JP2024033602A - 乳房撮影装置 - Google Patents

Abstract

【課題】プロジェクタから出射される光の有効光束におけるケラレを抑制可能な乳房撮影装置を提供する。【解決手段】撮影台と、放射線源と、放射線源及び撮影台を支持するスタンドと、撮影台と放射線源との間で移動可能に配置され、スタンドに支持される圧迫板であって、乳房を圧迫する底板と、底板の被検者側とスタンド側の少なくとも２箇所に設けられる側板とを有する圧迫板と、放射線源よりもスタンド側に配置され、圧迫板および撮影台に向かって画像を投影するプロジェクタと、を備えており、スタンド側の側板における被検者側の面を側板の内壁面とした場合において、内壁面をプロジェクタ側に向けて延長した仮想面と、プロジェクタを水平方向に横切る仮想水平線との交点を仮想交点とした場合において、プロジェクタから圧迫板に向かう光路上における最も圧迫板側の光学素子が、仮想交点よりも被検者側に配置されている、乳房撮影装置。【選択図】図１０

Description

本開示は、乳房撮影装置に関する。

特許文献１には、Ｘ線を曝射するＸ線曝射手段と、検出面に入射したＸ線を検出するＸ線平面検出器と、乳房を圧迫し固定するための圧迫板と、圧迫板によって乳房を固定する際に参照される参照画像を、圧迫板上又は検出面上に投影する投影手段と、を具備することを特徴とする乳房撮影用Ｘ線診断装置が開示されている。特許文献１に記載の技術では、投影手段（例えば、プロジェクタ）を用いて乳房をポジショニングするための参照画像（例えば、スキンライン）を圧迫板又は検出面上に投影することが記載されている。

特開２００７－２３６８０５号公報

しかしながら、特許文献１に記載の技術では、プロジェクタから圧迫板に画像を投影する場合に生じる画像のケラレについては考慮されていない。

例えば、圧迫板は、乳房を圧迫する底板の周縁に複数の側板を有する箱型形状をしている場合がある。この場合、プロジェクタから出射される投影光の有効光束のうちの一部が、スタンド側の側板によって遮られることがある。この結果、圧迫板に投影される画像にケラレが生じ、圧迫板上の画像の視認性が低下する場合があった。

本開示の技術は、プロジェクタから出射される光の有効光束におけるケラレを抑制可能な乳房撮影装置を提供する。

本開示の技術に係る第１の態様は、被検者の乳房が載置される撮影台と、乳房に向けて放射線を照射する放射線源と、放射線源及び撮影台を直接的又は間接的に支持するスタンドと、撮影台と放射線源との間で移動可能に配置され、スタンドに直接的又は間接的に支持される圧迫板であって、乳房を圧迫する底板と、底板の被検者側とスタンド側の少なくとも２箇所に設けられる側板とを有する圧迫板と、放射線源よりもスタンド側に配置され、複数の光学素子を介して圧迫板および撮影台に向かって画像を投影するプロジェクタと、を備えており、スタンド側の側板における被検者側の面を側板の内壁面とした場合において、内壁面をプロジェクタ側に向けて延長した仮想面と、プロジェクタを水平方向に横切る仮想水平線との交点を仮想交点とした場合において、複数の光学素子のうち、プロジェクタから出射され圧迫板に向かう光の光路上における最も圧迫板側の光学素子が、仮想交点よりも被検者側に配置されている、乳房撮影装置である。

本開示の技術に係る第２の態様は、内壁面は、圧迫板の移動方向と平行であり、投影光学系が出射する有効光束の最もスタンド側に位置する光線は、移動方向と平行である、第１の態様に係る乳房撮影装置である。

本開示の技術に係る第３の態様は、底板の画像が投影される面において、内壁面が立ち上がる位置と、有効光束の最もスタンド側に位置する光線の投影位置とが一致する、第２の態様に係る乳房撮影装置である。

本開示の技術に係る第４の態様は、圧迫板がプロジェクタに最も近い位置にある場合において、底板の画像が投影される面において、画像の投影可能範囲は、内壁面よりも被検者側に位置する第２の態様に係る乳房撮影装置である。

本開示の技術に係る第５の態様は、内壁面は、底板の画像が投影される面の法線方向と平行である、第１の態様に係る乳房撮影装置である。

本開示の技術に係る第６の態様は、内壁面は、底板の画像が投影される面の法線方向に対して上端がスタンド側に向かって傾斜している、第１の態様に係る乳房撮影装置である。

本開示の技術に係る第７の態様は、画像は、乳房を撮影する際の撮影条件を示す情報を含み、圧迫板において、情報が投影される領域に対して光の透過を抑制する光透過抑制処理が施されている第１の態様に係る乳房撮影装置である。

本開示の技術は、プロジェクタから出射される光の有効光束におけるケラレを抑制可能な乳房撮影装置を提供することができる。

乳房撮影装置の構成の一例を示す外観斜視図である。 乳房撮影装置の使用態様の一例を示す外観斜視図である。 乳房撮影装置の構成の一例を示す外観側面図である。 乳房撮影装置の構成の一例を示すブロック図である。 乳房撮影装置における画像の投影の一例を示す側面図である。 乳房撮影装置における画像の投影の一例を示す模式図である。 プロセッサにおける画像生成処理の一例を示す機能ブロック図である。 比較例に係る乳房撮影装置における画像の投影の一例を示す側面図である。 乳房撮影装置における投影された画像の一例を示す平面図である。 乳房撮影装置における画像の投影の一例を示す側面図である。 圧迫板における画像の投影の一例を示す外観斜視図である。 乳房撮影装置における画像の投影の一例を示す側面図である。 乳房撮影装置における画像の投影の一例を示す側面図である。 乳房撮影装置における画像の投影の一例を示す側面図である。 圧迫板における画像の投影の一例を示す外観斜視図である。

以下、図面を参照して本開示の実施形態を詳細に説明する。

なお、以下の説明では、説明の便宜上、乳房撮影装置１０のスタンド２０の高さ方向を矢印Ｚで示し、矢印Ｚ方向を乳房撮影装置１０の上方向とし、乳房撮影装置１０の上方向の側を乳房撮影装置１０の上側とする。以下に示す構造の説明において、「上」とは、乳房撮影装置１０の上側を指す。また、以下の説明では、説明の便宜上、乳房撮影装置１０の上方向と逆の方向を乳房撮影装置１０の下方向とし、乳房撮影装置１０の下方向の側を乳房撮影装置１０の下側とする。以下に示す構造の説明において、「下」とは、乳房撮影装置１０の下側を指す。

また、以下の説明では、説明の便宜上、矢印Ｚ方向と直交する矢印Ｘ方向を右方向とし、乳房撮影装置１０の右方向の側を乳房撮影装置１０の右側とする。以下に示す構造の説明において、「右」とは、乳房撮影装置１０の右側を指す。

また、以下の説明では、説明の便宜上、矢印Ｘ方向と逆の方向を左方向とし、乳房撮影装置１０の左方向の側を乳房撮影装置１０の左側とする。以下に示す構造の説明において、「左」とは、乳房撮影装置１０の左側を指す。

また、以下の説明では、説明の便宜上、矢印Ｚ方向及び矢印Ｘ方向と直交する方向を矢印Ｙで示し、矢印Ｙ方向を乳房撮影装置１０の前方向とし、乳房撮影装置１０の前方向の側を乳房撮影装置１０の前側とする。以下に示す構造の説明において、「前」とは、乳房撮影装置１０の前側を指す。

また、以下の説明では、説明の便宜上、乳房撮影装置１０の前方向と逆の方向を乳房撮影装置１０の後方向とし、乳房撮影装置１０の後方向の側を乳房撮影装置１０の後側とする。以下に示す構造の説明において、「後」とは、乳房撮影装置１０の後側を指す。

