JP2024052152A - Conductive composition, cured product thereof, and method for manufacturing electronic components using the conductive composition - Google Patents

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征矢 山藤
和也 佐藤
健太郎 大渕
咲月 小澤
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Abstract

【課題】導電性組成物を用いて導電層(導体回路)を形成した基板を立体成型した際に発生する、導体回路のマイクロクラックを抑制することができるとともに、目視により容易にクラック有無の判別が可能な導電性組成物を提供する。【手段】エポキシ樹脂と、熱可塑性樹脂と、導電性フィラーとを少なくとも含んでなる導電性組成物であって、前記熱可塑性樹脂は、ガラス転移温度が80℃以上であることを特徴とする、導電性組成物とする。【選択図】なし[Problem] To provide a conductive composition that can suppress microcracks in a conductor circuit that occur when a substrate on which a conductive layer (conductor circuit) is formed using the conductive composition is three-dimensionally molded, and that allows easy visual inspection to determine whether or not cracks exist. [Means] The conductive composition is characterized in that it contains at least an epoxy resin, a thermoplastic resin, and a conductive filler, and that the thermoplastic resin has a glass transition temperature of 80°C or higher. [Selected Figures] None

Description

本発明は、導電性組成物に関し、より詳細には、立体回路基板等の導体回路の形成に好適に使用することができる導電性組成物、その硬化物、および導電性組成物を用いた電子部品の製造方法に関する。 The present invention relates to a conductive composition, and more specifically to a conductive composition that can be suitably used to form conductor circuits such as three-dimensional circuit boards, a cured product thereof, and a method for manufacturing electronic components using the conductive composition.

携帯電話や複写機等のような電子機器の小型化、多機能化に伴い、筐体の内面や外面に、回路基板をコンパクトに収容することが求められている。立体回路基板は三次元構造を有する筐体や電子部品の内面や外面に、平面ではなく立体的に導電配線を形成するもので、スペース効率、デザインの向上、部品と回路の統合による部品点数の削減等の点で優れている。 As electronic devices such as mobile phones and copiers become smaller and more multifunctional, there is a demand for compactly accommodating circuit boards on the inside and outside of their housings. Three-dimensional circuit boards form conductive wiring three-dimensionally, rather than flatly, on the inside and outside of housings and electronic components that have a three-dimensional structure, and are superior in terms of space efficiency, improved design, and reduced number of parts through the integration of parts and circuits.

立体基板に直接回路を形成する方法として、例えば、樹脂成形品の表面に物理的なマスキングを行い、導電性組成物を用いて印刷を行うことにより回路形成する方法、蒸着法等により成形品の表面に金属薄膜を形成しておき、不要な金属薄膜を除去して回路形成する方法、ホットスタンピング法により成形物に金属箔を貼着して回路形成する方法、非導電性金属錯体を含有させた樹脂を射出成型して成形品を得た後に、レーザー照射等により金属核を生じさせて、金属核が生じた箇所にめっきを施して回路形成する方法、無電解鍍金用触媒等を含有させた樹脂からなる成形品の表面に樹脂被膜を形成しておき、レーザー照射等により樹脂被膜を除去しつつ同時に成型品表面を切削及び粗面化した後、樹脂被膜が除去された開口部分に無電解鍍金を施すことにより、成型品の表面に配線パターンを形成する方法等が知られている。 Methods for directly forming a circuit on a three-dimensional substrate include, for example, a method in which a circuit is formed by physically masking the surface of a resin molded product and printing with a conductive composition; a method in which a metal thin film is formed on the surface of a molded product by deposition or the like and then unnecessary metal thin film is removed to form a circuit; a method in which a metal foil is attached to a molded product by hot stamping to form a circuit; a method in which a resin containing a non-conductive metal complex is injection molded to obtain a molded product, metal nuclei are generated by laser irradiation or the like, and the locations where the metal nuclei are generated are plated to form a circuit; a method in which a resin coating is formed on the surface of a molded product made of a resin containing an electroless plating catalyst or the like, the resin coating is removed by laser irradiation or the like while simultaneously cutting and roughening the surface of the molded product, and then electroless plating is applied to the openings where the resin coating has been removed to form a wiring pattern on the surface of the molded product.

また、近年では、フィルム状の基板上に導電性組成物を用いて導体回路を形成しておき、導体回路が形成されたフィルム状基板を熱成形等によって所望の形状に成形することで立体回路基板を形成することも提案されている(特許文献1)。このような立体回路基板の製造に使用される導電性組成物として、回路基板を立体成形する際の変形に追従可能なストレッチャブル導体回路が形成可能な導電性組成物も提案されている(特許文献2)。 In recent years, it has also been proposed to form a three-dimensional circuit board by forming a conductor circuit on a film-like substrate using a conductive composition, and then molding the film-like substrate on which the conductor circuit has been formed into a desired shape by thermoforming or the like (Patent Document 1). As a conductive composition for use in the manufacture of such three-dimensional circuit boards, a conductive composition capable of forming a stretchable conductor circuit that can follow the deformation during three-dimensional molding of the circuit board has also been proposed (Patent Document 2).

特開2018-198133号公報JP 2018-198133 A 国際公開第2017/026420号パンフレットInternational Publication No. 2017/026420

上記のような基板の変形に追従可能な導電性組成物を用いた場合であっても、回路形成後の基材を立体成形する際に、回路にクラックが発生する場合があり、これが大きな課題となっている。クラックの発生により、回路の断線や抵抗値の大幅な増加が生じることがあるため、製造された立体回路基板の全てについて抵抗値変化が生じていないか確認する必要がある。 Even when using a conductive composition that can follow the deformation of the substrate as described above, cracks may occur in the circuit when the substrate is molded into a three-dimensional shape after the circuit is formed, which is a major issue. The occurrence of cracks can lead to disconnections in the circuit or a significant increase in resistance, so it is necessary to check that there is no change in resistance for all three-dimensional circuit substrates manufactured.

一方、目視によって回路にクラックが発生していることが確認できるような場合には、抵抗計などの測定装置を用いた検査を行わなくとも、製品不良を検出することができる。しかしながら、回路に発生するクラックには形状や大きさの異なるものが存在し、比較的大きく目視にて確認可能なものだけでなく、形状が細かく目視では確認が困難なマイクロクラックがある。マイクロクラックのように目視では回路にクラックの発生が確認できない場合であっても断線の可能性があるため、抵抗計等を用いて検査を行うか、あるいはルーペや顕微鏡等を用いてマイクロクラックの有無を確認する必要がある。そのため、クラックの発生に起因する製品不良を検出する作業が繁雑であった。 On the other hand, when cracks can be confirmed by visual inspection in a circuit, product defects can be detected without inspection using a measuring device such as a resistance meter. However, cracks that occur in circuits come in different shapes and sizes, and there are not only relatively large cracks that can be confirmed by visual inspection, but also microcracks that are fine in shape and difficult to confirm by visual inspection. Even in cases where cracks cannot be confirmed by visual inspection in the case of microcracks, there is a possibility of a disconnection, so it is necessary to inspect using a resistance meter or the like, or to check for the presence or absence of microcracks using a magnifying glass or microscope. This makes it complicated to detect product defects caused by cracks.

したがって、本発明の目的は、導電性組成物を用いて導電層(導体回路)を形成した基板を立体成型した際に発生する、導体回路のマイクロクラックを抑制することができるとともに、目視により容易にクラック有無の判別が可能な導電性組成物を提供することである。 Therefore, the object of the present invention is to provide a conductive composition that can suppress microcracks in the conductor circuit that occur when a substrate having a conductive layer (conductor circuit) formed thereon using the conductive composition is three-dimensionally molded, and that allows the presence or absence of cracks to be easily determined by visual inspection.

