JP2024044123A - Electrophotographic photoreceptor, process cartridge and image forming apparatus - Google Patents

Electrophotographic photoreceptor, process cartridge and image forming apparatus Download PDF

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JP2024044123A JP2022149474A JP2022149474A JP2024044123A JP 2024044123 A JP2024044123 A JP 2024044123A JP 2022149474 A JP2022149474 A JP 2022149474A JP 2022149474 A JP2022149474 A JP 2022149474A JP 2024044123 A JP2024044123 A JP 2024044123A
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photosensitive layer
layer
electrophotographic photoreceptor
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inorganic protective
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陽一 木越
諒太 金子
次郎 是永
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Fujifilm Business Innovation Corp
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Abstract

【課題】無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体を提供すること。【解決手段】導電性基体と、前記導電性基体の上に設けられた感光層と、前記感光層の上に設けられた無機保護層と、を有し、前記感光層は、前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が82°以上であり、且つ、前記感光層の全固形分に対するシリカ粒子の含有量が0質量%又は20質量%以下である、電子写真感光体。【選択図】図1[Problem] To provide an electrophotographic photoreceptor in which peeling of an inorganic protective layer from the surface of a photosensitive layer on the interface side with the inorganic protective layer is suppressed. [Solution] An electrophotographic photoreceptor having a conductive substrate, a photosensitive layer provided on the conductive substrate, and an inorganic protective layer provided on the photosensitive layer, the photosensitive layer having a water contact angle of 82° or more on the surface on the interface side with the inorganic protective layer, and the content of silica particles relative to the total solid content of the photosensitive layer is 0% by mass or 20% by mass or less. [Selected Figure] Figure 1

Description

本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置に関する。 The present invention relates to an electrophotographic photoreceptor, a process cartridge, and an image forming apparatus.

特許文献1には、「導電性基体上に、感光層と表面層とをこの順に積層して構成され、前記表面層を構成する元素のうち、第13族元素、酸素及び水素の全元素量に対する各構成比の和が0.95以上であり、かつ、前記酸素及び第13族元素の元素組成比(酸素/第13族元素)が1.1以上1.5以下であることを特徴とする電子写真感光体」が開示されている。 Patent Document 1 states, ``A photosensitive layer and a surface layer are laminated in this order on a conductive substrate, and among the elements constituting the surface layer, the total amount of Group 13 elements, oxygen, and hydrogen. The sum of the respective composition ratios of the oxygen and the Group 13 element is 0.95 or more, and the elemental composition ratio of the oxygen and the Group 13 element (oxygen/Group 13 element) is 1.1 or more and 1.5 or less. "An electrophotographic photoreceptor" is disclosed.

特許文献2には、「導電性基体上に、有機感光層と、無機の表面保護層をこの順に積層した電子写真感光体であって、上記有機感光層の少なくとも表面保護層に接する最表面部が特定のジオキソテトラセンジオン誘導体を含有する電子写真感光体」が開示されている。 Patent document 2 discloses an electrophotographic photoreceptor in which an organic photosensitive layer and an inorganic surface protective layer are laminated in this order on a conductive substrate, and at least the outermost surface portion of the organic photosensitive layer that contacts the surface protective layer contains a specific dioxotetracenedione derivative.

特開2008-268266号公報JP 2008-268266 A 特開2002-116564号公報Japanese Patent Application Publication No. 2002-116564

従来、感光層の上に無機保護層が設けられている電子写真感光体を用いると、無機保護層が、前記無機保護層との界面側の感光層の表面から、剥離することがあった。
そこで本開示では、前記感光層が「潤滑油を前記感光層の全固形分に対して0質量%あるいは0.0001質量%未満で含有する場合」又は「前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が82°未満である場合」に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体を提供することを課題とする。
Conventionally, when using an electrophotographic photoreceptor in which an inorganic protective layer is provided on a photosensitive layer, the inorganic protective layer sometimes peels off from the surface of the photosensitive layer on the interface side with the inorganic protective layer.
Therefore, in the present disclosure, the photosensitive layer "contains lubricating oil in an amount of 0% by mass or less than 0.0001% by mass based on the total solid content of the photosensitive layer" or "the surface on the interface side with the inorganic protective layer". To provide an electrophotographic photoreceptor in which peeling of the inorganic protective layer from the surface of the photosensitive layer on the interface side with the inorganic protective layer is suppressed compared to the case where the water contact angle is less than 82°. Take it as a challenge.

前記課題を解決するための具体的手段には、下記の態様が含まれる。 Specific means for solving the above problems include the following aspects:

<1> 導電性基体と、
前記導電性基体の上に設けられた感光層と、
前記感光層の上に設けられた無機保護層と、
を有し、
前記感光層は、前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が82°以上であり、且つ、前記感光層の全固形分に対するシリカ粒子の含有量が0質量%又は20質量%以下である、電子写真感光体。
<2> 前記感光層は、潤滑油を前記感光層の全固形分に対して0.0001質量%以上含有する、前記<1>に記載の電子写真感光体。
<3> 前記潤滑油は、シリコーンオイル及びフッ素含有オイルの少なくとも一方を含む、前記<1>に記載の電子写真感光体。
<4> 前記潤滑油は、前記シリコーンオイルを含む、前記<3>に記載の電子写真感光体。
<5> 前記無機保護層は、酸素、水素及び第13族元素を含む無機保護層である前記<1>に記載の電子写真感光体。
<6> 前記無機保護層は、前記酸素及び第13族元素の元素組成比(酸素/第13族元素)が1.1以上1.5以下である、前記<5>に記載の電子写真感光体。
<7> 導電性基体と、
前記導電性基体の上に設けられた感光層と、
前記感光層の上に設けられた無機保護層と、
を有し、
前記感光層は、潤滑油を前記感光層の全固形分に対して0.0001質量%以上含有し、且つ、前記感光層の全固形分に対するシリカ粒子の含有量が0質量%又は20質量%以下である、電子写真感光体。
<8> 前記<1>~<7>のいずれか1つに記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
<9> 前記<1>~<7>のいずれか1つに記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
<1> A conductive substrate,
a photosensitive layer provided on the conductive substrate;
an inorganic protective layer provided on the photosensitive layer;
has
The photosensitive layer has a water contact angle of 82° or more on the surface on the interface side with the inorganic protective layer, and the content of silica particles is 0% by mass or 20% by mass or less based on the total solid content of the photosensitive layer. An electrophotographic photoreceptor.
<2> The electrophotographic photoreceptor according to <1>, wherein the photosensitive layer contains lubricating oil in an amount of 0.0001% by mass or more based on the total solid content of the photosensitive layer.
<3> The electrophotographic photoreceptor according to <1>, wherein the lubricating oil includes at least one of silicone oil and fluorine-containing oil.
<4> The electrophotographic photoreceptor according to <3>, wherein the lubricating oil includes the silicone oil.
<5> The electrophotographic photoreceptor according to <1>, wherein the inorganic protective layer is an inorganic protective layer containing oxygen, hydrogen, and a Group 13 element.
<6> The electrophotographic photosensitive layer according to <5>, wherein the inorganic protective layer has an elemental composition ratio of the oxygen and the Group 13 element (oxygen/Group 13 element) of 1.1 or more and 1.5 or less. body.
<7> A conductive substrate,
a photosensitive layer provided on the conductive substrate;
an inorganic protective layer provided on the photosensitive layer;
has
The photosensitive layer contains lubricating oil at 0.0001% by mass or more based on the total solid content of the photosensitive layer, and the content of silica particles is 0% by mass or 20% by mass based on the total solid content of the photosensitive layer. An electrophotographic photoreceptor as follows.
<8> An electrophotographic photoreceptor according to any one of <1> to <7> above,
A process cartridge that can be attached to and removed from an image forming apparatus.
<9> The electrophotographic photoreceptor according to any one of <1> to <7> above,
Charging means for charging the surface of the electrophotographic photoreceptor;
an electrostatic latent image forming means for forming an electrostatic latent image on the charged surface of the electrophotographic photoreceptor;
a developing means for developing the electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photoreceptor to form a toner image with a developer containing toner;
a transfer means for transferring the toner image onto the surface of a recording medium;
An image forming apparatus comprising:

<1>、又は<5>に係る発明によれば、前記感光層が前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が82°未満である場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
<2>に係る発明によれば、前記感光層が、潤滑油を前記感光層の全固形分に対して0.0001質量%未満である場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
<3>又は<4>に係る発明によれば、前記潤滑油が炭化水素系合成油の一種であるポリアルファオレフィン系潤滑油である場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
<6>に係る発明によれば、前記無機保護層における、前記酸素及び第13族元素の元素組成比(酸素/第13族元素)が1.1未満又は1.5超えである場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
According to the invention related to <1> or <5>, there is provided an electrophotographic photoreceptor in which peeling of the inorganic protective layer from the surface of the photosensitive layer on the interface side with the inorganic protective layer is suppressed, as compared to when the water contact angle of the surface of the photosensitive layer on the interface side with the inorganic protective layer is less than 82°.
According to the invention related to <2>, there is provided an electrophotographic photoreceptor in which peeling of the inorganic protective layer from the surface of the photosensitive layer on the interface side with the inorganic protective layer is suppressed, compared to when the photosensitive layer contains less than 0.0001 mass % of a lubricating oil relative to the total solid content of the photosensitive layer.
According to the invention relating to <3> or <4>, there is provided an electrophotographic photoreceptor in which peeling of the inorganic protective layer from the surface of the photosensitive layer on the interface side with the inorganic protective layer is suppressed, compared to when the lubricating oil is a polyalphaolefin-based lubricating oil, which is a type of hydrocarbon-based synthetic oil.
According to the invention related to <6>, there is provided an electrophotographic photoreceptor in which peeling of the inorganic protective layer from the surface of the photosensitive layer on the interface side with the inorganic protective layer is suppressed, as compared with a case in which the elemental composition ratio of oxygen and Group 13 element (oxygen/Group 13 element) in the inorganic protective layer is less than 1.1 or exceeds 1.5.

<7>に係る発明によれば、前記感光層が潤滑油を前記感光層の全固形分に対して0質量%あるいは0.0001質量%未満で含有する場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
<8>又は<9>に係る発明によれば、前記感光層が「潤滑油を前記感光層の全固形分に対して0質量%あるいは0.0001質量%未満で含有する場合」又は「前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が82°未満である場合」に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジ、画像形成装置が提供される。
According to the invention according to <7>, the inorganic protective layer and Provided is an electrophotographic photoreceptor in which peeling of the inorganic protective layer from the surface of the photosensitive layer on the interface side is suppressed.
According to the invention according to <8> or <9>, the photosensitive layer "contains lubricating oil in an amount of 0% by mass or less than 0.0001% by mass based on the total solid content of the photosensitive layer" or "the Peeling of the inorganic protective layer from the surface of the photosensitive layer on the interface side with the inorganic protective layer is suppressed compared to the case where the water contact angle on the surface on the interface side with the inorganic protective layer is less than 82°. A process cartridge and an image forming apparatus including an electrophotographic photoreceptor are provided.

本実施形態の電子写真感光体の層構成の一例を示す模式断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of the electrophotographic photoreceptor of the present embodiment. 本実施形態の電子写真感光体の無機保護層の形成に用いる成膜装置の一例を示す概略模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram illustrating an example of a film forming apparatus used for forming an inorganic protective layer of the electrophotographic photoreceptor according to the present embodiment. 本実施形態の電子写真感光体の無機保護層の形成に用いるプラズマ発生装置の例を示す概略模式図である。1 is a schematic diagram showing an example of a plasma generation device used for forming an inorganic protective layer of an electrophotographic photoreceptor according to an embodiment of the present invention. 本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。1 is a schematic configuration diagram illustrating an example of an image forming apparatus according to an embodiment of the present invention. 本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。FIG. 4 is a schematic configuration diagram illustrating another example of an image forming apparatus according to the present embodiment.

以下に、本発明の実施形態について説明する。これらの説明及び実施例は実施形態を例示するものであり、実施形態の範囲を制限するものではない。 Embodiments of the present invention will be described below. These descriptions and examples are illustrative of the embodiments and do not limit the scope of the embodiments.

本明細書中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。 In the numerical ranges described step by step in this specification, the upper limit value or lower limit value described in one numerical range may be replaced with the upper limit value or lower limit value of another numerical range described step by step. good. Furthermore, in the numerical ranges described in this disclosure, the upper limit or lower limit of the numerical range may be replaced with the values shown in the Examples.

本明細書において各成分は該当する物質を複数種含んでいてもよい。
本明細書において組成物中の各成分の量について言及する場合、組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合には、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計量を意味する。
In this specification, each component may contain multiple corresponding substances.
In this specification, when referring to the amount of each component in a composition, if multiple substances corresponding to each component are present in the composition, the amount refers to the total amount of those multiple substances present in the composition, unless otherwise specified.

<電子写真感光体>
第一の実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体と、前記導電性基体の上に設けられた下引層と、前記下引層の上に設けられた感光層と、前記感光層の上に設けられた無機保護層と、を有し、前記感光層は、前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が82°以上であり、且つ、前記感光層の全固形分に対するシリカ粒子の含有量が0質量%又は20質量%以下である。
<Electrophotographic photoreceptor>
The electrophotographic photoreceptor according to the first embodiment includes: a conductive base, a subbing layer provided on the conductive base, a photosensitive layer provided on the subbing layer, and the photosensitive layer. an inorganic protective layer provided thereon, wherein the photosensitive layer has a water contact angle of 82° or more at the surface on the interface side with the inorganic protective layer, and the total solid content of the photosensitive layer is 82° or more. The content of silica particles is 0% by mass or 20% by mass or less.

第二の実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体と、前記導電性基体の上に設けられた下引層と、前記下引層の上に設けられた電荷発生層と、前記下引層の上に設けられた感光層と、前記感光層の上に設けられた無機保護層と、を有し、前記感光層は、潤滑油を前記感光層の全固形分に対して0.0001質量%以上含有し、且つ、前記感光層の全固形分に対するシリカ粒子の含有量が0質量%又は20質量%以下である。 The electrophotographic photoreceptor according to the second embodiment has a conductive substrate, an undercoat layer provided on the conductive substrate, a charge generating layer provided on the undercoat layer, a photosensitive layer provided on the undercoat layer, and an inorganic protective layer provided on the photosensitive layer, and the photosensitive layer contains a lubricant in an amount of 0.0001% by mass or more relative to the total solid content of the photosensitive layer, and the content of silica particles relative to the total solid content of the photosensitive layer is 0% by mass or 20% by mass or less.

本明細書中において、第一の実施形態及び第二の実施形態に共通する事項については、「本実施形態」と総称して説明する。 In this specification, matters common to the first and second embodiments will be collectively referred to as "this embodiment."

従来の無機保護層を有する電子写真感光体では、前記無機保護層との界面側の感光層の表面から、無機保護層が剥離することがあった。これは、例えば、感光層と無機保護層との界面における、感光層の濡れ性が局所的に低い部位が生じ、その濡れ性の低い部位から剥離が生じるものと考えられる。これは、感光層にシリカ粒子の含有量が20質量%以下である場合に特に顕著である。 In conventional electrophotographic photoreceptors having an inorganic protective layer, the inorganic protective layer would peel off from the surface of the photosensitive layer on the interface side with the inorganic protective layer. This is thought to be due to the fact that, for example, areas of low wettability of the photosensitive layer are generated at the interface between the photosensitive layer and the inorganic protective layer, and peeling occurs from these areas of low wettability. This is particularly noticeable when the content of silica particles in the photosensitive layer is 20% by mass or less.

他方、本実施形態に係る電子写真感光体は、上記構成を有することにより、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される。この要因は必ずしも明らかではないか、以下のように推測される。 On the other hand, since the electrophotographic photoreceptor according to the present embodiment has the above structure, peeling of the inorganic protective layer from the surface of the photosensitive layer on the interface side with the inorganic protective layer is suppressed. This factor is not necessarily clear, or it is speculated as follows.

第一の実施形態に係る電子写真感光体は、上記構成の中でも特に、無機保護層との界面側の表面における、感光層の水接触角が82°以上である。つまり、無機保護層と接触する側の感光層の面は、無機保護層に対する濡れ性が高い。そのため、感光層と無機保護層との接着性が高く、無機保護層の剥離が抑制されると考えられる。 In the electrophotographic photoreceptor according to the first embodiment, the water contact angle of the photosensitive layer on the surface on the interface side with the inorganic protective layer is 82° or more, especially among the above configurations. That is, the surface of the photosensitive layer that comes into contact with the inorganic protective layer has high wettability with respect to the inorganic protective layer. Therefore, it is considered that the adhesiveness between the photosensitive layer and the inorganic protective layer is high, and peeling of the inorganic protective layer is suppressed.

第二の実施形態に係る電子写真感光体は、上記構成の中でも特に、感光層が潤滑油を前記感光層の全固形分に対して0.0001質量%以上含有する。そのため、感光層の表面に疎水性が付与される。その結果、感光層と無機保護層との接着性が高く、無機保護層の剥離が抑制されると考えられる。 In the electrophotographic photoreceptor according to the second embodiment, in particular, the photosensitive layer contains lubricating oil in an amount of 0.0001% by mass or more based on the total solid content of the photosensitive layer. Therefore, hydrophobicity is imparted to the surface of the photosensitive layer. As a result, it is thought that the adhesiveness between the photosensitive layer and the inorganic protective layer is high, and peeling of the inorganic protective layer is suppressed.

以下、本実施形態に係る電子写真感光体の一例について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付することとし、重複する説明は省略する。
図1は、本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の一例を示す模式断面図である。感光体107Aは、導電性基体104上に、下引層101が設けられ、その上に電荷発生層102、電荷輸送層103、及び無機保護層106が順次形成された構造を有する。
図1では、感光体107Aは電荷発生層102と電荷輸送層103とに機能が分離された積層型の感光層105を有しているが、感光層105は単層型感光層であってもよい。
図示はしないが、導電性基体104と下引層101との間、又は下引層101と感光層105との間には中間層をさらに有していてもよい。
Hereinafter, an example of the electrophotographic photoreceptor according to the present embodiment will be described in detail with reference to the drawings. In addition, in the drawings, the same or corresponding parts are given the same reference numerals, and overlapping explanations will be omitted.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of the electrophotographic photoreceptor according to the present embodiment. The photoreceptor 107A has a structure in which an undercoat layer 101 is provided on a conductive substrate 104, and a charge generation layer 102, a charge transport layer 103, and an inorganic protective layer 106 are sequentially formed thereon.
In FIG. 1, the photoreceptor 107A has a laminated photosensitive layer 105 whose functions are separated into a charge generation layer 102 and a charge transport layer 103, but the photosensitive layer 105 may be a single layer photosensitive layer. good.
Although not shown, an intermediate layer may be further provided between the conductive substrate 104 and the undercoat layer 101 or between the undercoat layer 101 and the photosensitive layer 105.

以下、電子写真感光体を構成する各要素について説明する。なお、符号は省略して説明する場合がある。 Each element constituting the electrophotographic photoreceptor will be explained below. Note that the description may be made with reference numerals omitted.

〔感光層〕
以下、積層型感光層及び単層型感光層に共通する感光層の特性について説明する。
[Photosensitive Layer]
The characteristics of the photosensitive layer common to the multi-layer type photosensitive layer and the single-layer type photosensitive layer will be described below.