また、本実施形態において、「鉛直方向」とは、完全な鉛直方向の他に、本開示の技術が属する技術分野で一般的に許容される誤差であって、本開示の技術の趣旨に反しない程度の誤差を含めた意味合いでの鉛直方向を指す。また、「水平方向」についても同様であり、完全な水平方向の他に、本開示の技術が属する技術分野で一般的に許容される誤差であって、本開示の技術の趣旨に反しない程度の誤差を含めた意味合いでの水平方向を指す。

図１～図３に示すように、第１実施形態に係る乳房撮影装置１０は、被写体となる被検者Ｆの乳房Ｍ（図４参照）に放射線を照射して、乳房Ｍの放射線画像を撮影する放射線撮影装置である。放射線は一例としてＸ線であるが、γ線でもよい。被検者Ｆは、乳房撮影装置１０に対して前方側に位置する。被検者Ｆは、本開示の技術に係る「被検者」の一例である。

乳房撮影装置１０は、図示しないコンソールに接続されている。コンソールは撮影オーダに応じて乳房撮影装置１０を設定する設定機能の他、乳房撮影装置１０が撮影した放射線画像を取得して、取得した放射線画像を表示する機能を有する。コンソールは、ＬＡＮ（Ｌｏｃａｌ Ａｒｅａ Ｎｅｔｗｏｒｋ）等のネットワーク（図示せず）を介して、画像データベースサーバ（図示せず）と通信可能に接続されている。

乳房撮影装置１０は、スタンド２０とアーム２１とを有する。スタンド２０は、放射線撮影室の床面に設置される台座２０Ａと、台座２０Ａから高さ方向に延びる支柱２０Ｂとで構成される。アーム２１は、横から見た形状が略Ｃ字状であり、支柱２０Ｂに接続されている。アーム２１は、支柱２０Ｂに対して高さ方向に移動可能であることにより、被検者Ｆの身長に応じた高さ調節が可能である。また、アーム２１は、支柱２０Ｂに垂直な回転軸回りに回転可能である。スタンド２０は、本開示の技術に係る「スタンド」の一例である。

アーム２１は、線源収容部２２、本体部２３、及び撮影台２４で構成される。線源収容部２２には放射線源２５が収容されている。撮影台２４には、被検者Ｆの乳房Ｍが載置される。撮影台２４は、本開示の技術に係る「撮影台」の一例である。撮影台２４には放射線検出器２６が収容されている。本体部２３は、線源収容部２２と撮影台２４とを一体的に接続する。本体部２３は、線源収容部２２と撮影台２４とを対向する位置に保持する。本体部２３の両側には、被検者Ｆが把持するための手すり２７が設けられている。

上述したように、アーム２１は、スタンド２０の支柱２０Ｂに対して接続されている。また、アーム２１は、線源収容部２２及び撮影台２４を有しており、線源収容部２２には放射線源２５が収容されている。すなわち、アーム２１を介して放射線源２５及び撮影台２４がスタンド２０により支持されている。

放射線源２５は、撮影台２４に載置された乳房Ｍに向けて放射線を照射する。放射線源２５は、本開示の技術に係る「放射線源」の一例である。放射線源２５から出射された放射線は、圧迫板３０を透過した後、乳房Ｍに入射する。放射線検出器２６は、乳房Ｍを透過した放射線を検出して放射線画像を出力する。放射線検出器２６は、ＦＰＤ（Ｆｌａｔ Ｐａｎｅｌ Ｄｅｔｅｃｔｏｒ)と呼ばれる。放射線検出器２６は、放射線を可視光に変換するシンチレータを有し、シンチレータが発する可視光を電気信号に変換する間接変換型でもよいし、放射線を直接電気信号に変換する直接変換型でもよい。

線源収容部２２と撮影台２４との間には、照射野限定器３１が設けられている。照射野限定器３１はコリメータとも呼ばれ、撮影台２４への放射線の照射野を規定する。

線源収容部２２には、フェイスガード３２が取り付けられている。フェイスガード３２は、放射線が透過しない材料で形成、又はコーティングされており、被検者Ｆの顔を放射線から防護する。

撮影台２４と照射野限定器３１との間には、乳房Ｍを撮影台２４との間に挟んで圧迫する圧迫板３０が設けられている。圧迫板３０は、本開示の技術に係る「圧迫板」の一例である。圧迫板３０は、放射線が透過する材料で形成されている。圧迫板３０は、撮影台２４と対向する位置に配置されている。

圧迫板３０は、底板３０Ａを備えている。底板３０Ａは、撮影台２４との間に乳房Ｍを挟むことにより、乳房Ｍを圧迫する。また、圧迫板３０は、底板３０Ａの後方端に設けられた後端壁３０Ｂ、及び底板３０Ａの前方端に設けられた前端壁３０Ｃを備えている。本実施形態では、圧迫板３０を、上面側が開口された箱形状としているが、これはあくまでも一例にすぎず、圧迫板３０は、少なくとも後端壁３０Ｂ及び前端壁３０Ｃを備えていれば本開示の技術は成立する。底板３０Ａは、本開示の技術に係る「底板」の一例である。後端壁３０Ｂ及び前端壁３０Ｃは、本開示の技術に係る「側板」の一例である。後端壁３０Ｂは、本開示の技術に係る「スタンド側の側板」の一例である。

線源収容部２２には、プロジェクタ１４が収容されている。プロジェクタ１４は、線源収容部２２において、放射線源２５よりも後側に配置されている。プロジェクタ１４は、撮影台２４の撮影面２４Ａに向けて画像を投影する。ここで、撮影面２４Ａは、撮影台２４において、放射線源２５と対向する面である。また、プロジェクタ１４は、圧迫板３０における放射線源２５と対向する面に向けて画像を投影する。ここで、圧迫板３０における放射線源２５と対向する面は、圧迫板３０の底板３０Ａである。プロジェクタ１４は、本開示の技術に係る「プロジェクタ」の一例である。

駆動機構３５は、放射線源２５と撮影台２４との間で移動可能に圧迫板３０を支持している。また、可動部３４は、圧迫板３０と駆動機構３５との間に配置されている。可動部３４は、駆動機構３５に設けられたレール２８に摺動自在に保持されている。レール２８は、上下方向に延伸している。

圧迫板３０は、可動部３４に取り付けられている。可動部３４は、後述する駆動機構３５によって、圧迫板３０と一緒に上下方向に移動する。上下方向は、機能的には、圧迫板３０が撮影台２４に向かう方向（下方向）と、及び圧迫板３０が撮影台２４から離れる方向（上方向）である。このように、圧迫板３０は、撮影台２４との間隔（後述する高さｈに相当）を変化させる態様で移動可能に構成されている。

可動部３４を介して圧迫板３０が駆動機構３５に取り付けられている。また、駆動機構３５は、撮影台２４に設けられている。さらに、上述したように、撮影台２４は、アーム２１を介してスタンド２０に支持されている。従って、圧迫板３０がスタンド２０によって間接的に支持されている。

図４に示すように、乳房撮影装置１０は、制御装置１６を備えている。制御装置１６は、放射線源２５、放射線検出器２６、アーム２１、駆動機構３５及びプロジェクタ１４など、乳房撮影装置１０の各部の動作を統括的に制御する。図４においては、制御装置１６の制御対象を、駆動機構３５及びプロジェクタ１４に絞って示し、他は省略している。

制御装置１６は、例えば、プロセッサ１６Ａと、ＲＡＭ（Random Access Memory）１６Ｂと、ＮＶＭ（Non-volatile memory）１６Ｃと、外部Ｉ／Ｆ（Inter Face)１６Ｄとを備える。プロセッサ１６Ａ、ＲＡＭ１６Ｂ、ＮＶＭ１６Ｃ、及び外部Ｉ／Ｆ１６Ｄは、バス１６Ｅを介して電気的に接続されている。

