JP2024074234A - Light-emitting device, display device, photoelectric conversion device, electronic device, lighting device, and mobile object - Google Patents

Light-emitting device, display device, photoelectric conversion device, electronic device, lighting device, and mobile object Download PDF

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Abstract

【課題】輝度信号を保持するための容量素子の容量値を大きくする。【解決手段】発光装置であって、発光素子と、主端子と、発光素子の輝度を制御する第1信号を受けるための制御端子と、を有しており、主端子と制御端子との間の電圧に応じた電流を発光素子に供給するための第1トランジスタと、第1電極及び第2電極によって構成される第1容量素子と、第3電極及び第4電極によって構成される第2容量素子と、を備え、第1電極は、第1トランジスタの制御端子に電気的に接続され、第2電極及び第3電極のそれぞれは、第1トランジスタの主端子に電気的に接続され、第4電極は、電源線に電気的に接続され、第2電極は、第1電極の側の面に、第1電極に対向する第1部分を含み、第3電極は、第2電極の第1部分までの最短距離よりも、第1電極までの最短距離の方が短い第2部分を含む、発光装置が提供される。【選択図】図5[Problem] To increase the capacitance value of a capacitance element for holding a luminance signal. [Solution] A light-emitting device is provided, the light-emitting device having a light-emitting element, a main terminal, and a control terminal for receiving a first signal for controlling the luminance of the light-emitting element, the light-emitting device including a first transistor for supplying a current to the light-emitting element according to a voltage between the main terminal and the control terminal, a first capacitance element formed of a first electrode and a second electrode, and a second capacitance element formed of a third electrode and a fourth electrode, the first electrode being electrically connected to the control terminal of the first transistor, the second electrode and the third electrode being electrically connected to the main terminal of the first transistor, the fourth electrode being electrically connected to a power supply line, the second electrode including a first portion facing the first electrode on a surface on the first electrode side, and the third electrode including a second portion whose shortest distance to the first electrode is shorter than the shortest distance to the first portion of the second electrode. [Selected Figure] Figure 5

Description

本発明は、発光装置、表示装置、光電変換装置、電子機器、照明装置及び移動体に関する。 The present invention relates to a light-emitting device, a display device, a photoelectric conversion device, an electronic device, a lighting device, and a mobile object.

特許文献1に記載される発光装置は、発光素子に供給される電流の大きさを制御するための駆動トランジスタと、発光素子による発光及び非発光を制御するための発光制御トランジスタとを備える。駆動トランジスタのゲート電極に輝度信号が供給される。この発光装置は、輝度信号を保持するための容量素子と、この容量素子に接続された別の容量素子とをさらに備える。 The light-emitting device described in Patent Document 1 includes a drive transistor for controlling the magnitude of the current supplied to the light-emitting element, and a light-emitting control transistor for controlling whether the light-emitting element emits light or not. A luminance signal is supplied to the gate electrode of the drive transistor. This light-emitting device further includes a capacitive element for holding the luminance signal, and another capacitive element connected to the capacitive element.

特開2020-76841号公報JP 2020-76841 A

輝度信号を保持している容量素子にリーク電流が流れ込むと、輝度信号の値が変化してしまう。リーク電流に起因する輝度信号の変化は、輝度信号を保持する容量素子の容量値が大きいほど少なくなる。本発明の一部の側面は、輝度信号を保持するための容量素子の容量値を大きくする技術を提供することを目的とする。 When a leakage current flows into a capacitive element that holds a luminance signal, the value of the luminance signal changes. The change in the luminance signal caused by the leakage current is smaller as the capacitance value of the capacitive element that holds the luminance signal increases. One aspect of the present invention aims to provide a technology for increasing the capacitance value of the capacitive element that holds the luminance signal.

一部の実施形態によれば、発光装置であって、発光素子と、主端子と、前記発光素子の輝度を制御する第1信号を受けるための制御端子と、を有しており、前記主端子と前記制御端子との間の電圧に応じた電流を前記発光素子に供給するための第1トランジスタと、第1電極及び第2電極によって構成される第1容量素子と、第3電極及び第4電極によって構成される第2容量素子と、を備え、前記第1電極は、前記第1トランジスタの前記制御端子に電気的に接続され、前記第2電極及び前記第3電極のそれぞれは、前記第1トランジスタの前記主端子に電気的に接続され、前記第4電極は、電源線に電気的に接続され、前記第2電極は、前記第1電極の側の面に、前記第1電極に対向する第1部分を含み、前記第3電極は、前記第2電極の前記第1部分までの最短距離よりも、前記第1電極までの最短距離の方が短い第2部分を含む、発光装置が提供される。 According to some embodiments, a light-emitting device is provided, the light-emitting device having a light-emitting element, a main terminal, and a control terminal for receiving a first signal that controls the luminance of the light-emitting element, the light-emitting device being provided with a first transistor for supplying a current to the light-emitting element according to a voltage between the main terminal and the control terminal, a first capacitance element formed of a first electrode and a second electrode, and a second capacitance element formed of a third electrode and a fourth electrode, the first electrode being electrically connected to the control terminal of the first transistor, the second electrode and the third electrode being electrically connected to the main terminal of the first transistor, the fourth electrode being electrically connected to a power supply line, the second electrode including a first portion facing the first electrode on a surface on the side of the first electrode, and the third electrode including a second portion whose shortest distance to the first electrode is shorter than the shortest distance to the first portion of the second electrode.

一部の実施形態によれば、輝度信号を保持するための容量素子の容量値が大きくなる。 In some embodiments, the capacitance of the capacitive element for holding the luminance signal is increased.

第1実施形態に係る発光装置の全体構成例を説明するブロック図。1 is a block diagram illustrating an example of the overall configuration of a light emitting device according to a first embodiment. 第1実施形態に係る発光装置の画素の構成例を説明する等価回路図。FIG. 2 is an equivalent circuit diagram illustrating an example of the configuration of a pixel of the light emitting device according to the first embodiment. 第1実施形態に係る発光装置の画素の構成例を説明する断面模式図。2 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of the configuration of a pixel of the light-emitting device according to the first embodiment. FIG. 第1実施形態に係る発光装置の画素の構成例を説明する平面模式図。FIG. 2 is a schematic plan view illustrating an example of the configuration of a pixel of the light emitting device according to the first embodiment. 第1実施形態に係る発光装置の画素の電極の配置例を説明する断面模式図。3 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of an arrangement of electrodes of a pixel of the light-emitting device according to the first embodiment. FIG. 第2実施形態に係る発光装置の画素の構成例を説明する断面模式図。FIG. 11 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of the configuration of a pixel of a light-emitting device according to a second embodiment. 第3実施形態に係る発光装置の画素の構成例を説明する断面模式図。FIG. 13 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of the configuration of a pixel of a light-emitting device according to a third embodiment. 第4実施形態に係る発光装置の全体構成例を説明するブロック図。FIG. 13 is a block diagram illustrating an example of the overall configuration of a light emitting device according to a fourth embodiment. 第4実施形態に係る発光装置の画素の構成例を説明する等価回路図。FIG. 13 is an equivalent circuit diagram illustrating an example of the configuration of a pixel of a light emitting device according to a fourth embodiment. 第4実施形態に係る発光装置の画素の構成例を説明する断面模式図。FIG. 13 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of the configuration of a pixel of a light-emitting device according to a fourth embodiment. 上記実施形態の発光装置を用いた表示装置の一例を示す図。FIG. 13 is a diagram showing an example of a display device using the light-emitting device according to the embodiment. 上記実施形態の発光装置を用いた表示装置の一例を示す図。FIG. 13 is a diagram showing an example of a display device using the light-emitting device according to the embodiment. 上記実施形態の発光装置を用いた光電変換装置及び電子機器の一例を示す図。1A to 1C are diagrams illustrating examples of a photoelectric conversion device and an electronic device using the light-emitting device according to the embodiment. 上記実施形態の発光装置を用いた表示装置の一例を示す図。FIG. 13 is a diagram showing an example of a display device using the light-emitting device according to the embodiment. 上記実施形態の発光装置を用いた照明装置及び移動体の一例を示す図。1A and 1B are diagrams illustrating an example of a lighting device and a moving object using the light-emitting device according to the embodiment. 上記実施形態の発光装置を用いたウェアラブルデバイスの一例を示す図。FIG. 13 is a diagram showing an example of a wearable device using the light emitting device of the embodiment.

以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。 The following embodiments are described in detail with reference to the attached drawings. Note that the following embodiments do not limit the invention according to the claims. Although the embodiments describe multiple features, not all of these multiple features are necessarily essential to the invention, and multiple features may be combined in any manner. Furthermore, in the attached drawings, the same reference numbers are used for the same or similar configurations, and duplicate explanations are omitted.

<第1実施形態>
図1を参照して、第1実施形態に係る発光装置101の全体構成例について説明する。発光装置101は、画素アレイ部103と、画素アレイ部103の周辺に配置される駆動部と、を含む。画素アレイ部103は、アレイ状に配された複数の画素102を含む。それぞれの画素102は、発光素子201(図2で後述)を備える。発光素子201は、陽極と陰極とを備える。発光素子201は、陽極と陰極との間に有機層を有する。有機層は、発光層を含む。有機層は、発光層以外に、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層及び電子輸送層のうちの1つ以上を有してもよい。
First Embodiment
An example of the overall configuration of a light-emitting device 101 according to the first embodiment will be described with reference to FIG. 1. The light-emitting device 101 includes a pixel array section 103 and a driving section arranged around the pixel array section 103. The pixel array section 103 includes a plurality of pixels 102 arranged in an array. Each pixel 102 includes a light-emitting element 201 (described later in FIG. 2). The light-emitting element 201 includes an anode and a cathode. The light-emitting element 201 includes an organic layer between the anode and the cathode. The organic layer includes a light-emitting layer. The organic layer may include one or more of a hole injection layer, a hole transport layer, an electron injection layer, and an electron transport layer in addition to the light-emitting layer.

駆動部は、画素アレイ部103に配された画素102を駆動するための回路である。駆動部は、例えば、垂直走査回路104及び信号出力回路105を含む。駆動部からの信号を画素102に供給するために、画素アレイ部103には、複数の走査線106、複数の走査線107及び複数の信号線108が配されている。複数の走査線106のそれぞれは、行方向(図1において横方向)に延在する。複数の走査線106は、画素アレイ部103の複数の画素行に1対1に対応してもよい。複数の走査線107のそれぞれは、行方向に延在する。複数の走査線107は、画素アレイ部103の複数の画素行に1対1に対応してもよい。複数の信号線108のそれぞれは、列方向(図1において縦方向)に延在する。複数の信号線108は、画素アレイ部103の複数の画素列に1対1に対応してもよい。 The driving unit is a circuit for driving the pixels 102 arranged in the pixel array unit 103. The driving unit includes, for example, a vertical scanning circuit 104 and a signal output circuit 105. In order to supply signals from the driving unit to the pixels 102, the pixel array unit 103 is provided with a plurality of scanning lines 106, a plurality of scanning lines 107, and a plurality of signal lines 108. Each of the plurality of scanning lines 106 extends in the row direction (horizontal direction in FIG. 1). The plurality of scanning lines 106 may correspond one-to-one to the plurality of pixel rows of the pixel array unit 103. Each of the plurality of scanning lines 107 extends in the row direction. The plurality of scanning lines 107 may correspond one-to-one to the plurality of pixel rows of the pixel array unit 103. Each of the plurality of signal lines 108 extends in the column direction (vertical direction in FIG. 1). The plurality of signal lines 108 may correspond one-to-one to the plurality of pixel columns of the pixel array unit 103.

垂直走査回路104は、画素行ごとに、走査線106に接続される出力端子と、走査線107に接続される出力端子とを有する。信号出力回路105は、画素列ごとに、信号線108に接続される出力端子を有する。 The vertical scanning circuit 104 has an output terminal connected to the scanning line 106 and an output terminal connected to the scanning line 107 for each pixel row. The signal output circuit 105 has an output terminal connected to the signal line 108 for each pixel column.

垂直走査回路104は、画素アレイ部103のそれぞれの画素102に輝度信号を書き込むために、走査線106を通じて画素102に書込制御信号を供給する。輝度信号とは、発光素子201の輝度を制御する信号である。発光装置101が表示装置に使用される場合に、輝度信号は、映像信号と呼ばれてもよい。書込制御信号とは、画素102への輝度信号の書き込みを制御する信号である。垂直走査回路104は、走査線107を通じて画素102に発光制御信号を供給する。発光制御信号とは、画素102(具体的にはその発光素子201)の発光又は非発光を制御する信号である。信号出力回路105は、上述の輝度信号と、基準電圧を有する基準電圧信号と、の何れか一方を選択し、選択した信号を、信号線108を通じて画素102に供給する。 The vertical scanning circuit 104 supplies a write control signal to the pixel 102 through the scanning line 106 in order to write a luminance signal to each pixel 102 of the pixel array unit 103. The luminance signal is a signal that controls the luminance of the light-emitting element 201. When the light-emitting device 101 is used in a display device, the luminance signal may be called a video signal. The write control signal is a signal that controls the writing of the luminance signal to the pixel 102. The vertical scanning circuit 104 supplies a light-emitting control signal to the pixel 102 through the scanning line 107. The light-emitting control signal is a signal that controls the light emission or non-emission of the pixel 102 (specifically, the light-emitting element 201). The signal output circuit 105 selects either the above-mentioned luminance signal or a reference voltage signal having a reference voltage, and supplies the selected signal to the pixel 102 through the signal line 108.

図2を参照して、画素102の回路構成例について説明する。複数の画素102のそれぞれは、発光素子201と、駆動トランジスタ202と、書込制御トランジスタ203と、発光制御トランジスタ204と、容量素子205と、容量素子206とを含む。以下の説明では、発光素子201の陽極に駆動トランジスタ202が接続され、画素102に含まれるすべてのトランジスタがP型であるとする。しかし、画素102の構成はこれに限られない。例えば、発光素子201の極性や画素102のすべてのトランジスタの導電型が図2の例とは逆であってもよい。さらに、駆動トランジスタ202がP型であり、他のトランジスタがN型であってもよい。発光素子201やトランジスタの導電型や極性にあわせて、供給される電位や接続が変更される。また、画素102に含まれるトランジスタや容量素子の個数も図2の例に限られない。 An example of the circuit configuration of the pixel 102 will be described with reference to FIG. 2. Each of the multiple pixels 102 includes a light-emitting element 201, a driving transistor 202, a writing control transistor 203, a light-emitting control transistor 204, a capacitance element 205, and a capacitance element 206. In the following description, the driving transistor 202 is connected to the anode of the light-emitting element 201, and all the transistors included in the pixel 102 are P-type. However, the configuration of the pixel 102 is not limited to this. For example, the polarity of the light-emitting element 201 and the conductivity type of all the transistors in the pixel 102 may be reversed from the example in FIG. 2. Furthermore, the driving transistor 202 may be P-type and the other transistors may be N-type. The supplied potential and connection are changed according to the conductivity type and polarity of the light-emitting element 201 and the transistors. Furthermore, the number of transistors and capacitance elements included in the pixel 102 is not limited to the example in FIG. 2.

以下の説明において、各トランジスタは、制御端子と、2つの主端子とを有する。制御端子はゲートであってもよく、2つの主端子はソース及びドレインであってもよい。素子Aと素子Bとの間にトランジスタが接続されると表現する場合に、素子Aにトランジスタの主端子の一方が電気的に接続され、素子Bにトランジスタの主端子の他方が電気的に接続されることを意味する。図2の回路図の説明において、「電気的に接続する」を単に「接続する」と表す。 In the following description, each transistor has a control terminal and two main terminals. The control terminal may be a gate, and the two main terminals may be a source and a drain. When a transistor is said to be connected between element A and element B, it means that one of the main terminals of the transistor is electrically connected to element A, and the other main terminal of the transistor is electrically connected to element B. In the description of the circuit diagram in Figure 2, "electrically connect" is simply expressed as "connect."

発光素子201は、供給された電流に応じた輝度で発光する。発光素子201には、有機EL(Organic Electroluminescent)素子が用いられうる。発光素子201に供給された電流によって、発光素子201の陽極と陰極との容量が所定の電位まで充電され、この電位差に応じた電流が発光素子201に流れる。これによって、発光素子201が指定の輝度で発光する。 The light-emitting element 201 emits light at a luminance corresponding to the current supplied thereto. An organic electroluminescent (EL) element may be used for the light-emitting element 201. The current supplied to the light-emitting element 201 charges the capacitance of the anode and cathode of the light-emitting element 201 to a predetermined potential, and a current corresponding to this potential difference flows through the light-emitting element 201. This causes the light-emitting element 201 to emit light at a specified luminance.

