JP2024006903A - Pigment dispersion composition for black matrix, pigment dispersion resist composition for black matrix, and black resist film - Google Patents

Pigment dispersion composition for black matrix, pigment dispersion resist composition for black matrix, and black resist film Download PDF

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淳一 平井
Junichi Hirai
康人 辻
Yasuto Tsuji
光信 戸田
Mitsunobu Toda
朋樹 中川
Tomoki Nakagawa
奈月 村上
Natsuki MURAKAMI
真奈 藤井
Mana Fujii
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Sakata Inx Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pigment dispersion composition for a black matrix from which a pigment dispersion resist composition for a black matrix that is excellent in thin line adhesion and surface roughness resistance can be obtained.
SOLUTION: A pigment dispersion composition for a black matrix contains carbon black, an inorganic compound, a basic group-containing pigment dispersion agent, an acidic group-containing pigment dispersion aid, an alkali-soluble resin and a solvent, wherein the inorganic compound is one or more selected from the group consisting of aluminum hydroxide, aluminum oxide, barium sulfate, barium titanate, boron nitride and an ion scavenger, the alkali-soluble resin is an alkali-soluble cardo resin, and 1-10 pts.mass of the inorganic compound is contained with respect to 100 pts.mass of the carbon black.
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COPYRIGHT: (C)2024,JPO&INPIT

Description

本発明は、ブラックマトリックス用顔料分散組成物、ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物、及びブラックレジスト膜に関する。 The present invention relates to a pigment dispersion composition for a black matrix, a pigment dispersion resist composition for a black matrix, and a black resist film.

従来、カーボンブラック、無機化合物、塩基性基含有顔料分散剤、酸性基含有顔料分散助剤、アルカリ可溶性樹脂、及び溶剤を含むブラックマトリックス用顔料分散組成物と、当該ブラックマトリックス用顔料分散組成物、光重合性化合物、及び光重合開始剤を含むブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物が知られている(特許文献1-2)。 Conventionally, a pigment dispersion composition for a black matrix containing carbon black, an inorganic compound, a basic group-containing pigment dispersant, an acidic group-containing pigment dispersion aid, an alkali-soluble resin, and a solvent; Pigment-dispersed resist compositions for black matrices containing a photopolymerizable compound and a photopolymerization initiator are known (Patent Documents 1 and 2).

特開2021-173876号公報Japanese Patent Application Publication No. 2021-173876 特開2021-038289号公報Japanese Patent Application Publication No. 2021-038289

上記のようなブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物を用いて、ブラックマトリックスのパターンを形成するには、通常、ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物を基板に塗工してレジスト膜を形成後、所望のパターンを有するマスクを通じて紫外線で露光し、露光部のレジスト膜を硬化させた後、未露光部のレジスト膜を現像液で除去する。よって、ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物では、通常、特許文献1-2のように、細線密着性(解像度)が要求される。 To form a black matrix pattern using the pigment-dispersed resist composition for a black matrix as described above, the pigment-dispersed resist composition for a black matrix is usually coated on a substrate to form a resist film, and then the desired coating is applied. After exposing the resist film to ultraviolet rays through a mask having a pattern of , the resist film in the exposed areas is cured, and then the resist film in the unexposed areas is removed with a developer. Therefore, a pigment-dispersed resist composition for a black matrix is usually required to have fine line adhesion (resolution) as in Patent Documents 1-2.

一方、近年では、製造上の歩留まり率向上のため、露光部において、より過酷な現像条件に耐えられる性能が求められている。とくに、このような現像条件においては、露光部の表面が荒れてしまう課題があった。表面が荒れた部位は、そうではない部位と比べて膜厚が薄く、ブラックマトリックスの遮光性が損なわれ、引き締まった黒色の再現が低位となる。 On the other hand, in recent years, in order to improve manufacturing yield rates, there has been a demand for performance that can withstand harsher developing conditions in the exposed area. In particular, under such development conditions, there was a problem that the surface of the exposed area became rough. In areas where the surface is rough, the film thickness is thinner than in areas where the surface is rough, and the light-shielding properties of the black matrix are impaired, resulting in poor black reproduction.

本発明は、上記の実情に鑑みてなされたものであり、細線密着性及び表面荒れ耐性に優れるブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物が得られるブラックマトリックス用顔料分散組成物を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and an object of the present invention is to provide a pigment dispersion composition for a black matrix from which a pigment dispersion resist composition for a black matrix having excellent fine line adhesion and surface roughness resistance can be obtained. do.

すなわち、本発明は、カーボンブラック、無機化合物、塩基性基含有顔料分散剤、酸性基含有顔料分散助剤、アルカリ可溶性樹脂、及び溶剤を含むブラックマトリックス用顔料分散組成物であって、前記無機化合物は、水酸化アルミニウム、酸化アルミニウム、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、窒化ホウ素、及びイオン捕捉剤からなる群より選ばれる1種以上であり、前記アルカリ可溶性樹脂は、アルカリ可溶性カルド樹脂であり、前記無機化合物は、前記カーボンブラック100質量部に対して、1~10質量部であるブラックマトリックス用顔料分散組成物に関する。 That is, the present invention provides a pigment dispersion composition for a black matrix containing carbon black, an inorganic compound, a basic group-containing pigment dispersant, an acidic group-containing pigment dispersion aid, an alkali-soluble resin, and a solvent, wherein the inorganic compound is one or more selected from the group consisting of aluminum hydroxide, aluminum oxide, barium sulfate, barium titanate, boron nitride, and an ion scavenger, the alkali-soluble resin is an alkali-soluble cardo resin, and the inorganic The compound is used in a pigment dispersion composition for a black matrix in an amount of 1 to 10 parts by mass based on 100 parts by mass of the carbon black.

また、本発明は、前記ブラックマトリックス用顔料分散組成物、光重合性化合物、及び光重合開始剤を含むブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物に関する。 The present invention also relates to a pigment-dispersed resist composition for a black matrix, which includes the pigment-dispersed composition for a black matrix, a photopolymerizable compound, and a photopolymerization initiator.

また、本発明は、前記ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物から形成されるブラックレジスト膜に関する。 The present invention also relates to a black resist film formed from the pigment-dispersed resist composition for black matrix.

本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物における効果の作用メカニズムは以下のように推定される。ただし、本発明は、この作用メカニズムに限定されない。 The mechanism of effect of the pigment dispersion composition for black matrix of the present invention is estimated as follows. However, the invention is not limited to this mechanism of action.

本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物は、カーボンブラック、無機化合物、塩基性基含有顔料分散剤、酸性基含有顔料分散助剤、アルカリ可溶性樹脂、及び溶剤を含むブラックマトリックス用顔料分散組成物であって、前記無機化合物は、水酸化アルミニウム、酸化アルミニウム、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、窒化ホウ素、及びイオン捕捉剤からなる群より選ばれる1種以上であり、前記アルカリ可溶性樹脂は、アルカリ可溶性カルド樹脂であり、前記無機化合物は、前記カーボンブラック100質量部に対して、1~10質量部である。本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物は、上記の特許文献1-2とは異なり、カーボンブラックの一部を上記の無機化合物に置換し、さらにアルカリ可溶性樹脂としてアルカリ可溶性カルド樹脂を使用することにより、良好な顔料分散性を維持しつつUV露光時の感度が向上するため、ブレイクポイント(BP)や細線密着性を維持しつつ、塗膜の表面荒れが改善できる。 The pigment dispersion composition for a black matrix of the present invention is a pigment dispersion composition for a black matrix containing carbon black, an inorganic compound, a basic group-containing pigment dispersant, an acidic group-containing pigment dispersion aid, an alkali-soluble resin, and a solvent. The inorganic compound is one or more selected from the group consisting of aluminum hydroxide, aluminum oxide, barium sulfate, barium titanate, boron nitride, and an ion scavenger, and the alkali-soluble resin is an alkali-soluble cardinal. The inorganic compound is a resin in an amount of 1 to 10 parts by mass based on 100 parts by mass of the carbon black. The pigment dispersion composition for a black matrix of the present invention differs from the above-mentioned Patent Documents 1-2 in that a part of carbon black is replaced with the above-mentioned inorganic compound, and further, an alkali-soluble cardo resin is used as the alkali-soluble resin. As a result, sensitivity during UV exposure is improved while maintaining good pigment dispersibility, so surface roughness of the coating film can be improved while maintaining break point (BP) and fine line adhesion.