例えば、プロセッサ１６Ａは、例えば、ＣＰＵ（Central Processing Unit）であり、各部を制御する他、後述するように画像処理を行う。また、ＲＡＭ１６Ｂは、一時的に情報が格納されるメモリであり、プロセッサ１６Ａによってワークメモリとして用いられる。ＮＶＭ１６Ｃは、各種プログラム及び各種パラメータ等を記憶する不揮発性の記憶装置である。ＮＶＭ１６Ｃの一例としては、フラッシュメモリ（例えば、ＥＥＰＲＯＭ（Electrically Erasable and Programmable Read Only Memory）及び／又はＳＳＤ（Solid State Drive））が挙げられる。なお、フラッシュメモリは、あくまでも一例に過ぎず、ＨＤＤ（Hard Disk Drive）等の他の不揮発性の記憶装置であってもよいし、２種類以上の不揮発性の記憶装置の組み合わせであってもよい。

外部Ｉ／Ｆ１６Ｄは、制御装置１６と、プロジェクタ１４及び駆動機構３５との間の情報の授受を司る。外部Ｉ／Ｆ１６Ｄは、例えば、プロジェクタ１４に対して、投影する画像を表す投影光Ｌを出射させるための信号を出力する。また、外部Ｉ／Ｆ１６Ｄは、例えば、駆動機構３５に対して、駆動機構３５の動作を制御するための信号を出力する。

プロジェクタ１４は、投影する画像を表示する表示器１４Ａと、表示器１４Ａに表示された画像を拡大投影する投影光学系１４Ｄとを備えている（図５も参照）。制御装置１６は、表示器１４Ａの画像表示面１４Ａ１における画像の表示を制御する。表示器１４Ａの一例としては、ＬＣＤ（Liquid Crystal Display）又はＤＭＤ（Digital Micro mirror Device）が挙げられる。ＤＭＤは、周知のように、複数の画素に対応する複数のマイクロミラーを備えている。一例として、各マイクロミラーの角度を変化させることにより、光源からの光を投影光学系１４Ｄに入射させるオン光と、投影光学系１４Ｄに入射しないオフ光とに反射方向を変更する。そして、オン光の継続時間によって画素毎の光量が調整される。このように複数の画素に対応する複数のマイクロミラーの角度変化によって、投影する画像の情報を投影光Ｌに載せる光変調を行う。表示器１４ＡがＤＭＤの場合は、複数のマイクロミラーが二次元に配列された配列面が画像表示面１４Ａ１に相当し、投影する画像に応じたマイクロミラーの制御が画像表示に相当する。ＬＣＤは、周知のように、複数の画素に対応する複数の液晶セルを備えており、液晶セル毎に光源からの光の透過状態を変化させることで、投影する画像に応じた光変調を行う。表示器１４ＡがＬＣＤの場合は、複数の液晶セルが二次元に配列された配列面が画像表示面１４Ａ１に相当する。図４及び図５においては、模式的に表示器１４Ａを示しているが、表示器１４Ａには光源が含まれている。また、表示器１４Ａとしては、有機ＥＬなどの自発光型の発光素子を二次元に配列し、これを画像表示面１４Ａ１として機能させるものでもよい。

表示器１４Ａから出射された投影光Ｌは、投影光学系１４Ｄに入射し、投影光学系１４Ｄを通過して、圧迫板３０の底板３０Ａに投影される。また、圧迫板３０を通過した投影光Ｌは、撮影台２４の撮影面２４Ａに投影される。投影光学系１４Ｄは、複数の光学素子を含んで構成され、表示器１４Ａにおいて生成された画像を拡大して圧迫板３０及び撮影台２４へ向けて投影する。投影光学系１４Ｄは、プロジェクタ１４の本体内部に内蔵された内蔵光学系１４Ｂ（図５参照）と、プロジェクタ１４の本体外部に配置された光学素子とで構成される。例えば、内蔵光学系１４Ｂは、光学素子として１枚以上のレンズ１４Ｂ１を含む。本体外部に配置された光学素子は、本例ではミラー１４Ｃ（図５参照）である。ミラー１４Ｃは、例えば、内蔵光学系１４Ｂの光軸に対して４５°傾斜した姿勢で配置されており、内蔵光学系１４Ｂから出射された投影光Ｌの進路を圧迫板３０及び撮影台２４に向けて９０°変更する。投影光学系１４Ｄは、本開示の技術に係る「複数の光学素子」の一例である。

駆動機構３５は、モータドライバ３５Ａ、モータ３５Ｂ、及びエンコーダ３５Ｃを含んでいる。モータドライバ３５Ａは、外部Ｉ／Ｆ１６Ｄを介してプロセッサ１６Ａから出力された信号に基づいて、モータ３５Ｂを動作させる。モータ３５Ｂは、モータドライバ３５Ａが出力する電気的な駆動信号に応じて回転し、図示しない動力伝達機構（例えば、送りねじ機構）を介して、圧迫板３０を移動させる。エンコーダ３５Ｃは、モータ３５Ｂの回転の機械的変位量を電気信号に変換し、プロセッサ１６Ａに対して出力する。

エンコーダ３５Ｃは、圧迫板３０の移動量を検出するために用いられる。エンコーダ３５Ｃは、例えば、光を透過する複数の小孔が一定間隔で円周上に配列され、モータ３５Ｂの回転軸とともに回転する回転板と、フォトセンサとを組み合わせたロータリーエンコーダである。ロータリーエンコーダは、周知のように回転板の回転に伴って小孔から間欠的に出力されるパルス光をフォトセンサで受光し、受光したパルス光の数に応じたエンコーダパルスを出力する。エンコーダパルスは、モータ３５Ｂの回転の機械的変位量を表す電気信号の一例である。プロセッサ１６Ａは、エンコーダパルスをカウントすることにより、モータ３５Ｂの回転量を導出し、導出した回転量から圧迫板３０の移動量を検出する。なお、エンコーダ３５Ｃは、ロータリーエンコーダの代わりに、圧迫板３０の移動量を検出するリニアエンコーダでもよい。また、モータ３５Ｂとしてパルスモータを使用し、プロセッサ１６Ａがモータ３５Ｂに出力する駆動パルスをカウントすることにより、圧迫板３０の移動量を検出してもよい。

図５及び図６に示すように、乳房撮影装置１０では、プロジェクタ１４から投影光Ｌを出射させることにより、情報を撮影面２４Ａ及び圧迫板３０の底板３０Ａに投影する。プロジェクタ１４は、撮影面２４Ａ及び圧迫板３０の底板３０Ａのそれぞれに異なる情報を投影することが可能である。

圧迫板３０の底板３０Ａには、撮影条件を示す情報である撮影条件情報５０が投影される。撮影条件とは、例えば、乳房Ｍに対する現在の圧迫圧力、圧迫厚みｔ、撮影手技の種類が挙げられる。圧迫圧力は、例えば、乳房Ｍを圧迫板３０で圧迫した場合に圧迫板３０に加わる反力を圧力測定器（図示せず）によって計測することにより求められる。圧力測定器は例えば撮影台２４に設けられる。圧迫厚みｔは、乳房Ｍを圧迫した状態における圧迫板３０の撮影面２４Ａに対する高さを計測することにより求められる。圧迫板３０の高さは、例えば、エンコーダ３５Ｃによって検出される圧迫板３０の移動量に基づいて計測される。撮影手技としては、例えば、乳房Ｍを被検者Ｆの頭尾方向から圧迫して撮影するＣＣ撮影（CC; Cranio-Caudal)、乳房Ｍを被検者Ｆの頭尾方向に対して傾斜した方向から圧迫して撮影するＭＬＯ撮影(MLO; Medio-Lateral）などがある。撮影手技は、例えば、予め操作者によって入力される。また、その他の撮影条件として、例えば、過去の撮影条件（圧迫圧力、圧迫厚みｔ、及び撮影手技の種類など）が挙げられる。さらに、その他の撮影条件として、被検者Ｆを特定可能な情報（例えば、被検者Ｆの氏名、性別、年齢、又は被検者ＩＤ（identification）等）が挙げられる。さらに、その他の撮影条件として、乳房撮影検査に関する情報（検査日時、検査実施者、放射線照射時間、又は放射線照射時の線源の出力若しくは管電圧等）が挙げられる。撮影条件情報５０は、本開示の技術に係る「情報」の一例である。

