JP2024069173A - Ultraviolet irradiation device - Google Patents

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JP2024069173A JP2023191305A JP2023191305A JP2024069173A JP 2024069173 A JP2024069173 A JP 2024069173A JP 2023191305 A JP2023191305 A JP 2023191305A JP 2023191305 A JP2023191305 A JP 2023191305A JP 2024069173 A JP2024069173 A JP 2024069173A
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ultraviolet
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達貴 越山
Tatsuki Koshiyama
利夫 田中
Toshio Tanaka
千佳 小山
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Abstract

To inhibit reproduction of fungus.SOLUTION: An ultraviolet irradiation device includes: an irradiation part (11) to irradiate ultraviolet light; and a control part (13) to control the irradiation part (11) so as to repeat a first mode (M1) to irradiate ultraviolet light so that an amount of irradiation of ultraviolet light per unit area in a predetermined period can become less than a reference amount of irradiation, and a second mode (M2) to irradiate ultraviolet light so that the amount of irradiation of the ultraviolet light per unit area in the predetermined period can become the reference amount of irradiation or more.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本開示は、紫外線照射装置に関する。 This disclosure relates to an ultraviolet irradiation device.

特許文献1には、紫外線照射装置が開示されている。紫外線照射装置は、深紫外領域の照射光を被照射面に照射する光源と、光源を駆動制御する駆動回路を備える。駆動回路は、照射光が照射されない期間が3日を超えないように、光源を間欠動作させる。 Patent Document 1 discloses an ultraviolet irradiation device. The ultraviolet irradiation device includes a light source that irradiates a surface to be irradiated with irradiation light in the deep ultraviolet region, and a drive circuit that drives and controls the light source. The drive circuit operates the light source intermittently so that the period during which no irradiation light is irradiated does not exceed three days.

特開2020-202916号公報JP 2020-202916 A

しかし、照射光(紫外線)の照射量が不十分であるため、紫外線の照射期間内にカビが十分に殺菌されていなかった場合、照射光が照射されない期間中にカビが繁殖する可能性がある。 However, if the amount of light (ultraviolet rays) being irradiated is insufficient and mold is not sufficiently sterilized during the UV irradiation period, mold may grow during the period when light is not being irradiated.

本開示の目的は、菌類の繁殖を抑制できる紫外線照射装置を提供することである。 The objective of this disclosure is to provide an ultraviolet irradiation device that can suppress the proliferation of fungi.

第1の態様の紫外線照射装置は、除菌を行う。紫外線照射装置は、紫外線を照射する照射部(11)と、所定期間における紫外線の単位面積当たりの照射量が基準照射量未満となるように紫外線を照射する第1モード(M1)と、前記所定期間における紫外線の単位面積当たりの照射量が前記基準照射量以上となるように紫外線を照射する第2モード(M2)とを繰り返しに行うように前記照射部(11)を制御する制御部(13)とを備える。 The ultraviolet irradiation device of the first aspect performs sterilization. The ultraviolet irradiation device includes an irradiation unit (11) that irradiates ultraviolet rays, and a control unit (13) that controls the irradiation unit (11) to repeatedly perform a first mode (M1) that irradiates ultraviolet rays so that the irradiation amount of ultraviolet rays per unit area in a predetermined period is less than a reference irradiation amount, and a second mode (M2) that irradiates ultraviolet rays so that the irradiation amount of ultraviolet rays per unit area in the predetermined period is equal to or greater than the reference irradiation amount.

第1の態様では、菌類の繁殖を抑制できる。 In the first aspect, fungal proliferation can be suppressed.

第2の態様は、第1の態様において、前記第1モード(M1)では、前記照射部(11)による紫外線の照射が間欠的に複数回行われる。 The second aspect is the first aspect, in which in the first mode (M1), the irradiation unit (11) intermittently irradiates ultraviolet light multiple times.

第2の態様では、照射部(11)の動作時間を低減させることで、照射部(11)の寿命を延ばすことができる。 In the second aspect, the operating time of the irradiation unit (11) can be reduced, thereby extending the life of the irradiation unit (11).

第3の態様は、第2の態様において、前記第1モード(M1)では、前記照射部(11)による紫外線の照射が連続して行われる。 The third aspect is the second aspect, in which in the first mode (M1), the irradiation unit (11) continuously irradiates ultraviolet light.

第3の態様では、第1モード(M1)時において、カビの繁殖を安定的に抑制することができる。 In the third aspect, mold growth can be stably suppressed in the first mode (M1).

第4の態様は、第1~第3のいずれか1つの態様において、前記紫外線のピーク波長が260nm以上、270nm以下であり、かつ、前記所定期間が1日である場合、前記基準照射量が320mJ/cmであり、かつ、前記第1モード(M1)における前記照射量の最低値が80mJ/cmである。 A fourth aspect is any one of the first to third aspects, wherein when the peak wavelength of the ultraviolet light is 260 nm or more and 270 nm or less, and the specified period is one day, the reference irradiation amount is 320 mJ/ cm2 , and the minimum value of the irradiation amount in the first mode (M1) is 80 mJ/ cm2 .

第4の態様では、紫外線のピーク波長に合わせて、カビの繁殖を防止するために効果的な紫外線の照射量を決定することができる。 In the fourth aspect, the amount of UV radiation effective for preventing mold growth can be determined based on the peak wavelength of the UV radiation.

第5の態様は、第1~第3のいずれか1つの態様において、前記紫外線のピーク波長が249nm以上、259nm以下であり、かつ、前記所定期間が1日である場合、前記基準照射量が298mJ/cmであり、かつ、前記第1モード(M1)における前記照射量の最低値が74mJ/cmである。 A fifth aspect is any one of the first to third aspects, wherein when the peak wavelength of the ultraviolet light is 249 nm or more and 259 nm or less, and the specified period is one day, the reference irradiation amount is 298 mJ/ cm2 , and the minimum value of the irradiation amount in the first mode (M1) is 74 mJ/ cm2 .

第5の態様では、紫外線のピーク波長に合わせて、カビの繁殖を防止するために効果的な紫外線の照射量を決定することができる。 In the fifth aspect, the amount of UV radiation effective for preventing mold growth can be determined based on the peak wavelength of the UV radiation.

第6の態様は、第1~第3のいずれか1つの態様において、前記紫外線のピーク波長が275nm以上、285nm以下であり、かつ、前記所定期間が1日である場合、前記基準照射量が496mJ/cmであり、かつ、前記第1モード(M1)における前記照射量の最低値が124mJ/cmである。 A sixth aspect is any one of the first to third aspects, wherein when the peak wavelength of the ultraviolet light is 275 nm or more and 285 nm or less, and the specified period is one day, the reference irradiation amount is 496 mJ/ cm2 , and the minimum value of the irradiation amount in the first mode (M1) is 124 mJ/ cm2 .

第6の態様では、紫外線のピーク波長に合わせて、カビの繁殖を防止するために効果的な紫外線の照射量を決定することができる。 In the sixth aspect, the amount of UV radiation effective for preventing mold growth can be determined based on the peak wavelength of the UV radiation.

第7の態様は、第1~第6のいずれか1つの態様において、前記第2モード(M2)が行われてから次の前記第2モード(M2)が行われるまでの期間(Y)の上限が、前記第1モード(M1)における前記照射量に基づいて設定される。 In the seventh aspect, in any one of the first to sixth aspects, the upper limit of the period (Y) from when the second mode (M2) is performed until the next second mode (M2) is performed is set based on the amount of irradiation in the first mode (M1).

第7の態様では、第1モード(M1)時の照射量の紫外線による殺菌能力(どの程度の期間、カビの繁殖を抑制できるか)を考慮して、第2モード(M2)を行うタイミングを決定することができる。 In the seventh aspect, the timing for performing the second mode (M2) can be determined taking into consideration the sterilization ability of the ultraviolet light irradiated in the first mode (M1) (how long mold growth can be suppressed).

第8の態様は、第4の態様において、前記第2モード(M2)が行われてから次の前記第2モード(M2)が行われるまでの期間(Y)が、Y1時間以下であり、前記第1モード(M1)における1日の前記照射量をXとすると、前記Y1時間は以下の数1で示される。 In the eighth aspect, in the fourth aspect, the period (Y) from when the second mode (M2) is performed until the next second mode (M2) is performed is Y1 hours or less, and when the daily irradiation amount in the first mode (M1) is X, the Y1 hours are expressed by the following formula 1.

(数1)
Y1=0.45X+33
(Equation 1)
Y1=0.45X+33

第8の態様では、第2モード(M2)が行われてから次の第2モード(M2)が行われるまでの期間(Y)の上限をY1時間とすることができる。 In the eighth aspect, the upper limit of the period (Y) from when the second mode (M2) is performed until the next second mode (M2) is performed can be set to Y1 hours.

第9の態様は、第5の態様において、前記第2モード(M2)が行われてから次の前記第2モード(M2)が行われるまでの期間(Y)が、Y2時間以下であり、前記第1モード(M1)における1日の前記照射量をXとすると、前記Y2時間は以下の数2で示される。 In the ninth aspect, in the fifth aspect, the period (Y) from when the second mode (M2) is performed until the next second mode (M2) is performed is Y2 hours or less, and when the daily irradiation amount in the first mode (M1) is X, the Y2 hours are expressed by the following formula 2.

(数2)
Y2=0.49X+33
(Equation 2)
Y2=0.49X+33

第9の態様では、第2モード(M2)が行われてから次の第2モード(M2)が行われるまでの期間(Y)の上限をY2時間とすることができる。 In the ninth aspect, the upper limit of the period (Y) from when the second mode (M2) is performed until the next second mode (M2) is performed can be set to Y2 hours.

第10の態様は、第6の態様において、前記第2モード(M2)が行われてから次の前記第2モード(M2)が行われるまでの期間(Y)が、Y3時間以下であり、前記第1モード(M1)における1日の前記照射量をXとすると、前記Y3時間は以下の数3で示される。 In the tenth aspect, in the sixth aspect, the period (Y) from when the second mode (M2) is performed until the next second mode (M2) is performed is Y3 hours or less, and when the daily irradiation amount in the first mode (M1) is X, the Y3 hours are expressed by the following formula 3.

(数3)
Y3=0.29X+33
(Equation 3)
Y3 = 0.29X + 33

第10の態様では、第2モード(M2)が行われてから次の第2モード(M2)が行われるまでの期間(Y)の上限をY3時間とすることができる。 In the tenth aspect, the upper limit of the period (Y) from when the second mode (M2) is performed until the next second mode (M2) is performed can be set to Y3 hours.

第11の態様は、第1~第3のいずれか1つの態様において、除菌の対象とする菌類に照射される紫外線の照射量と、前記紫外線のピーク波長と、前記紫外線を照射された菌類の死滅率または不活化率とを対応付けた対応情報に基づいて、前記基準照射量とが設定される。 In an eleventh aspect, in any one of the first to third aspects, the reference irradiation amount is set based on correspondence information that associates the irradiation amount of ultraviolet light irradiated to the fungi to be sterilized, the peak wavelength of the ultraviolet light, and the death rate or inactivation rate of the fungi irradiated with the ultraviolet light.

第11の態様では、対応情報に基づいて基準照射量を設定できる。 In the eleventh aspect, the reference irradiation amount can be set based on the correspondence information.

第12の態様は、第1~第3のいずれか1つの態様において、紫外線のピーク波長が260nm以上、270nm以下であり、菌類に紫外線を照射したときに、菌類を90%の死滅率または不活化率とさせる前記所定期間における紫外線の単位面積当たりの照射量がAであり、菌類に紫外線を照射したときに、菌類を99.99%の死滅率または不活化率とさせる前記所定期間における紫外線の単位面積当たりの照射量がBである場合、前記基準照射量がBに設定され、かつ、前記第1モード(M1)における前記照射量の最低値がAに設定される。 In the twelfth aspect, in any one of the first to third aspects, when the peak wavelength of the ultraviolet light is 260 nm or more and 270 nm or less, the irradiation amount of the ultraviolet light per unit area in the specified period that causes a 90% death rate or inactivation rate of the fungi when irradiated with the ultraviolet light is A, and the irradiation amount of the ultraviolet light per unit area in the specified period that causes a 99.99% death rate or inactivation rate of the fungi when irradiated with the ultraviolet light is B, the reference irradiation amount is set to B, and the minimum value of the irradiation amount in the first mode (M1) is set to A.

