JP2023545338A - フローセル - Google Patents
フローセル Download PDFInfo
- Publication number
- JP2023545338A JP2023545338A JP2022580786A JP2022580786A JP2023545338A JP 2023545338 A JP2023545338 A JP 2023545338A JP 2022580786 A JP2022580786 A JP 2022580786A JP 2022580786 A JP2022580786 A JP 2022580786A JP 2023545338 A JP2023545338 A JP 2023545338A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- copolymer
- formula
- group
- alkyl
- optionally substituted
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 266
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 98
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 94
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 94
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 80
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 77
- 125000005262 alkoxyamine group Chemical group 0.000 claims abstract description 74
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 62
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 46
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 39
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 37
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 34
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 23
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 22
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 21
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 111
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 81
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 claims description 62
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 61
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical class ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 59
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 48
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 47
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 47
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 claims description 45
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 42
- -1 alkoxyamine anion Chemical class 0.000 claims description 35
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 23
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 claims description 22
- PXIPVTKHYLBLMZ-UHFFFAOYSA-N Sodium azide Chemical compound [Na+].[N-]=[N+]=[N-] PXIPVTKHYLBLMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 19
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 19
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical group CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 claims description 16
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 16
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 14
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 238000010791 quenching Methods 0.000 claims description 11
- 238000012705 nitroxide-mediated radical polymerization Methods 0.000 claims description 9
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 claims description 7
- 125000003518 norbornenyl group Chemical group C12(C=CC(CC1)C2)* 0.000 claims description 6
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 5
- 230000001404 mediated effect Effects 0.000 claims description 4
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims description 4
- 229920006301 statistical copolymer Polymers 0.000 claims description 4
- 229920005605 branched copolymer Polymers 0.000 claims description 3
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 claims description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N azide group Chemical group [N-]=[N+]=[N-] IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 17
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 51
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- 238000012163 sequencing technique Methods 0.000 description 25
- 239000000047 product Substances 0.000 description 22
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 16
- 125000003729 nucleotide group Chemical group 0.000 description 15
- 239000002773 nucleotide Substances 0.000 description 14
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 13
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 13
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 11
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 10
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 10
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 10
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 9
- 150000007523 nucleic acids Chemical class 0.000 description 9
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 9
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 8
- 108091033319 polynucleotide Proteins 0.000 description 8
- 102000040430 polynucleotide Human genes 0.000 description 8
- 239000002157 polynucleotide Substances 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 7
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 7
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000005580 one pot reaction Methods 0.000 description 7
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 7
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 108020004414 DNA Proteins 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 6
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 6
- 102000039446 nucleic acids Human genes 0.000 description 6
- 108020004707 nucleic acids Proteins 0.000 description 6
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 6
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 6
- KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 7H-purine Chemical compound N1=CNC2=NC=NC2=C1 KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 5
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 5
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 5
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 5
