JP2024061182A - Exhaust Gas Treatment Equipment - Google Patents

Exhaust Gas Treatment Equipment Download PDF

Info

Publication number
JP2024061182A
JP2024061182A JP2022168956A JP2022168956A JP2024061182A JP 2024061182 A JP2024061182 A JP 2024061182A JP 2022168956 A JP2022168956 A JP 2022168956A JP 2022168956 A JP2022168956 A JP 2022168956A JP 2024061182 A JP2024061182 A JP 2024061182A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
exhaust gas
intake valve
filter unit
detoxification
controls
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2022168956A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
祐輔 大石
誠 関田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Taiyo Nippon Sanso Corp
Original Assignee
Taiyo Nippon Sanso Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Taiyo Nippon Sanso Corp filed Critical Taiyo Nippon Sanso Corp
Priority to JP2022168956A priority Critical patent/JP2024061182A/en
Publication of JP2024061182A publication Critical patent/JP2024061182A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Chimneys And Flues (AREA)
  • Incineration Of Waste (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)

Abstract

【課題】長期安定稼働をし、フィルター交換寿命の延命が可能となる排ガス処理設備を提供する。【解決手段】排ガスの有害成分を無害化処理する除害装置11,21と、該除害装置11,21から排出される排ガス中に含まれる粉体を分離するフィルターユニット31と、除害装置11,21からフィルターユニット31に至る排ガス配管L1とを備えた排ガス処理設備10において、除害装置11,21の出口部において、大気吸入弁12,22を備え、大気吸入弁12,22を開閉制御する制御部は、フィルターユニット31の上流側と下流側の差圧の上昇を検知したら、大気吸入弁12,22を閉じる方向に制御する。【選択図】 図1[Problem] To provide an exhaust gas treatment facility that operates stably for a long period of time and can extend the life of the filter replacement. [Solution] In an exhaust gas treatment facility 10 that includes a detoxification device 11, 21 that detoxifies harmful components in exhaust gas, a filter unit 31 that separates powder contained in the exhaust gas discharged from the detoxification device 11, 21, and an exhaust gas pipe L1 that runs from the detoxification device 11, 21 to the filter unit 31, an atmospheric intake valve 12, 22 is provided at the outlet of the detoxification device 11, 21, and a control unit that controls the opening and closing of the atmospheric intake valve 12, 22 controls the atmospheric intake valve 12, 22 in the direction of closing when it detects an increase in the differential pressure between the upstream and downstream sides of the filter unit 31. [Selected Figure] Figure 1

Description

本発明は、排ガス処理設備に関し、詳しくは、半導体などの各種電子デバイス製造装置から排出される有害成分を含む排ガスの処理設備に関する。 The present invention relates to exhaust gas treatment equipment, and more specifically to equipment for treating exhaust gas containing harmful components discharged from various electronic device manufacturing equipment such as semiconductor manufacturing equipment.

半導体などの各種電子デバイス製造装置において、各種のプロセスガスやクリーニングガスが利用されている。当該プロセスガス及びクリーニングガス(以下、排ガスという)は有害成分を含むため、ポンプを介して除害装置に送られ無害化処理され、無害化処理時に発生した粉体を分離除去してから、外部に排気するようにしている。 Various process gases and cleaning gases are used in manufacturing equipment for various electronic devices, such as semiconductors. Since the process gases and cleaning gases (hereafter referred to as exhaust gases) contain harmful components, they are sent via pump to a detoxification device where they are rendered harmless. Powder generated during the detoxification process is separated and removed before being exhausted to the outside.

このような排ガス処理設備において、粉体を分離除去するフィルターユニットを複数設置し、使用するフィルターとメンテナンスするフィルターを切替えることで安定稼働を図るもの(例えば、特許文献1)や、除害装置からフィルターユニットへの排ガス配管上に粉体を堆積させないように、配管内周面にエポキシ樹脂の焼付塗装を施した金属製配管を採用したもの(例えば、特許文献2)が提案されている。 In this type of exhaust gas treatment equipment, there are proposals to install multiple filter units that separate and remove powder, and to achieve stable operation by switching between the filters in use and the filters to be maintained (e.g., Patent Document 1), and to use metal piping with an epoxy resin baked coating on the inner periphery of the piping to prevent powder from accumulating on the exhaust gas piping from the abatement device to the filter units (e.g., Patent Document 2).

特開2003-21315号公報JP 2003-21315 A 特開2016-017678号公報JP 2016-017678 A

しかしながら、特許文献1に示されるような排ガス処理設備のように、複数のフィルターユニットを設置しなくても、フィルターの閉塞(目詰まり)を防止し、フィルター交換寿命の延命が可能となる排ガス処理設備が求められている。 However, there is a demand for an exhaust gas treatment facility that can prevent blockage (clogging) of filters and extend the filter replacement life without installing multiple filter units, such as the exhaust gas treatment facility shown in Patent Document 1.

よって、本発明は、長期安定稼働をし、フィルター交換寿命の延命が可能となる排ガス処理設備を提供することを目的としている。 Therefore, the present invention aims to provide an exhaust gas treatment facility that can operate stably for a long period of time and extend the filter replacement life.

