JP2024080388A - How to clean your taping machine - Google Patents

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Abstract

【課題】載置テーブルに付着する切り屑等の異物を抑制することができるテープ貼り機の清掃方法を提供すること。【解決手段】テープ貼り機の清掃方法は、載置テーブルの載置面に載置されたウェーハにテープ貼着ローラーで粘着テープを貼着するテープ貼着ステップ303と、テープ貼着ステップ303の後にテープカッターでウェーハの外縁に沿って粘着テープを切断するテープ切断ステップ304と、テープ貼着ステップ303及びテープ切断ステップ304の前または後に、テープ貼着ローラーで粘着テープを載置面に貼着して載置面に付着した異物を除去する異物除去ステップ302と、を実施する。【選択図】図4[Problem] To provide a method for cleaning a tape applicator capable of suppressing foreign matter such as cutting chips from adhering to a mounting table. [Solution] The method for cleaning a tape applicator includes a tape application step 303 in which an adhesive tape is applied to a wafer placed on the mounting surface of a mounting table by a tape application roller, a tape cutting step 304 in which the adhesive tape is cut along the outer edge of the wafer by a tape cutter after the tape application step 303, and a foreign matter removal step 302 in which the adhesive tape is applied to the mounting surface by a tape application roller and foreign matter adhering to the mounting surface is removed before or after the tape application step 303 and the tape cutting step 304. [Selected Figure] Figure 4

Description

本発明は、テープ貼り機の清掃方法に関する。 The present invention relates to a method for cleaning a tape applicator.

研削装置を用いて半導体ウェーハを仕上げ厚みに至るまで研削する際は、デバイスが形成された半導体ウェーハの表面に保護テープを貼着し、保護テープ面側を保持テーブルで吸引保持した状態で、裏面側から研削する。 When using a grinding device to grind a semiconductor wafer down to its finishing thickness, a protective tape is applied to the front surface of the semiconductor wafer on which the devices are formed, and the wafer is ground from the back side while the protective tape side is held by suction on a holding table.

上述の保護テープを半導体ウェーハに貼着する際はラミネータ(例えば、特許文献1参照)を使用するのが一般的である。ラミネータ(以下、テープ貼り機と記す)は、載置テーブルに載置されたウェーハにローラーで保護テープを貼着した後、カッターでウェーハの外周に沿って保護テープを切断することで、保護テープが貼着されたウェーハが完成する。 When applying the above-mentioned protective tape to a semiconductor wafer, a laminator (see, for example, Patent Document 1) is generally used. The laminator (hereinafter referred to as a tape applicator) applies the protective tape to the wafer placed on the mounting table with a roller, and then cuts the protective tape along the outer periphery of the wafer with a cutter, completing the wafer with the protective tape applied.

特開2019-9373号公報JP 2019-9373 A

しかしながら、前述したテープ貼り機では、カッターで切断したテープの切り屑は粘着力を有する為、載置テーブルに飛散して付着する。前述したテープ貼り機では、切り屑が付着した載置テーブルにウェーハを載置することで、切り屑がウェーハに付着し、次工程での研削で研削不良を引き起こすという問題を引き起こす。 However, in the above-mentioned tape applicator, the scraps of the tape cut by the cutter have adhesive properties and scatter and adhere to the mounting table. In the above-mentioned tape applicator, when a wafer is placed on the mounting table with the scraps attached, the scraps adhere to the wafer, causing grinding defects in the next grinding process.

よって、前述したテープ貼り機は、載置テーブルの載置面を定期的に清掃する方法が求められていた。 Therefore, the above-mentioned tape applicator required a method for periodically cleaning the mounting surface of the mounting table.

本発明の目的は、載置テーブルに付着する切り屑等の異物を抑制することができるテープ貼り機の清掃方法を提供することである。 The object of the present invention is to provide a method for cleaning a tape applicator that can prevent foreign matter such as cuttings from adhering to the mounting table.

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明のテープ貼り機の清掃方法は、ウェーハを載置する載置面を有する載置テーブルと、ロール状の粘着テープが装着されるテープ送り出し手段と、該ウェーハに該粘着テープを貼着するテープ貼着ローラーと、該ウェーハの外周に沿って該粘着テープを切断するテープカッターと、該ウェーハに貼着されなかった該粘着テープを巻き取るテープ巻き取り手段と、を備えるテープ貼り機において、該載置面に載置された該ウェーハに該テープ貼着ローラーで該粘着テープを貼着するテープ貼着ステップと、該テープ貼着ステップの後に該テープカッターで該ウェーハの外周に沿って該粘着テープを切断するテープ切断ステップと、該テープ貼着ステップ及び該テープ切断ステップの前または後に、該テープ貼着ローラーで該粘着テープを該載置面に貼着して該載置面に付着した異物を除去する異物除去ステップと、を実施することを特徴とする。 In order to solve the above-mentioned problems and achieve the object, the cleaning method of the taping machine of the present invention is characterized in that, in a taping machine equipped with a mounting table having a mounting surface on which a wafer is placed, a tape delivery means on which a roll-shaped adhesive tape is attached, a tape application roller for applying the adhesive tape to the wafer, a tape cutter for cutting the adhesive tape along the outer periphery of the wafer, and a tape winding means for winding up the adhesive tape not applied to the wafer, the cleaning method includes a tape application step in which the tape application roller applies the adhesive tape to the wafer placed on the mounting surface, a tape cutting step in which the tape cutter cuts the adhesive tape along the outer periphery of the wafer after the tape application step, and a foreign matter removal step in which the tape application roller applies the adhesive tape to the mounting surface and removes foreign matter attached to the mounting surface before or after the tape application step and the tape cutting step.