駆動トランジスタ202は、輝度信号に応じた電流を発光素子201に供給する。具体的に、駆動トランジスタ202の制御端子は、輝度信号を受ける。駆動トランジスタ202は、一方の主端子(例えば、ソース)と制御端子との間の電圧に応じた電流を発光素子201に供給する。 The driving transistor 202 supplies a current corresponding to the luminance signal to the light-emitting element 201. Specifically, the control terminal of the driving transistor 202 receives the luminance signal. The driving transistor 202 supplies a current corresponding to the voltage between one main terminal (e.g., a source) and the control terminal to the light-emitting element 201.

発光制御トランジスタ204は、発光制御信号に従って発光素子201の発光又は非発光を制御する。具体的に、発光制御トランジスタ204の制御端子は、発光制御信号を受ける。発光制御トランジスタ204は、発光制御信号の値に従って、導通状態又は非導通状態の何れかとなる。 The light emission control transistor 204 controls whether the light emitting element 201 emits light or not in accordance with the light emission control signal. Specifically, the control terminal of the light emission control transistor 204 receives the light emission control signal. The light emission control transistor 204 is in either a conductive state or a non-conductive state in accordance with the value of the light emission control signal.

図2に示される構成において、発光素子201、駆動トランジスタ202及び発光制御トランジスタ204は、電源線207と電源線208とを接続する電流経路上に配置される。電源線207は、電源電圧Vddを供給する。電源線208は、電源電圧Vssを供給する。電源電圧Vddは、電源電圧Vssよりも高い。 In the configuration shown in FIG. 2, the light-emitting element 201, the drive transistor 202, and the light-emitting control transistor 204 are arranged on a current path that connects the power supply line 207 and the power supply line 208. The power supply line 207 supplies a power supply voltage Vdd. The power supply line 208 supplies a power supply voltage Vss. The power supply voltage Vdd is higher than the power supply voltage Vss.

図2の例では、発光素子201の陰極は、電源線208に接続されている。発光素子201の陽極は、駆動トランジスタ202の一方の主端子(例えば、ドレイン)に接続されている。駆動トランジスタ202の他方の主端子(例えば、ソース)は、発光制御トランジスタ204の一方の主端子(例えば、ドレイン)に接続されている。発光制御トランジスタ204の他方の主端子(例えば、ソース)は、電源線207に接続されている。発光制御トランジスタ204の制御端子は、走査線107に接続されている。 In the example of FIG. 2, the cathode of the light-emitting element 201 is connected to a power line 208. The anode of the light-emitting element 201 is connected to one main terminal (e.g., drain) of the drive transistor 202. The other main terminal (e.g., source) of the drive transistor 202 is connected to one main terminal (e.g., drain) of the light-emitting control transistor 204. The other main terminal (e.g., source) of the light-emitting control transistor 204 is connected to a power line 207. The control terminal of the light-emitting control transistor 204 is connected to the scanning line 107.

図2の構成に代えて、電源線208と発光素子201との間や、電源線207と発光制御トランジスタ204との間の経路上に、他の素子が配されていてもよい。また、発光素子201と駆動トランジスタ202との間や、駆動トランジスタ202と発光制御トランジスタ204との間の経路上に、他の素子が配されていてもよい。また、発光制御トランジスタ204は、駆動トランジスタ202と電源線207との間ではなく、発光素子201と駆動トランジスタ202との間の経路上に配されていてもよい。 Instead of the configuration of FIG. 2, other elements may be arranged on the path between the power line 208 and the light-emitting element 201, or between the power line 207 and the light-emitting control transistor 204. Also, other elements may be arranged on the path between the light-emitting element 201 and the drive transistor 202, or between the drive transistor 202 and the light-emitting control transistor 204. Also, the light-emitting control transistor 204 may be arranged on the path between the light-emitting element 201 and the drive transistor 202, rather than between the drive transistor 202 and the power line 207.

書込制御トランジスタ203は、駆動トランジスタ202の制御端子への輝度信号の供給を制御する。具体的に、書込制御トランジスタ203の制御端子は、書込制御信号を受ける。書込制御トランジスタ203は、書込制御信号の値に従って、導通状態又は非導通状態の何れかとなる。書込制御トランジスタ203が導通状態である間に、信号線108からの輝度信号又は基準電圧信号が駆動トランジスタ202の制御端子に供給される。書込制御トランジスタ203が非導通状態である間に、信号線108からの信号は駆動トランジスタ202の制御端子に供給されない。 The write control transistor 203 controls the supply of a luminance signal to the control terminal of the drive transistor 202. Specifically, the control terminal of the write control transistor 203 receives a write control signal. The write control transistor 203 is either conductive or non-conductive according to the value of the write control signal. While the write control transistor 203 is conductive, the luminance signal or the reference voltage signal from the signal line 108 is supplied to the control terminal of the drive transistor 202. While the write control transistor 203 is non-conductive, the signal from the signal line 108 is not supplied to the control terminal of the drive transistor 202.

書込制御トランジスタ203は、信号線108と駆動トランジスタ202の制御端子との間の経路上に接続されている。具体的に、書込制御トランジスタ203の一方の主端子は、駆動トランジスタ202の制御端子に接続されている。書込制御トランジスタ203の他方の主端子は、信号線108に接続されている。書込制御トランジスタ203の制御端子は、走査線106に接続されている。 The write control transistor 203 is connected on a path between the signal line 108 and the control terminal of the drive transistor 202. Specifically, one main terminal of the write control transistor 203 is connected to the control terminal of the drive transistor 202. The other main terminal of the write control transistor 203 is connected to the signal line 108. The control terminal of the write control transistor 203 is connected to the scanning line 106.

容量素子205は、電極205a及び電極205bによって構成される。容量素子206は、電極206a及び電極206bによって構成される。電極205aは、駆動トランジスタ202の制御端子と書込制御トランジスタ203の主端子との間の経路上のノード209に接続されている。図2の例では、電極205aは、駆動トランジスタ202の制御端子と、書込制御トランジスタ203の主端子とのそれぞれに接続されている。電極205b及び電極206aのそれぞれは、駆動トランジスタ202の主端子と発光制御トランジスタ204の主端子との間の経路上のノード210に接続されている。図2の例では、電極205b及び電極206aのそれぞれは、駆動トランジスタ202の主端子と、発光制御トランジスタ204の主端子とのそれぞれに接続されている。電極206bは、発光制御トランジスタ204の主端子と電源線207との間の経路上のノード211に接続されている。図2の例では、電極206bは、発光制御トランジスタ204の主端子と、電源線207とのそれぞれに接続されている。 The capacitance element 205 is composed of electrodes 205a and 205b. The capacitance element 206 is composed of electrodes 206a and 206b. The electrode 205a is connected to a node 209 on the path between the control terminal of the driving transistor 202 and the main terminal of the write control transistor 203. In the example of FIG. 2, the electrode 205a is connected to the control terminal of the driving transistor 202 and the main terminal of the write control transistor 203. Each of the electrodes 205b and 206a is connected to a node 210 on the path between the main terminal of the driving transistor 202 and the main terminal of the light emission control transistor 204. In the example of FIG. 2, each of the electrodes 205b and 206a is connected to the main terminal of the driving transistor 202 and the main terminal of the light emission control transistor 204. The electrode 206b is connected to a node 211 on the path between the main terminal of the light emission control transistor 204 and the power line 207. In the example of FIG. 2, the electrode 206b is connected to both the main terminal of the light-emitting control transistor 204 and the power line 207.

駆動トランジスタ202は、電源線207から発光制御トランジスタ204を介して発光素子201に電流を供給することによって、発光素子201を発光させる。より具体的には、駆動トランジスタ202は、発光素子201とは反対側の主端子と制御端子との間の電圧(すなわち、ノード210とノード209との間の電圧)に応じた電流を発光素子201に供給する。ノード209の電圧は、容量素子205によって保持される。 The driving transistor 202 supplies a current from the power supply line 207 to the light emitting element 201 via the light emitting control transistor 204, thereby causing the light emitting element 201 to emit light. More specifically, the driving transistor 202 supplies a current to the light emitting element 201 according to the voltage between the main terminal and the control terminal on the opposite side to the light emitting element 201 (i.e., the voltage between node 210 and node 209). The voltage at node 209 is held by the capacitive element 205.

書込制御トランジスタ203は、垂直走査回路104から走査線106を介して制御端子に印加される書込制御信号に応答して導通状態となる。これによって、書込制御トランジスタ203は、信号線108を介して信号出力回路105から供給される輝度情報に応じた輝度信号の信号電圧又は基準電圧をサンプリングして画素102に書き込む。この書き込まれた信号電圧又は基準電圧は、駆動トランジスタ202の制御端子に印加されるとともに容量素子205に保持される。 The write control transistor 203 becomes conductive in response to a write control signal applied to the control terminal from the vertical scanning circuit 104 via the scanning line 106. As a result, the write control transistor 203 samples the signal voltage or reference voltage of the luminance signal corresponding to the luminance information supplied from the signal output circuit 105 via the signal line 108, and writes it to the pixel 102. This written signal voltage or reference voltage is applied to the control terminal of the drive transistor 202 and is held in the capacitance element 205.

発光制御トランジスタ204は、垂直走査回路104から走査線107を介して制御端子に印加される発光制御信号に応答して導通状態になることによって、電源線207から駆動トランジスタ202への電流の供給を許容する。これによって、上述したように、駆動トランジスタ202による発光素子201の駆動が可能になる。 The light emission control transistor 204 becomes conductive in response to a light emission control signal applied to the control terminal from the vertical scanning circuit 104 via the scanning line 107, thereby allowing current to be supplied from the power line 207 to the driving transistor 202. This allows the driving transistor 202 to drive the light emitting element 201, as described above.

発光制御トランジスタ204のスイッチング動作によって、発光素子201が非発光状態となる期間(非発光期間)を設け、発光素子201が発光する発光期間と非発光期間との割合を制御することができる(いわゆる、デューティ制御)。この発光素子201の発光/非発光を制御するデューティ制御によって、1フレーム期間に亘ってそれぞれの画素102の発光素子201が発光することに伴う残像ボケを低減でき、特に動画の画品位をより優れたものとすることができる。 The switching operation of the light emission control transistor 204 provides a period during which the light emitting element 201 is in a non-light emitting state (non-light emitting period), and the ratio of the light emitting period during which the light emitting element 201 emits light to the non-light emitting period can be controlled (so-called duty control). This duty control that controls the light emitting element 201 to emit/non-emit light can reduce afterimage blurring that occurs when the light emitting element 201 of each pixel 102 emits light over one frame period, and can improve the image quality, particularly for moving images.

発光装置101の製造誤差に起因して、駆動トランジスタ202の閾値電圧は、画素102ごとに異なりうる。そのため、同一の信号電圧を各画素102に書き込んだとしても、駆動トランジスタ202を流れる電流量が異なり、発光量がばらついてしまう。そこで、信号電圧を書き込む前に、駆動トランジスタ202のゲート・ソース間で駆動トランジスタ202の閾値電圧を保持させる動作が行われてもよい。このような動作を閾値補正動作と呼ぶ。この閾値補正動作により、各画素102における駆動トランジスタ202の電流量のばらつきが低減され、均一な発光が実現される。 Due to manufacturing errors in the light emitting device 101, the threshold voltage of the drive transistor 202 may differ for each pixel 102. Therefore, even if the same signal voltage is written to each pixel 102, the amount of current flowing through the drive transistor 202 will differ, resulting in variation in the amount of light emitted. Therefore, before writing the signal voltage, an operation may be performed to maintain the threshold voltage of the drive transistor 202 between the gate and source of the drive transistor 202. This operation is called a threshold correction operation. This threshold correction operation reduces the variation in the amount of current of the drive transistor 202 in each pixel 102, achieving uniform light emission.

閾値補正動作において、発光制御トランジスタ204及び駆動トランジスタ202を通じて発光素子201に電流を流した後、発光制御トランジスタ204を非導通状態とする。これにより、駆動トランジスタ202のゲート・ソース間の電圧が静定するまで、すなわち略一定の値となるまで、発光素子201に電流が流れ、閾値補正が行われる。 In the threshold correction operation, a current is passed through the light-emitting element 201 via the light-emitting control transistor 204 and the drive transistor 202, and then the light-emitting control transistor 204 is turned off. This causes a current to flow through the light-emitting element 201 until the voltage between the gate and source of the drive transistor 202 becomes statically stable, i.e., reaches a substantially constant value, and threshold correction is performed.

図3を参照して、画素102の断面構造例について説明する。発光装置101は、基板301と、絶縁層310と、発光素子201とを備える。絶縁層310は基板301の上に位置する。発光素子201は、絶縁層310の上に位置する。言い換えると、絶縁層310は、基板301と発光素子201との間に位置する。 An example of the cross-sectional structure of the pixel 102 will be described with reference to FIG. 3. The light-emitting device 101 includes a substrate 301, an insulating layer 310, and a light-emitting element 201. The insulating layer 310 is located on the substrate 301. The light-emitting element 201 is located on the insulating layer 310. In other words, the insulating layer 310 is located between the substrate 301 and the light-emitting element 201.

基板301は、駆動トランジスタ202、書込制御トランジスタ203及び発光制御トランジスタ204が形成された主面301a(図3では上側の面)を有する。基板301は、例えばP型半導体で形成されてもよい。基板301の主面301a側(すなわち、基板301の上側)に、N型のウェル領域303が形成されている。基板301のうち、ウェル領域303以外は、P型の半導体領域302となる。 The substrate 301 has a main surface 301a (the upper surface in FIG. 3) on which the drive transistor 202, the write control transistor 203, and the light emission control transistor 204 are formed. The substrate 301 may be formed of, for example, a P-type semiconductor. An N-type well region 303 is formed on the main surface 301a side of the substrate 301 (i.e., the upper side of the substrate 301). The substrate 301 other than the well region 303 becomes a P-type semiconductor region 302.

基板301は、ウェル領域303内に、不純物領域304、305及び306を有する。不純物領域304、305及び306は、いずれもP型である。基板301の主面301a(上面)に、電極308及び309が形成されている。電極308は、発光制御トランジスタ204のゲートとして機能する。不純物領域305及び306は、発光制御トランジスタ204の2つの主端子(ソース及びドレイン)として機能する。電極309は、駆動トランジスタ202のゲートとして機能する。不純物領域304及び305は、駆動トランジスタ202の2つの主端子(ソース及びドレイン)として機能する。 The substrate 301 has impurity regions 304, 305, and 306 in the well region 303. The impurity regions 304, 305, and 306 are all P-type. Electrodes 308 and 309 are formed on the main surface 301a (upper surface) of the substrate 301. The electrode 308 functions as the gate of the light emission control transistor 204. The impurity regions 305 and 306 function as two main terminals (source and drain) of the light emission control transistor 204. The electrode 309 functions as the gate of the drive transistor 202. The impurity regions 304 and 305 function as two main terminals (source and drain) of the drive transistor 202.

基板301は、隣り合う画素102の間に形成された素子分離部307をさらに有する。素子分離部307として、STI(Shallow Trench Isolation)、LOCOS(LOCal Oxidation of Silicon)分離、N型の拡散層分離などが用いられてもよい。 The substrate 301 further has an element isolation portion 307 formed between adjacent pixels 102. As the element isolation portion 307, STI (Shallow Trench Isolation), LOCOS (LOCal Oxidation of Silicon) isolation, N-type diffusion layer isolation, etc. may be used.

発光素子201は、陰極321と、有機発光層322と、陽極323とを有する。上述のように、陰極321は、電源線208に電気的に接続されている。陽極323は、駆動トランジスタ202の主端子に電気的に接続されている。有機発光層322は、陰極321と陽極323との間に位置する。陽極323の端部には、バンク部324が配されている。バンク部324は、陽極323と陰極321との間を流れる電流が、隣接する画素102へ漏れることを抑制する。 The light-emitting element 201 has a cathode 321, an organic light-emitting layer 322, and an anode 323. As described above, the cathode 321 is electrically connected to the power line 208. The anode 323 is electrically connected to the main terminal of the drive transistor 202. The organic light-emitting layer 322 is located between the cathode 321 and the anode 323. A bank portion 324 is disposed at the end of the anode 323. The bank portion 324 prevents the current flowing between the anode 323 and the cathode 321 from leaking to the adjacent pixel 102.

絶縁層310に、導電パターン311、導電パターン312、電極205a、電極205b、電極206a、電極206b及び複数のプラグが埋め込まれている。絶縁層310は、例えば酸化シリコンであってもよい。導電パターン311及び312のそれぞれは配線層を構成する。基板301の主面301aからの導電パターン311の高さは、基板301の主面301aからの導電パターン312の高さよりも小さい。言い換えると、導電パターン311は、導電パターン312よりも基板301の主面301aの近くに位置する。導電パターン311の厚さと導電パターン312の厚さとは互いに異なってもよいし、同じであってもよい。例えば、導電パターン312は、導電パターン311よりも厚くてもよい。絶縁層310に埋め込まれた複数のプラグは、何れも同じ太さであってもよいし、異なる太さであってもよい。 The insulating layer 310 is embedded with a conductive pattern 311, a conductive pattern 312, an electrode 205a, an electrode 205b, an electrode 206a, an electrode 206b, and a plurality of plugs. The insulating layer 310 may be, for example, silicon oxide. Each of the conductive patterns 311 and 312 constitutes a wiring layer. The height of the conductive pattern 311 from the main surface 301a of the substrate 301 is smaller than the height of the conductive pattern 312 from the main surface 301a of the substrate 301. In other words, the conductive pattern 311 is located closer to the main surface 301a of the substrate 301 than the conductive pattern 312. The thickness of the conductive pattern 311 and the thickness of the conductive pattern 312 may be different from each other or may be the same. For example, the conductive pattern 312 may be thicker than the conductive pattern 311. The plurality of plugs embedded in the insulating layer 310 may all have the same thickness or may have different thicknesses.

