JP2024031038A - Electret membrane and its manufacturing method - Google Patents

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吉昭 田口
謙司 石田
匠平 堀家
康子 小柴
誠司 斧原
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Kobe University NUC
Polyplastics Co Ltd
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Kobe University NUC
Polyplastics Co Ltd
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Abstract

【課題】電荷保持性能に優れるエレクトレット膜及びその製造方法を提供する。【解決手段】非対称な分子構造を有する非対称性芳香族モノマー残基を93~100mol%含み、かつ、極限粘度が1.0dL/g以上6.0dL/g未満である液晶性樹脂を準備する工程Aと、液晶性樹脂を溶媒に溶解して液晶性樹脂溶液を調製する工程Bと、液晶性樹脂溶液を用いて製膜する工程Cと、を含む、エレクトレット膜の製造方法である。【選択図】なしAn object of the present invention is to provide an electret film with excellent charge retention performance and a method for manufacturing the same. [Solution] A step of preparing a liquid crystal resin containing 93 to 100 mol% of an asymmetric aromatic monomer residue having an asymmetric molecular structure and having an intrinsic viscosity of 1.0 dL/g or more and less than 6.0 dL/g. This is a method for producing an electret film, which includes step A, step B of dissolving a liquid crystal resin in a solvent to prepare a liquid crystal resin solution, and step C of forming a film using the liquid crystal resin solution. [Selection diagram] None

Description

本発明は、液晶性樹脂を用いてなるエレクトレット膜及びその製造方法に関する。 The present invention relates to an electret film using a liquid crystal resin and a method for manufacturing the same.

エレクトレットは、電場を印加すると表面に電荷を生じ、その電場を去っても半永久的に電荷が保持される材料であり、電気-運動エネルギー変換材料(静電誘導型変換素子)として、スピーカー、ヘッドフォン、マイクロフォン等の電気音響変換材料、あるいは超音波センサー、圧力センサー、加速度センサー等の各種センサー等に利用されている。 Electret is a material that generates a charge on its surface when an electric field is applied, and retains the charge semi-permanently even after the electric field is removed.It is used as an electric-kinetic energy conversion material (electrostatic induction type conversion element) for speakers and headphones. It is used in electroacoustic conversion materials such as microphones, and various sensors such as ultrasonic sensors, pressure sensors, and acceleration sensors.

エレクトレットのうち、ポリマー材料からなるものとしては、例えば、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン等の強誘電性を示す材料が知られている。 Among electrets, ferroelectric materials such as polyvinylidene fluoride and polytetrafluoroethylene are known as electrets made of polymer materials.

一方、液晶性樹脂は、優れた流動性、機械強度、耐熱性、耐薬品性、電気的性質等をバランスよく有するため、高機能エンジニアリングプラスチックスとして広く利用されている。従って、エレクトレットを液晶性樹脂から構成することができれば有用である。液晶性樹脂からなるエレクトレットとしては、芳香族ヒドロキシカルボン酸残基を含む、溶融時に異方性を示すポリエステル等の成形体を熱エレクトレット化して得られるものが知られている(特許文献1参照)。 On the other hand, liquid crystal resins are widely used as high-performance engineering plastics because they have excellent fluidity, mechanical strength, heat resistance, chemical resistance, electrical properties, etc. in a well-balanced manner. Therefore, it would be useful if the electret could be composed of liquid crystalline resin. As electrets made of liquid crystalline resins, those obtained by thermal electretization of molded bodies such as polyesters containing aromatic hydroxycarboxylic acid residues and exhibiting anisotropy when melted are known (see Patent Document 1). .

特開昭62-224090号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 62-224090

しかしながら、特許文献1に記載のエレクトレットを膜状に形成した場合、その膜に電場を印加して電荷を生じさせても短時間で電荷が消失する傾向にある。すなわち、従来のエレクトレット膜は電荷保持性能が不十分であり、改善の余地が残されていた。 However, when the electret described in Patent Document 1 is formed into a film, even if an electric field is applied to the film to generate a charge, the charge tends to disappear in a short time. That is, the conventional electret film has insufficient charge retention performance, and there remains room for improvement.

本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされたものであり、その課題は、電荷保持性能に優れるエレクトレット膜及びその製造方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and its object is to provide an electret film with excellent charge retention performance and a method for manufacturing the same.

前記課題を解決する本発明の一態様は以下の通りである。
(1)非対称な分子構造を有する非対称性芳香族モノマー残基を93~100mol%含み、かつ、極限粘度が1.0dL/g以上6.0dL/g未満である液晶性樹脂を準備する工程Aと、
前記液晶性樹脂を溶媒に溶解して液晶性樹脂溶液を調製する工程Bと、
前記液晶性樹脂溶液を用いて製膜する工程Cと、
を含む、エレクトレット膜の製造方法。
One aspect of the present invention that solves the above problem is as follows.
(1) Step A of preparing a liquid crystalline resin containing 93 to 100 mol% of asymmetric aromatic monomer residues having an asymmetric molecular structure and having an intrinsic viscosity of 1.0 dL/g or more and less than 6.0 dL/g and,
Step B of preparing a liquid crystal resin solution by dissolving the liquid crystal resin in a solvent;
Step C of forming a film using the liquid crystal resin solution;
A method for producing an electret membrane, comprising:

(2)前記工程Cにおいて、前記液晶性樹脂溶液を用い、溶液製膜法により製膜する、前記(1)に記載のエレクトレット膜の製造方法。 (2) The method for producing an electret film according to (1) above, wherein in step C, the film is formed by a solution casting method using the liquid crystal resin solution.

(3)前記工程Cにおいて、前記液晶性樹脂溶液をゲル化し、得られたゲルを膜状にして加熱乾燥して製膜する、前記(1)に記載のエレクトレット膜の製造方法。 (3) The method for producing an electret film according to (1) above, wherein in the step C, the liquid crystal resin solution is gelled, and the resulting gel is formed into a film by heating and drying to form a film.