また、本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物は、アルカリ可溶性カルド樹脂の含有量が前記カーボンブラック100質量部に対して10質量部以下である場合、とくに細線密着性に優れ、また、アルカリ可溶成分が少なくなるため、アルカリ現像後の塗膜の黒色に濃淡が発生する現象(水ムラ)への耐性にも優れる。 Furthermore, when the content of the alkali-soluble cardo resin is 10 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the carbon black, the pigment dispersion composition for a black matrix of the present invention has particularly excellent fine line adhesion, and is also alkali-soluble. Since the amount of dissolved components is reduced, it also has excellent resistance to the phenomenon (water unevenness) in which the black color of the coating film becomes dark and light after alkaline development.

本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物は、カーボンブラック、無機化合物、塩基性基含有顔料分散剤、酸性基含有顔料分散助剤、アルカリ可溶性樹脂、及び溶剤を含むブラックマトリックス用顔料分散組成物であって、前記無機化合物は、水酸化アルミニウム、酸化アルミニウム、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、窒化ホウ素、及びイオン捕捉剤からなる群より選ばれる1種以上であり、前記アルカリ可溶性樹脂は、アルカリ可溶性カルド樹脂であり、前記無機化合物は、前記カーボンブラック100質量部に対して、1~10質量部である。 The pigment dispersion composition for a black matrix of the present invention is a pigment dispersion composition for a black matrix containing carbon black, an inorganic compound, a basic group-containing pigment dispersant, an acidic group-containing pigment dispersion aid, an alkali-soluble resin, and a solvent. The inorganic compound is one or more selected from the group consisting of aluminum hydroxide, aluminum oxide, barium sulfate, barium titanate, boron nitride, and an ion scavenger, and the alkali-soluble resin is an alkali-soluble cardinal. The inorganic compound is a resin in an amount of 1 to 10 parts by mass based on 100 parts by mass of the carbon black.

<カーボンブラック>
前記カーボンブラックは、ブラックマトリックス用顔料分散組成物に使用される公知のカーボンブラックを使用でき、例えば、中性カーボンブラック、酸性カーボンブラック等が挙げられる。また、前記カーボンブラックは、平均一次粒子径が20~60nm程度であることが好ましい。前記カーボンブラックは単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
<Carbon black>
As the carbon black, any known carbon black used in a pigment dispersion composition for a black matrix can be used, and examples thereof include neutral carbon black, acidic carbon black, and the like. Further, the carbon black preferably has an average primary particle diameter of about 20 to 60 nm. The carbon black may be used alone or in combination of two or more.

前記中性カーボンブラックは、pHが8~10の範囲であることが好ましい。前記中性カーボンブラックの市販品としては、例えば、オリオン・エンジニアドカーボンズ社製のプリンテックス25(平均一次粒子径56nm、pH9.5)、プリンテックス35(平均一次粒子径31nm、pH9.5)、プリンテックス65(平均一次粒子径21nm、pH9.5)、三菱化学社製のMA#20(平均一次粒子径50nm、pH7.5)、MA#30(平均一次粒子径30nm、pH8.0)、MA#40(平均一次粒子径40nm、pH8.0)等が挙げられる。 The neutral carbon black preferably has a pH in the range of 8 to 10. Commercial products of the neutral carbon black include, for example, Printex 25 (average primary particle diameter 56 nm, pH 9.5) and Printex 35 (average primary particle diameter 31 nm, pH 9.5) manufactured by Orion Engineered Carbons. ), Printex 65 (average primary particle diameter 21 nm, pH 9.5), MA #20 (average primary particle diameter 50 nm, pH 7.5) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, MA #30 (average primary particle diameter 30 nm, pH 8.0) ), MA#40 (average primary particle diameter 40 nm, pH 8.0), and the like.

前記酸性カーボンブラックは、pHが2~4の範囲であることが好ましい。前記酸性カーボンブラックの市販品としては、コロンビアケミカルズ社製のRaven1080(平均一次粒子径28nm、pH2.4)、Raven1100(平均一次粒子径32nm、pH2.9)、三菱化学社製のMA-8(平均一次粒子径24nm、pH3.0)、MA-100(平均一次粒子径22nm、pH3.5)、MA#70(平均一次粒子径24nm、pH3.0)、オリオン・エンジニアドカーボンズ社製のスペシャルブラック250(平均一次粒子径56nm、pH3.0)、スペシャルブラック350(平均一次粒子径31nm、pH3.0)、スペシャルブラック550(平均一次粒子径25nm、pH4.0)、NEROX2500(平均一次粒子径56nm、pH3.0)、NEROX3500(平均一次粒子径31nm、pH3.0)等が挙げられる。 The acidic carbon black preferably has a pH in the range of 2 to 4. Commercially available acidic carbon blacks include Raven 1080 (average primary particle size 28 nm, pH 2.4) manufactured by Columbia Chemicals, Raven 1100 (average primary particle size 32 nm, pH 2.9), and MA-8 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation). (average primary particle diameter 24 nm, pH 3.0), MA-100 (average primary particle diameter 22 nm, pH 3.5), MA#70 (average primary particle diameter 24 nm, pH 3.0), manufactured by Orion Engineered Carbons. Special Black 250 (average primary particle diameter 56 nm, pH 3.0), Special Black 350 (average primary particle diameter 31 nm, pH 3.0), Special Black 550 (average primary particle diameter 25 nm, pH 4.0), NEROX 2500 (average primary particle diameter (diameter 56 nm, pH 3.0), NEROX3500 (average primary particle diameter 31 nm, pH 3.0), and the like.

なお、通常、pHは、炭酸を除いた蒸留水(pH7.0)20mLに、カーボンブラック1gを添加してマグネチックスターラーで混合して水性懸濁液を調製し、ガラス電極を使用して25℃で測定する(ドイツ工業品標準規格 DIN ISO 787/9)。また、通常、平均一次粒子径は、電子顕微鏡観察による算術平均径の値である。ただし、上記の市販品のカーボンブラックのpHと平均一次粒子径はカタログ値である。 Note that the pH is usually determined by adding 1 g of carbon black to 20 mL of distilled water (pH 7.0) from which carbonic acid has been removed, mixing with a magnetic stirrer to prepare an aqueous suspension, and using a glass electrode to adjust the pH to 25 mL. Measured in °C (German Industrial Standard DIN ISO 787/9). Moreover, the average primary particle diameter is usually the value of the arithmetic mean diameter observed by electron microscopy. However, the pH and average primary particle diameter of the above commercially available carbon black are catalog values.

前記カーボンブラックは、前記ブラックマトリックス用顔料分散組成物の固形分中、ブラックマトリックスを形成した場合の遮光性を高める観点から、60質量%以上であることが好ましく、65質量%以上であることがより好ましく、そして、顔料分散の観点から、85質量%以下であることが好ましく、90質量%以下であることがより好ましい。 In the solid content of the pigment dispersion composition for black matrix, the carbon black is preferably 60% by mass or more, and preferably 65% by mass or more, from the viewpoint of improving the light-shielding property when forming a black matrix. More preferably, from the viewpoint of pigment dispersion, it is preferably 85% by mass or less, and more preferably 90% by mass or less.