- 238000002444 silanisation Methods 0.000 description 5
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 5
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 4
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 4
- 125000000852 azido group Chemical group *N=[N+]=[N-] 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 4
- 239000000017 hydrogel Substances 0.000 description 4
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 4
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 4
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 108020004635 Complementary DNA Proteins 0.000 description 3
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000001345 alkine derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 238000010804 cDNA synthesis Methods 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 239000002299 complementary DNA Substances 0.000 description 3
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 3
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- VSTXCZGEEVFJES-UHFFFAOYSA-N 1-cycloundecyl-1,5-diazacycloundec-5-ene Chemical compound C1CCCCCC(CCCC1)N1CCCCCC=NCCC1 VSTXCZGEEVFJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ASJSAQIRZKANQN-CRCLSJGQSA-N 2-deoxy-D-ribose Chemical group OC[C@@H](O)[C@@H](O)CC=O ASJSAQIRZKANQN-CRCLSJGQSA-N 0.000 description 2
- DVLFYONBTKHTER-UHFFFAOYSA-N 3-(N-morpholino)propanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CCCN1CCOCC1 DVLFYONBTKHTER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 2
- 102000053602 DNA Human genes 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 108091028043 Nucleic acid sequence Proteins 0.000 description 2
- 108091093037 Peptide nucleic acid Proteins 0.000 description 2
- PYMYPHUHKUWMLA-LMVFSUKVSA-N Ribose Natural products OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)C=O PYMYPHUHKUWMLA-LMVFSUKVSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 108020004682 Single-Stranded DNA Proteins 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISAKRJDGNUQOIC-UHFFFAOYSA-N Uracil Chemical compound O=C1C=CNC(=O)N1 ISAKRJDGNUQOIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- HMFHBZSHGGEWLO-UHFFFAOYSA-N alpha-D-Furanose-Ribose Natural products OCC1OC(O)C(O)C1O HMFHBZSHGGEWLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002837 carbocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical compound C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OPTASPLRGRRNAP-UHFFFAOYSA-N cytosine Chemical compound NC=1C=CNC(=O)N=1 OPTASPLRGRRNAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010537 deprotonation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- UYTPUPDQBNUYGX-UHFFFAOYSA-N guanine Chemical compound O=C1NC(N)=NC2=C1N=CN2 UYTPUPDQBNUYGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000000813 microcontact printing Methods 0.000 description 2
- 238000001127 nanoimprint lithography Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000006574 non-aromatic ring group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000003880 polar aprotic solvent Substances 0.000 description 2
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 230000000284 resting effect Effects 0.000 description 2
- 125000000548 ribosyl group Chemical group C1([C@H](O)[C@H](O)[C@H](O1)CO)* 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- RWQNBRDOKXIBIV-UHFFFAOYSA-N thymine Chemical compound CC1=CNC(=O)NC1=O RWQNBRDOKXIBIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical compound OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZTKDVCDBIDYMD-UHFFFAOYSA-N 2,2'-[(2-amino-2-oxoethyl)imino]diacetic acid Chemical compound NC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O QZTKDVCDBIDYMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLCVNBXWMQMKGJ-UHFFFAOYSA-N 2-(5-bicyclo[2.2.1]hept-2-enyl)ethyl-trimethoxysilane Chemical group C1C2C(CC[Si](OC)(OC)OC)CC1C=C2 WLCVNBXWMQMKGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl Chemical group [CH2]CCO QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFXXTYGQYWRHJP-UHFFFAOYSA-N 4,4'-azobis(4-cyanopentanoic acid) Chemical compound OC(=O)CCC(C)(C#N)N=NC(C)(CCC(O)=O)C#N VFXXTYGQYWRHJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKDZGLLODKWTEN-UHFFFAOYSA-N 7-[(2-azidoacetyl)amino]-2-methylideneheptanamide Chemical compound N(=[N+]=[N-])CC(=O)NCCCCCC(C(=O)N)=C OKDZGLLODKWTEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007988 ADA buffer Substances 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229930024421 Adenine Natural products 0.000 description 1
- GFFGJBXGBJISGV-UHFFFAOYSA-N Adenine Chemical compound NC1=NC=NC2=C1N=CN2 GFFGJBXGBJISGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000006820 DNA synthesis Effects 0.000 description 1
- 102000016928 DNA-directed DNA polymerase Human genes 0.000 description 1
- 108010014303 DNA-directed DNA polymerase Proteins 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007993 MOPS buffer Substances 0.000 description 1
- JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N N,N-Diisopropylethylamine (DIPEA) Chemical compound CCN(C(C)C)C(C)C JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000013614 RNA sample Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYTDEUPAUMOIOP-UHFFFAOYSA-N TEMPO Chemical group CC1(C)CCCC(C)(C)N1[O] QYTDEUPAUMOIOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- DPOPAJRDYZGTIR-UHFFFAOYSA-N Tetrazine Chemical compound C1=CN=NN=N1 DPOPAJRDYZGTIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 238000005411 Van der Waals force Methods 0.000 description 1
