法の実施例において、被加工物108としての紙製シート108に、何らの異常が発生することなく、所望の形状精度や寸法精度を有する凹凸形状で形成された「ABCDE模様」の図文字絵柄模様を形成した加工物が得られた。加工物に形成された「ABCDE模様」の図文字絵柄模様は、異常なく、所望の約0.9mmの段差を有する凹凸で形成されてなることを確認した。In the embodiment of the method for processing the workpiece, a workpiece was obtained in which a graphic picture pattern of "ABCDE pattern" formed with a concave-convex shape having the desired shape accuracy and dimensional accuracy was formed on the paper sheet 108 as the workpiece 108 without any abnormality. It was confirmed that the graphic picture pattern of "ABCDE pattern" formed on the workpiece was formed with concave-convex shapes having a step of about 0.9 mm as desired without any abnormality.

<比較例5B(慣用液状レジスト材を使用した押圧加工用版の製造)>
本比較例は、上記の実施例5Bの「(B)、(C)、(D)工程の、既成凸部47の上面に既成凸部上面複数凹凸部477aを形成する工程において、インクジェットレジスト材に替えて従来の慣用液状レジスト材を使用して、既成凸部上面複数凹凸部477aを形成しようとする押圧加工用版の製造方法である。
Comparative Example 5B (Production of a press-processing plate using a conventional liquid resist material)
This comparative example is a manufacturing method for a pressing processing plate in which a plurality of uneven portions 477a are formed on the upper surface of a pre-formed convex portion 47 in steps (B), (C), and (D) of Example 5B described above, using a conventional liquid resist material instead of an inkjet resist material.

以下に本比較例を詳細に説明する。
従来の押圧加工用版の製造方法の製造工程を説明するための模式的概略図を図22に示す。
(A)既成凸部47を有する版型用基板第一領域表面11と既成凹部48を有する版型用基板第二領域表面12を備えた版型用基板1を調製し、供給する工程.
上記の実施例5Bと同じ方法により、銅製の厚さ7mm、横幅125mm、縦幅90mmの略平板形状を有する版型用基板を使用して、図22(A)、(A-a)に示されるような版型用基板の版型用基板第一領域表面11に凸形状で形成された既成凸部47と、版型用基板第二領域表面12に凹形状で形成され既成凹部48を形成した。
既成凹部48の深さは約1.9mmであり、既成凸部47の高さは既成凹部48の深さに相当する約1.9mmであった。
This comparative example will be described in detail below.
FIG. 22 is a schematic diagram for explaining the manufacturing steps of a conventional method for manufacturing a pressing plate.
(A) A step of preparing and supplying a plate mold substrate 1 having a plate mold substrate first area surface 11 having a preformed convex portion 47 and a plate mold substrate second area surface 12 having a preformed concave portion 48.
Using the same method as in Example 5B described above, a copper mold substrate having an approximately flat plate shape with a thickness of 7 mm, a width of 125 mm and a length of 90 mm was used to form a pre-formed convex portion 47 formed in a convex shape on the first region surface 11 of the mold substrate, and a pre-formed concave portion 48 formed in a concave shape on the second region surface 12 of the mold substrate, as shown in Figures 22 (A) and (A-a).
The depth of the existing recess 48 was about 1.9 mm, and the height of the existing protrusion 47 was about 1.9 mm, which corresponds to the depth of the existing recess 48 .

(B)従来の慣用液状レジスト硬化膜形成工程.
図22の(B)、(B-a)に示されるように、既成凸部47と既成凹部48とを形成した版型用基板の全表面を覆って、従来の慣用液状レジスト材20(本比較例5Bの(A)工程、実施例5Bの(A)工程、実施例1Aの(A)工程、で使用した液状レジスト材と同じであって、紫外線照射により化学反応して3次元化学構造に架橋する性質を有し、製版、プリント基板の腐蝕エッチングのために汎用に使用されている慣用の液状レジスト材)を使用して、従来慣用のスプレーコート方式によって塗布して液状レジスト付着膜を形成した。
この場合、慣用液状レジスト材は、既成凸部の上面と既成凹部の底面に液状レジスト付着膜が形成されたが、しかしながら、既成凸部側面(既成凹部側面)には、液状レジスト付着膜は形成されなかった。
その後、所望の形状の露光用マスク部材(露光用マスク部材を版型用基板の表面に設置した場合に、版型用基板の版型用基板第一領域表面11に形成された既成凸部47の領域に相当する部分に「ABCDE模様」の貫通孔を有するとともに、その周囲領域に光遮断用部分を有する露光用マスク部材)を介して、紫外線照射露光し、その後、現像剤(炭酸ナトリウム水溶液)を使用して紫外線が照射されていない領域のレジスト付着膜を除去して現像し、その後、アフターベーキング、等の慣用の方法により、付着した慣用レジスト付着膜を硬化して、図22の(C)、(C-a)に示されるような、既成凹部の底面に硬化膜を形成するとともに、既成凸部の上面に、所望の「ABCDE模様」を有する慣用レジスト硬化膜30を形成した。慣用レジスト硬化膜30の厚さは約0.02mm~約0.04mmの範囲であった。
(B) A conventional liquid resist hardened film forming process.
As shown in Figures 22 (B) and (B-a), the entire surface of the plate mold substrate having the existing convex portion 47 and the existing concave portion 48 formed thereon was covered with a conventional liquid resist material 20 (the same liquid resist material as that used in step (A) of this Comparative Example 5B, step (A) of Example 5B, and step (A) of Example 1A, which has the property of chemically reacting when irradiated with ultraviolet light and crosslinking into a three-dimensional chemical structure, and which is a conventional liquid resist material that is widely used for plate making and corrosive etching of printed circuit boards) by a conventional spray coating method to form a liquid resist deposition film.
In this case, the conventional liquid resist material formed a liquid resist film on the top surface of the existing convex portion and the bottom surface of the existing concave portion, but no liquid resist film was formed on the side surface of the existing convex portion (side surface of the existing concave portion).
Thereafter, the plate was exposed to ultraviolet light through an exposure mask member of a desired shape (an exposure mask member having through holes of an "ABCDE pattern" in the area corresponding to the area of the existing convex portion 47 formed on the plate substrate first region surface 11 of the plate substrate when the exposure mask member is placed on the surface of the plate substrate), and having a light blocking portion in the surrounding area), and then a developer (aqueous sodium carbonate solution) was used to remove and develop the resist film in the area not irradiated with ultraviolet light, and then the attached conventional resist film was hardened by a conventional method such as after-baking to form a hardened film on the bottom surface of the existing concave portion as shown in (C) and (C-a) of FIG. 22, and a conventional resist hardened film 30 having the desired "ABCDE pattern" was formed on the upper surface of the existing convex portion. The thickness of the conventional resist hardened film 30 was in the range of about 0.02 mm to about 0.04 mm.

(C)腐蝕エッチング工程.
図22(D)に示されるように、慣用レジスト硬化膜30を形成した版型用基板1の表面にエッチング液(塩化第二鉄水溶液)をパドル吹上方式で接触して、慣用レジスト硬化膜が付着されていない領域を、深さ寸法が約0.9mmになるまでエッチングした。
これにより、既成凸部47の上面をエッチングして、複数の凹形状で形成された既成凸部上面複数凹凸部凹部472aと複数の凸形状で形成された既成凸部上面複数凹凸部凸部471aとを有してなる既成凸部上面複数凹凸部477aを形成した。
この場合、既成凸部の側面(既成凹部の側面)には、窪み状態のサイドエッチングが生じていた。
(C) Corrosive Etching Process.
As shown in FIG. 22(D), an etching solution (aqueous ferric chloride solution) was brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the conventional resist hardened film 30 was formed, using a paddle blow-up method, and the area on which the conventional resist hardened film was not attached was etched to a depth dimension of about 0.9 mm.
As a result, the upper surface of the existing convex portion 47 was etched to form a pre-formed convex portion upper surface multiple uneven portion 477a having a pre-formed convex portion upper surface multiple uneven portion concave portion 472a formed with multiple concave shapes and a pre-formed convex portion upper surface multiple uneven portion convex portion 471a formed with multiple convex shapes.
In this case, side etching in the form of a depression was generated on the side surface of the existing convex portion (the side surface of the existing concave portion).

(D)従来慣用レジスト硬化膜除去工程.
図22の(E)に示されるように、慣用レジスト硬化膜30を、汎用のレジスト除去剤(苛性ソータ水溶液、又は、水酸化ナトリウム水溶液)を使用して除去した。
(D) Conventional resist hardened film removal process.
As shown in FIG. 22E, the conventional resist hardened film 30 was removed using a general-purpose resist remover (caustic soda solution or sodium hydroxide solution).

上記の「(C)腐蝕エッチング工程」において、硬化膜が付着形成されていない既成凸部47の側面(既成凹部48の側面)も腐蝕エッチングされて、図22(D)、(E)に示されるようなサイドエッチングが生じていた。すなわち、所望の形状精度や寸法精度を有する押圧加工用版が得られなかった。
このようなサイドエッチング形状は所望の形状ではなく、好ましくない形状であり、このようなサイドエッチングされた凹凸部を形成した押圧加工用版型を使用して被加工物を加工した場合に、所望の凹凸形状に加工された加工物が得られないという課題があり、好ましくない。
In the above-mentioned "(C) Corrosive Etching Step", the side surface of the existing convex portion 47 (side surface of the existing concave portion 48) on which the cured film was not attached was also corroded and etched, resulting in side etching as shown in Figures 22(D) and (E). In other words, a pressing plate having the desired shape accuracy and dimensional accuracy was not obtained.
Such a side-etched shape is not the desired shape but is an undesirable shape, and when a pressing mold having such a side-etched uneven portion formed therein is used to process a workpiece, there is a problem that a workpiece processed into the desired uneven shape cannot be obtained, which is undesirable.

<比較例5B-a(比較例5Bの押圧加工用版を使用した被加工物の加工)>
本比較例は、上記の「比較例5B」において製造した押圧加工用版10を、平圧加圧式加工装置の型押用版10として使用して、被加工物108としての紙製シート108を型押し加工するものである。
下記の工程によって被加工物を型押加工した。
(S-a)比較例5Bにおいて製造した押圧加工用版10としての型押用版10を準備した。
(S-b)図16(A)に示されるように、互いに対向する第一基盤92と第二基盤93を備えた押圧加工装置を準備した。
(S-d)別途調製した滑らかな平面を有するステンレス製の受版94を、押圧加工装置の第二基盤93に設置した。
(S-e)この状態で、押圧加工用版10(型押用版)と受版94との間に、被加工物108としての厚さ1.5mmの紙製シート108を位置し、その状態で、慣用の駆動方法により第一基盤92と第二基盤93のうちの少なくとも一つの基盤を駆動して、押圧加工用版10と受版94とが被加工物108を押圧した。
これにより、被加工物108の表面に、版型用基板の既成凸部47の上面に形成された既成凸部上面複数凹凸部477aの凹凸形状に一致する凹凸形状を有する被加工物凹凸形成部を形成した。
(S-f)押圧加工用版10(型押用版)と受版94のうちの少なくとも一つの基盤を駆動して、押圧加工用版10(型押用版)と受版94とを互いに離反して、被加工物への押圧を解除した。
このようにして、被加工物108としての紙製シート108に、版型用基板の既成凸部47の上面に形成された既成凸部上面複数凹凸部477aに凹凸形状で形成されている図文字絵柄模様に一致した図文字絵柄模様を有する凹凸形状のエンボス形状で形成された加工物を調製した。
<Comparative Example 5B-a (Processing of workpiece using the press processing plate of Comparative Example 5B)>
In this comparative example, the pressing plate 10 manufactured in "Comparative Example 5B" above is used as the embossing plate 10 of a flat pressure processing device to emboss a paper sheet 108 as the workpiece 108.
The workpiece was embossed according to the following steps:
(Sa) An embossing plate 10 was prepared as the pressing plate 10 manufactured in Comparative Example 5B.
(Sb) As shown in FIG. 16(A), a pressing device having a first base 92 and a second base 93 facing each other was prepared.
(Sd) A separately prepared stainless steel receiving plate 94 having a smooth flat surface was placed on the second base 93 of the pressing device.
(S-e) In this state, a 1.5 mm thick paper sheet 108 serving as the workpiece 108 was positioned between the pressing plate 10 (embossing plate) and the receiving plate 94, and in this state, at least one of the first base 92 and the second base 93 was driven by a conventional driving method, so that the pressing plate 10 and the receiving plate 94 pressed the workpiece 108.
This resulted in the formation of a workpiece unevenness formation portion on the surface of the workpiece 108 having an uneven shape that matches the uneven shape of the multiple uneven portions 477a on the upper surface of the existing convex portion 47 of the mold substrate.
(S-f) At least one of the bases of the pressing plate 10 (embossing plate) and the receiving plate 94 was driven to move the pressing plate 10 (embossing plate) and the receiving plate 94 away from each other, thereby releasing the pressure on the workpiece.
In this manner, a processed product was prepared in which the paper sheet 108 as the workpiece 108 was embossed with a concave-convex shape having a graphic character pattern that matches the graphic character pattern formed in a concave-convex shape on the multiple concave-convex portions 477a on the upper surface of the existing convex portion 47 of the plate mold substrate.

この場合、繰り返し押圧加工を繰り返しているときに、被加工物108が押圧加工用版から離れることなく、押圧加工用版に引っ付き又は引っ掛かり状態で、離反駆動される現象が、一部認められた。すなわち、押圧加工用版のサイドエッチングされた既成凸部の側面(複数のサイドエッチングされた既成凹部の側面)が形成された形状に起因して、そのサイドエッチングの形状により、被加工物108が押圧加工用版に引っ付き又は引っ掛かり状態になった現象が一部認められた。その結果、所望の凹凸形状を有する加工物が得られなかった。In this case, when the pressing process was repeated, the workpiece 108 was partially driven to separate from the pressing plate while being stuck or caught on the pressing plate. That is, due to the shape of the side of the side-etched existing convex portion (the side of the multiple side-etched existing concave portions) of the pressing plate, the workpiece 108 was partially driven to stick or catch on the pressing plate due to the shape of the side etching. As a result, a workpiece having a desired concave-convex shape was not obtained.

<実施例6A(押圧加工用版としての型押用版の製造)>
本実施例は、前述の「従属構成12」に類似する押圧加工用版の製造方法であり、図11の(A)~(D)、(A―b)~(D―b)に示される押圧加工用版であって、既成凸部47と既成凹部48とを備えた版型用基板の既成凹部48の底面に「凹凸形状で形成された図文字絵柄模様」を形成する押圧加工用版の製造方法である。本押圧加工用版は型押用版として使用される。
なお、本実施例において、従来汎用の慣用ドライフィルムレジスト材を使用する工程を含む工程により、既成凹凸部47と既成凹部48とを形成し、その既成凸部47と既成凹部48とを形成した版型用基板を、インクジェットレジスト材を使用する工程を含む工程により、既成凹部48の底面に「凹凸形状で形成された図文字絵柄模様に相当する複数の凹凸形状で形成された既成凹部底面複数凹凸部488、488b」を形成して、押圧加工用版を調製した。
以下に本実施例を詳細に説明する。
Example 6A (Production of embossing plate as pressing plate)
This embodiment is a method for manufacturing a pressing plate similar to the above-mentioned "subordinate configuration 12", and is a method for manufacturing a pressing plate shown in (A) to (D) and (A-b) to (D-b) in Fig. 11, which forms a "graphical character pattern formed in a concave-convex shape" on the bottom surface of a pre-formed concave portion 48 of a plate mold substrate having a pre-formed convex portion 47 and a pre-formed concave portion 48. This pressing plate is used as an embossing plate.
In this embodiment, a pre-formed uneven portion 47 and a pre-formed recess 48 were formed by a process including a process using a conventional general-purpose conventional dry film resist material, and a plate mold substrate on which the pre-formed protrusion 47 and the pre-formed recess 48 were formed was then treated by a process including a process using an inkjet resist material to form "pre-formed recess bottom surface multiple uneven portions 488, 488b formed with multiple uneven shapes corresponding to a graphic, letter, and picture pattern formed with uneven shapes" on the bottom surface of the pre-formed recess 48, thereby preparing a plate for pressing processing.
This embodiment will be described in detail below.

(A)既成凸部47を有する版型用基板第一領域表面11と既成凹部48を有する版型用基板第二領域表面12を備えた版型用基板1を調製し、供給する工程.
平面表面形状を有する版型用基板第一領域表面11と平面表面形状を有する版型用基板第二領域表面12を備えた平面表面形状を有する版型用基板1を準備した。版型用基板1は、真鍮製であって、「h」7mm、横幅125mm、縦幅90mmの略平板形状を有する。
(A) A step of preparing and supplying a plate mold substrate 1 having a plate mold substrate first area surface 11 having a preformed convex portion 47 and a plate mold substrate second area surface 12 having a preformed concave portion 48.
A plate mold substrate 1 having a planar surface shape was prepared, which includes a plate mold substrate first region surface 11 having a planar surface shape and a plate mold substrate second region surface 12 having a planar surface shape. The plate mold substrate 1 is made of brass and has a generally flat plate shape with an "h" of 7 mm, a width of 125 mm, and a length of 90 mm.

次に、版型用基板1の全表面に、従来汎用の慣用ドライフィルムレジスト材(市販されている汎用の慣用ドライフィルムレジスト材のうちから所望の慣用ドライフィルムレジスト材(実施例3Bの(A)工程で使用したものと同じ慣用ドライフィルムレジスト材、厚さが約0.02mm~約0.04mm)を選択して使用して、版型用基板の表面に接着してレジスト付着膜を形成した。
そして、版型用基板第一領域表面11に光透過用の貫通孔を形成した露光用マスク部材を介して、レジスト付着膜に紫外線を照射し、その後、市販されている汎用の慣用の現像剤(炭酸ナトリウム水溶液)を使用して、紫外線が照射されていない領域の不要なレジスト付着膜を除去した。その後、所定の慣用の方法で加熱ベーキングを行って熟成した。このようにして所望の略長方形を有するレジスト硬化膜を形成した。
Next, a conventional general-purpose conventional dry film resist material (a desired conventional dry film resist material (the same conventional dry film resist material as used in step (A) of Example 3B, with a thickness of about 0.02 mm to about 0.04 mm) was selected from among commercially available general-purpose conventional dry film resist materials) and used to adhere to the entire surface of the plate mold substrate 1, forming a resist-attached film.
Then, the resist film was irradiated with ultraviolet light through an exposure mask member having through holes for light transmission formed on the first region surface 11 of the plate mold substrate, and then unnecessary resist film was removed from the region not irradiated with ultraviolet light using a commercially available general-purpose conventional developer (aqueous sodium carbonate solution). Then, the resist film was aged by heating and baking in a predetermined conventional manner. In this way, a resist cured film having a desired rectangular shape was formed.