前記テープ貼り機の清掃方法において、該載置テーブルの載置面は樹脂で被覆されても良い。 In the method for cleaning the tape applicator, the placement surface of the placement table may be coated with resin.

本発明は、載置テーブルに付着する切り屑等の異物を抑制することができるという効果を奏する。 The present invention has the effect of suppressing foreign matter such as cutting chips from adhering to the mounting table.

図1は、実施形態1に係るテープ貼り機の清掃方法を実施するテープ貼り機の概略の構成を模式的に示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of a taping machine for carrying out a method for cleaning a taping machine according to a first embodiment. 図2は、図1に示されたテープ貼り機の概略の構成を模式的に示す側面図である。FIG. 2 is a side view showing a schematic configuration of the taping machine shown in FIG. 図3は、図1に示されたテープ貼り機により粘着テープが貼着されるウェーハの斜視図である。FIG. 3 is a perspective view of a wafer to which an adhesive tape is applied by the tape applicator shown in FIG. 図4は、実施形態1に係るテープ貼り機の清掃方法の流れを示すフローチャートである。FIG. 4 is a flowchart showing the flow of the method for cleaning the taping machine according to the first embodiment. 図5は、図4に示されたテープ貼り機の製造方法の異物除去ステップを模式的に示す側面図である。FIG. 5 is a side view showing a schematic diagram of a foreign matter removing step in the manufacturing method of the tape applicator shown in FIG. 図6は、図4に示されたテープ貼り機の製造方法のテープ貼着ステップを模式的に示す側面図である。FIG. 6 is a side view showing a schematic diagram of a tape application step of the manufacturing method of the taping machine shown in FIG. 図7は、図4に示されたテープ貼り機の製造方法のテープ切断ステップを模式的に示す側面図である。FIG. 7 is a side view that illustrates a tape cutting step of the method for manufacturing the taping machine illustrated in FIG.

本発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。 The following describes in detail the form (embodiment) for carrying out the present invention with reference to the drawings. The present invention is not limited to the contents described in the following embodiment. The components described below include those that a person skilled in the art can easily imagine and those that are substantially the same. Furthermore, the configurations described below can be combined as appropriate. Various omissions, substitutions, or modifications of the configuration can be made without departing from the spirit of the present invention.

〔実施形態1〕
本発明の実施形態1に係るテープ貼り機の清掃方法を図面に基づいて説明する。図1は、実施形態1に係るテープ貼り機の清掃方法を実施するテープ貼り機の概略の構成を模式的に示す斜視図である。図2は、図1に示されたテープ貼り機の概略の構成を模式的に示す側面図である。図3は、図1に示されたテープ貼り機により粘着テープが貼着されるウェーハの斜視図である。図4は、実施形態1に係るテープ貼り機の清掃方法の流れを示すフローチャートである。
[Embodiment 1]
A method for cleaning a taping machine according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. Fig. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of a taping machine for carrying out the method for cleaning a taping machine according to the first embodiment. Fig. 2 is a side view showing a schematic configuration of the taping machine shown in Fig. 1. Fig. 3 is a perspective view of a wafer to which an adhesive tape is applied by the taping machine shown in Fig. 1. Fig. 4 is a flow chart showing the flow of the method for cleaning a taping machine according to the first embodiment.

(ウェーハ)
実施形態1に係るテープ貼り機の清掃方法は、図1及び図2に示すテープ貼り機1により実施される。図1及び図2に示すテープ貼り機1は、図3に示されたウェーハ200に粘着テープ210を貼着する装置である。テープ貼り機1により粘着テープ210が貼着されるウェーハ200は、実施形態1では、シリコン、サファイア、又はガリウムヒ素などを基板とする円板状の半導体ウェーハや光デバイスウェーハ等である。ウェーハ200は、図3に示すように、基板の表面201の複数の分割予定ライン202によって区画された領域にそれぞれデバイス203が形成されている。
(Wafer)
The method for cleaning the taping machine according to the first embodiment is carried out by a taping machine 1 shown in Fig. 1 and Fig. 2. The taping machine 1 shown in Fig. 1 and Fig. 2 is a device for applying an adhesive tape 210 to a wafer 200 shown in Fig. 3. In the first embodiment, the wafer 200 to which the adhesive tape 210 is applied by the taping machine 1 is a disk-shaped semiconductor wafer or an optical device wafer, etc., having a substrate made of silicon, sapphire, gallium arsenide, or the like. As shown in Fig. 3, the wafer 200 has devices 203 formed in each of areas partitioned by a plurality of planned division lines 202 on a surface 201 of the substrate.

デバイス203は、例えば、IC(Integrated Circuit)又はLSI(Large Scale Integration)等の集積回路、CCD(Charge Coupled Device)又はCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)等のイメージセンサ、又は各種のメモリ(半導体記憶装置)等である。なお、実施形態1において、ウェーハ200は、表面201に粘着テープ210が貼着されて、裏面204が研削されて所定の仕上げ厚さまで薄化された後、分割予定ライン202に沿って個々のデバイス203に分割される。 The devices 203 are, for example, integrated circuits such as ICs (Integrated Circuits) or LSIs (Large Scale Integration), image sensors such as CCDs (Charge Coupled Devices) or CMOSs (Complementary Metal Oxide Semiconductors), or various types of memories (semiconductor memory devices). In the first embodiment, the wafer 200 has an adhesive tape 210 attached to its front surface 201, and its back surface 204 is ground to thin it to a predetermined finishing thickness, and then is divided into individual devices 203 along the planned division lines 202.

