JP2024045033A - Photosensitive composition, film, optical lens, and optical waveguide for use in an infrared sensor or an infrared communication device, or an optical lens for use in an infrared sensor or an infrared communication device - Google Patents

Photosensitive composition, film, optical lens, and optical waveguide for use in an infrared sensor or an infrared communication device, or an optical lens for use in an infrared sensor or an infrared communication device Download PDF

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Abstract

【課題】本発明は、赤外線センサ又は赤外線通信機器用の光学レンズ又は光導波路に用いる高屈折率材料の用途において、高い屈折率を有し、透明性、耐熱性、耐光性、及びフォトリソグラフィー特性に優れる、感光性組成物の提供を目的とする。【解決手段】赤外線センサもしくは赤外線通信機器に使用する光学レンズ、又は赤外線センサもしくは赤外線通信機器に使用する光導波路に用いる感光性組成物であって、イソインドリン系顔料、酸性樹脂、分散剤、光重合性単量体、及び光重合開始剤を含有し、前記酸性樹脂が、酸価が30~140mgKOH/gであり、前記酸性樹脂の含有量が感光性組成物における固形分の全質量を基準として2質量%以上であり、前記分散剤が、塩基性樹脂型分散剤を含有し、23℃、波長850nmにおける屈折率が1.65以上である、感光性組成物【選択図】なし[Problem] The present invention aims to provide a photosensitive composition that has a high refractive index and is excellent in transparency, heat resistance, light resistance, and photolithography properties for use as a high refractive index material in optical lenses or optical waveguides for infrared sensors or infrared communication devices. [Solution] A photosensitive composition for use in optical lenses used in infrared sensors or infrared communication devices, or optical waveguides used in infrared sensors or infrared communication devices, comprising an isoindoline pigment, an acidic resin, a dispersant, a photopolymerizable monomer, and a photopolymerization initiator, wherein the acidic resin has an acid value of 30 to 140 mg KOH/g, the content of the acidic resin is 2 mass% or more based on the total mass of the solids in the photosensitive composition, the dispersant contains a basic resin-type dispersant, and the refractive index at 23°C and a wavelength of 850 nm is 1.65 or more. [Selected Figures] None

Description

本発明は、赤外線センサもしくは赤外線通信機器用の光学レンズ、又は赤外線センサもしくは赤外線通信機器用の光導波路に用いる感光性組成物、並びにその感光性組成物を含む膜、光学レンズ、及び光導波路に関する。 The present invention relates to a photosensitive composition for use in an optical lens for an infrared sensor or an infrared communication device, or an optical waveguide for an infrared sensor or an infrared communication device, as well as a film, an optical lens, and an optical waveguide that include the photosensitive composition.

従来、CCD、CMOS等のセンサー素子や、ディスプレイ等の表示素子に用いられるガラス、フィルム及びシートの表面には、無機物又は有機物からなる表面保護層が設けられている。近年では、前記の表面保護層に、反射防止や光導波等の機能を付与する目的で、高屈折率層と低屈折率層を交互に積層した被覆層等が用いられている。このうち高屈折率層には、チタニア、ジルコニア、アルミナ等のセラミックスを蒸着等により形成した高屈折率無機膜や、芳香族含有樹脂からなる高屈折率有機膜が、目的に応じて用いられている。しかし、高屈折率無機膜を用いた場合、基材密着性の不足や、膜の脆弱性等の課題があった。よって、近年では高屈折率有機膜が広く使用されている。 Conventionally, a surface protective layer made of an inorganic or organic material is provided on the surface of glass, film, and sheet used in sensor elements such as CCD and CMOS, and display elements such as displays. In recent years, coating layers in which high and low refractive index layers are alternately laminated have been used for the surface protective layer in order to impart functions such as anti-reflection and optical waveguide. For the high refractive index layer, a high refractive index inorganic film formed by deposition of ceramics such as titania, zirconia, and alumina, or a high refractive index organic film made of aromatic resin is used according to the purpose. However, when a high refractive index inorganic film is used, there are problems such as insufficient adhesion to the substrate and fragility of the film. Therefore, in recent years, a high refractive index organic film has been widely used.

また、次世代ディスプレイとして注目されている有機エレクトロルミネッセンス(以下、有機ELという。)パネルは、外部からの水分やガスの浸透による有機EL素子の劣化を防止するために、酸化ケイ素、窒化ケイ素、アルミナ等からなる無機層と、アクリル樹脂やエポキシ樹脂を主成分とした有機系封止材からなる有機層との積層構造を有する。これらの無機層と有機層とは交互に積層される。ここで、無機層と有機層との屈折率差が小さいほど光の取り出し効率が向上するため、有機層の屈折率は高い方がよい。よって、高屈折率の有機系封止材が求められている。 In addition, organic electroluminescence (hereinafter referred to as organic EL) panels, which are attracting attention as next-generation displays, have a laminated structure of inorganic layers made of silicon oxide, silicon nitride, alumina, etc., and organic layers made of organic sealing materials whose main components are acrylic resin and epoxy resin, in order to prevent deterioration of the organic EL elements due to the penetration of moisture and gas from the outside. These inorganic and organic layers are laminated alternately. Here, the smaller the difference in refractive index between the inorganic layer and the organic layer, the higher the refractive index of the organic layer, as this improves the light extraction efficiency. Therefore, there is a demand for organic sealing materials with a high refractive index.

さらに、近年、三次元造形装置を用いた成形体が医療分野、光学分野等で広く使用されている。三次元造形に用いる造形用樹脂としては、光硬化性樹脂が用いられている(特許文献1、2)。特に医療機器、顕微鏡、各種カメラ等に用いられるレンズの成形体においては、レンズの薄型化のために、高屈折率の光造形用樹脂が求められている。 Furthermore, in recent years, molded bodies using three-dimensional printing apparatuses have been widely used in the medical field, optical field, and the like. As a modeling resin used for three-dimensional modeling, a photocurable resin is used (Patent Documents 1 and 2). In particular, in lens moldings used for medical equipment, microscopes, various cameras, etc., resins for stereolithography with a high refractive index are required in order to make lenses thinner.

上述のような表面保護層用の高屈折率有機材料、有機ELパネルの有機系封止剤、光造形用樹脂としては、硫黄を含有する樹脂や、芳香環が共役した構造を有するフルオレンのような樹脂が知られている(特許文献2、3、4)。 High refractive index organic materials for surface protective layers, organic encapsulants for organic EL panels, and stereolithography resins include resins containing sulfur and fluorene, which has a structure in which aromatic rings are conjugated. There are known resins (Patent Documents 2, 3, and 4).

昨今では、夜間に被写体を撮影するための固体撮像素子や、距離測定に用いるLidarなどの赤外線センサ、光導波路に光を伝搬させて使用する赤外線通信機器など、近赤外線を用いたセンシングや通信が広く普及しつつある。これらの光線を集光するためのレンズ等には、近赤外領域において高屈折率である光学材料を用いることが重要である。 Recently, sensing and communication using near-infrared rays have become popular, such as solid-state image sensors for photographing objects at night, infrared sensors such as Lidar used for distance measurement, and infrared communication devices that propagate light through optical waveguides. It is becoming widespread. It is important to use an optical material with a high refractive index in the near-infrared region for lenses and the like for condensing these light rays.

特許文献5には、可視光を遮蔽し近赤外線を透過させる、赤外線透過フィルタなどの製造に用いられる組成物と、それを用いて得られる膜が開示されており、その膜が、波長800nm以上の範囲において高屈折率となることが記載されている。しかし、特許文献5に記載された材料は、800nmより長波長の領域に吸収があり、800~1600nmの近赤外線を用いたセンシングや通信への使用は好ましくない。また、用いる色素の分散性が十分でないため、組成物により得られる膜の透明性の面で課題が残る。 Patent Document 5 discloses a composition used for manufacturing an infrared transmission filter, etc. that blocks visible light and transmits near infrared rays, and a film obtained using the same, and the film has a composition that blocks visible light and transmits near infrared rays. It is stated that the refractive index is high in the range of . However, the material described in Patent Document 5 has absorption in a wavelength region longer than 800 nm, and is not preferable for use in sensing or communication using near-infrared rays in the range of 800 to 1600 nm. Further, since the dispersibility of the dye used is not sufficient, problems remain in terms of transparency of the film obtained from the composition.

特許文献6には、近赤外領域において高屈折率及び高透過率を示す、有機色素を含む光学部材用膜状物が開示されているが、色素の添加量が非常に少なく、十分に高い屈折率は
得られていない。
Patent Document 6 discloses a film-like material for optical members containing an organic dye that exhibits a high refractive index and high transmittance in the near-infrared region, but the amount of the dye added is very small and is sufficiently high. Refractive index is not available.

特許文献7には、近赤外領域において高屈折率及び高透過率を示す、熱可塑性樹脂と色材とを含む樹脂組成物が開示されているが、耐光性や耐熱性が十分でなく、実用性の観点で問題があった。 Patent Document 7 discloses a resin composition containing a thermoplastic resin and a coloring material that exhibits a high refractive index and high transmittance in the near-infrared region, but it does not have sufficient light resistance or heat resistance, There was a problem in terms of practicality.

特開2011-157543号公報JP 2011-157543 A 特開2019-019245号公報JP 2019-019245 A 特開2000-281787号公報Japanese Patent Application Publication No. 2000-281787 特開2011-168721号公報JP2011-168721A 国際公開第2019/065475号International Publication No. 2019/065475 国際公開第2020/085499号International Publication No. 2020/085499 国際公開第2020/138050号WO 2020/138050

近赤外線を用いたセンシングや通信の中でも、近年特に広く普及しつつある800~1600nmの光線を用いたセンシングや通信において、これらの光線を集光するための光学レンズや、これらの光線を伝搬させる光導波路には、高屈折率で、高い透明性及び耐性を持つ光学材料を用いることが重要である。
しかしながら、現状では十分な耐性を有する高屈折率材料の開発は進んでいなかった。
Among sensing and communications using near-infrared rays, sensing and communications using 800 to 1600 nm light rays, which have become particularly widespread in recent years, require optical lenses to condense these rays and propagate these rays. It is important to use an optical material with a high refractive index, high transparency, and high durability for the optical waveguide.
However, at present, no progress has been made in developing high refractive index materials with sufficient durability.

さらに、赤外線センサもしくは赤外線通信機器用の光学レンズ、又は赤外線センサもしくは赤外線通信機器用の光導波路に用いるためには、フォトリソグラフィー性を有していると大変有用である。昨今の赤外線センサーは微細に加工されており、このための光学レンズとしてはマイクロレンズ等のように微小なレンズであることが求められる。また、赤外通信機器用の光導波路も微細な加工が要求される。そのため、フォトリソグラフィー性を有し露光により微細なパターンに加工できる特性を持つことは非常に有用となる。 Furthermore, for use in optical lenses for infrared sensors or infrared communication devices, or optical waveguides for infrared sensors or infrared communication devices, it is very useful for the material to have photolithographic properties. Today's infrared sensors are finely processed, and the optical lenses used for these sensors are required to be very small lenses such as microlenses. In addition, optical waveguides for infrared communication devices also require fine processing. For this reason, it is very useful for the material to have photolithographic properties and the ability to be processed into fine patterns by exposure.

本発明は、以上の課題に鑑み、800~1600nmの光線を用いた赤外線センサ又は赤外線通信機器用の光学レンズ又は光導波路に用いる高屈折率材料の用途において、高い屈折率を有し、透明性、耐熱性、耐光性、及びフォトリソグラフィー特性に優れる、感光性組成物の提供を目的とする。 In view of the above problems, the present invention aims to provide a photosensitive composition that has a high refractive index and is excellent in transparency, heat resistance, light resistance, and photolithography properties for use as a high refractive index material in optical lenses or optical waveguides for infrared sensors or infrared communication devices that use light rays of 800 to 1600 nm.

即ち本発明は、
赤外線センサもしくは赤外線通信機器に使用する光学レンズ、又は赤外線センサもしくは赤外線通信機器に使用する光導波路に用いる感光性組成物であって、
イソインドリン系顔料、酸性樹脂、分散剤、光重合性単量体、及び光重合開始剤を含有し、
前記酸性樹脂が、酸価が30~140mgKOH/gであり、前記酸性樹脂の含有量が感光性組成物における固形分の全質量を基準として2質量%以上であり、
前記分散剤が、塩基性樹脂型分散剤を含有し、
23℃、波長850nmにおける屈折率が1.65以上である、感光性組成物に関する。
That is, the present invention is
A photosensitive composition for use in an optical lens for an infrared sensor or an infrared communication device, or an optical waveguide for an infrared sensor or an infrared communication device, comprising:
The ink contains an isoindoline pigment, an acidic resin, a dispersant, a photopolymerizable monomer, and a photopolymerization initiator,
the acidic resin has an acid value of 30 to 140 mgKOH/g, and the content of the acidic resin is 2 mass% or more based on the total mass of the solid content in the photosensitive composition;
The dispersant contains a basic resin-type dispersant,
The photosensitive composition has a refractive index of 1.65 or more at 23° C. and a wavelength of 850 nm.

また本発明は、イソインドリン系顔料が、下記一般式(1)で表される構造を有する、上記感光性組成物に関する。
一般式(1)


(X、Xは、各々独立して、下記一般式(2)、(3)又は(4)を表す。Y~Yは、各々独立して、水素原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、炭素数1~4のアルキル基、炭素数1~4のアルコキシ基、炭素数2~4のアルコキシカルボニル基、炭素数2~4のアルキルカルボキシ基、ハロゲン原子、炭素数2~4のアルケニル基、炭素数2~4のアルケニロキシ基、炭素数3~10のシクロアルキル基、炭素数6~12のアリール基、-SO-O-R111、又は-SO-NH-R112を表し、これらのうち2つがそれぞれ水素原子を除いた形で環を形成してもよく、環を形成する際に間に2価の有機基が入ってもよい。R111、R112は各々独立して、水素原子又は炭素数1~4のアルキル基を表す。)

一般式(2)


(Y、Yは、各々独立して、水素原子、炭素数1~4のアルキル基、炭素数2~4のアルケニル基、炭素数2~4のアルケニロキシ基、炭素数3~10のシクロアルキル基、又は炭素数6~12のアリール基を表し、*は結合手を表す。)

一般式(3)


(Yは、各々独立して、水素原子、炭素数1~4のアルキル基、炭素数2~4のアルケニル基、炭素数2~4のアルケニロキシ基、炭素数3~10のシクロアルキル基、又は炭素数6~12のアリール基を表し、*は結合手を表す。)

一般式(4)


The present invention also relates to the above photosensitive composition, wherein the isoindoline pigment has a structure represented by the following general formula (1):
General formula (1)


(X 1 and X 2 each independently represent the following general formula (2), (3) or (4). Y 1 to Y 4 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxy group, a carboxy group, a cyano group, a nitro group, a sulfo group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkylcarboxy group having 2 to 4 carbon atoms, a halogen atom, an alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkenyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, -SO 2 -O-R 111 or -SO 2 -NH-R 112 , two of which may form a ring by removing a hydrogen atom, or a divalent organic group may be inserted between them when forming a ring. R 111 and R 112 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.)

General formula (2)


( Y5 and Y6 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkenyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and * represents a bond.)

General formula (3)


(Each Y7 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkenyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and * represents a bond.)

General formula (4)


また本発明は、顔料の含有率が、感光性組成物における固形分の全質量を基準として30質量%以上である、前記感光性組成物に関する。 The present invention also relates to the photosensitive composition, wherein the pigment content is 30% by mass or more based on the total mass of solids in the photosensitive composition.

また本発明は、光重合開始剤がオキシムエステル系化合物である、前記感光性組成物に関する。 The present invention also relates to the photosensitive composition, in which the photopolymerization initiator is an oxime ester compound.

また本発明は、800nm~1600nmにおける高屈折率材料として用いる、前記感光性組成物に関する。 The present invention also relates to the photosensitive composition used as a high refractive index material at 800 nm to 1600 nm.

また本発明は、前記感光性組成物を含む膜に関する。 The present invention also relates to a film containing the photosensitive composition.

また本発明は、前記感光性組成物を含む光学材料に関する。 The present invention also relates to an optical material containing the photosensitive composition.

また本発明は、前記感光性組成物を含む光学レンズに関する。 The present invention also relates to an optical lens containing the photosensitive composition.

また本発明は、前記感光性組成物を含む光導波路に関する。 The present invention also relates to an optical waveguide containing the photosensitive composition.

また本発明は、前記の膜、前記の光学材料、前記の光学レンズ、又は前記の光導波路を具備する、赤外線センサに関する。
また本発明は、前記の膜、前記の光学材料、前記の光学レンズ、又は前記の光導波路を具備する、赤外線通信機器に関する。
The present invention also relates to an infrared sensor comprising the above film, the above optical material, the above optical lens, or the above optical waveguide.
The present invention also relates to an infrared communication device comprising the above film, the above optical material, the above optical lens, or the above optical waveguide.

上記の本発明によれば、赤外線センサ又は赤外線通信機器用の光学レンズ又は光導波路に用いる高屈折率材料の用途において、800~1600nmの波長領域において高い屈折率を有し、透明性、耐熱性、耐光性及びフォトリソグラフィー特性に優れる感光性組成物を提供できる。 According to the present invention, it is possible to provide a photosensitive composition that has a high refractive index in the wavelength range of 800 to 1600 nm and is excellent in transparency, heat resistance, light resistance, and photolithography properties when used as a high refractive index material for optical lenses or optical waveguides for infrared sensors or infrared communication devices.

このような本発明の有機感光性組成物は、800~1600nmの波長領域における高屈折率が要求される赤外線センサ又は赤外線通信機器に用いる光学材料に用いられ、光学レンズ、光導波路等の光学材料用として特に好適に利用可能である。 The organic photosensitive composition of the present invention can be used as an optical material for infrared sensors or infrared communication devices that require a high refractive index in the wavelength range of 800 to 1600 nm, and can be used as an optical material for optical lenses, optical waveguides, etc. It can be used particularly suitably.

<本発明の感光性組成物について>
本発明の感光性組成物は、イソインドリン系顔料、酸性樹脂、及び分散剤を含有し、膜厚1.0μmの膜を形成した際に、23℃、波長850nmにおける屈折率が1.65以上である。
<Photosensitive Composition of the Present Invention>
The photosensitive composition of the present invention contains an isoindoline pigment, an acidic resin, and a dispersant, and when formed into a film having a thickness of 1.0 μm, the refractive index at 23° C. and a wavelength of 850 nm is 1.65 or more.

<感光性組成物の光学特性について>
本発明の感光性組成物は、800~1600nmの波長領域で高屈折率になることにより
、高屈折率に寄与することが知られている硫黄原子やヨウ素原子を含有しなくても高屈折率の膜を得ることができる。
<Optical Properties of Photosensitive Composition>
The photosensitive composition of the present invention has a high refractive index in the wavelength region of 800 to 1600 nm, and therefore can provide a film with a high refractive index even without containing sulfur atoms or iodine atoms, which are known to contribute to a high refractive index.

本発明の感光性組成物は、23℃、波長850nmにおける屈折率が1.65以上であり、好ましくは1.7以上であり、より好ましくは1.75以上であり、さらに好ましくは1.8以上である。屈折率の上限は特に限定されないが、好ましくは2.5以下であり、さらに好ましくは2.4以下である。
なお、これは、本発明の感光性組成物が膜厚1.0μmの膜を形成した際の屈折率であり、本発明の有機感光性組成物に溶剤が含まれる場合は、塗工後にこれを揮発させた後の膜の屈折率が該当する。
The photosensitive composition of the present invention has a refractive index at 23° C. and a wavelength of 850 nm of 1.65 or more, preferably 1.7 or more, more preferably 1.75 or more, and even more preferably 1.8. That's all. The upper limit of the refractive index is not particularly limited, but is preferably 2.5 or less, more preferably 2.4 or less.
Note that this is the refractive index when the photosensitive composition of the present invention forms a film with a thickness of 1.0 μm, and if the organic photosensitive composition of the present invention contains a solvent, this is the refractive index after coating. This corresponds to the refractive index of the film after it has been volatilized.

<顔料>
本発明の感光性組成物は、上記の光学特性を有するためにイソインドリン系顔料を含有する。顔料は、染料に比べ耐熱性、耐光性、耐薬品性が高い。近赤外線を集光する光学レンズや、近赤外線を伝搬させる光導波路に用いる光学材料には、耐光性が不可欠となる。また、様々なデバイスに組み込まれて用いられるために、製造工程における高温のプロセスや溶剤浸漬のプロセスにも耐えうることが重要であり、耐熱性、耐薬品性が必要となる。顔料は、耐熱性、耐光性に優れるため、本発明の感光性組成物は、赤外線センサ又は赤外線通信機器における高屈折率材料への使用が可能となる。
<Pigments>
The photosensitive composition of the present invention contains an isoindoline pigment in order to have the above optical properties. Pigments have higher heat resistance, light resistance, and chemical resistance than dyes. Light resistance is essential for optical materials used in optical lenses that collect near-infrared rays and optical waveguides that propagate near-infrared rays. In addition, since the composition is incorporated into various devices and used, it is important that the composition can withstand high-temperature processes and solvent immersion processes in the manufacturing process, and heat resistance and chemical resistance are required. Since the pigment has excellent heat resistance and light resistance, the photosensitive composition of the present invention can be used as a high refractive index material in infrared sensors or infrared communication devices.

本発明の感光性組成物においては、イソインドリン系顔料の含有率が、感光性組成物における固形分の全質量を基準として30質量%以上が好ましい。より好ましくは40質量%以上、さらに好ましくは50質量%以上、特に好ましくは60%以上である。
これにより、800~1600nmの波長領域で高屈折率である膜を得ることができる。顔料の含有量の上限は特に限定されないが、95質量%未満であると、顔料の分散性に優れ、透明性の高い膜が得られる点、及び感光性組成物としての安定性に優れる点から好ましい。
なお、本明細書において、固形分とは、感光性組成物から有機溶媒等の揮発性成分を除いた全ての成分を意味する。
In the photosensitive composition of the present invention, the content of the isoindoline pigment is preferably 30% by mass or more based on the total mass of solids in the photosensitive composition. The content is more preferably 40% by mass or more, further preferably 50% by mass or more, particularly preferably 60% or more.
As a result, a film having a high refractive index in the wavelength range of 800 to 1600 nm can be obtained. The upper limit of the pigment content is not particularly limited, but if it is less than 95% by mass, the pigment has excellent dispersibility, a highly transparent film can be obtained, and the photosensitive composition has excellent stability. preferable.
In addition, in this specification, the solid content means all components excluding volatile components such as organic solvents from the photosensitive composition.

<イソインドリン系顔料>
イソインドリン系顔料としては、例えばピグメント イエロー185、139、ピグメ
ントレッド260、ピグメントオレンジ61、66、69が挙げられる。
<Isoindoline pigment>
Examples of isoindoline pigments include Pigment Yellow 185, 139, Pigment Red 260, and Pigment Orange 61, 66, and 69.

イソインドリン系顔料としては、一般式(1)で表される構造を有することが好ましい。一般式(1)


(X、Xは、各々独立して、下記一般式(2)、(3)又は(4)を表す。Y~Yは、各々独立して、水素原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、炭素数1~4のアルキル基、炭素数1~4のアルコキシ基、炭素数2~4のアルコキシカルボニル基、炭素数2~4のアルキルカルボキシ基、ハロゲン原子、炭素数2~4のアルケニル基、炭素数2~4のアルケニロキシ基、炭素数3~10のシクロアルキル
基、炭素数6~12のアリール基、-SO-O-R111、又は-SO-NH-R112を表し、これらのうち2つがそれぞれ水素原子を除いた形で環を形成してもよく、環を形成する際に間に2価の有機基が入ってもよい。R111、R112は各々独立して、水素原子又は炭素数1~4のアルキル基を表す。)
一般式(2)


(Y、Yは、各々独立して、水素原子、炭素数1~4のアルキル基、炭素数2~4のアルケニル基、炭素数2~4のアルケニロキシ基、炭素数3~10のシクロアルキル基、又は炭素数6~12のアリール基を表し、*は結合手を表す。)
一般式(3)


(Yは、各々独立して、水素原子、炭素数1~4のアルキル基、炭素数2~4のアルケニル基、炭素数2~4のアルケニロキシ基、炭素数3~10のシクロアルキル基、又は炭素数6~12のアリール基を表し、*は結合手を表す。)
一般式(4)
The isoindoline pigment preferably has a structure represented by general formula (1). General formula (1)


(X 1 and X 2 each independently represent the following general formula (2), (3), or (4). Y 1 to Y 4 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxy group, a carboxy group , cyano group, nitro group, sulfo group, alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, alkoxycarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, alkylcarboxy group having 2 to 4 carbon atoms, halogen atom , an alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkenyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, -SO 2 -O-R 111 , or -SO 2 -NH-R represents 112 , and two of these may form a ring by removing hydrogen atoms, or a divalent organic group may be inserted between them when forming the ring.R 111 and R 112 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.)
General formula (2)


(Y 5 and Y 6 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkenyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, a cyclo Represents an alkyl group or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and * represents a bond.)
General formula (3)


(Y 7 is each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkenyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, or represents an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and * represents a bond.)
General formula (4)

炭素数1~4のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ターシャリーブチル基が挙げられ、炭素数1~4のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、t-ブチルオキシ基等が挙げられる。炭素数2~4のアルケニル基としては、エチレニル基、プロペニル基、ブチレニル基等が挙げられる。炭素数3~10のシクロアルキル基としては、シクロペンチル基板、シクロヘキシル基等が挙げられ、炭素数6~12のアリール基としては、フェニル基、ベンジル基、ナフチル基等が挙げられる。
~Yは、上記基の2つがそれぞれ水素原子を除いた形で環を形成してもよく、例えばYおよびYが一体となってフェニル基を形成してもよい。
Examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, and tertiary butyl group, and examples of the alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms include methoxy group. , ethoxy group, propyloxy group, isopropyloxy group, butyloxy group, isobutyloxy group, t-butyloxy group and the like. Examples of the alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms include ethylenyl group, propenyl group, butylenyl group, and the like. Examples of the cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms include cyclopentyl substrate and cyclohexyl group, and examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include phenyl group, benzyl group, naphthyl group, and the like.
In Y 1 to Y 4 , two of the above groups may each remove a hydrogen atom to form a ring, or, for example, Y 1 and Y 2 may be combined to form a phenyl group.

一般式(1)で表されるイソインドリン系顔料は、単独で、又は2種類以上を併用して使用できる。また、異性体を含む混合物であってもよい。 The isoindoline pigment represented by the general formula (1) may be used alone or in combination of two or more kinds. It may also be a mixture containing isomers.

一般式(1)で表される構造を有するイソインドリン系顔料としては、例えば以下の化合物が挙げられる。 Examples of the isoindoline pigment having the structure represented by general formula (1) include the following compounds.

本発明の感光性組成物は、その他、イソインドリン系以外の顔料を含んでもよい。
黄色顔料としては、例えばピグメント イエロー1、2、3、4、5、6、10、12、
13、14、15、16、17、18、24、31、32、34、35、35:1、36、36:1、37、37:1、40、42、43、53、55、60、61、62、63、65、73、74、77、81、83、93、94、95、97、98、100、101、104、106、108、109、110、113、114、115、116、117、118、119、120、123、126、127、128、129、138、147、150、151、152、153、154、155、156、161、162、164、166、167、168、169、170、171、172、173、174、175、176、177、179、180、181、182、187、188、193、194、198、199、213、214、218、219、220、221が挙げられる。
The photosensitive composition of the present invention may further contain a pigment other than an isoindoline pigment.
Examples of yellow pigments include Pigment Yellow 1, 2, 3, 4, 5, 6, 10, 12,
13, 14, 15, 16, 17, 18, 24, 31, 32, 34, 35, 35:1, 36, 36:1, 37, 37:1, 40, 42, 43, 53, 55, 60, 61, 62, 63, 65, 73, 74, 77, 81, 83, 93, 94, 95, 97, 98, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 115, 116, 117, 118, 119, 120, 123, 12 6, 127, 128, 129, 138, 147, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 161, 162, 164, 166, 167, 168, 169, 170, 171, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 179, 180, 181, 182, 187, 188, 193, 194, 198, 199, 213, 214, 218, 219, 220, and 221.

赤色顔料としては、例えばC.I.ピグメントレッド7、9、14、41、48:1、48:2、48:3、48:4、57:1、81、81:1、81:2、81:3、81
:4、97、122、123、146、149、150、168、169、170、176、177、178、180、184、185、187、192、200、202、208、209、210、215、216、217、220、223、224、226、227、228、240、242、246、254、255、264、268、270、272、273、274、276、277、278、279、280、281、282、283、284、285、286、287が挙げられる。
橙色顔料としては、例えばC.I.ピグメントオレンジ36、38、43、51、55、59、71、73が挙げられる。
Examples of red pigments include C.I. I. Pigment Red 7, 9, 14, 41, 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 57:1, 81, 81:1, 81:2, 81:3, 81
:4, 97, 122, 123, 146, 149, 150, 168, 169, 170, 176, 177, 178, 180, 184, 185, 187, 192, 200, 202, 208, 209, 210, 215, 216 , 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, 242, 246, 254, 255, 264, 268, 270, 272, 273, 274, 276, 277, 278, 279, 280, 281, 282 , 283, 284, 285, 286, 287.
Examples of orange pigments include C.I. I. Pigment Orange 36, 38, 43, 51, 55, 59, 71, and 73.