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229920006397 acrylic thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229960000643 adenine Drugs 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002178 anthracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003828 azulenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- ZPWOOKQUDFIEIX-UHFFFAOYSA-N cyclooctyne Chemical group C1CCCC#CCC1 ZPWOOKQUDFIEIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 229940104302 cytosine Drugs 0.000 description 1
- 238000004925 denaturation Methods 0.000 description 1
- 230000036425 denaturation Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000005595 deprotonation Effects 0.000 description 1
- CKJMHSMEPSUICM-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl nitroxide Chemical class CC(C)(C)N([O])C(C)(C)C CKJMHSMEPSUICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000000203 droplet dispensing Methods 0.000 description 1
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 238000003205 genotyping method Methods 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N hafnium(iv) oxide Chemical compound O=[Hf]=O CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 150000002443 hydroxylamines Chemical class 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N methyl-cyclopentane Natural products CC1CCCC1 GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- QNILTEGFHQSKFF-UHFFFAOYSA-N n-propan-2-ylprop-2-enamide Chemical compound CC(C)NC(=O)C=C QNILTEGFHQSKFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGHCMXLEZFMZOZ-UHFFFAOYSA-N n-tert-butyl-n-$l^{1}-oxidanyl-2-methyl-1-phenylpropan-1-amine Chemical compound CC(C)(C)N([O])C(C(C)C)C1=CC=CC=C1 VGHCMXLEZFMZOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003203 nucleic acid sequencing method Methods 0.000 description 1
- 239000012038 nucleophile Substances 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 125000002255 pentenyl group Chemical group C(=CCCC)* 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001748 polybutylene Polymers 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000008707 rearrangement Effects 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003003 spiro group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 125000004213 tert-butoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(O*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- 229940113082 thymine Drugs 0.000 description 1
- 229940035893 uracil Drugs 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D133/24—Homopolymers or copolymers of amides or imides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/52—Amides or imides
- C08F220/54—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/52—Amides or imides
- C08F220/54—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide
- C08F220/60—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide containing nitrogen in addition to the carbonamido nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/52—Amides or imides
- C08F220/54—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide
- C08F220/60—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide containing nitrogen in addition to the carbonamido nitrogen
- C08F220/603—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide containing nitrogen in addition to the carbonamido nitrogen and containing oxygen in addition to the carbonamido oxygen and nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F8/00—Chemical modification by after-treatment
- C08F8/30—Introducing nitrogen atoms or nitrogen-containing groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
- C12Q—MEASURING OR TESTING PROCESSES INVOLVING ENZYMES, NUCLEIC ACIDS OR MICROORGANISMS; COMPOSITIONS OR TEST PAPERS THEREFOR; PROCESSES OF PREPARING SUCH COMPOSITIONS; CONDITION-RESPONSIVE CONTROL IN MICROBIOLOGICAL OR ENZYMOLOGICAL PROCESSES
- C12Q1/00—Measuring or testing processes involving enzymes, nucleic acids or microorganisms; Compositions therefor; Processes of preparing such compositions
- C12Q1/68—Measuring or testing processes involving enzymes, nucleic acids or microorganisms; Compositions therefor; Processes of preparing such compositions involving nucleic acids
- C12Q1/6813—Hybridisation assays
- C12Q1/6834—Enzymatic or biochemical coupling of nucleic acids to a solid phase
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Proteomics, Peptides & Aminoacids (AREA)
- Zoology (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Microbiology (AREA)
- Bioinformatics & Cheminformatics (AREA)
- Immunology (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Biophysics (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Biotechnology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Genetics & Genomics (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Apparatus Associated With Microorganisms And Enzymes (AREA)
- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
- Medicines That Contain Protein Lipid Enzymes And Other Medicines (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
フローセルは、基材及びコポリマーコーティングを含む。コポリマーコーティングは、コポリマー鎖を含み、各々が、式(I):【化1】TIFF2023545338000047.tif51128及び式(II):【化2】TIFF2023545338000048.tif30128の繰り返し単位を有する。式(I)において、R1は、-H、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、複素環、又は任意選択で置換されたその変異体からなる群から選択され、R2は、アジドであり、各(CH2)pは、任意選択で置換され得、pは、1~50の整数である。式(II)において、R3、R3’、R4、R4’の各々は、-H、R5、-OR5、-C(O)OR5、-C(O)R5、-OC(O)R5、-C(O)NR6R7、又は-NR6R7であり、R5は、-H、-OH、アルキル、シクロアルキル、ヒドロキシアルキル、アリール、ヘテロアリール、複素環、又は任意選択で置換されたその変異体であり、R6及びR7の各々は、-H又はアルキルである。いくつかのコポリマー鎖は、少なくとも1つのアルコキシアミン末端基を含む。
Description
(関連出願の相互参照)
本出願は、2020年10月20日に出願された米国仮特許出願第63/094,147号の利益を主張するものであり、その内容全体が参照により本明細書に組み込まれる。
本出願は、2020年10月20日に出願された米国仮特許出願第63/094,147号の利益を主張するものであり、その内容全体が参照により本明細書に組み込まれる。
ポリマー又はヒドロゲルでコーティングされた基材は、多くの技術用途で使用されている。一例では、埋め込み可能な医療用デバイスを、生物学的に不活性なポリマーでコーティングすることができる。別の例では、創傷ドレッシング材を、薄いヒドロゲル層でコーティングしてもよい。更に別の例では、ポリマー又はヒドロゲルでコーティングされた基材を、生体分子の調製及び/又は分析に使用することができる。特定の核酸シーケンシング方法などのいくつかの分子分析は、核酸ストランドをフローセルにおける基材のポリマー又はヒドロゲルでコーティングされた表面への付着を含む。