ウェーハ200に貼着される粘着テープ210は、合成樹脂から構成され非粘着性の基材層と、基材層上に積層されかつ貼着性の粘着層とを備えている。粘着テープ210は、長尺なシート状の部材として成形され、粘着層が外周側に位置した状態で図示しない芯の外周に少なくとも1周以上巻回されて、ロール状に巻かれて、図1及び図2に示すテープロール211を構成する。実施形態1において、粘着テープ210は、長さと幅との双方がウェーハ200の外径よりも長い。 The adhesive tape 210 to be attached to the wafer 200 comprises a non-adhesive base layer made of synthetic resin and an adhesive layer laminated on the base layer. The adhesive tape 210 is formed as a long sheet-like member, and is wound around the outer periphery of a core (not shown) at least once with the adhesive layer positioned on the outer periphery, and wound into a roll to form the tape roll 211 shown in Figures 1 and 2. In the first embodiment, both the length and width of the adhesive tape 210 are longer than the outer diameter of the wafer 200.

(テープ貼り機)
図1及び図2に示すテープ貼り機1は、ウェーハ200の表面201にテープロール211の粘着テープ210を貼着し、ウェーハ200の表面201に貼着した粘着テープ210をウェーハ200の外縁に沿って切断する装置である。
(Tape applicator)
The tape applicator 1 shown in Figures 1 and 2 is a device that applies an adhesive tape 210 from a tape roll 211 to a surface 201 of a wafer 200 and cuts the adhesive tape 210 applied to the surface 201 of the wafer 200 along the outer edge of the wafer 200.

なお、実施形態1において、テープ貼り機1は、ウェーハ200の表面201に粘着テープ210を貼着するが、本発明では、ウェーハ200の裏面204に粘着テープ210を貼着しても良い。また、実施形態1では、テープ貼り機1は、ウェーハ200とともに、ウェーハ200の外径よりの内径が大きな円環状の環状フレームに粘着テープ210を貼着しても良い。 In the first embodiment, the tape applicator 1 applies the adhesive tape 210 to the front surface 201 of the wafer 200, but in the present invention, the adhesive tape 210 may be applied to the back surface 204 of the wafer 200. In the first embodiment, the tape applicator 1 may apply the adhesive tape 210 to a circular ring-shaped frame having an inner diameter larger than the outer diameter of the wafer 200, together with the wafer 200.

テープ貼り機1は、図1及び図2に示すように、載置テーブル10と、テープ送り出し手段であるテープ送り出しローラー20と、テープ貼着ローラー30と、テープカッター40(図2のみに示す)と、テープ巻き取り手段であるテープ巻き取りローラー50と、複数のガイドローラー60と、制御ユニット100とを備える。 As shown in Figures 1 and 2, the tape applicator 1 includes a mounting table 10, a tape delivery roller 20 as a tape delivery means, a tape application roller 30, a tape cutter 40 (shown only in Figure 2), a tape take-up roller 50 as a tape take-up means, a number of guide rollers 60, and a control unit 100.

載置テーブル10は、ウェーハ200を保持するものである。載置テーブル10は、載置テーブル10は、ウェーハ200の裏面204を載置する水平方向に沿って平坦な載置面11を有している。載置面11は、ポーラスセラミックス等の多孔質材で構成され、図示しない吸引源に接続されている。載置テーブル10は、載置面11に載置されたウェーハ200を図示しない吸引源により吸引されることで、吸引保持する。 The mounting table 10 holds the wafer 200. The mounting table 10 has a flat mounting surface 11 along the horizontal direction on which the back surface 204 of the wafer 200 is placed. The mounting surface 11 is made of a porous material such as porous ceramics, and is connected to a suction source (not shown). The mounting table 10 holds the wafer 200 placed on the mounting surface 11 by suction from a suction source (not shown).

また、実施形態1において、載置テーブル10の載置面11は、ポーラスセラミックス等の多孔質材の凹凸を残しながら非粘着性の樹脂で被覆されている。即ち、実施形態1において、載置テーブル10の載置面11は、所謂トシカル(登録商標)コーティングされている。 In addition, in the first embodiment, the mounting surface 11 of the mounting table 10 is coated with a non-adhesive resin while leaving the unevenness of the porous material such as porous ceramics. That is, in the first embodiment, the mounting surface 11 of the mounting table 10 is coated with a so-called Tosical (registered trademark).

テープ送り出しローラー20は、外観が円柱状に形成され、芯内に挿通されてシートロール10即ちロール状の粘着テープ210が装着される。テープ送り出しローラー20は、軸心回りに回転自在に支持されている。テープ送り出しローラー20は、軸心回りに回転することで、粘着テープ210を端から順に載置テーブル10の載置面11上に送り出す。 The tape feed roller 20 has a cylindrical appearance, and the sheet roll 10, i.e., the roll-shaped adhesive tape 210, is inserted into the core and attached. The tape feed roller 20 is supported so as to be freely rotatable about its axis. By rotating about its axis, the tape feed roller 20 feeds the adhesive tape 210 from one end onto the mounting surface 11 of the mounting table 10.

