JP2024043944A - Wiring bodies, display devices, and antennas - Google Patents

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JP2024043944A JP2022149195A JP2022149195A JP2024043944A JP 2024043944 A JP2024043944 A JP 2024043944A JP 2022149195 A JP2022149195 A JP 2022149195A JP 2022149195 A JP2022149195 A JP 2022149195A JP 2024043944 A JP2024043944 A JP 2024043944A
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Abstract

【課題】平坦性を確保しつつ、外部の接続端子との接続性を向上できる配線体、表示装置、及びアンテナを提供する。【解決手段】電極21は、第1のトレンチ60内に第1の導体層55を有し、端子22は、第2のトレンチ64内に第2の導体層56を有する。このうち、端子22は、外部の接続端子に接続され、当該接続端子と電極21とを電気的に接続する。当該端子22の第2の導体層56は、第2のトレンチ64内に形成されるため、絶縁樹脂部7Aの表面7b上に形成される場合に比して、配線体200の平坦性を確保できる。また、第2の導体層56の表面56cは、絶縁樹脂部7Aの表面7bよりも遠い位置に配置される。従って、第2の導体層56の表面56cが絶縁樹脂部7Aの表面7bと同じ高さ位置に配置される場合に比して、外部の接続端子は、良好に第2の導体層56の表面56cに接続される。【選択図】図6[Problem] To provide a wiring body, a display device, and an antenna capable of improving connectivity with an external connection terminal while ensuring flatness. [Solution] An electrode 21 has a first conductor layer 55 in a first trench 60, and a terminal 22 has a second conductor layer 56 in a second trench 64. Of these, the terminal 22 is connected to an external connection terminal and electrically connects the connection terminal and the electrode 21. Since the second conductor layer 56 of the terminal 22 is formed in the second trench 64, flatness of the wiring body 200 can be ensured compared to when it is formed on the surface 7b of the insulating resin part 7A. In addition, the surface 56c of the second conductor layer 56 is located at a position farther away than the surface 7b of the insulating resin part 7A. Therefore, compared to when the surface 56c of the second conductor layer 56 is located at the same height as the surface 7b of the insulating resin part 7A, the external connection terminal is better connected to the surface 56c of the second conductor layer 56. [Selected Figure] FIG.

Description

本開示は、配線体、表示装置、及びアンテナに関する。 The present disclosure relates to a wiring body, a display device, and an antenna.

従来、電極と、端子と、基材上に設けられた樹脂層と、を備える配線体が知られている(例えば、特許文献1)。端子の導体層は、樹脂層の表面上に配置され、メッシュ構造を含む電極と、コンタクトを介して接続される。 Conventionally, a wiring body is known that includes an electrode, a terminal, and a resin layer provided on a substrate (for example, Patent Document 1). The conductor layer of the terminal is disposed on the surface of the resin layer and is connected to the electrode including the mesh structure via a contact.

特表2021-518071号公報Specific Publication No. 2021-518071

ここで、上述の配線体では、端子の導体層が樹脂層の表面上に配置されていることから、導体層の厚み分の段差が生じ、配線体の平坦性が損なわれるという問題がある。これに対して、端子の導体層の周囲を覆うような保護層を樹脂層の上に設けた場合、配線体の厚みが増大するとともに、端子の導体層の表面での外部の接続端子との接続性が低下するという問題がある。 Here, in the above-mentioned wiring body, since the conductor layer of the terminal is arranged on the surface of the resin layer, there is a problem that a level difference corresponding to the thickness of the conductor layer occurs, and the flatness of the wiring body is impaired. On the other hand, if a protective layer is provided on the resin layer to cover the periphery of the conductor layer of the terminal, the thickness of the wiring body will increase and the surface of the conductor layer of the terminal will not be connected to the external connection terminal. There is a problem that connectivity deteriorates.

そこで、本開示は、平坦性を確保しつつ、外部の接続端子との接続性を向上できる配線体、表示装置、及びアンテナを提供することを目的とする。 The present disclosure therefore aims to provide a wiring body, a display device, and an antenna that can improve connectivity with external connection terminals while ensuring flatness.

本開示の一側面に係る配線体は、電極と、電極に接続される端子と、基材上に設けられた樹脂層と、を備え、樹脂層は、電極に対応する第1のトレンチ、及び端子に対応する第2のトレンチを有し、電極は、第1のトレンチ内に第1の導体層を有し、端子は、第2のトレンチ内に第2の導体層を有し、第2の導体層の表面は、樹脂層の表面よりも基材に対して遠い位置に配置される。 A wiring body according to one aspect of the present disclosure includes an electrode, a terminal connected to the electrode, and a resin layer provided on a substrate, the resin layer having a first trench corresponding to the electrode and a second trench corresponding to the terminal, the electrode having a first conductor layer in the first trench, the terminal having a second conductor layer in the second trench, and the surface of the second conductor layer being disposed at a position farther from the substrate than the surface of the resin layer.

本開示の一側面に係る表示装置は、上述の配線体を備える。 A display device according to one aspect of the present disclosure includes the above wiring body.

本開示の一側面に係るアンテナは、上述の配線体を備える。 An antenna according to one aspect of the present disclosure includes the wiring body described above.

本開示の一側面によれば、平坦性を確保しつつ、外部の接続端子との接続性を向上できる配線体、表示装置、及びアンテナを提供することができる。 According to one aspect of the present disclosure, it is possible to provide a wiring body, a display device, and an antenna that can improve connectivity with an external connection terminal while ensuring flatness.

配線体を備える導電性フィルムの一実施形態を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of a conductive film including a wiring body. 図1のII-II線に沿う断面図である。2 is a cross-sectional view taken along line II-II in FIG. 変形例に係る導電性フィルムを示す断面図である。It is a sectional view showing an electroconductive film concerning a modification. 表示装置の一実施形態を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing an embodiment of a display device. 配線体を備えるアンテナの平面図である。FIG. 2 is a plan view of an antenna having a wiring body. 図5のVI-VI線に沿う拡大断面図である。FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view taken along line VI-VI in FIG. 5 . 変形例に係る配線体の拡大断面図である。FIG. 11 is an enlarged cross-sectional view of a wiring body according to a modified example.

以下、本開示のいくつかの実施形態について詳細に説明する。ただし、本開示は以下の実施形態に限定されるものではない。 Several embodiments of the present disclosure are described in detail below. However, the present disclosure is not limited to the following embodiments.

図1は本開示の一実施形態に係る配線体200を備える導電性フィルムを示す平面図であり、図2は図1のII-II線に沿う断面図である。導電性フィルム20は、アンテナ300を有し、アンテナ300は、配線体200を備える。図1及び図2に示される導電性フィルム20は、フィルム状の光透過性基材1(基材)と、光透過性基材1の一方の主面1S上に設けられた導電性層5と、光透過性基材1の一方の主面1S上に設けられた光透過性樹脂層7Bとを備える。導電性層5は、光透過性基材1の主面1Sに沿った方向に延在し複数の開口3aを含むパターンを有する部分を含む導体部3と、導体部3の開口3a内を埋める絶縁樹脂部7Aとを有する。図2では、導電性層5がデフォルメされた状態で示されており、導体部3の幅が強調された状態で示されている。また、各層の厚みもデフォルメされた状態で示されている。各層の厚みの詳細については後述する。また、図1に示す例では、導電性フィルム20の一方の短辺付近に導電性層5が形成されているが、導電性層5が形成される位置は特に限定されず、長辺付近に導電性層5が形成されてもよい。 FIG. 1 is a plan view showing a conductive film including a wiring body 200 according to an embodiment of the present disclosure, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II-II in FIG. 1. The conductive film 20 has an antenna 300, and the antenna 300 includes a wiring body 200. The conductive film 20 shown in FIGS. 1 and 2 includes a film-like light-transmitting base material 1 (base material) and a conductive layer 5 provided on one main surface 1S of the light-transmitting base material 1. and a light-transparent resin layer 7B provided on one main surface 1S of the light-transparent base material 1. The conductive layer 5 includes a conductor portion 3 including a portion having a pattern that extends in a direction along the main surface 1S of the light-transmitting substrate 1 and includes a plurality of openings 3a, and fills the inside of the opening 3a of the conductor portion 3. It has an insulating resin part 7A. In FIG. 2, the conductive layer 5 is shown in a deformed state, and the width of the conductor portion 3 is shown in an emphasized state. The thickness of each layer is also shown in a deformed state. Details of the thickness of each layer will be described later. Further, in the example shown in FIG. 1, the conductive layer 5 is formed near one short side of the conductive film 20, but the position where the conductive layer 5 is formed is not particularly limited, and is formed near the long side. A conductive layer 5 may also be formed.

光透過性基材1は、導電性フィルム20が表示装置に組み込まれたときに必要とされる程度の光透過性を有する。具体的には、光透過性基材1の全光線透過率が90~100%であってもよい。光透過性基材1のヘイズが0~5%であってもよい。 The light-transmitting base material 1 has a level of light-transmitting property required when the conductive film 20 is incorporated into a display device. Specifically, the total light transmittance of the light-transmitting substrate 1 may be 90 to 100%. The haze of the light-transmitting substrate 1 may be 0 to 5%.

光透過性基材1は、例えば透明樹脂フィルムであってもよく、その例としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、シクロオレフィンポリマー(COP)、又はポリイミド(PI)のフィルムが挙げられる。あるいは、光透過性基材1がガラス基板であってもよい。 The light-transmitting substrate 1 may be, for example, a transparent resin film, and examples thereof include polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polyethylene naphthalate (PEN), cycloolefin polymer (COP), or polyimide. (PI) film is mentioned. Alternatively, the light-transmissive base material 1 may be a glass substrate.