<無機化合物>
前記無機化合物は、水酸化アルミニウム、酸化アルミニウム、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、窒化ホウ素、及びイオン捕捉剤からなる群より選ばれる1種以上である。前記水酸化アルミニウム、酸化アルミニウム、硫酸バリウム、窒化ホウ素は、メジアン径が、再凝集防止の観点から、5nm以上であることが好ましく、10nm以上であることがより好ましく、そして、顔料分散組成物やレジスト組成物における無機化合物の沈降防止の観点から、3,000nm以下であることが好ましく、2,500nm以下であることがより好ましい。前記チタン酸バリウムは、平均一次粒子径が、再凝集防止の観点から、10nm以上であることが好ましく、50nm以上であることがより好ましく、そして、顔料分散組成物やレジスト組成物における無機化合物の沈降防止の観点から、2,500nm以下であることが好ましく、2,000nm以下であることがより好ましい。前記イオン捕捉剤は、陽イオン及び陰イオンの少なくとも一方を捕捉できるものであればよく、イオン捕捉能を有する陽イオン捕捉剤、陰イオン捕捉剤、両イオン捕捉剤が挙げられる。イオン捕捉剤としては、メジアン径が0.1~10μmであるものが好ましく、例えば、アンチモン、ビスマス、ジルコニウム、チタン、スズ、マグネシウム、及びアルミニウムからなる群より選ばれる1種以上の金属原子を含むイオン捕捉剤が挙げられる。これらの中でも、ビスマス、ジルコニウム、マグネシウム、及びアルミニウムからなる群より選ばれる1種以上の金属原子を含むイオン捕捉剤が好ましい。なお、メジアン径は、レーザー回折/散乱式粒子径分布測定装置を用いて測定できる値であり、平均一次粒子径は、電子顕微鏡観察による算術平均径の値であるが、いずれの値も市販品の場合、カタログ値を参考とする。これらの中でも、ブレイクポイント(BP)や細線密着性を維持しつつ、塗膜の表面荒れの改善に優れる観点から、水酸化アルミニウム、酸化アルミニウムが好ましい。
<Inorganic compounds>
The inorganic compound is one or more selected from the group consisting of aluminum hydroxide, aluminum oxide, barium sulfate, barium titanate, boron nitride, and ion scavengers. The median diameter of the aluminum hydroxide, aluminum oxide, barium sulfate, and boron nitride is preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more from the viewpoint of preventing reagglomeration, and the median diameter is preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more. From the viewpoint of preventing sedimentation of inorganic compounds in the resist composition, the particle diameter is preferably 3,000 nm or less, more preferably 2,500 nm or less. The average primary particle diameter of the barium titanate is preferably 10 nm or more, more preferably 50 nm or more, from the viewpoint of preventing reagglomeration, and is suitable for use as an inorganic compound in pigment dispersion compositions and resist compositions. From the viewpoint of preventing sedimentation, the particle diameter is preferably 2,500 nm or less, more preferably 2,000 nm or less. The ion trapping agent may be anything that can trap at least one of cations and anions, and includes cation trapping agents, anion trapping agents, and amphoteric ion trapping agents that have ion trapping ability. The ion trapping agent preferably has a median diameter of 0.1 to 10 μm, and contains, for example, one or more metal atoms selected from the group consisting of antimony, bismuth, zirconium, titanium, tin, magnesium, and aluminum. Examples include ion scavengers. Among these, ion scavengers containing one or more metal atoms selected from the group consisting of bismuth, zirconium, magnesium, and aluminum are preferred. Note that the median diameter is a value that can be measured using a laser diffraction/scattering particle size distribution measurement device, and the average primary particle diameter is the arithmetic mean diameter value observed by electron microscopy. In this case, refer to the catalog value. Among these, aluminum hydroxide and aluminum oxide are preferred from the viewpoint of excellent improvement in surface roughness of the coating film while maintaining break point (BP) and fine line adhesion.

水酸化アルミニウムとしては、例えば、住友化学社製のC301N(メジアン径1.5μm)、C302A(メジアン径2.4μm)、昭和電工社製のハイジライトH-42M(メジアン径1.0μm)、ハイジライトH-43M(メジアン径0.75μm)、日本軽金属社製のB1403(メジアン径2μm)、BF013(メジアン径1μm)等が挙げられる。 Examples of aluminum hydroxide include C301N (median diameter 1.5 μm), C302A (median diameter 2.4 μm) manufactured by Sumitomo Chemical Co., Higilite H-42M (median diameter 1.0 μm) manufactured by Showa Denko Co., Ltd. Examples include Light H-43M (median diameter 0.75 μm), B1403 (median diameter 2 μm) manufactured by Nippon Light Metal Co., Ltd., and BF013 (median diameter 1 μm).

酸化アルミニウムとしては、例えば、住友化学社製のAKP-15(メジアン径0.60μm)、AKP-20(メジアン径0.42μm)、AKP-30(メジアン径0.26μm)、AKP-50(メジアン径0.20μm)、AKP-53(メジアン径0.17μm)、AKP-3000(メジアン径0.67μm)、AA-03(メジアン径0.40μm)、AA-04(メジアン径0.47μm)、AA-05(メジアン径0.58μm)、AA-07(メジアン径0.88μm)、AA-1.5(メジアン径1.7μm)、AA-2(メジアン径2.2μm)等が挙げられる。 Examples of aluminum oxide include AKP-15 (median diameter 0.60 μm), AKP-20 (median diameter 0.42 μm), AKP-30 (median diameter 0.26 μm), and AKP-50 (median diameter 0.26 μm) manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. diameter 0.20 μm), AKP-53 (median diameter 0.17 μm), AKP-3000 (median diameter 0.67 μm), AA-03 (median diameter 0.40 μm), AA-04 (median diameter 0.47 μm), Examples include AA-05 (median diameter 0.58 μm), AA-07 (median diameter 0.88 μm), AA-1.5 (median diameter 1.7 μm), and AA-2 (median diameter 2.2 μm).

硫酸バリウムとしては、沈降性硫酸バリウムが好ましく、例えば、堺化学工業社製のBARIFINE BF-40(メジアン径0.01μm)、BARIFINE BF-20(メジアン径0.03μm)、BARIFINE BF-10(メジアン径0.06μm)、BARIFINE BF-1L(メジアン径0.1μm)、BARIFINE BF-1(メジアン径0.05μm)、竹原化学工業社製のP-30(メジアン径1μm)、TS-2(メジアン径0.3μm)、TS-3(メジアン径0.6μm)、SC-201(メジアン径0.3μm)、HC-A(メジアン径0.1μm)等が挙げられる。 As barium sulfate, precipitated barium sulfate is preferable, such as BARIFINE BF-40 (median diameter 0.01 μm), BARIFINE BF-20 (median diameter 0.03 μm), and BARIFINE BF-10 (median diameter 0.03 μm) manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd. diameter 0.06 μm), BARIFINE BF-1L (median diameter 0.1 μm), BARIFINE BF-1 (median diameter 0.05 μm), Takehara Chemical Industry Co., Ltd. P-30 (median diameter 1 μm), TS-2 (median diameter TS-3 (median diameter 0.6 μm), SC-201 (median diameter 0.3 μm), and HC-A (median diameter 0.1 μm).

チタン酸バリウムとしては、例えば、日本化学工業社製のパルセラムAKBT-S(平均一次粒子径0.15μm)、パルセラムAKBT-M(平均一次粒子径0.3μm)、パルセラムAKBT-L(平均一次粒子径0.6μm)、パルセラムBT-UP-2(平均一次粒子径2μm)、BTC-4FA(平均一次粒子径200nm)、BTC-4FB(平均一次粒子径300nm)、KZM-50(平均一次粒子径50nm)等が挙げられる。 Examples of barium titanate include Pulceram AKBT-S (average primary particle size 0.15 μm), Pulceram AKBT-M (average primary particle size 0.3 μm), and Pulceram AKBT-L (average primary particle size) manufactured by Nihon Kagaku Kogyo Co., Ltd. diameter 0.6 μm), Pulceram BT-UP-2 (average primary particle diameter 2 μm), BTC-4FA (average primary particle diameter 200 nm), BTC-4FB (average primary particle diameter 300 nm), KZM-50 (average primary particle diameter 50 nm), etc.

