JP2024043454A - Optical integrated circuit and optical receiver - Google Patents

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直樹 松井
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Abstract

To provide an optical integrated circuit that comprises wavelength multiplexing/demultiplexing elements having robustness against manufacturing tolerance, and an optical receiver.SOLUTION: An optical integrated circuit comprises wavelength multiplexing/demultiplexing elements each having a directional coupler and a delay line. The wavelength multiplexing/demultiplexing elements are connected on a plurality of stages in a cascade manner.SELECTED DRAWING: Figure 8

Description

本開示は、光集積回路及び光レシーバに関する。 The present disclosure relates to optical integrated circuits and optical receivers.

マッハツェンダー干渉計を縦続的に接続した波長分離素子が知られている(例えば、特許文献1参照)。 A wavelength separation element in which Mach-Zehnder interferometers are connected in series is known (for example, see Patent Document 1).

特開2020-194092号公報Japanese Patent Application Publication No. 2020-194092

シリコンフォトニクスの素子の特性として、出力ポート間のクロストーク又は挿入損失が重要である。シリコンフォトニクスのチップ上でクロストーク又は挿入損失の十分な特性の実現が求められる。 Crosstalk or insertion loss between output ports is an important characteristic of silicon photonics devices. It is required to realize sufficient characteristics of crosstalk or insertion loss on silicon photonics chips.

本開示は、製造公差に対するロバスト性を有する波長合分波素子を備える光集積回路及び光レシーバを提供することを目的とする。 The present disclosure aims to provide an optical integrated circuit and an optical receiver that include a wavelength multiplexing/demultiplexing element that is robust against manufacturing tolerances.

本開示の一実施形態に係る光集積回路は、方向性結合器と遅延線とを有する波長合分波素子を備え、前記波長合分波素子が複数段に縦続的に接続されている。 An optical integrated circuit according to an embodiment of the present disclosure includes a wavelength multiplexing/demultiplexing element having a directional coupler and a delay line, and the wavelength multiplexing/demultiplexing element is cascaded in a plurality of stages.

本開示の一実施形態に係る光レシーバは、前記光集積回路を備える。 An optical receiver according to an embodiment of the present disclosure includes the optical integrated circuit.

本開示の一実施形態に係る光集積回路及び光レシーバによれば、製造公差に対するロバスト性を有する波長合分波素子が提供され得る。 An optical integrated circuit and an optical receiver according to an embodiment of the present disclosure can provide a wavelength multiplexing/demultiplexing element that is robust against manufacturing tolerances.

一実施形態に係る光レシーバの構成例を示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram illustrating a configuration example of an optical receiver according to an embodiment. 入力部としてエッジカプラを有する場合の光レシーバの構成例を示すブロック図である。FIG. 2 is a block diagram showing a configuration example of an optical receiver having an edge coupler as an input section. 図2の構成例において遅延器を更に備える場合の光レシーバの構成例を示すブロック図である。3 is a block diagram showing an example of the configuration of an optical receiver in the case where a delay device is further provided in the configuration example of FIG. 2. 図3の構成例において偏光スプリッタローテータを偏光スプリッタに置き換えた場合の光レシーバの構成例を示すブロック図である。FIG. 4 is a block diagram showing a configuration example of an optical receiver when the polarization splitter rotator in the configuration example of FIG. 3 is replaced with a polarization splitter. 図3の構成例においてフォトダイオードの前に接続される遅延器を可変減衰器に置き換えた場合の光レシーバの構成例を示すブロック図である。FIG. 4 is a block diagram showing a configuration example of an optical receiver when the delay device connected before the photodiode in the configuration example of FIG. 3 is replaced with a variable attenuator. 図5の構成例においてフォトダイオードの前に接続される可変減衰器とフォトダイオードとの間に遅延器を更に備える場合の光レシーバの構成例を示すブロック図である。FIG. 6 is a block diagram showing a configuration example of an optical receiver in a case where a delay device is further provided between the variable attenuator connected before the photodiode and the photodiode in the configuration example of FIG. 5; ストリップ型導波路の一例を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of a strip waveguide. リブ型導波路の一例を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of a rib-type waveguide. 一実施形態に係る分波器の構成例を示すブロック図である。1 is a block diagram showing an example of the configuration of a duplexer according to an embodiment; 図8の分波器の干渉計及びポートの配置例を示す図である。9 is a diagram showing an example of arrangement of interferometers and ports of the duplexer shown in FIG. 8; FIG. 干渉計の導波路の配置例を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing an example of the arrangement of waveguides of an interferometer. ストリップ型導波路を用いた場合の第1グループの第1及び第3素子の特性の一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the characteristic of the 1st and 3rd element of a 1st group when a strip type waveguide is used. ストリップ型導波路を用いた場合の第1グループの第2素子の特性の一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the characteristic of the 2nd element of a 1st group when a strip type waveguide is used. ストリップ型導波路を用いた場合の第2グループの第1、第3及び第4素子の特性の一例を示すグラフである。13 is a graph showing an example of characteristics of the first, third and fourth elements of the second group when a strip-type waveguide is used. ストリップ型導波路を用いた場合の第2グループの第2、第5及び第6素子の特性の一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the characteristic of the 2nd, 5th, and 6th element of a 2nd group when a strip type waveguide is used. ストリップ型導波路を用いた場合の分波器の特性の設計値の一例を示すグラフである。11 is a graph showing an example of design values of characteristics of a duplexer when a strip-type waveguide is used. ストリップ型導波路を用いた場合の分波器の特性の実測値の一例を示すグラフである。11 is a graph showing an example of actual measured values of characteristics of a duplexer when a strip-type waveguide is used. リブ型導波路を用いた場合の第1グループの第1及び第3素子の特性の一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the characteristic of the 1st and 3rd element of a 1st group when a rib type waveguide is used. リブ型導波路を用いた場合の第1グループの第2素子の特性の一例を示すグラフである。13 is a graph showing an example of the characteristics of the second element of the first group when a rib-type waveguide is used. リブ型導波路を用いた場合の第2グループの第1、第3及び第4素子の特性の一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the characteristic of the 1st, 3rd, and 4th element of a 2nd group when a rib type waveguide is used. リブ型導波路を用いた場合の第2グループの第2、第5及び第6素子の特性の一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the characteristic of the 2nd, 5th, and 6th element of a 2nd group when a rib type waveguide is used. リブ型導波路を用いた場合の分波器の特性の設計値の一例を示すグラフである。7 is a graph showing an example of design values of characteristics of a duplexer when a rib-type waveguide is used. リブ型導波路を用いた場合の分波器の特性の実測値の一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the actually measured value of the characteristic of a duplexer when a rib type waveguide is used. 抵抗素子を備える波長合分波素子の構成例を示す図である。FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration example of a wavelength multiplexing/demultiplexing element including a resistive element. 抵抗素子と導波路との位置関係の一例を示す図である。11 is a diagram showing an example of the positional relationship between a resistive element and a waveguide; FIG. ストリップ型導波路を用いた波長合分波素子の波長特性の一例を示すグラフである。It is a graph showing an example of wavelength characteristics of a wavelength multiplexing/demultiplexing element using a strip type waveguide. リブ型導波路を用いた波長合分波素子の波長特性の一例を示すグラフである。It is a graph showing an example of wavelength characteristics of a wavelength multiplexing/demultiplexing element using a rib type waveguide.