青色顔料としては、例えばC.I.ピグメントブルー1、1:2、1:3、2、2:1、2:2、3、8、9、10、10:1、11、12、15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、16、18、19、22、24、24:1、53、56、56:1、57、58、59、60、61、62、64が挙げられる。 Examples of blue pigments include C.I. I. Pigment Blue 1, 1:2, 1:3, 2, 2:1, 2:2, 3, 8, 9, 10, 10:1, 11, 12, 15, 15:1, 15:2, 15: 3, 15:4, 15:6, 16, 18, 19, 22, 24, 24:1, 53, 56, 56:1, 57, 58, 59, 60, 61, 62, 64.

緑色顔料としては、例えばC.I.ピグメントグリーン7、10、36、37、58、62、63が挙げられる。
また、アルミフタロシアニン顔料を用いることも好ましく、例えば、特開2004-333817号公報、特許第4893859号公報等に記載のアルミニウムフタロシアニン顔料を用いることもできる。
Examples of green pigments include C.I. I. Pigment Green 7, 10, 36, 37, 58, 62, and 63.
It is also preferable to use aluminum phthalocyanine pigments, and for example, aluminum phthalocyanine pigments described in JP-A No. 2004-333817, Japanese Patent No. 4893859, etc. can also be used.

紫色顔料としては、例えばC.I.ピグメントバイオレット1、19、23、27、29、30、32、37、40、42、50が挙げられる。 Examples of purple pigments include C.I. Pigment Violet 1, 19, 23, 27, 29, 30, 32, 37, 40, 42, and 50.

(無機顔料)
その他、無機顔料を併用することもできる。無機顔料としては、酸化チタン、硫酸バリウム、亜鉛華、硫酸鉛、黄色鉛、亜鉛黄、べんがら(赤色酸化鉄(III))、カドミウム赤
、群青、紺青、酸化クロム緑、コバルト緑、アンバー、合成鉄黒等が挙げられる。無機顔料は、彩度と明度のバランスを取りつつ良好な塗布性、感度、現像性等を確保するために、有機顔料と組合せて用いられる。
(Inorganic pigment)
In addition, inorganic pigments can also be used together. Inorganic pigments include titanium oxide, barium sulfate, zinc white, lead sulfate, yellow lead, zinc yellow, red iron oxide (red iron (III) oxide), cadmium red, ultramarine blue, deep blue, chromium oxide green, cobalt green, amber, and synthetic pigments. Examples include iron black. Inorganic pigments are used in combination with organic pigments in order to balance saturation and brightness while ensuring good coating properties, sensitivity, developability, etc.

また、染料を併用することもできる。染料は、例えば、油溶性染料、酸性染料、塩基性染料が挙げられ、いずれも併用することができる。また例えば、アントラキノン系染料、モノアゾ系染料、ジスアゾ系染料、オキサジン系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン系性染料、トリフェニルメタン系性染料、シアニン系染料、スクアリリウム系染料が挙げられ、いずれも併用することができる。 Moreover, a dye can also be used in combination. Examples of the dye include oil-soluble dyes, acidic dyes, and basic dyes, all of which can be used in combination. Further examples include anthraquinone dyes, monoazo dyes, disazo dyes, oxazine dyes, aminoketone dyes, xanthene dyes, quinoline dyes, triphenylmethane dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, Both can be used together.

以下、上記の顔料及び染料を総称して、着色剤ということがある。 Hereinafter, the above pigments and dyes will be collectively referred to as colorants.

さらに、紫外線吸収剤を併用することもできる。紫外線吸収剤は、例えば、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤が挙げられ、いずれも併用することができる。 Furthermore, a UV absorber can also be used in combination. Examples of the ultraviolet absorber include benzotriazole ultraviolet absorbers, triazine ultraviolet absorbers, benzophenone ultraviolet absorbers, benzoate ultraviolet absorbers, and cyanoacrylate ultraviolet absorbers, all of which can be used in combination.

さらに、紫外線吸収剤を併用することもできる。紫外線吸収剤は、例えば、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤が挙げられ、いずれも併用することができる。 Furthermore, a UV absorber can also be used in combination. Examples of the ultraviolet absorber include benzotriazole ultraviolet absorbers, triazine ultraviolet absorbers, benzophenone ultraviolet absorbers, benzoate ultraviolet absorbers, and cyanoacrylate ultraviolet absorbers, all of which can be used in combination.

高屈折率材料としての性能だけでなく、特定の波長領域の透過、吸収を制御したい場合は、上記の染料や紫外線吸収剤が好適に用いられる。
例えば、近赤外線をセンシングする際に、その光線よりも短波長の領域をカットしたい場合は、青色顔料、赤色顔料や紫色顔料に黄色顔料や紫外線吸収剤を加え、IRパス材料としての機能を持たせることができる。
When it is desired to control not only the performance as a high refractive index material but also the transmission and absorption in a specific wavelength region, the above-mentioned dyes and ultraviolet absorbers are preferably used.
For example, when sensing near-infrared rays, if you want to cut out a region with a shorter wavelength than the rays, add a yellow pigment or an ultraviolet absorber to a blue, red, or violet pigment to have a function as an IR pass material. can be set.

(顔料の微細化)
本発明の感光性組成物においては、高い透過率を得る観点から、有機顔料はソルトミリング処理などにより微細化されていることが好ましい。顔料の一次粒子径は、着色剤担体中への分散が良好なことから、10nm以上であることが好ましい。また、散乱の少ない塗膜を形成できることから、400nm以下であることが好ましく、200nm以下であることがより好ましい。特に好ましい範囲は、20~60nmの範囲である。
(Refining of pigment)
In the photosensitive composition of the present invention, from the viewpoint of obtaining high transmittance, the organic pigment is preferably micronized by salt milling or the like. The primary particle size of the pigment is preferably 10 nm or more because it is well dispersed in the colorant carrier. Furthermore, since a coating film with less scattering can be formed, the thickness is preferably 400 nm or less, more preferably 200 nm or less. A particularly preferred range is from 20 to 60 nm.

(ソルトミリング処理)
ソルトミリング処理とは、顔料と水溶性無機塩と水溶性有機溶剤との混合物を、ニーダー、2本ロールミル、3本ロールミル、ボールミル、アトライター、サンドミル等の混練機を用いて、加熱しながら機械的に混練した後、水洗により水溶性無機塩と水溶性有機溶剤を除去する処理である。水溶性無機塩は、破砕助剤として働くものであり、ソルトミリング時に無機塩の硬度の高さを利用して顔料が破砕される。顔料をソルトミリング処理する際の条件を最適化することにより、一次粒子径が非常に微細であり、また、分布の幅がせまく、シャープな粒度分布をもつ顔料を得ることができる。
(Salt milling process)
The salt milling process is a process in which a mixture of a pigment, a water-soluble inorganic salt, and a water-soluble organic solvent is mechanically kneaded under heating using a kneader, a two-roll mill, a three-roll mill, a ball mill, an attritor, a sand mill, or other kneading machine, and then the water-soluble inorganic salt and the water-soluble organic solvent are removed by washing with water. The water-soluble inorganic salt acts as a crushing aid, and the pigment is crushed during the salt milling process by utilizing the high hardness of the inorganic salt. By optimizing the conditions for the salt milling process of the pigment, it is possible to obtain a pigment having a very fine primary particle diameter, a narrow distribution width, and a sharp particle size distribution.

水溶性無機塩としては、塩化ナトリウム、塩化バリウム、塩化カリウム、硫酸ナトリウム等を用いることができるが、価格の点から塩化ナトリウム(食塩)を用いるのが好ましい。水溶性無機塩は、処理効率と生産効率の両面から、顔料の全重量を基準(100質量%)として、50~2000質量%用いることが好ましく、300~1000質量%用いることが最も好ましい。 Sodium chloride, barium chloride, potassium chloride, sodium sulfate, etc. can be used as the water-soluble inorganic salt, but sodium chloride (table salt) is preferred from the viewpoint of cost. From the viewpoints of both processing efficiency and production efficiency, the water-soluble inorganic salt is preferably used in an amount of 50 to 2000% by mass, and most preferably 300 to 1000% by mass, based on the total weight of the pigment (100% by mass).

水溶性有機溶剤は、顔料及び水溶性無機塩を湿潤する働きをするものであり、水に溶解(混和)し、かつ用いる無機塩を実質的に溶解しないものであれば特に限定されない。ただし、ソルトミリング時に温度が上昇し、溶剤が蒸発し易い状態になるため、安全性の点から、沸点120℃以上の高沸点溶剤が好ましい。例えば、2-メトキシエタノール、2-ブトキシエタノール、2-(イソペンチルオキシ)エタノール、2-(ヘキシルオキシ)エタノール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、液状のポリエチレングリコール、1-メトキシ-2-プロパノール、1-エトキシ-2-プロパノール、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、液状のポリプロピレングリコールが用いられる。水溶性有機溶剤は、顔料の全重量を基準(100質量%)として、5~1000質量%用いることが好ましく、50~500質量%用いることがより好ましい。 The water-soluble organic solvent is not particularly limited as long as it functions to wet the pigment and the water-soluble inorganic salt, dissolves (is miscible with) water, and does not substantially dissolve the inorganic salt used. However, since the temperature rises during salt milling and the solvent becomes prone to evaporate, a high-boiling point solvent with a boiling point of 120°C or higher is preferred from the standpoint of safety. For example, 2-methoxyethanol, 2-butoxyethanol, 2-(isopentyloxy)ethanol, 2-(hexyloxy)ethanol, diethylene glycol, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol, triethylene glycol monomethyl ether, liquid polyethylene glycol, 1-methoxy-2-propanol, 1-ethoxy-2-propanol, dipropylene glycol, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, and liquid polypropylene glycol are used. The water-soluble organic solvent is preferably used in an amount of 5 to 1000% by mass, and more preferably 50 to 500% by mass, based on the total weight of the pigment (100% by mass).

顔料をソルトミリング処理する際には、必要に応じて樹脂を添加してもよい。用いられる樹脂の種類は特に限定されず、天然樹脂、変性天然樹脂、合成樹脂、天然樹脂で変性された合成樹脂等を用いることができる。用いられる樹脂は、室温で固体であり、水不溶性であることが好ましく、かつ上記有機溶剤に一部可溶であることがさらに好ましい。樹脂の使用量は、顔料の全重量を基準(100質量%)として、5~200質量%の範囲であることが好ましい。 When the pigment is subjected to salt milling, a resin may be added as necessary. There are no particular limitations on the type of resin used, and natural resins, modified natural resins, synthetic resins, synthetic resins modified with natural resins, etc. can be used. The resin used is preferably solid at room temperature and insoluble in water, and more preferably partially soluble in the above organic solvents. The amount of resin used is preferably in the range of 5 to 200% by mass, based on the total weight of the pigment (100% by mass).

<バインダー樹脂>
本発明の感光性組成物は、バインダー樹脂を含有することができる。バインダー樹脂としては、顔料等の物質間を結合することができるものが好ましく、熱可塑性樹脂、熱硬化
性樹脂等が挙げられる。
<Binder resin>
The photosensitive composition of the present invention may contain a binder resin. The binder resin is preferably one capable of binding substances such as pigments together, and examples of the binder resin include thermoplastic resins and thermosetting resins.

熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ブチラール樹脂、スチレン-マレイン酸共重合体、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル樹脂、ビニル系樹脂、アルキッド樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ゴム系樹脂、環化ゴム系樹脂、セルロース類、ポリエチレン(HDPE、LDPE)、ポリブタジエン、ポリイミド樹脂が挙げられる。 Examples of thermoplastic resins include acrylic resins, butyral resins, styrene-maleic acid copolymers, chlorinated polyethylene, chlorinated polypropylene, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymers, polyvinyl acetate, polyurethane resins, polyester resins, vinyl resins, alkyd resins, polystyrene resins, polyamide resins, rubber resins, cyclized rubber resins, celluloses, polyethylene (HDPE, LDPE), polybutadiene, and polyimide resins.

熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性フマル酸樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂が挙げられる。 Examples of thermosetting resins include epoxy resins, benzoguanamine resins, rosin-modified maleic acid resins, rosin-modified fumaric acid resins, melamine resins, urea resins, and phenolic resins.

バインダー樹脂としては、可視光領域の400~700nmの全波長領域において分光透過率が好ましくは80%以上、より好ましくは95%以上の樹脂であることが好ましい。 The binder resin is preferably a resin having a spectral transmittance of preferably 80% or more, more preferably 95% or more in the entire wavelength range of 400 to 700 nm in the visible light region.

バインダー樹脂中に、酸価が30~140mgKOH/gの酸性樹脂を含有することが好ましい。本発明の感光性組成物は、酸価が30~140mgKOH/gの酸性樹脂を含有することで、アルカリ可溶性が乏しい塩基性分散剤を含んでいてもフォトリソグラフィー性が優れる。よって、アルカリ現像型レジスト材として好適に利用することができる。酸性樹脂の酸価は50~120mgKOH/gであることがより好ましい。
特に、本発明の感光性組成物は、高屈折率にするためにイソインドリン顔料の固形分中濃度を高めることが好ましいが、これらの顔料はアルカリ可溶性が低いため、バインダー樹脂及び/又は分散剤のフォトリソグラフィー性への寄与が非常に重要となる。
It is preferable that the binder resin contains an acidic resin having an acid value of 30 to 140 mgKOH/g. By containing an acidic resin having an acid value of 30 to 140 mgKOH/g, the photosensitive composition of the present invention has excellent photolithography properties even if it contains a basic dispersant with poor alkali solubility. Therefore, it can be suitably used as an alkali-developable resist material. More preferably, the acid value of the acidic resin is 50 to 120 mgKOH/g.
In particular, in the photosensitive composition of the present invention, it is preferable to increase the concentration of the isoindoline pigment in the solid content in order to obtain a high refractive index, but since these pigments have low alkali solubility, the binder resin and/or dispersant Its contribution to photolithographic performance is very important.

酸性樹脂の含有量は、感光性組成物における固形分の全質量を基準として2質量%以上であり、3質量%以上が好ましく、40質量%以下が好ましい。酸性樹脂が少なすぎてもアルカリ可溶性を付与する効果は乏しく、多すぎると固形分中の顔料濃度が低くなり、屈折率が低くなってしまう傾向にある。また、酸価が低すぎてもアルカリ可溶性の効果が乏しく、酸価が高すぎると塩基性樹脂型分散剤と強く相互作用することで異物発生の要因となり得る。 The content of the acidic resin is 2% by mass or more, preferably 3% by mass or more, and preferably 40% by mass or less, based on the total mass of the solids in the photosensitive composition. If the amount of the acidic resin is too small, the effect of imparting alkali solubility is poor, and if the amount is too large, the pigment concentration in the solids tends to be low and the refractive index tends to be low. Also, if the acid value is too low, the effect of imparting alkali solubility is poor, and if the acid value is too high, it may interact strongly with the basic resin-type dispersant, which may cause the generation of foreign matter.

酸性樹脂は、酸性基含有エチレン性不飽和単量体を共重合したアルカリ可溶性樹脂が好ましい。
また、酸性樹脂は、後述する分散剤として感光性組成物中に含まれていてもよい。
The acidic resin is preferably an alkali-soluble resin copolymerized with an acidic group-containing ethylenically unsaturated monomer.
The acidic resin may be contained in the photosensitive composition as a dispersant, which will be described later.

酸性基含有エチレン性不飽和単量体を共重合したアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、カルボキシ基、スルホン基等の酸性基を有する樹脂が挙げられる。アルカリ可溶性樹脂として具体的には、酸性基を有するアクリル樹脂、α-オレフィン/(無水)マレイン酸共重合体、スチレン/スチレンスルホン酸共重合体、エチレン/(メタ)アクリル酸共重合体、又はイソブチレン/(無水)マレイン酸共重合体等が挙げられる。中でも、酸性基を有するアクリル樹脂、及びスチレン/スチレンスルホン酸共重合体からなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂、特に酸性基を有するアクリル樹脂は、耐熱性、透明性が高いため、好適に用いられる。 Examples of alkali-soluble resins copolymerized with acidic group-containing ethylenically unsaturated monomers include resins having acidic groups such as carboxy groups and sulfone groups. Specifically, the alkali-soluble resin includes an acrylic resin having an acidic group, an α-olefin/(anhydrous) maleic acid copolymer, a styrene/styrene sulfonic acid copolymer, an ethylene/(meth)acrylic acid copolymer, or Examples include isobutylene/(anhydrous) maleic acid copolymer. Among them, at least one resin selected from the group consisting of acrylic resins having acidic groups and styrene/styrene sulfonic acid copolymers, particularly acrylic resins having acidic groups, is preferably used because of its high heat resistance and transparency. used.

酸性基含有エチレン性不単量体を共重合したアルカリ可溶性樹脂の光感度を向上させるために、エチレン性不飽和活性二重結合を有するエネルギー線硬化性樹脂を用いることもできる。また、側鎖にエチレン性不飽和二重結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂を用いると、諸耐性の観点から好ましい。 In order to improve the photosensitivity of an alkali-soluble resin copolymerized with an acidic group-containing ethylenic nonmonomer, an energy ray-curable resin having an ethylenically unsaturated active double bond can also be used. In addition, the use of an active energy ray-curable resin having an ethylenically unsaturated double bond in the side chain is preferable from the viewpoint of various resistances.

エチレン性不飽和二重結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂としては、例えば以下に示す(a)や(b)の方法により不飽和エチレン性二重結合を導入した樹脂が挙げられる。 Examples of active energy ray-curable resins having ethylenically unsaturated double bonds include resins into which unsaturated ethylenically double bonds are introduced by methods (a) and (b) shown below.

[方法(a)]
方法(a)として、エポキシ基を有する不飽和エチレン性単量体と、他の1種類以上の単量体とを共重合することによって得られた共重合体の側鎖エポキシ基に、不飽和エチレン性二重結合を有する不飽和一塩基酸のカルボキシ基を付加反応させ、更に、生成したヒドロキシ基に、多塩基酸無水物を反応させ、不飽和エチレン性二重結合及びカルボキシ基を導入する方法がある。
[Method (a)]
Method (a) includes a method in which an unsaturated ethylenic monomer having an epoxy group is copolymerized with one or more other monomers to obtain a copolymer, and a carboxy group of an unsaturated monobasic acid having an unsaturated ethylenic double bond is subjected to an addition reaction with the side-chain epoxy group of the copolymer, and further, a polybasic acid anhydride is reacted with the resulting hydroxy group to introduce an unsaturated ethylenic double bond and a carboxy group.

エポキシ基を有する不飽和エチレン性単量体としては、例えば、グリシジル(メタ)アクリレート、メチルグリシジル(メタ)アクリレート、2-グリシドキシエチル(メタ)アクリレート、3,4エポキシブチル(メタ)アクリレート、及び3,4エポキシシクロヘキシル(メタ)アクリレートが挙げられ、これらは、単独で用いても、2種類以上を併用してもよい。次工程の不飽和一塩基酸との反応性の観点で、グリシジル(メタ)アクリレートが好ましい。 Examples of the unsaturated ethylenic monomer having an epoxy group include glycidyl (meth)acrylate, methylglycidyl (meth)acrylate, 2-glycidoxyethyl (meth)acrylate, 3,4 epoxybutyl (meth)acrylate, and 3,4 epoxycyclohexyl (meth)acrylate, which may be used alone or in combination of two or more. From the viewpoint of reactivity with the unsaturated monobasic acid in the next step, glycidyl (meth)acrylate is preferred.

不飽和一塩基酸としては、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、o-、m-、p-ビニル安息香酸、(メタ)アクリル酸のα位ハロアルキル、アルコキシル、ハロゲン、ニトロ、シアノ置換体等のモノカルボン酸等が挙げられ、これらは、単独で用いても、2種類以上を併用してもよい。 Examples of unsaturated monobasic acids include monocarboxylic acids such as (meth)acrylic acid, crotonic acid, o-, m-, and p-vinylbenzoic acid, and (meth)acrylic acid substituted with haloalkyl, alkoxyl, halogen, nitro, or cyano at the α-position. These may be used alone or in combination of two or more.

多塩基酸無水物としては、テトラヒドロ無水フタル酸、無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸等が挙げられ、これらは単独で用いても、2種類以上を併用してもよい。カルボキシ基の数を増やすため、必要に応じて、トリメリット酸無水物等のトリカルボン酸無水物を用いたり、ピロメリット酸二無水物等のテトラカルボン酸二無水物を用いて、残った無水物基を加水分解したりすることもできる。また、多塩基酸無水物として、不飽和エチレン性二重結合を有する、エトラヒドロ無水フタル酸、又は無水マレイン酸を用いると、更に不飽和エチレン性二重結合を増やすことができる。 Examples of polybasic acid anhydrides include tetrahydrophthalic anhydride, phthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, succinic anhydride, maleic anhydride, and these may be used alone or in combination of two or more. good. To increase the number of carboxyl groups, if necessary, use a tricarboxylic anhydride such as trimellitic anhydride or a tetracarboxylic dianhydride such as pyromellitic dianhydride to remove the remaining anhydride. It is also possible to hydrolyze the group. Moreover, when etrahydrophthalic anhydride or maleic anhydride, which has unsaturated ethylenic double bonds, is used as the polybasic acid anhydride, the number of unsaturated ethylenic double bonds can be further increased.

方法(a)の類似の方法として、例えば、カルボキシ基を有する不飽和エチレン性単量体と、他の1種類以上の単量体とを共重合することによって得られた共重合体の側鎖カルボキシ基の一部に、エポキシ基を有する不飽和エチレン性単量体を付加反応させ、不飽和エチレン性二重結合及びカルボキシ基を導入する方法がある。 A method similar to method (a) is, for example, a method in which an unsaturated ethylenic monomer having an epoxy group is added to some of the side chain carboxy groups of a copolymer obtained by copolymerizing an unsaturated ethylenic monomer having a carboxy group with one or more other monomers, thereby introducing an unsaturated ethylenic double bond and a carboxy group.

[方法(b)]
方法(b)として、ヒドロキシ基を有する不飽和エチレン性単量体を使用し、他のカルボキシ基を有する不飽和一塩基酸の単量体や、他の単量体とを共重合することによって得られた共重合体の側鎖ヒドロキシ基に、イソシアネート基を有する不飽和エチレン性単量体のイソシアネート基を反応させる方法がある。
[Method (b)]
As method (b), by using an unsaturated ethylenic monomer having a hydroxy group and copolymerizing it with another unsaturated monobasic acid monomer having a carboxy group or other monomers. There is a method in which the side chain hydroxy groups of the obtained copolymer are reacted with an isocyanate group of an unsaturated ethylenically monomer having an isocyanate group.

ヒドロキシ基を有する不飽和エチレン性単量体としては、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-若しくは3-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-若しくは3-若しくは4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)ア
クリレート、又はシクロヘキサンジメタノールモノ(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類が挙げられ、これらは、単独で用いても、2種類以上を併用してもよい。また、上記ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートに、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、及び/又はブチレンオキシド等を付加重合させたポリエーテ
ルモノ(メタ)アクリレートや、(ポリ)γ-バレロラクトン、(ポリ)ε-カプロラクトン、及び/又は(ポリ)12-ヒドロキシステアリン酸等を付加した(ポリ)エステルモノ(メタ)アクリレートも使用できる。塗膜異物抑制の観点から、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、又はグリセロール(メタ)アクリレートが好ましい。
Examples of the unsaturated ethylenically monomer having a hydroxy group include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2- or 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2- or 3- or 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, Examples include hydroxyalkyl (meth)acrylates such as glycerol (meth)acrylate and cyclohexanedimethanol mono(meth)acrylate, and these may be used alone or in combination of two or more. In addition, polyether mono(meth)acrylate obtained by addition polymerizing ethylene oxide, propylene oxide, and/or butylene oxide, etc. to the above hydroxyalkyl (meth)acrylate, (poly)γ-valerolactone, (poly)ε-caprolactone, etc. , and/or (poly)ester mono(meth)acrylate to which (poly)12-hydroxystearic acid or the like is added can also be used. From the viewpoint of suppressing coating film foreign matter, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate or glycerol (meth)acrylate is preferred.

イソシアネート基を有する不飽和エチレン性単量体としては、2-(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート、又は1,1-ビス〔(メタ)アクリロイルオキシ〕エチルイソシアネート等が挙げられるが、これらに限定することなく、2種類以上併用することもできる。 Examples of unsaturated ethylenic monomers having an isocyanate group include 2-(meth)acryloyloxyethyl isocyanate and 1,1-bis[(meth)acryloyloxy]ethyl isocyanate, but are not limited to these and two or more types can be used in combination.

バインダー樹脂の重量平均分子量(Mw)は、着色剤を好ましく分散させるためには、10,000~100,000の範囲が好ましく、より好ましくは10,000~80,000の範囲である。また数平均分子量(Mn)は5,000~50,000の範囲が好ましく、Mw/Mnの値は10以下であることが好ましい。 The weight average molecular weight (Mw) of the binder resin is preferably in the range of 10,000 to 100,000, more preferably in the range of 10,000 to 80,000, in order to preferably disperse the colorant. Further, the number average molecular weight (Mn) is preferably in the range of 5,000 to 50,000, and the value of Mw/Mn is preferably 10 or less.

(分散剤)
分散剤は、感光性組成物中で顔料を分散安定化し分散後の再凝集を防止するはたらきをするものであり、分光透過率の高い膜が得られる。分散剤としては、樹脂型分散剤、色素誘導体、樹脂型分散剤、界面活性剤等が挙げられる。
(Dispersant)
The dispersant functions to disperse and stabilize the pigment in the photosensitive composition and to prevent re-aggregation after dispersion, thereby obtaining a film with high spectral transmittance. Examples of the dispersant include resin-type dispersants, dye derivatives, resin-type dispersants, surfactants, etc.

本発明の感光性組成物は、樹脂型分散剤として塩基性樹脂型分散剤を含有する。塩基性樹脂型分散剤とは、その構造中に塩基性部位を有している樹脂型分散剤を意味する。イソインドリン顔料は、塩基性樹脂型分散剤と親和性があり、非常に効果的に分散することができる。 The photosensitive composition of the present invention contains a basic resin-type dispersant as a resin-type dispersant. The basic resin type dispersant means a resin type dispersant having a basic site in its structure. Isoindoline pigments have an affinity for basic resin type dispersants and can be dispersed very effectively.

《樹脂型分散剤》
樹脂型分散剤は、顔料に吸着する性質を有する顔料親和性部位と、着色剤担体と相溶性のある部位とを有し、添加顔料に吸着して着色剤担体への分散を安定化するはたらきをするものである。
樹脂型分散剤として具体的には、ポリウレタン、ポリアクリレート等のポリカルボン酸エステル、不飽和ポリアミド、ポリカルボン酸、ポリカルボン酸(部分)アミン塩、ポリカルボン酸アンモニウム塩、ポリカルボン酸アルキルアミン塩、ポリシロキサン、長鎖ポリアミノアマイドリン酸塩、水酸基含有ポリカルボン酸エステルや、これらの変性物、ポリ(低級アルキレンイミン)と遊離のカルボキシ基を有するポリエステルとの反応により形成されたアミドやその塩等の油性分散剤、(メタ)アクリル酸-スチレン共重合体、(メタ)アクリル酸-(メタ)アクリル酸エステル共重合体、スチレン-マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等の水溶性樹脂や水溶性高分子化合物、ポリエステル系、変性ポリアクリレート系、エチレンオキサイド/プロピレンオキサイド付加化合物、リン酸エステル系等が用いられ、これらは単独又は2種以上を混合して用いることができるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
Resin-type dispersant
The resin-type dispersant has a pigment-affinity portion that has the property of being adsorbed to the pigment, and a portion that is compatible with the colorant carrier, and functions to adsorb to the added pigment and stabilize the dispersion in the colorant carrier.
Specifically, as the resin type dispersant, polyurethane, polycarboxylate esters such as polyacrylate, unsaturated polyamides, polycarboxylic acids, polycarboxylate (partial) amine salts, polycarboxylate ammonium salts, polycarboxylate alkylamine salts, polysiloxanes, long-chain polyaminoamide phosphates, hydroxyl group-containing polycarboxylate esters, and modified products thereof, poly (lower alkylene imine) and free carboxyl group-containing polyesters formed by reaction with amides and their salts, oil-based dispersants such as amides and their salts, (meth)acrylic acid-styrene copolymers, (meth)acrylic acid-(meth)acrylic acid ester copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyvinyl alcohol, water-soluble resins such as polyvinylpyrrolidone and water-soluble polymer compounds, polyesters, modified polyacrylates, ethylene oxide / propylene oxide adducts, phosphate esters, and the like are used, which can be used alone or in a mixture of two or more, but are not necessarily limited to these.