例えば図3に示すように、光透過性基材1は、光透過性の支持フィルム11と、支持フィルム11上に順に設けられた中間樹脂層12及び下地層13とを有する積層体であってもよい。支持フィルム11は上記透明樹脂フィルムであることができる。下地層13は無電解めっき等によって導体部3を形成するために設けられる層である。他の方法によって導体部3を形成する場合、下地層13は必ずしも設けられなくてもよい。支持フィルム11と下地層13との間に中間樹脂層12が設けられていなくてもよい。 For example, as shown in FIG. 3, the light-transmitting substrate 1 is a laminate including a light-transmitting support film 11, and an intermediate resin layer 12 and a base layer 13 provided in this order on the support film 11. Good too. The support film 11 may be the transparent resin film described above. The base layer 13 is a layer provided to form the conductor portion 3 by electroless plating or the like. When forming the conductor portion 3 by another method, the base layer 13 does not necessarily need to be provided. The intermediate resin layer 12 may not be provided between the support film 11 and the base layer 13.

光透過性基材1又はこれを構成する支持フィルム11の厚みは、10μm以上、20μm以上、又は35μm以上であってよく、500μm以下、200μm以下、又は100μm以下であってよい。 The thickness of the light-transmitting substrate 1 or the support film 11 constituting it may be 10 μm or more, 20 μm or more, or 35 μm or more, and may be 500 μm or less, 200 μm or less, or 100 μm or less.

中間樹脂層12が設けられることにより、支持フィルム11と下地層13との間の密着性が向上し得る。下地層13が設けられない場合、中間樹脂層12が支持フィルム11と光透過性樹脂層7Bとの間に設けられることにより、支持フィルム11と光透過性樹脂層7Bとの間の密着性が向上し得る。 By providing the intermediate resin layer 12, the adhesion between the support film 11 and the base layer 13 can be improved. When the base layer 13 is not provided, the intermediate resin layer 12 is provided between the support film 11 and the light-transparent resin layer 7B, thereby improving the adhesion between the support film 11 and the light-transparent resin layer 7B. It can be improved.

中間樹脂層12は、樹脂及び無機フィラーを含有する層であってもよい。中間樹脂層12を構成する樹脂の例としては、アクリル樹脂が挙げられる。無機フィラーの例としては、シリカが挙げられる。 The intermediate resin layer 12 may be a layer containing a resin and an inorganic filler. An example of the resin constituting the intermediate resin layer 12 is an acrylic resin. An example of the inorganic filler is silica.

中間樹脂層12の厚みは、例えば5nm以上、100nm以上、又は200nm以上であってもよく、10μm以下、5μm以下、又は2μm以下であってもよい。 The thickness of the intermediate resin layer 12 may be, for example, 5 nm or more, 100 nm or more, or 200 nm or more, or 10 μm or less, 5 μm or less, or 2 μm or less.

下地層13は、触媒及び樹脂を含有する層であってもよい。樹脂は、硬化性樹脂組成物の硬化物であってもよい。硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂の例としては、アミノ樹脂、シアネート樹脂、イソシアネート樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、ポリエステル、アリル樹脂、フェノール樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、フラン樹脂、COPNA樹脂、ケイ素樹脂、ジクロペンタジエン樹脂、ベンゾシクロブテン樹脂、エピスルフィド樹脂、エン-チオール樹脂、ポリアゾメチン樹脂、ポリビニルベンジルエーテル化合物、アセナフチレン、並びに、不飽和二重結合、環状エーテル、及びビニルエーテル等の紫外線で重合反応を起こす官能基を含む紫外線硬化樹脂が挙げられる。 The base layer 13 may be a layer containing a catalyst and a resin. The resin may be a cured product of a curable resin composition. Examples of curable resins contained in the curable resin composition include amino resins, cyanate resins, isocyanate resins, polyimide resins, epoxy resins, oxetane resins, polyesters, allyl resins, phenolic resins, benzoxazine resins, xylene resins, and ketones. Resin, furan resin, COPNA resin, silicone resin, dichloropentadiene resin, benzocyclobutene resin, episulfide resin, ene-thiol resin, polyazomethine resin, polyvinylbenzyl ether compound, acenaphthylene, as well as unsaturated double bond, cyclic ether, and ultraviolet curing resins containing a functional group that causes a polymerization reaction with ultraviolet light, such as vinyl ether.

下地層13に含まれる触媒は、無電解めっき触媒であってもよい。無電解めっき触媒は、Pd、Cu、Ni、Co、Au、Ag、Pd、Rh、Pt、In、及びSnから選ばれる金属であってもよく、Pdであってもよい。触媒は、1種類単独若しくは2種類以上の組合せであってもよい。通常、触媒は触媒粒子として樹脂中に分散している。 The catalyst contained in the base layer 13 may be an electroless plating catalyst. The electroless plating catalyst may be a metal selected from Pd, Cu, Ni, Co, Au, Ag, Pd, Rh, Pt, In, and Sn, or may be Pd. The catalyst may be used alone or in combination of two or more types. Typically, the catalyst is dispersed in the resin as catalyst particles.

下地層13における触媒の含有量は、下地層13全量を基準として、3質量%以上、4質量%以上、又は5質量%以上であってもよく、50質量%以下、40質量%以下、又は25質量%以下であってもよい。 The content of the catalyst in the base layer 13 may be 3% by mass or more, 4% by mass or more, or 5% by mass or more, and 50% by mass or less, 40% by mass or less, or It may be 25% by mass or less.

下地層13の厚みは、10nm以上、20nm以上、又は30nm以上であってもよく、500nm以下、300nm以下、又は150nm以下であってもよい。 The thickness of the base layer 13 may be 10 nm or more, 20 nm or more, or 30 nm or more, and may be 500 nm or less, 300 nm or less, or 150 nm or less.

光透過性基材1は、支持フィルム11の光透過性樹脂層7B及び導体部3とは反対側の主面上に設けられた保護層を更に有していてもよい。保護層が設けられることにより、支持フィルム11の傷付きが抑制される。保護層は、中間樹脂層12と同様の層であることができる。保護層の厚みは、5nm以上、50nm以上、又は500nm以上であってもよく、10μm以下、5μm以下、又は2μm以下であってもよい。 The light-transmitting substrate 1 may further have a protective layer provided on the main surface of the support film 11 opposite to the light-transmitting resin layer 7B and the conductor portion 3. By providing the protective layer, scratches on the support film 11 are suppressed. The protective layer may be a layer similar to the intermediate resin layer 12. The thickness of the protective layer may be 5 nm or more, 50 nm or more, or 500 nm or more, and may be 10 μm or less, 5 μm or less, or 2 μm or less.

導電性層5を構成する導体部3は、開口3aを含むパターンを有する部分を含む。開口3aを含むパターンは、互いに交差する複数の線状部によって形成された、規則的に配置された複数の開口3aを含むメッシュ状のパターンである。メッシュ状のパターンを有する導体部3は、例えばアンテナ300の放射導体及び給電線路として良好に機能することができる。また、導体部3は、開口3aを有さない平面状のパターンを備える。平面状のパターンを有する導体部3は、後述の端子及びグラウンドパッド部として機能する。なお、導電性層5における導体部3のパターンの構成の詳細については後述する。 The conductor portion 3 constituting the conductive layer 5 includes a portion having a pattern including an opening 3a. The pattern including the openings 3a is a mesh-like pattern including a plurality of regularly arranged openings 3a formed by a plurality of linear portions that intersect with each other. The conductor portion 3 having a mesh-like pattern can function well as a radiation conductor and a feed line of the antenna 300, for example. Further, the conductor portion 3 includes a planar pattern without an opening 3a. The conductor portion 3 having a planar pattern functions as a terminal and a ground pad portion, which will be described later. Note that details of the structure of the pattern of the conductor portion 3 in the conductive layer 5 will be described later.

導体部3は、金属を含んでいてもよい。導体部3は、銅、ニッケル、コバルト、パラジウム、銀、金、白金及びスズから選ばれる少なくとも1種の金属を含んでいてもよく、銅を含んでいてもよい。導体部3は、めっき法によって形成された金属めっきであってもよい。導体部3は、適切な導電性が維持される範囲で、リン等の非金属元素を更に含んでいてもよい。 The conductor portion 3 may contain metal. The conductor portion 3 may contain at least one metal selected from copper, nickel, cobalt, palladium, silver, gold, platinum, and tin, and may also contain copper. The conductor portion 3 may be metal plated by a plating method. The conductor portion 3 may further contain a nonmetallic element such as phosphorus within a range where appropriate conductivity is maintained.

導体部3は、複数の層から構成される積層体であってもよい。また、導体部3は、光透過性基材1とは反対側の表層部として、黒化層を有していてもよい。黒化層は、導電性フィルムが組み込まれた表示装置の視認性向上に寄与し得る。 The conductor portion 3 may be a laminate composed of multiple layers. The conductor portion 3 may also have a blackened layer as a surface layer on the side opposite the light-transmitting substrate 1. The blackened layer may contribute to improving the visibility of a display device in which the conductive film is incorporated.

絶縁樹脂部7Aは、光透過性を有する樹脂によって形成されており、導体部3の開口3aを埋めるように設けられており、通常、絶縁樹脂部7Aと導体部3とで平坦な表面が形成されている。 The insulating resin part 7A is made of a resin having light transmittance, and is provided to fill the opening 3a of the conductor part 3. Usually, the insulating resin part 7A and the conductor part 3 form a flat surface. has been done.

光透過性樹脂層7Bは、光透過性を有する樹脂によって形成されている。光透過性樹脂層7Bの全光線透過率が90~100%であってもよい。光透過性樹脂層7Bのヘイズが0~5%であってもよい。 The light-transmitting resin layer 7B is formed from a resin having light transmittance. The light-transmitting resin layer 7B may have a total light transmittance of 90 to 100%. The light-transmitting resin layer 7B may have a haze of 0 to 5%.