第12の態様では、紫外線のピーク波長と、紫外線による菌類の死滅率または不活化率とを考慮して、基準照射量と、第1モード(M1)における照射量の最低値とを設定できる。 In the twelfth aspect, the reference irradiation amount and the minimum irradiation amount in the first mode (M1) can be set taking into consideration the peak wavelength of the ultraviolet light and the death rate or inactivation rate of fungi caused by the ultraviolet light.

第13の態様は、第12の態様において、紫外線のピーク波長が260nm以上、270nm以下である場合、前記第2モード(M2)が行われてから次の前記第2モード(M2)が行われるまでの期間(Y)が、Y4時間以下であることとし、前記第1モード(M1)における前記照射量をXとすると、前記Y4時間は以下の数4で示され、αおよびβは、ピーク波長が260nm以上、270nm以下となる紫外線の所定期間の単位面積当たりの照射量であり、前記βは前記αよりも多く、f(α)は、照射量αで紫外線を照射したときに菌類が繁殖することを抑制できた時間であり、f(β)は、照射量βで紫外線を照射したときに菌類が繁殖することを抑制できた時間である。 In a thirteenth aspect, in the twelfth aspect, when the peak wavelength of the ultraviolet light is 260 nm or more and 270 nm or less, the period (Y) from when the second mode (M2) is performed until the next second mode (M2) is performed is Y4 hours or less, and when the irradiation amount in the first mode (M1) is X, the Y4 hours are expressed by the following formula 4, where α and β are irradiation amounts per unit area of ultraviolet light having a peak wavelength of 260 nm or more and 270 nm or less in a predetermined period, the β is greater than the α, f (α) is the time during which fungal proliferation can be suppressed when ultraviolet light is irradiated with the irradiation amount α, and f (β) is the time during which fungal proliferation can be suppressed when ultraviolet light is irradiated with the irradiation amount β.

(数4)
Y4=a・X+b
a={f(β)―f(α)/(β―α)}
b=f(α)―a・α
(Equation 4)
Y4 = a.X + b
a = {f (β) -f (α) /(β - α)}
b = f (α) - a α

第13の態様では、第2モード(M2)が行われてから次の第2モード(M2)が行われるまでの期間(Y)を演算により求めることができる。 In the thirteenth aspect, the period (Y) from when the second mode (M2) is performed until the next second mode (M2) is performed can be calculated.

第14の態様は、第13の態様において、紫外線のピーク波長が249nm以上、259nm以下である場合、前記基準照射量がB/1.08に設定され、かつ、前記第1モード(M1)における前記照射量の最低値がA/1.08に設定される。 In the 14th aspect, in the 13th aspect, when the peak wavelength of the ultraviolet light is 249 nm or more and 259 nm or less, the reference dose is set to B/1.08, and the minimum value of the dose in the first mode (M1) is set to A/1.08.

第14の態様では、ピーク波長が265nmであるときの紫外線による菌類の死滅率または不活化率に基づいて、紫外線のピーク波長が249nm以上、259nm以下であるときの基準照射量と、第1モード(M1)における照射量の最低値とを設定できる。 In the fourteenth aspect, a reference irradiation amount when the peak wavelength of ultraviolet light is 249 nm or more and 259 nm or less, and a minimum irradiation amount in the first mode (M1) can be set based on the death rate or inactivation rate of fungi caused by ultraviolet light when the peak wavelength is 265 nm.

第15の態様は、第14の態様において、紫外線のピーク波長が249nm以上、259nm以下である場合、前記第2モード(M2)が行われてから次の前記第2モード(M2)が行われるまでの期間(Y)が、Y5時間以下であることとすると、前記Y5時間は以下の数5で示される。 In the fifteenth aspect, in the fourteenth aspect, when the peak wavelength of the ultraviolet light is 249 nm or more and 259 nm or less, if the period (Y) from when the second mode (M2) is performed until the next second mode (M2) is performed is Y5 hours or less, the Y5 hours are expressed by the following formula 5.

(数5)
Y5=a1・X+b1
a1={f(β/1.08)―f(α/1.08)/(β/1.08―α/1.08)}
b1=f(α/1.08)―a・α/1.08
(Equation 5)
Y5 = a1.X + b1
a1 = {f (β/1.08) - f (α/1.08) / (β/1.08 - α/1.08 )}
b1 = f (α/1.08) - a α/1.08

第15の態様では、第2モード(M2)が行われてから次の第2モード(M2)が行われるまでの期間(Y)を演算により求めることができる。 In the fifteenth aspect, the period (Y) from when the second mode (M2) is performed until the next second mode (M2) is performed can be calculated.

第16の態様は、第13~第15のいずれか1つの態様において、紫外線のピーク波長が275nm以上、285nm以下である場合、前記基準照射量がB/0.65に設定され、かつ、前記第1モード(M1)における前記照射量の最低値がA/0.65に設定される。 A sixteenth aspect is any one of the thirteenth to fifteenth aspects, in which when the peak wavelength of the ultraviolet light is 275 nm or more and 285 nm or less, the reference dose is set to B/0.65, and the minimum value of the dose in the first mode (M1) is set to A/0.65.

第16の態様では、ピーク波長が265nmであるときの紫外線による菌類の死滅率または不活化率に基づいて、紫外線のピーク波長が275nm以上、285nm以下であるときの基準照射量と、第1モード(M1)における照射量の最低値とを設定できる。 In the sixteenth aspect, a reference irradiation amount when the peak wavelength of ultraviolet light is 275 nm or more and 285 nm or less, and a minimum irradiation amount in the first mode (M1) can be set based on the death rate or inactivation rate of fungi caused by ultraviolet light when the peak wavelength is 265 nm.

第17の態様は、第16の態様において、紫外線のピーク波長が275nm以上、285nm以下である場合、前記第2モード(M2)が行われてから次の前記第2モード(M2)が行われるまでの期間(Y)が、Y6時間以下であることとすると、前記Y6時間は以下の数6で示される。 In the seventeenth aspect, in the sixteenth aspect, when the peak wavelength of the ultraviolet light is 275 nm or more and 285 nm or less, if the period (Y) from when the second mode (M2) is performed until the next second mode (M2) is performed is Y6 hours or less, the Y6 hours are expressed by the following formula 6.

(数6)
Y6=a2・X+b2
a2={f(β/0.65)―f(α/0.65)/(β/0.65―α/0.65)}
b2=f(α/0.65)―a・α/0.65
(Equation 6)
Y6 = a2.X + b2
a2 = {f (β/0.65) - f (α/0.65) / (β/0.65 - α/0.65 )}
b2 = f (α/0.65) - a α/0.65

第17の態様では、第2モード(M2)が行われてから次の第2モード(M2)が行われるまでの期間(Y)を演算により求めることができる。 In the seventeenth aspect, the period (Y) from when the second mode (M2) is performed until the next second mode (M2) is performed can be calculated.

第18の態様は、第1~第3のいずれか1つの態様において、除菌の対象となる菌類には、フザリウムまたはペニシリウムが含まれ、前記紫外線のピーク波長が260nm以上、270nm以下であり、かつ、前記所定期間が1日である場合、前記基準照射量が48mJ/cmであり、かつ、前記第1モード(M1)における前記照射量の最低値が12mJ/cmである。 In an eighteenth aspect, in any one of the first to third aspects, the fungi to be sterilized include Fusarium or Penicillium, the peak wavelength of the ultraviolet light is 260 nm or more and 270 nm or less, and the specified period is one day, the reference irradiation amount is 48 mJ/ cm2 , and the minimum value of the irradiation amount in the first mode (M1) is 12 mJ/ cm2 .

第18の態様では、菌類の種類に合わせて基準照射量と、第1モード(M1)における照射量の最低値とを設定できる。 In the 18th aspect, a reference irradiation amount and a minimum irradiation amount in the first mode (M1) can be set according to the type of fungus.

第19の態様は、第1~第3のいずれか1つの態様において、除菌の対象となる菌類には、クラドスポリウムまたはアスペルギルスが含まれ、前記紫外線のピーク波長が260nm以上、270nm以下であり、かつ、前記所定期間が1日である場合、前記基準照射量が327mJ/cmであり、かつ、前記第1モード(M1)における前記照射量の最低値が82mJ/cmである。 A nineteenth aspect is any one of the first to third aspects, wherein the fungi to be sterilized include Cladosporium or Aspergillus, the peak wavelength of the ultraviolet light is 260 nm or more and 270 nm or less, and the specified period is one day, the reference irradiation amount is 327 mJ/ cm2 , and the minimum value of the irradiation amount in the first mode (M1) is 82 mJ/ cm2 .

第19の態様では、菌類の種類に合わせて基準照射量と、第1モード(M1)における照射量の最低値とを設定できる。 In the 19th aspect, a reference irradiation amount and a minimum irradiation amount in the first mode (M1) can be set according to the type of fungus.

図1は、紫外線照射装置を示す模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing an ultraviolet irradiation device. 図2は、紫外線照射装置の構成を示すブロック図である。FIG. 2 is a block diagram showing the configuration of the ultraviolet irradiation device. 図3は、制御部の動作モードを示す図である。FIG. 3 is a diagram showing the operation modes of the control unit. 図4は、紫外線の照射量とカビの繁殖を抑制できた時間との関係を示す図である。FIG. 4 is a graph showing the relationship between the amount of ultraviolet light irradiation and the time during which mold growth was suppressed. 図5は、対象物にカビが発生する過程を観察した図である。FIG. 5 is a diagram showing the process of mold growth on an object. 図6は、対象物にカビが発生する過程を観察した図である。FIG. 6 is a diagram showing the process of mold growth on an object. 図7は、対象物にカビが発生する過程を観察した図である。FIG. 7 is a diagram showing the process of mold growth on an object. 図8は、対象物にカビが発生する過程を観察した図である。FIG. 8 is a diagram showing the process of mold growth on an object. 図9は、紫外線の照射パターンの第1例を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing a first example of an irradiation pattern of ultraviolet light. 図10は、紫外線の照射パターンの第2例を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing a second example of an irradiation pattern of ultraviolet rays. 図11は、紫外線の照射パターンの第3例を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing a third example of an irradiation pattern of ultraviolet rays. 図12は、紫外線の照射量とカビの繁殖を抑制できた時間との関係を示す図である。FIG. 12 is a diagram showing the relationship between the amount of ultraviolet light irradiation and the time during which mold growth was suppressed. 図13は、紫外線の照射量とカビの繁殖を抑制できた時間との関係を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing the relationship between the amount of ultraviolet light irradiation and the time during which mold growth was suppressed. 図14は、対応情報を示す図である。FIG. 14 is a diagram showing the correspondence information. 図15(a)は、第1相関情報を示す図である。図15(b)は、第2相関情報を示す図である。Fig. 15A is a diagram showing first correlation information, and Fig. 15B is a diagram showing second correlation information. 図16は、殺菌情報を示す図である。FIG. 16 is a diagram showing sterilization information.

以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、本開示は、以下に示される実施形態に限定されるものではなく、本開示の技術的思想を逸脱しない範囲内で各種の変更が可能である。各図面は、本開示を概念的に説明するためのものであるから、理解容易のために必要に応じて寸法、比または数を誇張または簡略化して表す場合がある。 Embodiments of the present disclosure will be described in detail below with reference to the drawings. Note that the present disclosure is not limited to the embodiments shown below, and various modifications are possible without departing from the technical spirit of the present disclosure. Each drawing is intended to conceptually explain the present disclosure, and therefore dimensions, ratios, or numbers may be exaggerated or simplified as necessary for ease of understanding.

(1)全体構成
実施形態に係る紫外線照射装置(1)は、カビのような菌類の繁殖を防止するために紫外線照射を行う。紫外線照射装置(1)は、例えば、空気調和機のような内部にカビが発生する可能性のある機器または物に対して用いられる。紫外線照射装置(1)は、例えば、空気調和機のドレンパンの近傍に設けられ、ドレンパンに向けて紫外線を照射する。本実施形態の菌類は、例えば、クラドスポリウム、ペニシリウム、フザリウム、アスペルギルス、ススカビ、アースリニウム等であり、紫外線の照射により除菌可能なものである。
(1) Overall Configuration The ultraviolet irradiation device (1) according to the embodiment irradiates ultraviolet rays to prevent the proliferation of fungi such as mold. The ultraviolet irradiation device (1) is used for equipment or objects in which mold may grow, such as an air conditioner. The ultraviolet irradiation device (1) is provided, for example, near the drain pan of the air conditioner, and irradiates ultraviolet rays toward the drain pan. Fungi in this embodiment are, for example, Cladosporium, Penicillium, Fusarium, Aspergillus, Soybean mold, Earthlinium, etc., which can be sterilized by irradiation with ultraviolet rays.