次に、レジスト硬化膜を形成した版型用基板1の表面に市販されている汎用の慣用のエッチング液(塩化第二鉄水溶液)を接触して、レジスト硬化膜が付着されていない版型用基板の表面を深さ寸法が約1.0mmになるまでエッチングして、版型用基板に凹形状で形成された既成凹部48を形成するとともに、凸形状で形成された既成凸部47を形成した。
次に、市販されている汎用の慣用のレジスト除去剤(苛性ソーダ水溶液)を使用して、レジスト硬化膜を除去した。
このようにして、図11(A)、(A-b)に示されるような版型用基板に凸形状で形成された既成凸部47と、凹形状で形成され既成凹部48を形成した。
既成凹部48の深さは約1.0mmであり、既成凸部47の高さは既成凹部48の深さに相当する約1.0mmであった。
Next, a commercially available general-purpose conventional etching solution (aqueous ferric chloride solution) was brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the resist hardened film had been formed, and the surface of the plate mold substrate on which the resist hardened film had not been adhered was etched until the depth dimension reached approximately 1.0 mm, thereby forming a pre-formed recess 48 formed in a concave shape on the plate mold substrate, and a pre-formed protrusion 47 formed in a convex shape.
Next, the hardened resist film was removed using a commercially available general-purpose conventional resist remover (aqueous caustic soda solution).
In this manner, a pre-formed convex portion 47 formed in a convex shape and a pre-formed concave portion 48 formed in a concave shape were formed on the plate mold substrate as shown in FIGS. 11(A) and (Ab).
The depth of the existing recess 48 was about 1.0 mm, and the height of the existing protrusion 47 was about 1.0 mm, which corresponds to the depth of the existing recess 48 .

(B)所望領域インクジェットレジスト硬化膜形成工程.
次に、図11(B)、(B-b)に示されるように、インクジェットレジスト材2をインクジェット方式で付着して、版型用基板1の既成凸部側面47bと既成凹部側面48bと既成凸部上面47aを覆うとともに、既成凹部底面48cの底面に、インクジェットレジスト材2をインクジェット方式により付着して、(イ)図11(B-b)に示されるような「ハート模様」の所望の図文字絵柄模様を有する所望領域インクジェットレジスト付着膜を形成した。この場合、既成凸部側面47bと既成凹部側面48bにインクジェットレジスト材が付着していることを確認した。
なお、既成凸部側面47bと既成凹部側面48bは、互いに同じ領域を意味する。
(B) Step of forming a hardened inkjet resist film in a desired area.
Next, as shown in Figures 11(B) and (B-b), the inkjet resist material 2 was applied by the inkjet method to cover the existing convex side surface 47b, the existing concave side surface 48b, and the existing convex upper surface 47a of the plate mold substrate 1, and the inkjet resist material 2 was also applied by the inkjet method to the bottom surface of the existing concave bottom surface 48c, thereby forming (a) an inkjet resist applied film in a desired area having the desired graphic and letter pattern of a "heart pattern" as shown in Figure 11(B-b). In this case, it was confirmed that the inkjet resist material was applied to the existing convex side surface 47b and the existing concave side surface 48b.
The existing convex side surface 47b and the existing concave side surface 48b refer to the same region.

本工程において、マイクロクラフト社製のオンデマンド・インクジェット印刷システム装置を使用した。インクジェットレジスト材としては、市販されているインクジェットレジスト材のうち、紫外線照射により化学反応して3次元化学構造に架橋する性質を有するとともに、10mPa・s~20mPa・s(25℃)の粘度のインクジェットレジスト材(前述の実施例1Aの(B)工程で使用したものと同じインクジェットレジスト材)を選択して使用し、吐出ノズルから吐出される液滴量が2pl~15plの条件で付着してインクジェットレジスト付着膜を形成した。そして、前述の実施例1Aの(B)工程と類似の方法により、版型用基板に付着形成された上記のインクジェットレジスト付着膜に紫外線を照射し、その後、120℃で10分間のバーニングを行って、既成凸部側面47bと既成凹部側面48bと既成凸部上面47aの上に硬化された所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成するとともに、既成凹部底面48cの底面に図文字絵柄模様(ハート模様)の硬化された所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成した。それぞれの所望領域インクジェットレジスト硬化膜の厚さは約0.03mm~約0.05mmの範囲であった。このようにして、それぞれの所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成した。In this step, an on-demand inkjet printing system device manufactured by Microcraft was used. As the inkjet resist material, an inkjet resist material (the same inkjet resist material used in the step (B) of the above-mentioned Example 1A) that has a property of chemically reacting with ultraviolet light irradiation to crosslink into a three-dimensional chemical structure and has a viscosity of 10 mPa·s to 20 mPa·s (25°C) was selected and used from among the inkjet resist materials available on the market, and the inkjet resist deposition film was formed by deposition under the condition that the amount of droplets discharged from the discharge nozzle was 2 pl to 15 pl. Then, by a method similar to the step (B) of the above-mentioned Example 1A, the inkjet resist deposition film formed and deposited on the plate mold substrate was irradiated with ultraviolet light, and then burning was performed at 120°C for 10 minutes to form a cured desired area inkjet resist cured film 3 on the existing convex side surface 47b, the existing concave side surface 48b, and the existing convex upper surface 47a, and a cured desired area inkjet resist cured film 3 with a graphic character pattern (heart pattern) was formed on the bottom surface of the existing concave bottom surface 48c. The thickness of each of the desired area inkjet resist cured films was in the range of about 0.03 mm to about 0.05 mm. In this manner, each of the desired area inkjet resist cured films 3 was formed.

(C)腐蝕エッチング工程.
次に、図11(C)、(C―b)に示されるように、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成した版型用基板1の表面にエッチング液を接触して記所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が付着されていない版型用基板1の既成凹部底面48cの底面において深さが約0.1mmになる迄エッチングし、これにより、所望の図文字絵柄模様に相当する複数の凹形状で形成された既成凹部底面複数微細凹凸部凹部482bと複数の凸形状で形成された既成凹部底面複数微細凹凸部凸部481bとを有してなる既成凹部底面複数微細凹凸部488bを形成した。なお、既成凹部底面複数微細凹凸部488bは既成凹部底面凹凸部488に相当する。
(C) Corrosive Etching Process.
11(C) and (C-b), an etching solution is brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the desired region inkjet resist hardened film 3 is formed, and etching is performed until the depth reaches about 0.1 mm at the bottom surface of the existing recess bottom surface 48c of the plate mold substrate 1 to which the desired region inkjet resist hardened film 3 is not attached, thereby forming an existing recess bottom surface multiple fine unevenness 488b having an existing recess bottom surface multiple fine unevenness concave 482b formed with multiple concave shapes corresponding to the desired graphic character pattern and an existing recess bottom surface multiple fine unevenness convex 481b formed with multiple convex shapes. Note that the existing recess bottom surface multiple fine unevenness 488b corresponds to the existing recess bottom surface unevenness 488.

(D)所望領域インクジェットレジスト硬化膜除去工程.
図11(D)、(D-a)に示されるように、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を除去した。
このようにして、既成凹部底面48cの底面に、複数の凹形状で形成された既成凹部底面複数微細凹凸部凹部482bと複数の凸形状で形成された既成凹部底面複数微細凹凸部凸部481bとを有してなる既成凹部底面複数微細凹凸部488bを形成した。
(D) Removal process of hardened inkjet resist film from desired area.
As shown in FIG. 11(D) and (Da), the inkjet resist hardened film 3 was removed from the desired area.
In this way, a pre-formed recess bottom surface multiple fine unevenness portion 488b was formed on the bottom surface of the pre-formed recess bottom surface 48c, comprising a pre-formed recess bottom surface multiple fine unevenness portion concave portion 482b formed with a plurality of concave shapes and a pre-formed recess bottom surface multiple fine unevenness portion convex portion 481b formed with a plurality of convex shapes.

既成凹部底面複数微細凹凸部凹部482bの深さ寸法(既成凹部底面複数微細凹凸部凸部481bの高さ寸法)は約0.1mmであった。
また、既成凹部48の深さ寸法(既成凸部47の高さ寸法)は約1.9mmであった。
The depth dimension of the concave portions 482b of the multiple fine concave-convex portions on the bottom surface of the existing recess (the height dimension of the convex portions 481b of the multiple fine concave-convex portions on the bottom surface of the existing recess) was approximately 0.1 mm.
The depth dimension of the existing recess 48 (the height dimension of the existing protrusion 47) was about 1.9 mm.

また、図11(D)、(D-b)における既成凹部48の側面(既成凸部47の側面に相当)は、エッチングされることなく、図11(D)に示される正常な所望の形状を維持していたことを確認した。
このようにして、既成凸部47と既成凹部48を有するとともに、既成凹部底面48の底面に凹凸形状で形成された「ハート模様」の既成凹部底面複数微細凹凸部488bを形成した押圧加工用版10を製造した。
It was also confirmed that the side surfaces of the existing recesses 48 in Figures 11(D) and (D-b) (corresponding to the side surfaces of the existing protrusions 47) were not etched and maintained the normal desired shape shown in Figure 11(D).
In this way, a pressing plate 10 was manufactured having a preformed convex portion 47 and a preformed concave portion 48, and having multiple fine concave-convex portions 488b on the bottom surface of the preformed concave portion 48 formed in a "heart pattern" with an uneven shape on the bottom surface of the preformed concave portion.

なお、本実施例において、正常な所望の形状精度や寸法精度を有する既成凸部47と既成凹部48を有するとともに、既成凹部47に、正常な所望の既成凹部底面複数微細凹凸部488bが形成されていることを確認した。
また、既成凹部48の側面(既成凸部47に相当)には窪んだ状態でエッチングされたサイドエッチング現象が生じていなく、所望の形状精度を有することを確認した。
In addition, in this embodiment, it was confirmed that the pre-formed convex portion 47 and the pre-formed concave portion 48 have the normal desired shape accuracy and dimensional accuracy, and that the pre-formed concave portion 47 has multiple normal and desired fine concave and convex portions 488b formed on the bottom surface of the pre-formed concave portion.
It was also confirmed that the side surface of the existing recess 48 (corresponding to the existing protrusion 47) was not etched in a recessed state due to the side etching phenomenon, and the desired shape precision was achieved.

<実施例6A-a(実施例6Aの押圧加工用版を使用した被加工物の加工)>
本実施例は、前述の実施例6Aにおいて製造した押圧加工用版10を、平圧加圧式加工装置の型押用版10として使用して、被加工物108としての表面銀色光沢を有する紙製シート108を型押し加工するものである。
下記の工程によって被加工物を型押加工した。
(S-a)実施例6Aにおいて製造した既成凸部と既成凹部を形成した押圧加工用版10としての型押用版10を準備した。
(S-b)図16(A)に示されるように、互いに対向する第一基盤92と第二基盤93を備えた押圧加工装置を準備した。
(S-d)別途調製した滑らかな凹凸を有しない平面を有するステンレス製の受版94を、押圧加工装置の第二基盤93に設置した。
(S-e)この状態で、押圧加工用版10(型押用版)と受版94との間に、被加工物108としての厚さ約1.5mmの表面銀色光沢を有する紙製シート108を位置し、その状態で、慣用の駆動方法により第一基盤92と第二基盤93のうちの少なくとも一つの基盤を駆動して、押圧加工用版10と受版94とが被加工物108を押圧した。
これにより、被加工物108の表面に、版型用基板の既成凹部47の底面に形成された既成凹部底面複数凹凸部488bの凹凸形状に一致する凹凸形状を有する被加工物凹凸形成部を形成した。
(S-f)押圧加工用版10(型押用版)と受版94のうちの少なくとも一つの基盤を駆動して、押圧加工用版10(型押用版)と受版94とを互いに離反して、被加工物への押圧を解除した。
これにより、被加工物108としての紙製シート108に、版型用基板の既成凹部47の底面に形成されている既成凹部底面複数凹凸部488bの図文字絵柄模様に一致した「ハート模様」の図文字絵柄模様を有する約0.1mm深さの凹凸形状のエンボス形状で形成された加工物を調製した。
<Example 6A-a (Processing of workpiece using the pressing plate of Example 6A)>
In this embodiment, the pressing plate 10 manufactured in the above-mentioned Example 6A is used as the embossing plate 10 of a flat pressure processing device to emboss a paper sheet 108 having a silvery glossy surface as the workpiece 108.
The workpiece was embossed according to the following steps:
(Sa) An embossing plate 10 was prepared as the pressing plate 10 having the previously formed convex portions and previously formed concave portions manufactured in Example 6A.
(Sb) As shown in FIG. 16(A), a pressing device having a first base 92 and a second base 93 facing each other was prepared.
(Sd) A separately prepared stainless steel receiving plate 94 having a smooth flat surface without irregularities was placed on the second base 93 of the pressing device.
(S-e) In this state, a paper sheet 108 having a thickness of approximately 1.5 mm and a silvery glossy surface was positioned between the pressing plate 10 (embossing plate) and the receiving plate 94 as the workpiece 108, and in this state, at least one of the first base 92 and the second base 93 was driven by a conventional driving method, so that the pressing plate 10 and the receiving plate 94 pressed the workpiece 108.
This resulted in the formation of a workpiece unevenness formation portion on the surface of the workpiece 108 having an uneven shape that matches the uneven shape of the multiple uneven portions 488b on the bottom surface of the pre-formed recess 47 of the mold substrate.
(S-f) At least one of the bases of the pressing plate 10 (embossing plate) and the receiving plate 94 was driven to move the pressing plate 10 (embossing plate) and the receiving plate 94 away from each other, thereby releasing the pressure on the workpiece.
This resulted in the preparation of a processed product in which the paper sheet 108 serving as the workpiece 108 was embossed with a concave-convex shape approximately 0.1 mm deep and having a "heart pattern" graphic pattern that matches the graphic pattern of the multiple concave-convex portions 488b on the bottom surface of the pre-formed recess 47 of the plate mold substrate.

本被加工物の加工方法の実施例において、被加工物108としての紙製シート108に、何らの異常が発生することなく、所望の形状精度や寸法精度を有する凹凸形状で形成された「ハート模様」の図文字絵柄模様を形成した加工物が得られた。加工物に形成された「ハート模様」の図文字絵柄模様は、異常なく、所望の約0.1mmの段差を有する微細凹凸で形成されてなることを確認した。In the embodiment of the method for processing the workpiece, a workpiece was obtained in which a "heart pattern" graphic picture pattern was formed with a concave-convex shape having the desired shape accuracy and dimensional accuracy without any abnormality occurring on the paper sheet 108 as the workpiece 108. It was confirmed that the "heart pattern" graphic picture pattern formed on the workpiece was formed without any abnormality and with fine concave-convex shapes having the desired step difference of about 0.1 mm.

<比較例6A(慣用液状レジスト材を使用した押圧加工用版の製造)>
本比較例は、上記の実施例6Aの「(B)、(C)、(D)工程の、既成凹部48の底面に既成凹部底面複数凹凸部488aを形成する工程において、インクジェットレジスト材に替えて従来の慣用液状レジスト材を使用して、既成凹部底面複数凹凸部488aを形成しようとする押圧加工用版の製造方法である。
Comparative Example 6A (Production of a press-processing plate using a conventional liquid resist material)
This comparative example is a manufacturing method for a pressing plate in which a plurality of concave-convex portions 488a are formed on the bottom surface of a pre-formed recess 48 by using a conventional liquid resist material instead of an inkjet resist material in the steps (B), (C), and (D) of Example 6A described above, in which a plurality of concave-convex portions 488a are formed on the bottom surface of the pre-formed recess 48.

以下に本比較例を詳細に説明する。
従来の押圧加工用版の製造方法の製造工程を説明するための模式的概略図を図23に示す。
(A)既成凸部47を有する版型用基板第一領域表面11と既成凹部48を有する版型用基板第二領域表面12を備えた版型用基板1を調製し、供給する工程.
上記の実施例6Aと同じ方法により、真鍮製の厚さ7mm、横幅125mm、縦幅90mmの略平板形状を有する版型用基板と慣用ドライフィルムレジスト材を使用して、図23(A)、(A-b)に示されるような版型用基板の版型用基板第一領域表面11に凸形状で形成された既成凸部47と、版型用基板第二領域表面12に凹形状で形成され既成凹部48を形成した。
既成凹部48の深さは約1.0mmであり、既成凸部47の高さは既成凹部48の深さに相当する約1.0mmであった。
This comparative example will be described in detail below.
FIG. 23 is a schematic diagram for explaining the manufacturing steps of a conventional method for manufacturing a plate for pressing.
(A) A step of preparing and supplying a plate mold substrate 1 having a plate mold substrate first area surface 11 having a preformed convex portion 47 and a plate mold substrate second area surface 12 having a preformed concave portion 48.
Using the same method as in Example 6A described above, a plate-shaped, brass plate-shaped substrate with a thickness of 7 mm, a width of 125 mm and a length of 90 mm and a conventional dry film resist material were used to form a pre-formed convex portion 47 formed in a convex shape on the plate-shaped substrate first area surface 11 of the plate-shaped substrate, and a pre-formed concave portion 48 formed in a concave shape on the plate-shaped substrate second area surface 12, as shown in Figures 23 (A) and (A-b).
The depth of the existing recess 48 was about 1.0 mm, and the height of the existing protrusion 47 was about 1.0 mm, which corresponds to the depth of the existing recess 48 .

