JP2024019999A - Glass composition, glass paste, sealed package, and organic electroluminescence element - Google Patents

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Abstract

To provide a glass composition that is superior in terms of water resistance, has a smaller coefficient of thermal expansion, and has excellent fluidity during melting and width of allowable temperature range during calcination.SOLUTION: Provided is a glass composition that is characterized by containing V2O5 by 25.0 to 40.0%, TeO2 by 25.5 to 30.0%, ZnO by 15.0 to 30.0%, Nb2O5 by 5.5% to 8.0%, Al2O3 by 0 to 5.0%, BaO by 0 to 4.5%, B2O3 by 0 to 6.0%, Bi2O3 by 0 to 0.4%, and ZrO2 by 0 to 4.5% in terms of mol% based on oxides, and being substantially free of alkali metal oxides and PbO.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、ガラス組成物、ガラスペースト、封着パッケージおよび有機エレクトロルミネセンス素子に関する。 The present invention relates to a glass composition, a glass paste, a sealed package, and an organic electroluminescent device.

有機ELディスプレイ(Organic Electro-Luminescence Display:OELD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)等の平板型ディスプレイ装置(FPD)は、1対のガラス基板が封着されたガラスパッケージにより発光素子が封止された構造を有する。また、液晶表示装置(LCD)は、1対のガラス基板間に液晶が封止された構造を有する。さらに、有機薄膜太陽電池や色素増感型太陽電池等の太陽電池は、1対のガラス基板間に太陽電池素子(光電変換素子)が封止された構造を有する。 Flat panel display devices (FPD), such as organic electro-luminescence displays (OELDs) and plasma display panels (PDPs), have light-emitting elements sealed in a glass package with a pair of glass substrates sealed together. Has a structure. Furthermore, a liquid crystal display (LCD) has a structure in which liquid crystal is sealed between a pair of glass substrates. Furthermore, solar cells such as organic thin film solar cells and dye-sensitized solar cells have a structure in which a solar cell element (photoelectric conversion element) is sealed between a pair of glass substrates.

この中でも有機ELディスプレイは、水分との接触で有機EL素子の発光特性が著しく劣化することから、有機EL素子を外気から厳密に遮断する必要がある。また、有機EL素子は高温に曝されると損傷することから封止方法が極めて重要である。 Among these, in organic EL displays, the light emitting characteristics of the organic EL elements are significantly deteriorated by contact with moisture, so it is necessary to strictly shield the organic EL elements from the outside air. Furthermore, since organic EL elements are damaged when exposed to high temperatures, the sealing method is extremely important.

そこで、有機ELディスプレイの封止方法としてガラス組成物を封着材料に使用し、局所加熱により封止する方法が有力視されている。一般的にはガラス組成物は有機ビヒクルと混合してペースト化して用いる。このペーストを一方のガラス基板にスクリーン印刷もしくはディスペンス等で塗布し、焼き付けて仮焼成層とする。次に他方のガラス基板を重ね合わせて、仮焼成層に対するレーザ等を用いた局所加熱によりガラス組成物を溶融させて封着させる。 Therefore, as a method for sealing organic EL displays, a method of using a glass composition as a sealing material and sealing by local heating is considered to be a promising method. Generally, a glass composition is used after being mixed with an organic vehicle to form a paste. This paste is applied to one glass substrate by screen printing or dispensing, and baked to form a pre-fired layer. Next, the other glass substrate is stacked on top of the other glass substrate, and the glass composition is melted and sealed by locally heating the temporarily fired layer using a laser or the like.

封着材料に使用されるガラス組成物は、耐水性が高いこと、熱膨張係数が被封着材料に近いこと、レーザ封着における有機EL素子への熱的悪影響を小さくする上で、ガラス組成物の溶融時の許容温度(プロセスマージン)が広いこと、が望ましい。 The glass composition used as the sealing material has high water resistance, a coefficient of thermal expansion close to that of the material to be sealed, and a glass composition that is suitable for reducing thermal adverse effects on organic EL elements during laser sealing. It is desirable to have a wide allowable temperature (process margin) when melting materials.

このように、封着材料に使用されるガラス組成物として、例えば、特許文献1には有機ELディスプレイの封止に用いられるTeO-ZnO-B系のガラス組成物が記載されている。また、特許文献2では、V-ZnO-TeO系のガラス組成物が開示されている。 As described above, as a glass composition used as a sealing material, for example, Patent Document 1 describes a TeO 2 -ZnO-B 2 O 3- based glass composition used for sealing an organic EL display. There is. Further, Patent Document 2 discloses a V 2 O 5 -ZnO-TeO 2 -based glass composition.

特許第6357937号公報Patent No. 6357937 特許第6022070号公報Patent No. 6022070

近年、有機ELディスプレイは、画面サイズの大型化が進んでいる。画面サイズが大型となる場合、画面サイズが小型のものと比較して、封着部分の線幅を大きくする必要がある。封着部分の線幅を大きくすると、レーザ封着時において、被封着材料と封着材料との熱膨張差による応力がかかりやすくなり、封着層および被封着材料にクラックが生じるおそれがある。したがって、封着パッケージの信頼性を担保するために、封着材料は熱膨張係数が被封着材料の熱膨張係数により近いことが求められる。 In recent years, the screen size of organic EL displays has been increasing. When the screen size becomes large, it is necessary to increase the line width of the sealed portion compared to a case where the screen size is small. If the line width of the sealing part is increased, stress due to the difference in thermal expansion between the material to be sealed and the material to be sealed becomes more likely to be applied during laser sealing, which may cause cracks in the sealing layer and the material to be sealed. be. Therefore, in order to ensure the reliability of the sealed package, the sealing material is required to have a coefficient of thermal expansion closer to that of the material to be sealed.

さらに、従来の封着パッケージは、ガラス基板同士が封着されたものが一般的であったが、近年では、例えば、金属膜が表面に成膜された基板とガラス基板を封着した封着パッケージなども求められている。金属膜が表面に成膜された基板を封着する場合であっても優れた封着強度が要求される。封着強度は、封着材料の流動性を高めることによって向上できる。 Furthermore, conventional sealed packages generally had glass substrates sealed together, but in recent years, for example, sealed packages have been developed, for example, by sealing a glass substrate with a substrate with a metal film formed on the surface. Packages are also in demand. Even when sealing a substrate on which a metal film is formed, excellent sealing strength is required. Sealing strength can be improved by increasing the fluidity of the sealing material.

特許文献1及び特許文献2に記載のガラス組成物は、耐水性、熱膨張係数の大きさ、溶融時の流動性及び焼成時の許容温度範囲の広さの面で更なる改善の余地があった。 The glass compositions described in Patent Document 1 and Patent Document 2 have room for further improvement in terms of water resistance, coefficient of thermal expansion, fluidity during melting, and wide allowable temperature range during firing. Ta.

本発明は、上述の事情に鑑みて、有機ELディスプレイや液晶ディスプレイ等のフラットディスプレイにおけるガラス部材同士の接合部を、レーザ加熱といった局所加熱方式によって封着するのに用いるバナジウム系ガラス組成物として、従来のガラス組成物と比して、耐水性の観点でより優れ、熱膨張係数がより小さく、溶融時の流動性及び焼成時の許容温度範囲の広さに優れるガラス組成物を提供することを目的とする。
また、本発明は当該ガラス組成物を含有する封着材料及びガラスペースト、並びに、当該ガラス組成物を含有する封着層を有する封着パッケージ及び有機エレクトロルミネセンス素子を提供することを目的とする。
In view of the above-mentioned circumstances, the present invention provides a vanadium-based glass composition used for sealing joints between glass members in a flat display such as an organic EL display or a liquid crystal display by a local heating method such as laser heating. It is an object of the present invention to provide a glass composition that is superior in terms of water resistance, has a smaller coefficient of thermal expansion, and has excellent fluidity during melting and a wider allowable temperature range during firing than conventional glass compositions. purpose.
Further, the present invention aims to provide a sealing material and a glass paste containing the glass composition, as well as a sealed package and an organic electroluminescent device having a sealing layer containing the glass composition. .

本発明者らは、ガラス組成が特定の範囲であるガラス組成物により上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成した。
本発明は以下の構成のガラス組成物、ガラスペースト、封着パッケージおよび有機エレクトロルミネセンス素子を提供する。
[1] 酸化物基準のモル%表示で、
を25.0~40.0%、
TeOを25.5~30.0%、
ZnOを15.0~30.0%、
Nbを5.5~8.0%、
Alを0~5.0%、
BaOを0~4.5%、
を0~6.0%、
Biを0~0.4%、及び
ZrOを0~4.5%含有し、
実質的にアルカリ金属酸化物及びPbOを含有しないことを特徴とするガラス組成物。
[2] 酸化物基準のモル%表示で、Bを1.0~5.0%含有する、[1]に記載のガラス組成物。
[3] 酸化物基準のモル%表示で、Nbを6.2%超含有する、[1]または[2]に記載のガラス組成物。
[4] 酸化物基準のモル%表示で、VとTeOとZnOの含有量の合計(V+TeO+ZnO)が80~91%である、[1]~[3]のいずれか1つに記載のガラス組成物。
[5] 酸化物基準のモル%表示で、(V/TeO)で表される含有量の比が1.0~1.6である、[1]~[4]のいずれか1つに記載のガラス組成物。
[6] 酸化物基準のモル%表示で、BiとTeOとBaOの含有量の合計(Bi+TeO+BaO)が25.5~31.0%である、[1]~[5]のいずれか1つに記載のガラス組成物。
[7] 酸化物基準のモル%表示で、AlとZrOの含有量の合計(Al+ZrO)が0~7.0%である、[1]~[6]のいずれか1つに記載のガラス組成物。
[8] [1]~[7]のいずれか1つに記載のガラス組成物と、有機ビヒクルとを含有するガラスペースト。
[9] 第1の基板と、前記第1の基板に対向して配置される第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板との間に配置され、前記第1の基板と前記第2の基板とを接着する封着層と、を有する封着パッケージであって、
前記封着層は、[1]~[7]のいずれか1つに記載のガラス組成物を含む封着パッケージ。
[10] 基板と、前記基板上に積層された陽極と有機薄膜層と陰極とを有する積層構造体と、前記積層構造体の外表面側を覆って前記基板上に載置されたガラス部材と、前記基板と前記ガラス部材とを接着する封着層と、を備え、
前記封着層は、[1]~[7]のいずれか1つに記載のガラス組成物を含む有機エレクトロルミネセンス素子。
The present inventors have discovered that the above-mentioned problems can be solved by using a glass composition having a glass composition within a specific range, and have completed the present invention.
The present invention provides a glass composition, a glass paste, a sealed package, and an organic electroluminescent device having the following configurations.
[1] Expressed as mol% based on oxides,
25.0 to 40.0% V 2 O 5 ,
25.5-30.0% TeO2 ,
15.0 to 30.0% ZnO,
5.5 to 8.0% Nb 2 O 5 ,
0 to 5.0% Al 2 O 3 ,
BaO 0-4.5%,
B 2 O 3 from 0 to 6.0%,
Contains 0 to 0.4% Bi 2 O 3 and 0 to 4.5% ZrO 2 ,
A glass composition characterized in that it is substantially free of alkali metal oxides and PbO.
[2] The glass composition according to [1], which contains 1.0 to 5.0% of B 2 O 3 in terms of mol% based on oxides.
[3] The glass composition according to [1] or [2], which contains more than 6.2% of Nb 2 O 5 in terms of mol% based on oxides.
[4] The total content of V 2 O 5 , TeO 2 and ZnO (V 2 O 5 + TeO 2 + ZnO) is 80 to 91% in terms of mol% based on oxides, [1] to [3] The glass composition according to any one of the above.
[5] Any one of [1] to [4], where the ratio of the content expressed as (V 2 O 5 /TeO 2 ) is 1.0 to 1.6 in mol% based on oxides. 1. The glass composition according to item 1.
[6] The total content of Bi 2 O 3 , TeO 2 and BaO (Bi 2 O 3 +TeO 2 +BaO) is 25.5 to 31.0% in terms of mol% based on oxides, [1] The glass composition according to any one of ~[5].
[7] In [1] to [6], the total content of Al 2 O 3 and ZrO 2 (Al 2 O 3 + ZrO 2 ) is 0 to 7.0% in terms of mol% based on oxides. The glass composition according to any one of the above.
[8] A glass paste containing the glass composition according to any one of [1] to [7] and an organic vehicle.
[9] A first substrate, a second substrate disposed opposite the first substrate, and a second substrate disposed between the first substrate and the second substrate, the first substrate and a sealing layer that adheres the second substrate, the package comprising:
A sealed package in which the sealing layer includes the glass composition according to any one of [1] to [7].
[10] A laminated structure including a substrate, an anode, an organic thin film layer, and a cathode laminated on the substrate, and a glass member placed on the substrate to cover the outer surface side of the laminated structure. , a sealing layer that adheres the substrate and the glass member,
An organic electroluminescent device, wherein the sealing layer contains the glass composition according to any one of [1] to [7].