データセンター内の光通信において、デジタルシグナルプロセッサが簡便かつ低消費電力であることから、直接変調直接検波方式が広く用いられている。一方で、データセンター内光通信のトラフィック増大に伴い、より高密度なデータ伝送が求められており、シリコンを用いた光集積回路、特に小型の波長多重光回路を有する光トランシーバが検討されている。この中で、シリコンによって実現される波長多重光回路として、直列マッハツェンダー型干渉系又はアレイ導波路型グレーティングなどが用いられ得る。これらの波長多重光回路は、いずれも光の偏波によって特性が大きく変化するという特徴を有する。一方で、データセンター内の既設の光ファイバ網はシングルモード光ファイバが広く用いられている。しかし、この光ファイバは偏波保持特性を有していない。したがって、配線の曲げ部分又は接続部分を光が通過するたびに光の偏波がランダムに変化する。そこで、どのような偏波に対しても光レシーバの特性が均一になるように、光回路の前段に偏光スプリッタローテータを設け、入射した光をTE(Transverse Electric)成分とTM(Transverse Magnetic)成分とに分離し、それぞれを別々の波長多重光回路に入射させる必要がある。直接変調直接偏波方式において、TE又はTMのいずれかに偏光させた後、波長多重光回路の出力をフォトダイオードで受光し、各偏波成分に対応するフォトダイオードの出力の和を検出する必要がある。 In optical communications within data centers, direct modulation and direct detection methods are widely used because digital signal processors are simple and consume low power. On the other hand, with the increase in optical communication traffic within data centers, higher density data transmission is required, and optical integrated circuits using silicon, especially optical transceivers with compact wavelength-multiplexed optical circuits, are being considered. . Among these, a series Mach-Zehnder type interference system or an arrayed waveguide type grating can be used as a wavelength multiplexing optical circuit realized using silicon. All of these wavelength multiplexing optical circuits are characterized in that their characteristics vary greatly depending on the polarization of light. On the other hand, single-mode optical fibers are widely used in existing optical fiber networks within data centers. However, this optical fiber does not have polarization maintaining characteristics. Therefore, the polarization of the light changes randomly every time the light passes through a bent portion or a connected portion of the wiring. Therefore, in order to make the characteristics of the optical receiver uniform for any polarization, a polarization splitter rotator is installed at the front stage of the optical circuit, and the incident light is divided into TE (Transverse Electric) component and TM (Transverse Magnetic) component. It is necessary to separate them into two parts and input each into separate wavelength multiplexing optical circuits. In the direct modulation direct polarization method, after polarizing the light to either TE or TM, it is necessary to receive the output of the wavelength multiplexing optical circuit with a photodiode and detect the sum of the photodiode outputs corresponding to each polarization component. There is.

本開示の一実施形態に係る光レシーバ1(図1等参照)は、光通信システムにおいて、光信号を送信する構成と組み合わせて用いられてよい。光信号を送信する構成は、光源及び変調器を含んでよい。 The optical receiver 1 (see FIG. 1 etc.) according to an embodiment of the present disclosure may be used in an optical communication system in combination with a configuration for transmitting optical signals. An arrangement for transmitting an optical signal may include a light source and a modulator.

光源は、例えば、LD(Laser Diode)又はVCSEL(Vertical Cavity Surface Emitting LASER)等の半導体レーザを含んでよい。光源は、可視光に限られず種々の波長の電磁波を射出するデバイスを含んでよい。変調器は、電磁波の強度を変化させることによって変調する。変調器は、例えば、電磁波をパルス変調してもよい。 The light source may include, for example, a semiconductor laser such as an LD (Laser Diode) or a VCSEL (Vertical Cavity Surface Emitting LASER). The light source is not limited to visible light, and may include devices that emit electromagnetic waves of various wavelengths. The modulator modulates the electromagnetic waves by changing their intensity. The modulator may pulse modulate the electromagnetic waves, for example.

光信号を送信する構成は、信号入力部を更に含み得る。信号入力部は、外部装置等からの信号の入力を受け付ける。信号入力部は、例えばD/Aコンバータを含んでよい。信号入力部は、変調器に信号を出力する。変調器は、信号入力部で取得した信号に基づいて、電磁波を変調する。 The configuration for transmitting an optical signal may further include a signal input section. The signal input section receives signal input from an external device or the like. The signal input section may include, for example, a D/A converter. The signal input section outputs a signal to the modulator. The modulator modulates the electromagnetic wave based on the signal acquired by the signal input section.

図3に示されるように、光レシーバ1は、偏光スプリッタローテータ82と2つの分波器83それぞれとの間、及び、分波器83とn個のフォトダイオード10-1~nそれぞれとの間に、遅延器84を更に備えてよい。遅延器84は、光信号の伝搬を遅延させる。光レシーバ1は、導波路の製造誤差によって生じる光信号の遅延のずれを遅延器84によって補償する。光レシーバ1は、遅延器84を備えることによって、フォトダイオード10から出力される、TEモードの光信号と、TMモードの光信号を変換したTEモードの光信号とを合わせた信号のジッタを低減できる。 As shown in FIG. 3, the optical receiver 1 is arranged between the polarization splitter rotator 82 and each of the two demultiplexers 83, and between the demultiplexer 83 and each of the n photodiodes 10-1 to n. Additionally, a delay device 84 may be further provided. Delay device 84 delays propagation of the optical signal. The optical receiver 1 uses a delay device 84 to compensate for deviations in the delay of the optical signal caused by manufacturing errors in the waveguide. By including the delay device 84, the optical receiver 1 reduces jitter of the signal output from the photodiode 10, which is a combination of the TE mode optical signal and the TE mode optical signal obtained by converting the TM mode optical signal. can.

遅延器84は、例えば、所定の長さを有する導波路として構成され、かつ、ヒータによって導波路の実効屈折率を調整可能に構成されてよい。遅延器84は、所定の長さを有する位相変調器として構成され、かつ、電圧の印加によって位相変調量を調整可能に構成されてよい。 For example, the delay device 84 may be configured as a waveguide having a predetermined length, and may be configured to be able to adjust the effective refractive index of the waveguide using a heater. The delay device 84 may be configured as a phase modulator having a predetermined length, and may be configured to be able to adjust the amount of phase modulation by applying a voltage.

図4に示されるように、光レシーバ1において、偏光スプリッタローテータ82が偏光スプリッタ(PS:Polarizing Splitter)822に置き換えられてよい。偏光スプリッタ822は、入力された光信号を、TEモードの光信号とTMモードの光信号とに分離する。TEモードの光信号の伝搬速度とTMモードの光信号の伝搬速度とは、互いに異なる。光レシーバ1は、TEモードの光信号とTMモードの光信号との遅延のずれを補償するように、遅延器84を備えてよい。 As shown in FIG. 4, in the optical receiver 1, the polarization splitter rotator 82 may be replaced with a polarization splitter (PS) 822. The polarization splitter 822 separates the input optical signal into a TE mode optical signal and a TM mode optical signal. The propagation speed of the TE mode optical signal and the propagation speed of the TM mode optical signal are different from each other. The optical receiver 1 may include a delay device 84 to compensate for a delay difference between the TE mode optical signal and the TM mode optical signal.