電極205a、電極205b、電極206a及び電極206bの基板301の主面301aからの高さはいずれも、導電パターン311の高さよりも大きく、導電パターン312の高さよりも小さい。電極205aと電極205bとは、互いに対向している。電極205aと電極205bと間には絶縁層310の一部が入り込んでいる。これによって、MIM(Metal-Insulator-Metal)構造の容量素子205が構成される。電極206aと電極206bとは、互いに対向している。電極206aと電極206bと間には絶縁層310の一部が入り込んでいる。これによって、MIM構造の容量素子206が構成される。 The heights of the electrodes 205a, 205b, 206a, and 206b from the main surface 301a of the substrate 301 are all greater than the height of the conductive pattern 311 and less than the height of the conductive pattern 312. The electrodes 205a and 205b face each other. A portion of the insulating layer 310 is disposed between the electrodes 205a and 205b. This constitutes the capacitive element 205 with an MIM (Metal-Insulator-Metal) structure. The electrodes 206a and 206b face each other. A portion of the insulating layer 310 is disposed between the electrodes 206a and 206b. This constitutes the capacitive element 206 with an MIM structure.

電極205aの説明において、図3の上側にある面を電極205aの上面と呼び、図3の下側にある面を電極205aの下面と呼ぶ。上面と下面とは互いに反対側に位置する。電極205b、電極206a及び電極206bについても同様である。 In the description of electrode 205a, the surface at the top of FIG. 3 is referred to as the top surface of electrode 205a, and the surface at the bottom of FIG. 3 is referred to as the bottom surface of electrode 205a. The top surface and the bottom surface are located on opposite sides of each other. The same applies to electrodes 205b, 206a, and 206b.

電極205a(具体的に、その下面)は、プラグ316を通じて導電パターン311内の導電部材に接続されている。電極205b(具体的に、その上面)は、プラグ317を通じて導電パターン312内の導電部材315に接続されている。電極206a(具体的に、その下面)は、プラグ319を通じて導電パターン311内の導電部材313に接続されている。電極206b(具体的に、その上面)は、プラグ320を通じて導電パターン312内の導電部材に接続されている。導電部材315(具体的に、その下面)と導電部材313(具体的に、その上面)とは、プラグ318によって互いに接続されている。 電極205aは、プラグ316等を通じて電極309(駆動トランジスタ202のゲート)及び不純物領域305に電気的に接続されている。電極205bは、導電部材313及び315並びにプラグ317、318及び319を通じて電極206aに電気的に接続されている。電極206bは、導電部材314及びプラグ320等を通じて不純物領域306に電気的に接続されている。導電部材314は、導電パターン311に含まれる。不純物領域306は、図2のノード211に対応する。したがって、不純物領域306は、電源線207に電気的に接続されている。 The electrode 205a (specifically, its lower surface) is connected to the conductive member in the conductive pattern 311 through the plug 316. The electrode 205b (specifically, its upper surface) is connected to the conductive member 315 in the conductive pattern 312 through the plug 317. The electrode 206a (specifically, its lower surface) is connected to the conductive member 313 in the conductive pattern 311 through the plug 319. The electrode 206b (specifically, its upper surface) is connected to the conductive member in the conductive pattern 312 through the plug 320. The conductive member 315 (specifically, its lower surface) and the conductive member 313 (specifically, its upper surface) are connected to each other by the plug 318. The electrode 205a is electrically connected to the electrode 309 (the gate of the driving transistor 202) and the impurity region 305 through the plug 316, etc. The electrode 205b is electrically connected to the electrode 206a through the conductive members 313 and 315 and the plugs 317, 318, and 319. The electrode 206b is electrically connected to the impurity region 306 through the conductive member 314 and the plug 320. The conductive member 314 is included in the conductive pattern 311. The impurity region 306 corresponds to the node 211 in FIG. 2. Therefore, the impurity region 306 is electrically connected to the power supply line 207.

電極205a及び205bのそれぞれは、平面視において電極309に重なる位置にある。電極206a及び206bのそれぞれは、平面視において電極308に重なる位置にある。電極309をゲートとして有する駆動トランジスタ202と、電極308をゲートとして有する発光制御トランジスタ204とは、不純物領域305を共有する。導電部材313及び315のそれぞれは、平面視において、不純物領域305に重なる位置にある。 Each of the electrodes 205a and 205b is located so as to overlap the electrode 309 in a planar view. Each of the electrodes 206a and 206b is located so as to overlap the electrode 308 in a planar view. The driving transistor 202 having the electrode 309 as its gate and the light-emitting control transistor 204 having the electrode 308 as its gate share the impurity region 305. Each of the conductive members 313 and 315 is located so as to overlap the impurity region 305 in a planar view.

図4を参照して、基板301の主面301aに対する平面視における画素102の一部の構成要素の配置について説明する。基板301の主面301aに対する平面視を、以下では単に平面視と表す。図4では、電極205a、205b、206a及び206b並びにプラグ316~320に着目する。図3の断面図は、図4のA-A’線における断面図である。図4の横方向は画素アレイ部103の行方向であってもよく、図4の縦方向は画素アレイ部103の列方向であってもよい。これに代えて、図4の横方向は画素アレイ部103の列方向であってもよく、図4の縦方向は画素アレイ部103の行方向であってもよい。 With reference to FIG. 4, the arrangement of some of the components of pixel 102 in a plan view relative to main surface 301a of substrate 301 will be described. Hereinafter, the plan view relative to main surface 301a of substrate 301 will simply be referred to as plan view. In FIG. 4, attention is focused on electrodes 205a, 205b, 206a, and 206b and plugs 316 to 320. The cross-sectional view of FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line A-A' in FIG. 4. The horizontal direction in FIG. 4 may be the row direction of pixel array section 103, and the vertical direction in FIG. 4 may be the column direction of pixel array section 103. Alternatively, the horizontal direction in FIG. 4 may be the column direction of pixel array section 103, and the vertical direction in FIG. 4 may be the row direction of pixel array section 103.

以下、容量素子205の電極205a及び電極205bの配置について説明する。容量素子206の電極206a及び電極206bの配置についても同様であってもよい。電極205a及び205bのそれぞれは、基板301の主面301aに平行な方向に延在する板状の形状を有する。電極205a及び205bのそれぞれの輪郭は、平面視において、四角形である。これに代えて、電極205a及び205bのそれぞれの輪郭は、他の形状であってもよい。 The arrangement of the electrodes 205a and 205b of the capacitance element 205 will be described below. The arrangement of the electrodes 206a and 206b of the capacitance element 206 may be similar. Each of the electrodes 205a and 205b has a plate shape extending in a direction parallel to the main surface 301a of the substrate 301. The outline of each of the electrodes 205a and 205b is a rectangle in a plan view. Alternatively, the outline of each of the electrodes 205a and 205b may have another shape.

図4の例では、平面視において、電極205aは電極205bよりも大きい。さらに、平面視において、電極205bの輪郭は、電極205aの輪郭に内包されている。これに代えて、平面視において、電極205bは、電極205aからはみ出してもよい。また、平面視において、電極205aは電極205bよりも小さくてもよい。 In the example of FIG. 4, electrode 205a is larger than electrode 205b in a planar view. Furthermore, the outline of electrode 205b is contained within the outline of electrode 205a in a planar view. Alternatively, electrode 205b may extend beyond electrode 205a in a planar view. Furthermore, electrode 205a may be smaller than electrode 205b in a planar view.

平面視において、電極205aは、電極206a及び206bのいずれにも重ならない。平面視において、電極205bは、電極206a及び206bのいずれにも重ならない。また、図3に示されるように、電極205aと電極206aとは、基板301の主面301aから同じ高さにある。電極205bと電極206bとは、基板301の主面301aから同じ高さにある。 In a plan view, electrode 205a does not overlap either electrode 206a or 206b. In a plan view, electrode 205b does not overlap either electrode 206a or 206b. Also, as shown in FIG. 3, electrode 205a and electrode 206a are at the same height from main surface 301a of substrate 301. In a plan view, electrode 205a and electrode 206a are at the same height from main surface 301a of substrate 301.

図5を参照して、電極205a、電極205b、電極206a及び電極206bの配置についてさらに具体的に説明する。図5(a)は、図3及び図4に説明される発光装置101におけるこれらの電極の配置に着目した図である。図5(a)は、図3と同じ位置における断面図を示す。図5(b)及び図5(c)は、図5(a)の配置の変形例を説明する図である。 The arrangement of electrodes 205a, 205b, 206a, and 206b will be described in more detail with reference to FIG. 5. FIG. 5(a) is a diagram focusing on the arrangement of these electrodes in the light-emitting device 101 described in FIG. 3 and FIG. 4. FIG. 5(a) shows a cross-sectional view at the same position as FIG. 3. FIG. 5(b) and FIG. 5(c) are diagrams explaining modified examples of the arrangement of FIG. 5(a).

図5(a)に示されるように、電極205b(具体的に、その下面)は、電極205aに対向する部分205cを含む。駆動トランジスタ202の制御端子に輝度信号が供給されることによって、電極205bの部分205cが正に帯電する。これに対応して、電極205aのうち、電極205bに対向する部分が負に帯電する。 As shown in FIG. 5(a), electrode 205b (specifically, its underside) includes a portion 205c that faces electrode 205a. When a luminance signal is supplied to the control terminal of drive transistor 202, portion 205c of electrode 205b becomes positively charged. Correspondingly, the portion of electrode 205a that faces electrode 205b becomes negatively charged.

電極206aは、電極205bの部分205cまでの最短距離d2よりも、電極205aまでの最短距離d1の方が短い部分206cを含む。最短距離d1及びd2は、3次元空間内の2点を直線で結んだ距離である。部分206cは電極206aの側面に含まれる。部分206cは、電極205aの側面に対向する。このような距離関係となるため、電極205aと電極206aとの間に寄生容量500が生じる。すなわち、電極206aの部分206cは正に帯電し、電極205aのうち電極206aに対向する部分が負に帯電する。寄生容量500によって、容量素子205の容量値が大きくなる。駆動トランジスタ202のゲート・ソース間の容量値が大きくなるため、容量素子205に流れ込むリーク電流による輝度信号の変化が低減される。 The electrode 206a includes a portion 206c whose shortest distance d1 to the electrode 205a is shorter than the shortest distance d2 to the portion 205c of the electrode 205b. The shortest distances d1 and d2 are the distances between two points in a three-dimensional space connected by a straight line. The portion 206c is included in the side of the electrode 206a. The portion 206c faces the side of the electrode 205a. Due to this distance relationship, a parasitic capacitance 500 is generated between the electrodes 205a and 206a. That is, the portion 206c of the electrode 206a is positively charged, and the portion of the electrode 205a facing the electrode 206a is negatively charged. The parasitic capacitance 500 increases the capacitance value of the capacitance element 205. Since the capacitance value between the gate and source of the driving transistor 202 increases, the change in the luminance signal due to the leakage current flowing into the capacitance element 205 is reduced.

図3及び図4に示される例では、プラグ318が、電極205aと電極206aとの間に位置する。プラグ318がこのような位置にあることによって、電極205aと電極206aとの間の寄生容量500がさらに大きくなる。この構成に代えて、プラグ318は他の位置にあってもよい。 In the example shown in Figures 3 and 4, the plug 318 is located between the electrodes 205a and 206a. Such a location of the plug 318 further increases the parasitic capacitance 500 between the electrodes 205a and 206a. Alternatively, the plug 318 may be located in another position.

続いて、図5(b)及び図5(c)を参照して、図5(a)の配置の変形例について説明する。図5(b)の例では、電極205bが、平面視において電極205aに重なる位置から、電極206aの方へ延在している。さらに、電極206a及び206bが図面の下方向にずれている。このような配置であっても、電極206aの部分206cから電極205aまでの最短距離d1は、電極206aの部分206cから電極205bの部分205cまでの最短距離d2よりも短い。そのため、電極205aと電極206aとの間に寄生容量510が生じる。プラグ318は、電極206aの側方に位置してもよいし、電極206aに形成された開口を貫通してもよい。これに代えて、プラグ318は、電極206aの上面に接続されてもよい。 Next, a modified example of the arrangement of FIG. 5(a) will be described with reference to FIG. 5(b) and FIG. 5(c). In the example of FIG. 5(b), the electrode 205b extends from a position overlapping the electrode 205a in a plan view toward the electrode 206a. Furthermore, the electrodes 206a and 206b are shifted downward in the drawing. Even in such an arrangement, the shortest distance d1 from the portion 206c of the electrode 206a to the electrode 205a is shorter than the shortest distance d2 from the portion 206c of the electrode 206a to the portion 205c of the electrode 205b. Therefore, a parasitic capacitance 510 is generated between the electrodes 205a and 206a. The plug 318 may be located to the side of the electrode 206a, or may penetrate an opening formed in the electrode 206a. Alternatively, the plug 318 may be connected to the upper surface of the electrode 206a.

図5(c)の例では、基板301の主面301aからの電極205aの高さが、基板301の主面301aからの電極206aの高さよりも大きい。基板301の主面301aからの電極205bの高さは、基板301の主面301aからの電極206bの高さよりも大きい。電極206aは、平面視において電極206bに重なる位置から、容量素子205の方に延在している。平面視において、電極206aの一部は電極205aに重なる。 In the example of FIG. 5(c), the height of electrode 205a from main surface 301a of substrate 301 is greater than the height of electrode 206a from main surface 301a of substrate 301. The height of electrode 205b from main surface 301a of substrate 301 is greater than the height of electrode 206b from main surface 301a of substrate 301. Electrode 206a extends toward capacitance element 205 from a position overlapping electrode 206b in plan view. In plan view, a portion of electrode 206a overlaps electrode 205a.

図5(c)の例においても、電極206aは、電極205bの部分205cまでの最短距離d2よりも、電極205aまでの最短距離d1の方が短い部分206cを含む。具体的に、電極205aの下面は、電極206aの部分206cに対向する部分を含み、この部分は負に帯電する。図5(c)の例において、電極205aと電極206aとの間に寄生容量520が生じる。プラグ318は、電極206aの側方に位置してもよいし、電極206aに形成された開口を貫通してもよい。これに代えて、プラグ318は、電極206aの上面に接続されてもよい。 In the example of FIG. 5(c), electrode 206a also includes portion 206c where the shortest distance d1 to electrode 205a is shorter than the shortest distance d2 to portion 205c of electrode 205b. Specifically, the lower surface of electrode 205a includes a portion facing portion 206c of electrode 206a, and this portion is negatively charged. In the example of FIG. 5(c), a parasitic capacitance 520 is generated between electrode 205a and electrode 206a. Plug 318 may be located to the side of electrode 206a or may pass through an opening formed in electrode 206a. Alternatively, plug 318 may be connected to the upper surface of electrode 206a.

<第2実施形態>
図6を参照して、第2実施形態に係る発光装置101の構成例について説明する。以下では、第1実施形態との相違部分について主に説明する。第2実施形態で説明されない事項は、第1実施形態のものと同様であってもよい。第2実施形態においても、図5(b)及び図5(c)で説明された変形例を適用可能である。
Second Embodiment
A configuration example of a light emitting device 101 according to the second embodiment will be described with reference to Fig. 6. Differences from the first embodiment will be mainly described below. Items not described in the second embodiment may be the same as those in the first embodiment. The modified examples described in Fig. 5(b) and Fig. 5(c) can also be applied to the second embodiment.

図6は、図3に対応する断面図を示す。第1実施形態では、平面視において、導電部材313が電極205aに重ならない。上述のように、導電部材313は、導電パターン311に含まれる。また、導電部材313は、電極205bと電極206aとを電気的に接続している。第2実施形態では、導電部材313が電極205aの方に延在している。平面視において、導電部材313は、電極205a(具体的に、その下面)に対向する部分を含む。このような配置では、第1実施形態と比べて、電極205aと導電部材313との間の寄生容量が大きくなる。この寄生容量によって、容量素子205の容量値がさらに大きくなる。 Figure 6 shows a cross-sectional view corresponding to Figure 3. In the first embodiment, the conductive member 313 does not overlap the electrode 205a in a plan view. As described above, the conductive member 313 is included in the conductive pattern 311. The conductive member 313 also electrically connects the electrode 205b and the electrode 206a. In the second embodiment, the conductive member 313 extends toward the electrode 205a. In a plan view, the conductive member 313 includes a portion that faces the electrode 205a (specifically, its lower surface). In this arrangement, the parasitic capacitance between the electrode 205a and the conductive member 313 is larger than in the first embodiment. This parasitic capacitance further increases the capacitance value of the capacitance element 205.