テープ貼着ローラー30は、テープ送り出しローラー20から載置テーブル10の載置面11上に送り出された粘着テープ210を載置テーブル10の載置面11に吸引保持されたウェーハ200の裏面に向かって押圧して、貼着するものである。テープ貼着ローラー30は、載置テーブル10の載置面11の上方に配置されている。テープ貼着ローラー30は、軸心がテープ送り出しローラー20の軸心と平行な円柱状に形成され、軸心回りに回転自在に支持されている。 The tape application roller 30 presses the adhesive tape 210, which has been sent out from the tape delivery roller 20 onto the mounting surface 11 of the mounting table 10, against the back surface of the wafer 200, which is held by suction on the mounting surface 11 of the mounting table 10, to adhere the tape. The tape application roller 30 is disposed above the mounting surface 11 of the mounting table 10. The tape application roller 30 is formed in a cylindrical shape with its axis parallel to that of the tape delivery roller 20, and is supported so as to be freely rotatable about its axis.

テープ貼着ローラー30は、図示しない移動機構により載置テーブル10の載置面11に対して直交する方向に昇降自在に設けられ、載置面11に沿って軸心に対して直交する方向に載置テーブル10の一端部上の図2に実線で示す位置と他端部上の図2に破線で示す位置とに亘って移動自在に設けられている。テープ貼着ローラー30は、移動機構により下降した状態で載置面11に沿って載置テーブル10の一端部上の位置と他端部上の位置とに亘って移動することで、載置テーブル10に保持されたウェーハ200の表面201に粘着テープ210を貼着する。 The tape application roller 30 is provided so that it can be raised and lowered in a direction perpendicular to the mounting surface 11 of the mounting table 10 by a moving mechanism (not shown), and is provided so that it can be moved along the mounting surface 11 in a direction perpendicular to the axis between a position shown by a solid line in FIG. 2 on one end of the mounting table 10 and a position shown by a dashed line in FIG. 2 on the other end. The tape application roller 30, in a lowered state by the moving mechanism, moves along the mounting surface 11 between a position on one end of the mounting table 10 and a position on the other end, thereby applying the adhesive tape 210 to the surface 201 of the wafer 200 held on the mounting table 10.

テープカッター40は、テープ貼着ローラー30が粘着テープ210をウェーハ200に貼着した後に、ウェーハ200の外周である外縁に沿って粘着テープ210を切断するものである。テープカッター40は、載置テーブル10の載置面11の上方に配置されている。 The tape cutter 40 cuts the adhesive tape 210 along the outer edge of the wafer 200 after the tape application roller 30 applies the adhesive tape 210 to the wafer 200. The tape cutter 40 is disposed above the mounting surface 11 of the mounting table 10.

実施形態1において、テープカッター40は、カッター刃41と、カッター刃移動機構42とを備える。カッター刃41は、載置テーブル10の載置面11上に送り出される粘着テープ210の厚みより長い切り刃を下端に有するものである。カッター刃41の切り刃は、載置テーブル10の載置面11に吸引保持されるウェーハ200の外縁と対向する。 In the first embodiment, the tape cutter 40 includes a cutter blade 41 and a cutter blade movement mechanism 42. The cutter blade 41 has a cutting edge at its lower end that is longer than the thickness of the adhesive tape 210 fed onto the mounting surface 11 of the mounting table 10. The cutting edge of the cutter blade 41 faces the outer edge of the wafer 200 that is held by suction on the mounting surface 11 of the mounting table 10.

カッター刃移動機構42は、カッター刃41を載置テーブル10の載置面11に対して直交する方向に昇降するとともに、ウェーハ200の外縁に沿ってカッター刃41を移動させるものである。カッター刃移動機構42は、載置テーブル10の載置面11の中心上に配置されかつ図示しない昇降機構により昇降されるベース43と、ベース43に軸心回りに回転自在に設けられかつ載置テーブル10の載置面11の中心上に配置されているとともに図示しないモータ等の駆動装置により軸心回りに回転される回転軸44と、回転軸44から載置テーブル10の載置面11と平行に載置テーブル10の外縁に向かって延びかつ先端にカッター刃41を支持したアーム45とを備える。 The cutter blade moving mechanism 42 raises and lowers the cutter blade 41 in a direction perpendicular to the mounting surface 11 of the mounting table 10, and moves the cutter blade 41 along the outer edge of the wafer 200. The cutter blade moving mechanism 42 includes a base 43 that is disposed at the center of the mounting surface 11 of the mounting table 10 and is raised and lowered by a lifting mechanism (not shown), a rotating shaft 44 that is rotatably provided on the base 43 around its axis, disposed at the center of the mounting surface 11 of the mounting table 10, and rotated around its axis by a driving device such as a motor (not shown), and an arm 45 that extends from the rotating shaft 44 toward the outer edge of the mounting table 10 in parallel with the mounting surface 11 of the mounting table 10 and supports the cutter blade 41 at its tip.