窒化ホウ素としては、例えば、デンカ社製のデンカボロンナイトライドXGP(メジアン径30μm)、SGP(メジアン径18μm)、MGP(メジアン径10μm)、GP(メジアン径7μm)、HGP(メジアン径5μm)、SP-2(メジアン径4μm)、SP-3(メジアン径4μm)、SGPS(メジアン径12μm)、昭和電工社製のショウビーエヌUHP-S2(メジアン径0.7μm)、UHP-1K(メジアン径8μm)、UHP-2(メジアン径11μm)、UHP-G1H(メジアン径33μm)等が挙げられる。 Examples of boron nitride include Denka Boron Nitride XGP (median diameter 30 μm), SGP (median diameter 18 μm), MGP (median diameter 10 μm), GP (median diameter 7 μm), HGP (median diameter 5 μm), SP-2 (median diameter 4 μm), SP-3 (median diameter 4 μm), SGPS (median diameter 12 μm), Showa Denko Showa N UHP-S2 (median diameter 0.7 μm), UHP-1K (median diameter 8 μm), UHP-2 (median diameter 11 μm), UHP-G1H (median diameter 33 μm), etc.

イオン捕捉剤としては、例えば、東亞合成社製のIXEPLAS B1(両イオン捕捉剤、ジルコニウム/ビスマス系、メジアン径0.4μm)、IXE-100(陽イオン捕捉剤、ジルコニウム系、メジアン径1μm)、IXE-500(陰イオン捕捉剤、ビスマス系、メジアン径1.5μm)、IXE-550(陰イオン捕捉剤、ビスマス系、メジアン径1.5μm)、IXE-600(両イオン捕捉剤、アンチモン/ビスマス系、メジアン径1μm)、IXE-700F(陰イオン捕捉剤、アルミニウム/マグネシウム系、メジアン径1.5μm)、IXE-770F(陰イオン捕捉剤、アルミニウム/マグネシウム系、メジアン径6μm)、IXE-6136(両イオン捕捉剤、ジルコニウム/ビスマス系、メジアン径2.1μm)等が挙げられる。 Examples of the ion trapping agent include IXEPLAS B1 (both ion trapping agent, zirconium/bismuth type, median diameter 0.4 μm) manufactured by Toagosei Co., Ltd., IXE-100 (cation trapping agent, zirconium type, median diameter 1 μm), IXE-500 (anion scavenger, bismuth type, median diameter 1.5 μm), IXE-550 (anion scavenger, bismuth type, median diameter 1.5 μm), IXE-600 (both ion scavenger, antimony/bismuth) system, median diameter 1 μm), IXE-700F (anion scavenger, aluminum/magnesium based, median diameter 1.5 μm), IXE-770F (anion scavenger, aluminum/magnesium based, median diameter 6 μm), IXE-6136 (Amphoteric ion scavenger, zirconium/bismuth type, median diameter 2.1 μm), etc.

前記無機化合物は、前記カーボンブラック100質量部に対して、1~10質量部である。前記無機化合物は、細線密着性および表面荒れの観点から、前記カーボンブラック100質量部に対して、2質量部以上であることが好ましく、3質量部以上であることがより好ましく、そして、顔料分散組成物の安定性およびブラックマトリックスの黒色性の観点から、9質量部以下であることが好ましく、8質量部以下であることがより好ましい。 The amount of the inorganic compound is 1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the carbon black. From the viewpoint of fine line adhesion and surface roughness, the amount of the inorganic compound is preferably 2 parts by mass or more, more preferably 3 parts by mass or more, based on 100 parts by mass of the carbon black. From the viewpoint of stability of the composition and blackness of the black matrix, the amount is preferably 9 parts by mass or less, more preferably 8 parts by mass or less.

<塩基性基含有顔料分散剤>
前記塩基性基含有顔料分散剤は、前記カーボンブラックを分散できればよく、ブラックマトリックス用顔料分散組成物に使用される公知の塩基性基含有顔料分散剤を使用でき、例えば、アニオン性界面活性剤、塩基性基含有ポリエステル系顔料分散剤、塩基性基含有アクリル系顔料分散剤、塩基性基含有ウレタン系顔料分散剤、塩基性基含有カルボジイミド系顔料分散剤等が挙げられる。前記塩基性基としては、1級、2級又は3級アミノ基が、特に分散性に優れる観点から好ましい。前記塩基性基含有顔料分散剤は単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
<Basic group-containing pigment dispersant>
The basic group-containing pigment dispersant only needs to be able to disperse the carbon black, and any known basic group-containing pigment dispersant used in pigment dispersion compositions for black matrices can be used, such as anionic surfactants, Examples include basic group-containing polyester pigment dispersants, basic group-containing acrylic pigment dispersants, basic group-containing urethane pigment dispersants, and basic group-containing carbodiimide pigment dispersants. As the basic group, a primary, secondary or tertiary amino group is particularly preferred from the viewpoint of excellent dispersibility. The basic group-containing pigment dispersants can be used alone or in combination of two or more.

前記塩基性基含有顔料分散剤は、良好な顔料分散性が得られる点から、高分子型の塩基性基含有顔料分散剤が好ましい。前記高分子型の塩基性基含有顔料分散剤としては、例えば、塩基性基含有ウレタン系高分子顔料分散剤、塩基性基含有ポリエステル系高分子顔料分散剤、塩基性基含有アクリル系高分子顔料分散剤等が挙げられる。これらの中でも、塩基性基含有ウレタン系高分子顔料分散剤、塩基性基含有アクリル系高分子顔料分散剤が好ましい。前記塩基性基含有ウレタン系高分子顔料分散剤は、ポリエステル鎖、ポリエーテル鎖、及びポリカーボネート鎖よりなる群から選択される少なくとも1種を有する塩基性基含有ウレタン系高分子顔料分散剤がより好ましい。 The basic group-containing pigment dispersant is preferably a polymer type basic group-containing pigment dispersant, since good pigment dispersibility can be obtained. Examples of the polymeric basic group-containing pigment dispersants include basic group-containing urethane polymer pigment dispersants, basic group-containing polyester polymer pigment dispersants, and basic group-containing acrylic polymer pigments. Examples include dispersants and the like. Among these, a basic group-containing urethane polymer pigment dispersant and a basic group-containing acrylic polymer pigment dispersant are preferred. The basic group-containing urethane polymer pigment dispersant is more preferably a basic group-containing urethane polymer pigment dispersant having at least one selected from the group consisting of polyester chains, polyether chains, and polycarbonate chains. .

前記塩基性基含有顔料分散剤は、ブラックマトリックス用顔料分散組成物を低粘度化することができ、塗膜中のカーボンブラックを高濃度にすることができる観点から、アミン価が5~50mgKOH/gであることが好ましく、アミン価が5~35mgKOH/gであることがより好ましい。なお、アミン価とは、遊離塩基及び塩基の総量を示すもので、試料1gを中和するのに要する塩酸に対して当量の水酸化カリウムのmg数で表したものである。 The basic group-containing pigment dispersant has an amine value of 5 to 50 mg KOH / g, and more preferably the amine value is 5 to 35 mgKOH/g. Note that the amine value indicates the total amount of free base and base, and is expressed in mg of potassium hydroxide equivalent to hydrochloric acid required to neutralize 1 g of sample.

前記塩基性基含有顔料分散剤は、前記カーボンブラック100質量部に対して、1~100質量部であることが好ましく、2~50質量部であることがより好ましい。 The amount of the basic group-containing pigment dispersant is preferably 1 to 100 parts by weight, more preferably 2 to 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the carbon black.