<第3実施形態>
図7を参照して、第3実施形態に係る発光装置101の構成例について説明する。以下では、第2実施形態との相違部分について主に説明する。第3実施形態で説明されない事項は、第1実施形態及び第2実施形態のいずれと同様であってもよい。第3実施形態においても、図5(b)及び図5(c)で説明された変形例を適用可能である。第2実施形態と第3実施形態との相違点は、第1実施形態に適用されてもよい。
Third Embodiment
A configuration example of the light emitting device 101 according to the third embodiment will be described with reference to FIG. 7. The following mainly describes the differences from the second embodiment. The matters not described in the third embodiment may be the same as those in the first and second embodiments. The modified examples described in FIG. 5(b) and FIG. 5(c) can also be applied to the third embodiment. The differences between the second and third embodiments may be applied to the first embodiment.

図7は、図6に対応する断面図を示す。第2実施形態では、平面視において、導電部材314が電極206aに重ならない。上述のように、導電部材314は、導電パターン311に含まれる。また、導電部材314は、電極206bと電源線208とを電気的に接続している。第3実施形態では、導電部材314が電極206aの方に延在している。平面視において、導電部材314は、電極206a(具体的に、その下面)に対向する部分を含む。このような配置では、第2実施形態と比べて、電極206aと導電部材314との間の寄生容量が大きくなる。すなわち、発光制御トランジスタ204のソース・ドレイン間の容量を大きくすることができる。閾値の補正時に、発光制御トランジスタ204が非導通状態となるため、駆動トランジスタ202のソースはフローティング状態となる。そのため、駆動トランジスタ202のソースは、ノイズによる電圧変動の影響を受けやすくなり、その結果として閾値を正常に補正できない場合がある。第3実施形態によれば、発光制御トランジスタ204のソース・ドレイン間の容量を大きくすることができるため、ノイズによる電圧変動を抑制できる。 Figure 7 shows a cross-sectional view corresponding to Figure 6. In the second embodiment, the conductive member 314 does not overlap the electrode 206a in a plan view. As described above, the conductive member 314 is included in the conductive pattern 311. The conductive member 314 also electrically connects the electrode 206b and the power line 208. In the third embodiment, the conductive member 314 extends toward the electrode 206a. In a plan view, the conductive member 314 includes a portion facing the electrode 206a (specifically, its lower surface). In this arrangement, the parasitic capacitance between the electrode 206a and the conductive member 314 is larger than in the second embodiment. That is, the capacitance between the source and drain of the light emission control transistor 204 can be increased. When the threshold is corrected, the light emission control transistor 204 is in a non-conductive state, and the source of the drive transistor 202 is in a floating state. Therefore, the source of the drive transistor 202 is easily affected by voltage fluctuations due to noise, and as a result, the threshold may not be corrected normally. According to the third embodiment, the capacitance between the source and drain of the light-emitting control transistor 204 can be increased, thereby suppressing voltage fluctuations caused by noise.

<第4実施形態>
図8~図10を参照して、第4実施形態に係る発光装置101の構成例について説明する。以下では、第3実施形態との相違部分について主に説明する。第4実施形態で説明されない事項は、第1実施形態から第3実施形態の何れと同様であってもよい。
Fourth Embodiment
A configuration example of a light emitting device 101 according to the fourth embodiment will be described with reference to Fig. 8 to Fig. 10. The following mainly describes the differences from the third embodiment. Items not described in the fourth embodiment may be the same as those in any of the first to third embodiments.

図8を参照して、第4実施形態に係る発光装置101の全体構成例について説明する。第4実施形態では、発光装置101の画素アレイ部103に、複数の走査線801がさらに配されている。複数の走査線801のそれぞれは、行方向に延在する。複数の走査線106は、画素アレイ部103の複数の画素行に1対1に対応してもよい。垂直走査回路104は、走査線801を通じて画素102にリセット信号を供給する。リセット信号とは、画素102の発光素子201をリセットするための信号である。垂直走査回路104は、画素行ごとに、走査線801に接続される出力端子をさらに有する。 With reference to FIG. 8, an example of the overall configuration of the light-emitting device 101 according to the fourth embodiment will be described. In the fourth embodiment, a plurality of scanning lines 801 are further arranged in the pixel array section 103 of the light-emitting device 101. Each of the plurality of scanning lines 801 extends in the row direction. The plurality of scanning lines 106 may correspond one-to-one to the plurality of pixel rows of the pixel array section 103. The vertical scanning circuit 104 supplies a reset signal to the pixel 102 through the scanning line 801. The reset signal is a signal for resetting the light-emitting element 201 of the pixel 102. The vertical scanning circuit 104 further has an output terminal connected to the scanning line 801 for each pixel row.

図2を参照して、第4実施形態の画素102の回路構成例について説明する。画素102は、リセットトランジスタ901及び電源線903をさらに備える。リセットトランジスタ901は、発光素子201をリセットするためのトランジスタである。リセットトランジスタ901は、例えばP型であってもよい。 An example of the circuit configuration of the pixel 102 of the fourth embodiment will be described with reference to FIG. 2. The pixel 102 further includes a reset transistor 901 and a power line 903. The reset transistor 901 is a transistor for resetting the light-emitting element 201. The reset transistor 901 may be, for example, a P-type.

リセットトランジスタ901の制御端子(例えば、ゲート)は、リセット信号を受ける。リセットトランジスタ901の一方の端子(例えば、ソース)は、発光素子201と駆動トランジスタ202との間の経路上のノード902に接続されている。図9の例で、リセットトランジスタ901の一方の端子は、発光素子201の陽極と、駆動トランジスタ202の主端子とのそれぞれに接続されている。リセットトランジスタ901の他方の端子(例えば、ドレイン)は、電源線903に接続されている。電源線903は、電源電圧Vresを供給する。電源電圧Vresは、発光素子201の輝度が黒レベルとなる電圧である。電源電圧Vresは、電源電圧Vssと同じ値であってもよいし、異なる値であってもよい。 The control terminal (e.g., gate) of the reset transistor 901 receives a reset signal. One terminal (e.g., source) of the reset transistor 901 is connected to a node 902 on the path between the light-emitting element 201 and the drive transistor 202. In the example of FIG. 9, one terminal of the reset transistor 901 is connected to the anode of the light-emitting element 201 and the main terminal of the drive transistor 202. The other terminal (e.g., drain) of the reset transistor 901 is connected to a power line 903. The power line 903 supplies a power supply voltage Vres. The power supply voltage Vres is a voltage at which the luminance of the light-emitting element 201 becomes a black level. The power supply voltage Vres may be the same value as the power supply voltage Vss, or may be a different value.

非発光期間において、リセットトランジスタ901を導通状態にすることによって、発光素子201の陽極が電源線903に接続され、発光素子201の2つの電極の間が短絡される。これによって、発光素子201を非発光状態とすることができる(リセット動作)。画素102にリセットトランジスタ901を設けることによって、発光素子201を非発光期間において確実に黒表示させ、高いコントラスト比を有する発光装置101が実現される。 During the non-light emitting period, the reset transistor 901 is turned on to connect the anode of the light emitting element 201 to the power line 903, and the two electrodes of the light emitting element 201 are shorted. This allows the light emitting element 201 to be in a non-light emitting state (reset operation). By providing the reset transistor 901 in the pixel 102, the light emitting element 201 can be reliably made to display black during the non-light emitting period, and a light emitting device 101 with a high contrast ratio is realized.

図10を参照して、第4実施形態の画素102の断面構造例について説明する。基板301は、ウェル領域303内に、不純物領域1001をさらに有する。不純物領域1001は、P型である。基板301の主面301aに、電極1002がさらに形成されている。電極1002は、リセットトランジスタ901のゲートとして機能する。不純物領域304及び1001は、リセットトランジスタ901の2つの主端子(ソース及びドレイン)として機能する。 With reference to FIG. 10, an example of the cross-sectional structure of the pixel 102 of the fourth embodiment will be described. The substrate 301 further has an impurity region 1001 in the well region 303. The impurity region 1001 is of P-type. An electrode 1002 is further formed on the main surface 301a of the substrate 301. The electrode 1002 functions as the gate of the reset transistor 901. The impurity regions 304 and 1001 function as two main terminals (source and drain) of the reset transistor 901.

絶縁層310に、導電パターン1003がさらに埋め込まれている。導電パターン1003は配線層を構成する。基板301の主面301aからの導電パターン1003の高さは、基板301の主面301aからの導電パターン311の高さよりも小さい。導電パターン1003をさらに設けることによって、所定の画素サイズ内で複数のトランジスタ及びそれらを駆動するためのゲート配線の実装が容易となる。 A conductive pattern 1003 is further embedded in the insulating layer 310. The conductive pattern 1003 constitutes a wiring layer. The height of the conductive pattern 1003 from the main surface 301a of the substrate 301 is smaller than the height of the conductive pattern 311 from the main surface 301a of the substrate 301. By further providing the conductive pattern 1003, it becomes easier to implement multiple transistors and gate wiring for driving them within a specified pixel size.

[有機発光素子の構成]
有機発光素子は、基板の上に、絶縁層、第1電極、有機化合物層、第2電極を形成して設けられる。陰極の上には、保護層、カラーフィルタ、マイクロレンズ等を設けてよい。カラーフィルタを設ける場合は、保護層との間に平坦化層を設けてよい。平坦化層はアクリル樹脂等で構成することができる。カラーフィルタとマイクロレンズとの間において、平坦化層を設ける場合も同様である。
[Configuration of organic light-emitting element]
The organic light-emitting element is provided by forming an insulating layer, a first electrode, an organic compound layer, and a second electrode on a substrate. A protective layer, a color filter, a microlens, etc. may be provided on the cathode. When a color filter is provided, a planarizing layer may be provided between the protective layer. The planarizing layer may be made of acrylic resin, etc. The same applies when a planarizing layer is provided between the color filter and the microlens.

[基板]
基板は、石英、ガラス、シリコンウエハ、樹脂、金属等が挙げられる。また、基板上には、トランジスタなどのスイッチング素子や配線を備え、その上に絶縁層を備えてもよい。絶縁層としては、第1電極との間に配線が形成可能なように、コンタクトホールを形成可能で、かつ接続しない配線との絶縁を確保できれば、材料は問わない。例えば、ポリイミド等の樹脂、酸化シリコン、窒化シリコンなどを用いることができる。
[substrate]
Examples of the substrate include quartz, glass, silicon wafer, resin, and metal. In addition, a switching element such as a transistor and wiring may be provided on the substrate, and an insulating layer may be provided thereon. As the insulating layer, any material can be used as long as it is possible to form a contact hole so that wiring can be formed between the first electrode and the insulating layer, and insulation from wiring that is not connected can be ensured. For example, resin such as polyimide, silicon oxide, silicon nitride, etc. can be used.

[電極]
電極は、一対の電極を用いることができる。一対の電極は、陽極と陰極であってよい。有機発光素子が発光する方向に電界を印加する場合に、電位が高い電極が陽極であり、他方が陰極である。また、発光層にホールを供給する電極が陽極であり、電子を供給する電極が陰極であるということもできる。
[electrode]
A pair of electrodes can be used. The pair of electrodes may be an anode and a cathode. When an electric field is applied in the direction in which the organic light-emitting element emits light, the electrode with a higher potential is the anode, and the other is the cathode. It can also be said that the electrode that supplies holes to the light-emitting layer is the anode, and the electrode that supplies electrons is the cathode.

陽極の構成材料としては仕事関数がなるべく大きいものが良い。例えば、金、白金、銀、銅、ニッケル、パラジウム、コバルト、セレン、バナジウム、タングステン、等の金属単体やこれらを含む混合物、あるいはこれらを組み合わせた合金、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫インジウム(ITO)、酸化亜鉛インジウム等の金属酸化物が使用できる。またポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン等の導電性ポリマーも使用できる。 The material that constitutes the anode should preferably have a work function as large as possible. For example, metals such as gold, platinum, silver, copper, nickel, palladium, cobalt, selenium, vanadium, tungsten, etc., mixtures containing these metals, alloys combining these metals, metal oxides such as tin oxide, zinc oxide, indium oxide, indium tin oxide (ITO), and indium zinc oxide can be used. Conductive polymers such as polyaniline, polypyrrole, and polythiophene can also be used.

これらの電極物質は一種類を単独で使用してもよいし、二種類以上を併用して使用してもよい。また、陽極は一層で構成されていてもよく、複数の層で構成されていてもよい。 One of these electrode materials may be used alone, or two or more may be used in combination. The anode may be composed of a single layer or multiple layers.

反射電極として用いる場合には、例えばクロム、アルミニウム、銀、チタン、タングステン、モリブデン、又はこれらの合金、積層したものなどを用いることができる。上記の材料にて、電極としての役割を有さない、反射膜として機能することも可能である。また、透明電極として用いる場合には、酸化インジウム錫(ITO)、酸化インジウム亜鉛などの酸化物透明導電層などを用いることができるが、これらに限定されるものではない。電極の形成には、フォトリソグラフィ技術を用いることができる。 When used as a reflective electrode, for example, chromium, aluminum, silver, titanium, tungsten, molybdenum, or alloys or laminates of these can be used. The above materials can also function as a reflective film without acting as an electrode. When used as a transparent electrode, transparent conductive oxide layers such as indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide can be used, but are not limited to these. Photolithography technology can be used to form the electrode.

一方、陰極の構成材料としては仕事関数の小さなものがよい。例えばリチウム等のアルカリ金属、カルシウム等のアルカリ土類金属、アルミニウム、チタニウム、マンガン、銀、鉛、クロム等の金属単体またはこれらを含む混合物が挙げられる。あるいはこれら金属単体を組み合わせた合金も使用することができる。例えばマグネシウム-銀、アルミニウム-リチウム、アルミニウム-マグネシウム、銀-銅、亜鉛-銀等が使用できる。酸化錫インジウム(ITO)等の金属酸化物の利用も可能である。これらの電極物質は一種類を単独で使用してもよいし、二種類以上を併用して使用してもよい。また陰極は一層構成でもよく、多層構成でもよい。中でも銀を用いることが好ましく、銀の凝集を低減するため、銀合金とすることがさらに好ましい。銀の凝集が低減できれば、合金の比率は問わない。例えば、銀:他の金属が、1:1、3:1等であってよい。 On the other hand, the material for the cathode should have a small work function. Examples of such materials include alkali metals such as lithium, alkaline earth metals such as calcium, aluminum, titanium, manganese, silver, lead, and chromium, or mixtures containing these metals. Alternatively, alloys combining these metals can be used. For example, magnesium-silver, aluminum-lithium, aluminum-magnesium, silver-copper, and zinc-silver can be used. Metal oxides such as indium tin oxide (ITO) can also be used. These electrode materials may be used alone or in combination of two or more types. The cathode may have a single layer or a multilayer structure. Among these, it is preferable to use silver, and it is even more preferable to use a silver alloy to reduce the aggregation of silver. As long as the aggregation of silver can be reduced, the ratio of the alloy is not important. For example, the ratio of silver to other metal may be 1:1, 3:1, etc.

陰極は、ITOなどの酸化物導電層を使用してトップエミッション素子としてもよいし、アルミニウム(Al)などの反射電極を使用してボトムエミッション素子としてもよいし、特に限定されない。陰極の形成方法としては、特に限定されないが、直流及び交流スパッタリング法などを用いると、膜のカバレッジがよく、抵抗を下げやすいためより好ましい。 The cathode may be a top-emission element using an oxide conductive layer such as ITO, or a bottom-emission element using a reflective electrode such as aluminum (Al), and is not particularly limited. The method for forming the cathode is not particularly limited, but DC and AC sputtering methods are more preferable because they provide good film coverage and make it easier to reduce resistance.

[画素分離層]
画素分離層は、化学気相堆積法(CVD法)を用いて形成されたシリコン窒化物(SiN)膜やシリコン酸窒化物(SiON)膜やシリコン酸化物(SiO)膜で形成される。有機化合物層の面内方向の抵抗を上げるために、有機化合物層の膜厚、特に正孔輸送層、は、画素分離層の側壁において薄く成膜されることが好ましい。具体的には、画素分離層の側壁のテーパー角や画素分離層の膜厚を大きくし、蒸着時のケラレを増加させることにより、側壁の膜厚を薄く成膜することができる。
[Pixel isolation layer]
The pixel separation layer is formed of a silicon nitride (SiN) film, a silicon oxynitride (SiON) film, or a silicon oxide (SiO) film formed by chemical vapor deposition (CVD). In order to increase the resistance in the in-plane direction of the organic compound layer, it is preferable that the thickness of the organic compound layer, particularly the hole transport layer, is thinly formed on the sidewall of the pixel separation layer. Specifically, the thickness of the sidewall can be thinly formed by increasing the taper angle of the sidewall of the pixel separation layer or the thickness of the pixel separation layer to increase vignetting during deposition.