本発明者らは、導電性組成物において硬化成分であるエポキシ樹脂に加え、所定温度以上のガラス転移温度を有する熱可塑性樹脂を併合することにより、所定温度環境下で行われる回路基板の成形時に発生する回路(導電層)のクラックや破断のうち、マイクロクラックの発生を抑制でき、その結果、煩雑な機器を用いた抵抗値検査を行わなくとも、目視により容易にクラック有無の判別が可能である、との知見を得た。本発明はかかる知見に基づくものである。即ち、本発明の要旨は以下のとおりである。
[1]エポキシ樹脂と、熱可塑性樹脂と、導電性フィラーとを少なくとも含んでなる導電性組成物であって、
前記熱可塑性樹脂は、ガラス転移温度が80℃以上であることを特徴とする、導電性組成物。
[2]前記エポキシ樹脂が、前記熱可塑性樹脂100質量部に対して、固形分換算で5~100質量部の割合で含まれる、[1]に記載の導電性組成物。
[3]前記エポキシ樹脂は、エポキシ当量が500g/eq以上のエポキシ樹脂を含む、[1]に記載の導電性組成物。
[4]前記エポキシ樹脂は、エポキシ当量が500g/eq以上のエポキシ樹脂と、エポキシ当量が500g/eq未満のエポキシ樹脂の2種を含む、[1]に記載の導電性組成物。
[5]前記導電性フィラーが、銀粉、銅粉、銀コート銅粉、銅合金粉、導電性酸化物粉、およびカーボン粒子からなる群より選択される1種以上の導電性凝集粉を含む、[1]に記載の導電性組成物。
[6][1]~[5]のいずれか一項に記載の導電性組成物の硬化物。
[7]160℃における貯蔵弾性率が1.0×10Pa以上である、[6]に記載の硬化物。
[8]立体形状の基板表面に回路が形成された電子部品であって、
前記回路が、[6]に記載の硬化物からなる、電子部品。
[9][1]~[5]のいずれか一項に記載の導電性組成物を用いた電子部品の製造方法であって、
前記導電性組成物を基材上に塗布して、所望パターンの塗布膜を形成し、
前記塗布膜を乾燥および硬化させて基板上に導体回路を形成し、
導体回路が形成された基板を立体形状に成形して、立体回路基板を作製する、
ことを含み、
前記成形を、前記導電性組成物の硬化物のガラス転移温度の±80℃の温度範囲で行うことを特徴とする、電子部品の製造方法。
The present inventors have found that by incorporating a thermoplastic resin having a glass transition temperature equal to or higher than a predetermined temperature in addition to an epoxy resin, which is a curing component in a conductive composition, it is possible to suppress the occurrence of microcracks, which are among the cracks and breaks in a circuit (conductive layer) that occur during molding of a circuit board in a predetermined temperature environment, and as a result, it is possible to easily determine the presence or absence of cracks by visual inspection without performing a resistance value test using a complicated device. The present invention is based on this finding. That is, the gist of the present invention is as follows.
[1] A conductive composition comprising at least an epoxy resin, a thermoplastic resin, and a conductive filler,
The conductive composition, wherein the thermoplastic resin has a glass transition temperature of 80° C. or higher.
[2] The conductive composition according to [1], wherein the epoxy resin is contained in an amount of 5 to 100 parts by mass, calculated as a solid content, per 100 parts by mass of the thermoplastic resin.
[3] The conductive composition according to [1], wherein the epoxy resin contains an epoxy resin having an epoxy equivalent of 500 g/eq or more.
[4] The conductive composition according to [1], wherein the epoxy resin includes two types of epoxy resins: an epoxy resin having an epoxy equivalent of 500 g/eq or more; and an epoxy resin having an epoxy equivalent of less than 500 g/eq.
[5] The conductive composition according to [1], wherein the conductive filler comprises one or more conductive agglomerated powders selected from the group consisting of silver powder, copper powder, silver-coated copper powder, copper alloy powder, conductive oxide powder, and carbon particles.
[6] A cured product of the conductive composition according to any one of [1] to [5].
[7] The cured product according to [6], which has a storage modulus at 160° C. of 1.0×10 5 Pa or more.
[8] An electronic component having a circuit formed on a surface of a three-dimensional substrate,
An electronic component, wherein the circuit comprises the cured product according to [6].
[9] A method for producing an electronic component using the conductive composition according to any one of [1] to [5],
The conductive composition is applied onto a substrate to form a coating film having a desired pattern;
The coating film is dried and cured to form a conductor circuit on the substrate;
The substrate on which the conductor circuit is formed is molded into a three-dimensional shape to produce a three-dimensional circuit substrate.
Including,
A method for producing an electronic component, characterized in that the molding is carried out within a temperature range of ±80° C. of the glass transition temperature of the cured product of the conductive composition.

本発明によれば、導電性組成物を用いて導体回路を形成した基板を立体成形した際に発生する、導体回路のマイクロクラックを抑制することができるとともに、目視により容易にクラック有無の判別が可能な導電性組成物を提供することができる。 The present invention provides a conductive composition that can suppress microcracks in a conductor circuit that occur when a substrate on which a conductor circuit is formed using a conductive composition is three-dimensionally molded, and that allows the presence or absence of cracks to be easily determined by visual inspection.

[導電性組成物]
本発明による導電性組成物は、エポキシ樹脂と、熱可塑性樹脂と、導電性フィラーとを必須成分として含む。以下、本発明による導電性組成物を構成する各成分について説明する。
[Conductive composition]
The conductive composition according to the present invention contains, as essential components, an epoxy resin, a thermoplastic resin, and a conductive filler. Each component constituting the conductive composition according to the present invention will be described below.

<エポキシ樹脂>
本発明による導電性組成物はエポキシ樹脂を必須成分として含む。エポキシ樹脂としては、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するものであれば制限なく使用することができる。例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAのノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族鎖状エポキシ樹脂、リン含有エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、ノルボルネン型エポキシ樹脂、アダマンタン型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂、アミノフェノール型エポキシ樹脂、アミノクレゾール型エポキシ樹脂、アルキルフェノール型エポキシ樹脂等を挙げることができる。上記したエポキシ樹脂は1種または2種以上を組み合わせて使用することができる。
<Epoxy resin>
The conductive composition according to the present invention contains an epoxy resin as an essential component. As the epoxy resin, any epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule can be used without limitation. For example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, brominated bisphenol A type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, bisphenol A novolac type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, naphthol type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, aliphatic chain epoxy resin, phosphorus-containing epoxy resin, anthracene type epoxy resin, norbornene type epoxy resin, adamantane type epoxy resin, fluorene type epoxy resin, aminophenol type epoxy resin, aminocresol type epoxy resin, alkylphenol type epoxy resin, etc. can be mentioned. The above-mentioned epoxy resins can be used alone or in combination of two or more kinds.

上記したエポキシ樹脂には硬化前の形態として固形、半固形、液状のエポキシ樹脂がある。これらは1種単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。なお、液状とは、20℃で流動性を有する液体の状態にあることをいうものであり、半固形状は、20℃で流動性を有しない固形状であるが、40℃で流動性を有する液体の状態にあることをいうものとする。 The above-mentioned epoxy resins are available in solid, semi-solid, and liquid forms before curing. These can be used alone or in combination of two or more. Note that liquid means that the resin is in a liquid state that has fluidity at 20°C, and semi-solid means that the resin is in a solid state that has no fluidity at 20°C, but is in a liquid state that has fluidity at 40°C.

固形エポキシ樹脂としては、日本化薬株式会社製EPPN-502H(トリスフェノールエポキシ樹脂)等のフェノール類とフェノール性水酸基を有する芳香族アルデヒドとの縮合物のエポキシ化物(トリスフェノール型エポキシ樹脂);DIC株式会社製EPICLON HP-7200H(ジシクロペンタジエン骨格含有多官能固形エポキシ樹脂)等のジシクロペンタジエンアラルキル型エポキシ樹脂;DIC株式会社製EPICLON N660、EPICLON N690、日本化薬株式会社製EOCN-104S等のノボラック型エポキシ樹脂;ダウ・ケミカル日本株式会社製D.E.N.431等のフェノールノボラック型エポキシ樹脂;三菱ケミカル株式会社製YX-4000等のビフェニル型エポキシ樹脂;日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製TX0712等のリン含有エポキシ樹脂;日産化学株式会社製TEPIC等のトリス(2,3-エポキシプロピル)イソシアヌレート;三菱ケミカル株式会社製jER1001等のビスフェノールA型エポキシ樹脂等が挙げられる。 Examples of solid epoxy resins include epoxidized products of condensation products of phenols and aromatic aldehydes having a phenolic hydroxyl group (trisphenol type epoxy resins), such as EPPN-502H (trisphenol epoxy resin) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.; dicyclopentadiene aralkyl type epoxy resins, such as EPICLON HP-7200H (dicyclopentadiene skeleton-containing multifunctional solid epoxy resin) manufactured by DIC Corporation; novolac type epoxy resins, such as EPICLON N660 and EPICLON N690 manufactured by DIC Corporation and EOCN-104S manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.; and D.E.N. manufactured by Dow Chemical Japan Ltd. Examples include phenol novolac type epoxy resins such as 431; biphenyl type epoxy resins such as YX-4000 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation; phosphorus-containing epoxy resins such as TX0712 manufactured by Nippon Steel Chemical & Material Co., Ltd.; tris(2,3-epoxypropyl)isocyanurates such as TEPIC manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.; and bisphenol A type epoxy resins such as jER1001 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation.