(B)従来の慣用液状レジスト硬化膜形成工程.
図23の(B)、(B-b)に示されるように、既成凸部47と既成凹部48とを形成した版型用基板の全表面を覆って、従来の慣用液状レジスト材20(前述の実施例1Aの(A)工程で使用した液状レジスト材と同じであって、紫外線照射により化学反応して3次元化学構造に架橋する性質を有し、製版、プリント基板の腐蝕エッチングのために汎用に使用されている慣用の液状レジスト材)を使用して、従来慣用のスプレーコート方式によって塗布して液状レジスト付着膜を形成した。
この場合、慣用液状レジスト材は、既成凸部の上面と既成凹部の底面に液状レジスト付着膜が形成されたが、しかしながら、既成凸部側面47b(既成凹部側面48b)には、液状レジスト付着膜は形成されなかった。
その後、所望の形状の露光用マスク部材(露光用マスク部材を版型用基板の表面に設置した場合に、版型用基板の版型用基板第一領域表面11に形成された既成凹部48の領域に相当する部分に「ハートE模様」の貫通孔を有するとともに、その周囲領域に光遮断用部分を有する露光用マスク部材を介して、紫外線照射露光し、その後、現像剤(炭酸ナトリウム水溶液)を使用して紫外線が照射されていない領域のレジスト付着膜を除去して現像し、その後、アフターベーキング、等の慣用の方法により、付着した慣用レジスト付着膜を硬化して、図23の(C)、(C-b)に示されるような、既成凸部47の上面に硬化膜を形成するとともに、既成凹部の底面に、所望の「ハート模様」を有する慣用レジスト硬化膜30を形成した。慣用レジスト硬化膜30の厚さは約0.02mm~約0.04mmの範囲であった。
しかしながら、既成凹部側面(既成凸部側面)には硬化膜は形成されなかった。
(B) A conventional liquid resist hardened film forming process.
As shown in Figures 23(B) and (B-b), the entire surface of the plate mold substrate on which the pre-formed convex portion 47 and the pre-formed concave portion 48 were formed was covered with a conventional liquid resist material 20 (the same liquid resist material as that used in step (A) of the above-mentioned Example 1A, which has the property of reacting chemically when irradiated with ultraviolet light and crosslinking into a three-dimensional chemical structure, and which is a conventional liquid resist material that is widely used for plate making and corrosive etching of printed circuit boards) by a conventional spray coating method to form a liquid resist adhesion film.
In this case, the conventional liquid resist material formed a liquid resist film on the upper surface of the existing convex portion and the bottom surface of the existing concave portion, however, no liquid resist film was formed on the existing convex portion side surface 47b (existing concave portion side surface 48b).
Thereafter, the plate was exposed to ultraviolet light through an exposure mask member of a desired shape (an exposure mask member having a through hole of a "heart E pattern" in a portion corresponding to the region of the existing recess 48 formed on the plate mold substrate first region surface 11 of the plate mold substrate when the exposure mask member is placed on the surface of the plate mold substrate, and having a light blocking portion in the surrounding region, and then a developer (aqueous sodium carbonate solution) was used to remove and develop the resist deposition film in the region not irradiated with ultraviolet light, and then the deposited conventional resist deposition film was hardened by a conventional method such as after-baking to form a hardened film on the upper surface of the existing protrusion 47 as shown in FIG. 23(C) and (C-b), and a conventional resist hardened film 30 having a desired "heart pattern" was formed on the bottom surface of the existing recess. The thickness of the conventional resist hardened film 30 was in the range of about 0.02 mm to about 0.04 mm.
However, no cured film was formed on the side surfaces of the existing recessed portion (side surfaces of the existing protruding portion).

(C)腐蝕エッチング工程.
図23(D)に示されるように、慣用レジスト硬化膜30を形成した版型用基板1の表面にエッチング液(塩化第二鉄水溶液)をパドル吹上方式で接触して、慣用レジスト硬化膜が付着されていない領域を、深さ寸法が約0.1mmになるまでエッチングした。
これにより、既成凹部48の底面をエッチングして、複数の凹形状で形成された既成凹部上底面複数凹凸部凹部482bと複数の凸形状で形成された既成凹部底面複数凹凸部凸部481bとを有してなる既成凹部底面複数凹凸部488bを形成した。
この場合、既成凹部の側面(既成凸部の側面)には、窪み状態のサイドエッチングが生じていた。
(C) Corrosive Etching Process.
As shown in FIG. 23(D), an etching solution (aqueous ferric chloride solution) was brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the conventional resist hardened film 30 was formed, using a paddle blow-up method, and the area on which the conventional resist hardened film was not attached was etched to a depth dimension of about 0.1 mm.
As a result, the bottom surface of the existing recess 48 was etched to form a pre-formed recess bottom surface multiple unevenness portion 488b having a pre-formed recess upper bottom surface multiple unevenness portion concave portion 482b formed with multiple concave shapes and a pre-formed recess bottom surface multiple unevenness portion convex portion 481b formed with multiple convex shapes.
In this case, side etching in the form of a depression was generated on the side surface of the existing concave portion (the side surface of the existing convex portion).

(D)従来慣用レジスト硬化膜除去工程.
図23の(E)に示されるように、慣用レジスト硬化膜30を、汎用のレジスト除去剤(苛性ソータ水溶液、又は、水酸化ナトリウム水溶液)を使用して除去した。
(D) Conventional resist hardened film removal process.
As shown in FIG. 23E, the conventional resist hardened film 30 was removed using a general-purpose resist remover (caustic soda solution or sodium hydroxide solution).

上記の「(C)腐蝕エッチング工程」において、硬化膜が付着形成されていない既成凹部48の側面(既成凸部47の側面)も腐蝕エッチングされて、図23(D)、(E)に示されるようなサイドエッチングが生じていた。
また、既成凹部48の底面に凹凸形状で形成された既成凹部底面複数凹凸部488bの図文字絵柄模様(ハート模様)が不明瞭であり、所望の形状寸法の図文字絵柄模様(ハート模様)が形成できなかった。この原因は、露光用マスク部材を介してレジスト付着膜を露光する工程において、露光用マスク部材がレジスト付着膜に密着していないことに起因して、所望の形状寸法を有する慣用レジスト硬化膜が形成できなかったことに起因するものと想到される。すなわち、所望の形状精度や寸法精度を有する押圧加工用版が得られなかった。
In the above-mentioned "(C) Corrosive Etching Process", the side surface of the existing recess 48 (the side surface of the existing protrusion 47) on which no hardened film was attached was also corrosively etched, resulting in side etching as shown in Figures 23(D) and (E).
In addition, the graphic picture pattern (heart pattern) of the bottom surface of the existing recess 48 formed in a concave-convex shape on the bottom surface of the existing recess 48 was unclear, and the graphic picture pattern (heart pattern) of the desired shape and dimensions could not be formed. This is thought to be due to the fact that in the process of exposing the resist-adhered film through the exposure mask member, the exposure mask member is not in close contact with the resist-adhered film, and therefore a conventional resist hardened film having the desired shape and dimensions could not be formed. In other words, a pressing plate having the desired shape and size accuracy was not obtained.

<実施例6B(押圧加工用版としての型押用版の製造)>
本実施例は、前述の「従属構成12」に類似する押圧加工用版の製造方法であり、図11の(A)~(D)、(A―a)~(D―a)に示される押圧加工用版であって、既成凸部47と既成凹部48とを備えた版型用基板の既成凹部48の底面に「凹凸形状で形成された図文字絵柄模様」を形成する押圧加工用版の製造方法である。本押圧加工用版は型押用版として使用される。
なお、本実施例において、インクジェットレジスト材を使用する工程を含む工程により、既成凹凸部47と既成凹部48とを形成し、その既成凸部47と既成凹部48とを形成した版型用基板を、インクジェットレジスト材を使用する工程を含む工程により、既成凹部48の底面に「凹凸形状で形成された図文字絵柄模様に相当する複数の凹凸形状で形成された既成凹部底面複数凹凸部488、488a」を形成して、押圧加工用版を調製した。
以下に本実施例を詳細に説明する。
Example 6B (Production of embossing plate as pressing plate)
This embodiment is a method for manufacturing a pressing plate similar to the above-mentioned "subordinate configuration 12", and is a method for manufacturing a pressing plate shown in (A) to (D) and (A-a) to (D-a) of Fig. 11, which forms a "graphical character pattern formed in a concave-convex shape" on the bottom surface of a pre-formed concave portion 48 of a plate mold substrate having a pre-formed convex portion 47 and a pre-formed concave portion 48. This pressing plate is used as an embossing plate.
In this embodiment, a pre-formed uneven portion 47 and a pre-formed recess 48 were formed by a process including a process using an inkjet resist material, and a plate mold substrate on which the pre-formed protrusion 47 and the pre-formed recess 48 were formed was prepared by a process including a process using an inkjet resist material to form "pre-formed recess bottom surface multiple uneven portions 488, 488a formed with multiple uneven shapes corresponding to a graphic, letter, and picture pattern formed with uneven shapes" on the bottom surface of the pre-formed recess 48, thereby preparing a plate for pressing processing.
This embodiment will be described in detail below.

(A)既成凸部47を有する版型用基板第一領域表面11と既成凹部48を有する版型用基板第二領域表面12を備えた版型用基板1を調製し、供給する工程.
平面表面形状を有する版型用基板第一領域表面11と平面表面形状を有する版型用基板第二領域表面12を備えた平面表面形状を有する版型用基板1を準備した。版型用基板1は、真鍮製であって、厚さ「h」7mm、横幅125mm、縦幅90mmの略平板形状を有する。
(A) A step of preparing and supplying a plate mold substrate 1 having a plate mold substrate first area surface 11 having a preformed convex portion 47 and a plate mold substrate second area surface 12 having a preformed concave portion 48.
A plate mold substrate 1 having a planar surface shape was prepared, which includes a plate mold substrate first region surface 11 having a planar surface shape and a plate mold substrate second region surface 12 having a planar surface shape. The plate mold substrate 1 is made of brass and has a generally flat plate shape with a thickness "h" of 7 mm, a width of 125 mm, and a length of 90 mm.

次に、版型用基板の中央領域に長方形のインクジェットレジスト材が付着されていない領域を形成するために、版型用基板1の表面の周囲領域に、インクジェッレジスト材を使用して、インクジェット方式で付着して、版型用基板の周囲領域にインクジェットレジスト付着膜を形成した。
本工程において、マイクロクラフト社製のオンデマンド・インクジェット印刷システム装置を使用した。インクジェットレジスト材としては、インクジェットレジスト材としては、市販されているインクジェットレジスト材のうち、紫外線照射により化学反応して3次元化学構造に架橋する性質を有するとともに、「10mPa・s~20mPa・s(25℃)の粘度のインクジェットレジスト(前述の実施例1Aの(B)工程で使用したものと同じインクジェットレジスト材)」を選択して使用し、吐出ノズルから吐出される液滴量が2pl~15plの条件で付着した。そして、版型用基板に付着形成された上記のインクジェットレジスト付着膜に紫外線を照射し、その後、120℃で10分間のバーニングを行って、所望の略長方形を有するレジスト硬化膜を形成した。
インクジェットレジスト硬化膜の厚さは約0.03~約0.05mmの範囲であった。
Next, in order to form a rectangular area in the central region of the mold substrate where no inkjet resist material was attached, an inkjet resist material was used to attach to the peripheral region of the surface of the mold substrate 1 using an inkjet method, forming an inkjet resist attachment film in the peripheral region of the mold substrate.
In this step, an on-demand inkjet printing system device manufactured by Microcraft was used. As the inkjet resist material, among commercially available inkjet resist materials, an inkjet resist having a property of chemically reacting with ultraviolet irradiation to crosslink into a three-dimensional chemical structure and having a viscosity of 10 mPa·s to 20 mPa·s (25°C) (the same inkjet resist material as that used in step (B) of the above-mentioned Example 1A) was selected and used, and the amount of droplets discharged from the discharge nozzle was 2 pl to 15 pl. Then, the inkjet resist film formed on the plate mold substrate was irradiated with ultraviolet rays, and then burning was performed at 120°C for 10 minutes to form a resist cured film having a desired approximately rectangular shape.
The thickness of the cured inkjet resist film ranged from about 0.03 to about 0.05 mm.

次に、レジスト硬化膜を形成した版型用基板1の表面に市販されている汎用の慣用のエッチング液(塩化第二鉄水溶液)を接触して、レジスト硬化膜が付着されていない版型用基板の表面を深さ寸法が約0.4mmになるまでエッチングして、版型用基板に凹形状で形成された既成凹部48を形成するとともに、凸形状で形成された既成凸部47を形成した。
次に、市販されている汎用の慣用のレジスト除去剤(苛性ソーダ水溶液)を使用して、レジスト硬化膜を除去した。
このようにして、図11(A)、(A-a)に示されるような版型用基板に凸形状で形成された既成凸部47と、凹形状で形成され既成凹部48を形成した。
既成凹部48の深さは約0.4mmであり、既成凸部47の高さは既成凹部48の深さに相当する約0.4mmであった。
Next, a commercially available general-purpose conventional etching solution (aqueous ferric chloride solution) was brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the resist hardened film had been formed, and the surface of the plate mold substrate on which the resist hardened film had not been attached was etched until the depth dimension reached approximately 0.4 mm, thereby forming a pre-formed recess 48 formed in a concave shape on the plate mold substrate, and a pre-formed protrusion 47 formed in a convex shape.
Next, the hardened resist film was removed using a commercially available general-purpose conventional resist remover (aqueous caustic soda solution).
In this manner, a pre-formed convex portion 47 formed in a convex shape and a pre-formed concave portion 48 formed in a concave shape were formed on the plate mold substrate as shown in FIGS. 11(A) and (Aa).
The depth of the existing recess 48 was about 0.4 mm, and the height of the existing protrusion 47 was about 0.4 mm, which corresponds to the depth of the existing recess 48 .

(B)所望領域インクジェットレジスト硬化膜形成工程.
次に、図11(B)、(B-a)に示されるように、インクジェットレジスト材2をインクジェット方式で付着して、版型用基板1の既成凸部側面47bと既成凹部側面48bと既成凸部上面47aを覆うとともに、既成凹部底面48cの底面に、インクジェットレジスト材2をインクジェット方式により付着して、(ロ)図11(B-b)に示されるような「ABCDE模様」の所望の図文字絵柄模様を有する所望領域インクジェットレジスト付着膜を形成した。この場合、既成凸部側面47bと既成凹部側面48bにインクジェットレジスト材が付着していることを確認した。
なお、既成凸部側面47bと既成凹部側面48bは、互いに同じ領域を意味する。
(B) Step of forming a hardened inkjet resist film in a desired area.
Next, as shown in Fig. 11(B) and (B-a), the inkjet resist material 2 was applied by the inkjet method to cover the existing convex side surface 47b, the existing concave side surface 48b, and the existing convex upper surface 47a of the plate mold substrate 1, and the inkjet resist material 2 was applied by the inkjet method to the bottom surface of the existing concave bottom surface 48c, forming a desired region inkjet resist applied film having the desired graphic character pattern of "ABCDE pattern" as shown in Fig. 11(B-b). In this case, it was confirmed that the inkjet resist material was applied to the existing convex side surface 47b and the existing concave side surface 48b.
The existing convex side surface 47b and the existing concave side surface 48b refer to the same region.

本工程において、マイクロクラフト社製のオンデマンド・インクジェット印刷システム装置を使用した。インクジェットレジスト材としては、市販されているインクジェットレジスト材のうち、紫外線照射により化学反応して3次元化学構造に架橋する性質を有するとともに、10mPa・s~20mPa・s(25℃)の粘度のインクジェットレジスト材(前述の実施例1Aの(B)工程、本実施例の(A)工程で使用したものと同じインクジェットレジスト材)を選択して使用し、吐出ノズルから吐出される液滴量が2pl~15plの条件で付着してインクジェットレジスト付着膜を形成した。そして、前述の実施例1Aの(B)工程と類似の方法により、版型用基板に付着形成された上記のインクジェットレジスト付着膜に紫外線を照射し、その後、120℃で10分間のバーニングを行って、既成凸部側面47bと既成凹部側面48bと既成凸部上面47aの全面に硬化された所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成するとともに、既成凹部底面48cの底面に図文字絵柄模様(ABCDE模様)の硬化された所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成した。それぞれの所望領域インクジェットレジスト硬化膜の厚さは約0.03mm~約0.05mmの範囲であった。このようにして、それぞれの所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成した。In this step, an on-demand inkjet printing system device manufactured by Microcraft was used. As the inkjet resist material, an inkjet resist material (the same inkjet resist material used in step (B) of Example 1A and step (A) of this example) that has a property of chemically reacting with ultraviolet light irradiation to crosslink into a three-dimensional chemical structure and has a viscosity of 10 mPa·s to 20 mPa·s (25° C.) was selected from among commercially available inkjet resist materials and used, and the inkjet resist deposition film was formed by deposition under the condition that the amount of droplets discharged from the discharge nozzle was 2 pl to 15 pl. Then, by a method similar to the process (B) of Example 1A described above, the inkjet resist film formed on the plate mold substrate was irradiated with ultraviolet light, and then burned at 120° C. for 10 minutes to form a desired area inkjet resist cured film 3 cured on the entire surface of the existing convex side 47b, the existing concave side 48b, and the existing convex top surface 47a, and also formed a desired area inkjet resist cured film 3 cured with a graphic pattern (ABCDE pattern) on the bottom surface of the existing concave bottom surface 48c. The thickness of each desired area inkjet resist cured film was in the range of about 0.03 mm to about 0.05 mm. In this manner, each desired area inkjet resist cured film 3 was formed.

(C)腐蝕エッチング工程.
次に、図11(C)、(C―a)に示されるように、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成した版型用基板1の表面にエッチング液を接触して記所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が付着されていない版型用基板1の既成凹部底面48cの底面において深さが約0.6mmになる迄エッチングし、これにより、「ABCDE模様」の所望の図文字絵柄模様に相当する複数の凹形状で形成された既成凹部底面複数凹凸部凹部482aと複数の凸形状で形成された既成凹部底面複数凹凸部凸部481aとを有してなる既成凹部底面複数凹凸部488aを形成した。なお、既成凹部底面複数凹凸部488aは既成凹部底面凹凸部488に相当する。
(C) Corrosive Etching Process.
11(C) and (C-a), an etching solution was brought into contact with the surface of the plate mold substrate 1 on which the desired region inkjet resist hardened film 3 was formed, and etching was performed until the depth reached about 0.6 mm at the bottom surface of the existing recess bottom surface 48c of the plate mold substrate 1 to which the desired region inkjet resist hardened film 3 was not attached, thereby forming an existing recess bottom surface multiple uneven portion 488a having an existing recess bottom surface multiple uneven portion concave portion 482a formed with multiple concave shapes corresponding to the desired graphic character pattern of the "ABCDE pattern" and an existing recess bottom surface multiple uneven portion convex portion 481a formed with multiple convex shapes. Note that the existing recess bottom surface multiple uneven portion 488a corresponds to the existing recess bottom surface uneven portion 488.

(D)所望領域インクジェットレジスト硬化膜除去工程.
図11(D)、(D-b)に示されるように、所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を除去した。
このようにして、既成凹部底面48cの底面に、複数の凹形状で形成された既成凹部底面複数凹凸部凹部482aと複数の凸形状で形成された既成凹部底面複数凹凸部凸部481aとを有してなる既成凹部底面複数凹凸部488aを形成した。
(D) Step of removing the hardened inkjet resist film from the desired area.
As shown in FIGS. 11(D) and (Db), the inkjet resist hardened film 3 was removed from the desired area.
In this way, a pre-formed recess bottom surface multiple uneven portion 488a was formed on the bottom surface of the pre-formed recess bottom surface 48c, comprising a pre-formed recess bottom surface multiple uneven portion concave portion 482a formed with multiple concave shapes and a pre-formed recess bottom surface multiple uneven portion convex portion 481a formed with multiple convex shapes.