一方で、画素分離層は、その上に形成される保護層に空隙が形成されない程度に、画素分離層の側壁テーパー角や画素分離層の膜厚を調整することが好ましい。保護層に空隙が形成されないため、保護層に欠陥が発生することを低減できる。保護層に欠陥の発生を低減するので、ダークスポットの発生や、第2電極の導通不良の発生などの信頼性低下を低減することができる。 On the other hand, it is preferable to adjust the sidewall taper angle and film thickness of the pixel separation layer to such an extent that no voids are formed in the protective layer formed on top of the pixel separation layer. Since no voids are formed in the protective layer, the occurrence of defects in the protective layer can be reduced. Since the occurrence of defects in the protective layer is reduced, deterioration in reliability such as the occurrence of dark spots and poor continuity of the second electrode can be reduced.

本実施形態によれば、画素分離層の側壁のテーパー角が急峻でなくとも、隣接画素への電荷漏れを効果的に抑制することが可能になる。本検討の結果、テーパー角が60度以上90度以下の範囲であれば十分低減できることが分かった。画素分離層の膜厚は10nm以上から150nm以下であることが望ましい。また、画素分離層を有さない画素電極のみで構成されていても同様の効果が得られる。ただし、この場合画素電極の膜厚は有機層の半分以下するか、画素電極端部を60°未満の順テーパーにすることが有機発光素子の短絡が低減できるので好ましい。 According to this embodiment, even if the taper angle of the sidewall of the pixel separation layer is not steep, it is possible to effectively suppress charge leakage to adjacent pixels. As a result of this study, it was found that a sufficient reduction can be achieved if the taper angle is in the range of 60 degrees or more and 90 degrees or less. The thickness of the pixel separation layer is preferably 10 nm or more and 150 nm or less. The same effect can also be obtained even if the pixel electrode is composed only of a pixel electrode without a pixel separation layer. However, in this case, it is preferable that the thickness of the pixel electrode is half or less than that of the organic layer, or that the end of the pixel electrode has a forward taper of less than 60 degrees, since this reduces short circuits in the organic light-emitting element.

[有機化合物層]
有機化合物層は、単層で形成されても、複数層で形成されてもよい。複数層を有する場合には、その機能によって、ホール注入層、ホール輸送層、電子ブロッキング層、発光層、ホールブロッキング層、電子輸送層、電子注入層、と呼ばれてよい。有機化合物層は、主に有機化合物で構成されるが、無機原子、無機化合物を含んでいてもよい。例えば、銅、リチウム、マグネシウム、アルミニウム、イリジウム、白金、モリブデン、亜鉛等を有してよい。有機化合物層は、第1電極と第2電極との間に配置されてよく、第1電極及び第2電極に接して配されてよい。
[Organic Compound Layer]
The organic compound layer may be formed as a single layer or as multiple layers. When the organic compound layer has multiple layers, it may be called a hole injection layer, a hole transport layer, an electron blocking layer, a light emitting layer, a hole blocking layer, an electron transport layer, an electron injection layer, etc., depending on its function. The organic compound layer is mainly composed of an organic compound, but may also contain inorganic atoms and inorganic compounds. For example, it may contain copper, lithium, magnesium, aluminum, iridium, platinum, molybdenum, zinc, etc. The organic compound layer may be disposed between the first electrode and the second electrode, or may be disposed in contact with the first electrode and the second electrode.

[保護層]
陰極の上に、保護層を設けてもよい。例えば、陰極上に吸湿剤を設けたガラスを接着することで、有機化合物層に対する水等の浸入を低減し、表示不良の発生を低減することができる。また、別の実施形態としては、陰極上に窒化ケイ素等のパッシベーション膜を設け、有機化合物層に対する水等の浸入を低減してもよい。例えば、陰極を形成後に真空を破らずに別のチャンバーに搬送し、CVD法で厚さ2μmの窒化ケイ素膜を形成することで、保護層としてもよい。CVD法の成膜の後で原子堆積法(ALD法)を用いた保護層を設けてもよい。ALD法による膜の材料は限定されないが、窒化ケイ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム等であってよい。ALD法で形成した膜の上に、さらにCVD法で窒化ケイ素を形成してよい。ALD法による膜は、CVD法で形成した膜よりも小さい膜厚であってよい。具体的には、50%以下、さらには、10%以下であってよい。
[Protective Layer]
A protective layer may be provided on the cathode. For example, by bonding glass provided with a moisture absorbent on the cathode, the intrusion of water or the like into the organic compound layer can be reduced, and the occurrence of display defects can be reduced. In another embodiment, a passivation film such as silicon nitride may be provided on the cathode to reduce the intrusion of water or the like into the organic compound layer. For example, after forming the cathode, the cathode may be transported to another chamber without breaking the vacuum, and a silicon nitride film having a thickness of 2 μm may be formed by the CVD method to form a protective layer. A protective layer may be provided using the atomic deposition method (ALD method) after the film formation by the CVD method. The material of the film by the ALD method is not limited, and may be silicon nitride, silicon oxide, aluminum oxide, etc. Silicon nitride may be further formed by the CVD method on the film formed by the ALD method. The film by the ALD method may have a smaller thickness than the film formed by the CVD method. Specifically, it may be 50% or less, or even 10% or less.

[カラーフィルタ]
保護層の上にカラーフィルタを設けてもよい。例えば、有機発光素子のサイズを考慮したカラーフィルタを別の基板上に設け、それと有機発光素子を設けた基板と貼り合わせてもよいし、上記で示した保護層上にフォトリソグラフィ技術を用いて、カラーフィルタをパターニングしてもよい。カラーフィルタは、高分子で構成されてよい。
[Color filter]
A color filter may be provided on the protective layer. For example, a color filter taking into consideration the size of the organic light-emitting element may be provided on another substrate and then bonded to the substrate on which the organic light-emitting element is provided, or a color filter may be patterned on the protective layer described above using a photolithography technique. The color filter may be made of a polymer.

[平坦化層]
カラーフィルタと保護層との間に平坦化層を有してもよい。平坦化層は、下の層の凹凸を低減する目的で設けられる。目的を制限せずに、材質樹脂層と呼ばれる場合もある。平坦化層は有機化合物で構成されてよく、低分子であっても、高分子であってもよいが、高分子であることが好ましい。
[Planarization layer]
A planarization layer may be provided between the color filter and the protective layer. The planarization layer is provided for the purpose of reducing unevenness of the layer below. It may also be called a material resin layer without limiting the purpose. The planarization layer may be composed of an organic compound, and may be a low molecular weight or a high molecular weight, but is preferably a high molecular weight.

平坦化層は、カラーフィルタの上下に設けられてもよく、その構成材料は同じであっても異なってもよい。具体的には、ポリビニルカルバゾール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ABS樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、尿素樹脂等があげられる。 The planarization layer may be provided above and below the color filter, and may be made of the same or different materials. Specific examples include polyvinylcarbazole resin, polycarbonate resin, polyester resin, ABS resin, acrylic resin, polyimide resin, phenolic resin, epoxy resin, silicone resin, and urea resin.

[マイクロレンズ]
有機発光装置は、その光出射側にマイクロレンズ等の光学部材を有してよい。マイクロレンズは、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等で構成されうる。マイクロレンズは、有機発光装置から取り出す光量の増加、取り出す光の方向の制御を目的としてよい。マイクロレンズは、半球の形状を有してよい。半球の形状を有する場合、当該半球に接する接線のうち、絶縁層と平行になる接線があり、その接線と半球との接点がマイクロレンズの頂点である。マイクロレンズの頂点は、任意の断面図においても同様に決定することができる。つまり、断面図におけるマイクロレンズの半円に接する接線のうち、絶縁層と平行になる接線があり、その接線と半円との接点がマイクロレンズの頂点である。
[Microlens]
The organic light-emitting device may have an optical member such as a microlens on its light-emitting side. The microlens may be made of acrylic resin, epoxy resin, or the like. The microlens may be intended to increase the amount of light extracted from the organic light-emitting device and control the direction of the extracted light. The microlens may have a hemispherical shape. When the microlens has a hemispherical shape, among the tangents to the hemisphere, there is a tangent that is parallel to the insulating layer, and the tangent and the hemisphere are the vertices of the microlens. The vertex of the microlens can be determined in the same manner in any cross-sectional view. In other words, among the tangents to the semicircle of the microlens in the cross-sectional view, there is a tangent that is parallel to the insulating layer, and the tangent and the semicircle are the vertices of the microlens.

また、マイクロレンズの中点を定義することもできる。マイクロレンズの断面において、円弧の形状が終了する点から別の円弧の形状が終了する点までの線分を仮想し、当該線分の中点がマイクロレンズの中点と呼ぶことができる。頂点、中点を判別する断面は、絶縁層に垂直な断面であってよい。 It is also possible to define the midpoint of a microlens. In the cross section of the microlens, a line segment can be imagined from the point where an arc shape ends to the point where another arc shape ends, and the midpoint of this line segment can be called the midpoint of the microlens. The cross section for determining the vertex and midpoint may be a cross section perpendicular to the insulating layer.

マイクロレンズは凸部を有する第1面と、第1面と反対の第2面を有する。第2面が第1面よりも機能層側に配されていることが好ましい。このような構成を取るためには、発光装置上にマイクロレンズを形成する必要がある。機能層が有機層の場合には、製造工程において高温になるプロセスは避ける方が好ましい。また、第2面が第1面よりも機能層側に配されている構成を取る場合には、有機層を構成する有機化合物のガラス転移温度がすべて100℃以上であることが好ましく、130℃以上であることがより好ましい。 The microlens has a first surface having a convex portion and a second surface opposite to the first surface. It is preferable that the second surface is disposed closer to the functional layer than the first surface. To achieve such a configuration, it is necessary to form a microlens on the light-emitting device. When the functional layer is an organic layer, it is preferable to avoid processes that result in high temperatures during the manufacturing process. Furthermore, when the second surface is disposed closer to the functional layer than the first surface, it is preferable that the glass transition temperatures of the organic compounds that make up the organic layer are all 100°C or higher, and more preferably 130°C or higher.

[対向基板]
平坦化層の上には、対向基板を有してよい。対向基板は、前述の基板と対応する位置に設けられるため、対向基板と呼ばれる。対向基板の構成材料は、前述の基板と同じであってよい。対向基板は、前述の基板を第1基板とした場合、第2基板であってよい。
[Counter substrate]
A counter substrate may be provided on the planarization layer. The counter substrate is called a counter substrate because it is provided at a position corresponding to the aforementioned substrate. The material of the counter substrate may be the same as that of the aforementioned substrate. When the aforementioned substrate is a first substrate, the counter substrate may be a second substrate.

[有機層]
本発明の一実施形態に係る有機発光素子を構成する有機化合物層(正孔注入層、正孔輸送層、電子阻止層、発光層、正孔阻止層、電子輸送層、電子注入層等)は、以下に示す方法により形成される。
[Organic Layer]
The organic compound layers (such as a hole injection layer, a hole transport layer, an electron blocking layer, a light emitting layer, a hole blocking layer, an electron transport layer, and an electron injection layer) constituting the organic light emitting device according to one embodiment of the present invention are formed by the method described below.

本発明の一実施形態に係る有機発光素子を構成する有機化合物層は、真空蒸着法、イオン化蒸着法、スパッタリング、プラズマ等のドライプロセスを用いることができる。またドライプロセスに代えて、適当な溶媒に溶解させて公知の塗布法(例えば、スピンコーティング、ディッピング、キャスト法、LB法、インクジェット法等)により層を形成するウェットプロセスを用いることもできる。 The organic compound layer constituting the organic light-emitting device according to one embodiment of the present invention can be formed using a dry process such as vacuum deposition, ionization deposition, sputtering, plasma, etc. Alternatively to the dry process, a wet process can be used in which the compound is dissolved in a suitable solvent and a layer is formed using a known coating method (e.g., spin coating, dipping, casting, LB method, inkjet method, etc.).

ここで真空蒸着法や溶液塗布法等によって層を形成すると、結晶化等が起こりにくく経時安定性に優れる。また塗布法で成膜する場合は、適当なバインダー樹脂と組み合わせて膜を形成することもできる。 Here, if a layer is formed by a vacuum deposition method or a solution coating method, crystallization is unlikely to occur and the layer has excellent stability over time. In addition, when forming a film by a coating method, a film can be formed by combining with an appropriate binder resin.

上記バインダー樹脂としては、ポリビニルカルバゾール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ABS樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、尿素樹脂等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 Examples of the binder resin include, but are not limited to, polyvinylcarbazole resin, polycarbonate resin, polyester resin, ABS resin, acrylic resin, polyimide resin, phenol resin, epoxy resin, silicone resin, urea resin, etc.

また、これらバインダー樹脂は、ホモポリマー又は共重合体として一種類を単独で使用してもよいし、二種類以上を混合して使用してもよい。さらに必要に応じて、公知の可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の添加剤を併用してもよい。 These binder resins may be used alone as homopolymers or copolymers, or two or more types may be mixed together. If necessary, known additives such as plasticizers, antioxidants, and ultraviolet absorbers may be used in combination.

[画素回路]
発光装置は、発光素子に接続されている画素回路を有してよい。画素回路は、第1発光素子、第2発光素子をそれぞれ独立に発光制御するアクティブマトリックス型であってよい。アクティブマトリックス型の回路は電圧プログラミングであっても、電流プログラミングであってもよい。駆動回路は、画素毎に画素回路を有する。画素回路は、発光素子、発光素子の発光輝度を制御するトランジスタ、発光タイミングを制御するトランジスタ、発光輝度を制御するトランジスタのゲート電圧を保持する容量、発光素子を介さずにGNDに接続するためのトランジスタを有してよい。
[Pixel circuit]
The light emitting device may have a pixel circuit connected to the light emitting element. The pixel circuit may be an active matrix type that controls the emission of the first light emitting element and the second light emitting element independently. The active matrix type circuit may be voltage programming or current programming. The drive circuit has a pixel circuit for each pixel. The pixel circuit may have a light emitting element, a transistor that controls the emission luminance of the light emitting element, a transistor that controls the emission timing, a capacitance that holds the gate voltage of the transistor that controls the emission luminance, and a transistor for connecting to GND without going through the light emitting element.

発光装置は、表示領域と、表示領域の周囲に配されている周辺領域とを有する。表示領域には画素回路を有し、周辺領域には表示制御回路を有する。画素回路を構成するトランジスタの移動度は、表示制御回路を構成するトランジスタの移動度よりも小さくてよい。 The light-emitting device has a display region and a peripheral region arranged around the display region. The display region has a pixel circuit, and the peripheral region has a display control circuit. The mobility of the transistors constituting the pixel circuit may be smaller than the mobility of the transistors constituting the display control circuit.

画素回路を構成するトランジスタの電流電圧特性の傾きは、表示制御回路を構成するトランジスタの電流電圧特性の傾きよりも小さくてよい。電流電圧特性の傾きは、いわゆるVg-Ig特性により測定できる。 The slope of the current-voltage characteristics of the transistors that make up the pixel circuit may be smaller than the slope of the current-voltage characteristics of the transistors that make up the display control circuit. The slope of the current-voltage characteristics can be measured by the so-called Vg-Ig characteristics.

画素回路を構成するトランジスタは、第1発光素子など、発光素子に接続されているトランジスタである。 The transistors that make up the pixel circuit are transistors that are connected to a light-emitting element, such as the first light-emitting element.

[画素]
有機発光装置は、複数の画素を有する。画素は互いに他と異なる色を発光する副画素を有する。副画素は、例えば、それぞれRGBの発光色を有してよい。
[Pixels]
An organic light emitting device includes a plurality of pixels, each of which includes sub-pixels that emit different colors, for example, each of which may emit RGB colors.

画素は、画素開口とも呼ばれる領域が、発光する。この領域は第1領域と同じである。画素開口は15μm以下であってよく、5μm以上であってよい。より具体的には、11μm、9.5μm、7.4μm、6.4μm等であってよい。 A pixel emits light in an area also called the pixel aperture. This area is the same as the first area. The pixel aperture may be 15 μm or less, or 5 μm or more. More specifically, it may be 11 μm, 9.5 μm, 7.4 μm, 6.4 μm, etc.

副画素間は、10μm以下であってよく、具体的には、8μm、7.4μm、6.4μmであってよい。 The distance between subpixels may be 10 μm or less, specifically 8 μm, 7.4 μm, or 6.4 μm.