本発明のガラス組成物は、従来のガラス組成物に比して、耐水性の観点でより優れ、熱膨張係数がより小さく、溶融時の流動性及び焼成時の許容温度範囲の広さに優れる。 The glass composition of the present invention is superior to conventional glass compositions in terms of water resistance, has a smaller coefficient of thermal expansion, and has excellent fluidity during melting and a wider allowable temperature range during firing. .

図1は、封着パッケージの一実施形態を示す正面図である。FIG. 1 is a front view showing one embodiment of a sealed package. 図2は、図3に示す封着パッケージのA-A線断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA of the sealed package shown in FIG. 図3Aは、封着パッケージの製造方法の一実施形態を示す工程図である。FIG. 3A is a process diagram showing one embodiment of a method for manufacturing a sealed package. 図3Bは、封着パッケージの製造方法の一実施形態を示す工程図である。FIG. 3B is a process diagram showing one embodiment of a method for manufacturing a sealed package. 図3Cは、封着パッケージの製造方法の一実施形態を示す工程図である。FIG. 3C is a process diagram showing one embodiment of a method for manufacturing a sealed package. 図3Dは、封着パッケージの製造方法の一実施形態を示す工程図である。FIG. 3D is a process diagram showing one embodiment of a method for manufacturing a sealed package. 図4は、図1に示す封着パッケージの製造に用いられる第1の基板の平面図である。FIG. 4 is a plan view of the first substrate used for manufacturing the sealed package shown in FIG. 1. 図5は、図4に示す第1の基板のB-B線断面図である。FIG. 5 is a sectional view taken along line BB of the first substrate shown in FIG. 図6は、図1に示す封着パッケージの製造に用いられる第2の基板の平面図である。FIG. 6 is a plan view of the second substrate used for manufacturing the sealed package shown in FIG. 1. 図7は、図6に示す第2の基板のC-C線断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view taken along line CC of the second substrate shown in FIG. 図8は、封着パッケージの一例である有機エレクトロルミネセンス素子の概念図である。FIG. 8 is a conceptual diagram of an organic electroluminescent device that is an example of a sealed package.

以下、本発明の実施形態について説明する。なお、本発明は、以下に説明する実施形態に限定されるものではない。また、以下の図面において、同じ作用を奏する部材・部位には同じ符号を付して説明することがあり、重複する説明は省略または簡略化することがある。また、図面に記載の実施形態は、本発明を明瞭に説明するために模式化されており、実際のサイズや縮尺を必ずしも正確に表したものではない。 Embodiments of the present invention will be described below. Note that the present invention is not limited to the embodiments described below. Furthermore, in the following drawings, members and portions that have the same function may be described with the same reference numerals, and overlapping descriptions may be omitted or simplified. Further, the embodiments illustrated in the drawings are schematically illustrated to clearly explain the present invention, and do not necessarily accurately represent the actual size or scale.

<ガラス組成物>
本実施形態のガラス組成物は、酸化物基準のモル%表示で、Vを25.0~40.0%、TeOを25.5~30.0%、ZnOを15.0~30.0%、Nbを5.5~8.0%、Alを0~5.0%、BaOを0~4.5%、Bを0~6.0%、Biを0~0.4%、及びZrOを0~4.5%含有し、実質的にアルカリ金属酸化物及びPbOを含有しないことを特徴とする。
<Glass composition>
The glass composition of the present embodiment contains 25.0 to 40.0% V 2 O 5 , 25.5 to 30.0% TeO 2 , and 15.0 to 15.0% ZnO in terms of mol% based on oxides. 30.0%, Nb 2 O 5 5.5-8.0%, Al 2 O 3 0-5.0%, BaO 0-4.5%, B 2 O 3 0-6.0 %, Bi 2 O 3 in an amount of 0 to 0.4%, and ZrO 2 in an amount of 0 to 4.5%, and is substantially free of alkali metal oxides and PbO.

次に、本実施形態のガラス組成物の各成分について説明する。以下の説明において、特に断りのない限り、ガラス組成物の各成分の含有量における「%」の表示は、酸化物基準、すなわち酸化物換算のモル%表示である。本明細書において、数値範囲を表す「~」は、上下限を含む意味で使用される。 Next, each component of the glass composition of this embodiment will be explained. In the following description, unless otherwise specified, "%" in the content of each component of the glass composition is expressed on an oxide basis, that is, expressed as mole % in terms of oxide. In this specification, "~" representing a numerical range is used to include the upper and lower limits.

封着材料に用いられるガラス組成物がアルカリ金属酸化物を含有すると、封着時や、封着後において封着材料が高温にさらされた際に、ガラス基板などの被封着材料にアルカリ成分が拡散し、被封着材料が劣化する。したがって、本実施形態のガラス組成物は実質的にアルカリ金属酸化物を含有しない。なお、本明細書において、「実質的に含有しない」とは、不可避的な不純物以外には含有しないという意味、即ち、意図的には添加されていないという意味である。したがって、本実施形態のガラス組成物は、不可避不純物としてのアルカリ金属酸化物を微量含有し得る。本実施形態のガラス組成物におけるアルカリ金属酸化物の含有量は、1000ppm以下が好ましく、500ppm以下がより好ましい。
なお、本明細書においてアルカリ金属酸化物とは、LiO、NaO及びKOを意味するものとする。また、ppmとは質量ppmを意味する。
If the glass composition used as a sealing material contains an alkali metal oxide, the alkali component may be released into the material to be sealed such as a glass substrate when the sealing material is exposed to high temperatures during or after sealing. is diffused and the material to be sealed deteriorates. Therefore, the glass composition of this embodiment does not substantially contain an alkali metal oxide. In this specification, "substantially not containing" means that it does not contain anything other than inevitable impurities, that is, it means that it is not intentionally added. Therefore, the glass composition of this embodiment may contain a trace amount of an alkali metal oxide as an unavoidable impurity. The content of the alkali metal oxide in the glass composition of this embodiment is preferably 1000 ppm or less, more preferably 500 ppm or less.
Note that in this specification, the alkali metal oxide means Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O. Moreover, ppm means mass ppm.

また、本実施形態のガラス組成物は環境に対する負荷を低減するために、実質的に鉛、すなわち、PbOを含有しない。なお、PbOについて、「実質的に含有しない」とは、ガラス組成物中のPbOの含有量が、1000ppm以下であることを意味する。 Moreover, the glass composition of this embodiment does not substantially contain lead, that is, PbO, in order to reduce the load on the environment. Regarding PbO, "substantially not containing" means that the content of PbO in the glass composition is 1000 ppm or less.

は、ガラス形成酸化物であり、ガラスのネットワークを形成するとともに、低軟化成分として必須である。また、レーザ吸収成分としても有効である。一方、Vの含有量が多いと、耐水性が低下し、またガラス製造時にガラス安定性が低下してガラスが失透しやすくなるおそれがある。また、Vの含有量が少なすぎると、ガラス転移温度が上昇し低温封着性が悪化するおそれがある。したがって、Vの含有量は25.0~40.0%とする。Vの含有量は28.0%以上が好ましく、30.0%以上がより好ましく、32.0%以上がさらに好ましく、また、39.0%以下が好ましく、38.0%以下がより好ましく、37.0%以下がさらに好ましい。 V 2 O 5 is a glass-forming oxide that forms a glass network and is essential as a low softening component. It is also effective as a laser absorption component. On the other hand, if the content of V 2 O 5 is large, water resistance may decrease, and glass stability may decrease during glass production, making the glass more likely to devitrify. Furthermore, if the content of V 2 O 5 is too small, the glass transition temperature may rise and low-temperature sealing properties may deteriorate. Therefore, the content of V 2 O 5 is set to 25.0 to 40.0%. The content of V 2 O 5 is preferably 28.0% or more, more preferably 30.0% or more, even more preferably 32.0% or more, and preferably 39.0% or less, and 38.0% or less. More preferably, it is 37.0% or less.

TeOは、ガラス形成酸化物であり、ガラスネットワークを形成するとともに、低軟化成分として必須である。また、ガラス組成物の流動性および耐水性を向上させる機能を有する。一方、TeOの含有量が多いと、熱膨張係数が大きくなる。また、少なすぎると、ガラス転移温度が上昇し低温封着性が悪化するおそれがあり、また封着焼成時に結晶化しやすくなる。さらに、流動性および耐水性の向上の効果を十分に得ることができない。したがって、TeOの含有量を25.5~30.0%とする。TeOの含有量は26.0%以上が好ましく、また、29.0%以下が好ましく、28.0%以下がより好ましく、27.5%以下がさらに好ましい。 TeO 2 is a glass-forming oxide that forms a glass network and is essential as a low softening component. It also has the function of improving the fluidity and water resistance of the glass composition. On the other hand, when the content of TeO 2 is large, the coefficient of thermal expansion becomes large. On the other hand, if the amount is too small, the glass transition temperature may rise and low-temperature sealing properties may deteriorate, and crystallization may easily occur during sealing firing. Furthermore, the effects of improving fluidity and water resistance cannot be sufficiently obtained. Therefore, the content of TeO 2 is set to 25.5 to 30.0%. The content of TeO 2 is preferably 26.0% or more, preferably 29.0% or less, more preferably 28.0% or less, and even more preferably 27.5% or less.

ZnOは、熱膨張係数を低下させる成分として必須である。一方、ZnOの含有量が多いと、ガラス製造時にガラス安定性が低下してガラスが失透しやすくなるおそれがある。また少なすぎると、熱膨張係数が大きくなる。したがって、ZnOの含有量は15.0~30.0%である。ZnOの含有量は17.0%以上が好ましく、18.5%以上がより好ましく、20.0%以上がさらに好ましく、また、28.0%以下が好ましく、26.5%以下がより好ましく、25.0%以下がさらに好ましい。 ZnO is essential as a component that lowers the coefficient of thermal expansion. On the other hand, if the content of ZnO is large, the glass stability may be reduced during glass production, and the glass may easily devitrify. On the other hand, if the amount is too small, the coefficient of thermal expansion will increase. Therefore, the ZnO content is 15.0 to 30.0%. The content of ZnO is preferably 17.0% or more, more preferably 18.5% or more, even more preferably 20.0% or more, and preferably 28.0% or less, more preferably 26.5% or less, More preferably, it is 25.0% or less.