本明細書に開示される例示的なフローセルは、少なくとも1つのアルコキシアミン末端基を含むコポリマーコーティングを含む。本明細書に開示される別の例示的なフローセルは、アルコキシアミン基を有する少なくとも1つの側鎖を含むコポリマーコーティングを含む。アルコキシアミン基は、追加の付着部位をフローセル表面に含むコポリマーコーティングを提供する。
導入
本明細書に開示される第1の態様は、基材と、基材の少なくとも一部分に付着したコポリマーコーティングであって、コポリマーコーティングが、複数のコポリマー鎖を含み、各コポリマー鎖が、式(I):
本明細書に開示される第1の態様は、基材と、基材の少なくとも一部分に付着したコポリマーコーティングであって、コポリマーコーティングが、複数のコポリマー鎖を含み、各コポリマー鎖が、式(I):
R1が、-H、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、複素環、及び任意選択で置換されたそれらの変異体からなる群から選択され、R2が、アジドであり、各(CH2)pが、任意選択で置換され得、pが、1~50の整数である、第1の繰り返し単位と、式(II):
第1の態様のある例では、基材が、塩基担体と、塩基担体に付着した複数のノルボルネンシラン分子と、を含む。いくつかの例では、複数のノルボルネンシラン分子のうちの少なくとも1つが、少なくとも1つのアルコキシアミン末端基を介してそれぞれのコポリマー鎖に付着する。
第1の態様のある例では、コポリマー鎖のうちのいくつかのR2が、テトラメチルエチレンジアミンで置き換えられる。いくつかの例では、コポリマーコーティングが、いくつかの分岐コポリマー鎖を含む。
第1の態様のある例では、R3’、R4、及びR4’の各々が、-Hであり、R3が、-C(O)NR6R7であり、R6及びR7の各々が、-Hである。いくつかの例では、R1が、-Hであり、pが、5である。
第1の態様のある例では、基材が、間隙領域によって分離された凹部を含み、コポリマーコーティングが、凹部内に付着している。
第1の態様のある例では、コポリマーコーティングが、基材の表面上に、単離されたパッドを形成し、間隙領域が、単離されたパッドを分離する。
第1の態様のある例では、第1の繰り返し単位及び第2の繰り返し単位が、ランダムコポリマーを形成するか、又は第1の繰り返し単位及び第2の繰り返し単位が、統計コポリマーを形成するか、又は第1の繰り返し単位及び第2の繰り返し単位が、ブロックコポリマーを形成する。
本明細書で開示されるフローセルの任意の特徴を、任意の望ましい様式及び/又は構成で一緒に組み合わせて、例えば、コポリマーコーティングの、フローセル基材への付着の向上を含む、本開示に記載される利点を達成し得ることを理解すべきである。
本明細書に開示される第2の態様は、式(III):
第2の態様のある例では、R2’が、アジドであり、方法が、コポリマーコーティングを硬化させることを更に含み、それによって、アジドのうちのいくつかが、表面結合ノルボルネンシラン分子のうちの他のいくつかと反応する。
第2の態様のある例では、R2’が、アジドであり、共重合することの前に、方法が、式(V):
第2の態様のある例では、R2’が、ハロゲンであり、生成物混合物の堆積の前に、方法が、NaN3を生成物混合物に導入することと、生成物混合物を加熱して、ハロゲンをアジドと置き換えることと、を更に含む。
第2の態様のある例は、テトラメチルエチレンジアミンを反応混合物に添加することを更に含み、コポリマー鎖のうちの少なくともいくつかが、分岐している。
この方法の任意の特徴は、任意の望ましい様式で一緒に組み合わせ得ることを理解すべきである。更に、この方法及び/又はフローセルの特徴の任意の組み合わせを、一緒に使用して、かつ/又は本明細書で開示される例のいずれかと組み合わせて、例えば、室温でのコポリマーコーティングの基材への付着を含む、本開示で記載される利点を達成し得ることを理解すべきである。
本明細書に開示される第3の態様は、i)ニトロキシド媒介重合単分子開始剤、又はii)水溶性開始剤とニトロキシドとの組み合わせを、式(III):
第3の態様のある例では、R2が、アジドであり、方法が、基板上のコポリマーコーティングを硬化させることを更に含み、それによって、アジドのうちのいくつかが、表面結合ノルボルネンシラン分子のうちの他のいくつかと反応する。
第3の態様のある例では、R2’が、アジドであり、共重合することの前に、方法が、式(V):
第3の態様のある例では、R2’ハロゲンであり、共重合後、方法が、NaN3をコポリマーコーティングに導入することと、コポリマーコーティングを加熱して、ハロゲンをアジドと置き換えることと、を更に含む。
第3の態様のある例は、方法が、基材上のコポリマーコーティングを硬化させることを更に含み、それによって、アジドのうちのいくつかが、表面結合ノルボルネンシラン分子のうちの他のいくつかと反応する。
第3の態様のある例は、共重合中に、テトラメチルエチレンジアミンを混合物に添加することを更に含み、コポリマー鎖のうちの少なくともいくつかが、分岐している。
この方法の任意の特徴は、任意の望ましい様式で一緒に組み合わせ得ることを理解すべきである。更に、この方法及び/又は他の方法及び/又はフローセルの特徴の任意の組み合わせを、一緒に使用して、かつ/又は本明細書で開示される例のいずれかと組み合わせて、例えば、室温でのコポリマーコーティングの基材への付着を含む、本開示で記載される利点を達成し得ることを理解すべきである。
本明細書に開示される第4の態様は、式(III):
この方法の任意の特徴は、任意の望ましい様式で一緒に組み合わせ得ることを理解すべきである。更に、この方法及び/又は他の方法及び/又はフローセルの特徴の任意の組み合わせを、一緒に使用して、かつ/又は本明細書で開示される例のいずれかと組み合わせて、例えば、室温でのコポリマーコーティングの基材への付着を含む、本開示で記載される利点を達成し得ることを理解すべきである。
本明細書に開示される第5の態様は、フローセルであり、基材と、基材の少なくとも一部分に付着したコポリマーコーティングであって、コポリマーコーティングが、複数のコポリマー鎖を含み、各コポリマー鎖が、式(I):
R1が、-H、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、複素環、及び任意選択で置換されたそれらの変異体からなる群から選択され、R2が、アジドであり、各(CH2)pが、任意選択で置換され得、pが、1~50の整数である、第1の繰り返し単位と、式(II):
第5の態様のある例では、コポリマー鎖のうちの少なくともいくつかが、少なくとも1つのアルコキシアミン末端基を含む。
このフローセルの任意の特徴を、任意の望ましい様式で一緒に組み合わせ得ることを理解すべきである。更に、このフローセル及び/又は他の方法及び/又は他のフローセルの特徴の任意の組み合わせを、一緒に使用して、かつ/又は本明細書で開示される例のいずれかと組み合わせて、例えば、コポリマーコーティングのフローセル基材への付着の向上を含む、本開示で記載される利点を達成し得ることを理解すべきである。
本明細書に開示される第6の態様は、i)ニトロキシド媒介重合単分子開始剤、又はii)水溶性開始剤とニトロキシドとの組み合わせを、式(V):
第6の態様のある例では、ハロゲンのうちのいくつかをアルコキシアミンに、かつハロゲンのうちの他のいくつかをアジドに変換することが、ハロゲンが、ヒドロキシルアミンを超えるように、ヒドロキシルアミンをコポリマーに導入することと、コポリマーを加熱して、ヒドロキシルアミンがハロゲンのうちのいくつかを変位させる反応を開始することと、NaN3をコポリマーに導入することと、コポリマーを加熱して、アジドがハロゲンのうちの他のいくつかを変位させる反応を開始することと、を含む。
第6の態様のある例では、ハロゲンのうちのいくつかをヒドロキシアミンに、かつハロゲンのうちの他のいくつかをアジドに変換することが、ヒドロキシルアミンとNaN3との混合物をコポリマーに導入することと、コポリマーを加熱して、ヒドロキシルアミンがロゲンのうちのいくつかを変位させ、アジドがハロゲンのうちの他のいくつかを変位させる反応を開始することと、を含む。
第6の態様のある例では、ハロゲンのうちのいくつかをヒドロキシアミンに、かつハロゲンのうちの他のいくつかをアジドに変換することが、ヒドロキシルアミンを脱プロトン化して、アルコキシアミンアニオンを形成することと、ハロゲンがアルコキシアミンアニオンを超えるように、アルコキシアミンアニオンをコポリマーに導入することと、コポリマーを加熱して、アルコキシアミンアニオンがハロゲンのうちのいくつかを変位させる反応を開始することと、NaN3をコポリマーに導入することと、コポリマーを加熱して、アジドがハロゲンのうちの他のいくつかを変位させる反応を開始することと、を含む。
この方法の任意の特徴は、任意の望ましい様式で一緒に組み合わせ得ることを理解すべきである。更に、この方法及び/又は他の方法及び/又は他のフローセルの特徴の任意の組み合わせを、一緒に使用して、かつ/又は本明細書で開示される例のいずれかと組み合わせて、例えば、コポリマーコーティングのフローセル基材への付着の向上を含む、本開示で記載される利点を達成し得ることを理解すべきである。
本開示の例の特徴は、以下の詳細な説明及び図面を参照することにより明らかになろう。図面において、同様の参照番号は、類似なものではあるが、おそらく同一ではない構成要素に対応している。簡潔にするために、前述の機能を有する参照番号又は特徴は、それらが現れる他の図面と関連させて記載してもよく、記載しなくてもよい。
本明細書に開示されるコポリマーの一例の化学構造の概略図である。
本明細書に開示されるコポリマーの別の例の化学構造の概略図である。
本明細書に開示されるコポリマーの別の例の化学構造の概略図である。
本明細書に開示されるコポリマーの一例を形成するための化学反応の一例の概略図である。
本明細書に開示されるコポリマーの一例を形成するための化学反応の別の例の概略図である。
本明細書に開示されるコポリマーの別の例を形成するための追加の化学反応の概略図である。
シラン化された表面を有するフローセル表面の凹部、及びシラン化された表面に付着したコポリマーコーティングのある例の概略図である。
Aは、フローセルの上面図であり、B~Dは、フローセルのフローチャネル内の異なる例示的な構造の、拡大され、部分的に切り取られた図である。
コポリマーコーティングが本明細書に開示される。コポリマーコーティングは、コポリマー鎖を含み、それらの各々は、アジド基を有する繰り返しアクリルアミドモノマーを含む。アジド基は、プライマーを付着させることができ、したがって、コポリマーコーティングは、フローセル中に反応性表面を形成するのに好適であり得る。
コポリマー鎖のいくつかの例の調製中に、ニトロキシド媒介重合単分子開始剤(NMP単分子開始剤)を重合開始剤及びメディエーターとして、場合によっては重合クエンチャーとして使用する。NMP単分子開始剤は、2つのフリーラジカルに熱分離し、そのうちの一方は、フリーラジカル重合の開始剤として作用する炭素中心ラジカルであり、したがって別個のフリーラジカル開始剤を使用することができない。他方のフリーラジカルは、ニトロキシドであり、安定したフリーラジカルであり、重合を可逆的に終結することによって重合を制御する。したがって、コポリマー鎖のうちの少なくともいくつかは、アルコキシアミン末端基を有する。コポリマー鎖において、「アルコキシアミン末端基」という用語は、休止種-ONR1R2を指し、式中、R1及びR2の各々は、同じであっても異なっていてもよく、独立して、直鎖若しくは分岐鎖アルキル、又は環構造であってもよく、酸素原子は、コポリマー鎖の残りの部分に付着している。アルコキシアミン末端基は、本明細書に記載されるように熱活性化されて、2つのフリーラジカルを生成し得る。NMP単分子開始剤がモノマーを超えて使用される場合、重合反応をクエンチすることができ、コポリマー鎖の、全部ではないが、ほとんどはアルコキシアミン末端基を有する。
コポリマー鎖のいくつかの他の例の調製中に、水溶性開始剤及びニトロキシドが、それぞれ重合開始剤及びメディエーターとして使用される。水溶性開始剤は、フリーラジカル重合を開始し、ニトロキシドは、重合を可逆的に終結することによって重合を制御する。したがって、コポリマー鎖のうちの少なくともいくつかは、アルコキシアミン末端基を有する。
コポリマー鎖の更なるいくつかの他の例の調製中に、アルコキシアミンは、アジド基の代わりに、繰り返しアクリルアミドモノマーのいくつかに導入される。これは、ポリマー骨格に沿って側鎖にアルコキシアミンを導入し、これにより、フローセル基材により多くの付着部位が得られ、コポリマーの安定性が改善され得る。