上記課題を解決するために、本発明の第1の発明は、排ガスの有害成分を無害化処理する除害装置と、該除害装置から排出される排ガス中に含まれる粉体を分離するフィルターユニットと、前記除害装置から前記フィルターユニットに至る排ガス配管とを備えた排ガス処理設備において、前記除害装置の出口部において、大気吸入弁を備え、前記大気吸入弁を開閉制御する制御部は、前記フィルターユニットの上流側と下流側の差圧の上昇を検知したら、前記大気吸入弁を閉じる方向に制御することを特徴としている。 In order to solve the above problems, the first aspect of the present invention is an exhaust gas treatment facility that includes a detoxification device that detoxifies harmful components in exhaust gas, a filter unit that separates powder contained in the exhaust gas discharged from the detoxification device, and an exhaust gas pipe leading from the detoxification device to the filter unit, and is characterized in that the outlet of the detoxification device is provided with an air intake valve, and a control unit that controls the opening and closing of the air intake valve controls the air intake valve to close when it detects an increase in the differential pressure between the upstream and downstream sides of the filter unit.

また、本発明の第2の発明は、排ガスの有害成分を無害化処理する除害装置と、該除害装置から排出される排ガス中に含まれる粉体を分離するフィルターユニットと、前記除害装置から前記フィルターユニットに至る排ガス配管とを備えた排ガス処理設備において、前記除害装置の出口部において、大気吸入弁を備え、前記大気吸入弁を開閉制御する制御部は、前記除害装置に排ガスを導出する製造装置のガス使用信号を受信し、前記除害装置の無害化処理時において粉体を発生するガスを使用している信号でない場合に、前記大気吸入弁を閉じる方向に制御することを特徴としている。 The second invention of the present invention is an exhaust gas treatment facility including a detoxification device that detoxifies harmful components in exhaust gas, a filter unit that separates powder contained in the exhaust gas discharged from the detoxification device, and an exhaust gas pipe leading from the detoxification device to the filter unit, and is characterized in that an air intake valve is provided at the outlet of the detoxification device, and a control unit that controls the opening and closing of the air intake valve receives a gas usage signal from a manufacturing device that outputs exhaust gas to the detoxification device, and controls the air intake valve in a direction to close when the signal is not a signal indicating that a gas that generates powder is being used during the detoxification process of the detoxification device.

さらに、本発明の第3の発明は、排ガスの有害成分を無害化処理する除害装置と、該除害装置から排出される排ガス中に含まれる粉体を分離するフィルターユニットと、前記除害装置から前記フィルターユニットに至る排ガス配管とを備えた排ガス処理設備において、前記除害装置の出口部において、大気吸入弁を備え、前記大気吸入弁を開閉制御する制御部は、前記除害装置の無害化処理時において粉体を発生する燃焼モードでないことを検知した場合に、前記大気吸入弁を閉じる方向に制御することを特徴としている。 The third invention of the present invention is an exhaust gas treatment facility including a detoxification device that detoxifies harmful components in exhaust gas, a filter unit that separates powder contained in the exhaust gas discharged from the detoxification device, and an exhaust gas pipe leading from the detoxification device to the filter unit, and is characterized in that an air intake valve is provided at the outlet of the detoxification device, and a control unit that controls the opening and closing of the air intake valve controls the air intake valve in a direction to close when it detects that the combustion mode of the detoxification device during detoxification processing is not one that generates powder.

また、前記排ガス配管のフィルターユニットと連結している側と反対側の端部に、搬送速度を調節するために大気を導入する搬送速度調整用大気導入弁が設けられ、前記制御部は、前記フィルターユニットの上流側と下流側の差圧の低下を検知したら、前記搬送速度調整用大気導入弁が開く方向に制御することを特徴としており、さらに、前記除害装置は複数設けられていてもよい。 The exhaust gas piping is provided at its end opposite to the end connected to the filter unit with an atmospheric air introduction valve for adjusting the transport speed, which introduces atmospheric air to adjust the transport speed. The control unit controls the atmospheric air introduction valve for adjusting the transport speed in an opening direction when it detects a decrease in the differential pressure between the upstream and downstream sides of the filter unit. Furthermore, a plurality of the abatement devices may be provided.

第1の発明によれば、フィルターユニットの上流側と下流側の差圧の上昇を検知したら、大気吸入弁を閉じる方向に制御することにより、通気風量全体を低下させ、フィルターユニットへの粉体の再付着を防止し、差圧回復を行っている。このような差圧回復を行うことにより、フィルター交換目安の差圧に達するまでの期間の長期化が可能となっている。 According to the first invention, when an increase in the differential pressure between the upstream and downstream sides of the filter unit is detected, the atmospheric intake valve is controlled in the direction of closing, thereby reducing the overall ventilation air volume, preventing powder from re-adhering to the filter unit, and restoring the differential pressure. By restoring the differential pressure in this way, it is possible to extend the period until the differential pressure reaches the guideline for filter replacement.

また、第2,第3の発明によれば、定常的に発生粉体の負荷の状態を認識した上で、粉体が発生しない状況で差圧回復を図るので、さらに安定稼働、部品交換寿命の延命が可能となる。 In addition, according to the second and third inventions, the load state of the generated powder is constantly recognized, and the differential pressure is restored in a situation where no powder is generated, which allows for more stable operation and extends the life of parts that need replacing.

さらに、搬送速度調整用大気導入弁を設けることにより、排気ガス配管の粉体搬送速度を常に確保することができ、安定稼働が可能となる。 In addition, by providing an air intake valve for adjusting the transport speed, the powder transport speed in the exhaust gas piping can be constantly maintained, enabling stable operation.