半固形エポキシ樹脂としては、DIC株式会社製EPICLON 860、EPICLON 900-IM、EPICLON EXA―4816、EPICLON EXA-4822、日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製エポトートYD-134、三菱ケミカル株式会社製jER834、jER872、住友化学株式会社製ELA-134等のビスフェノールA型エポキシ樹脂;DIC株式会社製EPICLON N-740等のフェノールノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。 Examples of semi-solid epoxy resins include bisphenol A type epoxy resins such as EPICLON 860, EPICLON 900-IM, EPICLON EXA-4816, and EPICLON EXA-4822 manufactured by DIC Corporation, Epotohto YD-134 manufactured by Nippon Steel Chemical & Material Co., Ltd., jER834 and jER872 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, and ELA-134 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.; and phenol novolac type epoxy resins such as EPICLON N-740 manufactured by DIC Corporation.

液状エポキシ樹脂としては、日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製ZX-1059(ビスフェノールA型・ビスフェノールF型エポキシ樹脂の混合品)や三菱ケミカル株式会社製jER 828(ビスフェノールA型エポキシ樹脂)、同jER 807、同jER 4004P(ビスフェノールF型エポキシ樹脂)、エア・ウォーター株式会社製R710(ビスフェノールE型エポキシ樹脂)等が挙げられる。 Examples of liquid epoxy resins include ZX-1059 (a mixture of bisphenol A and bisphenol F epoxy resins) manufactured by Nippon Steel Chemical & Material Co., Ltd., jER 828 (bisphenol A epoxy resin), jER 807, and jER 4004P (bisphenol F epoxy resin) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, and R710 (bisphenol E epoxy resin) manufactured by Air Water Inc.

本発明においては、上記したエポキシ樹脂のなかでも、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂を好ましく使用することができる。 In the present invention, among the above-mentioned epoxy resins, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, and novolac type epoxy resin can be preferably used.

マイクロクラックの発生を抑制する観点から、エポキシ樹脂は、エポキシ当量が500g/eq以上のエポキシ樹脂を含むことが好ましく、エポキシ当量が700~2500g/eqであるエポキシ樹脂を含むことがより好ましい。 From the viewpoint of suppressing the occurrence of microcracks, the epoxy resin preferably contains an epoxy resin with an epoxy equivalent of 500 g/eq or more, and more preferably contains an epoxy resin with an epoxy equivalent of 700 to 2500 g/eq.

また、本発明においては、エポキシ樹脂が、エポキシ当量500g/eq以上のエポキシ樹脂と、エポキシ当量500g/eq未満のエポキシ樹脂の2種を含むことが好ましい。エポキシ当量が異なる2種のエポキシ樹脂を併用して用いることにより、硬化物の貯蔵弾性率を高くすることができ、その結果、導電性組成物を硬化させて導電層(回路)を形成した後に、加熱変形した際のクラックの発生を抑制することができる。 In addition, in the present invention, it is preferable that the epoxy resin contains two types of epoxy resin: an epoxy resin with an epoxy equivalent of 500 g/eq or more, and an epoxy resin with an epoxy equivalent of less than 500 g/eq. By using two types of epoxy resins with different epoxy equivalents in combination, the storage modulus of the cured product can be increased, and as a result, the occurrence of cracks when the conductive composition is heated and deformed after being cured to form a conductive layer (circuit) can be suppressed.

エポキシ当量が異なる2種のエポキシ樹脂を併用する場合、エポキシ樹脂全体に対して、エポキシ当量が500g/eq以上のエポキシ樹脂は25~60質量%の割合で含まれることが好ましい。また、エポキシ当量が500g/eq未満のエポキシ樹脂は40~75質量%の割合で含まれることが好ましい。 When two types of epoxy resins with different epoxy equivalents are used in combination, it is preferable that the epoxy resin with an epoxy equivalent of 500 g/eq or more is contained in a proportion of 25 to 60 mass% relative to the total epoxy resin. Also, it is preferable that the epoxy resin with an epoxy equivalent of less than 500 g/eq is contained in a proportion of 40 to 75 mass%.

エポキシ当量が500g/eq以上のエポキシ樹脂とエポキシ当量が500g/eq未満のエポキシ樹脂の配合割合は、質量基準において15:85~70:30であることが好ましく、25:75~60:40であることが好ましい。 The mixing ratio of epoxy resins with an epoxy equivalent of 500 g/eq or more to epoxy resins with an epoxy equivalent of less than 500 g/eq is preferably 15:85 to 70:30 by mass, and more preferably 25:75 to 60:40.

ノボラック型エポキシ樹脂として市販品を使用してもよく、例えば、日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製のYDCN-704、YDPN-638、ダウ・ケミカル日本株式会社製のD.E.N.431、D.E.N.439、ハンツマン社製のAraldite EPN-1138、ECN-1299、DIC株式会社製のEPICLON N-730、N-770、N-865、N-665、N-673、N-695、日本化薬株式会社製のEOCN-104、EOCN-1020等が挙げられる。これらは要求特性に合わせて、単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。 As the novolac type epoxy resin, commercially available products may be used, such as YDCN-704 and YDPN-638 manufactured by Nippon Steel Chemical & Material Co., Ltd., D.E.N. 431 and D.E.N. 439 manufactured by Dow Chemical Japan, Araldite EPN-1138 and ECN-1299 manufactured by Huntsman, EPICLON N-730, N-770, N-865, N-665, N-673 and N-695 manufactured by DIC Corporation, and EOCN-104 and EOCN-1020 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. These may be used alone or in combination of two or more types according to the required properties.

本発明においては、熱可塑性樹脂成分に由来する柔軟性を硬化物に付与しながらも、熱可塑性樹脂成分に由来するマイクロクラックの発生を抑制し、かつ硬化物に耐熱性を付与する観点から、エポキシ樹脂は、後記する熱可塑性樹脂100質量部に対して、固形分換算で5~100質量部の割合で含まれることが好ましく、5~30質量部の割合で含まれることがより好ましい。 In the present invention, from the viewpoint of imparting flexibility derived from the thermoplastic resin component to the cured product while suppressing the occurrence of microcracks derived from the thermoplastic resin component and imparting heat resistance to the cured product, the epoxy resin is preferably contained in a ratio of 5 to 100 parts by mass, and more preferably 5 to 30 parts by mass, calculated as solid content, per 100 parts by mass of the thermoplastic resin described below.

<硬化剤>
本発明による導電性組成物は、エポキシ樹脂を硬化させるための硬化剤を含むことが好ましい。硬化剤としては特に制限されるものではなく、使用するエポキシ樹脂に応じて適宜硬化剤を選択して使用することができる。硬化剤としては、公知のものを使用することができ、例えばアミン類、イミダゾール類、フェノール類、酸無水物、イソシアネート類、およびこれらの官能基を含むポリマー類があり、必要に応じてこれらを複数用いても良い。アミン類としては、ジシアンジアミド、ジアミノジフェニルメタン等がある。イミダゾール類としては、アルキル置換イミダゾール、ベンゾイミダゾール等があり、エポキシ樹脂とイミダゾールとの反応物のようなイミダゾールアダクト体等のイミダゾール潜在性硬化剤であってもよい。フェノール類としては、ヒドロキノン、レゾルシノール、ビスフェノールAおよびそのハロゲン化合物、さらに、これにアルデヒドとの縮合物であるノボラック、レゾール樹脂等がある。酸無水物としては、無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸等がある。イソシアネート類としては、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等があり、このイソシアネートをフェノール類等でマスクしたものを使用しても良い。これら硬化剤は1種類を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
<Curing Agent>
The conductive composition according to the present invention preferably contains a curing agent for curing the epoxy resin. The curing agent is not particularly limited, and a suitable curing agent can be selected and used depending on the epoxy resin to be used. The curing agent can be a known agent, such as amines, imidazoles, phenols, acid anhydrides, isocyanates, and polymers containing these functional groups, and a plurality of these may be used as necessary. The amines include dicyandiamide, diaminodiphenylmethane, and the like. The imidazoles include alkyl-substituted imidazoles, benzimidazoles, and the like, and may be imidazole latent curing agents such as imidazole adducts such as reaction products of epoxy resins and imidazoles. The phenols include hydroquinone, resorcinol, bisphenol A and its halogen compounds, and further, novolacs and resol resins which are condensates of bisphenol A and aldehydes. The acid anhydrides include phthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylnadic anhydride, and benzophenonetetracarboxylic acid. The isocyanates include tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, etc., and these isocyanates may be used after being masked with phenols, etc. These curing agents may be used alone or in combination of two or more kinds.

上記した硬化剤のなかでも、導電性フィラーの分散性や、保存安定性、耐熱性等の観点から、アミン類、イミダゾール類やフェノール類を好適に使用することができ、特にイミダゾール類およびフェノール類を好適に使用することができる。 Among the above-mentioned curing agents, amines, imidazoles and phenols can be preferably used from the viewpoints of dispersibility of the conductive filler, storage stability, heat resistance, etc., and imidazoles and phenols can be particularly preferably used.