Nbは、熱膨張係数を低下させ、また耐水性を向上させる成分として必須である。一方、Nbの含有量が多いと、レーザ焼成封着時にガラスが結晶化しやすく、また、少なすぎると、熱膨張係数が大きくなり、さらに耐水性を向上の効果が十分に得られない。したがって、Nbの含有量を5.5~8.0%とする。
一般的にNbは含有量が多いと(例えば、5%以上)、レーザ焼成封着時にガラスが結晶化しやすくなるため、従来、Nbを多く添加することが困難であった。本発明者らは、TeO等の非晶質成分の割合を十分に高めることによって、Nbを5.5%以上含有させても、焼成によってガラスが結晶化せず、優れた耐水性および熱膨張係数の小さいガラス組成物が得られることを見出した。
Nbの含有量は6.2%超が好ましく、6.5%以上がより好ましい。また、レーザ焼成封着時におけるガラスの結晶化を回避するため、Nbの含有量は8.0%以下であり、7.8%以下が好ましく、7.6%以下がより好ましく、7.4%以下がさらに好ましい。
Nb 2 O 5 is essential as a component that lowers the coefficient of thermal expansion and improves water resistance. On the other hand, if the content of Nb 2 O 5 is high, the glass tends to crystallize during laser firing sealing, and if it is too low, the coefficient of thermal expansion becomes large, and the effect of improving water resistance cannot be sufficiently obtained. . Therefore, the content of Nb 2 O 5 is set to 5.5 to 8.0%.
Generally, if the content of Nb 2 O 5 is high (for example, 5% or more), the glass tends to crystallize during laser firing sealing, so it has been difficult to add a large amount of Nb 2 O 5 in the past. . The present inventors have found that by sufficiently increasing the proportion of amorphous components such as TeO2 , the glass does not crystallize during firing even when containing 5.5% or more of Nb2O5 , and has excellent water resistance. It has been found that a glass composition with low elasticity and low coefficient of thermal expansion can be obtained.
The content of Nb 2 O 5 is preferably more than 6.2%, more preferably 6.5% or more. Further, in order to avoid crystallization of the glass during laser firing sealing, the content of Nb 2 O 5 is 8.0% or less, preferably 7.8% or less, more preferably 7.6% or less, More preferably, it is 7.4% or less.

Alは必須ではないが、熱膨張係数を低下させる効果を有する成分であり、さらに耐水性を向上させる効果があるため、本実施形態のガラス組成物に含有させることが好ましい。本実施形態において、Alの含有量は0~5.0%である。ここで、Alを含有させる場合、Alの含有量は、0.5%以上が好ましく、1.0%以上がより好ましく、1.5%以上がさらに好ましい。また、ガラス転移温度を適切な範囲に保ち、さらにレーザ焼成封着時のガラスの結晶化を回避するために、Alの含有量は、5.0%以下であり、4.5%以下が好ましく、4.0%以下がより好ましく、3.5%以下がさらに好ましい。 Although Al 2 O 3 is not essential, it is a component that has the effect of lowering the coefficient of thermal expansion and further has the effect of improving water resistance, so it is preferably included in the glass composition of this embodiment. In this embodiment, the content of Al 2 O 3 is 0 to 5.0%. Here, when containing Al 2 O 3 , the content of Al 2 O 3 is preferably 0.5% or more, more preferably 1.0% or more, and even more preferably 1.5% or more. In addition, in order to keep the glass transition temperature within an appropriate range and further avoid crystallization of the glass during laser firing sealing, the content of Al 2 O 3 is 5.0% or less, and 4.5%. It is preferably at most 4.0%, more preferably at most 3.5%.

BaOは必須ではないが、ガラスを安定化させるために有効な成分であるため、本実施形態のガラス組成物に含有させることが好ましい。本実施形態において、BaOの含有量は0~4.5%である。ここで、BaOを含有させる場合、BaOの含有量は、0.5%以上が好ましい。また、ガラス転移温度や熱膨張係数を適切な範囲に保つために、BaOの含有量は、4.5%以下であり、3.5%が好ましく、2.5%以下がより好ましく、2.0%以下がさらに好ましい。 Although BaO is not essential, since it is an effective component for stabilizing glass, it is preferable to include it in the glass composition of this embodiment. In this embodiment, the BaO content is 0 to 4.5%. Here, when BaO is contained, the content of BaO is preferably 0.5% or more. In addition, in order to maintain the glass transition temperature and thermal expansion coefficient within appropriate ranges, the BaO content is 4.5% or less, preferably 3.5%, more preferably 2.5% or less, and 2. More preferably, it is 0% or less.

は必須ではないが、ガラス形成酸化物であり、ガラスネットワークを形成し、ガラス安定性を向上させる成分であるため、本実施形態のガラス組成物に含有させることが好ましい。本実施形態において、Bの含有量は0~6.0%である。ここで、Bを含有させる場合、Bの含有量は1.0%以上が好ましく、1.5%以上がより好ましく、2.0%以上がさらに好ましい。また、Bの含有量が多いと、逆にガラスが不安定になり、レーザ焼成封着時に結晶化しやすくなる。したがって、Bが過剰に含有されることによるガラスの結晶化を回避するために、Bの含有量は6.0%以下であり、5.0%以下が好ましく、4.5%以下がより好ましく、4.0%以下がさらに好ましい。 Although B 2 O 3 is not essential, it is preferably included in the glass composition of this embodiment because it is a glass-forming oxide and is a component that forms a glass network and improves glass stability. In this embodiment, the content of B 2 O 3 is 0 to 6.0%. Here, when B 2 O 3 is contained, the content of B 2 O 3 is preferably 1.0% or more, more preferably 1.5% or more, and even more preferably 2.0% or more. Moreover, if the content of B 2 O 3 is large, the glass becomes unstable and tends to crystallize during laser firing and sealing. Therefore, in order to avoid crystallization of the glass due to excessive B 2 O 3 content, the content of B 2 O 3 is 6.0% or less, preferably 5.0% or less, and 4. It is more preferably 5% or less, and even more preferably 4.0% or less.

Biは封着時にガラス基板と反応しやすく、反応層を形成することで接着強度を向上させる成分であるため、本実施形態のガラス組成物に含有させることが好ましい。また、Biの含有量が多いと、レーザ焼成封着時にガラスが結晶化しやすく、さらに熱膨張係数が大きくなるおそれがある。その上、過度にガラス基板と反応し、ガラス基板中のSiO等の高融点成分をガラス組成物中に取り込むことで、固着点が上がり、封着後の封着材料の残留応力が大きくなるおそれがある。したがって、Biの含有量は0~0.4%である。ここで、Biの含有量は、0.3%以下が好ましく、0.2%以下がより好ましく、0.15%以下がさらに好ましく、0.1%以下が特に好ましい。また、Biの含有量の下限は0%であり、すなわち、本実施形態のガラス組成物においてBiは実質的に含有しなくてもよい。 Since Bi 2 O 3 is a component that easily reacts with the glass substrate during sealing and improves adhesive strength by forming a reaction layer, it is preferably included in the glass composition of this embodiment. Moreover, if the content of Bi 2 O 3 is large, the glass is likely to crystallize during laser firing sealing, and there is a possibility that the coefficient of thermal expansion will further increase. Furthermore, by excessively reacting with the glass substrate and incorporating high melting point components such as SiO 2 in the glass substrate into the glass composition, the fixing point increases and residual stress in the sealing material after sealing increases. There is a risk. Therefore, the content of Bi 2 O 3 is 0 to 0.4%. Here, the content of Bi 2 O 3 is preferably 0.3% or less, more preferably 0.2% or less, further preferably 0.15% or less, and particularly preferably 0.1% or less. Moreover, the lower limit of the content of Bi 2 O 3 is 0%, that is, the glass composition of this embodiment does not need to contain substantially Bi 2 O 3 .

ZrOは必須ではないが、化学的安定性を向上させる成分であるため、含有させることが好ましい。本実施形態において、ZrOの含有量は0~4.5%である。ここで、ZrOを含有させる場合、ZrOの含有量は、0.5%以上が好ましく、1.0%以上がより好ましい。また、ガラス転移温度を適切な範囲に保ち、さらにレーザ焼成封着時のガラスの結晶化を回避するために、ZrOの含有量は、4.5%以下であり、3.5%以下が好ましく、3.0%以下がより好ましく、2.5%以下がさらに好ましい。 Although ZrO 2 is not essential, it is preferably included because it is a component that improves chemical stability. In this embodiment, the content of ZrO 2 is 0 to 4.5%. Here, when containing ZrO 2 , the content of ZrO 2 is preferably 0.5% or more, and more preferably 1.0% or more. In addition, in order to keep the glass transition temperature within an appropriate range and further avoid crystallization of the glass during laser firing sealing, the content of ZrO 2 is 4.5% or less, and 3.5% or less. It is preferably 3.0% or less, more preferably 2.5% or less.

、TeOおよびZnOの含有量の合計(V+TeO+ZnO)が80~91%であると、耐水性とガラスの安定化を両立させやすいため好ましい。また、同様の理由から、(V+TeO+ZnO)は82%以上がより好ましく、84%以上がさらに好ましく、また、89%以下がより好ましく、88%以下がさらに好ましい。 It is preferable that the total content of V 2 O 5 , TeO 2 and ZnO (V 2 O 5 +TeO 2 +ZnO) is 80 to 91% because it is easy to achieve both water resistance and glass stabilization. Further, for the same reason, (V 2 O 5 +TeO 2 +ZnO) is more preferably 82% or more, even more preferably 84% or more, and more preferably 89% or less, even more preferably 88% or less.

とTeOとの含有量の比(V/TeO)が1.0~1.6であると、封着焼成時の結晶化を抑制でき、ガラスが安定化するため好ましい。また、同様の理由から、(V/TeO)は1.1以上がより好ましく、また、1.5以下がより好ましい。 When the content ratio of V 2 O 5 and TeO 2 (V 2 O 5 /TeO 2 ) is 1.0 to 1.6, crystallization during sealing and firing can be suppressed and the glass is stabilized. Therefore, it is preferable. Further, for the same reason, (V 2 O 5 /TeO 2 ) is more preferably 1.1 or more, and more preferably 1.5 or less.

Bi、TeOおよびBaOの含有量の合計(Bi+TeO+BaO)が25.5~31.0%であると、熱膨張係数を適切な範囲にできるため、好ましい。また、同様の理由から、(Bi+TeO+BaO)は26.0%以上がより好ましく、また、30.0%以下がより好ましい。 It is preferable that the total content of Bi 2 O 3 , TeO 2 and BaO (Bi 2 O 3 +TeO 2 +BaO) is 25.5 to 31.0% because the coefficient of thermal expansion can be kept within an appropriate range. Further, for the same reason, (Bi 2 O 3 +TeO 2 +BaO) is more preferably 26.0% or more, and more preferably 30.0% or less.

AlおよびZrOの含有量の合計(Al+ZrO)が0~7.0%であると、レーザ焼成封着時のガラスの結晶化を抑制しつつ、耐水性を向上できるため好ましい。また、同様の理由から、(Al+ZrO)は1.5%以上がより好ましく、2.5%以上がさらに好ましく、また、6.0%以下がより好ましく、5.0%以下がさらに好ましい。 When the total content of Al 2 O 3 and ZrO 2 (Al 2 O 3 + ZrO 2 ) is 0 to 7.0%, water resistance is improved while suppressing glass crystallization during laser firing and sealing. It is preferable because it can be done. Furthermore, for the same reason, (Al 2 O 3 +ZrO 2 ) is more preferably 1.5% or more, even more preferably 2.5% or more, and more preferably 6.0% or less, and 5.0% or less. is even more preferable.

CuOは必須ではないが、熱膨張係数を低下させる効果を有する成分であり、また耐水性を向上させる効果があるため、含有させてもよい。さらにレーザ吸収成分としても有効である。そのため、CuOを含有させることで、ガラスペースト作製時に、レーザ吸収を目的として含有させる顔料の添加量を減らし、代わりに低膨張充填剤を多く含有させることができるため、より熱膨張係数が低いガラスペーストの製造が可能になる。一方、CuOの含有量が多いと、レーザ封着焼成時に結晶化しやすくなる。したがって、CuOの含有量は1.0~10.0%であることが好ましい。ここで、レーザ吸収の効果を十分得るために、CuOの含有量は1.0%以上が好ましく、2.0%以上がより好ましく、3.0%以上がさらに好ましい。また、ガラスの結晶化を回避するために、CuOの含有量は10.0%以下が好ましく、8.0%以下がより好ましく、7.0%以下がさらに好ましい。 Although CuO is not essential, it is a component that has the effect of lowering the thermal expansion coefficient and also has the effect of improving water resistance, so it may be included. Furthermore, it is effective as a laser absorption component. Therefore, by including CuO, it is possible to reduce the amount of pigment added for the purpose of laser absorption when making glass paste, and instead, it is possible to include a large amount of low expansion filler, which makes it possible to make glass with a lower coefficient of thermal expansion. It becomes possible to manufacture paste. On the other hand, when the CuO content is high, crystallization tends to occur during laser sealing and firing. Therefore, the content of CuO is preferably 1.0 to 10.0%. Here, in order to obtain a sufficient laser absorption effect, the content of CuO is preferably 1.0% or more, more preferably 2.0% or more, and even more preferably 3.0% or more. Further, in order to avoid crystallization of the glass, the content of CuO is preferably 10.0% or less, more preferably 8.0% or less, and even more preferably 7.0% or less.