画素は、平面図において、公知の配置形態をとりうる。例えば、ストライプ配置、デルタ配置、ペンタイル配置、ベイヤー配置であってよい。副画素の平面図における形状は、公知のいずれの形状をとってもよい。例えば、長方形、ひし形等の四角形、六角形、等である。もちろん、正確な図形ではなく、長方形に近い形をしていれば、長方形に含まれる。副画素の形状と、画素配列と、を組み合わせて用いることができる。 The pixels may have a known arrangement in plan view. For example, they may be a stripe arrangement, a delta arrangement, a pentile arrangement, or a Bayer arrangement. The shape of the subpixels in plan view may be any known shape. For example, they may be rectangular, quadrilaterals such as diamonds, or hexagons. Of course, any shape close to a rectangle, rather than an exact shape, is included in the rectangle. The shape of the subpixels and the pixel arrangement may be used in combination.

[本発明の一実施形態に係る有機発光素子の用途]
本発明の一実施形態に係る有機発光素子は、表示装置や照明装置の構成部材として用いることができる。他にも、電子写真方式の画像形成装置の露光光源や液晶表示装置のバックライト、白色光源にカラーフィルタを有する発光装置等の用途がある。
[Use of the organic light-emitting device according to one embodiment of the present invention]
The organic light-emitting device according to an embodiment of the present invention can be used as a component of a display device or a lighting device, and can also be used as an exposure light source for an electrophotographic image forming device, a backlight for a liquid crystal display device, a light-emitting device having a white light source and a color filter, etc.

表示装置は、エリアCCD、リニアCCD、メモリーカード等からの画像情報を入力する画像入力部を有し、入力された情報を処理する情報処理部を有し、入力された画像を表示部に表示する画像情報処理装置でもよい。 The display device may be an image information processing device that has an image input unit that inputs image information from an area CCD, a linear CCD, a memory card, etc., has an information processing unit that processes the input information, and displays the input image on the display unit.

また、撮像装置やインクジェットプリンタが有する表示部は、タッチパネル機能を有していてもよい。このタッチパネル機能の駆動方式は、赤外線方式でも、静電容量方式でも、抵抗膜方式であっても、電磁誘導方式であってもよく、特に限定されない。また表示装置はマルチファンクションプリンタの表示部に用いられてもよい。 The display unit of the imaging device or inkjet printer may have a touch panel function. The driving method of this touch panel function is not particularly limited and may be an infrared method, a capacitance method, a resistive film method, or an electromagnetic induction method. The display device may also be used in the display unit of a multifunction printer.

次に、図面を参照しながら本実施形態に係る表示装置について説明する。以下の実施形態において、表示装置は、上述の何れの実施形態に係る発光装置(例えば、発光装置101)で構成されてもよい。 Next, the display device according to this embodiment will be described with reference to the drawings. In the following embodiments, the display device may be configured with a light-emitting device according to any of the above-described embodiments (e.g., light-emitting device 101).

図11は、有機発光素子とこの有機発光素子に接続されるトランジスタとを有する表示装置の例を示す断面模式図である。トランジスタは、能動素子の一例である。トランジスタは薄膜トランジスタ(TFT)であってもよい。 Figure 11 is a schematic cross-sectional view showing an example of a display device having an organic light-emitting element and a transistor connected to the organic light-emitting element. The transistor is an example of an active element. The transistor may be a thin-film transistor (TFT).

図11(a)は、本実施形態に係る表示装置の構成要素である画素の一例である。画素は、副画素1100を有している。副画素はその発光により、1100R、1100G、1100Bに分けられている。発光色は、発光層から発光される波長で区別されても、副画素から出社する光がカラーフィルタ等により、選択的透過または色変換が行われてもよい。それぞれの副画素は、層間絶縁層1101の上に第1電極である反射電極1102、反射電極1102の端を覆う絶縁層1103、第1電極と絶縁層とを覆う有機化合物層1104、第2電極1110、保護層1111、カラーフィルタ1112を有している。 Figure 11 (a) is an example of a pixel, which is a component of the display device according to this embodiment. The pixel has a sub-pixel 1100. The sub-pixels are divided into 1100R, 1100G, and 1100B according to their light emission. The emitted light color may be distinguished by the wavelength emitted from the light-emitting layer, or the light emitted from the sub-pixel may be selectively transmitted or color-converted by a color filter or the like. Each sub-pixel has a reflective electrode 1102, which is a first electrode, on an interlayer insulating layer 1101, an insulating layer 1103 covering the edge of the reflective electrode 1102, an organic compound layer 1104 covering the first electrode and the insulating layer, a second electrode 1110, a protective layer 1111, and a color filter 1112.

層間絶縁層1101は、その下層または内部にトランジスタ、容量素子を配されていてよい。トランジスタと第1電極は不図示のコンタクトホール等を介して電気的に接続されていてよい。 The interlayer insulating layer 1101 may have a transistor and a capacitance element disposed underneath or inside it. The transistor and the first electrode may be electrically connected via a contact hole or the like (not shown).

絶縁層1103は、バンク、画素分離膜とも呼ばれる。第1電極の端を覆っており、第1電極を囲って配されている。絶縁層の配されていない部分が、有機化合物層1104と接し、発光領域となる。 The insulating layer 1103 is also called a bank or pixel separation film. It covers the ends of the first electrodes and is disposed to surround the first electrodes. The parts where the insulating layer is not disposed are in contact with the organic compound layer 1104 and become the light-emitting areas.

有機化合物層1104は、正孔注入層1105、正孔輸送層1106、第1発光層1107、第2発光層1108、電子輸送層1109を有する。第2電極1110は、透明電極であっても、反射電極であっても、半透過電極であってもよい。保護層1111は、有機化合物層に水分が浸透することを低減する。保護層は、一層のように図示されているが、複数層であってよい。層ごとに無機化合物層、有機化合物層があってよい。 The organic compound layer 1104 has a hole injection layer 1105, a hole transport layer 1106, a first light emitting layer 1107, a second light emitting layer 1108, and an electron transport layer 1109. The second electrode 1110 may be a transparent electrode, a reflective electrode, or a semi-transparent electrode. The protective layer 1111 reduces the penetration of moisture into the organic compound layer. Although the protective layer is illustrated as being a single layer, it may be multiple layers. Each layer may be an inorganic compound layer and an organic compound layer.

カラーフィルタ1112は、その色により1112R、1112G、1112Bに分けられる。カラーフィルタは、不図示の平坦化膜上に形成されてよい。また、カラーフィルタ上に不図示の樹脂保護層を有してよい。また、カラーフィルタは、保護層1111上に形成されてよい。またはガラス基板等の対向基板上に設けられた後に、貼り合わせられよい。 The color filters 1112 are divided into 1112R, 1112G, and 1112B according to their colors. The color filters may be formed on a planarization film (not shown). Also, a resin protective layer (not shown) may be provided on the color filters. Also, the color filters may be formed on the protective layer 1111. Or, they may be provided on an opposing substrate such as a glass substrate and then bonded together.

図11(b)の表示装置1150は、有機発光素子1166とトランジスタの一例としてTFT1158が記載されている。ガラス、シリコン等の基板1151とその上部に絶縁層1152が設けられている。絶縁層の上には、TFT等の能動素子1158が配されており、能動素子のゲート電極1153、ゲート絶縁膜1154、半導体層1155が配置されている。TFT1158は、他にも半導体層1155とドレイン電極1156とソース電極1157とで構成されている。TFT1158の上部には絶縁膜1159が設けられている。絶縁膜に設けられたコンタクトホール1160を介して有機発光素子1166を構成する陽極1161とソース電極1157とが接続されている。 The display device 1150 in FIG. 11(b) includes an organic light-emitting element 1166 and a TFT 1158 as an example of a transistor. A substrate 1151 made of glass, silicon, or the like, and an insulating layer 1152 is provided on the substrate. An active element 1158 such as a TFT is provided on the insulating layer, and a gate electrode 1153, a gate insulating film 1154, and a semiconductor layer 1155 of the active element are provided. The TFT 1158 also includes a semiconductor layer 1155, a drain electrode 1156, and a source electrode 1157. An insulating film 1159 is provided on the top of the TFT 1158. The anode 1161 and source electrode 1157 that constitute the organic light-emitting element 1166 are connected via a contact hole 1160 provided in the insulating film.

なお、有機発光素子1166に含まれる電極(陽極、陰極)とTFTに含まれる電極(ソース電極、ドレイン電極)との電気接続の方式は、図11(b)に示される態様に限られるものではない。つまり陽極又は陰極のうちいずれか一方とTFTソース電極またはドレイン電極のいずれか一方とが電気接続されていればよい。TFTは、薄膜トランジスタを指す。 The method of electrical connection between the electrodes (anode, cathode) included in the organic light-emitting element 1166 and the electrodes (source electrode, drain electrode) included in the TFT is not limited to the form shown in FIG. 11(b). In other words, it is sufficient that either the anode or the cathode is electrically connected to either the TFT source electrode or the drain electrode. TFT stands for thin film transistor.

図11(b)の表示装置1150では有機化合物層を1つの層の如く図示をしているが、有機化合物層1162は、複数層であってもよい。陰極1163の上には有機発光素子の劣化を低減するための第1保護層1164や第2保護層1165が設けられている。図11(b)の表示装置1150ではスイッチング素子としてトランジスタを使用しているが、これに代えて他のスイッチング素子として用いてもよい。 In the display device 1150 of FIG. 11(b), the organic compound layer is illustrated as a single layer, but the organic compound layer 1162 may be multiple layers. A first protective layer 1164 and a second protective layer 1165 are provided on the cathode 1163 to reduce deterioration of the organic light-emitting element. In the display device 1150 of FIG. 11(b), a transistor is used as the switching element, but other switching elements may be used instead.

また図11(b)の表示装置1150に使用されるトランジスタは、単結晶シリコンウエハを用いたトランジスタに限らず、基板の絶縁性表面上に活性層を有する薄膜トランジスタでもよい。活性層として、単結晶シリコン、アモルファスシリコン、微結晶シリコンなどの非単結晶シリコン、インジウム亜鉛酸化物、インジウムガリウム亜鉛酸化物等の非単結晶酸化物半導体が挙げられる。なお、薄膜トランジスタはTFT素子とも呼ばれる。 The transistors used in the display device 1150 in FIG. 11(b) are not limited to transistors using single crystal silicon wafers, but may be thin film transistors having an active layer on the insulating surface of a substrate. Examples of active layers include single crystal silicon, amorphous silicon, non-single crystal silicon such as microcrystalline silicon, and non-single crystal oxide semiconductors such as indium zinc oxide and indium gallium zinc oxide. Thin film transistors are also called TFT elements.

図11(b)の表示装置1150に含まれるトランジスタは、Si基板等の基板内に形成されていてもよい。ここで基板内に形成されるとは、Si基板等の基板自体を加工してトランジスタを作製することを意味する。つまり、基板内にトランジスタを有することは、基板とトランジスタとが一体に形成されていると見ることもできる。 The transistors included in the display device 1150 in FIG. 11(b) may be formed within a substrate such as a Si substrate. Formed within a substrate here means that the substrate itself, such as a Si substrate, is processed to produce the transistors. In other words, having a transistor within a substrate can be seen as the substrate and the transistor being formed integrally.

本実施形態に係る有機発光素子はスイッチング素子の一例であるTFTにより発光輝度が制御され、有機発光素子を複数面内に設けることでそれぞれの発光輝度により画像を表示することができる。なお、本実施形態に係るスイッチング素子は、TFTに限られず、低温ポリシリコンで形成されているトランジスタ、Si基板等の基板上に形成されたアクティブマトリクスドライバーであってもよい。基板上とは、その基板内ということもできる。基板内にトランジスタを設けるか、TFTを用いるかは、表示部の大きさによって選択され、例えば0.5インチ程度の大きさであれば、Si基板上に有機発光素子を設けることが好ましい。 The organic light-emitting element according to this embodiment has its light emission brightness controlled by a TFT, which is an example of a switching element, and by providing the organic light-emitting element on multiple surfaces, an image can be displayed with the respective light emission brightnesses. Note that the switching element according to this embodiment is not limited to a TFT, and may be a transistor formed from low-temperature polysilicon, or an active matrix driver formed on a substrate such as a Si substrate. On the substrate can also be within the substrate. Whether to provide a transistor within the substrate or to use a TFT is selected according to the size of the display unit; for example, if the size is about 0.5 inches, it is preferable to provide the organic light-emitting element on a Si substrate.

図12は、本実施形態に係る表示装置の一例を表す模式図である。表示装置1200は、上部カバー1201と、下部カバー1209と、の間に、タッチパネル1203、表示パネル1205、フレーム1206、回路基板1207、バッテリー1208、を有してよい。タッチパネル1203および表示パネル1205は、フレキシブルプリント回路FPC1202、1204が接続されている。回路基板1207には、トランジスタがプリントされている。バッテリー1208は、表示装置が携帯機器でなければ、設けなくてもよいし、携帯機器であっても、別の位置に設けてもよい。 Figure 12 is a schematic diagram showing an example of a display device according to this embodiment. The display device 1200 may have a touch panel 1203, a display panel 1205, a frame 1206, a circuit board 1207, and a battery 1208 between an upper cover 1201 and a lower cover 1209. Flexible printed circuits FPCs 1202 and 1204 are connected to the touch panel 1203 and the display panel 1205. Transistors are printed on the circuit board 1207. The battery 1208 may not be provided if the display device is not a portable device, and may be provided in a different position even if the display device is a portable device.

本実施形態に係る表示装置は、赤色、緑色、青色を有するカラーフィルタを有してよい。カラーフィルタは、当該赤色、緑色、青色がデルタ配列で配置されてよい。 The display device according to this embodiment may have a color filter having red, green, and blue colors. The color filters may be arranged such that the red, green, and blue colors are arranged in a delta arrangement.

本実施形態に係る表示装置は、携帯端末の表示部に用いられてもよい。その際には、表示機能と操作機能との双方を有してもよい。携帯端末としては、スマートフォン等の携帯電話、タブレット、ヘッドマウントディスプレイ等が挙げられる。 The display device according to this embodiment may be used in the display section of a mobile terminal. In this case, it may have both a display function and an operation function. Examples of the mobile terminal include mobile phones such as smartphones, tablets, and head-mounted displays.

本実施形態に係る表示装置は、複数のレンズを有する光学部と、当該光学部を通過した光を受光する撮像素子とを有する撮像装置の表示部に用いられてよい。撮像装置は、撮像素子が取得した情報を表示する表示部を有してよい。また、表示部は、撮像装置の外部に露出した表示部であっても、ファインダ内に配置された表示部であってもよい。撮像装置は、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラであってよい。 The display device according to this embodiment may be used in the display section of an imaging device having an optical section with multiple lenses and an imaging element that receives light that has passed through the optical section. The imaging device may have a display section that displays information acquired by the imaging element. The display section may be a display section exposed to the outside of the imaging device, or a display section that is disposed within the viewfinder. The imaging device may be a digital camera or a digital video camera.

図13(a)は、本実施形態に係る撮像装置の一例を表す模式図である。撮像装置1300は、ビューファインダ1301、背面ディスプレイ1302、操作部1303、筐体1304を有してよい。ビューファインダ1301は、本実施形態に係る表示装置を有してよい。その場合、表示装置は、撮像する画像のみならず、環境情報、撮像指示等を表示してよい。環境情報には、外光の強度、外光の向き、被写体の動く速度、被写体が遮蔽物に遮蔽される可能性等であってよい。 FIG. 13(a) is a schematic diagram showing an example of an imaging device according to this embodiment. The imaging device 1300 may have a viewfinder 1301, a rear display 1302, an operation unit 1303, and a housing 1304. The viewfinder 1301 may have a display device according to this embodiment. In this case, the display device may display not only the image to be captured, but also environmental information, imaging instructions, etc. The environmental information may include the intensity of external light, the direction of external light, the speed at which the subject moves, the possibility that the subject will be blocked by an obstruction, etc.

撮像に好適なタイミングはわずかな時間なので、少しでも早く情報を表示した方がよい。したがって、本発明の有機発光素子を用いた表示装置を用いるのが好ましい。有機発光素子は応答速度が速いからである。有機発光素子を用いた表示装置は、表示速度が求められる、これらの装置、液晶表示装置よりも好適に用いることができる。 The optimal timing for capturing an image is very short, so it is better to display information as soon as possible. Therefore, it is preferable to use a display device using the organic light-emitting element of the present invention. This is because organic light-emitting elements have a fast response speed. A display device using organic light-emitting elements can be used more preferably than liquid crystal display devices, which require high display speed.

撮像装置1300は、不図示の光学部を有する。光学部は複数のレンズを有し、筐体1304内に収容されている撮像素子に結像する。複数のレンズは、その相対位置を調整することで、焦点を調整することができる。この操作を自動で行うこともできる。撮像装置は光電変換装置と呼ばれてもよい。光電変換装置は逐次撮像するのではなく、前画像からの差分を検出する方法、常に記録されている画像から切り出す方法等を撮像の方法として含むことができる。 The imaging device 1300 has an optical section (not shown). The optical section has multiple lenses, which form an image on an imaging element housed in a housing 1304. The focus of the multiple lenses can be adjusted by adjusting their relative positions. This operation can also be performed automatically. The imaging device may be called a photoelectric conversion device. Rather than capturing images sequentially, photoelectric conversion devices can include imaging methods such as a method of detecting the difference from the previous image and a method of cutting out an image that is constantly recorded.