既成凹部48の深さ寸法(既成凸部47の高さ寸法)は約0.4mmであり、その既成凹部48の底面に形成された「ABCDE模様」の既成凹部底面複数凹凸部凹部482aの深さ寸法(既成凹部底面複数凹凸部凸部481aの高さ寸法)は約0.6mmであった。すなわち、版型用基板の表面から既成凹部底面複数凹凸部凹部482aの底面までの距離は約1.0mmであった。The depth dimension of the pre-formed recess 48 (height dimension of the pre-formed protrusion 47) was about 0.4 mm, and the depth dimension of the pre-formed recess bottom surface multiple uneven portion concaves 482a of the "ABCDE pattern" formed on the bottom surface of the pre-formed recess 48 (height dimension of the pre-formed recess bottom surface multiple uneven portion convex portions 481a) was about 0.6 mm. In other words, the distance from the surface of the plate mold substrate to the bottom surface of the pre-formed recess bottom surface multiple uneven portion concaves 482a was about 1.0 mm.

図11(D)、(D-a)における既成凹部48の側面(既成凸部47の側面に相当)は、エッチングされることなく、図11(D)に示される正常な所望の形状を維持していたことを確認した。
このようにして、既成凸部47と既成凹部48を有するとともに、既成凹部底面48の底面に凹凸形状で形成された「ABCDE模様」の既成凹部底面複数凹凸部488aを形成した押圧加工用版10を製造した。
It was confirmed that the side surface of the existing recess 48 in Figures 11(D) and (Da) (corresponding to the side surface of the existing protrusion 47) was not etched and maintained the normal desired shape shown in Figure 11(D).
In this way, a pressing processing plate 10 was manufactured having a preformed convex portion 47 and a preformed concave portion 48, and also having multiple preformed concave-convex portions 488a on the bottom surface of the preformed concave portion bottom surface 48 formed in an uneven shape with an "ABCDE pattern."

本実施例において、正常な所望の形状精度や寸法精度を有する既成凸部47と既成凹部48を有するとともに、既成凹部47に、正常な所望の形状精度や寸法精度を有する既成凹府底面複数凹凸部488aが形成されていることを確認した。
また、既成凹部48の側面(既成凸部47に相当)には窪んだ状態でエッチングされたサイドエッチング現象が生じていなく、所望の形状精度を有することを確認した。
In this embodiment, it was confirmed that the preformed convex portion 47 and the preformed concave portion 48 have normal desired shape accuracy and dimensional accuracy, and that the preformed concave portion 47 has multiple preformed concave and convex portions 488a formed on the bottom surface of the preformed concave portion 47 having normal desired shape accuracy and dimensional accuracy.
It was also confirmed that the side surface of the existing recess 48 (corresponding to the existing protrusion 47) was not etched in a recessed state due to the side etching phenomenon, and the desired shape precision was achieved.

<実施例6B-a(実施例6Bの押圧加工用版を使用した被加工物の加工)>
本実施例は、前述の実施例6Bにおいて製造した押圧加工用版10を、平圧加圧式加工装置の型押用版10として使用して、被加工物108としての紙製シート108を型押し加工するものである。
下記の工程によって被加工物を型押加工した。
(S-a)実施例6Bにおいて製造した既成凸部と既成凹部を形成した押圧加工用版10としての型押用版10を準備した。
(S-b)図16(A)に示されるように、互いに対向する第一基盤92と第二基盤93を備えた押圧加工装置を準備した。
(S-d)別途調製した滑らかな凹凸を有しない平面を有するステンレス製の受版94を、押圧加工装置の第二基盤93に設置した。
(S-e)この状態で、押圧加工用版10(型押用版)と受版94との間に、被加工物108としての厚さ約1.5mmの紙製シート108を位置し、その状態で、慣用の駆動方法により第一基盤92と第二基盤93のうちの少なくとも一つの基盤を駆動して、押圧加工用版10と受版94とが被加工物108を押圧した。
これにより、被加工物108の表面に、版型用基板の既成凹部48の底面に形成された既成凹部底面複数凹凸部488aの凹凸形状に一致する凹凸形状を有する被加工物凹凸形成部を形成した。
(S-f)押圧加工用版10(型押用版)と受版94のうちの少なくとも一つの基盤を駆動して、押圧加工用版10(型押用版)と受版94とを互いに離反して、被加工物への押圧を解除した。
これにより、被加工物108としての紙製シート108に、版型用基板の既成凹部48の底面に形成された既成凹部底面複数凹凸部488a(凹凸形状で形成されている図文字絵柄模様)に一致した図文字絵柄模様を有する凹凸形状の「ABCDE模様」のエンボス形状で形成された加工物を調製した。
<Example 6B-a (Processing of workpiece using the pressing plate of Example 6B)>
In this embodiment, the pressing plate 10 manufactured in the above-mentioned embodiment 6B is used as the embossing plate 10 of a flat pressure type processing device to emboss a paper sheet 108 as a workpiece 108.
The workpiece was embossed according to the following steps:
(Sa) An embossing plate 10 was prepared as the pressing plate 10 having the previously formed convex portions and previously formed concave portions manufactured in Example 6B.
(Sb) As shown in FIG. 16(A), a pressing device having a first base 92 and a second base 93 facing each other was prepared.
(Sd) A separately prepared stainless steel receiving plate 94 having a smooth flat surface without irregularities was placed on the second base 93 of the pressing device.
(S-e) In this state, a paper sheet 108 having a thickness of approximately 1.5 mm was positioned as the workpiece 108 between the pressing plate 10 (embossing plate) and the receiving plate 94, and in this state, at least one of the first base 92 and the second base 93 was driven by a conventional driving method, so that the pressing plate 10 and the receiving plate 94 pressed the workpiece 108.
This resulted in the formation of a workpiece unevenness formation portion on the surface of the workpiece 108 having an uneven shape that matches the uneven shape of the multiple uneven portions 488a on the bottom surface of the pre-formed recess 48 of the mold substrate.
(S-f) At least one of the bases of the pressing plate 10 (embossing plate) and the receiving plate 94 was driven to move the pressing plate 10 (embossing plate) and the receiving plate 94 away from each other, thereby releasing the pressure on the workpiece.
This resulted in the preparation of a processed product in which the paper sheet 108 serving as the workpiece 108 was embossed with an uneven "ABCDE pattern" having a pictorial pattern that matches the multiple uneven portions 488a (pictorial pattern formed in an uneven shape) on the bottom surface of the pre-formed recess 48 of the plate mold substrate.

本被加工物の加工方法の実施例において、被加工物108としての紙製シート108に、何らの異常が発生することなく、所望の形状精度や寸法精度を有する凹凸形状で形成された「ABCDE模様」の図文字絵柄模様を形成した加工物が得られた。加工物に形成された「ABCDE模様」の図文字絵柄模様は、異常なく、所望の凹凸段差を有する凹凸形状で形成されてなることを確認した。In the embodiment of the present method for processing a workpiece, a workpiece was obtained in which a graphic picture pattern of "ABCDE pattern" was formed in an uneven shape having the desired shape accuracy and dimensional accuracy without any abnormality occurring on the paper sheet 108 as the workpiece 108. It was confirmed that the graphic picture pattern of "ABCDE pattern" formed on the workpiece was formed in an uneven shape having the desired uneven step without any abnormality.

本発明の押圧加工用版の製造方法により、化学的腐蝕エッチング加工であって、
所望の文字、所望の記号、所望の図柄、所望の絵柄、等の所望の図文字絵柄模様、又は、所望の微細図文字絵柄模様であって、凸部、凹部、凹凸部、及び/又は、微細凹凸部で形成された所望の形状精度や寸法精度を有するとともに、「版型用基板のエッチングされてはならない領域」の腐蝕エッチングが抑制されてなる所望の形状を備えた押圧加工用版を製造することが可能になる。
According to the method for producing a plate for pressing of the present invention, a chemical etching process is carried out,
It is possible to manufacture a press processing plate having the desired shape, in which the desired graphic character pattern, such as a desired letter, a desired symbol, a desired design, a desired picture, etc., or a desired fine graphic character pattern, is formed with convex portions, concave portions, uneven portions, and/or fine uneven portions, has the desired shape accuracy and dimensional accuracy, and corrosive etching of "areas of the plate mold substrate that should not be etched" is suppressed.

本発明の押圧加工用版により、
所望の文字、所望の記号、所望の図柄、所望の絵柄、等の所望の図文字絵柄模様、又は、所望の微細図文字絵柄模様であって、凸部、凹部、凹凸部、及び/又は、微細凹凸部で形成された所望の形状精度や寸法精度を有するとともに、「版型用基板のエッチングされてはならない領域」の腐蝕エッチングが抑制されてなる所望の形状を備えた押圧加工用版が得られる。
By using the pressing plate of the present invention,
A press processing plate is obtained which has the desired graphic character pattern, such as a desired letter, a desired symbol, a desired design, a desired picture, or a desired fine graphic character pattern, and which has the desired shape precision and dimensional precision formed by convex portions, concave portions, uneven portions, and/or fine uneven portions, while the corrosive etching of the "areas of the plate mold substrate which should not be etched" is suppressed.

本発明の被加工物の加工方法により、紙、段ボール紙、プラスチック製フィルム、プラスチック製ボード、プラスチック成型物、これらの積層物、等の被加工物を、所望の形状精度や寸法精度を有し、所望の図文字絵柄模様、所望の微細図文字絵柄模様を有する凹部、凸部、及び/又は凹凸部を備えた形状に加工形成されてなる加工物を調製できる。The method for processing a workpiece of the present invention can be used to prepare processed products by processing and shaping workpieces such as paper, corrugated cardboard, plastic films, plastic boards, plastic moldings, and laminates thereof into shapes having the desired shape precision and dimensional precision, and having recesses, protrusions, and/or uneven parts having the desired graphic or letter pattern, or the desired fine graphic or letter pattern.

1 版型用基板
10 押圧加工用版
11 版型用基板第一領域表面
12 版型用基板第二領域表面
121 インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部
121a 従来慣用第二凹形成部
121b エッチング途中の腐蝕第二凹形成部
121s サイドエッチングされた腐蝕第二凹形成部
2 インクジェットレジスト材
20 慣用レジスト材、慣用液状レジスト材、慣用ドライフィルムレジスト材
23 露光用マスク部材
3 所望領域インクジェットレジスト硬化膜
3a 所望領域インクジェットレジスト凸部上面硬化膜
3b 所望領域インクジェットレジスト凸部側面硬化膜
3c 所望領域インクジェットレジスト凹部底面硬化膜
3e 所望領域インクジェットレジスト微細凸部上面硬化膜
3f 所望領域インクジェットレジスト微細凸部側面硬化膜
3g 所望領域インクジェットレジスト微細凹部底面硬化膜
30 慣用レジスト硬化膜
30a 慣用レジスト凸部上面硬化膜、
30c 慣用レジスト凹部底面硬化膜、
30e 慣用レジスト微細凸部上面硬化膜
30g 慣用レジスト微細凹部底面硬化膜
4 既成凹凸部
41 既成凸部
411 インクジェット膜腐蝕既成凸部突起部
42 既成凹部
45 既成複数凹凸部
450 従来慣用の機械加工により形成された従来慣用機械加工凹凸部突出部
451 既成複数凹凸部凸部
451a 複数の既成複数凹凸部凸部上面
451b 複数の既成複数凹凸部凸部側面
451s 複数のサイドエッチングされた既成複数凹凸部凸部側面
452 複数の既成複数凹凸部凹部
452b 複数の既成複数凹凸部凹部側面
452c 複数の既成複数凹凸部凹部底面
452s 複数のサイドエッチングされた既成複数凹凸部凹部側面
455 インクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部
455s 複数のサイドエッチングされた既成凹凸部突起部
46 既成複数微細凹凸部
46b 既成複数微細凹凸部側面、
461 複数の既成複数微細凹凸部凸部
461a 複数の既成複数微細凹凸部凸部上面
461b 複数の既成複数微細凹凸部凸部側面
461s 複数のサイドエッチングされた既成複数微細凹凸部凸部側面
462 複数の既成複数微細凹凸部凹部
462b 複数の既成複数微細凹凸部凹部側面
462c 複数の既成複数微細凹凸部凹部底面
462s 複数のサイドエッチングされた既成複数微細凹凸部凹部側面
466 インクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部
466s 複数のサイドエッチングされた既成複数微細凹凸部突起部
47 既成凸部
47a 既成凸部上面
47b 既成凸部側面
471a 既成凸部上面複数凹凸部凸部
471b 既成凸部上面複数微細凹凸部凸部
472a 既成凸部上面複数凹凸部凹部
472b 既成凸部上面複数微細凹凸部凹部
477 既成凸部上面凹凸部
477a 既成凸部上面複数凹凸部
477b 既成凸部上面複数微細凹凸部
48 既成凹部
48b 既成凹部側面
48c 既成凹部底面
481a 既成凹部底面複数凹凸部凸部
481b 既成凹部底面複数微細凹凸部凸部
482a 既成凹部底面複数凹凸部凹部
482b 既成凹部底面複数微細凹凸部凹部
488 既成凹部底面凹凸部
488a 既成凹部底面複数凹凸部
488b 既成凹部底面複数微細凹凸部
92 第一基盤
93 第二基盤
94 受版
96 主ロール
97 対ロール
100 従来の押圧加工用版
108 被加工物
108a 被加工物基材
108b シート状箔材料
D1 既成複数凹凸部凸部の高さ寸法、既成複数凹凸部凹部の深さ寸法
D3 エッチング途中のエッチング深さ
D12 インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部の深さ寸法
D12a 従来慣用第二凹形成部の深さ寸法
d1 既成複数微細凹凸部凸部の高さ寸法、既成複数微細凹凸部凹部の深さ寸法
d3 エッチング途中のエッチング深さ
d12 インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部の深さ寸法
d12a 従来慣用第二凹形成部の深さ寸法
W1 既成複数凹凸部凸部の幅寸法
W2 既成複数凹凸部凹部の幅寸法
w1 既成複数微細凹凸部凸部の幅寸法
w2 既成複数微細凹凸部凹部の幅寸法
h 版型用基板の厚さ寸法
1 Plate mold substrate 10 Pressing plate 11 Plate mold substrate first region surface 12 Plate mold substrate second region surface 121 Inkjet resist film corroded second recessed portion 121a Conventional conventional second recessed portion 121b Corroded second recessed portion 121s during etching Side-etched corroded second recessed portion 2 Inkjet resist material 20 Conventional resist material, conventional liquid resist material, conventional dry film resist material 23 Exposure mask member 3 Desired area inkjet resist hardened film 3a Desired area inkjet resist convex portion upper surface hardened film 3b Desired area inkjet resist convex portion side surface hardened film 3c Desired area inkjet resist concave bottom surface hardened film 3e Desired area inkjet resist fine convex portion upper surface hardened film 3f Desired area inkjet resist fine convex portion side surface hardened film 3g Desired area inkjet resist fine convex portion bottom surface hardened film 30 Conventional resist hardened film 30a Conventional resist convex portion upper surface hardened film,
30c Conventional resist recess bottom hardened film,
30e: Hardened film on top of conventional resist fine convex portion 30g; Hardened film on bottom of conventional resist fine concave portion 4; Pre-formed concave portion 41; Pre-formed convex portion 411; Inkjet film corrosion; Pre-formed convex portion protrusion 42; Pre-formed concave portion 45; Pre-formed multiple concave portions 450; Conventional conventional machining concave portion protrusion 451 formed by conventional conventional machining; Pre-formed multiple concave portions convex portion 451a; Multiple pre-formed multiple concave portions convex portion upper surface 451b; Multiple pre-formed multiple concave portions convex portion side surface 451s; Multiple side-etched pre-formed multiple concave portions convex portion side surface 452; Multiple pre-formed multiple concave portions concave portion 452b; Multiple pre-formed multiple concave portions concave portion side surface 452c; Multiple pre-formed multiple concave portions concave portion bottom surface 452s; Multiple side-etched pre-formed multiple concave portions concave portion side surface 455; Inkjet film corrosion; Pre-formed multiple concave portions protrusion portion 455s; Multiple side-etched pre-formed multiple concave portions protrusion portion 46 Preformed multiple fine unevenness portions 46b Preformed multiple fine unevenness portion side surface,
461 A plurality of previously formed multiple fine unevenness convex portions 461a A plurality of previously formed multiple fine unevenness convex portion upper surfaces 461b A plurality of previously formed multiple fine unevenness convex portion side surfaces 461s A plurality of side-etched previously formed multiple fine unevenness convex portion side surfaces 462 A plurality of previously formed multiple fine unevenness concave portions 462b A plurality of previously formed multiple fine unevenness concave portion side surfaces 462c A plurality of previously formed multiple fine unevenness concave portions bottom surfaces 462s A plurality of side-etched previously formed multiple fine unevenness concave portions side surfaces 466 Inkjet film corrosion previously formed multiple fine unevenness protrusion portions 466s A plurality of side-etched previously formed multiple fine unevenness protrusion portions 47 Previously formed convex portion 47a Previously formed convex portion upper surface 47b Previously formed convex portion side surface 471a Previously formed convex portion upper surface multiple unevenness convex portion 471b Previously formed convex portion upper surface multiple fine unevenness convex portion 472a Previously formed convex portion upper surface multiple unevenness concave portion 472b Pre-formed convex portion upper surface multiple fine unevenness concave portion 477 Pre-formed convex portion upper surface uneven portion 477a Pre-formed convex portion upper surface multiple uneven portion 477b Pre-formed convex portion upper surface multiple fine uneven portion 48 Pre-formed concave portion 48b Pre-formed concave portion side surface 48c Pre-formed concave portion bottom surface 481a Pre-formed concave portion bottom surface multiple uneven portion convex portion 481b Pre-formed concave portion bottom surface multiple fine uneven portion convex portion 482a Pre-formed concave portion bottom surface multiple uneven portion concave portion 482b Pre-formed concave portion bottom surface multiple fine uneven portion concave portion 488 Pre-formed concave portion bottom surface uneven portion 488a Pre-formed concave portion bottom surface multiple uneven portion 488b Pre-formed concave portion bottom surface multiple fine uneven portion 92 First base 93 Second base 94 Support plate 96 Main roll 97 Counter roll 100 Conventional pressing plate 108 Workpiece 108a Workpiece substrate 108b Sheet-like foil material D1 Height dimension of the convex part of the existing multiple concave-convex part, depth dimension D3 of the concave part of the existing multiple concave-convex part Etching depth D12 during etching Depth dimension D12a of the second concave part formed by etching of the inkjet resist film Depth dimension d1 of the conventional second concave part Height dimension of the convex part of the existing multiple fine concave-convex part, depth dimension d3 of the concave part of the existing multiple fine concave-convex part Etching depth d12 during etching Depth dimension d12a of the second concave part formed by etching of the inkjet resist film Depth dimension W1 of the conventional second concave part Width dimension W2 of the convex part of the existing multiple concave-convex part Width dimension w1 of the concave part of the existing multiple fine concave-convex part Width dimension w2 of the concave part of the existing multiple fine concave-convex part Width dimension h of the concave part of the existing multiple fine concave-convex part Thickness dimension of the substrate for the plate mold