圧迫板３０の底板３０Ａにおいて、撮影条件情報５０が投影される領域５１には、光の透過を抑制する処理が施されている。図６に示す例では、撮影条件情報５０が投影される領域５１に、粗面化処理が施されている。これにより、撮影条件情報５０を表す投影光Ｌが圧迫板３０を透過しにくくなり、圧迫板３０上での反射光量が増加する。これにより、圧迫板３０上において撮影条件情報５０が明瞭に視認される。ここで、粗面化処理の一例としては、ブラスト加工が挙げられる。また、光の透過を抑制する処理のその他の例としては、圧迫板３０に撮影条件情報５０が投影される領域５１に投影光Ｌに対して不透明な部材が取り付けられてもよい。例えば、圧迫板３０の領域５１にシールが貼り付けられる態様であってもよい。

圧迫板３０の領域５１以外の部分は、投影光Ｌに対して透明な材質である。このため、圧迫板３０を透過した投影光Ｌは、撮影面２４Ａに投影される。撮影面２４Ａ上には、乳房Ｍを載置する際の指標となる乳房Ｍの輪郭を示すスキンライン２４Ｂが投影される。スキンライン２４Ｂの示す乳房Ｍの輪郭は、過去の検査において撮影した検査画像から乳房Ｍの輪郭を抽出することにより得られる。撮影面２４Ａと放射線検出器２６の検出面との相対的な位置関係は既知であるため、放射線検出器２６で検出された検査画像に写るスキンラインの位置から、撮影面２４Ａ上において投影すべきスキンライン２４Ｂの投影位置を導出することができる。このように過去の検査時のスキンライン２４Ｂを表示することで、過去の検査時と同じ位置で乳房Ｍを撮影することが可能となり、経過観察を行う際などに有効である。

撮影台２４の撮影面２４Ａ上には、被検者Ｆの乳房Ｍがユーザによってポジショニングされる。乳房Ｍがポジショニングされた状態で、圧迫板３０により乳房Ｍが圧迫される。そして、図５及び図６に示すように、圧迫板３０には、撮影条件情報５０が投影され、さらに撮影面２４Ａには、スキンライン２４Ｂが投影される。なお、撮影面２４Ａには、スキンライン２４Ｂに代えて、又はスキンライン２４Ｂとともに乳房Ｍの乳頭の位置を示すマーク（例えば、乳頭の位置に交点を有する十字のマーク）が投影されてもよい。

投影光学系１４Ｄの投影倍率は、例えば、画像表示面１４Ａ１に表示可能な最大サイズの画像が、撮影面２４Ａの範囲内に収まるように設定されている。このため、画像表示面１４Ａ１に表示される情報のうち、撮影面２４Ａに到達する投影光Ｌが担持する情報は、すべて撮影面２４Ａに投影される。

ここで、圧迫板３０は、上下方向（図５中に示すＺ方向に沿った方向）に移動する。これにより、圧迫板３０とプロジェクタ１４との間の距離が変化する。そのため、投影光学系１４Ｄの投影倍率が固定されていても、プロジェクタ１４から圧迫板３０までの画像の投影距離が変化するため、圧迫板３０における投影可能範囲Ｒ（図１０参照）が変化する。より具体的には、圧迫板３０における撮影条件情報５０の表示サイズが変化する。例えば、圧迫板３０がプロジェクタ１４に最も近い側で、撮影条件情報５０の表示サイズが最も小さくなり、プロジェクタ１４から離れるほど、撮影条件情報５０の表示サイズが大きくなる。そして、プロジェクタ１４から最も離れた位置で、撮影条件情報５０の表示サイズが最も大きくなる。また、圧迫板３０に対して投影光Ｌの光束が入射する向きによっては、表示サイズが変化することにより、圧迫板３０内における表示位置が変化する場合もある。このように、圧迫板３０が移動することで、撮影条件情報５０の表示サイズ及び表示位置の少なくとも一方が変化してしまうので、撮影条件情報５０が圧迫板３０からはみ出したり、撮影条件情報５０が小さすぎて内容の判読ができなかったりする。この結果、ユーザによる撮影条件情報５０の視認性が低下する。

一方、撮影面２４Ａでは、プロジェクタ１４からの投影距離が一定の為、プロジェクタ１４から投影されるスキンライン２４Ｂの表示サイズは変化しない。また、上述したようにプロジェクタ１４の投影光学系１４Ｄのピントも撮影面２４Ａまでの距離に応じて予め調整されている。投影光学系１４Ｄのピントは、例えば、投影光学系１４Ｄの光学素子の配置、及び撮影面２４Ａとプロジェクタ１４との距離等に基づいて光学的に設定される。例えば、投影光学系１４Ｄのピントは、撮影面２４Ａと、統計的に求められた乳房Ｍの厚みｔ分、撮影面２４Ａからプロジェクタ１４に近い位置との範囲内に調整されている。ここで、統計的に求められた乳房Ｍの厚みｔとは、例えば、複数の被検者Ｆの乳房Ｍの厚みｔの平均値であるが、これはあくまでも一例にすぎない。例えば、統計的に求められた乳房Ｍの厚みｔは、複数の被検者Ｆの乳房Ｍの厚みｔの最頻値であってもよいし、中央値であってもよい。本例では、投影光学系１４Ｄのピントは、撮影面２４Ａにあっている。

このように、乳房撮影装置１０では、プロジェクタ１４からの投影距離が変化する圧迫板３０において、撮影条件情報５０を投影させ、かつ投影距離の変化しない撮影面２４Ａにおいて、スキンライン２４Ｂを投影する。

そこで、図６に示すように、プロセッサ１６Ａは、１台のプロジェクタ１４の表示器１４Ａを制御することにより、撮影面２４Ａにはスキンライン２４Ｂを、圧迫板３０の底板３０Ａに対しては撮影条件情報５０をというように、投影距離が異なる２つの面に対する適切な投影を実現している。まず、プロジェクタ１４の表示器１４Ａに表示される情報は、撮影条件情報５０とスキンライン２４Ｂとを含む画像５２である（図６、図９及び図１１参照）。そして、プロセッサ１６Ａは、表示器１４Ａを制御することにより、画像表示面１４Ａ１において、スキンライン２４Ｂの表示サイズ及び表示位置とは独立に、画像５２の撮影条件情報５０の表示サイズ及び表示位置を圧迫板３０の移動に応じて変化させる。また、プロセッサ１６Ａは、表示器１４Ａの画像表示面１４Ａ１における画像５２のスキンライン２４Ｂの表示サイズ及び表示位置を予め設定する。画像５２は、本開示の技術に係る「画像」の一例である。

図７に示すように、プロセッサ１６Ａは、表示器１４Ａに表示させるための画像５２を生成する画像生成処理を実行する。先ず、プロセッサ１６Ａは、画像５２における撮影条件情報５０を取得する。例えば、プロセッサ１６Ａは、圧力測定器の計測値及び圧迫板３０の高さから、撮影条件情報５０の圧迫厚みｔ及び圧迫力等を取得する。また、プロセッサ１６Ａは、操作者の入力情報から、撮影手技を取得する。また、プロセッサ１６Ａは、過去に撮影された乳房Ｍの検査画像から導出されたスキンライン２４Ｂの情報（スキンライン２４Ｂの形状及び位置を表す座標情報）を取得する。そして、プロセッサ１６Ａは、取得した撮影条件情報５０及びスキンライン２４Ｂに基づいて、それぞれの情報を表す画像５２Ａ及び５２Ｂを生成する。そして、プロセッサ１６Ａは、２つの画像５２Ａ及び５２Ｂを合成し、撮影条件情報５０及びスキンライン２４Ｂを含む画像５２を生成する。