(4)非対称な分子構造を有する非対称性芳香族モノマー残基を93~100mol%含み、かつ、極限粘度が1.0dL/g以上6.0dL/g未満である液晶性樹脂を含み、X線回折法で測定した結晶化度が35%以下である、エレクトレット膜。 (4) Contains a liquid crystal resin that contains 93 to 100 mol% of asymmetric aromatic monomer residues having an asymmetric molecular structure and has an intrinsic viscosity of 1.0 dL/g or more and less than 6.0 dL/g, and An electret film having a crystallinity of 35% or less as measured by a diffraction method.

本発明によれば、電荷保持性能に優れるエレクトレット膜及びその製造方法を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide an electret film with excellent charge retention performance and a method for manufacturing the same.

本実施形態における液晶性樹脂のコロナ放電処理前(a)、及びコロナ放電 処理後(b)におけるポリマー分子の状態を模式的に示す図である。FIG. 2 is a diagram schematically showing the state of polymer molecules before (a) and after (b) corona discharge treatment of the liquid crystal resin in the present embodiment. 実施例・比較例において作製したエレクトレット膜の経過時間に対する表面電荷密度の関係を示すグラフである。It is a graph showing the relationship between the surface charge density and the elapsed time of the electret films produced in Examples and Comparative Examples.

<エレクトレット膜の製造方法>
本実施形態のエレクトレット膜の製造方法は、非対称な分子構造を有する非対称性芳香族モノマー残基を93~100mol%含み、かつ、極限粘度が1.0dL/g以上6.0dL/g未満である液晶性樹脂を準備する工程Aと、液晶性樹脂を溶媒に溶解して液晶性樹脂溶液を調製する工程Bと、液晶性樹脂溶液を用いて製膜する工程Cと、を含む。
<Method for manufacturing electret membrane>
The method for producing an electret membrane of the present embodiment includes 93 to 100 mol% of an asymmetric aromatic monomer residue having an asymmetric molecular structure, and an intrinsic viscosity of 1.0 dL/g or more and less than 6.0 dL/g. The method includes a step A of preparing a liquid crystal resin, a step B of dissolving the liquid crystal resin in a solvent to prepare a liquid crystal resin solution, and a step C of forming a film using the liquid crystal resin solution.

本実施形態のエレクトレット膜の製造方法は、端的に言えば、上記のような液晶性樹脂の溶液を調製し、その液晶性樹脂溶液を用いて製膜してエレクトレット膜を得る。そして、そのように製膜することで、得られた膜の内部に電荷をトラップし得るトラップサイトが無数に発現し、電荷保持性能が向上すると推察される。
以下、各工程について詳述する。
Simply put, the method for producing an electret film of this embodiment is to prepare a liquid crystal resin solution as described above, and form a film using the liquid crystal resin solution to obtain an electret film. It is presumed that by forming the film in this manner, countless trap sites capable of trapping charges are created inside the obtained film, and the charge retention performance is improved.
Each step will be explained in detail below.

[工程A]
工程Aでは、非対称な分子構造を有する非対称性芳香族モノマー残基を93~100mol%含み、かつ、極限粘度が1.0dL/g以上6.0dL/g未満である液晶性樹脂を準備する。
[Process A]
In step A, a liquid crystal resin containing 93 to 100 mol% of asymmetric aromatic monomer residues having an asymmetric molecular structure and having an intrinsic viscosity of 1.0 dL/g or more and less than 6.0 dL/g is prepared.

本実施形態において、液晶性樹脂は、非対称性芳香族モノマー残基を93~100mol%含むが、93mol%未満であると、誘電特性が低下する。非対称性芳香族モノマー残基は、97~100mol%含むことが好ましい。 In the present embodiment, the liquid crystal resin contains 93 to 100 mol% of asymmetric aromatic monomer residues, but if the content is less than 93 mol%, dielectric properties deteriorate. The asymmetric aromatic monomer residue is preferably contained in an amount of 97 to 100 mol%.

また、液晶性樹脂は、極限粘度が1.0dL/g以上6.0dL/g未満であるが、1.0dL/g未満であると、強誘電性を発現せず、6.0dL/g以上であると、コロナ放電による配向制御が困難となる。当該極限粘度は2.5~5.5dL/gが好ましく、4~5dL/gがより好ましい。
なお、極限粘度は、JIS K7367に準拠し、溶媒にはペンタフルオロフェノールとクロロホルムの50/50の混合溶媒を使用して測定して得ることができる。
In addition, the liquid crystal resin has an intrinsic viscosity of 1.0 dL/g or more and less than 6.0 dL/g, but if it is less than 1.0 dL/g, it will not exhibit ferroelectricity and will not exhibit ferroelectricity, In this case, it becomes difficult to control the orientation by corona discharge. The limiting viscosity is preferably 2.5 to 5.5 dL/g, more preferably 4 to 5 dL/g.
Note that the intrinsic viscosity can be obtained by measuring according to JIS K7367 using a 50/50 mixed solvent of pentafluorophenol and chloroform as the solvent.

本実施形態において、液晶性樹脂としては、全芳香族ポリエステル又は全芳香族ポリエステルアミドを用いることができる。 In this embodiment, a wholly aromatic polyester or a wholly aromatic polyester amide can be used as the liquid crystal resin.

本実施形態において、液晶性樹脂は、上記の通り、非対称な分子構造を有する非対称性芳香族モノマー残基を所定の割合で有する。非対称性芳香族モノマー残基の由来となるモノマーとしては、芳香族ヒドロキシカルボン酸、及びその重合可能な誘導体からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物、芳香族アミノカルボン酸、及びその重合可能な誘導体からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物が挙げられる。 In this embodiment, the liquid crystal resin has a predetermined ratio of asymmetric aromatic monomer residues having an asymmetric molecular structure, as described above. The monomer from which the asymmetric aromatic monomer residue is derived is at least one compound selected from the group consisting of aromatic hydroxycarboxylic acids and polymerizable derivatives thereof, aromatic aminocarboxylic acids, and polymerizable derivatives thereof. At least one compound selected from the group consisting of derivatives is included.