図5に示されるように、図2に例示される光レシーバ1において分波器83とn個のフォトダイオード10-1~nそれぞれとの間に接続されていた遅延器84が、可変光減衰器(VOA:Variable Optical Attenuator)85に置き換えられてよい。可変光減衰器85は、例えばシリコンのpinダイオードを含んで構成されてよい。可変光減衰器85は、電流を注入することによって光を吸収し、光強度を減衰させる。各可変光減衰器85に注入する電流を調整することによって、偏光スプリッタローテータ82又は分波器83において生じる光損失が補償され得る。したがって、偏光スプリッタローテータ82又は分波器83における光損失が光信号の偏波又は波長の違いに起因して均一ではない場合でも、光損失が大きい条件の光信号が通過する可変光減衰器85の電流値を小さくし、光損失が小さい条件の光信号が通過する可変光減衰器85の電流値を大きくすることによって、任意の偏波又は波長の光信号の受光感度を均一に近づけ得る。 As shown in FIG. 5, the delay device 84 connected between the demultiplexer 83 and each of the n photodiodes 10-1 to 10-n in the optical receiver 1 illustrated in FIG. It may be replaced by a Variable Optical Attenuator (VOA) 85. The variable optical attenuator 85 may include, for example, a silicon pin diode. The variable optical attenuator 85 absorbs light and attenuates the light intensity by injecting a current. By adjusting the current injected into each variable optical attenuator 85, optical loss occurring in the polarization splitter rotator 82 or the demultiplexer 83 can be compensated for. Therefore, even if the optical loss in the polarization splitter rotator 82 or the demultiplexer 83 is not uniform due to the difference in polarization or wavelength of the optical signal, the variable optical attenuator 85 allows the optical signal with a large optical loss to pass through. By decreasing the current value of the variable optical attenuator 85 and increasing the current value of the variable optical attenuator 85 through which the optical signal under the condition of small optical loss passes, the light receiving sensitivity of the optical signal of any polarization or wavelength can be made close to uniform.

図6に示されるように、光レシーバ1は、分波器83とn個のフォトダイオード10-1~nそれぞれとの間に、可変光減衰器85と遅延器84とを両方とも備えてもよい。 As shown in FIG. 6, the optical receiver 1 may include both a variable optical attenuator 85 and a delay device 84 between the demultiplexer 83 and each of the n photodiodes 10-1 to n. good.

以上述べてきたように、本実施形態に係る光レシーバ1は、戻り光を低減するように構成されたフォトダイオード10によって光信号を検出できる。戻り光が低減されることによって、入力部81に戻る光信号が低減され得る。入力部81に戻る光信号が低減されることによって入力部81に光信号を送信する光源又は変調器の安定な動作が維持され得る。その結果、光レシーバ1を用いる光通信システムの信頼性が高められ得る。 As described above, the optical receiver 1 according to this embodiment can detect an optical signal by the photodiode 10 configured to reduce returning light. By reducing the returning light, the optical signal returning to the input unit 81 can be reduced. By reducing the optical signal returning to the input unit 81, stable operation of the light source or modulator that transmits the optical signal to the input unit 81 can be maintained. As a result, the reliability of the optical communication system that uses the optical receiver 1 can be improved.

(光集積回路の構成例)
光集積回路は、分波器83を備えてよい。分波器83は、複数の波長の成分を含む電磁波を各波長の成分に分離するだけでなく、複数の異なる波長の成分のそれぞれを、複数の波長の成分を含む電磁波として合成する波長合分波素子として機能してよい。
(Example of configuration of optical integrated circuit)
The optical integrated circuit may include a demultiplexer 83. The demultiplexer 83 not only separates an electromagnetic wave containing components of a plurality of wavelengths into components of each wavelength, but also performs wavelength combining to combine each of the components of a plurality of different wavelengths into an electromagnetic wave containing components of a plurality of wavelengths. It may function as a wave element.

分波器83は、方向性結合器と遅延線とを含んで構成されてよい。方向性結合器又は遅延線は、導波路140を含んで構成される。導波路140は、図7Aに示されるようにストリップ型導波路として構成されてよいし、図7Bに示されるようにリブ型導波路として構成されてよい。ストリップ型導波路の断面形状は、矩形状である。リブ型導波路の断面形状は、少なくとも一部に凸型の形状を有する。 The duplexer 83 may be configured to include a directional coupler and a delay line. A directional coupler or delay line includes a waveguide 140. The waveguide 140 may be configured as a strip waveguide, as shown in FIG. 7A, or as a rib waveguide, as shown in FIG. 7B. The cross-sectional shape of the strip waveguide is rectangular. The cross-sectional shape of the rib-type waveguide has a convex shape at least in part.

導波路140は、シリコンを含んで形成されてよい。導波路140は、シリコンの基板150の上に形成されてよい。基板150は、絶縁層151とクラッド層152とを有してよい。導波路140は、絶縁層151とクラッド層152とで囲まれてよい。導波路140がシリコンによって形成されることによって、波長合分波素子がシリコンフォトニクスの技術で容易に製造され得る。導波路140は、シリコンに限られず他の種々の誘電体材料を含んで形成されてもよい。 Waveguide 140 may be formed including silicon. Waveguide 140 may be formed on a silicon substrate 150. The substrate 150 may include an insulating layer 151 and a cladding layer 152. Waveguide 140 may be surrounded by insulating layer 151 and cladding layer 152. By forming the waveguide 140 from silicon, the wavelength multiplexing/demultiplexing element can be easily manufactured using silicon photonics technology. The waveguide 140 is not limited to silicon, and may be formed using various other dielectric materials.

分波器83は、図8に例示されるように、縦続的に複数段に接続されている波長合分波素子(Mux)を含んで構成されてよい。分波器83は、カスケード遅延マッハツェンダー干渉計(CMZI)を含んで構成されてもよい。分波器83のポート0に入力される電磁波が4つの波長の成分を含むとする。各波長は、λ1、λ2、λ3及びλ4と表されるとする。本構成例において、各波長の値は以下のとおりであるとする。
λ1=1.27μm
λ2=1.29μm
λ3=1.31μm
λ4=1.33μm
The demultiplexer 83 may be configured to include wavelength multiplexing/demultiplexing elements (Mux) connected in series in multiple stages, as illustrated in FIG. 8 . The duplexer 83 may include a cascade delay Mach-Zehnder interferometer (CMZI). It is assumed that the electromagnetic wave input to port 0 of the demultiplexer 83 includes four wavelength components. It is assumed that each wavelength is expressed as λ1, λ2, λ3, and λ4. In this configuration example, it is assumed that the values of each wavelength are as follows.
λ1=1.27μm
λ2=1.29μm
λ3=1.31μm
λ4=1.33μm

分波器83は、第1グループの第1素子831-1、第2素子831-2及び第3素子831-3を組み合わせた構成によって電磁波を2つに分離し、一方を第2素子831-2から出力し、他方を第3素子831-3から出力するように構成されてよい。図8の例において、第2素子831-2から、λ1とλ3とを含む電磁波が出力される。第3素子831-3から、λ2とλ4とを含む電磁波が出力される。 The demultiplexer 83 separates the electromagnetic waves into two by a configuration in which the first element 831-1, the second element 831-2, and the third element 831-3 of the first group are combined, and one is divided into two by the second element 831-3. It may be configured such that one output element is output from one element 831-3 and the other element is output from a third element 831-3. In the example of FIG. 8, the second element 831-2 outputs electromagnetic waves including λ1 and λ3. The third element 831-3 outputs electromagnetic waves including λ2 and λ4.

分波器83は、第1グループの第2素子831-2から出力された電磁波を、第2グループの第1素子832-1、第3素子832-3及び第4素子832-4を組み合わせた構成によって2つに分離し、一方を第3素子832-3から出力し、他方を第4素子832-4から出力するように構成されてよい。図8の例において、第3素子832-3の出力に接続されているポート4から、λ1を含む電磁波が出力される。第4素子832-4の出力に接続されているポート5から、λ3を含む電磁波が出力される。 The splitter 83 may be configured to split the electromagnetic wave output from the second element 831-2 of the first group into two by combining the first element 832-1, the third element 832-3, and the fourth element 832-4 of the second group, and output one of the two from the third element 832-3 and the other from the fourth element 832-4. In the example of FIG. 8, an electromagnetic wave containing λ1 is output from port 4 connected to the output of the third element 832-3. An electromagnetic wave containing λ3 is output from port 5 connected to the output of the fourth element 832-4.