図13(b)は、本実施形態に係る電子機器の一例を表す模式図である。電子機器1350は、表示部1351と、操作部1352と、筐体1353を有する。筐体1353には、回路、当該回路を有するプリント基板、バッテリー、通信部、を有してよい。操作部1352は、ボタンであってもよいし、タッチパネル方式の反応部であってもよい。操作部は、指紋を認識してロックの解除等を行う、生体認識部であってもよい。通信部を有する電子機器は通信機器ということもできる。電子機器は、レンズと、撮像素子とを備えることでカメラ機能をさらに有してよい。カメラ機能により撮像された画像が表示部に映される。電子機器としては、スマートフォン、ノートパソコン等があげられる。 FIG. 13B is a schematic diagram showing an example of an electronic device according to this embodiment. The electronic device 1350 has a display unit 1351, an operation unit 1352, and a housing 1353. The housing 1353 may have a circuit, a printed circuit board having the circuit, a battery, and a communication unit. The operation unit 1352 may be a button or a touch panel type reaction unit. The operation unit may be a biometric recognition unit that recognizes a fingerprint and performs unlocking, etc. An electronic device having a communication unit can also be called a communication device. The electronic device may further have a camera function by including a lens and an image sensor. An image captured by the camera function is displayed on the display unit. Examples of the electronic device include a smartphone and a notebook computer.

図14は、本実施形態に係る表示装置の一例を表す模式図である。図14(a)は、テレビモニタやPCモニタ等の表示装置である。表示装置1400は、額縁1401を有し表示部1402を有する。表示部1402には、本実施形態に係る発光装置が用いられてよい。 Figure 14 is a schematic diagram showing an example of a display device according to this embodiment. Figure 14 (a) shows a display device such as a television monitor or a PC monitor. The display device 1400 has a frame 1401 and a display unit 1402. The light-emitting device according to this embodiment may be used for the display unit 1402.

額縁1401と、表示部1402を支える土台1403を有している。土台1403は、図14(a)の形態に限られない。額縁1401の下辺が土台を兼ねてもよい。 It has a frame 1401 and a base 1403 that supports a display unit 1402. The base 1403 is not limited to the form shown in FIG. 14(a). The bottom side of the frame 1401 may also serve as the base.

また、額縁1401および表示部1402は、曲がっていてもよい。その曲率半径は、5000mm以上6000mm以下であってよい。 Furthermore, the frame 1401 and the display unit 1402 may be curved. The radius of curvature may be 5000 mm or more and 6000 mm or less.

図14(b)は本実施形態に係る表示装置の他の例を表す模式図である。図14(b)の表示装置1450は、折り曲げ可能に構成されており、いわゆるフォルダブルな表示装置である。表示装置1450は、第1表示部1451、第2表示部1452、筐体1453、屈曲点1454を有する。第1表示部1451と第2表示部1452とは、本実施形態に係る発光装置を有してよい。第1表示部1451と第2表示部1452とは、つなぎ目のない1枚の表示装置であってよい。第1表示部1451と第2表示部1452とは、屈曲点で分けることができる。第1表示部1451、第2表示部1452は、それぞれ異なる画像を表示してもよいし、第1および第2表示部とで一つの画像を表示してもよい。 14B is a schematic diagram showing another example of the display device according to the present embodiment. The display device 1450 in FIG. 14B is configured to be bendable, and is a so-called foldable display device. The display device 1450 has a first display unit 1451, a second display unit 1452, a housing 1453, and a bending point 1454. The first display unit 1451 and the second display unit 1452 may have the light-emitting device according to the present embodiment. The first display unit 1451 and the second display unit 1452 may be a single display unit without a joint. The first display unit 1451 and the second display unit 1452 can be separated by the bending point. The first display unit 1451 and the second display unit 1452 may each display different images, or the first and second display units may display a single image.

図15(a)は、本実施形態に係る照明装置の一例を表す模式図である。照明装置1500は、筐体1501と、光源1502と、回路基板1503と、光学フィルム1504と、光拡散部1505と、を有してよい。光源は、本実施形態に係る有機発光素子を有してよい。光学フィルタは光源の演色性を向上させるフィルタであってよい。光拡散部は、ライトアップ等、光源の光を効果的に拡散し、広い範囲に光を届けることができる。光学フィルタ、光拡散部は、照明の光出射側に設けられてよい。必要に応じて、最外部にカバーを設けてもよい。 Figure 15 (a) is a schematic diagram showing an example of a lighting device according to this embodiment. The lighting device 1500 may have a housing 1501, a light source 1502, a circuit board 1503, an optical film 1504, and a light diffusion section 1505. The light source may have an organic light-emitting element according to this embodiment. The optical filter may be a filter that improves the color rendering of the light source. The light diffusion section can effectively diffuse the light of the light source, such as for lighting up, and deliver the light over a wide range. The optical filter and the light diffusion section may be provided on the light emission side of the lighting. If necessary, a cover may be provided on the outermost part.

照明装置は例えば室内を照明する装置である。照明装置は白色、昼白色、その他青から赤のいずれの色を発光するものであってよい。それらを調光する調光回路を有してよい。照明装置は本発明の有機発光素子とそれに接続される電源回路を有してよい。電源回路は、交流電圧を直流電圧に変換する回路である。また、白とは色温度が4200Kで昼白色とは色温度が5000Kである。照明装置はカラーフィルタを有してもよい。 The lighting device is, for example, a device that illuminates a room. The lighting device may emit white light, daylight white light, or any other color from blue to red. It may have a dimming circuit that adjusts the light intensity. The lighting device may have an organic light-emitting element of the present invention and a power supply circuit connected thereto. The power supply circuit is a circuit that converts AC voltage into DC voltage. Furthermore, white has a color temperature of 4200K, and daylight white has a color temperature of 5000K. The lighting device may have a color filter.

また、本実施形態に係る照明装置は、放熱部を有していてもよい。放熱部は装置内の熱を装置外へ放出するものであり、比熱の高い金属、液体シリコン等が挙げられる。 The lighting device according to this embodiment may also have a heat dissipation section. The heat dissipation section dissipates heat from within the device to the outside, and examples of the heat dissipation section include metals with high specific heat, liquid silicon, etc.

図15(b)は、本実施形態に係る移動体の一例である自動車の模式図である。当該自動車は灯具の一例であるテールランプを有する。自動車1550は、テールランプ1551を有し、ブレーキ操作等を行った際に、テールランプを点灯する形態であってよい。 Figure 15(b) is a schematic diagram of an automobile, which is an example of a moving body according to this embodiment. The automobile has tail lamps, which are an example of a lamp. The automobile 1550 has tail lamps 1551, and may be configured to turn on the tail lamps when braking or the like is performed.

テールランプ1551は、本実施形態に係る有機発光素子を有してよい。テールランプは、有機EL素子を保護する保護部材を有してよい。保護部材はある程度高い強度を有し、透明であれば材料は問わないが、ポリカーボネート等で構成されることが好ましい。ポリカーボネートにフランジカルボン酸誘導体、アクリロニトリル誘導体等を混ぜてよい。 The tail lamp 1551 may have an organic light-emitting element according to this embodiment. The tail lamp may have a protective member that protects the organic EL element. The protective member may be made of any material as long as it has a relatively high strength and is transparent, but it is preferable that the protective member is made of polycarbonate or the like. Polycarbonate may be mixed with a furandicarboxylic acid derivative, an acrylonitrile derivative, or the like.

自動車1550は、車体1553、それに取り付けられている窓1552を有してよい。窓は、自動車の前後を確認するための窓でなければ、透明なディスプレイであってもよい。当該透明なディスプレイは、本実施形態に係る有機発光素子を有してよい。この場合、有機発光素子が有する電極等の構成材料は透明な部材で構成される。 The automobile 1550 may have a body 1553 and a window 1552 attached thereto. The window may be a transparent display as long as it is not a window for checking the front and rear of the automobile. The transparent display may have an organic light-emitting element according to this embodiment. In this case, the constituent materials of the electrodes and the like of the organic light-emitting element are made of transparent materials.

本実施形態に係る移動体は、船舶、航空機、ドローン等であってよい。移動体は、機体と当該機体に設けられた灯具を有してよい。灯具は、機体の位置を知らせるための発光をしてよい。灯具は本実施形態に係る有機発光素子を有する。 The moving body according to this embodiment may be a ship, an aircraft, a drone, or the like. The moving body may have a body and a lamp provided on the body. The lamp may emit light to indicate the position of the body. The lamp has an organic light-emitting element according to this embodiment.

図16を参照して、上述の各実施形態の表示装置の適用例について説明する。表示装置は、例えばスマートグラス、HMD、スマートコンタクトのようなウェアラブルデバイスとして装着可能なシステムに適用できる。このような適用例に使用される撮像表示装置は、可視光を光電変換可能な撮像装置と、可視光を発光可能な表示装置とを有する。 With reference to FIG. 16, an application example of the display device of each of the above-mentioned embodiments will be described. The display device can be applied to a system that can be attached as a wearable device such as smart glasses, HMD, or smart contacts. An image capturing and display device used in such an application example has an image capturing device capable of photoelectrically converting visible light, and a display device capable of emitting visible light.

図16(a)は、1つの適用例に係る眼鏡1600(スマートグラス)を説明する。眼鏡1600のレンズ1601の表面側に、CMOSセンサやSPADのような撮像装置1602が設けられている。また、レンズ1601の裏面側には、上述した各実施形態の表示装置が設けられている。 Figure 16 (a) illustrates glasses 1600 (smart glasses) according to one application example. An imaging device 1602 such as a CMOS sensor or a SPAD is provided on the front side of a lens 1601 of the glasses 1600. In addition, a display device according to each of the above-mentioned embodiments is provided on the back side of the lens 1601.

眼鏡1600は、制御装置1603をさらに備える。制御装置1603は、撮像装置1602と各実施形態に係る表示装置に電力を供給する電源として機能する。また、制御装置1603は、撮像装置1602と表示装置の動作を制御する。レンズ1601には、撮像装置1602に光を集光するための光学系が形成されている。 The glasses 1600 further include a control device 1603. The control device 1603 functions as a power source that supplies power to the image capture device 1602 and the display device according to each embodiment. The control device 1603 also controls the operation of the image capture device 1602 and the display device. The lens 1601 is formed with an optical system for focusing light on the image capture device 1602.

図16(b)は、1つの適用例に係る眼鏡1650(スマートグラス)を説明する。眼鏡1650は、制御装置1652を有しており、制御装置1652に、撮像装置1602に相当する撮像装置と、表示装置が搭載される。レンズ1651には、制御装置1652内の撮像装置と、表示装置からの発光を投影するための光学系が形成されており、レンズ1651には画像が投影される。制御装置1652は、撮像装置および表示装置に電力を供給する電源として機能するとともに、撮像装置および表示装置の動作を制御する。制御装置は、装着者の視線を検知する視線検知部を有してもよい。視線の検知は赤外線を用いてよい。赤外発光部は、表示画像を注視しているユーザーの眼球に対して、赤外光を発する。発せられた赤外光の眼球からの反射光を、受光素子を有する撮像部が検出することで眼球の撮像画像が得られる。平面視における赤外発光部から表示部への光を低減する低減手段を有することで、画像品位の低下を低減する。 Figure 16 (b) illustrates glasses 1650 (smart glasses) according to one application example. The glasses 1650 have a control device 1652, and the control device 1652 is equipped with an imaging device equivalent to the imaging device 1602 and a display device. The lens 1651 is formed with an optical system for projecting light emitted from the imaging device in the control device 1652 and the display device, and an image is projected onto the lens 1651. The control device 1652 functions as a power source that supplies power to the imaging device and the display device, and controls the operation of the imaging device and the display device. The control device may have a line of sight detection unit that detects the line of sight of the wearer. Infrared light may be used to detect the line of sight. The infrared light emission unit emits infrared light to the eyeball of a user who is gazing at a displayed image. An imaging unit having a light receiving element detects the reflected light of the emitted infrared light from the eyeball, thereby obtaining an image of the eyeball. By having a reduction means for reducing the light from the infrared light emission unit to the display unit in a planar view, deterioration of image quality is reduced.

赤外光の撮像により得られた眼球の撮像画像から表示画像に対するユーザーの視線を検出する。眼球の撮像画像を用いた視線検出には任意の公知の手法が適用できる。一例として、角膜での照射光の反射によるプルキニエ像に基づく視線検出方法を用いることができる。 The user's line of sight with respect to the displayed image is detected from an image of the eyeball obtained by capturing infrared light. Any known method can be applied to gaze detection using an image of the eyeball. As an example, a gaze detection method based on the Purkinje image formed by reflection of irradiated light on the cornea can be used.

より具体的には、瞳孔角膜反射法に基づく視線検出処理が行われる。瞳孔角膜反射法を用いて、眼球の撮像画像に含まれる瞳孔の像とプルキニエ像とに基づいて、眼球の向き(回転角度)を表す視線ベクトルが算出されることにより、ユーザーの視線が検出される。 More specifically, gaze detection processing is performed based on the pupil-corneal reflex method. Using the pupil-corneal reflex method, a gaze vector that represents the direction (rotation angle) of the eyeball is calculated based on the pupil image and Purkinje image contained in the captured image of the eyeball, thereby detecting the user's gaze.

本発明の一実施形態に係る表示装置は、受光素子を有する撮像装置を有し、撮像装置からのユーザーの視線情報に基づいて表示装置の表示画像を制御してよい。 A display device according to one embodiment of the present invention may have an imaging device having a light receiving element, and may control the display image of the display device based on user line-of-sight information from the imaging device.

具体的には、表示装置は、視線情報に基づいて、ユーザーが注視する第1視界領域と、第1視界領域以外の第2視界領域とを決定される。第1視界領域、第2視界領域は、表示装置の制御装置が決定してもよいし、外部の制御装置が決定したものを受信してもよい。表示装置の表示領域において、第1視界領域の表示解像度を第2視界領域の表示解像度よりも高く制御してよい。つまり、第2視界領域の解像度を第1視界領域よりも低くしてよい。 Specifically, the display device determines a first field of view area on which the user gazes and a second field of view area other than the first field of view area based on the line of sight information. The first field of view area and the second field of view area may be determined by a control device of the display device, or may be received from an external control device. In the display area of the display device, the display resolution of the first field of view area may be controlled to be higher than the display resolution of the second field of view area. In other words, the resolution of the second field of view area may be lower than the first field of view area.

また、表示領域は、第1表示領域、第1表示領域とは異なる第2表示領域とを有し、視線情報に基づいて、第1表示領域および第2表示領域から優先度が高い領域を決定される。第1視界領域、第2視界領域は、表示装置の制御装置が決定してもよいし、外部の制御装置が決定したものを受信してもよい。優先度の高い領域の解像度を、優先度が高い領域以外の領域の解像度よりも高く制御してよい。つまり優先度が相対的に低い領域の解像度を低くしてよい。 The display area has a first display area and a second display area different from the first display area, and an area with a high priority is determined from the first display area and the second display area based on line-of-sight information. The first field of view area and the second field of view area may be determined by a control device of the display device, or may be received from an external control device. The resolution of the high priority area may be controlled to be higher than the resolution of areas other than the high priority area. In other words, the resolution of an area with a relatively low priority may be lowered.

なお、第1視界領域や優先度が高い領域の決定には、AIを用いてもよい。AIは、眼球の画像と当該画像の眼球が実際に視ていた方向とを教師データとして、眼球の画像から視線の角度、視線の先の目的物までの距離を推定するよう構成されたモデルであってよい。AIプログラムは、表示装置が有しても、撮像装置が有しても、外部装置が有してもよい。外部装置が有する場合は、通信を介して、表示装置に伝えられる。 AI may be used to determine the first field of view area and areas with high priority. The AI may be a model configured to estimate the angle of gaze and the distance to an object in the line of sight from the image of the eyeball, using as training data an image of the eyeball and the direction in which the eyeball in the image was actually looking. The AI program may be possessed by the display device, the imaging device, or an external device. If possessed by an external device, it is transmitted to the display device via communication.

視認検知に基づいて表示制御する場合、外部を撮像する撮像装置を更に有するスマートグラスに好ましく適用できる。スマートグラスは、撮像した外部情報をリアルタイムで表示することができる。 When display control is based on visual detection, it is preferably applicable to smart glasses that further include an imaging device that captures images of the outside world. The smart glasses can display captured external information in real time.

