JP2024017294A - 光電変換装置 - Google Patents

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Abstract

Figure 2024017294000001
【課題】回路規模を抑制しつつ画素間の特性の均一性を確保するのに有利な技術を提供する。
【解決手段】複数の画素が配された光電変換装置であって、前記複数の画素のそれぞれは、第1電位供給線と第2電位供給線との間に配されたアバランシェフォトダイオードと、前記第1電位供給線と前記アバランシェフォトダイオードとの間に配された第1スイッチ素子と、前記第1スイッチ素子と前記アバランシェフォトダイオードとの間に配された第2スイッチ素子と、第1端子と、前記第1スイッチ素子と前記第2スイッチ素子とが接続される第1ノードに接続された第2端子と、を備える容量素子と、前記第2スイッチ素子と前記アバランシェフォトダイオードとが接続される第2ノードの電位の変化に応じて前記アバランシェフォトダイオードがアバランシェ降伏したことを検知するための検知回路と、を含む。
【選択図】図4

Description

本発明は、光電変換装置に関する。
単一光子レベルの微弱光を検出可能な単一光子アバランシェフォトダイオード(SPAD)素子をそれぞれの画素に備える光電変換装置が知られている。特許文献1には、複数の画素のそれぞれにSPAD素子が配された受光装置が示されている。SPAD素子では、アバランシェフォトダイオード(APD)のブレークダウン電圧に、エクセス電圧を上乗せした電圧をAPDに印加する。画素間でAPDのブレークダウン電圧がばらついた場合、それぞれの画素のAPDに同じ電圧を印加すると、それぞれの画素間でAPDに供給されるエクセス電圧の値が異なってしまう。エクセス電圧が画素間でばらつくと、それぞれの画素における特性の均一性を保つことができなくなる。特許文献1では、APDから出力される信号を信号処理部で検出し、検出結果をバイアス調整部にフィードバックすることによってエクセス電圧の値を調整することが示されている。具体的には、APDが光子に反応できないデッドタイムなどのAPDの特性を信号処理部が検出し、APDの特性が揃うようにリニアレギュレータなどを用いたバイアス調整部においてバイアス電圧が調整される。
特開2021-089962号公報
特許文献1に示される構成では、画素間でばらつくエクセス電圧を調整するための信号処理部およびバイアス調整部の回路規模が大きくなってしまう。
本発明は、回路規模を抑制しつつ画素間の特性の均一性を確保するのに有利な技術を提供することを目的とする。
上記課題に鑑みて、本発明の実施形態に係る光電変換装置は、複数の画素が配された光電変換装置であって、前記複数の画素のそれぞれは、第1電位供給線と第2電位供給線との間に配されたアバランシェフォトダイオードと、前記第1電位供給線と前記アバランシェフォトダイオードとの間に配された第1スイッチ素子と、前記第1スイッチ素子と前記アバランシェフォトダイオードとの間に配された第2スイッチ素子と、第1端子と、前記第1スイッチ素子と前記第2スイッチ素子とが接続される第1ノードに接続された第2端子と、を備える容量素子と、前記第2スイッチ素子と前記アバランシェフォトダイオードとが接続される第2ノードの電位の変化に応じて前記アバランシェフォトダイオードがアバランシェ降伏したことを検知するための検知回路と、を含むことを特徴とする。
本発明によれば、回路規模を抑制しつつ画素間の特性の均一性を確保するのに有利な技術を提供することができる。
本実施形態にかかる光電変換装置の構成例を示す図。 図1の光電変換装置に配される画素の構成例を説明する図。 図2の画素のノードAおよびノードBにおける信号波形を示す図。 図2の画素の構成例を示す等価回路図。 図4の画素の動作例を示すタイミング図。 図4の画素の変形例を示す等価回路図。 図6の画素の動作例を示すタイミング図。
以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。
図1~図7を参照して、本開示の実施形態による光電変換装置について説明する。以下の実施形態において、電子が信号担体であり、アバランシェフォトダイオード(以下、APDと示す場合がある。)がアバランシェ降伏した際のアバランシェ電流によるAPDのカソードの電位の変化を検知する単一光子アバランシェフォトダイオード(以下、SPADと示す場合がある。)素子について説明する。しかしながら、ホールが信号担体であってもよいし、APDのアノードの電位の変化を検知する構成をとってもよい。
本開示において、詳細は後述するようにAPDのカソードには、スイッチ素子を介して容量素子が付与される。APDのカソードの容量をC0、容量素子の容量をC1とする。また、APDのアノード電位を基準とすると、信号電子によってアバランシェ降伏が生じた直後のAPDのカソード電位は、APDのブレークダウン電圧Vbdである。このカソードに対して、容量C1に電圧Vpのパルスを印加すると、カソード電位は容量分割によってC1/(C0+C1)×Vだけ上昇する。この電圧が、エクセス電圧Vexになる。その後、スイッチ素子をオフにすると、カソードは、電位(Vbd+Vex)にリセットされる。
本開示において、エクセス電圧Vexのばらつきが、ブレークダウン電圧Vbdのばらつきよりも十分に小さいことを前提とする。エクセス電圧Vexのばらつきがブレークダウン電圧Vbdのばらつきよりも十分小さくない場合、ブレークダウン電圧Vbdのばらつきの問題が、エクセス電圧Vexのばらつきの問題に置き換わるだけになるためである。この前提が成り立つことを、まず以下に説明する。
カソードの容量C0および容量素子の容量C1は、条件にもよるが数%程度ばらつく。このばらつき値をそれぞれ5%とする。後述する実施形態において用いる数値例に倣い、C0=3fF、C1=2fFとし、APDに印加するエクセス電圧Vexの設計値は、2.0Vとすると、容量C1に印加するパルス電圧Vp=5Vである。容量C0のみのばらつきによって、容量分割比C1/(C0+C1)は3.0%程度のばらつきが生じる。同様に、容量C1のみのばらつきによる容量分割比のばらつきも3.0%程度となる。容量C0および容量C1の両方のばらつきによって、容量分割比のばらつきは3.0%×√2であり、約4.2%となる。一方、APDのブレークダウン電圧Vbdのばらつきは、条件にもよるが500mV程度である。したがって、エクセス電圧Vexのばらつきは、1.5V~2.5V×4.2%となり、約63mV~105mVと見積もられる。このように、見積もられるエクセス電圧Vexのばらつきの最大値105mVの方が、APDのブレークダウン電圧Vbdのばらつき(±500mV)よりも十分に小さい。つまり、エクセス電圧VexのばらつきがAPDのブレークダウン電圧Vbdのばらつきよりも十分に小さいという本開示の成立のための前提は、十分に現実的である。
