JP2024019098A - Method and device for removing chip from wafer film frame, mounting system, and computer program - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and device for removing a chip from an adhesive film using a peeling tool and a gripping tool.
SOLUTION: A device 100 for removing a chip is configured such that: the adhesion of a first chip 195 to an adhesive film 192 in an action region is reduced to position the first chip above a peeling tool 110; a negative pressure is applied between the lower surface 192a of the adhesive film and the upper surface 112a of the body of the peeling tool; the adhesion of the first chip to the adhesive film is reduced with the peeling tool, the first chip is gripped with a gripping tool 154 and the first chip is removed; a second chip of a wafer film frame 190 is positioned above the action region; and the adhesion of the second chip to the film is reduced with the peeling tool, the second chip is gripped, and the second chip is removed with the gripping tool. While the wafer film frame is positioned, a negative pressure is temporarily applied between the lower surface of the adhesive film and the upper surface of the body of the peeling tool.
SELECTED DRAWING: Figure 1
COPYRIGHT: (C)2024,JPO&INPIT

Description

本発明は、一般に、ウェハフィルムフレームから、又は、人工ウェハから取り出される(パッケージングされていない)半導体チップを基板に実装する技術分野に関する。本発明は特に、ウェハフィルムフレームからのこのようなチップの取り出しが、エジェクタ工具のそれぞれ少なくとも1つのエジェクタピンの実装ヘッドによって支援される取り出しプロセスに関する。具体的には、本発明は、エジェクタ工具に支援されて、把持工具を用いて、ウェハフィルムフレームの接着フィルムからチップを取り出すための方法及び装置に関する。さらに、本発明は、当該装置を有する実装システム及び当該方法を実施するためのコンピュータプログラムに関する。 The present invention generally relates to the technical field of mounting (unpackaged) semiconductor chips from a wafer film frame or from a synthetic wafer onto a substrate. The invention particularly relates to an ejection process in which the ejection of such chips from a wafer film frame is assisted by a mounting head of each at least one ejector pin of an ejector tool. In particular, the present invention relates to a method and apparatus for ejecting chips from an adhesive film of a wafer film frame using a gripping tool with the aid of an ejector tool. Furthermore, the invention relates to an implementation system having the device and a computer program for implementing the method.

一般に基板とも呼ばれるプリント基板又は部品担体の実装は、典型的には、特に実装ヘッドを有する自動取り付け機を用いて行われ、自動取り付け機によって、電子部品がピックアップ位置でピックアップされ、実装領域に搬送され、部品担体上に配置される。部品は通常、部品が包装されたベルトを用いて供給される。部品が取り出された後、ベルトの材料は廃棄されなければならない。このため、大量の包装廃棄物が発生する。 The mounting of printed circuit boards or component carriers, also commonly referred to as substrates, is typically carried out using an automatic mounting machine, which in particular has a mounting head, by which the electronic components are picked up at a pick-up position and transported to the mounting area. and placed on the component carrier. Parts are typically supplied using belts in which the parts are packaged. After the parts are removed, the belt material must be discarded. This results in a large amount of packaging waste.

半導体チップとして形成された電子部品(以下、単に「チップ」とも呼ぶ)の供給は、包装廃棄物を回避するために、ウェハから直接行うことも可能である。この関連では、ウェハは、実際のウェハ、すなわち半導体材料のスライスに加えて、弾性フィルム及びフレームを含むアセンブリであり、フィルムはフレームに張られ、実際のウェハはフィルムに接着している。このような(接着)フィルム又は粘着フィルムは、しばしば「ウェハフィルム」と呼ばれる。フィルムに接着したウェハは、(鋸引きプロセスによって)すでにダイシングされていてもよく、結果として、多数の個々の半導体チップが、フィルムに接着している。このようなフレーム、フィルム及びダイシングされた半導体チップから成るアセンブリは、しばしば「ウェハフィルムフレーム」とも呼ばれる。さらに、この関連では、ウェハ又は「ウェハフィルムフレーム」は、いわゆる「再び実装されるウェハ」又は英語では「再構成ウェハ(reconstituted wafer)」であってもよく、この場合、フィルムに実装する前に、欠陥を有するチップ又は一定の許容差を超えるチップは選別されている。(選択された)実装される半導体チップを備えたウェハフィルムフレームは、しばしば人工ウェハとも呼ばれる。 The supply of electronic components formed as semiconductor chips (hereinafter also simply referred to as "chips") can also be carried out directly from wafers, in order to avoid packaging waste. In this context, a wafer is an assembly comprising, in addition to the actual wafer, ie a slice of semiconductor material, an elastic film and a frame, the film being stretched to the frame and the actual wafer being glued to the film. Such (adhesive) or adhesive films are often referred to as "wafer films". The wafer adhered to the film may already have been diced (by a sawing process), resulting in a large number of individual semiconductor chips being adhered to the film. Such an assembly of frame, film, and diced semiconductor chips is often referred to as a "wafer film frame." Furthermore, in this connection, a wafer or a "wafer film frame" may also be a so-called "reconstituted wafer" or in English a "reconstituted wafer", in which case the wafer is , chips with defects or chips exceeding a certain tolerance are sorted out. A wafer film frame with (selected) semiconductor chips to be mounted is often also called an artificial wafer.

フィルムを引き伸ばすことによって、ダイシングされたチップはいくらか「引き離され」、把持工具又は部品保持装置、例えば実装ヘッドのいわゆるバキュームグリッパによってピックアップされる。この際、チップのピックアップは、少なくとも1つのエジェクタピンを有するエジェクタ工具によって支援可能であり、エジェクタピンによって、接着フィルムは、接着フィルムへの当該チップの接着が低下するように突き通されるか、又は、少なくとも湾曲する。 By stretching the film, the diced chips are "pulled apart" somewhat and are picked up by a gripping tool or component holding device, for example a so-called vacuum gripper of the mounting head. In this case, the pick-up of the chip can be assisted by an ejector tool having at least one ejector pin, with which the adhesive film is pierced or pierced in such a way that the adhesion of the chip to the adhesive film is reduced. Or at least curved.

ウェハフィルムフレームからチップをピックアップする自動取り付け機の実装性能は、ウェハフィルムフレームそれぞれからチップをピックアップするプロセスによって制限されることが多い。この関連では、いわゆる取り出し性能、すなわち接着フィルムから剥離され得る時間単位当たりのチップの数が重要である。 The mounting performance of automatic mounting machines that pick up chips from wafer film frames is often limited by the process of picking up chips from each wafer film frame. In this connection, the so-called removal performance, ie the number of chips per unit of time that can be peeled off from the adhesive film, is important.

ウェハフィルムフレームの接着フィルムからチップを剥離するプロセスは、特に以下のステップを含んでいる:
(1)ウェハフィルムフレームを、少なくとも1つのエジェクタピンを有するエジェクタ工具に対して位置決めし、当該チップがエジェクタ工具の上方に位置するようにするステップ、
(2)エジェクタ工具の上側でフィルムが吸引されるように陰圧を加えるステップ、
(3)把持工具、例えば実装ヘッドの吸引ピペットを、当該チップの上面に(上方から)直接配置するステップ、
(4)エジェクタピンを、把持工具と同期して、フィルムの元の高さより上の一定の高さまで上方に移動又は張り出させるステップであって、使用するエジェクタピンの種類に応じて、フィルムを突き通すか、又は、単に変形させて、チップがフィルムに接着している面積を減少させるステップ、
(5)チップがフィルムから完全に剥離するまで一定時間待機するステップ、
(6)剥離したチップを、把持工具又は実装ヘッドの対応するさらなる動きによって取り出すのと同時に、エジェクタピンがエジェクタ工具のハウジング内に位置するように、エジェクタピンを下に向けて動かすか又は引き込むステップ、
(7)陰圧を解除するステップ、
(8)次に取り出すチップがエジェクタ工具の上方に位置するように、エジェクタ工具に対してウェハフィルムフレームを再度位置決めするステップ、
(9)ステップ(1)から(8)を再度実行するステップ。
The process of peeling the chips from the adhesive film of the wafer film frame includes, inter alia, the following steps:
(1) positioning a wafer film frame relative to an ejector tool having at least one ejector pin such that the chip is located above the ejector tool;
(2) applying negative pressure so that the film is suctioned above the ejector tool;
(3) placing a gripping tool, for example a suction pipette of a mounting head, directly on the top surface of the chip (from above);
(4) moving or extending the ejector pin upward to a certain height above the original height of the film in synchronization with the gripping tool, depending on the type of ejector pin used; piercing or simply deforming to reduce the area where the chip adheres to the film;
(5) waiting for a certain period of time until the chip is completely peeled off from the film;
(6) moving or retracting the ejector pin downwards so that it is located within the housing of the ejector tool while simultaneously ejecting the stripped chip by a corresponding further movement of the gripping tool or the mounting head; ,
(7) Step of releasing negative pressure;
(8) repositioning the wafer film frame relative to the ejector tool so that the next chip to be removed is located above the ejector tool;
(9) A step of re-executing steps (1) to (8).

当該プロセスでは、ステップ2及び7、すなわち対応する圧力に達するまで陰圧を加えるステップと解除するステップとに比較的長い時間を要するので、取り出し性能は対応して低くなるか、又は、制限される。 Since the process requires a relatively long time for steps 2 and 7, i.e. applying and releasing negative pressure until the corresponding pressure is reached, the removal performance is correspondingly low or limited. .

本発明の課題は、エジェクタ工具の取り出し性能を向上させることにある。 An object of the present invention is to improve the ejection performance of an ejector tool.

本課題は、独立請求項の対象によって解決される。本発明の有利な実施形態は従属請求項に記載されている。 This problem is solved by the subject matter of the independent claims. Advantageous embodiments of the invention are described in the dependent claims.

本発明の第1の態様に従って、剥離工具に支援されて、把持工具を用いてウェハフィルムフレームの接着フィルムからチップを取り出すための方法が記載される。記載される方法は、(a)ウェハフィルムフレームの第1のチップが剥離工具の作用領域の上方に位置するように、ウェハフィルムフレームを剥離工具に対して位置決めするステップであって、当該作用領域において、剥離工具が接着フィルムと相互に作用し、第1のチップの接着フィルムへの接着を低下させるステップ;(b)接着フィルムの下面と剥離工具の上面との間に陰圧を加えるステップ;及び(c)(c1)剥離工具を作動し、接着フィルムへの第1のチップの接着を低下させること、(c2)把持工具によって第1のチップを把持すること、(c3)把持工具を、把持された第1のチップと共に接着フィルムから離れるように動かすことによって、第1のチップを取り出すステップを有している。本発明に係る方法はさらに、(d)剥離工具と接着フィルムとの間にさらなる相互作用が生じないように剥離工具を停止するステップ;(e)ウェハフィルムフレームの第2のチップが剥離工具の作用領域の上方に位置するように、剥離工具に対してウェハフィルムフレームを再度位置決めするステップ;及び(f)(f1)第2のチップの接着フィルムへの接着を低下させるように剥離工具を再び作動すること、(f2)把持工具又はさらなる把持工具によって第2のチップを把持すること、(f3)把持工具又はさらなる把持工具を、把持された第2のチップと共に接着フィルムから離れるように動かすことによって、第2のチップを取り出すステップを有している。本発明によると、ウェハフィルムフレームを再度位置決めするプロセスの間、少なくとも一時的に、接着フィルムの下面と剥離工具の上面との間に陰圧がさらに加えられる。 According to a first aspect of the invention, a method is described for removing chips from an adhesive film of a wafer film frame using a gripping tool, assisted by a stripping tool. The described method includes the steps of: (a) positioning the wafer film frame relative to the stripping tool such that a first chip of the wafer film frame is located above the working area of the stripping tool; (b) applying a negative pressure between the lower surface of the adhesive film and the upper surface of the peeling tool; and (c) (c1) activating a peeling tool to reduce adhesion of the first chip to the adhesive film; (c2) gripping the first chip with a gripping tool; (c3) the gripping tool; The first chip is removed by moving the gripped first chip away from the adhesive film. The method further comprises: (d) stopping the stripping tool so that no further interaction occurs between the stripping tool and the adhesive film; (e) the second chip of the wafer film frame (f) repositioning the wafer film frame relative to the stripping tool so as to be above the active area; and (f) repositioning the stripping tool to reduce adhesion of the second chip to the adhesive film. (f2) gripping the second chip by the gripping tool or the further gripping tool; (f3) moving the gripping tool or the further gripping tool away from the adhesive film together with the gripped second chip. The method includes the step of taking out the second chip. According to the invention, during the process of repositioning the wafer film frame, a negative pressure is additionally applied, at least temporarily, between the lower surface of the adhesive film and the upper surface of the stripping tool.