市販の樹脂型分散剤としては、ビックケミー・ジャパン社製のDisperbyk-101、103、107、108、110、111、116、130、140、154、161、162、163、164、165、166、170、171、174、180、181、182、183、184、185、190、2000、2001、2020、2025、2050、2070、2095、2150、2155又はAnti-Terra-U、203、204、又はBYK-P104、P104S、220S、6919、又はLactimon、Lactimon-WS又はBykumen等、日本ルーブリゾール社製のSOLSPERSE-3000、9000、13000、13240、13650、13940、16000、17000、18000、20000、21000、2400
0、26000、27000、28000、31845、32000、32500、32550、33500、32600、34750、35100、36600、38500、41000、41090、53095、55000、76500等、BASFジャパン社製のEFKA-46、47、48、452、4008、4009、4010、4015、4020、4047、4050、4055、4060、4080、4400、4
401、4402、4403、4406、4408、4300、4310、4320、4330、4340、450、451、453、4540、4550、4560、4800、5010、5065、5066、5070、7500、7554、1101、120、150、1501、1502、1503、等、味の素ファインテクノ社製のアジスパーPA111、PB711、PB821、PB822、PB824等が挙げられる。
市販の塩基性樹脂型分散剤としては、たとえばビックケミー・ジャパン社製のBYK-6919、日本ルーブリゾール社製のSOLSPERSE-76500、BASFジャパン社製のEFKA-4300、味の素ファインテクノ社製のアジスパーPB821が挙げられる。
Commercially available resin-type dispersants include Disperbyk-101, 103, 107, 108, 110, 111, 116, 130, 140, 154, 161, 162, 163, 164, 165, 166, 170, 171, 174, 180, 181, 182, 183, 184, 185, 190, 2000, 2001, 2020, 2025, 2050, 2070, 2095, 21 50, 2155, Anti-Terra-U, 203, 204, BYK-P104, P104S, 220S, 6919, Lactimon, Lactimon-WS, Bykumen, etc., SOLSPERSE-3000, 9000, 13000, 13240, 13650, 13940, 16000, 17000, 18000, 20000, 21000, 2400 manufactured by Lubrizol Japan Co., Ltd.
EFKA-46, 47, 48, 452, 4008, 4009, 4010, 4015, 4020, 4047, 4050, 4055, 4060, 4080, 4400, 452, 40 ...
401, 4402, 4403, 4406, 4408, 4300, 4310, 4320, 4330, 4340, 450, 451, 453, 4540, 4550, 4560, 4800, 5010, 5065, 5066, 5070, 7500, 7554, 1101, 120, 150, 1501, 1502, 1503, etc., and Ajisper PA111, PB711, PB821, PB822, PB824, etc. manufactured by Ajinomoto Fine-Techno Co., Ltd.
Examples of commercially available basic resin-type dispersants include BYK-6919 manufactured by BYK Japan, SOLSPERSE-76500 manufactured by Lubrizol Japan, EFKA-4300 manufactured by BASF Japan, and AJISPER PB821 manufactured by Ajinomoto Fine-Techno Co., Ltd.

《ブロックアクリル型塩基性分散剤》
本発明の感光性組成物においては、塩基性樹脂型分散剤として、ブロックアクリル型塩基性分散剤を用いることが好ましい。ブロックアクリル型塩基性分散剤とは、塩基性基を有するブロックタイプのアクリル重合体である。中でも、一方のブロックが塩基性基を有するエチレン性不飽和単量体の重合体であり、他方のブロックが塩基性基を有しないエチレン性不飽和単量体の重合体であるものがより好ましい。
《Block acrylic basic dispersant》
In the photosensitive composition of the present invention, it is preferable to use a block acrylic type basic dispersant as the basic resin type dispersant. The block acrylic basic dispersant is a block type acrylic polymer having a basic group. Among these, it is more preferable that one block is a polymer of an ethylenically unsaturated monomer having a basic group and the other block is a polymer of an ethylenically unsaturated monomer having no basic group. .

ブロックアクリル型塩基性分散剤がAB型ブロックの場合、より好ましい様態は上記の通りであるが、BAB型ブロックの場合、Aブロックが塩基性基を有するエチレン性不飽和単量体の重合体であり、Bブロックが塩基性基を有しないエチレン性不飽和単量体の重合体であるものがより好ましい。 When the block acrylic type basic dispersant is an AB type block, a more preferable embodiment is as described above, but in the case of a BAB type block, the A block is a polymer of ethylenically unsaturated monomers having a basic group. It is more preferable that the B block is a polymer of ethylenically unsaturated monomers having no basic group.

樹脂型分散剤としてブロックアクリル型塩基性分散剤を用いることにより、塩基性基を有するブロックが顔料の表面に吸着し、塩基性基を有しないもう一方のブロックが溶媒との親和性を保ちつつ立体障害のはたらきをすることで、良好な分散性を発現すると考えられる。 By using a block acrylic basic dispersant as a resin type dispersant, the block with a basic group adsorbs to the surface of the pigment, while the other block without a basic group maintains its affinity with the solvent. It is thought that good dispersibility is achieved by acting as a steric hindrance.

一般的に、樹脂型分散剤は色素誘導体を併用することで良好な分散性を得られる傾向にあるが、ブロックアクリル型塩基性分散剤を用いた場合、上記のメカニズムにより色素誘導体がなくても良好な分散性が得られることが多い。そして、色素誘導体は、本発明で使用する顔料とは異なる分光を有することが多いため、色素誘導体を用いないほうが、感光性組成物としてより高い屈折率を発現させることができる。 In general, resin-type dispersants tend to achieve good dispersibility when used in combination with dye derivatives, but when block acrylic-type basic dispersants are used, they can be used without dye derivatives due to the above mechanism. Good dispersibility is often obtained. Since the dye derivative often has a different spectrum from the pigment used in the present invention, the photosensitive composition can exhibit a higher refractive index by not using the dye derivative.

塩基性基を有するエチレン性不飽和単量体としては、3級アミノ基を有するエチレン性不飽和単量体、4級アンモニウム塩を有するエチレン性不飽和単量体が好ましく、これらを併用することが特に好ましい。 As the ethylenically unsaturated monomer having a basic group, an ethylenically unsaturated monomer having a tertiary amino group and an ethylenically unsaturated monomer having a quaternary ammonium salt are preferable, and these may be used in combination. is particularly preferred.

3級アミノ基を有するエチレン性不飽和単量体としては、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート、ジプロピルアミノエチルメタクリレートが挙げられ、4級アンモニウム塩基を有するエチレン性不飽和単量体としては、メタクリル酸ジメチルアミノエチルメチルクロライド塩、メタクリル酸ジメチルアミノエチルベンジルクロライド塩、メタクリル酸ジメチルアミノエチルプロピルクロライド塩、メタクリル酸ジメチルアミノエチルブチルクロライド塩、メタクリル酸ジエチルアミノエチルメチルクロライド塩、メタクリル酸ジエチルアミノエチルベンジルクロライド塩、メタクリル酸ジエメチルアミノエチルプロピルクロライド塩、メタクリル酸ジエチルアミノエチル
ブチルクロライド塩、アクリル酸ジメチルアミノエチルメチルクロライド塩、アクリル酸ジメチルアミノエチルベンジルクロライド塩、アクリル酸ジメチルアミノエチルプロピルクロライド塩、アクリル酸ジメチルアミノエチルブチルクロライド塩等が挙げられる。
Examples of ethylenically unsaturated monomers having a tertiary amino group include dimethylaminoethyl methacrylate, diethylaminoethyl methacrylate, and dipropylaminoethyl methacrylate, and examples of ethylenically unsaturated monomers having a quaternary ammonium group include: Methacrylic acid dimethylaminoethyl methyl chloride salt, methacrylic acid dimethylaminoethylbenzyl chloride salt, methacrylic acid dimethylaminoethylpropyl chloride salt, methacrylic acid dimethylaminoethylbutyl chloride salt, methacrylic acid diethylaminoethylmethyl chloride salt, methacrylic acid diethylaminoethylbenzyl chloride salt salt, methacrylic acid diethylaminoethylpropyl chloride salt, methacrylic acid diethylaminoethylbutyl chloride salt, acrylic acid dimethylaminoethylmethyl chloride salt, acrylic acid dimethylaminoethylbenzyl chloride salt, acrylic acid dimethylaminoethylpropyl chloride salt, dimethyl acrylate Examples include aminoethyl butyl chloride salt.

塩基性基を有するエチレン性不飽和単量体として、3級アミノ基を有するエチレン性不飽和単量体と4級アンモニウム塩を有するエチレン性不飽和単量体を併用する場合、ブロックアクリル型塩基性分散剤の代表的な合成方法は2つ挙げられる。 When an ethylenically unsaturated monomer having a tertiary amino group and an ethylenically unsaturated monomer having a quaternary ammonium salt are used together as the ethylenically unsaturated monomer having a basic group, a block acrylic base is used. There are two typical methods for synthesizing dispersants.

1つ目の方法は、これらのエチレン性不飽和単量体を別々に合成して、塩基性基を有するブロックを重合する際に、これらを混合して使用する方法である。 The first method is to synthesize these ethylenically unsaturated monomers separately and then mix them together when polymerizing the block having a basic group.

2つ目の方法は、3級アミノ基を有するエチレン性不飽和単量体を用いて塩基性基を有するブロックを重合し、塩基性基を有しないもう一方のブロックも重合させて、ブロック重合を終えた後、塩化ベンジルのような4級化剤と反応させて、3級アミノ基の一部を4級アンモニウム塩にする方法である。4級化剤としては、例えば、塩化ベンジル、ヨードブタン、ヨードプロパン、ヨードエタン、ブロモブタン、ブロモプロパン、ブロモエタン、クロロブタンのようなハロゲン化アルキルが挙げられる。
3級アミノ基を有するエチレン性不飽和単量体、4級アンモニウム塩を有するエチレン性不飽和単量体は、分子内にアミド結合を有するものであると、有機顔料の表面に吸着しやすく、より高い分散性が得られるため好ましい。
The second method is to polymerize a block having a basic group using an ethylenically unsaturated monomer having a tertiary amino group, polymerize the other block having no basic group, and after completing the block polymerization, react with a quaternizing agent such as benzyl chloride to convert a part of the tertiary amino group into a quaternary ammonium salt. Examples of the quaternizing agent include alkyl halides such as benzyl chloride, iodobutane, iodopropane, iodoethane, bromobutane, bromopropane, bromoethane, and chlorobutane.
The ethylenically unsaturated monomer having a tertiary amino group and the ethylenically unsaturated monomer having a quaternary ammonium salt are preferably those having an amide bond in the molecule, since they are easily adsorbed to the surface of the organic pigment and can provide higher dispersibility.

ブロックポリマーの合成は、例えば、先にAブロックを合成し、その後にBブロックを合成することで、A-Bブロックポリマーを製造できる。また、まず、Bブロックを合成し、次いでAブロックを合成し、さらにBブロックを合成することでB-A-Bブロックポリマーを製造できる。なお、Aブロック及びBブロックの合成順は任意である。 When synthesizing a block polymer, for example, an A-B block polymer can be produced by first synthesizing the A block and then the B block. Alternatively, a B-A-B block polymer can be produced by first synthesizing the B block, then the A block, and then the B block. The order in which the A block and the B block are synthesized is arbitrary.

リビングラジカル重合に使用するラジカル重合開始剤は、アゾ系化合物、過酸化物が好ましい。 The radical polymerization initiator used in living radical polymerization is preferably an azo compound or a peroxide.

アゾ系化合物としては、例えば、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、2,2’-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)、2、2’-アゾビス(イソ酪酸メチル)、1,1’-アゾビス(シクロヘキサン1-カルボニトリル)、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチル-4-メトキシバレロニトリル)、ジメチル2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオネート)、4,4’-アゾビス(4-シアノバレリック酸)、2,2’-アゾビス(2-ヒドロキシメチルプロピオニトリル)、又は2,2’-アゾビス[2-(2-イミダゾリン-2-イル)プロパン]が挙げられる。 Examples of azo compounds include 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis(2-methylbutyronitrile), 2,2'-azobis(methyl isobutyrate), 1,1'-azobis(cyclohexane-1-carbonitrile), 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis(2,4-dimethyl-4-methoxyvaleronitrile), dimethyl 2,2'-azobis(2-methylpropionate), 4,4'-azobis(4-cyanovaleric acid), 2,2'-azobis(2-hydroxymethylpropionitrile), and 2,2'-azobis[2-(2-imidazolin-2-yl)propane].

過酸化物としては、例えば、過酸化ベンゾイル、t-ブチルパーベンゾエイト、クメンヒドロパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ-n-プロピルパーオキシジカーボネート、ジ(2-エトキシエチル)パーオキシジカーボネート、t-ブチルパーオキシネオデカノエート、t-ブチルパーオキシビバレート、(3,5,5-トリメチルヘキサノイル)パーオキシド、ジプロピオニルパーオキシド、又はジアセチルパーオキシドが挙げられる。重合開始剤は、単独で用いても、2種類以上を併用してもよい。 Examples of peroxides include benzoyl peroxide, t-butyl perbenzoate, cumene hydroperoxide, diisopropyl peroxydicarbonate, di-n-propyl peroxydicarbonate, di(2-ethoxyethyl)peroxydicarbonate, t-butyl peroxyneodecanoate, t-butyl peroxypivalate, (3,5,5-trimethylhexanoyl)peroxide, dipropionyl peroxide, and diacetyl peroxide. The polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more kinds.

重合の反応温度は、40~150℃が好ましく、50~110℃がより好ましい。反応時間は、3~30時間が好ましく、5~20時間がより好ましい。 The polymerization reaction temperature is preferably 40 to 150°C, more preferably 50 to 110°C. The reaction time is preferably 3 to 30 hours, more preferably 5 to 20 hours.

リビングラジカル重合は、公知の重合法で行うことができるところ、RAFT重合(可逆的付加開裂連鎖移動重合)が好ましい。RAFT重合は、RAFT剤の存在下、モノマー
をラジカル重合する方法であり、ポリマーの分子量及び分子量分布を制御しやすい。
Living radical polymerization can be performed by any known polymerization method, but RAFT polymerization (reversible addition-fragmentation chain transfer polymerization) is preferred. RAFT polymerization is a method of radically polymerizing monomers in the presence of a RAFT agent, and it is easy to control the molecular weight and molecular weight distribution of the polymer.

RAFT剤は、連鎖移動効果、及び重合開始効果を有する化合物であり、例えば、ジチオベンゾエート型、トリチオカーボネート型、ジチオカルバメート型、キサンテト型、これらの前駆体であるジスルフィド型が挙げられる。 The RAFT agent is a compound having a chain transfer effect and a polymerization initiation effect, and includes, for example, a dithiobenzoate type, a trithiocarbonate type, a dithiocarbamate type, a xanthet type, and a disulfide type which is a precursor thereof.

ジチオベンゾエート型としては、例えば、ジチオ安息香酸2-シアノ-2-プロピル、4-シアノ-4-(チオベンゾイルチオ)ペンタン酸、ベンゾジチオ酸2-フェニル-2-プロピルが挙げられる。 Examples of the dithiobenzoate type include 2-cyano-2-propyl dithiobenzoate, 4-cyano-4-(thiobenzoylthio)pentanoic acid, and 2-phenyl-2-propyl benzodithioate.

トリチオカーボネート型としては、例えば、4-[(2-カルボキシエチルスルファニルチオカルボニル)スルファニル]-4-シアノペンタン酸、2-{[(2-カルボキシエ
チル)スルファニルチオカルボニル]スルファニル}プロパン酸、4-シアノ-4-[(
ドデシルスルファニルチオカルボニル)スルファニル]ペンタン酸、2-シアノ-2-[
(ドデシルスルファニルチオカルボニル)スルファニル]プロパン、2-[(ドデシルス
ルファニルチオカルボニル)スルファニル]プロパン酸、4-シアノ-4-[(ドデシルスルファニルチオカルボニル)スルファニル]ペンタン酸メチル、2-メチル-2-[(ドデシルスルファニルチオカルボニル)スルファニル]プロパン酸、S,S-ジベンジルトリ
チオ炭酸、トリチオ炭酸=ビス[4-(アリルオキシカルボニル)ベンジル]、トリチオ炭酸=ビス[4-(2,3-ジヒドロキシプロポキシカルボニル)ベンジル]、トリチオ
炭酸=ビス{4-[エチル-(2-アセチルオキシエチル)カルバモイル]ベンジル}、トリチオ炭酸ビス{4-[エチル-(2-ヒドロキシエチル)カルバモイル]ベンジル}、トリチオ炭酸=ビス[4-(2-ヒドロキシエトキシカルボニル)ベンジル]が挙げられる。
Examples of the trithiocarbonate type include 4-[(2-carboxyethylsulfanylthiocarbonyl)sulfanyl]-4-cyanopentanoic acid, 2-{[(2-carboxyethyl)sulfanylthiocarbonyl]sulfanyl}propanoic acid, -Cyano-4-[(
dodecylsulfanylthiocarbonyl)sulfanyl]pentanoic acid, 2-cyano-2-[
(dodecylsulfanylthiocarbonyl)sulfanyl]propane, 2-[(dodecylsulfanylthiocarbonyl)sulfanyl]propanoic acid, methyl 4-cyano-4-[(dodecylsulfanylthiocarbonyl)sulfanyl]pentanoate, 2-methyl-2-[ (dodecylsulfanylthiocarbonyl)sulfanyl]propanoic acid, S,S-dibenzyltrithiocarbonate, trithiocarbonate = bis[4-(allyloxycarbonyl)benzyl], trithiocarbonate = bis[4-(2,3-dihydroxypropoxy) carbonyl)benzyl], trithiocarbonic acid = bis{4-[ethyl-(2-acetyloxyethyl)carbamoyl]benzyl}, trithiocarbonic acid bis{4-[ethyl-(2-hydroxyethyl)carbamoyl]benzyl}, trithiocarbonic acid = Bis[4-(2-hydroxyethoxycarbonyl)benzyl] is mentioned.

ジチオカルバメート型としては、例えば、4-クロロ-3,5-ジメチルピラゾ-ル-1
-カルボジチオ酸2'-シアノブタン-2'-イル、3,5-ジメチルピラゾ-ル-1-カ
ルボジチオ酸2'-シアノブタン-2'-イル、3,5-ジメチルピラゾ-ル-1-カルボ
ジチオ酸シアノメチル、N-メチル-N-フェニルジチオカルバミン酸シアノメチルが挙げられる。
As the dithiocarbamate type, for example, 4-chloro-3,5-dimethylpyrazole-1
Examples of such compounds include 2'-cyanobutan-2'-yl 3,5-dimethylpyrazole-1-carbodithioate, 2'-cyanobutan-2'-yl 3,5-dimethylpyrazole-1-carbodithioate, cyanomethyl 3,5-dimethylpyrazole-1-carbodithioate, and cyanomethyl N-methyl-N-phenyldithiocarbamate.

ジスルフィド型としては、例えば、ビス(ドデシルスルファニルチオカルボニル)ジスルフィド、ビス(チオベンゾイル)ジスルフィドが挙げられる。これらはA-Bブロックポリマーの製造に好ましい。 Examples of the disulfide type include bis(dodecylsulfanylthiocarbonyl) disulfide and bis(thiobenzoyl) disulfide. These are preferred for the production of AB block polymers.

これらの中でも、合成時の反応制御が容易なトリチオカーボネート型化合物が好ましく、4-シアノ-4-[(ドデシルスルファニルチオカルボニル)スルファニル]ペンタン酸、2-シアノ-2-[(ドデシルスルファニルチオカルボニル)スルファニル]プロパン、4-シアノ-4-[(ドデシルスルファニルチオカルボニル)スルファニル]ペンタン酸メチル、トリチオ炭酸ビス{4-[エチル-(2-ヒドロキシエチル)カルバモイル]ベ
ンジル}、ビス(ドデシルスルファニルチオカルボニル)ジスルフィドがより好ましい。
Among these, trithiocarbonate type compounds are preferred because they are easy to control the reaction during synthesis; ) sulfanyl]propane, methyl 4-cyano-4-[(dodecylsulfanylthiocarbonyl)sulfanyl]pentanoate, bis{4-[ethyl-(2-hydroxyethyl)carbamoyl]benzyl} trithiocarbonate}, bis(dodecylsulfanylthiocarbonyl) ) Disulfide is more preferred.

RAFT剤の使用量は、モノマー100質量部に対して、0.1~10質量部が好ましい。 The amount of RAFT agent used is preferably 0.1 to 10 parts by mass per 100 parts by mass of monomer.

ブロックアクリル型塩基性分散剤の合成においては、有機溶剤を用いることが好ましい。有機溶剤としては、例えば、酢酸エチル、酢酸n-ブチル、酢酸イソブチル、トルエン、キシレン、アセトン、ヘキサン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ
ブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、又はジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートが挙げられる。有機溶剤は、単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。
In the synthesis of the block acrylic basic dispersant, it is preferable to use an organic solvent. Examples of organic solvents include ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, toluene, xylene, acetone, hexane, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, propylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, Examples include ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, or diethylene glycol monobutyl ether acetate. The organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

(酸性樹脂型分散剤)
酸性樹脂型分散剤とは、構造中に酸性基を有している樹脂型分散剤のことである。感光性組成物は、分散剤として、酸価が30~140mgKOH/gの酸性樹脂を含有してもよい。酸性樹脂の含有量は、感光性組成物における固形分の全質量を基準として5質量%以上であり、40質量%以下であることが好ましい。酸性樹脂型分散剤が少なすぎてもアルカリ可溶性を付与する効果は乏しく、多すぎると固形分中の顔料濃度が低くなり、屈折率が低くなってしまう傾向にある。また、酸価が低すぎてもアルカリ可溶性の効果が乏しく、酸価が高すぎると塩基性樹脂型分散剤と強く相互作用することで異物発生の要因となり得る。
(Acidic resin type dispersant)
The acidic resin-type dispersant is a resin-type dispersant having an acidic group in its structure. The photosensitive composition may contain an acidic resin having an acid value of 30 to 140 mgKOH/g as a dispersant. The content of the acidic resin is preferably 5% by mass or more and 40% by mass or less based on the total mass of the solid content in the photosensitive composition. If the amount of the acidic resin-type dispersant is too small, the effect of imparting alkali solubility is poor, and if the amount is too large, the pigment concentration in the solid content tends to be low and the refractive index tends to be low. In addition, if the acid value is too low, the effect of alkali solubility is poor, and if the acid value is too high, it may cause foreign matter generation due to strong interaction with the basic resin-type dispersant.

例えば、酸性樹脂型分散剤として、下記(S1)又は(S2)を含有することも好ましい。
(S1)水酸基を有する重合体の水酸基と、トリカルボン酸無水物及び/又はテトラカルボン酸二無水物の酸無水物基との反応生成物である樹脂型分散剤。
(S2)水酸基を有する化合物の水酸基と、トリカルボン酸無水物及び/又はテトラカルボン酸二無水物の酸無水物基との反応生成物の存在下に、エチレン性不飽和単量体を重合した重合体である樹脂型分散剤。
For example, it is also preferable to contain the following (S1) or (S2) as an acidic resin type dispersant.
(S1) A resin-type dispersant which is a reaction product of a hydroxyl group of a polymer having a hydroxyl group and an acid anhydride group of a tricarboxylic anhydride and/or a tetracarboxylic dianhydride.
(S2) A polymer obtained by polymerizing ethylenically unsaturated monomers in the presence of a reaction product between the hydroxyl group of a compound having a hydroxyl group and the acid anhydride group of tricarboxylic anhydride and/or tetracarboxylic dianhydride. A resin-type dispersant that is a combination.

[樹脂型分散剤(S1)]
樹脂型分散剤(S1)は、WO2008/007776号公報、特開2008-029901号公報、特開2009-155406号公報等の公知の方法で製造することができる。水酸基を有する重合体(p)は、末端に水酸基を有する重合体であることが好ましく、例えば、水酸基を有する化合物(q)の存在下に、エチレン性不飽和単量体(r)を重合した重合体として得ることができる。水酸基を有する化合物(q)としては、分子内に水酸基とチオール基を有する化合物であることが好ましい。末端の水酸基は複数であることが好ましいため、中でも、分子内に2つの水酸基と1つのチオール基とを有する化合物(q1)が好適に用いられる。
[Resin type dispersant (S1)]
The resin type dispersant (S1) can be produced by a known method such as WO2008/007776, JP2008-029901, JP2009-155406, and the like. The polymer (p) having a hydroxyl group is preferably a polymer having a hydroxyl group at the terminal. For example, an ethylenically unsaturated monomer (r) is polymerized in the presence of a compound (q) having a hydroxyl group. It can be obtained as a polymer. The compound (q) having a hydroxyl group is preferably a compound having a hydroxyl group and a thiol group in the molecule. Since it is preferable that there be a plurality of terminal hydroxyl groups, a compound (q1) having two hydroxyl groups and one thiol group in the molecule is preferably used.

すなわち、より好ましい一例である、片末端に2つの水酸基を有する重合体は、分子内に2つの水酸基と1つのチオール基とを有する化合物(q1)の存在下に、単量体(r1)を含むエチレン性不飽和単量体(r)を重合した重合体(p1)として得ることができる。水酸基を有する重合体(p)の水酸基は、トリカルボン酸無水物及び/又はテトラカルボン酸二無水物の酸無水物基と反応してエステル結合を形成する一方、無水環は開環し、カルボン酸を生じる。 That is, a more preferred example of a polymer having two hydroxyl groups at one end can be obtained as a polymer (p1) by polymerizing an ethylenically unsaturated monomer (r) including a monomer (r1) in the presence of a compound (q1) having two hydroxyl groups and one thiol group in the molecule. The hydroxyl groups of the polymer (p) having hydroxyl groups react with the acid anhydride groups of the tricarboxylic acid anhydride and/or tetracarboxylic acid dianhydride to form ester bonds, while the anhydride ring opens to produce a carboxylic acid.

[樹脂型分散剤(S2)]
樹脂型分散剤(S2)は、特開2009-155406号公報、特開2010-185934号公報、特開2011-157416号公報等の公知の方法で製造することができ、例えば、水酸基を有する化合物(q)の水酸基と、トリカルボン酸無水物及び/又はテトラカルボン酸二無水物の酸無水物基との反応生成物の存在下に、エチレン性不飽和単量体(r)を重合することで得られる。中でも、分子内に2つの水酸基と1つのチオール基とを有する化合物(q1)の水酸基と、トリカルボン酸無水物及び/又はテトラカルボン酸二無水物の酸無水物基との反応生成物の存在下に、単量体(r1)を含むエチレン性不飽和単量体(r)を重合した重合体であることが好ましい。
[Resin type dispersant (S2)]
The resin type dispersant (S2) can be produced by a known method such as JP-A No. 2009-155406, JP-A No. 2010-185934, and JP-A No. 2011-157416. By polymerizing the ethylenically unsaturated monomer (r) in the presence of a reaction product of the hydroxyl group of (q) and the acid anhydride group of tricarboxylic anhydride and/or tetracarboxylic dianhydride. can get. Among them, in the presence of a reaction product between the hydroxyl group of a compound (q1) having two hydroxyl groups and one thiol group in the molecule and the acid anhydride group of tricarboxylic anhydride and/or tetracarboxylic dianhydride. In addition, it is preferably a polymer obtained by polymerizing an ethylenically unsaturated monomer (r) containing monomer (r1).

(S1)と(S2)は、エチレン性不飽和単量体(r)を重合した重合体部位の導入を先
に行うか後で行うかの違いである。諸条件により分子量等が若干異なることがあるが、原料と反応条件が同じであれば、理論上は同じものができる。
The difference between (S1) and (S2) is whether the polymer site in which the ethylenically unsaturated monomer (r) is polymerized is introduced first or later. The molecular weight etc. may differ slightly depending on various conditions, but if the raw materials and reaction conditions are the same, theoretically the same product can be produced.

樹脂型分散剤は、単独で用いても、2種類以上を併用してもよい。 The resin type dispersant may be used alone or in combination of two or more types.

《色素誘導体》
色素誘導体としては、有機顔料、アントラキノン、アクリドン又はトリアジンに、塩基性置換基、酸性置換基、又は置換基を有していてもよいフタルイミドメチル基を導入した化合物が挙げられ、例えば、特開昭63-305173号公報、特公昭57-15620号公報、特公昭59-40172号公報、特公昭63-17102号公報、特公平5-9469号公報等に記載されているものを使用でき、これらは単独又は2種類以上を混合して用いることができる。
《Pigment derivative》
Examples of pigment derivatives include compounds in which a basic substituent, an acidic substituent, or a phthalimidomethyl group which may have a substituent is introduced into an organic pigment, anthraquinone, acridone, or triazine. Those described in Japanese Patent Publication No. 63-305173, Japanese Patent Publication No. 57-15620, Japanese Patent Publication No. 59-40172, Japanese Patent Publication No. 63-17102, Japanese Patent Publication No. 5-9469, etc. can be used. They can be used alone or in combination of two or more.

色素誘導体の配合量は、顔料の分散性向上の観点から、顔料の全量を基準(100重量%)として、好ましくは0.5重量%以上、さらに好ましくは1重量%以上、最も好ましくは3重量%以上である。また、耐熱性、耐光性の観点から、添加顔料の全量を基準(100重量%)として、好ましくは40重量%以下、さらに好ましくは35重量%以下である。 From the viewpoint of improving pigment dispersibility, the blending amount of the pigment derivative is preferably 0.5% by weight or more, more preferably 1% by weight or more, and most preferably 3% by weight based on the total amount of pigment (100% by weight). % or more. Further, from the viewpoint of heat resistance and light resistance, the amount is preferably 40% by weight or less, more preferably 35% by weight or less, based on the total amount of added pigment (100% by weight).