本実施形態に係る感光層は、感光層の全固形分に対するシリカ粒子の含有量が0質量%又は20質量%以下であり、0質量%又は15質量%以下であることが好ましい。
本実施形態によれば、感光層におけるシリカ粒子の含有量が上記範囲以下であっても、感光層と無機保護層との接着性が高く維持されやすく、無機保護層の剥離が抑制される。
In the photosensitive layer according to the present embodiment, the content of silica particles relative to the total solid content of the photosensitive layer is 0% by mass or less than 20% by mass, and preferably 0% by mass or less than 15% by mass.
According to this embodiment, even if the content of silica particles in the photosensitive layer is below the above range, the adhesiveness between the photosensitive layer and the inorganic protective layer is easily maintained at a high level, and peeling of the inorganic protective layer is suppressed.

本実施形態に係る感光層は、感光層の全固形分に対する無機粒子の含有量が0質量%又は20質量%以下であり、0質量%又は15質量%以下であることが好ましい。
本実施形態によれば、感光層における無機粒子の含有量が上記範囲であっても、感光層と無機保護層との接着性が高く維持されやすく、無機保護層の剥離が抑制される。
In the photosensitive layer according to the present embodiment, the content of inorganic particles relative to the total solid content of the photosensitive layer is 0% by mass or less than 20% by mass, and preferably 0% by mass or less than 15% by mass.
According to this embodiment, even if the content of inorganic particles in the photosensitive layer is within the above range, the adhesiveness between the photosensitive layer and the inorganic protective layer is easily maintained at a high level, and peeling of the inorganic protective layer is suppressed.

第一の実施形態では、感光層は、前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が82°以上であり、84°以上であることが好ましく、84°以上100°以下であることがより好ましい。
第二の実施形態では、感光層は、前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が82°以上であることが好ましく、84°以上であることがより好ましく、84°以上100°以下であることがさらに好ましい。
In the first embodiment, the photosensitive layer has a water contact angle on the surface at the interface with the inorganic protective layer of 82° or more, preferably 84° or more, and more preferably 84° or more and 100° or less.
In the second embodiment, the photosensitive layer preferably has a water contact angle of 82° or more on the surface at the interface with the inorganic protective layer, more preferably 84° or more, and even more preferably 84° or more and 100° or less.

水接触角が上記範囲内であると、無機保護層の形成の際に、無機保護層と接触する側の感光層の面が、無機保護層形成用の原料ガスに対する濡れ性が高くなりやすい。そのため、感光層と無機保護層との接着性が高く、無機保護層の剥離がより抑制される。 When the water contact angle is within the above range, the surface of the photosensitive layer that comes into contact with the inorganic protective layer tends to have high wettability with the raw material gas for forming the inorganic protective layer during the formation of the inorganic protective layer. Therefore, the adhesiveness between the photosensitive layer and the inorganic protective layer is high, and peeling of the inorganic protective layer is further suppressed.

水接触角は、撥水性を示す指標であり、以下のとおり測定する。
温度25℃湿度50%の環境下で、接触角計(協和界面科学(株)製、型番:CA-X-FACE)を用いて、測定対象物の表面に、純水を3μL滴下し、滴下してから3秒後の液滴を光学顕微鏡により撮影する。そして、得られた撮像写真から、θ/2法に基づき、水接触角θを求める。
The water contact angle is an index showing water repellency, and is measured as follows.
In an environment of 25°C temperature and 50% humidity, 3 μL of pure water is dropped onto the surface of the measurement object using a contact angle meter (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd., model number: CA-X-FACE), and the droplet is photographed 3 seconds after dropping using an optical microscope. Then, the water contact angle θ is calculated from the photograph obtained based on the θ/2 method.

水接触角を上記範囲内に調整する手法は特に制限されないが、例えば、感光層に潤滑油を含有させる手法が挙げられる。 There are no particular limitations on the method for adjusting the water contact angle to within the above range, but an example is a method in which a lubricating oil is added to the photosensitive layer.

第一実施形態では、感光層は、潤滑油を含有することが好ましい。
第二実施形態では、感光層は、潤滑油を含有する。
感光層が潤滑油を含有すると、無機保護層と接触する側の感光層の面における濡れ性が高くなりやすい。そのため、感光層と無機保護層との接着性が高く、無機保護層の剥離がより抑制される。
In the first embodiment, the photosensitive layer preferably contains lubricating oil.
In a second embodiment, the photosensitive layer contains lubricating oil.
When the photosensitive layer contains lubricating oil, the wettability of the surface of the photosensitive layer that comes into contact with the inorganic protective layer tends to be high. Therefore, the adhesiveness between the photosensitive layer and the inorganic protective layer is high, and peeling of the inorganic protective layer is further suppressed.

潤滑油の種類は、特に制限されないが、例えば、
潤滑油としては、例えば、シリコーンオイル、フッ素含有オイル、炭化水素系オイル(例えばポリアルファオレフィン等)、鉱物油、植物油、ポリアルキレングリコール、アルキレングリコールエーテル、アルカンジオール、溶融ワックス、界面活性剤等が挙げられる。
フッ素含有オイルとは、少なくともフッ素原子を分子構造中に含む樹脂を表す。
炭化水素系オイルとは、炭化水素を主成分として含む室温(23℃)でオイル状の化合物を表す。
The type of lubricant is not particularly limited, but for example,
Examples of lubricating oils include silicone oil, fluorine-containing oil, hydrocarbon oil (such as polyalphaolefin), mineral oil, vegetable oil, polyalkylene glycol, alkylene glycol ether, alkanediol, molten wax, and surfactant. Can be mentioned.
The fluorine-containing oil refers to a resin containing at least a fluorine atom in its molecular structure.
Hydrocarbon oil refers to a compound that contains hydrocarbons as a main component and is oily at room temperature (23°C).

潤滑油は、シリコーンオイル及びフッ素含有オイルの少なくとも一方を含むことが好ましく、シリコーンオイルを含むことがより好ましい。
潤滑油がシリコーンオイル及びフッ素含有オイルの少なくとも一方を含む(より好ましくはシリコーンオイルを含む)と、無機保護層と接触する側の感光層の面における水接触角の値が先述の範囲に調節されやすく、これにより濡れ性が高くなりやすい。そのため、感光層と無機保護層との接着性が高く、無機保護層の剥離がより抑制される。
The lubricating oil preferably contains at least one of a silicone oil and a fluorine-containing oil, and more preferably contains a silicone oil.
When lubricating oil contains at least one of silicone oil and fluorine-containing oil (more preferably contains silicone oil), the water contact angle value of the surface of the photosensitive layer that contacts with the inorganic protective layer is easily adjusted to the above-mentioned range, and thus wettability is easily improved.Therefore, the adhesion between the photosensitive layer and the inorganic protective layer is high, and the peeling of the inorganic protective layer is more suppressed.

シリコーンオイルとしては、例えば、
ジメチルポリシロキサン、ジメチルシリコーンオイル、環状ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、ジフェニルシリコーンオイル等のストレートシリコーンオイル;
カルピノール変性シリコーンオイル、フェニル変性シリコーンオイル、アラルキル変性シリコーンオイル、アルキル変性シリコーンオイル、フルオロ変性シリコーンオイル、フルオロアルキル変性シリコーンオイル、ポリオール変性シリコーンオイル、ポリエステル変性シリコーンオイル、脂肪酸エステル変性シリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイル、アクリル変性シリコーンオイル、ハイドロジェン変性シリコーンオイル(例えばメチルハイドロジェン変性シリコーンオイル)等の変性シリコーンオイル;などが挙げられる。
Examples of silicone oil include:
Straight silicone oils such as dimethyl polysiloxane, dimethyl silicone oil, cyclic dimethyl silicone oil, methylphenyl silicone oil, diphenyl silicone oil;
Carpinol-modified silicone oil, phenyl-modified silicone oil, aralkyl-modified silicone oil, alkyl-modified silicone oil, fluoro-modified silicone oil, fluoroalkyl-modified silicone oil, polyol-modified silicone oil, polyester-modified silicone oil, fatty acid ester-modified silicone oil, polyether-modified silicone oil Modified silicone oils such as silicone oil, acrylic-modified silicone oil, hydrogen-modified silicone oil (for example, methylhydrogen-modified silicone oil), and the like can be mentioned.

フッ素系オイルとしては、パーフルオロポリエーテル、クロロトリフルオロエチレン、ポリテトラフルオロエチレン、フッ素含有アクリルポリマー等が挙げられる。 Fluorine-based oils include perfluoropolyether, chlorotrifluoroethylene, polytetrafluoroethylene, fluorine-containing acrylic polymers, etc.

第一実施形態では、感光層は、潤滑油を感光層の全固形分に対して0.0001質量%以上含有することが好ましく、0.0002質量%以上1質量%以下で含有することがより好ましく、0.0002質量%以上0.1質量%以下で含有することがさらに好ましい。
第二実施形態では、感光層は、潤滑油を感光層の全固形分に対して0.0001質量%以上含有し、0.0002質量%以上1質量%以下で含有することが好ましく、0.0002質量%以上0.1質量%以下で含有することがより好ましい。
In the first embodiment, the photosensitive layer preferably contains lubricating oil in an amount of 0.0001% by mass or more based on the total solid content of the photosensitive layer, more preferably 0.0002% by mass or more and 1% by mass or less. Preferably, the content is preferably 0.0002% by mass or more and 0.1% by mass or less.
In the second embodiment, the photosensitive layer contains lubricating oil in an amount of 0.0001% by mass or more based on the total solid content of the photosensitive layer, preferably 0.0002% by mass or more and 1% by mass or less, and preferably 0.0002% by mass or more and 1% by mass or less, based on the total solid content of the photosensitive layer. More preferably, the content is 0.002% by mass or more and 0.1% by mass or less.

潤滑油の含有量が0.0001質量%以上であると、無機保護層と接触する側の感光層の面における濡れ性が高くなりやすい。そのため、感光層と無機保護層との接着性が高く、無機保護層の剥離がより抑制される。
潤滑油の含有量が潤滑油を感光層の全固形分に対して1質量%以下であると、感光層の電気的特性が低下することが抑制される。
When the lubricating oil content is 0.0001% by mass or more, the wettability of the surface of the photosensitive layer that comes into contact with the inorganic protective layer tends to be high. Therefore, the adhesiveness between the photosensitive layer and the inorganic protective layer is high, and peeling of the inorganic protective layer is further suppressed.
When the lubricating oil content is 1% by mass or less based on the total solid content of the photosensitive layer, deterioration of the electrical properties of the photosensitive layer is suppressed.

以下、電荷発生層と電荷輸送層とに機能が分離された積層型感光層について、層別に詳細を説明する。感光層が積層型感光層である場合、潤滑油は、無機保護層との界面側の表面における水接触角を調整する観点から、電荷輸送層に含まれることが好ましい。 The laminated photosensitive layer in which the functions are separated into a charge generation layer and a charge transport layer will be explained in detail for each layer below. When the photosensitive layer is a laminated photosensitive layer, the lubricating oil is preferably included in the charge transport layer from the viewpoint of adjusting the water contact angle on the surface on the interface side with the inorganic protective layer.

(電荷発生層)
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂とを含む層である。
また、電荷発生層は、電荷発生材料の蒸着層であってもよい。電荷発生材料の蒸着層は、LED(Light Emitting Diode)、有機EL(Electro-Luminescence)イメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合に好適である。電荷輸送層は、必要に応じて潤滑油をさらに含んでいてもよい。潤滑油の詳細は、先述の通りである。
(Charge Generation Layer)
The charge generating layer is, for example, a layer containing a charge generating material and a binder resin.
The charge generating layer may also be a vapor deposition layer of a charge generating material. The vapor deposition layer of a charge generating material is suitable for use with a non-coherent light source such as an LED (Light Emitting Diode) or an organic EL (Electro-Luminescence) image array. The charge transport layer may further contain a lubricant as necessary. Details of the lubricant are as described above.

電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料;ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料;ペリレン顔料;ピロロピロール顔料;フタロシアニン顔料;酸化亜鉛;三方晶系セレン等が挙げられる。 Examples of the charge generating material include azo pigments such as bisazo and trisazo; condensed aromatic pigments such as dibromoanthanthrone; perylene pigments; pyrrolopyrrole pigments; phthalocyanine pigments; zinc oxide; and trigonal selenium.

これらの中でも、近赤外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、金属フタロシアニン顔料、又は無金属フタロシアニン顔料を用いることが好ましい。具体的には、例えば、ヒドロキシガリウムフタロシアニン;クロロガリウムフタロシアニン;ジクロロスズフタロシアニン;チタニルフタロシアニンがより好ましい。 Among these, it is preferable to use a metal phthalocyanine pigment or a metal-free phthalocyanine pigment as the charge-generating material in order to make it compatible with laser exposure in the near-infrared region. Specifically, for example, hydroxygallium phthalocyanine; chlorogallium phthalocyanine; dichlorotin phthalocyanine; and titanyl phthalocyanine are more preferable.

一方、近紫外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料;チオインジゴ系顔料;ポルフィラジン化合物;酸化亜鉛;三方晶系セレン;ビスアゾ顔料等が好ましい。 On the other hand, in order to be compatible with laser exposure in the near-ultraviolet region, charge-generating materials include condensed aromatic pigments such as dibromoanthanthrone; thioindigo pigments; porphyrazine compounds; zinc oxide; trigonal selenium; and bisazo pigments. etc. are preferred.

450nm以上780nm以下に発光の中心波長があるLED,有機ELイメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合にも、上記電荷発生材料を用いてもよいが、解像度の観点より、感光層を20μm以下の薄膜で用いるときには、感光層中の電界強度が高くなり、基体からの電荷注入による帯電低下、いわゆる黒点と呼ばれる画像欠陥を生じやすくなる。これは、三方晶系セレン、フタロシアニン顔料等のp-型半導体で暗電流を生じやすい電荷発生材料を用いたときに顕著となる。 The above charge generating materials may be used when using incoherent light sources such as LEDs and organic EL image arrays that emit light at a central wavelength between 450 nm and 780 nm. However, from the viewpoint of resolution, when using a thin photosensitive layer of 20 μm or less, the electric field strength in the photosensitive layer becomes high, and a decrease in charge due to charge injection from the substrate, so-called black spots, are likely to occur as image defects. This is particularly noticeable when using charge generating materials that are p-type semiconductors such as trigonal selenium and phthalocyanine pigments and are prone to generating dark current.

これに対し、電荷発生材料として、縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、アゾ顔料等のn-型半導体を用いた場合、暗電流を生じ難く、薄膜にしても黒点と呼ばれる画像欠陥を抑制し得る。
なお、n-型の判定は、通常使用されるタイムオブフライト法を用い、流れる光電流の極性によって判定され、正孔よりも電子をキャリアとして流しやすいものをn-型とする。
In contrast, when an n-type semiconductor such as a fused aromatic pigment, a perylene pigment, or an azo pigment is used as the charge generating material, dark current is unlikely to occur, and image defects called black spots can be suppressed even when the material is made into a thin film.
The n-type is determined by the polarity of the photocurrent that flows using the commonly used time-of-flight method, and those that easily pass electrons as carriers rather than holes are determined to be n-type.

電荷発生層に用いる結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、また、結着樹脂としては、ポリ-N-ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。
結着樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂(ビスフェノール類と芳香族2価カルボン酸の重縮合体等)、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。ここで、「絶縁性」とは、体積抵抗率が1013Ωcm以上であることをいう。
これらの結着樹脂は1種を単独で又は2種以上を混合して用いられる。
The binder resin used in the charge generating layer may be selected from a wide range of insulating resins, and may also be selected from organic photoconductive polymers such as poly-N-vinylcarbazole, polyvinylanthracene, polyvinylpyrene, polysilane, and the like.
Examples of binder resins include polyvinyl butyral resins, polyarylate resins (polycondensates of bisphenols and aromatic dicarboxylic acids, etc.), polycarbonate resins, polyester resins, phenoxy resins, vinyl chloride-vinyl acetate copolymers, polyamide resins, acrylic resins, polyacrylamide resins, polyvinylpyridine resins, cellulose resins, urethane resins, epoxy resins, casein, polyvinyl alcohol resins, polyvinylpyrrolidone resins, etc. Here, "insulating" means that the volume resistivity is 10 13 Ωcm or more.
These binder resins may be used alone or in combination of two or more.

なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比は、質量比で10:1から1:10までの範囲内であることが好ましい。 It is preferable that the mixing ratio of the charge generating material to the binder resin is within the range of 10:1 to 1:10 by mass.

電荷発生層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。 The charge generation layer may also contain other well-known additives.

電荷発生層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。なお、電荷発生層の形成は、電荷発生材料の蒸着により行ってもよい。電荷発生層の蒸着による形成は、特に、電荷発生材料として縮環芳香族顔料、ペリレン顔料を利用する場合に好適である。 There are no particular restrictions on the formation of the charge generation layer, and well-known formation methods may be used. and heat as necessary. Note that the charge generation layer may be formed by vapor deposition of a charge generation material. Formation of the charge generation layer by vapor deposition is particularly suitable when a condensed aromatic pigment or perylene pigment is used as the charge generation material.

電荷発生層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、メタノール、エタノール、n-プロパノール、n-ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸n-ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等が挙げられる。これら溶剤は、1種を単独で又は2種以上を混合して用いる。 Examples of the solvent for preparing the coating solution for forming the charge generation layer include methanol, ethanol, n-propanol, n-butanol, benzyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl acetate, and n-acetic acid. -butyl, dioxane, tetrahydrofuran, methylene chloride, chloroform, chlorobenzene, toluene and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

電荷発生層形成用塗布液中に粒子(例えば電荷発生材料)を分散させる方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液-液衝突や液-壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式等が挙げられる。
なお、この分散の際、電荷発生層形成用塗布液中の電荷発生材料の平均粒径を0.5μm以下、好ましくは0.3μm以下、更に好ましくは0.15μm以下にすることが有効である。
Examples of methods for dispersing particles (for example, charge generating material) in the coating liquid for forming a charge generating layer include media dispersing machines such as ball mills, vibrating ball mills, attritors, sand mills, and horizontal sand mills, stirring machines, and ultrasonic dispersing machines. Medialess dispersion machines such as , roll mills, and high-pressure homogenizers are used. Examples of the high-pressure homogenizer include a collision method in which the dispersion liquid is dispersed by liquid-liquid collision or liquid-wall collision under high pressure, and a penetration method in which the dispersion is dispersed by penetrating fine channels under high pressure.
In addition, during this dispersion, it is effective to keep the average particle size of the charge generating material in the coating liquid for forming a charge generating layer to 0.5 μm or less, preferably 0.3 μm or less, and more preferably 0.15 μm or less. .

電荷発生層形成用塗布液を下引層上(又は中間層上)に塗布する方法としては、例えばブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。 Methods for applying the coating liquid for forming the charge generating layer onto the undercoat layer (or onto the intermediate layer) include, for example, conventional methods such as blade coating, wire bar coating, spray coating, dip coating, bead coating, air knife coating, and curtain coating.

電荷発生層の膜厚は、例えば、好ましくは0.1μm以上5.0μm以下、より好ましくは0.2μm以上2.0μm以下の範囲内に設定される。 The thickness of the charge generating layer is preferably set within the range of, for example, 0.1 μm to 5.0 μm, and more preferably 0.2 μm to 2.0 μm.

(電荷輸送層)
電荷輸送層は、例えば、潤滑油と電荷輸送材料と結着樹脂とを含む層である。電荷輸送層は、潤滑油と高分子電荷輸送材料を含む層であってもよい。潤滑油の詳細は、先述の通りである。
(Charge Transport Layer)
The charge transport layer is, for example, a layer containing a lubricant, a charge transport material, and a binder resin. The charge transport layer may be a layer containing a lubricant and a polymer charge transport material. Details of the lubricant are as described above.