記載された方法は、ウェハフィルムフレームの再度の位置決めに関して、接着フィルムの下面と剥離工具の上面との間の陰圧を(完全に)解除することが必ずしも必要でないという認識に基づいている。これによって、チップを取り出す際、又は、より正確には、2つの異なるチップを連続して取り出す間の時間的間隔において、(i)再度の位置決めを行う前に陰圧を(その時々の周囲圧力まで)完全に解除し、(ii)再度の位置決めの後、かつ、第2のチップを取り出す前に、陰圧を再び完全に形成するために、従来のチップ取り出し方法では必要であるか又は発生する待機時間を回避するか、又は、少なくとも短縮することができる。 The method described is based on the recognition that for the repositioning of the wafer film frame it is not necessary to (completely) release the negative pressure between the lower side of the adhesive film and the upper side of the stripping tool. This ensures that when removing a chip, or more precisely in the time interval between the successive removals of two different chips, (i) a negative pressure (at the current ambient pressure) is applied before repositioning; (ii) after repositioning and before ejecting the second tip, in order to fully build up the negative pressure again, which is necessary or generated in conventional tip ejection methods. waiting times can be avoided or at least reduced.

分かりやすく表現すると、本発明に係る方法において、ウェハフィルムフレームを(再度)位置決めするために、以前に加えられた陰圧は、再び周囲圧力になるまで解除されることはないか、又は、少なくとも完全には解除されない。論理的帰結として、この陰圧は、第2のチップを取り出す前に、(完全に新しく)形成される必要もない。これによって、既知のチップ取り出しプロセスと比較すると、著しい時間的利点が得られ、チップの取り出し性能も対応して向上する。これによって、チップをより迅速に取り付け機に供給することが可能になり、取り付け機の実際の実装性能が向上する。 Expressed clearly, in the method according to the invention, in order to (re)position the wafer film frame, the previously applied negative pressure is not released until ambient pressure is again reached, or at least It will not be completely removed. As a logical consequence, this negative pressure also does not need to be created (completely fresh) before removing the second chip. This provides a significant time advantage compared to known chip removal processes and a corresponding improvement in chip removal performance. This allows chips to be fed to the attacher more quickly and improves the actual mounting performance of the attacher.

第2のチップの取り出しは、上述したように、すでに第1のチップを取り出し、その間に第1のチップを実装位置に配置した把持工具か、又は、さらなる若しくは別の把持工具を用いて行われ得る。第2の場合、第2のチップが取り出される際、第1のチップは(第1の)把持工具によって依然として保持され得る。これは、把持工具、さらなる把持工具及び必要に応じてさらなる把持工具が、1つかつ同一の複式実装ヘッドに配設されていることを意味する。次に、「Collect And Place」の原理に従って、既存の把持工具の数に対応する数のチップがまず取り出され、実装ヘッド全体によって、自動取り付け機の実装領域に共に搬送され、実装領域において、様々なチップが次々に、すなわちチップをさらに取り出すことなく、基板上又は人工ウェハのフィルム上の所定の実装位置に載置される。 Removal of the second chip may be carried out, as described above, with the gripping tool that has already taken out the first chip and which has meanwhile placed the first chip in the mounting position, or with a further or different gripping tool. obtain. In the second case, the first chip may still be held by the (first) gripping tool when the second chip is removed. This means that the gripping tool, the further gripping tool and, if necessary, the further gripping tool are arranged in one and the same multiple mounting head. Then, according to the "Collect And Place" principle, a number of chips corresponding to the number of existing gripping tools are first taken out and conveyed together by the whole mounting head to the mounting area of the automatic mounting machine, where they are placed in various The chips are placed one after another, ie without further removal of the chips, in a predetermined mounting position on the substrate or on the film of the artificial wafer.

本明細書において、「陰圧」という概念は、現在の周囲圧力よりも低い圧力、又は、現在の大気圧よりも低い圧力であると理解されるべきである。物理的に正しく表現すると、陰圧は周囲圧力との負の圧力差である。陰圧は、それ自体既知の任意の適切な種類のポンプで形成することが可能であり、必要に応じて適切な弁で調整することが可能である。本明細書において、第1の陰圧が別の第2の陰圧よりも大きいと記載されている場合はつねに、第2の陰圧と比較して、第1の陰圧が絶対的により小さい圧力値を有することを意味している。言い換えれば、より小さい陰圧は、より大きい陰圧の圧力値よりも周囲圧力に近い圧力値によって特徴付けられる。 In this specification, the concept "negative pressure" is to be understood as a pressure below the current ambient pressure or below the current atmospheric pressure. Properly expressed physically, negative pressure is a negative pressure difference with ambient pressure. The negative pressure can be created with any suitable type of pump known per se and can be regulated as required with suitable valves. Whenever a first negative pressure is stated herein to be greater than another second negative pressure, the first negative pressure is absolutely smaller compared to the second negative pressure. It means that it has a pressure value. In other words, smaller negative pressures are characterized by pressure values closer to ambient pressure than pressure values of larger negative pressures.

本発明によると、ウェハフィルムフレームを再度位置決めするプロセスの間、少なくとも一時的に陰圧が維持される。言い換えれば、再度の位置決めの全体を、陰圧下ではなく大気圧において行うということではない。 According to the invention, a negative pressure is maintained at least temporarily during the process of repositioning the wafer film frame. In other words, the entire repositioning is not performed at atmospheric pressure rather than under negative pressure.

第1のチップを取り出す際、及び/又は、第2のチップを取り出す際、記載したサブステップを調整して実施することのみが重要であり、これらのサブステップの具体的な順序は重要ではない。特に、チップの把持は、剥離工具の作動前、作動後又は作動中に行われ得る。重要なのは、把持工具又はさらなる把持工具を接着フィルムから離れる方向に動かす前に、剥離工具の(再度の)作動によって、当該チップの接着フィルム(の上面)への接着が、把持工具がその時々に利用可能な把持力で当該チップを確実に把持し、チップを保持することもできる程度まで低下することを保証することのみである。 It is only important that the described sub-steps be coordinated and performed when removing the first chip and/or when removing the second chip, and the specific order of these sub-steps is not important. . In particular, the gripping of the chip may take place before, after or during operation of the stripping tool. Importantly, before moving the gripping tool or a further gripping tool away from the adhesive film, the adhesion of the chip in question to the adhesive film (top side) is ensured by (re)activation of the peeling tool, which the gripping tool is then It is only a matter of ensuring that the available gripping force is reduced to the extent that it can securely grip the chip and also retain the chip.

記載された剥離工具は、好ましくは、平坦な上面を有する本体又は少なくとも1つの構成要素を含んでいる。接着フィルムの(非接着性の)下面は、(陰圧によって支援されて)上面に当接し得る。 The described stripping tools preferably include a body or at least one component with a flat top surface. The (non-adhesive) lower side of the adhesive film can abut the upper side (assisted by negative pressure).

本明細書において、ウェハとは、特に、その接着フィルム上に、適用事例に応じて、(i)鋸引きプロセスによってダイシングされた半導体チップ、又は、(ii)接着フィルム上に予め実装された半導体チップのいずれかを有する、いわゆるウェハフィルムフレームであると理解されるべきである。ウェハ又はウェハフィルムフレームはさらに、冒頭に述べたように、弾性フィルムが張られているフレームを含んでいる。ウェハフィルムフレームのフレームは、特に不必要な高さ方向の拡大を避けるために、平坦な金属フレームであってもよく、ウェハフィルムフレームを容易かつ安全に取り扱うことを可能にする役割も果たし得る。さらに、フレームは、いわゆるグリップリングであってもよく、原則として、鋼及び/又はプラスチック等の任意の材料から製造され得る。さらに、フィルムは、金属フレーム又はグリップリングに伸ばした状態で張られていてよく、個々のチップは、いくらか互いに離間している。 In this specification, a wafer is in particular a semiconductor chip on its adhesive film, depending on the application, (i) diced by a sawing process or (ii) a semiconductor pre-mounted on the adhesive film. It should be understood that it is a so-called wafer film frame with any of the chips. The wafer or wafer film frame further includes a frame covered with an elastic film, as mentioned at the outset. The frame of the wafer film frame may be a flat metal frame, in particular to avoid unnecessary height expansion, and may also serve to allow easy and safe handling of the wafer film frame. Furthermore, the frame may be a so-called grip ring and may in principle be manufactured from any material, such as steel and/or plastic. Additionally, the film may be stretched in a metal frame or grip ring, with the individual chips being somewhat spaced apart from each other.

ウェハフィルムフレームの取り扱いは、例えばロボット又は明らかにより単純な操作装置を用いて行うことが可能であり、当該操作装置は、適切なグリッパを用いてフレームに係合し、グリッパを適切に動かすことによって、ウェハ又はウェハフィルムフレームを、例えば所定の二次元又は三次元軌道に沿ってのみ移動させる。 Handling of the wafer film frame can be carried out, for example, by means of a robot or a clearly simpler handling device, which engages the frame with suitable grippers and by moving the grippers appropriately. , the wafer or wafer film frame is moved, for example only along a predetermined two-dimensional or three-dimensional trajectory.

本明細書に記載されている技術は、主にウェハフィルムフレームからのチップの取り出しに関するものであり、半導体ウェハの(半導体材料のスライスの)処理そのものに関するものではない。したがって、本明細書では、「ウェハフィルムフレーム」に対して、単に「ウェハ」という短縮した概念を用いることが多い。 The techniques described herein primarily relate to the removal of chips from wafer film frames, and not to the processing of semiconductor wafers (slices of semiconductor material) per se. Therefore, in this specification, the shortened concept of simply "wafer" is often used for "wafer film frame."

本明細書において、チップとは、ウェハから取り出すことが可能であり、実装可能である電子部品であると理解されるべきである。特に、チップは、主に半導体材料から構成されており、同じ半導体ウェハ上にある他のチップと共に加工又は製造された、パッケージングされていない、又は「裸の」電子部品である。元の半導体ウェハの半導体材料とは別に、チップは、適切な後処理の範囲内で半導体ウェハの全てのチップに対して同時に形成された金属製の端子接点を有することもできる。球状の端子接点の場合、チップは、特にパッケージングされていない、いわゆるフリップチップボールグリッドアレイ(FCBGA)であってよい。さらに、チップは、適切な電気的かつ熱伝導性の接合材料(はんだ)も含む、電流によって貼付された凸型の端子接点を有することも可能である。一般に、このような部品はチップスケールパッケージ(CSPs)と呼ばれる。パッケージングされていないチップを部品担体、例えばプリント基板(PCB)に実装した後、又は、人工ウェハの弾性フィルムに実装した後、実装されたチップは、必要に応じて、適切なコーティング及び/又は埋め込み用樹脂を用いて有害な環境影響から保護され得る。埋め込み用樹脂は、この関連において、実装されたチップの下に挿入されるアンダーフィル材料であってもよい。 In this specification, a chip is to be understood as an electronic component that can be removed from a wafer and mounted. In particular, chips are unpackaged or "bare" electronic components that are primarily composed of semiconductor materials and are fabricated or manufactured with other chips on the same semiconductor wafer. Apart from the semiconductor material of the original semiconductor wafer, the chips can also have metallic terminal contacts formed simultaneously for all chips of the semiconductor wafer within the scope of appropriate post-processing. In the case of spherical terminal contacts, the chip may be a so-called flip chip ball grid array (FCBGA) without special packaging. Furthermore, the chip can also have electrically applied convex terminal contacts, which also include suitable electrically and thermally conductive bonding materials (solders). Generally, such components are called chip scale packages (CSPs). After mounting the unpackaged chip on a component carrier, e.g. a printed circuit board (PCB) or on an elastic film of an artificial wafer, the mounted chip may be optionally coated with suitable coatings and/or It can be protected from harmful environmental effects using potting resin. The potting compound may in this connection be an underfill material inserted under the mounted chip.