Claims (22)

被加工物を押圧により所定形状に加工するための押圧加工用版の製造方法であって、
(A)版型用基板第一領域表面(11)と版型用基板第二領域表面(12)を備えた版型用基板(1)を供給する版型用基板供給工程、
(B)前記版型用基板(1)の前記版型用基板第一領域表面(11)の所望領域にインクジェットレジスト材(2)をインクジェット方式により付着して所望領域インクジェットレジスト付着膜を形成する所望領域インクジェットレジスト付着膜形成工程、及び、
前記インクジェットレジスト付着膜を硬化して所望領域インクジェットレジスト硬化膜(3)を形成する所望領域インクジェットレジスト硬化膜形成工程、
(C)前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜(3)を形成した前記版型用基板(1)の表面にエッチング液を接触して、前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜(3)が付着されていない版型用基板(1)の表面をエッチングする版型用基板エッチング工程、
これにより、前記版型用基板(1)の表面に凹部形状で形成されたインクジェットレジスト膜腐蝕凹形成部を形成し、
及び、
(D)前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜(3)を除去する所望領域インクジェットレジスト硬化膜除去工程、
を備えてなることを特徴とする押圧加工用版の製造方法。
A method for manufacturing a press plate for processing a workpiece into a predetermined shape by pressing the workpiece, comprising the steps of:
(A) a plate mold substrate supplying step of supplying a plate mold substrate (1) having a plate mold substrate first area surface (11) and a plate mold substrate second area surface (12);
(B) a desired area inkjet resist deposition film formation step of depositing an inkjet resist material (2) on a desired area of the first area surface (11) of the plate mold substrate (1) by an inkjet method to form a desired area inkjet resist deposition film; and
a step of forming a cured inkjet resist film in a desired area by curing the inkjet resist film;
(C) a plate mold substrate etching step of contacting an etching solution with the surface of the plate mold substrate (1) on which the desired region inkjet resist cured film (3) is formed, to etch the surface of the plate mold substrate (1) on which the desired region inkjet resist cured film (3) is not attached;
As a result, a recessed portion formed by etching the inkjet resist film is formed in a recessed shape on the surface of the plate mold substrate (1),
as well as,
(D) a desired area inkjet resist cured film removal step of removing the desired area inkjet resist cured film (3);
A method for manufacturing a press plate, comprising:
前記(A)工程において、
前記版型用基板第二領域表面(12)は一つ又は複数の凹凸のない無凹凸部を有し、
前記版型用基板第一領域表面(11)は一つ又は複数の既成凹凸部(4)を有し、
(i)前記版型用基板第二領域表面(12)が一つの凹凸のない無凹凸部を有するとともに、
前記版型用基板第一領域表面(11)が一つの既成凹凸部(4)を有する場合、
前記無凹凸部は前記既成凹凸部(4)の周囲領域に位置し、
前記既成凹凸部(4)は、
(イ)複数の凸形状で形成された複数の既成複数凹凸部凸部(451)と複数の凹形状で形成された複数の既成複数凹凸部凹部(452)とを有してなる既成複数凹凸部(45)、
又は、
(ロ)複数の微細凸形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凸部(461)と複数の微細凹形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凹部(462)とを有してなる既成複数微細凹凸部(46)、を有し、
(ii)前記版型用基板第二領域表面(12)が複数の凹凸のない無凹凸部を有するとともに、
前記版型用基板第一領域表面(11)が複数の既成凹凸部(4)を有する場合、
前記複数の無凹凸部のうちのそれぞれの前記無凹凸部は前記複数の既成凹凸部(4)のうちのそれぞれの既成凹凸部(4)の周囲領域に位置し、
前記複数の既成凹凸部(4)のうちのそれぞれの前記既成凹凸部(4)は、
(イ)複数の凸形状で形成された複数の既成複数凹凸部凸部(451)と複数の凹形状で形成された複数の既成複数凹凸部凹部(452)とを有してなる既成複数凹凸部(45)、
及び/又は、
(ロ)複数の微細凸形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凸部(461)と複数の微細凹形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凹部(462)とを有してなる既成複数微細凹凸部(46)、を有し、
前記(B)工程において、
前記版型用基板(1)の前記版型用基板第一領域表面(11)の前記既成凹凸部(4)を覆ってインクジェットレジスト材(2)をインクジェット方式により付着して所望領域インクジェットレジスト付着膜を形成する所望領域インクジェットレジスト付着膜形成工程、
及び、
前記所望領域インクジェットレジスト付着膜を硬化して所望領域インクジェットレジスト硬化膜(3)を形成する所望領域インクジェットレジスト硬化膜形成工程、を備え、
前記(C)工程において、
前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜(3)を形成した前記版型用基板(1)の表面にエッチング液を接触して、前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜が付着されていない前記版型用基板第二領域表面(12)をエッチングする版型用基板エッチング工程を備え、これにより、前記既成凹凸部(4)をエッチングすることなく、前記版型用基板第二領域表面(12)をエッチングして、凹部形状で形成されたインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121を形成し、ここで、該インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121は前記インクジェットレジスト膜腐蝕凹形成部に相当し、
前記(D)工程において、
前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜(3)を除去する所望領域インクジェットレジスト硬化膜除去工程を備え、
これにより、前記既成凹凸部(4)をエッチングすることなく、前記版型用基板第二領域表面(12)をエッチングして、凹部形状で形成されたインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部(121)を形成するとともに、前記既成凹凸部(4)を、前記インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121から突出した突出形状に形成する、
ことを特徴とする請求項1に記載の押圧加工用版の製造方法。
In the step (A),
The second region surface (12) of the plate mold substrate has one or more non-irregular portions,
The first area surface (11) of the plate mold substrate has one or more preformed projections and recesses (4),
(i) the second region surface (12) of the plate mold substrate has one non-irregular portion,
When the first area surface (11) of the plate mold substrate has one preformed uneven portion (4),
The non-relief portion is located in the surrounding area of the existing relieving portion (4),
The preformed uneven portion (4) is
(a) A prefabricated multiple concave-convex portion (45) having a plurality of prefabricated multiple concave-convex portion convex portions (451) formed with a plurality of convex shapes and a plurality of prefabricated multiple concave-convex portion concave portions (452) formed with a plurality of concave shapes;
Or,
(B) A pre-formed multiple fine concave-convex portion (46) having a plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portion convex portions (461) formed with a plurality of fine convex shapes and a plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portion concave portions (462) formed with a plurality of fine concave shapes;
(ii) the second region surface (12) of the plate mold substrate has a plurality of non-irregular portions,
When the first region surface (11) of the plate mold substrate has a plurality of preformed concave-convex portions (4),
Each of the plurality of non-relief portions is located in a peripheral region of each of the plurality of pre-formed recessed and protruding portions (4),
Each of the plurality of pre-formed uneven portions (4) is
(a) A prefabricated multiple concave-convex portion (45) having a plurality of prefabricated multiple concave-convex portion convex portions (451) formed with a plurality of convex shapes and a plurality of prefabricated multiple concave-convex portion concave portions (452) formed with a plurality of concave shapes;
and/or
(B) A pre-formed multiple fine concave-convex portion (46) having a plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portion convex portions (461) formed with a plurality of fine convex shapes and a plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portion concave portions (462) formed with a plurality of fine concave shapes;
In the step (B),
a desired area inkjet resist deposition film forming step of depositing an inkjet resist material (2) by an inkjet method to cover the existing uneven portion (4) on the first area surface (11) of the plate mold substrate (1) to form a desired area inkjet resist deposition film;
as well as,
and a desired area inkjet resist cured film forming step of curing the desired area inkjet resist deposited film to form a desired area inkjet resist cured film (3),
In the step (C),
a plate mold substrate etching step of contacting an etching solution with the surface of the plate mold substrate (1) on which the desired region inkjet resist cured film (3) is formed, to etch the plate mold substrate second region surface (12) on which the desired region inkjet resist cured film is not attached, thereby etching the plate mold substrate second region surface (12) without etching the existing uneven portion (4), and forming an inkjet resist film etched second recessed portion 121 formed in a recess shape, wherein the inkjet resist film etched second recessed portion 121 corresponds to the inkjet resist film etched recessed portion;
In the step (D),
a desired area inkjet resist cured film removal step of removing the desired area inkjet resist cured film (3),
As a result, the second region surface (12) of the plate mold substrate is etched without etching the pre-formed uneven portion (4), forming a concave-shaped inkjet resist film etching second concave-forming portion (121), and forming the pre-formed uneven portion (4) into a protruding shape protruding from the inkjet resist film etching second concave-forming portion 121.
The method for manufacturing a pressing plate according to claim 1 .
前記(A)工程において、
前記版型用基板第二領域表面(12)は凹凸のない無凹凸部を有し、
前記版型用基板第一領域表面(11)は既成凹凸部(4)を有し、
前記版型用基板第二領域表面(12)は前記版型用基板第一領域表面(11)の周囲領域に位置し、
前記既成凹凸部(4)は既成複数凹凸部(45)を有し、
(イ)前記既成複数凹凸部(45)は複数の凸形状で形成された複数の既成複数凹凸部凸部(451)と複数の凹形状で形成された複数の既成複数凹凸部凹部(452)とを有し、
前記複数の既成複数凹凸部凸部(451)は複数の既成複数凹凸部凸部上面(451a)と複数の既成複数凹凸部凸部側面(451b)とを有し、
前記複数の既成複数凹凸部凹部(452)は複数の既成複数凹凸部凹部底面(452c)と複数の既成複数凹凸部凹部側面(452b)とを有し、
ここで、前記複数の既成複数凹凸部凸部側面(451b)と前記複数の既成複数凹凸部凹部側面(452b)は、互いに同じ側面領域に相当し、
前記(B)工程において、
前記複数の既成複数凹凸部凸部上面(451a)と前記複数の既成複数凹凸部凸部側面(451b)と前記複数の既成複数凹凸部凹部底面(452c)とを覆って、インクジェットレジスト材(2)をインクジェット方式で付着して、インクジェットレジスト凸部上面付着膜とインクジェットレジスト凸部側面付着膜とインクジェット凹部底面付着膜とを形成するインクジェットレジスト付着膜形成工程、ここで、前記既成複数凹凸部(45)の周囲領域に位置する前記版型用基板第二領域表面(12)にはインクジェットレジスト材(2)が付着されない、及び、
前記インクジェットレジスト凸部上面付着膜と前記インクジェットレジスト凸部側面付着膜と前記インクジェット凹部底面付着膜とを硬化して、所望領域インクジェットレジスト凸部上面硬化膜(3a)と所望領域インクジェットレジスト凸部側面硬化膜(3b)と所望領域インクジェットレジスト凹部底面硬化膜(3c)とを有する所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成する所望領域インクジェットレジスト硬化膜形成工程、を備え、
前記(C)工程において、
前記所望領域インクジェットレジスト凸部上面硬化膜(3a)と前記所望領域インクジェットレジスト凸部側面硬化膜(3b)と前記所望領域インクジェットレジスト凹部底面硬化膜(3c)とを形成した前記版型用基板(1)の表面にエッチング液を接触して、前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が付着されていない前記版型用基板第二領域表面(12)をエッチングする版型用基板エッチング工程を備え、
これにより、前記既成複数凹凸部(45)をエッチングすることなく、前記版型用基板第二領域表面(12)をエッチングして、エッチングされてなる凹部形状を有するインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部(121)を形成するとともに、
前記既成複数凹凸部(45)を、該インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部(121)から突出されてなる突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部(455)に形成し、
前記(D)工程において、
前記所望領域インクジェットレジスト凸部上面硬化膜(3a)と前記所望領域インクジェットレジスト凸部側面硬化膜(3b)と前記所望領域インクジェットレジスト底面硬化膜(3c)とを除去する所望領域インクジェットレジスト硬化膜除去工程を備え、
これにより、前記既成複数凹凸部(45)がエッチングされることなく、前記版型用基板第二領域表面(12)がエッチングされてなる前記インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部(121)が形成されるとともに、
前記複数の既成複数凹凸部凸部(451)と前記複数の既成複数凹凸部凹部(452)とを有する前記既成複数凹凸部(45)を備えた前記版型用基板第一領域表面(11)が、前記インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部(121)の底面から突出してなる突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部(455)の形態に形成される、
ことを特徴とする請求項1に記載の押圧加工用版の製造方法。
In the step (A),
The second area surface (12) of the plate mold substrate has a non-irregular portion having no irregularities,
The first area surface (11) of the plate mold substrate has a preformed uneven portion (4),
The second surface (12) of the plate mold substrate is located in the peripheral area of the first surface (11) of the plate mold substrate;
The preformed uneven portion (4) has a preformed multiple uneven portion (45),
(a) the preformed multiple concave-convex portion (45) has a plurality of preformed multiple concave-convex portion convex portions (451) formed with a plurality of convex shapes and a plurality of preformed multiple concave-convex portion concave portions (452) formed with a plurality of concave shapes;
The plurality of preformed uneven portion convex portions (451) have a plurality of preformed uneven portion convex portion upper surfaces (451a) and a plurality of preformed uneven portion convex portion side surfaces (451b),
The plurality of preformed concave portions (452) have a plurality of preformed concave portion bottom surfaces (452c) and a plurality of preformed concave portion side surfaces (452b),
Here, the plurality of already-formed multiple uneven portion convex portion side surfaces (451b) and the plurality of already-formed multiple uneven portion concave portion side surfaces (452b) correspond to the same side surface area,
In the step (B),
an inkjet resist film forming process for covering the upper surfaces (451a) of the convex portions of the multiple pre-formed concave-convex portions, the side surfaces (451b) of the multiple pre-formed concave-convex portions, and the bottom surfaces (452c) of the multiple pre-formed concave-convex portions by applying an inkjet resist material (2) by an inkjet method to form an inkjet resist convex portion upper surface adhering film, an inkjet resist convex portion side surface adhering film, and an inkjet concave portion bottom surface adhering film, in which the inkjet resist material (2) is not adhered to the second region surface (12) of the plate mold substrate located in the peripheral region of the multiple pre-formed concave-convex portions (45); and
a desired region inkjet resist hardened film forming step of hardening the inkjet resist convex top surface adhered film, the inkjet resist convex side surface adhered film, and the inkjet resist concave bottom surface adhered film to form a desired region inkjet resist hardened film 3 having a desired region inkjet resist convex top surface hardened film (3a), a desired region inkjet resist convex side surface hardened film (3b), and a desired region inkjet resist concave bottom surface hardened film (3c),
In the step (C),
a plate mold substrate etching step of contacting an etching solution with a surface of the plate mold substrate (1) on which the desired area inkjet resist convex portion top surface hardened film (3a), the desired area inkjet resist convex portion side surface hardened film (3b), and the desired area inkjet resist concave portion bottom surface hardened film (3c) are formed, to etch the plate mold substrate second area surface (12) on which the desired area inkjet resist hardened film 3 is not attached,
As a result, the second region surface (12) of the plate mold substrate is etched without etching the existing multiple concave and convex portions (45), and an inkjet resist film etching second concave forming portion (121) having an etched concave shape is formed,
The preformed multiple concave-convex portion (45) is formed into an inkjet film etched preformed multiple concave-convex portion protrusion portion (455) having a protruding shape protruding from the inkjet resist film etched second concave forming portion (121);
In the step (D),
a desired region inkjet resist cured film removal step of removing the desired region inkjet resist convex portion top surface cured film (3a), the desired region inkjet resist convex portion side surface cured film (3b), and the desired region inkjet resist bottom surface cured film (3c);
As a result, the pre-formed multiple concave and convex portions (45) are not etched, and the second region surface (12) of the plate mold substrate is etched to form the inkjet resist film etching second concave forming portion (121);
The first area surface (11) of the plate mold substrate having the pre-formed multiple concave-convex portion (45) having the pre-formed multiple concave-convex portion convex portions (451) and the pre-formed multiple concave-convex portion concave portions (452) is formed in the form of an inkjet film etched pre-formed multiple concave-convex portion protrusion portion (455) having a protruding shape protruding from a bottom surface of the inkjet resist film etched second concave forming portion (121).
The method for manufacturing a pressing plate according to claim 1 .
前記(A)工程において、
前記既成複数凹凸部凸部(451)と前記既成複数凹凸部凹部(452)を有する前記既成複数凹凸部(45)は、
(イ)文字、
(ロ)記号、
(ハ)図形、
(ニ)絵柄、及び、
(ホ)模様、
からなる群から選ばれる少なくとも一つの凹凸形状で形成されてなる図文字絵柄模様を形成してなる、
ことを特徴とする請求項3に記載の押圧加工用版の製造方法。
In the step (A),
The preformed multiple concave-convex portion (45) having the preformed multiple concave-convex portion convex portion (451) and the preformed multiple concave-convex portion concave portion (452) is
(a) Characters,
(b) symbol,
(c) Figures,
(D) Design, and
(E) Pattern,
A graphic character pattern is formed by at least one uneven shape selected from the group consisting of:
The method for producing a pressing plate according to claim 3 .
前記(A)工程において、
前記複数の既成複数凹凸部凸部(451)のそれぞれの既成複数凹凸部凸部の高さ寸法は、0.1mm以上であり、
前記複数の既成複数凹凸部凹部(452)のそれぞれの既成複数凹凸部凹部の深さ寸法は、0.1mm以上であり、
前記インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部(121)の深さ寸法は、既成複数凹凸部凹部の深さ寸法と同じ深さ寸法、又は、既成複数凹凸部凹部の深さ寸法よりも大きい深さ寸法である、
ことを特徴とする請求項3または4に記載の押圧加工用版の製造方法。
In the step (A),
The height dimension of each of the plurality of preformed multiple concave-convex portions (451) is 0.1 mm or more;
The depth dimension of each of the plurality of preformed concave-convex portions (452) is 0.1 mm or more;
The depth dimension of the inkjet resist film etching second recess formation portion (121) is the same as the depth dimension of the recess of the existing multiple unevenness portion, or is a depth dimension larger than the depth dimension of the recess of the existing multiple unevenness portion.
5. The method for producing a pressing plate according to claim 3 or 4.
前記(A)工程において、
前記版型用基板(1)は、前記版型用基板第一領域表面(11)と前記版型用基板第二領域表面(12)を有し、
前記版型用基板第二領域表面(12)は凹凸のない無凹凸部を有し、
前記版型用基板第一領域表面(11)は既成凹凸部(4)を有し、
前記版型用基板第二領域表面(12)は前記版型用基板第一領域表面(11)の周囲領域に位置し、
(ロ)前記既成凹凸部(4)は既成複数微細凹凸部(46)を有し、
前記既成複数微細凹凸部(46)は複数の既成複数微細凹凸部凸部(461)と複数の既成複数微細凹凸部凹部(462)とを有し、
前記複数の既成複数微細凹凸部凸部(461)は複数の既成複数微細凹凸部凸部上面(461a)と複数の既成複数微細凹凸部凸部側面(461b)とを有し、
前記複数の既成複数微細凹凸部凹部(462)は複数の既成複数微細凹凸部凹部底面(462c)と複数の既成複数微細凹凸部凹部側面(462b)とを有し、
ここで、前記複数の既成複数微細凹凸部凸部側面(461b)と前記複数の既成複数微細凹凸部凹部側面(462b)とは、互いに同じ側面領域に相当し、
前記(B)工程において、
前記複数の既成複数微細凹凸部凸部上面(461a)と前記複数の既成複数微細凹凸部凸部側面(461b)と前記複数の既成複数微細凹凸部凹部底面(462c)とを覆って、インクジェットレジスト材(2)をインクジェット方式で付着して、インクジェットレジスト微細凸部上面付着膜とインクジェットレジスト微細凸部側面付着膜とインクジェット微細凹部側面付着膜とを形成するインクジェットレジスト付着膜形成工程、ここで、前記既成微細複数凹凸部(46)の周囲領域に位置する前記版型用基板第二領域表面(12)にはインクジェットレジスト材(2)が付着されない、及び、
前記インクジェットレジスト微細凸部上面付着膜と前記インクジェットレジスト微細凸部側面付着膜と前記インクジェット微細凹部側面付着膜とを硬化して、所望領域インクジェットレジスト微細凸部上面硬化膜(3e)と所望領域インクジェットレジスト微細凸部側面硬化膜(3f)と所望領域インクジェットレジスト微細凹部底面硬化膜(3g)とを有する所望領域インクジェットレジスト硬化膜3を形成するインクジェットレジスト硬化膜形成工程、を備え、
前記(C)工程において、
前記所望領域インクジェットレジスト微細凸部上面硬化膜(3e)と前記所望領域インクジェットレジスト微細凸部側面硬化膜(3f)と前記所望領域インクジェットレジスト微細凹部底面硬化膜(3g)とを形成した前記版型用基板(1)の表面にエッチング液を接触して、前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が付着されていない前記版型用基板第二領域表面(12)をエッチングする版型用基板エッチング工程を備え、
これにより、前記既成複数微細凹凸部(46)をエッチングすることなく、前記版型用基板第二領域表面(12)をエッチングして、エッチングされてなる凹部形状を有するインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部(121)を形成するとともに、
前記既成複数微細凹凸部(46)を、該インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部(121)から突出されてなる突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部(466)の形態に形成し、
前記(D)工程において、
前記所望領域インクジェットレジスト微細凸部上面硬化膜(3e)と前記所望領域インクジェットレジスト微細凸部側面硬化膜(3f)と前記所望領域インクジェットレジスト微細凹部底面硬化膜(3g)とを除去するレジスト硬化膜除去工程を備え、
これにより、前記既成複数微細凹凸部(46)がエッチングされることなく、前記版型用基板第二領域表面(12)がエッチングされてなる前記インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部(121)が形成されるとともに、
前記複数の既成複数微細凹凸部凸部(461)と前記複数の既成複数微細凹凸部凹部(462)を有する前記既成複数微細凹凸部(46)とを備えた前記版型用基板第一領域表面(11)が、前記インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部(121)の底面から突出してなる突出形状を有するインクジェト膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部(466)の形態に形成される、
ことを特徴とする請求項1に記載の押圧加工用版の製造方法。
In the step (A),
The plate mold substrate (1) has a plate mold substrate first area surface (11) and a plate mold substrate second area surface (12),
The second area surface (12) of the plate mold substrate has a non-irregular portion having no irregularities,
The first area surface (11) of the plate mold substrate has a preformed uneven portion (4),
The second surface (12) of the plate mold substrate is located in the peripheral area of the first surface (11) of the plate mold substrate;
(b) the preformed uneven portion (4) has a preformed multiple fine uneven portions (46);
The preformed multiple fine concave-convex portion (46) has a plurality of preformed multiple fine concave-convex portion convex portions (461) and a plurality of preformed multiple fine concave-convex portion concave portions (462),
The plurality of previously formed fine concave-convex portions (461) have a plurality of previously formed fine concave-convex portion convex upper surfaces (461a) and a plurality of previously formed fine concave-convex portion convex side surfaces (461b),
The plurality of pre-formed fine concave/convex portions (462) have a plurality of pre-formed fine concave/convex portion concave bottom surfaces (462c) and a plurality of pre-formed fine concave/convex portion concave side surfaces (462b),
Here, the plurality of already-formed fine concave-convex portion convex side surfaces (461b) and the plurality of already-formed fine concave-convex portion concave side surfaces (462b) correspond to the same side surface region,
In the step (B),
an inkjet resist film forming process for covering the plurality of previously formed multiple fine concave-convex portion convex portion top surfaces (461a), the plurality of previously formed multiple fine concave-convex portion convex portion side surfaces (461b), and the plurality of previously formed multiple fine concave-convex portion concave bottom surfaces (462c) by applying an inkjet resist material (2) by an inkjet method to form an inkjet resist fine convex portion top surface attachment film, an inkjet resist fine convex portion side surface attachment film, and an inkjet fine concave portion side surface attachment film, wherein the inkjet resist material (2) is not attached to the second region surface (12) of the plate mold substrate located in the peripheral region of the previously formed multiple fine concave-convex portions (46); and