光透過性基材1(又は光透過性基材1を構成する支持フィルムの屈折率)と、光透過性樹脂層7Bの屈折率との差が0.1以下であってもよい。これにより、表示画像の良好な視認性がより一層確保され易い。光透過性樹脂層7Bの屈折率(nd25)は、例えば、1.0以上であってもよく、1.7以下、1.6以下、又は1.5以下であってよい。屈折率は、反射分光膜厚計により測定することができる。光路長の均一性の観点から、導体部3、絶縁樹脂部7A、及び光透過性樹脂層7Bが実質的に同じ厚みを有していてもよい。 The difference between the refractive index of the light-transmissive base material 1 (or the refractive index of the support film constituting the light-transparent base material 1) and the refractive index of the light-transparent resin layer 7B may be 0.1 or less. This makes it easier to ensure good visibility of the displayed image. The refractive index (nd25) of the light-transmitting resin layer 7B may be, for example, 1.0 or more, 1.7 or less, 1.6 or less, or 1.5 or less. The refractive index can be measured using a reflection spectroscopic film thickness meter. From the viewpoint of uniformity of optical path length, the conductor portion 3, the insulating resin portion 7A, and the light-transmitting resin layer 7B may have substantially the same thickness.

絶縁樹脂部7A及び光透過性樹脂層7Bを形成する樹脂は、硬化性樹脂組成物(光硬化性樹脂組成物又は熱硬化性樹脂組成物)の硬化物であってもよい。絶縁樹脂部7A及び/又は光透過性樹脂層7Bを形成する硬化性樹脂組成物は、硬化性樹脂を含み、その例としては、アクリル樹脂、アミノ樹脂、シアネート樹脂、イソシアネート樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、ポリエステル、アリル樹脂、フェノール樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、フラン樹脂、COPNA樹脂、ケイ素樹脂、ジクロペンタジエン樹脂、ベンゾシクロブテン樹脂、エピスルフィド樹脂、エン-チオール樹脂、ポリアゾメチン樹脂、ポリビニルベンジルエーテル化合物、アセナフチレン、及び不飽和二重結合、並びに、環状エーテル、ビニルエーテル等の紫外線で重合反応を起こす官能基を含む紫外線硬化樹脂が挙げられる。 The resin forming the insulating resin portion 7A and the light-transmitting resin layer 7B may be a cured product of a curable resin composition (a photocurable resin composition or a thermosetting resin composition). The curable resin composition forming the insulating resin portion 7A and/or the light-transmitting resin layer 7B includes a curable resin, and examples thereof include acrylic resin, amino resin, cyanate resin, isocyanate resin, polyimide resin, and epoxy resin. Resin, oxetane resin, polyester, allyl resin, phenolic resin, benzoxazine resin, xylene resin, ketone resin, furan resin, COPNA resin, silicon resin, dichloropentadiene resin, benzocyclobutene resin, episulfide resin, ene-thiol resin, poly Examples include azomethine resin, polyvinylbenzyl ether compound, acenaphthylene, and ultraviolet curable resins containing functional groups that cause a polymerization reaction with ultraviolet rays, such as unsaturated double bonds, cyclic ethers, and vinyl ethers.

絶縁樹脂部7Aを形成する樹脂と光透過性樹脂層7Bを形成する樹脂とが同じであってもよい。同じ樹脂によって形成された絶縁樹脂部7A及び光透過性樹脂層7Bは屈折率が等しいことから、導電性フィルム20を透過する光路長の均一性がより一層向上することができる。絶縁樹脂部7Aを形成する樹脂と光透過性樹脂層7Bを形成する樹脂とが同じである場合、例えば1層の硬化性樹脂層からインプリント法等によってパターン形成することによって、絶縁樹脂部7A及び光透過性樹脂層7Bを容易に一括して形成することができる。 The resin forming the insulating resin part 7A and the resin forming the light-transmitting resin layer 7B may be the same. Since the insulating resin part 7A and the light-transmitting resin layer 7B formed from the same resin have the same refractive index, the uniformity of the optical path length passing through the conductive film 20 can be further improved. When the resin forming the insulating resin part 7A and the resin forming the light-transmitting resin layer 7B are the same, the insulating resin part 7A and the light-transmitting resin layer 7B can be easily formed together, for example, by forming a pattern from a single curable resin layer using an imprinting method or the like.

導電性フィルム20は、例えばインプリント法によるパターン形成を含む方法によって製造することができる。導電性フィルム20を製造する方法の一例は、支持フィルムと支持フィルムの一方の主面上に設けられた、中間樹脂層及び触媒を含有する下地層とを有する光透過性基材1を準備することと、光透過性基材1の下地層側の主面1S上に、硬化性樹脂層を形成させることと、凸部を有するモールドを用いたインプリント法により、下地層が露出するトレンチを形成させることと、トレンチを充填する導体部3を、下地層から金属めっきを成長させる無電解めっき法により形成することとを含む。硬化性樹脂層にモールドが押し込まれた状態で硬化性樹脂層を硬化させることにより、モールドの凸部の反転形状を有する開口を含むパターンを有する絶縁樹脂部7Aと光透過性樹脂層7Bとが一括して形成される。開口を含むパターンを有する絶縁樹脂部7Aを形成する方法は、インプリント法に限られず、フォトリソグラフィー等の任意の方法を適用できる。 The conductive film 20 can be manufactured, for example, by a method including pattern formation using an imprint method. An example of a method for manufacturing the conductive film 20 is to prepare a light-transmitting base material 1 having a support film and a base layer containing an intermediate resin layer and a catalyst provided on one main surface of the support film. In addition, a curable resin layer is formed on the main surface 1S of the light-transmitting substrate 1 on the base layer side, and a trench in which the base layer is exposed is formed by an imprint method using a mold having a convex portion. and forming the conductor portion 3 filling the trench by an electroless plating method in which metal plating is grown from a base layer. By curing the curable resin layer with the mold pushed into the curable resin layer, the insulating resin part 7A and the light-transmitting resin layer 7B having a pattern including openings having an inverted shape of the convex parts of the mold are formed. Formed all at once. The method for forming the insulating resin portion 7A having a pattern including openings is not limited to the imprint method, and any method such as photolithography can be applied.

以上例示的に説明された導電性フィルムを、例えば平面状の透明アンテナとして表示装置に組み込むことができる。表示装置は、例えば、液晶表示装置、又は有機EL表示装置であってもよい。図4は、導電性フィルムが組み込まれた表示装置の一実施形態を示す断面図である。図4に示される表示装置100は、画像表示領域10Sを有する画像表示部10と、導電性フィルム20と、偏光板30と、カバーガラス40とを備える。導電性フィルム20、偏光板30、及びカバーガラス40は、画像表示部10の画像表示領域10S側において、画像表示部10側からこの順に積層されている。表示装置の構成は図4の形態に限られず、必要により適宜変更が可能である。例えば、偏光板30が画像表示部10と導電性フィルム20との間に設けられてもよい。画像表示部10は、例えば液晶表示部であってもよい。偏光板30及びカバーガラス40として、表示装置において通常用いられているものを用いることができる。偏光板30及びカバーガラス40は、必ずしも設けられなくてもよい。画像表示部10の画像表示領域10Sから出射される画像表示のための光が、導電性フィルム20を含む均一性の高い光路長の経路を通過する。これにより、モワレが抑制された均一性の高い良好な画像表示が可能である。 The conductive film exemplified above can be incorporated into a display device, for example, as a planar transparent antenna. The display device may be, for example, a liquid crystal display device or an organic EL display device. FIG. 4 is a cross-sectional view showing one embodiment of a display device incorporating a conductive film. The display device 100 shown in FIG. 4 includes an image display section 10 having an image display area 10S, a conductive film 20, a polarizing plate 30, and a cover glass 40. The conductive film 20, the polarizing plate 30, and the cover glass 40 are laminated in this order from the image display section 10 side on the image display area 10S side of the image display section 10. The configuration of the display device is not limited to the form shown in FIG. 4, and can be modified as necessary. For example, the polarizing plate 30 may be provided between the image display section 10 and the conductive film 20. The image display section 10 may be, for example, a liquid crystal display section. As the polarizing plate 30 and the cover glass 40, those commonly used in display devices can be used. The polarizing plate 30 and the cover glass 40 do not necessarily need to be provided. Light for image display emitted from the image display area 10S of the image display section 10 passes through a path including the conductive film 20 and having a highly uniform optical path length. Thereby, it is possible to display a good image with high uniformity in which moire is suppressed.

次に、図5を参照して、本開示の実施形態に係る配線体200を備えるアンテナ300の構成について詳細に説明する。アンテナ300は、前述の導電性層5を含んで構成される。図5は、アンテナ300の平面図である。図5は、配線体200を備えるアンテナ300の一部を拡大して示している。なお、以降の説明においては、主面1Sと平行な平面に対してXY座標を設定して、説明を行うものとする。Y軸方向は、主面1Sに沿った方向であり、図1に示す例においては、導電性フィルム20の辺部と直交する方向に対応する。導電性フィルム20の中央側をY軸方向の正側とし、導電性フィルム20の外周側をY軸方向の負側とする。X軸方向は、主面1Sに沿ってY軸方向と直交する方向であり、図1に示す例においては、導電性フィルム20の辺部20aが延びる方向に対応する。導電性フィルム20の辺部20aが延びる一方側をX軸方向の正側とし、他方側をX軸方向の負側とする。 Next, with reference to FIG. 5, the configuration of the antenna 300 including the wiring body 200 according to the embodiment of the present disclosure will be described in detail. Antenna 300 is configured to include the above-described conductive layer 5. FIG. 5 is a plan view of antenna 300. FIG. 5 shows a part of the antenna 300 including the wiring body 200 in an enlarged manner. Note that in the following description, the XY coordinates are set on a plane parallel to the main surface 1S. The Y-axis direction is a direction along the main surface 1S, and in the example shown in FIG. 1, corresponds to a direction perpendicular to the side portions of the conductive film 20. The center side of the conductive film 20 is defined as the positive side in the Y-axis direction, and the outer peripheral side of the conductive film 20 is defined as the negative side in the Y-axis direction. The X-axis direction is a direction perpendicular to the Y-axis direction along the main surface 1S, and in the example shown in FIG. 1, corresponds to the direction in which the side portion 20a of the conductive film 20 extends. One side on which the side portion 20a of the conductive film 20 extends is defined as the positive side in the X-axis direction, and the other side is defined as the negative side in the X-axis direction.