イミダゾール類としては、例えば、2-メチルイミダゾール、4-メチル-2-エチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、4-メチル-2-フェニルイミダゾール、1-ベンジル-2-メチルイミダゾール、2-エチルイミダゾール、2-イソプロピルイミダゾール、1-シアノエチル-2-メチルイミダゾール、1-シアノエチル-2-エチル-4-メチルイミダゾール、1-シアノエチル-2-ウンデシルイミダゾール、2-フェニル-4,5-ジヒドロキシメチルイミダゾール等を挙げることができる。イミダゾール化合物の市販品としては、例えば、2E4MZ、C11Z、C17Z、2PZ等のイミダゾール類や、2MZ-A、2E4MZ-A等のイミダゾールのAZINE(アジン)化合物、2MZ-OK、2PZ-OK等のイミダゾールのイソシアヌル酸塩、2PHZ、2P4MHZ等のイミダゾールヒドロキシメチル体(これらはいずれも四国化成工業株式会社製)等を挙げることができる。イミダゾール型潜在性硬化剤の市販品としては、例えば、キュアゾールP-0505(四国化成工業株式会社製)等を挙げることができる。 Examples of imidazoles include 2-methylimidazole, 4-methyl-2-ethylimidazole, 2-phenylimidazole, 4-methyl-2-phenylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-isopropylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, and 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole. Commercially available imidazole compounds include, for example, imidazoles such as 2E4MZ, C11Z, C17Z, and 2PZ, imidazole azine compounds such as 2MZ-A and 2E4MZ-A, imidazole isocyanurates such as 2MZ-OK and 2PZ-OK, and imidazole hydroxymethyl compounds such as 2PHZ and 2P4MHZ (all manufactured by Shikoku Chemical Industry Co., Ltd.). Commercially available imidazole-type latent curing agents include, for example, Curesol P-0505 (manufactured by Shikoku Chemical Industry Co., Ltd.).

上記した硬化剤の配合量は、エポキシ樹脂100質量部に対して、固形分換算で0.5~200質量部であることが好ましく、1~100質量部であることがより好ましい。 The amount of the curing agent is preferably 0.5 to 200 parts by mass, and more preferably 1 to 100 parts by mass, calculated as solid content per 100 parts by mass of epoxy resin.

<熱可塑性樹脂>
本発明による導電性組成物は、樹脂成分として、上記したエポキシ樹脂に加えて、80℃以上のガラス転移温度を有する熱可塑性樹脂を含む。このような耐熱性の比較的高い熱可塑性樹脂をエポキシ樹脂と併用することにより、導電性組成物を硬化させた硬化物(導電層)の耐熱性向上させて、高温環境下で行われる回路基板の成形時に発生する回路(導電層)のクラックや破断のうち、マイクロクラックの発生を抑制することができる。即ち、高温環境下で行われる成形加工時に、むしろ硬化物が変形に追従しにくくなるような組成とすることによって、比較的大きいクラックが発生するようにしたものである。その結果、煩雑な機器を用いた抵抗値検査を行わなくとも、目視により容易にクラック有無の判別が可能である。熱可塑性樹脂のガラス転移温度が80℃未満であると、目視では確認できないようなマイクロクラックの発生を抑制することが困難になる。熱可塑性樹脂のガラス転移温度の好ましい範囲は100~140℃である。なお、ガラス転移温度(Tg)は、示差走査熱量計を用いて定法により測定してもよいし、動的粘弾性測定装置を用いた熱機械分析により測定してもよい。
<Thermoplastic resin>
The conductive composition according to the present invention contains, as a resin component, a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 80°C or higher in addition to the epoxy resin described above. By using such a thermoplastic resin having a relatively high heat resistance in combination with an epoxy resin, the heat resistance of the cured product (conductive layer) obtained by curing the conductive composition can be improved, and the occurrence of microcracks, which are cracks or breaks in the circuit (conductive layer) that occur during molding of a circuit board performed in a high-temperature environment, can be suppressed. That is, by making the composition such that the cured product is less likely to follow deformation during molding processing performed in a high-temperature environment, relatively large cracks are generated. As a result, it is possible to easily determine the presence or absence of cracks by visual inspection without performing a resistance value inspection using a complicated device. If the glass transition temperature of the thermoplastic resin is less than 80°C, it becomes difficult to suppress the occurrence of microcracks that cannot be confirmed by visual inspection. The preferred range of the glass transition temperature of the thermoplastic resin is 100 to 140°C. The glass transition temperature (Tg) may be measured by a standard method using a differential scanning calorimeter, or may be measured by thermomechanical analysis using a dynamic viscoelasticity measuring device.

熱可塑性樹脂としては、ガラス転移温度が80℃以上であれば特に制限なく使用することができる。例えば、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂、ブチラール樹脂(例えば、ポリビニルブチラール樹脂等)、ポリビニルホルマール樹脂、フェノキシ樹脂、ポリヒドロキシポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ブタジエン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステルウレタン樹脂、ポリエーテルエステルアミド、酢酸ビニルを構造単位として有する共重合体(酢酸ビニル共重合体、例えばエチレン-酢酸ビニル共重合体)、アクリロニトリル・ブタジエン共重合体、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体、スチレン・ブタジエン共重合体、アクリル酸共重合体等が挙げられる。これら熱可塑性樹脂は1種類を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Thermoplastic resins can be used without any particular restrictions as long as they have a glass transition temperature of 80°C or higher. Examples include polyester resins, polyether resins, polyamide resins, polyamideimide resins, polyimide resins, butyral resins (e.g., polyvinyl butyral resins, etc.), polyvinyl formal resins, phenoxy resins, polyhydroxypolyether resins, acrylic resins, polystyrene resins, butadiene resins, polyurethane resins, polyesterurethane resins, polyetheresteramides, copolymers having vinyl acetate as a structural unit (vinyl acetate copolymers, e.g., ethylene-vinyl acetate copolymers), acrylonitrile-butadiene copolymers, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymers, styrene-butadiene copolymers, acrylic acid copolymers, etc. These thermoplastic resins may be used alone or in combination of two or more types.

上記したなかでも、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂を好ましく使用することができる。これらの樹脂を使用することで、回路形成した基板を立体状に成型する際の温度において、硬化物(回路)に柔軟性を付与して基板の変形に追従し易くすることができる。 Among the above, acrylic resin, polyurethane resin, and polyester resin can be preferably used. By using these resins, flexibility can be imparted to the cured product (circuit) at the temperature when the circuit-formed substrate is molded into a three-dimensional shape, making it easier to follow the deformation of the substrate.

<導電性フィラー>
本発明による導電性組成物に含まれる導電性フィラーとしては、金属粒子、カーボン粒子、導電性酸化物粒子等を使用することができる。
<Conductive filler>
As the conductive filler contained in the conductive composition according to the present invention, metal particles, carbon particles, conductive oxide particles, etc. can be used.

金属粒子としては、例えば、金、銀、銅、ニッケル、クロム、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、インジウム、アルミニウム、タングステン、モルブテン、白金等の金属単体粉のほか、銅-ニッケル合金、銀-パラジウム合金、銅-スズ合金、銀-銅合金、銅-マンガン合金などの合金粉、金属粒子、または合金粉の表面を銀などで被覆した金属コート粒子などが挙げられる。カーボン粒子としては、カーボンブラック、グラファイト、カーボンナノチューブなどが挙げられる。導電性酸化物粒子としては、酸化銀、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化ルテニウムなどが挙げられる。これら導電性フィラーは1種類を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of metal particles include powders of simple metals such as gold, silver, copper, nickel, chromium, palladium, rhodium, ruthenium, indium, aluminum, tungsten, molbutene, and platinum, as well as alloy powders such as copper-nickel alloys, silver-palladium alloys, copper-tin alloys, silver-copper alloys, and copper-manganese alloys, metal particles, or metal-coated particles in which the surface of alloy powder is coated with silver or the like. Examples of carbon particles include carbon black, graphite, and carbon nanotubes. Examples of conductive oxide particles include silver oxide, indium oxide, tin oxide, zinc oxide, and ruthenium oxide. These conductive fillers may be used alone or in combination of two or more types.

上記した中でも、銀粉、銅粉、銀コート銅粉、銅合金粉、導電性酸化物粉、カーボン粒子を好ましく使用することができる。 Among the above, silver powder, copper powder, silver-coated copper powder, copper alloy powder, conductive oxide powder, and carbon particles can be preferably used.