非対称性芳香族モノマー残基は、下記構造式(I)~(V)で表される構造単位のうちの少なくとも1種の構造を有することが好ましい。換言すると、本実施形態において、非対称性芳香族モノマー残基の由来となるモノマーは、下記構造式(I)~(V)で表される構造単位のうちのいずれかを有すること好ましい。 The asymmetric aromatic monomer residue preferably has a structure of at least one type of structural units represented by the following structural formulas (I) to (V). In other words, in this embodiment, the monomer from which the asymmetric aromatic monomer residue is derived preferably has one of the structural units represented by the following structural formulas (I) to (V).

Figure 2024031038000001
Figure 2024031038000001

構造式(I)で表される構造単位を有するモノマーとしては、4-ヒドロキシ安息香酸(以下、「HBA」ともいう。)が挙げられる。
構造式(II)で表される構造単位を有するモノマーとしては、3-ヒドロキシ安息香酸が挙げられる。
構造式(III)で表される構造単位を有するモノマーとしては、6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸(以下、「HNA」とも呼ぶ。)が挙げられる。
構造式(IV)で表される構造単位を有するモノマーとしては、4-ヒドロキシ-4’-ビフェニルカルボン酸(以下、「HBCA」とも呼ぶ。)が挙げられる。
構造式(V)で表される構造単位を有するモノマーとしては、N-アセチル-アミノ安息香酸が挙げられる。
なお、いずれも重合後に構造式(I)~(V)で表される構造単位となればよく、上記のように例示したモノマーに限定されることはない。例えば、上記例示のモノマーの水酸基又はアミノ基をアシル化したものを用いてもよい。
Examples of monomers having a structural unit represented by structural formula (I) include 4-hydroxybenzoic acid (hereinafter also referred to as "HBA").
Examples of monomers having a structural unit represented by structural formula (II) include 3-hydroxybenzoic acid.
Examples of monomers having a structural unit represented by structural formula (III) include 6-hydroxy-2-naphthoic acid (hereinafter also referred to as "HNA").
Examples of monomers having a structural unit represented by structural formula (IV) include 4-hydroxy-4'-biphenylcarboxylic acid (hereinafter also referred to as "HBCA").
Examples of the monomer having a structural unit represented by structural formula (V) include N-acetyl-aminobenzoic acid.
It should be noted that any of the monomers may form structural units represented by structural formulas (I) to (V) after polymerization, and is not limited to the monomers exemplified above. For example, monomers exemplified above whose hydroxyl or amino groups are acylated may be used.

本実施形態において、液晶性樹脂としては、上記構造式(I)~(V)で表される構造単位のいずれかを有するモノマー2種以上を共重合したものを挙げることができる。例えば、構造式(I)で表される構造単位を有するモノマーと、構造式(III)で表されるモノマーとを共重合したものであることが好ましい。具体的には、HBAとHNAとが共重合したものが挙げられ、その場合の共重合比(HBA:HNA)は、60:40~90:10であることが好ましい。 In this embodiment, examples of the liquid crystalline resin include those obtained by copolymerizing two or more monomers having any of the structural units represented by the above structural formulas (I) to (V). For example, it is preferable to copolymerize a monomer having a structural unit represented by structural formula (I) and a monomer represented by structural formula (III). Specifically, examples include copolymerization of HBA and HNA, and in that case, the copolymerization ratio (HBA:HNA) is preferably 60:40 to 90:10.

本実施形態における液晶性樹脂において、非対称性芳香族モノマー残基のうち、キンク構造を有するモノマー残基が0.1mol%以上45mol%以下であることが好ましい。キンク構造を有するモノマーが上記範囲内であると、加工性が向上し、融点の制御が容易となる。
キンク構造を有するモノマー残基としては、3-ヒドロキシ安息香酸、6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸、2-ヒドロキシ安息香酸、3-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸、1-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸、5-ヒドロキシビフェニル-3-カルボン酸等の各モノマーの残基が挙げられ、中でも、3-ヒドロキシ安息香酸残基又は6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸残基であることが好ましい。
In the liquid crystal resin according to the present embodiment, it is preferable that among the asymmetric aromatic monomer residues, monomer residues having a kink structure account for 0.1 mol% or more and 45 mol% or less. When the monomer having a kink structure is within the above range, processability is improved and melting point can be easily controlled.
Monomer residues having a kink structure include 3-hydroxybenzoic acid, 6-hydroxy-2-naphthoic acid, 2-hydroxybenzoic acid, 3-hydroxy-2-naphthoic acid, 1-hydroxy-2-naphthoic acid, 5 Examples include residues of various monomers such as -hydroxybiphenyl-3-carboxylic acid, among which 3-hydroxybenzoic acid residues or 6-hydroxy-2-naphthoic acid residues are preferred.

[工程B]
工程Bでは、液晶性樹脂を溶媒に溶解して液晶性樹脂溶液を調製する。すなわち、工程Bにおいては、工程Aで準備した液晶性樹脂を溶媒に溶解し、後述する工程Cにおいて用いられる液晶性樹脂溶液を調製する。
[Process B]
In step B, a liquid crystal resin solution is prepared by dissolving the liquid crystal resin in a solvent. That is, in step B, the liquid crystal resin prepared in step A is dissolved in a solvent to prepare a liquid crystal resin solution to be used in step C, which will be described later.

工程Bで使用する溶媒としては、液晶性樹脂が溶解し得る溶媒であればよく、例えば、ペンタフルオロフェノール(PFP)、3,5-ビストリフルオロメチルフェノール(BTFMP)等が挙げられる。 The solvent used in step B may be any solvent that can dissolve the liquid crystal resin, and examples thereof include pentafluorophenol (PFP) and 3,5-bistrifluoromethylphenol (BTFMP).