第1実施形態
図1は、本開示の第1実施形態における光電変換装置100の構成例を示すブロック図である。光電変換装置100は、画素部101、制御パルス生成回路115、水平走査回路111、読出回路112、信号線113、制御回路110を含む。画素部101には、複数の画素104が行列状に配されている。それぞれの画素104は、APDを含む光電変換部102および信号処理回路103を含む。光電変換部102は、画素104に入射する光を電気信号へ変換する。信号処理回路103は、入射した光に応じて光電変換部102で生成された電気信号を読出回路112に出力する。
制御回路110は、制御パルス生成回路115から供給されるパルス信号に応じて、それぞれの画素104に制御パルスを供給する。したがって、制御回路110は、それぞれの画素104の動作を制御するともいえる。制御回路110には、シフトレジスタやアドレスデコーダなどの論理回路が用いられうる。
画素104の光電変換部102から出力された信号は、信号処理回路103によって処理される。信号処理回路103は、カウンタやメモリなどが配されていてもよく、メモリにはカウンタによってカウントされたデジタル値が保持されてもよい。
水平走査回路111は、デジタル信号が保持された画素104のメモリから信号を読み出すために、画素104を列ごとに順次選択する制御パルスを信号処理回路103に入力する。信号線113には、制御回路110によって選択された画素104の信号処理回路103から信号が出力される。信号線113に出力された信号は、出力回路114を介して、光電変換装置100の外部に配された信号処理装置などに出力され、例えば、表示装置に撮像画像として表示されうる。
図1に示されるように、画素104は、アレイ状に配されていてもよいが、これに限られることはない。例えば、画素104は、1次元状(線状)に配されていてもよい。また、信号処理回路103の機能は、必ずしも全ての画素104に1つずつ設けられる必要はなく、例えば、複数の画素104によって1つの信号処理回路103が共有され、順次信号処理が行われてもよい。
図2は、光電変換装置100に配される画素104の構成例を説明するブロック図であり、APDを含むSPAD素子を説明するための図である。画素104には、電位供給線251と電位供給線252との間に配されたアバランシェフォトダイオード(APD)201が配されている。APD201は、光電変換によって入射光に応じた電荷対を生成する。APD201のアノードには、電位供給線252から電圧VLが供給される。APD201のカソードには、アノードに供給される電圧VLよりも高い電圧VHが電位供給線251から供給される。アノードとカソードとの間には、APD201がアバランシェ降伏動作をするような逆バイアス電圧が供給される。このような電圧を供給した状態にすることで、入射光によって生じた電荷がアバランシェ増倍を起こし、アバランシェ電流が発生する(アバランシェ降伏)。
APD201の動作において、アノードとカソードとの電位差(電圧)がブレークダウン電圧Vbdよりも大きい電圧で動作させるガイガーモードと、アノードとカソードとの電圧が降伏電圧近傍または降伏電圧以下の電圧で動作させるリニアモードと、がある。ガイガーモードで動作させるAPDをSPAD素子と呼ぶ。APD201のブレークダウン電圧Vbdが30Vの場合、例えば、電圧VLは-30Vに設定され、電圧VHは3Vに設定される。
信号処理回路103は、波形整形回路210、カウント回路211、選択回路212を含みうる。また、信号処理回路103は、クエンチ素子202を備えていてもよい。クエンチ素子202は、電圧VHを供給する電位供給線251とAPD201との間に配される。クエンチ素子202は、APD201で生じたアバランシェ電流の変化を電圧信号に置き換える機能を有する。クエンチ素子202は、アバランシェ降伏による信号増倍時に負荷回路(クエンチ回路)として機能し、APD201に供給する電圧を抑制して、アバランシェ降伏を抑制する働きを持つ(クエンチ動作)。クエンチ素子202は、例えば、抵抗素子であってもよいし、トランジスタなどが負荷として機能してもよい。
波形整形回路210は、APD201のカソードまたはアノードに接続されたノードに接続され、APD201の電極(カソードまたはアノード)の電位に基づいて信号を出力する。本実施形態において、波形整形回路210の動作は、図3(a)~3(c)を用いて後述するが、フォトンがAPD201に入射した際に得られるAPD201のカソードの電位変化を整形し、パルス信号を出力する。つまり、波形整形回路210は、電位の変化に応じてAPD201がアバランシェ降伏したことを検知するための検知回路としての機能を有する。波形整形回路210としては、例えば、インバータ回路が用いられる。図2に示される構成では、波形整形回路210として1つのインバータを用いる例が示されているが、例えば、複数のインバータを直列接続した回路が用いられてもよい。APD201の電位変化を所望の波形に整形し、APDがアバランシェ降伏したことを検知可能であれば、波形整形回路210として、いかなる回路が用いられてもよい。
カウント回路211は、波形整形回路210がパルス信号を出力した回数をカウントするカウンタと、カウント値(回数)を保持するメモリと、を含みうる。制御回路110から駆動線213を介して制御パルスが供給された際に、カウント回路211に保持されたカウント値はリセットされる。
選択回路212には、制御回路110から駆動線214を介して制御パルスが供給され、カウント回路211と信号線113との電気的な接続、非接続を切り替える。カウント回路211と信号線113とが電気的に接続された際に、カウント回路211から信号線113にカウント値が出力される。選択回路212は、例えば、信号を出力するためのバッファ回路などを含んでいてもよい。
クエンチ素子202とAPD201との間や、光電変換部102と信号処理回路103との間にトランジスタなどのスイッチ素子を配して、電気的な接続が切り替えられてもよい。同様に、光電変換部102に供給される電圧VHまたは電圧VLの供給が、トランジスタなどのスイッチ回路を用いて電気的に切り替えられてもよい。