さらに、プロセッサ１６Ａは、圧迫板３０の位置及び圧迫板３０における投影可能範囲Ｒに応じて、生成された画像５２内における撮影条件情報５０の表示サイズ及び表示位置を調整する。一方、撮影面２４Ａまでの投影距離は固定であるため、画像５２のうち、撮影面２４Ａに投影されるスキンライン２４Ｂについては、圧迫板３０の位置に応じた表示サイズ及び表示位置は行われない。すなわち、プロセッサ１６Ａは、画像５２内におけるスキンライン２４Ｂの表示サイズ及び表示位置に対する調整とは独立して、撮影条件情報５０に対する表示サイズ及び表示位置の調整を行う。

プロセッサ１６Ａは、上述したとおり、駆動機構３５のエンコーダ３５Ｃ（図４参照）からのエンコーダパルスをカウントすることにより、圧迫板３０の移動量を検出する。そして、検出した移動量に応じて圧迫板３０の位置を求める。プロセッサ１６Ａは、圧迫板３０の位置に基づいて画像５２内における撮影条件情報５０の表示サイズ及び表示位置を調整する。このように、圧迫板３０の位置（すなわち、撮影面２４Ａからの高さｈ）に応じた画像５２が生成される。図７において、画像生成処理によって生成される高さに応じた画像５２は、圧迫板３０の位置に応じて撮影条件情報５０の表示位置及び表示サイズが変化している様子を示している。

プロセッサ１６Ａは、圧迫板３０の位置に応じた画像５２を示す信号をプロジェクタ１４の表示器１４Ａに対して出力する。表示器１４Ａは、プロセッサ１６Ａから取得した信号に基づいて、画像表示面１４Ａ１において画像５２を表示する。そして、プロジェクタ１４は、投影光学系１４Ｄを介して、画像５２を示す投影光Ｌを出射する。このように、撮影条件情報５０の表示サイズ及び表示位置は、圧迫板３０の位置に応じて調整される。

ここで、図８に示すように、比較例の乳房撮影装置１０Ａを考える。上述したように線源収容部２２には、放射線源２５及び照射野限定器３１が収容されている。乳房撮影装置１０Ａにおいて、プロジェクタ１４は、放射線源２５及び照射野限定器３１との干渉を避けるために、水平方向（図８に示すＹ方向に沿った方向）において、放射線源２５及び照射野限定器３１よりもスタンド２０側に配置されている。すなわち、プロジェクタ１４は、放射線源２５及び照射野限定器３１よりも後方側に配置されている。これにより、プロジェクタ１４が放射線照射範囲から外れるので、乳房Ｍの撮影において放射線がプロジェクタ１４によって遮られることが抑制される。

しかし、プロジェクタ１４をスタンド２０側（すなわち、後方側）に配置するということは、プロジェクタ１４から出射される投影光Ｌの出射点も後方に移動することを意味する。上述したように、圧迫板３０は、箱形状とされており、圧迫板３０は、後端壁３０Ｂを備えている。そのため、プロジェクタ１４から出射される投影光Ｌの有効光束Ｅのうちの一部が、後端壁３０Ｂによって遮られることがある。すなわち、投影光Ｌは、ある広がり角をもって出射点から広がるため、圧迫板３０を側面視した場合（すなわち、図８に示すＸ方向に沿った方向で見た場合）において、有効光束Ｅの範囲内に後端壁３０Ｂが入ることがある。ここで、有効光束Ｅとは、プロジェクタ１４が出射する光束のうち、投影する画像５２の情報を含む光束を指す。有効光束Ｅは、本開示の技術に係る「有効光束」の一例である。

また、乳房撮影装置１０において、圧迫板３０は、上下方向（図８中に示すＺ方向に沿った方向）に移動する。これにより、圧迫板３０とプロジェクタ１４との間の距離が変化するため、圧迫板３０の後端壁３０Ｂによって有効光束Ｅの一部が遮られやすくなる。すなわち、圧迫板３０がプロジェクタ１４側へ移動すると、有効光束Ｅの範囲内に後端壁３０Ｂが入りやすくなる。

図９に示すように、有効光束Ｅの一部が後端壁３０Ｂによって遮られると、圧迫板３０に投影される画像５２の一部が欠ける（いわゆる、ケラレＫが発生する）。このため、圧迫板３０に投影される撮影条件情報５０の判読が困難になるなど、撮影条件情報５０の視認性が低下する場合がある。図９においてはケラレＫを模式的にハッチングで示しているが、実際には、ケラレＫが生じた場合は、撮影条件情報５０の一部が欠けてしまうことになる。

そこで、本実施形態に係る乳房撮影装置１０では、プロジェクタ１４の投影光学系１４Ｄにおける最も圧迫板３０側の光学素子を仮想交点Ｃよりも前方に配置している。仮想交点Ｃとは、後端壁３０Ｂの前面３０Ｂ１を延長した仮想面Ａと、水平方向においてプロジェクタ１４を横切る仮想水平線Ｂとの交点である。

図１０及び図１１に示すように、プロジェクタ１４の投影光学系１４Ｄは、ミラー１４Ｃを含んでいる。投影光Ｌは、ミラー１４Ｃで反射された後、圧迫板３０及び撮影台２４へ向けて出射される。換言すれば、ミラー１４Ｃは、投影光学系１４Ｄの投影光Ｌの光路上において最も圧迫板３０側に配置されている。ミラー１４Ｃは、本開示の技術に係る「最も圧迫板側の光学素子」の一例である。

上述したように圧迫板３０は、後端壁３０Ｂを備えている。後端壁３０Ｂは、圧迫板３０の後端において、鉛直方向上方（すなわち、図１０に示すＺ方向）へ立ち上がる壁である。換言すれば、乳房撮影装置１０において、後端壁３０Ｂは、放射線源２５へ向かって立ち上がっている。後端壁３０Ｂは、前側の面（すなわち、被検者Ｆ側の面）である前面３０Ｂ１を有する。前面３０Ｂ１は、底板３０Ａの法線方向と平行とされている。本実施形態において、「平行」とは完全な平行の他に、本開示の技術が属する技術分野で一般的に許容される誤差であって、本開示の技術の趣旨に反しない程度の誤差を含めた意味合いでの平行を指す。前面３０Ｂ１は、本開示の技術に係る「内壁面」の一例である。

仮想面Ａは、圧迫板３０の後端壁３０Ｂにおいて、前面３０Ｂ１を仮想的に上方に向けて延長した平面である。従って、仮想面Ａも底板３０Ａの法線方向に平行となっている。底板３０Ａの法線方向は、例えば鉛直方向である。仮想面Ａは、本開示の技術に係る「仮想面」の一例である。

仮想水平線Ｂは、水平方向（すなわち、図１０に示すＹ方向に沿った方向）において、プロジェクタ１４を横切る仮想的な水平線（すなわち、水平方向沿った直線）である。ここで、プロジェクタ１４を横切るとは、プロジェクタ１４の高さＰＨ（すなわち、図１０に示すＺ方向に沿った方向における距離）の範囲内で、プロジェクタ１４と交差することを指す。そして、仮想交点Ｃは、仮想面Ａと仮想水平線Ｂとの仮想的な交点である。仮想水平線Ｂは、本開示の技術に係る「仮想水平線」の一例である。また、仮想交点Ｃは、本開示の技術に係る「仮想交点」の一例である。