本発明の一実施例によると、剥離工具は少なくとも1つの機械的剥離要素を有しており、当該剥離要素は、剥離工具の作動の際に、接着フィルムを下から押圧し、これによって接着フィルムを局所的に持ち上げる。 According to one embodiment of the invention, the stripping tool has at least one mechanical stripping element which, upon actuation of the stripping tool, presses the adhesive film from below and thus Lift locally.

記載された接着フィルムの機械による持ち上げは、剥離要素が対応して作動する際に、迅速かつ効果的な接着の低下が起こり得るという利点を有している。この際、接着の低下は、特に、接着フィルムの変化した三次元形状又は湾曲によって、当該チップと接着フィルムとの間の実際の接着面積が減少することの結果として生じ得る。変更された三次元形状又は湾曲は、単に、(少なくとも1つの)剥離要素の記載された作動の間に、剥離要素が剥離工具の本体から持ち上げられ、接着フィルムを下から押圧することによって生じ得る。 The mechanical lifting of the adhesive film described has the advantage that a rapid and effective reduction of the adhesion can occur when the peeling element is activated accordingly. In this case, a reduction in adhesion can occur, inter alia, as a result of the actual adhesion area between the chip and the adhesive film being reduced due to a changed three-dimensional shape or curvature of the adhesive film. The modified three-dimensional shape or curvature can be produced simply by, during the described actuation of the (at least one) peeling element, the peeling element lifting from the body of the peeling tool and pressing the adhesive film from below. .

つまり、剥離工具の作動は、上述したように、少なくとも1つの機械的剥離要素が、剥離工具の本体から上方に動かされることによって行われ得る。この際、接着フィルムは局所的に上方に持ち上げられ、これによって、剥離工具の上面又は本体の上面から局所的に離間している。対応して、剥離工具の停止は、少なくとも1つの機械的剥離要素が下方に向かって、剥離工具の本体内に少なくとも部分的に再び引き込まれることを含んでいる。この際、機械的な剥離要素は、好ましくは、いまや再び持ち上げられることはない接着フィルムの下面にはもはや当接しないほど下方に向けて引き込められる。これによって、ウェハフィルムフレームを再度位置決めする際に、接着フィルム及び/又は剥離要素の損傷を防ぐことができる。 That is, actuation of the stripping tool may be performed by moving at least one mechanical stripping element upwardly from the body of the stripping tool, as described above. In this case, the adhesive film is locally lifted upwards and is thereby locally separated from the upper surface of the peeling tool or the upper surface of the body. Correspondingly, stopping the stripping tool includes retracting the at least one mechanical stripping element downwardly, at least partially, into the body of the stripping tool. In this case, the mechanical release element is preferably retracted so far downward that it no longer abuts the underside of the adhesive film, which is now no longer lifted up again. This prevents damage to the adhesive film and/or the release element when repositioning the wafer film frame.

本発明のさらなる実施例によると、機械的剥離要素はエジェクタピンである。 According to a further embodiment of the invention, the mechanical peeling element is an ejector pin.

典型的には、ピンは極めて小さい端面を有しており、当該端面は、剥離工具の作動の際に、接着フィルムを下から押圧するので、フィルムとチップとの間の接着性の接着面積は、特に大きく減少し得る。上述したように、エジェクタピンの先端は、方法の具体的な構成に応じて、接着フィルムを持ち上げるか、又は、突き通すことが可能である。後者の場合、接着フィルムとチップとの間における接着面積はゼロにまで減少する。 Typically, the pin has a very small end face which presses against the adhesive film from below during activation of the stripping tool, so that the adhesive bond area between the film and the chip is , can be reduced particularly greatly. As mentioned above, the tip of the ejector pin can lift or pierce the adhesive film, depending on the specific configuration of the method. In the latter case, the adhesive area between the adhesive film and the chip is reduced to zero.

本発明のさらなる実施例によると、機械的剥離要素は、細長い上面を有するエジェクタプレートである。これは、機械的剥離要素が作動又は持ち上げられる際、取り出されるべきチップの領域におけるフィルムが、細長く比較的狭い縁部又はウェブに当接することを意味している。これによって、特に当該チップの元の接着面の領域の外側では、フィルムの局所的な歪みを低減することができる。したがって、未だ取り出されていないウェハフィルムフレームの隣接するチップは、当該チップの取り出しによって影響を受けないか、又は、軽微な影響を受けるのみである。特に、その接着力は、当該チップの取り出しと、それに伴う、取り出されたばかりのチップの領域の外側における接着フィルムの望ましくない湾曲とによって、(予定より早く)損なわれることはない。 According to a further embodiment of the invention, the mechanical peeling element is an ejector plate with an elongated top surface. This means that when the mechanical stripping element is actuated or lifted, the film in the area of the chip to be removed abuts an elongated and relatively narrow edge or web. This makes it possible to reduce local distortions of the film, especially outside the area of the original adhesive surface of the chip. Adjacent chips of the wafer film frame that have not yet been ejected are therefore unaffected or only slightly affected by the ejection of that chip. In particular, the adhesion is not compromised (prematurely) by ejection of the chip and the consequent undesired curvature of the adhesive film outside the area of the chip just ejected.

剥離工具は、好ましくは、それぞれ細長い上面を有する、互いに平行に配置され、個別に作動又は持ち上げ可能である複数のエジェクタプレートであってよい。異なるエジェクタプレートを順次作動又は持ち上げることによって、当該チップの接着を、異なる接着部分領域において順次低下させることが可能であり、したがって、当該チップの接着領域全体にわたって、接着の効果的な低下が得られる。 The stripping tool may preferably be a plurality of ejector plates, each having an elongated upper surface, arranged parallel to each other and individually actuatable or liftable. By sequentially actuating or lifting different ejector plates, it is possible to reduce the adhesion of the chip in different adhesion part areas sequentially, thus obtaining an effective reduction of the adhesion over the entire adhesion area of the chip. .

本発明の別の実施例によると、剥離工具はエネルギー源を有しており、当該エネルギー源は、作用領域内で接着フィルムにエネルギーを伝達し、これによって、接着フィルムの接着力が減少する。 According to another embodiment of the invention, the stripping tool has an energy source that transfers energy to the adhesive film in its active area, thereby reducing the adhesive strength of the adhesive film.

この際、エネルギーは、電磁放射線の形で、非接触に接着フィルムに伝達され得る。放射線は、可視光又は非可視光、例えば赤外スペクトル領域の光を含み得る。例えば、エネルギー源は、少なくとも1つのレーザー又は発光ダイオード(LED)を含み得る。エネルギー源はさらに、加えられた陰圧によって接着フィルムが当接する放射線透過性コンタクトウィンドウを含み得る。陰圧は、コンタクトウィンドウの開口部又はコンタクトウィンドウの隣の開口部を通じて、下方から接着フィルムに加えられ得る。 In this case, energy can be transferred contactlessly to the adhesive film in the form of electromagnetic radiation. The radiation may include visible or non-visible light, such as light in the infrared spectral region. For example, the energy source may include at least one laser or light emitting diode (LED). The energy source may further include a radiolucent contact window against which the adhesive film is abutted by an applied negative pressure. Negative pressure can be applied to the adhesive film from below through an opening in the contact window or an opening next to the contact window.

エネルギーは熱エネルギーであってもよく、放射、すなわち非常に長い波長を有する電磁放射の形で、非接触に局所的に伝達される。代替的に、又は、組み合わされて、熱エネルギーは、熱伝導を通じて接触によっても伝達され得る。後者の場合、エネルギー源は、接着フィルムと接触させられる加熱面又は加熱可能な面を有することができる。この場合でも、加熱面若しくは加熱可能な面の、又は、加熱面若しくは加熱可能な面の横の開口部を使用して、接着フィルムの下面に陰圧を加えることが可能である。加熱面又は加熱可能な面は、例えば炭化ケイ素を有し得る。これは、有利なことに、時間的に急速な温度勾配での加熱を可能にする材料である。 The energy may be thermal energy and is locally transferred without contact in the form of radiation, ie electromagnetic radiation with very long wavelengths. Alternatively, or in combination, thermal energy may also be transferred by contact through thermal conduction. In the latter case, the energy source can have a heated or heatable surface that is brought into contact with the adhesive film. In this case too, it is possible to apply a negative pressure to the underside of the adhesive film using openings in or beside the heating or heatable surface. The heating or heatable surface may comprise silicon carbide, for example. This is a material that advantageously allows heating with a rapid temperature gradient in time.

本発明のさらなる実施例によると、再度の位置決めを行うプロセス全体の間、接着フィルムの下面と剥離工具の上面との間に陰圧が加えられる。分かりやすく表現すると、これは、少なくとも第1のチップの取り出しと第2のチップの取り出しとの間の時間枠において、接着フィルムの下面と剥離工具の上面との間の陰圧が、解除されないか、又は、少なくとも完全には解除されないことを意味する。このことは、第2のチップを確実に取り出すために必要な陰圧を得るために、第2のチップを取り出す前にこの必要な陰圧を形成するために必要な時間がより短くなるという利点を有する。 According to a further embodiment of the invention, a negative pressure is applied between the lower surface of the adhesive film and the upper surface of the stripping tool during the entire repositioning process. In simple terms, this means that at least in the time frame between the removal of the first chip and the removal of the second chip, the negative pressure between the bottom surface of the adhesive film and the top surface of the stripping tool is not released. Or, at least, it means that it is not completely released. This has the advantage that in order to obtain the necessary negative pressure to ensure ejection of the second chip, less time is required to build up this necessary negative pressure before ejecting the second chip. has.

本発明のさらなる実施例によると、再度の位置決めを行うプロセス全体の間、接着フィルムの下面と剥離工具の上面との間に加えられる陰圧は、第1のチップの取り出し及び/又は第2のチップの取り出しの間に接着フィルムの下面と剥離工具の上面との間に加えられる陰圧よりも小さい。このことは、位置決めの際に不利となる、本体の上面への接着フィルムの空気圧による接着によって、再度の位置決めが妨げられることがないか、又は、妨げられるとしてもわずかであるという利点を有する。 According to a further embodiment of the invention, during the entire repositioning process, the negative pressure applied between the lower side of the adhesive film and the upper side of the stripping tool can be used to remove the first chip and/or to remove the second chip. less than the negative pressure applied between the bottom surface of the adhesive film and the top surface of the stripping tool during chip removal. This has the advantage that the repositioning is not or only slightly hindered by the pneumatic adhesion of the adhesive film to the top surface of the body, which is disadvantageous during positioning.

この関連において、位置決めを行っている間の陰圧が大きいほど、記載された「空気圧による接着」がウェハフィルムフレームの位置決めを大きく妨げ得ることは明らかである。(i)陰圧変化の時間的間隔を縮小するための位置決めの際の可能な限り大きい陰圧と、(ii)ウェハフィルムフレームが剥離工具に対して可能な限り自由に移動できるようにするための位置決めの際の可能な限り小さい陰圧との間の最適な妥協は、その時々の適用事例に応じて実験によって容易に決定され得る。つまり、陰圧を徐々に低下させる場合に、どの時点から十分に良好な相対的な可動性が得られるかを観察すればよい。 In this connection, it is clear that the greater the negative pressure during positioning, the more the described "pneumatic adhesion" can interfere with the positioning of the wafer film frame. (i) the highest possible negative pressure during positioning to reduce the time interval of negative pressure changes; and (ii) to allow the wafer film frame to move as freely as possible relative to the stripping tool. The optimum compromise between the lowest possible negative pressure during positioning of the can be easily determined by experiment depending on the particular application. In other words, it is only necessary to observe at what point a sufficiently good relative mobility is obtained when the negative pressure is gradually lowered.