Feは必須ではないが、レーザ吸収成分としても有効であるため、含有させてもよい。Feを含有させることで、ガラスペースト作製時に、レーザ吸収を目的として含有させる顔料の添加量を減らし、代わりに低膨張充填剤を多く含有させることができるため、より熱膨張係数が低いガラスペーストの作製が可能になる。一方で、Feの含有量が多いとレーザ焼成封着時にガラスが結晶化しやすくなり、さらに、ガラスの軟化点が上がり、低温封着性が悪くなる。したがって、Feの含有量は1.0~7.0%であることが好ましい。ここで、Feの含有量は7.0%以下が好ましく、5.0%以下がより好ましく、2.0%以下がさらに好ましい。また、レーザ吸収の効果を得るために、Feの含有量は1.0%以上が好ましい。ただし、CuOが含まれていれば、Feを含有していなくても上記効果を得ることができる。 Although Fe 2 O 3 is not essential, it may be included since it is also effective as a laser absorption component. By containing Fe 2 O 3 , the amount of pigment added for the purpose of laser absorption can be reduced during the production of glass paste, and instead a large amount of low expansion filler can be included, resulting in a lower coefficient of thermal expansion. It becomes possible to create glass paste. On the other hand, if the content of Fe 2 O 3 is high, the glass tends to crystallize during laser firing sealing, and furthermore, the softening point of the glass increases, resulting in poor low-temperature sealing properties. Therefore, the content of Fe 2 O 3 is preferably 1.0 to 7.0%. Here, the content of Fe 2 O 3 is preferably 7.0% or less, more preferably 5.0% or less, and even more preferably 2.0% or less. Further, in order to obtain the effect of laser absorption, the content of Fe 2 O 3 is preferably 1.0% or more. However, as long as CuO is contained, the above effects can be obtained even if Fe 2 O 3 is not contained.

MnOは必須ではないが、レーザ吸収成分として有効な成分であるため、含有させてもよい。MnOを含有させることで、ガラスペースト作製時に、レーザ吸収を目的として含有させる顔料の添加量を減らし、代わりに低膨張充填剤を多く含有させることができるため、より熱膨張係数が低いガラスペーストの作製が可能になる。一方で、MnOの含有量が多いと、レーザ焼成封着時にガラスが結晶化しやすくなる。したがって、MnOの含有量は1.0~7.0%であることが好ましい。ここで、MnOの含有量は7.0%以下が好ましく、5.0%以下がより好ましく、2.0%以下がさらに好ましい。また、レーザ吸収の効果を得るために、MnOの含有量は1.0%以上が好ましい。ただし、CuOやFeが含まれていれば、MnOを含有していなくても上記効果を得ることができる。 Although MnO 2 is not essential, it may be included since it is an effective component as a laser absorption component. By including MnO 2 , it is possible to reduce the amount of pigments added for laser absorption when making glass paste, and instead include a large amount of low-expansion filler, resulting in a glass paste with a lower coefficient of thermal expansion. It becomes possible to create On the other hand, when the MnO 2 content is high, the glass tends to crystallize during laser firing and sealing. Therefore, the content of MnO 2 is preferably 1.0 to 7.0%. Here, the content of MnO 2 is preferably 7.0% or less, more preferably 5.0% or less, and even more preferably 2.0% or less. Further, in order to obtain the effect of laser absorption, the content of MnO 2 is preferably 1.0% or more. However, as long as CuO and Fe 2 O 3 are contained, the above effects can be obtained even if MnO 2 is not contained.

本実施形態のガラス組成物は、上記成分以外の成分(以下、「他の成分」という。)を本発明の目的を損なわない範囲で含有してもよい。他の成分の合計の含有量は好ましくは10.0%以下である。 The glass composition of the present embodiment may contain components other than the above-mentioned components (hereinafter referred to as "other components") within a range that does not impair the object of the present invention. The total content of other components is preferably 10.0% or less.

本実施形態のガラス組成物は、他の成分としてSiO、MgO、CaO、SrO、P、TiO、CeO、La、CoO、MoO、Sb、WO、GeO、Taなどを含有してもよい。ただし、Pを含有させ過ぎると、耐水性が低下するおそれがある。そのため、Pを含有してもよいが、含有量は5%以下が好ましく、実質的に含有しないことがさらに好ましい。なお、Pについて、「実質的に含有しない」とは、ガラス組成物中のPの含有量が、1000ppm以下であることを意味する。 The glass composition of this embodiment includes SiO 2 , MgO, CaO, SrO, P 2 O 5 , TiO 2 , CeO 2 , La 2 O 3 , CoO, MoO 3 , Sb 2 O 3 , WO 3 as other components. , GeO 2 , Ta 2 O 5 and the like. However, if too much P 2 O 5 is contained, the water resistance may decrease. Therefore, although P 2 O 5 may be contained, the content is preferably 5% or less, and more preferably substantially not contained. Regarding P 2 O 5 , “substantially not containing” means that the content of P 2 O 5 in the glass composition is 1000 ppm or less.

(ガラス組成物の熱特性)
本実施形態のガラス組成物は、ガラス転移温度Tgが340℃以下であることが、低温封着性が良好となるため好ましい。Tgはより好ましくは330℃以下であり、320℃以下がさらに好ましい。Tgの下限は特に限定されないが、例えば、280℃以上である。
(Thermal properties of glass composition)
It is preferable that the glass composition of this embodiment has a glass transition temperature Tg of 340° C. or less because low-temperature sealing properties become good. Tg is more preferably 330°C or lower, even more preferably 320°C or lower. The lower limit of Tg is not particularly limited, but is, for example, 280° C. or higher.

本実施形態のガラス組成物は、熱分析装置(DTA)を用いて加熱した際の第4変曲点Tsが400℃以下であることが、低温封着性が良好となるため好ましい。Tsはより好ましくは390℃以下であり、380℃以下がさらに好ましい。Tsの下限は特に限定されないが、例えば、350℃以上である。 The glass composition of the present embodiment preferably has a fourth inflection point Ts of 400° C. or less when heated using a thermal analyzer (DTA), since this provides good low-temperature sealing properties. Ts is more preferably 390°C or lower, even more preferably 380°C or lower. The lower limit of Ts is not particularly limited, but is, for example, 350° C. or higher.

本実施形態のガラス組成物は、熱分析装置(DTA)を用いて加熱した際の結晶化開始温度Tcsが470℃以上であることが、低温封着性が良好となるため好ましい。Tcsはより好ましくは480℃以上であり、490℃以上がさらに好ましい。Tcsの上限は特に限定されない。 The glass composition of the present embodiment preferably has a crystallization start temperature Tcs of 470° C. or higher when heated using a thermal analyzer (DTA) because low-temperature sealing properties are improved. Tcs is more preferably 480°C or higher, and even more preferably 490°C or higher. The upper limit of Tcs is not particularly limited.

本実施形態のガラス組成物は、熱分析装置(DTA)を用いて加熱した際の結晶化温度Tcpが450℃以上であることが、低温封着性が良好となるため好ましい。Tcpはより好ましくは470℃以上であり、480℃以上がさらに好ましい。Tcpの上限は特に限定されない。 It is preferable that the glass composition of the present embodiment has a crystallization temperature Tcp of 450° C. or higher when heated using a thermal analyzer (DTA), since this provides good low-temperature sealing properties. Tcp is more preferably 470°C or higher, even more preferably 480°C or higher. The upper limit of Tcp is not particularly limited.

本実施形態に係るガラス組成物は、結晶化開始温度と第4変曲点の温度差(Tcs-Ts)が100℃より大きいことが好ましい。(Tcs-Ts)が100℃より大きいことで、ガラス溶融時のプロセスマージンを広げることができ、レーザ焼成封着時における有機EL素子への熱影響を小さくできる。(Tcs-Ts)は、110℃以上がより好ましく、120℃以上がさらに好ましい。(Tcs-Ts)の上限は、特に限定されない。 In the glass composition according to the present embodiment, the temperature difference (Tcs-Ts) between the crystallization start temperature and the fourth inflection point is preferably greater than 100°C. When (Tcs-Ts) is larger than 100° C., the process margin during glass melting can be widened, and the thermal influence on the organic EL element during laser firing sealing can be reduced. (Tcs-Ts) is more preferably 110°C or higher, even more preferably 120°C or higher. The upper limit of (Tcs-Ts) is not particularly limited.

ガラス転移温度Tg、第4変曲点Ts、結晶化開始温度Tcsおよび結晶化温度Tcpは、示差熱分析(DTA)装置を用いて測定したDTAチャートの第1変曲点をTg、第4変曲点をTs、発熱ピークの開始点をTcs、発熱ピーク温度をTcpとして求められる。 The glass transition temperature Tg, the fourth inflection point Ts, the crystallization start temperature Tcs, and the crystallization temperature Tcp are the first inflection point of the DTA chart measured using a differential thermal analysis (DTA) device, and the fourth inflection point Tg. It is determined by setting the curve point as Ts, the starting point of the exothermic peak as Tcs, and the exothermic peak temperature as Tcp.

(ガラス組成物の製造方法)
本実施形態のガラス組成物の製造方法は、特に限定されない。例えば、以下に示す方法で製造できる。
(Method for manufacturing glass composition)
The method for manufacturing the glass composition of this embodiment is not particularly limited. For example, it can be manufactured by the method shown below.

まず、原料混合物を準備する。原料は、通常の酸化物系のガラスの製造に用いる原料であれば特に限定されず、酸化物や炭酸塩等を用い得る。得られるガラス組成物の組成が上記の範囲となるように原料の種類および割合を適宜調整して原料混合物とする。 First, a raw material mixture is prepared. The raw material is not particularly limited as long as it is a raw material used in the manufacture of ordinary oxide-based glasses, and oxides, carbonates, and the like may be used. A raw material mixture is prepared by appropriately adjusting the types and proportions of the raw materials so that the composition of the resulting glass composition falls within the above range.

次に、原料混合物を公知の方法で加熱して溶融物を得る。加熱溶融する温度(溶融温度)は、950~1200℃が好ましく、1000℃以上がより好ましく、また、1150℃以下がより好ましい。加熱溶融する時間は、30~90分が好ましい。 Next, the raw material mixture is heated by a known method to obtain a melt. The heating melting temperature (melting temperature) is preferably 950 to 1200°C, more preferably 1000°C or higher, and more preferably 1150°C or lower. The heating and melting time is preferably 30 to 90 minutes.

その後、溶融物を冷却し固化することにより、本実施形態のガラス組成物が得られる。冷却方法は特に限定されない。ロールアウトマシンやプレスマシンを使用してもよく、また、冷却液体への滴下等により急冷する方法であってもよい。得られるガラス組成物は完全に非晶質である、すなわち結晶化度が0%であることが好ましい。ただし、本発明の効果を損なわない範囲であれば、結晶化した部分を含んでいてもよい。 Thereafter, the glass composition of this embodiment is obtained by cooling and solidifying the melt. The cooling method is not particularly limited. A rollout machine or a press machine may be used, or a method of quenching by dropping into a cooling liquid or the like may be used. Preferably, the resulting glass composition is completely amorphous, ie, has a crystallinity of 0%. However, it may contain a crystallized portion as long as it does not impair the effects of the present invention.