ミラー１４Ｃは、仮想交点Ｃよりも前方に配置されている。すなわち、ミラー１４Ｃは、仮想交点Ｃよりも被検者Ｆ側に配置されている。ここで、ミラー１４Ｃが仮想交点Ｃよりも前方に配置されているとは、ミラー１４Ｃのうちの投影光Ｌの反射に供される部位（例えば、鏡面の一部）が仮想交点Ｃよりも前方に配置されていることを指す。ミラー１４Ｃが、仮想交点Ｃよりも前方に配置されていることで、投影光Ｌの出射点が後端壁３０Ｂよりも前方に位置する。

ここで、圧迫板３０の移動方向は、底板３０Ａの法線方向に沿っている。また、後端壁３０Ｂの前面３０Ｂ１も底板３０Ａの法線方向に平行となっている。すなわち、圧迫板３０の移動方向と後端壁３０Ｂの前面３０Ｂ１とは、平行となっている。また、圧迫板３０を側面視した場合（すなわち、図１０に示すＸ方向に沿った方向で見た場合）において、有効光束Ｅの後方端に位置する光線Ｅ１は、圧迫板３０の移動方向と平行となっている。有効光束Ｅの後方端に位置する光線Ｅ１は、有効光束Ｅに含まれる光の中で後端壁３０Ｂによって最も遮られやすい。有効光束Ｅの後方端に位置する光線Ｅ１が、圧迫板３０の移動方向と平行なため、圧迫板３０が移動しても、有効光束Ｅの後方端に位置する光線Ｅ１が、後端壁３０Ｂによって遮られることが抑制される。すなわち、光線Ｅ１が底板３０Ａの法線方向に沿って圧迫板３０に向かって出射され、さらに後端壁３０Ｂの前面３０Ｂ１も底板３０Ａの法線方向に沿っている。従って、後端壁３０Ｂの前面３０Ｂ１によって光線Ｅ１の進行が妨げられることが抑制される。

上述したように、投影光Ｌが圧迫板３０に向かって出射することで、圧迫板３０の底板３０Ａに画像５２のうちの撮影条件情報５０が投影される。図１１に示すように、後端壁３０Ｂが立ち上がる前方側の位置Ｐと、有効光束Ｅの後方端に位置する光線Ｅ１の投影位置とが一致している。換言すれば、後端壁３０Ｂの立ち上がる前方側の位置Ｐと、画像５２の後方端とが一致している。本実施形態において、「一致」とは、完全な一致の他に、本開示の技術が属する技術分野で一般的に許容される誤差であって、本開示の技術の趣旨に反しない程度の誤差を含めた意味合いでの一致を指す。

光線Ｅ１は、圧迫板３０の底板３０Ａの法線方向に沿って圧迫板３０に出射される。圧迫板３０も底板３０Ａの法線方向に沿って移動する。このため、位置Ｐと光線Ｅ１の投影位置とが一致した状態で、圧迫板３０が移動可能である。従って、圧迫板３０が移動しても有効光束Ｅの一部が後端壁３０Ｂによって遮られることが抑制される。さらに、位置Ｐと光線Ｅ１の投影位置が一致しているということは、有効光束Ｅの示す画像５２の投影可能範囲Ｒが、底板３０Ａの後端側まで最大限広くなっていることを意味する。

換言すれば、圧迫板３０が最もプロジェクタ１４に近い位置にある場合において、圧迫板３０の底板３０Ａにおいて、画像５２の投影可能範囲Ｒは、後端壁３０Ｂよりも前方に位置する。このように、有効光束Ｅの示す画像５２の投影可能範囲Ｒが、底板３０Ａの後端側まで最大限広くなっている。

そして、ユーザは、圧迫板３０の底板３０Ａに表示された撮影条件情報５０を確認しながら、乳房撮影装置１０において圧迫板３０を下降させて、ポジショニングされた乳房Ｍを圧迫させる。

以上説明したように、本実施形態に係る乳房撮影装置１０では、圧迫板３０の後端壁３０Ｂの前面３０Ｂ１をプロジェクタ１４側に向けて延長した仮想面Ａと、プロジェクタ１４を水平方向に横切る仮想水平線Ｂとの仮想交点Ｃよりも前方に、プロジェクタ１４の最も圧迫板３０側の光学素子であるミラー１４Ｃが配置されている。仮想交点Ｃよりも前方に最も圧迫板３０側の光学素子であるミラー１４Ｃがあるということは、プロジェクタ１４から出射される光の出射点が、圧迫板３０の後端壁３０Ｂの前面３０Ｂ１よりも前方にあることを意味する。これにより、最も圧迫板３０側の光学素子であるミラー１４Ｃが仮想交点Ｃよりも後方にある場合と比較して、プロジェクタ１４から出射される光の有効光束Ｅにおける後方側の光線Ｅ１が、圧迫板３０の後端壁３０Ｂによって遮られることが抑制される。すなわち、プロジェクタ１４から出射される光の有効光束Ｅにおけるケラレが抑制される。

また、本実施形態に係る乳房撮影装置１０では、圧迫板３０の後端壁３０Ｂの前面３０Ｂ１は、圧迫板３０の移動方向と平行であり、有効光束Ｅの後方端に位置する光線Ｅ１は、圧迫板３０の移動方向と平行である。すなわち、後端壁３０Ｂの前面３０Ｂ１、圧迫板３０の移動方向、及び有効光束Ｅのうち後方端に位置する光線Ｅ１が、すべて平行である。このため、圧迫板３０の移動方向が、後端壁３０Ｂの前面３０Ｂ１又は有効光束Ｅの後方端に位置する光線Ｅ１と平行でない場合と比較して、圧迫板３０が移動方向のどの位置にあっても有効光束のケラレが抑制される。

また、本実施形態に係る乳房撮影装置１０では、圧迫板３０に画像５２が投影される底板３０Ａにおいて、後端壁３０Ｂが立ち上がる前方側の位置Ｐと、有効光束Ｅの後方端に位置する光線Ｅ１の投影位置とが一致する。後端壁３０Ｂが立ち上がる前方側の位置Ｐよりも前側に、有効光束Ｅの後方端に位置する光線Ｅ１の投影位置がある場合と比較して、画像５２の投影可能範囲Ｒを、後端側に最大限広げることができる。

また、本実施形態に係る乳房撮影装置１０では、圧迫板３０がプロジェクタ１４に最も近い位置にある場合において、圧迫板３０の底板３０Ａにおいて画像５２の投影可能範囲Ｒは、後端壁３０Ｂよりも前方に位置する。これにより、画像５２の投影可能範囲Ｒを、後端側に最大限広げることができる。

また、本実施形態に係る乳房撮影装置１０では、後端壁３０Ｂの前面３０Ｂ１が圧迫板３０の底板３０Ａの法線方向（例えば、鉛直方向）と平行であるので、後端壁３０Ｂが傾斜している場合と比較して圧迫板３０を使いやすい場合がある。

また、本実施形態に係る乳房撮影装置１０では、画像５２は、乳房Ｍを撮影する際の撮影条件を示す情報である撮影条件情報５０を含んでおり、圧迫板３０において、撮影条件情報５０が投影される領域５１に対して光の透過を抑制する光透過抑制処理が施されている。これにより、圧迫板３０に光透過抑制処理が施されていない場合と比較して、圧迫板３０の底板３０Ａに投影される撮影条件情報５０の視認性が向上する。

（第１変形例）
上記第１実施形態では、投影光学系１４Ｄにおいて、最も圧迫板３０側に設けられた光学素子がミラー１４Ｃである形態例を挙げて説明したが、本開示の技術はこれに限定されない。投影光学系１４Ｄにおいて、最も圧迫板３０側に設けられた光学素子は、ミラー１４Ｃ以外であってもよい。