本実施形態では、信号処理回路103にカウント回路211が配される構成を示した。しかしながら、これに限られることはない。カウント回路211の代わりに、時間・デジタル変換回路(Time to Digital Converter:TDC)およびメモリが用いられ、パルス検出タイミングを取得する光電変換装置100としてもよい。この場合、波形整形回路210から出力されたパルス信号の発生タイミングは、TDCによってデジタル信号に変換される。TDCには、パルス信号のタイミングの測定のために、制御回路110から駆動線を介して制御パルス(参照信号)が供給されうる。TDCは、制御パルスを基準として、波形整形回路210を介してAPD201から出力された信号の入力タイミングを相対的な時間としたときの信号を、デジタル信号として取得する。
図3(a)~3(c)は、APD201の動作と波形整形回路210の出力信号との関係を模式的に示した図である。図3(a)に示されるように、APD201が有する電極のうちカソードの電位を表すノードをノードAとする。また、波形整形回路210の出力の電位を表すノードをノードBとする。図3(b)、3(c)は、それぞれノードAおよびノードBの波形変化を示している。
時刻t0から時刻t1の間において、APD201には、電圧(VH-VL)が印加されている。図3(b)に示されるように、時刻t1においてAPD201にフォトンが入射すると、クエンチ素子202にアバランシェ電流が流れ、ノードAの電位は降下する。ノードAの電位の降下量がさらに大きくなり、APD201に印加される電圧が小さくなると、APD201のアバランシェ降伏は停止し、ノードAの電位レベルは所定の値以上に降下しなくなる(時刻t2)。その後、ノードAには電位供給線251から電位の降下分を補う電流が流れ、時刻t3において、ノードAは、元の電位レベルに静定する。図3(c)に示されるように、APD201がアバランシェ降伏した場合に、ノードAにおいて出力波形が所定の閾値を越えると、波形整形回路210は、ノードAの出力波形を整形し、ノードBに信号(パルス信号)を出力する。この波形整形回路210が出力するパルス信号によって、APD201がアバランシェ降伏したことが検知される。
図1に示される構成では、信号処理回路103および画素部101周辺の走査回路などは、APD201と同じ半導体基板に形成されるように描かれている。しかしながら、これに限られることはなく、信号処理回路103および画素部101周辺の走査回路などは、APD201が配された画素部101とは別の半導体基板に形成してもよい。その場合、APD201を含む画素104が配された画素部101を備える基板と、信号処理回路103などが配された基板とが、積層されていてもよい。
以下の実施形態において、クエンチ素子202の替わりにスイッチ素子が配され、このスイッチ素子がオン状態またはオフ状態になる動作を基本とする。その詳細は以下に説明するが、スイッチ素子がオフ状態ではノードAは浮遊状態である。この場合、信号電子がAPD201に入射してアバランシェが生じると、ノードAの電位は、電圧VHより低い電位(VL+Vbd)となる。APD201に入射した信号電子が、1つであっても複数であっても同様である。信号電子が入射しない場合、ノードAの電位は、電圧VHである。ノードAが、電位(VL+Vbd)になる、つまり、アバランシェ降伏が生じたことが検知されると、制御回路110の制御に従ってスイッチ素子がオン状態に変化し、ノードAは容量結合によるリセットを受ける。
ここから、本実施形態の画素104の構成および動作について詳細を説明する。図4は、本実施形態における画素104の構成例を示す等価回路図である。画素104は、電位供給線351と電位供給線352との間に配されたAPD201と、電位供給線351とAPD201との間に配されたスイッチ素子305と、スイッチ素子305とAPD201との間に配されたスイッチ素子303と、第1端子300およびスイッチ素子305とスイッチ素子303とが接続されるノードCに接続された第2端子を備える容量素子301と、を含む。図4に示されるように、スイッチ素子305およびスイッチ素子303は、それぞれN型MOSトランジスタでありうる。
また、画素104は、スイッチ素子303とAPD201とが接続されるノードAの電位の変化に応じてAPD201がアバランシェ降伏したことを検知するための検知回路331を含む。ノードAは、APD201が有する電極のうちカソードの電位を表すノードである。検知回路331は、上述した波形整形回路210およびカウント回路211を含む。波形整形回路210は、図4に示されるように、ノードAに接続され、ノードAの電位の変化に応じてアバランシェ降伏を検知したことを示す信号(パルス信号)を出力するインバータであってもよい。検知回路331は、波形整形回路210とカウント回路211との間に配されたスイッチ素子307、スイッチ素子307およびカウント回路211が接続されるノードDと電位供給線353との間に配されたスイッチ素子309をさらに含みうる。スイッチ素子307およびスイッチ素子309は、N型MOSトランジスタでありうる。電位供給線353には、グランド電圧GNDが供給される。
図5は、本実施形態の画素104の動作例を説明するタイミング図である。制御パルス302は、容量素子301の第1端子300に入力される信号である。制御パルス302がHレベルの間、電圧Vpが容量素子301の第1端子300に供給される。制御パルス304は、スイッチ素子303の制御端子に入力される信号である。制御パルス306は、スイッチ素子305の制御端子に入力される信号である。制御パルス308は、スイッチ素子307の制御端子に入力される信号である。制御パルス310は、スイッチ素子309の制御端子に入力される信号である。制御パルス304、306、308、310がHレベルの間、スイッチ素子303、305、307、309はそれぞれオン状態になり、制御パルス304、306、308、310がLレベルの間、スイッチ素子303、305、307、309はそれぞれオフ状態になる。制御パルス302、304、306、308、310は、制御回路110から駆動線を介して供給されうる。図5には、制御パルス302、304、306、308、310およびノードA、C、Dのそれぞれ電位変化が示されている。また、図5において、APD201にフォトンが入射するタイミングが、「↓」で示されている。