<酸性基含有顔料分散助剤>
前記酸性基含有顔料分散助剤は、顔料の分散性をより改善する目的で使用され、例えば、ラクタムブラック、ペリレン系化合物、ジケトピロロピロール系化合物、アゾナフトール系化合物、ジオキサジン系化合物、キナクリドン系化合物、フタロシアニン系化合物及びその金属錯体、アントラキノン、ナフタレン、アクリドン、又はトリアジン等の色素に、カルボキシル基、スルホン酸基等の酸性基が導入された化合物(酸性基を有する色素誘導体)や、それらを有機アミン等で中和した化合物が挙げられる。前記酸性基を有する色素誘導体としては、カーボンブラックの分散性が良好である観点から、スルホン酸基を有するフタロシアニン系(フタロシアニン骨格を有する)色素誘導体が好ましい。前記酸性基含有顔料分散助剤は単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
<Acidic group-containing pigment dispersion aid>
The acidic group-containing pigment dispersion aid is used for the purpose of further improving the dispersibility of pigments, and includes, for example, lactam black, perylene compounds, diketopyrrolopyrrole compounds, azonaphthol compounds, dioxazine compounds, and quinacridone compounds. Compounds, phthalocyanine compounds and their metal complexes, compounds in which acidic groups such as carboxyl groups and sulfonic acid groups are introduced into dyes such as anthraquinone, naphthalene, acridone, or triazine (dye derivatives having acidic groups); Examples include compounds neutralized with organic amines and the like. As the dye derivative having an acidic group, a phthalocyanine-based dye derivative (having a phthalocyanine skeleton) having a sulfonic acid group is preferable from the viewpoint of good dispersibility of carbon black. The acidic group-containing pigment dispersion aids can be used alone or in combination of two or more.

前記酸性基含有顔料分散助剤は、前記カーボンブラック100質量部に対して、0.1~20質量部であることが好ましく、1~10質量部であることがより好ましい。 The amount of the acidic group-containing pigment dispersion aid is preferably 0.1 to 20 parts by weight, more preferably 1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the carbon black.

<アルカリ可溶性樹脂>
前記アルカリ可溶性樹脂は、アルカリ可溶性カルド樹脂である。前記アルカリ可溶性カルド樹脂は、アルカリ現像液に溶解できるものであれば特に制限はないが、カルボキシル基、スルホン酸基、ホスホン酸基等のアニオン性基の1種又は2種以上を含有する樹脂が好ましい。前記アルカリ可溶性樹脂は単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
<Alkali-soluble resin>
The alkali-soluble resin is an alkali-soluble cardo resin. The alkali-soluble cardo resin is not particularly limited as long as it can be dissolved in an alkaline developer, but resins containing one or more anionic groups such as carboxyl groups, sulfonic acid groups, and phosphonic acid groups may be used. preferable. The alkali-soluble resins can be used alone or in combination of two or more.

前記アルカリ可溶性カルド樹脂とは、カルド骨格を有するアルカリ可溶性樹脂のことをいい、カルド骨格とは、環状構造を構成する環炭素原子である4級炭素原子に、2つの芳香族基が単結合で繋がった骨格をいう。アルカリ可溶性カルド樹脂の具体例としては、例えば、ADEKA ARKLS WR-301(ADEKA社製)、オグゾールCR-TR1、CR-TR2、CR-TR3、CR-TR4、CR-TR5、CR-TR6(以上、大阪ガスケミカル社製)が挙げられる。 The alkali-soluble cardo resin refers to an alkali-soluble resin that has a cardo skeleton, and the cardo skeleton is a carbon atom in which two aromatic groups are bonded to a quaternary carbon atom, which is a ring carbon atom constituting a cyclic structure. A connected skeleton. Specific examples of alkali-soluble cardo resins include ADEKA ARKLS WR-301 (manufactured by ADEKA), OGZOL CR-TR1, CR-TR2, CR-TR3, CR-TR4, CR-TR5, CR-TR6 (the above, (manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd.).

前記アルカリ可溶性カルド樹脂の酸価は、アルカリ現像性の観点から、10mgKOH/g以上300mgKOH/g以下であることが好ましく、20mgKOH/g以上200mgKOH/g以下であることがより好ましい。 From the viewpoint of alkali developability, the acid value of the alkali-soluble cardo resin is preferably 10 mgKOH/g or more and 300 mgKOH/g or less, and more preferably 20 mgKOH/g or more and 200 mgKOH/g or less.

前記アルカリ可溶性樹脂は、前記カーボンブラック100質量部に対して、2質量部以上45質量部以下であることが好ましく、3質量部以上10質量部以下であることがより好ましい。 The amount of the alkali-soluble resin is preferably 2 parts by mass or more and 45 parts by mass or less, and more preferably 3 parts by mass or more and 10 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the carbon black.

<溶剤>
前記溶剤は、ブラックマトリックス用顔料分散組成物に使用される公知の溶剤を使用できる。前記溶剤は、顔料を安定的に分散させ、前記塩基性基含有顔料分散剤や前記アルカリ可溶性樹脂を十分に溶解させることができる観点から、エステル系溶剤、エーテル系溶剤、エーテルエステル系溶剤、ケトン系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤、含窒素系溶剤等が好ましい。前記溶剤は単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
<Solvent>
As the solvent, a known solvent used in a pigment dispersion composition for a black matrix can be used. From the viewpoint of stably dispersing the pigment and sufficiently dissolving the basic group-containing pigment dispersant and the alkali-soluble resin, the solvent may be an ester solvent, an ether solvent, an ether ester solvent, or a ketone solvent. Preferred are solvents, aromatic hydrocarbon solvents, nitrogen-containing solvents, and the like. The above solvents can be used alone or in combination of two or more.

前記エステル系溶剤としては、2-ヒドロキシプロピオン酸メチル、2-ヒドロキシプロピオン酸エチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、3-メチル-3-メトキシブチルプロピオネート、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エステル、蟻酸n-アミル等が挙げられる。前記エーテル系溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル等が挙げられる。前記エーテルエステル系溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等が挙げられる。前記ケトン系溶剤としては、例えば、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、δ-ブチロラクトン等が挙げられる。前記芳香族炭化水素系溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、アルキルナフタレン等が挙げられる。前記含窒素系溶剤としては、例えば、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等が挙げられる。 Examples of the ester solvent include methyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, 3-methyl-3-methoxybutylpropionate, and methyl 3-methoxypropionate. , ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl ethoxyacetate, hydroxyacetate, n-amyl formate, and the like. Examples of the ether solvent include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, and propylene glycol monoethyl ether. , propylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, and the like. Examples of the ether ester solvent include ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, and the like. Examples of the ketone solvent include methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, and δ-butyrolactone. Examples of the aromatic hydrocarbon solvent include toluene, xylene, alkylnaphthalene, and the like. Examples of the nitrogen-containing solvent include N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, and the like.

前記溶剤の割合は、前記ブラックマトリックス用顔料分散組成物中、工程性の観点から、40質量%以上であることが好ましく、50質量%以上であることがより好ましく、そして、分散安定性の観点から、90質量%以下であることが好ましく、80質量%以下であることがより好ましい。 The proportion of the solvent in the black matrix pigment dispersion composition is preferably 40% by mass or more, more preferably 50% by mass or more from the viewpoint of processability, and from the viewpoint of dispersion stability. Therefore, it is preferably 90% by mass or less, more preferably 80% by mass or less.

前記ブラックマトリックス用顔料分散組成物には、さらに、必要に応じて、レベリング剤、前記アルカリ可溶性カルド樹脂以外の樹脂、酸化防止剤、消泡剤等の添加剤を添加してもよい。 If necessary, additives such as a leveling agent, a resin other than the alkali-soluble cardo resin, an antioxidant, and an antifoaming agent may be added to the pigment dispersion composition for a black matrix.

前記ブラックマトリックス用顔料分散組成物中、前記カーボンブラック、前記無機化合物、前記塩基性基含有顔料分散剤、前記酸性基含有顔料分散助剤、前記アルカリ可溶性樹脂、及び前記溶剤の合計の割合は、75質量%以上であることが好ましく、85質量%以上であることがより好ましく、95質量%以上であることがさらに好ましい。 In the black matrix pigment dispersion composition, the total proportion of the carbon black, the inorganic compound, the basic group-containing pigment dispersant, the acidic group-containing pigment dispersion aid, the alkali-soluble resin, and the solvent is: It is preferably 75% by mass or more, more preferably 85% by mass or more, and even more preferably 95% by mass or more.