本発明者らは、本明細書に開示されるコポリマーの末端基及び/又は側鎖におけるアルコキシアミンが、例えば、少なくとも6ヶ月間、コポリマーが保存された後でも無傷かつ活性があることを予想外に見出した。更に、本発明者らは、側鎖中のアルコキシアミン末端基又はアルコキシアミンが、シラン化された担体、特にノルボルネンシラン分子に付着機構を提供することを見出した。この付着機構は、アジド-ノルボルネン付着と同時に行われ得る。アルコキシアミンを通る追加の付着機構は、プライマー付着のためのいくつかのアジド基を含まなくてもよく、これにより、表面に、より多くのプライマーがもたらされ、したがってシーケンシングメトリックが改善され得る。アルコキシアミン-ノルボルネン付着の増加はまた、コポリマーの安定性を高め得る。
定義
本明細書に使用される用語は、別段の指定がない限り、関連する技術分野における通常の意味をとるものと理解されたい。本明細書で使用されるいくつかの用語及びそれらの意味は、以下に記載される。
本明細書に使用される用語は、別段の指定がない限り、関連する技術分野における通常の意味をとるものと理解されたい。本明細書で使用されるいくつかの用語及びそれらの意味は、以下に記載される。
単数形「1つの(a)」、「1つの(an)」、及び「その(the)」は、文脈上明確に別段の指示がない限り、複数の指示対象を含む。
含む(comprising)、含む(including)、含有する(containing)という用語、及びこれらの用語の様々な形態は、互いに同義であり、等しく広義であることを意味する。
フローセル及び/又はフローセルの様々な構成要素を説明するために、本明細書では、上(top)、下(bottom)、下方(lower)、上方(upper)、上(on)などの用語が使用される。これらの方向を示す用語は、特定の配向を示すことを意味するものではなく、構成要素間の相対的な配向を指定するために使用されることを理解されたい。方向を示す用語の使用は、本明細書に開示される例を任意の特定の配向に制限すると解釈されるものではない。
本明細書で提供される任意の数値範囲は、特に明記しない限り、末端の数を含む。
「アクリルアミド」は、構造
本明細書に使用されるとき、「アルキル」は、完全に飽和している(すなわち、二重結合又は三重結合を含有しない)直鎖又は分岐鎖炭化水素鎖を指す。アルキル基は、1~20個の炭素原子を有し得る。例示的なアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、三級ブチル、ペンチル、ヘキシルなどが挙げられる。例として、表記「C1~C6アルキル」は、アルキル鎖に1~6個の炭素原子が存在すること、すなわち、アルキル鎖が、メチル、エチル、プロピル、イソ-プロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、t-ブチル、ペンチル、及びヘキシルからなる群から選択されることを示す。任意のアルキルは、置換されていてもよく、又は非置換であってもよい。
本明細書に使用されるとき、「アルケニル」は、1つ以上の二重結合を含有する直鎖又は分岐鎖炭化水素鎖を指す。アルケニル基は、2~20個の炭素原子を有する。例示的なアルケニル基としては、エテニル、プロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニルなどが挙げられる。任意のアルケニルは、置換されていてもよく、又は非置換であってもよい。
「アルコキシ」基は、式-ORを指し、式中、Rは、本明細書で定義されるようなアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、又はシクロアルキニルである。いくつかの例示的なアルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、1-メチルエトキシ(イソプロポキシ)、n-ブトキシ、イソ-ブトキシ、sec-ブトキシ、及びtert-ブトキシが挙げられる。任意のアルコキシは、置換されていてもよく、又は非置換であってもよい。
上述のように、「アルコキシアミン」及び「アルコキシアミン末端基」という用語は、休止種-ONR1R2を指し、式中、R1及びR2の各々は、同じであっても異なっていてもよく、独立して、直鎖若しくは分岐鎖アルキル、又は環構造などの炭素系基であってもよい。酸素原子は、側鎖中のコポリマー鎖の残り又は末端基に付着している。コポリマー鎖中のアルコキシアミン末端基は、分離して、非結合フリーラジカルを形成することができ、コポリマーが、更なる反応を受けることを可能にする。非結合フリーラジカルは、構造:
本明細書に使用されるとき、「アルキン」又は「アルキニル」は、1つ以上の三重結合を含有する直鎖又は分岐鎖炭化水素鎖を指す。アルキニル基は、2~20個の炭素原子を有し得る。任意のアルキルは、置換されていてもよく、又は非置換であってもよい。
「アリール」という用語は、環骨格中に炭素のみを含有する芳香族環又は環系(すなわち、2つの隣接する炭素原子を共有する2つ以上の縮合環)を指す。アリールが環系である場合、系内の全ての環は芳香族である。アリール基は、6~18個の炭素原子を有し得る。アリール基の例としては、フェニル、ナフチル、アズレニル、及びアントラセニルが挙げられる。任意のアリールは、環骨格中に、少なくとも1つのヘテロ原子、すなわち、炭素以外の元素(例えば、窒素、酸素、硫黄など)を有するヘテロアリールであってもよい。任意のアリール基は、置換されていてもよく、又は非置換であってもよい。
本明細書に使用されるとき、「付着した(attached)」という用語は、2つのものが、直接的又は間接的のいずれかで、互いに、接合、締結、接着、接続、又は結合されている状態を指す。いくつかの付着は、共有結合又は非共有結合によるものであり得る。共有結合は、原子間の電子対の共有によって特徴付けられる。非共有結合は、電子対の共有を伴わない物理結合であり、例えば、水素結合、イオン結合、ファンデルワールス力、親水性相互作用、及び疎水性相互作用を挙げることができる。
「アジド(azide)」又は「アジド(azido)」官能基は、-N3を指す。
「ブロックコポリマー」は、2つ以上のモノマーが一緒にクラスター化し、繰り返し単位のブロックを形成する場合に形成されるコポリマーである。それぞれのブロックは、隣接するブロックには存在しない少なくとも1つの特徴を有するべきである。ブロックコポリマーの具体的な例は、以下に更に説明される。
本明細書に使用されるとき、「シクロアルキル」は、完全に飽和した(二重又は三重結合がない)単環式又は多環式炭化水素環系を指す。2つ以上の環から構成される場合、環は、縮合方式で一緒に接合され得る。シクロアルキル基は、環内に3~10個の原子を含有し得る。いくつかの例では、シクロアルキル基は、環内に3~8個の原子を含有し得る。シクロアルキル基は、非置換であってもよく、又は置換されていてもよい。例示的なシクロアルキル基としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、及びシクロオクチルが挙げられる。
本明細書に使用されるとき、「シクロアルケニル」又は「シクロアルケン」は、少なくとも1つの二重結合を有する炭素環式環又は環系を意味し、環系内の環は、いずれも芳香族ではない。例としては、シクロヘキセニル又はシクロヘキセン及びノルボルネニル又はノルボルネンが挙げられる。
本明細書に使用されるとき、「シクロアルキニル」又は「シクロアルキン」は、少なくとも1つの三重結合を有する炭素環式環又は環系を意味し、環系内の環は、いずれも芳香族ではない。例は、シクロオクチンである。別の例は、ビクロノニンである。
本明細書に使用するとき、「堆積」という用語は、手作業であっても自動であってもよく、いくつかの場合では表面特性の改質をもたらす、任意の好適な適用技術を指す。一般に、堆積は、蒸着技術、コーティング技術、グラフト技術などを使用して実行され得る。いくつかの特定の例としては、化学蒸着(chemical vapor deposition、CVD)、スプレーコーティング(例えば、超音波スプレーコーティング)、スピンコーティング、ダンク又はディップコーティング、ドクターブレードコーティング、液滴分配(puddle dispensing)、フロースルーコーティング、エアロゾル印刷、スクリーン印刷、マイクロコンタクト印刷、インクジェット印刷などが挙げられる。
本明細書に使用されるとき、「凹部」という用語は、塩基担体又は多層スタックの層の間隙領域によって少なくとも部分的に包囲される表面開口部を有する、塩基担体又は多層スタックの層における不連続の凹状の特徴を指す。凹部は、表面の開口部において、例として、円形、楕円形、正方形、多角形、星形(任意の数の頂点を持つ)などの、様々な形状をとることができる。表面と直交するように取られた凹部の断面は、湾曲形状、正方形、多角形、双曲線、円錐、角のある形状などであることができる。例として、凹部は、ウェル又は2つの相互接続されたウェルであり得る。凹部はまた、尾根、階段状の作りなど、より複雑な構造を有し得る。
「それぞれ」という用語は、項目の集合を参照して使用されるとき、集合内の個々の項目を識別することを意図しているが、必ずしも集合内の全ての項目を指すものではない。明示的な開示又は文脈がそうでないことを明確に指示する場合、例外が生じ得る。
本明細書で使用される場合、「フローセル」という用語は、反応を行うことができるフローチャネル、試薬をフローチャネルに送達するための入口、及びフローチャネルから試薬を除去するための出口を有する容器を意味することを意図する。いくつかの例では、フローセルは、フローセル内で起こる反応の検出に対応する。例えば、フローセルは、アレイ、光学的標識分子などの光学的検出を可能にする1つ以上の透明な表面を含み得る。
本明細書に使用されるとき、「フローチャネル」又は「チャネル」は、液体サンプルを選択的に受容することができる、2つの結合された構成要素間に画定される領域であり得る。いくつかの例では、フローチャネルは、パターン化されているか、又はパターン化されていない基材と蓋との間に画定され得る。他の例では、フローチャネルは、一緒に結合されている2つのパターン化されているか、又はパターン化されていない基材の間に画定され得る。フローチャネルは、パターン化されているか、又はパターン化されていない基材の表面化学物質と流体連通している。
「ハロゲン」又は「ハロ」は、臭素、塩化物、フッ素、及びヨウ素などの元素周期表の7列の放射性安定原子のうちのいずれか1つを指す。
本明細書で使用するとき、「複素環」は、環骨格中に少なくとも1つのヘテロ原子を含有する非芳香族環又は環系を意味する。複素環どうしは、縮合、架橋、又はスピロ結合式に、一体に接合されてもよい。複素環は、環系中の少なくとも1つの環が芳香族ではないことを条件として、任意の飽和度を有してもよい。環系の中で、ヘテロ原子は、非芳香族環又は芳香族環のいずれかに存在してよい。複素環は、3~20環員(すなわち、炭素原子及びヘテロ原子を含む、環骨格を形成する原子の数)を有し得る。いくつかの例では、ヘテロ原子は、O、N、又はSである。
本明細書に使用されるとき、「ヒドロキシ」又は「ヒドロキシル」は、-OH基を指す。
本明細書で使用される場合、「間隙領域」という用語は、凹部又はパッドを分離する、例えば、基材、パターン化された樹脂、又は他の担体の領域を指す。例えば、間隙領域は、アレイの1つの凹部を、アレイの別の凹部から分離することができる。互いに分離された2つの凹部又はパッドは、不連続であってもよい、すなわち、互いに物理的接触が欠如していてもよい。多くの例では、間隙領域は、連続的であるが、凹部又はパッドは、例えば、それ以外が連続的である表面に画定される複数の凹部又はパッドの場合のように、不連続である。他の例では、間隙領域及び特徴部は、例えば、それぞれの間隙領域によって分離される複数の細長い凹部(例えば、トレンチ)の場合のように、不連続である。間隙領域によって提供される分離は、部分的又は完全な分離であり得る。間隙領域は、表面に画定される凹部の表面材料とは異なる表面材料を有してもよい。
本明細書に使用されるとき、「ヒドロキシアルキル」は、水素原子のうちの1つ以上が、ヒドロキシ基で置き換えられているアルキル基を指す。例示的なヒドロキシアルキル基には、2-ヒドロキシエチル、3-ヒドロキシプロピル、2-ヒドロキシプロピル、及び 2,2-ジヒドロキシエチルが含まれる。任意のヒドロキシアルキルは、置換されていてもよく、又は非置換であってもよい。
「ヒドロキシルアミン」という用語は、HONR1R2を指し、式中、R1及びR2の各々は、同じであっても異なっていてもよく、独立して、直鎖又は分岐鎖アルキル、又は環構造であってもよく、酸素原子は、コポリマー鎖の残りの部分に付着している。
本明細書に使用されるとき、「ヌクレオチド」は、窒素含有複素環式塩基、糖、及び1つ以上のリン酸基を含む。ヌクレオチドは、核酸配列のモノマー単位である。RNAでは、糖はリボースであり、DNAでは、糖は、デオキシリボース、すなわち、リボースの2’位に存在するヒドロキシル基が欠如している糖である。窒素含有複素環式塩基(すなわち、核酸塩基)は、プリン塩基であってもピリミジン塩基であってもよい。プリン塩基としては、アデニン(A)及びグアニン(G)、並びにそれらの修飾された誘導体又は類似体が挙げられる。ピリミジン塩基としては、シトシン(C)、チミン(T)、及びウラシル(U)、並びにそれらの修飾された誘導体又は類似体が挙げられる。デオキシリボースのC-1原子は、ピリミジンのN-1又はプリンのN-9に結合される。核酸類似体は、リン酸骨格、糖、又は核酸塩基のいずれかが変化していてもよい。核酸類似体の例としては、例えば、ペプチド核酸(peptide nucleic acid、PNA)などのユニバーサル塩基又はリン酸-糖骨格類似体が挙げられる。