本発明の排ガス処理設備の一形態例を示す説明図である。1 is an explanatory diagram showing an example of an exhaust gas treatment facility according to the present invention; 本発明の排ガス処理設備の一形態例による連続運転と、通常の連続運転とにおけるフィルター差圧ΔPの経過日数による推移を示すグラフである。4 is a graph showing the change in filter differential pressure ΔP over the number of days in continuous operation according to one embodiment of the exhaust gas treatment equipment of the present invention and in normal continuous operation.

図1は、本発明の排ガス処理設備の一形態例(実施例)を示す説明図である。本形態例における排ガス処理設備10は、半導体などの各種電子デバイス製造装置1からドライポンプ2を介して排出されたガスの無害化処理を行う複数の除害装置11,21と、除害装置11,21から排出される排ガス中に含まれる粉体を分離するフィルターユニット31と、前記除害装置11,21からフィルターユニット31に至る排ガス配管L1とで、概略構成されている。 Figure 1 is an explanatory diagram showing one embodiment (example) of the exhaust gas treatment equipment of the present invention. The exhaust gas treatment equipment 10 in this example is roughly composed of a plurality of detoxification devices 11, 21 that perform detoxification of gas discharged from various electronic device manufacturing equipment 1 such as semiconductors via a dry pump 2, a filter unit 31 that separates powder contained in the exhaust gas discharged from the detoxification devices 11, 21, and an exhaust gas pipe L1 that runs from the detoxification devices 11, 21 to the filter unit 31.

電子デバイス製造装置1は、例えば半導体製造用のプロセスチャンバ等であるが、成膜の種類や工程に応じて、様々なガスが使用され、そのガスに応じた排ガスが排出される。電子デバイス製造装置1から排出されたこれらのガスは、ドライポンプ2に吸引されて除害装置11に送られる。 The electronic device manufacturing equipment 1 is, for example, a process chamber for semiconductor manufacturing, and various gases are used depending on the type and process of film formation, and exhaust gases corresponding to those gases are discharged. These gases discharged from the electronic device manufacturing equipment 1 are sucked into the dry pump 2 and sent to the decontamination equipment 11.

除害装置11は、いわゆる水冷加熱分解式のものであり、分解部11a、タンク部11b、スクラバ部11cを備えている。分解部11aは、排ガス中の有害成分を加熱分解処理するものであって、内筒と外筒からなる二重筒構造を有し、内筒の内部にバーナーを備える。当該バーナーには、燃料供給管(図示せず)と支燃性流体供給管(図示せず)とが配置されており、燃料供給管から供給される燃料が支燃性流体供給管から供給される支燃性流体と混合されて燃焼する時に、ドライポンプ2から供給される排ガスが加熱分解処理される。 The abatement device 11 is of the so-called water-cooled thermal decomposition type, and is equipped with a decomposition section 11a, a tank section 11b, and a scrubber section 11c. The decomposition section 11a thermally decomposes harmful components in the exhaust gas, and has a double-cylinder structure consisting of an inner cylinder and an outer cylinder, with a burner inside the inner cylinder. A fuel supply pipe (not shown) and a combustion-supporting fluid supply pipe (not shown) are arranged in the burner, and when the fuel supplied from the fuel supply pipe is mixed with the combustion-supporting fluid supplied from the combustion-supporting fluid supply pipe and combusted, the exhaust gas supplied from the dry pump 2 is thermally decomposed.

分解部11aで処理された排ガスや処理時に発生した粉体は、分解部11aの下部に設けられるタンク部11bへ排出する。タンク部11bは、内部に密閉状態で中間高さまで冷却水が貯留された冷却水槽であり、上部に後述するスクラバ部11cが接続される排気口を備えている。タンク部11bにおいて、分解部11aから排出されたガスは冷却水に接触して冷却され、粉体(二次生成物)の一部は冷却水により捕捉される。なお、図示は省略するが、タンク部11bには、冷却水の貯留量を一定に保ちながら新たな冷却水を導入して水を取り替えるための給水経路及び排水経路が設けられている。 The exhaust gas treated in the decomposition section 11a and the powder generated during the treatment are discharged to the tank section 11b provided below the decomposition section 11a. The tank section 11b is a cooling water tank in which cooling water is stored up to an intermediate height in a sealed state, and is provided with an exhaust port at the top to which the scrubber section 11c described below is connected. In the tank section 11b, the gas discharged from the decomposition section 11a comes into contact with the cooling water and is cooled, and some of the powder (secondary product) is captured by the cooling water. Although not shown, the tank section 11b is provided with a water supply path and a drainage path for introducing new cooling water to replace the water while maintaining a constant amount of stored cooling water.

スクラバ部11cは、タンク部11bの上部に設けられており、内部に充填材を充填するとともに、充填材の上方にスプレーノズルを設けたものである。スクラバ部11cでは、タンク部11bの冷却水で冷却されたガス中の不純物を充填材によって捕捉した後、スプレーノズルから散水される洗浄水によってガスを洗浄して水溶性成分を除去する。 The scrubber section 11c is provided on the top of the tank section 11b, and is filled with a filler material and has a spray nozzle above the filler material. In the scrubber section 11c, impurities in the gas cooled by the cooling water in the tank section 11b are captured by the filler material, and then the gas is washed with cleaning water sprayed from the spray nozzle to remove water-soluble components.