前記ブラックマトリックス用顔料分散組成物は、上記の各成分をロールミル、ニーダー、高速攪拌機、ビーズミル、ボールミル、サンドミル、超音波分散機、高圧分散装置等を用いて、分散処理して調製すればよい。 The pigment dispersion composition for a black matrix may be prepared by dispersing the above-mentioned components using a roll mill, kneader, high-speed stirrer, bead mill, ball mill, sand mill, ultrasonic dispersion machine, high-pressure dispersion device, etc.

<ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物>
本発明のブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物は、前記ブラックマトリックス用顔料分散組成物、光重合性化合物、及び光重合開始剤を含む。なお、前記カーボンブラックの割合は、前記ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物の固形分中、30質量%以上80質量%以下であることが好ましい。また、前記無機化合物の割合は、前記ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物の固形分中、細線密着性および表面荒れ耐性と、顔料分散組成物の安定性およびブラックマトリックスの黒色性を兼ね備える観点から、0.1質量%以上10.0質量%以下であることが好ましく、0.2質量%以上8.0質量%以下であることがより好ましい。
<Pigment dispersion resist composition for black matrix>
The pigment dispersion resist composition for a black matrix of the present invention includes the pigment dispersion composition for a black matrix, a photopolymerizable compound, and a photopolymerization initiator. Note that the proportion of the carbon black is preferably 30% by mass or more and 80% by mass or less in the solid content of the pigment-dispersed resist composition for black matrix. In addition, the proportion of the inorganic compound is determined from the viewpoint of combining fine line adhesion and surface roughness resistance, stability of the pigment dispersion composition, and blackness of the black matrix in the solid content of the pigment dispersion resist composition for black matrix. It is preferably 0.1% by mass or more and 10.0% by mass or less, more preferably 0.2% by mass or more and 8.0% by mass or less.

<光重合性化合物>
前記光重合性化合物は、ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物に使用される公知の光重合性化合物を使用でき、例えば、光重合性不飽和結合を有するモノマー、オリゴマー等が挙げられる。前記光重合性化合物は単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
<Photopolymerizable compound>
As the photopolymerizable compound, a known photopolymerizable compound used in a pigment-dispersed resist composition for a black matrix can be used, and examples thereof include monomers and oligomers having a photopolymerizable unsaturated bond. The photopolymerizable compounds can be used alone or in combination of two or more.

光重合性不飽和結合を1個有するモノマーとしては、例えば、メチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、2-エチルヘキシルメタクリレート、メチルアクリレート、ブチルアクリレート、2-エチルヘキシルアクリレート等のアルキルメタクリレート又はアクリレート;ベンジルメタクリレート、ベンジルアクリレート等のアラルキルメタクリレート又はアクリレート;ブトキシエチルメタクリレート、ブトキシエチルアクリレート等のアルコキシアルキルメタクリレート又はアクリレート;N,N-ジメチルアミノエチルメタクリレート、N,N-ジメチルアミノエチルアクリレート等のアミノアルキルメタクリレート又はアクリレート;ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等のポリアルキレングリコールモノアルキルエーテルのメタクリル酸エステル又はアクリル酸エステル;ヘキサエチレングリコールモノフェニルエーテル等のポリアルキレングリコールモノアリールエーテルのメタクリル酸エステル又はアクリル酸エステル;イソボニルメタクリレート又はアクリレート;グリセロールメタクリレート又はアクリレート;2-ヒドロキシエチルメタクリレート又はアクリレート等が挙げられる。 Examples of monomers having one photopolymerizable unsaturated bond include alkyl methacrylates or acrylates such as methyl methacrylate, butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, methyl acrylate, butyl acrylate, and 2-ethylhexyl acrylate; benzyl methacrylate, benzyl acrylate, etc. aralkyl methacrylates or acrylates; alkoxyalkyl methacrylates or acrylates such as butoxyethyl methacrylate, butoxyethyl acrylate; aminoalkyl methacrylates or acrylates such as N,N-dimethylaminoethyl methacrylate, N,N-dimethylaminoethyl acrylate; diethylene glycol monoethyl ether , methacrylic acid esters or acrylic acid esters of polyalkylene glycol monoalkyl ethers such as triethylene glycol monobutyl ether and dipropylene glycol monomethyl ether; methacrylic acid esters or acrylic acid esters of polyalkylene glycol monoaryl ethers such as hexaethylene glycol monophenyl ether Examples include ester; isobornyl methacrylate or acrylate; glycerol methacrylate or acrylate; 2-hydroxyethyl methacrylate or acrylate.

光重合性不飽和結合を2個以上有するモノマーとしては、例えば、ビスフェノールAジメタクリレート、1,4-ブタンジオールジメタクリレート、1,3-ブチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、グリセロールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ビスフェノールAジアクリレート、1,4-ブタンジオールジアクリレート、1,3-ブチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、グリセロールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等が挙げられる。 Examples of monomers having two or more photopolymerizable unsaturated bonds include bisphenol A dimethacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, 1,3-butylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, glycerol dimethacrylate, and neopentyl. Glycol dimethacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, dipenta Erythritol pentamethacrylate, bisphenol A diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,3-butylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, glycerol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate , tetraethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, and the like.

光重合性不飽和結合を有するオリゴマーとしては、例えば、前記モノマーを適宜重合させて得られたものが挙げられる。 Examples of the oligomer having a photopolymerizable unsaturated bond include those obtained by suitably polymerizing the above monomers.

前記光重合性化合物は、前記ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物の固形分中、2~20質量%であることが好ましく、4~15質量%であることがより好ましい。 The amount of the photopolymerizable compound is preferably 2 to 20% by mass, more preferably 4 to 15% by mass, based on the solid content of the pigment-dispersed resist composition for black matrix.

前記光重合開始剤は、ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物に使用される公知の光重合開始剤を使用でき、例えば、ベンゾフェノン、N,N’-テトラエチル-4,4’-ジアミノベンゾフェノン、4-メトキシ-4’-ジメチルアミノベンゾフェノン、ベンジル、2,2-ジエトキシアセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、α-ヒドロキシイソブチルフェノン、チオキサントン、2-クロロチオキサントン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、t-ブチルアントラキノン、1-クロロアントラキノン、2,3-ジクロロアントラキノン、3-クロル-2-メチルアントラキノン、2-エチルアントラキノン、1,4-ナフトキノン、1,2-ベンゾアントラキノン、1,4-ジメチルアントラキノン、2-フェニルアントラキノン、トリアジン系光重合開始剤、オキシムエステル系光重合開始剤等が挙げられる。前記光重合開始剤は単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。 The photopolymerization initiator may be a known photopolymerization initiator used in a pigment-dispersed resist composition for a black matrix, such as benzophenone, N,N'-tetraethyl-4,4'-diaminobenzophenone, 4- Methoxy-4'-dimethylaminobenzophenone, benzyl, 2,2-diethoxyacetophenone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin isobutyl ether, benzyl dimethyl ketal, α-hydroxyisobutylphenone, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 1-hydroxycyclohexyl Phenylketone, t-butylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone, 2,3-dichloroanthraquinone, 3-chloro-2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 1,4-naphthoquinone, 1,2-benzoanthraquinone, 1,4 -dimethylanthraquinone, 2-phenylanthraquinone, triazine-based photopolymerization initiators, oxime ester-based photopolymerization initiators, and the like. The photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more.

前記光重合開始剤は、前記ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物の固形分中、0.1~15質量%であることが好ましく、1~10質量%であることがより好ましい。 The amount of the photopolymerization initiator is preferably 0.1 to 15% by mass, more preferably 1 to 10% by mass, based on the solid content of the pigment-dispersed resist composition for black matrix.