液晶性樹脂溶液中の液晶性樹脂の濃度は、工程Cにおける製膜性の向上とトラップサイトを無数に発現させる観点から、0.1~5質量%とすることが好ましく、0.5~3質量%とすることがより好ましく、0.7~1.5質量%であることがさらに好ましい。別の観点からは、液晶性樹脂溶液は、工程Cにおいて塗布する温度において、飽和溶液であることが好ましい。 The concentration of the liquid crystal resin in the liquid crystal resin solution is preferably 0.1 to 5% by mass, and 0.5 to 3% by mass, from the viewpoint of improving the film formability in step C and generating countless trap sites. It is more preferably 0.7 to 1.5% by mass, and even more preferably 0.7 to 1.5% by mass. From another point of view, the liquid crystal resin solution is preferably a saturated solution at the coating temperature in step C.

液晶性樹脂の溶媒への溶解は、定法に従い行うことができる。すなわち、必要に応じて加熱、攪拌する等、液晶性樹脂が溶解しやすい状態として溶解することができる。 The liquid crystalline resin can be dissolved in a solvent according to a conventional method. That is, the liquid crystal resin can be dissolved in a state in which it is easily dissolved by heating, stirring, etc., if necessary.

[工程C]
工程Cでは、工程Bで調製した液晶性樹脂溶液を用いて製膜する。すなわち、工程Cにおいては、液晶性樹脂溶液を、支持基体上に塗布すること等により膜状とし、加熱乾燥することで製膜してエレクトレット膜が得られる。
[Process C]
In step C, the liquid crystal resin solution prepared in step B is used to form a film. That is, in step C, a liquid crystalline resin solution is formed into a film by coating it on a supporting substrate, and then heated and dried to form a film to obtain an electret film.

工程Cにおいては、液晶性樹脂溶液を用いて製膜するのであるが、以下において、2つの態様について説明する。第1の態様は、溶液製膜法により製膜する態様であり、第2の態様はゲル状態を介して製膜する態様である。
先ず、溶液製膜法により製膜する第1の態様について説明する。
In step C, a liquid crystal resin solution is used to form a film, and two aspects will be described below. The first embodiment is an embodiment in which a film is formed by a solution casting method, and the second embodiment is an embodiment in which a film is formed through a gel state.
First, a first aspect of forming a film by a solution casting method will be described.

溶液製膜法では、支持基体上に液晶性樹脂溶液を塗布して塗膜を形成し、この塗膜を加熱乾燥することで製膜することができる。第1の態様において形成される膜は多結晶構造と推察され、結晶粒界にトラップサイトが無数に存在し、電荷保持性能に優れると考えられる。 In the solution film forming method, a film can be formed by coating a liquid crystalline resin solution on a supporting substrate to form a coating film, and then heating and drying this coating film. The film formed in the first embodiment is presumed to have a polycrystalline structure, with countless trap sites existing at grain boundaries, and is thought to have excellent charge retention performance.

液晶性樹脂溶液を支持基体上の塗布するための塗布法は特に限定はなく、例えば、スピンコート法、グラビアコート法、バーコート法、ダイコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、ディップコーティング法等、公知の塗布法を採用することできる。 The coating method for coating the liquid crystal resin solution on the support substrate is not particularly limited, and examples include spin coating, gravure coating, bar coating, die coating, spray coating, air knife coating, and dip coating. A known coating method such as the like can be adopted.

塗膜の厚さとしては、最終結果物であるエレクトレット膜の厚さを考慮して決定されるが、例えば、0.1~100μmとすることができる。 The thickness of the coating film is determined in consideration of the thickness of the electret film that is the final resultant, and can be, for example, 0.1 to 100 μm.

上記の塗布法により液晶性樹脂溶液を支持基体上に塗布して塗膜を形成後、塗膜を加熱乾燥する。このときの加熱温度は、溶媒の沸点近傍とすることが好ましく、具体的には140~160℃とすることができる。 A liquid crystalline resin solution is applied onto a supporting substrate by the above-described coating method to form a coating film, and then the coating film is dried by heating. The heating temperature at this time is preferably near the boiling point of the solvent, and specifically can be 140 to 160°C.

次いで、ゲル状態を介して製膜する第2の態様、すなわち、液晶性樹脂溶液をゲル状態にして製膜する態様について説明する。第2の態様においては、液晶性樹脂溶液をゲル化し、得られたゲルを膜状にして(以下、この膜状のゲルを「ゲル状膜」とも呼ぶ。)加熱乾燥して製膜する。第2の態様においては、液晶性樹脂溶液をゲル化すると、1軸配向していた液晶性樹脂の結晶性が低下しアモルファス状態(無配向)となり、トラップサイトが無数に発現する。そして、その状態で膜化することで、トラップサイトが保持されたままポリドメイン構造となり、電荷保持性能に優れると考えられる。 Next, a second mode of forming a film through a gel state, that is, a mode of forming a film by turning a liquid crystal resin solution into a gel state will be described. In the second embodiment, a liquid crystal resin solution is gelled, and the resulting gel is formed into a film (hereinafter, this film-like gel is also referred to as a "gel-like film").The film is formed by heating and drying. In the second aspect, when the liquid crystal resin solution is gelatinized, the crystallinity of the liquid crystal resin, which had been uniaxially oriented, decreases and becomes an amorphous state (non-oriented), resulting in the development of countless trap sites. By forming a film in this state, it becomes a polydomain structure while retaining the trap sites, and is considered to have excellent charge retention performance.

液晶性樹脂溶液のゲル化は、貧溶媒を添加する、高温下で飽和した溶液を冷却し析出させる等によって行うことができる。貧溶媒としては、クロロホルム、ジクロロメタン、ブロモジクロロメタン、ブロモホルム、ジブロモクロロメタン等が挙げられる。 Gelation of a liquid crystalline resin solution can be performed by adding a poor solvent, cooling a saturated solution at high temperature, and causing precipitation. Examples of the poor solvent include chloroform, dichloromethane, bromodichloromethane, bromoform, dibromochloromethane, and the like.