図1および図2に示すように、紫外線照射装置(1)は、照射部(11)と、記憶部(12)と、制御部(13)とを備える。照射部(11)は、紫外線を照射する。照射部(11)は、例えば、深紫外領域の光を発光するUVC-LEDからなる光源を含む。照射部(11)は、対象物(G)に向けて紫外線を照射する。対象物(G)は、カビのような菌類が繁殖しやすい環境下に設置される。図1には、紫外線照射装置(1)の一例として、対象物(G)に寒天培地が用いられ、対象物(G)に発生する菌類を除菌する試験を行うときの装置構成が図示されている。記憶部(12)は、フラッシュメモリ、ROM(Read Only Memory)、及びRAM(Random Access Memory)のような主記憶装置(例えば、半導体メモリ)を含み、補助記憶装置(例えば、ハ-ドディスクドライブ、SSD(Solid State Drive)、SD(Secure Digital)メモリカード、又は、USB(Universal Seral Bus)フラッシメモリ)をさらに含んでもよい。記憶部(12)は、制御部(13)によって実行される種々のコンピュータープログラムを記憶する。制御部(13)は、CPU及びMPUのようなプロセッサーを含む。制御部(13)は、記憶部(12)に記憶されたコンピュータープログラムを実行することにより、紫外線照射装置(1)の各要素を制御する。 As shown in Figures 1 and 2, the ultraviolet irradiation device (1) includes an irradiation unit (11), a memory unit (12), and a control unit (13). The irradiation unit (11) irradiates ultraviolet light. The irradiation unit (11) includes a light source consisting of, for example, a UVC-LED that emits light in the deep ultraviolet region. The irradiation unit (11) irradiates ultraviolet light toward an object (G). The object (G) is placed in an environment where fungi such as mold are likely to grow. Figure 1 shows, as an example of an ultraviolet irradiation device (1), the device configuration when an agar medium is used as the object (G) and a test is performed to sterilize fungi that occur on the object (G). The memory unit (12) includes a main memory (e.g., a semiconductor memory) such as a flash memory, a ROM (Read Only Memory), and a RAM (Random Access Memory), and may further include an auxiliary memory (e.g., a hard disk drive, an SSD (Solid State Drive), an SD (Secure Digital) memory card, or a USB (Universal Serial Bus) flash memory). The memory unit (12) stores various computer programs executed by the control unit (13). The control unit (13) includes a processor such as a CPU and an MPU. The control unit (13) controls each element of the ultraviolet irradiation device (1) by executing the computer programs stored in the memory unit (12).

(2)制御部の動作
図3に示すように、制御部(13)は、第1モード(M1)と第2モード(M2)を交互に行うように照射部(11)を制御する。図3に示すように、制御部(13)は、第1モード(M1)と第2モード(M2)とを繰り返し行うように照射部(11)を制御する。第1モード(M1)は、カビのような菌類の繁殖を抑制するため制御部(13)の動作モードである(抑制モード)。第2モード(M2)は、菌類を死滅させるため制御部(13)の動作モードである(殺菌モード)。
(2) Operation of the Control Unit As shown in Fig. 3, the control unit (13) controls the irradiation unit (11) to alternate between the first mode (M1) and the second mode (M2). As shown in Fig. 3, the control unit (13) controls the irradiation unit (11) to repeatedly perform the first mode (M1) and the second mode (M2). The first mode (M1) is an operation mode of the control unit (13) for suppressing the growth of fungi such as mold (suppression mode). The second mode (M2) is an operation mode of the control unit (13) for killing fungi (sterilization mode).

第1モード(M1)では、所定期間における紫外線の照射量(単位面積当たりの照射量)が第1照射量Xとなるように紫外線が照射される。すわなち、第1モード(M1)では、前記所定期間における紫外線の単位面積当たりの照射量が所定の基準照射量未満となるように紫外線を照射する。第2モード(M2)では、前記所定期間における紫外線の照射量が第2照射量Xaとなるように紫外線を照射する。すわなち、第2モード(M2)では、前記所定期間における紫外線の単位面積当たりの照射量が前記基準照射量以上となるように紫外線を照射する。第1照射量Xおよび第2照射量Xaは、単位面積当たりの所定期間における紫外線の照射量(DOSE量)を示す。第2照射量は、第1照射量よりも多い。本実施形態では、第1モード(M1)において、照射部(11)による紫外線の照射が間欠的に複数回行われる。 In the first mode (M1), ultraviolet light is irradiated so that the irradiation amount of ultraviolet light in a predetermined period (irradiation amount per unit area) is the first irradiation amount X. That is, in the first mode (M1), ultraviolet light is irradiated so that the irradiation amount of ultraviolet light per unit area in the predetermined period is less than a predetermined reference irradiation amount. In the second mode (M2), ultraviolet light is irradiated so that the irradiation amount of ultraviolet light in the predetermined period is the second irradiation amount Xa. That is, in the second mode (M2), ultraviolet light is irradiated so that the irradiation amount of ultraviolet light per unit area in the predetermined period is equal to or greater than the reference irradiation amount. The first irradiation amount X and the second irradiation amount Xa indicate the irradiation amount of ultraviolet light per unit area in a predetermined period (DOSE amount). The second irradiation amount is greater than the first irradiation amount. In this embodiment, in the first mode (M1), the irradiation of ultraviolet light by the irradiation unit (11) is performed intermittently multiple times.

(3)効果
以上のように、制御部(13)は、所定期間における紫外線の単位面積当たりの照射量が第1照射量となるように紫外線を照射する第1モード(M1)と、前記所定期間における紫外線の単位面積当たりの照射量が第2照射量となるように紫外線を照射する第2モード(M2)とを交互に行うように照射部(11)を制御する。第2照射量が第1照射量よりも多い。これにより、第1モード(M1)において、比較的低量低出力の第1照射量の紫外線により菌類の繁殖を抑制する処理と、第2モード(M2)において、比較的高出力の第2照射量の紫外線により菌類を死滅させる処理とを交互に行うことができる。その結果、第1モード(M1)において、時間が経過することで、低出力の第1照射量の紫外線では菌類の繁殖の勢いを抑えることが困難な状況になったとしても、第2モード(M2)に移行して、高出力の第2照射量の紫外線により菌類を死滅させて、菌類の繁殖の勢いをそぐことができるので、菌類が繁殖することを抑制することができる。
(3) Effects As described above, the control unit (13) controls the irradiation unit (11) to alternate between the first mode (M1) in which ultraviolet rays are irradiated so that the irradiation amount of ultraviolet rays per unit area in a predetermined period is the first irradiation amount, and the second mode (M2) in which ultraviolet rays are irradiated so that the irradiation amount of ultraviolet rays per unit area in the predetermined period is the second irradiation amount. The second irradiation amount is greater than the first irradiation amount. This allows the process of suppressing fungal growth using ultraviolet rays with a relatively low output first irradiation amount in the first mode (M1) and the process of killing fungi using ultraviolet rays with a relatively high output second irradiation amount in the second mode (M2) to be alternated. As a result, even if it becomes difficult to suppress the growth of fungi with the low output first irradiation amount in the first mode (M1) as time passes, the second mode (M2) can be switched to kill the fungi with ultraviolet rays with a high output second irradiation amount, thereby slowing down the growth of fungi, thereby suppressing the growth of fungi.

また、第1モード(M1)と第2モード(M2)とが交互に行われることで、常に第2モード(M2)による高出力の紫外線が照射される状態となることが防止される。その結果、照射部(11)の消費電力を抑えることができ、照射部(11)の寿命を延ばすことができる。 Alternating between the first mode (M1) and the second mode (M2) prevents the second mode (M2) from constantly emitting high-power ultraviolet light. As a result, the power consumption of the irradiation unit (11) can be reduced, and the life of the irradiation unit (11) can be extended.

また、照射部(11)(LED)の消費電力を抑えて、照射部(11)の放熱量を抑制することで、照射部(11)用の放熱部材(LED基板に設けられるヒートシンク等)を不要として部品点数を減らすことができる。さらに、LED基板を小さくできるので、照射部(11)の設置の自由度を向上させることができる。 In addition, by reducing the power consumption of the irradiation unit (11) (LED) and suppressing the amount of heat dissipation from the irradiation unit (11), it is possible to eliminate the need for a heat dissipation member for the irradiation unit (11) (such as a heat sink provided on the LED board), thereby reducing the number of parts. Furthermore, since the LED board can be made smaller, it is possible to improve the degree of freedom in installing the irradiation unit (11).

また、第1モード(M1)と第2モード(M2)とが交互に行われることで、第2モード(M2)による高出力の紫外線照射が行われる頻度を抑えることができるので、人体への紫外線の被曝量を抑制できる。 In addition, by alternating between the first mode (M1) and the second mode (M2), the frequency with which high-power ultraviolet radiation is irradiated in the second mode (M2) can be reduced, thereby reducing the amount of ultraviolet radiation exposed to the human body.

また、第1モード(M1)と第2モード(M2)とが交互に行われることで、カビが繁殖することを抑制できるので、人体の呼吸器への負荷を低減することができる。 In addition, by alternating between the first mode (M1) and the second mode (M2), mold growth can be suppressed, thereby reducing the burden on the human respiratory system.

また、紫外線照射装置(1)が空気調和機に備えられる場合、第1モード(M1)と第2モード(M2)とが交互に行われることで、空調機内部でカビが繁殖することを防止できるので、空気調和機内部のドレンパン等の部材の清掃の頻度を減らすことができる。 In addition, when the ultraviolet irradiation device (1) is installed in an air conditioner, the first mode (M1) and the second mode (M2) are alternately performed, which prevents mold from growing inside the air conditioner, thereby reducing the frequency of cleaning parts such as the drain pan inside the air conditioner.

また、紫外線照射装置(1)が空気調和機に備えられる場合、第1モード(M1)と第2モード(M2)とが交互に行われることで、第2モード(M2)による高出力の紫外線照射が行われる頻度を抑えることができるので、空気調和機内部の部品が高出力の紫外線により劣化することを抑制できる。 In addition, when the ultraviolet irradiation device (1) is provided in an air conditioner, the first mode (M1) and the second mode (M2) are alternated, thereby reducing the frequency of high-power ultraviolet irradiation in the second mode (M2), thereby preventing the deterioration of components inside the air conditioner due to high-power ultraviolet light.

(4)第1照射量Xおよび第2照射量Xaの第1例(ピーク波長260nm以上、270nm以下)
図4に示す座標上の各点は、紫外線の照射量とカビの繁殖を抑制できた時間との関係を調査した試験結果を示す。この試験では、対象物(G)である寒天培地(図1参照)に対して、ピーク波長が265nmの紫外線が照射される。図4に示す座標系において、横軸は、対象物(G)に対する単位面積当たりの1日の紫外線の照射量(DOSE量)を示し、縦軸は、対象物(G)に対してカビが繁殖することを抑制できた時間を示す。
(4) First Example of First Irradiation Dose X and Second Irradiation Dose Xa (Peak Wavelength: 260 nm or More, 270 nm or Less)
Each point on the coordinate system shown in Figure 4 indicates the test results investigating the relationship between the amount of ultraviolet light irradiation and the time during which mold growth was suppressed. In this test, ultraviolet light with a peak wavelength of 265 nm is irradiated onto the target object (G), an agar medium (see Figure 1). In the coordinate system shown in Figure 4, the horizontal axis indicates the daily ultraviolet light irradiation amount (DOSE amount) per unit area of the target object (G), and the vertical axis indicates the time during which mold growth was suppressed on the target object (G).

図4の試験結果F1~F4に示すように、1日の紫外線の照射量が約80mJ/cm以上になると、紫外線の照射量の増加に伴って、カビの繁殖を抑制できた時間も増加していくことで、カビの繁殖を効果的に抑制できることが確認できた。 As shown in the test results F1 to F4 in FIG. 4, when the daily UV irradiation amount is about 80 mJ/ cm2 or more, the time during which mold growth was suppressed increases with the increase in the UV irradiation amount, and it was confirmed that mold growth can be effectively suppressed.