図１２に示すように、プロジェクタ１４は、内蔵光学系１４Ｂを有している。内蔵光学系１４Ｂは、レンズ１４Ｂ１と、ミラー１４Ｂ２とを備えている。表示器１４Ａから出射された投影光Ｌは、ミラー１４Ｂ２で反射された後、レンズ１４Ｂ１から圧迫板３０に向けて出射される。すなわち、投影光学系１４Ｄにおいて、投影光Ｌの光路上における最も圧迫板３０側に設けられた光学素子は、レンズ１４Ｂ１である。本変形例において、内蔵光学系は、本開示の技術に係る「複数の光学素子」の一例である。レンズ１４Ｂ１は、本開示の技術に係る「最も圧迫板側に設けられた光学素子」の一例である。

仮想面Ａは、圧迫板３０の後端壁３０Ｂにおいて、前面３０Ｂ１を仮想的に延長した平面である。また、仮想水平線Ｂは、プロジェクタ１４を水平方向に横切る仮想直線である。仮想交点Ｃは、仮想面Ａと仮想水平線Ｂとの仮想的な交点である。レンズ１４Ｂ１は、仮想交点Ｃよりも前方に配置されている。レンズ１４Ｂ１が、仮想交点Ｃよりも前方に配置されていることで、投影光Ｌの出射点が後端壁３０Ｂよりも前方に位置する。

以上説明したように、本第１変形例に係る乳房撮影装置１０では、圧迫板３０の後端壁３０Ｂの前面３０Ｂ１をプロジェクタ１４側に向けて延長した仮想面Ａと、プロジェクタ１４を水平方向に横切る仮想水平線Ｂとの仮想交点Ｃよりも前方に、プロジェクタ１４の最も圧迫板３０側の光学素子であるレンズ１４Ｂ１が配置されている。これにより、最も圧迫板３０側の光学素子であるレンズ１４Ｂ１が仮想交点Ｃよりも後方にある場合と比較して、プロジェクタ１４から出射される光の有効光束Ｅにおける後方側の光線Ｅ１が、圧迫板３０の後端壁３０Ｂによって遮られることが抑制される。すなわち、プロジェクタ１４から出射される光の有効光束Ｅにおけるケラレが抑制される。

（第２変形例）
上記第１実施形態では、有効光束Ｅの後方端に位置する光線Ｅ１は、圧迫板３０の移動方向と平行となっている形態例を挙げて説明したが、本開示の技術はこれに限定されない。本第２変形例では、有効光束Ｅの後方端に位置する光線Ｅ１は、圧迫板３０の移動方向と平行となっていない。

図１３に示すように、投影光Ｌは、ミラー１４Ｃで反射された後、圧迫板３０及び撮影台２４へ向けて出射される。ここで、圧迫板３０を側面視した場合（すなわち、図１３に示すＸ方向に沿った方向で見た場合）において、有効光束Ｅの後方端に位置する光線Ｅ１は、圧迫板３０の移動方向と平行となっていない。すなわち、圧迫板３０の移動方向は、底板３０Ａの法線方向（図１３に示すＺ方向に沿った方向）であり、圧迫板３０を側面視した場合において、光線Ｅ１の進行方向は、底板３０Ａの法線方向に対して傾斜している。すなわち、光線Ｅ１の出射点が、投影位置に対して前方側に位置している。

上述したように、ミラー１４Ｃが仮想交点Ｃよりも前方に位置することで、有効光束Ｅの出射点が後端壁３０Ｂよりも前方側に位置する。従って、圧迫板３０が移動しても、有効光束Ｅの後方端に位置する光線Ｅ１が、後端壁３０Ｂによって遮られることが抑制される。

＜第２実施形態＞
上記第１実施形態では、後端壁３０Ｂが底板３０Ａの法線方向に沿っている形態例を挙げて説明したが、本開示の技術はこれに限定されない。本第２実施形態では、後端壁３０Ｄの前面３０Ｄ１が、後方に向かって傾斜している。

図１４及び図１５に示すように、圧迫板３０は、後端壁３０Ｄを備えている。後端壁３０Ｄは、圧迫板３０の後端において、鉛直方向（すなわち、図１４に示すＺ方向）上方へ立ち上がる壁である。後端壁３０Ｄの前面３０Ｄ１は、底板３０Ａの法線方向に対して、上端が後方へ傾斜している。後端壁３０Ｄは、本開示の技術に係る「スタンド側の側板」の一例であり、前面３０Ｄ１は、本開示の技術に係る「内壁面」の一例である。

仮想面Ａは、圧迫板３０の後端壁３０Ｄにおいて、前面３０Ｄ１を上方へ仮想的に延長した平面である。従って、側面視した場合において、仮想面Ａも底板３０Ａの法線方向に対して傾斜している。

仮想水平線Ｂは、水平方向（すなわち、図１４に示すＹ方向に沿った方向）において、プロジェクタ１４を横切る仮想的な直線である。仮想交点Ｃは、仮想面Ａと仮想水平線Ｂとの仮想的な交点である。

ミラー１４Ｃは、仮想交点Ｃよりも前方に配置されている。ミラー１４Ｃが、仮想交点Ｃよりも前方に配置されていることで、投影光Ｌの出射点が後端壁３０Ｄよりも前方に位置する。これにより、有効光束Ｅの後方端に位置する光線Ｅ１が、後端壁３０Ｄによって遮られることが抑制される。

ここで、圧迫板３０は、底板３０Ａの法線方向に沿って移動可能である。このため、仮想面Ａも圧迫板３０の移動とともに平行移動する。これにより、仮想交点Ｃの位置も変化することになる。本実施形態において、ミラー１４Ｃが仮想交点Ｃよりも前方に位置しているとは、複数の仮想交点Ｃのうちの圧迫板３０が最も高い位置（すなわち、撮影面２４Ａからの距離ｈが最も離れている位置）にある場合の仮想交点Ｃよりも前方に位置することを指す。

以上説明したように、本第２実施形態に係る乳房撮影装置１０では、後端壁３０Ｄの前面３０Ｄ１の上端が後方に向かって傾斜している。また、プロジェクタ１４の投影光学系１４Ｄの最も圧迫板３０側に設けられた光学素子であるミラー１４Ｃが、仮想交点Ｃよりも前方に位置する。仮想交点Ｃは、前面３０Ｄ１を仮想的に延長した仮想面Ａと、プロジェクタ１４を水平方向に横切る仮想水平線Ｂとの交点である。つまり、前面３０Ｄ１が後方に向かって傾斜しているため、仮想交点Ｃの位置も後方に移動する。従って、後端壁３０Ｄの前面３０Ｄ１が、底板３０Ａの法線方向に沿って延びている場合よりも、最も圧迫板３０側に設けられた光学素子を含む投影光学系１４Ｄを後方に配置することができる。これにより、乳房撮影装置１０における設計の自由度が向上する。

また、上記実施形態では、圧迫板３０に撮影条件情報５０が投影され、撮影面２４Ａにスキンライン２４Ｂが表示される形態例を挙げて説明したが、本開示の技術はこれに限定されない。例えば、圧迫板３０に撮影条件情報５０及びスキンライン２４Ｂが表示される態様であってもよい。この場合、圧迫板３０において、スキンライン２４Ｂが表示される領域にも透過抑制処理が施される。ただし、この場合、圧迫板３０を通して乳房Ｍが見えづらくなるので、上記実施形態で説明したように、投影光Ｌが圧迫板３０を透過し、撮影面２４Ａにスキンライン２４Ｂが表示される態様がより好ましい。

上記のプロセッサには、ＣＰＵの他、ＧＰＵ（Graphics Processing Unit）が含まれる。また、上記のプロセッサは、ソフトウェア（プログラム）を実行して各種の処理部として機能するＣＰＵ等の汎用的なプロセッサに限られず、ＦＰＧＡ（Field Programmable Gate Array）等の製造後に回路構成を変更可能なプロセッサであるプログラマブルロジックデバイス（Programmable Logic Device：PLD）、ＡＳＩＣ（Application Specific Integrated Circuit）等の特定の処理を実行させるために専用に設計された回路構成を有するプロセッサである専用電気回路等が含まれる。