ゲル状膜の厚さは、第1の態様と同様、最終結果物であるエレクトレット膜の厚さを考慮して決定されるが、例えば、80~100μmとすることができる。 The thickness of the gel-like film is determined in consideration of the thickness of the final resultant electret film, as in the first embodiment, and can be, for example, 80 to 100 μm.

液晶性樹脂溶液をゲル化して製膜するまでの過程の一例を示す。液晶性樹脂のペンタフルオロフェノール(以下、「PFP」とも呼ぶ。)溶液に対して、例えば、クロロホルムを5分おきに10滴ずつ滴下する。すると、溶液は二層に分離し、上層にゲル及びPFPの層、下層にクロロホルム及びPFPの層が得られる。そして、下層を除去して、上層を支持基体に載置する。このとき、上層のゲル及びPFPの層が柔らかくて支持基体に載置することが困難な場合、PFPを一定量蒸発させ、ある程度硬くすることが好ましい。さらにPFPを蒸発させるとゲル状膜が得られる。そして、得られたゲル状膜を加熱乾燥することで膜が得られる。このときの加熱温度は140~160℃とすることが好ましい。
第2の態様において、ゲル状膜を加熱乾燥する際、ゲル状膜を加圧するかは任意であるが、加圧せずにそのままの状態で加熱することが好ましい。
An example of the process from gelling a liquid crystal resin solution to forming a film is shown. For example, 10 drops of chloroform are added dropwise to a pentafluorophenol (hereinafter also referred to as "PFP") solution of a liquid crystal resin every 5 minutes. Then, the solution separates into two layers, with a gel and PFP layer in the upper layer and a chloroform and PFP layer in the lower layer. Then, the lower layer is removed and the upper layer is placed on the supporting substrate. At this time, if the upper layer of gel and PFP is soft and difficult to place on the support base, it is preferable to evaporate a certain amount of PFP to make it hard to some extent. Further, when PFP is evaporated, a gel-like film is obtained. Then, a membrane is obtained by heating and drying the obtained gel-like membrane. The heating temperature at this time is preferably 140 to 160°C.
In the second embodiment, when heating and drying the gel-like film, it is optional whether or not to pressurize the gel-like film, but it is preferable to heat the gel-like film as it is without applying pressure.

いずれの態様においても、得られる膜を支持基体からの剥離を容易にするためには、離型層を設けることができる。すなわち、支持基体上に先ず離型層を形成し、その後離型層状に液晶性樹脂溶液を塗布することが好ましい。 In either embodiment, a release layer can be provided to facilitate peeling of the resulting film from the supporting substrate. That is, it is preferable to first form a release layer on the supporting substrate, and then apply a liquid crystal resin solution to the release layer.

本実施形態においては、以上のようにして工程Cにより得られた膜に対して、分極処理を施してエレクトレット膜が得られる。例えば、コロナ電流値が-30μA以下又は30μA以上となるようにコロナ放電処理を実行して分極処理を施すことが好ましい。そして、この処理により、液晶性樹脂に電荷を注入してエレクトレット膜として機能させるとともに、特に芳香環を垂直方向に配向させることで分極を大きくすることができる。 In this embodiment, an electret film is obtained by subjecting the film obtained in Step C as described above to polarization treatment. For example, it is preferable to carry out the polarization treatment by performing corona discharge treatment so that the corona current value is −30 μA or less or 30 μA or more. Through this treatment, electric charges are injected into the liquid crystal resin so that it functions as an electret film, and polarization can be increased by orienting the aromatic rings in the vertical direction.

図1は、コロナ放電処理前(a)及びコロナ放電処理後(b)における液晶性樹脂表面の分子の状態を模式的に示している。図1においては、基板10上に液晶性樹脂分子12が膜状に形成された状態を示している。図1(a)においては、液晶性樹脂分子12の芳香環12Aは、基板と平行に配向しているが、コロナ放電処理後である図1(b)においては表面近傍の芳香環12Aが基板と垂直に配向している。 FIG. 1 schematically shows the state of molecules on the surface of the liquid crystal resin before (a) the corona discharge treatment and (b) after the corona discharge treatment. FIG. 1 shows a state in which liquid crystal resin molecules 12 are formed in a film shape on a substrate 10. As shown in FIG. In FIG. 1(a), the aromatic ring 12A of the liquid crystal resin molecule 12 is oriented parallel to the substrate, but in FIG. 1(b) after corona discharge treatment, the aromatic ring 12A near the surface is oriented parallel to the substrate. oriented vertically.

コロナ放電処理は、液晶性樹脂に対する分極処理のみならず、ポリマー分子、特に芳香環を垂直方向に配向させるために実行される。より具体的には、コロナ電流値が-30μA以下又は30μA以上となるようにコロナ放電処理が実行されることが好ましい。従って、当該コロナ放電処理は、分極のみを目的として実行されるコロナ放電処理とは異なり、ポリマー分子、特に芳香環が垂直方向に配向するように諸条件が設定される。当該諸条件としては、印加電圧は-4.5~-6kV又は4.5~6kV、ステージ温度は30~130℃、掃引速度は1~10mm/s、掃引回数は0~40回が好ましい。 Corona discharge treatment is performed not only to polarize the liquid crystal resin but also to orient polymer molecules, particularly aromatic rings, in the vertical direction. More specifically, the corona discharge treatment is preferably performed so that the corona current value is −30 μA or less or 30 μA or more. Therefore, the corona discharge treatment is different from the corona discharge treatment performed solely for the purpose of polarization, and various conditions are set so that the polymer molecules, especially the aromatic rings, are oriented in the vertical direction. As for the conditions, it is preferable that the applied voltage is -4.5 to -6 kV or 4.5 to 6 kV, the stage temperature is 30 to 130° C., the sweep speed is 1 to 10 mm/s, and the number of sweeps is 0 to 40 times.