このスクラバ部11cから排出される排ガスには、スプレーノズルからの散水により、ほぼ相対湿度100%かつ微量のミストが含まれており、さらに、まだ一部の粉体も残っている。含水率の高い粉体や、排気ガスに水分ミストが同伴されてしまうと、後述するフィルターユニット31のフィルター表面での付着力が大きくなってしまい、逆洗をしても粉体をフィルター表面から除去することが困難となる場合がある。そのため、排ガス配管L1に合流する前のスクラバ部11cの出口部(除害装置の後段)において、乾燥用の大気を吸入するための大気吸入弁12が設けられている。大気吸入弁12は、導入する大気の流量を調節可能とするため、開度を調節可能な制御弁である。この大気吸入弁12から導入された大気は、上述のように乾燥の用途だけでなく、排ガス配管L1内の粉体を搬送するための用途ともなる。 The exhaust gas discharged from the scrubber section 11c contains a relative humidity of almost 100% and a small amount of mist due to the water spray from the spray nozzle, and some powder still remains. If the powder with a high moisture content or the moisture mist is entrained in the exhaust gas, the adhesion force on the filter surface of the filter unit 31 described later will be large, and it may be difficult to remove the powder from the filter surface even by backwashing. For this reason, an air intake valve 12 for drawing in air for drying is provided at the outlet (rear stage of the abatement device) of the scrubber section 11c before merging with the exhaust gas pipe L1. The air intake valve 12 is a control valve whose opening can be adjusted to adjust the flow rate of the air introduced. The air introduced from the air intake valve 12 is used not only for drying as described above, but also for transporting the powder in the exhaust gas pipe L1.

除害装置21も、除害装置11と同様の構成であり、分解部21a、タンク部21b、スクラバ部21cを備え、スクラバ部21cの出口部に、大気吸入弁22を設けている。 The decontamination device 21 has the same configuration as the decontamination device 11, and includes a decomposition section 21a, a tank section 21b, and a scrubber section 21c, and an air intake valve 22 is provided at the outlet of the scrubber section 21c.

フィルターユニット31は、内部に複数のバグフィルター31aが設けられている。排ガス配管L1からフィルターユニット31に導入された排ガスは、バグフィルター31aの1次側から2次側へと通過し、排ガス中に含まれる粉体等は、バグフィルター31aの1次側表面に付着、堆積する。バグフィルター31aを通過した排ガスは、排気ポンプ3によって、排ガス処理設備10の外部に放出される。 The filter unit 31 has multiple bag filters 31a installed inside. The exhaust gas introduced into the filter unit 31 from the exhaust gas pipe L1 passes from the primary side to the secondary side of the bag filter 31a, and powder and other particles contained in the exhaust gas adhere to and accumulate on the primary side surface of the bag filter 31a. The exhaust gas that has passed through the bag filter 31a is discharged to the outside of the exhaust gas treatment equipment 10 by the exhaust pump 3.

また、バグフィルター31aに付着した粉体等の逆洗のために、逆洗用弁31bを常時一定間隔で開閉し、噴出空気をバグフィルター31aの2次側から1次側に吹き付けることで、バグフィルター31aの1次側表面に付着した粉体等を離脱させ、粉体排出部(ホッパー)31cに落下させる。 In addition, to backwash the powder and other particles adhering to the bag filter 31a, the backwash valve 31b is constantly opened and closed at regular intervals, and the air is blown from the secondary side to the primary side of the bag filter 31a, causing the powder and other particles adhering to the primary surface of the bag filter 31a to detach and fall into the powder discharge section (hopper) 31c.

本形態例における排ガス処理設備10では、フィルターユニット31の上流側の圧力計P1と下流側の圧力計P2によって計測される圧力の差(フィルター差圧ΔP)を制御部(図示せず)で検知している。排ガス処理設備10で、排ガス処理を継続していると、バグフィルター31aの目詰まりが進行し、フィルター差圧ΔPは次第に上昇し、1.0kPaに達したら、フィルター交換のタイミングの目安としている。 In the exhaust gas treatment equipment 10 of this embodiment, the difference in pressure (filter differential pressure ΔP) measured by the pressure gauge P1 on the upstream side of the filter unit 31 and the pressure gauge P2 on the downstream side is detected by a control unit (not shown). As exhaust gas treatment continues in the exhaust gas treatment equipment 10, clogging of the bag filter 31a progresses and the filter differential pressure ΔP gradually increases. When it reaches 1.0 kPa, it is time to replace the filter.

また、排ガス配管L1のフィルターユニット31と連結している側と反対側の端部には、搬送速度を調節するために大気を導入する搬送速度調整用大気導入弁41が設けられている。 In addition, an air intake valve 41 for adjusting the conveying speed is provided at the end of the exhaust gas pipe L1 opposite the end connected to the filter unit 31, which introduces air to adjust the conveying speed.

ここで、排ガス配管L1からフィルターユニット31への通気風量が多いと、逆洗により除去した付着粉体が、バグフィルター31aの1次側表面に再度付着してしまう現象が発生してしまう。 Here, if the amount of airflow from the exhaust gas pipe L1 to the filter unit 31 is large, the powder particles removed by backwashing may re-adhere to the primary surface of the bag filter 31a.