導電性フィラーの形状は、特に限定されないが、凝集粉やフレーク粉の形態であることが好ましい。凝集粉の形態とは、結着球状、連鎖球状、凝集状などと呼称される球状粒子が決着してできた不定形状を意味するものとする。また、フレーク粉の形態とは、鱗片状、鱗状、板状、扁平状、シート状等2次元平面状の扁平形状を意味するものとする。本発明においては、凝集粉形態にある銀粉、銅粉、銀コート銅粉、銅合金粉、導電性酸化物粉、カーボン粒子を使用することが好ましい。 The shape of the conductive filler is not particularly limited, but is preferably in the form of an agglomerated powder or flake powder. The form of an agglomerated powder refers to an indefinite shape formed by the settling of spherical particles, which are called, for example, a bound sphere, a chain sphere, or an agglomerated shape. The form of a flake powder refers to a two-dimensional flat shape such as a scale-like, scale-like, plate-like, flat, or sheet-like shape. In the present invention, it is preferable to use silver powder, copper powder, silver-coated copper powder, copper alloy powder, conductive oxide powder, or carbon particles in the form of an agglomerated powder.

導電性凝集粉の平均粒子径は、特に限定されないが、導電性組成物中での分散性や印刷性の保持、成形時の導電性維持等の観点から、0.5~30μmの範囲であることが好ましく、1~10μmの範囲であることがより好ましい。なお、平均粒子径とは、体積基準による粒子径分布の中央値(D50の値)のことをいい、レーザー回折式粒子径分布測定装置または動的光散乱法により求めることができる。 The average particle size of the conductive agglomerate powder is not particularly limited, but from the viewpoints of maintaining dispersibility and printability in the conductive composition, maintaining conductivity during molding, etc., it is preferably in the range of 0.5 to 30 μm, and more preferably in the range of 1 to 10 μm. The average particle size refers to the median value (D50 value) of the particle size distribution on a volume basis, and can be determined by a laser diffraction particle size distribution measuring device or dynamic light scattering method.

導電性フィラーは、硬化物とした際の導電性、分散性等の観点から、導電性組成物の固形分100質量部に対して50~95質量部の割合で含まれることが好ましく、65~85質量部の割合で含まれることがより好ましい。 From the viewpoint of electrical conductivity and dispersibility when cured, the conductive filler is preferably contained in an amount of 50 to 95 parts by mass, and more preferably 65 to 85 parts by mass, per 100 parts by mass of the solid content of the conductive composition.

<その他の成分>
本発明の導電性組成物は、組成物の調整のため、または基板に塗布するための粘度調整のため、有機溶剤を使用することができる。
<Other ingredients>
The conductive composition of the present invention may contain an organic solvent for adjusting the composition or for adjusting the viscosity for application to a substrate.

このような有機溶剤としては、ケトン類、芳香族炭化水素類、グリコールエーテル類、グリコールエーテルアセテート類、エステル類、アルコール類、脂肪族炭化水素、石油系溶剤などが挙げることができる。より具体的には、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類;セロソルブ、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、カルビトールアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールブチルエーテルアセテート、2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタンジオールモノイソブチレートなどのエステル類;エタノール、プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、テルピネオール等のアルコール類;オクタン、デカン等の脂肪族炭化水素;石油エーテル、石油ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサ等の石油系溶剤などである。このような有機溶剤は、単独でまたは2種以上の混合物として用いられる。この中でも、熱成形可能な熱可塑性樹脂からなる基板上に回路形成する際には、導電性組成物の基板への浸食等を考慮して溶剤を適宜選択することができる。例えば、立体成形可能な回路基板としてポリカーボネートを使用する場合は、回路基板の浸食性の観点から、溶剤としては、2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタンジオールモノイソブチレートが好ましい。 Examples of such organic solvents include ketones, aromatic hydrocarbons, glycol ethers, glycol ether acetates, esters, alcohols, aliphatic hydrocarbons, and petroleum-based solvents. More specifically, ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, and tetramethylbenzene; glycol ethers such as cellosolve, methyl cellosolve, butyl cellosolve, carbitol, methyl carbitol, butyl carbitol, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, and triethylene glycol monoethyl ether; ethyl acetate, butyl acetate, carbitol acetate, and diethylene glycol monoethyl ether acetate. Examples of suitable organic solvents include esters such as propylene glycol methyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, propylene glycol butyl ether acetate, and 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol monoisobutyrate; alcohols such as ethanol, propanol, ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, and terpineol; aliphatic hydrocarbons such as octane and decane; and petroleum solvents such as petroleum ether, petroleum naphtha, hydrogenated petroleum naphtha, and solvent naphtha. These organic solvents are used alone or as a mixture of two or more kinds. Among these, when forming a circuit on a substrate made of a thermoformable thermoplastic resin, the solvent can be appropriately selected in consideration of the erosion of the conductive composition into the substrate. For example, when polycarbonate is used as a three-dimensionally moldable circuit substrate, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol monoisobutyrate is preferred as the solvent from the viewpoint of the erosion of the circuit substrate.

本発明の導電性組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、その他の成分を含んでいてもよい。例えば、カップリング剤、熱重合禁止剤、可塑剤、難燃剤、帯電防止剤、老化防止剤、抗菌・防黴剤、消泡剤、レベリング剤、増粘剤、密着性付与剤、チキソ性付与剤、硬化促進剤、分散剤、湿潤分散剤、分散助剤、表面改質剤、安定剤、蛍光体等が挙げられる。 The conductive composition of the present invention may contain other components as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples include coupling agents, thermal polymerization inhibitors, plasticizers, flame retardants, antistatic agents, antiaging agents, antibacterial and antifungal agents, defoamers, leveling agents, thickeners, adhesion agents, thixotropy agents, curing accelerators, dispersants, wetting dispersants, dispersion aids, surface modifiers, stabilizers, and phosphors.

本発明の導電性組成物は、例えば、溶剤に溶解したエポキシ樹脂、熱可塑性樹脂等の樹脂成分と導電性フィラーとを混練することで製造することができる。混練方法としては、例えばロールミルといった撹拌混合装置を使用する方法が挙げられる。使用する樹脂成分の種類や溶剤の配合割合によって、液状の導電性組成物としたり、ペースト状(半固形状)の導電性組成物としたりすることができる。 The conductive composition of the present invention can be produced, for example, by kneading a resin component, such as an epoxy resin or a thermoplastic resin, dissolved in a solvent with a conductive filler. Kneading methods include, for example, a method using a stirring and mixing device such as a roll mill. Depending on the type of resin component and the blending ratio of the solvent used, a liquid conductive composition or a paste-like (semi-solid) conductive composition can be produced.

本発明の導電性組成物は、粘度は特に制限はないが、100~5000dPa・sであることが好ましく、200~1000dPa・sであることがより好ましい。この粘度範囲にすることでデバイス作製プロセスに求められる印刷性や加工性に優れた導電性組成物とすることができる。 The conductive composition of the present invention has no particular limit to its viscosity, but it is preferably 100 to 5000 dPa·s, and more preferably 200 to 1000 dPa·s. By keeping the viscosity within this range, a conductive composition with excellent printability and processability required for device manufacturing processes can be obtained.

[硬化物、電子部品およびその製造方法]
本発明において、上述したような導電性組成物は、例えば基材上にパターン塗布し、熱処理を行うことで樹脂成分を硬化させて硬化物とすることができる。この熱処理としては、乾燥処理や熱硬化処理などが挙げられる。導体回路を製造する場合、上記の導電性組成物を基材上に印刷または塗布して所望の導体回路パターンを形成し、パターニングされた塗膜を乾燥させて固化させ、続いて熱処理を行うことにより塗膜の樹脂成分を硬化させて硬化物とすることで導体回路を形成する。塗膜パターンの形成には、マスキング法またはレジストを用いる方法等を使用できる。
[Cured product, electronic component, and method for producing same]
In the present invention, the conductive composition as described above can be applied in a pattern on a substrate and heat-treated to cure the resin component to form a cured product. Examples of the heat treatment include drying and heat-curing. When manufacturing a conductor circuit, the conductive composition is printed or applied on a substrate to form a desired conductor circuit pattern, the patterned coating is dried and solidified, and then heat-treated to cure the resin component of the coating to form a cured product, thereby forming a conductor circuit. A masking method or a method using a resist can be used to form the coating pattern.

パターン形成工程としては、印刷方法およびディスペンス方法が挙げられる。印刷方法としては、例えば、グラビア印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷等が挙げられ、微細な回路を形成する場合、スクリーン印刷が好ましい。また、大面積の塗布方法としては、グラビア印刷およびオフセット印刷が適している。ディスペンス方法とは、導電性組成物の塗布量をコントロールしてニードルから押し出しパターンを形成する方法であり、アース配線等の部分的なパターン形成や凹凸のある部分へのパターン形成に適している。塗布膜厚については特に制限はないが、一般に、乾燥後の樹脂層の膜厚で、1~200μm、好ましくは10~150μmの範囲で適宜選択される。 Examples of the pattern formation process include printing and dispensing. Examples of printing methods include gravure printing, offset printing, and screen printing. When forming fine circuits, screen printing is preferred. Gravure printing and offset printing are suitable for large-area coating methods. The dispensing method is a method in which the amount of conductive composition applied is controlled to form an extrusion pattern from a needle, and is suitable for forming partial patterns such as earth wiring, and for forming patterns in uneven areas. There are no particular restrictions on the coating thickness, but it is generally selected appropriately in the range of 1 to 200 μm, preferably 10 to 150 μm, in terms of the thickness of the resin layer after drying.