《界面活性剤》
界面活性剤としては、ラウリル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、スチレン-アクリル酸共重合体のアルカリ塩、ステアリン酸ナトリウム、アルキルナフタリンスルホン酸ナトリウム、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸モノエタノールアミン、ラウリル硫酸トリエタノールアミン、ラウリル硫酸アンモニウム、ステアリン酸モノエタノールアミン、スチレン-アクリル酸共重合体のモノエタノールアミン、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル等のアニオン性界面活性剤;ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリエチレングリコールモノラウレート等のノニオン性界面活性剤;アルキル4級アンモニウム塩やそれらのエチレンオキサイド付加物等のカオチン性界面活性剤;アルキルジメチルアミノ酢酸ベタイン等のアルキルベタイン、アルキルイミダゾリン等の両性界面活性剤が挙げられ、これらは単独で又は2種以上を混合して用いることができる。
《Surfactant》
As surfactants, sodium lauryl sulfate, polyoxyethylene alkyl ether sulfate, sodium dodecylbenzene sulfonate, alkali salt of styrene-acrylic acid copolymer, sodium stearate, sodium alkylnaphthalene sulfonate, sodium alkyl diphenyl ether disulfonate. , anionic surfactants such as monoethanolamine lauryl sulfate, triethanolamine lauryl sulfate, ammonium lauryl sulfate, monoethanolamine stearate, monoethanolamine of styrene-acrylic acid copolymer, and polyoxyethylene alkyl ether phosphate; Nonionic surfactants such as polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyoxyethylene alkyl ether phosphate, polyoxyethylene sorbitan monostearate, polyethylene glycol monolaurate; alkyl Cationic surfactants such as quaternary ammonium salts and their ethylene oxide adducts; amphoteric surfactants such as alkyl betaines such as alkyldimethylaminoacetic acid betaines, and alkylimidazolines; these may be used alone or in combination of two or more. They can be used in combination.

樹脂型分散剤、界面活性剤を添加する場合の配合量は、顔料の全量を基準(100重量%)として、好ましくは0.1~200重量%、さらに好ましくは0.1~150重量%である。樹脂型分散剤、界面活性剤の配合量が上記範囲であることにより、好ましい分散性を発現させることができる。 When a resin-type dispersant or surfactant is added, the amount is preferably 0.1 to 200% by weight, and more preferably 0.1 to 150% by weight, based on the total amount of pigment (100% by weight). By keeping the amount of the resin-type dispersant or surfactant within the above range, favorable dispersibility can be achieved.

<有機溶剤>
本発明の着色組成物には、着色剤を充分に着色剤担体中に分散、浸透させ、高屈折率材料の成形を容易にするために有機溶剤を含有させることができる。
<Organic solvent>
The colored composition of the present invention may contain an organic solvent in order to sufficiently disperse and permeate the coloring agent into the colorant carrier and to facilitate molding of the high refractive index material.

有機溶剤としては、例えば、乳酸エチル、ベンジルアルコール、1,2,3-トリクロロプロパン、1,3-ブタンジオール、1,3-ブチレングリコール、1,3-ブチレングリコールジアセテート、1,4-ジオキサン、2-ヘプタノン、2-メチル-1,3-プロパンジオール、3,5,5-トリメチル-2-シクロヘキセン-1-オン、3,3,5-トリメチルシクロヘキサノン、3-エトキシプロピオン酸エチル、3-メチル-1,3-ブタンジオール、3-メトキシ-3-メチル-1-ブタノール、3-メトキシ-3-
メチルブチルアセテート、3-メトキシブタノール、3-メトキシブチルアセテート、4-ヘプタノン、m-キシレン、m-ジエチルベンゼン、m-ジクロロベンゼン、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、n-ブチルアルコール、n-ブチルベンゼン、n-プロピルアセテート、o-キシレン、o-クロロトルエン、o-ジエチルベンゼン、o-ジクロロベンゼン、p-クロロトルエン、p-ジエチルベンゼン、sec-ブチルベンゼン、tert-ブチルベンゼン、γ-ブチロラクトン、イソブチルアルコール、イソホロン、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチ
ルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノターシャリーブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジイソブチルケトン、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサノール、シクロヘキサノールアセテート、シクロヘキサノン、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ダイアセトンアルコール、トリアセチン、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールフェニルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、ベンジルアルコール、メチルイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノール、酢酸n-アミル、酢酸n-ブチル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、酢酸プロピル、二塩基酸エステルが挙げられる。
Examples of organic solvents include ethyl lactate, benzyl alcohol, 1,2,3-trichloropropane, 1,3-butanediol, 1,3-butylene glycol, 1,3-butylene glycol diacetate, and 1,4-dioxane. , 2-heptanone, 2-methyl-1,3-propanediol, 3,5,5-trimethyl-2-cyclohexen-1-one, 3,3,5-trimethylcyclohexanone, ethyl 3-ethoxypropionate, 3- Methyl-1,3-butanediol, 3-methoxy-3-methyl-1-butanol, 3-methoxy-3-
Methyl butyl acetate, 3-methoxybutanol, 3-methoxybutyl acetate, 4-heptanone, m-xylene, m-diethylbenzene, m-dichlorobenzene, N,N-dimethylacetamide, N,N-dimethylformamide, n-butyl alcohol , n-butylbenzene, n-propyl acetate, o-xylene, o-chlorotoluene, o-diethylbenzene, o-dichlorobenzene, p-chlorotoluene, p-diethylbenzene, sec-butylbenzene, tert-butylbenzene, γ- Butyrolactone, isobutyl alcohol, isophorone, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monotertiary butyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol Monobutyl ether acetate, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monohexyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, diisobutyl ketone, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol monoisopropyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol mono Butyl ether, diethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether, cyclohexanol, cyclohexanol acetate, cyclohexanone, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol methyl ether acetate, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monopropyl Ether, dipropylene glycol monomethyl ether, diacetone alcohol, triacetin, tripropylene glycol monobutyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, propylene glycol diacetate, propylene glycol phenyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene Glycol monobutyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether propionate, benzyl alcohol, methyl isobutyl ketone, methylcyclohexanol, n-amyl acetate, n-butyl acetate, Examples include isoamyl acetate, isobutyl acetate, propyl acetate, and dibasic acid esters.

中でも、顔料の分散性、溶解性が良好なことから、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールアセテート類、ベンジルアルコール等の芳香族アルコール類やシクロヘキサノン等のケトン類を用いることが好ましい。特に、安全衛生面と低粘度化の観点から、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートがより好ましい。 Among them, glycol acetates such as ethyl lactate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, and benzyl are used because they have good pigment dispersibility and solubility. It is preferable to use aromatic alcohols such as alcohols and ketones such as cyclohexanone. In particular, propylene glycol monomethyl ether acetate is more preferred from the viewpoints of safety and hygiene and low viscosity.

これらの有機溶剤は、1種を単独で、若しくは2種以上を混合して用いることができる。2種以上の混合溶剤とする場合、上記の好ましい有機溶剤が65~95重量%含有されていることが好ましい。 These organic solvents can be used alone or in combination of two or more. When using a mixed solvent of two or more, it is preferable that the above preferred organic solvents are contained in an amount of 65 to 95% by weight.

また有機溶剤は、感光性組成物を適正な粘度に調節し、高屈折率材料の形成性を向上させる観点から、着色剤の全重量を基準(100重量%)として、800~4000重量%の量で用いることが好ましい。 In addition, the organic solvent should be used in an amount of 800 to 4000% by weight based on the total weight of the colorant (100% by weight) in order to adjust the viscosity of the photosensitive composition to an appropriate level and improve the formability of a high refractive index material. Preferably, it is used in amounts.

<分散>
本発明の感光性組成物は、顔料、及び必要に応じて含有する樹脂、溶剤からなる着色剤担体中に、好ましくは分散剤と一緒に、三本ロールミル、二本ロールミル、サンドミル、
ニーダー、アトライター等の各種分散手段を用いて微細に分散して製造した顔料組成物に、光重合性単量体及び/又は光重合性開始剤を添加して得ることが好ましい。また、本発明の感光性組成物は、顔料、染料、その他の着色剤等を別々に着色剤担体に分散したものを混合して製造することもできる。
<Dispersion>
The photosensitive composition of the present invention can be prepared in a coloring agent carrier consisting of a pigment and, if necessary, a resin and a solvent, preferably together with a dispersant, using a three-roll mill, a two-roll mill, a sand mill, or the like.
It is preferable to obtain the pigment composition by adding a photopolymerizable monomer and/or a photopolymerization initiator to a pigment composition produced by finely dispersing it using various dispersion means such as a kneader or an attritor. The photosensitive composition of the present invention can also be produced by mixing pigments, dyes, other colorants, etc., separately dispersed in a colorant carrier.

<光重合性単量体>
光重合性単量体には、紫外線や熱などにより硬化して透明樹脂を生成するモノマーもしくはオリゴマーが含まれ、これらを単独で、又は2種以上混合して用いることができる。
<Photopolymerizable Monomer>
The photopolymerizable monomer includes a monomer or oligomer that is cured by ultraviolet light, heat, or the like to form a transparent resin, and these can be used alone or in combination of two or more kinds.

紫外線や熱などにより硬化して透明樹脂を生成するモノマー、オリゴマーとしては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、β-カルボキシエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンPO変性トリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンEO変性トリ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸EO変性ジ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸EO変性トリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレート、メチロール化メラミンの(メタ)アクリル酸エステル、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタンアクリレート等の各種アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステル、
スチレン、酢酸ビニル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、N-ビニルホルムアミド、アクリロニトリル等が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
Examples of monomers and oligomers that can be cured by ultraviolet rays or heat to produce transparent resins include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, and 2-hydroxypropyl (meth)acrylate. , cyclohexyl (meth)acrylate, β-carboxyethyl (meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate ) acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, phenoxytetraethylene glycol (meth)acrylate, phenoxyhexaethylene glycol (meth)acrylate, trimethylolpropane PO modified tri(meth)acrylate, trimethylolpropane EO modified tri(meth)acrylate Acrylate, isocyanuric acid EO-modified di(meth)acrylate, isocyanuric acid EO-modified tri(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, 1,6 -Hexanediol diglycidyl ether di(meth)acrylate, bisphenol A diglycidyl ether di(meth)acrylate, neopentyl glycol diglycidyl ether di(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate ) various acrylic esters and methacrylic esters such as acrylate, tricyclodecanyl (meth)acrylate, (meth)acrylic ester of methylolated melamine, epoxy (meth)acrylate, urethane acrylate,
Examples include, but are not necessarily limited to, styrene, vinyl acetate, hydroxyethyl vinyl ether, ethylene glycol divinyl ether, pentaerythritol trivinyl ether, (meth)acrylamide, N-hydroxymethyl (meth)acrylamide, N-vinylformamide, acrylonitrile, etc. It's not something you can do.

これらの市販品としては、日本化薬社製のKAYARAD R-128H、R526、PEG400DA、MAND、NPGDA、R-167、HX-220、R-551、R712、R-604、R-684、GPO-303、TMPTA、DPHA、DPEA-12、DPHA-2C、D-310、D-330、DPCA-20、DPCA-30、DPCA-60、DPCA-120、及び東亜合成社製のアロニックスM-303、M-305、M-306、M-309、M-310、M-321、M-325、M-350、M-360、M-313、M-315、M-400、M-402、M-403、M-404、M-405、M-406、M-450、M-452、M-408、M-211B、M-101A、大阪有機社製のビスコート#310HP、#335HP、#700、#295、#330、#360、#GPT、#400、#405、新中村化学社製のNKエステルA-9300等を好適に使用することができる。 These commercially available products include KAYARAD R-128H, R526, PEG400DA, MAND, NPGDA, R-167, HX-220, R-551, R712, R-604, R-684, and GPO- manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. 303, TMPTA, DPHA, DPEA-12, DPHA-2C, D-310, D-330, DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120, and Aronix M-303, M manufactured by Toagosei Co., Ltd. -305, M-306, M-309, M-310, M-321, M-325, M-350, M-360, M-313, M-315, M-400, M-402, M-403 , M-404, M-405, M-406, M-450, M-452, M-408, M-211B, M-101A, Viscoat #310HP, #335HP, #700, #295 manufactured by Osaka Organic Co., Ltd. , #330, #360, #GPT, #400, #405, NK Ester A-9300 manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., etc. can be suitably used.

(酸基を有する重合性化合物)
本発明における光重合性単量体は、酸基を有する重合性化合物を含有してもよい。
酸基としては、スルホン酸基やカルボキシル基、リン酸基等を挙げることができる。
酸基を有する重合性化合物はアルカリ可溶性が高いため、特に微細パターンを形成するうえでは、酸基を有する重合性化合物を含有すると好ましい。
(Polymerizable compound having an acid group)
The photopolymerizable monomer in the present invention may contain a polymerizable compound having an acid group.
Examples of the acid group include a sulfonic acid group, a carboxyl group, and a phosphoric acid group.
Since a polymerizable compound having an acid group has high alkali solubility, it is preferable to contain a polymerizable compound having an acid group, particularly for forming a fine pattern.

酸基を有する重合性化合物としては、例えば、多価アルコールと(メタ)アクリル酸との遊離水酸基含有ポリ(メタ)アクリレート類と、ジカルボン酸類とのエステル化物;多価カルボン酸と、モノヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類とのエステル化物等を挙げることができる。具体例としては、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート等のモノヒドロキシオリゴアクリレート又はモノヒドロキシオリゴメタクリレート類と、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、フタル酸等のジカルボン酸類との遊離カルボキシル基含有モノエステル化物;プロパン-1,2,3-トリカルボン酸(トリカルバリル酸)、ブタン-1,2,4-トリカルボン酸、ベンゼン-1,2,3-トリカルボン酸、ベンゼン-1,3,4-トリカルボン酸、ベンゼン-1,3,5-トリカルボン酸等のトリカルボン酸類と、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレート等のモノヒドロキシモノアクリレート又はモノヒドロキシモノメタクリレート類との遊離カルボキシル基含有オリゴエステル化物等が挙げられるが、本発明の効果はこれらに限定されるものではない。 Examples of polymerizable compounds having an acid group include esters of dicarboxylic acids and free hydroxyl group-containing poly(meth)acrylates of polyhydric alcohols and (meth)acrylic acid; esters of polycarboxylic acids and monohydroxyalkyl(meth)acrylates. Specific examples include free carboxyl group-containing monoesters of monohydroxy oligoacrylates or monohydroxy oligomethacrylates such as trimethylolpropane diacrylate, trimethylolpropane dimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, and dipentaerythritol pentamethacrylate, and dicarboxylic acids such as malonic acid, succinic acid, glutaric acid, and phthalic acid; propane-1,2,3-tricarboxylic acid (tricarballylic acid); Examples include free carboxyl group-containing oligoesters of tricarboxylic acids such as butane-1,2,4-tricarboxylic acid, benzene-1,2,3-tricarboxylic acid, benzene-1,3,4-tricarboxylic acid, and benzene-1,3,5-tricarboxylic acid, and monohydroxymonoacrylates or monohydroxymonomethacrylates such as 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, and 2-hydroxypropyl methacrylate, but the effects of the present invention are not limited to these.

これらの市販品としては、大阪有機社製のビスコート#2500P、及び東亜合成社製アロニックスM-5300、M-5400、M-5700、M-510、M-520等を好適に使用することができる。 As these commercially available products, Viscoat #2500P manufactured by Osaka Organic Co., Ltd. and Aronix M-5300, M-5400, M-5700, M-510, M-520 manufactured by Toagosei Co., Ltd., etc. can be suitably used. .

(ウレタン結合を有する重合性化合物)
本発明における光重合性単量体は、エチレン性不飽和結合とウレタン結合を少なくとも1つずつ含有する重合性化合物を含有してもよい。例えば、水酸基を有する(メタ)アクリレートに多官能イソシアネートを反応させて得られる多官能ウレタンアクリレートや、アルコールに多官能イソシアネートを反応させ、さらに水酸基を有する(メタ)アクリレートを反応させて得られる多官能ウレタンアクリレート等が挙げられる。
(Polymerizable compound having a urethane bond)
The photopolymerizable monomer in the present invention may contain a polymerizable compound containing at least one ethylenically unsaturated bond and at least one urethane bond. For example, there may be mentioned a polyfunctional urethane acrylate obtained by reacting a (meth)acrylate having a hydroxyl group with a polyfunctional isocyanate, or a polyfunctional urethane acrylate obtained by reacting an alcohol with a polyfunctional isocyanate and further reacting the alcohol with a (meth)acrylate having a hydroxyl group.

水酸基を有する(メタ)アクリレートとしては、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ
)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールエチレンオキサイド変性ペンタ(メタ)アクリレー、ジペンタエリスリトールプロピレンオキサイド変性ペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールカプロラクトン変性ペンタ(メタ)アクリレート、グリセロールアクリレートメタクリレート、グリセロールジメタクリレート、2-ヒドロキシ-3-アクリロイルプロピ
ルメタクリレート、エポキシ基含有化合物とカルボキシ(メタ)アクリレートの反応物、水酸基含有ポリオールポリアクリレート等が挙げられる。
Examples of (meth)acrylates having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, trimethylolpropane di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, and ditrimethylolpropane tri(meth)acrylate. meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, dipentaerythritol ethylene oxide modified penta(meth)acrylate, dipentaerythritol propylene oxide modified penta(meth)acrylate, dipentaerythritol caprolactone modified penta(meth)acrylate, glycerol acrylate Examples include methacrylate, glycerol dimethacrylate, 2-hydroxy-3-acryloylpropyl methacrylate, a reaction product of an epoxy group-containing compound and carboxy(meth)acrylate, and a hydroxyl group-containing polyol polyacrylate.

また、多官能イソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ポリイソシアネート等が挙げられる。 Examples of polyfunctional isocyanates include tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, diphenylmethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, polyisocyanate, etc.

これらの市販品としては、共栄社化学社製のAH-600、AT-600、UA-306H、UA-306T、UA-306I、UA-510H、UF-8001G、DAUA-167、新中村化学工業社製のUA-160TM、大阪有機化学工業社製のUV-41
08F、UV-4117F等を好適に使用することができる。
なお、水酸基を有する重合性化合物はアルカリ現像液と親和性が高いので、微細パターンを形成するうえでは、水酸基を有する化合物を含有することが好ましい。
Commercially available products of these include AH-600, AT-600, UA-306H, UA-306T, UA-306I, UA-510H, UF-8001G, and DAUA-167 manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., UA-160TM manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., and UV-41 manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.
08F, UV-4117F, etc. can be suitably used.
In addition, since a polymerizable compound having a hydroxyl group has a high affinity with an alkaline developer, it is preferable to contain a compound having a hydroxyl group in order to form a fine pattern.

上記の光重合性単量体は、1種を単独で、又は必要に応じて任意の比率で2種以上混合して用いることができる。 The above photopolymerizable monomers can be used alone or in a mixture of two or more types in any ratio as required.

光重合性単量体の配合量は、感光性着色組成物の全不揮発分を基準(100質量部)として、1~70質量部であることが好ましく、光硬化性及び現像性の観点から2~50質量部であることがより好ましい。また、着色剤の全重量を基準(100重量%)として、5~300重量%であることが好ましく、光硬化性及び現像性の観点から10~150重量%であることがより好ましい。 The blending amount of the photopolymerizable monomer is preferably 1 to 70 parts by mass based on the total nonvolatile content of the photosensitive coloring composition (100 parts by mass), and from the viewpoint of photocurability and developability, it is preferably 2 to 70 parts by mass. More preferably, the amount is 50 parts by mass. Furthermore, based on the total weight of the colorant (100% by weight), the amount is preferably 5 to 300% by weight, and more preferably 10 to 150% by weight from the viewpoint of photocurability and developability.

<光重合開始剤>
本発明の感光性組成物は、該組成物を紫外線照射により硬化させることができる。
<Photopolymerization initiator>
The photosensitive composition of the present invention can be cured by exposure to ultraviolet light.

光重合開始剤としては、例えば、4-フェノキシジクロロアセトフェノン、4-t-ブチル-ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、1-(4-イソプロピルフェニル)-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-(ジメチルアミノ)-2-[(4-メチルフェニル)メチル]-1-[4-(4-モルフォリニル)フェニル]-1-ブタノン、又は2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)-ブタン-1-オン等のアセトフェノン系化合物;ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、又はベンジルジメチルケタール等のベンゾイン系化合物;ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4-フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、4-ベンゾイル-4’-メチルジフェニルサルファイド、又は3,3’,4,4’-テトラ(t-ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物;チオキサントン、2-クロルチオキサントン、2-メチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4-ジイソプロピルチオキサントン、又は2,4-ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系化合物;2,4,6-トリクロロ-s-トリアジン、2-フェニル-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(p-メトキシフェニル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(p-トリル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-ピペロニル-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-スチリル-s-トリアジン、2-(ナフト-1-イル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(4-メトキシ-ナフト-1-イル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2,4-トリクロロメチル-(ピペロニル)-6-トリアジン、又は2,4-トリクロロメチル-(4’-メトキシスチリル)-6-トリアジン等のトリアジン系化合物;1,2-オクタンジオン,1-〔4-(フェニルチオ)-,2-(O-ベンゾイルオキシム)〕、又はO-(アセチル)-N-(1-フェニル-2-オキソ-2-(4’-メトキシ-ナフチル)エチリデン)ヒドロキシルアミン等のオキシムエステル系化合物;ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド、又は2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等のホスフィン系化合物;9,10-フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアントラキノン等のキノン系化合物;ボレート系化合物;カルバゾール系化合物;イミダゾール系化合物;あるいは、チタノセン系化合物が用いられる。
特に、オキシムエステル系化合物は感度が高く、少量で光硬化性を発現するため、微細
パターンを形成するうえでは、オキシムエステル系化合物を使用することが好ましい。
Examples of the photopolymerization initiator include acetophenone-based compounds such as 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t-butyl-dichloroacetophenone, diethoxyacetophenone, 1-(4-isopropylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, 2-(dimethylamino)-2-[(4-methylphenyl)methyl]-1-[4-(4-morpholinyl)phenyl]-1-butanone, and 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butan-1-one; benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ether, and the like. Benzoin compounds such as benzoyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzil dimethyl ketal; benzophenone compounds such as benzophenone, benzoylbenzoic acid, benzoylbenzoic acid methyl, 4-phenylbenzophenone, hydroxybenzophenone, acrylated benzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, and 3,3',4,4'-tetra(t-butylperoxycarbonyl)benzophenone; thioxanthone compounds such as thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, and 2,4-diethylthioxanthone; 2,4,6-trichloro-s-triazanthone; 2-phenyl-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(p-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(p-tolyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-piperonyl-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-styryl-s-triazine, 2-(naphth-1-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4-methoxy-naphth-1-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2,4-trichloromethyl-(piperonyl)-6-triazine, or 2,4-trichloromethyl-(4'-methoxystyryl) )-6-triazine; oxime ester compounds such as 1,2-octanedione, 1-[4-(phenylthio)-,2-(O-benzoyloxime)], or O-(acetyl)-N-(1-phenyl-2-oxo-2-(4'-methoxy-naphthyl)ethylidene)hydroxylamine; phosphine compounds such as bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphine oxide or 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide; quinone compounds such as 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, and ethylanthraquinone; borate compounds; carbazole compounds; imidazole compounds; or titanocene compounds.
In particular, oxime ester compounds have high sensitivity and exhibit photocurability even in small amounts, so that it is preferable to use oxime ester compounds in forming fine patterns.

これらの光重合開始剤は、1種又は必要に応じて任意の比率で2種以上混合して用いることができる。これらの光重合開始剤の配合量は、感光性着色組成物の全不揮発分を基準(100質量部)として、0.1~30質量部であることが好ましく、光硬化性及び現像性の観点から0.2~15質量部であることがより好ましい。また、感光性組成物中の着色剤の全量を基準(100重量%)として、0.5~50重量%であることが好ましく、光硬化性及び現像性の観点から1~30重量%であることがより好ましい。 These photopolymerization initiators can be used alone or in a mixture of two or more in any ratio as necessary. The amount of these photopolymerization initiators is preferably 0.1 to 30 parts by weight based on the total nonvolatile content of the photosensitive coloring composition (100 parts by weight), and more preferably 0.2 to 15 parts by weight from the viewpoint of photocurability and developability. Furthermore, based on the total amount of colorants in the photosensitive composition (100% by weight), the amount is preferably 0.5 to 50% by weight, and more preferably 1 to 30% by weight from the viewpoint of photocurability and developability.

<増感剤>
さらに、本発明の感光性組成物には、増感剤を含有させることができる。増感剤としては、例えば、カルコン誘導体、ジベンザルアセトン等に代表される不飽和ケトン類、ベンジルやカンファーキノン等に代表される1,2-ジケトン誘導体、ベンゾイン誘導体、フルオレン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、キサンテン誘導体、チオキサンテン誘導体、キサントン誘導体、チオキサントン誘導体、クマリン誘導体、ケトクマリン誘導体、シアニン誘導体、メロシアニン誘導体、オキソノ-ル誘導体等のポリメチン色素、アクリジン誘導体、アジン誘導体、チアジン誘導体、オキサジン誘導体、インドリン誘導体、アズレン誘導体、アズレニウム誘導体、スクアリリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、テトラフェニルポルフィリン誘導体、トリアリールメタン誘導体、テトラベンゾポルフィリン誘導体、テトラピラジノポルフィラジン誘導体、フタロシアニン誘導体、テトラアザポルフィラジン誘導体、テトラキノキサリロポルフィラジン誘導体、ナフタロシアニン誘導体、サブフタロシアニン誘導体、ピリリウム誘導体、チオピリリウム誘導体、テトラフィリン誘導体、アヌレン誘導体、スピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導体、チオスピロピラン誘導体、金属アレーン錯体、有機ルテニウム錯体、又はミヒラーケトン誘導体、α-アシロキシエステル、アシルフォスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシレート、ベンジル、9,10-フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアンスラキノン、4,4’-ジエチルイソフタロフェノン、3,3'又は4,4’-
テトラ(t-ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、4,4’-ジエチルアミノベンゾフェノンが挙げられる。
<Sensitizer>
Furthermore, the photosensitive composition of the present invention can contain a sensitizer. Examples of the sensitizer include chalcone derivatives, unsaturated ketones such as dibenzalacetone, 1,2-diketone derivatives such as benzyl and camphorquinone, benzoin derivatives, fluorene derivatives, naphthoquinone derivatives, Polymethine dyes such as anthraquinone derivatives, xanthene derivatives, thioxanthene derivatives, xanthone derivatives, thioxanthone derivatives, coumarin derivatives, ketocoumarin derivatives, cyanine derivatives, merocyanine derivatives, oxonol derivatives, acridine derivatives, azine derivatives, thiazine derivatives, oxazine derivatives, indoline derivatives, azulene derivatives, azulenium derivatives, squarylium derivatives, porphyrin derivatives, tetraphenylporphyrin derivatives, triarylmethane derivatives, tetrabenzoporphyrin derivatives, tetrapyrazinoporphyrazine derivatives, phthalocyanine derivatives, tetraazaporphyrazine derivatives, tetraquinoxalyloporphyrin derivatives Radin derivatives, naphthalocyanine derivatives, subphthalocyanine derivatives, pyrylium derivatives, thiopyrylium derivatives, tetraphylline derivatives, annulene derivatives, spiropyran derivatives, spirooxazine derivatives, thiospiropyran derivatives, metal arene complexes, organic ruthenium complexes, or Michler ketone derivatives, α-alpha Siloxy ester, acylphosphine oxide, methylphenylglyoxylate, benzyl, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, ethyl anthraquinone, 4,4'-diethylisophthalophenone, 3,3' or 4,4 '-
Examples include tetra(t-butylperoxycarbonyl)benzophenone and 4,4'-diethylaminobenzophenone.

さらに具体的には、大河原信ら編、「色素ハンドブック」(1986年、講談社)、大河原信ら編、「機能性色素の化学」(1981年、シーエムシー)、池森忠三朗ら編、及び「特殊機能材料」(1986年、シーエムシー)に記載の増感剤が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、その他、紫外から近赤外域にかけての光に対して吸収を示す増感剤を含有させることもできる。 More specifically, examples of sensitizers include those described in "Dye Handbook" edited by Okawara Makoto et al. (Kodansha, 1986), "Chemistry of Functional Dyes" edited by Okawara Makoto et al. (CMC, 1981), "Tokushu No Futon Zairyo" edited by Ikemori Chuzaburo et al., and "Tokushu No Futon Zairyo" (CMC, 1986), but are not limited to these. In addition, sensitizers that absorb light from the ultraviolet to near infrared regions can also be included.

増感剤は、必要に応じて任意の比率で2種以上用いても構わない。増感剤を使用する際の配合量は、感光性組成物中に含まれる光重合開始剤の全重量を基準(100重量%)として、3~60重量%であることが好ましく、光硬化性、現像性の観点から5~50重量%であることがより好ましい。 Two or more sensitizers may be used in any ratio as necessary. The amount of the sensitizer used is preferably 3 to 60% by weight based on the total weight of the photopolymerization initiator contained in the photosensitive composition (100% by weight), and , more preferably from 5 to 50% by weight from the viewpoint of developability.

<アミン系化合物>
また、本発明の感光性組成物には、溶存している酸素を還元する働きのあるアミン系化合物を含有させることができる。このようなアミン系化合物としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、4-ジメチルアミノ安息香酸メチル、4-ジメチルアミノ安息香酸エチル、4-ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸2-ジメチルアミノエチル、4-ジメチルアミノ安息香酸2-エチルヘキシル、及びN,N-ジメチルパラトルイジン等が挙げられる。
<Amine compounds>
Further, the photosensitive composition of the present invention can contain an amine compound that has a function of reducing dissolved oxygen. Such amine compounds include triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, and 2-dimethylaminobenzoate. Examples include ethyl, 2-ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate, and N,N-dimethylparatoluidine.