動作説明にあたり、まず、画素104のそれぞれの構成の電圧(電位)の関係について述べる。APD201の設計上のブレークダウン電圧Vbdは30Vであり、±0.5Vの範囲でばらついているとする。APD201に印加するエクセス電圧Vexの設計値は、2.0Vであるとする。電位供給線352に供給される電圧VLは、-29.5Vとする。APD201がアバランシェ降伏を起こした直後のノードAの電位を電位Vbとすると、Vb=(VL+Vbd)である。APDのブレークダウン電圧Vbdが30.5Vの場合、Vb=1.0V、ブレークダウン電圧Vbdが29.5Vの場合、Vb=0.0Vになる。
次に、画素104の動作について説明する。本実施形態において、APD201のカソードが接続されたノードAは基本的に浮遊状態で動作する。後に説明するように、ノードAは電位Vhにリセットされ、APD201が信号電子を捉えてアバランシェ降伏を起こすとノードAは電位Vbに落ちる。スイッチ素子307は、周期的にHレベルが供給される制御パルス308によって、周期的にインバータを用いた波形整形回路210の出力部と、カウント回路211の入力部であるノードDと、を導通させる。この制御パルス308に少し先行する制御パルス310によって、ノードDの電位がグランド電圧GND、つまり、Lレベルにリセットされる。制御パルス308がHレベルの場合において、ノードDの電位がLレベルからHレベルに変化する際に、カウント回路211のカウントが進む。つまり、制御パルス308がHレベルになるときにノードAが電位Vbであれば、カウント回路211のカウントがひとつ進むことになる。これによって、APD201がアバランシェ降伏したことが検知される。インバータを用いた波形整形回路210がアバランシェ降伏を検知したことを示す信号を出力する閾値の電圧は、上述の電圧(電位)の関係の場合、例えば、1.5Vであってもよい。
次いで、ノードAのリセット動作について説明する。リセット動作は、制御回路110から供給される制御パルス302、304、306によって行われる。ただし、基本的に、ノードAが電位Vbになっている場合にのみリセット動作が行われる。制御回路110は、検知回路331がアバランシェ降伏を検知したことに応じて、ノードAの電位をリセットするリセット動作を行う。つまり、ノードAが電位Vhである場合、リセット動作は行われなくてもよい。具体的には、ノードAが電位Vhである場合、制御パルス302、304が、Hレベルにならなくてもよい。この判別のために、制御パルス302、304の元になる周期的にHレベルになる制御パルスとノードDのレベルとの論理積(AND演算)を行い制御パルス302および制御パルス304を供給してもよい。図5に示されるタイミング図において、制御パルス302、304の点線で示したHレベルのパルスは、AND演算を行う前の制御パルス302、304の元になる周期的にHレベルになる制御パルスを示す。ノードDがLレベル、すなわち、ノードAが電位Vhである画素104では、制御パルス302、304は、実線で示したようにLレベルのままとなる。
このように、検知回路331は、所定の周期でAPD201のアバランシェ降伏を検知するための動作を行う。また、ノードAのリセット動作は、検知回路331がアバランシェ降伏を検知する周期と同じ周期で実施可能に構成されている。検知回路331がアバランシェ降伏を検知しない場合、例えば、上述のAND演算などを用いて、制御回路110は、リセット動作が実施可能なタイミングに関わらずノードAのリセット動作を行わない。一方、制御回路110は、検知回路331がAPD201のアバランシェ降伏を検知した場合、以下に示されるリセット動作を行う。制御回路110は、リセット動作が実施可能なタイミングのうち検知回路331がアバランシェ降伏を検知した直後のタイミングでリセット動作を行いうる。
次に、ノードDがHレベルになった際に、APD201にフォトンが入射してアバランシェ降伏を起こしており、ノードAが電位Vbになっていた場合を考える。ここで、ノードAの容量を上述のカソードの容量C0とし、ノードCの容量は、ほぼ容量素子301の容量C1である。容量C0、C1の値は、上述のように、例えば、C0=3fF、C1=2fFである。また、電位供給線351に供給される電圧VRは、例えば、電位Vbの平均値(APD201のブレークダウン電圧Vbdが30Vの場合の電位Vb)と同じ0.5Vに設定されているとする。また、以下の説明では、APD201のブレークダウン電圧Vbdがばらついてしまい、Vbd=29.5Vである場合について主に説明する。
制御パルス306がHレベルになると、ノードCの電位は電位供給線351の電圧VRに従い0.5Vになる。このとき、ノードAの電位Vbは、Vb=(VL+Vbd)=0.0Vである。次に、制御パルス304にHレベルが印加されると、ノードAとノードCとは導通し、その電位は、
(Vb×C0+VR×C1)/(C0+C1)・・・(1)
となる。上述の電圧(電位)の関係では、0.2Vである。この状態で、制御パルス302がHレベルになり、容量素子301の第1端子300に電圧Vpが印加される。このとき、エクセス電圧Vexの設計値に対して、
エクセス電圧Vex={C1/(C0+C1)}×Vp・・・(2)
となるように電圧Vpの値が設定される。上述の電圧(電位)の関係では、エクセス電圧Vexの設計値は2.0Vのため、電圧Vpは5.0Vである。したがって、容量素子301の第1端子300に印加される電圧Vpによって、ノードAおよびノードCの電位は、APD201のカソードの容量C0と容量素子301の容量C1との容量結合によってエクセス電圧Vex分だけ押し上げられる。上述の電圧(電位)の関係では、0.2Vから2.0V分だけ押し上げられて2.2Vになる。この状態で制御パルス304がLレベルになり、スイッチ素子303がオフ状態になると、ノードAのリセットが完了する。上述の電圧(電位)の関係ではノードAの電位Vhは、2.2Vにリセットされる。
このように、リセット動作において、制御回路110は、スイッチ素子303をオン状態にし、容量素子301の第1端子300に所定の電圧Vpを印加する。また、制御回路110は、容量素子301の第1端子300に所定の電圧Vpを印加した後に、スイッチ素子303をオン状態からオフ状態にし、次いで、容量素子301の第1端子300への電圧Vpの印加を終了する。また、リセット動作を行う前に、制御回路110は、スイッチ素子305をオン状態にし、ノードCを電位供給線351から供給される電圧VRにリセットする。これによって、ノードAは、電位Vhにリセットされる。リセット動作を行った後に、制御回路110は、検知回路331がAPD201のアバランシェ降伏を検知するまでスイッチ素子303をオフ状態に制御する。これによって、上述したように、APD201がフォトンを検出する動作を行う間、ノードAは基本的に浮遊状態で動作する。