テープカッター40は、カッター刃移動機構42の昇降機構によりベース43即ちカッター刃41を下降させて、カッター刃41の切り刃をウェーハ200に貼着された粘着テープ210のウェーハ200の外縁の外側に切り込ませる。テープカッター40は、モータ等の駆動装置によりアーム45即ちカッター刃41を回転軸44の軸心回りに回転させて、カッター刃41により粘着テープ210をウェーハ200の外縁に沿って切断する。 The tape cutter 40 lowers the base 43, i.e., the cutter blade 41, by the lifting mechanism of the cutter blade movement mechanism 42, and causes the cutting edge of the cutter blade 41 to cut into the adhesive tape 210 attached to the wafer 200, outside the outer edge of the wafer 200. The tape cutter 40 rotates the arm 45, i.e., the cutter blade 41, around the axis of the rotation shaft 44 by a driving device such as a motor, and the cutter blade 41 cuts the adhesive tape 210 along the outer edge of the wafer 200.

テープ巻き取りローラー50は、テープカッター40によってウェーハ200に貼着された部分が切断された後の粘着テープ210の不要部分(ウェーハ200に貼着されなかった粘着テープ210に相当)を巻き取るものである。なお、粘着テープ210の不要部分は、カッター刃41により切断されるウェーハ200外縁よりも外周側の部分である。 The tape take-up roller 50 takes up the unnecessary portion of the adhesive tape 210 (corresponding to the adhesive tape 210 that was not attached to the wafer 200) after the portion attached to the wafer 200 has been cut off by the tape cutter 40. The unnecessary portion of the adhesive tape 210 is the portion on the outer periphery side of the outer edge of the wafer 200 that is cut off by the cutter blade 41.

テープ巻き取りローラー50は、実施形態1では、水平方向に沿って、テープ送り出しローラー20との間に載置テーブル10を位置付ける位置に配置されている。テープ巻き取りローラー50は、軸心がテープ送り出しローラー20及びテープ貼着ローラー30の軸心と平行な円柱状に形成され、図示しないモータなどの駆動装置により軸心回りに回転されることで、外周面上に粘着テープ210の不要部分を巻き取る。テープ巻き取りローラー50は、外周面上に粘着テープ210の不要部分を巻き取ることで、テープ送り出しローラー20に支持されたテープロール211から粘着テープ210を載置テーブル10の載置面11上に引き出すものである。 In the first embodiment, the tape take-up roller 50 is arranged in a position that positions the mounting table 10 between it and the tape delivery roller 20 along the horizontal direction. The tape take-up roller 50 is formed in a cylindrical shape with its axis parallel to the axis of the tape delivery roller 20 and the tape application roller 30, and is rotated about its axis by a driving device such as a motor (not shown), thereby winding up the unnecessary portion of the adhesive tape 210 on its outer circumferential surface. The tape take-up roller 50 winds up the unnecessary portion of the adhesive tape 210 on its outer circumferential surface, thereby drawing out the adhesive tape 210 from the tape roll 211 supported by the tape delivery roller 20 onto the mounting surface 11 of the mounting table 10.

複数のガイドローラー60は、実施形態1では、2つ設けられ、載置テーブル10の端とテープ巻き取りローラー50との間に配置されているとともに互いに間に粘着テープ210の不要部分を挟み込んで、粘着テープ210をテープ送り出しローラー20からテープ巻き取りローラー50に搬送するとともに、粘着テープ210に弛みが生じることを抑制するために粘着テープ210にテンションを付与するものである。ガイドローラー60は、軸心がテープ送り出しローラー20及びテープ巻き取りローラー50の軸心と平行な円柱状に形成され、かつ軸心回りに回転自在に設けられている。 In the first embodiment, two guide rollers 60 are provided, which are disposed between the end of the mounting table 10 and the tape take-up roller 50, and sandwich unnecessary portions of the adhesive tape 210 between them to transport the adhesive tape 210 from the tape feed roller 20 to the tape take-up roller 50, and also apply tension to the adhesive tape 210 to prevent slack in the adhesive tape 210. The guide rollers 60 are formed in a cylindrical shape with their axis parallel to the axis of the tape feed roller 20 and the tape take-up roller 50, and are provided so as to be freely rotatable about their axis.

制御ユニット100は、テープ貼り機1の上述した各構成要素をそれぞれ制御して、ウェーハ200に粘着テープ210を貼着する貼着動作をテープ貼り機1に実施させるものである。制御ユニット100は、CPU(central processing unit)のようなマイクロプロセッサを有する演算処理装置と、ROM(read only memory)又はRAM(random access memory)のようなメモリを有する記憶装置と、入出力インターフェース装置とを有するコンピュータである。制御ユニット100の演算処理装置は、記憶装置に記憶されているコンピュータプログラムに従って演算処理を実施して、テープ貼り機1を制御するための制御信号を、入出力インターフェース装置を介してテープ貼り機1の上述した各ユニットに出力する。 The control unit 100 controls each of the above-mentioned components of the tape applicator 1, causing the tape applicator 1 to perform the application operation of applying the adhesive tape 210 to the wafer 200. The control unit 100 is a computer having an arithmetic processing device having a microprocessor such as a CPU (central processing unit), a storage device having a memory such as a ROM (read only memory) or a RAM (random access memory), and an input/output interface device. The arithmetic processing device of the control unit 100 performs arithmetic processing according to a computer program stored in the storage device, and outputs control signals for controlling the tape applicator 1 to each of the above-mentioned units of the tape applicator 1 via the input/output interface device.