図5は、対象物(G)に対して、1日の紫外線の照射量が0mJ/cm、10mJ/cm、40mJ/cm、80mJ/cm、および120mJ/cmの各々の照射量となるように紫外線を間欠照射しつつ対象物(G)の状態を観察する第1観察を行ったときの、0日~5日経過後の対象物(G)の状態を示す。図6は、前記第1観察を行ったときの、6日~10日経過後の対象物(G)の状態を示す。図7は、対象物(G)に対して、1日の紫外線の照射量が160mJ/cm、240mJ/cm、および320mJ/cmの各々の照射量となるように紫外線を間欠照射しつつ、または対象物(G)に対して、1日の紫外線の照射量が345.6mJ/cmとなるように紫外線を連続照射しつつ対象物(G)の状態を観察する第2観察を行ったときの、0日~5日経過後の対象物(G)の状態を示す。図8は、前記第2観察を行ったときの、6日~10日経過後の対象物(G)の状態を示す。 Fig. 5 shows the state of object (G) 0 to 5 days after a first observation was conducted in which the state of object (G) was observed while intermittently irradiating it with ultraviolet light so that the daily irradiation dose of ultraviolet light was 0 mJ/ cm2 , 10 mJ/ cm2 , 40 mJ/ cm2 , 80 mJ/ cm2 , and 120 mJ/cm2. Fig. 6 shows the state of object (G) 6 to 10 days after the first observation. Fig. 7 shows the state of object (G) after 0 to 5 days have passed since the second observation, in which the state of object (G) is observed while intermittently irradiating object (G ) with ultraviolet light so that the daily irradiation dose of ultraviolet light is 160 mJ/ cm2 , 240 mJ/cm2, and 320 mJ/ cm2 , or while continuously irradiating object (G) with ultraviolet light so that the daily irradiation dose of ultraviolet light is 345.6 mJ/cm2, Fig. 8 shows the state of object (G) after 6 to 10 days have passed since the second observation.

なお、図5~図8に示す第1観察および第2観察において、対象物(G)に対してピーク波長が265nmの紫外線が照射される。 In the first and second observations shown in Figures 5 to 8, the object (G) is irradiated with ultraviolet light having a peak wavelength of 265 nm.

図5~図8に示す各対象物(G)のうち、枠(W)外の対象物(A1)はカビの繁殖が抑制されている状態であることを示し、枠(W)内の対象物(A2)はカビの繁殖が抑制されていない状態であることを示す。 Of the objects (G) shown in Figures 5 to 8, the object (A1) outside the frame (W) indicates that mold growth is suppressed, and the object (A2) inside the frame (W) indicates that mold growth is not suppressed.

図5~図8に示すように、1日の紫外線の照射量が320mJ/cm以上になると、全ての観察日においてカビの繁殖が抑制された状態を確保できた。これにより、1日の紫外線の照射量が320mJ/cm以上になると、カビの繁殖を完全に防止でき、カビを死滅させることができることを確認できた。 As shown in Figures 5 to 8, when the daily dose of ultraviolet light was 320 mJ/ cm2 or more, mold growth was suppressed on all observation days. This confirmed that when the daily dose of ultraviolet light was 320 mJ/ cm2 or more, mold growth could be completely prevented and mold could be killed.

第1例では、図4~図8に示す試験結果に基づいて、照射部(11)のピーク波長が260nm以上、270nm以下である場合、上記第1モード(M1)時における紫外線の1日の第1照射量Xが80mJ/cm以上、320mJ/cm未満に設定され(80≦X<320)、上記第2モード(M2)時における紫外線の1日の第2照射量Xaが320mJ/cm以上に設定される(320≦Xa)。すなわち、第1例では、紫外線のピーク波長が260nm以上、270nm以下であり、前記所定期間が1日であり、前記基準照射量が320mJ/cmであり、かつ、第1モード(M1)における、前記照射量(所定期間における紫外線の単位面積当たりの照射量)の最低値が80mJ/cmである。 In a first example, based on the test results shown in Figures 4 to 8, when the peak wavelength of the irradiation unit (11) is 260 nm or more and 270 nm or less, the first daily irradiation amount X of ultraviolet light in the first mode (M1) is set to 80 mJ/ cm2 or more and less than 320 mJ/ cm2 (80 < X < 320), and the second daily irradiation amount Xa of ultraviolet light in the second mode (M2) is set to 320 mJ/ cm2 or more (320 < Xa). That is, in the first example, the peak wavelength of ultraviolet light is 260 nm or more and 270 nm or less, the predetermined period is one day, the reference irradiation amount is 320 mJ/ cm2 , and the minimum value of the irradiation amount (irradiation amount of ultraviolet light per unit area in a predetermined period) in the first mode (M1) is 80 mJ/ cm2 .

第1例では、制御部(13)は第1モード(M1)と第2モード(M2)とを交互に行う。第1モード(M1)では、低量の第1照射量Xの紫外線により、ある程度の期間、カビの繁殖を抑制する。第2モード(M2)では、高量の第2照射量Xaの紫外線によりカビを死滅させて、カビの繁殖の勢いをそぐ。 In the first example, the control unit (13) alternates between the first mode (M1) and the second mode (M2). In the first mode (M1), a low amount of ultraviolet light with a first irradiation amount X is used to suppress mold growth for a certain period of time. In the second mode (M2), a high amount of ultraviolet light with a second irradiation amount Xa is used to kill mold, slowing down the rate of mold growth.

(5)第2モード間隔の上限
第2モード間隔(Y)について説明する。第2モード間隔(Y)は、第2モードが行われてから次の第2モードが行われるまでの期間である。
(5) Upper limit of second mode interval The second mode interval (Y) will be described. The second mode interval (Y) is the period from when the second mode is performed until the next second mode is performed.

紫外線の1日の第1照射量Xが80mJ/cm以上、320mJ/cm未満に設定された場合、図5~図8に示すように、80mJ/cm以上、320mJ/cm未満の照射量では、日数がある程度経過すると、対象物(G)にカビが繁殖し始める。例えば、1日の紫外線の照射量が120mJ/cmの場合、4日目から対象物(G)にカビが繁殖し始める。 When the first daily irradiation amount X of ultraviolet light is set to 80 mJ/ cm2 or more and less than 320 mJ/ cm2 , mold begins to grow on the object (G) after a certain number of days have passed at an irradiation amount of 80 mJ/ cm2 or more and less than 320 mJ/ cm2 , as shown in Figures 5 to 8. For example, when the daily irradiation amount of ultraviolet light is 120 mJ/ cm2 , mold begins to grow on the object (G) from the fourth day.

カビが繁殖した後、第2モード(M2)に移行して、第2照射量Xaの紫外線が照射されても、カビの繁殖の勢いをそぐことが困難となる。 After mold has started to grow, even if the second mode (M2) is switched to and the second dose of ultraviolet light Xa is applied, it becomes difficult to slow down the growth of the mold.

第1例では、カビが繁殖するよりも前に第1モード(M1)から第2モード(M2)に移行させるために、第2モード間隔(Y)に上限を設ける。 In the first example, an upper limit is set for the second mode interval (Y) in order to transition from the first mode (M1) to the second mode (M2) before mold begins to grow.

第1モード(M1)時において、80mJ/cm以上、320mJ/cm未満の第1照射量Xで紫外線が照射される場合、図5~図8に示すように、紫外線の照射量の多さに応じて、カビが繁殖し始める日が異なる。具体的には、照射量が多くなる程、カビが繁殖し始める日が遅くなる。よって、第1照射量Xが多くなる程、カビが繁殖し始めるタイミングを遅らせることできるので、第2モード間隔(Y)の上限が長くなる。第2モード間隔(Y)の上限は、言い換えれば、1回の第1モード(M1)が行われる期間の上限を示す。 In the first mode (M1), when ultraviolet rays are irradiated with a first irradiation amount X of 80 mJ/ cm2 or more and less than 320 mJ/ cm2 , the day when mold begins to grow varies depending on the amount of ultraviolet irradiation, as shown in Figures 5 to 8. Specifically, the higher the irradiation amount, the later the day when mold begins to grow. Therefore, the higher the first irradiation amount X, the more delayed the timing when mold begins to grow, and therefore the longer the upper limit of the second mode interval (Y). In other words, the upper limit of the second mode interval (Y) indicates the upper limit of the period during which one first mode (M1) is performed.

紫外線のピーク波長が260nm以上、270nm以下である場合、第2モード間隔(Y)の上限は、例えば、Y1時間である(Y≦Y1)。第2モード間隔(第2モード(M2)が行われてから次の第2モード(M2)が行われるまでの期間)(Y)の上限は、第1モード(M1)における前記所定期間の紫外線の単位面積当たりの照射量に基づいて設定される。Y1時間は、下記数1で示される。下記数1は、図4に示す座標系において、縦軸をY1時間とし横軸を第1照射量Xとしたときの試験結果F1~F4の近似直線(V1)を表す。Xは、言い換えれば、第1モード(M1)における所定期間(1日)の紫外線の単位面積当たりの照射量である。 When the peak wavelength of the ultraviolet light is 260 nm or more and 270 nm or less, the upper limit of the second mode interval (Y) is, for example, Y1 hours (Y≦Y1). The upper limit of the second mode interval (the period from when the second mode (M2) is performed until the next second mode (M2) is performed) (Y) is set based on the ultraviolet light irradiation amount per unit area in the specified period in the first mode (M1). Y1 hours is shown in the following formula 1. The following formula 1 represents an approximation line (V1) of the test results F1 to F4 in the coordinate system shown in Figure 4, when the vertical axis is Y1 hours and the horizontal axis is the first irradiation amount X. In other words, X is the ultraviolet light irradiation amount per unit area in the first mode (M1) for a specified period (one day).

(数1)
Y1=0.45X+33
(Equation 1)
Y1=0.45X+33

(6)照射パターンの一例
図9は、照射部(11)からの紫外線のピーク波長が265nmであり、1日の第1照射量Xが120mJ/cmに設定され、1日の第2照射量Xaが320mJ/cmに設定され、第1モード(M1)が行われる期間が72時間に設定されたときの紫外線の照射パターンを示す。図9に示す照射パターンでは、第1モード(M1)時において、紫外線の総照射量が120mJ/cmになるように紫外線を1日に1回照射する処理が3回行われた後、第2モード(M2)時において、紫外線の総照射量が320mJ/cmになるように紫外線が1時間照射される。
(6) Example of Irradiation Pattern Fig. 9 shows an example of an ultraviolet irradiation pattern when the peak wavelength of the ultraviolet light from the irradiation unit (11) is 265 nm, the first irradiation amount X per day is set to 120 mJ/ cm2 , the second irradiation amount Xa per day is set to 320 mJ/ cm2 , and the period during which the first mode (M1) is performed is set to 72 hours. In the irradiation pattern shown in Fig. 9, in the first mode (M1), a process of irradiating ultraviolet light once a day so that the total irradiation amount of ultraviolet light is 120 mJ/ cm2 is performed three times, and then in the second mode (M2), ultraviolet light is irradiated for one hour so that the total irradiation amount of ultraviolet light is 320 mJ/ cm2 .

図10は、照射部(11)からの紫外線のピーク波長が265nmであり、1日の第1照射量Xが240mJ/cmに設定され、1日の第2照射量Xaが320mJ/cmに設定され、第1モード(M1)が行われる期間が120時間に設定されたときの紫外線の照射パターンを示す。図10に示す照射パターンでは、第1モード(M1)時において、紫外線の総照射量が240mJ/cmになるように紫外線を1日に1回照射する処理が5回行われた後、第2モード(M2)時において、紫外線の総照射量が320mJ/cmになるように紫外線が1時間照射される。 Fig. 10 shows an ultraviolet irradiation pattern when the peak wavelength of the ultraviolet light from the irradiation unit (11) is 265 nm, the first daily irradiation amount X is set to 240 mJ/ cm2 , the second daily irradiation amount Xa is set to 320 mJ/ cm2 , and the period during which the first mode (M1) is performed is set to 120 hours. In the irradiation pattern shown in Fig. 10, in the first mode (M1), a process of irradiating ultraviolet light once a day so that the total irradiation amount of ultraviolet light is 240 mJ/ cm2 is performed five times, and then in the second mode (M2), ultraviolet light is irradiated for one hour so that the total irradiation amount of ultraviolet light is 320 mJ/ cm2 .

図11は、図10に示す照射パターンと同様の条件で行われた紫外線の照射パターンを示す。図11に示す照射パターンでは、第1モード(M1)時において、照射時間および照度を調整して、1日の紫外線の総照射量が240mJ/cmとなるように紫外線を1日に2回照射している点が、図10に示す照射パターンと異なる。 Fig. 11 shows an ultraviolet irradiation pattern performed under the same conditions as the irradiation pattern shown in Fig. 10. The irradiation pattern shown in Fig. 11 differs from the irradiation pattern shown in Fig. 10 in that in the first mode (M1), ultraviolet rays are irradiated twice a day by adjusting the irradiation time and illuminance so that the total irradiation amount of ultraviolet rays in one day is 240 mJ/ cm2 .