アンテナ300の導電性層5は、電極21と、給電線路25A,25Bと、端子22A,22Bと、グラウンドパッド部24A,24B,24C(端子)と、を有する。アンテナ300は、Y軸方向に平行な中心線CLに対して線対称な構成を有する。 The conductive layer 5 of the antenna 300 has an electrode 21, power supply lines 25A and 25B, terminals 22A and 22B, and ground pad portions 24A, 24B, and 24C (terminals). The antenna 300 has a configuration that is axisymmetric with respect to a center line CL that is parallel to the Y-axis direction.

電極21は、アンテナ300として信号を放射する領域である。電極21は、円形状の形状を有する。電極21の中心は、中心線CL上に配置される。電極21は、導電性フィルム20の辺部20aからY軸方向の正側へ離間した位置に配置される。電極21は、直径Rの寸法を有する。 The electrode 21 is a region that radiates a signal as an antenna 300. The electrode 21 has a circular shape. The center of the electrode 21 is placed on the center line CL. The electrode 21 is arranged at a position spaced apart from the side 20a of the conductive film 20 toward the positive side in the Y-axis direction. The electrode 21 has a diameter R.

給電線路25A,25Bは、電極21に給電を行う線路である。つまり、アンテナ300は、2偏波アンテナとして機能する。例えば、給電線路25Aの傾斜部25bが延びる方向の斜め偏波信号を、給電線路25Aを介して給電し、給電線路25Bの傾斜部25bの延びる方向の斜め偏波信号を、給電線路25Bを介して給電することができる。給電線路25A,25Bは、導電性フィルム20の辺部20aに対して垂直に延びる垂直部25aと、Y軸方向に対して傾斜する傾斜部25bと、を有する。給電線路25Aの垂直部25aは、導電性フィルム20の辺部20a側に形成された端子22AからY軸方向の正側へ延びる。給電線路25Aの垂直部25aは、中心線CLからX軸方向の負側へ離間した位置にて、当該中心線CL(すなわちY軸方向)と平行に延びる。 The power supply lines 25A and 25B are lines that supply power to the electrode 21. In other words, the antenna 300 functions as a dual-polarized antenna. For example, a diagonally polarized signal in the direction in which the inclined portion 25b of the power supply line 25A extends can be supplied via the power supply line 25A, and a diagonally polarized signal in the direction in which the inclined portion 25b of the power supply line 25B extends can be supplied via the power supply line 25B. The power supply lines 25A and 25B have a vertical portion 25a that extends perpendicular to the side portion 20a of the conductive film 20, and a vertical portion 25b that is inclined with respect to the Y-axis direction. The vertical portion 25a of the power supply line 25A extends from the terminal 22A formed on the side portion 20a side of the conductive film 20 to the positive side in the Y-axis direction. The vertical portion 25a of the power supply line 25A extends parallel to the center line CL (i.e., the Y-axis direction) at a position spaced from the center line CL to the negative side in the X-axis direction.

給電線路25Aの傾斜部25bは、垂直部25aのY軸方向の正側の端部から、Y軸方向の正側へ向かうに従って中心線CL側(すなわちX軸方向の正側)へ近付くように傾斜する。傾斜部25bのY軸方向の正側の端部は、電極21の外周縁21aに接続される。給電線路25Aは、垂直部25a及び傾斜部25bにおいて一定の幅寸法W1を有する。また、給電線路25Aは、垂直部25aの長さ寸法と傾斜部25bの長さ寸法の合計寸法である線路長L1を有する。ここで、幅寸法W1は、平面状のアンテナ300の面内方向における垂直部25a及び傾斜部25bの延在方向と直交する方向の寸法であり、線路長L1は、平面状のアンテナ300の面内方向における垂直部25a及び傾斜部25bの延在方向に沿った寸法である。 The inclined portion 25b of the power supply line 25A is arranged so that it approaches the center line CL side (i.e., the positive side in the X-axis direction) as it goes from the positive end in the Y-axis direction of the vertical portion 25a toward the positive side in the Y-axis direction. tilt. The positive end of the inclined portion 25b in the Y-axis direction is connected to the outer peripheral edge 21a of the electrode 21. The feed line 25A has a constant width W1 in the vertical portion 25a and the inclined portion 25b. Further, the feed line 25A has a line length L1 that is the total length of the vertical portion 25a and the inclined portion 25b. Here, the width dimension W1 is a dimension in the in-plane direction of the planar antenna 300 in a direction perpendicular to the extending direction of the vertical portion 25a and the inclined portion 25b, and the line length L1 is the dimension in the in-plane direction of the planar antenna 300. This is the dimension along the extending direction of the vertical portion 25a and the inclined portion 25b in the inward direction.

なお、図5に示す例では、給電線路25Aの垂直部25aは、電極21のX軸方向の負側の端部よりも、X軸方向の負側へ離間した位置に配置される。また、給電線路25Aの垂直部25aのY軸方向の正側の端部(すなわち傾斜部25bとの接続部)は、電極21のY軸方向の負側の端部よりも、Y軸方向の負側へ離間した位置に配置される。ただし、垂直部25a及び傾斜部25bの配置及び形状は、特に限定されるものではない。給電線路25Bは、給電線路25Aと中心線CLを基準として線対称な構造を有する。本実施形態では、給電線路25Aの傾斜部25bと給電線路25Bの傾斜部25bは、給電線路25Aの傾斜部25bを延ばした仮想線と給電線路25Bの傾斜部25bを延ばした仮想線とが直交するように電極21の外周縁21aに接続されている。つまり、給電線路25Aの傾斜部25bを延ばした仮想線と給電線路25Bの傾斜部25bを延ばした仮想線とが成す角度は90度である。 In the example shown in FIG. 5, the vertical portion 25a of the power supply line 25A is disposed at a position farther away from the negative end of the electrode 21 in the X-axis direction in the negative direction. The positive end of the vertical portion 25a of the power supply line 25A in the Y-axis direction (i.e., the connection portion with the inclined portion 25b) is disposed at a position farther away from the negative end of the electrode 21 in the Y-axis direction in the negative direction in the negative direction. However, the arrangement and shape of the vertical portion 25a and the inclined portion 25b are not particularly limited. The power supply line 25B has a structure that is line-symmetrical with respect to the power supply line 25A and the center line CL. In this embodiment, the inclined portion 25b of the power supply line 25A and the inclined portion 25b of the power supply line 25B are connected to the outer periphery 21a of the electrode 21 so that the virtual line extending the inclined portion 25b of the power supply line 25A and the virtual line extending the inclined portion 25b of the power supply line 25B are perpendicular to each other. In other words, the angle between the imaginary line extending the inclined portion 25b of the power supply line 25A and the imaginary line extending the inclined portion 25b of the power supply line 25B is 90 degrees.

端子22A,22Bは、給電線路25A,25Bにそれぞれ接続される端子である。端子22A,22Bは、外部の入出力端子と接続されることで、給電線路25A,25Bを介して電極21に給電する。端子22A,22Bは、導電性フィルム20の辺部20a付近に配置される。端子22A,22Bは、給電線路25A,25Bの垂直部25aのY軸方向の負側の端部から、辺部20aまでY軸方向の負側へ延びる。端子22A,22Bは、一定の幅寸法W2にて、Y軸方向に延びる。端子22A,22Bは、長さ寸法L2にてY軸方向に延びる。ここで、幅寸法W2は、平面状のアンテナ300の面内方向における端子22A,22Bの延在方向と直交する方向の寸法であり、長さ寸法L2は、平面状のアンテナ300の面内方向における端子22A,22Bの延在方向に沿った寸法である。 Terminals 22A and 22B are terminals connected to power supply lines 25A and 25B, respectively. Terminals 22A and 22B are connected to external input/output terminals to supply power to electrode 21 via power supply lines 25A and 25B. Terminals 22A and 22B are arranged near side portion 20a of conductive film 20. Terminals 22A and 22B extend from the negative end of vertical portion 25a of power supply lines 25A and 25B in the Y-axis direction to side portion 20a toward the negative side in the Y-axis direction. Terminals 22A and 22B extend in the Y-axis direction with a constant width dimension W2. Terminals 22A and 22B extend in the Y-axis direction with a length dimension L2. Here, the width dimension W2 is the dimension perpendicular to the extension direction of the terminals 22A and 22B in the in-plane direction of the planar antenna 300, and the length dimension L2 is the dimension along the extension direction of the terminals 22A and 22B in the in-plane direction of the planar antenna 300.

グラウンドパッド部24A,24B,24Cは、電気的にグラウンド状態となる領域である。グラウンドパッド部24A,24B,24Cは、図示されないグラウンド端子と接続される。グラウンドパッド部24A,24B,24Cは、端子22A,22Bに対して隙間GPを空けて配置されることで、端子22A,22Bと絶縁されている。グラウンドパッド部24Aは、端子22A,22B間の領域において、辺部20aに沿ってX軸方向に延びるように形成される。グラウンドパッド部24Bは、端子22AのX軸方向の負側の領域において、辺部20aに沿ってX軸方向に延びるように形成される。グラウンドパッド部24Cは、端子22BのX軸方向の正側の領域において、辺部20aに沿ってX軸方向に延びるように形成される。グラウンドパッド部24A,24B,24Cは、Y軸方向において一定の幅寸法にて、X軸方向に帯状に延びる。グラウンドパッド部24A,24B,24Cの幅寸法は、端子22A,22Bの長さ寸法L2と同じである。 The ground pad portions 24A, 24B, and 24C are areas that are electrically grounded. The ground pad portions 24A, 24B, and 24C are connected to a ground terminal (not shown). The ground pad portions 24A, 24B, and 24C are insulated from the terminals 22A and 22B by being arranged with a gap GP between them. The ground pad portion 24A is formed to extend in the X-axis direction along the side portion 20a in the region between the terminals 22A and 22B. The ground pad portion 24B is formed to extend in the X-axis direction along the side portion 20a in the negative side region of the terminal 22A in the X-axis direction. The ground pad portion 24C is formed to extend in the X-axis direction along the side portion 20a in a region on the positive side of the terminal 22B in the X-axis direction. The ground pad portions 24A, 24B, and 24C extend in a band shape in the X-axis direction with a constant width dimension in the Y-axis direction. The width dimension of the ground pad portions 24A, 24B, 24C is the same as the length dimension L2 of the terminals 22A, 22B.