塗膜の乾燥は、使用する溶剤にもよるが、通常、40~100℃の温度で1~30分間行う。また、塗膜の樹脂成分を硬化するための熱処理は、使用するエポキシ樹脂や硬化剤の種類にもよるが、通常、60~180℃の温度で1~30分間行う。また、導電性組成物の塗膜の乾燥と樹脂成分の硬化を同時に行ってもよく、例えば60~180℃の温度で5~60分間の熱処理を行ってもよい。 The coating is dried at a temperature of 40 to 100°C for 1 to 30 minutes, depending on the solvent used. Heat treatment to harden the resin component of the coating is usually performed at a temperature of 60 to 180°C for 1 to 30 minutes, depending on the type of epoxy resin and hardener used. The coating of the conductive composition may be dried and the resin component may be hardened at the same time, for example by heat treatment at a temperature of 60 to 180°C for 5 to 60 minutes.

導電性組成物を塗布する基材としては、電気絶縁性のものであれば特に制限なく使用することができ、紙-フェノール樹脂、紙-エポキシ樹脂、ガラス布-エポキシ樹脂、ガラス-ポリイミド、ガラス布/不織布-エポキシ樹脂、ガラス布/紙-エポキシ樹脂、合成繊維-エポキシ樹脂、フッ素樹脂・ポリエチレン・ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンオキシド・シアネートエステル等の複合材を用いた全てのグレード(FR-4等)の銅張積層板、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリアミドなどのプラスチックからなるシートまたはフィルム、ウレタン、シリコンゴム、アクリルゴム、ブタジエンゴムなどの架橋ゴムからなるシートまたはフィルム、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリオレフィン系、スチレン系ブロックコポリマー系などの熱可塑性エラストマーからなるシートまたはフィルムなどが挙げられる。 The substrate to which the conductive composition is applied can be any electrically insulating material without any particular limitations. Examples of such substrates include paper-phenolic resin, paper-epoxy resin, glass cloth-epoxy resin, glass-polyimide, glass cloth/nonwoven cloth-epoxy resin, glass cloth/paper-epoxy resin, synthetic fiber-epoxy resin, copper-clad laminates of all grades (such as FR-4) using composite materials such as fluororesin, polyethylene, polyphenylene ether, and polyphenylene oxide-cyanate ester, sheets or films made of plastics such as polyesters such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, polyimide, polyphenylene sulfide, and polyamide, sheets or films made of crosslinked rubbers such as urethane, silicone rubber, acrylic rubber, and butadiene rubber, and sheets or films made of thermoplastic elastomers such as polyesters, polyurethanes, polyolefins, and styrene-based block copolymers.

フィルム状の平坦な基材のみならず、塗布表面が3次元構造を有する3次元構造体にも好適に使用することができる。3次元構造体には多面体も球面体も含まれる。このような基材としては、フレキシブルプリント配線板、立体回路基板等が挙げられ、なかでも立体回路基板に好適に使用することができる。立体回路基板とは、機械的機能と電気的機能とを併せ持つ3次元的に電気回路配線が形成されたプラスチック成型品をいい、例えば立体基板に直接回路形成された3次元回路基板が挙げられる。立体基板の成型材料としては、公知のものが用いられ、例えば、樹脂を用いた有機系材料に無機系材料を混合したもの等が挙げられる。 It can be used not only for flat film-like substrates, but also for three-dimensional structures whose coated surfaces have a three-dimensional structure. Three-dimensional structures include polyhedrons and spheres. Examples of such substrates include flexible printed wiring boards and three-dimensional circuit boards, and it can be used particularly well for three-dimensional circuit boards. A three-dimensional circuit board is a plastic molded product in which electrical circuit wiring is formed three-dimensionally, having both mechanical and electrical functions, and an example of such a substrate is a three-dimensional circuit board in which a circuit is formed directly on a three-dimensional substrate. As a molding material for a three-dimensional substrate, a known material can be used, and an example of such a molding material can be a mixture of an organic material using resin and an inorganic material.

立体回路基板においては、立体基板は樹脂成型品からなり、樹脂成型品に回路が形成されてなるものが好ましく、質量が軽く成型が容易な熱可塑性樹脂を用いることが望ましく、特に、立体回路基板は電子部品をはんだで実装するので、エンジニアリングプラスチックとよばれる耐熱性に優れたフッ素樹脂、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリアミド、ポリフェニレンエーテル、非晶ポリアリレート、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンスルファイド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、液晶ポリマーが好適である。また、本発明のソルダーレジスト組成物を立体回路基板に適用した場合に、(A)エポキシ樹脂を硬化させる際の熱に耐え得る観点からは、上記のなかでもポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリアセタールを好適に使用することができる。 In the case of a three-dimensional circuit board, the three-dimensional board is preferably made of a resin molded product, and a circuit is preferably formed on the resin molded product. It is preferable to use a thermoplastic resin that is light in mass and easy to mold. In particular, since the electronic components are mounted on the three-dimensional circuit board by soldering, fluororesins, polycarbonate, polyacetal, polyamide, polyphenylene ether, amorphous polyarylate, polysulfone, polyethersulfone, polyphenylene sulfide, polyether ether ketone, polyimide, polyetherimide, and liquid crystal polymers, which are called engineering plastics and have excellent heat resistance, are suitable. Furthermore, when the solder resist composition of the present invention is applied to a three-dimensional circuit board, from the viewpoint of being able to withstand the heat when curing the epoxy resin (A), polyphenylene sulfide, polyether ether ketone, polycarbonate, polyamide, and polyacetal can be preferably used among the above.

本発明による導電性組成物を使用した電子部品の製造方法の一実施形態として、立体回路基板の製造方法の一例を説明する。まず、フィルム状の基材の表面に、導電性組成物を塗布して所望パターンの塗布膜を形成する。続いて、基材表面の塗布膜を乾燥させた後に樹脂成分を硬化させて導体回路を形成する。次に、所望パターンの導体回路が設けられた基材を所定の立体形状に成形する。成形方法としては、例えば、真空成型法、圧空成型法、真空圧空成型法、真空熱圧着成型法、プレス成型法、プラグアシスト成型法等の加熱成型方法が挙げられる。 As an embodiment of the method for manufacturing electronic components using the conductive composition according to the present invention, an example of a method for manufacturing a three-dimensional circuit board will be described. First, the conductive composition is applied to the surface of a film-like substrate to form a coating film of the desired pattern. Next, the coating film on the substrate surface is dried and the resin component is cured to form a conductor circuit. Next, the substrate provided with the conductor circuit of the desired pattern is molded into a predetermined three-dimensional shape. Examples of molding methods include vacuum molding, pressure molding, vacuum pressure molding, vacuum thermocompression molding, press molding, plug-assisted molding, and other heat molding methods.

成形工程において、成型温度は基材が変形できる温度に調整されるが、本発明においては、導電性組成物を硬化させた硬化物のガラス転移温度(Tg)の±80℃以下となるような温度で成型加工することが好ましい。より好ましい成型温度は硬化物のTgの+50℃~+80℃である。成型温度を上記範囲とすることにより、導電性組成物の硬化物である導体回路にマイクロクラックが発生するのをより一層抑制することができる。なお、硬化物のガラス転移温度とは、硬化物を所定の試験片に切断し、動的粘弾性測定装置を使用して引張加重法にて熱機械分析にて測定して得られたtanδのピークトップをガラス転移温度とする。 In the molding process, the molding temperature is adjusted to a temperature at which the substrate can be deformed, but in the present invention, it is preferable to perform molding at a temperature within ±80°C of the glass transition temperature (Tg) of the cured product obtained by curing the conductive composition. A more preferable molding temperature is +50°C to +80°C of the Tg of the cured product. By setting the molding temperature within the above range, it is possible to further suppress the occurrence of microcracks in the conductor circuit, which is the cured product of the conductive composition. The glass transition temperature of the cured product is the peak top of tan δ obtained by cutting the cured product into a specified test piece and measuring it by thermomechanical analysis using a tensile load method using a dynamic viscoelasticity measuring device.