[実施形態のまとめ]
[項目1]
発光装置であって、
発光素子と、
主端子と、前記発光素子の輝度を制御する第1信号を受けるための制御端子と、を有しており、前記主端子と前記制御端子との間の電圧に応じた電流を前記発光素子に供給するための第1トランジスタと、
第1電極及び第2電極によって構成される第1容量素子と、
第3電極及び第4電極によって構成される第2容量素子と、を備え、
前記第1電極は、前記第1トランジスタの前記制御端子に電気的に接続され、
前記第2電極及び前記第3電極のそれぞれは、前記第1トランジスタの前記主端子に電気的に接続され、
前記第4電極は、電源線に電気的に接続され、
前記第2電極は、前記第1電極の側の面に、前記第1電極に対向する第1部分を含み、
前記第3電極は、前記第2電極の前記第1部分までの最短距離よりも、前記第1電極までの最短距離の方が短い第2部分を含む、発光装置。
[項目2]
前記発光装置は、前記第1トランジスタが形成された主面を有する基板をさらに備え、
前記主面に対する平面視において、前記第1電極と前記第3電極とは互いに重ならない、項目1に記載の発光装置。
[項目3]
前記第1電極と前記第3電極とは、前記基板から同じ高さにある、項目2に記載の発光装置。
[項目4]
前記第1電極は、前記第2電極に対向する部分を含む第1面と、前記第1面の反対側にある第2面とを含み、
前記第1電極の前記第2面は、前記第3電極の前記第2部分に対向する部分を含む、項目1に記載の発光装置。
[項目5]
前記発光装置は、
前記発光素子の発光又は非発光を制御するための第2トランジスタと、
前記第1トランジスタの前記制御端子への前記第1信号の供給を制御するための第3トランジスタと、をさらに備える、項目1乃至4の何れか1項に記載の発光装置。
[項目6]
前記発光装置は、前記第2電極と前記第3電極とを電気的に接続するためのプラグをさらに含み、
前記プラグは、前記第1電極と前記第3電極との間に位置する、項目1乃至5の何れか1項に記載の発光装置。
[項目7]
前記発光装置は、
前記第1トランジスタ及び前記第2トランジスタが形成された主面を有する基板と、
前記第2電極と前記第3電極とを電気的に接続するための導電部材と、をさらに備え、
前記導電部材の前記基板からの高さは、前記第1電極及び前記第3電極のそれぞれの前記基板からの高さよりも低く、
前記導電部材は、前記第1電極に対向する部分を含む、項目1乃至6の何れか1項に記載の発光装置。
[項目8]
前記発光装置は、
前記第1トランジスタ及び前記第2トランジスタが形成された主面を有する基板と、
前記第4電極と前記電源線とを電気的に接続するための導電部材と、をさらに備え、
前記導電部材の前記基板からの高さは、前記第1電極及び前記第3電極のそれぞれの前記基板からの高さよりも低く、
前記導電部材は、前記第3電極に対向する部分を含む、項目1乃至7に記載の発光装置。
[項目9]
前記発光装置は、前記第1トランジスタ及び前記第2トランジスタが形成された主面を有する基板をさらに備え、
前記第1トランジスタと前記第2トランジスタとは、前記基板に形成された不純物領域を共有し、
前記第1電極は、前記主面に対する平面視において、前記第1トランジスタのゲートとして機能する電極に重なる位置にあり、
前記第3電極は、前記主面に対する平面視において、前記第2トランジスタのゲートとして機能する電極に重なる位置にある、項目1乃至8の何れか1項に記載の発光装置。
[項目10]
前記発光装置は、前記発光素子をリセットするための第4トランジスタをさらに備える、項目1乃至9の何れか1項に記載の発光装置。
[項目11]
項目1乃至10の何れか1項に記載の発光装置と、前記発光装置に接続されている能動素子と、を有することを特徴とする表示装置。
[項目12]
複数のレンズを有する光学部と、前記光学部を通過した光を受光する撮像素子と、画像を表示する表示部と、を有し、
前記表示部は、前記撮像素子が撮像した画像を表示する表示部であり、且つ、項目1乃至10の何れか1項に記載の発光装置を有することを特徴とする光電変換装置。
[項目13]
表示部が設けられた筐体と、前記筐体に設けられ、外部と通信する通信部と、を有し、
前記表示部は、項目1乃至10の何れか1項に記載の発光装置を有することを特徴とする電子機器。
[項目14]
光源と、光拡散部および光学フィルムの少なくとも一方と、を有する照明装置であって、
前記光源は、項目1乃至10の何れか1項に記載の発光装置を有することを特徴とする照明装置。
[項目15]
機体と、前記機体に設けられている灯具と、を有する移動体であって、
前記灯具は、項目1乃至10の何れか1項に記載の発光装置を有することを特徴とする移動体。
[Summary of the embodiment]
[Item 1]
A light emitting device, comprising:
A light-emitting element;
a first transistor having a main terminal and a control terminal for receiving a first signal for controlling the luminance of the light-emitting element, the first transistor supplying a current to the light-emitting element according to a voltage between the main terminal and the control terminal;
a first capacitance element formed by a first electrode and a second electrode;
a second capacitance element formed by a third electrode and a fourth electrode,
the first electrode is electrically connected to the control terminal of the first transistor;
each of the second electrode and the third electrode is electrically connected to the main terminal of the first transistor;
the fourth electrode is electrically connected to a power supply line;
the second electrode includes a first portion on a surface on the side of the first electrode that faces the first electrode,
The third electrode includes a second portion whose shortest distance to the first electrode is shorter than the shortest distance to the first portion of the second electrode.
[Item 2]
the light emitting device further includes a substrate having a main surface on which the first transistor is formed,
2. The light emitting device according to claim 1, wherein the first electrode and the third electrode do not overlap each other in a plan view with respect to the main surface.
[Item 3]
3. The light emitting device of claim 2, wherein the first electrode and the third electrode are at the same height from the substrate.
[Item 4]
the first electrode includes a first surface including a portion facing the second electrode, and a second surface on the opposite side to the first surface;
2. The light emitting device of claim 1, wherein the second surface of the first electrode includes a portion facing the second portion of the third electrode.
[Item 5]
The light emitting device comprises:
a second transistor for controlling whether the light emitting element emits light;
5. The light emitting device according to claim 1, further comprising: a third transistor for controlling supply of the first signal to the control terminal of the first transistor.
[Item 6]
the light emitting device further includes a plug for electrically connecting the second electrode and the third electrode;
6. The light emitting device according to any one of claims 1 to 5, wherein the plug is located between the first electrode and the third electrode.
[Item 7]
The light emitting device comprises:
a substrate having a main surface on which the first transistor and the second transistor are formed;
a conductive member for electrically connecting the second electrode and the third electrode,
a height of the conductive member from the substrate is lower than a height of each of the first electrode and the third electrode from the substrate;
7. The light emitting device according to claim 1, wherein the conductive member includes a portion facing the first electrode.
[Item 8]
The light emitting device comprises:
a substrate having a main surface on which the first transistor and the second transistor are formed;
a conductive member for electrically connecting the fourth electrode and the power supply line,
a height of the conductive member from the substrate is lower than a height of each of the first electrode and the third electrode from the substrate;
8. The light emitting device according to any one of claims 1 to 7, wherein the conductive member includes a portion facing the third electrode.
[Item 9]
the light emitting device further includes a substrate having a main surface on which the first transistor and the second transistor are formed,
the first transistor and the second transistor share an impurity region formed in the substrate;
the first electrode is located at a position overlapping an electrode that functions as a gate of the first transistor in a plan view with respect to the main surface,
9. The light-emitting device according to claim 1, wherein the third electrode is positioned so as to overlap an electrode that functions as a gate of the second transistor in a plan view with respect to the principal surface.
[Item 10]
10. The light emitting device according to any one of claims 1 to 9, further comprising a fourth transistor for resetting the light emitting element.
[Item 11]
11. A display device comprising: the light-emitting device according to any one of items 1 to 10; and an active element connected to the light-emitting device.
[Item 12]
The imaging device includes an optical unit having a plurality of lenses, an image sensor that receives light that has passed through the optical unit, and a display unit that displays an image,
11. A photoelectric conversion device, wherein the display unit is a display unit that displays an image captured by the imaging element, and the photoelectric conversion device includes the light-emitting device according to any one of items 1 to 10.
[Item 13]
A display unit is provided in a housing, and a communication unit is provided in the housing and communicates with an external device.
11. An electronic device, wherein the display unit comprises the light-emitting device according to any one of items 1 to 10.
[Item 14]
A lighting device having a light source and at least one of a light diffusion unit and an optical film,
11. An illumination device, wherein the light source comprises the light-emitting device according to any one of items 1 to 10.
[Item 15]
A moving body having a body and a lighting device provided on the body,
11. A moving body, wherein the lighting device has the light-emitting device according to any one of items 1 to 10.

発明は上記実施形態に制限されるものではなく、発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、発明の範囲を公にするために請求項を添付する。 The invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications and variations are possible without departing from the spirit and scope of the invention. Therefore, the following claims are appended to disclose the scope of the invention.

101 発光装置、201 発光素子、202 駆動トランジスタ、205 容量素子、206 容量素子 101 Light emitting device, 201 Light emitting element, 202 Driving transistor, 205 Capacitor, 206 Capacitor

Claims (15)

発光装置であって、
発光素子と、
主端子と、前記発光素子の輝度を制御する第1信号を受けるための制御端子と、を有しており、前記主端子と前記制御端子との間の電圧に応じた電流を前記発光素子に供給するための第1トランジスタと、
第1電極及び第2電極によって構成される第1容量素子と、
第3電極及び第4電極によって構成される第2容量素子と、を備え、
前記第1電極は、前記第1トランジスタの前記制御端子に電気的に接続され、
前記第2電極及び前記第3電極のそれぞれは、前記第1トランジスタの前記主端子に電気的に接続され、
前記第4電極は、電源線に電気的に接続され、
前記第2電極は、前記第1電極の側の面に、前記第1電極に対向する第1部分を含み、
前記第3電極は、前記第2電極の前記第1部分までの最短距離よりも、前記第1電極までの最短距離の方が短い第2部分を含む、発光装置。
A light emitting device, comprising:
A light-emitting element;
a first transistor having a main terminal and a control terminal for receiving a first signal for controlling the luminance of the light-emitting element, the first transistor supplying a current to the light-emitting element according to a voltage between the main terminal and the control terminal;
a first capacitance element formed by a first electrode and a second electrode;
a second capacitance element formed by a third electrode and a fourth electrode,
the first electrode is electrically connected to the control terminal of the first transistor;
each of the second electrode and the third electrode is electrically connected to the main terminal of the first transistor;
the fourth electrode is electrically connected to a power supply line;
the second electrode includes a first portion on a surface on the side of the first electrode that faces the first electrode,
The third electrode includes a second portion whose shortest distance to the first electrode is shorter than the shortest distance to the first portion of the second electrode.
前記発光装置は、前記第1トランジスタが形成された主面を有する基板をさらに備え、
前記主面に対する平面視において、前記第1電極と前記第3電極とは互いに重ならない、請求項1に記載の発光装置。
the light emitting device further includes a substrate having a main surface on which the first transistor is formed,
The light emitting device according to claim 1 , wherein the first electrode and the third electrode do not overlap each other in a plan view with respect to the main surface.
前記第1電極と前記第3電極とは、前記基板から同じ高さにある、請求項2に記載の発光装置。 The light-emitting device according to claim 2, wherein the first electrode and the third electrode are at the same height from the substrate. 前記第1電極は、前記第2電極に対向する部分を含む第1面と、前記第1面の反対側にある第2面とを含み、
前記第1電極の前記第2面は、前記第3電極の前記第2部分に対向する部分を含む、請求項1に記載の発光装置。
the first electrode includes a first surface including a portion facing the second electrode, and a second surface on the opposite side to the first surface;
The light emitting device according to claim 1 , wherein the second surface of the first electrode includes a portion facing the second portion of the third electrode.
前記発光装置は、
前記発光素子の発光又は非発光を制御するための第2トランジスタと、
前記第1トランジスタの前記制御端子への前記第1信号の供給を制御するための第3トランジスタと、をさらに備える、請求項1に記載の発光装置。
The light emitting device comprises:
a second transistor for controlling whether the light emitting element emits light;
The light emitting device according to claim 1 , further comprising: a third transistor for controlling the supply of the first signal to the control terminal of the first transistor.
前記発光装置は、前記第2電極と前記第3電極とを電気的に接続するためのプラグをさらに含み、
前記プラグは、前記第1電極と前記第3電極との間に位置する、請求項1に記載の発光装置。
the light emitting device further includes a plug for electrically connecting the second electrode and the third electrode;
The light emitting device of claim 1 , wherein the plug is located between the first electrode and the third electrode.
前記発光装置は、
前記第1トランジスタが形成された主面を有する基板と、
前記第2電極と前記第3電極とを電気的に接続するための導電部材と、をさらに備え、
前記導電部材の前記基板からの高さは、前記第1電極及び前記第3電極のそれぞれの前記基板からの高さよりも低く、
前記導電部材は、前記第1電極に対向する部分を含む、請求項1に記載の発光装置。
The light emitting device comprises:
a substrate having a main surface on which the first transistor is formed;
a conductive member for electrically connecting the second electrode and the third electrode,
a height of the conductive member from the substrate is lower than a height of each of the first electrode and the third electrode from the substrate;
The light emitting device according to claim 1 , wherein the conductive member includes a portion facing the first electrode.
前記発光装置は、
前記第1トランジスタが形成された主面を有する基板と、
前記第4電極と前記電源線とを電気的に接続するための導電部材と、をさらに備え、
前記導電部材の前記基板からの高さは、前記第1電極及び前記第3電極のそれぞれの前記基板からの高さよりも低く、
前記導電部材は、前記第3電極に対向する部分を含む、請求項1に記載の発光装置。
The light emitting device comprises:
a substrate having a main surface on which the first transistor is formed;
a conductive member for electrically connecting the fourth electrode and the power supply line,
a height of the conductive member from the substrate is lower than a height of each of the first electrode and the third electrode from the substrate;
The light emitting device according to claim 1 , wherein the conductive member includes a portion facing the third electrode.
前記発光装置は、
前記発光素子の発光又は非発光を制御するための第2トランジスタと、
前記第1トランジスタ及び前記第2トランジスタが形成された主面を有する基板と、をさらに備え、
前記第1トランジスタと前記第2トランジスタとは、前記基板に形成された不純物領域を共有し、
前記第1電極は、前記主面に対する平面視において、前記第1トランジスタのゲートとして機能する電極に重なる位置にあり、
前記第3電極は、前記主面に対する平面視において、前記第2トランジスタのゲートとして機能する電極に重なる位置にある、請求項1に記載の発光装置。
The light emitting device comprises:
a second transistor for controlling whether the light emitting element emits light;
a substrate having a main surface on which the first transistor and the second transistor are formed,
the first transistor and the second transistor share an impurity region formed in the substrate;
the first electrode is located at a position overlapping an electrode that functions as a gate of the first transistor in a plan view with respect to the main surface,
The light emitting device according to claim 1 , wherein the third electrode is located so as to overlap an electrode that functions as a gate of the second transistor in a plan view relative to the main surface.
前記発光装置は、前記発光素子をリセットするための第4トランジスタをさらに備える、請求項1に記載の発光装置。 The light emitting device according to claim 1, further comprising a fourth transistor for resetting the light emitting element. 請求項1乃至10の何れか1項に記載の発光装置と、前記発光装置に接続されている能動素子と、を有することを特徴とする表示装置。 A display device comprising the light-emitting device according to any one of claims 1 to 10 and an active element connected to the light-emitting device. 複数のレンズを有する光学部と、前記光学部を通過した光を受光する撮像素子と、画像を表示する表示部と、を有し、
前記表示部は、前記撮像素子が撮像した画像を表示する表示部であり、且つ、請求項1乃至10の何れか1項に記載の発光装置を有することを特徴とする光電変換装置。
The imaging device includes an optical unit having a plurality of lenses, an image sensor that receives light that has passed through the optical unit, and a display unit that displays an image,
A photoelectric conversion device, comprising: the display unit that displays an image captured by the imaging element; and the light-emitting device according to claim 1 .
表示部が設けられた筐体と、前記筐体に設けられ、外部と通信する通信部と、を有し、
前記表示部は、請求項1乃至10の何れか1項に記載の発光装置を有することを特徴とする電子機器。
A display unit is provided in a housing, and a communication unit is provided in the housing and communicates with an external device.
11. An electronic device, comprising: a display unit comprising the light-emitting device according to claim 1.
光源と、光拡散部および光学フィルムの少なくとも一方と、を有する照明装置であって、
前記光源は、請求項1乃至10の何れか1項に記載の発光装置を有することを特徴とする照明装置。
A lighting device having a light source and at least one of a light diffusion unit and an optical film,
An illumination device, characterized in that the light source comprises a light emitting device according to any one of claims 1 to 10.
機体と、前記機体に設けられている灯具と、を有する移動体であって、
前記灯具は、請求項1乃至10の何れか1項に記載の発光装置を有することを特徴とする移動体。
A moving body having a body and a lighting device provided on the body,
A moving body, comprising: a lighting device comprising: a light emitting device according to claim 1 .
JP2023108524A 2022-11-18 2023-06-30 Light-emitting device, display device, photoelectric conversion device, electronic device, lighting device, and mobile object Pending JP2024074234A (en)

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