また、制御ユニット100は、貼着動作の状態や画像などを表示する表示ユニットと、オペレータがテープ貼り機1の制御ユニット100に情報などを入力する際に用いる入力ユニットと、音と光のうち少なくとも一方を発してオペレータに報知する報知ユニットとが接続されている。 The control unit 100 is also connected to a display unit that displays the status and images of the tape application operation, an input unit that the operator uses to input information to the control unit 100 of the tape application machine 1, and an alarm unit that emits at least one of sound and light to alert the operator.

(テープ貼り機の清掃方法)
次に、実施形態1に係るテープ貼り機の清掃方法を説明する。実施形態1に係るテープ貼り機の清掃方法は、前述した構成のテープ貼り機1がウェーハ200の表面201に粘着テープ210を貼着する貼着動作でもある。実施形態1に係るテープ貼り機の清掃方法は、図4に示すように、異物除去ステップ302と、テープ貼着ステップ303と、テープ切断ステップ304とを実施する。
(How to clean the taping machine)
Next, a description will be given of a method for cleaning the tape applicator according to the embodiment 1. The method for cleaning the tape applicator according to the embodiment 1 is also an application operation in which the tape applicator 1 having the above-mentioned configuration applies the adhesive tape 210 to the front surface 201 of the wafer 200. As shown in Fig. 4, the method for cleaning the tape applicator according to the embodiment 1 performs a foreign matter removing step 302, a tape application step 303, and a tape cutting step 304.

テープ貼り機1は、オペレータ等が入力した貼着動作の条件を制御ユニット100が受け付け、制御ユニット100がオペレータ等からの貼着動作の開始指示を受け付けると、貼着動作を開始する。貼着動作を開始すると、テープ貼り機1は、制御ユニット100が所定のタイミングであるか否かを判定する(ステップ301)。なお、所定のタイミングは、載置テーブル10の載置面11から粘着テープ210の切り屑等の異物を除去するタイミングであり、例えば、所定枚数のウェーハ200に粘着テープ210を貼着する毎、テープ貼着ステップ303の実施前、テープ切断ステップ304の実施後等である。テープ貼り機1は、制御ユニット100が所定のタイミングであると判定する(ステップ301:Yes)と、異物除去ステップ302を実施する。 When the control unit 100 of the tape applicator 1 receives the conditions of the application operation input by the operator or the like, and the control unit 100 receives an instruction to start the application operation from the operator or the like, the tape applicator 1 starts the application operation. When the application operation starts, the control unit 100 of the tape applicator 1 judges whether it is a predetermined timing or not (step 301). The predetermined timing is the timing to remove foreign matter such as scraps of the adhesive tape 210 from the mounting surface 11 of the mounting table 10, for example, every time the adhesive tape 210 is applied to a predetermined number of wafers 200, before the tape application step 303 is performed, after the tape cutting step 304 is performed, etc. When the control unit 100 of the tape applicator 1 judges that it is a predetermined timing (step 301: Yes), the tape applicator 1 performs the foreign matter removal step 302.

(異物除去ステップ)
図5は、図4に示されたテープ貼り機の製造方法の異物除去ステップを模式的に示す側面図である。異物除去ステップ302は、テープ貼着ステップ303の前又はテープ切断ステップ304の後に、テープ貼着ローラー30で粘着テープ210を載置面11に貼着して載置面11に付着した異物を除去するステップである。
(Foreign matter removal step)
Fig. 5 is a side view showing a schematic diagram of a foreign matter removing step in the method for manufacturing the tape applicator shown in Fig. 4. The foreign matter removing step 302 is a step of removing foreign matter attached to the support surface 11 by applying the adhesive tape 210 to the support surface 11 with the tape application roller 30 before the tape application step 303 or after the tape cutting step 304.

実施形態1において、異物除去ステップ302では、テープ貼り機1は、載置テーブル10の載置面11にウェーハ200が載置されていない状態で、テープ送り出しローラー20からテープロール211の粘着テープ210を載置テーブル10の載置面11上に送り出し、粘着テープ210の粘着層を載置テーブル10の載置面11に相対させる。実施形態1において、異物除去ステップ302では、テープ貼り機1は、図5に示すように、テープ貼着ローラー30を下降させて、粘着テープ210の粘着層を載置テーブル10の載置面11に押圧し、テープ貼着ローラー30を載置面11に沿って図5に実線で示す位置から破線で示す位置に向かって移動させる。すると、載置面11に付着した異物が、粘着テープ210の粘着層に貼着する。 In the first embodiment, in the foreign matter removal step 302, the tape applicator 1, with the wafer 200 not placed on the mounting surface 11 of the mounting table 10, sends out the adhesive tape 210 of the tape roll 211 from the tape feed roller 20 onto the mounting surface 11 of the mounting table 10, and makes the adhesive layer of the adhesive tape 210 face the mounting surface 11 of the mounting table 10. In the first embodiment, in the foreign matter removal step 302, as shown in FIG. 5, the tape applicator 1 lowers the tape application roller 30 to press the adhesive layer of the adhesive tape 210 against the mounting surface 11 of the mounting table 10, and moves the tape application roller 30 along the mounting surface 11 from the position shown by the solid line in FIG. 5 to the position shown by the dashed line. Then, the foreign matter attached to the mounting surface 11 is adhered to the adhesive layer of the adhesive tape 210.