電荷輸送材料としては、p-ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物;テトラシアノキノジメタン系化合物;2,4,7-トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物;キサントン系化合物;ベンゾフェノン系化合物;シアノビニル系化合物;エチレン系化合物等の電子輸送性化合物が挙げられる。電荷輸送材料としては、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性化合物も挙げられる。これらの電荷輸送材料は1種を単独で又は2種以上で用いられるが、これらに限定されるものではない。 As charge transport materials, quinone compounds such as p-benzoquinone, chloranil, bromanil, and anthraquinone; tetracyanoquinodimethane compounds; fluorenone compounds such as 2,4,7-trinitrofluorenone; xanthone compounds; benzophenone compounds Examples include electron transporting compounds such as cyanovinyl compounds; ethylene compounds. Examples of the charge transporting material include hole transporting compounds such as triarylamine compounds, benzidine compounds, arylalkane compounds, aryl-substituted ethylene compounds, stilbene compounds, anthracene compounds, and hydrazone compounds. These charge transport materials may be used alone or in combination of two or more, but are not limited thereto.

電荷輸送材料としては、電荷移動度の観点から、下記構造式(a-1)で示されるトリアリールアミン誘導体、及び下記構造式(a-2)で示されるベンジジン誘導体が好ましい。 As the charge transport material, from the viewpoint of charge mobility, a triarylamine derivative represented by the following structural formula (a-1) and a benzidine derivative represented by the following structural formula (a-2) are preferable.

構造式(a-1)中、ArT1、ArT2、及びArT3は、各々独立に置換若しくは無置換のアリール基、-C-C(RT4)=C(RT5)(RT6)、又は-C-CH=CH-CH=C(RT7)(RT8)を示す。RT4、RT5、RT6、RT7、及びRT8は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、炭素数1以上5以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数1以上3以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
In structural formula (a-1), Ar T1 , Ar T2 , and Ar T3 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group, -C 6 H 4 -C(R T4 )=C(R T5 )(R T6 ), or -C 6 H 4 -CH=CH-CH=C(R T7 )(R T8 ). R T4 , R T5 , R T6 , R T7 , and R T8 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group.
Examples of the substituent on each of the above groups include a halogen atom, an alkyl group having from 1 to 5 carbon atoms, and an alkoxy group having from 1 to 5 carbon atoms. Examples of the substituent on each of the above groups also include a substituted amino group substituted with an alkyl group having from 1 to 3 carbon atoms.

構造式(a-2)中、RT91及びRT92は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、又は炭素数1以上5以下のアルコキシ基を示す。RT101、RT102、RT111及びRT112は各々独立に、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、炭素数1以上5以下のアルコキシ基、炭素数1以上2以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは無置換のアリール基、-C(RT12)=C(RT13)(RT14)、又は-CH=CH-CH=C(RT15)(RT16)を示し、RT12、RT13、RT14、RT15及びRT16は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。Tm1、Tm2、Tn1及びTn2は各々独立に0以上2以下の整数を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、炭素数1以上5以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数1以上3以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
In structural formula (a-2), R T91 and R T92 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. RT101 , RT102 , RT111 and RT112 are each independently substituted with a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms represents an amino group, a substituted or unsubstituted aryl group, -C(R T12 )=C(R T13 )(R T14 ), or -CH=CH-CH=C(R T15 )(R T16 ), R T12 , R T13 , R T14 , R T15 and R T16 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group. Tm1, Tm2, Tn1 and Tn2 each independently represent an integer of 0 or more and 2 or less.
Examples of substituents for each of the above groups include a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. Furthermore, examples of the substituents for each of the above groups include a substituted amino group substituted with an alkyl group having 1 or more and 3 or less carbon atoms.

ここで、構造式(a-1)で示されるトリアリールアミン誘導体、及び前記構造式(a-2)で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「-C-CH=CH-CH=C(RT7)(RT8)」を有するトリアリールアミン誘導体、及び「-CH=CH-CH=C(RT15)(RT16)」を有するベンジジン誘導体が、電荷移動度の観点で好ましい。 Here, among the triarylamine derivative represented by the structural formula (a-1) and the benzidine derivative represented by the structural formula (a-2), in particular, "-C 6 H 4 -CH=CH-CH= Triarylamine derivatives having "C(R T7 )(R T8 )" and benzidine derivatives having "-CH=CH-CH=C(R T15 )(R T16 )" are preferred from the viewpoint of charge mobility.

高分子電荷輸送材料としては、ポリ-N-ビニルカルバゾール、ポリシラン等の電荷輸送性を有する公知のものが用いられる。特に、ポリエステル系の高分子電荷輸送材は特に好ましい。なお、高分子電荷輸送材料は、単独で使用してよいが、結着樹脂と併用してもよい。 As the polymeric charge transporting material, known materials having charge transporting properties such as poly-N-vinylcarbazole and polysilane are used. In particular, polyester-based polymeric charge transport materials are particularly preferred. Note that the polymer charge transport material may be used alone, or may be used in combination with a binder resin.

電荷輸送層に用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン-ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン-アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、スチレン-アルキッド樹脂、ポリ-N-ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。これらの中でも、結着樹脂としては、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂が好適である。これらの結着樹脂は1種を単独で又は2種以上で用いる。
なお、電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は、質量比で10:1から1:5までが好ましい。
Examples of the binder resin used in the charge transport layer include polycarbonate resin, polyester resin, polyarylate resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl acetate resin, styrene-butadiene copolymer, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymer, silicone resin, silicone alkyd resin, phenol-formaldehyde resin, styrene-alkyd resin, poly-N-vinylcarbazole, polysilane, etc. Among these, polycarbonate resin or polyarylate resin is preferable as the binder resin. These binder resins are used alone or in combination of two or more.
The compounding ratio of the charge transport material to the binder resin is preferably from 10:1 to 1:5 by mass.

電荷輸送層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。 The charge transport layer may also contain other known additives.

電荷輸送層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷輸送層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。 There are no particular restrictions on the formation of the charge transport layer, and well-known formation methods may be used. , by heating if necessary.

電荷輸送層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類;アセトン、2-ブタノン等のケトン類;塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類;テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状又は直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は2種以上混合して用いる。 Examples of solvents for preparing the coating solution for forming the charge transport layer include ordinary organic solvents such as aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and chlorobenzene; ketones such as acetone and 2-butanone; halogenated aliphatic hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, and ethylene chloride; and cyclic or linear ethers such as tetrahydrofuran and ethyl ether. These solvents can be used alone or in combination of two or more.

電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層の上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。 Application methods for applying the charge transport layer forming coating liquid onto the charge generation layer include blade coating, wire bar coating, spray coating, dip coating, bead coating, air knife coating, and curtain coating. Usual methods such as coating methods can be used.

電荷輸送層の膜厚は、例えば、好ましくは5μm以上50μm以下、より好ましくは10μm以上30μm以下の範囲内に設定される。 The thickness of the charge transport layer is preferably set within the range of, for example, 5 μm to 50 μm, and more preferably 10 μm to 30 μm.

以下、単層型感光層について、詳細を説明する。 Hereinafter, details of the single-layer type photosensitive layer will be explained.

(単層型感光層)
単層型感光層(電荷発生/電荷輸送層)は、例えば、潤滑油と電荷発生材料と電荷輸送材料と、必要に応じて、結着樹脂、及びその他周知の添加剤と、を含む層である。なお、これら材料は、電荷発生層及び電荷輸送層で説明した材料と同様である。
そして、単層型感光層中、電荷発生材料の含有量は、全固形分に対して0.1質量%以上10質量%以下がよく、好ましくは0.8質量%以上5質量%以下である。また、単層型感光層中、電荷輸送材料の含有量は、全固形分に対して5質量%以上50質量%以下がよい。
単層型感光層の形成方法は、電荷発生層や電荷輸送層の形成方法と同様である。
単層型感光層の膜厚は、例えば、5μm以上50μm以下がよく、好ましくは10μm以上40μm以下である。
(Single layer type photosensitive layer)
The single-layer type photosensitive layer (charge generation/charge transport layer) is a layer containing, for example, a lubricating oil, a charge generation material, a charge transport material, and, if necessary, a binder resin and other well-known additives. be. Note that these materials are the same as those described for the charge generation layer and the charge transport layer.
The content of the charge generating material in the single-layer photosensitive layer is preferably 0.1% by mass or more and 10% by mass or less, preferably 0.8% by mass or more and 5% by mass or less based on the total solid content. . Further, the content of the charge transporting material in the single-layer type photosensitive layer is preferably 5% by mass or more and 50% by mass or less based on the total solid content.
The method for forming the single-layer type photosensitive layer is the same as the method for forming the charge generation layer and the charge transport layer.
The thickness of the single-layer type photosensitive layer is, for example, preferably 5 μm or more and 50 μm or less, preferably 10 μm or more and 40 μm or less.

〔無機保護層〕
-無機保護層の組成-
無機保護層は、無機材料を含んで構成された層である。
無機材料としては、保護層としての機械的強度、透光性を有するという観点から、例えば、酸化物系、窒化物系、炭素系、珪素系の無機材料が挙げられる。
酸化物系の無機材料としては、例えば、酸化ガリウム、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化インジウム、酸化錫、酸化ホウ素等の金属酸化物、又はこれらの混晶が挙げられる。
窒化物系の無機材料としては、例えば、窒化ガリウム、窒化アルミニウム、窒化亜鉛、窒化チタン、窒化インジウム、窒化錫、窒化ホウ素等の金属窒化物、又はこれらの混晶が挙げられる。
炭素系及び珪素系の無機材料としては、例えば、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)、アモルファスカーボン(a-C)、水素化アモルファスカーボン(a-C:H)、水素・フッ素化アモルファスカーボン(a-C:H)、アモルファスシリコンカーバイト(a-SiC)、水素化アモルファスシリコンカーバイト(a-SiC:H)アモルファスシリコン(a-Si)、水素化アモルファスシリコン(a-Si:H)等が挙げられる。 なお、無機材料は、酸化物系及び窒化物系の無機材料の混晶であってもよい。
[Inorganic Protective Layer]
- Composition of inorganic protective layer -
The inorganic protective layer is a layer containing an inorganic material.
Examples of inorganic materials that can be used as a protective layer include oxide-, nitride-, carbon-, and silicon-based inorganic materials, from the viewpoint of mechanical strength and light transmission.
Examples of oxide-based inorganic materials include metal oxides such as gallium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, titanium oxide, indium oxide, tin oxide, and boron oxide, and mixed crystals of these.
Examples of the nitride-based inorganic material include metal nitrides such as gallium nitride, aluminum nitride, zinc nitride, titanium nitride, indium nitride, tin nitride, and boron nitride, and mixed crystals of these.
Examples of carbon-based and silicon-based inorganic materials include diamond-like carbon (DLC), amorphous carbon (a-C), hydrogenated amorphous carbon (a-C:H), hydrogenated/fluorinated amorphous carbon (a-C:H), amorphous silicon carbide (a-SiC), hydrogenated amorphous silicon carbide (a-SiC:H), amorphous silicon (a-Si), hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H), etc. The inorganic material may be a mixed crystal of oxide-based and nitride-based inorganic materials.

上記の中でも、無機材料としては、機械的強度、透光性に優れ、特にn型導電性を有し、その導電制御性に優れるという観点から、金属酸化物、特に、第13族元素の酸化物を含むことが好ましく、ガリウム元素の酸化物を含むことがより好ましく、酸化ガリウムを含むことがさらに好ましい。 Among the above-mentioned inorganic materials, metal oxides, especially the oxidation of Group 13 elements, are preferred because they have excellent mechanical strength and translucency, have n-type conductivity, and have excellent conductivity controllability. It is more preferable to contain an oxide of the gallium element, and even more preferably to contain gallium oxide.

無機保護層には、上記無機材料の他、導電型の制御のために、例えば、n型の場合、C、Si、Ge、Snから選ばれる1つ以上の元素をさらに含んでいてもよい。
無機保護層には、上記無機材料の他、導電型の制御のために、例えば、p型の場合、N、Be、Mg、Ca、Srから選ばれる1つ以上の元素をさらに含んでいてもよい。
In addition to the above-mentioned inorganic materials, the inorganic protective layer may further contain one or more elements selected from C, Si, Ge, and Sn in the case of n-type conductivity, for example, in order to control the conductivity type.
In addition to the above-mentioned inorganic materials, the inorganic protective layer may further contain one or more elements selected from N, Be, Mg, Ca, and Sr in the case of p-type, for example, in order to control the conductivity type. good.

本実施形態では、無機保護層は、酸素及び第13族元素を含む無機保護層であることが好ましく、酸素、水素及び第13族元素を含む無機保護層であることがより好ましく、酸素、水素及びガリウム元素を含む無機保護層であることがさらに好ましい。
無機保護層は、第13族元素及び酸素を含むことで、撥水性が高まる。この撥水性の高さにより、クリーニングブレードによるクリーニング性が良好となる。
無機保護層が、酸素、水素及び第13族元素を含むことで、無機保護層の諸物性が容易に制御され易くなる。
In this embodiment, the inorganic protective layer is preferably an inorganic protective layer containing oxygen and a Group 13 element, more preferably an inorganic protective layer containing oxygen, hydrogen and a Group 13 element, and even more preferably an inorganic protective layer containing oxygen, hydrogen and a gallium element.
The inorganic protective layer has improved water repellency due to the inclusion of a Group 13 element and oxygen. This high water repellency improves the cleaning properties with a cleaning blade.
When the inorganic protective layer contains oxygen, hydrogen, and a Group 13 element, the physical properties of the inorganic protective layer can be easily controlled.

・元素組成比
酸素及び第13族元素の元素組成比(酸素/第13族元素)は1.0以上1.5未満であることが好ましく、1.1以上1.5以下がより好ましく、1.05以上1.45以下がさらに好ましく、1.10以上1.40以下が特に好ましい。
酸素及び第13族元素の元素組成比(酸素/第13族元素)が上記範囲内であると、第13族元素と大気中の水分とが反応して水酸化物(例えば水酸化ガリウム)等の被膜が、無機保護層と感光層との界面における無機保護層の面に形成されることが抑制される。その結果、感光層からの無機保護層の剥離がより抑制される。
- Elemental composition ratio The elemental composition ratio of oxygen and Group 13 elements (oxygen/Group 13 element) is preferably 1.0 or more and less than 1.5, more preferably 1.1 or more and 1.5 or less, and 1. More preferably .05 or more and 1.45 or less, particularly preferably 1.10 or more and 1.40 or less.
When the elemental composition ratio of oxygen and the Group 13 element (oxygen/Group 13 element) is within the above range, the Group 13 element reacts with moisture in the atmosphere to form hydroxides (for example, gallium hydroxide), etc. Formation of the film on the surface of the inorganic protective layer at the interface between the inorganic protective layer and the photosensitive layer is suppressed. As a result, peeling of the inorganic protective layer from the photosensitive layer is further suppressed.

・元素構成比率の和
無機表面層を構成する全元素に対する、第13族元素(特にガリウム)及び酸素の元素構成比率の和は、0.70原子%以上が好ましく、0.75原子%以上がより好ましく、0.80原子%以上がさらに好ましく、0.85原子%以上が特に好ましい
上記第13族元素(特にガリウム)及び酸素の元素構成比率の和が上記範囲内であると、例えば、N,P,Asなどの15族元素などが混入した場合、前記混入物が第13族元素(特にガリウム)と結合する影響などが抑制され、無機表面層の硬度又は電気特性を向上させ得る酸素及び第13族元素(特にガリウム)組成比(酸素/第13族元素(特にガリウム))の適正範囲を実現し易くなる。
Sum of elemental composition ratios The sum of the elemental composition ratios of Group 13 elements (particularly gallium) and oxygen with respect to all elements constituting the inorganic surface layer is preferably 0.70 atomic % or more, more preferably 0.75 atomic % or more, even more preferably 0.80 atomic % or more, and particularly preferably 0.85 atomic % or more. When the sum of the elemental composition ratios of the Group 13 elements (particularly gallium) and oxygen is within the above range, for example, when a Group 15 element such as N, P, or As is mixed in, the influence of the mixed material bonding with the Group 13 elements (particularly gallium) is suppressed, and it becomes easier to realize an appropriate range of the oxygen and Group 13 element (particularly gallium) composition ratio (oxygen/Group 13 element (particularly gallium)) that can improve the hardness or electrical properties of the inorganic surface layer.

無機表面層は、無機表面層を構成する全元素に対する、第13族元素、酸素及び水素の元素構成比率の和が90原子%以上であることが好ましく、95原子%以上がより好ましく、96原子%以上がさらに好ましく、97原子%以上が特に好ましい。
上記第13族元素、酸素、及び水素の元素構成比率の和が上記範囲内であると、例えばN,P,Asなどの15族元素などが混入した場合に、前記混入物が第13族元素(特にガリウム)と結合する影響などが抑制され、無機表面層の硬度や電気特性を向上させ得る酸素及び第13族元素(特にガリウム)組成比(酸素/第13族元素(特にガリウム))の適正範囲を見出しやすくなる。
In the inorganic surface layer, the sum of the elemental composition ratios of Group 13 elements, oxygen, and hydrogen to all elements constituting the inorganic surface layer is preferably 90 atom % or more, more preferably 95 atom % or more, and 96 atom % or more. % or more is more preferable, and 97 atom % or more is particularly preferable.
If the sum of the elemental ratios of the Group 13 elements, oxygen, and hydrogen is within the above range, for example, when Group 15 elements such as N, P, and As are mixed, the contaminant is a Group 13 element. The composition ratio of oxygen and group 13 elements (especially gallium) (oxygen/group 13 elements (especially gallium)) can suppress the effects of combining with gallium (especially gallium) and improve the hardness and electrical properties of the inorganic surface layer. It becomes easier to find the appropriate range.

・元素構成比率
無機保護層が、ガリウムと酸素と必要に応じて水素とを含んで構成された場合、機械的強度、透光性、柔軟性に優れ、その導電制御性に優れるという観点から、好適な元素構成比率は以下の通りである。
ガリウムの元素構成比率は、無機保護層の全構成元素に対して、15原子%以上50原子%以下であることがよく、望ましくは20原子%以上40原子%以下、より望ましくは20原子%以上30原子%以下である。
酸素の元素構成比率は、例えば、無機保護層の全構成元素に対して、30原子%以上70原子%以下であることがよく、望ましくは40原子%以上60原子%以下、より望ましくは45原子%以上55原子%以下である。
水素の元素構成比率は、例えば、無機保護層の全構成元素に対して、10原子%以上40原子%以下であることがよく、望ましくは15原子%以上35原子%以下、より望ましくは20原子%以上30原子%以下である。
一方で、原子数比〔酸素/ガリウム〕は、1.00を超え2.00以下であることがよく、望ましくは1.10以上1.90以下である。
Elemental Composition Ratio When the inorganic protective layer is composed of gallium, oxygen, and optionally hydrogen, from the viewpoints of excellent mechanical strength, light transmittance, flexibility, and electrical conductivity controllability, a suitable elemental composition ratio is as follows.
The atomic ratio of gallium to all the constituent elements of the inorganic protective layer is preferably 15 atomic % to 50 atomic %, more preferably 20 atomic % to 40 atomic %, and even more preferably 20 atomic % to 30 atomic %.
The atomic ratio of oxygen to all the constituent elements of the inorganic protective layer is, for example, preferably 30 atomic % to 70 atomic %, more preferably 40 atomic % to 60 atomic %, and more preferably 45 atomic % to 55 atomic %.
The atomic ratio of hydrogen to all the constituent elements of the inorganic protective layer is, for example, preferably 10 atomic % to 40 atomic % inclusive, more preferably 15 atomic % to 35 atomic % inclusive, and more preferably 20 atomic % to 30 atomic % inclusive.
On the other hand, the atomic ratio [oxygen/gallium] is preferably more than 1.00 and not more than 2.00, and more preferably 1.10 or more and not more than 1.90.