上述のように、信号ラインである端子22Aは、X軸方向の両側からグラウンドパッド部24A,24Bに囲まれる構造を有する。信号ラインである端子22Bは、X軸方向の両側からグラウンドパッド部24A,24Cに囲まれる構造を有する。このように、端子22A,22Bは、コプレナー線路である。 As described above, terminal 22A, which is a signal line, has a structure surrounded by ground pad portions 24A and 24B on both sides in the X-axis direction. Terminal 22B, which is a signal line, has a structure surrounded by ground pad portions 24A and 24C on both sides in the X-axis direction. In this way, terminals 22A and 22B are coplanar lines.

図5に示すように、アンテナ300は、導体部3として、メッシュ状の導体パターン50を有する。アンテナ300の構成要素のうち、電極21及び給電線路25A,25Bは、当該メッシュ状の導体パターン50を有する。メッシュ状の導体パターン50は、第1の導電線51、及び複数の第2の導電線52を含む。第1の導電線51は、Y軸方向に平行に延びる直線状の導体部3である。複数の第1の導電線51は、X軸方向に互いに離間するように配置される。複数の第1の導電線51は、等ピッチで離間するように配置される。第2の導電線52は、X軸方向に平行に延びる直線状の導体部3である。複数の第2の導電線52は、Y軸方向に互いに離間するように配置される。複数の第2の導電線52は、等ピッチで離間するように配置される。導電線51,52の太さは特に限定されないが、例えば1~3μmに設定されてよい。また、導電線51,52のピッチも特に限定されないが、例えば100~300μmに設定されてよい。なお、第1の導電線51は、Y軸方向に延びていれば、Y軸方向と平行でなくても構わず、第2の導電線52は、X軸方向に延びていれば、X軸方向と平行でなくても構わない。 As shown in FIG. 5, the antenna 300 has a mesh-like conductor pattern 50 as the conductor portion 3. As shown in FIG. Among the components of the antenna 300, the electrode 21 and the feed lines 25A and 25B have the mesh-like conductor pattern 50. The mesh-like conductor pattern 50 includes a first conductive line 51 and a plurality of second conductive lines 52. The first conductive wire 51 is a linear conductor portion 3 extending parallel to the Y-axis direction. The plurality of first conductive wires 51 are arranged so as to be spaced apart from each other in the X-axis direction. The plurality of first conductive wires 51 are arranged at equal pitches and spaced apart from each other. The second conductive wire 52 is a linear conductor portion 3 extending parallel to the X-axis direction. The plurality of second conductive wires 52 are arranged so as to be spaced apart from each other in the Y-axis direction. The plurality of second conductive wires 52 are arranged at equal pitches and spaced apart from each other. The thickness of the conductive lines 51 and 52 is not particularly limited, but may be set to, for example, 1 to 3 μm. Furthermore, the pitch between the conductive lines 51 and 52 is not particularly limited, but may be set to, for example, 100 to 300 μm. Note that the first conductive wire 51 does not need to be parallel to the Y-axis direction as long as it extends in the Y-axis direction, and the second conductive wire 52 does not need to be parallel to the Y-axis direction as long as it extends in the X-axis direction. It does not have to be parallel to the direction.

本実施形態では、電極21及び給電線路25A,25Bは、外周縁を構成する端部導電線を有する。電極21は、この端部導電線により形成される形状が円形状となっている。なお、円形状の電極21は、厳密な真円形状に限られず、製造誤差等により生じるばらつきは含まれるものとする。また、電極21の外周縁を構成する端部導電線は、曲線だけで構成されるものだけでなく、一部に直線、波線部分などが含まれていても構わない。さらに、電極21及び給電線路25A,25Bは、端部導電線を含まなくてもよく、この場合、メッシュ状の導体パターン50に含まれる第1の導電線51又は第2の導電線52の先端を結んだ形状が円形状となっていればよい。 In this embodiment, the electrode 21 and the power supply lines 25A and 25B have end conductive lines that form the outer periphery. The shape of the electrode 21 formed by these end conductive lines is circular. Note that the circular electrode 21 is not limited to a strict perfect circle shape, and includes variations caused by manufacturing errors and the like. The end conductive lines that form the outer periphery of the electrode 21 may not only be composed of curves, but may also include straight lines, wavy lines, and the like. Furthermore, the electrode 21 and the power supply lines 25A and 25B may not include end conductive lines. In this case, it is sufficient that the shape of the first conductive line 51 or the second conductive line 52 included in the mesh-shaped conductor pattern 50 connected at the tips is circular.

端子22は、当該端子22の略全域に平面状に広がる第2の導体層56を有する。なお、「端子22」と称した場合、端子22Aと端子22Bを区別せず両方を指しているものとする。図5においては、端子22全域に第2の導体層56が形成されているが、第2の導体層56の面積は特に限定されない。例えば、第2の導体層56の面積は、端子22全体の面積に対する95%以上の面積であってよい。端子22のうち、第2の導体層56以外の箇所は、導体パターン50が存在していてよい。なお、グラウンドパッド部24A,24B,24Cも、第2の導体層56を有する。ただし、グラウンドパッド部24A,24B,24Cは、メッシュ状の導体パターン50を有する構成であってもよい。 The terminal 22 has a second conductor layer 56 that spreads in a planar manner over substantially the entire area of the terminal 22. When referring to the "terminal 22", the terminal 22A and the terminal 22B are not distinguished from each other and both are referred to. In FIG. 5, the second conductor layer 56 is formed over the entire area of the terminal 22, but the area of the second conductor layer 56 is not particularly limited. For example, the area of the second conductor layer 56 may be 95% or more of the area of the entire terminal 22. The conductor pattern 50 may be present in the areas of the terminal 22 other than the second conductor layer 56. The ground pad portions 24A, 24B, and 24C also have the second conductor layer 56. However, the ground pad portions 24A, 24B, and 24C may have a mesh-shaped conductor pattern 50.

次に、図6を参照して、配線体200の断面構造について説明する。図6は、図5に示すVI-VI線に沿った拡大断面図である。図6に示すように、配線体200は、電極21及び端子22が設けられる前述の光透過性基材1と、光透過性基材1上に設けられる前述の絶縁樹脂部7A(樹脂層)と、を更に備える。 Next, the cross-sectional structure of the wiring body 200 will be described with reference to FIG. 6. FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view taken along line VI-VI shown in FIG. 5. As shown in FIG. 6, the wiring body 200 further includes the aforementioned light-transmitting substrate 1 on which the electrodes 21 and terminals 22 are provided, and the aforementioned insulating resin portion 7A (resin layer) provided on the light-transmitting substrate 1.

絶縁樹脂部7Aは、電極21に対応する第1のトレンチ60、及び端子22に対応する第2のトレンチ64を有する。絶縁樹脂部7Aは、メッシュ状の第1のトレンチ60を有する。第1のトレンチ60は、絶縁樹脂部7Aと、隣の絶縁樹脂部7Aとの間の溝部61のパターンによって構成される。溝部61は、電極21の導体パターン50のメッシュ構造に対応するパターンにて形成される。従って、第1のトレンチ60のメッシュパターンと、電極21の導体パターン50とは、一致している。溝部61の底部は、後述の下地層67の表面まで達している。 The insulating resin part 7A has a first trench 60 corresponding to the electrode 21 and a second trench 64 corresponding to the terminal 22. The insulating resin part 7A has a mesh-shaped first trench 60. The first trench 60 is configured by a pattern of grooves 61 between the insulating resin part 7A and an adjacent insulating resin part 7A. The grooves 61 are formed in a pattern corresponding to the mesh structure of the conductor pattern 50 of the electrode 21. Therefore, the mesh pattern of the first trench 60 and the conductor pattern 50 of the electrode 21 match. The bottom of the grooves 61 reaches the surface of the underlayer 67 described below.

第2のトレンチ64は、端子22に対応する形状及び大きさを有する溝部65によって構成される。第2のトレンチ64の平面方向(XY平面が広がる方向)における寸法は、メッシュ状の第1のトレンチ60の幅W1より大きい。第2のトレンチ64のY軸方向の寸法W2は、第1のトレンチ60の幅W1より大きい。第2のトレンチ64のX軸方向の寸法(不図示)は、第1のトレンチ60の幅W1より大きい。第2のトレンチ64のY軸方向の寸法W2は、長方形状の第2の導体層56の短辺56a(図5参照)の長さと略等しくてよい。第2のトレンチ64のX軸方向の寸法は、長方形状の第2の導体層56の長辺56b(図5参照)の長さと略等しくてよい。第1のトレンチ60の幅W1は、第2の導電線52の延在方向(X軸方向)と直交する方向(Y軸方向)の長さと略等しくてよい。溝部65の底部65aは、絶縁樹脂部7Aの裏面7aよりも上方に離間した位置に配置される。 The second trench 64 is formed by a groove portion 65 having a shape and size corresponding to the terminal 22. The dimension of the second trench 64 in the planar direction (the direction in which the XY plane extends) is larger than the width W1 of the mesh-shaped first trench 60. The dimension W2 of the second trench 64 in the Y-axis direction is larger than the width W1 of the first trench 60. The dimension (not shown) of the second trench 64 in the X-axis direction is larger than the width W1 of the first trench 60. The dimension W2 of the second trench 64 in the Y-axis direction may be approximately equal to the length of the short side 56a (see FIG. 5) of the rectangular second conductor layer 56. The dimension of the second trench 64 in the X-axis direction may be approximately equal to the length of the long side 56b (see FIG. 5) of the rectangular second conductor layer 56. The width W1 of the first trench 60 may be approximately equal to the length of the second conductive line 52 in the direction perpendicular to the extension direction (X-axis direction). The bottom 65a of the groove 65 is positioned above and spaced apart from the back surface 7a of the insulating resin part 7A.