実施形態1において、異物除去ステップ302では、テープ貼り機1は、テープ貼着ローラー30を上昇させる。すると、載置面11が前述した樹脂で被覆されているため、粘着テープ210が載置面11から剥がれるとともに、粘着テープ210に貼着した異物が載置面11から除去される。実施形態1において、異物除去ステップ302では、テープ貼り機1は、1枚のウェーハ200の外径以上の長さの粘着テープ210をテープ巻き取りローラー50に巻き取って、粘着テープ210の載置面11に押圧された箇所を載置面11上から退避させる。 In the first embodiment, in the foreign matter removal step 302, the tape applicator 1 raises the tape application roller 30. Then, since the mounting surface 11 is coated with the resin described above, the adhesive tape 210 is peeled off from the mounting surface 11, and the foreign matter attached to the adhesive tape 210 is removed from the mounting surface 11. In the first embodiment, in the foreign matter removal step 302, the tape applicator 1 winds up the adhesive tape 210, the length of which is equal to or greater than the outer diameter of one wafer 200, onto the tape winding roller 50, and moves the portion of the adhesive tape 210 pressed against the mounting surface 11 away from the mounting surface 11.

(テープ貼着ステップ)
図6は、図4に示されたテープ貼り機の製造方法のテープ貼着ステップを模式的に示す側面図である。テープ貼着ステップ303は、載置面11に載置されたウェーハ200にテープ貼着ローラー30で粘着テープ210を貼着するステップである。実施形態1において、テープ貼り機1は、制御ユニット100が所定のタイミングではないと判定する(ステップ301:No)、又は異物除去ステップ302実施後、テープ貼着ステップ303を実施する。テープ貼着ステップ303では、テープ貼り機1は、図示しない搬送ユニットによりウェーハ200の裏面204が載置テーブル10の載置面11上に載置され、載置面11にウェーハ200の裏面204を吸引保持する。
(Tape application step)
6 is a side view showing a schematic diagram of a tape application step of the manufacturing method of the taping machine shown in FIG. 4. The tape application step 303 is a step of applying an adhesive tape 210 to the wafer 200 placed on the placement surface 11 by the tape application roller 30. In the first embodiment, the taping machine 1 performs the tape application step 303 when the control unit 100 judges that it is not the predetermined timing (step 301: No) or after performing the foreign matter removal step 302. In the tape application step 303, the back surface 204 of the wafer 200 is placed on the placement surface 11 of the placement table 10 by a conveying unit (not shown), and the back surface 204 of the wafer 200 is suction-held on the placement surface 11.

実施形態1において、テープ貼着ステップ303では、テープ貼り機1は、図6に示すように、テープ貼着ローラー30を下降させて、粘着テープ210の粘着層を載置テーブル10の載置面11に保持されたウェーハ200の表面201に押圧し、テープ貼着ローラー30を載置面11に沿って図6に実線で示す位置から破線で示す位置に向かって移動させて、粘着テープ210をウェーハ200の表面201に貼着する。テープ貼り機1は、テープ貼着ローラー30を上昇させて、テープ貼着ローラー30を載置面11上から退避させる。 In the first embodiment, in the tape application step 303, as shown in FIG. 6, the tape application machine 1 lowers the tape application roller 30 to press the adhesive layer of the adhesive tape 210 against the surface 201 of the wafer 200 held on the mounting surface 11 of the mounting table 10, and moves the tape application roller 30 along the mounting surface 11 from the position shown by the solid line in FIG. 6 to the position shown by the dashed line to apply the adhesive tape 210 to the surface 201 of the wafer 200. The tape application machine 1 raises the tape application roller 30 to move the tape application roller 30 away from the mounting surface 11.

(テープ切断ステップ)
図7は、図4に示されたテープ貼り機の製造方法のテープ切断ステップを模式的に示す側面図である。テープ切断ステップ304は、テープ貼着ステップ303の後にテープカッター40でウェーハ200の外縁に沿って粘着テープ210を切断するステップである。
(Tape cutting step)
Fig. 7 is a side view showing a tape cutting step of the method for manufacturing the tape applicator shown in Fig. 4. The tape cutting step 304 is a step of cutting the adhesive tape 210 along the outer edge of the wafer 200 with the tape cutter 40 after the tape application step 303.

実施形態1において、テープ切断ステップ304では、テープ貼り機1は、図7に示すように、カッター刃41を下降させて、カッター刃41を粘着テープ210のウェーハ200の外縁の外側に切り込ませる。実施形態1において、テープ切断ステップ304では、テープ貼り機1は、カッター刃移動機構42にカッター刃41を回転軸44の軸心回りに360度以上回転させて、カッター刃41の切り刃を粘着テープ210のウェーハ200の外縁の外側に切り込ませながらウェーハ200の外縁に沿って粘着テープ210を切断する。 In embodiment 1, in the tape cutting step 304, the tape applicator 1 lowers the cutter blade 41 as shown in FIG. 7, and causes the cutter blade 41 to cut into the outer side of the outer edge of the wafer 200 of the adhesive tape 210. In embodiment 1, in the tape cutting step 304, the tape applicator 1 causes the cutter blade moving mechanism 42 to rotate the cutter blade 41 360 degrees or more around the axis of the rotation shaft 44, and cuts the adhesive tape 210 along the outer edge of the wafer 200 while causing the cutting edge of the cutter blade 41 to cut into the outer side of the outer edge of the wafer 200 of the adhesive tape 210.