分波器83は、第1グループの第3素子831-3から出力された電磁波を、第2グループの第2素子832-2、第5素子832-5及び第6素子832-6を組み合わせた構成によって2つに分離し、一方を第5素子832-5から出力し、他方を第6素子832-6から出力するように構成されてよい。図16の例において、第6素子832-6の出力に接続されているポート7から、λ2を含む電磁波が出力される。第5素子832-5の出力に接続されているポート6から、λ4を含む電磁波が出力される。 The splitter 83 may be configured to split the electromagnetic wave output from the third element 831-3 of the first group into two by combining the second element 832-2, the fifth element 832-5, and the sixth element 832-6 of the second group, and output one of the two from the fifth element 832-5 and the other from the sixth element 832-6. In the example of FIG. 16, an electromagnetic wave containing λ2 is output from port 7 connected to the output of the sixth element 832-6. An electromagnetic wave containing λ4 is output from port 6 connected to the output of the fifth element 832-5.

言い換えれば、分波器83は、方向性結合器と遅延線とを有する波長合分波素子を備える。分波器83において、波長合分波素子が複数段に縦続的に接続されている。波長合分波素子は、4段に接続されていてよい。分波器83の第1グループを構成する波長合分波素子は、第1複合素子とも称される。分波器83の第2グループを構成する波長合分波素子は、第2複合素子とも称される。分波器83は、第1複合素子と第2複合素子とが縦続的に接続されていてよい。図8の例において、分波器83の第1グループにおいて、波長合分波素子は、縦続的に2段接続されている。つまり、第1複合素子において、波長合分波素子は、縦続的に2段接続されている。また、分波器83の第2グループにおいて、波長合分波素子は、縦続的に2段接続されている。つまり、第2複合素子において、波長合分波素子は、縦続的に2段接続されている。第1複合素子において、波長合分波素子がN段に接続されていてよい。第2複合素子において、波長合分波素子がM段に接続されていてよい。N及びMは自然数である。 In other words, the demultiplexer 83 includes a wavelength multiplexing/demultiplexing element having a directional coupler and a delay line. In the demultiplexer 83, wavelength multiplexing/demultiplexing elements are connected in series in multiple stages. The wavelength multiplexing/demultiplexing elements may be connected in four stages. The wavelength multiplexing/demultiplexing elements constituting the first group of the demultiplexer 83 are also referred to as first composite elements. The wavelength multiplexing/demultiplexing elements constituting the second group of the demultiplexer 83 are also referred to as second composite elements. In the duplexer 83, a first composite element and a second composite element may be connected in series. In the example of FIG. 8, in the first group of the demultiplexer 83, the wavelength multiplexing/demultiplexing elements are connected in cascade in two stages. That is, in the first composite element, the wavelength multiplexing/demultiplexing elements are connected in two stages in cascade. Further, in the second group of the demultiplexer 83, the wavelength multiplexing/demultiplexing elements are connected in two stages in cascade. That is, in the second composite element, the wavelength multiplexing/demultiplexing elements are connected in two stages in cascade. In the first composite element, wavelength multiplexing/demultiplexing elements may be connected in N stages. In the second composite element, wavelength multiplexing/demultiplexing elements may be connected in M stages. N and M are natural numbers.

分波器83の導波路及びポートは、図9に例示されるように配置されてよい。ポートとして示される線の対になっている線の端子は終端を意味する。また、各波長合分波素子は、図10に例示されるように構成されてよい。波長合分波素子は、2本の導波路140が互いに沿って位置するように構成される第1部分と、2本の導波路140の長さが異なるように遅延線170を含んで構成される第2部分とを備える。図10に例示される波長合分波素子は、4つの第1部分と、各第1部分の間の3つの第2部分とを備える。図10において、4つの第1部分のそれぞれの長さは、Lc1、Lc2、Lc3及びLc4として表される。3つの第2部分のそれぞれにおける2本の導波路140の片道の長さの差は、ΔL1、ΔL2及びΔL3として表される。つまり、3つの第2部分のそれぞれにおける2本の導波路140の往復の長さの差は、ΔL1×2、ΔL2×2及びΔL3×2として表される。単位はμm(マイクロメートル)であるとする。波長合分波素子の構造は、これらの7つのパラメータによって特定され得る。 The waveguides and ports of the duplexer 83 may be arranged as illustrated in FIG. The terminals of the wire pairs shown as ports represent terminations. Further, each wavelength multiplexing/demultiplexing element may be configured as illustrated in FIG. 10. The wavelength multiplexing/demultiplexing element includes a first portion configured such that two waveguides 140 are located along each other, and a delay line 170 such that the two waveguides 140 have different lengths. and a second portion. The wavelength multiplexing/demultiplexing element illustrated in FIG. 10 includes four first parts and three second parts between each of the first parts. In FIG. 10, the lengths of each of the four first portions are represented as Lc1, Lc2, Lc3, and Lc4. The one-way length differences between the two waveguides 140 in each of the three second portions are expressed as ΔL1, ΔL2, and ΔL3. That is, the difference in the round trip length of the two waveguides 140 in each of the three second portions is expressed as ΔL1×2, ΔL2×2, and ΔL3×2. The unit is μm (micrometer). The structure of the wavelength multiplexing/demultiplexing element can be specified by these seven parameters.

波長合分波素子は、物理的に接続する2本の導波路140を有する。2本の導波路140は、第1部分において電磁的に結合している。2本の導波路140のうち一方の導波路140に入力された電磁波がそのまま同じ導波路140から出力される場合、その出力ポートはストレートポートとも称される。言い換えれば、波長合分波素子は、方向性結合器のストレート側に出力ポートを有する。ストレートポートは、電磁波の入力ポートから導波路140によって物理的に接続されているポートである。 The wavelength multiplexer/demultiplexer has two waveguides 140 that are physically connected. The two waveguides 140 are electromagnetically coupled at the first portion. When an electromagnetic wave input to one of the two waveguides 140 is output from the same waveguide 140 as is, the output port is also called a straight port. In other words, the wavelength multiplexer/demultiplexer has an output port on the straight side of the directional coupler. The straight port is a port that is physically connected from the input port of the electromagnetic wave by the waveguide 140.

2本の導波路140のうち一方の導波路140に入力された電磁波が他方の導波路140に乗り移って出力される場合、その出力ポートはクロスポートとも称される。言い換えれば、波長合分波素子は、方向性結合器のクロス側に出力ポートを有する。クロスポートは、電磁波の入力ポートから導波路140によって電磁的に結合されているものの物理的に接続されていないポートである。 When an electromagnetic wave input to one of the two waveguides 140 is transferred to the other waveguide 140 and output, the output port is also called a cross port. In other words, the wavelength multiplexing/demultiplexing element has an output port on the cross side of the directional coupler. The cross port is a port that is electromagnetically coupled to the input port of the electromagnetic wave by the waveguide 140 but is not physically connected.

分波器83に含まれる複数の波長合分波素子のうち2段目より後ろに接続されている波長合分波素子は、方向性結合器のストレート側に出力ポートを有してよい。また、分波器83の第1グループがN段に接続する波長合分波素子を備え、かつ、第2グループがM段に接続する波長合分波素子を備える場合、2段目からN段目まで、又は、N+2段目からN+M段目までに接続されている波長合分波素子は、方向性結合器のストレート側に出力ポートを有してよい。つまり、分波器83において出力を分岐しない波長合分波素子は、方向性結合器のストレート側に出力ポートを有してよい。一方で、分波器83において出力を分岐する第1グループの1段目の波長合分波素子、及び、第2グループのN+1段目の波長合分波素子は、方向性結合器のストレート側及びクロス側の両方に出力ポートを有する。 Among the plurality of wavelength multiplexing/demultiplexing elements included in the demultiplexer 83, the wavelength multiplexing/demultiplexing elements connected after the second stage may have an output port on the straight side of the directional coupler. In addition, when the first group of the demultiplexer 83 includes wavelength multiplexing/demultiplexing elements connected to N stages, and the second group includes wavelength multiplexing/demultiplexing elements connected to M stages, the second to N stages The wavelength multiplexing/demultiplexing elements connected up to the second stage or from the N+2th stage to the N+Mth stage may have an output port on the straight side of the directional coupler. That is, the wavelength multiplexing/demultiplexing element that does not branch the output in the demultiplexer 83 may have an output port on the straight side of the directional coupler. On the other hand, the first stage wavelength multiplexing/demultiplexing element of the first group and the N+1 stage wavelength multiplexing/demultiplexing element of the second group that branch the output in the demultiplexer 83 are on the straight side of the directional coupler. It has an output port on both the and cross side.