an inkjet resist hardened film forming step of hardening the inkjet resist fine convex upper surface adhered film, the inkjet resist fine convex side surface adhered film, and the inkjet resist fine recess side surface adhered film to form a desired region inkjet resist hardened film 3 having a desired region inkjet resist fine convex upper surface hardened film (3e), a desired region inkjet resist fine convex side surface hardened film (3f), and a desired region inkjet resist fine recess bottom surface hardened film (3g);
In the step (C),
a plate mold substrate etching step of contacting an etching solution with a surface of the plate mold substrate (1) on which the desired area inkjet resist fine convex portion top surface hardened film (3e), the desired area inkjet resist fine convex portion side surface hardened film (3f), and the desired area inkjet resist fine concave portion bottom surface hardened film (3g) are formed, to etch the plate mold substrate second area surface (12) on which the desired area inkjet resist hardened film 3 is not attached;
As a result, the second region surface (12) of the plate mold substrate is etched without etching the pre-formed multiple fine concave and convex portions (46), and an inkjet resist film etching second concave forming portion (121) having an etched concave shape is formed,
The preformed multiple fine concave-convex portions (46) are formed in the form of inkjet film etching preformed multiple fine concave-convex portions protruding from the inkjet resist film etching second concave forming portion (121);
In the step (D),
a resist hardened film removing step of removing the hardened film (3e) on the top surface of the inkjet resist fine convex portion in the desired area, the hardened film (3f) on the side surface of the inkjet resist fine convex portion in the desired area, and the hardened film (3g) on the bottom surface of the inkjet resist fine concave portion in the desired area;
As a result, the pre-formed multiple fine concave and convex portions (46) are not etched, and the second region surface (12) of the plate mold substrate is etched to form the inkjet resist film etching second concave forming portion (121);
The first area surface (11) of the plate mold substrate having the pre-formed multiple fine unevenness portions (46) having the plurality of pre-formed multiple fine unevenness portion convex portions (461) and the plurality of pre-formed multiple fine unevenness portion concave portions (462) is formed in the form of an inkjet film corrosion pre-formed multiple fine unevenness portion protrusion portion (466) having a protruding shape protruding from a bottom surface of the inkjet resist film corrosion second concave forming portion (121).
The method for manufacturing a pressing plate according to claim 1 .
前記(A)工程において、
前記複数の既成複数微細凹凸部凸部(461)と前記複数の既成複数微細凹凸部凹部(462)を有する前記既成複数微細凹凸部(46)は、
(ヘ)微細点模様、微細図柄模様、微細絵柄模様、及び/又は、微細格子模様、
(ト)微細万線模様、
(チ)微細縞模様、及び、
(リ)異なる方向から見て互いに異なる図柄絵文字模様を表す潜像模様、
からなる群から選ばれる少なくとも一つの複数微細凹凸形状で形成されてなる微細図文字絵柄模様を形成してなる、
ことを特徴とする請求項6に記載の押圧加工用版の製造方法。
In the step (A),
The preformed multiple fine concave-convex portion (46) having the preformed multiple fine concave-convex portion convex portions (461) and the preformed multiple fine concave-convex portion concave portions (462) is
(F) Fine dot patterns, fine pattern patterns, fine picture patterns, and/or fine lattice patterns,
(G) Fine line pattern,
(H) Fine stripes, and
(R) A latent image pattern that shows different pictorial patterns when viewed from different angles;
A fine graphic pattern is formed by forming at least one fine uneven shape selected from the group consisting of:
The method for producing a pressing plate according to claim 6 .
前記(A)工程において、
前記複数の既成複数微細凹凸部凸部(461)と前記複数の既成複数微細凹凸部凹部(462)とを有する前記既成複数微細凹凸部(46)は、微細凹凸形状で刻設されて所定の形状に区切られて規則性を持って配列された複数種類の凹凸パターンセルの組み合わせによって形成され、
前記複数種類の凹凸パターンセルのそれぞれの凹凸パターンセルは、微細点模様、微細図柄模様、微細絵柄模様、微細万線模様、及び、微細縞模様、からなる群から選ばれる少なくとも二種類以上の微細凹凸形状で形成されてなる微細図文字絵柄模様を形成してなり、
二種類以上の微細図文字絵柄模様のうちの一種類の複数個の微細図文字絵柄模様が集まって第一画像を形成し、
前記二種類以上の微細図文字絵柄模様のうちの前記一種類と異なる他の第二種類の複数個の微細図文字絵柄模様が集まって他の画像を形成してなる、
ことを特徴とする請求項6または7に記載の押圧加工用版の製造方法。
In the step (A),
The preformed multiple fine unevenness portion (46) having the preformed multiple fine unevenness portion convex portions (461) and the preformed multiple fine unevenness portion concave portions (462) is formed by a combination of multiple types of unevenness pattern cells engraved with a fine uneven shape, partitioned into a predetermined shape, and arranged with regularity,
Each of the plurality of types of concave-convex pattern cells forms a fine graphic, letter, and picture pattern formed with at least two or more types of fine concave-convex shapes selected from the group consisting of a fine dot pattern, a fine design pattern, a fine picture pattern, a fine line pattern, and a fine stripe pattern;
A plurality of fine graphic character patterns of one type among the two or more types of fine graphic character patterns are gathered together to form a first image;
A second type of fine graphic character picture patterns different from the one type among the two or more types of fine graphic character picture patterns are gathered together to form another image.
The method for producing a pressing plate according to claim 6 or 7.
前記(A)工程において、
前記複数の既成複数微細凹凸部凸部(461)のそれぞれの既成複数微細凹凸部凸部の高さ寸法は、0.05mm以上であり、
前記複数の既成複数微細凹凸部凸部(461)のそれぞれの既成複数微細凹凸部凸部の幅寸法は、0.0005mm~1mmであり、
前記複数の既成複数微細凹凸部凹部(462)のそれぞれの既成複数微細凹凸部凹部の深さ寸法は、0.05mm以上であり、
前記複数の既成複数微細凹凸部凹部(462)のそれぞれの既成複数微細凹凸部凹部の幅寸法は、0.0005mm~1mmであり、
前記インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部(121)の深さ寸法は、前記既成複数微細凹凸部凹部の深さ寸法よりも大きい深さ寸法である、
ことを特徴とする請求項6乃至8のいずれから記載の押圧加工用版の製造方法。
In the step (A),
The height dimension of each of the plurality of preformed fine concave-convex portions (461) is 0.05 mm or more;
The width dimension of each of the plurality of preformed fine concave-convex portions (461) is 0.0005 mm to 1 mm;
The depth dimension of each of the plurality of preformed fine concave-convex concave portions (462) is 0.05 mm or more;
The width dimension of each of the plurality of preformed fine concave-convex concave portions (462) is 0.0005 mm to 1 mm;
The depth dimension of the inkjet resist film etching second recess formation portion (121) is a depth dimension larger than the depth dimension of the recess of the existing multiple fine unevenness portion.
9. The method for producing a press plate according to claim 6, wherein the pressing plate is made of a resin.
前記(A)工程において、
前記版型用基板第二領域表面(12)は複数の凹凸のない無凹凸部を有し、
前記版型用基板第一領域表面(11)は複数の既成凹凸部(4)を有し、
前記複数の版型用基板第二領域表面(12)のうちのそれぞれの版型用基板第二領域表面(12)は、前記複数の版型用基板第一領域表面(11)のうちのそれぞれの前記版型用基板第一領域表面(11)の周囲領域に位置し、
前記複数の既成凹凸部(4)のうちの一つの既成凹凸部(4)は、
(イ)複数の凸形状で形成された複数の既成複数凹凸部凸部(451)と複数の凹形状で形成された複数の既成複数凹凸部凹部(452)とを有してなる既成複数凹凸部(45)を有し、
前記複数の既成凹凸部(4)のうちの他の一つの既成凹凸部(4)は、
(ロ)複数の微細凸形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凸部(461)と、複数の微細凹形状で形成された複数の既成複数微細凹凸部凹部(462)とを有してなる既成複数微細凹凸部(46)を有し、
前記複数の既成複数凹凸部凸部(451)は複数の既成複数凹凸部凸部上面(451a)と複数の既成複数凹凸部凸部側面(451b)とを有し、
前記複数の既成複数凹凸部凹部(452)は複数の既成複数凹凸部凹部底面(452c)と複数の既成複数凹凸部凹部側面(452b)とを有し、
ここで、前記複数の既成複数凹凸部凸部側面(451b)と前記複数の既成複数凹凸部凹部側面(452b)は、互いに同じ側面領域に相当し、
前記複数の既成複数微細凹凸部凸部(461)は複数の既成複数微細凹凸部凸部上面(461a)と複数の既成複数微細凹凸部凸部側面(461b)とを有し、
前記複数の既成複数微細凹凸部凹部(462)は複数の既成複数微細凹凸部凹部底面(462c)と複数の既成複数微細凹凸部凹部側面(462b)とを有し、
ここで、前記複数の既成複数微細凹凸部凸部側面(461b)と前記複数の既成複数微細凹凸部凹部側面(456b)は、互いに同じ側面領域に相当し、
前記(B)工程において、
前記複数の既成複数凹凸部凸部上面(451a)と前記複数の既成複数凹凸部凸部側面(451b)と前記複数の既成複数凹凸部凹部底面(452c)及び、前記複数の既成複数微細凹凸部凸部上面(461a)と前記複数の既成複数微細凹凸部凸部側面(461b)と前記複数の既成複数微細凹凸部凹部底面(462c)を覆って、インクジェットレジスト材(2)をインクジェット方式で付着して、インクジェットレジスト凸部上面付着膜とインクジェットレジスト凸部側面付着膜とインクジェット凹部底面付着膜、及び、インクジェットレジスト微細凸部上面付着膜とインクジェットレジスト微細凸部側面付着膜とインクジェット微細凹部底面付着膜を形成するインクジェットレジスト付着膜形成工程、ここで、前記既成複数凹凸部(45)の周囲領域に位置する前記版型用基板第二領域表面(12)にはインクジェットレジスト材(2)が付着されなく、及び、
前記インクジェットレジスト材(2)をインクジェット方式で付着して、インクジェットレジスト凸部上面付着膜とインクジェットレジスト凸部側面付着膜とインクジェット凹部底面付着膜、及び、インクジェットレジスト微細凸部上面付着膜とインクジェットレジスト微細凸部側面付着膜とインクジェット微細凹部底面付着膜を硬化して、所望領域インクジェットレジスト凸部上面硬化膜(3a)と所望領域インクジェットレジスト凸部側面硬化膜(3b)と所望領域インクジェットレジスト凹部底面硬化膜(3c)、及び、所望領域インクジェットレジスト微細凸部上面硬化膜(3e)と所望領域インクジェットレジスト微細凸部側面硬化膜(3f)と所望領域インクジェットレジスト微細凹部底面硬化膜(3g)とを有する所望領域インクジェットレジスト硬化3を形成するインクジェットレジスト硬化膜形成工程、を備え、
前記(C)工程において、
前記所望領域インクジェットレジスト凸部上面硬化膜(3a)と前記所望領域インクジェットレジスト凸部側面硬化膜(3b)と前記所望領域インクジェットレジスト凹部底面硬化膜(3c)、及び、前記所望領域インクジェットレジスト微細凸部上面硬化膜(3e)と、前記所望領域インクジェットレジスト微細凸部側面硬化膜(3f)と前記所望領域インクジェットレジスト微細凹部底面硬化膜(3g)とを形成した前記版型用基板(1)の表面にエッチング液を接触して、前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜3が付着されていない前記版型用基板第二領域表面(12)をエッチングする版型用基板エッチング工程を備え、
これにより、前記既成複数凹凸部(45)及び前記既成複数微細凹凸部(46)をエッチングすることなく、前記版型用基板第二領域表面(12)をエッチングして、エッチングされてなる凹部形状を有するインクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部(121)を形成するとともに、
前記既成複数凹凸部(45)を、該インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部(121)から突出されてなる突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部(455)の形態に形成し、
前記既成複数微細凹凸部(46)を、該インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部(121)から突出されてなる形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部(466)に形成し、
前記(D)工程において、
前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜(3)を除去するレジスト硬化膜除去工程を備え、
これにより、前記既成凹凸部(4)を、エッチングすることなく、前記版型用基板第二領域表面(12)をエッチングして、インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部(121)を形成するとともに、前記既成凹凸部を、前記インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部121から突出した突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成凹凸部突起部の形態に形成し、
前記所望領域インクジェットレジスト凸部上面硬化膜(3a)と前記所望領域インクジェットレジスト凸部側面硬化膜(3b)と前記所望領域インクジェットレジスト底面硬化膜(3c)、及び、前記所望領域インクジェットレジスト微細凸部上面硬化膜(3e)と前記所望領域インクジェットレジスト微細凸部側面硬化膜(3f)と前記所望領域インクジェットレジスト微細凹部底面硬化膜(3g)とを除去するレジスト硬化膜除去工程を備え、
これにより、前記既成複数凹凸部(45)がエッチングされることなく、前記版型用基板第二領域表面(12)がエッチングされてなる前記インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部(121)が形成されるとともに、
前記複数の既成複数凹凸部凸部(451)と前記複数の既成複数凹凸部凹部(452)を有する前記既成複数凹凸部(45)、及び、前記複数の既成複数微細凹凸部凸部(461)と前記複数の既成複数微細凹凸部凹部(462)を有する前記既成複数微細凹凸部(46)を備えた前記版型用基板第一領域表面(11)が、前記インクジェットレジスト膜腐蝕第二凹形成部(121)の底面から突出してなる突出形状を有するインクジェット膜腐蝕既成複数凹凸部突起部(455)、及び、インクジェット膜腐蝕既成複数微細凹凸部突起部(466)の形態に形成される、
ことを特徴とする請求項1に記載の押圧加工用版の製造方法。
In the step (A),
The second region surface (12) of the plate mold substrate has a plurality of non-irregular portions,
The first area surface (11) of the plate mold substrate has a plurality of preformed projections and recesses (4),
Each of the plurality of second region surfaces (12) of the plate mold substrate is located in a peripheral region of each of the plurality of first region surfaces (11) of the plate mold substrate,
One of the plurality of pre-formed uneven portions (4) is
(a) A prefabricated multiple concave-convex portion (45) having a plurality of prefabricated multiple concave-convex portion convex portions (451) formed with a plurality of convex shapes and a plurality of prefabricated multiple concave-convex portion concave portions (452) formed with a plurality of concave shapes;
Another one of the plurality of pre-formed uneven portions (4) is
(B) A pre-formed multiple fine concave-convex portion (46) having a plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portion convex portions (461) formed with a plurality of fine convex shapes and a plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portion concave portions (462) formed with a plurality of fine concave shapes;
The plurality of preformed uneven portion convex portions (451) have a plurality of preformed uneven portion convex portion upper surfaces (451a) and a plurality of preformed uneven portion convex portion side surfaces (451b),
The plurality of preformed concave portions (452) have a plurality of preformed concave portion bottom surfaces (452c) and a plurality of preformed concave portion side surfaces (452b),
Here, the plurality of already-formed multiple uneven portion convex portion side surfaces (451b) and the plurality of already-formed multiple uneven portion concave portion side surfaces (452b) correspond to the same side surface area,
The plurality of previously formed fine concave-convex portions (461) have a plurality of previously formed fine concave-convex portion convex upper surfaces (461a) and a plurality of previously formed fine concave-convex portion convex side surfaces (461b),
The plurality of pre-formed fine concave/convex portions (462) have a plurality of pre-formed fine concave/convex portion concave bottom surfaces (462c) and a plurality of pre-formed fine concave/convex portion concave side surfaces (462b),
Here, the plurality of already-formed fine concave-convex portion convex side surfaces (461b) and the plurality of already-formed fine concave-convex portion concave side surfaces (456b) correspond to the same side surface region,
In the step (B),
an inkjet resist film forming step of covering the plurality of pre-formed multiple concave-convex portion convex portion upper surfaces (451a), the plurality of pre-formed multiple concave-convex portion convex portion side surfaces (451b), the plurality of pre-formed multiple concave-convex portion concave bottom surfaces (452c), and the plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portion convex portion upper surfaces (461a), the plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portion convex portion side surfaces (461b), and the plurality of pre-formed multiple fine concave-convex portion concave bottom surfaces (462c) by applying an inkjet resist material (2) by an inkjet method to form an inkjet resist convex portion upper surface attachment film, an inkjet resist convex portion side surface attachment film, and an inkjet concave portion bottom surface attachment film, and an inkjet resist fine convex portion upper surface attachment film, an inkjet resist fine convex portion side surface attachment film, and an inkjet fine concave portion bottom surface attachment film, wherein the inkjet resist material (2) is not attached to the second region surface (12) of the plate mold substrate located in the peripheral region of the pre-formed multiple concave-convex portions (45); and
an inkjet resist hardened film forming step of applying the inkjet resist material (2) by an inkjet method, and hardening the inkjet resist convex portion top surface attached film, the inkjet resist convex portion side surface attached film, and the inkjet resist concave portion bottom surface attached film, and the inkjet resist fine convex portion top surface attached film, the inkjet resist fine convex portion side surface attached film, and the inkjet resist fine convex portion bottom surface attached film, to form a desired region inkjet resist hardened film 3 having a desired region inkjet resist convex portion top surface hardened film (3a), a desired region inkjet resist convex portion side surface hardened film (3b), a desired region inkjet resist concave portion bottom surface hardened film (3c), and a desired region inkjet resist fine convex portion top surface hardened film (3e), a desired region inkjet resist fine convex portion side surface hardened film (3f), and a desired region inkjet resist fine convex portion bottom surface hardened film (3g);
In the step (C),
a plate mold substrate etching step of contacting an etching solution with a surface of the plate mold substrate (1) on which the desired region inkjet resist convex portion upper surface hardened film (3a), the desired region inkjet resist convex portion side surface hardened film (3b), the desired region inkjet resist concave portion bottom surface hardened film (3c), the desired region inkjet resist fine convex portion upper surface hardened film (3e), the desired region inkjet resist fine convex portion side surface hardened film (3f), and the desired region inkjet resist fine concave portion bottom surface hardened film (3g) are formed, thereby etching the plate mold substrate second region surface (12) to which the desired region inkjet resist hardened film 3 is not attached,
As a result, the second region surface (12) of the plate-form substrate is etched without etching the pre-formed multiple concave-convex portions (45) and the pre-formed multiple fine concave-convex portions (46), thereby forming an inkjet resist film etching second concave-forming portion (121) having an etched concave shape, and
The preformed multiple concave-convex portion (45) is formed into a shape of an inkjet film etched preformed multiple concave-convex portion protrusion portion (455) having a protruding shape protruding from the inkjet resist film etched second concave forming portion (121);
The previously formed multiple fine concave-convex portions (46) are formed into inkjet film etched previously formed multiple fine concave-convex portions protruding from the inkjet resist film etched second concave forming portion (121);
In the step (D),
a resist cured film removing step of removing the inkjet resist cured film (3) from the desired area,
As a result, the second region surface (12) of the plate mold substrate is etched without etching the pre-formed uneven portion (4) to form an inkjet resist film etched second recessed portion (121), and the pre-formed uneven portion is formed into the form of an inkjet film etched pre-formed uneven portion protrusion having a protruding shape protruding from the inkjet resist film etched second recessed portion 121;
a resist hardened film removing step of removing the desired region inkjet resist convex portion top surface hardened film (3a), the desired region inkjet resist convex portion side surface hardened film (3b), the desired region inkjet resist inkjet resist bottom surface hardened film (3c), and the desired region inkjet resist fine convex portion top surface hardened film (3e), the desired region inkjet resist fine convex portion side surface hardened film (3f), and the desired region inkjet resist fine recess portion bottom surface hardened film (3g);
As a result, the pre-formed multiple concave and convex portions (45) are not etched, and the second region surface (12) of the plate mold substrate is etched to form the inkjet resist film etching second concave forming portion (121);
the preformed multiple concave-convex portion (45) having the preformed multiple concave-convex portion convex portions (451) and the preformed multiple concave-convex portion concave portions (452), and the preformed multiple fine concave-convex portion (46) having the preformed multiple fine concave-convex portion convex portions (461) and the preformed multiple fine concave-convex portion concave portions (462) are formed in the form of an inkjet film etched preformed multiple concave-convex portion protrusion portion (455) having a protruding shape protruding from a bottom surface of the inkjet resist film etched second concave forming portion (121), and an inkjet film etched preformed multiple fine concave-convex portion protrusion portion (466);
The method for manufacturing a pressing plate according to claim 1 .
前記(A)工程において、
前記版型用基板第一領域表面(11)は既成凸部(47)を有し、
前記版型用基板第二領域表面(12)は既成凹部(48)を有し、
前記版型用基板第二領域表面(12)は前記版型用基板第一領域表面(11)の周囲領域に位置し、
前記既成凸部(47)は、既成凸部上面(47a)と既成凸部側面(47b)を有し、
前記既成凹部(48)は、既成凹部底面(48c)と既成凹部側面(48b)を有し、
ここで、前記既成凸部側面(47b)と既成凹部側面(48b)とは互いに同じ側面に相当し、
前記(B)工程において、
前記既成凸部側面(47b)と前記既成凹部側面(48b)と前記既成凹部底面(48c)を覆うとともに、前記既成凸部上面(47a)に、インクジェットレジスト材(2)をインクジェット方式により付着して、(イ)所望の図文字絵柄模様、又は、(ロ)所望の微細図文字絵柄模様、を有する所望領域インクジェットレジスト付着膜を形成する所望領域インクジェットレジスト付着膜形成工程、
及び、
前記所望領域インクジェットレジスト付着膜を硬化して所望領域インクジェットレジスト硬化膜(3)を形成する所望領域インクジェットレジスト硬化膜形成工程、を備え、
前記(C)工程において、
前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜(3)を形成した前記版型用基板(1)の表面にエッチング液を接触して、前記既成凸部上面(47a)における前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜が付着されていない領域をエッチングする版型用基板エッチング工程を備え、
これにより、前記既成凸部側面(47b)と前記既成凹部側面(48b)と前記既成凹部底面(48c)をエッチングすることなく、前記既成凸部上面(47a)における前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜が付着されていない領域をエッチングして複数の凹部と複数の凸部とを有する既成凸部上面凹凸部(477)を形成し、
ここで、前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜(3)が(イ)所望の図文字絵柄模様を有する場合には、前記既成凸部上面凹凸部(477)は(イ)所望の図文字絵柄模様に相当する複数の凹形状で形成された既成凸部上面複数凹凸部凹部(472a)と複数の凸形状で形成された既成凸部上面複数凹凸部凸部(471a)とを有してなる既成凸部上面複数凹凸部(477a)であり、
前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜(3)が(ロ)所望の微細図文字絵柄模様を有する場合には、前記既成凸部上面凹凸部(477)は(ロ)所望の微細図文字絵柄模様に相当する複数の微細凹形状で形成された既成凸部上面複数微細凹凸部凹部(472b)と複数の微細凸形状で形成された既成凸部上面複数微細凹凸部凸部(471b)とを有してなる既成凸部上面複数微細凹凸部(477b)、であり、
前記(D)工程において、
前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜(3)を除去する所望領域インクジェットレジスト硬化膜除去工程を備え、
これにより、前記既成凸部上面(47a)に、前記既成凸部上面凹凸部(477)を形成する、
ことを特徴とする請求項1に記載の押圧加工用版の製造方法。
In the step (A),
The first area surface (11) of the plate mold substrate has a preformed convex portion (47),
The second area surface (12) of the plate mold substrate has a preformed recess (48);
The second surface (12) of the plate mold substrate is located in the peripheral area of the first surface (11) of the plate mold substrate;