ここで、無機保護層における各元素の元素構成比率、原子数比等は、厚み方向の分布も含めてラザフォードバックスキャタリング(以下、「RBS」と称する)により求められる
なお、RBSでは、加速器としてNEC社 3SDH Pelletron、エンドステーションとしてCE&A社 RBS-400、システムとして3S-R10を用いる。解析にはCE&A社のHYPRAプログラム等を用いる。
なお、RBSの測定条件は、He++イオンビームエネルギーは2.275eV、検出角度160°、入射ビームに対してGrazing Angleは約109°とする。
Here, the elemental composition ratio, atomic ratio, etc. of each element in the inorganic protective layer, including the distribution in the thickness direction, are obtained by Rutherford Backscattering (hereinafter referred to as "RBS"). Note that in RBS, an NEC 3SDH Pelletron is used as the accelerator, a CE&A RBS-400 is used as the end station, and a 3S-R10 is used as the system. The CE&A HYPRA program or the like is used for the analysis.
The RBS measurement conditions are as follows: He++ ion beam energy is 2.275 eV, detection angle is 160°, and grazing angle with respect to the incident beam is approximately 109°.

RBS測定は、具体的には以下のように行う
まず、He++イオンビームを試料に対して垂直に入射し、検出器をイオンビームに対して、160°にセットし、後方散乱されたHeのシグナルを測定する。検出したHeのエネルギーと強度から組成比と膜厚を決定する。組成比及び膜厚を求める精度を向上させるために二つの検出角度でスペクトルを測定してもよい。深さ方向分解能や後方散乱力学の異なる二つの検出角度で測定しクロスチェックすることにより精度が向上する。
ターゲット原子によって後方散乱されるHe原子の数は、1)ターゲット原子の原子番号、2)散乱前のHe原子のエネルギー、3)散乱角度の3つの要素のみにより決まる。
測定された組成から密度を計算によって仮定して、これを用いて厚みを算出する。密度の誤差は20%以内である。
Specifically, RBS measurement is performed as follows: First, a He++ ion beam is incident perpendicularly on the sample, a detector is set at 160° to the ion beam, and the backscattered He signal is measured. The composition ratio and film thickness are determined from the energy and intensity of the detected He. To improve the accuracy of determining the composition ratio and film thickness, the spectrum may be measured at two detection angles. Accuracy is improved by measuring at two detection angles with different depth resolutions and backscattering dynamics and cross-checking the results.
The number of He atoms that are backscattered by a target atom depends only on three factors: 1) the atomic number of the target atom, 2) the energy of the He atom before scattering, and 3) the scattering angle.
The density is calculated from the measured composition and used to calculate the thickness. The density error is within 20%.

なお、水素の元素構成比率は、ハイドロジェンフォワードスキャタリング(以下、「HFS」と称する)により求められる。
HFS測定では、加速器としてNEC社 3SDH Pelletron、エンドステーションとしてCE&A社 RBS-400を用い、システムとして3S-R10を用いる。解析にはCE&A社のHYPRAプログラムを用いる。そして、HFSの測定条件は、以下の通りである。
・He++イオンビームエネルギー:2.275eV
・検出角度:160°入射ビームに対してGrazing Angle30°
Note that the elemental composition ratio of hydrogen is determined by hydrogen forward scattering (hereinafter referred to as "HFS").
In the HFS measurement, NEC's 3SDH Pelletron is used as an accelerator, CE&A's RBS-400 is used as an end station, and 3S-R10 is used as a system. CE&A's HYPRA program is used for analysis. The HFS measurement conditions are as follows.
・He++ ion beam energy: 2.275eV
・Detection angle: Grazing angle 30° for 160° incident beam

HFS測定は、He++イオンビームに対して検出器が30°に、試料が法線から75°になるようにセットすることにより、試料の前方に散乱する水素のシグナルを拾う。この時検出器をアルミ箔で覆い、水素とともに散乱するHe原子を取り除くことがよい。定量は参照用試料と被測定試料との水素のカウントを阻止能で規格化した後に比較することによって行う。参照用試料としてSi中にHをイオン注入した試料と白雲母を使用する。
白雲母は水素濃度が6.5原子%であることが知られている。
最表面に吸着しているHは、例えば、清浄なSi表面に吸着しているH量を差し引くことによって補正を行う。
In HFS measurements, the detector is set at 30° to the He++ ion beam and the sample is set at 75° from the normal to pick up the signal of hydrogen scattered forward from the sample. It is advisable to cover the detector with aluminum foil to remove He atoms that scatter along with hydrogen. Quantitative analysis is performed by comparing the hydrogen counts of the reference sample and the sample to be measured after normalizing them by stopping power. A sample with H ions implanted into Si and muscovite are used as the reference sample.
Muscovite is known to have a hydrogen concentration of 6.5 atomic percent.
The amount of H adsorbed on the outermost surface is corrected by subtracting the amount of H adsorbed on a clean Si surface, for example.

なお、無機表面層は、目的に応じて、厚み方向に組成比に分布を有していてもよいし、
多層構成からなるものであってもよい。
The inorganic surface layer may have a distribution in composition ratio in the thickness direction depending on the purpose.
It may have a multi-layer structure.

-無機保護層の特性-
無機表面層は、微結晶膜、多結晶膜、非晶質膜などの非単結晶膜であることが望ましい。これらの中でも、非晶質は表面の平滑性で特に望ましいが、微結晶膜は硬度の点でより望ましい。
無機表面層の成長断面は、柱状構造をとっていてもよいが、滑り性の観点からは平坦性の高い構造が望ましく、非晶質が望ましい。
なお、結晶性、非晶質性は、RHEED(反射高速電子線回折)測定により得られた回折像の点や線の有無により判別される。
-Characteristics of inorganic protective layer-
The inorganic surface layer is preferably a non-single crystal film such as a microcrystalline film, a polycrystalline film, or an amorphous film. Among these, an amorphous film is particularly desirable in terms of surface smoothness, but a microcrystalline film is more desirable in terms of hardness.
The growth cross section of the inorganic surface layer may have a columnar structure, but from the viewpoint of slipperiness, a highly flat structure is desirable, and an amorphous structure is desirable.
Note that crystallinity and amorphousness are determined by the presence or absence of points or lines in a diffraction image obtained by RHEED (reflection high-speed electron diffraction) measurement.

無機保護層の体積抵抗率は、10Ω・cm以上であることがよく、望ましくは10Ω・cm以上である。
この体積抵抗率を上記範囲とすると、電荷が面内方向に流れることが抑制され、良好な静電潜像形成が実現され易くなる。
この体積抵抗率は、nF社製LCRメーターZM2371を用いて、周波数1kHz、電圧1Vの条件にて測定した抵抗値から、電極面積、試料厚みに基づき算出して求められる。
なお、測定試料は、測定対象となる無機保護層の成膜時の同条件でアルミ基体上に成膜し、その成膜物上に真空蒸着により金電極を形成し得られた試料であってもよいし、又は作製後の電子写真感光体から無機保護層を剥離し、一部エッチングして、これを一対の電極で挟み込んだ試料であってもよい。
The volume resistivity of the inorganic protective layer is preferably 10 6 Ω·cm or more, and desirably 10 8 Ω·cm or more.
When the volume resistivity is within the above range, the flow of electric charges in the in-plane direction is suppressed, and good electrostatic latent image formation is easily achieved.
This volume resistivity is calculated from the resistance value measured using an LCR meter ZM2371 manufactured by nF Corporation under conditions of a frequency of 1 kHz and a voltage of 1 V, based on the electrode area and the sample thickness.
The measurement sample may be a sample obtained by forming a film on an aluminum substrate under the same conditions as those for forming the inorganic protective layer to be measured, and then forming a gold electrode on the film by vacuum deposition, or may be a sample obtained by peeling off the inorganic protective layer from the electrophotographic photoreceptor after production, partially etching it, and sandwiching it between a pair of electrodes.

無機保護層の弾性率は30GPa以上80GPa以下であることがよく、望ましくは40GPa以上65GPa以下である。
この弾性率を上記範囲とすると、無機保護層における凹部の発生、剥れや割れが抑制され易くなる。
この弾性率は、MTSシステムズ社製 Nano Indenter SA2を用いて、連続剛性法(CSM)(米国特許4848141)により深さプロファイルを得て、その押込み深さ30nmから100nmの測定値から得た平均値を用いる。下記は測定条件である。
・測定環境:23℃、55%RH
・使用圧子:ダイヤモンド製正三角錐圧子(Berkovic圧子)三角錐圧子
・試験モード:CSMモード
なお、測定試料は、測定対象となる無機保護層の成膜時の同条件で基体上に成膜した試料であってもよいし、又は作製後の電子写真感光体から無機保護層を剥離し、一部エッチングした試料であってもよい。
The elastic modulus of the inorganic protective layer is preferably 30 GPa or more and 80 GPa or less, preferably 40 GPa or more and 65 GPa or less.
When the elastic modulus is within the above range, the formation of recesses, peeling and cracking in the inorganic protective layer can be easily suppressed.
This elastic modulus is the average value obtained from the measured values from the indentation depth of 30 nm to 100 nm, obtained by obtaining a depth profile by the continuous stiffness method (CSM) (US Patent 4,848,141) using Nano Indenter SA2 manufactured by MTS Systems. Use. The following are the measurement conditions.
・Measurement environment: 23℃, 55%RH
・Indenter used: Diamond regular triangular pyramid indenter (Berkovic indenter) Triangular pyramid indenter ・Test mode: CSM mode The measurement sample was a sample formed on a substrate under the same conditions as the inorganic protective layer to be measured. Alternatively, it may be a sample obtained by peeling off the inorganic protective layer from the produced electrophotographic photoreceptor and partially etching it.

無機保護層の膜厚は、例えば、0.2μm以上10.0μm以下であることがよく、望ましくは0.4μm以上5.0μm以下である。
この膜厚を上記範囲とすると、無機保護層における凹部の発生、剥れや割れが抑制され易くなる。
The thickness of the inorganic protective layer is, for example, preferably from 0.2 μm to 10.0 μm, and more preferably from 0.4 μm to 5.0 μm.
If the film thickness is within the above range, the occurrence of recesses, peeling, and cracks in the inorganic protective layer can be easily suppressed.

-無機保護層の形成-
保護層の形成には、例えば、プラズマCVD(Chemical Vapor Deposition)法、有機金属気相成長法、分子線エキタピシー法、蒸着、スパッタリング等の公知の気相成膜法が利用される。
- Formation of inorganic protective layer -
The protective layer may be formed by a known vapor phase deposition method such as plasma CVD (Chemical Vapor Deposition), metal organic vapor phase epitaxy, molecular beam epitaxy, vapor deposition, or sputtering.

以下、無機保護層の形成について、成膜装置の一例を図面に示しつつ具体例を挙げて説明する。なお、以下の説明は、ガリウム、酸素、及び水素を含んで構成された無機保護層の形成方法について示すが、これに限られず、目的とする無機保護層の組成に応じて、周知の形成方法を適用すればよい。 The formation of the inorganic protective layer will be described below with a specific example, with an example of a film forming apparatus shown in the drawings. Note that the following description shows a method for forming an inorganic protective layer that contains gallium, oxygen, and hydrogen, but is not limited to this, and any known formation method may be applied depending on the composition of the desired inorganic protective layer.

図2は、本実施形態に係る電子写真感光体の無機保護層の形成に用いる成膜装置の一例を示す概略模式図であり、図2(A)は、成膜装置を側面から見た場合の模式断面図を表し、図2(B)は、図2(A)に示す成膜装置のA1-A2間における模式断面図を表す。図2中、210は成膜室、211は排気口、212は基体回転部、213は基体支持部材、214は基体、215はガス導入管、216はガス導入管215から導入したガスを噴射する開口を有するシャワーノズル、217はプラズマ拡散部、218は高周波電力供給部、219は平板電極、220はガス導入管、221は高周波放電管部である。 2 is a schematic diagram showing an example of a film forming apparatus used to form an inorganic protective layer of an electrophotographic photoreceptor according to this embodiment, in which FIG. 2(A) shows a schematic cross-sectional view of the film forming apparatus as viewed from the side, and FIG. 2(B) shows a schematic cross-sectional view of the film forming apparatus taken between A1 and A2 in FIG. 2(A). In FIG. 2, 210 is a film forming chamber, 211 is an exhaust port, 212 is a substrate rotating section, 213 is a substrate support member, 214 is a substrate, 215 is a gas introduction tube, 216 is a shower nozzle having an opening for spraying gas introduced from the gas introduction tube 215, 217 is a plasma diffusion section, 218 is a high-frequency power supply section, 219 is a flat plate electrode, 220 is a gas introduction tube, and 221 is a high-frequency discharge tube section.

図2に示す成膜装置において、成膜室210の一端には、不図示の真空排気装置に接続された排気口211が設けられており、成膜室210の排気口211が設けられた側と反対側に、高周波電力供給部218、平板電極219及び高周波放電管部221からなるプラズマ発生装置が設けられている。
このプラズマ発生装置は、高周波放電管部221と、高周波放電管部221内に配置され、放電面が排気口211側に設けられた平板電極219と、高周波放電管部221外に配置され、平板電極219の放電面と反対側の面に接続された高周波電力供給部218とから構成されたものである。なお、高周波放電管部221には、高周波放電管部221内にガスを供給するためのガス導入管220が接続されており、このガス導入管220のもう一方の端は、不図示の第1のガス供給源に接続されている。
In the film formation apparatus shown in FIG. 2 , an exhaust port 211 connected to a vacuum exhaust device (not shown) is provided at one end of the film formation chamber 210, and a plasma generating device consisting of a high-frequency power supply unit 218, a plate electrode 219, and a high-frequency discharge tube unit 221 is provided on the side opposite to the side where the exhaust port 211 is provided.
This plasma generating device is composed of a high-frequency discharge tube section 221, a plate electrode 219 arranged inside the high-frequency discharge tube section 221 with its discharge surface provided on the exhaust port 211 side, and a high-frequency power supply section 218 arranged outside the high-frequency discharge tube section 221 and connected to the surface opposite to the discharge surface of the plate electrode 219. A gas introduction pipe 220 for supplying gas into the high-frequency discharge tube section 221 is connected to the high-frequency discharge tube section 221, and the other end of this gas introduction pipe 220 is connected to a first gas supply source (not shown).

なお、図2に示す成膜装置に設けられたプラズマ発生装置の代わりに、図3に示すプラズマ発生装置を用いてもよい。図3は、図2に示す成膜装置において利用されるプラズマ発生装置の他の例を示す概略模式図であり、プラズマ発生装置の側面図である。図3中、222が高周波コイル、223が石英管を表し、220は、図2中に示すものと同様である。このプラズマ発生装置は、石英管223と、石英管223の外周面沿って設けられた高周波コイル222とからなり、石英管223の一方の端は成膜室210(図3中、不図示)と接続されている。また、石英管223のもう一方の端には、石英管223内にガスを導入するためのガス導入管220が接続されている。 Note that the plasma generator shown in FIG. 3 may be used instead of the plasma generator provided in the film forming apparatus shown in FIG. 2. FIG. 3 is a schematic diagram showing another example of the plasma generating device used in the film forming apparatus shown in FIG. 2, and is a side view of the plasma generating device. In FIG. 3, 222 represents a high frequency coil, 223 represents a quartz tube, and 220 is the same as that shown in FIG. This plasma generator consists of a quartz tube 223 and a high-frequency coil 222 provided along the outer peripheral surface of the quartz tube 223. One end of the quartz tube 223 is connected to a film forming chamber 210 (not shown in FIG. 3). It is connected. Furthermore, a gas introduction tube 220 for introducing gas into the quartz tube 223 is connected to the other end of the quartz tube 223 .

図2において、平板電極219の放電面側には、放電面に沿って延びる棒状のシャワーノズル216が接続されており、シャワーノズル216の一端は、ガス導入管215と接続されており、このガス導入管215は成膜室210外に設けられた不図示の第2のガス供給源と接続されている。
また、成膜室210内には、基体回転部212が設けられており、円筒状の基体214が、シャワーノズル216の長手方向と基体214の軸方向とが沿って対面するように基体支持部材213を介して基体回転部212に取りつけられるようになっている。成膜に際しては、基体回転部212が回転することによって、基体214が周方向に回転する。なお、基体214としては、例えば、予め有機感光層まで積層された感光体等が用いられる。
In FIG. 2, a rod-shaped shower nozzle 216 extending along the discharge surface is connected to the discharge surface side of the flat plate electrode 219. One end of the shower nozzle 216 is connected to a gas introduction pipe 215, and this gas The introduction pipe 215 is connected to a second gas supply source (not shown) provided outside the film forming chamber 210.
In addition, a substrate rotation unit 212 is provided in the film forming chamber 210, and a cylindrical substrate 214 is attached to a substrate support member such that the longitudinal direction of the shower nozzle 216 and the axial direction of the substrate 214 face each other. It is designed to be attached to the base body rotating part 212 via 213. During film formation, the base body 214 rotates in the circumferential direction as the base body rotating section 212 rotates. Note that as the base 214, for example, a photoreceptor or the like is used, in which an organic photosensitive layer is laminated in advance.

無機保護層の形成は、例えば、以下のように実施する。
まず、酸素ガス(又は、ヘリウム(He)希釈酸素ガス)、ヘリウム(He)ガス、及び必要に応じ水素(H)ガスを、ガス導入管220から高周波放電管部221内に導入すると共に、高周波電力供給部218から平板電極219に、13.56MHzのラジオ波を供給する。この際、平板電極219の放電面側から排気口211側へと放射状に広がるようにプラズマ拡散部217が形成される。ここで、ガス導入管220から導入されたガスは成膜室210を平板電極219側から排気口211側へと流れる。平板電極219は電極の周りをアースシールドで囲んだものでもよい。
Formation of the inorganic protective layer is performed, for example, as follows.
First, oxygen gas (or helium (He) diluted oxygen gas), helium (He) gas, and hydrogen (H 2 ) gas as necessary are introduced into the high-frequency discharge tube section 221 from the gas introduction tube 220, and Radio waves of 13.56 MHz are supplied from the high frequency power supply section 218 to the flat plate electrode 219. At this time, the plasma diffusion portion 217 is formed to spread radially from the discharge surface side of the flat plate electrode 219 toward the exhaust port 211 side. Here, the gas introduced from the gas introduction pipe 220 flows through the film forming chamber 210 from the flat electrode 219 side to the exhaust port 211 side. The flat plate electrode 219 may be surrounded by an earth shield.

次に、トリメチルガリウムガスをガス導入管215、活性化手段である平板電極219の下流側に位置するシャワーノズル216を介して成膜室210に導入することによって、基体214表面にガリウムと酸素と水素とを含む非単結晶膜を成膜する。
基体214としては、例えば、有機感光層が形成された基体を用いる。
Next, trimethyl gallium gas is introduced into the film forming chamber 210 through the gas introduction pipe 215 and the shower nozzle 216 located downstream of the flat plate electrode 219, which is an activation means, so that gallium and oxygen are formed on the surface of the substrate 214. A non-single crystal film containing hydrogen is formed.
As the base 214, for example, a base on which an organic photosensitive layer is formed is used.