本明細書に使用されるとき、「プライマー」は、一本鎖核酸配列(例えば、一本鎖DNA)として定義される。捕捉又は増幅プライマーと称される場合もあるいくつかのプライマーは、鋳型増幅及びクラスター生成の開始点として機能する。本明細書においてシーケンシングプライマーと称される他のプライマーは、DNA合成の開始点として機能する。プライマーの5’末端は、ポリマーの官能基(例えば、アジド)とのカップリング反応を可能にするように修飾されていてもよい。プライマーの長さは、任意の数の塩基の長さであることができ、様々な非天然ヌクレオチドを含むことができる。一例では、配列決定プライマーは、10~60塩基、又は20~40塩基の範囲の短鎖である。
「基材」という用語は、単層塩基担体、又は表面化学物質が導入される多層構造を指す。
「表面化学物質」とは、本明細書に記載のコポリマー、及びそれに付着した任意のプライマーの例を指す。表面化学物質は、基材上に反応性表面を形成する。
コポリマー
本明細書に開示されるコポリマー鎖は、少なくとも2つの異なる繰り返し単位を含む。いくつかの例では、コポリマー鎖は、3つの異なる繰り返し単位を含む。鎖のうちの全ては、2つの末端基を含み、いくつかの例では、少なくとも1つの末端基は、アルコキシアミン末端基である。他の例では、繰り返し単位のうちの少なくともいくつかは、側鎖にアルコキシアミンを含む。
本明細書に開示されるコポリマー鎖は、少なくとも2つの異なる繰り返し単位を含む。いくつかの例では、コポリマー鎖は、3つの異なる繰り返し単位を含む。鎖のうちの全ては、2つの末端基を含み、いくつかの例では、少なくとも1つの末端基は、アルコキシアミン末端基である。他の例では、繰り返し単位のうちの少なくともいくつかは、側鎖にアルコキシアミンを含む。
各コポリマー鎖は、式(I):
いくつかの例示的なコポリマー鎖はまた、式(VI)の第3の繰り返し単位を含み:
式(I)の繰り返し単位の一例では、R1は、-Hであり、pは、5である。
式(II)の繰り返し単位の一例では、R3’、R4、及びR4’の各々は、-Hであり、R3は、-C(O)NR6R7であり、R6及びR7の各々は、-Hである。式(II)の繰り返し単位の別の例では、R3’、R4、及びR4’の各々は、-Hであり、R3は、-C(O)NR6R7であり、R6及びR7の各々は、-CH3である。式(II)の繰り返し単位の更に別の例では、R3’、R4、及びR4’の各々は、-Hであり、R3は、-C(O)NR6R7であり、R6は、-Hであり、R7は、-CH3である。式(II)の繰り返し単位の更に別の例では、R3’、R4、及びR4’の各々は、-Hであり、R3は、-C(O)NR6R7であり、R6は、-Hであり、R7は、-(CH2)2OHである。式(II)の繰り返し単位の別の例では、R3’、R4、及びR4’の各々は、-Hであり、R3は、-C(O)NR6R7であり、R6は、-CH3であり、R7は、-(CH2)2OHである。式(II)の繰り返し単位の更に他の例では、R3’、R4、及びR4’の各々は、-Hであり、R3は、-C(O)OR5であり、R5は、-H、-CH3、又は-(CH2)2OHである。
式(VI)の繰り返し単位の一例では、R1は、-Hであり、ハロは、臭素であり、pは、5である。
いくつかの例では、コポリマー鎖のうちの少なくともいくつかはまた、ヒドロキシル、-OSO3、約1個の炭素原子~約12個の炭素原子を有するアルキル、アルコキシアミン末端基からなる群から選択される第1の末端基と、アルコキシアミン末端基である第2の末端基と、を含む。第1の末端基は、開始剤の選択を通して制御され得、第2の末端基は、重合反応をクエンチすることができるメディエーターを通して制御され得る。例示的な開始剤及びメディエーターを以下に論じる。
図1は、コポリマー10のある例を示す。コポリマー10のこの例では、式(I)の繰り返し単位の例を参照番号12に示し、式(II)の繰り返し単位の例を参照番号14に示す。この特定の例では、式(I)の繰り返し単位12におけるR1は-Hであり、式(I)の繰り返し単位12におけるpは、5である。また、この特定の例では、式(II)の繰り返し単位14におけるR3’、R4、及びR4’の各々は、-Hであり、式(II)の繰り返し単位14におけるR3は、-C(O)NH2である。繰り返し単位12、14の具体的な例が示されているが、式(I)及び(II)の繰り返し単位12、14の任意の例がコポリマー10に含まれ得ることを理解すべきである。
図1に示される例では、コポリマー10の第1の末端基E 1は、-OSO3であり、コポリマー10のアルコキシアミン末端基E2は、-O-NH-C(CH3)2である。第1の末端基E1の具体的な例が示されているが、端末基E1の任意の例が、コポリマー10に含まれ得ることを理解すべきである。アルコキシアミン末端基E2の具体的な例が示されているが、合成中にコポリマー鎖を可逆的に終結させることができる任意のアルコキシアミンが、コポリマー10に組み込まれ得ることを理解すべきである。
この例示的なコポリマー10において、「n」(式(I)の繰り返し単位の数)は、2~50,000の範囲であり、「m」(式(II)の繰り返し単位の数)は、2~100,000の範囲である。図1は、個々の単位をブロックで示す。しかしながら、個々の単位の組み込みは、統計的、ランダム、又はブロックであり得、コポリマー10を合成するために使用される方法に依存し得ることを理解すべきである。
ここで図2を参照すると、コポリマーの別の例が参照番号10’に示されている。この例では、コポリマー10’は、別の繰り返し単位12’を含む。繰り返し単位12’は、式(1)の繰り返し単位12とテトラメチルエチレンジアミン(TeMED)との間で起こり得る副反応の生成物である。TeMEDは、共重合中に導入され得る反応促進剤である。副反応の結果として、TeMEDは、アジド(N3)基のうちのいくつかを置き換える。したがって、いくつかの例では、コポリマー鎖のうちのいくつかのR2は、テトラメチルエチレンジアミンで置き換えられる。この反応は、これらのコポリマー鎖のアジド含有量を低減させるが、分岐部位も導入する。分岐部位は、コポリマー鎖が互いに分岐することができる場所を提供し得る。したがって、いくつかの例では、コポリマー10’を含むコーティングは、いくつかの分岐コポリマー鎖を含む。図5に示す合成においてTeMEDが使用される場合、架橋は、TeMED上の2つの窒素と中間コポリマー16のハロゲンとの間で起こり得る。
この特定の例では、繰り返し単位12及び12’におけるR1は、-Hであり、繰り返し単位12、12’におけるpは、5である。また、この特定の例では、式(II)の繰り返し単位14におけるR3’、R4、及びR4’の各々は、-Hであり、式(II)の繰り返し単位14におけるR3は、-C(O)NH2である。繰り返し単位12、12’14の具体的な例が示されているが、式(I)及び(II)の繰り返し単位12、14及び繰り返し単位12’の任意の例がコポリマー10’に含まれ得ることを理解すべきである。
図2に示される例では、コポリマー10’の第1の末端基E1は、-OHであり、コポリマー10のアルコキシアミン末端基E2は、-O-NH-C(CH3)2である。第1の末端基E1の具体的な例が示されているが、末端基E1の任意の例がコポリマー10’に含まれ得ることを理解すべきである。アルコキシアミン末端基E2の特定の例が示されているが、合成中にコポリマー鎖を可逆的に終結させることができる任意のアルコキシアミンが、コポリマー10’に組み込まれ得ることを理解すべきである。
この例示的なコポリマー10’では、「n」+「λ」は、2~50,000の範囲の整数であり、「m」は、2~100,000の範囲の整数である。図2は、個々の単位をブロックで示す。しかしながら、個々の単位の組み込みは、統計的、ランダム、又はブロックであり得、コポリマー10’を合成するために使用される方法に依存し得ることを理解すべきである。
ここで図3を参照すると、コポリマーの更に別の例が参照番号10’’に示されている。この例では、コポリマー10’’は、式(I)及び(II)の繰り返し単位、並びに式(VI)の別の繰り返し単位12’’を含む。繰り返し単位12’’は、繰り返し単位(I)を形成するために使用されるモノマーと、重合後に添加されたヒドロキシルアミン又はアルコキシアミンアニオンとの間で生じ得る代替反応の生成物である。代替反応の結果として、アルコキシアミン(-ONR1R2)は、アジド(N3)基の代わりに側鎖のうちのいくつかに存在する。
この特定の例では、繰り返し単位12、12’’におけるR1は、-Hであり、pは、5である。また、この特定の例では、繰り返し単位14におけるR3’、R4、及びR4’の各々は、-Hであり、繰り返し単位14におけるR3は、-C(O)NH2である。また、この特定の例、繰り返し単位12’’におけるR1及びR2は、任意の炭素系置換基である。繰り返し単位12、12’、14の具体的な例が示されているが、式(I)及び(II)の繰り返し単位12、14及び繰り返し単位12’の任意の例がコポリマー10’に含まれ得ることを理解すべきである。
コポリマー10’’のこの例における末端基は、本明細書に記載の末端基の任意の例であり得、共重合方法で使用される開始剤及びメディエーターに依存する。
この例示的なコポリマー10’’では、「n」 + 「λ」は、2~50,000の範囲の整数であり、「m」は、2~100,000の範囲の整数である。図3は、個々の単位をブロックで示す。しかしながら、個々の単位の組み込みは、統計的、ランダム、又はブロック内であり得、コポリマー10’’を合成するために使用される方法に依存し得ることを理解すべきである。
コポリマー10、10’、10’’の任意の例の分子量は、約5kDa~約1500kDa若しくは約10kDa~約1000kDaの範囲であり得るか、又は特定の例では、約500kDaであり得る。
コポリマーを作製する方法
本明細書に開示されるコポリマー10、10’、10’’の例を作製するための方法の各々は、ニトロキシド媒介制御フリーラジカル重合を含む。重合プロセスのうちのいくつかは、可逆的終結を伴うフリーラジカル重合を制御するためのNMP単分子開始剤メディエーターを含む。重合プロセスのうちの他の例は、可逆的終結を伴うフリーラジカル重合を制御するためのニトロキシドメディエーターを含む。合成中、コポリマーは「リビングポリマー」と見なされる。アルコキシアミンは、成長鎖の一方の末端に保持され、したがって、それは分離されて、フリーラジカル(活性ニトロキシド種)を形成することができる。フリーラジカル生成は、温度を使用して制御され得る。成長するポリマー鎖は、鎖がアルコキシアミンによって再び可逆的に終結するまで、1つ以上のモノマー単位を添加することができる。
本明細書に開示されるコポリマー10、10’、10’’の例を作製するための方法の各々は、ニトロキシド媒介制御フリーラジカル重合を含む。重合プロセスのうちのいくつかは、可逆的終結を伴うフリーラジカル重合を制御するためのNMP単分子開始剤メディエーターを含む。重合プロセスのうちの他の例は、可逆的終結を伴うフリーラジカル重合を制御するためのニトロキシドメディエーターを含む。合成中、コポリマーは「リビングポリマー」と見なされる。アルコキシアミンは、成長鎖の一方の末端に保持され、したがって、それは分離されて、フリーラジカル(活性ニトロキシド種)を形成することができる。フリーラジカル生成は、温度を使用して制御され得る。成長するポリマー鎖は、鎖がアルコキシアミンによって再び可逆的に終結するまで、1つ以上のモノマー単位を添加することができる。
コポリマー10、10’、10’’を生成するために使用されるモノマーは、フリーラジカル重合を受けることができる炭素-炭素二重結合を含む。
本明細書に記載の方法のうちのいずれにおいても、式(III)のモノマーを使用して、繰り返し単位12、12’を生成し得る。式(III)は、
アジド基をR2’として有する式(III)のモノマーは、ハロゲンをR2’として有する式(III)のモノマーから得られ得る。いくつかの例では、式(III)のモノマーを式(IV)のモノマーと共重合する前に、方法は、(R2’=アジドを有する)式(III)のモノマーを生成することを含み得る。式(V):
本明細書に記載の方法のうちのいずれにおいても、式(IV)のモノマーを使用して、式(II)の繰り返し単位14を生成し得る。式(IV)は、
式中、R3、R3’、R4、R4’の各々は、独立して、-H、R5、-OR5、-C(O)OR5、-C(O)R5、-OC(O)R5、-C(O)NR6R7、及び-NR6R7からなる群から選択され、R5は、-H、-OH、アルキル、シクロアルキル、ヒドロキシアルキル、アリール、ヘテロアリール、複素環、及び任意選択で置換されたそれらの変異体からなる群から選択され、R6及びR7の各々は、独立して、-H及びアルキルからなる群から選択される。