電極21は、第1のトレンチ60内に第1の導体層55を有する。また、端子22は、第2のトレンチ64内に第2の導体層56を有する。電極21の第1の導体層55は、メッシュ状の導体パターン50の導電線51,52によって構成される。第2の導電線52は、第1のトレンチ60の溝部61のうち、X軸方向に延びる溝部61の内部に導電性の材料を充填することによって形成される。なお、第1の導電線51も、トレンチ60の溝部61のうち、Y軸方向に延びる溝部61(不図示)の内部に導電性の材料を充填することによって形成される。第1の導体層55の表面55aは、絶縁樹脂部7Aの表面7bと略同一の高さ位置に配置される。 The electrode 21 has a first conductor layer 55 in the first trench 60. The terminal 22 has a second conductor layer 56 in the second trench 64. The first conductor layer 55 of the electrode 21 is composed of the conductive lines 51 and 52 of the mesh-shaped conductor pattern 50. The second conductive line 52 is formed by filling a conductive material into the groove portion 61 of the first trench 60 that extends in the X-axis direction. The first conductive line 51 is also formed by filling a conductive material into the groove portion 61 (not shown) of the trench 60 that extends in the Y-axis direction. The surface 55a of the first conductor layer 55 is located at approximately the same height as the surface 7b of the insulating resin portion 7A.

第2の導体層56は、第2のトレンチ64の溝部65の内部に導電性の材料を充填することによって形成される。第2の導体層56の材料は特に限定されず、導体パターン50と同様の材料を採用してよいし、異なる材料を採用してもよい。第2の導体層56の表面56cは、絶縁樹脂部7Aの表面7bよりも光透過性基材1に対して遠い位置に配置される。第2の導体層56の絶縁樹脂部7Aの表面7bからの突出量H2は、第2の導体層56の第2のトレンチ64内における厚みH1より小さい。厚みH1は特に限定されないが、厚みH1に対する突出量H2の比(H2/H1)が0.05~0.35となるように突出量H2が設定されてよい。なお、第2の導体層56の表面56cが絶縁樹脂部7Aの表面7bよりも光透過性基材1に対して近い位置に配置される部分を含んでいてもよい。 The second conductor layer 56 is formed by filling the groove portion 65 of the second trench 64 with a conductive material. The material of the second conductor layer 56 is not particularly limited, and the same material as the conductor pattern 50 may be used, or a different material may be used. The surface 56c of the second conductor layer 56 is located farther from the light-transmitting base material 1 than the surface 7b of the insulating resin portion 7A. The amount of protrusion H2 of the second conductor layer 56 from the surface 7b of the insulating resin portion 7A is smaller than the thickness H1 of the second conductor layer 56 within the second trench 64. Although the thickness H1 is not particularly limited, the protrusion amount H2 may be set such that the ratio of the protrusion amount H2 to the thickness H1 (H2/H1) is 0.05 to 0.35. Note that the surface 56c of the second conductor layer 56 may include a portion located closer to the light-transmitting base material 1 than the surface 7b of the insulating resin portion 7A.

配線体200は、光透過性基材1と第2の導体層56との間に、絶縁樹脂部7Aの樹脂による樹脂膜66を有する。樹脂膜66は、第2のトレンチ64の溝部65の底部65aと、後述の下地層67の表面との間に形成される。 The wiring body 200 has a resin film 66 made of the resin of the insulating resin part 7A between the light-transmitting substrate 1 and the second conductor layer 56. The resin film 66 is formed between the bottom 65a of the groove part 65 of the second trench 64 and the surface of the underlayer 67 described below.

配線体200は、絶縁樹脂部7Aの裏面7aと光透過性基材1の主面1Sとの間に、下地層67を有する。下地層67は、電極21及び端子22の両方に対応する位置に形成される。配線体200は、第2の導体層56と樹脂膜66との間に、下地層68を有する。下地層68は、溝部65の底部65a上に配置される。下地層67,68の材質は特に限定されないが、例えば、下地層13を同様の材料を採用してよい。 The wiring body 200 has a base layer 67 between the back surface 7a of the insulating resin portion 7A and the main surface 1S of the light-transmitting base material 1. The base layer 67 is formed at a position corresponding to both the electrode 21 and the terminal 22. The wiring body 200 has a base layer 68 between the second conductor layer 56 and the resin film 66. The base layer 68 is arranged on the bottom 65a of the groove 65. Although the materials of the base layers 67 and 68 are not particularly limited, for example, the same material as the base layer 13 may be used.

次に、本実施形態に係る配線体200、及び表示装置100の作用・効果について説明する。 Next, the functions and effects of the wiring body 200 and the display device 100 according to this embodiment will be described.

本実施形態の配線体200によれば、電極21は、第1のトレンチ60内に第1の導体層55を有し、端子22は、第2のトレンチ64内に第2の導体層56を有する。このうち、端子22は、外部の接続端子に接続され、当該接続端子と電極21とを電気的に接続する。当該端子22の第2の導体層56は、第2のトレンチ64内に形成されるため、絶縁樹脂部7Aの表面7b上に形成される場合に比して、配線体200の平坦性を確保できる。また、第2の導体層56の表面56cは、絶縁樹脂部7Aの表面7bよりも光透過性基材1に対して遠い位置に配置される。従って、第2の導体層56の表面56cが絶縁樹脂部7Aの表面7bと同じ高さ位置に配置される場合に比して、外部の接続端子は、良好に第2の導体層56の表面56cに接続される。以上より、平坦性を確保しつつ、外部の接続端子との接続性を向上できる。 According to the wiring body 200 of this embodiment, the electrode 21 has the first conductor layer 55 in the first trench 60, and the terminal 22 has the second conductor layer 56 in the second trench 64. have Among these, the terminal 22 is connected to an external connection terminal and electrically connects the connection terminal and the electrode 21. Since the second conductor layer 56 of the terminal 22 is formed within the second trench 64, the flatness of the wiring body 200 is ensured compared to the case where the second conductor layer 56 is formed on the surface 7b of the insulating resin portion 7A. can. Further, the surface 56c of the second conductor layer 56 is located farther from the light-transmitting base material 1 than the surface 7b of the insulating resin portion 7A. Therefore, compared to the case where the surface 56c of the second conductor layer 56 is arranged at the same height as the surface 7b of the insulating resin part 7A, the external connection terminal can be connected to the surface of the second conductor layer 56 more easily. 56c. As described above, connectivity with external connection terminals can be improved while ensuring flatness.

第2の導体層56の絶縁樹脂部7Aの表面7bからの突出量H2は、第2の導体層56の第2のトレンチ64内における厚みH1より小さくてよい。この場合、第2の導体層56が絶縁樹脂部7Aの表面7bから必要以上に突出することを抑制し、配線体200の平坦性を確保することができる。 The protrusion amount H2 of the second conductor layer 56 from the surface 7b of the insulating resin portion 7A may be smaller than the thickness H1 of the second conductor layer 56 within the second trench 64. In this case, the second conductor layer 56 can be prevented from protruding more than necessary from the surface 7b of the insulating resin portion 7A, and the flatness of the wiring body 200 can be ensured.

配線体200は、光透過性基材1と第2の導体層56との間に、絶縁樹脂部7Aの樹脂による樹脂膜66を有してよい。この場合、端子22における第2の導体層56の底面側の絶縁性を確保することで、下地層側に電流が流れることによる損失を抑制できる。 The wiring body 200 may have a resin film 66 made of the resin of the insulating resin part 7A between the light-transmitting substrate 1 and the second conductor layer 56. In this case, by ensuring the insulation of the bottom side of the second conductor layer 56 in the terminal 22, it is possible to suppress loss due to current flowing to the base layer side.

電極は、メッシュ状の導体パターンを有してよい。この場合、電極においては導電性を確保しつつ、高い透過性を実現できる。 The electrode may have a mesh-like conductor pattern. In this case, the electrode can achieve high transparency while ensuring conductivity.

第2のトレンチの平面方向における寸法は、メッシュ状の第1のトレンチの幅より大きくてよい。この場合、第2の導体層の平面方向のサイズを大きくすることで、外部の接続端子との接続性を確保できる。 The planar dimension of the second trench may be greater than the width of the mesh-shaped first trench. In this case, by increasing the planar size of the second conductor layer, connectivity with an external connection terminal can be ensured.

本開示の一側面に係る表示装置100は、上述の配線体200を備える。 A display device 100 according to one aspect of the present disclosure includes the wiring body 200 described above.

上述の表示装置100によれば、上述の配線体200と同様な作用・効果を得ることができる。 According to the above-mentioned display device 100, the same operation and effect as the above-mentioned wiring body 200 can be obtained.

本開示の一側面に係るアンテナ300は、上述の配線体200を備える。 An antenna 300 according to one aspect of the present disclosure includes the wiring body 200 described above.

上述のアンテナ300によれば、上述の配線体200と同様な作用・効果を得ることができる。 According to the antenna 300 described above, the same actions and effects as the wiring body 200 described above can be obtained.

本開示は上述の実施形態に限定されるものではない。 The present disclosure is not limited to the embodiments described above.