クロスポートへの出力は、素子の製造公差に対して敏感である。言い換えれば、素子の製造公差に対するクロスポートへの出力の感度が大きい。分波器83が方向性結合器のストレート側に出力ポートを有することによって、素子の製造公差の影響が低減され得る。例えば、第1グループの第2素子831-2は、第1グループの第1素子831-1のクロスポートへ出力される側(第2素子831-2の側)が第2素子831-2においてストレートポートへ出力されるように設計されてよい。 The output to the crossport is sensitive to device manufacturing tolerances. In other words, the sensitivity of the output to the crossport to device manufacturing tolerances is high. By having the duplexer 83 have an output port on the straight side of the directional coupler, the influence of manufacturing tolerances of the elements can be reduced. For example, in the second element 831-2 of the first group, the side that is output to the cross port of the first element 831-1 of the first group (the side of the second element 831-2) is connected to the second element 831-2. It may be designed to be output to a straight port.

導波路140がストリップ型導波路である場合とリブ型導波路である場合とで波長合分波素子の特性が異なり得る。以下、導波路140がストリップ型導波路及びリブ型導波路のそれぞれである場合の波長合分波素子の特性が説明される。 The characteristics of the wavelength multiplexing/demultiplexing element may differ depending on whether the waveguide 140 is a strip-type waveguide or a rib-type waveguide. The characteristics of the wavelength multiplexing/demultiplexing element when the waveguide 140 is a strip waveguide or a rib waveguide will be described below.

<導波路140がストリップ型導波路である場合>
図8又は図9の第1グループの第1素子831-1及び第3素子831-3は、以下のパラメータを有する。
Lc1=40、Lc2=25、Lc3=20、Lc4=10
ΔL1=9.6/2、ΔL2=9.6、ΔL3=9.5
<When the waveguide 140 is a strip waveguide>
The first element 831-1 and the third element 831-3 of the first group in FIG. 8 or 9 have the following parameters.
Lc1=40, Lc2=25, Lc3=20, Lc4=10
ΔL1=9.6/2, ΔL2=9.6, ΔL3=9.5

この場合における第1グループの第1素子831-1及び第3素子831-3の特性が図11のグラフに示される。図11のグラフにおいて、横軸は波長を表す。波長の単位はnm(ナノメートル)であるとする。縦軸は挿入損失を表す。挿入損失の単位はdB(デシベル)であるとする。縦軸の値が大きいほど(グラフのプロットが上であるほど)、損失が小さい。実線はストレートポートの出力を表す。破線はクロスポートの出力を表す。グラフの縦軸及び横軸、並びに、実線及び破線の意味は、以降の図12~図14及び図17~図20でも同様であるとする。 The characteristics of the first element 831-1 and the third element 831-3 of the first group in this case are shown in the graph of Figure 11. In the graph of Figure 11, the horizontal axis represents wavelength. The unit of wavelength is assumed to be nm (nanometers). The vertical axis represents insertion loss. The unit of insertion loss is assumed to be dB (decibels). The larger the value on the vertical axis (the higher the plot on the graph), the smaller the loss. The solid line represents the output of the straight port. The dashed line represents the output of the cross port. The meanings of the vertical and horizontal axes of the graph, and the solid and dashed lines, are assumed to be the same in the following Figures 12 to 14 and Figures 17 to 20.

図8又は図9の第1グループの第2素子831-2は、以下のパラメータを有する。
Lc1=35、Lc2=25、Lc3=25、Lc4=10
ΔL1=9.9/2、ΔL2=9.9、ΔL3=9.8
この場合における第1グループの第2素子831-2の特性が図12のグラフに示される。
The second element 831-2 of the first group in FIG.
Lc1=35, Lc2=25, Lc3=25, Lc4=10
ΔL1=9.9/2, ΔL2=9.9, ΔL3=9.8
The characteristics of the second element 831-2 of the first group in this case are shown in the graph of FIG.

図8又は図9の第2グループの第1素子832-1、第3素子832-3及び第4素子832-4は、以下のパラメータを有する。
Lc1=35、Lc2=25、Lc3=15、Lc4=5
ΔL1=5.2/2、ΔL2=5.2、ΔL3=5.1
この場合における第2グループの第1素子832-1、第3素子832-3及び第4素子832-4の特性が図13のグラフに示される。
The first element 832-1, third element 832-3, and fourth element 832-4 of the second group in FIG. 8 or 9 have the following parameters.
Lc1=35, Lc2=25, Lc3=15, Lc4=5
ΔL1=5.2/2, ΔL2=5.2, ΔL3=5.1
The characteristics of the first element 832-1, third element 832-3, and fourth element 832-4 of the second group in this case are shown in the graph of FIG.

図8又は図9の第2グループの第2素子832-2、第5素子832-5及び第6素子832-6は、以下のパラメータを有する。
Lc1=35、Lc2=25、Lc3=15、Lc4=5
ΔL1=5.3/2、ΔL2=5.3、ΔL3=5.2
この場合における第2グループの第2素子832-2、第5素子832-5及び第6素子832-6の特性が図14のグラフに示される。
The second element 832-2, fifth element 832-5, and sixth element 832-6 of the second group in FIG. 8 or 9 have the following parameters.
Lc1=35, Lc2=25, Lc3=15, Lc4=5
ΔL1=5.3/2, ΔL2=5.3, ΔL3=5.2
The characteristics of the second element 832-2, fifth element 832-5, and sixth element 832-6 of the second group in this case are shown in the graph of FIG.

各波長合分波素子が上述の特性を有する場合において、分波器83のポート4~7の出力特性の設計値が図15に示される。また、分波器83のポート4~7の出力特性の実測値が図16に示される。図15及び図16のグラフにおいて、横軸は波長を表す。波長の単位はnm(ナノメートル)であるとする。縦軸は挿入損失を表す。挿入損失の単位はdB(デシベル)であるとする。分波器83のポートに波長がλ1~λ4の成分を含む電磁波が入力されるとする。図15及び図16において、ポート4から出力される成分の実測値は、実線で示される。ポート7から出力される成分の実測値は、破線で示される。ポート5から出力される成分の実測値は、一点鎖線で示される。ポート6から出力される成分の実測値は、二点鎖線で示される。図15及び図16のグラフに示されるように、設計値及び実測値のいずれにおいても、各ポートから出力される成分は、各波長の成分を多く含む。つまり、実測結果においても、ストリップ型導波路で構成される分波器83は、λ1~λ4の各波長の成分を分離できている。その結果、挿入損失の特性とクロストークの特性とが向上され得る。 In the case where each wavelength multiplexing/demultiplexing element has the above-mentioned characteristics, design values of the output characteristics of ports 4 to 7 of the demultiplexer 83 are shown in FIG. Furthermore, actual measured values of the output characteristics of ports 4 to 7 of the duplexer 83 are shown in FIG. In the graphs of FIGS. 15 and 16, the horizontal axis represents wavelength. It is assumed that the unit of wavelength is nm (nanometer). The vertical axis represents insertion loss. It is assumed that the unit of insertion loss is dB (decibel). Assume that an electromagnetic wave containing components with wavelengths λ1 to λ4 is input to a port of the demultiplexer 83. In FIGS. 15 and 16, the actual measured values of the components output from port 4 are shown by solid lines. The actual measured value of the component output from port 7 is indicated by a broken line. The actual measured value of the component output from port 5 is indicated by a dashed line. The actual measured value of the component output from port 6 is indicated by a two-dot chain line. As shown in the graphs of FIGS. 15 and 16, the components output from each port include many components of each wavelength in both the designed value and the actual measured value. In other words, the actual measurement results also show that the demultiplexer 83 formed of a strip waveguide is able to separate components of each wavelength from λ1 to λ4. As a result, insertion loss characteristics and crosstalk characteristics can be improved.