そのため、本形態例における排ガス処理設備10では、排ガス処理の連続運転中に、制御部がフィルター差圧ΔPの上昇を検知した場合に(例えば、0.9~1.0kPaの上昇を検知した場合)、一時的に除害装置11,21の後段に設けられた大気吸入弁12,22の開度を小さくする方向に自動制御することが制御部により行われている。このように、大気吸入弁12,22の開度を小さくすることで、通気風量全体を低下させ、バグフィルター31aの1次側表面への再付着を防止し、差圧回復を行っている。また、開度を小さくした大気吸入弁12,22は、タイマー制御により、バグフィルター31aの数にもよるが例えば10分~60分経過したら、開度が戻るようにしてもよい。このとき、差圧回復が確認できない場合には、再度、大気吸入弁12,22の開度を小さくする方向に制御してもよい。 Therefore, in the exhaust gas treatment equipment 10 in this embodiment, when the control unit detects an increase in the filter differential pressure ΔP during continuous operation of the exhaust gas treatment (for example, when an increase of 0.9 to 1.0 kPa is detected), the control unit automatically controls the atmospheric intake valves 12, 22 installed downstream of the detoxification devices 11, 21 to temporarily reduce the opening. In this way, by reducing the opening of the atmospheric intake valves 12, 22, the overall ventilation air volume is reduced, re-adhesion to the primary side surface of the bag filter 31a is prevented, and the differential pressure is restored. In addition, the atmospheric intake valves 12, 22 whose opening has been reduced may be timer-controlled to return to their original opening after, for example, 10 to 60 minutes have elapsed, depending on the number of bag filters 31a. At this time, if the differential pressure recovery cannot be confirmed, the atmospheric intake valves 12, 22 may be controlled again to reduce the opening.

図2は、通常の連続運転と、上述の本発明の実施例による差圧回復機能を追加した制御を実施した場合のフィルター差圧ΔPの経過日数による推移を示すグラフである。通常の連続運転の場合は、黒三角でプロットを示したものであるが、約240日で交換目安となる1.0kPaに達した。本発明の実施例による場合は、黒丸でプロットを示したものであるが、交換目安のフィルター差圧に達するまで約330日となっており、安定稼働、部品交換寿命の延命が可能となっている。 Figure 2 is a graph showing the change in filter differential pressure ΔP over time in normal continuous operation and when control is implemented with the addition of a differential pressure recovery function according to the embodiment of the present invention described above. In the case of normal continuous operation, plotted with black triangles, it took about 240 days to reach the replacement guideline of 1.0 kPa. In the case of the embodiment of the present invention, plotted with black circles, it took about 330 days to reach the filter differential pressure guideline for replacement, enabling stable operation and extending the life of parts that can be replaced.

次に、本発明の排ガス処理設備10の制御についての変形例(変形例1)を説明する。電子デバイス製造装置1においては、種類や工程に応じて、様々なガスが使用され、そのガスに応じた排ガスが排出される。半導体や液晶パネルを製造するプロセス工程では、シランガス(SiH)や六フッ化タングステン(WF)等の特殊ガスがプロセスガスとして使用される。これら可燃性の特殊ガスを除害装置11で処理する場合、粉体(二次生成物)を生じることとなる。 Next, a modified example (modified example 1) of the control of the exhaust gas treatment facility 10 of the present invention will be described. In the electronic device manufacturing apparatus 1, various gases are used depending on the type and process, and exhaust gas corresponding to the gas is discharged. In the process steps for manufacturing semiconductors and liquid crystal panels, special gases such as silane gas (SiH 4 ) and tungsten hexafluoride (WF 6 ) are used as process gases. When these flammable special gases are treated by the abatement device 11, powder (secondary product) is generated.

一方、クリーニング工程で使用される三フッ化窒素(NF)等の難分解性のガスを除害装置11で処理する場合には、粉体発生は軽微である。 On the other hand, when a persistent gas such as nitrogen trifluoride (NF 3 ) used in the cleaning process is treated by the detoxification device 11, the generation of powder is slight.

電子デバイス製造装置1からは、どのような工程でどのようなガスを使用しているかのガス使用信号が排ガス処理設備10の制御部に送信される。ガス使用信号としては、例えば、除害装置11において粉体が生じるような成膜工程(プロセス工程)を実施中の信号(DEPO信号)や、クリーニング工程を実施中の信号(CLN信号)等がある。 The electronic device manufacturing apparatus 1 transmits a gas usage signal indicating which gas is being used in which process to the control unit of the exhaust gas treatment equipment 10. Examples of gas usage signals include a signal (DEPO signal) indicating that a film formation process (process step) that generates powder is being performed in the decontamination device 11, and a signal (CLN signal) indicating that a cleaning process is being performed.

除害装置11で粉体が発生しているような場合には、粉体発生の負荷が生じるため、上述の実施例のような差圧回復制御をしても効果は少ないが、粉体が発生していない状況であることが制御部で確認される場合、大気吸入弁12,22の開度を小さくする方向に自動制御することにより、通気風量全体を低下させ、差圧回復を図ることが可能である。 If powder is being generated in the abatement device 11, the load of the powder generation will be generated, and so differential pressure recovery control as in the above embodiment will have little effect. However, if the control unit confirms that no powder is being generated, the opening of the atmospheric intake valves 12, 22 can be automatically controlled to reduce, thereby reducing the overall ventilation air volume and enabling differential pressure recovery.