こうして得られる本実施形態のガラス組成物は、いかなる形態であってもよい。例えば、ブロック状、板状、薄い板状(フレーク状)、粉末状等であってもよい。 The glass composition of this embodiment obtained in this way may be in any form. For example, it may be in the form of a block, a plate, a thin plate (flake), a powder, or the like.

本実施形態のガラス組成物を封着材料として用いる場合には、ガラス組成物はガラス粉末であることが好ましい。なお、ガラス組成物の上記特性の評価をする際の形態についても、封着材料としての性能をみる観点から、ガラス粉末が好ましい。 When using the glass composition of this embodiment as a sealing material, the glass composition is preferably a glass powder. Regarding the form used to evaluate the above-mentioned properties of the glass composition, glass powder is preferable from the viewpoint of its performance as a sealing material.

(ガラス粉末)
本実施形態のガラス組成物をガラス粉末とする場合、ガラス粉末の粒度は、用途に応じて適宜選択できる。ガラス粉末の典型的な用途である封着材料の場合、ガラス粉末の粒度は0.1~100μmが好ましい。
(glass powder)
When the glass composition of this embodiment is made into glass powder, the particle size of the glass powder can be appropriately selected depending on the application. In the case of sealing materials, which is a typical use of glass powder, the particle size of the glass powder is preferably 0.1 to 100 μm.

また、ガラス粉末の粒度が大きいと、ペースト化して塗布や乾燥した際に、沈降分離しやすく、さらに、得られる封着層の厚みが増加するという問題もある。したがって、ガラス粉末をペースト化して使用する場合は、ガラス粉末の粒度は0.1~5.0μmの範囲にするのが好ましく、より好ましくは0.1~2.5μmである。 Further, if the particle size of the glass powder is large, there is a problem that when it is made into a paste and applied and dried, it tends to settle and separate, and the thickness of the resulting sealing layer increases. Therefore, when glass powder is used as a paste, the particle size of the glass powder is preferably in the range of 0.1 to 5.0 μm, more preferably 0.1 to 2.5 μm.

なお、本明細書においては、「粒度」は、累積粒度分布における体積基準の50%粒径(D50)を意味し、具体的には、レーザ回折/散乱式粒度分布測定装置を用いて測定した粒径分布の累積粒度曲線において、その積算量が体積基準で50%を占めるときの粒径を意味する。 In addition, in this specification, "particle size" means the volume-based 50% particle size ( D50 ) in cumulative particle size distribution, and specifically, it is measured using a laser diffraction/scattering type particle size distribution measuring device. In the cumulative particle size curve of the particle size distribution, it means the particle size when the cumulative amount occupies 50% on a volume basis.

本実施形態のガラス組成物からなるガラス粉末は、例えば、ガラス組成物を粉砕して得られる。よって、ガラス粉末の粒度は、粉砕の条件により調整できる。粉砕の方法としては、回転ボールミル、振動ボールミル、遊星ミル、ジェットミル、アトライター、媒体撹拌ミル(ビーズミル)、ジョークラッシャー、ロールクラッシャーなどが挙げられる。 The glass powder made of the glass composition of this embodiment can be obtained, for example, by crushing the glass composition. Therefore, the particle size of the glass powder can be adjusted by adjusting the pulverization conditions. Examples of the crushing method include a rotary ball mill, a vibrating ball mill, a planetary mill, a jet mill, an attritor, a media stirring mill (bead mill), a jaw crusher, and a roll crusher.

特にガラス粉末を、5.0μm以下といった細かい粒度にする場合は、湿式粉砕を用いるのがよい。湿式粉砕は水もしくはアルコールのような溶媒中でアルミナやジルコニアからなるメディアもしくはビーズミルを用いて粉砕するものである。 In particular, when glass powder is to be made into a fine particle size of 5.0 μm or less, wet pulverization is preferably used. Wet grinding involves grinding in a solvent such as water or alcohol using media made of alumina or zirconia or a bead mill.

ガラス粉末の粒度を調整するために、ガラス組成物の粉砕に加えて、必要に応じて篩等を用いて、分級を行ってもよい。 In order to adjust the particle size of the glass powder, in addition to pulverizing the glass composition, it may be classified using a sieve or the like, if necessary.

また、本実施形態のガラス組成物からなるガラス粉末を封着材料として用いる場合は、ガラス粉末をそのままの形態で用いてもよいが、封着方法に応じて、低膨張充填材および/またはレーザ吸収物質とともに混合した封着材料としてもよい。また、該ガラス組成物並びに該封着材料は、作業性を高める観点から、ペースト化して用いることが好ましい。 Further, when using the glass powder made of the glass composition of this embodiment as a sealing material, the glass powder may be used as it is, but depending on the sealing method, a low expansion filler and/or a laser may be used. It may also be a sealing material mixed with an absorbent substance. Further, from the viewpoint of improving workability, it is preferable to use the glass composition and the sealing material in the form of a paste.

<ガラスペースト>
本実施形態のガラスペーストは、上記の本実施形態のガラス組成物と、有機ビヒクルとを含有する。また、ガラスペーストは、封着方法に応じて低膨張充填材および/またはレーザ吸収物質を含有してもよい。以下、有機ビヒクル、低膨張充填材、レーザ吸収物質について説明する。
<Glass paste>
The glass paste of this embodiment contains the glass composition of this embodiment described above and an organic vehicle. The glass paste may also contain low expansion fillers and/or laser absorbing substances depending on the sealing method. The organic vehicle, low expansion filler, and laser absorbing substance will be explained below.

有機ビヒクルとしては、例えば、溶剤にバインダ成分である樹脂を溶解したものが用いられる。
具体的には、メチルセルロース、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、オキシエチルセルロース、ベンジルセルロース、プロピルセルロース、ニトロセルロース等の樹脂を、ターピネオール、テキサノール、ブチルカルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテート等の溶剤に溶解したものを有機ビヒクルとして使用できる。
また、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロオキシエチル(メタ)アクリレート等のアクリル系樹脂を、メチルエチルケトン、ターピネオール、テキサノール、ブチルカルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテート等の溶剤に溶解したものを有機ビヒクルとして使用できる。なお、本明細書において(メタ)アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートの少なくとも一方を意味する。
また、ポリエチレンカーボネート、ポリプロピレンカーボネート等のポリアルキレンカーボネートを、アセチルクエン酸トリエチル、プロピレングリコールジアセテート、コハク酸ジエチル、エチルカルビトールアセテート、トリアセチン、テキサノール、アジピン酸ジメチル、安息香酸エチル、プロピレングリコールモノフェニルエーテルとトリエチレングリコールジメチルエーテルの混合物等の溶剤に溶解したものを有機ビヒクルとして使用できる。
As the organic vehicle, for example, one in which a resin as a binder component is dissolved in a solvent is used.
Specifically, resins such as methylcellulose, ethylcellulose, carboxymethylcellulose, oxyethylcellulose, benzylcellulose, propylcellulose, and nitrocellulose are dissolved in solvents such as terpineol, texanol, butyl carbitol acetate, and ethyl carbitol acetate. Can be used as a vehicle.
In addition, acrylic resins such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, methyl ethyl ketone, terpineol, texanol, butyl carbitol acetate, ethyl carbitol A solution dissolved in a solvent such as acetate can be used as the organic vehicle. In this specification, (meth)acrylate means at least one of acrylate and methacrylate.
In addition, polyalkylene carbonates such as polyethylene carbonate and polypropylene carbonate, acetyl triethyl citrate, propylene glycol diacetate, diethyl succinate, ethyl carbitol acetate, triacetin, texanol, dimethyl adipate, ethyl benzoate, propylene glycol monophenyl ether A solution in a solvent such as a mixture of and triethylene glycol dimethyl ether can be used as the organic vehicle.

有機ビヒクルにおける樹脂と溶剤の割合は、特に制限されないが、有機ビヒクルの粘度がガラスペーストの粘度を調整できる粘度となるように選択される。有機ビヒクルにおける樹脂と溶剤の割合は、具体的には、樹脂:溶剤で示す質量比が、3:97~30:70程度が好ましい。 The ratio of resin and solvent in the organic vehicle is not particularly limited, but is selected so that the viscosity of the organic vehicle can adjust the viscosity of the glass paste. Specifically, the ratio of resin to solvent in the organic vehicle is preferably about 3:97 to 30:70 by mass ratio of resin:solvent.

低膨張充填材はガラス組成物より低い熱膨張係数を有し、概ね-15×10-7~45×10-7/℃程度の熱膨張係数を有する。低膨張充填材は、封着層の熱膨張係数を低下させる目的で添加される。 The low expansion filler has a coefficient of thermal expansion lower than that of the glass composition, and generally has a coefficient of thermal expansion of about -15×10 −7 to 45×10 −7 /°C. The low expansion filler is added for the purpose of lowering the thermal expansion coefficient of the sealing layer.

低膨張充填材としては、特に限定されないが、シリカ、アルミナ、ジルコニア、珪酸ジルコニウム、コージェライト、リン酸ジルコニウム系化合物、ソーダライムガラス、および硼珪酸ガラスから選ばれる少なくとも1種が好ましい。リン酸ジルコニウム系化合物としては、(ZrO)、NaZr(PO、KZr(PO、Ca0.5Zr(PO、NbZr(PO、Zr(WO)(PO、これらの複合化合物等が挙げられる。 The low expansion filler is not particularly limited, but preferably at least one selected from silica, alumina, zirconia, zirconium silicate, cordierite, zirconium phosphate compounds, soda lime glass, and borosilicate glass. Examples of zirconium phosphate compounds include (ZrO) 2 P 2 O 7 , NaZr 2 (PO 4 ) 3 , KZr 2 (PO 4 ) 3 , Ca 0.5 Zr 2 (PO 4 ) 3 , NbZr (PO 4 ) 3 , Zr2 ( WO3 )( PO4 ) 2 , composite compounds thereof, and the like.

低膨張充填材の粒度は、0.1~5.0μmが好ましく、より好ましくは0.1~2.0μmである。 The particle size of the low expansion filler is preferably 0.1 to 5.0 μm, more preferably 0.1 to 2.0 μm.

低膨張充填材の含有量は、封着層の熱膨張係数が被封着材料(例えば、ガラス基板)の熱膨張係数に近づくように設定される。低膨張充填材の含有量は、ガラス組成物と、低膨張充填材と、レーザ吸収物質を混合したもの(以下、混合材料と称することがある)の体積の合計に対して1体積%以上が好ましく、5体積%以上がより好ましく、10体積%以上がさらに好ましい。一方、低膨張充填材の含有量が多すぎると、封着材料の溶融時の流動性が不良となるため、低膨張充填材の含有量は、混合材料の体積に対して50体積%以下が好ましく、45体積%以下がより好ましく、40体積%以下がさらに好ましい。 The content of the low expansion filler is set so that the coefficient of thermal expansion of the sealing layer approaches the coefficient of thermal expansion of the material to be sealed (for example, a glass substrate). The content of the low expansion filler is 1% by volume or more based on the total volume of the mixture of the glass composition, the low expansion filler, and the laser absorbing substance (hereinafter sometimes referred to as mixed material). It is preferably 5% by volume or more, more preferably 10% by volume or more. On the other hand, if the content of the low expansion filler is too large, the fluidity of the sealing material during melting will be poor, so the content of the low expansion filler should be 50% by volume or less based on the volume of the mixed material. It is preferably 45% by volume or less, more preferably 40% by volume or less.

レーザ吸収物質としては、特に限定されないが、先述したCuO、Fe、MnOを構成するCu、Fe、Mnの他に、Cr、Ni、Co等から選ばれる少なくとも1種の金属または該金属を含む酸化物等の化合物(無機顔料)等が挙げられる。また、レーザ吸収物質はこれら以外の顔料でもよい。 The laser absorbing substance is not particularly limited, but in addition to Cu, Fe, and Mn constituting CuO, Fe 2 O 3 , and MnO 2 mentioned above, at least one metal selected from Cr, Ni, Co, etc. Examples include compounds such as oxides containing metals (inorganic pigments). Further, the laser absorbing substance may be a pigment other than these.