本実施形態において、エレクトレット膜の膜厚は、電荷を蓄積しやすくする観点から0.1~100μmであることが好ましく、0.1~70μmであることがより好ましく、0.1~40μmであることがさらに好ましい。 In this embodiment, the thickness of the electret film is preferably 0.1 to 100 μm, more preferably 0.1 to 70 μm, and 0.1 to 40 μm from the viewpoint of facilitating charge accumulation. It is even more preferable.

<エレクトレット膜>
本実施形態のエレクトレット膜は、非対称な分子構造を有する非対称性芳香族モノマー残基を93~100mol%含み、かつ、極限粘度が1.0dL/g以上6.0dL/g未満である液晶性樹脂を含み、X線回折法で測定した結晶化度が35%以下である。このようなエレクトレット膜は、例えば、上述の本実施形態のエレクトレット膜の製造方法により製造することができる。すなわち、本実施形態のエレクトレット膜の製造方法においては、液晶性樹脂をそのまま製膜するのではなく、溶液として製膜するため結晶化度が低下する。ひいては、本実施形態のエレクトレット膜は、上述の説明の通り、電荷保持特性に優れる。
<Electret membrane>
The electret film of this embodiment is a liquid crystal resin that contains 93 to 100 mol% of asymmetric aromatic monomer residues having an asymmetric molecular structure and has an intrinsic viscosity of 1.0 dL/g or more and less than 6.0 dL/g. and has a crystallinity of 35% or less as measured by X-ray diffraction. Such an electret film can be manufactured, for example, by the method for manufacturing an electret film of the present embodiment described above. That is, in the method for manufacturing an electret film of this embodiment, the degree of crystallinity is reduced because the liquid crystal resin is not formed into a film as it is, but is formed as a solution. Furthermore, the electret film of this embodiment has excellent charge retention properties as described above.

本実施形態において、エレクトレット膜の結晶化度は、35%以下であるが、10~30%が好ましく、15~25%がより好ましい。本実施形態において、結晶化度は、広角X線回折測定を行い、W.Ruland, Acta Cryst.,14, 1180 (1961)の方法に従って算出することができる。 In this embodiment, the crystallinity of the electret film is 35% or less, preferably 10 to 30%, more preferably 15 to 25%. In this embodiment, the degree of crystallinity can be calculated by performing wide-angle X-ray diffraction measurement according to the method of W. Ruland, Acta Cryst., 14, 1180 (1961).

また、本実施形態において、エレクトレット膜と電極とが接合していることが好ましい。電極が接合していることにより、帯電量が増大するとともに、放電しにくくなりさらに電荷保持特性に優れる。当該電極は、液晶性樹脂の一方の面に接合してもよいし、両面に接合してもよい。 Further, in this embodiment, it is preferable that the electret film and the electrode are bonded to each other. By connecting the electrodes, the amount of charge increases, and it becomes difficult to discharge, furthermore, it has excellent charge retention characteristics. The electrode may be bonded to one surface or both surfaces of the liquid crystal resin.

エレクトレット膜に接合する電極の材料としては、アルミニウム、金、銀、銅、プラチナ、導電性高分子等が挙げられ、中でも、アルミニウム、金、銅が好ましい。電極を膜状とした場合、その膜厚は10nm~1mmが好ましく、50nm~0.1mmがより好ましい。 Examples of the material for the electrode to be bonded to the electret film include aluminum, gold, silver, copper, platinum, and conductive polymers, among which aluminum, gold, and copper are preferred. When the electrode is in the form of a film, the film thickness is preferably 10 nm to 1 mm, more preferably 50 nm to 0.1 mm.

以下に、実施例により本実施形態をさらに具体的に説明するが、本実施形態は以下の実施例に限定されるものではない。 The present embodiment will be described in more detail below with reference to examples, but the present embodiment is not limited to the following examples.

(液晶性ポリエステルLCP1の製造方法)
撹拌機、還流カラム、モノマー投入口、窒素導入口、減圧/流出ラインを備えた重合容器に、以下の原料モノマー、脂肪酸金属塩触媒、アシル化剤を仕込み、窒素置換を開始した。
(原料)
4-ヒドロキシ安息香酸;1660g(73mol%)
2-ヒドロキシ-6-ナフトエ酸;837g(27mol%)
アシル化剤(無水酢酸);1714g
(Method for manufacturing liquid crystalline polyester LCP1)
A polymerization vessel equipped with a stirrer, a reflux column, a monomer inlet, a nitrogen inlet, and a vacuum/outflow line was charged with the following raw material monomers, a fatty acid metal salt catalyst, and an acylating agent, and nitrogen substitution was started.
(material)
4-hydroxybenzoic acid; 1660g (73mol%)
2-hydroxy-6-naphthoic acid; 837g (27mol%)
Acylating agent (acetic anhydride); 1714g

重合容器に原料を仕込んだ後、反応系の温度を140℃に上げ、140℃で1時間反応させた。その後、更に325℃まで3.5時間かけて昇温し、そこから15分かけて10Torr(即ち1330Pa)まで減圧して、酢酸、過剰の無水酢酸、及びその他の低沸分を留出させながら溶融重合を行った。撹拌トルクが所定の値に達した後、窒素を導入して減圧状態から常圧を経て加圧状態にして、重合容器の下部からポリマーを排出した。
得られたポリマーは、0.1質量%濃度、60℃でペンタフルオロフェノールとクロロホルムの50/50の混合溶媒中において測定したところ4.7dL/gの極限粘度を有していた。
なお、得られたポリマーの非対称性芳香族モノマー残基は、100mol%、キンク構造を有するモノマー残基は、27mol%であった。
After charging the raw materials into the polymerization vessel, the temperature of the reaction system was raised to 140°C, and the reaction was carried out at 140°C for 1 hour. Thereafter, the temperature was further increased to 325°C over 3.5 hours, and the pressure was then reduced to 10 Torr (i.e. 1330 Pa) over 15 minutes, while acetic acid, excess acetic anhydride, and other low-boiling components were distilled out. Melt polymerization was performed. After the stirring torque reached a predetermined value, nitrogen was introduced, the pressure was reduced to normal pressure, and then the pressure was increased, and the polymer was discharged from the lower part of the polymerization vessel.
The obtained polymer had an intrinsic viscosity of 4.7 dL/g when measured in a 50/50 mixed solvent of pentafluorophenol and chloroform at 60° C. at a concentration of 0.1% by mass.
Note that the amount of asymmetric aromatic monomer residues in the obtained polymer was 100 mol%, and the amount of monomer residues having a kink structure was 27 mol%.