粉体が発生していない状況であることが制御部で確認される場合とは、例えば、DEPO信号、CLN信号の両方を受信可能な場合においては、両方の信号の未入力時である。また、仮にCLN信号しか受信できないような場合においては、CLN信号の入力時であれば少なくとも多量の粉体は発生していない負荷が軽い状況であるので、CLN信号入力時であればよい(本発明の粉体を発生するガスを使用している信号でない場合としてよい。)。 When the control unit confirms that no powder is being generated, it means, for example, that in a case where both the DEPO signal and the CLN signal can be received, neither signal is input. Also, if only the CLN signal can be received, the CLN signal input is sufficient since it means that at least a large amount of powder is not being generated and the load is light (this may be considered to be a case where the signal is not one that uses the gas that generates the powder of the present invention).

実施例においては、フィルター差圧ΔPの上昇が検知された場合に、大気吸入弁12,22の開度を制御するが、日数が経過し、フィルターの目詰まりが進行してしまうと、逆洗による粉体の離脱が困難になる為、十分な効果が得られない場合もあった。変形例1では、定常的に発生粉体の負荷の状態を、電子デバイス製造装置1からの入力信号により認識した上で、差圧回復制御を加えることで、さらに安定稼働、部品交換寿命の延命が可能となる。 In the embodiment, when an increase in the filter differential pressure ΔP is detected, the opening of the atmospheric intake valves 12, 22 is controlled, but as time passes and the filter becomes increasingly clogged, it becomes difficult to remove the powder by backwashing, and sufficient effects may not be obtained. In variant 1, the steady load state of the generated powder is recognized by the input signal from the electronic device manufacturing equipment 1, and differential pressure recovery control is added, making it possible to further stabilize operation and extend the life of parts replacement.

なお、除害装置11,21について、電子デバイス製造装置1のガス使用信号に基づいて、省エネの観点から運転状況(燃焼モード)を最適化するために、燃焼モードを切替可能な機種も多い。したがって、変形例1のように、電子デバイス製造装置1のガス使用信号に基づいて制御するのではなく、変形例2として、制御部により、除害装置の燃焼モードに基づいて、大気吸入弁12,22の開度を制御することも可能である。 In addition, many models of abatement devices 11, 21 are capable of switching the combustion mode based on the gas usage signal of electronic device manufacturing equipment 1 in order to optimize the operating conditions (combustion mode) from the perspective of energy conservation. Therefore, instead of controlling based on the gas usage signal of electronic device manufacturing equipment 1 as in variant 1, as variant 2, it is also possible to control the opening degree of atmospheric intake valves 12, 22 by the control unit based on the combustion mode of the abatement device.

燃焼モードとして、例えば、処理対象ガスが流れていないときには、着火用小型バーナーのみがついている状況(燃料使用量1L/min程度)のアイドルモードがあり、処理対象ガスが流れることによって、低エネルギーモード、高エネルギーモードに切り替わるものがある。 As for the combustion mode, for example, there is an idle mode in which only a small ignition burner is on (fuel consumption of about 1 L/min) when the gas to be treated is not flowing, and when the gas to be treated starts to flow, it switches to a low energy mode or a high energy mode.

低エネルギーモードとは、例えば、60-70%の燃料使用量で除害可能なシランガス(SiH)や六フッ化タングステン(WF)といった可燃性ガスを処理しているときのモードである。 The low energy mode is a mode when treating flammable gases such as silane gas (SiH 4 ) and tungsten hexafluoride (WF 6 ), which can be detoxified with 60-70% of the fuel consumption.

高エネルギーモードとは、例えば、100%の燃料使用量でないと処理できない三フッ化窒素(NF)等の難分解性のガスを処理しているときのモードである。 The high energy mode is a mode in which, for example, persistent gases such as nitrogen trifluoride (NF 3 ) that cannot be treated unless 100% of the fuel is used are treated.

したがって、アイドルモード及び高エネルギーモードでは、除害装置の処理時粉体が発生していない状況である(高エネルギーモードでは、変形例1のCLN信号入力時と同様に、若干量の粉体が発生するが、本発明の粉体を発生する燃焼モードでないモードとしてよい。)。よって、変形例2として、粉体が発生していない状況であることが、除害装置の燃焼モードにより制御部で確認される場合、大気吸入弁12,22の開度を小さくする方向に自動制御することにより、通気風量全体を低下させ、差圧回復を図るようにしてもよい。 Therefore, in the idle mode and high energy mode, no powder is generated during processing by the abatement device (in the high energy mode, a small amount of powder is generated, as in the case of the CLN signal input in the first modification, but this mode may be considered a mode that is not a combustion mode that generates powder according to the present invention). Therefore, in the second modification, when the control unit confirms that no powder is being generated based on the combustion mode of the abatement device, the opening of the atmospheric intake valves 12, 22 may be automatically controlled in a direction to reduce the overall ventilation air volume, thereby allowing the pressure difference to be restored.

また、実施例、変形例1、変形例2のいずれであっても2台の除害装置11,21の両方が稼働している状況下では、排ガス配管L1における粉体の搬送速度が十分に得られているが、どちらかが停止状態となると、排ガス配管L1における粉体の搬送速度が低下してしまい、排ガス配管L1上に粉体が堆積してしまうおそれがある。 In addition, in any of the embodiment, variant 1, and variant 2, when both decontamination devices 11, 21 are operating, the powder transport speed in the exhaust gas pipe L1 is sufficient. However, if either of them stops, the powder transport speed in the exhaust gas pipe L1 decreases, and there is a risk of powder accumulating on the exhaust gas pipe L1.