The preformed convex portion (47) has a preformed convex portion upper surface (47a) and a preformed convex portion side surface (47b),
The preformed recess (48) has a preformed recess bottom surface (48c) and a preformed recess side surface (48b),
Here, the already-formed convex side surface (47b) and the already-formed concave side surface (48b) correspond to the same side surface,
In the step (B),
a desired region inkjet resist deposition film formation step of covering the existing convex portion side surface (47b), the existing concave portion side surface (48b), and the existing concave portion bottom surface (48c) and depositing an inkjet resist material (2) on the existing convex portion upper surface (47a) by an inkjet method to form a desired region inkjet resist deposition film having (a) a desired graphic/letter picture pattern, or (b) a desired fine graphic/letter picture pattern;
as well as,
and a desired area inkjet resist cured film forming step of curing the desired area inkjet resist deposited film to form a desired area inkjet resist cured film (3),
In the step (C),
a plate mold substrate etching step of contacting an etching solution with the surface of the plate mold substrate (1) on which the desired region inkjet resist cured film (3) is formed, to etch a region on the upper surface (47a) of the existing convex portion to which the desired region inkjet resist cured film is not attached,
As a result, without etching the existing convex side surface (47b), the existing concave side surface (48b), and the existing concave bottom surface (48c), the desired area on the existing convex upper surface (47a) to which the inkjet resist hardened film is not attached is etched to form an existing convex upper surface uneven portion (477) having a plurality of concave portions and a plurality of convex portions;
Here, when the desired region inkjet resist cured film (3) has (a) a desired graphic character pattern, the existing convex portion upper surface uneven portion (477) is (a) an existing convex portion upper surface multiple uneven portion (477a) having an existing convex portion upper surface multiple uneven portion concave portion (472a) formed with a plurality of concave shapes corresponding to the desired graphic character pattern, and an existing convex portion upper surface multiple uneven portion convex portion (471a) formed with a plurality of convex shapes,
In the case where the desired region inkjet resist cured film (3) has (b) a desired fine graphic, letter, and picture pattern, the existing convex portion upper surface uneven portion (477) is (b) an existing convex portion upper surface multiple fine unevenness portion (477b) having an existing convex portion upper surface multiple fine unevenness portion concave portion (472b) formed with multiple fine concave shapes corresponding to the desired fine graphic, letter, and picture pattern, and an existing convex portion upper surface multiple fine unevenness portion convex portion (471b) formed with multiple fine convex shapes,
In the step (D),
a desired area inkjet resist cured film removal step of removing the desired area inkjet resist cured film (3),
As a result, the pre-formed convex upper surface uneven portion (477) is formed on the pre-formed convex upper surface (47a).
The method for manufacturing a pressing plate according to claim 1 .
前記(A)工程において、
前記版型用基板第一領域表面(11)は既成凸部(47)を有し、
前記版型用基板第二領域表面(12)は既成凹部(48)を有し、
前記版型用基板第一領域表面(11)は前記版型用基板第二領域表面(12)の周囲領域に位置し、
前記既成凸部(47)は、既成凸部上面(47a)と既成凸部側面(47b)を有し、
前記既成凹部(48)は、既成凹部底面(48c)と既成凹部側面(48b)を有し、
ここで、前記既成凸部側面(47b)と既成凹部側面(48b)とは互いに同じ側面に相当し、
前記(B)工程において、
前記既成凸部側面(47b)と前記既成凹部側面(48b)と前記既成凸部上面(47a)を覆うとともに、前記既成凹部底面(48c)に、インクジェットレジスト材(2)をインクジェット方式により付着して、(イ)所望の図文字絵柄模様、又は、(ロ)所望の微細図文字絵柄模様、を有する所望領域インクジェットレジスト付着膜を形成する所望領域インクジェットレジスト付着膜形成工程、
及び、
前記所望領域インクジェットレジスト付着膜を硬化して所望領域インクジェットレジスト硬化膜(3)を形成する所望領域インクジェットレジスト硬化膜形成工程、を備え、
前記(C)工程において、
前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜(3)を形成した前記版型用基板(1)の表面にエッチング液を接触して、前記既成凹部底面(48c)における前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜が付着されていない領域をエッチングする版型用基板エッチング工程を備え、
これにより、前記既成凸部側面(47b)と前記既成凹部側面(48b)と前記既成凸部上面(47a)をエッチングすることなく、前記既成凹部底面(48c)における前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜が付着されていない領域をエッチングして複数の凹部と複数の凸部とを有する既成凹部底面凹凸部(488)を形成し、
ここで、前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜(3)が(イ)所望の図文字絵柄模様を有する場合には、前記既成凹部底面凹凸部(488)は(イ)所望の図文字絵柄模様に相当する複数の凹形状で形成された既成凹部底面複数凹凸部凹部(482a)と複数の凸形状で形成された既成凹部底面複数凹凸部凸部(481a)とを有してなる既成凹部底面複数凹凸部(488a)であり、
前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜(3)が(ロ)所望の微細図文字絵柄模様を有する場合には、前記既成凹部底面凹凸部(488)は(ロ)前記所望の微細図文字絵柄模様に相当する複数の微細凹形状で形成された既成凹部底面複数微細凹凸部凹部(482b)と複数の微細凸形状で形成された既成凹部底面複数微細凹凸部凸部(481b)とを有してなる既成凹部底面複数微細凹凸部(488b)、であり、
前記(D)工程において、
前記所望領域インクジェットレジスト硬化膜(3)を除去する所望領域インクジェットレジスト硬化膜除去工程を備え、
これにより、前記既成凹部底面(48c)に、前記既成凹部底面凹凸部(488)を形成する、
ことを特徴とする請求項1に記載の押圧加工用版の製造方法。
In the step (A),
The first area surface (11) of the plate mold substrate has a preformed convex portion (47),
The second area surface (12) of the plate mold substrate has a preformed recess (48);
The first area surface (11) of the plate mold substrate is located in a peripheral area of the second area surface (12) of the plate mold substrate,
The preformed convex portion (47) has a preformed convex portion upper surface (47a) and a preformed convex portion side surface (47b),
The preformed recess (48) has a preformed recess bottom surface (48c) and a preformed recess side surface (48b),
Here, the already-formed convex side surface (47b) and the already-formed concave side surface (48b) correspond to the same side surface,
In the step (B),
a desired region inkjet resist deposition film formation step of covering the existing convex side surface (47b), the existing concave side surface (48b), and the existing convex upper surface (47a) and adhering an inkjet resist material (2) to the existing concave bottom surface (48c) by an inkjet method to form a desired region inkjet resist deposition film having (a) a desired graphic/letter picture pattern, or (b) a desired fine graphic/letter picture pattern;
as well as,
and a desired area inkjet resist cured film forming step of curing the desired area inkjet resist deposited film to form a desired area inkjet resist cured film (3),
In the step (C),
a plate mold substrate etching step of contacting an etching solution with the surface of the plate mold substrate (1) on which the desired region inkjet resist cured film (3) is formed, to etch a region of the bottom surface (48c) of the existing recess (48c) on which the desired region inkjet resist cured film is not attached,
As a result, without etching the existing convex portion side surface (47b), the existing concave portion side surface (48b), and the existing convex portion upper surface (47a), the desired area on the existing concave portion bottom surface (48c) to which the inkjet resist hardened film is not attached is etched to form an existing concave portion bottom surface uneven portion (488) having a plurality of concave portions and a plurality of convex portions;
Here, when the desired region inkjet resist cured film (3) has (a) a desired graphic character pattern, the existing recess bottom surface uneven portion (488) is (a) an existing recess bottom surface multiple uneven portion (488a) having an existing recess bottom surface multiple uneven portion concave (482a) formed with a plurality of concave shapes corresponding to the desired graphic character pattern, and an existing recess bottom surface multiple uneven portion convex portion (481a) formed with a plurality of convex shapes,
In the case where the desired region inkjet resist cured film (3) has a desired fine graphic character picture pattern (b), the existing recess bottom surface uneven portion (488) is a existing recess bottom surface multiple fine uneven portion (488b) having an existing recess bottom surface multiple fine uneven portion concave (482b) formed with a plurality of fine concave shapes corresponding to the desired fine graphic character picture pattern and an existing recess bottom surface multiple fine uneven portion convex portion (481b) formed with a plurality of fine convex shapes,
In the step (D),
a desired area inkjet resist cured film removal step of removing the desired area inkjet resist cured film (3),
As a result, the pre-formed recess bottom surface uneven portion (488) is formed on the pre-formed recess bottom surface (48c).
The method for manufacturing a pressing plate according to claim 1 .
前記(A)工程において、
前記版型用基板第一領域表面(11)は、
(a)インクジェットレジスト材を使用して形成したインクジェットレジスト硬化膜を腐蝕エッチング用マスクとして用いた化学的腐蝕エッチング加工、
及び/又は、
(b)従来慣用の液状レジスト材を使用して形成したレジスト硬化膜を腐蝕エッチング用マスクとして用いた化学的腐蝕エッチング加工、
及び/又は、
(c)従来慣用のシート状のドライフィルムレジスト材を使用して形成したレジスト硬化膜を腐蝕エッチング用マスクとして用いた化学的腐蝕エッチング加工、
及び/又は、
(d)従来慣用の機械加工装置を使用した機械的加工、
の加工により、前記既成凹凸部(4)を形成してなる、
ことを特徴とする請求項2乃至12のいずれかに記載の押圧加工用版の製造方法。
In the step (A),
The first area surface (11) of the plate mold substrate is
(a) Chemical etching using an inkjet resist cured film formed using an inkjet resist material as a mask for etching;
and/or
(b) Chemical etching using a cured resist film formed using a conventional liquid resist material as a mask for etching;
and/or
(c) Chemical etching using a cured resist film formed using a conventional sheet-like dry film resist material as a mask for etching;
and/or
(d) mechanical machining using conventional machining equipment;
The preformed uneven portion (4) is formed by the processing of
The method for manufacturing a pressing plate according to any one of claims 2 to 12.
前記版型用基板(1)は、鉄、ステンレス鋼、真鍮、銅、マグネシウム鋼、ジュラルミン、超硬合金、粉末ハイス鋼、ハイス鋼、ダイス鋼、合金工具鋼、炭素工具鋼、又は、鋼鉄により形成されてなる、ことを特徴とする請求項1乃至13のいずれかに記載の押圧加工用版の製造方法。The method for manufacturing a pressing plate according to any one of claims 1 to 13, characterized in that the plate mold substrate (1) is formed from iron, stainless steel, brass, copper, magnesium steel, duralumin, cemented carbide, powdered high speed steel, high speed steel, die steel, alloy tool steel, carbon tool steel, or steel. 前記押圧加工用版は、
(イ)互いに対向する平板形状を有する平圧式加工装置に構成される平板型版、
(ロ)互いに対向するロール形状を有するロール式加工装置に構成されるロール版、
(ハ)円筒形又は円柱形のロールの周囲に巻き付け設置固定して構成されるフレキシブル版、又は、平板形状を有する版型用基板の表面に設置固定して構成されるフレキシブル版。
(ニ)被加工物を所定凹凸形状に加工するための型押用版、
(ホ)被加工物に箔押し加工するための箔押用版、
(ヘ)被加工物を所定形状に切抜及び/又は切断するための切抜・切断版、
及び、
(ト)被加工物を所定凹凸形状に型押又は箔押するとともに切抜及び/又は切断するための型箔押・切抜切断版、
からなる群から選ばれる少なくとも一つの形態を有する押圧加工用版である、
ことを特徴とする請求項1乃至14のいずれかに記載の押圧加工用版の製造方法。
The pressing plate is
(A) A flat plate mold configured in a flat pressure processing device having flat plate shapes facing each other;
(B) a roll plate configured in a roll-type processing device having roll shapes facing each other;
(c) A flexible plate configured by wrapping and fixing around a cylindrical or columnar roll, or a flexible plate configured by fixing on the surface of a plate-shaped substrate.
(D) an embossing plate for processing a workpiece into a predetermined uneven shape;
(e) a stamping plate for stamping a workpiece with foil;
(F) A cutting plate for cutting and/or cutting a workpiece into a predetermined shape;
as well as,
(G) a stamping/cutting plate for stamping or stamping a workpiece into a predetermined uneven shape and cutting and/or cutting the workpiece;
A pressing plate having at least one form selected from the group consisting of:
The method for manufacturing a pressing plate according to any one of claims 1 to 14.
請求項1乃至15のいずれかに記載の押圧加工用版の製造方法により製造されてなる押圧加工用版。A plate for pressing process manufactured by the method for manufacturing a plate for pressing process according to any one of claims 1 to 15. 請求項1乃至15のいずれかに記載の押圧加工用版の製造方法により製造されてなる押圧加工用版を使用して、被加工物を加工して、所定形状に加工されてなる加工物を製造することを特徴とする被加工物の加工方法。A method for processing a workpiece, comprising the steps of: processing the workpiece using a pressing plate manufactured by the method for manufacturing a pressing plate according to any one of claims 1 to 15; and producing a workpiece that has been processed into a predetermined shape. (S-a)請求項1乃至15のいずれかに記載の押圧加工用版の製造方法により製造されてなる押圧加工用版(10)を供給する工程、
(S-b)互いに対向する第一基盤(92)と第二基盤(93)を備えた押圧加工装置を準備する工程、
(S-d)所定の受版(94)を、前記押圧加工装置の第二基盤(93)に設置する工程、
(S-e)前記押圧加工用版(10)と前記受版(94)との間に、被加工物(108)を位置する状態で、前記第一基盤(92)と前記第二基盤(93)のうちの少なくとも一つの基盤を駆動して、前記押圧加工用版(10)と受版(94)とが前記被加工物を押圧する工程、
これにより、前記被加工物(108)の表面に、前記既成凹凸部(4)の凹凸形状に一致する凹凸形状を有する被加工物凹凸形成部を形成し、
及び、
(S-f)前記押圧加工用版(10)と前記受版(94)のうちの少なくとも一つの基盤を駆動して、前記押圧加工用版(10)と前記受版(94)とを互いに離反して、前記被加工物への押圧を解除する工程、
これにより、前記被加工物(108)の表面に、前記既成凹凸部(4)の凹凸形状に一致する凹凸形状を有する形態で転写形成された前記被加工物転写形成部が形成されてなる加工物を調製する、
を備えてなることを特徴とする、被加工物の加工方法。
(S-a) a step of supplying a press processing plate (10) manufactured by the method for manufacturing a press processing plate according to any one of claims 1 to 15;
(S-b) preparing a pressing device having a first base (92) and a second base (93) facing each other;
(S-d) a step of placing a predetermined receiving plate (94) on the second base (93) of the pressing device;
(S-e) a step of driving at least one of the first base (92) and the second base (93) while a workpiece (108) is positioned between the pressing plate (10) and the receiving plate (94), so that the pressing plate (10) and the receiving plate (94) press the workpiece;
As a result, a workpiece unevenness forming portion having an uneven shape that matches the uneven shape of the existing uneven portion (4) is formed on the surface of the workpiece (108),
as well as,
(S-f) a step of driving at least one of the bases of the pressing plate (10) and the receiving plate (94) to move the pressing plate (10) and the receiving plate (94) away from each other, thereby releasing the pressing force on the workpiece;
As a result, a workpiece is prepared in which a workpiece transfer formation portion is formed on the surface of the workpiece (108) in a form having a concave-convex shape that matches the concave-convex shape of the existing concave-convex portion (4).
A method for processing a workpiece, comprising:
(S-a)請求項1乃至15のいずれかに記載の押圧加工用版の製造方法により製造されてなる押圧加工用版(10)を供給する工程、
(S-b)互いに対向する第一基盤(92)と第二基盤(93)を備えた押圧加工装置を準備する工程、
(S-d)所定の受版(94)を、前記押圧加工装置の第二基盤(93)に設置する工程、
(S-e)前記押圧加工用版(10)と前記受版(94)との間に被加工物基材(108a)とシート状箔材料(108b)とを位置する状態で、前記第一基盤(92)と前記第二基盤(93)のうちの少なくとも一つの基盤を駆動して、前記押圧加工用版(10)と受版(94)とが前記被加工物を押圧する工程、
これにより、前記シート状箔材料(108b)を、前記被加工物基材(108a)の表面に、前記既成凹凸部(4)の凹凸形状に一致する凹凸形状を有する被加工物箔押転写形成部を形成し、
及び、
(S-f)前記押圧加工用版(10)と前記受版(94)のうちの少なくとも一つの基盤を駆動して、前記押圧加工用版(10)と受版(94)とを互いに離反して、前記被加工物への押圧を解除する工程、
これにより、前記被加工物基材(108a)の表面に、前記既成凹凸部(4)の凹凸形状に一致する形状を有する形態で前記シート状箔材料(108b)により転写形成された前記被加工物箔押転写形成部が形成されてなる加工物を調製する、
を備えてなることを特徴とする被加工物の加工方法。
(S-a) a step of supplying a press processing plate (10) manufactured by the method for manufacturing a press processing plate according to any one of claims 1 to 15;
(S-b) preparing a pressing device having a first base (92) and a second base (93) facing each other;
(S-d) a step of placing a predetermined receiving plate (94) on the second base (93) of the pressing device;
(S-e) a step of driving at least one of the first base (92) and the second base (93) while a workpiece substrate (108a) and a sheet-like foil material (108b) are positioned between the pressing plate (10) and the receiving plate (94), so that the pressing plate (10) and the receiving plate (94) press the workpiece;
As a result, the sheet-like foil material (108b) is attached to the surface of the workpiece substrate (108a) to form a workpiece foil stamping transfer forming portion having a concave-convex shape that matches the concave-convex shape of the existing concave-convex portion (4);
as well as,
(S-f) a step of driving at least one of the bases of the pressing plate (10) and the receiving plate (94) to move the pressing plate (10) and the receiving plate (94) away from each other, thereby releasing the pressing force on the workpiece;
This prepares a workpiece in which the workpiece stamping transfer formation portion is formed on the surface of the workpiece base material (108a) by transfer of the sheet-like foil material (108b) in a form having a shape that matches the uneven shape of the existing uneven portion (4).
A method for processing a workpiece, comprising:
(S-a)請求項1乃至15のいずれかに記載の押圧加工用版の製造方法により製造されてなる押圧加工用版(10)を供給する工程、
(S-b)互いに対向する主ロール(96)と対ロール(97)を備えた押圧加工装置を準備する工程、
(S-c)前記押圧加工用版(10)を、前記主ロール(96)に設置する工程、
(S-d)所定の受版(94)を、前記押圧加工装置の前記対ロール(97)に設置する工程、
(S-e)前記主ロール(96)と前記対ロール(97)とを駆動するとともに、前記主ロール(96)と前記対ロール(97)との間に被加工物を供給して、前記押圧加工用版(10)と受版(94)とが前記被加工物を押圧する工程、
これにより、前記被加工物(108)の表面に、前記既成凹凸部(4)の凹凸形状に一致する凹凸形状を有する被加工物凹凸形状部を形成し、
及び、
(S-f)前記被加工物が前記主ロール(96)と対ロール(97)との間から離反して、前記被加工物への押圧を解除する工程、
これにより、前記被加工物(108)の表面に、前記既成凹凸部(4)の凹凸形状に一致する凹凸形状を有する形態で形成された被加工物凹凸形成部が形成されてなる加工物を調製する、
を備えてなることを特徴とする、被加工物の加工方法。
(S-a) a step of supplying a press processing plate (10) manufactured by the method for manufacturing a press processing plate according to any one of claims 1 to 15;
(S-b) preparing a pressing device having a main roll (96) and a counter roll (97) facing each other;
(Sc) a step of placing the pressing plate (10) on the main roll (96);
(S-d) a step of placing a predetermined receiving plate (94) on the pair roll (97) of the pressing device;
(S-e) a step of driving the main roll (96) and the counter roll (97) and supplying a workpiece between the main roll (96) and the counter roll (97) so that the pressing plate (10) and the receiving plate (94) press the workpiece;
As a result, a workpiece uneven shape portion having an uneven shape that matches the uneven shape of the existing uneven portion (4) is formed on the surface of the workpiece (108),
as well as,
(S-f) a step of releasing the pressure on the workpiece by separating the workpiece from between the main roll (96) and the counter roll (97);
As a result, a workpiece is prepared in which a workpiece unevenness forming portion is formed on the surface of the workpiece (108) in a form having an uneven shape that matches the uneven shape of the existing uneven portion (4).
A method for processing a workpiece, comprising:
(S-a)請求項1乃至15のいずれかに記載の押圧加工用版の製造方法により製造されてなる押圧加工用版(10)を供給する工程、
(S-b)互いに対向する主ロール(96)と対ロール(97)を備えた押圧加工装置を準備する工程、
(S-c)前記押圧加工用版(10)を、前記主ロール(96)に設置する工程、
(S-d)所定の受版(94)を、前記押圧加工装置の前記対ロール(97)に設置する工程、
(S-e)前記主ロール(96)と前記対ロール(97)とを駆動するとともに、前記主ロール(96)と前記対ロール(97)との間に被加工物基材(108a)とシート状箔材料(108b)とを供給して、前記押圧加工用版(10)と受版(94)とが前記被加工物を押圧する工程、
これにより、前記シート状箔材料(108b)を、前記被加工物基材(108a)の表面に、前記既成凹凸部(4)の凹凸形状に一致する凹凸形状を有する被加工物箔押転写形成部を転写形成し、
及び、
(S-f)前記被加工物が前記主ロール(96)と対ロール(97)との間から離反して、前記被加工物への押圧を解除する工程、
これにより、前記被加工物(108)の表面に、前記既成凹凸部(4)の凹凸形状に一致する凹凸形状を有する形態で前記シート状箔材料(108b)により転写形成された被加工物転写形成部が形成されてなる加工物を調製する、
を備えてなることを特徴とする、被加工物の加工方法。
(S-a) a step of supplying a press processing plate (10) manufactured by the method for manufacturing a press processing plate according to any one of claims 1 to 15;
(S-b) preparing a pressing device having a main roll (96) and a counter roll (97) facing each other;
(Sc) a step of placing the pressing plate (10) on the main roll (96);
(S-d) a step of placing a predetermined receiving plate (94) on the pair roll (97) of the pressing device;
(S-e) a step of driving the main roll (96) and the counter roll (97) and supplying a workpiece substrate (108a) and a sheet-like foil material (108b) between the main roll (96) and the counter roll (97) so that the pressing plate (10) and the receiving plate (94) press the workpiece;
As a result, the sheet-like foil material (108b) is transferred onto the surface of the workpiece substrate (108a) to form a workpiece foil stamping transfer formation portion having a concave-convex shape that matches the concave-convex shape of the existing concave-convex portion (4);
as well as,
(S-f) a step of releasing the pressure on the workpiece by separating the workpiece from between the main roll (96) and the counter roll (97);
This allows the preparation of a workpiece having a workpiece transfer formation portion formed by transferring the sheet-like foil material (108b) on the surface of the workpiece (108) in a form having a concave-convex shape that matches the concave-convex shape of the existing concave-convex portion (4).
A method for processing a workpiece, comprising:
前記被加工物は、紙、段ボール紙、プラスチック製フィルム、プラスチック製ボード、プラスチック成型物、皮革、木材、布、軟質金属、及び、これらの積層物からなる群から選ばれる少なくとも一つの被加工物である、
ことを特徴とする、請求項17乃至21のいずれかに記載の被加工物の加工方法。
The workpiece is at least one workpiece selected from the group consisting of paper, cardboard, plastic film, plastic board, plastic molded product, leather, wood, cloth, soft metal, and laminates thereof.
22. A method for processing a workpiece according to claim 17, further comprising the step of:
JP2022212919A 2022-12-14 Method for manufacturing a press plate, a press plate manufactured by the method, and a processing method for processing a workpiece using the press plate Pending JP2024085353A (en)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2024085353A true JP2024085353A (en) 2024-06-26