本発明のさらなる実施例によると、(i)第1のチップ及び/又は第2のチップを取り出す際の陰圧と、(ii)再度の位置決めを行う際の陰圧との間の差は、少なくとも部分的に、漏れに起因する。このことは、位置決めを行っている間の陰圧の低減を達成するために、複雑な圧力制御機構を使用する必要がないという利点を有する。特に、再度の位置決めのための陰圧の低減は、単にポンプの運転を停止すること、及び/又は、(一時的に)遮断弁によってポンプを剥離工具及び/又は接着フィルムから空気圧によって連結解除することによって得られる。 According to a further embodiment of the invention, the difference between (i) the negative pressure when removing the first chip and/or the second chip and (ii) the negative pressure when repositioning is: At least in part due to leakage. This has the advantage that there is no need to use complex pressure control mechanisms to achieve a reduction in negative pressure during positioning. In particular, reducing the negative pressure for repositioning can be achieved by simply stopping the operation of the pump and/or (temporarily) pneumatically uncoupling the pump from the stripping tool and/or the adhesive film by means of a shut-off valve. obtained by

この関連において「漏れ」という表現は、特に、周囲からの空気が陰圧の空間領域に流入することによって生じる空気の流れを意味している。この際、対応する漏れの開口部又は横断面が大きいほど、第1のチップ及び/又は第2のチップを取り出した後の陰圧は、問題なく再度の位置決めを行うために必要な陰圧まで速く低下する。 The expression "leakage" in this context means in particular an air flow caused by the inflow of air from the surroundings into a spatial region of negative pressure. In this case, the larger the opening or cross-section of the corresponding leak, the more the negative pressure after removing the first chip and/or the second chip will be up to the negative pressure required for trouble-free repositioning. Declines quickly.

本発明のさらなる実施例によると、接着フィルムの下面と剥離工具の上面との間の陰圧の経時的な推移が(能動的に)制御される。能動的な制御は、例えば、陰圧を形成するポンプの対応する制御によって、及び/又は、そのようなポンプと剥離工具若しくは接着フィルムとの間の適切な空気圧制御弁によって行われ得る。 According to a further embodiment of the invention, the course of the negative pressure over time between the lower side of the adhesive film and the upper side of the stripping tool is (actively) controlled. Active control can be effected, for example, by a corresponding control of a pump creating a negative pressure and/or by a suitable pneumatic control valve between such a pump and the peeling tool or the adhesive film.

記載した能動的な制御によって、特に記載した方法の様々な段階において、陰圧が(大きく)変化する場合に、プロセス全体を有利な方法で空気圧を用いて制御下に保つことが可能である。結果として、高い取り出し性能にもかかわらず、プロセスの高い確実性が保証され得る。 The described active control makes it possible to keep the entire process under control with pneumatic pressure in an advantageous manner, especially if the negative pressure changes (to a large extent) in the various stages of the described method. As a result, high reliability of the process can be guaranteed despite high removal performance.

本発明のさらなる実施例によると、陰圧の経時的な推移は圧力センサを用いて制御される。記載された制御(閉じた制御ループでの)によって、陰圧の経時的推移は、高い精度で所定の目標圧力推移に適合させることができる。これによって、高い取り出し性能と高いプロセスの確実性との間で、さらなる改善された妥協が得られる。 According to a further embodiment of the invention, the course of the negative pressure over time is controlled using a pressure sensor. With the described control (in a closed control loop), the time profile of the negative pressure can be adapted with high precision to a predetermined setpoint pressure profile. This provides a further improved compromise between high removal performance and high process reliability.

本発明のさらなる実施例によると、陰圧の経時的な推移は、アナログの空気弁を用いて能動的に制御される。記載したアナログの空気弁は、好ましくは、陰圧を形成するポンプと剥離工具又は接着フィルムとの間に配置されていてよい。 According to a further embodiment of the invention, the course of the negative pressure over time is actively controlled using an analog pneumatic valve. The analog air valve described may preferably be arranged between the pump creating the negative pressure and the stripping tool or the adhesive film.

記載したアナログの空気弁は、開ループ制御又は閉ループ制御の介入によって圧力変化を引き起こすことが可能である任意の空気圧装置であってよい。アナログの空気弁は、特に、2つの入口と1つの出口とを有する弁であってよく、一方の入口はポンプに、他方の入口は周囲環境と空気圧によって連結又は接続されている。出口は、特に剥離工具と接着フィルムの間の陰圧の空間領域と空気圧によって連結されていてよい。アナログの圧力変化は、2つの入口間におけるフロー断面又はフロー抵抗の比を通じて行われ得る。 The analog pneumatic valve described may be any pneumatic device capable of causing a pressure change by open-loop control or closed-loop control intervention. An analog pneumatic valve may in particular be a valve with two inlets and one outlet, one inlet being connected or connected pneumatically to the pump and the other inlet to the surrounding environment. The outlet can in particular be connected pneumatically to a negative-pressure spatial region between the peeling tool and the adhesive film. Analog pressure changes can be made through the ratio of flow cross-sections or flow resistances between the two inlets.

本発明のさらなる実施例によると、当該方法は、第2のチップを取り出した後でさらに(f)剥離工具と接着フィルムとの間でさらなる相互作用が新たに生じないように、剥離工具を再び停止するステップ;(g)ウェハフィルムフレームの第3のチップが剥離工具の作用領域の上方に(好ましくは直接)位置するように、ウェハフィルムフレームを剥離工具に対して(少なくとも1つの水平方向に沿って)再度位置決めするステップ;(h)(h1)剥離工具を再び作動し、接着フィルムに対する第3のチップの接着を低下させること、(h2)把持工具又はさらなる把持工具によって第3のチップを把持すること、(h3)把持工具又はさらなる把持工具を、把持された第3のチップと共に接着フィルムから離れるように動かすことによって、第3のチップを取り出すステップ、を有している。この際、ウェハフィルムフレームを再度位置決めするプロセスの間、少なくとも一時的に、接着フィルムの下面と剥離工具の上面との間に陰圧が加えられる。 According to a further embodiment of the invention, the method further comprises: after removing the second chip, (f) restarting the peeling tool again so that no further interaction between the peeling tool and the adhesive film occurs; (g) moving the wafer film frame relative to the stripping tool (in at least one horizontal direction) such that the third chip of the wafer film frame is located (preferably directly) above the working area of the stripping tool; (h) re-activating the peeling tool (h1) to reduce the adhesion of the third chip to the adhesive film; (h2) repositioning the third chip by the gripping tool or a further gripping tool; (h3) removing the third chip by moving the gripping tool or a further gripping tool away from the adhesive film together with the gripped third chip. During the process of repositioning the wafer film frame, a negative pressure is applied, at least temporarily, between the lower surface of the adhesive film and the upper surface of the stripping tool.

つまり、記載した方法では、2つ以上のチップを迅速に、すなわち高い取り出し性能で取り出すことができる。当該方法は特に、所望の数のチップがウェハフィルムフレームから取り出されるまで繰り返され得る。所望のチップ数は、ウェハフィルムフレーム上に残っているチップの総数であってもよいし、又は、特定の実装作業のために取り出す必要がある特定のチップ数であってもよい。 In other words, with the method described, two or more chips can be removed quickly, ie with high removal performance. In particular, the method can be repeated until a desired number of chips have been removed from the wafer film frame. The desired number of chips may be the total number of chips remaining on the wafer film frame, or it may be a specific number of chips that need to be removed for a particular packaging operation.

本発明のさらなる態様に従って、特に上述の種類の方法を実行することによって、ウェハフィルムフレームの接着フィルムからチップを取り出すための装置が記載される。記載される装置は、(a)作用領域において接着フィルムへのチップの接着を低下させるように構成された剥離工具;(b)ウェハフィルムフレームの複数のチップが作用領域の上方に連続して位置するように、ウェハフィルムフレームを剥離工具に対して連続的に位置決めするための位置決め装置;(c)接着フィルムの下面と剥離工具の上面との間に陰圧を加えるように構成された陰圧形成装置;及び(d)(d1)接着フィルムに対するチップの接着が低下するように剥離工具を作動すること、(d2)把持工具によってチップを把持すること、及び(d3)把持工具を把持されたチップと共に接着フィルムから離れるように動かすことによって、それぞれ1つのチップを取り出すように構成された少なくとも1つの把持工具を有する実装ヘッド、を有している。陰圧形成装置は、第1のチップを取り出した後、かつ、第2のチップを取り出す前においてウェハフィルムフレームの位置決めを行っている間に、少なくとも一時的に、接着フィルムの下面と剥離工具の上面との間に陰圧を引き続き加えるように構成されており、これらの取り出しは、それぞれ、接着フィルムの下面と剥離工具の上面との間に陰圧を加えた状態で行われる。 According to a further aspect of the invention, an apparatus is described for removing chips from an adhesive film of a wafer film frame, in particular by carrying out a method of the type described above. The described apparatus includes: (a) a stripping tool configured to reduce the adhesion of the chips to the adhesive film in the active area; (b) a plurality of chips of the wafer film frame positioned in series above the active area; (c) a negative pressure configured to apply a negative pressure between the lower surface of the adhesive film and the upper surface of the stripping tool; a forming device; and (d) (d1) activating a peeling tool such that adhesion of the chip to the adhesive film is reduced; (d2) gripping the chip with a gripping tool; and (d3) gripping the chip with the gripping tool. a mounting head having at least one gripping tool each configured to remove one chip by moving the chip away from the adhesive film; While positioning the wafer film frame after taking out the first chip and before taking out the second chip, the negative pressure forming device at least temporarily connects the lower surface of the adhesive film with the peeling tool. The removal tool is configured to continuously apply a negative pressure between the adhesive film and the upper surface, and each of these removals is performed while applying a negative pressure between the lower surface of the adhesive film and the upper surface of the peeling tool.

記載されたチップ取り出し装置もまた、ウェハフィルムフレームを位置決めするために、接着フィルムの下面と剥離工具の上面との間の陰圧を(完全に)解除することは必ずしも必要ではないという認識に基づいている。これによって、2つの異なるチップを連続して取り出す間の時間的間隔において、(i)ウェハフィルムフレームを位置決めする前に陰圧を(それぞれの周囲圧力まで)完全に解除し、(ii)位置決め後、かつ、さらなるチップの取り出し前に陰圧を再び完全に形成するために、従来のチップ取り出し装置では必要であった待機時間を回避又は少なくとも短縮することができる。 The described chip removal device is also based on the recognition that it is not always necessary to (completely) release the negative pressure between the bottom surface of the adhesive film and the top surface of the stripping tool in order to position the wafer film frame. ing. This ensures that, in the time interval between successive removals of two different chips, (i) the negative pressure is completely released (to their respective ambient pressure) before positioning the wafer film frame, and (ii) after positioning. , and the waiting time required in conventional chip removal devices in order to fully establish the negative pressure again before further chip removal can be avoided or at least reduced.

本発明の一実施例によると、陰圧形成装置は、ポンプと制御可能な弁と制御ユニットとを有しており、制御ユニットを用いて、ポンプ及び/又は制御可能な弁は、接着フィルムの下面と剥離工具の上面との間の陰圧を変化させることができるように制御され得る。 According to an embodiment of the invention, the device for generating negative pressure has a pump, a controllable valve and a control unit, with the control unit the pump and/or the controllable valve are configured to It can be controlled to vary the negative pressure between the lower surface and the upper surface of the stripping tool.

制御ユニットによって引き起こされる制御によって、陰圧が(大きく)変化し得る場合でも、有利なことに、複数のチップの連続的な取り出しのプロセス全体を(能動的に)制御下に保つことが可能である。結果として、高い取り出し性能にもかかわらず、プロセスの高い確実性が保証され得る。 Due to the control triggered by the control unit, it is advantageously possible to keep the entire process of successive removal of several chips under control (actively), even if the negative pressure can vary (largely). be. As a result, high reliability of the process can be guaranteed despite high removal performance.