除害装置が2台、フィルターユニット1台の場合、通常運転時におけるフィルター差圧ΔPの運転値は、0.6-0.8kPaである。ここで、1台の除害装置が停止すると、フィルター差圧ΔPが0.3kPa程度まで下がってしまう。 When there are two abatement devices and one filter unit, the operating value of the filter differential pressure ΔP during normal operation is 0.6-0.8 kPa. Here, if one of the abatement devices stops, the filter differential pressure ΔP drops to about 0.3 kPa.

このように、フィルター差圧ΔPが排ガス配管L1における粉体の搬送速度が十分に得られていないと判断されるまで下がったことを制御部が検知した場合、排ガス配管L1に搬送速度調整用大気導入弁41を開き、フィルター差圧ΔPが0.6kPa程度まで戻して、搬送速度を確保するように制御することが好適である。 In this way, when the control unit detects that the filter differential pressure ΔP has dropped to a level where it is determined that the powder transport speed in the exhaust gas pipe L1 is not being obtained sufficiently, it is preferable to open the atmospheric intake valve 41 for adjusting the transport speed in the exhaust gas pipe L1 and control the filter differential pressure ΔP to return to approximately 0.6 kPa and ensure the transport speed.

なお、フィルター差圧ΔPの低下がどの程度の場合に、搬送速度調整用大気導入弁41を開くかどうかは、除害装置、フィルターユニットの数等に基づいて、あらかじめ設定しておけばよい。 The degree of decrease in the filter differential pressure ΔP at which the conveying speed adjustment atmosphere intake valve 41 should be opened can be preset based on the abatement device, the number of filter units, etc.

以下の表1は、通常運転時と、実施例1及び変形例1,2の差圧回復制御時、フィルター差圧ΔPが低下して搬送速度調整用大気導入弁41を開いたときの、排ガス処理設備10の各箇所における通気流量の例を示すものである。 The following Table 1 shows examples of the air flow rate at each location of the exhaust gas treatment equipment 10 during normal operation, during differential pressure recovery control in Example 1 and Modifications 1 and 2, and when the filter differential pressure ΔP drops and the atmospheric intake valve 41 for adjusting the transport speed is opened.

Q1は除害装置11の除害処理後の排気ガスの流量、Q2は大気吸入弁12から吸入される大気の流量、Q3は除害装置21の除害処理後の排気ガスの流量、Q4は大気吸入弁22から吸入される大気の流量、Q5は搬送速度調整用大気導入弁41から吸入される大気の流量である。 Q1 is the flow rate of exhaust gas after the abatement process in the abatement device 11, Q2 is the flow rate of air taken in through the atmospheric intake valve 12, Q3 is the flow rate of exhaust gas after the abatement process in the abatement device 21, Q4 is the flow rate of air taken in through the atmospheric intake valve 22, and Q5 is the flow rate of air taken in through the atmospheric intake valve 41 for adjusting the transport speed.

Figure 2024061182000002
Figure 2024061182000002

なお、上記実施例において、除害装置が2台、フィルターユニット1台の排ガス処理設備となっているが、それぞれの台数については、特に限定されない。また、除害装置は水冷加熱分解式に限らず、ヒーター式やプラズマ式のもの等、排ガスの有害成分を無害化処理できる公知のものを採用してもよい。 In the above embodiment, the exhaust gas treatment equipment has two detoxifiers and one filter unit, but the number of each is not particularly limited. The detoxifier is not limited to the water-cooled thermal decomposition type, and any known type capable of detoxifying harmful components in exhaust gas, such as a heater type or plasma type, may be used.

1…電子デバイス製造装置、2…ドライポンプ、3…排気ポンプ、10…排ガス処理設備、11,21…除害装置、11a,21a…分解部、11b,21b…タンク部、11c,21c…スクラバ部、12,22…大気吸入弁、31…フィルターユニット、31a…バグフィルター、31b…逆洗用弁、31c…粉体排出部、41…搬送速度調整用大気導入弁 1...Electronic device manufacturing equipment, 2...Dry pump, 3...Exhaust pump, 10...Exhaust gas treatment equipment, 11, 21...Detoxification equipment, 11a, 21a...Decomposition section, 11b, 21b...Tank section, 11c, 21c...Scrubber section, 12, 22...Atmospheric intake valve, 31...Filter unit, 31a...Bag filter, 31b...Backwash valve, 31c...Powder discharge section, 41...Atmospheric intake valve for adjusting conveying speed

Claims (5)