<導波路140がリブ型導波路である場合>
図8又は図9の第1グループの第1素子831-1及び第3素子831-3は、以下のパラメータを有する。
Lc1=55、Lc2=35、Lc3=30、Lc4=10
ΔL1=10.4/2、ΔL2=10.4、ΔL3=10.3
この場合における第1グループの第1素子831-1及び第3素子831-3の特性が図17のグラフに示される。
<When the waveguide 140 is a rib-type waveguide>
The first element 831-1 and the third element 831-3 of the first group in FIG. 8 or 9 have the following parameters.
Lc1=55, Lc2=35, Lc3=30, Lc4=10
ΔL1=10.4/2, ΔL2=10.4, ΔL3=10.3
The characteristics of the first element 831-1 and the third element 831-3 of the first group in this case are shown in the graph of FIG.

図8又は図9の第1グループの第2素子831-2は、以下のパラメータを有する。
Lc1=65、Lc2=40、Lc3=30、Lc4=10
ΔL1=10.7/2、ΔL2=10.7、ΔL3=10.5
この場合における第1グループの第2素子831-2の特性が図18のグラフに示される。
The second element 831-2 of the first group in FIG. 8 or 9 has the following parameters.
Lc1=65, Lc2=40, Lc3=30, Lc4=10
ΔL1=10.7/2, ΔL2=10.7, ΔL3=10.5
The characteristics of the second element 831-2 of the first group in this case are shown in the graph of FIG.

図8又は図9の第2グループの第1素子832-1、第3素子832-3及び第4素子832-4は、以下のパラメータを有する。
Lc1=55、Lc2=40、Lc3=25、Lc4=10
ΔL1=5.3/2、ΔL2=5.3、ΔL3=5.2
この場合における第2グループの第1素子832-1、第3素子832-3及び第4素子832-4の特性が図19のグラフに示される。
The first element 832-1, third element 832-3, and fourth element 832-4 of the second group in FIG. 8 or 9 have the following parameters.
Lc1=55, Lc2=40, Lc3=25, Lc4=10
ΔL1=5.3/2, ΔL2=5.3, ΔL3=5.2
The characteristics of the first element 832-1, third element 832-3, and fourth element 832-4 of the second group in this case are shown in the graph of FIG.

図8又は図9の第2グループの第2素子832-2、第5素子832-5及び第6素子832-6は、以下のパラメータを有する。
Lc1=50、Lc2=30、Lc3=25、Lc4=15
ΔL1=5.5/2、ΔL2=5.5、ΔL3=5.4
この場合における第2グループの第2素子832-2、第5素子832-5及び第6素子832-6の特性が図20のグラフに示される。
The second element 832-2, the fifth element 832-5 and the sixth element 832-6 of the second group in FIG.
Lc1=50, Lc2=30, Lc3=25, Lc4=15
ΔL1=5.5/2, ΔL2=5.5, ΔL3=5.4
The characteristics of the second element 832-2, the fifth element 832-5 and the sixth element 832-6 of the second group in this case are shown in the graph of FIG.

各波長合分波素子が上述の特性を有する場合において、分波器83のポート4~7の出力特性の設計値が図21に示される。また、分波器83のポート4~7の出力特性の実測値が図22に示される。図21及び図22のグラフにおいて、横軸は波長を表す。波長の単位はnm(ナノメートル)であるとする。縦軸は挿入損失を表す。挿入損失の単位はdB(デシベル)であるとする。分波器83のポートに波長がλ1~λ4の成分を含む電磁波が入力されるとする。図21及び図22において、ポート4から出力される成分の実測値は、実線で示される。ポート7から出力される成分の実測値は、破線で示される。ポート5から出力される成分の実測値は、一点鎖線で示される。ポート6から出力される成分の実測値は、二点鎖線で示される。図21及び図22のグラフに示されるように、設計値及び実測値のいずれにおいても、各ポートから出力される成分は、各波長の成分を多く含む。つまり、実測結果においても、リブ型導波路で構成される分波器83は、λ1~λ4の各波長の成分を分離できている。その結果、挿入損失の特性とクロストークの特性とが向上され得る。 When each wavelength multiplexing/demultiplexing element has the above-mentioned characteristics, the design values of the output characteristics of ports 4 to 7 of the demultiplexer 83 are shown in FIG. 21. Also, the actual measured values of the output characteristics of ports 4 to 7 of the demultiplexer 83 are shown in FIG. 22. In the graphs of FIG. 21 and FIG. 22, the horizontal axis represents wavelength. The unit of wavelength is assumed to be nm (nanometers). The vertical axis represents insertion loss. The unit of insertion loss is assumed to be dB (decibels). Assume that an electromagnetic wave containing components with wavelengths of λ1 to λ4 is input to the port of the demultiplexer 83. In FIG. 21 and FIG. 22, the actual measured values of the components output from port 4 are shown by solid lines. The actual measured values of the components output from port 7 are shown by dashed lines. The actual measured values of the components output from port 5 are shown by dashed lines. The actual measured values of the components output from port 6 are shown by dashed lines. As shown in the graphs of FIG. 21 and FIG. 22, in both the design values and the actual measured values, the components output from each port contain a large amount of each wavelength component. In other words, in actual measurements, the splitter 83, which is made up of a rib-type waveguide, is able to separate the components of each wavelength λ1 to λ4. As a result, the insertion loss characteristics and crosstalk characteristics can be improved.

<小括>
以上述べてきたように、本実施形態に係る光集積回路は、縦続的に複数段に接続した波長合分波素子を有する。波長合分波素子が縦続的に複数段に接続されることによって、十分なクロストークが確保され得る。また、少ない挿入損失で波長分離が実現され得る。その結果、挿入損失の特性とクロストークの特性とが向上され得る。
<Summary>
As described above, the optical integrated circuit according to this embodiment has wavelength multiplexing/demultiplexing elements connected in series in multiple stages. Sufficient crosstalk can be ensured by cascading multiple stages of wavelength multiplexing/demultiplexing elements. Furthermore, wavelength separation can be achieved with low insertion loss. As a result, insertion loss characteristics and crosstalk characteristics can be improved.

(補償回路)
図23に示されるように、波長合分波素子は、基板の上に位置する導波路140と、抵抗素子180とを備えてよい。抵抗素子180は、抵抗素子180に電流が流れることによって生じる熱によって導波路140を加熱して導波路140の温度を変化させるように構成される。抵抗素子180は、導波路140の上に重なって位置してよい。抵抗素子180は、図24に示されるように、基板の平面視において導波路140の少なくとも一部の上に重なるように位置してよい。抵抗素子180は、導波路140の温度を変化させることができる範囲で、基板の平面視において導波路140に重ならないように位置してもよい。
(compensation circuit)
As shown in FIG. 23, the wavelength multiplexing/demultiplexing element may include a waveguide 140 located on a substrate and a resistive element 180. Resistance element 180 is configured to heat waveguide 140 with heat generated by current flowing through resistance element 180, thereby changing the temperature of waveguide 140. Resistive element 180 may be positioned overlying waveguide 140 . As shown in FIG. 24, the resistive element 180 may be positioned so as to overlap at least a portion of the waveguide 140 when the substrate is viewed from above. The resistive element 180 may be located so as not to overlap the waveguide 140 in a plan view of the substrate, as long as the temperature of the waveguide 140 can be changed.