[実施例1]
ペンタフルオロフェノール(PFP)2000mgに21.5mgのLCP1を加え、60℃に加熱し、1.08質量%のLCP1溶液を調製した。調製したLCP1溶液を40℃に保ち、クロロホルムを、5分おきに1回当たり10滴ずつ、合計36回滴下した。滴下総量は3.85gであった。クロロホルムの滴下後、相分離し、上層がLCP1のゲル及びPFPの層で、下層がPHP及びクロロホルムの層となった。次いで、下層を除去し、室温で17時間放置し、上層の溶媒を蒸発させ、LCP1のゲル状膜を得た。さらに、ゲル状膜に対して、1.29kg/cmの加圧(圧迫)をしつつ160℃で5分間加熱し、膜状体を得た。
得られた膜状体に対して、100nm厚のアルミニウム電極を4×10-4Paの条件で真空蒸着して製膜し、電極付液晶性樹脂膜を形成した。
[Example 1]
21.5 mg of LCP1 was added to 2000 mg of pentafluorophenol (PFP) and heated to 60° C. to prepare a 1.08% by mass LCP1 solution. The prepared LCP1 solution was kept at 40° C., and chloroform was added dropwise every 5 minutes, 10 drops per time, for a total of 36 times. The total amount dropped was 3.85 g. After dropping chloroform, the phases were separated, with the upper layer being a layer of LCP1 gel and PFP, and the lower layer being a layer of PHP and chloroform. Next, the lower layer was removed, and the mixture was left to stand at room temperature for 17 hours, and the solvent in the upper layer was evaporated to obtain a gel-like film of LCP1. Further, the gel-like membrane was heated at 160° C. for 5 minutes while applying pressure (compression) of 1.29 kg/cm 2 to obtain a membrane-like body.
A 100 nm thick aluminum electrode was vacuum deposited on the obtained film-like body under conditions of 4×10 −4 Pa to form a liquid crystal resin film with electrodes.

液晶性樹脂膜を形成後、トレック・ジャパン(株)製、高電圧電源を用い、下記条件によりコロナ放電処理を行い、エレクトレット膜とした。なお、コロナ電流値は、コロナ放電処理時に発生した電流値を測定した。
(コロナ放電処理条件)
印加電圧:-5.5kV
温度:30℃
掃引速度:10mm/s
掃引回数:40回
After forming the liquid crystal resin film, a corona discharge treatment was performed using a high voltage power supply manufactured by Trek Japan Co., Ltd. under the following conditions to obtain an electret film. Note that the corona current value was determined by measuring the current value generated during the corona discharge treatment.
(Corona discharge treatment conditions)
Applied voltage: -5.5kV
Temperature: 30℃
Sweep speed: 10mm/s
Number of sweeps: 40 times

(結晶化度の測定)
得られたエレクトレット膜の結晶化度を次のようにして測定した。Rigaku社製、試料水平型多目的X線回折装置「Ultima IV RINT-21」にて、線源はCuKα線を用い、スキャン速度を3°/分で走査して測定した。そして、得られた回折曲線をガウス関数にて、回帰分析し、15°から30°までに現れるピークの総面積と19°付近に現れる鋭いピークの比を結晶化度として算出した。測定結果を表1に示す。
(Measurement of crystallinity)
The degree of crystallinity of the obtained electret film was measured as follows. Measurement was performed using a sample horizontal multipurpose X-ray diffractometer "Ultima IV RINT-21" manufactured by Rigaku, using CuKα rays as the radiation source and scanning at a scanning speed of 3°/min. Then, the obtained diffraction curve was subjected to regression analysis using a Gaussian function, and the ratio of the total area of the peaks appearing from 15° to 30° to the sharp peak appearing around 19° was calculated as the degree of crystallinity. The measurement results are shown in Table 1.

[実施例2]
ゲル状膜に対する加圧(圧迫)をしなかったこと以外は実施例1と同様にしてエレクトレット膜を得た。そして、実施例1と同様にして、エレクトレット膜の結晶化度を測定した。測定結果を表1に示す。
[Example 2]
An electret membrane was obtained in the same manner as in Example 1 except that no pressure was applied to the gel membrane. Then, in the same manner as in Example 1, the crystallinity of the electret film was measured. The measurement results are shown in Table 1.

[実施例3]
実施例1と同様にして得られたLCP1溶液にクロロホルム1.1gを滴下して混合し、0.7質量%のLCP1クロロホルム混合溶液を得た。表面にポリビニルアルコール膜を形成したガラス基板の表面に、LCP1クロロホルム混合溶液を滴下して膜状にした。室温で14時間放置し。その後、水中に3時間浸漬した。その後、水中から膜を取り出し、エレクトレット膜を得た。そして、実施例1と同様にして、エレクトレット膜の結晶化度を測定した。測定結果を表1に示す。
[Example 3]
1.1 g of chloroform was added dropwise to the LCP1 solution obtained in the same manner as in Example 1 and mixed to obtain a 0.7% by mass LCP1 chloroform mixed solution. A mixed solution of LCP1 in chloroform was dropped onto the surface of a glass substrate on which a polyvinyl alcohol film was formed to form a film. Leave at room temperature for 14 hours. Thereafter, it was immersed in water for 3 hours. Thereafter, the membrane was taken out of the water to obtain an electret membrane. Then, in the same manner as in Example 1, the crystallinity of the electret film was measured. The measurement results are shown in Table 1.