排ガスの有害成分を無害化処理する除害装置と、該除害装置から排出される排ガス中に含まれる粉体を分離するフィルターユニットと、前記除害装置から前記フィルターユニットに至る排ガス配管とを備えた排ガス処理設備において、
前記除害装置の出口部において、大気吸入弁を備え、
前記大気吸入弁を開閉制御する制御部は、前記フィルターユニットの上流側と下流側の差圧の上昇を検知したら、前記大気吸入弁を閉じる方向に制御することを特徴とする排ガス処理設備。
An exhaust gas treatment facility including a detoxification device that detoxifies harmful components in exhaust gas, a filter unit that separates powder contained in the exhaust gas discharged from the detoxification device, and an exhaust gas piping that runs from the detoxification device to the filter unit,
An atmosphere intake valve is provided at an outlet of the abatement device,
The control unit which controls the opening and closing of the atmospheric intake valve controls the atmospheric intake valve to close when it detects an increase in the differential pressure between the upstream and downstream sides of the filter unit.
排ガスの有害成分を無害化処理する除害装置と、該除害装置から排出される排ガス中に含まれる粉体を分離するフィルターユニットと、前記除害装置から前記フィルターユニットに至る排ガス配管とを備えた排ガス処理設備において、
前記除害装置の出口部において、大気吸入弁を備え、
前記大気吸入弁を開閉制御する制御部は、前記除害装置に排ガスを導出する製造装置のガス使用信号を受信し、前記除害装置の無害化処理時において粉体を発生するガスを使用している信号でない場合に、前記大気吸入弁を閉じる方向に制御することを特徴とする排ガス処理設備。
An exhaust gas treatment facility including a detoxification device that detoxifies harmful components in exhaust gas, a filter unit that separates powder contained in the exhaust gas discharged from the detoxification device, and an exhaust gas piping that runs from the detoxification device to the filter unit,
An atmosphere intake valve is provided at an outlet of the abatement device,
The control unit which controls the opening and closing of the atmospheric intake valve receives a gas usage signal from a manufacturing device which outputs exhaust gas to the decontamination device, and controls the atmospheric intake valve in the direction of closing if the signal does not indicate that a gas which generates powder is being used during the decontamination process.
排ガスの有害成分を無害化処理する除害装置と、該除害装置から排出される排ガス中に含まれる粉体を分離するフィルターユニットと、前記除害装置から前記フィルターユニットに至る排ガス配管とを備えた排ガス処理設備において、
前記除害装置の出口部において、大気吸入弁を備え、
前記大気吸入弁を開閉制御する制御部は、前記除害装置の無害化処理時において粉体を発生する燃焼モードでないことを検知した場合に、前記大気吸入弁を閉じる方向に制御することを特徴とする排ガス処理設備。
An exhaust gas treatment facility including a detoxification device that detoxifies harmful components in exhaust gas, a filter unit that separates powder contained in the exhaust gas discharged from the detoxification device, and an exhaust gas piping that runs from the detoxification device to the filter unit,
An atmosphere intake valve is provided at an outlet of the abatement device,
An exhaust gas treatment facility characterized in that a control unit that controls the opening and closing of the atmospheric intake valve controls the atmospheric intake valve to close when it detects that the combustion mode during the detoxification process of the decontamination device is not one that generates powder.
前記排ガス配管のフィルターユニットと連結している側と反対側の端部に、搬送速度を調節するために大気を導入する搬送速度調整用大気導入弁が設けられ、
前記制御部は、前記フィルターユニットの上流側と下流側の差圧の低下を検知したら、前記搬送速度調整用大気導入弁が開く方向に制御することを特徴とする請求項1乃至3いずれか一項に記載の排ガス処理設備。
an air introduction valve for adjusting a conveying speed, which introduces air in order to adjust a conveying speed, is provided at an end of the exhaust gas pipe opposite to the end connected to the filter unit;
4. The exhaust gas treatment facility according to claim 1, wherein the control unit controls the transport speed adjusting atmospheric intake valve in an opening direction when it detects a decrease in the differential pressure between the upstream side and the downstream side of the filter unit.
前記除害装置は複数設けられていることを特徴とする請求項4記載の排ガス処理設備。 The exhaust gas treatment facility according to claim 4, characterized in that a plurality of the abatement devices are provided.
JP2022168956A 2022-10-21 2022-10-21 Exhaust Gas Treatment Equipment Pending JP2024061182A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022168956A JP2024061182A (en) 2022-10-21 2022-10-21 Exhaust Gas Treatment Equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022168956A JP2024061182A (en) 2022-10-21 2022-10-21 Exhaust Gas Treatment Equipment

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2024061182A true JP2024061182A (en) 2024-05-07

Family

ID=90925951

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022168956A Pending JP2024061182A (en) 2022-10-21 2022-10-21 Exhaust Gas Treatment Equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2024061182A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6863019B2 (en) Semiconductor device fabrication chamber cleaning method and apparatus with recirculation of cleaning gas
JP5837351B2 (en) Exhaust system
US9631810B2 (en) Method of treating an exhaust gas stream
TWI499450B (en) Systems and methods for treating flammable effluent gases from manufacturing processes
KR101283264B1 (en) Gas combustion apparatus
KR20090104804A (en) Gas processing apparatus
KR20110079821A (en) Surface processing apparatus
US20140366958A1 (en) Powder discharge system
JP4772223B2 (en) Exhaust gas abatement apparatus and method
JP2024061182A (en) Exhaust Gas Treatment Equipment
KR20180031685A (en) Abatement system
EP1441043A2 (en) Supply of gas to semiconductor process chamber
JPH09909A (en) Exhauster
KR102073389B1 (en) Two track vacuum powder collection system
TWI409097B (en) Method of treating a gas stream
JPH10122539A (en) Discharged gas processing device
JP4583880B2 (en) Exhaust gas treatment method and treatment apparatus
CN111947166A (en) Device for atomizing liquid waste
JPH04358513A (en) Scrubber device
JPH11243059A (en) Semiconductor manufacture device
JP2010227864A (en) Method for operating dust collector, and dust collector
WO2021090737A1 (en) Exhaust gas treatment device
CN219930335U (en) Air pressure adjusting device, reaction chamber tail row pipeline and semiconductor processing equipment
KR200386730Y1 (en) Liquid suction and exhaust equipment use of pneumatic ejector
CN206853388U (en) A kind of boiler smoke filter

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20240209