例えば、図7に示す配線体200が採用されてもよい。図7に示す配線体200は、樹脂膜66と光透過性基材1との間に、複数の微粒子69を含む下地層67を有する。本実施形態では、下地層67は、微粒子69を含有する粒子含有層として機能する。この場合、光透過性基材1に対する樹脂膜66と光透過性基材1との間の密着性を向上できる。 For example, a wiring body 200 shown in FIG. 7 may be adopted. The wiring body 200 shown in FIG. 7 has a base layer 67 containing a plurality of fine particles 69 between the resin film 66 and the light-transmitting base material 1. In this embodiment, the base layer 67 functions as a particle-containing layer containing fine particles 69. In this case, the adhesion between the resin film 66 and the light-transmissive base material 1 can be improved.

第2の導体層56と樹脂膜66との間に、複数の微粒子69が配置される。微粒子69は、下地層68に含まれる。この場合、第2の導体層56と樹脂膜66との間の密着性を向上できる。なお、下地層67,68に含まれる微粒子69の材料として、例えば、前述の下地層13に含まれる触媒と同じ材料を採用してよい。また、微粒子69の直径は2nm以上、50nm以下としてよい。 A plurality of fine particles 69 are disposed between the second conductor layer 56 and the resin film 66. The fine particles 69 are contained in the underlayer 68. In this case, the adhesion between the second conductor layer 56 and the resin film 66 can be improved. Note that the material of the fine particles 69 contained in the underlayers 67 and 68 may be, for example, the same material as the catalyst contained in the underlayer 13 described above. Furthermore, the diameter of the fine particles 69 may be 2 nm or more and 50 nm or less.

第2の導体層の表面粗さは所定の値に設定されてよい。例えば、第2の導体層56の表面56cの面粗さの最大高さは、1μm以下であり、且つ、算術平均高さが0.5μm以下であってよい。この場合、第2の導体層の外部の接続端子との接続性を確保できる。なお、算術平均高さは、例えば、ISO25178で規定される面粗さパラメータの1つであって、測定面における山高さ及び谷深さの絶対値の平均値で表される算術平均高さSaである。また、最大高さは、例えば、ISO25178で規定される面粗さパラメータの1つであって、測定面における最も高い点から最も低い点までの距離で表される最大高さSzである。この算術平均高さSa及び最大高さSzは、例えば、VK-250X(キーエンス社)を用いて非接触方式にて測定できる。 The surface roughness of the second conductor layer may be set to a predetermined value. For example, the maximum height of the surface roughness of the surface 56c of the second conductor layer 56 may be 1 μm or less, and the arithmetic mean height may be 0.5 μm or less. In this case, the connectivity of the second conductor layer with the external connection terminal can be ensured. The arithmetic mean height is, for example, one of the surface roughness parameters specified in ISO 25178, and is the arithmetic mean height Sa expressed as the average value of the absolute values of the peak height and valley depth on the measured surface. The maximum height is, for example, one of the surface roughness parameters specified in ISO 25178, and is the maximum height Sz expressed as the distance from the highest point to the lowest point on the measured surface. The arithmetic mean height Sa and the maximum height Sz can be measured in a non-contact manner, for example, using a VK-250X (Keyence Corporation).

第2の導体層56は、第2のトレンチ64の縁部64aから絶縁樹脂部7Aの表面7bの一部にはみ出した堆積部56dを有してよい。この場合、第2の導体層56の剥がれを抑制できる。 The second conductor layer 56 may have a deposited portion 56d protruding from the edge 64a of the second trench 64 to a portion of the surface 7b of the insulating resin portion 7A. In this case, peeling of the second conductor layer 56 can be suppressed.

例えば、図5に示す構成は導電性層5の構成の一例に過ぎず、電極21、及び端子22及びグラウンド部23の形状を適宜変更してもよい。 For example, the configuration shown in FIG. 5 is merely one example of the configuration of the conductive layer 5, and the shapes of the electrode 21, terminal 22, and ground portion 23 may be changed as appropriate.

図1は導電性フィルムの全体構成の一例に過ぎず、導電性フィルムの中で導電性層をどのような範囲、形状で形成してもよい。 FIG. 1 is only an example of the overall structure of the conductive film, and the conductive layer may be formed in any range and shape in the conductive film.

導電性フィルムの適用装置として表示装置を例示したが、他の装置に導電性フィルムを適用してもよい。例えば、建物や自動車等のガラスなどに導電性フィルムを適用してもよい。 Although a display device is illustrated as an example of a device to which the conductive film is applied, the conductive film may be applied to other devices. For example, the conductive film may be applied to the glass of buildings, automobiles, etc.

上述の実施形態では、端子22は、第2のトレンチ64内の第2の導体層56を有していた。これに加えて、外部のグラウンド端子と接続されるグラウンドパッド部24A,24B,24Cには、第2のトレンチ64及び第2の導体層56と同趣旨の構成が採用されてよい。すなわち、グラウンドパッド部24A,24B,24Cに対して、第2のトレンチ64内に形成されて平面状に広がる第2の導体層56が形成されてもよい。これにより、グラウンドパッド部24A,24B,24Cについても上述の実施形態における作用・効果と同様の作用・効果を得ることができる。配線体は、端子22に対する第2の導体層56のみを有してもよく、グラウンドパッド部24A,24B,24Cに対する第2の導体層56のみを有してもよく、あるいは、端子22に対する導体層56及びグラウンドパッド部24A,24B,24Cに対する導体層56の両方を有してもよい。グラウンドパッド部24A,24B,24Cも請求項における「端子」に該当してよい。 In the embodiments described above, terminal 22 had second conductor layer 56 within second trench 64 . In addition, the same configuration as the second trench 64 and the second conductor layer 56 may be adopted for the ground pad portions 24A, 24B, and 24C connected to an external ground terminal. That is, the second conductor layer 56 may be formed in the second trench 64 and spread in a planar manner for the ground pad portions 24A, 24B, and 24C. Thereby, the same functions and effects as those in the above-described embodiment can be obtained for the ground pad portions 24A, 24B, and 24C. The wiring body may have only the second conductor layer 56 for the terminal 22, may have only the second conductor layer 56 for the ground pad portions 24A, 24B, 24C, or may have only the second conductor layer 56 for the terminal 22. It may have both layer 56 and conductor layer 56 for ground pad portions 24A, 24B, 24C. The ground pad portions 24A, 24B, and 24C may also correspond to "terminals" in the claims.

上述の実施形態ではアンテナとして用いられる配線体を例示したが、配線体の構造の用途は限定されず、例えばタッチセンサなどに適用されてもよい。 In the above embodiment, a wiring body used as an antenna is illustrated, but the use of the wiring body structure is not limited, and it may be applied to, for example, a touch sensor.

本開示に係る技術には、以下の構成例が含まれるが、これに限定されるものではない。 The technology disclosed herein includes, but is not limited to, the following configuration examples:

本開示の一側面に係る配線体は、電極と、端子と、基材上に設けられた樹脂層と、を備え、樹脂層は、電極に対応する第1のトレンチ、及び端子に対応する第2のトレンチを有し、電極は、第1のトレンチ内に第1の導体層を有し、端子は、第2のトレンチ内に第2の導体層を有し、第2の導体層の表面は、樹脂層の表面よりも基材に対して遠い位置に配置される。 A wiring body according to one aspect of the present disclosure includes an electrode, a terminal, and a resin layer provided on a substrate, the resin layer having a first trench corresponding to the electrode and a second trench corresponding to the terminal, the electrode having a first conductor layer in the first trench, the terminal having a second conductor layer in the second trench, and the surface of the second conductor layer being disposed at a position farther from the substrate than the surface of the resin layer.

上述の配線体によれば、電極は、第1のトレンチ内に第1の導体層を有し、端子は、第2のトレンチ内に第2の導体層を有する。このうち、端子は、外部の接続端子に接続され、当該接続端子と電極とを電気的に接続する。当該端子の第2の導体層は、第2のトレンチ内に形成されるため、樹脂層の表面上に形成される場合に比して、配線体の平坦性を確保できる。また、第2の導体層の表面は、樹脂層の表面よりも遠い位置に配置される。従って、第2の導体層の表面が樹脂層の表面と同じ高さ位置に配置される場合に比して、外部の接続端子は、良好に第2の導体層の表面に接続される。以上より、平坦性を確保しつつ、外部の接続端子との接続性を向上できる。 According to the above-mentioned wiring body, the electrode has a first conductor layer in the first trench, and the terminal has a second conductor layer in the second trench. Of these, the terminal is connected to an external connection terminal and electrically connects the connection terminal and the electrode. Since the second conductor layer of the terminal is formed in the second trench, the flatness of the wiring body can be ensured compared to when it is formed on the surface of the resin layer. In addition, the surface of the second conductor layer is located farther than the surface of the resin layer. Therefore, the external connection terminal is well connected to the surface of the second conductor layer compared to when the surface of the second conductor layer is located at the same height as the surface of the resin layer. As a result, it is possible to improve the connectivity with the external connection terminal while ensuring flatness.

第2の導体層の樹脂層の表面からの突出量は、第2の導体層の第2のトレンチ内における厚みより小さくてよい。この場合、第2の導体層が樹脂層の表面から必要以上に突出することを抑制し、配線体の平坦性を確保することができる。 The amount of protrusion of the second conductor layer from the surface of the resin layer may be smaller than the thickness of the second conductor layer within the second trench. In this case, the second conductor layer can be prevented from protruding more than necessary from the surface of the resin layer, and the flatness of the wiring body can be ensured.

配線体は、基材と第2の導体層との間に、樹脂層の樹脂による樹脂膜を有してよい。この場合、端子における第2の導体層の底面側の絶縁性を確保することで、下地層側に電流が流れることによる損失を抑制できる。 The wiring body may have a resin film made of the resin of the resin layer between the substrate and the second conductor layer. In this case, by ensuring the insulation of the bottom side of the second conductor layer in the terminal, loss due to current flowing to the base layer side can be suppressed.