更に、これらの各種のプロセッサのハードウェア的な構造としては、より具体的には、半導体素子などの回路素子を組み合わせた電気回路（circuitry）を用いることができる
。

以上に示した記載内容及び図示内容は、本開示の技術に係る部分についての詳細な説明であり、本開示の技術の一例に過ぎない。例えば、上記の構成、機能、作用、及び効果に関する説明は、本開示の技術に係る部分の構成、機能、作用、及び効果の一例に関する説明である。よって、本開示の技術の主旨を逸脱しない範囲内において、以上に示した記載内容及び図示内容に対して、不要な部分を削除したり、新たな要素を追加したり、置き換えたりしてもよいことは言うまでもない。また、錯綜を回避し、本開示の技術に係る部分の理解を容易にするために、以上に示した記載内容及び図示内容では、本開示の技術の実施を可能にする上で特に説明を要しない技術常識等に関する説明は省略されている。

本明細書に記載された全ての文献、特許出願及び技術規格は、個々の文献、特許出願及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。

上記実施形態に関し、更に以下の付記を開示する。
＜付記１＞
被検者の乳房が載置される撮影台と、
上記乳房に向けて放射線を照射する放射線源と、
上記放射線源及び上記撮影台を直接的又は間接的に支持するスタンドと、
上記撮影台と上記放射線源との間で移動可能に配置され、上記スタンドに直接的又は間接的に支持される圧迫板であって、上記乳房を圧迫する底板と、上記底板の上記被検者側と上記スタンド側の少なくとも２箇所に設けられる側板とを有する圧迫板と、
上記放射線源よりも上記スタンド側に配置され、複数の光学素子を介して上記圧迫板および上記撮影台に向かって画像を投影するプロジェクタと、を備えており、
上記スタンド側の側板における上記被検者側の面を上記側板の内壁面とした場合において、上記内壁面を上記プロジェクタ側に向けて延長した仮想面と、上記プロジェクタを水平方向に横切る仮想水平線との交点を仮想交点とした場合において、複数の上記光学素子のうち、上記プロジェクタから出射され上記圧迫板に向かう光の光路上における最も上記圧迫板側の光学素子が、上記仮想交点よりも上記被検者側に配置されている、
乳房撮影装置。
＜付記２＞
上記内壁面は、上記圧迫板の移動方向と平行であり、
上記投影光学系が出射する有効光束の最も上記スタンド側に位置する光線は、上記移動方向と平行である、
付記１に記載の乳房撮影装置。
＜付記３＞
上記底板の上記画像が投影される面において、上記内壁面が立ち上がる位置と、上記有効光束の最も上記スタンド側に位置する光線の投影位置とが一致する、
付記１又は付記２に記載の乳房撮影装置。
＜付記４＞
上記圧迫板が上記プロジェクタに最も近い位置にある場合において、上記底板の上記画像が投影される面において、上記画像の投影可能範囲は、上記内壁面よりも上記被検者側に位置する
付記１から付記３の何れか一つに記載の乳房撮影装置。
＜付記５＞
上記内壁面は、上記底板の上記画像が投影される面の法線方向と平行である、
付記１から付記４の何れか一つに記載の乳房撮影装置。
＜付記６＞
上記内壁面は、上記底板の上記画像が投影される面の法線方向に対して上端が上記スタンド側に向かって傾斜している、
付記１から付記４の何れか一つに記載の乳房撮影装置。
＜付記７＞
上記画像は、上記乳房を撮影する際の撮影条件を示す情報を含み、
上記圧迫板において、上記情報が投影される領域に対して光の透過を抑制する光透過抑制処理が施されている
付記１から付記６の何れか一つに記載の乳房撮影装置。

１０，１０Ａ 乳房撮影装置
１４ プロジェクタ
１４Ａ 表示器
１４Ａ１ 画像表示面
１４Ｂ 内蔵光学系
１４Ｂ１ レンズ
１４Ｂ２，１４Ｃ ミラー
１４Ｄ 投影光学系
１６ 制御装置
１６Ａ プロセッサ
１６Ｂ ＲＡＭ
１６Ｃ ＮＶＭ
１６Ｄ 外部Ｉ／Ｆ
１６Ｅ バス
２０ スタンド
２０Ａ 台座
２０Ｂ 支柱
２１ アーム
２２ 線源収容部
２３ 本体部
２４ 撮影台
２４Ａ 撮影面
２４Ｂ スキンライン
２５ 放射線源
２６ 放射線検出器
２８ レール
３０ 圧迫板
３０Ａ 底板
３０Ｂ，３０Ｄ 後端壁
３０Ｂ１，３０Ｄ１ 前面
３０Ｃ 前端壁
３１ 照射野限定器
３２ フェイスガード
３４ 可動部
３５ 駆動機構
３５Ａ モータドライバ
３５Ｂ モータ
３５Ｃ エンコーダ
５０ 撮影条件情報
５１ 領域
５２，５２Ａ，５２Ｂ 画像
Ａ 仮想面
Ｂ 仮想水平線
Ｃ 仮想交点
Ｅ 有効光束
Ｅ１ 光線
Ｆ 被検者
Ｋ ケラレ
Ｌ 投影光
Ｍ 乳房
Ｐ 位置
Ｒ 投影可能範囲
ｔ 乳房圧迫厚み
ｈ 高さ
Ｘ，Ｙ，Ｚ 矢印

Claims (7)

1. 被検者の乳房が載置される撮影台と、
   前記乳房に向けて放射線を照射する放射線源と、
   前記放射線源及び前記撮影台を直接的又は間接的に支持するスタンドと、
   前記撮影台と前記放射線源との間で移動可能に配置され、前記スタンドに直接的又は間接的に支持される圧迫板であって、前記乳房を圧迫する底板と、前記底板の前記被検者側と前記スタンド側の少なくとも２箇所に設けられる側板とを有する圧迫板と、
   前記放射線源よりも前記スタンド側に配置され、複数の光学素子を介して前記圧迫板および前記撮影台に向かって画像を投影するプロジェクタと、を備えており、
   前記スタンド側の側板における前記被検者側の面を前記側板の内壁面とした場合において、前記内壁面を前記プロジェクタ側に向けて延長した仮想面と、前記プロジェクタを水平方向に横切る仮想水平線との交点を仮想交点とした場合において、複数の前記光学素子のうち、前記プロジェクタから出射され前記圧迫板に向かう光の光路上における最も前記圧迫板側の光学素子が、前記仮想交点よりも前記被検者側に配置されている、
   乳房撮影装置。
2. 前記内壁面は、前記圧迫板の移動方向と平行であり、
   前記プロジェクタが出射する有効光束の最も前記スタンド側に位置する光線は、前記移動方向と平行である、
   請求項１に記載の乳房撮影装置。
3. 前記底板の前記画像が投影される面において、前記内壁面が立ち上がる位置と、前記有効光束の最も前記スタンド側に位置する光線の投影位置とが一致する、
   請求項２に記載の乳房撮影装置。
4. 前記圧迫板が前記プロジェクタに最も近い位置にある場合において、前記底板の前記画像が投影される面において、前記画像の投影可能範囲は、前記内壁面よりも前記被検者側に位置する
   請求項２に記載の乳房撮影装置。
5. 前記内壁面は、前記底板の前記画像が投影される面の法線方向と平行である、
   請求項１に記載の乳房撮影装置。
6. 前記内壁面は、前記底板の前記画像が投影される面の法線方向に対して上端が前記スタンド側に向かって傾斜している、
   請求項１に記載の乳房撮影装置。
7. 前記画像は、前記乳房を撮影する際の撮影条件を示す情報を含み、
   前記圧迫板において、前記情報が投影される領域に対して光の透過を抑制する光透過抑制処理が施されている
   請求項１に記載の乳房撮影装置。