(7)第1照射量Xおよび第2照射量Xaの第2例(ピーク波長、249nm以上、259nm以下)
図12に示す試験結果は、ピーク波長が254nmの紫外線を用いた点が図4に示す試験結果と異なる。
(7) Second Example of First Irradiation Dose X and Second Irradiation Dose Xa (Peak Wavelength: 249 nm or More, 259 nm or Less)
The test results shown in FIG. 12 differ from those shown in FIG. 4 in that ultraviolet light with a peak wavelength of 254 nm was used.

第2例では、図12の試験結果F5~F8に示すように、1日の紫外線の照射量が約74mJ/cm以上になると、紫外線の照射量の増加に伴って、カビの繁殖を抑制できた時間も増加していくことで、カビの繁殖を効果的に抑制できることが確認できた。 In the second example, as shown in the test results F5 to F8 in FIG. 12, when the daily UV irradiation amount was about 74 mJ/ cm2 or more, the time during which mold growth was suppressed increased with an increase in the UV irradiation amount, and it was confirmed that mold growth could be effectively suppressed.

第2例では、ピーク波長が254nmの紫外線を照射して図5~8に示すような試験が行われることで、1日の紫外線の照射量が298mJ/cm以上になると、カビの繁殖を完全に防止でき、カビを死滅させることができることを確認できた。 In the second example, tests were conducted as shown in Figures 5 to 8 by irradiating ultraviolet light with a peak wavelength of 254 nm, and it was confirmed that mold growth can be completely prevented and mold can be killed when the daily ultraviolet light irradiation amount is 298 mJ/ cm2 or more.

これにより、第2例では、照射部(11)のピーク波長が249nm以上、259nm以下である場合、上記第1モード(M1)時における紫外線の1日の第1照射量Xが74mJ/cm以上、298mJ/cm未満に設定され(74≦X<298)、上記第2モード(M2)時における紫外線の1日の第2照射量Xaが298mJ/cm以上に設定される(298≦Xa)。すなわち、第2例では、紫外線のピーク波長が249nm以上、259nm以下であり、前記所定期間が1日であり、前記基準照射量が298mJ/cmであり、かつ、第1モード(M1)における前記照射量の最低値が74mJ/cmである。 As a result, in the second example, when the peak wavelength of the irradiation unit (11) is 249 nm or more and 259 nm or less, the first daily irradiation amount X of ultraviolet light in the first mode (M1) is set to 74 mJ/ cm2 or more and less than 298 mJ/ cm2 (74≦X<298), and the second daily irradiation amount Xa of ultraviolet light in the second mode (M2) is set to 298 mJ/ cm2 or more (298≦Xa). That is, in the second example, the peak wavelength of ultraviolet light is 249 nm or more and 259 nm or less, the predetermined period is one day, the reference irradiation amount is 298 mJ/ cm2 , and the minimum value of the irradiation amount in the first mode (M1) is 74 mJ/ cm2 .

紫外線のピーク波長が249nm以上、259nm以下である場合、第2モード(M2)が行われてから次の第2モード(M2)が行われるまでの期間Uの上限は、Y2時間である。Y2時間は、下記数2で示される。下記数2は、図12に示す座標系において、縦軸をY2時間とし横軸を第1照射量Xとしたときの試験結果F5~F8の近似直線(V2)を表す。Xは、言い換えれば、第1モード(M1)における所定期間(1日)の紫外線の単位面積当たりの照射量である。 When the peak wavelength of ultraviolet light is 249 nm or more and 259 nm or less, the upper limit of the period U from when the second mode (M2) is performed until the next second mode (M2) is performed is Y2 hours. Y2 hours is expressed by the following equation 2. The following equation 2 represents the approximation line (V2) of the test results F5 to F8 in the coordinate system shown in Figure 12, where the vertical axis is Y2 hours and the horizontal axis is the first irradiation amount X. In other words, X is the irradiation amount of ultraviolet light per unit area in the first mode (M1) for a specified period (one day).

(数2)
Y2=0.49X+33
(Equation 2)
Y2=0.49X+33

(8)第1照射量Xおよび第2照射量Xaの第3例(ピーク波長、275nm以上、285nm以下)
図13に示す試験結果は、ピーク波長が280nmの紫外線を用いた点が図4に示す試験結果と異なる。
(8) Third Example of First Irradiation Dose X and Second Irradiation Dose Xa (Peak Wavelength: 275 nm or More, 285 nm or Less)
The test results shown in FIG. 13 differ from those shown in FIG. 4 in that ultraviolet light with a peak wavelength of 280 nm was used.

第3例では、図13の試験結果F9~F12に示すように、1日の紫外線の照射量が約124mJ/cm以上になると、紫外線の照射量の増加に伴って、カビの繁殖を抑制できた時間も増加していくことで、カビの繁殖を効果的に抑制できることが確認できた。 In the third example, as shown in the test results F9 to F12 in FIG. 13, when the daily UV irradiation amount was about 124 mJ/ cm2 or more, the time during which mold growth was suppressed increased with an increase in the UV irradiation amount, and it was confirmed that mold growth could be effectively suppressed.

第3例では、ピーク波長が280nmの紫外線を照射して図5~8に示すような試験が行われることで、1日の紫外線の照射量が496mJ/cm以上になると、カビの繁殖を完全に防止でき、カビを死滅させることができることを確認できた。 In the third example, tests were conducted as shown in Figures 5 to 8 by irradiating ultraviolet light with a peak wavelength of 280 nm, and it was confirmed that when the daily ultraviolet light irradiation amount was 496 mJ/ cm2 or more, the growth of mold could be completely prevented and the mold could be killed.

これにより、第3例では、照射部(11)のピーク波長が275nm以上、285nm以下である場合、上記第1モード(M1)時における紫外線の1日の第1照射量Xが124mJ/cm以上、496mJ/cm未満に設定され(124≦X<496)、上記第2モード(M2)時における紫外線の1日の第2照射量Xaが496mJ/cm以上に設定される(496≦Xa)。すなわち、第3例では、紫外線のピーク波長が275nm以上、285nm以下であり、前記所定期間が1日であり、前記基準照射量が496mJ/cmであり、かつ、第1モード(M1)における前記照射量の最低値が124mJ/cmである。 As a result, in the third example, when the peak wavelength of the irradiation unit (11) is 275 nm or more and 285 nm or less, the first daily irradiation amount X of ultraviolet light in the first mode (M1) is set to 124 mJ/ cm2 or more and less than 496 mJ/ cm2 (124≦X<496), and the second daily irradiation amount Xa of ultraviolet light in the second mode (M2) is set to 496 mJ/ cm2 or more (496≦Xa). That is, in the third example, the peak wavelength of ultraviolet light is 275 nm or more and 285 nm or less, the predetermined period is one day, the reference irradiation amount is 496 mJ/ cm2 , and the minimum value of the irradiation amount in the first mode (M1) is 124 mJ/ cm2 .

紫外線のピーク波長が249nm以上、259nm以下である場合、第2モード(M2)が行われてから次の第2モード(M2)が行われるまでの期間Uの上限は、例えば、Y3時間である。Y3時間は、下記数3で示される。下記数3は、図13に示す座標系において、縦軸をY3時間とし横軸を第1照射量Xとしたときの試験結果F9~F12の近似直線(V3)を表す。Xは、言い換えれば、第1モード(M1)における所定期間(1日)の紫外線の単位面積当たりの照射量である。 When the peak wavelength of ultraviolet light is 249 nm or more and 259 nm or less, the upper limit of the period U from when the second mode (M2) is performed until the next second mode (M2) is performed is, for example, Y3 hours. Y3 hours is expressed by the following equation 3. The following equation 3 represents the approximate straight line (V3) of the test results F9 to F12 when the vertical axis is Y3 hours and the horizontal axis is the first irradiation amount X in the coordinate system shown in Figure 13. In other words, X is the irradiation amount of ultraviolet light per unit area in the first mode (M1) for a specified period (one day).

(数3)
Y3=0.29X+33
(Equation 3)
Y3 = 0.29X + 33

(9)第1照射量Xおよび第2照射量Xaの第4例(ピーク波長260nm以上、270nm以下)
図14は、対応情報を示す。対応情報は、JIS Z8811のような文献に記載された情報、または試験により得られる情報である。対応情報は、除菌の対象とする菌類に照射される単位面積当たりの所定期間における紫外線の照射量(DOSE量)と、紫外線のピーク波長と、紫外線を照射された菌類の死滅率または不活化率とを対応付けた情報である。
(9) Fourth Example of First Irradiation Dose X and Second Irradiation Dose Xa (Peak Wavelength: 260 nm or More, 270 nm or Less)
14 shows the correspondence information. The correspondence information is information described in documents such as JIS Z8811, or information obtained by testing. The correspondence information is information that associates the amount of ultraviolet light irradiated (DOSE amount) per unit area in a predetermined period of time to be irradiated to the fungi to be sterilized, the peak wavelength of the ultraviolet light, and the death rate or inactivation rate of the fungi irradiated with the ultraviolet light.

本実施形態では、図14に示す対応情報では、クラドスポリウム(Cladosporium)に対してピーク波長が265nmの紫外線を照射した場合の、1日のDOSE量とクラドスポリウムの死滅率とが対応付けられている。 In this embodiment, the correspondence information shown in FIG. 14 corresponds the daily DOSE amount to the mortality rate of Cladosporium when Cladosporium is irradiated with ultraviolet light having a peak wavelength of 265 nm.

第4例では、紫外線のピーク波長を260nm以上、270nm以下とするときの所定期間の第1照射量XがA以上、B未満に設定され(A≦X<B)、第2照射量XaがB以上に設定される(B≦Xa)。 In the fourth example, the first irradiation amount X for a specified period is set to A or more and less than B (A≦X<B) when the peak wavelength of the ultraviolet light is set to 260 nm or more and 270 nm or less, and the second irradiation amount Xa is set to B or more (B≦Xa).

Aは、菌類にピーク波長が260nm以上、270nm以下の紫外線を照射したときに、菌類を90%以上、99.99%未満の死滅率または不活化率とさせる所定期間のDOSE量である。Bは、菌類にピーク波長が260nm以上、270nm以下の紫外線を照射したときに、菌類を99.99%以上のの死滅率または不活化率とさせる所定期間のDOSE量である。 A is the DOSE amount for a specified period of time that results in a death or inactivation rate of 90% or more and less than 99.99% when the fungi are irradiated with ultraviolet light having a peak wavelength of 260 nm or more and 270 nm or less. B is the DOSE amount for a specified period of time that results in a death or inactivation rate of 99.99% or more when the fungi are irradiated with ultraviolet light having a peak wavelength of 260 nm or more and 270 nm or less.

図14に示す対応情報において、90%の死滅率と、80mJ/cmとが対応付けられる。図14に示す対応情報において、99.99%の死滅率と、320mJ/cmとが対応付けられる。よって、第4例では、紫外線のピーク波長が260nm以上、270nm以下である場合の1日の第1照射量Xが、80mJ/cm以上、320mJ/cm未満に設定され(80≦X<320)、1日の第2照射量Xaが320mJ/cm以上に設定される(320≦Xa)。すなわち、対応情報に基づいて前記基準照射量が320mJ/cmに設定される。第4例では、紫外線のピーク波長が260nm以上、270nm以下であり、菌類に紫外線を照射したときに、菌類を90%の死滅率または不活化率とさせる前記所定期間における紫外線の単位面積当たりの照射量がAであり、菌類に紫外線を照射したときに、菌類を99.99%の死滅率または不活化率とさせる前記所定期間における紫外線の単位面積当たりの照射量がBである場合、前記基準照射量がBに設定され、かつ、第1モード(M1)における前記照射量の最低値がAに設定される。 In the correspondence information shown in Fig. 14, a 90% mortality rate is associated with 80 mJ/ cm2 . In the correspondence information shown in Fig. 14, a 99.99% mortality rate is associated with 320 mJ/ cm2 . Therefore, in the fourth example, when the peak wavelength of the ultraviolet ray is 260 nm or more and 270 nm or less, the first daily irradiation amount X is set to 80 mJ/ cm2 or more and less than 320 mJ/ cm2 (80 < X < 320), and the second daily irradiation amount Xa is set to 320 mJ/ cm2 or more (320 < Xa). That is, the reference irradiation amount is set to 320 mJ/ cm2 based on the correspondence information. In a fourth example, if the peak wavelength of the ultraviolet light is 260 nm or more and 270 nm or less, the irradiation amount of ultraviolet light per unit area in the specified period that results in a 90% death or inactivation rate of the fungi when irradiated with the ultraviolet light is A, and the irradiation amount of ultraviolet light per unit area in the specified period that results in a 99.99% death or inactivation rate of the fungi when irradiated with the ultraviolet light is B, the standard irradiation amount is set to B, and the minimum value of the irradiation amount in the first mode (M1) is set to A.