<レベリング剤>
本発明の感光性組成物には、組成物のレベリング性を良くするため、レベリング剤を添加することが好ましい。レベリング剤としては、主鎖にポリエーテル構造又はポリエステ
ル構造を有するジメチルシロキサンが好ましい。主鎖にポリエーテル構造を有するジメチルシロキサンの具体例としては、東レ・ダウコーニング社製FZ-2122、ビックケミー社製BYK-333などが挙げられる。主鎖にポリエステル構造を有するジメチルシロキサンの具体例としては、ビックケミー社製BYK-310、BYK-370などが挙げられる。主鎖にポリエーテル構造を有するジメチルシロキサンと、主鎖にポリエステル構造を有するジメチルシロキサンとは、併用することもできる。レベリング剤の含有量は通常、感光性組成物の全重量を基準(100重量%)として、0.003~0.5重量%用いることが好ましい。
<Leveling Agent>
In order to improve the leveling property of the composition, it is preferable to add a leveling agent to the photosensitive composition of the present invention. As the leveling agent, dimethylsiloxane having a polyether structure or polyester structure in the main chain is preferable. Specific examples of dimethylsiloxane having a polyether structure in the main chain include FZ-2122 manufactured by Dow Corning Toray Co., Ltd. and BYK-333 manufactured by BYK-Chemie Co., Ltd. Specific examples of dimethylsiloxane having a polyester structure in the main chain include BYK-310 and BYK-370 manufactured by BYK-Chemie Co., Ltd. Dimethylsiloxane having a polyether structure in the main chain and dimethylsiloxane having a polyester structure in the main chain can also be used in combination. The content of the leveling agent is usually preferably 0.003 to 0.5% by weight based on the total weight of the photosensitive composition (100% by weight).

レベリング剤として特に好ましいものとしては、分子内に疎水基と親水基を有するいわゆる界面活性剤の一種で、親水基を有しながらも水に対する溶解性が小さく、感光性組成物に添加した場合、その表面張力低下能が低いという特徴を有し、さらに表面張力低下能が低いにも拘らずガラス板への濡れ性が良好なものが有用であり、泡立ちによる膜の欠陥が出現しない添加量において十分に帯電性を抑止できるものが好ましく使用できる。このような好ましい特性を有するレベリング剤として、ポリアルキレンオキサイド単位を有するジメチルポリシロキサンが好ましく使用できる。ポリアルキレンオキサイド単位としては、ポリエチレンオキサイド単位、ポリプロピレンオキサイド単位があり、ジメチルポリシロキサンは、ポリエチレンオキサイド単位とポリプロピレンオキサイド単位とを共に有していてもよい。 Particularly preferred as a leveling agent is a type of so-called surfactant that has a hydrophobic group and a hydrophilic group in the molecule, and although it has a hydrophilic group, it has low solubility in water, and when added to the photosensitive composition, It is useful to have a low ability to reduce surface tension, and to have good wettability to glass plates despite the low ability to reduce surface tension. Those that can sufficiently suppress charging properties can be preferably used. As a leveling agent having such preferable properties, dimethylpolysiloxane having polyalkylene oxide units can be preferably used. Polyalkylene oxide units include polyethylene oxide units and polypropylene oxide units, and dimethylpolysiloxane may have both polyethylene oxide units and polypropylene oxide units.

また、ポリアルキレンオキサイド単位のジメチルポリシロキサンとの結合形態は、ポリアルキレンオキサイド単位がジメチルポリシロキサンの繰り返し単位中に結合したペンダント型、ジメチルポリシロキサンの末端に結合した末端変性型、ジメチルポリシロキサンと交互に繰り返し結合した直鎖状のブロックコポリマー型のいずれであってもよい。ポリアルキレンオキサイド単位を有するジメチルポリシロキサンは、東レ・ダウコーニング株式会社から市販されており、例えば、FZ-2110、FZ-2122、FZ-2130、FZ-2166、FZ-2191、FZ-2203、FZ-2207が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 The bonding form of the polyalkylene oxide unit with the dimethylpolysiloxane may be any of a pendant type in which the polyalkylene oxide unit is bonded to the repeating unit of the dimethylpolysiloxane, a terminal modified type in which the polyalkylene oxide unit is bonded to the terminal of the dimethylpolysiloxane, and a linear block copolymer type in which the polyalkylene oxide unit is bonded alternately and repeatedly to the dimethylpolysiloxane. Dimethylpolysiloxanes having polyalkylene oxide units are commercially available from Dow Corning Toray Co., Ltd., and examples thereof include, but are not limited to, FZ-2110, FZ-2122, FZ-2130, FZ-2166, FZ-2191, FZ-2203, and FZ-2207.

レベリング剤には、アニオン性、カチオン性、ノニオン性、又は両性の界面活性剤を補助的に加えることも可能である。界面活性剤は、2種以上混合して使用しても構わない。 The leveling agent may be supplemented with an anionic, cationic, nonionic, or amphoteric surfactant. Two or more types of surfactants may be mixed together.

レベリング剤に補助的に加えるアニオン性界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、スチレン-アクリル酸共重合体のアルカリ塩、アルキルナフタリンスルホン酸ナトリウム、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸モノエタノールアミン、ラウリル硫酸トリエタノールアミン、ラウリル硫酸アンモニウム、ステアリン酸モノエタノールアミン、ステアリン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、スチレン-アクリル酸共重合体のモノエタノールアミン、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステルが挙げられる。 Examples of anionic surfactants that can be added to the leveling agent as an auxiliary include polyoxyethylene alkyl ether sulfate, sodium dodecylbenzene sulfonate, alkali salts of styrene-acrylic acid copolymers, sodium alkyl naphthalene sulfonate, sodium alkyl diphenyl ether disulfonate, monoethanolamine lauryl sulfate, triethanolamine lauryl sulfate, ammonium lauryl sulfate, monoethanolamine stearate, sodium stearate, sodium lauryl sulfate, monoethanolamine styrene-acrylic acid copolymer, and polyoxyethylene alkyl ether phosphate.

レベリング剤に補助的に加えるカオチン性界面活性剤としては、例えば、アルキル4級アンモニウム塩やそれらのエチレンオキサイド付加物が挙げられる。レベリング剤に補助的に加えるノニオン性界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリエチレングリコールモノラウレート、アルキルジメチルアミノ酢酸ベタインなどのアルキルベタイン、アルキルイミダゾリンなどの両性界面活性剤、フッ素系やシリコーン系の界面活性剤が挙げられる。 Examples of cationic surfactants that can be added to the leveling agent as supplementary agents include alkyl quaternary ammonium salts and their ethylene oxide adducts. Examples of nonionic surfactants that can be added to the leveling agent as supplementary agents include polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyoxyethylene alkyl ether phosphate esters, polyoxyethylene sorbitan monostearate, polyethylene glycol monolaurate, alkyl betaines such as alkyl dimethylamino acetate betaines, amphoteric surfactants such as alkyl imidazolines, and fluorine-based and silicone-based surfactants.

<その他の添加剤成分>
本発明の感光性組成物には、組成物の経時粘度を安定化させるために貯蔵安定剤を含有させることができる。また、基材との密着性を高めるためにシランカップリング剤等の密着向上剤を含有させることもできる。
<Other additive components>
The photosensitive composition of the present invention may contain a storage stabilizer in order to stabilize the viscosity of the composition over time. Furthermore, an adhesion improver such as a silane coupling agent may be included in order to improve adhesion to the base material.

貯蔵安定剤としては、例えば、ベンジルトリメチルクロライド、ジエチルヒドロキシアミンなどの4級アンモニウムクロライド、乳酸、シュウ酸などの有機酸及びそのメチルエーテル、t-ブチルピロカテコール、テトラエチルホスフィン、テトラフェニルフォスフィンなどの有機ホスフィン、亜リン酸塩が挙げられる。貯蔵安定剤は、着色剤の全量を基準(100重量%)として、0.1~10重量%の量で用いることができる。 Examples of storage stabilizers include quaternary ammonium chloride such as benzyl trimethyl chloride and diethyl hydroxyamine, organic acids such as lactic acid and oxalic acid and their methyl ethers, t-butylpyrocatechol, tetraethylphosphine, and tetraphenylphosphine. Examples include organic phosphines and phosphites. The storage stabilizer can be used in an amount of 0.1 to 10% by weight based on the total amount of colorant (100% by weight).

密着向上剤としては、例えば、ビニルトリス(β-メトキシエトキシ)シラン、ビニルエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン等のビニルシラン類、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等の(メタ)アクリルシラン類、β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)メチルトリメトキシシラン、β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)メチルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のエポキシシラン類、N-β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-β(アミノエチル)γ-アミノプロピルメチルジエトキシシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリエトキシシラン等のアミノシラン類、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリエトキシシラン等のチオシラン類等のシランカップリング剤が挙げられる。密着向上剤は、感光性組成物中の着色剤の全量を基準(100重量%)として、0.01~10重量%、好ましくは0.05~5重量%の量で用いることができる。 Examples of adhesion enhancers include vinyl silanes such as vinyltris(β-methoxyethoxy)silane, vinylethoxysilane, and vinyltrimethoxysilane, (meth)acrylic silanes such as γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)methyltrimethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltriethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)methyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and γ-glycidoxypropyltriethoxysilane. Examples of the silane coupling agents include epoxy silanes such as silane, amino silanes such as N-β (aminoethyl) γ-aminopropyl trimethoxy silane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyl triethoxy silane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyl methyl diethoxy silane, γ-aminopropyl triethoxy silane, γ-aminopropyl trimethoxy silane, N-phenyl-γ-aminopropyl trimethoxy silane, and N-phenyl-γ-aminopropyl triethoxy silane, and thio silanes such as γ-mercaptopropyl trimethoxy silane and γ-mercaptopropyl triethoxy silane. The adhesion improver can be used in an amount of 0.01 to 10% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight, based on the total amount of the colorant in the photosensitive composition (100% by weight).

<粗大粒子の除去>
本発明の感光性組成物は、遠心分離、焼結フィルタ、メンブレンフィルタ等の手段にて、5μm以上の粗大粒子、好ましくは1μm以上の粗大粒子、さらに好ましくは0.5μm以上の粗大粒子及び混入した塵の除去を行うことが好ましい。このように感光性組成物は、実質的に0.5μm以上の粒子を含まないことが好ましい。より好ましくは0.3μm以下であることが好ましい。
<Removal of coarse particles>
The photosensitive composition of the present invention can be mixed with coarse particles of 5 μm or more, preferably 1 μm or more, more preferably 0.5 μm or more, by means of centrifugation, sintered filters, membrane filters, etc. It is preferable to remove the dust. As described above, it is preferable that the photosensitive composition does not substantially contain particles of 0.5 μm or more. More preferably, it is 0.3 μm or less.

<感光性組成物を含む膜とその利用>
本発明の感光性組成物を、例えば、溶剤揮発、露光(光硬化)又は加熱(熱硬化)によって硬化することで、本発明の感光性組成物を含む膜が得られる。膜の形成方法は、上記に限定されない。
光硬化において露光する光線としては、紫外線、電子線、X線等が挙げられる。紫外線照射に用いる光源としては、太陽光線、ケミカルランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、UV-LED等が使用できる。また、露光後、硬化物の物性を安定化させるためにポストベークを施してもよい。ポストベークの方法としては、特に限定されないが、通常、ホットプレート、オーブン等を使用して、50~260℃、1~120分間の範囲で行われる。
熱硬化における加熱条件としては、特に限定されないが、通常、50~300℃、1~120分間の範囲から適宜選択される。また、加熱手段としては、特に限定されないが、例えばホットプレート、オーブン等が挙げられる。
<Film containing photosensitive composition and its use>
The photosensitive composition of the present invention is cured, for example, by volatilizing the solvent, exposing to light (photocuring) or heating (thermal curing), to obtain a film containing the photosensitive composition of the present invention. The method for forming the film is not limited to the above.
Examples of light rays to be exposed in photocuring include ultraviolet rays, electron beams, and X-rays. Examples of light sources that can be used for ultraviolet irradiation include sunlight, chemical lamps, low-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, metal halide lamps, xenon lamps, and UV-LEDs. After exposure, post-baking may be performed to stabilize the physical properties of the cured product. There are no particular limitations on the method of post-baking, but it is usually performed at 50 to 260° C. for 1 to 120 minutes using a hot plate, oven, or the like.
The heating conditions for thermal curing are not particularly limited, but are usually appropriately selected from the ranges of 50 to 300° C. and 1 to 120 minutes. The heating means is not particularly limited, but examples thereof include a hot plate and an oven.

上記本発明の感光性組成物を含む膜は、800~1600nmの波長領域において高屈折
率となり、赤外線センサもしくは赤外線通信機器用の光学レンズ、又は、赤外線センサもしくは赤外線通信機器用の光導波路の形成材料として好適である。
The film containing the photosensitive composition of the present invention has a high refractive index in the wavelength range of 800 to 1600 nm, and forms an optical lens for an infrared sensor or an infrared communication device, or an optical waveguide for an infrared sensor or an infrared communication device. Suitable as a material.

なお、上記本発明の感光性組成物は、ドーム状、シート状等、任意の形状に成形し、膜を作製することができる。 The photosensitive composition of the present invention can be molded into any shape, such as a dome or sheet, to produce a film.

例えば、次のようにして成形することができる。ガラス等の透明基板上に、本発明の感光性組成物をポッティングし、その上から所望の成形加工型を押し当てることにより、上記成形加工型内へ感光性組成物を充填させ、そこへ光照射を行うことにより硬化させることができる。そして、その後、上記成形加工型を取り外すことにより、透明基板上で一体化された感光性組成物の硬化物を得ることができる。あるいは、光を透過する透明型内へ感光性組成物を充填し光硬化させることも可能である。このような製法により、例えばハイブリッドレンズを作製することができる。また、本発明の感光性組成物は、成形加工型内でそれ自身単独で硬化させて光学レンズ等の光学部品とすることもできる。
また、マイクロレンズとして成形することもできる。マイクロレンズの製造方法の1つとして、エッチバック法が知られている。本発明の感光性組成物の塗膜上にレジストパターンを形成し、熱処理によってこのレジストパターンをリフローしてレンズパターンを形成する。このレジストパターンをリフローして形成したレンズパターンをエッチングマスクとして、下層の本発明の感光性組成物の塗膜をエッチバックし、レンズパターン形状を本発明の感光性組成物の膜に転写することによってマイクロレンズを作製する。また、マイクロレンズの別の製造方法として、本発明の感光性組成物を露光・現像することによりレジストパターンを形成し、熱処理によりリフローすることにより、マイクロレンズを作製する方法もある。
また、光導波路として成形する場合は、例えば、本発明の感光性組成物を露光・現像することによりレジストパターンを形成し、さらに光重合開始剤及びアルカリ可溶性樹脂を含み、屈折率の異なる別の樹脂組成物又は感光性組成物を露光・現像することにより隣接するレジストパターンを形成することにより、コア及びクラッドが形成し、光導波路を作製できる。
For example, it can be molded as follows. The photosensitive composition of the present invention is potted on a transparent substrate such as glass, and a desired molding mold is pressed against it to fill the mold with the photosensitive composition, which can then be cured by irradiating light thereto. Then, the molding mold is removed to obtain a cured product of the photosensitive composition integrated on the transparent substrate. Alternatively, the photosensitive composition can be filled in a transparent mold that transmits light and photocured. By such a manufacturing method, for example, a hybrid lens can be produced. The photosensitive composition of the present invention can also be cured by itself in a molding mold to form an optical component such as an optical lens.
It can also be molded into a microlens. An etch-back method is known as one of the methods for manufacturing a microlens. A resist pattern is formed on the coating film of the photosensitive composition of the present invention, and the resist pattern is reflowed by heat treatment to form a lens pattern. The coating film of the photosensitive composition of the present invention as the lower layer is etched back using the lens pattern formed by reflowing the resist pattern as an etching mask, and the lens pattern shape is transferred to the film of the photosensitive composition of the present invention to manufacture a microlens. In addition, as another method for manufacturing a microlens, there is a method in which a resist pattern is formed by exposing and developing the photosensitive composition of the present invention, and the microlens is manufactured by reflowing the resist pattern by heat treatment.
When molding into an optical waveguide, for example, the photosensitive composition of the present invention is exposed and developed to form a resist pattern, and then another resin composition or photosensitive composition containing a photopolymerization initiator and an alkali-soluble resin and having a different refractive index is exposed and developed to form an adjacent resist pattern, thereby forming a core and a clad, and an optical waveguide can be produced.

なお、本明細書において、赤外線センサもしくは赤外線通信機器用の光学レンズとは、赤外線を集光するためのレンズを指し、例えば、眼鏡レンズ、光学機器用レンズ、オプトエレクトロニクス用レンズ、レーザー用レンズ、ピックアップ用レンズ、車載カメラ用レンズ、携帯カメラ用レンズ、デジタルカメラ用レンズ、OHP用レンズ、マイクロレンズが挙げられる。 Note that in this specification, an infrared sensor or an optical lens for an infrared communication device refers to a lens for condensing infrared rays, and includes, for example, a spectacle lens, an optical device lens, an optoelectronics lens, a laser lens, Examples include pickup lenses, in-vehicle camera lenses, mobile camera lenses, digital camera lenses, OHP lenses, and microlenses.

なお、本明細書において、赤外線センサもしくは赤外線通信機器用の光導波路とは、赤外線を伝搬させるための導波路を指し、シート状、板状等、その形状は限定されない。用途としては、例えば、コンピューターやセンサーデバイスの光通信等に使用するケーブルのほか、デバイス内部の光通信に用いる光インターコネクションや、また赤外線センサ等が赤外線をセンシングする際の光路上に使用される材料が挙げられる。 In this specification, an optical waveguide for an infrared sensor or infrared communication device refers to a waveguide for propagating infrared rays, and its shape is not limited to a sheet or plate. Examples of applications include cables used for optical communication in computers and sensor devices, optical interconnections used for optical communication inside devices, and materials used on the optical path when an infrared sensor or the like senses infrared rays.

以下に、本発明をさらに詳しく説明するが、本発明の技術思想を逸脱しない限り、これらの実施例に限定されるものではない。なお、以下「質量部」は単に「部」、「質量%」は単に「%」と記載する。 The present invention will be described in more detail below, but is not limited to these examples as long as they do not deviate from the technical concept of the present invention. In the following, "parts by mass" will simply be written as "parts" and "% by mass" will simply be written as "%".

<イソインドリン系顔料の製造> <Production of isoindoline pigment>

(合成例1-1)
還流冷却管、滴下漏斗、及び撹拌機を具備した3Lの4口フラスコに、水700部、1
,3-ジイミノイソインドリン344.5mmol、28%アンモニア水100部の順に加え、撹拌した。そこへ2-シアノ-N-メチルアセトアミド361.7mmolを水100部に溶解させた溶液を、滴下漏斗にて30分かけて滴下した。30℃にて原料の1,3-ジイミノイソインドリンが消失するまで加熱撹拌した。原料の消失はUPLC(超高速高分離液体クロマトグラフィ)にて確認した。この反応スラリーを、ブフナー漏斗を用いてろ別し、固形分を得た。この固形分の全量を以下の反応に使用した。
還流冷却管、滴下漏斗、及び撹拌機を具備した3Lの4口フラスコに、原料として先の調製で得た固形分の全量、水1200部、80%酢酸400部を加え、撹拌した。そこへバルビツール酸396.1mmolを加え、85℃にて撹拌した。加熱撹拌は、原料として使用した上記固形分が消失するまで行った。原料の消失はUPLCにて確認した。
その後、この反応スラリーを室温まで冷却後、ブフナー漏斗を用いてろ別し、水2000部にて3回洗浄を行って固形分を得た。この固形分を80℃の熱風乾燥機にて乾燥させ、イソインドリン系顔料(a-1)を105.7部(収率91%)得た。
(Synthesis Example 1-1)
In a 3 L 4-neck flask equipped with a reflux condenser, a dropping funnel, and a stirrer, add 700 parts water, 1
344.5 mmol of 1,3-diiminoisoindoline and 100 parts of 28% aqueous ammonia were added in this order and stirred. A solution of 361.7 mmol of 2-cyano-N-methylacetamide dissolved in 100 parts of water was added dropwise thereto using a dropping funnel over 30 minutes. The mixture was heated and stirred at 30°C until the raw material 1,3-diiminoisoindoline disappeared. The disappearance of the raw material was confirmed by UPLC (ultra performance high resolution liquid chromatography). This reaction slurry was filtered using a Buchner funnel to obtain a solid content. The entire amount of this solid content was used in the following reaction.
In a 3 L 4-neck flask equipped with a reflux condenser, a dropping funnel, and a stirrer, the entire amount of the solids obtained in the previous preparation as raw materials, 1200 parts of water, and 400 parts of 80% acetic acid were added and stirred. 396.1 mmol of barbituric acid was added thereto and stirred at 85°C. Heating and stirring were continued until the solids used as raw materials disappeared. The disappearance of the raw materials was confirmed by UPLC.
After that, the reaction slurry was cooled to room temperature, filtered using a Buchner funnel, and washed three times with 2000 parts of water to obtain a solid content, which was then dried in a hot air dryer at 80° C. to obtain 105.7 parts (yield 91%) of an isoindoline pigment (a-1).

(合成例1-2)
還流冷却管、滴下漏斗、及び撹拌機を具備した3Lの4口フラスコに、水800部、80%酢酸800部を加え、撹拌した。そこへバルビツール酸688.9mmolを加え、85℃にて撹拌し、バルビツール酸を溶解させた。そこへ1,3-ジイミノイソインドリン344.5mmolを加え、85℃にて撹拌した。撹拌は、原料の1,3-ジイミノイソインドリンが消失するまで行った。原料の消失はUPLCにて確認した。その後、この反応スラリーを室温まで冷却後、ブフナー漏斗を用いてろ別し、水2000部にて3回洗浄を行って固形分を得た。この固形分を80℃の熱風乾燥機にて乾燥させ、イソインドリン化合物(a-2)を121.5部(収率96%)得た。
(Synthesis example 1-2)
800 parts of water and 800 parts of 80% acetic acid were added to a 3L 4-necked flask equipped with a reflux condenser, a dropping funnel, and a stirrer, and the mixture was stirred. 688.9 mmol of barbituric acid was added thereto, and the mixture was stirred at 85°C to dissolve the barbituric acid. 344.5 mmol of 1,3-diiminoisoindoline was added thereto, and the mixture was stirred at 85°C. Stirring was continued until the raw material 1,3-diiminoisoindoline disappeared. Disappearance of the raw material was confirmed by UPLC. Thereafter, this reaction slurry was cooled to room temperature, filtered using a Buchner funnel, and washed three times with 2000 parts of water to obtain a solid content. This solid content was dried in a hot air dryer at 80°C to obtain 121.5 parts of isoindoline compound (a-2) (yield 96%).

(合成例1-3)
合成例1-1の2-シアノ-N-メチルアセトアミドを2-(4-オキソ-3,4-ジヒドロキナゾリン-2-イル)アセトニトリルに変更した以外は、合成例1-1と同様に反応操作を行い、イソインドリン系顔料(a-3)を130.7(収率89%)得た。
(Synthesis Example 1-3)
The reaction was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1-1, except that 2-cyano-N-methylacetamide in Synthesis Example 1-1 was changed to 2-(4-oxo-3,4-dihydroquinazolin-2-yl)acetonitrile, to obtain 130.7 g of isoindoline pigment (a-3) (yield 89%).

(合成例1-4)
還流冷却管、滴下漏斗、及び撹拌機を具備した3Lの4口フラスコに、水1200部、1,3-ジイミノイソインドリン344.5mmol、28%アンモニア水200部の順に加え、撹拌した。そこへ2-シアノ-N-(3,4-ジクロロフェニル)アセトアミド792.3mmolを水200部に溶解させた溶液を、滴下漏斗にて30分かけて滴下した。30℃にて原料の1,3-ジイミノイソインドリンが消失するまで加熱撹拌した。原料の消失はUPLC(超高速高分離液体クロマトグラフィ)にて確認した。この反応スラリーを、ブフナー漏斗を用いてろ別し、固形分を得た。
その後、この反応スラリーをブフナー漏斗を用いてろ別し、水2000部にて3回洗浄を行って固形分を得た。この固形分を80℃の熱風乾燥機にて乾燥させ、イソインドリン系顔料(a-4)を127.5部(収率65%)得た。
(Synthesis example 1-4)
1200 parts of water, 344.5 mmol of 1,3-diiminoisoindoline, and 200 parts of 28% aqueous ammonia were added in this order to a 3 L four-necked flask equipped with a reflux condenser, a dropping funnel, and a stirrer, and the mixture was stirred. A solution prepared by dissolving 792.3 mmol of 2-cyano-N-(3,4-dichlorophenyl)acetamide in 200 parts of water was added dropwise thereto using a dropping funnel over 30 minutes. The mixture was heated and stirred at 30° C. until the raw material 1,3-diiminoisoindoline disappeared. Disappearance of the raw material was confirmed by UPLC (ultra high performance high separation liquid chromatography). This reaction slurry was filtered using a Buchner funnel to obtain solid content.
Thereafter, this reaction slurry was filtered using a Buchner funnel and washed three times with 2000 parts of water to obtain a solid content. This solid content was dried in a hot air dryer at 80° C. to obtain 127.5 parts of isoindoline pigment (a-4) (yield: 65%).

(合成例1-5)
合成例1-1の2-シアノ-N-メチルアセトアミドをN-(4-クロロフェニル)-2-シアノアセトアミドに、バルビツール酸を1-(4-メチルフェニル)バルビツール酸に変更した以外は、合成例1-1と同様に反応操作を行い、イソインドリン系顔料(a-5)を158.8部(収率88%)得た。
(Synthesis Example 1-5)
Except for changing 2-cyano-N-methylacetamide to N-(4-chlorophenyl)-2-cyanoacetamide and barbituric acid to 1-(4-methylphenyl)barbituric acid in Synthesis Example 1-1, the reaction was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1-1, to obtain 158.8 parts of an isoindoline pigment (a-5) (yield 88%).

(合成例1-6)
合成例1-1のバルビツール酸を1,3-ジメチルバルビツール酸に変更した以外は、合成例1-1と同様に反応操作を行い、イソインドリン系顔料(a-6)を115.8部(
収率92%)得た。
(Synthesis Example 1-6)
The reaction was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1-1, except that the barbituric acid in Synthesis Example 1-1 was changed to 1,3-dimethylbarbituric acid, and 115.8 parts (
The yield was 92%).

(合成例1-7)
合成例1-2のバルビツール酸を1,3-ジメチルバルビツール酸に変更した以外は、合成例1-2と同様に反応操作を行い、イソインドリン系顔料(a-7)を138.6部(収率95%)得た。
(Synthesis Example 1-7)
The reaction was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1-2, except that the barbituric acid in Synthesis Example 1-2 was changed to 1,3-dimethylbarbituric acid, to obtain 138.6 parts (yield 95%) of an isoindoline pigment (a-7).

(合成例1-8)
合成例1-1の1,3-ジイミノイソインドリン344.5mmolを1,3-ジイミノベンゾ[f]イソインドリン256.1mmolに、2-シアノ-N-メチルアセトアミド361.7mmolを268.9mmolに、バルビツール酸396.1mmolを294.5mmolに変更した以外は、合成例1-1と同様に反応操作を行い、イソインドリン系顔料(a-8)を88.3部(収率89%)得た。
(Synthesis Example 1-8)
Except for changing the amounts of 1,3-diiminoisoindoline (344.5 mmol) to 1,3-diiminobenzo[f]isoindoline (256.1 mmol), 2-cyano-N-methylacetamide (361.7 mmol) to 268.9 mmol, and barbituric acid (396.1 mmol) to 294.5 mmol in Synthesis Example 1-1, the reaction was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1-1, to obtain 88.3 parts (yield 89%) of an isoindoline pigment (a-8).

(合成例1-9)
合成例1-2の1,3-ジイミノイソインドリン344.5mmolを1,3-ジイミノベンゾ[f]イソインドリン256.1mmolに、バルビツール酸688.9mmolを537.9mmolに変更した以外は、合成例1-2と同様に反応操作を行い、イソインドリン系顔料(a-9)を96.2部(収率90%)得た。
(Synthesis example 1-9)
Synthesis except that 344.5 mmol of 1,3-diiminoisoindoline in Synthesis Example 1-2 was changed to 256.1 mmol of 1,3-diiminobenzo[f]isoindoline, and 688.9 mmol of barbituric acid was changed to 537.9 mmol. The reaction operation was carried out in the same manner as in Example 1-2, and 96.2 parts (yield 90%) of isoindoline pigment (a-9) was obtained.

(合成例1-10)
合成例1-4の2-シアノ-N-(3,4-ジクロロフェニル)アセトアミドを2-シアノ-N-メチルアセトアミドに変更した以外は、合成例1-4と同様に反応操作を行い、イソインドリン系顔料(a-10)を54.0部(収率51%)得た。
(Synthesis example 1-10)
The reaction procedure was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1-4, except that 2-cyano-N-(3,4-dichlorophenyl)acetamide in Synthesis Example 1-4 was changed to 2-cyano-N-methylacetamide, and the isoindoline 54.0 parts (yield 51%) of pigment (a-10) were obtained.