無機保護層の成膜時の基体214表面の温度は、有機感光層を有する有機感光体を用いるので、150℃以下が望ましく、100℃以下がより望ましく、30℃以上100℃以下が特に望ましい。
基体214表面の温度が成膜開始当初は150℃以下であっても、プラズマの影響で150℃より高くなる場合には有機感光層が熱で損傷を受ける場合があるため、この影響を考慮して基体214の表面温度を制御することが望ましい。
基体214表面の温度は加熱及び/又は冷却手段(図中、不図示)によって制御してもよいし、放電時の自然な温度の上昇に任せてもよい。基体214を加熱する場合にはヒータを基体214の外側や内側に設置してもよい。基体214を冷却する場合には基体214の内側に冷却用の気体又は液体を循環させてもよい。
放電による基体214表面の温度の上昇を避けたい場合には、基体214表面に当たる高エネルギーの気体流を調節することが効果的である。この場合、ガス流量や放電出力、圧力などの条件を所要温度となるように調整する。
The surface temperature of the substrate 214 during the formation of the inorganic protective layer is preferably 150° C. or less, more preferably 100° C. or less, and particularly preferably 30° C. to 100° C., since an organic photoreceptor having an organic photosensitive layer is used.
Even if the temperature of the surface of the substrate 214 is 150° C. or lower at the beginning of the film formation, if the temperature rises above 150° C. due to the influence of the plasma, the organic photosensitive layer may be damaged by heat, so it is desirable to control the surface temperature of the substrate 214 taking this influence into consideration.
The temperature of the surface of the base 214 may be controlled by a heating and/or cooling means (not shown in the figure), or may be allowed to naturally increase in temperature during discharge. When heating the base 214, a heater may be installed on the outside or inside of the base 214. When cooling the base 214, a cooling gas or liquid may be circulated inside the base 214.
In order to prevent the temperature of the surface of the substrate 214 from increasing due to the discharge, it is effective to adjust the high-energy gas flow that hits the surface of the substrate 214. In this case, the conditions such as the gas flow rate, discharge output, and pressure are adjusted to achieve the required temperature.

また、トリメチルガリウムガスの代わりにアルミニウムを含む有機金属化合物やジボラン等の水素化物を用いることもでき、これらを2種類以上混合してもよい。
例えば、無機保護層の形成の初期において、トリメチルインジウムをガス導入管215、シャワーノズル216を介して成膜室210内に導入することにより、基体214上に窒素とインジウムとを含む膜を成膜すれば、この膜が、継続して成膜する場合に発生し、有機感光層を劣化させる紫外線を吸収する。このため、成膜時の紫外線の発生による有機感光層へのダメージが抑制される。
Further, instead of trimethylgallium gas, an organometallic compound containing aluminum or a hydride such as diborane may be used, and two or more types of these may be mixed.
For example, in the initial stage of forming the inorganic protective layer, a film containing nitrogen and indium is formed on the substrate 214 by introducing trimethylindium into the film forming chamber 210 through the gas introduction pipe 215 and the shower nozzle 216. This film then absorbs ultraviolet rays that are generated during continuous film formation and degrade the organic photosensitive layer. Therefore, damage to the organic photosensitive layer due to the generation of ultraviolet rays during film formation is suppressed.

また、成膜時におけるドーパントのドーピングの方法としては、n型用としてはSiH,SnHを、p型用としては、ビスシクロペンタジエニルマグネシウム、ジメチルカルシウム、ジメチルストロンチウム、などをガス状態で使用する。また、ドーパント元素を表面層中にドーピングするには、熱拡散法、イオン注入法等の公知の方法を採用してもよい。
具体的には、例えば、少なくとも一つ以上のドーパント元素を含むガスをガス導入管215、シャワーノズル216を介して成膜室210内に導入することによって、n型、p型等の導電型の無機保護層を得る。
In addition, doping methods for dopants during film formation include SiH 3 and SnH 4 for n-type use, and biscyclopentadienylmagnesium, dimethylcalcium, dimethylstrontium, etc. in gaseous form for p-type use. use. Further, in order to dope the dopant element into the surface layer, a known method such as a thermal diffusion method or an ion implantation method may be employed.
Specifically, for example, by introducing a gas containing at least one dopant element into the film forming chamber 210 through the gas introduction pipe 215 and the shower nozzle 216, conductivity types such as n-type and p-type are introduced. Obtain an inorganic protective layer.

図2及び図3を用いて説明した成膜装置では、放電エネルギーにより形成される活性窒素又は活性水素を、活性装置を複数設けて独立に制御してもよいし、NHなど、窒素原子と水素原子を同時に含むガスを用いてもよい。更にHを加えてもよい。また、有機金属化合物から活性水素が遊離生成する条件を用いてもよい。
このようにすることで、基体214表面上には、活性化された、炭素原子、ガリウム原子、窒素原子、水素原子、等が制御された状態で存在する。そして、活性化された水素原子が、有機金属化合物を構成するメチル基やエチル基等の炭化水素基の水素を分子として脱離させる効果を有する。
このため、三次元的な結合を構成する硬質膜(無機保護層)が形成される。
In the film forming apparatus described using FIGS. 2 and 3, active nitrogen or active hydrogen formed by discharge energy may be independently controlled by providing a plurality of activation devices, or it may be possible to control the active nitrogen or active hydrogen formed by discharge energy independently. A gas containing hydrogen atoms at the same time may be used. Furthermore, H2 may be added. Furthermore, conditions may be used that allow active hydrogen to be generated freely from the organometallic compound.
By doing so, activated carbon atoms, gallium atoms, nitrogen atoms, hydrogen atoms, and the like exist in a controlled state on the surface of the base 214. The activated hydrogen atoms have the effect of desorbing hydrogen from hydrocarbon groups such as methyl groups and ethyl groups constituting the organometallic compound as molecules.
Therefore, a hard film (inorganic protective layer) that constitutes a three-dimensional bond is formed.

図2及び図3に示す成膜装置のプラズマ発生手段は、高周波発振装置を用いたものであるが、これに限定されるものではなく、例えば、マイクロ波発振装置を用いてもよいし、エレクトロサイクロトロン共鳴方式やヘリコンプラズマ方式の装置を用いてもよい。また、高周波発振装置の場合は、誘導型でも容量型でもよい。
更に、これらの装置を2種類以上組み合わせて用いてもよく、或いは、同種の装置を2つ以上用いてもよい。プラズマの照射によって基体214表面の温度上昇を抑制するためには高周波発振装置が望ましいが、熱の照射を抑制する装置を設けてもよい。
The plasma generation means of the film forming apparatus shown in FIGS. 2 and 3 uses a high frequency oscillation device, but is not limited to this. For example, a microwave oscillation device may be used, or an electromagnetic A cyclotron resonance type or helicon plasma type device may also be used. Furthermore, in the case of a high frequency oscillation device, it may be of an inductive type or a capacitive type.
Furthermore, two or more types of these devices may be used in combination, or two or more of the same type of devices may be used. Although a high frequency oscillator is desirable for suppressing the temperature rise on the surface of the base 214 due to plasma irradiation, a device for suppressing heat irradiation may be provided.

2種類以上の異なるプラズマ発生装置(プラズマ発生手段)を用いる場合には、同じ圧力で同時に放電が生起されるようにすることが望ましい。また、放電する領域と、成膜する領域(基体が設置された部分)とに圧力差を設けてもよい。これらの装置は、成膜装置内をガスが導入される部分から排出される部分へと形成されるガス流に対して直列に配置してもよいし、いずれの装置も基体の成膜面に対向するように配置してもよい。 When using two or more different types of plasma generating devices (plasma generating means), it is desirable to have them generate discharges simultaneously at the same pressure. Also, a pressure difference may be provided between the discharge area and the film-forming area (the area where the substrate is placed). These devices may be arranged in series with respect to the gas flow that is formed inside the film-forming device from the area where the gas is introduced to the area where it is exhausted, or each device may be arranged to face the film-forming surface of the substrate.

例えば、2種類のプラズマ発生手段をガス流に対して直列に設置する場合、図2に示す成膜装置を例に上げれば、シャワーノズル216を電極として成膜室210内に放電を起こさせる第2のプラズマ発生装置として利用される。この場合、例えば、ガス導入管215を介して、シャワーノズル216に高周波電圧を印加して、シャワーノズル216を電極として成膜室210内に放電を起こさせる。或いは、シャワーノズル216を電極として利用する代わりに、成膜室210内の基体214と平板電極219との間に円筒状の電極を設けて、この円筒状電極を利用して、成膜室210内に放電を起こさせる。
また、異なる2種類のプラズマ発生装置を同一の圧力下で利用する場合、例えば、マイクロ波発振装置と高周波発振装置とを用いる場合、励起種の励起エネルギーを大きく変えることができ、膜質の制御に有効である。また、放電は大気圧近傍(70000Pa以上110000Pa以下)で行ってもよい。大気圧近傍で放電を行う場合にはキャリアガスとしてHeを使用することが望ましい。
For example, when two types of plasma generating means are installed in series with respect to the gas flow, in the case of the film formation apparatus shown in Fig. 2, the shower nozzle 216 is used as an electrode to generate a discharge in the film formation chamber 210. In this case, for example, a high frequency voltage is applied to the shower nozzle 216 via the gas introduction pipe 215 to generate a discharge in the film formation chamber 210 using the shower nozzle 216 as an electrode. Alternatively, instead of using the shower nozzle 216 as an electrode, a cylindrical electrode is provided between the substrate 214 and the plate electrode 219 in the film formation chamber 210, and this cylindrical electrode is used to generate a discharge in the film formation chamber 210.
In addition, when two different types of plasma generators are used under the same pressure, for example, when a microwave oscillator and a high-frequency oscillator are used, the excitation energy of the excited species can be changed significantly, which is effective in controlling the film quality. Discharge may be performed near atmospheric pressure (70,000 Pa or more and 110,000 Pa or less). When discharge is performed near atmospheric pressure, it is desirable to use He as a carrier gas.

無機保護層の形成は、例えば、成膜室210に基体上に有機感光層を形成した基体214を設置し、各々組成の異なる混合ガスを導入して、無機保護層を形成する。 The inorganic protective layer is formed, for example, by placing a substrate 214 having an organic photosensitive layer formed on the substrate in the film formation chamber 210, and introducing mixed gases having different compositions to form the inorganic protective layer.

また、成膜条件としては、例えば高周波放電により放電する場合、低温で良質な成膜を行うには、周波数として10kHz以上50MHz以下の範囲とすることが望ましい。また、出力は基体214の大きさに依存するが、基体の表面積に対して0.01W/cm以上2W/cm以下の範囲とすることが望ましい。基体214の回転速度は0.1rpm以上1000rpm以下の範囲が望ましい。 Further, as the film forming conditions, for example, when discharging by high frequency discharge, in order to form a high quality film at low temperature, it is desirable that the frequency is in the range of 10 kHz or more and 50 MHz or less. Further, although the output depends on the size of the base 214, it is preferably in the range of 0.01 W/cm 2 or more and 2 W/cm 2 or less relative to the surface area of the base. The rotational speed of the base 214 is preferably in the range of 0.1 rpm or more and 1000 rpm or less.

〔導電性基体〕
導電性基体としては、例えば、金属(アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等)又は合金(ステンレス鋼等)を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体としては、例えば、導電性化合物(例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等)、金属(例えばアルミニウム、パラジウム、金等)又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が1013Ωcm未満であることをいう。
[Conductive substrate]
Examples of the conductive substrate include metal plates, metal drums, and metal belts containing metals (aluminum, copper, zinc, chromium, nickel, molybdenum, vanadium, indium, gold, platinum, etc.) or alloys (stainless steel, etc.). can be mentioned. Examples of conductive substrates include paper, resin films, belts, etc. coated with, vapor-deposited, or laminated with conductive compounds (e.g., conductive polymers, indium oxide, etc.), metals (e.g., aluminum, palladium, gold, etc.), or alloys. can also be mentioned. Here, "conductivity" means that the volume resistivity is less than 10 13 Ωcm.

導電性基体の表面は、電子写真感光体がレーザプリンタに使用される場合、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を抑制する目的で、中心線平均粗さRaで0.04μm以上0.5μm以下に粗面化されていることが好ましい。なお、非干渉光を光源に用いる場合、干渉縞防止の粗面化は、特に必要ないが、導電性基体の表面の凹凸による欠陥の発生を抑制するため、より長寿命化に適する。 When the electrophotographic photoreceptor is used in a laser printer, the surface of the conductive substrate has a centerline average roughness Ra of 0.04 μm or more and 0.5 μm for the purpose of suppressing interference fringes that occur when irradiated with laser light. It is preferable that the surface be roughened. Note that when incoherent light is used as a light source, surface roughening to prevent interference fringes is not particularly necessary, but it is suitable for longer life because it suppresses the occurrence of defects due to unevenness on the surface of the conductive substrate.

粗面化の方法としては、例えば、研磨剤を水に懸濁させて導電性基体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性基体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が挙げられる。 Methods for roughening the surface include, for example, wet honing, in which an abrasive is suspended in water and sprayed onto the conductive substrate; centerless grinding, in which the conductive substrate is pressed against a rotating grindstone and continuously ground; and anodizing.

粗面化の方法としては、導電性基体の表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、導電性基体の表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も挙げられる。 As a method of roughening, there is also a method in which, without roughening the surface of the conductive substrate, conductive or semiconductive powder is dispersed in a resin to form a layer on the surface of the conductive substrate, and the surface is roughened by the particles dispersed in the layer.

陽極酸化による粗面化処理は、金属製(例えばアルミニウム製)の導電性基体を陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することにより導電性基体の表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、例えば、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、多孔質陽極酸化膜に対して、酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中(ニッケル等の金属塩を加えてもよい)で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。 In the roughening treatment by anodization, an oxide film is formed on the surface of a conductive substrate made of metal (e.g., aluminum) by anodizing the substrate in an electrolyte solution using the substrate as the anode. Examples of electrolyte solutions include sulfuric acid solution and oxalic acid solution. However, the porous anodic oxide film formed by anodization is chemically active in its original state, easily contaminated, and has a large resistance fluctuation due to the environment. Therefore, it is preferable to perform a sealing treatment on the porous anodic oxide film, in which the micropores of the oxide film are filled by volume expansion caused by a hydration reaction in pressurized steam or boiling water (metal salts such as nickel may be added), and the porous anodic oxide film is converted into a more stable hydrated oxide.

陽極酸化膜の膜厚は、例えば、0.3μm以上15μm以下が好ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。 The thickness of the anodic oxide film is preferably, for example, 0.3 μm or more and 15 μm or less. When the film thickness is within the above range, barrier properties against injection tend to be exhibited, and increases in residual potential due to repeated use tend to be suppressed.

導電性基体には、酸性処理液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が10質量%以上11質量%以下の範囲、クロム酸が3質量%以上5質量%以下の範囲、フッ酸が0.5質量%以上2質量%以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は13.5質量%以上18質量%以下の範囲がよい。処理温度は例えば42℃以上48℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、0.3μm以上15μm以下が好ましい。
The conductive substrate may be subjected to a treatment with an acidic treatment solution or a boehmite treatment.
Treatment with an acidic treatment solution is carried out, for example, as follows. First, an acidic treatment solution containing phosphoric acid, chromic acid, and hydrofluoric acid is prepared. The mixing ratios of phosphoric acid, chromic acid, and hydrofluoric acid in the acidic treatment solution are, for example, phosphoric acid in the range of 10 mass% to 11 mass%, chromic acid in the range of 3 mass% to 5 mass%, and hydrofluoric acid in the range of 0.5 mass% to 2 mass%, and the total concentration of these acids is preferably in the range of 13.5 mass% to 18 mass%. The treatment temperature is preferably, for example, 42°C to 48°C. The film thickness of the coating is preferably 0.3 μm to 15 μm.

ベーマイト処理は、例えば90℃以上100℃以下の純水中に5分から60分間浸漬すること、又は90℃以上120℃以下の加熱水蒸気に5分から60分間接触させて行う。被膜の膜厚は、0.1μm以上5μm以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。 The boehmite treatment is performed, for example, by immersion in pure water at 90° C. or higher and 100° C. or lower for 5 minutes to 60 minutes, or by contacting with heated steam at 90° C. or higher and 120° C. or lower for 5 minutes to 60 minutes. The thickness of the coating is preferably 0.1 μm or more and 5 μm or less. This can be further anodized using an electrolyte solution with low film solubility, such as adipic acid, boric acid, borate, phosphate, phthalate, maleate, benzoate, tartrate, or citrate. good.

〔下引層〕
下引層は、例えば、無機粒子と結着樹脂とを含む層である。
[Sublayer]
The subbing layer is, for example, a layer containing inorganic particles and a binder resin.

無機粒子としては、例えば、粉体抵抗(体積抵抗率)10Ωcm以上1011Ωcm以下の無機粒子が挙げられる。
これらの中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。
The inorganic particles may, for example, have a powder resistivity (volume resistivity) of 10 2 Ωcm or more and 10 11 Ωcm or less.
Among these, examples of inorganic particles having the above-mentioned resistance value include metal oxide particles such as tin oxide particles, titanium oxide particles, zinc oxide particles, and zirconium oxide particles, and zinc oxide particles are particularly preferred.

無機粒子のBET法による比表面積は、例えば、10m/g以上がよい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、50nm以上2000nm以下(好ましくは60nm以上1000nm以下)がよい。
The specific surface area of the inorganic particles as measured by the BET method is preferably, for example, 10 m 2 /g or more.
The volume average particle size of the inorganic particles is, for example, from 50 nm to 2000 nm (preferably from 60 nm to 1000 nm).

無機粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、10質量%以上80質量%以下であることが好ましく、より好ましくは40質量%以上80質量%以下である。 The content of inorganic particles is, for example, preferably 10% by mass or more and 80% by mass or less, and more preferably 40% by mass or more and 80% by mass or less, relative to the binder resin.

無機粒子は、表面処理が施されていてもよい。無機粒子は、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものを2種以上混合して用いてもよい。 The inorganic particles may be surface-treated. Two or more types of inorganic particles with different surface treatments or different particle sizes may be used as a mixture.

表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が好ましく、アミノ基を有するシランカップリング剤がより好ましい。 Examples of surface treatment agents include silane coupling agents, titanate coupling agents, aluminum coupling agents, surfactants, etc. In particular, silane coupling agents are preferred, and silane coupling agents having an amino group are more preferred.

アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N-ビス(2-ヒドロキシエチル)-3-アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 Examples of silane coupling agents having an amino group include, but are not limited to, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, and N,N-bis(2-hydroxyethyl)-3-aminopropyltriethoxysilane.

シランカップリング剤は、2種以上混合して使用してもよい。例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤と他のシランカップリング剤とを併用してもよい。この他のシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、3-メタクリルオキシプロピル-トリス(2-メトキシエトキシ)シラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N-ビス(2-ヒドロキシエチル)-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 Two or more types of silane coupling agents may be used in combination. For example, a silane coupling agent having an amino group and another silane coupling agent may be used together. Examples of other silane coupling agents include vinyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyl-tris(2-methoxyethoxy)silane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, and 3-glyoxypropyl-tris(2-methoxyethoxy)silane. Sidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2-( Examples include, but are not limited to, aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N,N-bis(2-hydroxyethyl)-3-aminopropyltriethoxysilane, and 3-chloropropyltrimethoxysilane. It's not a thing.

表面処理剤による表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法のいずれでもよい。 The surface treatment method using the surface treatment agent may be any known method, and may be either a dry method or a wet method.

表面処理剤の処理量は、例えば、無機粒子に対して0.5質量%以上10質量%以下が好ましい。 The amount of the surface treatment agent is preferably, for example, 0.5% by mass or more and 10% by mass or less relative to the inorganic particles.

ここで、下引層は、無機粒子と共に電子受容性化合物(アクセプター化合物)を含有することが、電気特性の長期安定性、キャリアブロック性が高まる観点からよい。 Here, it is preferable for the undercoat layer to contain an electron-accepting compound (acceptor compound) together with inorganic particles, from the viewpoint of improving long-term stability of electrical properties and carrier blocking properties.