第4例において、紫外線のピーク波長が260nm以上、270nm以下である場合の第2モード間隔(Y)(図1参照)の上限であるY4時間は、下記数4で示される。 In the fourth example, the upper limit of the second mode interval (Y) (see Figure 1) when the peak wavelength of the ultraviolet light is 260 nm or more and 270 nm or less, Y4 time, is given by the following formula 4.

(数4)
Y4=a・X+b
(Equation 4)
Y4 = a.X + b

上記数4のaは、下記数5で示される。 The a in the above number 4 is expressed as the following number 5.

(数5)
a={f(β)―f(α)/(β―α)}
(Equation 5)
a = {f (β) -f (α) /(β - α)}

上記数4のbは、下記数6で示される。 The b in the above number 4 is shown in the following number 6.

(数6)
b=f(α)―a・α
(Equation 6)
b = f (α) - a α

αおよびβは、所定期間における紫外線の単位面積当たりの照射量である。照射量αおよび照射量βで照射される紫外線のピーク波長は、260nm以上、270nm以下である。βはαよりも多い(β>α)。f(α)は、照射量αで紫外線を照射したときに菌類が繁殖することを抑制できた時間であり、試験により得られる。f(β)は、照射量βで紫外線を照射したときに菌類が繁殖することを抑制できた時間であり、試験により得られる。 α and β are the doses of ultraviolet light per unit area in a specified period of time. The peak wavelengths of ultraviolet light irradiated at doses α and β are 260 nm or more and 270 nm or less. β is greater than α (β>α). f (α) is the time during which fungi proliferation can be suppressed when ultraviolet light is irradiated at dose α, and is obtained by testing. f(β) is the time during which fungi proliferation can be suppressed when ultraviolet light is irradiated at dose β, and is obtained by testing.

例えば、1日の照射量100mJ/cm(=α)で紫外線を照射したときに菌類の繁殖を抑制できた時間が72時間(=f(α))であり、1日の照射量300mJ/cm(=β)で紫外線を照射したときに菌類の繁殖を抑制できた時間が120時間(=f(β))であった。この場合、a={f(β)―f(α)/(β―α)}={120―72/(300―100)}=0.24となる。この場合、b=f(α)―a・α=72―0.24×100=48となる。この場合、上記数4において、Y4=0.24X+48となる。この場合、例えば、1日の第1照射量Xが120mJ/cmとなるようにして第1モード(M1)と第2モード(M2)とが交互に行われた場合、第2モード間隔(Y)(図1参照)の上限であるY4時間は、76.8(=0.24×120+48)時間となる。 For example, when ultraviolet light is irradiated at a daily dose of 100 mJ/ cm2 (=α), fungal growth can be suppressed for 72 hours (=f (α) ), and when ultraviolet light is irradiated at a daily dose of 300 mJ/ cm2 (=β), fungal growth can be suppressed for 120 hours (=f (β) ). In this case, a = {f (β) - f (α) /(β-α)} = {120-72/(300-100)} = 0.24. In this case, b = f (α) - a・α = 72-0.24×100 = 48. In this case, in the above equation 4, Y4 = 0.24X + 48. In this case, for example, when the first mode (M1) and the second mode (M2) are alternately performed so that the first irradiation amount X in one day is 120 mJ/ cm2 , the upper limit Y4 hours of the second mode interval (Y) (see FIG. 1) is 76.8 (=0.24×120+48) hours.

なお、上記aおよびbについて、複数のDOSE量の各々に対してカビの繁殖を抑制できた時間を観察する試験を行うことで、図4に示すような近似直線を作成し、当該近似直線の傾きをaとし、切片をbとしてもよい。 For the above a and b, a test may be conducted to observe the time it takes for mold growth to be inhibited for each of multiple DOSE amounts, to create an approximation line as shown in Figure 4, with the slope of the approximation line designated as a and the intercept as b.

(9)第1照射量Xおよび第2照射量Xaの第5例(ピーク波長、249nm以上、259nm以下)
図15(a)および図15(b)は、相関情報を示す。相関情報は、ピーク波長が異なる複数の紫外線の殺菌効果を相対的に規定した情報である。相関情報は、第1相関情報と、第2相関情報とを含む。
(9) Fifth Example of First Irradiation Dose X and Second Irradiation Dose Xa (Peak Wavelength: 249 nm or More, 259 nm or Less)
15(a) and 15(b) show correlation information. The correlation information is information that relatively defines the germicidal effects of multiple ultraviolet rays with different peak wavelengths. The correlation information includes first correlation information and second correlation information.

図15(a)は、第1相関情報を示す。第1相関情報は、JIS Z8811のような文献に記載された情報、または試験により得られる情報である。第1相関情報において、横軸は菌類に照射される紫外線のピーク波長を示し、縦軸は殺菌効果の相対値を示す。第1相関情報において、ピーク波長が異なる複数の紫外線と、紫外線による殺菌効果を相対的に規定した相対値とが対応付けられている。本実施形態の第1相対情報では、ピーク波長が254nmの紫外線による殺菌効果を1とした場合、ピーク波長が265nmの紫外線による殺菌効果が0.93と規定され、ピーク波長が280nmの紫外線による殺菌効果が0.6と規定される。 Figure 15 (a) shows the first correlation information. The first correlation information is information described in documents such as JIS Z8811, or information obtained by testing. In the first correlation information, the horizontal axis indicates the peak wavelength of the ultraviolet light irradiated to the fungi, and the vertical axis indicates the relative value of the bactericidal effect. In the first correlation information, multiple ultraviolet light rays with different peak wavelengths are associated with relative values that define the bactericidal effect of the ultraviolet light. In the first relative information of this embodiment, if the bactericidal effect of ultraviolet light with a peak wavelength of 254 nm is set to 1, the bactericidal effect of ultraviolet light with a peak wavelength of 265 nm is defined as 0.93, and the bactericidal effect of ultraviolet light with a peak wavelength of 280 nm is defined as 0.6.

図15(b)は、第2相関情報を示す。第2相関情報は、図15(a)に示す第1相関情報に基づいて作成される。第2相関情報は、第1相関情報において、ピーク波長が異なる複数の紫外線のうち、殺菌効果が1とされる基準の紫外線を変更した情報である。本実施形態では、第1相関情報ではピーク波長が254nmの紫外線による殺菌効果を1として、ピーク波長が265nmの紫外線による殺菌効果、およびピーク波長が280nmの紫外線による殺菌効果の各々が相対的に規定されている。第2相関情報では、ピーク波長が265nmの紫外線による殺菌効果が1となるように、第1相関情報に規定されるピーク波長が異なる各紫外線の殺菌効果の相対値を変換することで、ピーク波長が254nmの紫外線による殺菌効果が1.08と規定され、ピーク波長が280nmの紫外線による殺菌効果が0.65と規定される。 Figure 15 (b) shows the second correlation information. The second correlation information is created based on the first correlation information shown in Figure 15 (a). The second correlation information is information obtained by changing the reference ultraviolet light, of which the bactericidal effect is set to 1, among the multiple ultraviolet light rays with different peak wavelengths in the first correlation information. In this embodiment, the first correlation information defines the bactericidal effect of ultraviolet light with a peak wavelength of 254 nm as 1, and defines the bactericidal effect of ultraviolet light with a peak wavelength of 265 nm and the bactericidal effect of ultraviolet light with a peak wavelength of 280 nm relatively. In the second correlation information, the relative values of the bactericidal effects of the ultraviolet light rays with different peak wavelengths defined in the first correlation information are converted so that the bactericidal effect of ultraviolet light with a peak wavelength of 265 nm is 1, and the bactericidal effect of ultraviolet light with a peak wavelength of 254 nm is defined as 1.08, and the bactericidal effect of ultraviolet light with a peak wavelength of 280 nm is defined as 0.65.

第5例では、第1照射量Xの範囲と、第2照射量Xaの範囲と、第2モード間隔(Y)とが、第4例(紫外線のピーク波長が260nm以上、270nm以下である場合)で使用したAおよびBを用いて、第4例との関係で相対的に規定される。 In the fifth example, the range of the first dose X, the range of the second dose Xa, and the second mode interval (Y) are defined relatively in relation to the fourth example, using A and B used in the fourth example (when the peak wavelength of the ultraviolet light is 260 nm or more and 270 nm or less).

第5例において、紫外線のピーク波長が249nm以上、259nm以下である場合、第1照射量XがA/1.08以上、B/1.08未満に設定され(A/1.08≦X<B/1.08)、第2照射量XaがB/1.08以上に設定される(B/1.08≦Xa)。すなわち、第5例において、紫外線のピーク波長が249nm以上、259nm以下である場合、前記基準照射量がB/1.08に設定され、かつ、第1モード(M1)における前記照射量の最低値がA/1.08に設定される。 In the fifth example, when the peak wavelength of the ultraviolet light is 249 nm or more and 259 nm or less, the first dose X is set to A/1.08 or more and less than B/1.08 (A/1.08≦X<B/1.08), and the second dose Xa is set to B/1.08 or more (B/1.08≦Xa). That is, in the fifth example, when the peak wavelength of the ultraviolet light is 249 nm or more and 259 nm or less, the reference dose is set to B/1.08, and the minimum value of the dose in the first mode (M1) is set to A/1.08.

第5例において、紫外線のピーク波長が249nm以上、259nm以下である場合の第2モード間隔(Y)(図1参照)の上限であるY5時間は、下記数7で示される。 In the fifth example, Y5 hours, which is the upper limit of the second mode interval (Y) (see Figure 1) when the peak wavelength of the ultraviolet light is 249 nm or more and 259 nm or less, is given by the following equation 7.

(数7)
Y5=a1・X+b1
(Equation 7)
Y5 = a1.X + b1

上記数7のa1は、下記数8で示される。 a1 in the above number 7 is shown in the following number 8.

(数8)
a1={f(β/1.08)―f(α/1.08)/(β/1.08―α/1.08)}
(Equation 8)
a1 = {f (β/1.08) - f (α/1.08) / (β/1.08 - α/1.08 )}

上記数7のbは、下記数9で示される。 The b in the above number 7 is shown in the following number 9.

(数9)
b1=f(α/1.08)―a・α/1.08
(Equation 9)
b1 = f (α/1.08) - a α/1.08

上記の紫外線のピーク波長が249nm以上、259nm以下である場合の第1照射量Xの範囲、第2照射量Xaの範囲、および第2モード間隔(Y)を求める際に使用される数値1.08は、図15(b)に示す第2相関情報から導かれる。 The range of the first dose X, the range of the second dose Xa, and the value 1.08 used to calculate the second mode interval (Y) when the peak wavelength of the ultraviolet light is 249 nm or more and 259 nm or less are derived from the second correlation information shown in Figure 15 (b).

(10)第1照射量Xおよび第2照射量Xaの第6例(ピーク波長、275nm以上、285nm以下)
第6例では、第1照射量Xの範囲と、第2照射量Xaの範囲と、第2モード間隔(Y)とが、第4例(紫外線のピーク波長が260nm以上、270nm以下である場合)で使用したAおよびBを用いて、第4例との関係で相対的に規定される。
(10) Sixth Example of First Irradiation Dose X and Second Irradiation Dose Xa (Peak Wavelength: 275 nm or More, 285 nm or Less)
In the sixth example, the range of the first dose X, the range of the second dose Xa, and the second mode interval (Y) are relatively defined in relation to the fourth example by using A and B used in the fourth example (wherein the peak wavelength of the ultraviolet light is 260 nm or more and 270 nm or less).

第6例において、紫外線のピーク波長が275nm以上、285nm以下である場合、第1照射量XがA/0.65以上、B/0.65未満に設定され(A/0.65≦X<B/0.65)、第2照射量XaがB/0.65以上に設定される(B/0.65≦Xa)。すなわち、第6例において、紫外線のピーク波長が275nm以上、285nm以下である場合、前記基準照射量がB/0.65に設定され、かつ、第1モード(M1)における前記照射量の最低値がA/0.65に設定される。 In the sixth example, when the peak wavelength of the ultraviolet light is 275 nm or more and 285 nm or less, the first dose X is set to A/0.65 or more and less than B/0.65 (A/0.65≦X<B/0.65), and the second dose Xa is set to B/0.65 or more (B/0.65≦Xa). That is, in the sixth example, when the peak wavelength of the ultraviolet light is 275 nm or more and 285 nm or less, the reference dose is set to B/0.65, and the minimum value of the dose in the first mode (M1) is set to A/0.65.