レーザ吸収物質の粒度は、0.1~5.0μmが好ましく、より好ましくは0.1~2.0μmである。 The particle size of the laser absorbing material is preferably 0.1 to 5.0 μm, more preferably 0.1 to 2.0 μm.

レーザ吸収物質の含有量が少なすぎると、レーザ照射により封着材料を十分に溶融させることが困難になるおそれがある。したがって、他のレーザ吸収物質を含む、レーザ吸収物質の合計の含有量が、混合材料の体積に対して0.1体積%以上が好ましく、1体積%以上がより好ましく、3体積%以上がさらに好ましい。一方、レーザ吸収物質の含有量が多すぎると、封着材料の溶融時の流動性が不良となり、これにより接着強度が低減する。したがって、レーザ吸収物質の含有量は、混合材料の体積に対して20体積%以下が好ましく、18体積%以下がより好ましく、15体積%以下がさらに好ましい。 If the content of the laser absorbing substance is too small, it may be difficult to sufficiently melt the sealing material by laser irradiation. Therefore, the total content of laser absorbing substances including other laser absorbing substances is preferably 0.1% by volume or more, more preferably 1% by volume or more, and further preferably 3% by volume or more based on the volume of the mixed material. preferable. On the other hand, if the content of the laser-absorbing substance is too large, the fluidity of the sealing material during melting will be poor, resulting in a reduction in adhesive strength. Therefore, the content of the laser absorbing substance is preferably 20% by volume or less, more preferably 18% by volume or less, and even more preferably 15% by volume or less based on the volume of the mixed material.

ガラスペーストにおける混合材料と有機ビヒクルの割合は、求められるガラスペーストの粘度に応じて適宜調整される。具体的には、混合材料:有機ビヒクルで示す質量比が、60:40~90:10程度が好ましい。ガラスペーストには、混合材料と有機ビヒクル以外に必要に応じて、かつ、本発明の目的に反しない限度において公知の添加剤を配合できる。 The ratio of the mixed material and organic vehicle in the glass paste is adjusted as appropriate depending on the required viscosity of the glass paste. Specifically, the mass ratio of mixed material:organic vehicle is preferably about 60:40 to 90:10. In addition to the mixed material and the organic vehicle, known additives can be added to the glass paste as necessary and within the limits that do not contradict the purpose of the present invention.

ガラスペーストの調整は、攪拌翼を備えた回転式の混合機、ロールミル、ボールミル等を用いた公知の方法により行われる。 The glass paste is prepared by a known method using a rotary mixer equipped with stirring blades, a roll mill, a ball mill, or the like.

<封着パッケージ>
次に、本実施形態のガラス組成物が適用される封着パッケージについて説明する。
図1、2は、封着パッケージの一実施形態を示す平面図および断面図である。図3A~図3Dは、図3に示す封着パッケージの製造方法の一実施形態を示す工程図である。図4、5は、図1、2に示す封着パッケージの製造に用いられる第1の基板の平面図および断面図である。図6、7は、図1、2に示す封着パッケージの製造に用いられる第2の基板の平面図および断面図である。
<Sealed package>
Next, a sealed package to which the glass composition of this embodiment is applied will be described.
1 and 2 are a plan view and a sectional view showing an embodiment of a sealed package. 3A to 3D are process diagrams showing one embodiment of a method for manufacturing the sealed package shown in FIG. 3. 4 and 5 are a plan view and a sectional view of a first substrate used for manufacturing the sealed package shown in FIGS. 1 and 2. FIG. 6 and 7 are a plan view and a cross-sectional view of the second substrate used for manufacturing the sealed package shown in FIGS. 1 and 2. FIG.

封着パッケージ10は、OELD、PDP、LCD等のFPD、有機エレクトロルミネセンス(OEL)素子等の発光素子を使用した照明装置(OEL照明等)、あるいは色素増感型太陽電池のような太陽電池等を構成する。
すなわち、封着パッケージ10は、第1の基板11と、前記第1の基板に対向して配置される第2の基板12と、前記第1の基板と前記第2の基板との間に配置され、前記第1の基板と前記第2の基板とを接着する封着層15とを有する。また、当該封着層15は、上記の本実施形態のガラス組成物を含む。
The sealed package 10 is an FPD such as an OELD, PDP, or LCD, a lighting device (OEL lighting, etc.) using a light emitting element such as an organic electroluminescence (OEL) element, or a solar cell such as a dye-sensitized solar cell. etc.
That is, the sealed package 10 includes a first substrate 11, a second substrate 12 arranged opposite to the first substrate, and arranged between the first substrate and the second substrate. and a sealing layer 15 for bonding the first substrate and the second substrate. Further, the sealing layer 15 includes the glass composition of the present embodiment described above.

第1の基板11は、例えば、電子素子部13が主として設けられる素子基板である。第2の基板12は、例えば、封止に主として用いられる封止基板である。第1の基板11には、電子素子部13が設けられる。第1の基板11と第2の基板12とは互いに対向するように配置され、これらの間に枠状に配置された封着層15により接着されている。 The first substrate 11 is, for example, an element substrate on which the electronic element section 13 is mainly provided. The second substrate 12 is, for example, a sealing substrate mainly used for sealing. An electronic element section 13 is provided on the first substrate 11 . The first substrate 11 and the second substrate 12 are arranged to face each other and are bonded together by a sealing layer 15 arranged in a frame shape between them.

第1の基板11、第2の基板12には、ガラス基板、金属膜が表面に成膜された基板等が挙げられる。
ガラス基板としては、ソーダライムガラス基板、無アルカリガラス基板等が用いられる。ソーダライムガラス基板として、例えば、AS、PD200(いずれもAGC社製、商品名)、これらを化学強化したものが挙げられる。また、無アルカリガラス基板として、例えば、AN100(AGC社製、商品名)、EAGLE2000(コーニング社製、商品名)、EAGLE GX(コーニング社製、商品名)、JADE(コーニング社製、商品名)、#1737(コーニング社製、商品名)、OA-10(日本電気硝子社製、商品名)、テンパックス(ショット社製、商品名)等が挙げられる。
金属膜が表面に成膜された基板としては、Tiを含む膜がガラス基板表面に成膜された基板等が挙げられる。なお、基板の材料は特に限定されず、公知のものであってもよい。なお、金属膜が多層膜である場合、最表面の層にTiを含むことが好ましい。
第1の基板11および第2の基板12は、同一の基板であってもよく、異なる基板を組み合わせてもよい。
Examples of the first substrate 11 and the second substrate 12 include a glass substrate, a substrate on which a metal film is formed, and the like.
As the glass substrate, a soda lime glass substrate, an alkali-free glass substrate, etc. are used. Examples of soda lime glass substrates include AS, PD200 (both manufactured by AGC, trade names), and chemically strengthened versions of these. In addition, examples of non-alkali glass substrates include AN100 (manufactured by AGC, trade name), EAGLE2000 (manufactured by Corning, trade name), EAGLE GX (manufactured by Corning, trade name), and JADE (manufactured by Corning, trade name). , #1737 (manufactured by Corning Co., Ltd., trade name), OA-10 (manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., trade name), and Tempax (manufactured by Schott Co., Ltd., trade name).
Examples of the substrate on which a metal film is formed include a substrate on which a film containing Ti is formed on a glass substrate. Note that the material of the substrate is not particularly limited, and may be a known material. Note that when the metal film is a multilayer film, it is preferable that the outermost layer contains Ti.
The first substrate 11 and the second substrate 12 may be the same substrate, or may be a combination of different substrates.

電子素子部13は、例えば、OELDやOEL照明であればOEL素子、PDPであればプラズマ発光素子、LCDであれば液晶表示素子、太陽電池であれば色素増感型太陽電池素子(色素増感型光電変換部素子)を有する。電子素子部13は、各種公知の構造にて構成でき、図示される構造に限定されない。 The electronic element section 13 is, for example, an OEL element for OELD or OEL lighting, a plasma light emitting element for PDP, a liquid crystal display element for LCD, and a dye-sensitized solar cell element for solar cells. type photoelectric conversion element). The electronic element section 13 can be configured with various known structures, and is not limited to the illustrated structure.

図1、2の封着パッケージ10では、電子素子部13として、OEL素子、プラズマ発光素子等が第1の基板11に設けられている。電子素子部13が色素増感型太陽電池素子等の場合、図示しないが第1の基板11および第2の基板12のそれぞれの対向面に配線膜や電極膜等の素子膜が設けられる。 In the sealed package 10 of FIGS. 1 and 2, an OEL element, a plasma light emitting element, etc. are provided on the first substrate 11 as the electronic element section 13. When the electronic element section 13 is a dye-sensitized solar cell element or the like, element films such as wiring films and electrode films are provided on opposing surfaces of the first substrate 11 and the second substrate 12, although not shown.

電子素子部13がOEL素子等の場合、第1の基板11と第2の基板12との間には一部空間が残存する。この空間は、このままの状態でもよいし、透明な樹脂等が充填されてもよい。透明樹脂は、第1の基板11および第2の基板12に接着してもよいし、接触するだけでもよい。 When the electronic device section 13 is an OEL device or the like, a part of space remains between the first substrate 11 and the second substrate 12. This space may be left as is, or may be filled with a transparent resin or the like. The transparent resin may be adhered to the first substrate 11 and the second substrate 12, or may only be in contact with the first substrate 11 and the second substrate 12.

電子素子部13が色素増感型太陽電池素子等の場合、図示しないが第1の基板11と第2の基板12との間の全体に電子素子部13が配置される。なお、封止対象は、電子素子部13に限定されず、光電変換装置等でもよい。また、封着パッケージ10は、電子素子部13を有しない複層ガラスのような建材でもよい。 When the electronic element section 13 is a dye-sensitized solar cell element or the like, the electronic element section 13 is arranged entirely between the first substrate 11 and the second substrate 12, although not shown. Note that the object to be sealed is not limited to the electronic element section 13, but may also be a photoelectric conversion device or the like. Alternatively, the sealed package 10 may be a building material such as double-glazed glass that does not have the electronic element section 13.

以下、封着パッケージの一例として、OELDを構成する有機エレクトロルミネセンス素子について図8を参照して詳細に説明する。
本実施形態のガラス組成物を用いて得られる有機エレクトロルミネセンス素子210は、基板211と、基板211上に積層された陽極213aと有機薄膜層213bと陰極213cとを有する積層構造体213と、積層構造体213の外表面側を覆って基板211上に載置されたガラス部材212と、基板211とガラス部材212とを接着する封着層215とを備える。また、当該封着層215は、上記の本実施形態のガラス組成物を含む。
Hereinafter, as an example of a sealed package, an organic electroluminescent element constituting an OELD will be described in detail with reference to FIG. 8.
The organic electroluminescent device 210 obtained using the glass composition of this embodiment includes a substrate 211, a laminated structure 213 having an anode 213a, an organic thin film layer 213b, and a cathode 213c laminated on the substrate 211; It includes a glass member 212 placed on the substrate 211 so as to cover the outer surface side of the laminated structure 213, and a sealing layer 215 that adheres the substrate 211 and the glass member 212. Further, the sealing layer 215 includes the glass composition of the present embodiment described above.

(封着パッケージの製造方法)
次に、上述した本実施形態のガラス組成物が適用される封着パッケージの製造方法の実施形態について説明する。
封着には上述したガラスペーストを用いる。ガラスペーストは、第2の基板12に枠状に塗布された後、乾燥されて塗布層となる。塗布方法として、スクリーン印刷、グラビア印刷等の印刷法、ディスペンス法等が挙げられる。乾燥は、溶剤を除去するために実施され、通常は120℃以上の温度で10分以上行われる。塗布層に溶剤が残留すると、その後の仮焼成でバインダ成分が十分に除去されないおそれがある。
(Manufacturing method of sealed package)
Next, an embodiment of a method for manufacturing a sealed package to which the glass composition of the present embodiment described above is applied will be described.
The glass paste mentioned above is used for sealing. The glass paste is applied to the second substrate 12 in a frame shape and then dried to form a coating layer. Examples of the coating method include printing methods such as screen printing and gravure printing, and dispensing methods. Drying is carried out to remove the solvent and is usually carried out at a temperature of 120° C. or higher for 10 minutes or more. If the solvent remains in the coating layer, there is a risk that the binder component will not be sufficiently removed during the subsequent pre-baking.