本発明のさらなる実施例によると、装置はさらに圧力センサを有しており、圧力センサは、制御ユニットと通信可能であるように連結されており、制御ユニットは、陰圧の所定の経時的推移が生じるように、圧力センサの圧力測定値に基づいて、ポンプ及び/又は制御可能な弁を制御するように情報技術的に構成されている。 According to a further embodiment of the invention, the device further comprises a pressure sensor, the pressure sensor being communicatively coupled to a control unit, the control unit configured to determine a predetermined time course of the negative pressure. The information technology is configured to control the pump and/or the controllable valve on the basis of the pressure measurement of the pressure sensor so that the pressure measurement occurs.

圧力センサは、閉じた制御ループの構成要素であってよい。これによって、陰圧の経時的推移を、特に高い精度で、所定の目標圧力推移に適合させることが可能である。これによって、高い取り出し性能と高いプロセスの確実性との間で、さらに改善された妥協が得られる。 The pressure sensor may be a component of a closed control loop. This makes it possible to adapt the negative pressure profile over time to a predetermined setpoint pressure profile with particularly high precision. This provides an even better compromise between high removal performance and high process reliability.

本発明のさらなる態様に従って、基板にチップを実装するための実装システムが記載される。記載された実装システムは、(a)上述のチップを取り出すための装置、(b)ウェハフィルムフレームをピックアップするための第1のピックアップ装置、及び(c)実装されるべき基板をピックアップするための第2のピックアップ装置を有している。少なくとも1つの把持工具を備えた実装ヘッドは、ウェハフィルムフレームからチップを取り出し、基板上に配置するように構成されている。 According to a further aspect of the invention, a mounting system for mounting a chip on a substrate is described. The described mounting system includes (a) a device for picking up the chips as described above, (b) a first pickup device for picking up the wafer film frame, and (c) a device for picking up the substrate to be mounted. It has a second pickup device. A mounting head with at least one gripping tool is configured to remove the chip from the wafer film frame and place it on the substrate.

記載された実装システムは、実装システムの構成要素である上述のチップ取り出し装置が、高い取り出し性能を提供することができるので、実装性能、すなわち、所定の時間単位内にウェハフィルムフレームから基板上に配置することができるチップの数が、チップ取り出し装置内で生じ得る空気圧緩和によってはもはや(それほど大きくは)決定されず、又は、制限されないという認識に基づいている。 The described mounting system is characterized by the fact that the above-mentioned chip ejecting device, which is a component of the mounting system, can provide a high ejection performance, i.e., from the wafer film frame to the substrate within a predetermined time unit. It is based on the recognition that the number of chips that can be placed is no longer determined or limited by the air pressure relief that can occur within the chip removal device.

第1のピックアップ装置は、好ましくは、位置決め装置と機械的に接続されている。これによって、ピックアップされたウェハフィルムフレームの位置決めを行っている間に、第1のピックアップ装置もウェハフィルムフレームと共に動かされる。 The first pick-up device is preferably mechanically connected to the positioning device. Thereby, while positioning the picked-up wafer film frame, the first pick-up device is also moved together with the wafer film frame.

チップの配置は、ウェハフィルムフレームから基板上に直接行うだけでなく、基板上へのチップの最終的な載置を行う少なくとも1つの付加的なチップ取り扱い装置を使用することによって間接的に行うことも可能である。この関連において、チップ取り扱い装置は、例えば、さらなる実装ヘッド及び/又はチップ用の一時的な保管場所を含むことが可能である。 The placement of the chips is performed not only directly from the wafer film frame onto the substrate, but also indirectly by using at least one additional chip handling device that performs the final placement of the chips on the substrate. is also possible. In this connection, the chip handling device can include, for example, a further mounting head and/or a temporary storage location for the chips.

本発明のさらなる態様に従って、ウェハフィルムフレームの接着フィルムからチップを取り出す装置を動作させるためのコンピュータプログラムが記載される。この際、当該装置は特に、上述した種類の装置である。当該コンピュータプログラムは、データ処理ユニットによって実行される場合、ウェハフィルムフレームの接着フィルムからチップを取り出すための上述の方法を実行するように構成されている。 In accordance with a further aspect of the invention, a computer program product is described for operating an apparatus for removing chips from an adhesive film of a wafer film frame. In this case, the device is in particular a device of the type mentioned above. The computer program, when executed by the data processing unit, is configured to carry out the above-described method for removing chips from the adhesive film of the wafer film frame.

本明細書において、このようなコンピュータプログラムは、本発明に係る方法に関連する効果を得るために、システム又は方法の機能を適切に調整するようにコンピュータシステムを制御するための命令を含むプログラム要素、コンピュータプログラム製品及び/又はコンピュータ可読媒体という概念と同義である。 Such a computer program is herein defined as a program element containing instructions for controlling a computer system to suitably adjust the functioning of the system or method in order to obtain the effects associated with the method according to the invention. , computer program product and/or computer readable medium.

当該コンピュータプログラムは、例えばJAVA、C++等の任意の適切なプログラミング言語によるコンピュータ可読命令コードとして実装されていてよい。コンピュータプログラムは、コンピュータ可読記憶媒体(CD-ROM、DVD、ブルーレイディスク、リムーバブルドライブ、揮発性又は不揮発性メモリ、内蔵メモリ/プロセッサ等)に保存されていてよい。命令コードは、所望の機能が実行されるように、特に自動取り付け機の制御コンピュータ等のコンピュータ又は他のプログラミング可能なデバイスをプログラミングすることが可能である。さらに、コンピュータプログラムは、インターネット等のネットワーク上で提供可能であり、必要に応じてユーザがネットワーク上からダウンロードすることができる。 The computer program may be implemented as computer readable instruction code in any suitable programming language, such as JAVA, C++, or the like. The computer program may be stored on a computer readable storage medium (CD-ROM, DVD, Blu-ray disc, removable drive, volatile or non-volatile memory, internal memory/processor, etc.). The instruction code can be used to program a computer or other programmable device, particularly a control computer of an automatic installation machine, to perform the desired functions. Further, the computer program can be provided over a network such as the Internet, and can be downloaded by a user from the network as needed.

本発明は、コンピュータプログラム、すなわちソフトウェアを用いても、1つ又は複数の特別な電子回路、すなわちハードウェア又は任意のハイブリッド形態、すなわちソフトウェアコンポーネント及びハードウェアコンポーネントを用いても実現可能である。 The invention can be implemented using a computer program, ie, software, or using one or more special electronic circuits, ie, hardware, or in any hybrid form, ie, using software and hardware components.

本明細書に記載された発明は、対応する仮想記憶領域と対応する仮想計算能力とを有する「クラウド」ネットワークを用いても実施可能である。 The invention described herein can also be practiced using a "cloud" network with corresponding virtual storage space and corresponding virtual computing power.

本発明の実施形態は、本発明の様々な対象に関連して記載されてきたことを指摘しておく。特に、本発明のいくつかの実施形態は装置クレームで記載され、本発明の他の実施形態は方法クレームで記載されてきた。しかしながら、明示的に別段の記載がない限り、本発明の1つの種類の対象に属する特徴の組み合わせに加えて、本発明の様々な種類の対象に属する特徴の任意の組み合わせも可能であることは、本明細書を読めば当業者には直ちに明らかであろう。 It is noted that embodiments of the invention have been described in connection with various subject matter of the invention. In particular, some embodiments of the invention have been described in apparatus claims, and other embodiments of the invention have been described in method claims. However, unless expressly stated otherwise, in addition to combinations of features belonging to one type of object of the invention, any combination of features belonging to different types of object of the invention is also possible. , will be readily apparent to those skilled in the art after reading this specification.

本発明のさらなる利点及び特徴は、目下のところ好ましい実施形態に関する以下の例示的な説明から明らかになるであろう。 Further advantages and features of the invention will become apparent from the following exemplary description of the presently preferred embodiments.

本発明の一実施例に係る、複数のエジェクタピンを有するエジェクタ工具に支援されてウェハフィルムフレームの接着フィルムからチップを取り出すための装置を示した図である。FIG. 3 illustrates an apparatus for ejecting chips from an adhesive film of a wafer film frame assisted by an ejector tool having a plurality of ejector pins, according to an embodiment of the present invention. ウェハフィルムフレームの接着フィルムからのチップの取り出しに関して、(i)把持工具の動き、(ii)(少なくとも)1つのエジェクタピンの動き、及び(iii)接着フィルムとエジェクタ工具との間に加えられる陰圧の間の相互作用を示した図である。With respect to the removal of chips from the adhesive film of the wafer film frame, (i) movement of the gripping tool, (ii) movement of (at least) one ejector pin, and (iii) shadow applied between the adhesive film and the ejector tool. FIG. 3 is a diagram showing the interaction between pressures.

以下に記載する実施形態は、本発明の可能な実施形態の変型例からの限定された選択にすぎない。特に、個々の実施形態の特徴を適切に組み合わせることが可能であるので、多数の異なる実施形態が、本明細書に明確に示された実施形態の変型例で、当業者には明らかに開示されたものとみなされる。 The embodiments described below are only a limited selection of possible embodiment variants of the invention. In particular, it is possible to suitably combine the features of the individual embodiments, so that a large number of different embodiments are clearly disclosed to those skilled in the art, with variations of the embodiments explicitly shown herein. It is considered that

加えて、例えば「前」及び「後」、「上」及び「下」、「左」及び「右」等の空間に関する概念は、図に示されるように、1つの要素の別の要素に対する関係を記載するために用いられることを指摘しておく。したがって、空間に関する概念は、図に図示された方向とは異なる方向に適用され得る。しかしながら、そのような空間に関する概念は全て、説明を容易にするために図面に示された方向に関連しており、それぞれ図示された装置は、使用される場合に、図面に示された方向とは異なる方向をとる可能性があるので、必ずしも限定的なものではないことは自明である。 In addition, spatial concepts such as "front" and "back", "top" and "bottom", "left" and "right", etc., refer to the relationship of one element to another, as shown in the diagram. It should be pointed out that it is used to describe. Thus, spatial concepts may apply in directions different from those illustrated in the figures. However, all such spatial concepts are related to the orientation shown in the drawings for ease of explanation, and each illustrated device, when used, is It is self-evident that this is not necessarily restrictive since it may take different directions.

図1は、本発明の一実施例に係る、エジェクタ工具110に支援されて、ウェハフィルムフレーム190の接着フィルム192からチップ195を取り出すための装置100を示している。エジェクタ工具110に支援されてチップ195を取り出す際の基本原理はそれ自体知られているので、本明細書では一から説明は行わない。特に、上述したように、図1に示したエジェクタピン114の代わりに、エジェクタプレートを使用することが知られている。放射及び/又は熱を用いた接着力の機械によらない低下自体も、当業者には知られているので、改めて詳細には言及しない。 FIG. 1 shows an apparatus 100 for ejecting a chip 195 from an adhesive film 192 of a wafer film frame 190 with the aid of an ejector tool 110, according to one embodiment of the invention. The basic principles of ejecting the chip 195 with the aid of the ejector tool 110 are known per se and will not be explained from scratch here. In particular, as mentioned above, it is known to use an ejector plate in place of the ejector pin 114 shown in FIG. The non-mechanical reduction of the adhesive force using radiation and/or heat is also known per se to the person skilled in the art, so that it will not be mentioned in detail again.

ウェハフィルムフレーム190は、知られているようにフレーム構造194を有しており、フレーム構造194には接着フィルム192が張られている。チップ195は、フィルム192の接着面に位置している。チップ195を取り出すために、ウェハフィルムフレーム190は、極めて概略的にのみ示された、ウェハフィルムフレーム190をそのフレーム構造194において直接又は間接に把持する位置決め装置130を用いて、少なくともx方向及び/又はy方向に沿って変位し、これによって、取り出されるべきチップ195は、エジェクタ工具110の真上に位置する。より正確に表現すると、取り出されるべきチップ195は、エジェクタ工具110のエジェクタピン114の真上に位置している。 The wafer film frame 190 has a frame structure 194, as is known, and an adhesive film 192 is applied to the frame structure 194. Chip 195 is located on the adhesive surface of film 192. In order to remove the chip 195, the wafer film frame 190 is moved at least in the or along the y direction, so that the chip 195 to be ejected is located directly above the ejector tool 110. More precisely, the chip 195 to be ejected is located directly above the ejector pin 114 of the ejector tool 110.