第6例において、紫外線のピーク波長が275nm以上、285nm以下である場合の第2モード間隔(Y)(図1参照)の上限であるY6時間は、下記数10で示される。 In the sixth example, the upper limit of the second mode interval (Y) (see Figure 1) when the peak wavelength of the ultraviolet light is 275 nm or more and 285 nm or less, Y6 hours, is given by the following number 10.

(数10)
Y6=a2・X+b2
(Number 10)
Y6 = a2.X + b2

上記数10のa2は、下記数11で示される。 a2 in the above number 10 is expressed by the following number 11.

(数11)
a2={f(β/0.65)―f(α/0.65)/(β/0.65―α/0.65)}
(Equation 11)
a2 = {f (β/0.65) - f (α/0.65) / (β/0.65 - α/0.65 )}

上記数10のb2は、下記数12で示される。 b2 in the above number 10 is shown in the following number 12.

(数12)
b2=f(α/0.65)―a・α/0.65
(Equation 12)
b2 = f (α/0.65) - a α/0.65

上記の紫外線のピーク波長が275nm以上、285nm以下である場合の第1照射量Xの範囲、第2照射量Xaの範囲、および第2モード間隔(Y)を求める際に使用される数値0.65は、図15(b)に示す第2相関情報から導かれる。 The range of the first dose X, the range of the second dose Xa, and the value 0.65 used to calculate the second mode interval (Y) when the peak wavelength of the ultraviolet light is 275 nm or more and 285 nm or less are derived from the second correlation information shown in Figure 15 (b).

(11)第1照射量Xおよび第2照射量Xaの第7例(ピーク波長260nm以上、270nm以下)
図16は、殺菌情報を示す。殺菌情報は、ピーク波長が265nmの紫外線を照射したときに、菌類の死滅率が90%以上、99.99%以下になる1日のDOSE量の範囲を示す。本実施形態では、フザリウム(Fusariumu)、クラドスポリウム(Cladosporium)、アスペルギルス(Aspergillus)、およびペニシリウム(penicillium)の殺菌情報が示される。各菌類の殺菌情報に示されるDOSE量の範囲について、最小値は死滅率が90%になるときのDOSE量を示し、最大値は死滅率が99.99%になるときのDOSE量を示す。例えば、フザリウムについて、12mJ/cmは死滅率が90%になるときのDOSE量を示し、48mJ/cmは死滅率が99.99%になるときのDOSE量を示す。殺菌情報は、JIS Z8811のような文献に記載された情報、または試験により得られる情報である。
(11) Seventh Example of First Irradiation Dose X and Second Irradiation Dose Xa (Peak Wavelength: 260 nm or More, 270 nm or Less)
FIG. 16 shows sterilization information. The sterilization information shows the range of daily DOSE amount at which the die-off rate of fungi is 90% or more and 99.99% or less when ultraviolet light with a peak wavelength of 265 nm is irradiated. In this embodiment, sterilization information of Fusarium, Cladosporium, Aspergillus, and Penicillium is shown. Regarding the range of DOSE amount shown in the sterilization information of each fungus, the minimum value indicates the DOSE amount when the die-off rate is 90%, and the maximum value indicates the DOSE amount when the die-off rate is 99.99%. For example, for Fusarium, 12 mJ/cm 2 indicates the DOSE amount when the die-off rate is 90%, and 48 mJ/cm 2 indicates the DOSE amount when the die-off rate is 99.99%. Sterilization information is information described in documents such as JIS Z8811, or information obtained by testing.

第7例では、図16に示す相関情報に基づいて第1照射量Xおよび第2照射量Xaが設定される。また、第1照射量Xおよび第2照射量Xaは、紫外線殺菌の対象とする菌類の種類に応じて設定される。 In the seventh example, the first irradiation amount X and the second irradiation amount Xa are set based on the correlation information shown in FIG. 16. In addition, the first irradiation amount X and the second irradiation amount Xa are set according to the type of fungus to be targeted for ultraviolet sterilization.

以下では、図16に示す相関情報を用い、紫外線殺菌の対象とする菌類の種類に応じて設定された第1照射量Xおよび第2照射量Xaについて記載する。 Below, we will use the correlation information shown in Figure 16 to describe the first irradiation amount X and the second irradiation amount Xa that are set according to the type of fungus to be targeted for ultraviolet sterilization.

フザリウムを紫外線殺菌の対象とする場合、ピーク波長が260nm以上、270nm以下の紫外線の1日の第1照射量Xが、12mJ/cm以上、48mJ/cm未満に設定され(12≦X<48)、1日の第2照射量Xaが48mJ/cm以上に設定される(48≦Xa)。 When Fusarium is the target of ultraviolet sterilization, the first daily irradiation amount X of ultraviolet light having a peak wavelength of 260 nm or more and 270 nm or less is set to 12 mJ/ cm2 or more and less than 48 mJ/ cm2 (12≦X<48), and the second daily irradiation amount Xa is set to 48 mJ/ cm2 or more (48≦Xa).

ペニシリウムを紫外線殺菌の対象とする場合、ピーク波長が260nm以上、270nm以下の紫外線の1日の第1照射量Xが、7mJ/cm以上、28mJ/cm未満に設定され(7≦X<28)、1日の第2照射量Xaが28mJ/cm以上に設定される(28≦Xa)。 When penicillium is the target of ultraviolet sterilization, the first daily irradiation amount X of ultraviolet light having a peak wavelength of 260 nm or more and 270 nm or less is set to 7 mJ/ cm2 or more and less than 28 mJ/ cm2 (7≦X<28), and the second daily irradiation amount Xa is set to 28 mJ/ cm2 or more (28≦Xa).

フザリウムまたはペニシリウムを紫外線殺菌の対象とする場合、ピーク波長が260nm以上、270nm以下の紫外線の1日の第1照射量Xが、12mJ/cm以上、48mJ/cm未満に設定され(12≦X<48)、1日の第2照射量Xaが48mJ/cm以上に設定される(48≦Xa)。すなわち、除菌の対象となる菌類には、フザリウムまたはペニシリウムが含まれ、紫外線のピーク波長が260nm以上、270nm以下であり、かつ、前記所定期間が1日である場合、前記基準照射量が48mJ/cmであり、かつ、第1モード(M1)における前記照射量の最低値が12mJ/cmである。 When Fusarium or Penicillium is the target of ultraviolet sterilization, the first daily irradiation amount X of ultraviolet light having a peak wavelength of 260 nm or more and 270 nm or less is set to 12 mJ/ cm2 or more and less than 48 mJ/ cm2 (12≦X<48), and the second daily irradiation amount Xa is set to 48 mJ/ cm2 or more (48≦Xa). That is, when the fungi to be sterilized include Fusarium or Penicillium, the peak wavelength of ultraviolet light is 260 nm or more and 270 nm or less, and the specified period is one day, the reference irradiation amount is 48 mJ/ cm2 , and the minimum value of the irradiation amount in the first mode (M1) is 12 mJ/ cm2 .

クラドスポリウムを紫外線殺菌の対象とする場合、ピーク波長が260nm以上、270nm以下の紫外線の1日の第1照射量Xが、80mJ/cm以上、320mJ/cm未満に設定され(80≦X<320)、1日の第2照射量Xaが320mJ/cm以上に設定される(320≦Xa)。 When Cladosporium is the target of ultraviolet sterilization, the first daily irradiation amount X of ultraviolet light having a peak wavelength of 260 nm or more and 270 nm or less is set to 80 mJ/ cm2 or more and less than 320 mJ/ cm2 (80≦X<320), and the second daily irradiation amount Xa is set to 320 mJ/ cm2 or more (320≦Xa).

アスペルギルスを紫外線殺菌の対象とする場合、ピーク波長が260nm以上、270nm以下の紫外線の1日の第1照射量Xが、82mJ/cm以上、327mJ/cm未満に設定され(82≦X<327)、1日の第2照射量Xaが327mJ/cm以上に設定される(327≦Xa)。 When Aspergillus is the target of ultraviolet sterilization, the first daily irradiation amount X of ultraviolet light having a peak wavelength of 260 nm or more and 270 nm or less is set to 82 mJ/ cm2 or more and less than 327 mJ/ cm2 (82≦X<327), and the second daily irradiation amount Xa is set to 327 mJ/ cm2 or more (327≦Xa).

クラドスポリウムまたはアスペルギルスを紫外線殺菌の対象とする場合、ピーク波長が260nm以上、270nm以下の紫外線の1日の第1照射量Xが、82mJ/cm以上、327mJ/cm未満に設定され(82≦X<327)、1日の第2照射量Xaが327mJ/cm以上に設定される(48≦Xa)。すなわち、除菌の対象となる菌類には、クラドスポリウムまたはアスペルギルスが含まれ、紫外線のピーク波長が260nm以上、270nm以下であり、かつ、前記所定期間が1日である場合、前記基準照射量が327mJ/cmであり、かつ、第1モード(M1)における前記照射量の最低値が82mJ/cmである。 When Cladosporium or Aspergillus is the target of ultraviolet sterilization, the first daily irradiation amount X of ultraviolet light having a peak wavelength of 260 nm or more and 270 nm or less is set to 82 mJ/ cm2 or more and less than 327 mJ/ cm2 (82≦X<327), and the second daily irradiation amount Xa is set to 327 mJ/ cm2 or more (48≦Xa). In other words, when the fungi to be sterilized include Cladosporium or Aspergillus, the peak wavelength of ultraviolet light is 260 nm or more and 270 nm or less, and the specified period is one day, the reference irradiation amount is 327 mJ/ cm2 , and the minimum value of the irradiation amount in the first mode (M1) is 82 mJ/ cm2 .

第7例において、第2モード(M2)は、例えば、上記の数4、数5、および数6を用いて設定される。 In the seventh example, the second mode (M2) is set, for example, using the above equations 4, 5, and 6.

以上、実施形態および変形例を説明したが、特許請求の範囲の趣旨および範囲から逸脱することなく、形態や詳細の多様な変更が可能なことが理解されるであろう(例えば、下記(A))。また、以上の実施形態、変形例、その他の実施形態の要素を適宜組み合わせたり、置換したりしてもよい。 Although the embodiments and modifications have been described above, it will be understood that various modifications of form and details are possible without departing from the spirit and scope of the claims (for example, (A) below). Furthermore, elements of the above embodiments, modifications, and other embodiments may be combined or substituted as appropriate.

(A)図1に示すように、本実施形態の第1モード(M1)では、照射部(11)による紫外線の照射が間欠的に複数回行われる。しかし、本発明はこれに限定されない。第1モード(M1)では、照射部(11)による紫外線の照射が、途切れることなく連続して行われてもよい。 (A) As shown in FIG. 1, in the first mode (M1) of this embodiment, the irradiation unit (11) irradiates ultraviolet light intermittently multiple times. However, the present invention is not limited to this. In the first mode (M1), the irradiation unit (11) may irradiate ultraviolet light continuously without interruption.

以上に述べた「第1」、「第2」、「第3」…という記載は、これらの記載が付与された語句を区別するために用いられており、その語句の数や順序までも限定するものではない。 The descriptions "first," "second," "third," etc. mentioned above are used to distinguish the words to which these descriptions are attached, and do not limit the number or order of the words.

以上に説明したように、本開示は、紫外線照射装置について有用である。 As explained above, the present disclosure is useful for ultraviolet irradiation devices.