抵抗素子180は、例えばチタンナイトライド(TiN)を材料として構成されてよい。抵抗素子180は、TiNに限られず、基板上に導波路140を形成するプロセスに適合する他の種々の導電性材料を用いて構成されてよい。 The resistive element 180 may be made of, for example, titanium nitride (TiN). The resistive element 180 is not limited to TiN and may be made of various other conductive materials that are compatible with the process of forming the waveguide 140 on the substrate.

波長合分波素子は、抵抗素子180に電流を流すことで、導波路140の少なくとも一部の温度を変化させてよい。導波路140の少なくとも一部の温度が変化することによって、導波路140の少なくとも一部の屈折率が変化する。導波路140の少なくとも一部の屈折率が変化することによって、波長合分波素子の波長特性が変化する。したがって、波長合分波素子は、導波路140の少なくとも一部の温度を変化させることによって、波長合分波素子の波長特性を変化させることができる。波長合分波素子の波長特性は、製造公差又は周囲環境の影響を受けてばらつくことがある。波長合分波素子は、抵抗素子180を備えることによって、波長特性のばらつきを補償できる。 The wavelength multiplexing/demultiplexing element may change the temperature of at least a portion of the waveguide 140 by passing a current through the resistance element 180. By changing the temperature of at least a portion of waveguide 140, the refractive index of at least a portion of waveguide 140 changes. By changing the refractive index of at least a portion of the waveguide 140, the wavelength characteristics of the wavelength multiplexing/demultiplexing element change. Therefore, the wavelength multiplexer/demultiplexer can change the wavelength characteristics of the wavelength multiplexer/demultiplexer by changing the temperature of at least a portion of the waveguide 140. The wavelength characteristics of a wavelength multiplexing/demultiplexing element may vary due to manufacturing tolerances or the influence of the surrounding environment. By including the resistance element 180, the wavelength multiplexing/demultiplexing element can compensate for variations in wavelength characteristics.

具体的に、図25A及び図25Bに示されるように、波長合分波素子の波長特性は、抵抗素子180の消費電力に応じて変化する。図25Aは、波長合分波素子の導波路140がストリップ型である場合の波長合分波素子の波長特性を表す。図25Bは、波長合分波素子の導波路140がリブ型である場合の波長合分波素子の波長特性を表す。図25A及び図25Bにおいて、横軸は波長を表す。波長の単位はnm(ナノメートル)である。縦軸はパワーを表す。パワーの単位はdBm(デシベルミリワット)である。縦軸の値が大きいほど(グラフのプロットが上であるほど)、損失が小さい。 Specifically, as shown in FIGS. 25A and 25B, the wavelength characteristics of the wavelength multiplexing/demultiplexing element change depending on the power consumption of the resistive element 180. FIG. 25A shows the wavelength characteristics of the wavelength multiplexing/demultiplexing element when the waveguide 140 of the wavelength multiplexing/demultiplexing element is of a strip type. FIG. 25B shows the wavelength characteristics of the wavelength multiplexing/demultiplexing element when the waveguide 140 of the wavelength multiplexing/demultiplexing element has a rib type. In FIGS. 25A and 25B, the horizontal axis represents wavelength. The unit of wavelength is nm (nanometer). The vertical axis represents power. The unit of power is dBm (decibel milliwatt). The larger the value on the vertical axis (the higher the graph is plotted), the smaller the loss.

図25A及び図25Bにおいて、実線のグラフは、抵抗素子180の消費電力が0mW(ミリワット)である場合の波長特性を表す。つまり、実線のグラフは、抵抗素子180に電流を流していない場合の波長特性を表す。破線のグラフは、抵抗素子180の消費電力が10mW(ミリワット)である場合の波長特性を表す。一点鎖線のグラフは、抵抗素子180の消費電力が20mW(ミリワット)である場合の波長特性を表す。二点鎖線のグラフは、抵抗素子180の消費電力が30mW(ミリワット)である場合の波長特性を表す。図25A及び図25Bに示されるように、抵抗素子180の消費電力に応じて波長合分波素子の波長特性が調整される。波長合分波素子は、製造公差又は周囲環境に応じて抵抗素子180に流す電流を決定してよい。 In FIGS. 25A and 25B, the solid line graph represents the wavelength characteristics when the power consumption of the resistive element 180 is 0 mW (milliwatt). In other words, the solid line graph represents the wavelength characteristics when no current is flowing through the resistance element 180. The broken line graph represents wavelength characteristics when the power consumption of the resistive element 180 is 10 mW (milliwatt). The dashed-dotted line graph represents wavelength characteristics when the power consumption of the resistive element 180 is 20 mW (milliwatt). The graph of the two-dot chain line represents the wavelength characteristic when the power consumption of the resistance element 180 is 30 mW (milliwatt). As shown in FIGS. 25A and 25B, the wavelength characteristics of the wavelength multiplexing/demultiplexing element are adjusted according to the power consumption of the resistive element 180. The wavelength multiplexing/demultiplexing element may determine the current to be passed through the resistive element 180 depending on manufacturing tolerances or the surrounding environment.

本開示に係る実施形態について、諸図面及び実施例に基づき説明してきたが、当業者であれば本開示に基づき種々の変形又は改変を行うことが可能であることに注意されたい。従って、これらの変形又は改変は本開示の範囲に含まれることに留意されたい。例えば、各構成部などに含まれる機能などは論理的に矛盾しないように再配置可能であり、複数の構成部などを1つに組み合わせたり、或いは分割したりすることが可能である。本開示の範囲にはこれらも包含されるものと理解されたい。 Although embodiments according to the present disclosure have been described based on various drawings and examples, it should be noted that those skilled in the art can make various modifications or modifications based on the present disclosure. Therefore, it should be noted that these variations or modifications are included within the scope of this disclosure. For example, functions included in each component can be rearranged so as not to be logically contradictory, and a plurality of components can be combined into one or divided. It is to be understood that these are also encompassed within the scope of the present disclosure.

本開示において「第1」及び「第2」等の記載は、当該構成を区別するための識別子である。本開示における「第1」及び「第2」等の記載で区別された構成は、当該構成における番号を交換することができる。例えば、第1素子831-1は、第2素子831-2と識別子である「第1」と「第2」とを交換することができる。識別子の交換は同時に行われる。識別子の交換後も当該構成は区別される。識別子は削除してよい。識別子を削除した構成は、符号で区別される。本開示における「第1」及び「第2」等の識別子の記載のみに基づいて、当該構成の順序の解釈、小さい番号の識別子が存在することの根拠に利用してはならない。 In this disclosure, descriptions such as "first" and "second" are identifiers for distinguishing the configurations. For configurations that are distinguished by descriptions such as “first” and “second” in the present disclosure, the numbers in the configurations can be exchanged. For example, the first element 831-1 can exchange the identifiers "first" and "second" with the second element 831-2. The exchange of identifiers takes place simultaneously. Even after exchanging identifiers, the configurations are distinguished. Identifiers may be removed. Configurations with removed identifiers are distinguished by codes. The description of identifiers such as "first" and "second" in this disclosure should not be used to interpret the order of the configuration or to determine the existence of lower-numbered identifiers.