装置100はさらに、実装ヘッド150を有しており、実装ヘッド150は、図示されていない位置決めシステムを用いて、ウェハフィルムフレーム190の上方で移動可能である。実装ヘッド150は、それ自体既知の配置ヘッドであり得るが、吸引ピペットの形で構成された少なくとも1つの把持工具154を有しており、把持工具154は、図示していないリニア駆動部を用いて、実装ヘッドのシャーシ152に対して垂直のz方向(図1に示すx方向及びy方向に対して垂直)に沿って移動可能である。チップ取り出しプロセスの開始時点では、把持工具154は、その前面であって、図1においては、図示されない吸引口を有する下側端面が、チップ195の上側表面に直接当接するように位置決めされる。 The apparatus 100 further includes a mounting head 150 that is movable above the wafer film frame 190 using a positioning system, not shown. The mounting head 150, which can be a placement head known per se, has at least one gripping tool 154 configured in the form of a suction pipette, which gripping tool 154 can be operated using a linear drive, not shown. and is movable along the z direction (perpendicular to the x and y directions shown in FIG. 1) perpendicular to the chassis 152 of the mounting head. At the beginning of the chip removal process, the gripping tool 154 is positioned such that its front, lower end surface with a suction port, not shown in FIG. 1, directly abuts the upper surface of the chip 195.

チップ195の取り出しは、既知の方法で(a)エジェクタピン114をエジェクタ工具110の本体112に対して上方に移動させること、及び(b)同時に、かつ同じ程度で把持工具154を上方に移動させることによって行われる。接着フィルム192が突き通される、又は、湾曲する場合、当該チップ195のフィルム192への接着が失われるか、又は、低下する。把持工具154の吸引管を通じて形成される吸引陰圧は、以下に説明するフィルム192とエジェクタ工具112との間の陰圧と混同すべきではなく、やはり既知の方法で、当該チップ195がフィルム192から把持工具154に移されるように機能する。接着フィルム192とエジェクタ工具110との間の陰圧、より正確にはフィルム192とエジェクタ工具110の本体112の上面112aとの間の陰圧は、本図に示す実施例に従った既知の方法で、エジェクタピン114がフィルム192を突き通し、単に面が持ち上げられるのみではないように機能する。代替的に、フィルム192の下面192aにおいて十分な陰圧が存在する場合、エジェクタピン114は、フィルム192がエジェクタピン114の先端で直接局所的にのみ持ち上げられ、フィルム192の接着性の上面と当該チップ195との間の接着面積及びしたがって接着力を大幅に減少させるように機能し得る。記載した陰圧は、陰圧形成装置140によって形成され、図示しない本体112の上面112a上又は上面112a内に設けられた開口部を介して、接着フィルム192の下面192aに加えられる。 Removal of the chip 195 is performed in a known manner by (a) moving the ejector pin 114 upwardly relative to the body 112 of the ejector tool 110, and (b) simultaneously and to the same extent moving the gripping tool 154 upwardly. It is done by If the adhesive film 192 is penetrated or bent, the adhesion of the chip 195 to the film 192 is lost or degraded. The negative suction pressure created through the suction tube of the gripping tool 154 is not to be confused with the negative pressure between the film 192 and the ejector tool 112 described below, and again in a known manner, the tip 195 154 to the gripping tool 154. The negative pressure between the adhesive film 192 and the ejector tool 110, more precisely between the film 192 and the upper surface 112a of the body 112 of the ejector tool 110, is created in a known manner according to the embodiment shown in the figure. Then, the ejector pin 114 pierces the film 192 and functions in such a way that the surface is not simply lifted. Alternatively, if sufficient negative pressure exists on the lower surface 192a of the film 192, the ejector pin 114 may cause the film 192 to be lifted only locally directly at the tip of the ejector pin 114, causing the adhesive upper surface of the film 192 and the corresponding It may serve to significantly reduce the adhesion area and therefore the adhesion force between the chip 195 and the chip 195 . The described negative pressure is generated by the negative pressure generating device 140 and is applied to the lower surface 192a of the adhesive film 192 through an opening provided on or in the upper surface 112a of the main body 112 (not shown).

図1から明らかであるように、陰圧形成装置140はポンプ142を含んでおり、ポンプ142は、参照符号が付されていない空気導管を通じて、制御可能な弁144の第1の空気入口144aに空気圧によって接続されている。制御可能な弁144bの第2の空気入口144は、空気圧によって周囲環境に接続されている。制御可能な弁144の空気出口144cは、本体112の内部空間の空気入口110aに空気圧によって接続されている。 As is clear from FIG. 1, the negative pressure generating device 140 includes a pump 142, which is connected to a first air inlet 144a of a controllable valve 144 through an air conduit, which is not referenced. Connected by pneumatics. The second air inlet 144 of the controllable valve 144b is pneumatically connected to the surrounding environment. The air outlet 144c of the controllable valve 144 is pneumatically connected to the air inlet 110a of the interior space of the body 112.

本図に示す実施例によると、制御可能な弁144は、いわゆるアナログ弁であり、制御ユニット146によって、破線で示され、参照符号が付されていない制御ラインを通じて制御される。本図に示す実施例によると、制御ユニット146による制御に応じて、(a)第1の空気入口144aの有効フロー断面と(b)第2の空気入口144bの有効フロー断面との間の比が調整される。この比が大きいほど、第2の空気入口144bを通じて制御可能な弁144に流入し、ポンプ142によって吸い出されなければならない吸入空気145のフローは小さくなる。ポンプ142の吸引力の対応する割合は、フィルム192の下面192aの陰圧の形成又は上昇に寄与しない。本明細書に記載の技術に従って、制御ユニット146によって、フィルム192の下面192aに加えられる陰圧を時間の関数として任意に調整することが可能である。 According to the embodiment shown in this figure, the controllable valve 144 is a so-called analogue valve and is controlled by a control unit 146 through control lines shown in dashed lines and not referenced. According to the embodiment shown in this figure, the ratio between (a) the effective flow cross-section of the first air inlet 144a and (b) the effective flow cross-section of the second air inlet 144b, as controlled by the control unit 146. is adjusted. The larger this ratio, the smaller the flow of intake air 145 that must enter the controllable valve 144 through the second air inlet 144b and be pumped out by the pump 142. A corresponding proportion of the suction power of the pump 142 does not contribute to the creation or increase of negative pressure on the lower surface 192a of the film 192. According to the techniques described herein, the negative pressure applied to the lower surface 192a of the film 192 can be arbitrarily adjusted by the control unit 146 as a function of time.

本図に示す実施例によると、チップ195を実際に取り出している間に、ウェハフィルムフレーム190がエジェクタ工具110に対してxy平面内で新たに位置決め又は移動される時間枠におけるよりも大きな陰圧が設定される。したがって、(a)ウェハフィルムフレーム190の位置決め後、かつ、当該チップ195の取り出し前に、所望の陰圧を完全に新たに形成すること、及び/又は、(b)チップ195の取り出し後、かつ、ウェハフィルムフレーム190の位置決め前に(「取り出されるべき次のチップ195に向かって」)陰圧を完全に形成することはもはや不要である。これによって、記載された圧力変化が生じる時間枠の長さが短くなり、対応して取り出し性能を向上させることができる。 According to the embodiment shown in this figure, during the actual ejection of the chips 195, a greater negative pressure than in the time frame in which the wafer film frame 190 is repositioned or moved relative to the ejector tool 110 in the xy plane. is set. Therefore, (a) after positioning the wafer film frame 190 and before removing the chip 195, the desired negative pressure is completely renewed, and/or (b) after removing the chip 195, and , it is no longer necessary to create a negative pressure completely before positioning the wafer film frame 190 ("toward the next chip 195 to be ejected"). This reduces the length of the time window in which the described pressure changes occur and allows a corresponding improvement in the removal performance.

本図に示す実施例によると、装置100はさらに、本体112の内部に配置された圧力センサ120を有している。圧力センサ120は、つねに最新の陰圧を測定し、対応する圧力測定値を、破線で示す通信回線(参照符号は付されていない)を通じて、制御ユニット146に転送する。制御ユニット146は、アナログに制御可能な弁144のこのような制御のための対応する閉ループ制御の介入を通じて、複数のチップ195を取り出すための本明細書に記載された方法のいずれの時点においても、つねに接着フィルム192の下面192aと本体112の上面112aとの間に所望の陰圧が加えられているように機能する。 According to the embodiment shown in this figure, the device 100 further includes a pressure sensor 120 located inside the body 112. The pressure sensor 120 always measures the current negative pressure and transmits the corresponding pressure measurement to the control unit 146 via a communication line (not referenced) shown in broken lines. The control unit 146 can control the control unit 146 at any point in the method described herein for ejecting a plurality of chips 195 through corresponding closed-loop control intervention for such control of the analog controllable valve 144. The function is such that a desired negative pressure is always applied between the lower surface 192a of the adhesive film 192 and the upper surface 112a of the main body 112.

オペレータは、ディスプレイ及び操作端末160を通じて、取り出しプロセス全体を構成及び/又は監視することができる。 The operator can configure and/or monitor the entire retrieval process through the display and operating terminal 160.

図2は、ウェハフィルムフレームの接着フィルム192からのチップ195の取り出しに関して、(i)把持工具154の動き、(ii)2つのエジェクタピン114の動き、及び(iii)接着フィルム192とエジェクタ工具110との間に加えられる陰圧dpの間における相互作用を示している。図2には、ウェハフィルムフレームがエジェクタ工具110に対して相対的に移動しておらず、取り出されるべきチップが把持工具154の下側にある位置をとる時間枠のみが示されている。 FIG. 2 shows (i) the movement of the gripping tool 154, (ii) the movement of the two ejector pins 114, and (iii) the adhesive film 192 and the ejector tool 110 with respect to the removal of the chip 195 from the adhesive film 192 of the wafer film frame. It shows the interaction between negative pressure dp applied between dp and dp. FIG. 2 only shows time frames in which the wafer film frame is not moving relative to the ejector tool 110 and assumes a position in which the chip to be ejected is on the underside of the gripper tool 154.

時間tの関数としての把持工具154の垂直方向の動きは、参照符号M1が付された破線によって視覚化されている。図2の2つのエジェクタピン114の、やはり専ら垂直方向にのみ移動する動きの推移は、同じ時間軸tでその下に示されており、参照符号M2が付されている。図2の最も下のグラフには、やはり同じ時間尺度で、接着フィルム192とエジェクタ工具110との間に加えられる陰圧の推移が示されており、推移には参照符号P1が付されている。図2から明らかであるように、本図に記載される実施例では、陰圧は決してゼロではなく、2つの境界値-300mbarと-750mbarとの間で変化する。自明のことながら、適用事例に応じて他の陰圧境界値及び/又は他の陰圧推移を選択することもできる。本発明に関しては、ただ、図2に示されていない動きは、陰圧を加えることなしには完全には行われないことのみが必要である。 The vertical movement of the gripping tool 154 as a function of time t is visualized by the dashed line labeled M1. The course of the movement of the two ejector pins 114 in FIG. 2, also moving exclusively in the vertical direction, is shown below on the same time axis t and is designated with the reference symbol M2. The bottom graph of FIG. 2 shows, again on the same time scale, the course of the negative pressure applied between the adhesive film 192 and the ejector tool 110, the course being marked with the reference P1. . As is clear from FIG. 2, in the embodiment described in this figure, the negative pressure is never zero, but varies between two boundary values -300 mbar and -750 mbar. Naturally, other negative pressure threshold values and/or other negative pressure profiles can also be selected depending on the application. For the present invention, it is only necessary that movements not shown in FIG. 2 are not fully performed without applying negative pressure.