配線体は、樹脂膜と基材との間に、複数の微粒子を含む粒子含有層を有してよい。この場合、基材に対する樹脂膜と基材との間の密着性を向上できる。 The wiring body may have a particle-containing layer containing a plurality of fine particles between the resin film and the substrate. In this case, the adhesion between the resin film and the substrate can be improved.

第2の導体層と樹脂膜との間に、複数の微粒子が配置されてよい。この場合、第2の導体層と樹脂膜との間の密着性を向上できる。 A plurality of fine particles may be disposed between the second conductor layer and the resin film. In this case, the adhesion between the second conductor layer and the resin film can be improved.

第2の導体層の表面の面粗さの最大高さは、1μm以下であり、且つ、算術平均高さが0.5μm以下であってよい。この場合、第2の導体層の外部の接続端子との接続性を確保できる。 The maximum height of the surface roughness of the second conductor layer may be 1 μm or less, and the arithmetic mean height may be 0.5 μm or less. In this case, the connectivity of the second conductor layer with the external connection terminal can be ensured.

第2の導体層は、第2のトレンチの縁部から樹脂層の表面の一部にはみ出した堆積部を有してよい。この場合、第2の導体層の外部の接続端子との接続性を確保できる。 The second conductor layer may have a deposited portion protruding from the edge of the second trench to a portion of the surface of the resin layer. In this case, connectivity of the second conductor layer with external connection terminals can be ensured.

電極は、メッシュ状の導体パターンを有してよい。この場合、電極の導体量を低減できる。 The electrode may have a mesh-like conductor pattern. In this case, the amount of conductor in the electrode can be reduced.

第2のトレンチの平面方向における寸法は、メッシュ状の第1のトレンチの幅より大きくてよい。この場合、第2の導体層の平面方向のサイズを大きくすることで、外部の接続端子との接続性を確保できる。 The planar dimension of the second trench may be greater than the width of the mesh-shaped first trench. In this case, by increasing the planar size of the second conductor layer, connectivity with an external connection terminal can be ensured.

本開示の一側面に係る表示装置は、上述の配線体を備える。 A display device according to one aspect of the present disclosure includes the above wiring body.

上述の表示装置によれば、上述の配線体と同様な作用・効果を得ることができる。 According to the above-mentioned display device, the same operation and effect as the above-mentioned wiring body can be obtained.

[形態1]
電極と、
端子と、
基材上に設けられた樹脂層と、を備え、
前記樹脂層は、前記電極に対応する第1のトレンチ、及び前記端子に対応する第2のトレンチを有し、
前記電極は、前記第1のトレンチ内に第1の導体層を有し、
前記端子は、前記第2のトレンチ内に第2の導体層を有し、
前記第2の導体層の表面は、前記樹脂層の表面よりも前記基材に対して遠い位置に配置される、配線体。
[形態2]
前記第2の導体層の前記樹脂層の前記表面からの突出量は、前記第2の導体層の前記第2のトレンチ内における厚みより小さい、形態1に記載の配線体。
[形態3]
前記基材と前記第2の導体層との間に、前記樹脂層の樹脂による樹脂膜を有する、形態1又は2に記載の配線体。
[形態4]
前記樹脂膜と前記基材との間に、複数の微粒子を含む粒子含有層を有する、形態3に記載の配線体。
[形態5]
前記第2の導体層と前記樹脂膜との間に、複数の微粒子が配置される、形態3又は4に記載の配線体。
[形態6]
前記第2の導体層の表面の面粗さの最大高さは、1μm以下であり、且つ、算術平均高さが0.5μm以下である、形態1~5の何れか一項に記載の配線体。
[形態7]
前記第2の導体層は、前記第2のトレンチの縁部から前記樹脂層の表面の一部にはみ出した堆積部を有する、形態1~6の何れか一項に記載の配線体。
[形態8]
前記電極は、メッシュ状の導体パターンを有する、形態1~7の何れか一項に記載の配線体。
[形態9]
前記第2のトレンチの平面方向における寸法は、メッシュ状の前記第1のトレンチの幅より大きい、形態1~8の何れか一項に記載の配線体。
[形態10]
形態1~9の何れか一項に記載の配線体を備える、表示装置。
[形態11]
形態1~9の何れか一項に記載の配線体を備える、アンテナ。
[Form 1]
An electrode;
The terminals and
A resin layer provided on the substrate,
the resin layer has a first trench corresponding to the electrode and a second trench corresponding to the terminal;
the electrode has a first conductor layer in the first trench;
the terminal has a second conductor layer in the second trench;
A wiring body, wherein a surface of the second conductor layer is disposed at a position farther from the base material than a surface of the resin layer.
[Form 2]
2. The wiring body according to claim 1, wherein the amount of protrusion of the second conductor layer from the surface of the resin layer is smaller than a thickness of the second conductor layer within the second trench.
[Form 3]
3. The wiring body according to embodiment 1 or 2, further comprising a resin film formed of the resin of the resin layer between the base material and the second conductor layer.
[Form 4]
4. The wiring body according to embodiment 3, further comprising a particle-containing layer containing a plurality of fine particles between the resin film and the base material.
[Form 5]
5. The wiring body according to embodiment 3 or 4, wherein a plurality of fine particles are disposed between the second conductor layer and the resin film.
[Form 6]
6. The wiring body according to any one of embodiments 1 to 5, wherein the second conductor layer has a surface roughness whose maximum height is 1 μm or less and whose arithmetic mean height is 0.5 μm or less.
[Form 7]
The wiring body according to any one of the first to sixth aspects, wherein the second conductor layer has a deposit portion extending from an edge of the second trench onto a portion of the surface of the resin layer.
[Form 8]
The wiring body according to any one of the first to seventh embodiments, wherein the electrode has a mesh-shaped conductor pattern.
[Mode 9]
The wiring body according to any one of the first to eighth embodiments, wherein the dimension of the second trench in a planar direction is greater than the width of the mesh-shaped first trench.
[Form 10]
A display device comprising the wiring body according to any one of aspects 1 to 9.
[Form 11]
An antenna comprising the wiring body according to any one of aspects 1 to 9.

1…光透過性基材(基材)、1S…基材の主面、7A…絶縁樹脂部(樹脂層)、21…電極、22…端子、50…導体パターン、55…第1の導体層、56…第2の導体層、60…第1のトレンチ、64…第2のトレンチ、67…下地層(粒子含有層)、68…下地層、69…微粒子、100…表示装置、200…配線体、300…アンテナ。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Light-transmissive base material (base material), 1S... Main surface of base material, 7A... Insulating resin part (resin layer), 21... Electrode, 22... Terminal, 50... Conductor pattern, 55... First conductor layer , 56... Second conductor layer, 60... First trench, 64... Second trench, 67... Base layer (particle-containing layer), 68... Base layer, 69... Fine particles, 100... Display device, 200... Wiring Body, 300...Antenna.

Claims (11)

電極と、
端子と、
基材上に設けられた樹脂層と、を備え、
前記樹脂層は、前記電極に対応する第1のトレンチ、及び前記端子に対応する第2のトレンチを有し、
前記電極は、前記第1のトレンチ内に第1の導体層を有し、
前記端子は、前記第2のトレンチ内に第2の導体層を有し、
前記第2の導体層の表面は、前記樹脂層の表面よりも前記基材に対して遠い位置に配置される、配線体。
electrode and
terminal and
A resin layer provided on a base material,
The resin layer has a first trench corresponding to the electrode and a second trench corresponding to the terminal,
the electrode has a first conductor layer within the first trench;
The terminal has a second conductor layer within the second trench,
In the wiring body, the surface of the second conductor layer is arranged at a position farther from the base material than the surface of the resin layer.
前記第2の導体層の前記樹脂層の前記表面からの突出量は、前記第2の導体層の前記第2のトレンチ内における厚みより小さい、請求項1に記載の配線体。 The wiring body according to claim 1, wherein the amount of protrusion of the second conductor layer from the surface of the resin layer is smaller than the thickness of the second conductor layer in the second trench. 前記基材と前記第2の導体層との間に、前記樹脂層の樹脂による樹脂膜を有する、請求項1に記載の配線体。 The wiring body according to claim 1, having a resin film made of the resin of the resin layer between the substrate and the second conductor layer. 前記樹脂膜と前記基材との間に、複数の微粒子を含む粒子含有層を有する、請求項3に記載の配線体。 The wiring body according to claim 3, which has a particle-containing layer containing a plurality of fine particles between the resin film and the substrate. 前記第2の導体層と前記樹脂膜との間に、複数の微粒子が配置される、請求項3に記載の配線体。 The wiring body according to claim 3, wherein a plurality of fine particles are disposed between the second conductor layer and the resin film. 前記第2の導体層の表面の面粗さの最大高さは、1μm以下であり、且つ、算術平均高さが0.5μm以下である、請求項1に記載の配線体。 The wiring body according to claim 1, wherein the maximum height of the surface roughness of the surface of the second conductor layer is 1 μm or less, and the arithmetic mean height is 0.5 μm or less. 前記第2の導体層は、前記第2のトレンチの縁部から前記樹脂層の表面の一部にはみ出した堆積部を有する、請求項1に記載の配線体。 The wiring body according to claim 1, wherein the second conductor layer has a deposit portion that protrudes from the edge of the second trench onto a portion of the surface of the resin layer. 前記電極は、メッシュ状の導体パターンを有する、請求項1に記載の配線体。 The wiring body according to claim 1, wherein the electrode has a mesh-like conductor pattern. 前記第2のトレンチの平面方向における寸法は、メッシュ状の前記第1のトレンチの幅より大きい、請求項1に記載の配線体。 The wiring body according to claim 1, wherein the dimension of the second trench in the planar direction is greater than the width of the mesh-shaped first trench. 請求項1~9の何れか一項に記載の配線体を備える、表示装置。 A display device comprising the wiring body according to any one of claims 1 to 9. 請求項1~9の何れか一項に記載の配線体を備える、アンテナ。 An antenna comprising the wiring body according to any one of claims 1 to 9.
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