1 紫外線照射装置
11 照射部
12 記憶部
13 制御部
G 対象物
1 Ultraviolet irradiation device 11 Irradiation unit 12 Memory unit 13 Control unit G Object

Claims (19)

除菌を行うための紫外線照射装置であって、
紫外線を照射する照射部(11)と、
所定期間における紫外線の単位面積当たりの照射量が基準照射量未満となるように紫外線を照射する第1モード(M1)と、前記所定期間における紫外線の単位面積当たりの照射量が前記基準照射量以上となるように紫外線を照射する第2モード(M2)とを繰り返しに行うように前記照射部(11)を制御する制御部(13)と
を備える、紫外線照射装置。
An ultraviolet irradiation device for sterilization,
an irradiation unit (11) that irradiates ultraviolet light;
and a control unit (13) that controls the irradiation unit (11) to repeatedly perform a first mode (M1) in which ultraviolet light is irradiated so that an irradiation amount per unit area of ultraviolet light in a predetermined period of time is less than a reference irradiation amount, and a second mode (M2) in which ultraviolet light is irradiated so that an irradiation amount per unit area of ultraviolet light in the predetermined period of time is equal to or greater than the reference irradiation amount.
前記第1モード(M1)では、前記照射部(11)による紫外線の照射が間欠的に複数回行われる、請求項1に記載の紫外線照射装置。 The ultraviolet irradiation device according to claim 1, wherein in the first mode (M1), the irradiation unit (11) intermittently irradiates ultraviolet rays multiple times. 前記第1モード(M1)では、前記照射部(11)による紫外線の照射が連続して行われる、請求項1に記載の紫外線照射装置。 The ultraviolet irradiation device according to claim 1, wherein in the first mode (M1), the irradiation unit (11) continuously irradiates ultraviolet rays. 前記紫外線のピーク波長が260nm以上、270nm以下であり、かつ、前記所定期間が1日である場合、前記基準照射量が320mJ/cmであり、かつ、前記第1モード(M1)における前記照射量の最低値が80mJ/cmである、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の紫外線照射装置。 4. The ultraviolet irradiation device according to claim 1, wherein when the peak wavelength of the ultraviolet ray is 260 nm or more and 270 nm or less and the specified period is one day, the reference irradiation amount is 320 mJ/ cm2 and the minimum value of the irradiation amount in the first mode (M1) is 80 mJ/ cm2 . 前記紫外線のピーク波長が249nm以上、259nm以下であり、かつ、前記所定期間が1日である場合、前記基準照射量が298mJ/cmであり、かつ、前記第1モード(M1)における前記照射量の最低値が74mJ/cmである、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の紫外線照射装置。 4. The ultraviolet irradiation device according to claim 1, wherein when the peak wavelength of the ultraviolet ray is 249 nm or more and 259 nm or less and the specified period is one day, the reference irradiation amount is 298 mJ/ cm2 and the minimum value of the irradiation amount in the first mode (M1) is 74 mJ/ cm2 . 前記紫外線のピーク波長が275nm以上、285nm以下であり、かつ、前記所定期間が1日である場合、前記基準照射量が496mJ/cmであり、かつ、前記第1モード(M1)における前記照射量の最低値が124mJ/cmである、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の紫外線照射装置。 4. The ultraviolet irradiation device according to claim 1, wherein when the peak wavelength of the ultraviolet ray is 275 nm or more and 285 nm or less, and the predetermined period is one day, the reference irradiation amount is 496 mJ/ cm2 , and the minimum value of the irradiation amount in the first mode (M1) is 124 mJ/ cm2 . 前記第2モード(M2)が行われてから次の前記第2モード(M2)が行われるまでの期間(Y)の上限が、前記第1モード(M1)における前記照射量に基づいて設定される、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の紫外線照射装置。 The ultraviolet irradiation device according to any one of claims 1 to 3, wherein an upper limit of the period (Y) from when the second mode (M2) is performed until the next second mode (M2) is performed is set based on the amount of irradiation in the first mode (M1). 前記第2モード(M2)が行われてから次の前記第2モード(M2)が行われるまでの期間(Y)が、Y1時間以下であり、
前記第1モード(M1)における1日の前記照射量をXとすると、前記Y1時間は以下の数1で示される、請求項4に記載の紫外線照射装置。
(数1)
Y1=0.45X+33
A period (Y) from when the second mode (M2) is performed until the next second mode (M2) is performed is Y1 hours or less,
5. The ultraviolet irradiation device according to claim 4, wherein, when the amount of irradiation in one day in the first mode (M1) is X, the Y1 hours is expressed by the following formula 1.
(Equation 1)
Y1=0.45X+33
前記第2モード(M2)が行われてから次の前記第2モード(M2)が行われるまでの期間(Y)が、Y2時間以下であり、
前記第1モード(M1)における1日の前記照射量をXとすると、前記Y2時間は以下の数2で示される、請求項5に記載の紫外線照射装置。
(数2)
Y2=0.49X+33
A period (Y) from when the second mode (M2) is performed until the next second mode (M2) is performed is Y2 hours or less,
6. The ultraviolet irradiation device according to claim 5, wherein, when the irradiation amount in one day in the first mode (M1) is X, the Y2 hours is expressed by the following formula 2.
(Equation 2)
Y2=0.49X+33
前記第2モード(M2)が行われてから次の前記第2モード(M2)が行われるまでの期間(Y)が、Y3時間以下であり、
前記第1モード(M1)における1日の前記照射量をXとすると、前記Y3時間は以下の数3で示される、請求項6に記載の紫外線照射装置。
(数3)
Y3=0.29X+33
A period (Y) from when the second mode (M2) is performed until the next second mode (M2) is performed is Y3 hours or less,
7. The ultraviolet irradiation device according to claim 6, wherein, when the irradiation amount in one day in the first mode (M1) is X, the Y3 hours is expressed by the following formula 3.
(Equation 3)
Y3 = 0.29X + 33
除菌の対象とする菌類に照射される紫外線の照射量と、前記紫外線のピーク波長と、前記紫外線を照射された菌類の死滅率または不活化率とを対応付けた対応情報に基づいて、前記基準照射量が設定される、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の紫外線照射装置。 An ultraviolet irradiation device according to any one of claims 1 to 3, in which the reference irradiation amount is set based on correspondence information that associates the amount of ultraviolet light irradiated to the fungi to be sterilized, the peak wavelength of the ultraviolet light, and the death rate or inactivation rate of the fungi irradiated with the ultraviolet light. 紫外線のピーク波長が260nm以上、270nm以下であり、
菌類に紫外線を照射したときに、菌類を90%の死滅率または不活化率とさせる前記所定期間における紫外線の単位面積当たりの照射量がAであり、
菌類に紫外線を照射したときに、菌類を99.99%の死滅率または不活化率とさせる前記所定期間における紫外線の単位面積当たりの照射量がBである場合、
前記基準照射量がBに設定され、かつ、前記第1モード(M1)における前記照射量の最低値がAに設定される、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の紫外線照射装置。
The peak wavelength of the ultraviolet light is 260 nm or more and 270 nm or less,
A is the amount of ultraviolet light irradiation per unit area during the specified period that results in a 90% death or inactivation rate of the fungi when the fungi are irradiated with ultraviolet light;
When ultraviolet light is irradiated onto fungi, the irradiation amount of ultraviolet light per unit area during the specified period that results in a 99.99% death or inactivation rate of the fungi is B,
4. The ultraviolet irradiation device according to claim 1, wherein the reference irradiation amount is set to B, and the minimum value of the irradiation amount in the first mode (M1) is set to A.
紫外線のピーク波長が260nm以上、270nm以下である場合、
前記第2モード(M2)が行われてから次の前記第2モード(M2)が行われるまでの期間(Y)が、Y4時間以下であることとし、
前記第1モード(M1)における前記照射量をXとすると、前記Y4時間は以下の数4で示され、
αおよびβは、ピーク波長が260nm以上、270nm以下となる紫外線の所定期間の単位面積当たりの照射量であり、
前記βは前記αよりも多く、
(α)は、照射量αで紫外線を照射したときに菌類が繁殖することを抑制できた時間であり、
(β)は、照射量βで紫外線を照射したときに菌類が繁殖することを抑制できた時間である、請求項12に記載の紫外線照射装置。
(数4)
Y4=a・X+b
a={f(β)―f(α)/(β―α)}
b=f(α)―a・α
When the peak wavelength of the ultraviolet light is 260 nm or more and 270 nm or less,
A period (Y) from when the second mode (M2) is performed until the next second mode (M2) is performed is Y4 hours or less,
When the irradiation amount in the first mode (M1) is X, the Y4 time is expressed by the following formula 4:
α and β are the irradiation amount per unit area of ultraviolet light having a peak wavelength of 260 nm or more and 270 nm or less for a predetermined period of time,
said β being greater than said α,
f (α) is the time during which fungal proliferation was suppressed when irradiated with ultraviolet light at an irradiation dose α,
The ultraviolet irradiation device according to claim 12 , wherein f (β) is the time during which fungi proliferation can be suppressed when ultraviolet light is irradiated at an irradiation dose β.
(Equation 4)
Y4 = a.X + b
a = {f (β) -f (α) /(β - α)}
b = f (α) - a α
紫外線のピーク波長が249nm以上、259nm以下である場合、
前記基準照射量がB/1.08に設定され、かつ、前記第1モード(M1)における前記照射量の最低値がA/1.08に設定される、請求項13に記載の紫外線照射装置。
When the peak wavelength of the ultraviolet light is 249 nm or more and 259 nm or less,
14. The ultraviolet irradiation device according to claim 13, wherein the reference dose is set to B/1.08, and the minimum value of the dose in the first mode (M1) is set to A/1.08.
紫外線のピーク波長が249nm以上、259nm以下である場合、
前記第2モード(M2)が行われてから次の前記第2モード(M2)が行われるまでの期間(Y)が、Y5時間以下であることとすると、前記Y5時間は以下の数5で示される、請求項14に記載の紫外線照射装置。
(数5)
Y5=a1・X+b1
a1={f(β/1.08)―f(α/1.08)/(β/1.08―α/1.08)}
b1=f(α/1.08)―a・α/1.08
When the peak wavelength of the ultraviolet light is 249 nm or more and 259 nm or less,
15. The ultraviolet irradiation device according to claim 14, wherein, when a period (Y) from when the second mode (M2) is performed until the next second mode (M2) is performed is Y5 hours or less, the Y5 hours are expressed by the following number 5.
(Equation 5)
Y5 = a1.X + b1
a1 = {f (β/1.08) - f (α/1.08) / (β/1.08 - α/1.08 )}
b1 = f (α/1.08) - a α/1.08
紫外線のピーク波長が275nm以上、285nm以下である場合、
前記基準照射量がB/0.65に設定され、かつ、前記第1モード(M1)における前記照射量の最低値がA/0.65に設定される、請求項13に記載の紫外線照射装置。
When the peak wavelength of the ultraviolet light is 275 nm or more and 285 nm or less,
14. The ultraviolet irradiation device according to claim 13, wherein the reference dose is set to B/0.65, and the minimum value of the dose in the first mode (M1) is set to A/0.65.
紫外線のピーク波長が275nm以上、285nm以下である場合、
前記第2モード(M2)が行われてから次の前記第2モード(M2)が行われるまでの期間(Y)が、Y6時間以下であることとすると、前記Y6時間は以下の数6で示される、請求項16に記載の紫外線照射装置。
(数6)
Y6=a2・X+b2
a2={f(β/0.65)―f(α/0.65)/(β/0.65―α/0.65)}
b2=f(α/0.65)―a・α/0.65
When the peak wavelength of the ultraviolet light is 275 nm or more and 285 nm or less,
17. The ultraviolet irradiation device according to claim 16, wherein, when a period (Y) from when the second mode (M2) is performed until the next second mode (M2) is performed is Y6 hours or less, the Y6 hours are expressed by the following number 6.
(Equation 6)
Y6 = a2.X + b2
a2 = {f (β/0.65) - f (α/0.65) / (β/0.65 - α/0.65 )}
b2 = f (α/0.65) - a α/0.65
除菌の対象となる菌類には、フザリウムまたはペニシリウムが含まれ、
前記紫外線のピーク波長が260nm以上、270nm以下であり、かつ、前記所定期間が1日である場合、前記基準照射量が48mJ/cmであり、かつ、前記第1モード(M1)における前記照射量の最低値が12mJ/cmである、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の紫外線照射装置。
The fungi to be eradicated include Fusarium or Penicillium.
4. The ultraviolet irradiation device according to claim 1, wherein when the peak wavelength of the ultraviolet ray is 260 nm or more and 270 nm or less and the specified period is one day, the reference irradiation amount is 48 mJ/ cm2 and the minimum value of the irradiation amount in the first mode (M1) is 12 mJ/ cm2 .
除菌の対象となる菌類には、クラドスポリウムまたはアスペルギルスが含まれ、
前記紫外線のピーク波長が260nm以上、270nm以下であり、かつ、前記所定期間が1日である場合、前記基準照射量が327mJ/cmであり、かつ、前記第1モード(M1)における前記照射量の最低値が82mJ/cmである、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の紫外線照射装置。
The fungi to be eradicated include Cladosporium or Aspergillus.
4. The ultraviolet irradiation device according to claim 1, wherein when the peak wavelength of the ultraviolet ray is 260 nm or more and 270 nm or less and the predetermined period is one day, the reference irradiation amount is 327 mJ/ cm2 and the minimum value of the irradiation amount in the first mode (M1) is 82 mJ/ cm2 .
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