前記ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物は、アルカリ現像液による現像性の観点から、上記のアルカリ可溶性樹脂をさらに添加してもよい。また、前記アルカリ可溶性樹脂の合計は、前記ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物の固形分中、4質量%以上20質量%以下であることが好ましい。また、前記ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物は、塗装性を向上させる観点から、上記の溶剤をさらに添加してもよい。前記溶剤の合計の割合は、前記ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物中、50質量%以上であることが好ましく、70質量%以上であることがより好ましい。 The pigment-dispersed resist composition for black matrix may further contain the above-mentioned alkali-soluble resin from the viewpoint of developability with an alkaline developer. Further, the total amount of the alkali-soluble resin is preferably 4% by mass or more and 20% by mass or less in the solid content of the pigment-dispersed resist composition for black matrix. Moreover, the above-mentioned solvent may be further added to the pigment-dispersed resist composition for black matrix from the viewpoint of improving coating properties. The total proportion of the solvent is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more in the pigment-dispersed resist composition for black matrix.

前記ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物には、さらに、必要に応じて、表面改質剤、レベリング剤、酸化防止剤、消泡剤等の添加剤を添加してもよい。ただし、臭気性の観点から、チオール化合物は含まないほうが好ましい。 If necessary, additives such as a surface modifier, a leveling agent, an antioxidant, and an antifoaming agent may be added to the pigment-dispersed resist composition for a black matrix. However, from the viewpoint of odor, it is preferable not to include a thiol compound.

前記ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物は、前記ブラックマトリックス用顔料分散組成物、光重合性化合物、及び光重合開始剤等の各成分を、攪拌装置等を用いて、攪拌混合して調製すればよい。 The pigment dispersion resist composition for a black matrix can be prepared by stirring and mixing the components such as the pigment dispersion composition for a black matrix, a photopolymerizable compound, and a photopolymerization initiator using a stirring device or the like. good.

<ブラックレジスト膜>
本発明のブラックレジスト膜は、前記ブラックマトリックス用レジスト組成物を用いて、公知の手段にて得られる。
<Black resist film>
The black resist film of the present invention can be obtained by a known method using the black matrix resist composition.

本発明のブラックマトリックスの形成方法としては特に限定されず、例えば、透明基板上に本発明のブラックマトリックス用レジスト組成物を塗布し、乾燥して塗膜を形成した後、上記塗膜上にフォトマスクを置き、該フォトマスクを介して画像露光、現像、必要に応じて光硬化等の方法によりブラックマトリックスを形成することができる。 The method for forming the black matrix of the present invention is not particularly limited. For example, the resist composition for a black matrix of the present invention is applied onto a transparent substrate, dried to form a coating film, and then a photo film is coated on the coating film. A black matrix can be formed by placing a mask and performing image exposure through the photomask, development, and if necessary photocuring.

以下に本発明を実施例等によって説明するが、本発明はこれらのみに限定されない。 The present invention will be explained below with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.

<調製例1~13、比較調製例1~4>
<ブラックマトリックス用顔料分散組成物の調製>
表1または2に示す各種原料を、表1または2に示す配合組成(質量%)となるように混合した後、ビーズミルで練肉し、各調製例及び比較調製例のブラックマトリックス用顔料分散組成物を調製した。
<Preparation Examples 1 to 13, Comparative Preparation Examples 1 to 4>
<Preparation of pigment dispersion composition for black matrix>
The various raw materials shown in Table 1 or 2 are mixed to have the composition (mass%) shown in Table 1 or 2, and then kneaded in a bead mill to form the pigment dispersion composition for black matrix of each preparation example and comparative preparation example. I prepared something.

<実施例1~13、比較例1~4>
<ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物の調製>
表3または4に示す各種原料を、表3または4に示す配合組成(質量%)となるように、高速撹拌機を用いて混合した後、孔径0.5μmのフィルターで濾過し、各実施例及び比較例のブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物を調製した。
<Examples 1 to 13, Comparative Examples 1 to 4>
<Preparation of pigment-dispersed resist composition for black matrix>
The various raw materials shown in Table 3 or 4 were mixed using a high-speed stirrer so that the composition (mass%) shown in Table 3 or 4 was obtained, and then filtered through a filter with a pore size of 0.5 μm. A pigment-dispersed resist composition for a black matrix was prepared as a comparative example.

上記で得られたブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物を用い、以下の評価方法にしたがって、各項目を評価した。結果を表2に示す。 Using the pigment-dispersed resist composition for black matrix obtained above, each item was evaluated according to the following evaluation method. The results are shown in Table 2.

<細線密着性>
上記の各ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物を、スピンコーターにて膜厚2μmとなるようにガラス基板(EAGLE XG)上に塗布し、100℃で3分間プレベークした。次いで、1μmから20μmの線幅について1μm間隔のラインパターンを有するフォトマスクを用いて、高圧水銀灯を用い、UV積算光量100mJ/cmで露光した。その後、23℃、0.04%水酸化カリウム水溶液中、1kgf/cmのシャワー現像圧にて現像パターンが現れ始める時間(ブレイクポイント)から現像を開始し、細線密着性の評価においては、ブレイクポイントの1.3倍および1.5倍の時間になったところで現像を終了し、最後に、1kgf/cm圧のスプレー水洗を行った。水洗後のガラス基板上に残存する最小のラインパターンのサイズ(μm)を評価した。なお、ブレイクポイントの1.3倍においては、最小のラインパターンのサイズ(μm)が13μm以下であるものを合格基準とし、6μm以下であることが好ましく、そして、ブレイクポイントの1.5倍においては、最小のラインパターンのサイズ(μm)が22μm以下であるものを合格基準とし、9μm以下であることが好ましい。
<Fine line adhesion>
Each of the above pigment-dispersed resist compositions for a black matrix was applied onto a glass substrate (EAGLE XG) using a spin coater to a film thickness of 2 μm, and prebaked at 100° C. for 3 minutes. Next, using a photomask having a line pattern with a line width of 1 μm to 20 μm and an interval of 1 μm, exposure was performed using a high-pressure mercury lamp at an integrated UV light amount of 100 mJ/cm 2 . Thereafter, development was started from the time (break point) at which a developed pattern began to appear in a 0.04% potassium hydroxide aqueous solution at 23°C under a shower development pressure of 1 kgf/ cm2 . Development was terminated when the time was 1.3 times and 1.5 times the point, and finally, spray water washing at 1 kgf/cm 2 pressure was performed. The size (μm) of the smallest line pattern remaining on the glass substrate after washing with water was evaluated. At 1.3 times the break point, the minimum line pattern size (μm) is 13 μm or less as an acceptance criterion, preferably 6 μm or less, and at 1.5 times the break point. The acceptance criterion is that the minimum line pattern size (μm) is 22 μm or less, and preferably 9 μm or less.

<表面荒れ耐性>
ブレイクポイントの1.3倍で現像を終了し、スプレー水洗したガラス基板について、光学顕微鏡(倍率1000倍)で表面を観察し、以下の基準で評価した。〇または△を合格基準とし、〇が好ましい。
〇:塗膜の全面に表面荒れがない。
△:塗膜の一部に表面荒れが見られる。
×:塗膜の全面に表面荒れが見られる。
<Surface roughness resistance>
Development was completed at 1.3 times the break point, and the surface of the glass substrate, which was spray washed with water, was observed with an optical microscope (1000 times magnification) and evaluated based on the following criteria. The acceptance criteria is 〇 or △, and 〇 is preferred.
○: There is no surface roughness on the entire surface of the coating film.
Δ: Surface roughness is observed in a part of the coating film.
×: Surface roughness is observed on the entire surface of the coating film.