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3850059A (en) Die and method for cutting labels and the like
CN102869499B (en) For being attached to decorating film and the manufacture method thereof of household electrical appliance outer surface
US20060027044A1 (en) Flexible die and method for its manufacture
EP2505344B1 (en) Method for manufacturing a film product using thermal roll imprinting and blade coating, and security film and film-integrated electric device using same
US5488889A (en) Rotary cutting die
US3618438A (en) Cutting
US9365025B2 (en) Method for forming fine patterns on a substrate with a disposable cliche
JP2006213000A (en) Screen printing plate and its manufacturing method
JP2024085353A (en) Method for manufacturing a press plate, a press plate manufactured by the method, and a processing method for processing a workpiece using the press plate
KR101702455B1 (en) Adhesive film with superior adhesive property and detachability and manufacturing method of the same
JP2006295485A (en) Manufacturing method of radio tag antenna and die cutting adhering tool used for the method
JP3477254B2 (en) Manufacturing method of punching die and punching die
JP5236168B2 (en) Master plate for mesh-integrated mask and manufacturing method thereof
JP7364843B2 (en) A method for manufacturing a pressing plate, a pressing plate manufactured by the manufacturing method, and a processing method for processing a workpiece using the pressing plate
JP2016107392A (en) Press-cutting blade die, press-cutting blade die manufacturing method, and workpiece press-cutting method using press-cutting blade die
WO2011067822A1 (en) Flexible die
TWI357376B (en)
CN101942660A (en) Method for directly forming cutter die by utilizing one-time etching and cutter die formed by same
CN107112210A (en) Imprint mold
CN201610035U (en) Cutter die, cutter die set and cutter die set capable of displacing and being recombined
WO2014065847A2 (en) Multi-function media embellishing die
JP3159438U (en) Mold for pressing with base material
JP2007044874A (en) Flexible die manufacturing method and flexibile die produced through the method
US11602945B2 (en) Multi-purpose acid-etched metallic stamps and dies
JP2004268552A (en) Finely embossing method and device