本明細書に記載の方法のいくつかでは、ニトロキシド媒介重合単分子開始剤を使用し得る。例として、NMP単分子開始剤は、
本明細書に記載の方法の他の例では、過硫酸カリウム、4,4’-アゾビス(4-シアノ吉草酸)などの水溶性ラジカル開始剤及びニトロキシドが組み合わせて使用される。以前に列挙されたニトロキシドのうちのいずれも、ラジカル形態、すなわち「I」基なしで使用され得る。
本明細書で言及されるように、コポリマー鎖に沿った個々の単位12、14、又は12、14、12’、又は12、14、12’’の組み込みは、統計的、ランダム、又はブロックであり得る。
統計コポリマー(例えば、モノマー単位の連続分布は既知の統計法則に従う)及びランダムコポリマー(例えば、モノマーは、コポリマー鎖に沿ってランダムに導入され、繰り返し単位12、又は12及び12’、又は12及び12’’のいくつかのブロック、並びに繰り返し単位14のいくつかのブロックをもたらし得る)をワンポット合成で調製し得る。ワンポット合成では、式(III)のモノマーを式(IV)のモノマーと混合し、使用されるモノマー、開始剤又は開始剤及びメディエーターの組み合わせ、並びに所望の生産物(その分子量を含む)に適した条件下で、NMP単分子開始剤又は水溶性開始剤とニトロキシドとの組み合わせの存在下で共重合を行う。
ワンポット合成のある例を図4に概略的に示す。この例では、式(III)のモノマーは、R2’として、アジド基を含み、式(IV)のモノマーは、R3’、R4、及びR4’の各々として、-Hを、及びR3として、C(O)NH2を、含む。
図4に示すワンポット合成では、反応混合物は、式(III)のモノマー(R2’としてのアジド基)、式(IV)のモノマー、及びNMP単分子開始剤、又は水溶性開始剤とニトロキシドとの組み合わせを含む。式(III)及び式(IV)のモノマーは、それぞれの繰り返し単位12、14の望ましい数が、得られるコポリマー10に導入されるように、互いに対して好適な重量比で存在し得る。NMP単分子開始剤、又は水溶性開始剤とニトロキシドとの組み合わせは、反応混合物中のモノマーの全てが共重合することを可能にする量で存在し得る。一例では、NMP単分子開始剤、又は水溶性開始剤とニトロキシドとの組み合わせは、反応混合物の約0.005重量%~約5重量%を構成し得る。
反応混合物はまた、水、溶媒、又は水と溶媒との組み合わせを含み得る。例示的な溶媒は、N-メチル-2-ピロリドン(N-methyl-2-pyrollidone、NMP)、ジメチルホルムアミド(dimethyl formamide、DMF)、ジメチルスルホキシド(dimethyl sulfoxide、DMSO)、アセトニトリル(MeCN)、メタノール(methanol、MeOH)、エタノール(isopropyl alcohol、EtOH)、イソプロピルアルコール(isopropyl alcohol、IPA)、ジオキサン、アセトン、ジメチルアセトアミド(dimethylacetamide、DMAc)などを含む。混合物はまた、pHの望ましくない変化を少なくとも実質的に防止するために、緩衝剤を含んでもよい。反応混合物のpHは、酸性であってもよい(<7)。好適な緩衝剤の例としては、TRIS(トリス(ヒドロキシメチル)アミノメタン又はTRIZMA(登録商標))、ビス-トリスメタン緩衝剤、ADA緩衝剤(双性イオン性緩衝剤)、MES(2-エタンスルホン酸)、MOPS(3-(N-モルホリノ)プロパンスルホン酸)、又は別の酸性緩衝剤が挙げられる。
上述のように、共重合は、好適な条件下で、開始剤又は開始剤及びメディエーターの存在下で行われる。例として、温度は、約室温(例えば、18℃~25℃)~約150℃の範囲であり得、溶媒、モノマー、及びNMP単分子開始剤又はニトロキシドの選択に依存する。例えば、単独の水が使用される場合、温度は、90℃以下であり得る。溶媒、又は水と溶媒との組み合わせを使用する場合、より高い温度を使用し得る。いくつかの他の例示的な温度範囲は、約18℃~約130℃、約50℃~約75℃などを含む。重合反応の時間は、約5分~約24時間、例えば、1時間~10時間の範囲であり得る。
温度は、成長するコポリマー鎖が、式(III)及び式(IV)のモノマー単位を連続的に添加することができるように設定され得る。一例では、過剰のNMP単分子開始剤又は水溶性開始剤とニトロキシドとの組み合わせは、反応混合物中に含まれ得、モノマーの全てが反応したときに、温度を低下させることができ、ニトロキシドフリーラジカルは、重合をクエンチし、コポリマー鎖末端基E2として付着する。別の例では、追加のNMP単分子開始剤又はニトロキシドを反応混合物に添加して、重合をクエンチし得る。共重合をクエンチすることは、コポリマー鎖との生成物混合物を生成し、コポリマー鎖のうちの少なくともいくつかは、アルコキシアミン末端基E2を有する。
図示されていないが、図4を参照して説明される例示的な方法はまた、図2に示されるコポリマー10’のある例を形成するために、テトラメチルエチレンジアミンを含み得ることを理解すべきである。この例示的な方法は、テトラメチルエチレンジアミンを反応混合物に添加することを含む。TeMEDは、共重合の開始前に、又は共重合が行われる際に添加され得る。図2に示すように、アジド基のうちの少なくともいくつかは、コポリマー鎖10’に分岐部位を提供するTeMEDで置き換えられる。この例示的な方法では、コポリマー鎖10’のうちの少なくともいくつかは、互いに分岐している。
ワンポット合成の別の例を図5に概略的に示す。この例では、式(III)のモノマーは、R2’として、ハロゲン(具体的にはBr)を含み、式(IV)のモノマーは、R3’、R4、及びR4’の各々として、-Hを、及びR3として、C(O)NH2を、含む。
ワンポット合成のこの例では、反応混合物は、最初に、式(III)のモノマーが、R2’としてハロゲンを含むことを除いて、図4を参照して説明した通りであり得る。共重合反応及びクエンチングは、図4を参照して説明したように実行され得る。しかしながら、この例では、生成物混合物は、中間コポリマー16を含む。この中間コポリマー16は、式(I)の繰り返し単位12の前駆体であり、また、式(II)の繰り返し単位14も含む、繰り返し単位18を含む。
この方法の例では、NaN3を中間生成物混合物に添加する。ハロゲン基をアジド基と置き換える反応を開始するために、この混合物を加熱する。一例では、NaN3は、ハロゲン基が置き換えられることを確実にするために、繰り返し単位18に対して50倍過剰で存在する。
ワンポット合成の更に他の例を図6に概略的に示す。この例では、式(V)のモノマーは、式(IV)のモノマーと共に利用される。この例では、式(V)の「ハロ」は、Brであり、式(IV)のモノマーは、R3’、R4、及びR4’の各々として-Hを、及びR3としてC(O)NH2を含む。
この例では、反応混合物は、式(V)のモノマー、式(IV)のモノマー、及びNMP単分子開始剤、又は水溶性開始剤とニトロキシドとの組み合わせを含む。式(V)及び式(IV)のモノマーは、それぞれの繰り返し単位12+12’、14の望ましい数が、得られるコポリマー10’’に導入されるように、互いに対して好適な重量比で存在し得る。NMP単分子開始剤、又は水溶性開始剤とニトロキシドとの組み合わせは、反応混合物中のモノマーの全てが共重合することを可能にする量で存在し得る。反応混合物はまた、水、溶媒、又は水と溶媒との組み合わせを含み得る。
共重合反応及びクエンチングは、図4を参照して説明したように実行され得る。しかしながら、この例では、生成物混合物は、中間コポリマー16を含む。この中間コポリマー16は、繰り返し単位12及び12’’の各々の前駆体である繰り返し単位18を含み、式(II)の繰り返し単位14も含む。共重合は、図6のステップ1に示されている。
図6に示される方法の各例は、ハロゲン(図6のBrとして示されるハロ基)のうちのいくつかをアルコキシアミンに、かつ共重合後にハロゲン(ハロ基)のうちの他のいくつか(ハロ基)をアジドに変換することを含む。
一例示的な方法では、変換は、最初にハロゲンのうちのいくつかをアルコキシアミンに変換し(図6のステップ2)、次いでハロゲンのうちの他のいくつかをアジドに変換する(図6のステップ3)ことを含む。ステップ2は、ハロゲンがヒドロキシルアミンを超えるように、コポリマーにヒドロキシルアミンを導入することと、コポリマーを加熱して、ヒドロキシルアミンがハロゲンのうちのいくつかを変位させる反応を開始することと、を含み得る。ステップ3は、NaN3をコポリマー(ここでは側鎖のうちのいくつかのアルコキシアミンを含む)に導入することと、コポリマーを加熱して、アジドがハロゲンのうちの他のいくつかを変位させる反応を開始することと、を含み得る。得られたコポリマー10’’は、繰り返し単位12、12’’、及び14を含む。
別の例示的な方法では、変換は、最初にハロゲンのうちのいくつかをアルコキシアミンに変換し(図6のステップ2)、次いでハロゲンのうちの他のいくつかをアジドに変換する(図6のステップ3)ことを含む。この例では、ヒドロキシルアミンは、最初に脱プロトン化されて、アルコキシアミンアニオン-ONR1R2)を形成し得る。例として、脱プロトン化は、極性非プロトン性溶媒中の強塩基、例えば、水酸化ナトリウム又はカリウムtert-ブトキシドを使用して実行され得る。別の例として、脱プロトン化反応は、極性非プロトン性溶媒中の1,8-ジアザビシクロウンデカ-7-エン(DBU)、又はN,N-ジイソプロピルエチルアミン(DIPEA)などの塩基によって触媒され得る。この例では、ステップ2は、ハロゲンがアルコキシルアミンアニオンを超えるように、コポリマーにアルコキシルアミンアニオンを導入することと、コポリマーを加熱して、アルコキシルアミンアニオンがハロゲンのうちのいくつかを変位させる反応を開始することと、を含み得る。ステップ3は、NaN3をコポリマー(ここでは側鎖のうちのいくつかのアルコキシアミンを含む)に導入することと、コポリマーを加熱して、アジドがハロゲンのうちの他のいくつかを変位させる反応を開始することと、を含み得る。得られたコポリマー10’’は、繰り返し単位12、12’’、及び14を含む。
別の例示的な方法では、変換は、ハロゲンのうちのいくつかをアルコキシアミンに、かつハロゲンのうちの他のいくつかをアジドに、同時に変換する(図6のステップ4)。ステップ4は、混合物がハロゲンを超えるように、ヒドロキシルアミンとNaN3との混合物をコポリマーに導入することを含み得る。N3は、より強い求核剤であり、反応を完了させるために使用され、混合すると、ヒドロキシルアミンよりもN3が反応する結果となり得る。混合物の存在下でのコポリマーを加熱して、ヒドロキシルアミンがハロゲンのうちのいくつかを変位させ、アジドがハロゲンのうちの他のいくつかを変位させる反応を開始する。これらの反応が異なる温度で起こる場合、温度を段階的に増加させて、両方の変位反応を開始させ得る。例えば、ヒドロキシルアミン反応にはより高い温度が望ましい場合がある。得られたコポリマー10’’は、繰り返し単位12、12’’、及び14を含む。
方法の更に別の例は、ブロックコポリマー(例えば、繰り返し単位12及び14のうちの少なくとも1つのブロック、及び繰り返し単位14のうちの少なくとも1つのブロック)を生成するために、実行され得る。
この方法の一例は、i)式(III)のモノマー(R2’としてのアジドを含む)と、別のモノマー(例えば、式(IV)で表される任意の例との反応混合物を、NMP単分子開始剤、又は水溶性開始剤とニトロキシドとの組み合わせの存在下で、約18℃~約150℃の範囲の温度で共重合することと、ii)温度が落下することを可能にし、任意選択で、任意の未反応モノマーを除去(例えば、蒸発、コポリマーの沈殿、及び洗浄)することと、iii)式(IV)のモノマーを導入することと、iv)温度を上昇させて、新たに添加されたモノマーを重合することと、を含む。プロセスを繰り返して、追加のブロックを形成し得る。このプロセスはまた、式(IV)のモノマーを最初に重合し、次いで式(III)のモノマーを別のモノマーと重合させることによって実行され得る。
この方法の別の例は、i)式(III)のモノマー(R2’としてのハロゲンを含む)と、別のモノマー(例えば、式(IV)で表される任意の例との反応混合物を、NMP単分子開始剤、又は水溶性開始剤とニトロキシドとの組み合わせの存在下で、約18℃~約150℃の範囲の温度で共重合することと、ii)温度が低下することを可能にし、任意選択で、任意の未反応モノマーを除去することと、iii)式(IV)のモノマーを導入することと、iv)温度を上昇させて、新たに添加されたモノマーを重合することと、を含む。プロセスを繰り返して、追加のブロックを形成し得る。この例では、得られたブロックコポリマーは、中間コポリマー16と同様であり、繰り返し単位18のブロックを含む。この方法の例では、NaN3、又はヒドロキシルアミンとNaN3との混合物、又はヒドロキシルアミン、続いてNaN3、又はアルコキシルアミンアニオン、続いてNaN3 を生成物混合物に添加する。ハロゲン基を、アジド基、又はアジド基及びアルコキシアミン基と置き換える反応を開始するために、この混合物を加熱する。一例では、NaN3は、ハロゲン基が置き換えられることを確実にするために、繰り返し単位18に対して50倍過剰で存在する。