塗布層には仮焼成が行われて仮焼成層15aとされる(図6、図7)。仮焼成は、塗布層を封着材料に含まれるガラス組成物のガラス転移温度以下の温度に加熱してバインダ成分を除去した後、封着材料に含まれるガラス組成物の軟化点以上の温度に加熱することにより行われる。 The coating layer is pre-baked to form a pre-baked layer 15a (FIGS. 6 and 7). Preliminary firing is performed by heating the coating layer to a temperature below the glass transition temperature of the glass composition contained in the sealing material to remove the binder component, and then heating it to a temperature above the softening point of the glass composition contained in the sealing material. This is done by heating.

第1の基板11には、封着パッケージ10の仕様に応じて、電子素子部13が設けられる(図4、図5)。 An electronic element section 13 is provided on the first substrate 11 according to the specifications of the sealed package 10 (FIGS. 4 and 5).

次いで、仮焼成層15aが設けられた第2の基板12と、電子素子部13が設けられた第1の基板11とを、仮焼成層15aとが対向するように配置して積層する(図3A、図3B)。 Next, the second substrate 12 provided with the pre-fired layer 15a and the first substrate 11 provided with the electronic element section 13 are arranged and laminated so that the pre-sintered layer 15a faces each other (see FIG. 3A, Figure 3B).

その後、第2の基板12を通して仮焼成層15aにレーザ光16を照射して焼成を実施する(図3C)。レーザ光16は、枠状形状の仮焼成層15aに沿って走査しながら照射される。仮焼成層15aの全周にわたってレーザ光16が照射されることで、第1の基板11と第2の基板12との間に枠状の封着層15が形成される。なお、レーザ光16は、第1の基板11を通して仮焼成層15aに照射されてもよい。 Thereafter, the temporarily fired layer 15a is irradiated with laser light 16 through the second substrate 12 to perform firing (FIG. 3C). The laser beam 16 is irradiated while scanning along the frame-shaped pre-fired layer 15a. A frame-shaped sealing layer 15 is formed between the first substrate 11 and the second substrate 12 by irradiating the laser beam 16 over the entire circumference of the pre-fired layer 15a. Note that the laser beam 16 may be irradiated to the temporarily fired layer 15a through the first substrate 11.

レーザ光16の種類は、特に限定されるものではなく、半導体レーザ、炭酸ガスレーザ、エキシマレーザ、YAGレーザ、HeNeレーザ等のレーザ光が使用される。レーザ光16の照射条件は、仮焼成層15aの厚さ、線幅、厚さ方向の断面積等に応じて選択される。レーザ光16の出力は、2~150Wが好ましい。レーザ光の出力が2W未満であると、仮焼成層15aが溶融されないおそれがある。レーザ光の出力が150Wを超えると、第1の基板11、第2の基板12にクラック等が発生しやすくなる。レーザ光16の出力は、5~120Wがより好ましい。 The type of laser beam 16 is not particularly limited, and laser beams such as a semiconductor laser, a carbon dioxide laser, an excimer laser, a YAG laser, and a HeNe laser are used. Irradiation conditions for the laser beam 16 are selected depending on the thickness, line width, cross-sectional area in the thickness direction, etc. of the temporarily fired layer 15a. The output of the laser beam 16 is preferably 2 to 150W. If the output of the laser beam is less than 2 W, there is a possibility that the temporarily fired layer 15a will not be melted. When the output of the laser beam exceeds 150 W, cracks and the like are likely to occur in the first substrate 11 and the second substrate 12. The output of the laser beam 16 is more preferably 5 to 120W.

このようにして、第1の基板11と第2の基板12との間に封着層15によって電子素子部13が気密封止された封着パッケージ10が製造される(図3D)。 In this way, a sealed package 10 is manufactured in which the electronic element section 13 is hermetically sealed between the first substrate 11 and the second substrate 12 by the sealing layer 15 (FIG. 3D).

以上、レーザ光16の照射により焼成を行う方法について説明したが、焼成の方法は必ずしもレーザ光16の照射により行われる方法に限られない。焼成方法は、電子素子部13の耐熱性、封着パッケージ10の構成等に応じて他の方法を採用できる。例えば、電子素子部13の耐熱性が高い場合、または電子素子部13を有しない場合、レーザ光16の照射に代えて、図3Bに示すような組立体の全体を電気炉等の焼成炉内に配置して、仮焼成層15aを含めた組立体の全体を加熱して封着層15としてもよい。 Although the method of baking by irradiation with laser light 16 has been described above, the method of baking is not necessarily limited to the method of performing baking by irradiation with laser light 16. Other firing methods may be used depending on the heat resistance of the electronic element section 13, the configuration of the sealed package 10, and the like. For example, if the electronic element part 13 has high heat resistance or does not have the electronic element part 13, instead of irradiating the laser beam 16, the entire assembly as shown in FIG. 3B is placed in a firing furnace such as an electric furnace. The entire assembly including the pre-fired layer 15a may be heated to form the sealing layer 15.

以上、本発明の封着パッケージの実施形態を、一例を挙げて説明したが、本発明の封着パッケージはこれらに限定されるものではない。本発明の趣旨に反しない限度において、また必要に応じて、その構成を適宜変更できる。 Although the embodiments of the sealed package of the present invention have been described above by giving one example, the sealed package of the present invention is not limited to these. The configuration can be changed as appropriate within the scope of the spirit of the present invention and as necessary.

以下、本発明について実施例を参照してさらに詳細に説明するが、本発明は実施例に限定されない。例1~15が実施例である。例16~37は比較例である。 Hereinafter, the present invention will be described in further detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to the Examples. Examples 1 to 15 are examples. Examples 16 to 37 are comparative examples.

[例1~37]
(ガラス組成物の製造)
表1~表2のガラス組成の欄にモル%表示で示す組成となるように原料を調合して混合し、1000~1100℃の電気炉中で白金ルツボを用いて1時間溶融した。得られた溶融液を、水冷ローラによりシート状に成形した後、これをボールミルにより乾式粉砕を行った。これを目開き100メッシュの篩に通したものをガラス組成物とした。
このガラス組成物のD50を、マイクロトラック粒度分布測定装置(日機装社製)により測定したところ、いずれも2~5μmの範囲内であった。
[Examples 1 to 37]
(Manufacture of glass composition)
Raw materials were prepared and mixed so as to have the composition shown in mol% in the glass composition column of Tables 1 and 2, and melted for 1 hour using a platinum crucible in an electric furnace at 1000 to 1100°C. The obtained melt was formed into a sheet using a water-cooled roller, and then dry-pulverized using a ball mill. This was passed through a 100-mesh sieve to obtain a glass composition.
The D50 of this glass composition was measured using a Microtrac particle size distribution analyzer (manufactured by Nikkiso Co., Ltd.), and was found to be within the range of 2 to 5 μm.

次に、これらのガラス組成物について以下の測定および評価を行った。
なお、表1~2中、評価の欄の「-」は、DTAによる結晶化ピークが見られなかったまたはガラス化しなかったため未評価であることを示す。
Next, the following measurements and evaluations were performed on these glass compositions.
In Tables 1 and 2, the "-" in the evaluation column indicates that no crystallization peak was observed by DTA or no vitrification was observed, so no evaluation was made.

(DTA試験)
リガク社製、示差熱分析(DTA)装置TG-DTA8122にて昇温速度;10℃/分でガラス組成物の熱分析を行い、得られたDTAチャートから、ガラス転移温度Tg、第4変曲点Ts[℃]、結晶化開始温度Tcs[℃]、結晶化温度Tcp[℃]をそれぞれ求めた。なお、ガラス転移温度Tg、第4変曲点Ts、結晶化開始温度Tcsおよび結晶化温度Tcpは、DTAチャートの第1変曲点をTg、第4変曲点をTs、発熱ピークの開始点をTcs、発熱ピーク温度をTcpとして求めた。また、焼成時の許容温度の評価として、結晶化開始温度と第4変曲点の温度差(Tcs-Ts)を求め、得られた結果を下記表に示した。(Tcs-Ts)の値が、100℃より大きいものを合格とした。
(DTA exam)
Thermal analysis of the glass composition was performed using a differential thermal analysis (DTA) device TG-DTA8122 manufactured by Rigaku Corporation at a heating rate of 10°C/min, and from the obtained DTA chart, the glass transition temperature Tg, the fourth inflection Point Ts [°C], crystallization start temperature Tcs [°C], and crystallization temperature Tcp [°C] were determined. In addition, the glass transition temperature Tg, the fourth inflection point Ts, the crystallization start temperature Tcs, and the crystallization temperature Tcp are the first inflection point of the DTA chart, Tg, the fourth inflection point, and the starting point of the exothermic peak. was determined as Tcs, and the exothermic peak temperature was determined as Tcp. In addition, as an evaluation of the allowable temperature during firing, the temperature difference between the crystallization start temperature and the fourth inflection point (Tcs-Ts) was determined, and the obtained results are shown in the table below. Those with a value of (Tcs-Ts) greater than 100°C were considered acceptable.

(熱膨張係数(α))
各ガラス組成物を直方体状に成形し、熱膨張測定用焼成体を得た。得られた熱膨張測定用焼成体を直径が5±0.5mm、長さが2±0.05cmの円柱形に加工した。加工した熱膨張測定用焼成体をRIGAKU社製、熱膨張計ThermoplusEVO2システムTDL8411で昇温速度10℃/分の条件で加熱し、50~250℃における熱膨張係数α(単位:10-7/℃)を算出した。得られた結果を下記表に示した。熱膨張係数αが91未満のものを合格とした。
(Thermal expansion coefficient (α))
Each glass composition was molded into a rectangular parallelepiped shape to obtain a fired body for thermal expansion measurement. The obtained fired body for thermal expansion measurement was processed into a cylindrical shape with a diameter of 5±0.5 mm and a length of 2±0.05 cm. The processed fired body for thermal expansion measurement was heated with a thermal dilatometer Thermoplus EVO2 system TDL8411 manufactured by RIGAKU at a temperature increase rate of 10°C/min, and the thermal expansion coefficient α (unit: 10 -7 /°C) at 50 to 250°C was measured. ) was calculated. The results obtained are shown in the table below. Those with a thermal expansion coefficient α of less than 91 were accepted.

(流動性評価)
4gのガラス組成物をプレス成形して直径が15mmであるサンプル(フローボタン)作製した。得られたフローボタンをガラス基板上に配置し、各ガラス組成物の軟化点にあわせて450~460℃に30分保持する焼成を行って流動性評価用焼成体を得た。次に、得られた流動性評価用焼成体について、角度を4等分して4箇所の径を測定し、その4箇所径の平均値を算出しFB径(単位:mm)とした。各サンプルについて、以下の基準にしたがい、流動性、光沢、接着の有無を評価した。得られた結果を下記表に示した。流動性および光沢の評価で〇のものを合格とした。
<流動性>
〇:FB径が24mm以上である。
×:FB径が24mm未満である。
<光沢>
〇:流動性評価用焼成体の表面全体に光沢があった。
△:流動性評価用焼成体の表面の一部に光沢がなかった。
×:流動性評価用焼成体の表面の全体に光沢がなかった。
(Liquidity evaluation)
A sample (flow button) having a diameter of 15 mm was prepared by press-molding 4 g of the glass composition. The obtained flow button was placed on a glass substrate, and fired at 450 to 460°C for 30 minutes in accordance with the softening point of each glass composition to obtain a fired body for fluidity evaluation. Next, the angle of the obtained fired body for fluidity evaluation was divided into four equal parts, the diameters at four places were measured, and the average value of the diameters at the four places was calculated to be the FB diameter (unit: mm). Each sample was evaluated for fluidity, gloss, and presence or absence of adhesion according to the following criteria. The results obtained are shown in the table below. In the evaluation of fluidity and gloss, those with 〇 were considered to be passed.
<Liquidity>
○: FB diameter is 24 mm or more.
×: FB diameter is less than 24 mm.
<Gloss>
○: The entire surface of the fired body for fluidity evaluation was glossy.
Δ: Part of the surface of the fired body for fluidity evaluation lacked gloss.
×: The entire surface of the fired body for fluidity evaluation had no gloss.