本図に示す実施例では、チップ195の取り出しは、時点t0において、接着フィルム192とエジェクタ工具110との間に比較的高い陰圧を加えることで開始する。この際、陰圧は、t0から時点t1までの時間枠で、-300mbarから-750mbarまで上昇し、その後、比較的長い時間的間隔にわたって(チップ195の取り出し後の時点t12まで)維持される。 In the embodiment shown, the ejection of the chip 195 begins at time t0 by applying a relatively high negative pressure between the adhesive film 192 and the ejector tool 110. In this case, the negative pressure increases from -300 mbar to -750 mbar in the time frame from t0 to time t1 and is then maintained for a relatively long time interval (until time t12 after removal of the chip 195).

図2から明らかであるように、本図に示す実施例によると、時点t1において、把持工具154は下方に下降し始める。この際、下降速度は、曲線M1の対応する第1区間の勾配を決定する。同時に、エジェクタピン114は上方に移動し始める。時点t2において、エジェクタピン114の先端は接着フィルム192の下面に当接する。 As is clear from FIG. 2, according to the embodiment shown in this figure, at time t1, the gripping tool 154 begins to descend downwards. At this time, the descending speed determines the slope of the corresponding first section of the curve M1. At the same time, ejector pin 114 begins to move upward. At time t2, the tip of the ejector pin 114 comes into contact with the lower surface of the adhesive film 192.

時間t3(-750mbarの最大陰圧には到達して久しい)において、把持工具154は、低下した下降速度でチップ195に向かって動かされる。把持工具154がチップ195に強く衝突することを回避するために下降速度を低減することは、当業者には既知であり、したがって本明細書では詳細に言及しない。 At time t3 (the maximum negative pressure of -750 mbar has long been reached), the gripping tool 154 is moved towards the chip 195 with a reduced downward speed. It is known to those skilled in the art to reduce the rate of descent to avoid the gripping tool 154 impacting the chip 195 hard, and therefore will not be discussed in detail herein.

時点t4において、吸引ピペットとして構成された把持工具154の端面が、チップ195の上面に接触し、吸引ピペット154の垂直方向下向きの移動が停止する。同時に、吸引ピペット154の吸引管内で、吸引ピペット154とチップ195との間に既知の方法で吸引陰圧が形成される。時点t4における吸引陰圧の形成の開始は、図2において矢印272で示されている。矢印274で強調表示された時点t5において、(後に)チップ195が保持される最大吸引陰圧に到達しているか、又は、到達する。 At time t4, the end face of the gripping tool 154 configured as a suction pipette comes into contact with the upper surface of the tip 195 and the vertical downward movement of the suction pipette 154 is stopped. At the same time, a negative suction pressure is created in the suction tube of the suction pipette 154 between the suction pipette 154 and the tip 195 in a known manner. The beginning of the formation of negative suction pressure at time t4 is indicated in FIG. 2 by arrow 272. At time t5, highlighted by arrow 274, the maximum negative suction pressure at which the tip 195 is held is or will be reached.

時点t6において、接着フィルム192から吸引ピペット154へのチップ195の移動は、両方のエジェクタピン114がさらに上方に移動し、この際、本図に示す実施例によると、接着フィルム192を突き通し、チップ195を吸引ピペット154の前側端面に押し付けることによって開始する。その直後、時点t7において、吸引ピペット154の対応する上方への移動が開始する。その後、時点t8まで、エジェクタピン114及び吸引ピペット154は同様に上方に移動する。 At time t6, the movement of the tip 195 from the adhesive film 192 to the suction pipette 154 causes both ejector pins 114 to move further upwards, where, according to the embodiment shown in the figure, they pierce the adhesive film 192; Begin by pressing tip 195 against the front end of aspiration pipette 154 . Immediately thereafter, at time t7, a corresponding upward movement of the suction pipette 154 begins. Thereafter, the ejector pin 114 and the suction pipette 154 similarly move upward until time t8.

接着フィルム192とチップ195との間の接着接合がすぐに解除されないことによって生じる一定の時間的な遅れの後、図2において矢印276によって特に強調された時点t9において、接着フィルム192から吸引ピペット154へのチップ195の移動が完了する。 After a certain time delay caused by the adhesive bond between the adhesive film 192 and the chip 195 not being immediately released, the suction pipette 154 is removed from the adhesive film 192 at time t9, which is particularly highlighted in FIG. 2 by the arrow 276. The movement of the chip 195 to is completed.

時点t10において、吸引ピペット154は、把持されたチップ195と共に、最初はゆっくりと、次いで時点t11以降はより速く、上方に持ち上げられる。これによって、チップ195の取り出しが「ウェハフィルムフレームから見て」完了する。 At time t10, the suction pipette 154, together with the gripped tip 195, is lifted upwards, first slowly and then more rapidly from time t11 onwards. This completes the removal of the chip 195 "from the perspective of the wafer film frame."

時点t12において、両方のエジェクタピン114は、再び下方に向かって、エジェクタ工具110の本体112内に引っ込められる。同時に、エジェクタ工具110と接着フィルム192との間の陰圧が解除される。時点t13において、最終的な陰圧-300mbarに到達する。エジェクタピン114は、時点t14において、その出発位置に到達する。 At time t12, both ejector pins 114 are retracted downwards again into the body 112 of the ejector tool 110. At the same time, the negative pressure between the ejector tool 110 and the adhesive film 192 is released. At time t13, a final negative pressure of -300 mbar is reached. Ejector pin 114 reaches its starting position at time t14.

時点t14の後、次のチップ195がエジェクタ工具110の上方に位置するように、ウェハフィルムフレームをエジェクタ工具110に対して水平方向に相対移動させることが可能である。次に、次のチップ195を取り出すために、上述した手順が再び実施され得る。 After time t14, the wafer film frame can be moved horizontally relative to the ejector tool 110 such that the next chip 195 is located above the ejector tool 110. The procedure described above may then be performed again to remove the next chip 195.

「有している」という概念は他の要素を排除するものではなく、「1つ」は複数を排除するものではないことに留意されたい。また、異なる実施例に関連して記載された要素を組み合わせることも可能である。請求項における参照符号は、請求項の保護範囲を限定するものとして解釈されるべきではないことにも留意されたい。 Note that the word "having" does not exclude other elements, and "a" does not exclude a plurality. It is also possible to combine elements described in connection with different embodiments. It is also noted that reference signs in the claims shall not be construed as limiting the scope of protection of the claims.

100 チップを取り出すための装置
110 剥離工具/エジェクタ工具
110a 空気入口
112 本体
112a 上面
114 機械的剥離要素/エジェクタピン
120 圧力センサ
130 位置決め装置
140 陰圧形成装置
142 ポンプ
144 制御可能な弁
144a 第1の空気入口
144b 第2の空気入口
144c 空気出口
145 吸入空気
146 制御ユニット
150 実装ヘッド
152 シャーシ
154 把持工具/吸引ピペット
160 ディスプレイ及び操作端末
190 ウェハフィルムフレーム
192 接着フィルム
192a 下面
194 フレーム構造
195 チップ
272 吸引陰圧の印加開始
274 吸引陰圧の到達
276 接着フィルムから吸引ピペットへのチップの移送の終了
dp 陰圧
t 時間
M1 把持工具の移動推移
M2 エジェクタピンの移動推移
P1 陰圧の経時的推移
t# 時点(#=0、1、2、...、14)
100 Device for removing chips 110 Peeling tool/ejector tool 110a Air inlet 112 Body 112a Top surface 114 Mechanical peeling element/ejector pin 120 Pressure sensor 130 Positioning device 140 Negative pressure creation device 142 Pump 144 Controllable valve 144a First Air inlet 144b Second air inlet 144c Air outlet 145 Intake air 146 Control unit 150 Mounting head 152 Chassis 154 Gripping tool/suction pipette 160 Display and operation terminal 190 Wafer film frame 192 Adhesive film 192a Bottom surface 194 Frame structure 195 Chip 272 Suction shade Start of pressure application 274 Achievement of suction negative pressure 276 End of transfer of tip from adhesive film to suction pipette dp Negative pressure t Time M1 Movement transition of gripping tool M2 Movement transition of ejector pin P1 Time course of negative pressure t# Time point (#=0, 1, 2,..., 14)

Claims (17)