(合成例1-11)
還流冷却管、滴下漏斗、及び撹拌機を具備した3Lの4口フラスコに、水700部、1,3-ジイミノイソインドリン344.5mmol、28%アンモニア水100部の順に加え、撹拌した。そこへ2-シアノ-N-メチルアセトアミド396.1mmolを水100部に溶解させた溶液を、滴下漏斗にて30分かけて滴下した。30℃にて原料の1,3-ジイミノイソインドリンが消失するまで加熱撹拌した。原料の消失はUPLC(超高速高分離液体クロマトグラフィ)にて確認した。この反応スラリーを、ブフナー漏斗を用いてろ別し、固形分を得た。この固形分の全量を以下の反応に使用した。
還流冷却管、滴下漏斗及び、撹拌機を具備した3Lの4口フラスコに、原料として先の調製で得た固形分の全量、水1200部、28%アンモニア水150部の順に加え、撹拌した。そこへ2-シアノ-N-(3,4-ジクロロフェニル)アセトアミド396.1mmolを水100部に溶解させた溶液を、滴下漏斗にて30分かけて滴下した。30℃にて原料として使用した上記固形分が消失するまで行った。原料の消失はUPLCにて確認した。
その後、この反応スラリーをブフナー漏斗を用いてろ別し、水2000部にて3回洗浄を行って固形分を得た。この固形分を80℃の熱風乾燥機にて乾燥させ、イソインドリン系顔料(a-11)を69.4部(収率46%)得た。
(Synthesis example 1-11)
700 parts of water, 344.5 mmol of 1,3-diiminoisoindoline, and 100 parts of 28% aqueous ammonia were added in this order to a 3L four-necked flask equipped with a reflux condenser, a dropping funnel, and a stirrer, and stirred. A solution prepared by dissolving 396.1 mmol of 2-cyano-N-methylacetamide in 100 parts of water was added dropwise thereto using a dropping funnel over 30 minutes. The mixture was heated and stirred at 30° C. until the raw material 1,3-diiminoisoindoline disappeared. Disappearance of the raw material was confirmed by UPLC (ultra high performance high separation liquid chromatography). This reaction slurry was filtered using a Buchner funnel to obtain solid content. The entire amount of this solid content was used in the following reaction.
Into a 3L four-necked flask equipped with a reflux condenser, a dropping funnel, and a stirrer, the entire solid content obtained in the previous preparation as raw materials, 1200 parts of water, and 150 parts of 28% aqueous ammonia were added in this order and stirred. A solution of 396.1 mmol of 2-cyano-N-(3,4-dichlorophenyl)acetamide dissolved in 100 parts of water was added dropwise thereto using a dropping funnel over 30 minutes. The heating was continued at 30° C. until the solid content used as the raw material disappeared. Disappearance of the raw material was confirmed by UPLC.
Thereafter, this reaction slurry was filtered using a Buchner funnel and washed three times with 2000 parts of water to obtain a solid content. This solid content was dried in a hot air dryer at 80° C. to obtain 69.4 parts of isoindoline pigment (a-11) (yield: 46%).

(合成例1-12)
合成例1-4の2-シアノ-N-(3,4-ジクロロフェニル)アセトアミドを2-(4-オキソ-3,4-ジヒドロキナゾリン-2-イル)アセトニトリルに変更した以外は、合成例1-4と同様に反応操作を行い、イソインドリン系顔料(a-12)を73.6部(収率44%)得た。
(Synthesis Example 1-12)
Except for changing 2-cyano-N-(3,4-dichlorophenyl)acetamide in Synthesis Example 1-4 to 2-(4-oxo-3,4-dihydroquinazolin-2-yl)acetonitrile, the reaction was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1-4 to obtain 73.6 parts of an isoindoline pigment (a-12) (yield 44%).

(合成例1-13)
合成例1-2のバルビツール酸を1-(4-メチルフェニル)バルビツール酸に変更した以外は、合成例1-2と同様に反応操作を行い、イソインドリン系顔料(a-13)を160.3部(収率85%)得た。
(Synthesis example 1-13)
The reaction procedure was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1-2, except that the barbituric acid in Synthesis Example 1-2 was changed to 1-(4-methylphenyl)barbituric acid, and the isoindoline pigment (a-13) was 160.3 parts (yield 85%) were obtained.

(合成例1-14)
合成例1-1のバルビツール酸を1-(4-メチルフェニル)バルビツール酸に変更した以外は、合成例1-1と同様に反応操作を行い、イソインドリン系顔料(a-14)を123.7部(収率84%)得た。
(Synthesis example 1-14)
The reaction procedure was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1-1, except that the barbituric acid in Synthesis Example 1-1 was changed to 1-(4-methylphenyl)barbituric acid, and the isoindoline pigment (a-14) was 123.7 parts (yield 84%) were obtained.

(合成例1-15)
合成例1-1の1,3-ジイミノイソインドリン344.5mmolを4-メトキシ-1,3-ジイミノイソインドリン285.4mmolに、2-シアノ-N-メチルアセトアミド361.7mmolを299.7mmolに、バルビツール酸396.1mmolを328.2mmolに変更した以外は、合成例1-1と同様に反応操作を行い、イソインドリン系顔料(a-15)を81.8部(収率78%)得た。
(Synthesis example 1-15)
344.5 mmol of 1,3-diiminoisoindoline of Synthesis Example 1-1 was changed to 285.4 mmol of 4-methoxy-1,3-diiminoisoindoline, and 361.7 mmol of 2-cyano-N-methylacetamide was changed to 299.7 mmol. The reaction procedure was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1-1, except that 396.1 mmol of barbituric acid was changed to 328.2 mmol, and 81.8 parts of isoindoline pigment (a-15) (yield 78%) was prepared. )Obtained.

(合成例1-16)
合成例1-15のバルビツール酸を1,3-ジメチルバルビツール酸に変更した以外は、合成例1-15と同様に反応操作を行い、イソインドリン系顔料(a-16)を86.9部(収率77%)得た。
(Synthesis example 1-16)
The reaction operation was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1-15, except that the barbituric acid in Synthesis Example 1-15 was changed to 1,3-dimethylbarbituric acid, and the isoindoline pigment (a-16) was (yield 77%).

(合成例1-17)
合成例1-2の1,3-ジイミノイソインドリン344.5mmolを4-メトキシ-1,3-ジイミノイソインドリン285.4mmolに、バルビツール酸688.9mmolを570.8mmolに変更した以外は、合成例1-2と同様に反応操作を行い、イソインドリン系顔料(a-17)を93.0部(収率82%)得た。
(Synthesis example 1-17)
Except that 344.5 mmol of 1,3-diiminoisoindoline in Synthesis Example 1-2 was changed to 285.4 mmol of 4-methoxy-1,3-diiminoisoindoline, and 688.9 mmol of barbituric acid was changed to 570.8 mmol. The reaction operation was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1-2 to obtain 93.0 parts (yield: 82%) of isoindoline pigment (a-17).

(合成例1-18)
合成例1-17のバルビツール酸を1,3-ジメチルバルビツール酸に変更した以外は、合成例1-17と同様に反応操作を行い、イソインドリン系顔料(a-18)を103.5部(収率80%)得た。
(Synthesis Example 1-18)
The same reaction procedure as in Synthesis Example 1-17 was carried out except that the barbituric acid in Synthesis Example 1-17 was changed to 1,3-dimethylbarbituric acid, to obtain 103.5 parts (yield 80%) of an isoindoline pigment (a-18).

(合成例1-19)
合成例1-15の2-シアノ-N-メチルアセトアミドを2-(4-オキソ-3,4-ジヒドロキナゾリン-2-イル)アセトニトリルに変更した以外は、合成例1-15と同様に反応操作を行い、イソインドリン系顔料(a-19)を96.4部(収率74%)得た。
(Synthesis Example 1-19)
Except for changing 2-cyano-N-methylacetamide in Synthesis Example 1-15 to 2-(4-oxo-3,4-dihydroquinazolin-2-yl)acetonitrile, the reaction was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1-15 to obtain 96.4 parts of an isoindoline pigment (a-19) (yield 74%).

(合成例1-20)
合成例1-17のバルビツール酸を1-(4-メチルフェニル)バルビツール酸に変更した以外は、合成例1-17と同様に反応操作を行い、イソインドリン系顔料(a-20)を118.6部(収率75%)得た。
(Synthesis Example 1-20)
The same reaction procedure as in Synthesis Example 1-17 was carried out except that the barbituric acid in Synthesis Example 1-17 was changed to 1-(4-methylphenyl)barbituric acid, to obtain 118.6 parts (yield 75%) of an isoindoline pigment (a-20).

(合成例1-21)
合成例1-4の1,3-ジイミノイソインドリン344.5mmolを4-メトキシ-1,3-ジイミノイソインドリン285.4mmolに、2-シアノ-N-(3,4-ジクロロフェニル)アセトアミド792.3mmolを656.4mmolに変更した以外は、合成例1-4と同様に反応操作を行い、イソインドリン系顔料(a-21)を71.8部(収率42%)得た。
(Synthesis example 1-21)
344.5 mmol of 1,3-diiminoisoindoline of Synthesis Example 1-4 was changed to 285.4 mmol of 4-methoxy-1,3-diiminoisoindoline, and 792 mmol of 2-cyano-N-(3,4-dichlorophenyl)acetamide was added. The reaction operation was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1-4, except that .3 mmol was changed to 656.4 mmol, and 71.8 parts (yield: 42%) of isoindoline pigment (a-21) was obtained.

(合成例1-22)
合成例1-4の1,3-ジイミノイソインドリン344.5mmolを1,3-ジイミノベンゾ[f]イソインドリン256.1mmolに、2-シアノ-N-(3,4-ジクロロ
フェニル)アセトアミド792.3mmolを2-シアノ-N-メチルアセトアミド589.1mmolに変更した以外は、合成例1-4と同様に反応操作を行い、イソインドリン系顔料(a-22)を36.6部(収率40%)得た。
(Synthesis example 1-22)
344.5 mmol of 1,3-diiminoisoindoline of Synthesis Example 1-4 was changed to 256.1 mmol of 1,3-diiminobenzo[f]isoindoline, and 792.3 mmol of 2-cyano-N-(3,4-dichlorophenyl)acetamide was added. The reaction operation was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1-4, except that 589.1 mmol of 2-cyano-N-methylacetamide was used, and 36.6 parts of isoindoline pigment (a-22) (yield 40%) )Obtained.

(合成例1-23)
合成例1-11の1,3-ジイミノイソインドリン344.5mmolを1,3-ジイミノベンゾ[f]イソインドリン256.1mmolに、2-シアノ-N-メチルアセトアミド396.1mmolを294.5mmolに、2-シアノ-N-(3,4-ジクロロフェニル)アセトアミド396.1mmolを294.5mmolに変更した以外は、合成例1-11と同様に反応操作を行い、イソインドリン系顔料(a-23)を48.8部(収率39%)得た。
(Synthesis example 1-23)
344.5 mmol of 1,3-diiminoisoindoline of Synthesis Example 1-11 was changed to 256.1 mmol of 1,3-diiminobenzo[f]isoindoline, 396.1 mmol of 2-cyano-N-methylacetamide was changed to 294.5 mmol, The reaction operation was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1-11, except that 396.1 mmol of 2-cyano-N-(3,4-dichlorophenyl)acetamide was changed to 294.5 mmol, and the isoindoline pigment (a-23) was 48.8 parts (yield 39%) were obtained.

(合成例1-24)
合成例1-22の2-シアノ-N-メチルアセトアミドを2-(4-オキソ-3,4-ジヒドロキナゾリン-2-イル)アセトニトリルに変更した以外は、合成例1-22と同様に反応操作を行い、イソインドリン系顔料(a-24)を53.5部(収率39%)得た。
(Synthesis Example 1-24)
Except for changing 2-cyano-N-methylacetamide in Synthesis Example 1-22 to 2-(4-oxo-3,4-dihydroquinazolin-2-yl)acetonitrile, the reaction was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1-22 to obtain 53.5 parts of an isoindoline pigment (a-24) (yield 39%).

(合成例1-25)
合成例1-11の1,3-ジイミノイソインドリン344.5mmolを1,3-ジイミノベンゾ[f]イソインドリン256.1mmolに、2-シアノ-N-メチルアセトアミ
ド396.1mmolを294.5mmolに、2-シアノ-N-(3,4-ジクロロフェニル)アセトアミド396.1mmolを2-(4-オキソ-3,4-ジヒドロキナゾリン-2-イル)アセトニトリル294.5mmolに変更した以外は、合成例1-11と同様に反応操作を行い、イソインドリン系顔料(a-25)を46.9部(収率41%)得た。
(Synthesis example 1-25)
344.5 mmol of 1,3-diiminoisoindoline of Synthesis Example 1-11 was changed to 256.1 mmol of 1,3-diiminobenzo[f]isoindoline, 396.1 mmol of 2-cyano-N-methylacetamide was changed to 294.5 mmol, Synthesis Example 1- except that 396.1 mmol of 2-cyano-N-(3,4-dichlorophenyl)acetamide was changed to 294.5 mmol of 2-(4-oxo-3,4-dihydroquinazolin-2-yl)acetonitrile. The reaction operation was carried out in the same manner as in 11 to obtain 46.9 parts (yield 41%) of isoindoline pigment (a-25).

(合成例1-26)
合成例1-9のバルビツール酸を1-(4-メチルフェニル)バルビツール酸に変更した以外は、合成例1-9と同様に反応操作を行い、イソインドリン系顔料(a-26)を105.6部(収率69%)得た。
(Synthesis Example 1-26)
The same reaction procedure as in Synthesis Example 1-9 was carried out except that the barbituric acid in Synthesis Example 1-9 was changed to 1-(4-methylphenyl)barbituric acid, to obtain 105.6 parts (yield 69%) of an isoindoline pigment (a-26).

(合成例1-27)
合成例1-8のバルビツール酸を1-(4-メチルフェニル)バルビツール酸に変更した以外は、合成例1-8と同様に反応操作を行い、イソインドリン系顔料(a-27)を83.2部(収率68%)得た。
(Synthesis Example 1-27)
The same reaction procedure as in Synthesis Example 1-8 was carried out except that the barbituric acid in Synthesis Example 1-8 was changed to 1-(4-methylphenyl)barbituric acid, to obtain 83.2 parts (yield 68%) of an isoindoline pigment (a-27).

合成例1-1~1-27で得られたイソインドリン系顔料の構造を表1に示す。なお、例えば、合成例1-15の化合物に見られるように、Y及びYと、Y及びYとの関係が非対称となる場合は、化合物は異性体の混合物として得られる。 The structures of the isoindoline pigments obtained in Synthesis Examples 1-1 to 1-27 are shown in Table 1. For example, as seen in the compound of Synthesis Example 1-15, when the relationship between Y1 and Y2 and the relationship between Y3 and Y4 are asymmetric, the compound is obtained as a mixture of isomers.

イソインドリン化合物の同定は、マススペクトラムの分子イオンピークと、計算によって得られる質量数(理論値)とを比較することによって実施した。マススペクトラムの分子イオンピークの測定は、Waters社のACQUITY UPLS H-Class(使用カラム:ACQUITY UPLC BEH C18 Column 130Å、1.7μm、2.1mm×50mm)/Ms TAP XEVO TQDを用いて実施し
た。イソインドリン化合物(合成例1-1~1-27)について、理論分子量と、質量分
析の測定値を表1に示す。測定値は測定の性質上、化合物のH(プロトン)が脱離するため、理論分子量の質量数-(マイナス)1の値であれば、化合物が一致することになる。
The isoindoline compound was identified by comparing the molecular ion peak of the mass spectrum with the mass number (theoretical value) obtained by calculation. The molecular ion peak of the mass spectrum was measured using Waters' ACQUITY UPLC BEH C18 Column 130 Å, 1.7 μm, 2.1 mm x 50 mm)/Ms TAP XEVO TQD. Table 1 shows the theoretical molecular weights and mass spectrometry measurements of the isoindoline compounds (Synthesis Examples 1-1 to 1-27). Due to the nature of the measurement, H (protons) from the compound are eliminated, so if the measured value is the mass number of the theoretical molecular weight - (minus) 1, the compounds will match.

表1中、Phはフェニル基を表し、例えばPh-Meはフェニル基中の1つの水素がメチル基に置換された構造を表す。また、Npは、一般式(1)において、Y、Yが以下
のような構造であることを表す。
In Table 1, Ph represents a phenyl group, for example, Ph-Me represents a structure in which one hydrogen atom in a phenyl group is replaced with a methyl group, and Np represents a structure in which Y 1 and Y 2 in general formula (1) are as follows:

<微細化顔料の製造>
(イソインドリン系顔料(a-1)の微細化)
イソインドリン系顔料(a-1)を10部、塩化ナトリウム100部、エチレングリコール12.5部をステンレス製ガロンニーダー(井上製作所製)中に仕込み、60℃で
12時間混練した。次に、混練した混合物を温水に投入し、約80℃ に加熱しながら1 時間攪拌してスラリー状として、濾過及び水洗をして食塩及びジエチレングリコールを除いた後、80℃で一昼夜乾燥させ粉砕することにより、9.4部のイソインドリン系微細化顔料(a-1K)を得た。
<Production of finely divided pigment>
(Micronization of isoindoline pigment (a-1))
10 parts of the isoindoline pigment (a-1), 100 parts of sodium chloride, and 12.5 parts of ethylene glycol were charged into a stainless steel gallon kneader (manufactured by Inoue Seisakusho) and kneaded for 12 hours at 60° C. Next, the kneaded mixture was poured into warm water and stirred for 1 hour while heating to about 80° C. to form a slurry, which was then filtered and washed with water to remove the salt and diethylene glycol, and then dried overnight at 80° C. and pulverized to obtain 9.4 parts of an isoindoline fine pigment (a-1K).

(イソインドリン系顔料(a-2)~(a-12)の微細化)
イソインドリン系顔料(a-2)~(a-12)についても、イソインドリン系顔料(a-1)同様に微細化処理を行い、イソインドリン系微細化顔料(a-2K)~(a-12K)を得た。
(Refining of isoindoline pigments (a-2) to (a-12))
The isoindoline pigments (a-2) to (a-12) were also subjected to the same refinement treatment as the isoindoline pigment (a-1), resulting in finely divided isoindoline pigments (a-2K) to (a- 12K) was obtained.

(黄色微細化顔料(PY-1)の製造)
黄色顔料C.I.ピグメント イエロー 74(トーヨーカラー社製「LIONOGEN YELLOW 0390」)を200部、塩化ナトリウム1400部、及びジエチレングリコール360部を、ステンレス製1ガロンニーダー(井上製作所社製)に仕込み、80℃で6時間混練した。次に、この混練物を8リットルの温水に投入し、80℃に加熱しながら2時間攪拌してスラリーを形成した。このスラリーを濾過し、水洗を繰り返すことによって塩化ナトリウム及びジエチレングリコールを除いた後、85℃で一昼夜乾燥し、黄色微細化顔料(PY-1)を得た。
(Production of Yellow Micronized Pigment (PY-1))
200 parts of yellow pigment C.I. Pigment Yellow 74 ("LIONOGEN YELLOW 0390" manufactured by Toyo Color Co., Ltd.), 1400 parts of sodium chloride, and 360 parts of diethylene glycol were charged into a stainless steel 1-gallon kneader (manufactured by Inoue Seisakusho Co., Ltd.) and kneaded at 80°C for 6 hours. Next, this kneaded product was put into 8 liters of warm water, and stirred for 2 hours while heating to 80°C to form a slurry. This slurry was filtered and repeatedly washed with water to remove sodium chloride and diethylene glycol, and then dried at 85°C for a day and night to obtain a yellow fine pigment (PY-1).

(黄色微細化顔料(PY-2)の製造)
黄色顔料C.I.ピグメント イエロー 74を、黄色顔料C.I.ピグメント イエロー 12(トーヨーカラー社製「FINESS YELLOW G-20S-12」)に変更した以外は、黄色微細化顔料(PY-1)の製造と同様に行い、97部の黄色微細化顔料(PY-2)を得た。
(Production of yellow finely divided pigment (PY-2))
Yellow pigment C. I. Pigment Yellow 74, yellow pigment C. I. Pigment Yellow 12 ("FINESS YELLOW G-20S-12" manufactured by Toyo Color Co., Ltd.) was manufactured in the same manner as in the production of yellow finely divided pigment (PY-1), and 97 parts of yellow finely divided pigment (PY-1) was used. 2) was obtained.

(赤色微細化顔料(PR-1)の製造)
市販のC.I.ピグメントレッド242(PR242)(クラリアント社製「Sandorin Scarlet 4RF」)100部、塩化ナトリウム1200部、及びジエチレングリコール120部をステンレス製1ガロンニーダー(井上製作所社製)に仕込み、60℃で6時間混練し、ソルトミリング処理した。得られた混練物を3リットルの温水に投入し、70℃に加熱しながら1時間撹拌してスラリー状とし、濾過、水洗を繰り返して塩化ナトリウム及びジエチレングリコールを除いた後、80℃で一昼夜乾燥し、98部の赤色微細化顔料(PR-1)を得た。
(Manufacture of red finely divided pigment (PR-1))
Commercially available C. I. 100 parts of Pigment Red 242 (PR242) ("Sandorin Scarlet 4RF" manufactured by Clariant), 1200 parts of sodium chloride, and 120 parts of diethylene glycol were placed in a stainless steel 1 gallon kneader (manufactured by Inoue Seisakusho) and kneaded at 60°C for 6 hours. , salt milled. The obtained kneaded product was poured into 3 liters of warm water and stirred for 1 hour while heating to 70°C to form a slurry. After repeated filtration and water washing to remove sodium chloride and diethylene glycol, it was dried at 80°C overnight. , 98 parts of red finely divided pigment (PR-1) were obtained.

(赤色微細化顔料(PR-2)の製造)
C.I.ピグメントレッド242(PR242)(クラリアント社製「Sandorin Scarlet 4RF」)を、C.I.ピグメントレッド269(PR269)(山陽色素株式会社製「PermanentCarmine3810」)に変更した以外は、赤色微細化顔料(PR-1)の製造と同様に行い、97部の赤色微細化顔料(PR-2)を得た。
(Production of Red Micronized Pigment (PR-2))
C.I. Pigment Red 242 (PR242) (Clariant's "Sandorin Scarlet 4RF") was replaced with C.I. Pigment Red 269 (PR269) (Sanyo Pigment Co., Ltd.'s "Permanent Carmine 3810"), and the same procedure as for the production of the red fine pigment (PR-1) was carried out to obtain 97 parts of a red fine pigment (PR-2).

(赤色微細化顔料(PR-3)の製造)
C.I.ピグメントレッド242(PR242)(クラリアント社製「Sandorin Scarlet 4RF」)を、C.I.ピグメントレッド57:1(トーヨーカラー社製「LIONOL RED TT-5701G」)に変更した以外は、赤色微細化顔料(PR-1)の製造と同様に行い、96部の赤色微細化顔料(PR-3)を得た。
(Manufacture of red finely divided pigment (PR-3))
C. I. Pigment Red 242 (PR242) (“Sandorin Scarlet 4RF” manufactured by Clariant) was mixed with C.I. I. Pigment Red 57:1 (LIONOL RED TT-5701G manufactured by Toyo Color Co., Ltd.) was manufactured in the same manner as the production of red finely divided pigment (PR-1), and 96 parts of red finely divided pigment (PR-1) was used. 3) was obtained.

(赤色微細化顔料(PR-4)の製造)
C.I.ピグメントレッド242(PR242)(クラリアント社製「Sandorin Scarlet 4RF」)を、C.I.ピグメントレッド48:3(トーヨーカラー社製「LIONOL RED TT-4803」)に変更した以外は、赤色微細化顔料(PR-1)の製造と同様に行い、99部の赤色微細化顔料(PR-4)を得た。
(Manufacture of red finely divided pigment (PR-4))
C. I. Pigment Red 242 (PR242) (“Sandorin Scarlet 4RF” manufactured by Clariant) was mixed with C.I. I. Pigment Red 48:3 (LIONOL RED TT-4803 manufactured by Toyo Color Co., Ltd.) was manufactured in the same manner as the production of red finely divided pigment (PR-1), and 99 parts of red finely divided pigment (PR-1) was used. 4) was obtained.

(赤色微細化顔料(PR-5)の製造)
C.I.ピグメントレッド242(PR242)(クラリアント社製「Sandorin Scarlet 4RF」)を、C.I.ピグメントレッド146(トーヨーカラー社製「LIONOL RED 5620」)に変更した以外は、赤色微細化顔料(PR-1)の製造と同様に行い、97部の赤色微細化顔料(PR-5)を得た。
(Production of Red Micronized Pigment (PR-5))
C.I. Pigment Red 242 (PR242) (Clariant's "Sandorin Scarlet 4RF") was replaced with C.I. Pigment Red 146 (Toyo Color's "LIONOL RED 5620"), and the same procedure as for the production of the red fine pigment (PR-1) was carried out to obtain 97 parts of a red fine pigment (PR-5).

(青色微細化顔料(PB-1)の製造)
フタロシアニン系青色顔料C.I.ピグメントブルー15:6(トーヨーカラー社製「リオノールブルーES」)100部、粉砕した食塩800部、及びジエチレングリコール100部をステンレス製1ガロンニーダー(井上製作所製)に仕込み、70℃で12時間混練した。この混合物を温水3000部に投入し、約70℃に加熱しながらハイスピードミキサーで約1時間攪拌してスラリー状とし、濾過、水洗をくりかえして食塩及び溶剤を除いた後、80℃で24時間乾燥し、98部の青色微細化顔料(PB-1)を得た。
(Manufacture of blue finely divided pigment (PB-1))
Phthalocyanine blue pigment C. I. 100 parts of Pigment Blue 15:6 ("Lionor Blue ES" manufactured by Toyo Color Co., Ltd.), 800 parts of crushed common salt, and 100 parts of diethylene glycol were placed in a stainless steel 1-gallon kneader (manufactured by Inoue Seisakusho) and kneaded at 70°C for 12 hours. did. This mixture was poured into 3,000 parts of warm water, heated to about 70°C and stirred with a high-speed mixer for about 1 hour to form a slurry. After repeated filtration and water washing to remove the salt and solvent, the mixture was heated to about 70°C for 24 hours. It was dried to obtain 98 parts of blue finely divided pigment (PB-1).

(紫色微細化顔料(PV-1)の製造)
ジオキサジン系紫色顔料C.I.ピグメントバイオレット23(Clariant社製「FastVioletRL」)120部、粉砕した食塩1600部、及びジエチレングリコール100部をステンレス製1ガロンニーダー(井上製作所製)に仕込み、90℃で18時間混練した。この混合物を温水5000部に投入し、約70℃に加熱しながらハイスピードミキサーで約1時間攪拌してスラリー状とし、濾過、水洗をくりかえして食塩及び溶剤を除いた後、80℃で24時間乾燥し、118部の紫色微細化顔料(PV-1)を得た。
(Production of Purple Micronized Pigment (PV-1))
120 parts of dioxazine-based purple pigment C.I. Pigment Violet 23 (Clariant's "FastViolet RL"), 1600 parts of ground salt, and 100 parts of diethylene glycol were charged into a stainless steel 1-gallon kneader (Inoue Seisakusho) and kneaded for 18 hours at 90 ° C. This mixture was added to 5000 parts of hot water, heated to about 70 ° C. and stirred with a high-speed mixer for about 1 hour to form a slurry, filtered and washed with water repeatedly to remove salt and solvent, and then dried at 80 ° C. for 24 hours to obtain 118 parts of purple fine pigment (PV-1).

<顔料の平均一次粒子径の測定>
顔料の平均一次粒子径は、電子顕微鏡写真から一次粒子の大きさを直接計測する方法で測定した。具体的には、個々の顔料の一次粒子の短軸径と長軸径を計測し、平均をその顔料粒子の粒径とした。次に、100個以上の顔料粒子について、それぞれの粒子の体積(重量)を、求めた粒径の立方体と近似して求め、体積平均粒径を平均一次粒子径とした。
なお、電子顕微鏡は透過型(TEM)を用いた。
この方法で測定した結果、イソインドリン系顔料(a-1)の平均一次粒子径は460nmであった。
上記方法により測定した顔料及び微細化顔料の平均一次粒子径を、表2に示す。なお、(a-1)、(a-2)は、上記微細化処理を行う前のクルード顔料である。
<Measurement of average primary particle size of pigment>
The average primary particle diameter of the pigment was measured by directly measuring the size of the primary particles from an electron micrograph. Specifically, the minor axis diameter and major axis diameter of each primary particle of the pigment were measured, and the average was taken as the particle diameter of the pigment particle. Next, for 100 or more pigment particles, the volume (weight) of each particle was determined by approximating it to a cube of the determined particle size, and the volume average particle size was taken as the average primary particle size.
Note that a transmission type (TEM) electron microscope was used.
As a result of measurement using this method, the average primary particle diameter of the isoindoline pigment (a-1) was 460 nm.
Table 2 shows the average primary particle diameters of the pigments and finely divided pigments measured by the above method. Note that (a-1) and (a-2) are crude pigments before being subjected to the above-mentioned refining treatment.

<染料の製造>
(赤色染料(DR-1)の製造)
赤色酸性染料C.I.ベーシックレッド12を39.2部、水392部、メタノール39.2部を混合し、塩化ジデシルジメチルアンモニウム36.2部を水362部に溶解させた溶液を少しずつ加えた。徐々に粉体が析出してきたので、ヌッチェ上でこれを濾過し、水200部を2回ふりかけ洗浄した。その後、粉体を取り出し、80℃8時間乾燥し、C.I.ベーシックレッド12と塩化ジデシルジメチルアンモニウムの造塩物である赤色染料(DR-1)70.1部を得た。
<Manufacture of dye>
(Manufacture of red dye (DR-1))
Red acid dye C. I. 39.2 parts of Basic Red 12, 392 parts of water, and 39.2 parts of methanol were mixed, and a solution of 36.2 parts of didecyldimethylammonium chloride dissolved in 362 parts of water was added little by little. Powder gradually precipitated, so it was filtered on a Nutsche filter and washed by sprinkling 200 parts of water twice. Thereafter, the powder was taken out and dried at 80°C for 8 hours. I. 70.1 parts of a red dye (DR-1), which is a salt formed from Basic Red 12 and didecyldimethylammonium chloride, was obtained.