<水ムラ>
各ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物を、スピンコーターにて膜厚1.5μmとなるようにガラス基板(EAGLE XG)上に塗布し、100℃で3分間プレベークした。次いで、高圧水銀灯を用い、UV積算光量40mJ/cmで露光した。その後、23℃、0.04%水酸化カリウム水溶液中、1kgf/cmのシャワー現像圧にて現像をブレイクポイントの1.1倍で行い、最後に、1kgf/cm圧のスプレー水洗を行った。水洗後のガラス基板について、表面を観察し、以下の基準で評価した。〇または△を合格基準とし、〇が好ましい。
〇:塗膜の全面にムラがない。
△:塗膜の一部にムラが見られる。
×:塗膜の全面にムラが見られる。
<Uneven water>
Each pigment-dispersed resist composition for black matrix was applied onto a glass substrate (EAGLE XG) using a spin coater to a film thickness of 1.5 μm, and prebaked at 100° C. for 3 minutes. Next, exposure was performed using a high-pressure mercury lamp at an integrated UV light amount of 40 mJ/cm 2 . Thereafter, development was performed at 23°C in a 0.04% potassium hydroxide aqueous solution at a shower development pressure of 1 kgf/cm 2 at 1.1 times the break point, and finally, spray washing was performed at 1 kgf/cm 2 pressure. Ta. The surface of the glass substrate after washing with water was observed and evaluated based on the following criteria. The acceptance criteria is 〇 or △, and 〇 is preferred.
○: There is no unevenness on the entire surface of the coating film.
Δ: Unevenness is observed in a part of the coating film.
×: Unevenness is observed over the entire surface of the coating film.

表1-4中、Raven1080は、カーボンブラック(平均一次粒子径28nm、pH2.4、コロンビアケミカルズ社製);
C301Nは、水酸化アルミニウム(メジアン径1.5μm、住友化学社製);
C302Aは、水酸化アルミニウム(メジアン径2.4μm、住友化学社製);
AKP-053は、酸化アルミニウム(メジアン径0.17μm、住友化学社製);
BF40は、沈降性硫酸バリウム『BARIFINE BF-40』(メジアン径0.01μm、堺化学工業社製);
BTC-4FAは、チタン酸バリウム(平均一次粒子径200nm、日本化学工業社製);
IXE-500は、陰イオン捕捉剤(ビスマス系、メジアン径1.5μm、東亞合成社製);
IXE-100は、陽イオン捕捉剤(ジルコニウム系、メジアン径1μm、東亞合成社製);
SP-2は、窒化ホウ素(デンカボロンナイトライドSP-2、メジアン径4μm、デンカ社製);
SP-3は、窒化ホウ素(デンカボロンナイトライドSP-3、メジアン径4μm、デンカ社製);
DB167は、ポリエステル鎖を有するアミノ基含有ポリウレタン系高分子分散剤(ビックケミー社製、固形分のアミン価25mgKOH/g、固形分52質量%);
SS5000Sは、スルホン酸基を有するフタロシアニン系色素誘導体(ルブリゾール社製);
SS12000Sは、スルホン酸基を有するフタロシアニン系色素誘導体(ルブリゾール社製);
カルド系樹脂は、アルカリ可溶性カルド樹脂『ADEKA ARKLS WR-301』(酸価100mgKOH/g、Mw6,000、固形分44%、ADEKA社製);
アクリル系樹脂1は、アルカリ可溶性アクリル樹脂『フォレット ZAH-110』(酸価100mgKOH/g、Mw1,0000、固形分35%、綜研化学社製);
アクリル系樹脂2は、アルカリ可溶性アクリル樹脂『フォレット ZAH-510』(酸価100mgKOH/g、Mw5,0000、固形分35%、綜研化学社製);
DPHAは、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート;
イルガキュア OXE02は、オキシムエステル系光重合開始剤『IRGACURE OXE02』(BASFジャパン社製);
MF-554は、『メガファック F-554』(含フッ素基・親油性基含有オリゴマー、固形分100%、DIC社製);
PGMEAは、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート;を示す。
In Table 1-4, Raven 1080 is carbon black (average primary particle size 28 nm, pH 2.4, manufactured by Columbia Chemicals);
C301N is aluminum hydroxide (median diameter 1.5 μm, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.);
C302A is aluminum hydroxide (median diameter 2.4 μm, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.);
AKP-053 is aluminum oxide (median diameter 0.17 μm, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.);
BF40 is precipitated barium sulfate “BARIFINE BF-40” (median diameter 0.01 μm, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.);
BTC-4FA is barium titanate (average primary particle size 200 nm, manufactured by Nihon Kagaku Kogyo Co., Ltd.);
IXE-500 is an anion scavenger (bismuth type, median diameter 1.5 μm, manufactured by Toagosei Co., Ltd.);
IXE-100 is a cation scavenger (zirconium-based, median diameter 1 μm, manufactured by Toagosei Co., Ltd.);
SP-2 is boron nitride (Denka boron nitride SP-2, median diameter 4 μm, manufactured by Denka Corporation);
SP-3 is boron nitride (Denka boron nitride SP-3, median diameter 4 μm, manufactured by Denka Corporation);
DB167 is an amino group-containing polyurethane polymer dispersant having a polyester chain (manufactured by Bikkemie, solid content amine value 25 mgKOH/g, solid content 52% by mass);
SS5000S is a phthalocyanine dye derivative having a sulfonic acid group (manufactured by Lubrizol);
SS12000S is a phthalocyanine dye derivative having a sulfonic acid group (manufactured by Lubrizol);
The cardo-based resin is an alkali-soluble cardo resin "ADEKA ARKLS WR-301" (acid value 100 mgKOH/g, Mw 6,000, solid content 44%, manufactured by ADEKA);
Acrylic resin 1 is an alkali-soluble acrylic resin “Follet ZAH-110” (acid value 100 mgKOH/g, Mw 1,0000, solid content 35%, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.);
Acrylic resin 2 is an alkali-soluble acrylic resin “Follet ZAH-510” (acid value 100 mgKOH/g, Mw 5,0000, solid content 35%, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.);
DPHA is dipentaerythritol hexaacrylate;
IRGACURE OXE02 is an oxime ester photopolymerization initiator "IRGACURE OXE02" (manufactured by BASF Japan);
MF-554 is "Megafac F-554" (fluorine-containing group/lipophilic group-containing oligomer, solid content 100%, manufactured by DIC Corporation);
PGMEA stands for propylene glycol monomethyl ether acetate;

表4中、比較例2の評価不可は、現像後に細線が残らないことを示す。また、比較例3の評価不可は、現像液に180秒以上暴露しても溶解が始まらなかったことを示す。また、表3及び4中の「-」は評価をしていないことを示す。 In Table 4, Comparative Example 2 is rated as not rated, indicating that no fine lines remain after development. In addition, the evaluation of Comparative Example 3 as not acceptable indicates that dissolution did not start even after exposure to the developer for 180 seconds or more. Furthermore, "-" in Tables 3 and 4 indicates that no evaluation was performed.

Claims (3)

カーボンブラック、無機化合物、塩基性基含有顔料分散剤、酸性基含有顔料分散助剤、アルカリ可溶性樹脂、及び溶剤を含むブラックマトリックス用顔料分散組成物であって、
前記無機化合物は、水酸化アルミニウム、酸化アルミニウム、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、窒化ホウ素、及びイオン捕捉剤からなる群より選ばれる1種以上であり、
前記アルカリ可溶性樹脂は、アルカリ可溶性カルド樹脂であり、
前記無機化合物は、前記カーボンブラック100質量部に対して、1~10質量部であることを特徴とするブラックマトリックス用顔料分散組成物。
A pigment dispersion composition for a black matrix comprising carbon black, an inorganic compound, a basic group-containing pigment dispersant, an acidic group-containing pigment dispersion aid, an alkali-soluble resin, and a solvent,
The inorganic compound is one or more selected from the group consisting of aluminum hydroxide, aluminum oxide, barium sulfate, barium titanate, boron nitride, and an ion scavenger,
The alkali-soluble resin is an alkali-soluble cardo resin,
A pigment dispersion composition for a black matrix, wherein the inorganic compound is present in an amount of 1 to 10 parts by mass based on 100 parts by mass of the carbon black.
請求項1に記載のブラックマトリックス用顔料分散組成物、光重合性化合物、及び光重合開始剤を含むことを特徴とするブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物。 A pigment-dispersed resist composition for a black matrix, comprising the pigment-dispersed composition for a black matrix according to claim 1, a photopolymerizable compound, and a photopolymerization initiator. 請求項2に記載のブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物から形成されるブラックレジスト膜。 A black resist film formed from the pigment-dispersed resist composition for black matrix according to claim 2.
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