成形時の立体の形状に応じて、導体回路は、伸長や屈曲等の変形が加えられるが、本発明の導電性組成物によれば、上述のとおり、硬化物の貯蔵弾性率を高くすることができ、その結果、導電性組成物を硬化させて導電層(回路)を形成した後に、加熱変形した際のクラックの発生を抑制することができる。また、本発明によれば、マイクロクラックの発生を効果的に抑制できるため、目視により容易にクラック有無の判別可能である。導電性組成物の硬化物の160℃における貯蔵弾性率は1.0×10Pa以上であることが好ましく、1.0×10Pa~1.0×10Paであることがより好ましい。 The conductive circuit is deformed, such as by stretching or bending, depending on the three-dimensional shape during molding, but according to the conductive composition of the present invention, as described above, the storage modulus of the cured product can be increased, and as a result, the occurrence of cracks when the conductive composition is cured to form a conductive layer (circuit) and then deformed by heating can be suppressed. Furthermore, according to the present invention, the occurrence of microcracks can be effectively suppressed, so that the presence or absence of cracks can be easily determined by visual inspection. The storage modulus of the cured product of the conductive composition at 160°C is preferably 1.0 x 10 5 Pa or more, and more preferably 1.0 x 10 6 Pa to 1.0 x 10 9 Pa.

次に実施例を挙げて、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、以下において「部」および「%」とあるのは、特に断りのない限り全て質量基準である。 The present invention will now be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Note that in the following, "parts" and "%" are all by weight unless otherwise specified.

<エポキシ樹脂溶液の調製>
下記の4種類のエポキシ樹脂を準備し、カルビトールアセテートに溶解させて固形分が50質量%となるようにエポキシ樹脂溶液を調製した。
樹脂A:jER 828(ビスフェノールA型エポキシ樹脂、三菱ケミカル株式会社製、エポキシ当量184~194g/eq)
樹脂B:EPOX-MK R710(ビスフェノールF型エポキシ樹脂、株式会社プリンテック製、エポキシ当量170g/eq)
樹脂C:jER 1004(ビスフェノールA型エポキシ樹脂、三菱ケミカル株式会社製、エポキシ当量875~975g/eq)
樹脂D:jER 1007(ビスフェノールA型エポキシ樹脂、三菱ケミカル株式会社製、エポキシ当量1750~2200g/eq)
<Preparation of epoxy resin solution>
The following four types of epoxy resins were prepared and dissolved in carbitol acetate to prepare epoxy resin solutions having a solid content of 50 mass %.
Resin A: jER 828 (bisphenol A type epoxy resin, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, epoxy equivalent: 184 to 194 g/eq)
Resin B: EPOX-MK R710 (bisphenol F type epoxy resin, manufactured by Printec Co., Ltd., epoxy equivalent 170 g/eq)
Resin C: jER 1004 (bisphenol A type epoxy resin, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, epoxy equivalent: 875 to 975 g/eq)
Resin D: jER 1007 (bisphenol A type epoxy resin, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, epoxy equivalent: 1750 to 2200 g/eq)

<熱可塑性樹脂溶液の調製>
下記の4種類のアクリル樹脂を準備し、カルビトールアセテート、またはカルビトールアセテートと2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタンジオールモノイソブチレートとを1:1の割合で混合した溶剤に溶解させて固形分が35質量%となるようにアクリル樹脂溶液を調製した。
樹脂E:ダイヤナール MB-7948(アクリル樹脂、三菱ケミカル株式会社製、ガラス転移温度126℃)
樹脂F:エリーテル UE-9900(ポリエステル樹脂、ユニチカ株式会社製、ガラス転移温度101℃)
樹脂G:BR-115(アクリル樹脂、三菱ケミカル株式会社製、ガラス転移温度48℃)
樹脂H:クラリティ LA2250(アクリル樹脂、株式会社クラレ製、ガラス転移温度-25℃)
<Preparation of Thermoplastic Resin Solution>
The following four types of acrylic resins were prepared and dissolved in a solvent containing carbitol acetate or a 1:1 mixture of carbitol acetate and 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol monoisobutyrate to prepare acrylic resin solutions having a solid content of 35% by mass.
Resin E: Dianale MB-7948 (acrylic resin, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, glass transition temperature 126°C)
Resin F: Elitel UE-9900 (polyester resin, manufactured by Unitika Ltd., glass transition temperature 101° C.)
Resin G: BR-115 (acrylic resin, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, glass transition temperature 48°C)
Resin H: Clarity LA2250 (acrylic resin, manufactured by Kuraray Co., Ltd., glass transition temperature -25°C)

<導電性組成物の調製>
下記表1に示す各成分を表に示す割合(質量部)にて配合し、攪拌機にて予備混合した後、3本ロールミルにて分散を行い、実施例1~11および比較例1~4の各導電性組成物を調製した。なお、表1中に示す数値は、エポキシ樹脂および熱可塑性樹脂に関しては固形分含有量(質量部)を意味する。
<Preparation of Conductive Composition>
The components shown in Table 1 below were blended in the ratios (parts by mass) shown in the table, premixed with a stirrer, and then dispersed with a three-roll mill to prepare the conductive compositions of Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 4. Note that the values shown in Table 1 refer to the solid content (parts by mass) for the epoxy resin and thermoplastic resin.

なお、表1中の*1~*9は、以下の成分を表す。
*1:銀粉1(シルコートAgC-G、福田金属箔工業株式会社製、銀粒子凝集粉、平均粒子径4.2μm)
*2:銀粉2(K0082P、METALOR社製、球状銀粉、平均粒子径1.68μm)
*3:銀粉3(シルコートAgC-A、福田金属箔工業株式会社製、銀フレーク粉、平均粒子径3.5μm)
*4:硬化剤1(キュアダクトP-0505、四国化成工業株式会社製)
*5:硬化剤2(2P4MZ、四国化成工業株式会社製)
*6:ホウ酸エステル化合物(キュアダクトL-07N、四国化成工業株式会社製)
*7:微粉シリカ(アエロジル200、日本アエロジル株式会社製)
*8:カルビトールアセテート
*9:2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタンジオールモノイソブチレート
In addition, *1 to *9 in Table 1 represent the following components.
*1: Silver powder 1 (Silcoat AgC-G, manufactured by Fukuda Metal Foil Industry Co., Ltd., silver particle agglomerated powder, average particle diameter 4.2 μm)
*2: Silver powder 2 (K0082P, manufactured by METALOR, spherical silver powder, average particle diameter 1.68 μm)
*3: Silver powder 3 (Silcoat AgC-A, manufactured by Fukuda Metal Foil Industry Co., Ltd., silver flake powder, average particle size 3.5 μm)
*4: Curing agent 1 (Cureduct P-0505, manufactured by Shikoku Chemical Industry Co., Ltd.)
*5: Hardener 2 (2P4MZ, manufactured by Shikoku Chemical Industry Co., Ltd.)
*6: Boric acid ester compound (Cureduct L-07N, manufactured by Shikoku Chemical Industry Co., Ltd.)
* 7: Fine silica (Aerosil 200, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.)
*8: Carbitol acetate *9: 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol monoisobutyrate

<貯蔵弾性率>
上記のようにして得られた各導電性組成物を、表面に離型処理が施された厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの離型処理面にアプリケーターを用いて乾燥後の膜厚が約20μmになるように塗布して塗布膜を形成した。次いで、塗布膜を熱風乾燥炉を用いて120℃で30分間加熱処理を行い、室温まで放冷することにより塗布膜を乾燥および硬化させ、硬化被膜を形成した。
次いで、ポリエチレンテレフタレートフィルムから硬化被膜を剥離し、5mm×10cmの短冊状の試験片を作製した。試験片を、動的粘弾性測定装置(RSAIII(ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン株式会社)を用いて、30~200℃、周波数1Hzでの貯蔵弾性率を測定した。160℃における貯蔵弾性率は、下記の表1に示されるとおりであった。
<Storage modulus>
Each of the conductive compositions obtained as described above was applied to the release-treated surface of a 50 μm-thick polyethylene terephthalate film with a release treatment applied thereto using an applicator so that the film thickness after drying was about 20 μm, forming a coating film. The coating film was then heat-treated at 120° C. for 30 minutes using a hot air drying oven, and then allowed to cool to room temperature to dry and harden the coating film, forming a hardened coating film.
The cured coating was then peeled off from the polyethylene terephthalate film to prepare a rectangular test piece measuring 5 mm x 10 cm. The storage modulus of the test piece was measured at 30 to 200°C and a frequency of 1 Hz using a dynamic viscoelasticity measuring device (RSAIII (TA Instruments Japan, Inc.)). The storage modulus at 160°C was as shown in Table 1 below.