剥離工具(110)に支援されて、把持工具(154)を用いてウェハフィルムフレーム(190)の接着フィルム(192)からチップ(195)を取り出すための方法であって、前記方法は、
前記ウェハフィルムフレーム(190)の第1のチップ(195)が前記剥離工具(110)の作用領域の上方に位置するように、前記ウェハフィルムフレーム(190)を前記剥離工具(110)に対して位置決めするステップであって、前記作用領域において、前記剥離工具(110)が前記接着フィルム(192)と相互に作用し、前記第1のチップ(195)の前記接着フィルム(192)への接着を低下させるステップ;
前記接着フィルム(192)の下面(192a)と前記剥離工具(110)の上面(112a)との間に陰圧を加えるステップ;
(i)前記剥離工具(110)を作動し、前記接着フィルム(192)への前記第1のチップ(195)の接着を低下させること、(ii)前記把持工具(154)によって前記第1のチップ(195)を把持すること、及び(iii)前記把持工具(154)を、把持された前記第1のチップ(195)と共に前記接着フィルム(192)から離れるように動かすことによって、前記第1のチップ(195)を取り出すステップ;
前記剥離工具(110)と前記接着フィルム(192)との間にさらなる相互作用が生じないように前記剥離工具(110)を停止するステップ;
前記ウェハフィルムフレーム(190)の第2のチップ(195)が前記剥離工具の作用領域の上方に位置するように、前記剥離工具(110)に対して前記ウェハフィルムフレーム(190)を再度位置決めするステップ;及び、
(i)前記第2のチップ(195)の前記接着フィルム(192)への接着を低下させるように前記剥離工具(110)を再び作動すること、(ii)前記把持工具(154)又はさらなる把持工具によって前記第2のチップ(195)を把持すること、及び(iii)前記把持工具(154)又は前記さらなる把持工具を、把持された前記第2のチップ(195)と共に前記接着フィルム(192)から離れるように動かすことによって、前記第2のチップ(195)を取り出すステップ、を有しており、
前記ウェハフィルムフレーム(190)を再度位置決めするプロセスの間、少なくとも一時的に、前記接着フィルム(192)の下面(192a)と前記剥離工具(110)の上面(112a)との間に陰圧がさらに加えられる方法。
A method for removing a chip (195) from an adhesive film (192) of a wafer film frame (190) using a gripping tool (154) assisted by a stripping tool (110), the method comprising:
The wafer film frame (190) is placed relative to the stripping tool (110) such that the first tip (195) of the wafer film frame (190) is located above the working area of the stripping tool (110). positioning, in the area of action, the stripping tool (110) interacts with the adhesive film (192) to promote adhesion of the first chip (195) to the adhesive film (192); lowering step;
applying negative pressure between the lower surface (192a) of the adhesive film (192) and the upper surface (112a) of the peeling tool (110);
(i) actuating the peeling tool (110) to reduce adhesion of the first chip (195) to the adhesive film (192); (ii) removing the first chip (195) by the gripping tool (154); the first chip (195) by gripping the chip (195); and (iii) moving the gripping tool (154) away from the adhesive film (192) together with the gripped first chip (195). taking out the chip (195);
stopping the stripping tool (110) so that no further interaction occurs between the stripping tool (110) and the adhesive film (192);
repositioning the wafer film frame (190) relative to the stripping tool (110) such that a second tip (195) of the wafer film frame (190) is located above the working area of the stripping tool; step; and
(i) reactivating the stripping tool (110) to reduce adhesion of the second chip (195) to the adhesive film (192); (ii) the gripping tool (154) or further gripping; gripping said second chip (195) by a tool; and (iii) gripping said gripping tool (154) or said further gripping tool together with said gripped second chip (195) and said adhesive film (192); ejecting the second chip (195) by moving it away from the second chip (195);
During the process of repositioning the wafer film frame (190), at least temporarily, a negative pressure is created between the lower surface (192a) of the adhesive film (192) and the upper surface (112a) of the stripping tool (110). How to add more.
前記剥離工具(110)が、少なくとも1つの機械的剥離要素(114)を有しており、前記機械的剥離要素は、前記剥離工具(110)の作動の際に、前記接着フィルム(192)を下から押圧し、これによって前記接着フィルム(192)を局所的に持ち上げる、請求項1に記載の方法。 The stripping tool (110) has at least one mechanical stripping element (114), which upon actuation of the stripping tool (110) removes the adhesive film (192). 2. Method according to claim 1, characterized in that the adhesive film (192) is locally lifted by pressing from below. 前記機械的剥離要素がエジェクタピン(114)である、請求項2に記載の方法。 3. The method of claim 2, wherein the mechanical stripping element is an ejector pin (114). 前記機械的剥離要素が、細長い上面を有するエジェクタプレートである、請求項2に記載の方法。 3. The method of claim 2, wherein the mechanical peeling element is an ejector plate having an elongated top surface. 前記剥離工具がエネルギー源を有しており、前記エネルギー源は、作用領域内で前記接着フィルム(192)にエネルギーを伝達し、これによって、前記接着フィルム(192)の接着力が低下する、請求項2に記載の方法。 4. The stripping tool comprises an energy source, said energy source transmitting energy to said adhesive film (192) in its area of action, thereby reducing the adhesive strength of said adhesive film (192). The method described in Section 2. 再度の位置決めのプロセス全体を通じて、前記接着フィルム(292)の下面(292a)と前記剥離工具(110)の上面(112a)との間に陰圧が加えられる、請求項1に記載の方法。 2. The method of claim 1, wherein a negative pressure is applied between the lower surface (292a) of the adhesive film (292) and the upper surface (112a) of the peeling tool (110) throughout the repositioning process. 再度の位置決めを行うプロセス全体を通じて、前記接着フィルム(192)の下面(192a)と前記剥離工具(110)の上面(112a)との間に加えられる陰圧が、前記第1のチップ(195)の取り出し及び/又は前記第2のチップ(195)の取り出しの間に、前記接着フィルム(192)の下面(192a)と前記剥離工具(110)の上面(112a)との間に加えられる陰圧よりも小さい、請求項1に記載の方法。 Throughout the repositioning process, a negative pressure applied between the lower surface (192a) of the adhesive film (192) and the upper surface (112a) of the peeling tool (110) is applied to the first chip (195). negative pressure applied between the lower surface (192a) of the adhesive film (192) and the upper surface (112a) of the peeling tool (110) during the removal of the adhesive film (192) and/or the removal of the second chip (195); 2. The method of claim 1, wherein the method is less than . (i)前記第1のチップ(195)及び/又は前記第2のチップ(195)を取り出す際の陰圧と、(ii)再度の位置決めを行う際の陰圧との間の差が、少なくとも部分的に、漏れに起因する、請求項7に記載の方法。 The difference between (i) the negative pressure when taking out the first chip (195) and/or the second chip (195) and (ii) the negative pressure when repositioning is at least 8. The method of claim 7, in part due to leakage. 前記接着フィルム(192)の下面(192a)と前記剥離工具(110)の上面(112a)との間に加えられる陰圧の経時的推移が制御される、請求項1に記載の方法。 2. The method according to claim 1, wherein the time course of the negative pressure applied between the lower surface (192a) of the adhesive film (192) and the upper surface (112a) of the peeling tool (110) is controlled. 陰圧の経時的推移が、圧力センサ(120)を用いて閉ループ制御される、請求項9に記載の方法。 10. The method of claim 9, wherein the negative pressure profile over time is controlled in a closed loop using a pressure sensor (120). 陰圧の経時的推移が、アナログの空気弁(114)を用いて能動的に制御される、請求項9に記載の方法。 10. The method according to claim 9, wherein the negative pressure profile over time is actively controlled using an analog pneumatic valve (114). さらに、前記第2のチップ(195)を取り出した後に、
前記剥離工具(110)と前記接着フィルム(192)との間でさらなる相互作用が新たに生じないように、前記剥離工具(110)を再び停止するステップ;
前記ウェハフィルムフレーム(190)の第3のチップ(195)が、前記剥離工具(110)の作用領域の上方に位置するように、前記ウェハフィルムフレーム(190)を前記剥離工具(110)に対して再度位置決めするステップ;
(i)前記剥離工具(110)を再び作動して、前記接着フィルム(192)に対する前記第3のチップ(195)の接着を低下させること、(ii)前記把持工具(154)又はさらなる把持工具によって前記第3のチップ(195)を把持すること、及び(iii)前記把持工具(154)又は前記さらなる把持工具を、把持された前記第3のチップ(195)と共に前記接着フィルム(192)から離れるように動かすことによって、前記第3のチップ(195)を取り出すステップ、を有しており、
前記ウェハフィルムフレーム(190)を再度位置決めするプロセスの間、少なくとも一時的に、前記接着フィルム(192)の下面(292a)と前記剥離工具(110)の上面(112a)との間に陰圧が加えられる、請求項1に記載の方法。
Furthermore, after taking out the second chip (195),
stopping the peeling tool (110) again so that no further interaction occurs between the peeling tool (110) and the adhesive film (192);
The wafer film frame (190) is placed relative to the stripping tool (110) such that the third tip (195) of the wafer film frame (190) is located above the working area of the stripping tool (110). repositioning step;
(i) activating the stripping tool (110) again to reduce adhesion of the third chip (195) to the adhesive film (192); (ii) the gripping tool (154) or a further gripping tool; and (iii) removing the gripping tool (154) or the further gripping tool from the adhesive film (192) together with the gripped third chip (195). ejecting the third chip (195) by moving it away;
During the process of repositioning the wafer film frame (190), at least temporarily, a negative pressure is created between the lower surface (292a) of the adhesive film (192) and the upper surface (112a) of the stripping tool (110). 2. The method of claim 1, wherein:
特に請求項1に記載の方法を実施して、ウェハフィルムフレーム(190)の接着フィルム(192)からチップ(195)を取り出すための装置(100)であって、前記装置は、
作用領域において前記接着フィルム(192)への前記チップ(195)の接着を低下させるように構成された剥離工具(110);
前記ウェハフィルムフレーム(190)の複数のチップ(195)が前記作用領域の上方に連続して位置するように、前記ウェハフィルムフレーム(190)を前記剥離工具(110)に対して連続的に位置決めするための位置決め装置(130);
前記接着フィルム(192)の下面(192a)と前記剥離工具(110)の上面(112a)との間に陰圧を加えるように構成された陰圧形成装置(140);及び、
(i)前記接着フィルム(192)への前記チップ(195)の接着が低下するように前記剥離工具(110)を作動すること、(ii)把持工具(154)によって前記チップ(195)を把持すること、及び(iii)前記把持工具(154)を把持された前記チップ(195)と共に、前記接着フィルム(192)から離れるように動かすことによって、それぞれ1つのチップ(195)を取り出すように構成された、少なくとも1つの把持工具(154)を備えた実装ヘッド(150)、を有しており、
前記陰圧形成装置(140)は、第1のチップ(195)を取り出した後、かつ、第2のチップ(195)を取り出す前において前記ウェハフィルムフレーム(190)の位置決めを行っている間に、少なくとも一時的に、前記接着フィルム(192)の下面(192a)と前記剥離工具(110)の上面(112a)との間に陰圧を引き続き加えるように構成されており、これらの取り出しは、それぞれ、前記接着フィルム(192)の下面(192a)と前記剥離工具(110)の上面(112a)との間に陰圧を加えた状態で行われる装置(100)。
An apparatus (100) for removing a chip (195) from an adhesive film (192) of a wafer film frame (190), in particular carrying out the method according to claim 1, said apparatus comprising:
a peeling tool (110) configured to reduce the adhesion of the chip (195) to the adhesive film (192) in an active area;
The wafer film frame (190) is successively positioned relative to the stripping tool (110) such that a plurality of chips (195) of the wafer film frame (190) are successively positioned above the working area. a positioning device (130) for;
a negative pressure generating device (140) configured to apply a negative pressure between a lower surface (192a) of the adhesive film (192) and an upper surface (112a) of the peeling tool (110); and
(i) activating the peeling tool (110) such that adhesion of the chip (195) to the adhesive film (192) is reduced; (ii) gripping the chip (195) by a gripping tool (154); and (iii) configured to remove one chip (195) each by moving said gripping tool (154) with said gripped chip (195) away from said adhesive film (192). a mounting head (150) equipped with at least one gripping tool (154);
The negative pressure forming device (140) is configured to position the wafer film frame (190) after taking out the first chip (195) and before taking out the second chip (195). , configured to continue to apply, at least temporarily, a negative pressure between the lower surface (192a) of said adhesive film (192) and the upper surface (112a) of said peeling tool (110), and their removal: The apparatus (100) is carried out with negative pressure applied between the lower surface (192a) of the adhesive film (192) and the upper surface (112a) of the peeling tool (110), respectively.
前記陰圧形成装置(140)が、ポンプ(142)、制御可能な弁(144)及び制御ユニット(146)を有しており、前記制御ユニットを用いて、前記ポンプ(142)及び/又は前記制御可能な弁(144)は、前記接着フィルム(190)の下面(192a)と前記剥離工具(110)の上面(112a)との間の陰圧を変化させることができるように制御され得る、請求項13に記載の装置(100)。 The device (140) for generating negative pressure has a pump (142), a controllable valve (144) and a control unit (146), using the control unit to control the pump (142) and/or the A controllable valve (144) can be controlled such that the negative pressure between the lower surface (192a) of the adhesive film (190) and the upper surface (112a) of the peeling tool (110) can be varied; Apparatus (100) according to claim 13. さらに、前記制御ユニット(146)と通信可能であるように連結された圧力センサ(120)を有しており、前記制御ユニット(146)は、陰圧の所定の経時的推移が生じるように、前記圧力センサ(120)の圧力測定値に基づいて、前記ポンプ(142)及び/又は前記制御可能な弁(144)を制御するように情報技術的に構成されている、請求項14に記載の装置(100)。 Furthermore, the control unit (146) has a pressure sensor (120) communicatively coupled to the control unit (146), and the control unit (146) is configured to control the pressure sensor (120) so that a predetermined time course of the negative pressure occurs. 15. Information technology configured to control the pump (142) and/or the controllable valve (144) based on pressure measurements of the pressure sensor (120). Apparatus (100). 基板にチップ(195)を実装するための実装システムであって、
請求項13に記載のチップ(195)を取り出すための装置(100);
ウェハフィルムフレーム(190)をピックアップするための第1のピックアップ装置;及び、
実装されるべき基板をピックアップするための第2のピックアップ装置を有しており、
実装ヘッド(150)は、少なくとも1つの把持工具(154)を有し、前記チップ(195)を前記ウェハフィルムフレーム(190)から取り出し、前記基板上に配置するように構成されている実装システム。
A mounting system for mounting a chip (195) on a substrate,
A device (100) for removing a chip (195) according to claim 13;
a first pick-up device for picking up the wafer film frame (190); and
It has a second pickup device for picking up the board to be mounted,
A mounting system, wherein a mounting head (150) has at least one gripping tool (154) and is configured to remove the chip (195) from the wafer film frame (190) and place it on the substrate.
ウェハフィルムフレーム(190)の接着フィルム(192)からチップ(195)を取り出す装置(100)、特に請求項13に記載の装置(100)を動作させるためのコンピュータプログラムであって、データ処理ユニット(146)によってコンピュータプログラムが実行される場合、請求項1に記載の方法を実施するように構成されているコンピュータプログラム。 14. A computer program for operating an apparatus (100) for removing chips (195) from an adhesive film (192) of a wafer film frame (190), in particular an apparatus (100) according to claim 13, comprising: a data processing unit ( 146), the computer program being adapted to implement the method of claim 1 when the computer program is executed by 146).
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