[比較例1]
LCP1のポリマーを溶融成膜してフィルムを得た。なお、溶融成膜機としては、(株)東洋精機製作所製ラボプラストミルに単軸押出機及びTダイを設置したものを使用した。得られたフィルムに対して、100nm厚のアルミニウム電極を4×10-4Paの条件で真空蒸着して製膜し、電極付液晶性樹脂膜を形成した。その後、実施例1と同様にしてコロナ放電処理を行い、エレクトレット膜を得た。そして、実施例1と同様にして、エレクトレット膜の結晶化度を測定した。測定結果を表1に示す。
[Comparative example 1]
A film was obtained by melt-forming the polymer of LCP1. The melt film forming machine used was a Laboplast Mill manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd. equipped with a single-screw extruder and a T-die. A 100 nm thick aluminum electrode was vacuum deposited on the obtained film under conditions of 4×10 −4 Pa to form a liquid crystalline resin film with electrodes. Thereafter, corona discharge treatment was performed in the same manner as in Example 1 to obtain an electret film. Then, in the same manner as in Example 1, the crystallinity of the electret film was measured. The measurement results are shown in Table 1.

[評価]
(1)表面電荷密度の測定
得られたエレクトレットの表面(コロナ放電処理直後)の電荷密度を、関西電子(株)製、モンローエレクトロニクス表面電位計Model244Aを用い、大気下にて測定した。測定結果を表1に示す。
(2)コロナ放電処理後24時間経過後の表面電荷密度の測定
コロナ放電処理後24時間経過後のエレクトレットの表面の電荷密度を上記(1)と同様にして測定した。測定結果を表1に示す。なお、経時変化中は、ドライボックスには入れずに、23℃、50%RHの環境下で放置した。
[evaluation]
(1) Measurement of surface charge density The charge density on the surface of the obtained electret (immediately after the corona discharge treatment) was measured in the atmosphere using a Monroe Electronics surface potentiometer Model 244A manufactured by Kansai Electronics Co., Ltd. The measurement results are shown in Table 1.
(2) Measurement of surface charge density 24 hours after corona discharge treatment The charge density on the surface of the electret 24 hours after corona discharge treatment was measured in the same manner as in (1) above. The measurement results are shown in Table 1. Note that during the aging process, the sample was left in an environment of 23° C. and 50% RH without being placed in a dry box.

Figure 2024031038000002
Figure 2024031038000002

表1より、実施例1~3は結晶化度が35%以下のエレクトレット膜が得られ、いずれも、コロナ放電処理後24時間経過後の表面電荷密度が比較例1よりも高い。すなわち、実施例1~3のエレクトレット膜は電荷保持特性が高い。 From Table 1, in Examples 1 to 3, electret films with a crystallinity of 35% or less were obtained, and in all cases, the surface charge density after 24 hours after the corona discharge treatment was higher than that in Comparative Example 1. That is, the electret films of Examples 1 to 3 have high charge retention properties.

一方、実施例1~3及び比較例1のエレクトレット膜について、経過時間に対する表面電荷密度の変化についてのグラフを図2に示す。図2において、実線のグラフが実施例1を、破線のグラフが実施例2を、一点鎖線のグラフが実施例3を、点線のグラフが比較例1を示す。図2からも、実施例1~3の方が比較例1よりも表面電荷保持特性が高いことが分かる。 On the other hand, FIG. 2 shows a graph of changes in surface charge density with respect to elapsed time for the electret films of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1. In FIG. 2, the solid line graph represents Example 1, the dashed line graph represents Example 2, the dashed line graph represents Example 3, and the dotted line graph represents Comparative Example 1. It can also be seen from FIG. 2 that Examples 1 to 3 have higher surface charge retention characteristics than Comparative Example 1.

10 基板
12 液晶性樹脂分子
12A 芳香環
10 Substrate 12 Liquid crystal resin molecule 12A Aromatic ring

Claims (4)

非対称な分子構造を有する非対称性芳香族モノマー残基を93~100mol%含み、かつ、極限粘度が1.0dL/g以上6.0dL/g未満である液晶性樹脂を準備する工程Aと、
前記液晶性樹脂を溶媒に溶解して液晶性樹脂溶液を調製する工程Bと、
前記液晶性樹脂溶液を用いて製膜する工程Cと、
を含む、エレクトレット膜の製造方法。
Step A of preparing a liquid crystal resin containing 93 to 100 mol% of an asymmetric aromatic monomer residue having an asymmetric molecular structure and having an intrinsic viscosity of 1.0 dL/g or more and less than 6.0 dL/g;
Step B of preparing a liquid crystal resin solution by dissolving the liquid crystal resin in a solvent;
Step C of forming a film using the liquid crystal resin solution;
A method for producing an electret membrane, comprising:
前記工程Cにおいて、前記液晶性樹脂溶液を用い、溶液製膜法により製膜する、請求項1に記載のエレクトレット膜の製造方法。 The method for producing an electret film according to claim 1, wherein in the step C, the film is formed by a solution casting method using the liquid crystal resin solution. 前記工程Cにおいて、前記液晶性樹脂溶液をゲル化し、得られたゲルを膜状にして加熱乾燥して製膜する、請求項1に記載のエレクトレット膜の製造方法。 The method for producing an electret membrane according to claim 1, wherein in the step C, the liquid crystal resin solution is gelatinized, and the resulting gel is formed into a membrane by heating and drying to form a membrane. 非対称な分子構造を有する非対称性芳香族モノマー残基を93~100mol%含み、かつ、極限粘度が1.0dL/g以上6.0dL/g未満である液晶性樹脂を含み、X線回折法で測定した結晶化度が35%以下である、エレクトレット膜。 Contains a liquid crystalline resin that contains 93 to 100 mol% of asymmetric aromatic monomer residues having an asymmetric molecular structure and has an intrinsic viscosity of 1.0 dL/g or more and less than 6.0 dL/g, and is determined by X-ray diffraction method. An electret film having a measured crystallinity of 35% or less.
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