電子受容性化合物としては、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物;テトラシアノキノジメタン系化合物;2,4,7-トリニトロフルオレノン、2,4,5,7-テトラニトロ-9-フルオレノン等のフルオレノン化合物;2-(4-ビフェニル)-5-(4-t-ブチルフェニル)-1,3,4-オキサジアゾール、2,5-ビス(4-ナフチル)-1,3,4-オキサジアゾール、2,5-ビス(4-ジエチルアミノフェニル)-1,3,4オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物;キサントン系化合物;チオフェン化合物;3,3’,5,5’テトラ-t-ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物;等の電子輸送性物質等が挙げられる。
特に、電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。
Examples of the electron-accepting compound include electron-transporting substances such as quinone compounds such as chloranil and bromoanil; tetracyanoquinodimethane compounds; fluorenone compounds such as 2,4,7-trinitrofluorenone and 2,4,5,7-tetranitro-9-fluorenone; oxadiazole compounds such as 2-(4-biphenyl)-5-(4-t-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazole, 2,5-bis(4-naphthyl)-1,3,4-oxadiazole and 2,5-bis(4-diethylaminophenyl)-1,3,4-oxadiazole; xanthone compounds; thiophene compounds; and diphenoquinone compounds such as 3,3',5,5'-tetra-t-butyldiphenoquinone.
In particular, the electron-accepting compound is preferably a compound having an anthraquinone structure, such as a hydroxyanthraquinone compound, an aminoanthraquinone compound, or an aminohydroxyanthraquinone compound, and more specifically, such as anthraquinone, alizarin, quinizarin, anthraphine, or purpurin.

電子受容性化合物は、下引層中に無機粒子と共に分散して含まれていてもよいし、無機粒子の表面に付着した状態で含まれていてもよい。 The electron accepting compound may be dispersed together with the inorganic particles in the undercoat layer, or may be attached to the surface of the inorganic particles.

電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着させる方法としては、例えば、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。 Methods for attaching an electron-accepting compound to the surface of inorganic particles include, for example, a dry method or a wet method.

乾式法は、例えば、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させた電子受容性化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させて、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。電子受容性化合物の滴下又は噴霧するときは、溶剤の沸点以下の温度で行うことがよい。電子受容性化合物を滴下又は噴霧した後、更に100℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に制限されない。 The dry method is a method in which, for example, while stirring inorganic particles with a mixer or the like that exerts a large shearing force, an electron-accepting compound is dropped directly or dissolved in an organic solvent, or sprayed together with dry air or nitrogen gas, to adhere the electron-accepting compound to the surface of the inorganic particles. When dropping or spraying the electron-accepting compound, it is preferable to do so at a temperature below the boiling point of the solvent. After dropping or spraying the electron-accepting compound, baking may be performed at 100°C or higher. There are no particular limitations on the temperature and time of baking, so long as electrophotographic properties can be obtained.

湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等により、無機粒子を溶剤中に分散しつつ、電子受容性化合物を添加し、攪拌又は分散した後、溶剤除去して、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。溶剤除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により留去される。溶剤除去後には、更に100℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては、電子受容性化合物を添加する前に無機粒子の含有水分を除去してもよく、その例として溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法が挙げられる。 The wet method is a method in which inorganic particles are dispersed in a solvent, for example, by stirring, ultrasonic waves, a sand mill, an attritor, a ball mill, etc., while an electron-accepting compound is added, and after stirring or dispersing, the solvent is removed to attach the electron-accepting compound to the surface of the inorganic particles. The solvent is removed, for example, by filtration or distillation. After the solvent is removed, baking may be performed at 100°C or higher. There are no particular limitations on the temperature and time for baking, so long as electrophotographic properties are obtained. In the wet method, moisture contained in the inorganic particles may be removed before the electron-accepting compound is added. Examples of such methods include a method in which the moisture is removed while stirring and heating in a solvent, and a method in which the moisture is removed by azeotropy with the solvent.

なお、電子受容性化合物の付着は、表面処理剤による表面処理を無機粒子に施す前又は後に行ってよく、電子受容性化合物の付着と表面処理剤による表面処理と同時に行ってもよい。 Note that the electron-accepting compound may be attached before or after the inorganic particles are subjected to surface treatment with a surface treatment agent, or may be carried out simultaneously with the attachment of the electron-accepting compound and the surface treatment with the surface treatment agent.

電子受容性化合物の含有量は、例えば、無機粒子に対して0.01質量%以上20質量%以下がよく、好ましくは0.01質量%以上10質量%以下である。 The content of the electron-accepting compound is, for example, 0.01% by mass or more and 20% by mass or less, and preferably 0.01% by mass or more and 10% by mass or less, relative to the inorganic particles.

下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂(例えばポリビニルブチラール等)、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン-アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子化合物;ジルコニウムキレート化合物;チタニウムキレート化合物;アルミニウムキレート化合物;チタニウムアルコキシド化合物;有機チタニウム化合物;シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂(例えばポリアニリン等)等も挙げられる。
Examples of the binder resin used in the undercoat layer include known materials such as acetal resins (e.g., polyvinyl butyral, etc.), polyvinyl alcohol resins, polyvinyl acetal resins, casein resins, polyamide resins, cellulose resins, gelatin, polyurethane resins, polyester resins, unsaturated polyester resins, methacrylic resins, acrylic resins, polyvinyl chloride resins, polyvinyl acetate resins, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride resins, silicone resins, silicone-alkyd resins, urea resins, phenol resins, phenol-formaldehyde resins, melamine resins, urethane resins, alkyd resins, and epoxy resins; zirconium chelate compounds; titanium chelate compounds; aluminum chelate compounds; titanium alkoxide compounds; organic titanium compounds; and silane coupling agents.
Examples of the binder resin used in the undercoat layer include charge transporting resins having charge transporting groups, conductive resins (such as polyaniline), and the like.

これらの中でも、下引層に用いる結着樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂;ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を2種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
Among these, as the binder resin used in the undercoat layer, a resin insoluble in the coating solvent of the upper layer is preferred, and in particular, a resin obtained by reacting at least one resin selected from the group consisting of a thermosetting resin such as a urea resin, a phenol resin, a phenol-formaldehyde resin, a melamine resin, a urethane resin, an unsaturated polyester resin, an alkyd resin, and an epoxy resin with a curing agent is preferred.
When two or more of these binder resins are used in combination, the mixing ratio thereof is set as required.

下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。
The undercoat layer may contain various additives for improving electrical properties, environmental stability, and image quality.
Examples of the additives include known materials such as polycyclic condensation and azo-based electron transport pigments, zirconium chelate compounds, titanium chelate compounds, aluminum chelate compounds, titanium alkoxide compounds, organic titanium compounds, silane coupling agents, etc. As described above, silane coupling agents are used for surface treatment of inorganic particles, and may also be added to the undercoat layer as an additive.

添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、3-メタクリルオキシプロピル-トリス(2-メトキシエトキシ)シラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N-ビス(2-ヒドロキシエチル)-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。 Examples of the silane coupling agent as an additive include vinyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyl-tris(2-methoxyethoxy)silane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3- Glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- Examples include (aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N,N-bis(2-hydroxyethyl)-3-aminopropyltriethoxysilane, and 3-chloropropyltrimethoxysilane.

ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。 Examples of zirconium chelate compounds include zirconium butoxide, zirconium ethyl acetoacetate, zirconium triethanolamine, acetylacetonate zirconium butoxide, acetoacetate ethyl zirconium butoxide, zirconium acetate, zirconium oxalate, zirconium lactate, zirconium phosphonate, zirconium octoate, Zirconium naphthenate, zirconium laurate, zirconium stearate, zirconium isostearate, methacrylate zirconium butoxide, stearate zirconium butoxide, isostearate zirconium butoxide, and the like.

チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ(2-エチルヘキシル)チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。 Examples of titanium chelate compounds include tetraisopropyl titanate, tetra-n-butyl titanate, butyl titanate dimer, tetra (2-ethylhexyl) titanate, titanium acetylacetonate, polytitanium acetylacetonate, titanium octylene glycolate, and titanium lactate ammonium salt. , titanium lactate, titanium lactate ethyl ester, titanium triethanolaminate, polyhydroxytitanium stearate, and the like.

アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)等が挙げられる。 Examples of aluminum chelate compounds include aluminum isopropylate, monobutoxyaluminum diisopropylate, aluminum butyrate, diethylacetoacetate aluminum diisopropylate, and aluminum tris(ethylacetoacetate).

これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。 These additives may be used alone or as a mixture or polycondensation of multiple compounds.

下引層は、ビッカース硬度が35以上であることがよい。
下引層の表面粗さ(十点平均粗さ)は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの1/(4n)(nは上層の屈折率)から1/2までに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
The undercoat layer preferably has a Vickers hardness of 35 or more.
The surface roughness (ten-point average roughness) of the undercoat layer ranges from 1/(4n) (n is the refractive index of the upper layer) to 1/2 of the exposure laser wavelength λ used to suppress moiré images. It is good to have it adjusted to
Resin particles or the like may be added to the undercoat layer to adjust the surface roughness. Examples of the resin particles include silicone resin particles and crosslinked polymethyl methacrylate resin particles. Further, the surface of the undercoat layer may be polished to adjust the surface roughness. Examples of the polishing method include buffing, sandblasting, wet honing, and grinding.

下引層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。 There are no particular limitations on the formation of the undercoat layer, and any known formation method can be used. For example, the undercoat layer can be formed by forming a coating film of a coating solution for forming the undercoat layer in which the above components are added to a solvent, drying the coating film, and heating it as necessary.

下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、n-プロパノール、iso-プロパノール、n-ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n-ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
Examples of the solvent for preparing the coating liquid for forming the undercoat layer include known organic solvents, such as alcohol-based solvents, aromatic hydrocarbon solvents, halogenated hydrocarbon solvents, ketone-based solvents, ketone alcohol-based solvents, ether-based solvents, and ester-based solvents.
Specific examples of these solvents include ordinary organic solvents such as methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, benzyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl acetate, ethyl acetate, n-butyl acetate, dioxane, tetrahydrofuran, methylene chloride, chloroform, chlorobenzene, and toluene.

下引層形成用塗布液を調製するときの無機粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。 Examples of methods for dispersing inorganic particles when preparing a coating solution for forming an undercoat layer include known methods such as a roll mill, a ball mill, a vibrating ball mill, an attriter, a sand mill, a colloid mill, and a paint shaker.

下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。 Methods for applying the coating liquid for forming the undercoat layer onto the conductive substrate include, for example, conventional methods such as blade coating, wire bar coating, spray coating, dip coating, bead coating, air knife coating, and curtain coating.

下引層の膜厚は、例えば、好ましくは15μm以上、より好ましくは20μm以上50μm以下の範囲内に設定される。 The thickness of the undercoat layer is, for example, preferably 15 μm or more, more preferably 20 μm or more and 50 μm or less.

〔中間層〕
図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂(例えばポリビニルブチラール等)、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン-アルキッド樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
[Middle layer]
Although not shown, an intermediate layer may be further provided between the undercoat layer and the photosensitive layer.
The intermediate layer is, for example, a layer containing resin. Examples of the resin used for the intermediate layer include acetal resin (e.g., polyvinyl butyral), polyvinyl alcohol resin, polyvinyl acetal resin, casein resin, polyamide resin, cellulose resin, gelatin, polyurethane resin, polyester resin, methacrylic resin, acrylic resin, Examples include polymeric compounds such as polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride resin, silicone resin, silicone-alkyd resin, phenol-formaldehyde resin, and melamine resin.
The intermediate layer may be a layer containing an organometallic compound. Examples of the organometallic compound used in the intermediate layer include organometallic compounds containing metal atoms such as zirconium, titanium, aluminum, manganese, and silicon.
The compounds used in these intermediate layers may be used alone or as a mixture or polycondensate of a plurality of compounds.

これらの中でも、中間層は、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物を含む層であることが好ましい。 Among these, the intermediate layer is preferably a layer containing an organometallic compound containing a zirconium atom or a silicon atom.

中間層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
The formation of the intermediate layer is not particularly limited, and a well-known formation method can be used. For example, the intermediate layer can be formed by forming a coating film of a coating solution for forming an intermediate layer in which the above components are added to a solvent, drying the coating film, and heating it if necessary.
The intermediate layer can be formed by any of the usual coating methods, such as dip coating, push-up coating, wire bar coating, spray coating, blade coating, knife coating and curtain coating.

中間層の膜厚は、例えば、好ましくは0.1μm以上3μm以下の範囲に設定される。なお、中間層を下引層として使用してもよい。 The thickness of the intermediate layer is, for example, preferably set in a range of 0.1 μm or more and 3 μm or less. Note that the intermediate layer may be used as a subbing layer.

<画像形成装置(及びプロセスカートリッジ)>
本実施形態に係る画像形成装置は、電子写真感光体と、電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える。そして、電子写真感光体として、上記本実施形態に係る電子写真感光体が適用される。
<Image forming apparatus (and process cartridge)>
The image forming apparatus according to the present embodiment includes an electrophotographic photoreceptor, a charging unit that charges the surface of the electrophotographic photoreceptor, and an electrostatic latent image forming device that forms an electrostatic latent image on the surface of the charged electrophotographic photoreceptor. a developing means for forming a toner image by developing an electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photoreceptor with a developer containing toner; and a transfer means for transferring the toner image onto the surface of the recording medium; Equipped with The electrophotographic photoreceptor according to the present embodiment is applied as the electrophotographic photoreceptor.

本実施形態に係る画像形成装置は、記録媒体の表面に転写されたトナー像を定着する定着手段を備える装置;電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の装置;電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置;トナー像の転写後、帯電前の電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング手段を備えた装置;トナー像の転写後、帯電前に電子写真感光体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置;電子写真感光体の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための電子写真感光体加熱部材を備える装置等の周知の画像形成装置が適用される。 The image forming apparatus according to this embodiment may be any of known image forming apparatuses, such as an apparatus equipped with a fixing unit that fixes a toner image transferred to the surface of a recording medium; an apparatus using a direct transfer method that directly transfers a toner image formed on the surface of an electrophotographic photoreceptor to a recording medium; an apparatus using an intermediate transfer method that performs a primary transfer of a toner image formed on the surface of an electrophotographic photoreceptor to the surface of an intermediate transfer body, and a secondary transfer of the toner image transferred to the surface of the intermediate transfer body to the surface of a recording medium; an apparatus equipped with a cleaning unit that cleans the surface of an electrophotographic photoreceptor before charging after the transfer of a toner image; an apparatus equipped with a discharging unit that irradiates a discharging light onto the surface of an electrophotographic photoreceptor before charging after the transfer of a toner image to discharging the surface; and an apparatus equipped with an electrophotographic photoreceptor heating member for increasing the temperature of the electrophotographic photoreceptor and reducing the relative temperature.

中間転写方式の装置の場合、転写手段は、例えば、表面にトナー像が転写される中間転写体と、電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を有する構成が適用される。 In the case of an intermediate transfer type device, the transfer means is configured to have, for example, an intermediate transfer body onto whose surface a toner image is transferred, a primary transfer means which primarily transfers the toner image formed on the surface of the electrophotographic photoreceptor onto the surface of the intermediate transfer body, and a secondary transfer means which secondarily transfers the toner image transferred onto the surface of the intermediate transfer body onto the surface of the recording medium.

本実施形態に係る画像形成装置は、乾式現像方式の画像形成装置、湿式現像方式(液体現像剤を利用した現像方式)の画像形成装置のいずれであってもよい。 The image forming apparatus according to this embodiment may be either a dry developing type image forming apparatus or a wet developing type image forming apparatus (a developing type using a liquid developer).

なお、本実施形態に係る画像形成装置において、例えば、電子写真感光体を備える部分が、画像形成装置に対して着脱されるカートリッジ構造(プロセスカートリッジ)であってもよい。プロセスカートリッジとしては、例えば、本実施形態に係る電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジが好適に用いられる。なお、プロセスカートリッジには、電子写真感光体以外に、例えば、帯電手段、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段からなる群から選択される少なくとも一つを備えてもよい。 In the image forming apparatus according to the present embodiment, for example, the portion including the electrophotographic photoreceptor may have a cartridge structure (process cartridge) that is detachable from the image forming apparatus. As the process cartridge, for example, a process cartridge including the electrophotographic photoreceptor according to this embodiment is suitably used. In addition to the electrophotographic photoreceptor, the process cartridge may also include, for example, at least one selected from the group consisting of charging means, electrostatic latent image forming means, developing means, and transfer means.

以下、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示すが、これに限定されるわけではない。なお、図に示す主要部を説明し、その他はその説明を省略する。 An example of an image forming apparatus according to this embodiment will be shown below, but the present invention is not limited thereto. Note that the main parts shown in the figure will be explained, and the explanation of the others will be omitted.

図4は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置100は、図4に示すように、電子写真感光体7を備えるプロセスカートリッジ300と、露光装置9(静電潜像形成手段の一例)と、転写装置40(一次転写装置)と、中間転写体50とを備える。なお、画像形成装置100において、露光装置9はプロセスカートリッジ300の開口部から電子写真感光体7に露光し得る位置に配置されており、転写装置40は中間転写体50を介して電子写真感光体7に対向する位置に配置されており、中間転写体50はその一部が電子写真感光体7に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体50に転写されたトナー像を記録媒体(例えば用紙)に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体50、転写装置40(一次転写装置)、及び二次転写装置(不図示)が転写手段の一例に相当する。なお、画像形成装置100において、制御装置60(制御手段の一例)は、画像形成装置100内の各装置及び各部材の動作を制御する装置であり、各装置及び各部材と接続されて配置されている。
FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing an example of an image forming apparatus according to this embodiment.
As shown in FIG. 4, the image forming apparatus 100 according to the present embodiment includes a process cartridge 300 including an electrophotographic photoreceptor 7, an exposure device 9 (an example of electrostatic latent image forming means), and a transfer device 40 (primary (transfer device) and an intermediate transfer body 50. In the image forming apparatus 100, the exposure device 9 is arranged at a position where it can expose the electrophotographic photoreceptor 7 from the opening of the process cartridge 300, and the transfer device 40 exposes the electrophotographic photoreceptor 7 via the intermediate transfer member 50. The intermediate transfer body 50 is disposed at a position opposite to the electrophotographic photoreceptor 7 , and a portion of the intermediate transfer body 50 is disposed in contact with the electrophotographic photoreceptor 7 . Although not shown, it also includes a secondary transfer device that transfers the toner image transferred to the intermediate transfer member 50 onto a recording medium (for example, paper). Note that the intermediate transfer body 50, the transfer device 40 (primary transfer device), and the secondary transfer device (not shown) correspond to an example of the transfer means. In the image forming apparatus 100, the control apparatus 60 (an example of a control means) is a device that controls the operation of each device and each member in the image forming apparatus 100, and is arranged to be connected to each device and each member. ing.

図4におけるプロセスカートリッジ300は、ハウジング内に、電子写真感光体7、帯電装置8(帯電手段の一例)、現像装置11(現像手段の一例)、及びクリーニング装置13(クリーニング手段の一例)を一体に支持している。クリーニング装置13は、クリーニングブレード(クリーニング部材の一例)131を有しており、クリーニングブレード131は、電子写真感光体7の表面に接触するように配置されている。なお、クリーニング部材は、クリーニングブレード131の態様ではなく、導電性又は絶縁性の繊維状部材であってもよく、これを単独で、又はクリーニングブレード131と併用してもよい。 The process cartridge 300 in FIG. 4 supports the electrophotographic photoreceptor 7, the charging device 8 (an example of a charging means), the developing device 11 (an example of a developing means), and the cleaning device 13 (an example of a cleaning means) in a housing. The cleaning device 13 has a cleaning blade (an example of a cleaning member) 131, which is arranged so as to contact the surface of the electrophotographic photoreceptor 7. The cleaning member may be a conductive or insulating fibrous member instead of the cleaning blade 131, and may be used alone or in combination with the cleaning blade 131.