本開示において、X軸、Y軸、及びZ軸は、説明の便宜上設けられたものであり、互いに入れ替えられてよい。本開示に係る構成は、X軸、Y軸、及びZ軸によって構成される直交座標系を用いて説明されてきた。本開示に係る各構成の位置関係は、直交関係にあると限定されるものではない。 In the present disclosure, the X-axis, Y-axis, and Z-axis are provided for convenience of explanation, and may be interchanged with each other. Configurations according to the present disclosure have been described using a Cartesian coordinate system comprised of an X-axis, a Y-axis, and a Z-axis. The positional relationship of each component according to the present disclosure is not limited to being in an orthogonal relationship.

一実施形態において、(1)光集積回路は、方向性結合器と遅延線とを有する波長合分波素子を備え、前記波長合分波素子が複数段に縦続的に接続されている。 In one embodiment, (1) an optical integrated circuit includes a wavelength multiplexing/demultiplexing element having a directional coupler and a delay line, and the wavelength multiplexing/demultiplexing element is cascaded in a plurality of stages.

(2)上記(1)に記載の光集積回路において、前記波長合分波素子が4段に接続されていてよい。 (2) In the optical integrated circuit according to (1) above, the wavelength multiplexing/demultiplexing elements may be connected in four stages.

(3)上記(1)又は(2)に記載の光集積回路において、2段目より後ろに接続されている前記波長合分波素子は、前記方向性結合器のストレート側に出力ポートを有してよい。 (3) In the optical integrated circuit according to (1) or (2) above, the wavelength multiplexing/demultiplexing element connected after the second stage has an output port on the straight side of the directional coupler. You may do so.

(4)上記(1)から(3)までのいずれか1つに記載の光集積回路において、前記波長合分波素子がN段に接続されている第1複合素子と、前記波長合分波素子がM段に接続されている第2複合素子とが縦続的に接続されていてよい。 (4) In the optical integrated circuit described in any one of (1) to (3) above, a first composite element in which the wavelength multiplexing/demultiplexing elements are connected in N stages and a second composite element in which the wavelength multiplexing/demultiplexing elements are connected in M stages may be connected in cascade.

(5)上記(4)に記載の光集積回路において、2段目からN段目まで、又は、N+2段目からN+M段目までに接続されている前記波長合分波素子は、前記方向性結合器のストレート側に出力ポートを有してよい。 (5) In the optical integrated circuit according to (4) above, the wavelength multiplexing/demultiplexing elements connected from the second stage to the Nth stage or from the N+2nd stage to the N+Mth stage have the directionality The coupler may have an output port on the straight side.

(6)上記(1)から(5)までのいずれか1つに記載の光集積回路は、シリコンフォトニクスの技術によって形成されていてよい。 (6) The optical integrated circuit according to any one of (1) to (5) above may be formed using silicon photonics technology.

(7)上記(1)から(6)までのいずれか1つに記載の光集積回路において、前記波長合分波素子は、基板の上に位置する導波路と、前記導波路の少なくとも一部の温度を変化させるように構成される抵抗素子とを有してよい。 (7) In the optical integrated circuit described in any one of (1) to (6) above, the wavelength multiplexing/demultiplexing element may have a waveguide located on a substrate and a resistive element configured to change the temperature of at least a portion of the waveguide.

(8)上記(7)に記載の光集積回路において、前記抵抗素子の少なくとも一部は、前記基板の平面視において、前記導波路の少なくとも一部の上に重なるように位置してよい。 (8) In the optical integrated circuit described in (7) above, at least a portion of the resistive element may be positioned so as to overlap at least a portion of the waveguide in a plan view of the substrate.

(9)上記(7)又は(8)に記載の光集積回路において、前記抵抗素子は、チタンナイトライドを含んで構成されてよい。 (9) In the optical integrated circuit according to (7) or (8) above, the resistance element may include titanium nitride.

一実施形態において、(10)光レシーバは、上記(1)から(9)までのいずれか1つに記載の光集積回路を備える。 In one embodiment, (10) an optical receiver includes the optical integrated circuit according to any one of (1) to (9) above.

1 光レシーバ(81:入力部、82:偏光スプリッタローテータ(PSR)、822:偏光スプリッタ(PS)、83:分波器(DEMUX)、831-1~3:第1グループの第1~第3素子、832-1~6:第2グループの第1~第6素子、84:遅延器、85:可変光減衰器(VOA))
10 フォトダイオード
140 導波路
150 基板(151:絶縁層、152:クラッド層)
170 遅延線
180 抵抗素子
1 Optical receiver (81: input section, 82: polarization splitter rotator (PSR), 822: polarization splitter (PS), 83: demultiplexer (DEMUX), 831-1 to 3: 1st to 3rd of the 1st group elements, 832-1 to 6: first to sixth elements of second group, 84: delay device, 85: variable optical attenuator (VOA))
10 photodiode 140 waveguide 150 substrate (151: insulating layer, 152: cladding layer)
170 Delay line 180 Resistance element

Claims (10)

方向性結合器と遅延線とを有する波長合分波素子を備え、前記波長合分波素子が複数段に縦続的に接続されている、光集積回路。 1. An optical integrated circuit comprising a wavelength multiplexing/demultiplexing element having a directional coupler and a delay line, the wavelength multiplexing/demultiplexing element being cascaded in a plurality of stages. 前記波長合分波素子が4段に接続されている、請求項1に記載の光集積回路。 The optical integrated circuit according to claim 1, wherein the wavelength multiplexing/demultiplexing elements are connected in four stages. 2段目より後ろに接続されている前記波長合分波素子は、前記方向性結合器のストレート側に出力ポートを有する、請求項1に記載の光集積回路。 2. The optical integrated circuit according to claim 1, wherein the wavelength multiplexing/demultiplexing element connected after the second stage has an output port on the straight side of the directional coupler. 前記波長合分波素子がN段に接続されている第1複合素子と、前記波長合分波素子がM段に接続されている第2複合素子とが縦続的に接続されている、請求項1に記載の光集積回路。 The optical integrated circuit according to claim 1, in which a first composite element in which the wavelength multiplexing/demultiplexing elements are connected in N stages and a second composite element in which the wavelength multiplexing/demultiplexing elements are connected in M stages are connected in cascade. 2段目からN段目まで、又は、N+2段目からN+M段目までに接続されている前記波長合分波素子は、前記方向性結合器のストレート側に出力ポートを有する、請求項4に記載の光集積回路。 According to claim 4, the wavelength multiplexing/demultiplexing element connected from the second stage to the Nth stage or from the N+2nd stage to the N+Mth stage has an output port on the straight side of the directional coupler. The optical integrated circuit described. シリコンフォトニクスの技術によって形成されている、請求項1から5までのいずれか一項に記載の光集積回路。 The optical integrated circuit according to any one of claims 1 to 5, formed by silicon photonics technology. 前記波長合分波素子は、基板の上に位置する導波路と、前記導波路の少なくとも一部の温度を変化させるように構成される抵抗素子とを有する、請求項1から5までのいずれか一項に記載の光集積回路。 Any one of claims 1 to 5, wherein the wavelength multiplexing/demultiplexing element has a waveguide located on a substrate and a resistance element configured to change the temperature of at least a portion of the waveguide. The optical integrated circuit according to item 1. 前記抵抗素子の少なくとも一部は、前記基板の平面視において、前記導波路の少なくとも一部の上に重なるように位置する、請求項7に記載の光集積回路。 8. The optical integrated circuit according to claim 7, wherein at least a portion of the resistive element is located so as to overlap at least a portion of the waveguide in a plan view of the substrate. 前記抵抗素子は、チタンナイトライドを含んで構成される、請求項8に記載の光集積回路。 9. The optical integrated circuit according to claim 8, wherein the resistor element includes titanium nitride. 請求項1から5までのいずれか一項に記載の光集積回路を備える、光レシーバ。 An optical receiver comprising the optical integrated circuit according to any one of claims 1 to 5.
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