(赤色染料(DR-2)の製造)
赤色酸性染料C.I.アシッドレッド52を58.0部、水580部、メタノール58.0部を混合し、塩化ジデシルジメチルアンモニウム36.2部を水362部に溶解させた溶液を少しずつ加えた。徐々に粉体が析出してきたので、ヌッチェ上でこれを濾過し、水200部を2回ふりかけ洗浄した。その後、粉体を取り出し、80℃で8時間乾燥し、C.I.アシッドレッド52と塩化ジデシルジメチルアンモニウムの造塩物である赤色染料(DR-2)90.6部を得た。
(Production of Red Dye (DR-2))
58.0 parts of red acid dye C.I. Acid Red 52, 580 parts of water, and 58.0 parts of methanol were mixed, and a solution of 36.2 parts of didecyldimethylammonium chloride dissolved in 362 parts of water was added little by little. Powder gradually precipitated, so this was filtered on a Nutsche and washed by sprinkling 200 parts of water twice. Thereafter, the powder was taken out and dried at 80°C for 8 hours to obtain 90.6 parts of red dye (DR-2), which is a salt product of C.I. Acid Red 52 and didecyldimethylammonium chloride.

(黄色染料(DY-1)の製造)
黄色酸性染料C.I.アシッドイエロー49を42.6部、水426部、メタノール42.6部を混合し、塩化ジデシルジメチルアンモニウム36.2部を水362部に溶解させた溶液を少しずつ加えた。徐々に粉体が析出してきたので、ヌッチェ上でこれを濾過し、水200部を2回ふりかけ洗浄した。その後、粉体を取り出し、80℃で8時間乾燥し、C.I.アシッドレッド52と塩化ジデシルジメチルアンモニウムの造塩物である黄色染料(DY-1)90.6部を得た。
(Production of yellow dye (DY-1))
Yellow acid dye C. I. 42.6 parts of Acid Yellow 49, 426 parts of water, and 42.6 parts of methanol were mixed, and a solution of 36.2 parts of didecyldimethylammonium chloride dissolved in 362 parts of water was added little by little. Powder gradually precipitated, so it was filtered on a Nutsche filter and washed by sprinkling 200 parts of water twice. Thereafter, the powder was taken out and dried at 80°C for 8 hours. I. 90.6 parts of a yellow dye (DY-1), which is a salt formed from Acid Red 52 and didecyldimethylammonium chloride, was obtained.

<バインダー樹脂溶液の調製方法>
(バインダー樹脂溶液1)
セパラブル4口フラスコに温度計、冷却管、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付けた反応容器にシクロヘキサノン70.0部を仕込み、80℃に昇温し、反応容器内を窒素置換した後、滴下管よりn-ブチルメタクリレート13.3部、2-ヒドロキシエチルメタクリレート4.6部、メタクリル酸4.3部、パラクミルフェノールエチレンオキサイド変性アクリレート(東亞合成株式会社製「アロニックスM110」)7.4部、2,2'-
アゾビスイソブチロニトリル0.4部の混合物を2時間かけて滴下した。滴下終了後、更に3時間反応を継続し、重量平均分子量26000のアクリル樹脂の溶液を得た。室温まで冷却した後、樹脂溶液約2gをサンプリングして180℃、20分加熱乾燥して不揮発分を測定し、先に合成した樹脂溶液に不揮発分が20重量%になるようにメトキシプロピルアセテートを添加してバインダー樹脂溶液1を調製した。ここで、バインダー樹脂の重量平均分子量(Mw)は、ポリスチレンを標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定した。酸価を測定したところ、94であった。
<Method of preparing binder resin solution>
(Binder resin solution 1)
A separable 4-neck flask was fitted with a thermometer, a cooling tube, a nitrogen gas inlet tube, and a stirrer. A reaction vessel was charged with 70.0 parts of cyclohexanone, and the temperature was raised to 80° C. The atmosphere inside the reaction vessel was replaced with nitrogen. Then, 13.3 parts of n-butyl methacrylate, 4.6 parts of 2-hydroxyethyl methacrylate, 4.3 parts of methacrylic acid, 7.4 parts of paracumylphenol ethylene oxide modified acrylate ("Aronix M110" manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 2,2'-
A mixture of 0.4 parts of azobisisobutyronitrile was dropped over 2 hours. After the dropwise addition, the reaction was continued for another 3 hours to obtain a solution of an acrylic resin with a weight average molecular weight of 26,000. After cooling to room temperature, about 2 g of the resin solution was sampled and dried by heating at 180 ° C for 20 minutes to measure the non-volatile content, and methoxypropyl acetate was added to the previously synthesized resin solution so that the non-volatile content was 20 wt% to prepare binder resin solution 1. Here, the weight average molecular weight (Mw) of the binder resin was measured by gel permeation chromatography (GPC) using polystyrene as a standard substance. The acid value was measured and found to be 94.

(バインダー樹脂溶液2)
温度計、冷却管、窒素ガス導入管、滴下管及び撹拌装置を備えたセパラブル4口フラスコにシクロヘキサノン370部を仕込み、80℃ に昇温し、フラスコ内を窒素置換した
後、滴下管より、パラクミルフェノールエチレンオキサイド変性アクリレート(東亜合成社製アロニックスM110)18部、ベンジルメタクリレート10部、グリシジルメタクリレート18.2部、メタクリル酸メチル25部、及び2,2'-アゾビスイソブチロニ
トリル2.0部の混合物を2 時間かけて滴下した。滴下後、更に100℃ で3時間反応させた後、アゾビスイソブチロニトリル1.0部をシクロヘキサノン50部で溶解させたものを添加し、更に100℃で1時間反応を続けた。次に、容器内を空気置換に替え、
アクリル酸9.3部(グリシジル基の100%)にトリスジメチルアミノフェノール0.
5部及びハイドロキノン0.1部を上記容器内に投入し、120℃ で6時間反応を続け固形分酸価0.5となったところで反応を終了し、共重合体溶液を得た。更に、引き続きテトラヒドロ無水フタル酸19.5部(生成した水酸基の100%)、トリエチルアミン0.5部を加え120℃で3.5時間反応させカルボキシ基と、共重合体溶液を得た。
室温まで冷却した後、樹脂溶液約2gをサンプリングして180℃、20分加熱乾燥して不揮発分を測定し、先に合成した樹脂溶液に不揮発分が20重量%になるようにシクロヘキサノンを添加してバインダー樹脂溶液2を調製した。重量平均分子量(Mw)は19000、酸価は72であった。
(Binder resin solution 2)
A separable 4-neck flask equipped with a thermometer, a cooling tube, a nitrogen gas introduction tube, a dropping tube and a stirrer was charged with 370 parts of cyclohexanone, and the temperature was raised to 80°C. After the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen, a mixture of 18 parts of paracumylphenol ethylene oxide modified acrylate (Aronix M110 manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 10 parts of benzyl methacrylate, 18.2 parts of glycidyl methacrylate, 25 parts of methyl methacrylate and 2.0 parts of 2,2'-azobisisobutyronitrile was added dropwise over 2 hours from the dropping tube. After the dropping, the mixture was reacted for another 3 hours at 100°C, and then a solution of 1.0 part of azobisisobutyronitrile dissolved in 50 parts of cyclohexanone was added, and the reaction was continued for another 1 hour at 100°C. Next, the atmosphere in the vessel was replaced with air,
9.3 parts of acrylic acid (100% of glycidyl groups) to 0.
Into the vessel, 19.5 parts of tetrahydrophthalic anhydride (100% of the generated hydroxyl groups) and 0.5 parts of triethylamine were added and reacted at 120°C for 3.5 hours to obtain a copolymer solution.
After cooling to room temperature, about 2 g of the resin solution was sampled and dried by heating at 180° C. for 20 minutes to measure the non-volatile content, and cyclohexanone was added to the previously synthesized resin solution so that the non-volatile content became 20% by weight to prepare binder resin solution 2. The weight average molecular weight (Mw) was 19,000 and the acid value was 72.

(比較バインダー樹脂溶液1)
セパラブル4口フラスコに温度計、冷却管、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付けた反応容器にシクロヘキサノン70.0部を仕込み、80℃に昇温し、反応容器内を窒素置換した後、滴下管よりn-ブチルメタクリレート16.7部、2-ヒドロキシエチルメタクリレート4.6部、メタクリル酸0.9部、パラクミルフェノールエチレンオキサイド変性アクリレート(東亞合成株式会社製「アロニックスM110」)7.4部、2,2'-
アゾビスイソブチロニトリル0.4部の混合物を2時間かけて滴下した。滴下終了後、更に3時間反応を継続し、重量平均分子量26000のアクリル樹脂の溶液を得た。室温まで冷却した後、樹脂溶液約2gをサンプリングして180℃、20分加熱乾燥して不揮発分を測定し、先に合成した樹脂溶液に不揮発分が20重量%になるようにメトキシプロピルアセテートを添加してバインダー樹脂溶液1を調製した。ここで、バインダー樹脂の重量平均分子量(Mw)は、ポリスチレンを標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定した。酸価を測定したところ、20であった。
(Comparative Binder Resin Solution 1)
A separable 4-neck flask was fitted with a thermometer, a cooling tube, a nitrogen gas inlet tube, and a stirrer. A reaction vessel was charged with 70.0 parts of cyclohexanone, and the temperature was raised to 80° C. The atmosphere in the reaction vessel was replaced with nitrogen. Then, 16.7 parts of n-butyl methacrylate, 4.6 parts of 2-hydroxyethyl methacrylate, 0.9 parts of methacrylic acid, 7.4 parts of paracumylphenol ethylene oxide modified acrylate (Toagosei Co., Ltd.'s "Aronix M110"), 2,2'-
A mixture of 0.4 parts of azobisisobutyronitrile was dropped over 2 hours. After the dropwise addition, the reaction was continued for another 3 hours to obtain a solution of an acrylic resin with a weight average molecular weight of 26,000. After cooling to room temperature, about 2 g of the resin solution was sampled and dried by heating at 180 ° C for 20 minutes to measure the non-volatile content, and methoxypropyl acetate was added to the previously synthesized resin solution so that the non-volatile content was 20 wt% to prepare binder resin solution 1. Here, the weight average molecular weight (Mw) of the binder resin was measured by gel permeation chromatography (GPC) using polystyrene as a standard substance. The acid value was measured and found to be 20.

(比較バインダー樹脂溶液2)
セパラブル4口フラスコに温度計、冷却管、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付けた反応容器にシクロヘキサノン70.0部を仕込み、80℃に昇温し、反応容器内を窒素置換した後、滴下管よりn-ブチルメタクリレート10.2部、2-ヒドロキシエチルメタクリレート4.6部、メタクリル酸7.4部、パラクミルフェノールエチレンオキサイド変性アクリレート(東亞合成株式会社製「アロニックスM110」)7.4部、2,2'-
アゾビスイソブチロニトリル0.4部の混合物を2時間かけて滴下した。滴下終了後、更に3時間反応を継続し、重量平均分子量26000のアクリル樹脂の溶液を得た。室温まで冷却した後、樹脂溶液約2gをサンプリングして180℃、20分加熱乾燥して不揮発分を測定し、先に合成した樹脂溶液に不揮発分が20重量%になるようにメトキシプロピルアセテートを添加してバインダー樹脂溶液1を調製した。ここで、バインダー樹脂の重量平均分子量(Mw)は、ポリスチレンを標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定した。酸価を測定したところ、160であった。
(Comparative binder resin solution 2)
70.0 parts of cyclohexanone was placed in a separable 4-necked flask equipped with a thermometer, a cooling tube, a nitrogen gas introduction tube, and a stirring device, and the temperature was raised to 80°C. After purging the inside of the reaction vessel with nitrogen, 10.2 parts of n-butyl methacrylate, 4.6 parts of 2-hydroxyethyl methacrylate, 7.4 parts of methacrylic acid, 7.4 parts of paracumylphenol ethylene oxide modified acrylate ("Aronix M110" manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 2,2'-
A mixture of 0.4 part of azobisisobutyronitrile was added dropwise over 2 hours. After the dropwise addition was completed, the reaction was continued for another 3 hours to obtain a solution of acrylic resin having a weight average molecular weight of 26,000. After cooling to room temperature, about 2 g of the resin solution was sampled and dried by heating at 180°C for 20 minutes to measure the nonvolatile content. Methoxypropyl acetate was added to the previously synthesized resin solution so that the nonvolatile content was 20% by weight. Binder resin solution 1 was prepared by adding the following. Here, the weight average molecular weight (Mw) of the binder resin was measured by gel permeation chromatography (GPC) using polystyrene as a standard substance. The acid value was measured and found to be 160.

<樹脂型分散剤溶液の調製方法>
(塩基性樹脂型分散剤溶液1):ブロックアクリル型塩基性分散剤
[モノマー(b-1)の合成]
攪拌機、温度計を備えた反応容器に、メタクリル酸2-イソシアナトエチル60部、3-(ジメチルアミノ)プロピルアミン29部、THF120部を仕込み、室温で5時間撹拌した。FT-IRで反応が完結していることを確認したのち、ロータリーエバポレーターで溶媒を留去し、淡黄色透明の液体として、下記のモノマー(b-1)を73部得た(収率82%)。得られた化合物の同定は、H-NMRで実施した。
<Preparation method of resin type dispersant solution>
(Basic resin type dispersant solution 1): Block acrylic type basic dispersant [Synthesis of monomer (b-1)]
A reaction vessel equipped with a stirrer and a thermometer was charged with 60 parts of 2-isocyanatoethyl methacrylate, 29 parts of 3-(dimethylamino)propylamine, and 120 parts of THF, and stirred at room temperature for 5 hours. After confirming the completion of the reaction by FT-IR, the solvent was distilled off using a rotary evaporator to obtain 73 parts of the following monomer (b-1) as a pale yellow transparent liquid (yield: 82%). ). The obtained compound was identified by 1 H-NMR.

モノマー(b-1)
Monomer (b-1)

[モノマー(b-2)の合成]
攪拌機、温度計を備えた反応容器に、モノマー(b-1)の合成で得られた、モノマー(b-1)6.6部、イオン交換水5部を仕込み、室温で撹拌したのち、35%塩酸水溶液8部を滴下した。アミン価測定で反応が完結していることを確認し、淡黄色透明液体として、モノマー(b-2)水溶液を20部得た。得られた化合物の同定は、H-NMRで実施した。
[Synthesis of monomer (b-2)]
A reaction vessel equipped with a stirrer and a thermometer was charged with 6.6 parts of monomer (b-1) obtained in the synthesis of monomer (b-1) and 5 parts of ion-exchanged water, and stirred at room temperature. % aqueous hydrochloric acid solution was added dropwise. Completion of the reaction was confirmed by amine value measurement, and 20 parts of a monomer (b-2) aqueous solution was obtained as a pale yellow transparent liquid. The obtained compound was identified by 1 H-NMR.

モノマー(b-2)
Monomer (b-2)

ガス導入管、コンデンサー、攪拌翼、及び温度計を備え付けた反応槽に、メチルメタクリレート17.7部、n-ブチルメタクリレート53.2部、テトラメチルエチレンジアミン13.2部を仕込み、窒素を流しながら50℃で1時間撹拌し、系内を窒素置換した。次に、ブロモイソ酪酸エチル2.6部、塩化第一銅5.6部、PGMAc100部を仕込み、窒素気流下で、110℃まで昇温して第一ブロックの重合を開始した。4時間重合後、重合溶液をサンプリングして不揮発分測定を行い、不揮発分から換算して重合転化率が98%以上であることを確認した。
次に、この反応槽に、PGMAc20部、第二ブロックモノマーとしてモノマー(b-1)21.2部、モノマー(b-2)水溶液27部(不揮発分38%)を投入し、110℃・窒素雰囲気下を保持したまま撹拌し、反応を継続した。2時間後、重合溶液をサンプリングして不揮発分測定を行い、不揮発分から換算して第二ブロックの重合転化率が98%以上であることを確認し、反応溶液を室温まで冷却して重合を停止した。
先に合成したブロック共重合体溶液に不揮発分が40重量%になるようにPGMAcを添加した。このようにして、不揮発分当たりのアミン価が50mgKOH/g、4級アンモニウム塩価が20mgKOH/g、重量平均分子量(Mw)9,800の塩基性樹脂型分散剤溶液1を得た。
In a reaction vessel equipped with a gas inlet tube, a condenser, a stirring blade, and a thermometer, 17.7 parts of methyl methacrylate, 53.2 parts of n-butyl methacrylate, and 13.2 parts of tetramethylethylenediamine were charged, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 1 hour while flowing nitrogen, and the inside of the system was replaced with nitrogen. Next, 2.6 parts of ethyl bromoisobutyrate, 5.6 parts of cuprous chloride, and 100 parts of PGMAc were charged, and the temperature was raised to 110 ° C. under a nitrogen stream to initiate polymerization of the first block. After polymerization for 4 hours, the polymerization solution was sampled and the nonvolatile content was measured, and it was confirmed that the polymerization conversion rate was 98% or more based on the nonvolatile content.
Next, 20 parts of PGMAc, 21.2 parts of monomer (b-1) as a second block monomer, and 27 parts of an aqueous solution of monomer (b-2) (non-volatile content 38%) were added to this reaction tank, and the reaction was continued by stirring while maintaining a nitrogen atmosphere at 110° C. After 2 hours, a sample of the polymerization solution was taken to measure the non-volatile content, and it was confirmed that the polymerization conversion rate of the second block was 98% or more calculated from the non-volatile content, and the reaction solution was cooled to room temperature to terminate the polymerization.
PGMAc was added to the block copolymer solution synthesized above so that the non-volatile content was 40% by weight. In this way, a basic resin-type dispersant solution 1 was obtained, which had an amine value per non-volatile content of 50 mgKOH/g, a quaternary ammonium salt value of 20 mgKOH/g, and a weight average molecular weight (Mw) of 9,800.

(塩基性樹脂型分散剤溶液2):ブロックアクリル型塩基性分散剤
ガス導入管、コンデンサー、攪拌翼、及び温度計を備え付けた反応装置に、メチルメタクリレート60部、nーブチルメタクリレート20部、テトラメチルエチレンジアミン13.2部を仕込み、窒素を流しながら50℃で1時間撹拌し、系内を窒素置換した。次に、ブロモイソ酪酸エチル9.3部、塩化第一銅5.6部、PGMAc133部を仕込み、窒素気流下で、110℃まで昇温して第一ブロックの重合を開始した。4時間重合後、重合溶液をサンプリングして不揮発分測定を行い、不揮発分から換算して重合転化率が98%以上であることを確認した。
次に、この反応装置に、PGMAc61部、第二ブロックモノマーとしてジメチルアミノエチルメタクリレート20部(以下、DMという)を投入し、110℃・窒素雰囲気下を保持したまま撹拌し、反応を継続した。ジメチルアミノエチルメタクリレート投入から2時間後、重合溶液をサンプリングして不揮発分測定を行い、不揮発分から換算して第二ブロックの重合転化率が98%以上であることを確認し、反応溶液を室温まで冷却して重合を停止した。
先に合成したブロック共重合体溶液に不揮発分が40重量%になるようにPGMAcを添加した。このようにして、不揮発分当たりのアミン価が71.4mgKOH/g、重量平均分子量9900(Mw)の、ポリ(メタ)アクリレート骨格と3級アミノ基を有する塩基性樹脂型分散剤溶2を得た。
(Basic resin type dispersant solution 2): Block acrylic type basic dispersant In a reaction apparatus equipped with a gas introduction tube, a condenser, a stirring blade, and a thermometer, 60 parts of methyl methacrylate, 20 parts of n-butyl methacrylate, and 13.2 parts of methylethylenediamine was charged, and the mixture was stirred at 50° C. for 1 hour while flowing nitrogen, and the inside of the system was purged with nitrogen. Next, 9.3 parts of ethyl bromoisobutyrate, 5.6 parts of cuprous chloride, and 133 parts of PGMAc were charged, and the temperature was raised to 110° C. under a nitrogen stream to initiate polymerization of the first block. After 4 hours of polymerization, the polymerization solution was sampled and the nonvolatile content was measured, and it was confirmed that the polymerization conversion rate was 98% or more as calculated from the nonvolatile content.
Next, 61 parts of PGMAc and 20 parts of dimethylaminoethyl methacrylate (hereinafter referred to as DM) as a second block monomer were charged into this reactor, and the reaction was continued by stirring while maintaining the temperature at 110° C. and a nitrogen atmosphere. Two hours after adding dimethylaminoethyl methacrylate, the polymerization solution was sampled to measure the nonvolatile content, and it was confirmed that the polymerization conversion rate of the second block was 98% or more in terms of nonvolatile content, and the reaction solution was cooled to room temperature. Polymerization was stopped by cooling.
PGMAc was added to the previously synthesized block copolymer solution so that the nonvolatile content was 40% by weight. In this way, a basic resin type dispersant solution 2 having a poly(meth)acrylate skeleton and a tertiary amino group with an amine value per non-volatile content of 71.4 mgKOH/g and a weight average molecular weight of 9900 (Mw) was obtained. Ta.

(塩基性樹脂型分散剤溶液3):ブロックアクリル型塩基性分散剤
ガス導入管、コンデンサー、攪拌翼、及び温度計を備え付けた反応装置に、メチルメタクリレート60部、nーブチルメタクリレート20部、テトラメチルエチレンジアミン13.2部を仕込み、窒素を流しながら50℃で1時間撹拌し、系内を窒素置換した。次に、ブロモイソ酪酸エチル9.3部、塩化第一銅5.6部、PGMAc133部を仕込み、窒素気流下で、110℃まで昇温して第一ブロックの重合を開始した。4時間重合後、重合溶液をサンプリングして不揮発分測定を行い、不揮発分から換算して重合転化率が98%以上であることを確認した。
次に、この反応装置に、PGMAc61部、第二ブロックモノマーとしてメタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド水溶液25.6部(三菱レイヨン社製「アクリエステルDMC78」)を投入し、110℃・窒素雰囲気下を保持したまま撹拌し、反応を継続した。メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド投入から2時間後、重合溶液をサンプリングして不揮発分測定を行い、不揮発分から換算して
第二ブロックの重合転化率が98%以上であることを確認し、反応溶液を室温まで冷却して重合を停止した。
先に合成したブロック共重合体溶液に不揮発分が40重量%になるようにPGMAcを添加した。このようにして、不揮発分当たりのアミン価が29.4mgKOH/g、重量平均分子量9800(Mw)の、ポリ(メタ)アクリレート骨格と4級アンモニウム塩基を有する塩基性樹脂型分散剤溶液3を得た。
(Basic resin type dispersant solution 3): Block acrylic type basic dispersant A reaction apparatus equipped with a gas inlet tube, a condenser, an agitator blade, and a thermometer was charged with 60 parts of methyl methacrylate, 20 parts of n-butyl methacrylate, and 13.2 parts of tetramethylethylenediamine, and stirred at 50 ° C. for 1 hour while flowing nitrogen, and the system was replaced with nitrogen. Next, 9.3 parts of ethyl bromoisobutyrate, 5.6 parts of cuprous chloride, and 133 parts of PGMAc were charged, and the temperature was raised to 110 ° C. under a nitrogen stream to initiate polymerization of the first block. After polymerization for 4 hours, the polymerization solution was sampled and the nonvolatile content was measured, and it was confirmed that the polymerization conversion rate was 98% or more based on the nonvolatile content.
Next, 61 parts of PGMAc and 25.6 parts of an aqueous solution of methacryloyloxyethyl trimethyl ammonium chloride ("Acryester DMC78" manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) as a second block monomer were added to the reactor, and the reaction was continued by stirring while maintaining 110° C. and a nitrogen atmosphere. Two hours after the addition of methacryloyloxyethyl trimethyl ammonium chloride, the polymerization solution was sampled and the nonvolatile content was measured. It was confirmed that the polymerization conversion rate of the second block was 98% or more calculated from the nonvolatile content, and the reaction solution was cooled to room temperature to stop the polymerization.
PGMAc was added to the block copolymer solution synthesized above so that the non-volatile content was 40% by weight. In this way, a basic resin-type dispersant solution 3 having a poly(meth)acrylate skeleton and a quaternary ammonium salt group, an amine value per non-volatile content of 29.4 mgKOH/g and a weight average molecular weight of 9800 (Mw), was obtained.

(塩基性樹脂型分散剤溶液4):ブロックアクリル型塩基性分散剤
攪拌機、温度計を備えた反応容器に、4-ジメチルアミノ-1,2-エポキシブタン55部、テトラヒドロフラン(THF)120部を仕込み、70℃で加熱撹拌し、メタクリル酸35部を60分かけて滴下した。滴下完了後、70℃でさらに2時間加熱撹拌しH-NMRで反応が完結していることを確認したのち、室温に放冷した。反応溶液を、イオン交換水300部、飽和炭酸水素ナトリウム200部、飽和食塩水200部で順次洗浄後、有機層に硫酸マグネシウム20gを加え、撹拌後、ろ過を行った。得られた溶液の溶媒をロータリーエバポレーターで留去し、淡黄色透明の液体として、下記のモノマー(b-3)を31部得た(収率42%)。得られた化合物の同定は、H-NMRで実施した。
(Basic resin type dispersant solution 4): Block acrylic type basic dispersant
In a reaction vessel equipped with a stirrer and a thermometer, 55 parts of 4-dimethylamino-1,2-epoxybutane and 120 parts of tetrahydrofuran (THF) were charged, and the mixture was heated and stirred at 70° C., and 35 parts of methacrylic acid was added dropwise over 60 minutes. After completion of the dropwise addition, the mixture was heated and stirred at 70° C. for another 2 hours, and the reaction was confirmed to be complete by 1 H-NMR, and then the mixture was allowed to cool to room temperature. The reaction solution was washed successively with 300 parts of ion-exchanged water, 200 parts of saturated sodium bicarbonate, and 200 parts of saturated saline, and then 20 g of magnesium sulfate was added to the organic layer, and the mixture was stirred and filtered. The solvent of the obtained solution was distilled off with a rotary evaporator, and 31 parts of the following monomer (b-3) was obtained as a pale yellow transparent liquid (yield 42%). The obtained compound was identified by 1 H-NMR.

モノマー(b-3)
Monomer (b-3)

ガス導入管、コンデンサー、攪拌翼、及び温度計を備え付けた反応槽に、メチルメタクリレート17.6部、n-ブチルメタクリレート52.8部、テトラメチルエチレンジアミン13.2部を仕込み、窒素を流しながら50℃で1時間撹拌し、系内を窒素置換した。次に、ブロモイソ酪酸エチル2.6部、塩化第一銅5.6部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100部を仕込み、窒素気流下で、110℃まで昇温して第一ブロックの重合を開始した。4時間重合後、重合溶液をサンプリングして不揮発分測定を行い、不揮発分から換算して重合転化率が98%以上であることを確認した。
次に、この反応槽に、PGMAc25部、第二ブロックモノマーとして、エチレン性不飽和単量体(b-3)25.1部を投入し、110℃・窒素雰囲気下を保持したまま撹拌し、反応を継続した。エチレン性不飽和単量体(b-3)投入から2時間後、重合溶液をサンプリングして不揮発分測定を行い、不揮発分から換算して第二ブロックの重合転化率が98%以上であることを確認した。
さらに、この反応装置に、ベンジルクロライド4.5部を投入し、110℃・窒素雰囲気下を保持したまま3時間撹拌し、その後冷却した。
先に合成したブロック共重合体溶液に不揮発分が40重量%になるようにPGMAcを添加した。このようにして、不揮発分当たりのアミン価が50mgKOH/g、4級アンモニウム塩価が20mgKOH/g、重量平均分子量(Mw)9,800、不揮発分が40重量%の塩基性樹脂型分散剤溶液4を得た。
In a reaction vessel equipped with a gas inlet tube, a condenser, a stirring blade, and a thermometer, 17.6 parts of methyl methacrylate, 52.8 parts of n-butyl methacrylate, and 13.2 parts of tetramethylethylenediamine were charged, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 1 hour while flowing nitrogen, and the inside of the system was replaced with nitrogen. Next, 2.6 parts of ethyl bromoisobutyrate, 5.6 parts of cuprous chloride, and 100 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate were charged, and the temperature was raised to 110 ° C. under a nitrogen stream to initiate polymerization of the first block. After polymerization for 4 hours, the polymerization solution was sampled and the nonvolatile content was measured, and it was confirmed that the polymerization conversion rate was 98% or more based on the nonvolatile content.
Next, 25 parts of PGMAc and 25.1 parts of ethylenically unsaturated monomer (b-3) as a second block monomer were added to this reaction tank, and the reaction was continued by stirring while maintaining a nitrogen atmosphere at 110° C. Two hours after the addition of the ethylenically unsaturated monomer (b-3), a sample was taken from the polymerization solution and the nonvolatile content was measured, and it was confirmed that the polymerization conversion rate of the second block was 98% or more based on the nonvolatile content.
Further, 4.5 parts of benzyl chloride was added to the reaction vessel, and the mixture was stirred for 3 hours while maintaining the temperature at 110° C. under a nitrogen atmosphere, and then cooled.
PGMAc was added to the block copolymer solution synthesized above so that the nonvolatile content was 40% by weight. In this way, a basic resin-type dispersant solution 4 was obtained, which had an amine value per nonvolatile content of 50 mgKOH/g, a quaternary ammonium salt value of 20 mgKOH/g, a weight average molecular weight (Mw) of 9,800, and a nonvolatile content of 40% by weight.