リセット動作において制御パルス302がLレベルに戻る際に、ノードCの電位は、容量C0と容量C1との容量結合によって、電圧Vp分下がろうとする。上述の電圧(電位)の関係では、2.2Vから5V下がろうとする。ノードCの電位が負電位になると、N型MOSトランジスタであるスイッチ素子303のGND電位設定ウエルに対して順バイアスとなり、スイッチ素子303の順バイアス電流がノードAに流れ込む可能性が生じる。しかしながら、スイッチ素子303およびスイッチ素子305の閾値Vthを適切に設定することで、スイッチ素子303の順バイアス電流がノードAに流れ込むことは回避できる。例えば、スイッチ素子303の閾値Vthを0.6V、スイッチ素子305の閾値Vthを0.0Vに設定する。つまり、スイッチ素子305の閾値が、スイッチ素子303の閾値よりも低くなるように設定する。これらの設定によって、ノードCの電位は、0.0Vにクリップされる。0.0V以下では、N型MOSトランジスタであるスイッチ素子305がON状態になり、ノードCと電位供給線351とが導通するためである。それによって、スイッチ素子303を介したノードAへの漏れ電流は回避される。
以上、説明したAPD201のアバランシェ降伏した後に、ノードAを電位Vhにする動作が、ノードA(APD201のカソード)の容量C0とノードC(容量素子301)の容量C1との容量結合を用いたノードAのリセット動作である。図5に示されるタイミング図の例では、次のリセットタイミングまでにAPD201にフォトンが入射せずノードAのリセットが行われないが、さらに、次のリセットタイミングでは再びノードAのリセットが行われる場合が示されている。上述ではノードDがLレベルである場合、制御パルス302はHレベルにならない場合を説明したが、これに限られることはない。ノードDの状態に関わらず、制御パルス302は、制御パルス306、308、310と同様にHレベルが周期的に供給されてもよい。スイッチ素子303がオフ状態であれば、制御パルス302によって容量素子301の第1端子300に電圧Vpが供給されても、ノードAには影響しないためである。
以上のように、画素104に印加されるエクセス電圧Vexは、ある程度、ブレークダウン電圧Vbdのばらつきが反映される。例えば、ブレークダウン電圧VbdのばらつきをΔVbd、エクセス電圧VexのばらつきをΔVexとすると、
ΔVex=C0/(C0+C1)×ΔVbd・・・(3)
である。上述の電圧(電位)の関係では、ΔVbd=0.5V、ΔVex=0.2Vである。より具体的には、ブレークダウン電圧Vbdが29.5Vの場合、エクセス電圧Vexは2.2V、ブレークダウン電圧Vbdが30.5Vの場合、エクセス電圧Vexは1.8Vになる。つまり、リセット動作をせずに、APD201に一定の電圧を印加した場合のエクセス電圧Vexのばらつき(±0.5V)が、±0.2Vになる。このように、エクセス電圧Vexのばらつきは大きく低減される。結果として、ブレークダウン電圧Vbdの±0.5Vのばらつきに対して、エクセス電圧Vexは、±0.2V変化するだけである。ΔVexを小さくするために、式(3)から容量C1を容量C0に対して小さく設定すればよいことがわかる。この場合、式(2)からわかるように、容量素子301の第1端子300に供給される電圧Vpは大きくなる。APD201を備える画素104に要求される特性や、画素104を含む光電変換装置100に要求される性能や仕様などに応じて、容量C0、C1の値は適宜、設計すればよい。
光電変換装置100を動作させる際に、全ての画素104に配されたAPD201がフォトンの入射に応じてアバランシェ降伏を起こすようにエクセス電圧Vexを設定する必要がある。この場合、APD201に印加される電圧がそれぞれの画素104で一定であると、APD201のブレークダウン電圧Vbdのばらつきによって、ブレークダウン電圧Vbdが小さいAPD201に対して、過剰なエクセス電圧Vexが印加されてしまう。過剰なエクセス電圧Vexが印加されると、信号検知に要するエネルギが大きくなるため、光電変換装置100全体として消費電力が大きくなる。また、過剰なエクセス電圧Vexが印加されると、アバランシェ降伏した際の発光量が多くなり、クロストークが大きくなる。さらに、過剰なエクセス電圧Vexが印加されると、APD201の特性劣化が速くなることによって信頼性が低下し、また、APD201の暗電流が大きくなることによってノイズが大きくなってしまう可能性がある。
一方、上述の容量結合を用いたノードAのリセット動作によって、それぞれの画素104のAPD201に印加されるエクセス電圧Vexのばらつきが抑制できる。したがって、エクセス電圧VexがばらつくことによってAPD201のフォトン入射に対するアバランシェ降伏の発生確率がばらつき、画素104ごとに感度がばらついてしまうことを抑制できる。また、エクセス電圧Vexのばらつきが抑制されることによって、電力消費が抑制され、クロストークが小さく、信頼性が高く、暗電流が小さい、優れた特性を有するSPAD素子を備える光電変換装置100を実現することができる。
第2実施形態
次いで、本開示の第2実施形態について説明する。本実施形態は、上述した第1実施形態で説明した動作を実施するあたり、以下に述べるような事象が想定され、それに対処するものである。
上述のリセット動作によってノードAがリセットされ、次にAPD201にフォトンが入射されるまでの期間が長い場合、ノードAが、電位Vhを保てなくなる可能性がある。APD201には大きな逆バイアス電圧がかかっているが、APD201のアノードとカソードとの間にアバランシェ降伏を起こさないようなリーク電流が流れうる。このリーク電流によって、APD201のカソード、つまり、ノードAの電位が少しずつ下がる場合が想定される。APD201のリーク電流によってノードAの電位が下がり続け、ノードAの電位が、APD201がアバランシェ降伏を生じていないにも関わらず、インバータを用いた波形整形回路210の閾値(例えば、1.5V)よりも下回る1.4Vになったとする。このとき、制御パルス308が供給されると、ノードDがHレベルに遷移する。この場合、上述のようにリセット動作が行われ、ノードAはリセットされる。上述した数値例のようにAPD201のブレークダウン電圧Vbdが29.5Vの場合、APD201がアバランシェ降伏をした際のノードAにおける電位Vbは0Vであり、リセット動作後のノードAの電位Vhは2.2Vになるはずである。しかしながら、上述のようにノードAの電位が下がってしまった場合、電位Vbがあたかも1.4Vであるような状態で、ノードAがリセットされる。この場合、上述の電圧(電位)の関係で挙げた数値例では、式(1)から制御パルス304にHレベルが印加され、ノードAとノードCとが導通した際のノードAの電位が1.04Vになる。次いで、容量素子301の第1端子300に電圧Vpが印加され、リセット動作が終了した後のノードAの電位は、3.04Vとなる。つまり、過剰なエクセス電圧Vexが印加される状態にリセットされてしまう。本実施形態は、このような動作を抑制するための構成および動作を説明する。