なお、図4には、画像形成装置として、潤滑材14を電子写真感光体7の表面に供給する繊維状部材132(ロール状)、及び、クリーニングを補助する繊維状部材133(平ブラシ状)を備えた例を示してあるが、これらは必要に応じて配置される。 In addition, FIG. 4 shows an example of an image forming device equipped with a fibrous member 132 (roll-shaped) that supplies lubricant 14 to the surface of electrophotographic photoreceptor 7, and a fibrous member 133 (flat brush-shaped) that assists in cleaning, but these are arranged as necessary.

以下、本実施形態に係る画像形成装置の各構成について説明する。 Each configuration of the image forming apparatus according to this embodiment will be described below.

-帯電装置-
帯電装置8としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
-Charging device-
As the charging device 8, for example, a contact type charger using a conductive or semiconductive charging roller, charging brush, charging film, charging rubber blade, charging tube, etc. Also, a non-contact type roller charger, a scorotron charger or corotron charger that utilizes corona discharge, or other chargers known per se, can be used.

-露光装置-
露光装置9としては、例えば、電子写真感光体7表面に、半導体レーザ光、LED光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、780nm付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、600nm台の発振波長レーザや青色レーザとして400nm以上450nm以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
--Exposure equipment--
The exposure device 9 may be, for example, an optical device that exposes the surface of the electrophotographic photoreceptor 7 with light such as semiconductor laser light, LED light, or liquid crystal shutter light in a predetermined image. The wavelength of the light source is within the spectral sensitivity range of the electrophotographic photoreceptor. The wavelength of the semiconductor laser is mainly near infrared light having an oscillation wavelength of about 780 nm. However, it is not limited to this wavelength, and a laser having an oscillation wavelength of 600 nm or more or a blue laser having an oscillation wavelength of 400 nm or more and 450 nm or less may also be used. In addition, a surface-emitting type laser light source capable of outputting multiple beams is also effective for forming a color image.

-現像装置-
現像装置11としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置11としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体7に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。
中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
-Developing device-
The developing device 11 may be, for example, a general developing device that develops by contacting or non-contacting a developer. The developing device 11 is not particularly limited as long as it has the above-mentioned functions, and may be selected according to the purpose. For example, it may be a known developing device that has a function of attaching a one-component developer or a two-component developer to the electrophotographic photoreceptor 7 using a brush, roller, or the like.
Among these, it is preferable to use a developing roller having a developer held on its surface.

現像装置11に使用される現像剤は、トナー単独の一成分系現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分系現像剤であってもよい。また、現像剤は、磁性であってもよいし、非磁性であってもよい。これら現像剤は、周知のものが適用される。 The developer used in the developing device 11 may be a one-component developer containing only toner, or a two-component developer containing toner and a carrier. The developer may be magnetic or non-magnetic. Well-known developers are used.

-クリーニング装置-
クリーニング装置13は、クリーニングブレード131を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。
なお、クリーニングブレード方式以外にも、ファーブラシクリーニング方式、現像同時クリーニング方式を採用してもよい。
-Cleaning device-
The cleaning device 13 is a cleaning blade type device equipped with a cleaning blade 131 .
In addition to the cleaning blade system, a fur brush cleaning system or a simultaneous development and cleaning system may also be used.

-転写装置-
転写装置40としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
-Transfer device-
As the transfer device 40, for example, a contact type transfer charger using a belt, a roller, a film, a rubber blade, etc., a scorotron transfer charger or a corotron transfer charger using corona discharge, and other known transfer chargers are used. Can be mentioned.

-中間転写体-
中間転写体50としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの(中間転写ベルト)が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
- Intermediate transfer body -
A belt-like intermediate transfer belt containing semiconductive polyimide, polyamideimide, polycarbonate, polyarylate, polyester, rubber, or the like is used as the intermediate transfer body 50. The intermediate transfer body may be in the form of a drum other than a belt.

-制御装置-
制御装置60は、装置全体の制御及び各種演算を行うコンピュータとして構成されている。具体的には、制御装置60は、例えば、CPU(中央処理装置; Central Processing Unit)、各種プログラムを記憶したROM(Read Only Memory)、プログラムの実行時にワークエリアとして使用されるRAM(Random Access Memory)、各種情報を記憶する不揮発性メモリ、及び入出力インターフェース(I/O)を備えている。CPU、ROM、RAM、不揮発性メモリ、及びI/Oの各々は、バスを介して接続されている。そして、I/Oには、電子写真感光体7(駆動モータ30を含む)、帯電装置8、露光装置9、現像装置11、転写装置40等の画像形成装置100の各部が接続されている。
-Control device-
The control device 60 is configured as a computer that controls the entire device and performs various calculations. Specifically, the control device 60 includes, for example, a CPU (Central Processing Unit), a ROM (Read Only Memory) that stores various programs, a RAM (Random Access Memory) that is used as a work area when the programs are executed, a non-volatile memory that stores various information, and an input/output interface (I/O). Each of the CPU, ROM, RAM, non-volatile memory, and I/O is connected via a bus. Each part of the image forming device 100, such as the electrophotographic photosensitive member 7 (including the driving motor 30), the charging device 8, the exposure device 9, the developing device 11, and the transfer device 40, is connected to the I/O.

なお、CPUは、例えば、ROMや不揮発性メモリに記憶されているプログラム(例えば、画像形成シーケンスや回復シーケンス等)の制御プログラム)実行し、画像形成装置100の各部の動作を制御する。RAMは、ワークメモリとして使用される。ROMや不揮発性メモリには、例えば、CPUが実行するプログラムやCPUの処理に必要なデータ等が記憶されている。なお、制御プログラムや各種データは、記憶部等の他の記憶装置に記憶されていてもよいし、通信部を介して外部から取得されてもよい。 Note that the CPU executes a program (for example, a control program for an image forming sequence, a recovery sequence, etc.) stored in a ROM or nonvolatile memory, for example, and controls the operation of each part of the image forming apparatus 100. RAM is used as working memory. The ROM and nonvolatile memory store, for example, programs executed by the CPU and data necessary for processing by the CPU. Note that the control program and various data may be stored in another storage device such as a storage section, or may be acquired from the outside via the communication section.

また、制御装置60には、各種ドライブが接続されていてもよい。各種ドライブとしては、フレキシブルディスク、光磁気ディスク、CD-ROM、DVD-ROM、USB(Universal Serial Bus)メモリなどのコンピュータ読み取り可能な可搬性の記録媒体からデータを読み込んだり、記録媒体に対してデータを書き込んだりする装置が挙げられる。各種ドライブを備える場合には、可搬性の記録媒体に制御プログラムを記録しておいて、これを対応するドライブで読み込んで実行してもよい。 The control device 60 may also be connected to various drives. Examples of the various drives include devices that read data from and write data to portable computer-readable recording media such as flexible disks, optical magnetic disks, CD-ROMs, DVD-ROMs, and USB (Universal Serial Bus) memories. When the control device 60 is provided with various drives, a control program may be recorded on a portable recording medium and then read and executed by a corresponding drive.

図5は、本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
図5に示す画像形成装置120は、プロセスカートリッジ300を4つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置120では、中間転写体50上に4つのプロセスカートリッジ300がそれぞれ並列に配置されており、1色に付き1つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置120は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置100と同様の構成を有している。
FIG. 5 is a schematic configuration diagram showing another example of the image forming apparatus according to this embodiment.
The image forming apparatus 120 shown in FIG. 5 is a tandem multicolor image forming apparatus equipped with four process cartridges 300. In the image forming apparatus 120, four process cartridges 300 are arranged in parallel on the intermediate transfer member 50, and one electrophotographic photoreceptor is used for each color. Note that the image forming apparatus 120 has the same configuration as the image forming apparatus 100 except that it is of a tandem type.

なお、本実施形態に係る画像形成装置100は、上記構成に限られず、例えば、電子写真感光体7の周囲であって、転写装置40よりも電子写真感光体7の回転方向下流側でクリーニング装置13よりも電子写真感光体の回転方向上流側に、残留したトナーの極性を揃え、クリーニングブラシで除去しやすくするための第1除電装置を設けた形態であってもよいし、クリーニング装置13よりも電子写真感光体の回転方向下流側で帯電装置8よりも電子写真感光体の回転方向上流側に、電子写真感光体7の表面を除電する第2除電装置を設けた形態であってもよい。 The image forming apparatus 100 according to the present embodiment is not limited to the above configuration, and may have, for example, a first discharging device for aligning the polarity of residual toner and facilitating removal by a cleaning brush, provided around the electrophotographic photoreceptor 7 downstream of the transfer device 40 in the direction of rotation of the electrophotographic photoreceptor 7 and upstream of the cleaning device 13 in the direction of rotation of the electrophotographic photoreceptor, or a second discharging device for discharging the surface of the electrophotographic photoreceptor 7, provided downstream of the cleaning device 13 in the direction of rotation of the electrophotographic photoreceptor and upstream of the charging device 8 in the direction of rotation of the electrophotographic photoreceptor.

また、本実施形態に係る画像形成装置100は、上記構成に限られず、周知の構成、例えば、電子写真感光体7に形成したトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の画像形成装置を採用してもよい。 In addition, the image forming apparatus 100 according to this embodiment is not limited to the above configuration, and may adopt a well-known configuration, for example, a direct transfer type image forming apparatus in which a toner image formed on the electrophotographic photoreceptor 7 is directly transferred to a recording medium.

以下、本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明するが、本発明は下記実施例により限定されるものではない。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理手順等は、本開示の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。なお、特に断りがない限り「部」は「質量部」を意味する。 The present invention will be described in more detail below based on examples, but the present invention is not limited to the following examples. The materials, amounts used, ratios, processing procedures, etc. shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the spirit of this disclosure. Note that "parts" means "parts by mass" unless otherwise specified.

[実施例1]
-下引層の作製-
酸化亜鉛:(平均粒子径70nm:テイカ社製:比表面積値15m/g)100質量部をテトラヒドロフラン500質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤(KBM503:信越化学工業社製)1.3質量部を添加し、2時間攪拌した。その後、テトラヒドロフランを減圧蒸留にて留去し、120℃で3時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛を得た。
[Example 1]
- Preparation of undercoat layer -
100 parts by mass of zinc oxide (average particle size 70 nm: manufactured by Teica Corporation; specific surface area value 15 m2 /g) was mixed with 500 parts by mass of tetrahydrofuran and stirred, and 1.3 parts by mass of a silane coupling agent (KBM503: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added and stirred for 2 hours. Thereafter, the tetrahydrofuran was distilled off under reduced pressure, and the mixture was baked at 120°C for 3 hours to obtain zinc oxide surface-treated with a silane coupling agent.

前記表面処理を施した酸化亜鉛(シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛)110質量部を500質量部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン0.6質量部を50質量部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、50℃にて5時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛をろ別し、さらに60℃で減圧乾燥を行い、アリザリン付与酸化亜鉛を得た。 110 parts by mass of the zinc oxide that had been subjected to the surface treatment (zinc oxide surface-treated with a silane coupling agent) was mixed with 500 parts by mass of tetrahydrofuran and stirred, and a solution in which 0.6 parts by mass of alizarin was dissolved in 50 parts by mass of tetrahydrofuran was added, and the mixture was stirred at 50°C for 5 hours. The zinc oxide to which alizarin had been added was then filtered out by vacuum filtration, and further dried at 60°C under reduced pressure to obtain zinc oxide to which alizarin had been added.

このアリザリン付与酸化亜鉛60質量部と、硬化剤(ブロック化イソシアネート スミジュール3175、住友バイエルンウレタン社製)13.5質量部と、ブチラール樹脂(エスレックBM-1、積水化学工業社製)15質量部と、メチルエチルケトン85質量部と、を混合した混合液を得た。この混合液38質量部と、メチルエチルケトン25質量部と、を混合し、1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて2時間の分散を行い、分散液を得た。 A mixture was obtained by mixing 60 parts by mass of this alizarin-added zinc oxide, 13.5 parts by mass of a curing agent (blocked isocyanate Sumidur 3175, manufactured by Sumitomo Bayern Urethane Co., Ltd.), 15 parts by mass of a butyral resin (S-LEC BM-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.), and 85 parts by mass of methyl ethyl ketone. 38 parts by mass of this mixture was mixed with 25 parts by mass of methyl ethyl ketone, and the mixture was dispersed in a sand mill using 1 mm diameter glass beads for 2 hours to obtain a dispersion.

得られた分散液に、触媒としてジオクチルスズジラウレート:0.005質量部と、シリコーン樹脂粒子(トスパール145、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製):40質量部と、を添加し、下引層形成用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて直径60mm、長さ357mm、肉厚1mmのアルミニウム基体上に塗布し、170℃、40分の乾燥硬化を行い、厚さ19μmの下引層を得た。 To the obtained dispersion, 0.005 parts by mass of dioctyltin dilaurate and 40 parts by mass of silicone resin particles (Tospearl 145, manufactured by Momentive Performance Materials) were added as a catalyst to form an undercoat layer. A coating solution was obtained. This coating solution was applied by dip coating onto an aluminum substrate with a diameter of 60 mm, a length of 357 mm, and a wall thickness of 1 mm, and dried and cured at 170° C. for 40 minutes to obtain a subbing layer with a thickness of 19 μm.

-電荷発生層の作製-
電荷発生物質としてのCukα特性X線を用いたX線回折スペクトルのブラッグ角度(2θ±0.2°)が少なくとも7.3°、16.0°、24.9°、28.0°の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン15質量部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体(VMCH、日本ユニカー社製)10質量部、n-酢酸ブチル200質量部からなる混合物を、直径1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて4時間分散した。得られた分散液にn-酢酸ブチル175質量部、メチルエチルケトン180質量部を添加し、攪拌して電荷発生層形成用の塗布液を得た。この電荷発生層形成用塗布液を下引層上に浸漬塗布し、常温(25℃)で乾燥して、膜厚が0.2μmの電荷発生層を形成した。
-Preparation of charge generation layer-
Positions where the Bragg angle (2θ±0.2°) of an X-ray diffraction spectrum using Cukα characteristic X-rays as a charge generating substance is at least 7.3°, 16.0°, 24.9°, or 28.0° A mixture consisting of 15 parts by mass of hydroxygallium phthalocyanine having a diffraction peak at The mixture was dispersed in a sand mill for 4 hours using glass beads of 1 mm diameter. 175 parts by weight of n-butyl acetate and 180 parts by weight of methyl ethyl ketone were added to the resulting dispersion and stirred to obtain a coating liquid for forming a charge generation layer. This coating solution for forming a charge generation layer was applied onto the undercoat layer by dip coating and dried at room temperature (25° C.) to form a charge generation layer having a thickness of 0.2 μm.

-電荷輸送層の作製-
表1に示す種類及び量の無機粒子に、テトラヒドロフラン250質量部を入れ、20℃の液温に保ちながら電荷輸送材料として4-(2,2-ジフェニルエチル)-4’,4’’-ジメチル-トリフェニルアミン25質量部と、結着樹脂としてビスフェノールZ型ポリカーボネート樹脂(粘度平均分子量:30000)25質量部と、表1に示す種類の潤滑油と、を加え、12時間攪拌混合し、電荷輸送層形成用塗布液を得た。なお、潤滑油は、感光層の全固形分に対して表1に示す量となるように配合した。
そして、この電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層上に塗布して135℃で40分間乾燥し、膜厚が30μmの電荷輸送層を形成した。
-Preparation of charge transport layer-
Add 250 parts by mass of tetrahydrofuran to inorganic particles of the type and amount shown in Table 1, and use 4-(2,2-diphenylethyl)-4',4''-dimethyl as a charge transport material while keeping the liquid temperature at 20°C. - Add 25 parts by mass of triphenylamine, 25 parts by mass of bisphenol Z type polycarbonate resin (viscosity average molecular weight: 30,000) as a binder resin, and lubricating oil of the type shown in Table 1, stir and mix for 12 hours, and charge A coating solution for forming a transport layer was obtained. The lubricating oil was blended in the amount shown in Table 1 based on the total solid content of the photosensitive layer.
Then, this coating liquid for forming a charge transport layer was applied onto the charge generation layer and dried at 135° C. for 40 minutes to form a charge transport layer having a thickness of 30 μm.

-無機保護層の形成-
前記電荷輸送層の表面へ、水素を含む酸化ガリウムで構成された無機保護層を形成した。この無機保護層の形成は、図2に示す構成を有する成膜装置を用いて行った。
- Formation of inorganic protective layer -
An inorganic protective layer made of gallium oxide containing hydrogen was formed on the surface of the charge transport layer. This inorganic protective layer was formed using a film forming apparatus having the configuration shown in FIG.

まず、有機感光体を成膜装置の成膜室210内の基体支持部材213に載せ、排気口211を介して成膜室210内を圧力が0.1Paになるまで真空排気した。
次に、He希釈40%酸素ガス(流量1.8sccm)と水素ガス(流量50sccm)とを、ガス導入管220から直径85mmの平板電極219が設けられた高周波放電管部221内に導入し、高周波電力供給部218及びマッチング回路(図4中不図示)により、13.56MHzのラジオ波を出力150Wにセットしチューナでマッチングを取り平板電極219から放電を行った。この時の反射波は0Wであった。
次に、トリメチルガリウムガス(流量1.9sccm)を、ガス導入管215を介してシャワーノズル216から成膜室210内のプラズマ拡散部217に導入した。この時、バラトロン真空計で測定した成膜室210内の反応圧力は5.3Paであった。
この状態で、有機感光体を500rpmの速度で回転させながら900分間成膜し、有機感光体の電荷輸送層表面に膜厚3.0μmの無機保護層を形成した。無機保護層の外周面における表面粗さRaは、1.9nmであった。無機保護層における、酸素とガリウムとの元素組成比(酸素/ガリウム)は1.3であった。
First, the organic photoreceptor was placed on the substrate support member 213 in the film forming chamber 210 of the film forming apparatus, and the inside of the film forming chamber 210 was evacuated through the exhaust port 211 until the pressure reached 0.1 Pa.
Next, 40% oxygen gas diluted with He (flow rate 1.8 sccm) and hydrogen gas (flow rate 50 sccm) are introduced from the gas introduction tube 220 into the high frequency discharge tube section 221 in which the flat plate electrode 219 with a diameter of 85 mm is provided. A radio frequency of 13.56 MHz was set to an output of 150 W using the high frequency power supply section 218 and a matching circuit (not shown in FIG. 4), and matching was performed using a tuner to cause discharge from the flat plate electrode 219. The reflected wave at this time was 0W.
Next, trimethyl gallium gas (flow rate: 1.9 sccm) was introduced into the plasma diffusion section 217 in the film forming chamber 210 from the shower nozzle 216 via the gas introduction pipe 215. At this time, the reaction pressure inside the film forming chamber 210 measured with a Baratron vacuum gauge was 5.3 Pa.
In this state, a film was formed for 900 minutes while rotating the organic photoreceptor at a speed of 500 rpm to form an inorganic protective layer with a thickness of 3.0 μm on the surface of the charge transport layer of the organic photoreceptor. The surface roughness Ra of the outer peripheral surface of the inorganic protective layer was 1.9 nm. The elemental composition ratio of oxygen and gallium (oxygen/gallium) in the inorganic protective layer was 1.3.

以上の工程を経て、導電性基体上に、下引層、電荷発生層、電荷輸送層、無機保護層が順次形成された、実施例1の電子写真感光体を得た。 Through the above steps, an electrophotographic photoreceptor of Example 1 was obtained in which an undercoat layer, a charge generating layer, a charge transport layer, and an inorganic protective layer were formed in sequence on a conductive substrate.