(塩基性樹脂型分散剤溶液5)
下記構造の樹脂型分散剤を公知の方法で得た(主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Mw=21000)。不揮発分が40重量%になるようにPGMAcを添加し、塩基性樹脂型分散剤溶液5を得た。繰り返し単位に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。



(Basic resin type dispersant solution 5)
A resin-type dispersant having the following structure was obtained by a known method (the numerical value appended to the main chain is the molar ratio, and the numerical value appended to the side chain is the number of repeating units. Mw = 21000). PGMAc was added so that the nonvolatile content was 40% by weight to obtain basic resin type dispersant solution 5. The numerical value appended to the repeating unit is the molar ratio, and the numerical value appended to the side chain is the number of repeating units.



(酸性樹脂型分散剤溶液1)
下記構造の樹脂型分散剤を公知の方法で得た(主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。M w=26000)。不揮発分が40重
量%になるようにPGMAcを添加し、酸価53の酸性樹脂型分散剤溶液1を得た。繰り返し単位に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である


(Acidic resin type dispersant solution 1)
A resin-type dispersant having the following structure was obtained by a known method (the number attached to the main chain is the molar ratio, and the number attached to the side chain is the number of repeating units. Mw = 26,000). PGMAc was added so that the non-volatile content became 40% by weight, and an acidic resin-type dispersant solution 1 with an acid value of 53 was obtained. The number attached to the repeating unit is the molar ratio, and the number attached to the side chain is the number of repeating units.

(酸性樹脂型分散剤溶液2)
ガス導入管、温度計、コンデンサー、攪拌機を備えた反応容器に、メチルメタクリレート45部、メタクリル酸5部、n-ブチルメタクリレート50部、PGMAc45.4部を仕込み、窒素ガスで置換した。反応容器内を70℃に加熱して、3-メルカプト-1,2-プロパンジオール6部を添加して、さらにAIBN(アゾビスイソブチロニトリル)0.12部を加え、12時間反応した。不揮発分測定により95%が反応したことを確認した。次に、ピロメリット酸無水物9.7部、PGMAc70.3部、触媒としてDBU(1,8-ジアザビシクロ-[5.4.0]-7-ウンデセン)0.20部を追加し、120℃で7時間反応させた。酸価の測定で98%以上の酸無水物がハーフエステル化していることを確認し反応を終了した。PGMAcを加えて不揮発分40%に調整した。このようにして、酸価75、重量平均分子量9000、ポリ(メタ)アクリレート骨格であり、芳香族カルボキシ基を有する酸性樹脂型分散剤溶液2を得た。
(Acidic resin type dispersant solution 2)
A reaction vessel equipped with a gas inlet tube, a thermometer, a condenser, and a stirrer was charged with 45 parts of methyl methacrylate, 5 parts of methacrylic acid, 50 parts of n-butyl methacrylate, and 45.4 parts of PGMAc, and the mixture was purged with nitrogen gas. The inside of the reaction vessel was heated to 70° C., 6 parts of 3-mercapto-1,2-propanediol were added, and further 0.12 part of AIBN (azobisisobutyronitrile) was added, and the mixture was reacted for 12 hours. It was confirmed by non-volatile content measurement that 95% had reacted. Next, 9.7 parts of pyromellitic anhydride, 70.3 parts of PGMAc, and 0.20 parts of DBU (1,8-diazabicyclo-[5.4.0]-7-undecene) as a catalyst were added, and the mixture was heated to 120°C. The mixture was allowed to react for 7 hours. After measuring the acid value, it was confirmed that 98% or more of the acid anhydride had been half-esterified, and the reaction was terminated. PGMAc was added to adjust the nonvolatile content to 40%. In this way, an acidic resin type dispersant solution 2 having an acid value of 75, a weight average molecular weight of 9000, a poly(meth)acrylate skeleton, and an aromatic carboxy group was obtained.

<比較高屈折率樹脂の製造>
(比較高屈折率樹脂溶液1)
高屈折率樹脂として、フルオレン系ポリエステルである比較高屈折率樹脂1を合成した。
1Lのセパラブルフラスコに、9-フルオレノン45g(0.25モル、大阪ガスケミカル(株)製)、エチレングリコールモノ(2-ナフチル)エーテル188g(1モル)、3-メルカプトプロピオン酸1gを投入した後に、60℃まで加温して完全に溶解させた。その後、硫酸54gを徐々に投入して、60℃を維持しつつ5時間攪拌したところ、HPLC(高速液体クロマトグラフィー)にて9-フルオレノンの転化率が99%以上であることを確認できた。得られた反応液に48質量%水酸化ナトリウム水溶液を投入して中和した後、キシレン400gを添加して蒸留水にて数回洗浄し、冷却することで結晶を析出させた。さらに、ろ過して乾燥したところ、87g(収率67%)の結晶として、目的とする9,9-ビス[6-(2-ヒドロキシエトキシ)-2-ナフチル]フルオレン(BNEF)を得た。得られた結晶のHPLC純度を測定したところ、98.3%であった。なお、得られたサンプルは、1H-NMR及びマススペクトルにより、9,9-ビス[6-(2-ヒドロキシエトキシ)-2-ナフチル]フルオレン(BNEF)であることを確認した。
<Production of Comparative High Refractive Index Resin>
(Comparative high refractive index resin solution 1)
As the high refractive index resin, a comparative high refractive index resin 1, which is a fluorene-based polyester, was synthesized.
In a 1L separable flask, 45 g of 9-fluorenone (0.25 mol, manufactured by Osaka Gas Chemicals Co., Ltd.), 188 g (1 mol) of ethylene glycol mono(2-naphthyl)ether, and 1 g of 3-mercaptopropionic acid were added, and then heated to 60°C to completely dissolve. Thereafter, 54 g of sulfuric acid was gradually added, and the mixture was stirred for 5 hours while maintaining the temperature at 60°C. It was confirmed by HPLC (high performance liquid chromatography) that the conversion rate of 9-fluorenone was 99% or more. After neutralizing the reaction liquid obtained by adding a 48% by mass aqueous solution of sodium hydroxide, 400 g of xylene was added, and the mixture was washed several times with distilled water and cooled to precipitate crystals. Furthermore, after filtering and drying, 87 g (yield 67%) of the target 9,9-bis[6-(2-hydroxyethoxy)-2-naphthyl]fluorene (BNEF) was obtained as crystals. The HPLC purity of the obtained crystals was measured to be 98.3%. The obtained sample was confirmed to be 9,9-bis[6-(2-hydroxyethoxy)-2-naphthyl]fluorene (BNEF) by 1H-NMR and mass spectrometry.

反応器に、上記のBNEF(0.80モル)、、エチレングリコール(以下、EGという)(0.20モル)、2,6-ナフタレンジカルボン酸ジメチル(以下、DMNという)(0.30モル)、9,9-ジ(2-メトキシカルボニルエチル)フルオレン(9,9-ジ(カルボキシエチル)フルオレン又はフルオレン-9,9-ジプロピオン酸のジメチルエステル、以下、FDPMという)0.70モル、エステル交換触媒として酢酸マンガン・4水和物2×10-4モル及び酢酸カルシウム・1水和物8×10-4モルを加えて攪拌しながら徐々に加熱溶融し、250℃まで昇温した後、10000Paまで段階的に減圧した。270℃、0.13kPa以下に到達するまで徐々に昇温、減圧しながらエチレングリコールを除去した。所定の攪拌トルクに到達後、内容物を反応器から取り出し、
ポリエステル樹脂のペレットを得た。
In a reactor, the above BNEF (0.80 mol), ethylene glycol (hereinafter referred to as EG) (0.20 mol), and dimethyl 2,6-naphthalene dicarboxylate (hereinafter referred to as DMN) (0.30 mol) were added. , 9,9-di(2-methoxycarbonylethyl)fluorene (9,9-di(carboxyethyl)fluorene or dimethyl ester of fluorene-9,9-dipropionic acid, hereinafter referred to as FDPM) 0.70 mol, ester As an exchange catalyst, 2 x 10-4 mol of manganese acetate tetrahydrate and 8 x 10-4 mol of calcium acetate monohydrate were added and gradually heated and melted while stirring, and the temperature was raised to 250°C. The pressure was reduced stepwise to 10,000 Pa. Ethylene glycol was removed while gradually increasing the temperature and reducing the pressure until the temperature reached 270° C. and 0.13 kPa or less. After reaching the predetermined stirring torque, the contents are removed from the reactor and
Pellets of polyester resin were obtained.

なお、FDPMは、特開2005-89422号公報の実施例1において、アクリル酸t-ブチルに代えてアクリル酸メチルを用いて合成した。 Note that FDPM was synthesized in Example 1 of JP-A No. 2005-89422 using methyl acrylate instead of t-butyl acrylate.

得られたペレットを、NMRにより分析したところ、ポリエステル樹脂に導入されたジオール成分の80モル%がBNEF由来、20モル%がEG由来であり、ポリエステル樹脂に導入されたジカルボン酸成分の30モル%がDMN由来、70モル%がFDPM由来であった。 When the obtained pellets were analyzed by NMR, 80 mol% of the diol component introduced into the polyester resin was derived from BNEF, 20 mol% was derived from EG, and 30 mol% of the dicarboxylic acid component introduced into the polyester resin was derived from EG. was derived from DMN, and 70 mol% was derived from FDPM.

また、得られたポリエステル樹脂の重量平均分子量Mwは31300、589nmにおける屈折率は1.66であった。 Moreover, the weight average molecular weight Mw of the obtained polyester resin was 31,300, and the refractive index at 589 nm was 1.66.

得られたポリエステル樹脂を、シクロヘキサノンに不揮発分20%になるように溶解させ、比較高屈折率樹脂溶液1とした。 The obtained polyester resin was dissolved in cyclohexanone so that the nonvolatile content was 20%, and a comparative high refractive index resin solution 1 was prepared.

<顔料組成物の製造>
(顔料組成物(D-1)の製造)
下記の組成の混合物を均一に撹拌混合した後、直径0.5mmのジルコニアビーズを用いて、アイガーミルで3時間分散した後、0.5μmのフィルタで濾過し、顔料組成物(D-1)を作製した。
イソインドリン系微細化顔料(a-1K):8.0部
樹脂型分散剤1溶液 :8.0部
バインダー樹脂溶液1 :44.0部
PGMAc(メトキシプロピルアセテート):40.0部
<Production of Pigment Composition>
(Production of Pigment Composition (D-1))
The mixture having the following composition was stirred and mixed uniformly, dispersed in an Eiger mill using zirconia beads having a diameter of 0.5 mm for 3 hours, and then filtered through a 0.5 μm filter to prepare a pigment composition (D-1).
Isoindoline-based fine pigment (a-1K): 8.0 parts Resin-type dispersant 1 solution: 8.0 parts Binder resin solution 1: 44.0 parts PGMAc (methoxypropyl acetate): 40.0 parts

(顔料組成物(D-2)~(D-38)、(DD-1)~(DD-12)、(DC-1)~(DC-2))
組成を表3に示す通りに変更した以外は、顔料組成物(D-1)と同様にして、顔料組成物(D-2)~(D-38)、(DD-1)~(DD-12)、(DC-1)~(DC-2)を作製した。
(Pigment compositions (D-2) to (D-38), (DD-1) to (DD-12), (DC-1) to (DC-2))
Except for changing the composition as shown in Table 3, pigment compositions (D-2) to (D-38), (DD-1) to (DD-12), (DC-1) to (DC-2) were prepared in the same manner as pigment composition (D-1).

(染料組成物(DDD-1)の製造)
下記の組成の混合物を均一に撹拌混合した後、直径0.5mmのジルコニアビーズを用いて、アイガーミルで3時間分散した後、0.5μmのフィルタで濾過し、染料組成物(DDD-1)を作製した。
赤色染料(DR-1):10.0部
樹脂型分散剤1溶液 :10.0部
バインダー樹脂溶液1 :30.0部
PGMAc(メトキシプロピルアセテート):50.0部
(Manufacture of dye composition (DDD-1))
After uniformly stirring and mixing a mixture having the composition shown below, it was dispersed in an Eiger mill for 3 hours using zirconia beads with a diameter of 0.5 mm, and then filtered with a 0.5 μm filter to obtain the dye composition (DDD-1). Created.
Red dye (DR-1): 10.0 parts Resin type dispersant solution 1: 10.0 parts Binder resin solution 1: 30.0 parts PGMAc (methoxypropyl acetate): 50.0 parts

(染料組成物(DDD-2)~(DDD-3))
組成を表3に示す通りに変更した以外は、染料組成物(DDD-1)と同様にして、染料組成物(DDD-2)~(DDD-3)を作製した。
(Dye Compositions (DDD-2) to (DDD-3))
Dye compositions (DDD-2) to (DDD-3) were prepared in the same manner as dye composition (DDD-1), except that the composition was changed as shown in Table 3.



(顔料組成物(E-1))
下記の組成の混合物を均一に撹拌混合し、顔料組成物(E-1)を作製した。
顔料組成物(DC-1) :20.0部
顔料組成物(DC-2) :20.0部
顔料組成物(D-2) :60.0部
なお、顔料組成物(D-2)はイソインドリン系微細化顔料(a-2K)を固形分中顔料濃度にして70%含有する分散液であり、顔料組成物(E-1)の固形分中にはイソインドリン系微細化顔料(a-2K)が42%含まれる。これを表4に示す。
(Pigment composition (E-1))
A pigment composition (E-1) was prepared by uniformly stirring and mixing a mixture having the composition shown below.
Pigment composition (DC-1): 20.0 parts Pigment composition (DC-2): 20.0 parts Pigment composition (D-2): 60.0 parts This is a dispersion liquid containing the isoindoline-based finely divided pigment (a-2K) at a pigment concentration of 70% in the solid content, and the solid content of the pigment composition (E-1) contains the isoindoline-based finely divided pigment (a-2K). -2K) is included in 42%. This is shown in Table 4.


<感光性組成物の製造>
[実施例1]
(感光性組成物(XR-1)の製造)
下記組成の混合物を均一になるように撹拌混合し、感光性組成物(XR-1)を作製した。
感光性組成物(D-1):100.0部
光重合性単量体(東亞合成社製「アロニックスM-402」):2.87部
光重合開始剤(BASF社製「イルガキュアーOXE02」):0.47部
PGMAc:52.2部
<Manufacture of photosensitive composition>
[Example 1]
(Manufacture of photosensitive composition (XR-1))
A photosensitive composition (XR-1) was prepared by stirring and mixing a mixture having the composition shown below to make it uniform.
Photosensitive composition (D-1): 100.0 parts Photopolymerizable monomer ("Aronix M-402" manufactured by Toagosei Co., Ltd.): 2.87 parts Photopolymerization initiator ("Irgacure OXE02" manufactured by BASF Corporation) ): 0.47 parts PGMAc: 52.2 parts

[実施例2~44、比較例1~15]
(感光性組成物(XR-2)~(XR-44)、(XXR-1)~(XR-15)の製造)
組成を表5に示す通りに変更した以外は、感光性組成物(XR-1)と同様に、感光性組成物(XR-2)~(XR-44)、(XXR-1)~(XR-15)を作製した。
表5において、M-402は「アロニックスM-402」、M-5300は「アロニックスM-5300」、OXE02は「イルガキュアーOXE02」、907は「イルガキュアー907」を示す。
[Examples 2 to 44, Comparative Examples 1 to 15]
(Production of photosensitive compositions (XR-2) to (XR-44), (XXR-1) to (XR-15))
Photosensitive compositions (XR-2) to (XR-44), (XXR-1) to (XR -15) was produced.
In Table 5, M-402 indicates "Aronix M-402", M-5300 indicates "Aronix M-5300", OXE02 indicates "Irgacure OXE02", and 907 indicates "Irgacure 907".

Figure 2024045033000022
Figure 2024045033000022


<感光性組成物の評価用膜の作製> <Preparation of film for evaluation of photosensitive composition>

感光性組成物(XR-1)~(XR-45)、(XXR-1)~(XR-15)を、100mm×100mm、1.1mm厚のガラス基板上に、スピンコーターを用いて塗布した後、70℃で20分間乾燥させた。次いで、この基板を室温に冷却した後、超高圧水銀ランプを用い、紫外線を露光した。
その後、この基板を23℃の0.2質量%の炭酸ナトリウム水溶液にて30秒間スプレー現像した後、イオン交換水で洗浄し、乾燥した。さらに、クリーンオーブン中で、230℃で30分間加熱処理を行った。
上記所作においてスピンコートの回転数を調整し、膜厚1.0μmの膜が形成された基板を得た。
Photosensitive compositions (XR-1) to (XR-45) and (XXR-1) to (XR-15) were applied onto a 100 mm x 100 mm, 1.1 mm thick glass substrate using a spin coater. After that, it was dried at 70°C for 20 minutes. Next, after cooling this substrate to room temperature, it was exposed to ultraviolet light using an ultra-high pressure mercury lamp.
Thereafter, this substrate was spray developed with a 0.2% by mass aqueous sodium carbonate solution at 23° C. for 30 seconds, washed with ion-exchanged water, and dried. Furthermore, heat treatment was performed at 230° C. for 30 minutes in a clean oven.
In the above procedure, the rotational speed of the spin coating was adjusted to obtain a substrate on which a film with a thickness of 1.0 μm was formed.

<感光性組成物の評価>
上記評価用膜を用い、下記の評価を行った。結果を表6に示す。
[屈折率]
上記膜が形成された基板について、23℃で分光エリプソメトリー測定を行い、850nm及び940nm、1550nmにおける屈折率を求めた。
<Evaluation of Photosensitive Composition>
The following evaluations were carried out using the above evaluation membrane. The results are shown in Table 6.
[Refractive index]
The substrate on which the above-mentioned film was formed was subjected to spectroscopic ellipsometry measurement at 23° C. to determine the refractive indexes at 850 nm, 940 nm, and 1550 nm.

[耐光性]
上記膜が形成された基板について、キセノンウェザーメーターで、300~400nmが60W/mの照度で20時間暴露し、耐光性試験を行った。
400~700nmにおける極大吸収波長の吸光度の変化について、下記の基準により判定を行った。
〇:極大吸収波長の吸光度の減少率が5%未満
△:極大吸収波長の吸光度の減少率が5%以上、30%未満
×:極大吸収波長の吸光度の減少率が30%以上
[Light resistance]
A light resistance test was performed on the substrate on which the above film was formed by exposing it to an illumination intensity of 60 W/m 2 at 300 to 400 nm for 20 hours using a xenon weather meter.
The change in absorbance at the maximum absorption wavelength between 400 and 700 nm was evaluated based on the following criteria.
〇: The rate of decrease in absorbance at the maximum absorption wavelength is less than 5% △: The rate of decrease in absorbance at the maximum absorption wavelength is 5% or more, but less than 30% ×: The rate of decrease in absorbance at the maximum absorption wavelength is 30% or more

[耐熱性]
上記膜が形成された基板を250℃1時間加熱し、耐熱性試験を行った。
400~700nmにおける極大吸収波長の吸光度の変化について、下記の基準により判定を行った。
〇:極大吸収波長の吸光度の減少率が5%未満
△:極大吸収波長の吸光度の減少率が5%以上、30%未満
×:極大吸収波長の吸光度の減少率が30%以上
[Heat-resistant]
The substrate on which the film was formed was heated at 250° C. for 1 hour to conduct a heat resistance test.
The change in absorbance at the maximum absorption wavelength between 400 and 700 nm was evaluated based on the following criteria.
〇: The rate of decrease in absorbance at the maximum absorption wavelength is less than 5% △: The rate of decrease in absorbance at the maximum absorption wavelength is 5% or more, but less than 30% ×: The rate of decrease in absorbance at the maximum absorption wavelength is 30% or more

[透明性]
上記膜が形成された基板について、ヘイズメーターでヘイズを測定し、下記の基準により透明性を判定した。
〇:ヘイズが0.5未満
△:ヘイズが0.5以上1.0未満
×:ヘイズが1.0以上
[transparency]
The haze of the substrate on which the film was formed was measured using a haze meter, and the transparency was determined based on the following criteria.
〇: Haze is less than 0.5 △: Haze is 0.5 or more and less than 1.0 ×: Haze is 1.0 or more

<フィルタセグメントの形成>
100mm×100mm、0.7mm厚のガラス基板上にブラックマトリクスをパターン加工し、該基板上にスピンコーターで、得られた感光性着色組成物を塗布し、90℃で90秒乾燥させ溶剤を除去し、膜厚が2.4μmである塗膜を得た。次いで、該被膜に所定のパターンを有するフォトマスクを介して、超高圧水銀ランプを用いて100mJ/cm2の紫外線を照射し、0.2質量%の炭酸ナトリウム水溶液からなるアルカリ現像液によ
りスプレー現像して未硬化部を除去し所望のパターンを形成した。得られた塗膜について、230℃のオーブンで20分間加熱処理を施し、フィルタセグメントを形成した。塗膜の膜厚は、Dektak3030(日本真空技術社製)を用いて行った。
<Formation of filter segments>
A black matrix was patterned on a 100 mm x 100 mm, 0.7 mm thick glass substrate, and the obtained photosensitive coloring composition was applied onto the substrate using a spin coater, and the solvent was removed by drying at 90° C. for 90 seconds. A coating film having a film thickness of 2.4 μm was obtained. Next, the film was irradiated with ultraviolet rays of 100 mJ/cm 2 using an ultra-high pressure mercury lamp through a photomask having a predetermined pattern, and developed by spraying with an alkaline developer consisting of a 0.2% by mass aqueous sodium carbonate solution. The uncured portion was removed to form a desired pattern. The resulting coating film was heat-treated in an oven at 230° C. for 20 minutes to form filter segments. The thickness of the coating film was measured using Dektak3030 (manufactured by Nihon Shinku Gijutsu Co., Ltd.).

<現像残渣>
得られたフィルタセグメントについて、顕微鏡(オリンパス光学社製「BX-51」)にて現像残渣の有無を確認した。評価は50μm×50μmの中空がある四角画素中の残渣の残存面積を計算し、以下のように評価した。
◎:残存せず
○:100μm2未満
△:100μm2以上500μm2未満
×:500μm2以上
<Development residue>
The obtained filter segment was checked for the presence of development residue using a microscope ("BX-51" manufactured by Olympus Optical Co., Ltd.). The evaluation was made by calculating the remaining area of the residue in a square pixel with a 50 μm x 50 μm hollow, and making the evaluation as follows.
◎: No remaining ○: Less than 100 μm 2 △: 100 μm 2 or more and less than 500 μm 2 ×: 500 μm 2 or more

<比較高屈折率樹脂溶液1の評価>
比較高屈折率樹脂溶液1を100mm×100mm、1.1mm厚のガラス基板上に、スピンコーターを用いて塗布した後、70℃で20分間乾燥させ、次いで230℃で30分間加熱処理を行った。
上記所作においてスピンコートの回転数を調整し、膜厚1.0μmの膜が形成された基板を得て、分光エリプソメトリー測定を行い、850nm及び940nm、1550nmにおける屈折率を求めたところ、850nmにおける屈折率は1.63、940nmにおける屈折率は1.62、1550nmにおける屈折率は1.60であった。
<Evaluation of comparative high refractive index resin solution 1>
Comparative high refractive index resin solution 1 was applied onto a 100 mm x 100 mm, 1.1 mm thick glass substrate using a spin coater, dried at 70° C. for 20 minutes, and then heated at 230° C. for 30 minutes. .
In the above procedure, the rotation speed of spin coating was adjusted to obtain a substrate on which a film with a thickness of 1.0 μm was formed, and spectroscopic ellipsometry was performed to determine the refractive index at 850 nm, 940 nm, and 1550 nm. The refractive index was 1.63, the refractive index at 940 nm was 1.62, and the refractive index at 1550 nm was 1.60.



以上より、本発明の感光性組成物は、800~1600nmの波長領域においてとりわけ高屈折率であり、透明性、耐熱性、及び耐光性に優れる膜となり得るため、赤外線センサもしくは赤外線通信機器用の光学レンズ、又は赤外線センサもしくは赤外線通信機器用の光導波路の用途として有用である。 From the above, the photosensitive composition of the present invention has a particularly high refractive index in the wavelength region of 800 to 1600 nm, and can be used as a film with excellent transparency, heat resistance, and light resistance, and therefore can be used for infrared sensors or infrared communication devices. It is useful as an optical lens or an optical waveguide for an infrared sensor or an infrared communication device.

Claims (11)

赤外線センサもしくは赤外線通信機器に使用する光学レンズ、又は赤外線センサもしくは赤外線通信機器に使用する光導波路に用いる感光性組成物であって、
イソインドリン系顔料、酸性樹脂、分散剤、光重合性単量体、及び光重合開始剤を含有し、
前記酸性樹脂が、酸価が30~140mgKOH/gであり、前記酸性樹脂の含有量が感光性組成物における固形分の全質量を基準として2質量%以上であり、
前記分散剤が、塩基性樹脂型分散剤を含有し、
23℃、波長850nmにおける屈折率が1.65以上である、感光性組成物。
A photosensitive composition for use in an optical lens for an infrared sensor or an infrared communication device, or an optical waveguide for an infrared sensor or an infrared communication device, comprising:
The ink contains an isoindoline pigment, an acidic resin, a dispersant, a photopolymerizable monomer, and a photopolymerization initiator,
the acidic resin has an acid value of 30 to 140 mgKOH/g, and the content of the acidic resin is 2 mass% or more based on the total mass of the solid content in the photosensitive composition;
The dispersant contains a basic resin-type dispersant,
A photosensitive composition having a refractive index of 1.65 or more at 23° C. and a wavelength of 850 nm.
イソインドリン系顔料が、下記一般式(1)で表される構造を有する、請求項1記載の感光性組成物。
一般式(1)


(X、Xは、各々独立して、下記一般式(2)、(3)又は(4)を表す。Y~Yは、各々独立して、水素原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、炭素数1~4のアルキル基、炭素数1~4のアルコキシ基、炭素数2~4のアルコキシカルボニル基、炭素数2~4のアルキルカルボキシ基、ハロゲン原子、炭素数2~4のアルケニル基、炭素数2~4のアルケニロキシ基、炭素数3~10のシクロアルキル基、炭素数6~12のアリール基、-SO-O-R111、又は-SO-NH-R112を表し、これらのうち2つがそれぞれ水素原子を除いた形で環を形成してもよく、環を形成する際に間に2価の有機基が入ってもよい。R111、R112は各々独立して、水素原子又は炭素数1~4のアルキル基を表す。)

一般式(2)


(Y、Yは、各々独立して、水素原子、炭素数1~4のアルキル基、炭素数2~4のアルケニル基、炭素数2~4のアルケニロキシ基、炭素数3~10のシクロアルキル基、又は炭素数6~12のアリール基を表し、*は結合手を表す。)

一般式(3)


(Yは、各々独立して、水素原子、炭素数1~4のアルキル基、炭素数2~4のアルケニル基、炭素数2~4のアルケニロキシ基、炭素数3~10のシクロアルキル基、又は炭素数6~12のアリール基を表し、*は結合手を表す。)

一般式(4)
The photosensitive composition according to claim 1, wherein the isoindoline pigment has a structure represented by the following general formula (1).
General formula (1)


(X 1 and X 2 each independently represent the following general formula (2), (3) or (4). Y 1 to Y 4 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxy group, a carboxy group , cyano group, nitro group, sulfo group, alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, alkoxycarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, alkylcarboxy group having 2 to 4 carbon atoms, halogen atom , an alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkenyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, -SO 2 -O-R 111 , or -SO 2 -NH-R represents 112 , and two of these may form a ring by removing hydrogen atoms, or a divalent organic group may be inserted between them when forming the ring.R 111 and R 112 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.)

General formula (2)


(Y 5 and Y 6 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkenyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, a cyclo Represents an alkyl group or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and * represents a bond.)

General formula (3)


(Y 7 is each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkenyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, or represents an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and * represents a bond.)

General formula (4)
顔料の含有率が、感光性組成物における固形分の全質量を基準として30質量%以上である、請求項1に記載の感光性組成物。 The photosensitive composition according to claim 1, wherein the pigment content is 30% by mass or more based on the total mass of the solid content in the photosensitive composition. 光重合開始剤がオキシムエステル系化合物である、請求項1に記載の感光性組成物。 The photosensitive composition according to claim 1, wherein the photopolymerization initiator is an oxime ester compound. 800nm~1600nmにおける高屈折率材料として用いる、請求項1に記載の感光性組成物。 The photosensitive composition according to claim 1, which is used as a high refractive index material at 800 nm to 1600 nm. 請求項1に記載の感光性組成物を含む膜。 A film comprising the photosensitive composition according to claim 1. 請求項1に記載の感光性組成物を含む光学材料。 An optical material comprising the photosensitive composition according to claim 1. 請求項1に記載の感光性組成物を含む光学レンズ。 An optical lens comprising the photosensitive composition according to claim 1. 請求項1に記載の感光性組成物を含む光導波路。 An optical waveguide comprising the photosensitive composition according to claim 1. 請求項6記載の膜、請求項7記載の光学材料、請求項8記載の光学レンズ、又は請求項9記載の光導波路を具備する、赤外線センサ。 An infrared sensor comprising the film according to claim 6, the optical material according to claim 7, the optical lens according to claim 8, or the optical waveguide according to claim 9. 請求項6記載の膜、請求項7記載の光学材料、請求項8記載の光学レンズ、又は請求項9記載の光導波路を具備する、赤外線通信機器。 An infrared communication device comprising the film according to claim 6, the optical material according to claim 7, the optical lens according to claim 8, or the optical waveguide according to claim 9.
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