実施形態1において、テープ切断ステップ304では、テープ貼り機1は、粘着テープ210を切断した後、テープカッター40を上昇させてからテープ巻き取りローラー50で1枚のウェーハ200に貼着する分の粘着テープ210を巻き取って、粘着テープ210をウェーハ200の1枚分移動させる。実施形態1において、テープ切断ステップ304では、テープ貼り機1は、載置テーブル10の載置面11の吸引保持を解除して、搬送ユニットにより載置面11上のウェーハ200が搬出されて、粘着テープ210の貼着動作即ち実施形態1に係るテープ貼り機の清掃方法を終了する。 In the first embodiment, in the tape cutting step 304, the tape applicator 1 cuts the adhesive tape 210, then raises the tape cutter 40, winds up the amount of adhesive tape 210 to be applied to one wafer 200 with the tape winding roller 50, and moves the adhesive tape 210 by one wafer 200. In the first embodiment, in the tape cutting step 304, the tape applicator 1 releases the suction hold of the mounting surface 11 of the mounting table 10, and the wafer 200 on the mounting surface 11 is transported out by the transport unit, completing the application operation of the adhesive tape 210, i.e., the cleaning method of the tape applicator according to the first embodiment.

以上説明した実施形態1に係るテープ貼り機の清掃方法は、テープ貼着ステップ303の前後で、異物除去ステップ302において、ウェーハ200に貼着する粘着テープ210を載置テーブル10の載置面11に押圧して、載置テーブル10に付着した異物を除去する。 The cleaning method for the tape applicator according to the first embodiment described above involves, before or after the tape application step 303, in the foreign matter removal step 302, pressing the adhesive tape 210 to be applied to the wafer 200 against the mounting surface 11 of the mounting table 10 to remove any foreign matter adhering to the mounting table 10.

その結果、実施形態1に係るテープ貼り機の清掃方法は、載置テーブル10の載置面11を簡易的に清掃が可能となるとともに、載置テーブル10に付着する切り屑等の異物を抑制することができるという効果を奏する。 As a result, the method for cleaning the tape applicator according to embodiment 1 has the effect of easily cleaning the mounting surface 11 of the mounting table 10 and suppressing foreign matter such as cuttings from adhering to the mounting table 10.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。なお、本発明では、異物除去ステップ302をテープ切断ステップ304の後に実施しても良い。また、本発明では、異物除去ステップ302をテープ貼着ステップ303の前とテープ切断ステップ304の後に実施しても良い。 The present invention is not limited to the above embodiment. In other words, various modifications can be made without departing from the gist of the present invention. In the present invention, the foreign matter removal step 302 may be performed after the tape cutting step 304. In addition, in the present invention, the foreign matter removal step 302 may be performed before the tape application step 303 and after the tape cutting step 304.

1 テープ貼り機
10 載置テーブル
11載置面
20 テープ送り出しローラー(テープ送り出し手段)
30 テープ貼着ローラー
40 テープカッター
50 テープ巻き取りローラー(テープ巻き取り手段)
200 ウェーハ
210 粘着テープ
302 異物除去ステップ
303 テープ貼着ステップ
304 テープ切断ステップ
1 Tape applicator 10 Placement table 11 Placement surface 20 Tape delivery roller (tape delivery means)
30 Tape application roller 40 Tape cutter 50 Tape winding roller (tape winding means)
200 Wafer 210 Adhesive tape 302 Foreign matter removing step 303 Tape sticking step 304 Tape cutting step

Claims (2)

ウェーハを載置する載置面を有する載置テーブルと、
ロール状の粘着テープが装着されるテープ送り出し手段と、
該ウェーハに該粘着テープを貼着するテープ貼着ローラーと、
該ウェーハの外周に沿って該粘着テープを切断するテープカッターと、
該ウェーハに貼着されなかった該粘着テープを巻き取るテープ巻き取り手段と、
を備えるテープ貼り機において、
該載置面に載置された該ウェーハに該テープ貼着ローラーで該粘着テープを貼着するテープ貼着ステップと、
該テープ貼着ステップの後に該テープカッターで該ウェーハの外周に沿って該粘着テープを切断するテープ切断ステップと、
該テープ貼着ステップの前又は該テープ切断ステップの後に、該テープ貼着ローラーで該粘着テープを該載置面に貼着して該載置面に付着した異物を除去する異物除去ステップと、
を実施することを特徴とする、テープ貼り機の清掃方法。
a mounting table having a mounting surface on which a wafer is placed;
a tape delivery means on which a roll of adhesive tape is attached;
a tape application roller for applying the adhesive tape to the wafer;
a tape cutter for cutting the adhesive tape along the outer periphery of the wafer;
a tape winding means for winding up the adhesive tape that has not been adhered to the wafer;
A taping machine comprising:
a tape application step of applying the adhesive tape to the wafer placed on the placement surface by the tape application roller;
a tape cutting step of cutting the adhesive tape along the outer periphery of the wafer with the tape cutter after the tape application step;
a foreign matter removing step of removing foreign matter attached to the mounting surface by applying the adhesive tape to the mounting surface with the tape application roller before the tape application step or after the tape cutting step;
A method for cleaning a tape applicator, comprising carrying out the steps of:
該載置テーブルの載置面は樹脂で被覆されていることを特徴とする請求項1に記載のテープ貼り機の清掃方法。 The method for cleaning a tape applicator according to claim 1, characterized in that the mounting surface of the mounting table is covered with resin.
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