<硬化物のガラス転移温度>
上記と同様にして作製した硬化被膜の試験片を、動的粘弾性測定装置(RSAIII(ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン株式会社)を用いてガラス転移温度(Tg)の測定を行った。Tgは、引張加重法にて熱機械分析(荷重0.1~0.5N、昇温速度5℃/分の測定条件)にて測定して得られたtanδのピークトップ温度とした。測定されたTgは、下記の表1に示されるとおりであった。
<Glass Transition Temperature of Cured Product>
The glass transition temperature (Tg) of test pieces of the cured coating prepared in the same manner as above was measured using a dynamic viscoelasticity measuring device (RSAIII (TA Instruments Japan, Inc.)). Tg was taken as the peak top temperature of tan δ obtained by thermomechanical analysis using the tensile load method (measurement conditions: load 0.1-0.5 N, heating rate 5°C/min). The measured Tg values were as shown in Table 1 below.

<成形時のクラック評価>
上記のようにして得られた各導電性組成物を、厚さ0.15mmのポリカーボネートフィルムの表面にスクリーン印刷にて、1mm×10cmのパターンで塗布膜を形成し、上記と同様にして硬化被膜(導体回路)を形成した基板を得た。
次いで、フィルムの伸長率が60%となる半球形状型を用いて、140~170℃の温度で真空成型を行い、成形体を作製した。得られた成形体表面の導体回路を目視およびルーペ(5倍)にて観察し、クラックの有無を確認した。評価基準は以下のとおりとした。
◎:目視およびルーペでクラックが確認できない
○:目視にて確認できる0.5mmを超える大きさのクラックがある
△:目視にて確認できる限界である40μm程度の小さいクラックがある
×:ルーペでしか確認できないような40μm未満の小クラックがある
評価結果は下記の表1に示されるとおりであった。
<Crack evaluation during molding>
Each of the conductive compositions obtained as described above was applied to the surface of a 0.15 mm thick polycarbonate film by screen printing to form a coating film in a 1 mm x 10 cm pattern, and a substrate having a cured coating (conductor circuit) was obtained in the same manner as described above.
Next, using a hemispherical mold in which the film had an elongation rate of 60%, vacuum molding was performed at a temperature of 140 to 170°C to produce a molded product. The conductor circuit on the surface of the obtained molded product was observed visually and with a magnifying glass (5x) to confirm the presence or absence of cracks. The evaluation criteria were as follows.
⊚: No cracks were visible to the naked eye or with a magnifying glass. ◯: Cracks larger than 0.5 mm were visible to the naked eye. △: Small cracks of about 40 μm, the limit of what can be seen with the naked eye, were present. ×: Small cracks less than 40 μm that could only be seen with a magnifying glass were present. The evaluation results are shown in Table 1 below.

<導電性評価>
上記のようにして得られた各導電性組成物を、厚さ1mmのガラス基板の表面にスクリーン印刷にて、1mm×40cmのパターンで塗布膜を形成し、上記と同様にして硬化被膜(導体回路)を形成した基板を得た。次いで、塗布膜を熱風乾燥炉を用いて120℃で30分間加熱処理を行い、室温まで放冷することにより塗布膜を乾燥および硬化させ、硬化被膜を形成した。硬化被膜の厚さは5μmであった。
続いて、硬化被膜の両端の抵抗値を4端子法で測定し、さらに線幅、線長および厚さを測定し、比抵抗(体積抵抗率)を求めた。測定結果は下記の表1に示されるとおりであった。

<Conductivity evaluation>
Each conductive composition obtained as described above was screen printed on the surface of a 1 mm thick glass substrate to form a coating film in a pattern of 1 mm x 40 cm, and a substrate with a cured coating (conductor circuit) was obtained in the same manner as described above. The coating film was then heated at 120°C for 30 minutes using a hot air drying oven, and the coating film was dried and cured by cooling to room temperature to form a cured coating. The thickness of the cured coating was 5 μm.
The resistance of each of the cured films was then measured by a four-terminal method, and the line width, line length and thickness were also measured to determine the specific resistance (volume resistivity). The measurement results are shown in Table 1 below.

Figure 2024052152000001
Figure 2024052152000001

表1の評価結果からも明らかなように、エポキシ樹脂とガラス転移温度が80℃以上である熱可塑性樹脂とを含む導電性組成物(実施例1~11)では、導電性組成物を用いて導体回路を形成した基板を立体成形した際に発生するマイクロクラックを抑制でき、また、目視により容易にクラック有無の判別できることがわかる。
これに対して、ガラス転移温度が80℃以上である熱可塑性樹脂は含むがエポキシ樹脂を含まない導電性組成物(比較例1)では、目視での確認が困難なマイクロクラックが発生する傾向にあることがわかる。また、熱可塑性樹脂は含むがそのガラス転移温度が80℃未満である導電性組成物(比較例2および3)も同様に、目視での確認が困難なマイクロクラックが発生することがわかる。
As is clear from the evaluation results in Table 1, the conductive compositions (Examples 1 to 11) containing an epoxy resin and a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 80°C or higher can suppress the microcracks that occur when a substrate having a conductor circuit formed thereon is three-dimensionally molded using the conductive composition, and it can also be seen that the presence or absence of cracks can be easily determined by visual inspection.
In contrast, it is seen that the conductive composition containing a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 80° C. or higher but not an epoxy resin (Comparative Example 1) tends to develop microcracks that are difficult to confirm with the naked eye. Similarly, it is seen that the conductive compositions containing a thermoplastic resin but having a glass transition temperature of less than 80° C. (Comparative Examples 2 and 3) also develop microcracks that are difficult to confirm with the naked eye.

Claims (9)

エポキシ樹脂と、熱可塑性樹脂と、導電性フィラーとを少なくとも含んでなる導電性組成物であって、
前記熱可塑性樹脂は、ガラス転移温度が80℃以上であることを特徴とする、導電性組成物。
A conductive composition comprising at least an epoxy resin, a thermoplastic resin, and a conductive filler,
The conductive composition, wherein the thermoplastic resin has a glass transition temperature of 80° C. or higher.
前記エポキシ樹脂が、前記熱可塑性樹脂100質量部に対して、固形分換算で5~100質量部の割合で含まれる、請求項1に記載の導電性組成物。 The conductive composition according to claim 1, wherein the epoxy resin is contained in an amount of 5 to 100 parts by mass, calculated as solid content, per 100 parts by mass of the thermoplastic resin. 前記エポキシ樹脂は、エポキシ当量が500g/eq以上のエポキシ樹脂を含む、請求項1に記載の導電性組成物。 The conductive composition according to claim 1, wherein the epoxy resin includes an epoxy resin having an epoxy equivalent of 500 g/eq or more. 前記エポキシ樹脂は、エポキシ当量が500g/eq以上のエポキシ樹脂と、エポキシ当量が500g/eq未満のエポキシ樹脂の2種を含む、請求項1に記載の導電性組成物。 The conductive composition according to claim 1, wherein the epoxy resin includes two types of epoxy resin: an epoxy resin having an epoxy equivalent of 500 g/eq or more, and an epoxy resin having an epoxy equivalent of less than 500 g/eq. 前記導電性フィラーが、銀粉、銅粉、銀コート銅粉、銅合金粉、導電性酸化物粉、およびカーボン粒子からなる群より選択される1種以上の導電性凝集粉を含む、請求項1に記載の導電性組成物。 The conductive composition according to claim 1, wherein the conductive filler comprises one or more conductive agglomerated powders selected from the group consisting of silver powder, copper powder, silver-coated copper powder, copper alloy powder, conductive oxide powder, and carbon particles. 請求項1~5のいずれか一項に記載の導電性組成物の硬化物。 A cured product of the conductive composition according to any one of claims 1 to 5. 160℃における貯蔵弾性率が1.0×10Pa以上である、請求項6に記載の硬化物。 The cured product according to claim 6, which has a storage modulus at 160°C of 1.0 x 105 Pa or more. 立体形状の基板表面に回路が形成された電子部品であって、
前記回路が、請求項6に記載の硬化物からなる、電子部品。
An electronic component having a circuit formed on a surface of a three-dimensional substrate,
An electronic component, wherein the circuit comprises the cured product according to claim 6.
請求項1~5のいずれか一項に記載の導電性組成物を用いた電子部品の製造方法であって、
前記導電性組成物を基材上に塗布して、所望パターンの塗布膜を形成し、
前記塗布膜を乾燥および硬化させて基板上に導体回路を形成し、
導体回路が形成された基板を立体形状に成形して、立体回路基板を作製する、
ことを含み、
前記成形を、前記導電性組成物の硬化物のガラス転移温度の±80℃の温度範囲で行うことを特徴とする、電子部品の製造方法。
A method for producing an electronic component using the conductive composition according to any one of claims 1 to 5,
The conductive composition is applied onto a substrate to form a coating film having a desired pattern;
The coating film is dried and cured to form a conductor circuit on the substrate;
The substrate on which the conductor circuit is formed is molded into a three-dimensional shape to produce a three-dimensional circuit substrate.
Including,
A method for producing an electronic component, characterized in that the molding is carried out within a temperature range of ±80° C. of the glass transition temperature of the cured product of the conductive composition.
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