図6は、本実施形態における画素104の構成例を示す等価回路図である。本実施形態において、上述の第1実施形態と比較して、検知回路331が、ノードAに接続され、インバータを用いた波形整形回路210がアバランシェ降伏を検知したことを示す信号を出力するよりも小さいノードAの電位の変化を検知する変化検知回路341と、変化検知回路341がノードAの電位の変化を検知したことに応じて、ノードAの電位を所定の電位にリセットするリセット回路342と、をさらに備えている。
例えば、変化検知回路341は、ノードAに接続され、インバータを用いた波形整形回路210とは信号を出力する閾値が異なるインバータ313を含む。インバータ313は、波形整形回路210として用いられるインバータよりも、ノードAの電位の変化が小さい場合に信号を出力するように閾値が設定されている。例えば、波形整形回路210として用いられるインバータの閾値が1.5Vの場合、インバータ313の閾値は1.8Vであってもよい。以下では、数値例として上述の閾値を用いて説明する。
また、変化検知回路341は、インバータ313に加えて、スイッチ素子314およびスイッチ素子315を含みうる。スイッチ素子314は、変化検知回路341の出力ノードであるノードEとインバータ313との間に配される。ノードEは、インバータ313の出力状態を一時的に保持するノードであり、単なる容量であってもよい。スイッチ素子315は、ノードEを電位供給線353に供給される電圧GNDにリセットするために、ノードEと電位供給線353との間に配される。スイッチ素子314は、スイッチ素子307と同様に制御パルス308によって制御されてもよい。スイッチ素子315は、スイッチ素子309と同様に制御パルス310によって制御されてもよい。スイッチ素子307およびスイッチ素子314(スイッチ素子309およびスイッチ素子315)を同じ制御パルス308(制御パルス310)を用いて制御することによって、制御回路110の出力端子数や駆動線の数を抑制できる。スイッチ素子314およびスイッチ素子315は、N型MOSトランジスタであってもよい。
リセット回路342は、電位供給線251とノードAとの間に配されたスイッチ素子311を含む。スイッチ素子311は、図6に示されるように、P型MOSトランジスタであってもよい。電位供給線251には、電圧VHが供給される。電圧VHは、ノードAを直接リセットする電源電位であり、電位Vbの平均値(APD201のブレークダウン電圧Vbdが30Vの場合の電位Vb(上述の電圧(電位)の関係では0.5V))にエクセス電圧Vexの設計値を足した値に設定してもよい。また、電圧VHは、APD201のブレークダウン電圧Vbdのばらつきに応じてばらつく電位Vbの最大値にエクセス電圧Vexの設計値を足した値でもよい。ここでは、Vb=0.5V、Vex=2.0Vとして、VH=2.5Vとする。
図7は、本実施形態の画素104の動作例を説明するタイミング図である。制御パルス312は、スイッチ素子311の制御端子に入力される信号である。制御パルス312がLレベルの間、スイッチ素子311はオン状態になり、制御パルス312がHレベルの間、スイッチ素子311はオフ状態になる。制御パルス312は、制御回路110から駆動線を介して供給されうる。制御パルス302、304、306、308、310は、上述の第1実施形態と同様である。図7には、制御パルス302、304、306、308、310、312およびノードA、D、Eのそれぞれ電位変化が示されている。また、図7においても、APD201にフォトンが入射するタイミングが、「↓」で示されている。
図7に示されるタイミング図において、APD201にフォトンが入射し、制御パルス302、304、306によってノードAのリセットが行われるのは第1実施形態と同じである。以降、APD201にフォトン入射がなく、その間にノードAの電位が徐々に下がっていくことが示されている。ここで、図7に示される制御パルス308の3番目のHレベルが供給されるまでに、ノードAの電位がインバータ313の閾値電圧1.8Vよりも下がったとする。制御パルス308の3番目のHレベルが供給されたとき、ノードAの電位は、インバータを用いた波形整形回路210の閾値電圧1.5Vよりも大きく、かつ、インバータ313の閾値電圧1.8Vよりも小さい状態になる。そのため、インバータ313から信号が出力され、ノードEはHレベルに変化するが、波形整形回路210は信号を出力しないため、ノードDはLレベルのままとなる。
アバランシェ降伏に起因するノードAの電位変化は急激なため、APD201でアバランシェ降伏が起きた場合、ノードAの電位は、波形整形回路210とインバータ313との両方の閾値を越える。したがって、波形整形回路210とインバータ313との両方は信号を出力し、ノードDおよびノードEは、Hレベルになる。一方、APD201のリーク電流に起因するノードAの電位変化は緩やかである。そのため、制御パルス308が適当な周期でHレベルを供給することによって、インバータを用いた波形整形回路210の出力変化が起きる前に、インバータ313によってリーク電流に起因するノードAの電位の低下が捉えられる。それによって、リセット回路342によるノードAのリセットが実施できる。
制御パルス312には、ノードDはLレベル、かつ、ノードEはHレベルになっている場合にLレベルが供給され、ノードAが電圧VHにリセットされる。この制御パルス312は、例えば、図7に示される制御パルス312の元となる一定周期でLレベルになる駆動パルス(制御パルス312に点線で示したLレベルを含む駆動パルス)、ノードDの反転レベル、および、ノードEのレベルの3入力の論理積(AND演算)によって実現できる。例えば、制御回路110に、制御パルス312の元となる一定周期でLレベルになる駆動パルス、ノードDの反転レベル、および、ノードEのレベルがそれぞれ供給される3入力のANDゲートが配されていてもよい。