[実施例2~12及び比較例1~比較例2]
無機粒子の種類と量、感光層に含まれる潤滑油の種類と量、無機保護層における酸素/ガリウムの元素組成比を表1に示す仕様とした以外は、実施例1と同様の手法により各例の電子写真感光体を得た。
[Examples 2 to 12 and Comparative Examples 1 and 2]
The electrophotographic photoreceptors of each example were obtained in the same manner as in Example 1, except that the type and amount of inorganic particles, the type and amount of lubricating oil contained in the photosensitive layer, and the elemental composition ratio of oxygen/gallium in the inorganic protective layer were set to the specifications shown in Table 1.

各例で使用した各材料の詳細を下記に示す。
(1)無機粒子の材料
・シリカ粒子:RX50、日本アエロジル株式会社製
(2)潤滑油の材料
・シリコーンオイル:ジメチルポリシロキサンのトルエン溶液、KP-340、信越シリコーン株式会社製
・シリコーンオイル:メチルフェニルポリシロキサン、KF-50、信越シリコーン株式会社製
・シリコーンオイル:アクリル変性シリコーンオイル、KP-541、信越シリコーン株式会社製
・フッ素含有オイル:フッ素含有アクリルポリマー、S-651、AGC株式会社製
・フッ素含有オイル:フッ素含有アクリルポリマー、LE-604、共栄化学社製
・シリコーンオイル:フッ素含有オイル以外の潤滑剤:ポリアルファオレフィン、PAO201、日鉄ケミカル&マテリアル社製
・シリコーンオイル:カルビノール変性シリコーンオイル、KF-6000、信越シリコーン株式会社製
Details of each material used in each example are provided below.
(1) Materials of inorganic particles Silica particles: RX50, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd. (2) Materials of lubricating oil Silicone oil: toluene solution of dimethylpolysiloxane, KP-340, manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. Silicone oil: methylphenylpolysiloxane, KF-50, manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. Silicone oil: acrylic modified silicone oil, KP-541, manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. Fluorine-containing oil: fluorine-containing acrylic polymer, S-651, manufactured by AGC Inc. Fluorine-containing oil: fluorine-containing acrylic polymer, LE-604, manufactured by Kyoei Chemical Co., Ltd. Silicone oil: lubricant other than fluorine-containing oil: polyalphaolefin, PAO201, manufactured by Nippon Steel Chemical & Material Co., Ltd. Silicone oil: carbinol modified silicone oil, KF-6000, manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.

各例の電子写真感光体について、先述の測定方法により測定した酸素及び第13族元素の元素組成比(酸素/第13族元素)の値を表1に示す。 Table 1 shows the values of the elemental composition ratios of oxygen and Group 13 elements (oxygen/Group 13 elements) measured by the above-mentioned measuring method for the electrophotographic photoreceptors of each example.

表1中、各項目における「-」は、各項目の材料が含まれないことを意味する。
表1中、無機粒子の項目における「質量%」とは、感光層の全固形分に対するシリカ粒子の含有量を意味する。
表1中、感光層の項目における「水接触角」とは、無機保護層との界面側の表面における水接触角の値を意味する。
In Table 1, "-" in each item means that the material of each item is not included.
In Table 1, "% by mass" in the item of inorganic particles means the content of silica particles with respect to the total solid content of the photosensitive layer.
In Table 1, "water contact angle" in the photosensitive layer section means the value of the water contact angle on the surface on the interface side with the inorganic protective layer.

<剥離性の評価>
各例の電子写真感光体を備えた評価用画像形成装置(Versante1800 Press、富士フイルムビジネスイノベーション株式会社製)について、高温・高湿度環境下(28℃/85%)にて3日間静置保管し、保管後の表面状態を目視判定することで剥離性を評価した。評価結果を表1に示す。なお、許容できるのはA~Bである。
-評価基準-
A:剥離しない。
B:一部の領域に浮きがみられるが剥離せず、許容できる範囲。
C:一部の領域から剥離している。
D:複数の領域から剥離している。
<Evaluation of peelability>
The evaluation image forming apparatus (Versante 1800 Press, manufactured by Fujifilm Business Innovation Co., Ltd.) equipped with the electrophotographic photoreceptor of each example was stored for 3 days in a high temperature and high humidity environment (28°C/85%). The removability was evaluated by visually determining the surface condition after storage. The evaluation results are shown in Table 1. Note that A to B are acceptable.
-Evaluation criteria-
A: No peeling.
B: Lifting is observed in some areas, but no peeling occurs and is within an acceptable range.
C: Peeling from some areas.
D: Peeling from multiple areas.

表1に示すように、実施例の電子写真感光体は、比較例の電子写真感光体に比べて、無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制されることがわかった。 As shown in Table 1, it was found that the electrophotographic photoreceptor of the example suppressed peeling of the inorganic protective layer from the surface of the photosensitive layer on the interface side with the inorganic protective layer, compared to the electrophotographic photoreceptor of the comparative example.

(((1))) 導電性基体と、
前記導電性基体の上に設けられた感光層と、
前記感光層の上に設けられた無機保護層と、
を有し、
前記感光層は、前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が82°以上であり、且つ、前記感光層の全固形分に対するシリカ粒子の含有量が0質量%又は20質量%以下である、電子写真感光体。
(((2))) 前記感光層は、潤滑油を前記感光層の全固形分に対して0.0001質量%以上含有する、前記(((1)))に記載の電子写真感光体。
(((3))) 前記潤滑油は、シリコーンオイル及びフッ素含有オイルの少なくとも一方を含む、前記(((2)))に記載の電子写真感光体。
(((4))) 前記潤滑油は、前記シリコーンオイルを含む、前記(((3)))に記載の電子写真感光体。
(((5))) 前記無機保護層は、酸素、水素及び第13族元素を含む無機保護層である前記(((1)))~(((4)))のいずれか1つに記載の電子写真感光体。
(((6))) 前記無機保護層は、前記酸素及び第13族元素の元素組成比(酸素/第13族元素)が1.1以上1.5以下である、前記(((5)))に記載の電子写真感光体。
(((7))) 導電性基体と、
前記導電性基体の上に設けられた感光層と、
前記感光層の上に設けられた無機保護層と、
を有し、
前記感光層は、潤滑油を前記感光層の全固形分に対して0.0001質量%以上含有し、且つ、前記感光層の全固形分に対するシリカ粒子の含有量が0質量%又は20質量%以下である、電子写真感光体。
(((8))) 前記(((1)))~(((7)))のいずれか1つに記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
(((9))) 前記(((1)))~(((7)))のいずれか1つに記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
(((1))) A conductive substrate;
a photosensitive layer provided on the conductive substrate;
an inorganic protective layer provided on the photosensitive layer;
having
the photosensitive layer has a water contact angle of 82° or more on the surface at the interface with the inorganic protective layer, and the content of silica particles relative to the total solid content of the photosensitive layer is 0% by mass or 20% by mass or less.
(((2))) The electrophotographic photoreceptor according to (((1))), wherein the photosensitive layer contains a lubricating oil in an amount of 0.0001% by mass or more based on the total solid content of the photosensitive layer.
(((3))) The electrophotographic photoreceptor according to (((2))), wherein the lubricating oil contains at least one of a silicone oil and a fluorine-containing oil.
(((4))) The electrophotographic photoreceptor according to (((3))), wherein the lubricating oil contains the silicone oil.
(((5))) The electrophotographic photoreceptor according to any one of (((1))) to (((4))), wherein the inorganic protective layer is an inorganic protective layer containing oxygen, hydrogen and a Group 13 element.
(((6))) The electrophotographic photoreceptor according to (((5))), wherein the inorganic protective layer has an element composition ratio of oxygen and Group 13 element (oxygen/Group 13 element) of 1.1 or more and 1.5 or less.
(((7))) a conductive substrate;
a photosensitive layer provided on the conductive substrate;
an inorganic protective layer provided on the photosensitive layer;
having
the photosensitive layer contains a lubricating oil in an amount of 0.0001% by mass or more relative to the total solid content of the photosensitive layer, and the content of silica particles in the total solid content of the photosensitive layer is 0% by mass or 20% by mass or less.
(((8))) An electrophotographic photoreceptor according to any one of (((1))) to (((7))),
A process cartridge that is detachably attached to an image forming apparatus.
(((9))) The electrophotographic photoreceptor according to any one of (((1))) to (((7))),
a charging means for charging the surface of the electrophotographic photoreceptor;
an electrostatic latent image forming means for forming an electrostatic latent image on the charged surface of the electrophotographic photoreceptor;
a developing unit for developing an electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photoreceptor with a developer containing a toner to form a toner image;
a transfer means for transferring the toner image onto a surface of a recording medium;
An image forming apparatus comprising:

(((1)))、又は(((5)))に係る発明によれば、前記感光層が前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が82°未満である場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
(((2)))に係る発明によれば、前記感光層が、潤滑油を前記感光層の全固形分に対して0.0001質量%未満である場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
(((3)))又は(((4)))に係る発明によれば、前記潤滑油が○○○である場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
(((6)))に係る発明によれば、前記無機保護層における、前記酸素及び第13族元素の元素組成比(酸素/第13族元素)が1.1未満又は1.5超えである場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
According to the invention related to ((1))) or ((5))), there is provided an electrophotographic photoreceptor in which peeling of the inorganic protective layer from the surface of the photosensitive layer on the interface side with the inorganic protective layer is suppressed, as compared to when the water contact angle of the surface of the photosensitive layer on the interface side with the inorganic protective layer is less than 82°.
According to the invention related to (((2))), there is provided an electrophotographic photoreceptor in which peeling of the inorganic protective layer from the surface of the photosensitive layer on the interface side with the inorganic protective layer is suppressed, as compared to when the photosensitive layer contains less than 0.0001 mass % of a lubricating oil relative to the total solids content of the photosensitive layer.
According to the invention pertaining to (((3))) or (((4))), there is provided an electrophotographic photoreceptor in which peeling of the inorganic protective layer from the surface of the photosensitive layer on the interface side with the inorganic protective layer is suppressed, compared to when the lubricating oil is XXX.
According to the invention related to (((6))), there is provided an electrophotographic photoreceptor in which peeling of the inorganic protective layer from the surface of the photosensitive layer on the interface side with the inorganic protective layer is suppressed, as compared with a case in which the elemental composition ratio of oxygen and Group 13 element (oxygen/Group 13 element) in the inorganic protective layer is less than 1.1 or exceeds 1.5.

(((7)))に係る発明によれば、前記感光層が潤滑油を前記感光層の全固形分に対して0質量%あるいは0.0001質量%未満で含有する場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
(((8)))又は(((9)))に係る発明によれば、前記感光層が「潤滑油を前記感光層の全固形分に対して0質量%あるいは0.0001質量%未満で含有する場合」又は「前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が82°未満である場合」に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジ、画像形成装置が提供される。
According to the invention related to (((7))), there is provided an electrophotographic photoreceptor in which peeling of the inorganic protective layer from the surface of the photosensitive layer on the interface side with the inorganic protective layer is suppressed, as compared to a case in which the photosensitive layer contains 0 mass % or less than 0.0001 mass % of a lubricating oil relative to the total solids content of the photosensitive layer.
According to the invention related to ((8))) or ((9)), there is provided a process cartridge and an image forming apparatus including an electrophotographic photoreceptor in which peeling of an inorganic protective layer from the surface of the photosensitive layer on the interface side with the inorganic protective layer is suppressed compared to when the photosensitive layer "contains 0 mass % or less than 0.0001 mass % of a lubricating oil relative to the total solids content of the photosensitive layer" or "when the water contact angle on the surface on the interface side with the inorganic protective layer is less than 82°".

(((1)))、又は(((5)))に係る発明によれば、前記感光層が前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が82°未満である場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
(((2)))に係る発明によれば、前記感光層が、潤滑油を前記感光層の全固形分に対して0.0001質量%未満である場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
(((3)))又は(((4)))に係る発明によれば、前記潤滑油が炭化水素系合成油の一種であるポリアルファオレフィン系潤滑油である場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
(((6)))に係る発明によれば、前記無機保護層における、前記酸素及び第13族元素の元素組成比(酸素/第13族元素)が1.1未満又は1.5超えである場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
According to the invention related to ((1))) or ((5))), there is provided an electrophotographic photoreceptor in which peeling of the inorganic protective layer from the surface of the photosensitive layer on the interface side with the inorganic protective layer is suppressed, as compared to when the water contact angle of the surface of the photosensitive layer on the interface side with the inorganic protective layer is less than 82°.
According to the invention related to (((2))), there is provided an electrophotographic photoreceptor in which peeling of the inorganic protective layer from the surface of the photosensitive layer on the interface side with the inorganic protective layer is suppressed, as compared to when the photosensitive layer contains less than 0.0001 mass % of a lubricating oil relative to the total solids content of the photosensitive layer.
According to the invention related to (((3))) or (((4))), there is provided an electrophotographic photoreceptor in which peeling of the inorganic protective layer from the surface of the photosensitive layer on the interface side with the inorganic protective layer is suppressed, compared to when the lubricating oil is a polyalphaolefin-based lubricating oil, which is a type of hydrocarbon-based synthetic oil.
According to the invention related to (((6))), there is provided an electrophotographic photoreceptor in which peeling of the inorganic protective layer from the surface of the photosensitive layer on the interface side with the inorganic protective layer is suppressed, as compared with a case in which the elemental composition ratio of oxygen and Group 13 element (oxygen/Group 13 element) in the inorganic protective layer is less than 1.1 or exceeds 1.5.

(((7)))に係る発明によれば、前記感光層が潤滑油を前記感光層の全固形分に対して0質量%あるいは0.0001質量%未満で含有する場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
(((8)))又は(((9)))に係る発明によれば、前記感光層が「潤滑油を前記感光層の全固形分に対して0質量%あるいは0.0001質量%未満で含有する場合」又は「前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が82°未満である場合」に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジ、画像形成装置が提供される。
According to the invention according to ((7))), compared to the case where the photosensitive layer contains lubricating oil in an amount of 0% by mass or less than 0.0001% by mass based on the total solid content of the photosensitive layer, An electrophotographic photoreceptor is provided in which peeling of an inorganic protective layer from the surface of the photosensitive layer on the interface side with the inorganic protective layer is suppressed.
According to the invention according to (((8))) or (((9))), the photosensitive layer contains "0% by mass or less than 0.0001% by mass of lubricating oil based on the total solid content of the photosensitive layer. or "the water contact angle on the surface on the interface side with the inorganic protective layer is less than 82°", A process cartridge and an image forming apparatus are provided that include an electrophotographic photoreceptor in which peeling of a protective layer is suppressed.

101 下引層、102 電荷発生層、103 電荷輸送層、104 導電性基体、105 有機感光層、106 無機保護層、107A,7 電子写真感光体(感光体)、8 帯電装置、9 露光装置、11 現像装置、13 クリーニング装置、14 潤滑材、30 駆動モータ、40 転写装置、50 中間転写体、60 制御装置、100 画像形成装置、120 画像形成装置、131 クリーニングブレード、132 繊維状部材(ロール状)、133 繊維状部材(平ブラシ状)、300 プロセスカートリッジ、210 成膜室、211 排気口、212 基体回転部、213 基体支持部材、214 基体、215、220 ガス導入管、216 シャワーノズル、217 プラズマ拡散部、218 高周波電力供給部、219 平板電極、221 高周波放電管部、222 高周波コイル、223 石英管 101 undercoat layer, 102 charge generation layer, 103 charge transport layer, 104 conductive substrate, 105 organic photosensitive layer, 106 inorganic protective layer, 107A, 7 electrophotographic photosensitive member (photosensitive member), 8 charging device, 9 exposure device, 11 developing device, 13 cleaning device, 14 lubricant, 30 drive motor, 40 transfer device, 50 intermediate transfer body, 60 control device, 100 image forming apparatus, 120 image forming apparatus, 131 cleaning blade, 132 fibrous member (roll-shaped), 133 fibrous member (flat brush-shaped), 300 process cartridge, 210 film formation chamber, 211 exhaust port, 212 substrate rotation section, 213 substrate support member, 214 substrate, 215, 220 gas introduction tube, 216 shower nozzle, 217 plasma diffusion section, 218 High frequency power supply unit, 219 flat electrode, 221 high frequency discharge tube unit, 222 high frequency coil, 223 quartz tube

Claims (9)

導電性基体と、
前記導電性基体の上に設けられた感光層と、
前記感光層の上に設けられた無機保護層と、
を有し、
前記感光層は、前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が82°以上であり、且つ、前記感光層の全固形分に対するシリカ粒子の含有量が0質量%又は20質量%以下である、電子写真感光体。
a conductive substrate;
a photosensitive layer provided on the conductive substrate;
an inorganic protective layer provided on the photosensitive layer;
has
The photosensitive layer has a water contact angle of 82° or more on the surface on the interface side with the inorganic protective layer, and the content of silica particles is 0% by mass or 20% by mass or less based on the total solid content of the photosensitive layer. An electrophotographic photoreceptor.
前記感光層は、潤滑油を前記感光層の全固形分に対して0.0001質量%以上含有する、請求項1に記載の電子写真感光体。 The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, wherein the photosensitive layer contains lubricating oil in an amount of 0.0001% by mass or more based on the total solid content of the photosensitive layer. 前記潤滑油は、シリコーンオイル及びフッ素含有オイルの少なくとも一方を含む、請求項2に記載の電子写真感光体。 The electrophotographic photoreceptor according to claim 2, wherein the lubricating oil includes at least one of silicone oil and fluorine-containing oil. 前記潤滑油は、前記シリコーンオイルを含む、請求項3に記載の電子写真感光体。 The electrophotographic photoreceptor according to claim 3, wherein the lubricating oil includes the silicone oil. 前記無機保護層は、酸素、水素及び第13族元素を含む無機保護層である請求項1に記載の電子写真感光体。 The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, wherein the inorganic protective layer is an inorganic protective layer containing oxygen, hydrogen, and a Group 13 element. 前記無機保護層は、前記酸素及び第13族元素の元素組成比(酸素/第13族元素)が1.1以上1.5以下である、請求項5に記載の電子写真感光体。 The electrophotographic photoreceptor according to claim 5, wherein the inorganic protective layer has an elemental composition ratio of oxygen and Group 13 element (oxygen/Group 13 element) of 1.1 or more and 1.5 or less. 導電性基体と、
前記導電性基体の上に設けられた感光層と、
前記感光層の上に設けられた無機保護層と、
を有し、
前記感光層は、潤滑油を前記感光層の全固形分に対して0.0001質量%以上含有し、且つ、前記感光層の全固形分に対するシリカ粒子の含有量が0質量%又は20質量%以下である、電子写真感光体。
A conductive substrate;
a photosensitive layer provided on the conductive substrate;
an inorganic protective layer provided on the photosensitive layer;
having
the photosensitive layer contains a lubricating oil in an amount of 0.0001% by mass or more relative to the total solid content of the photosensitive layer, and the content of silica particles in the total solid content of the photosensitive layer is 0% by mass or 20% by mass or less.
請求項1~請求項7のいずれか1項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
An electrophotographic photoreceptor according to any one of claims 1 to 7,
A process cartridge that can be attached to and removed from an image forming apparatus.
請求項1~請求項7のいずれか1項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
The electrophotographic photoreceptor according to any one of claims 1 to 7,
a charging means for charging the surface of the electrophotographic photoreceptor;
an electrostatic latent image forming means for forming an electrostatic latent image on the charged surface of the electrophotographic photoreceptor;
a developing unit for developing an electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photoreceptor with a developer containing a toner to form a toner image;
a transfer means for transferring the toner image onto a surface of a recording medium;
An image forming apparatus comprising:
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