(耐水性評価)
各ガラス組成物のガラスフレークを用い、温度121℃、湿度100%RHの環境下で48時間静置した。静置後の耐水性評価用焼成体に対して、以下の基準にしたがい、耐水性を評価した。得られた結果を下記表に示した。判定としては、〇のものを合格とした。
<耐水性の評価基準>
〇:耐水性評価用焼成体の表面全体で変色している箇所が見られなかった。
△:耐水性評価用焼成体の表面の一部に変色している箇所が見られた。
×:耐水性評価用焼成体の表面の全体が変色していた。
(Water resistance evaluation)
Glass flakes of each glass composition were used and allowed to stand for 48 hours in an environment with a temperature of 121° C. and a humidity of 100% RH. The water resistance of the fired body for water resistance evaluation after standing was evaluated according to the following criteria. The results obtained are shown in the table below. As for the judgment, those with 〇 were considered to have passed.
<Water resistance evaluation criteria>
○: No discolored areas were observed on the entire surface of the fired body for water resistance evaluation.
Δ: Discoloration was observed on a part of the surface of the fired body for evaluating water resistance.
×: The entire surface of the fired body for water resistance evaluation was discolored.

Figure 2024019999000001
Figure 2024019999000001

Figure 2024019999000002
Figure 2024019999000002

実施例である例1~15のガラス組成物は、優れた耐水性を示し、熱膨張係数が小さく、溶融時の流動性及び焼成時の許容温度範囲の広さに優れた。 The glass compositions of Examples 1 to 15 exhibited excellent water resistance, a small coefficient of thermal expansion, excellent fluidity during melting, and a wide allowable temperature range during firing.

一方、比較例である例16は、Biが0.4%超かつTeOが25.5%未満であるため、焼成時の許容温度範囲が狭く、さらに流動性が劣った。
また、比較例である例17~19は、Nbが5.5%未満であるため、熱膨張係数が大きく、さらに耐水性が劣った。
また、比較例である例20は、Biが0.4%超であるため、熱膨張係数が大きかった。
また、比較例である例21は、Nbが8.0%超であるため、焼成時の許容温度範囲が狭く、また、流動性および耐水性が劣った。
また、比較例である例22は、Vが40.0%超かつNbが5.5%未満であるため、流動性および耐水性が劣った。
また、比較例である例23は、TeOが30.0%超であるため、熱膨張係数が大きく、さらに耐水性が劣った。
また、比較例である例24、25は、TeOが25.5%未満かつZnOが30.0%超であるため、耐水性が劣り、例25においては焼成時の許容温度範囲が狭く、流動性も劣った。
また、比較例である例26、27は、ZrOが4.5%超であるため、耐水性が劣った。
また、比較例である例28は、Biが0.4%超であるため、熱膨張係数が大きかった。
また、比較例である例29は、Vが40.0%超、ZnOが15.0%未満かつBaOが4.5%超であるため、焼成時の許容温度範囲も狭く、熱膨張係数が大きく、さらに流動性が劣った。
また、比較例である例30は、Vが25.5%未満かつZnOが30.0%超であるため、ガラス化しなかった。
また、比較例である例31は、ZnOが30.0%超であるため、耐水性評価が劣った。
また、比較例である例32は、Alが5.0%超であるため、焼成時の許容温度範囲も狭く、さらに流動性が劣った。
また、比較例である例33は、Vが40.0%超であるため、焼成時の許容温度範囲も狭く、熱膨張係数が大きく、さらに、流動性および耐水性が劣った。
また、比較例である例34~36は、Biが0.4%超であるため、例34は焼成時の許容温度が狭く、例35は耐水性が劣り、例36は熱膨張係数が大きく、さらに耐水性が劣った。
また、比較例である例37は、Bが6.0%超であるため、耐水性が劣った。
On the other hand, in Example 16, which is a comparative example, the Bi 2 O 3 content was more than 0.4% and the TeO 2 content was less than 25.5%, so the allowable temperature range during firing was narrow and the fluidity was poor.
Further, Examples 17 to 19, which are comparative examples, had a large coefficient of thermal expansion and poor water resistance because Nb 2 O 5 was less than 5.5%.
Further, in Example 20, which is a comparative example, the Bi 2 O 3 content was more than 0.4%, so the thermal expansion coefficient was large.
Further, in Example 21, which is a comparative example, since the Nb 2 O 5 content was more than 8.0%, the allowable temperature range during firing was narrow, and the fluidity and water resistance were poor.
Further, in Example 22, which is a comparative example, the V 2 O 5 content was more than 40.0% and the Nb 2 O 5 content was less than 5.5%, so the fluidity and water resistance were poor.
Further, in Example 23, which is a comparative example, since the TeO 2 content was more than 30.0%, the coefficient of thermal expansion was large and the water resistance was also poor.
In addition, Examples 24 and 25, which are comparative examples, have less than 25.5% TeO 2 and more than 30.0% ZnO, so they have poor water resistance, and in Example 25, the allowable temperature range during firing is narrow. Liquidity was also poor.
Moreover, Examples 26 and 27, which are comparative examples, had poor water resistance because the ZrO 2 content was more than 4.5%.
Further, in Example 28, which is a comparative example, the Bi 2 O 3 content was more than 0.4%, so the thermal expansion coefficient was large.
In addition, in Example 29, which is a comparative example, the V 2 O 5 content is more than 40.0%, the ZnO content is less than 15.0%, and the BaO content is more than 4.5%, so the allowable temperature range during firing is narrow, and the heat The coefficient of expansion was large and the fluidity was poor.
Further, in Example 30, which is a comparative example, the V 2 O 5 content was less than 25.5% and the ZnO content was more than 30.0%, so it was not vitrified.
Furthermore, in Example 31, which is a comparative example, the water resistance evaluation was poor because the ZnO content was more than 30.0%.
Further, in Example 32, which is a comparative example, since the Al 2 O 3 content was more than 5.0%, the allowable temperature range during firing was narrow, and the fluidity was also poor.
Further, in Example 33, which is a comparative example, since the V 2 O 5 content was more than 40.0%, the allowable temperature range during firing was narrow, the coefficient of thermal expansion was large, and the fluidity and water resistance were poor.
In addition, Examples 34 to 36, which are comparative examples, have a Bi 2 O 3 content of more than 0.4%, so Example 34 has a narrow allowable temperature during firing, Example 35 has poor water resistance, and Example 36 has poor thermal expansion. The coefficient was large and the water resistance was poor.
In addition, Example 37, which is a comparative example, had poor water resistance because B 2 O 3 was more than 6.0%.

10:封着パッケージ
11:第1の基板
12:第2の基板
13:電子素子部
15:封着層
15a:仮焼成層
16:レーザ光
210:有機エレクトロルミネセンス素子
211:基板
212:ガラス部材
213:積層構造体
213a:陽極
213b:有機薄膜層
213c:陰極
215:封着層
10: Sealed package 11: First substrate 12: Second substrate 13: Electronic element section 15: Sealing layer 15a: Preliminary firing layer 16: Laser light 210: Organic electroluminescent element 211: Substrate 212: Glass member 213: Laminated structure 213a: Anode 213b: Organic thin film layer 213c: Cathode 215: Sealing layer

Claims (10)

酸化物基準のモル%表示で、
を25.0~40.0%、
TeOを25.5~30.0%、
ZnOを15.0~30.0%、
Nbを5.5~8.0%、
Alを0~5.0%、
BaOを0~4.5%、
を0~6.0%、
Biを0~0.4%、及び
ZrOを0~4.5%含有し、
実質的にアルカリ金属酸化物及びPbOを含有しないことを特徴とするガラス組成物。
Expressed as mol% based on oxides,
25.0 to 40.0% V 2 O 5 ,
25.5-30.0% TeO2 ,
15.0 to 30.0% ZnO,
5.5 to 8.0% Nb 2 O 5 ,
0 to 5.0% Al 2 O 3 ,
BaO 0-4.5%,
B 2 O 3 from 0 to 6.0%,
Contains 0 to 0.4% Bi 2 O 3 and 0 to 4.5% ZrO 2 ,
A glass composition characterized in that it is substantially free of alkali metal oxides and PbO.
酸化物基準のモル%表示で、Bを1.0~5.0%含有する、請求項1に記載のガラス組成物。 The glass composition according to claim 1, containing 1.0 to 5.0% of B 2 O 3 in mol% based on oxides. 酸化物基準のモル%表示で、Nbを6.2%超含有する、請求項1または2に記載のガラス組成物。 The glass composition according to claim 1 or 2, containing more than 6.2% Nb 2 O 5 expressed in mol% based on oxides. 酸化物基準のモル%表示で、VとTeOとZnOの含有量の合計(V+TeO+ZnO)が80~91%である、請求項1または2に記載のガラス組成物。 The glass composition according to claim 1 or 2, wherein the total content of V 2 O 5 , TeO 2 and ZnO (V 2 O 5 +TeO 2 +ZnO) is 80 to 91% in terms of mol% based on oxides. thing. 酸化物基準のモル%表示で、(V/TeO)で表される含有量の比が1.0~1.6である、請求項1または2に記載のガラス組成物。 The glass composition according to claim 1 or 2, wherein the content ratio expressed as (V 2 O 5 /TeO 2 ) is 1.0 to 1.6 in terms of mol% based on oxides. 酸化物基準のモル%表示で、BiとTeOとBaOの含有量の合計(Bi+TeO+BaO)が25.5~31.0%である、請求項1または2に記載のガラス組成物。 Claim 1 or 2, wherein the total content of Bi 2 O 3 , TeO 2 and BaO (Bi 2 O 3 + TeO 2 + BaO) is 25.5 to 31.0% in terms of mol% on an oxide basis. The described glass composition. 酸化物基準のモル%表示で、AlとZrOの含有量の合計(Al+ZrO)が0~7.0%である、請求項1または2に記載のガラス組成物。 The glass composition according to claim 1 or 2, wherein the total content of Al 2 O 3 and ZrO 2 (Al 2 O 3 + ZrO 2 ) is 0 to 7.0% in mol% based on oxides. . 請求項1または2に記載のガラス組成物と、有機ビヒクルとを含有するガラスペースト。 A glass paste containing the glass composition according to claim 1 or 2 and an organic vehicle. 第1の基板と、前記第1の基板に対向して配置される第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板との間に配置され、前記第1の基板と前記第2の基板とを接着する封着層と、を有する封着パッケージであって、
前記封着層は、請求項1または2に記載のガラス組成物を含む封着パッケージ。
a first substrate, a second substrate disposed opposite to the first substrate, and a second substrate disposed between the first substrate and the second substrate; A sealed package having a sealing layer for bonding a second substrate to the second substrate,
A sealed package, wherein the sealing layer includes the glass composition according to claim 1 or 2.
基板と、前記基板上に積層された陽極と有機薄膜層と陰極とを有する積層構造体と、前記積層構造体の外表面側を覆って前記基板上に載置されたガラス部材と、前記基板と前記ガラス部材とを接着する封着層と、を備え、
前記封着層は、請求項1または2に記載のガラス組成物を含む有機エレクトロルミネセンス素子。
A laminated structure including a substrate, an anode, an organic thin film layer, and a cathode laminated on the substrate, a glass member placed on the substrate so as to cover an outer surface of the laminated structure, and the substrate. and a sealing layer that adheres the glass member and the glass member,
An organic electroluminescent device, wherein the sealing layer contains the glass composition according to claim 1 or 2.
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