上述の電圧(電位)の関係では、リセット回路342によってノードAがリセットされた後の電位は2.5V(電位供給線251の電圧VH)、電位Vbは0.0Vのため、エクセス電圧Vexは2.5Vになる。したがって、リセット回路342によってリセットされた後のエクセス電圧Vexは、エクセス電圧Vexの設計値2.0Vよりも大きくなる。また、リセット回路342によってリセットされた後のノードAの電位(2.5V)は、APD201のアバランシェ降伏後の上述のリセット動作によってリセットされた際のノードAの電位Vh(2.2V)よりも高い。そのため、リセット回路342を用いたリセット後のエクセス電圧Vexは、アバランシェ降伏後のリセット動作によって印加されるエクセス電圧Vexよりも大きくなる。しかしながら、リセット回路342によってリセットされた後のノードAの電位(2.5V)は、リーク電流がある場合に制御パルス302、304、306によって実施されるリセット動作でAPD201に印加される電位(3.04V)よりも低くなる。つまり、過剰に印加されるエクセス電圧Vexが、大幅に緩和されることがわかる。
また、APD201のリーク電流に起因するノードAのリセットは、上述のAPD201のアバランシェ降伏後に行われるリセット動作よりも頻度は少ないことが考えられる。つまり、APD201のリーク電流に起因するノードAのリセットは、極稀に生ずるだけであり、大部分のノードAのリセットは、アバランシェ降伏に対応したリセット動作である。そのため、それぞれの画素104のAPD201に印加されるエクセス電圧Vexのばらつきを抑制することができる。
本実施形態においても、APD201のアバランシェ降伏後のリセット動作は、上述の第1実施形態と同様に行われる。さらに、本実施形態によれば、APD201のリーク電流によって生じる過剰なエクセス電圧Vexを伴うリセット動作を抑制できる。結果として、電力消費が抑制され、クロストークが小さく、信頼性が高く、暗電流が小さい、さらに特性が優れたSPAD素子を備える光電変換装置100を実現することができる。
本明細書の開示は、以下の光電変換装置を含む。
(項目1)
複数の画素が配された光電変換装置であって、
前記複数の画素のそれぞれは、
第1電位供給線と第2電位供給線との間に配されたアバランシェフォトダイオードと、
前記第1電位供給線と前記アバランシェフォトダイオードとの間に配された第1スイッチ素子と、
前記第1スイッチ素子と前記アバランシェフォトダイオードとの間に配された第2スイッチ素子と、
第1端子と、前記第1スイッチ素子と前記第2スイッチ素子とが接続される第1ノードに接続された第2端子と、を備える容量素子と、
前記第2スイッチ素子と前記アバランシェフォトダイオードとが接続される第2ノードの電位の変化に応じて前記アバランシェフォトダイオードがアバランシェ降伏したことを検知するための検知回路と、
を含むことを特徴とする光電変換装置。
(項目2)
制御回路をさらに含み、
前記制御回路は、前記検知回路がアバランシェ降伏を検知したことに応じて、前記第2ノードの電位をリセットするリセット動作を行い、
前記リセット動作において、前記制御回路は、前記第2スイッチ素子をオン状態にし、前記第1端子に所定の電圧を印加することを特徴とする項目1に記載の光電変換装置。
(項目3)
前記リセット動作において、前記制御回路は、前記第1端子に所定の電圧を印加した後に、前記第2スイッチ素子をオン状態からオフ状態にし、次いで、前記第1端子への前記所定の電圧の印加を終了することを特徴とする項目2に記載の光電変換装置。
(項目4)
前記リセット動作を行った後に、前記制御回路は、前記検知回路がアバランシェ降伏を検知するまで前記第2スイッチ素子をオフ状態に制御することを特徴とする項目2または3に記載の光電変換装置。
(項目5)
前記リセット動作を行う前に、前記制御回路は、前記第1スイッチ素子をオン状態にし、前記第1ノードを前記第1電位供給線から供給される電圧にリセットすることを特徴とする項目2乃至4の何れか1項目に記載の光電変換装置。
(項目6)
前記検知回路は、所定の周期でアバランシェ降伏を検知するための動作を行うことを特徴とする項目1乃至5の何れか1項目に記載の光電変換装置。
(項目7)
前記検知回路は、所定の周期でアバランシェ降伏を検知するための動作を行い、
前記リセット動作は、前記所定の周期と同じ周期で実施可能に構成され、
前記制御回路は、前記リセット動作が実施可能なタイミングのうち前記検知回路がアバランシェ降伏を検知した直後のタイミングで前記リセット動作を行い、
前記検知回路がアバランシェ降伏を検知しない場合、前記制御回路は、前記リセット動作が実施可能なタイミングに関わらず前記リセット動作を行わないことを特徴とする項目2乃至5の何れか1項目に記載の光電変換装置。
(項目8)
前記検知回路が、前記第2ノードに接続され、前記第2ノードの電位の変化に応じてアバランシェ降伏を検知したことを示す信号を出力するインバータを含むことを特徴とする項目1乃至7の何れか1項目に記載の光電変換装置。
(項目9)
前記検知回路が、
前記第2ノードに接続され、前記インバータが前記信号を出力するよりも小さい前記第2ノードの電位の変化を検知する変化検知回路と、
前記変化検知回路が前記第2ノードの電位の変化を検知したことに応じて、前記第2ノードの電位を所定の電位にリセットするリセット回路と、
をさらに含むことを特徴とする項目8に記載の光電変換装置。
(項目10)
前記リセット回路が、第3電位供給線と前記第2ノードとの間に配された第3スイッチ素子を含むことを特徴とする項目9に記載の光電変換装置。
(項目11)
前記検知回路が、
前記第2ノードに接続され、前記第2ノードの電位の変化に応じてアバランシェ降伏を検知したことを示す信号を出力するインバータと、
前記第2ノードに接続され、前記インバータが前記信号を出力するよりも小さい前記第2ノードの電位の変化を検知する変化検知回路と、
前記変化検知回路が前記第2ノードの電位の変化を検知したことに応じて、前記第2ノードの電位を所定の電位にリセットするリセット回路と、
を含み、
前記リセット回路が、第3電位供給線と前記第2ノードとの間に配された第3スイッチ素子を含み、
前記所定の電位が、前記リセット動作によってリセットされた際の前記第2ノードの電位よりも高いことを特徴とする項目2乃至5および7の何れか1項目に記載の光電変換装置。
(項目12)
前記第3スイッチ素子が、P型MOSトランジスタであることを特徴とする項目10または11に記載の光電変換装置。
(項目13)
前記変化検知回路が、前記第2ノードに接続され、前記インバータとは信号を出力する閾値が異なる前記インバータとは別のインバータを含むことを特徴とする項目9乃至12の何れか1項目に記載の光電変換装置。
(項目14)
前記第1スイッチ素子および前記第2スイッチ素子が、N型MOSトランジスタであることを特徴とする項目1乃至13の何れか1項目に記載の光電変換装置。
(項目15)
前記第1スイッチ素子の閾値が、前記第2スイッチ素子の閾値よりも低いことを特徴とする項目14に記載の光電変換装置。
発明は上記実施形態に制限されるものではなく、発明の精神および範囲から離脱することなく、様々な変更および変形が可能である。従って、発明の範囲を公にするために請求項を添付する。
100:光電変換装置、104:画素、201:アバランシェフォトダイオード、300:第1端子、301:容量素子、303,305:スイッチ素子、331:検知回路、351,352:電位供給線、A,C:ノード

Claims (15)

  1. 複数の画素が配された光電変換装置であって、
    前記複数の画素のそれぞれは、
    第1電位供給線と第2電位供給線との間に配されたアバランシェフォトダイオードと、
    前記第1電位供給線と前記アバランシェフォトダイオードとの間に配された第1スイッチ素子と、
    前記第1スイッチ素子と前記アバランシェフォトダイオードとの間に配された第2スイッチ素子と、
    第1端子と、前記第1スイッチ素子と前記第2スイッチ素子とが接続される第1ノードに接続された第2端子と、を備える容量素子と、
    前記第2スイッチ素子と前記アバランシェフォトダイオードとが接続される第2ノードの電位の変化に応じて前記アバランシェフォトダイオードがアバランシェ降伏したことを検知するための検知回路と、
    を含むことを特徴とする光電変換装置。
  2. 制御回路をさらに含み、
    前記制御回路は、前記検知回路がアバランシェ降伏を検知したことに応じて、前記第2ノードの電位をリセットするリセット動作を行い、
    前記リセット動作において、前記制御回路は、前記第2スイッチ素子をオン状態にし、前記第1端子に所定の電圧を印加することを特徴とする請求項1に記載の光電変換装置。
  3. 前記リセット動作において、前記制御回路は、前記第1端子に所定の電圧を印加した後に、前記第2スイッチ素子をオン状態からオフ状態にし、次いで、前記第1端子への前記所定の電圧の印加を終了することを特徴とする請求項2に記載の光電変換装置。
  4. 前記リセット動作を行った後に、前記制御回路は、前記検知回路がアバランシェ降伏を検知するまで前記第2スイッチ素子をオフ状態に制御することを特徴とする請求項2に記載の光電変換装置。
  5. 前記リセット動作を行う前に、前記制御回路は、前記第1スイッチ素子をオン状態にし、前記第1ノードを前記第1電位供給線から供給される電圧にリセットすることを特徴とする請求項2に記載の光電変換装置。
  6. 前記検知回路は、所定の周期でアバランシェ降伏を検知するための動作を行うことを特徴とする請求項1に記載の光電変換装置。
  7. 前記検知回路は、所定の周期でアバランシェ降伏を検知するための動作を行い、
    前記リセット動作は、前記所定の周期と同じ周期で実施可能に構成され、
    前記制御回路は、前記リセット動作が実施可能なタイミングのうち前記検知回路がアバランシェ降伏を検知した直後のタイミングで前記リセット動作を行い、
    前記検知回路がアバランシェ降伏を検知しない場合、前記制御回路は、前記リセット動作が実施可能なタイミングに関わらず前記リセット動作を行わないことを特徴とする請求項2に記載の光電変換装置。
  8. 前記検知回路が、前記第2ノードに接続され、前記第2ノードの電位の変化に応じてアバランシェ降伏を検知したことを示す信号を出力するインバータを含むことを特徴とする請求項1に記載の光電変換装置。
  9. 前記検知回路が、
    前記第2ノードに接続され、前記インバータが前記信号を出力するよりも小さい前記第2ノードの電位の変化を検知する変化検知回路と、
    前記変化検知回路が前記第2ノードの電位の変化を検知したことに応じて、前記第2ノードの電位を所定の電位にリセットするリセット回路と、
    をさらに含むことを特徴とする請求項8に記載の光電変換装置。
  10. 前記リセット回路が、第3電位供給線と前記第2ノードとの間に配された第3スイッチ素子を含むことを特徴とする請求項9に記載の光電変換装置。
  11. 前記検知回路が、
    前記第2ノードに接続され、前記第2ノードの電位の変化に応じてアバランシェ降伏を検知したことを示す信号を出力するインバータと、
    前記第2ノードに接続され、前記インバータが前記信号を出力するよりも小さい前記第2ノードの電位の変化を検知する変化検知回路と、
    前記変化検知回路が前記第2ノードの電位の変化を検知したことに応じて、前記第2ノードの電位を所定の電位にリセットするリセット回路と、
    を含み、
    前記リセット回路が、第3電位供給線と前記第2ノードとの間に配された第3スイッチ素子を含み、
    前記所定の電位が、前記リセット動作によってリセットされた際の前記第2ノードの電位よりも高いことを特徴とする請求項2に記載の光電変換装置。
  12. 前記第3スイッチ素子が、P型MOSトランジスタであることを特徴とする請求項10に記載の光電変換装置。
  13. 前記変化検知回路が、前記第2ノードに接続され、前記インバータとは信号を出力する閾値が異なる前記インバータとは別のインバータを含むことを特徴とする請求項9に記載の光電変換装置。
  14. 前記第1スイッチ素子および前記第2スイッチ素子が、N型MOSトランジスタであることを特徴とする請求項1に記載の光電変換装置。
  15. 前記第1スイッチ素子の閾値が、前記第2スイッチ素子の閾値よりも低いことを特徴とする請求項14に記載の光電変換装置。
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US8426828B2 (en) * 2011-06-06 2013-04-23 Caeleste Cvba Combined integration and pulse detection
WO2019221799A1 (en) * 2018-05-17 2019-11-21 Hi Llc Stacked photodetector assemblies
TW202102821A (zh) * 2019-02-27 2021-01-16 日商索尼半導體解決方案公司 量測裝置、測距裝置、電子機器及量測方法
CN115989395A (zh) * 2020-09-29 2023-04-18 松下知识产权经营株式会社 光电探测器、光电探测器阵列以及驱动方法

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