図4、図5、及び図6は各々、コポリマー10、10’’の個々の単位をブロックで示す。しかしながら、個々の単位の組み込みは、統計的、ランダム、又はブロックであり得、コポリマー10、10’、10’’を合成するために使用される方法に依存し得ることを理解すべきである。
フローセル表面上にコポリマーを組み込むための方法
本明細書に開示されるコポリマー10、10’、10’’の例は、フローセル表面の少なくとも一部分に付着し得る。コポリマー10、10’、10’’をフローセル表面に付着させるための方法は、概して、図7を参照して説明される。フローセル表面に関するいくつかの詳細が図7を参照して説明されているが、個々のフローセル構造の例は、図8A~図8Dを参照してより詳細に説明されることを理解すべきである。
本明細書に開示されるコポリマー10、10’、10’’の例は、フローセル表面の少なくとも一部分に付着し得る。コポリマー10、10’、10’’をフローセル表面に付着させるための方法は、概して、図7を参照して説明される。フローセル表面に関するいくつかの詳細が図7を参照して説明されているが、個々のフローセル構造の例は、図8A~図8Dを参照してより詳細に説明されることを理解すべきである。
図7に示すように、フローセル表面は、基材20を含む。基材20は、単層塩基担体22(図8B及び図8C)を含み得るか、又は多層構造24(図7及び図8D)を含み得る。基材20は、パターン化されていなくてもよく(例えば、図8B及び図8Cに示されるような間隙領域28によって囲まれた単一レーン23を含む)、又はパターン化されていてもよい(例えば、図7及び図8Dに示されるように、間隙領域28によって分離された凹部26を含む)。
単層塩基担体22の適切な材料の例としては、エポキシシロキサン、ガラス、修飾又は官能化ガラス、プラスチック(アクリル、ポリスチレン、スチレンと他の材料のコポリマー、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブチレン、ポリウレタン、ポリテトラフルオロエチレン(ChemoursのTEFLON(登録商標)など)、環状オレフィン/シクロオレフィンポリマー(cyclo-olefin polymer、COP)(ZeonのZEONOR(登録商標)など)、ポリイミドなどを含む)、ナイロン(ポリアミド)、セラミック/酸化セラミック、シリカ、溶融シリカ、又はシリカベースの材料、ケイ酸アルミニウム、シリコン及び修飾シリコン(例えば、ホウ素ドープp+シリコン)、窒化シリコン(Si3N4)、酸化シリコン(SiO2)、五酸化タンタル(Ta2O5)又は他の酸化タンタル(TaOx)、酸化ハフニウム(HfO2)、炭素、金属、無機ガラスなどが挙げられる。
いくつかの例では、単一レーン23は、塩基担体22の上面とすることができ、レーン23の壁は、塩基担体上に位置付けられた結合材料によって画定することができる。他の例では、単一レーン23は、塩基担体22の上面にエッチングすることができる。
多層構造24の例は、塩基担体22及びその上の少なくとも1つの他の層30を含む。多層構造24のいくつかの例は、塩基担体22としてのガラス又はケイ素を含み、表面に、酸化タンタル(例えば、五酸化タンタル又は別の酸化タンタル(TaOx))又は別のセラミック酸化物のコーティング層(例えば、層30)を有する。多層構造24の他の例は、塩基担体22(例えば、ガラス、ケイ素、五酸化タンタルなど)及び他の層30としてのパターン化された樹脂を含む。凹部26及び間隙領域28を形成するために選択的に堆積、又は堆積及びパターン化され得る任意の材料が、パターン化された樹脂に使用され得ることを理解すべきである。
無機酸化物は、パターン化された樹脂の一例である。無機酸化物は、蒸着、エアロゾル印刷、又はインクジェット印刷を介して塩基担体22に選択的に適用され得る。適切な無機酸化物の例としては、酸化タンタル(例えば、Ta2O5)、酸化アルミニウム(例えば、Al2O3)、酸化ケイ素(例えば、SiO2)、酸化ハフニウム(例えば、HfO2)などが挙げられる。
パターン化された樹脂の別の例として、ポリマー樹脂は、塩基担体22に適用され、次いでパターン化され得る。適切な堆積技術としては、化学蒸着、ディップコーティング、ダンクコーティング、スピンコーティング、スプレーコーティング、液滴分配、超音波スプレーコーティング、ドクターブレードコーティング、エアロゾル印刷、スクリーン印刷、マイクロコンタクト印刷などを含む。適切なパターニング技術としては、フォトリソグラフィー、ナノインプリントリソグラフィー(nanoimprint lithography、NIL)、スタンピング技術、エンボス技術、成形技術、マイクロエッチング技術などが挙げられる。適切な樹脂のいくつかの例としては、多面体オリゴマーシルセスキオキサン樹脂(polyhedral oligomeric silsesquioxane resin、POSS)ベースの樹脂、非POSSエポキシ樹脂、ポリ(エチレングリコール)樹脂、ポリエーテル樹脂(例えば、開環エポキシ)、アクリル樹脂、アクリレート樹脂、メタクリレート樹脂、アモルファスフルオロポリマー樹脂(例えば、BellexからのCYTOP(登録商標))、及びそれらの組み合わせが挙げられる。
本明細書で使用されるとき、「多面体オリゴマーシルセスキオキサン」という用語は、シリカ(SiO2)とシリコーン(R2SiO)との間のハイブリッド中間体(例えば、RSiO1.5)である化学組成物を指す。多面体オリゴマーシルセスキオキサンのある例は、Kehagias et al.,Microelectronic Engineering 86(2009),pp.776-778に記載されているものであり得、これは、参照によりその全体が組み込まれる。いくつかの多面体オリゴマーシルセスキオキサンは、Hybrid Plasticsからの商品名POSS(登録商標)で市販されている。一例では、組成物は、化学式[RSiO3/2]nを有する有機ケイ素化合物であり、R基は同じであっても異なってもよい。多面体オリゴマーシルセスキオキサンの例示的なR基としては、エポキシ、アジド(azide)/アジド(azido)、チオール、ポリ(エチレングリコール)、ノルボルネン、テトラジン、アクリレート、及び/又はメタクリレート、あるいは、更に、例えば、アルキル、アリール、アルコキシ、及び/又はハロアルキル基を含む。
一例では、単一の塩基担体22(単独で、又は多層構造24の一部として使用されるかにかかわらず)は、約2mm~約300mm、例えば、約200mm~約300mmの範囲の直径を有する円形シート、パネル、ウェハ、ダイなどであり得るか、又は最大約10フィート(約3メートル)の最大寸法を有する長方形シート、パネル、ウェハ、ダイなどであり得る。例えば、ダイは、約0.1mm~約10mmの範囲の幅を有し得る。例示的な寸法を提供しているが、任意の好適な寸法を有する単一の塩基担体22を使用し得ることを理解すべきである。
本明細書に開示される例では、基材20は、コポリマー10、10’、10’’をそれらに付着させる前に活性化され得る。単一の塩基担体22、又は多層構造24の層30について選択された材料が、表面-OH基を有する場合、基材20の活性化は、シラン化を伴う。単一の塩基担体22、又は多層構造24の層30について選択された材料が、表面-OH基を最小限に有するか、又は全く有さない場合、基材20の活性化は、プラズマアッシング(表面-OH基を導入又は増加させるため)、続いてシラン化を伴う。
本明細書に開示される例では、シラン誘導体、具体的にはノルボルネンシラン32は、蒸着、スピンコーティング、又は他の堆積方法を使用して、基材20の表面上に堆積される。一例では、ノルボルネンシランは、[(5-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エニル)エチル]トリメトキシシランである。他のアルキン又はアルケン末端シランも使用され得る。
基材20の任意の露出表面(例えば、単一の塩基担体22の任意の露出表面、又は層30の任意の露出表面)は、シラン化されることを理解すべきである。図7及び図8Dに示される例では、凹部26及び間隙領域28の各々は、シラン化される。図8Cに示される例では、単一レーン23及び間隙領域28全体がシラン化される。この例では、基材20は、塩基担体22と、塩基担体22に付着した複数のノルボルネンシラン分子32とを含む。8Bに示される例では、シラン化中にマスクを使用し得る。これらの例では、コポリマー10、10’、10’’を付着することが望ましい単一レーン23の一部分(図8B)のみがシラン化される。
図7では、ノルボルネンシラン32は、凹部26の表面-OH基に共有結合的に付着して示されているが、間隙領域28には示されていない。初期シラン化プロセスは、ノルボルネンシラン32を基材20の任意の露出表面(任意の露出した間隙領域28を含む)上に堆積させることを理解すべきである。以下でより詳細に説明するように、その後の処理を使用して、間隙領域28から材料(例えば、コポリマー10、10’、10’’、ノルボルネンシラン32)を少なくとも実質的に取り除くことができる。
方法のいくつかの例では、コポリマー10、10’、10’’は、本明細書に記載の例示的な方法のいずれかに従って調製され、次いで、基材20の表面でノルボルネンシラン分子32に付着している。
例えば、式(III)及び(IV)のモノマーの共重合、続いてクエンチングを行い得る(例えば、図4又は図5)。別の例では、式(V)及び(IV)のモノマーの共重合、続いてハロゲンの変位(例えば、図6)を行い得る。別の例では、方法は、コポリマー10、10’、10’’のブロックバージョンを生成するために実行され得る。これらの方法のいずれも生成物混合物を生成する。生成物混合物は、コポリマー鎖10、10’、10’’を含み、コポリマー鎖10、10’、10’’のうちの少なくともいくつかは、アルコキシアミン末端基E2及び/又は側鎖のいくつかにおけるアルコキシアミンを含む。
基材20への付着について、方法は、次いで、表面結合ノルボルネンシラン分子32を有する基材20上に生成物混合物を堆積させることと、アルコキシアミン末端基E2及び/又は側鎖中のアルコキシアミンのうちの少なくともいくつかを、表面結合ノルボルネンシラン分子32のうちの少なくともいくつかと反応させることと、を含む。生成物混合物は、本明細書に開示される堆積技術のいずれかを使用して堆積され得る。堆積された生成物混合物中のコポリマー鎖10、10’、10’’は、望ましい期間及び望ましい温度で、表面結合ノルボルネンシラン分子32と反応させることができる場合がある。温度は、約35℃~約150℃の範囲であり得、時間は、約10分~約24時間の範囲であり得る。一例では、反応時間は、約30分であり、反応温度は、約50℃である。
反応条件は、アルコキシアミン末端基E2及び/又はコポリマー鎖10、10’、10’’のうちの少なくともいくつかの側鎖中のアルコキシアミンを活性化し得、これらの基を分離して、フリーラジカルを形成させる。この例では、複数のノルボルネンシラン分子32のうちの少なくとも1つは、ニトロキシドフリーラジカルが分離される、末端又は側鎖でそれぞれのコポリマー鎖10、10’、10’’に付着する。したがって、「アルコキシアミンを介した付着」とは、フリーラジカルの分離が、ノルボルネンシラン分子と反応することができる開放末端又は側鎖を生成し、遊離ニトロキシドは、ノルボルネンシラン分子に再付着し得るか、又は再付着しない場合があることを意味する。より具体的には、図7に示すように、表面結合ノルボルネンシラン分子32のノルボルネン部分は、ニトロキシドフリーラジカルがコポリマー鎖10、10’、10’’から分離されている残りのコポリマー鎖10、10’、10’’に共有結合的に付着する。1つの付着機構が示されているが、ニトロキシドフリーラジカルは、他の機構を介する表面結合ノルボルネンシラン分子32への付着を可能にするために、側鎖から放出され得ると考えられている。アルコキシアミン表面結合は、コポリマー10、10’、10’’のアジド基を含まないため、これらの基は、追加の表面結合又はプライマー結合のために遊離したままである。アルコキシアミン基のうちのいくつかは、コポリマー10、10’、10’’に付着したままであり得、表面付着に関与しない場合がある。
方法の他の例では、コポリマー10、10’、10’’は、表面結合ノルボルネンシラン分子32を有する基材20の存在下で、本明細書に記載の例示的な方法のいずれかに従って調製される。
一例では、式(III)及び(IV)のモノマーは、NMP単分子開始剤、又は水溶性開始剤とニトロキシドとの組み合わせ、及び表面結合ノルボルネンシラン分子32を有する基材20の存在下で共重合され得る。この例は、TeMEDを用いるか、又は用いずに実行され得、図4に記載されるように実行され得る。基材20の存在下で共重合が行われるため、生成されたコポリマー鎖10、10’、10’’のうちの少なくともいくつかは、i)アルコキシアミン末端基E2を含み、及び/又はii)アルコキシアミン末端基E2を介してノルボルネンシラン分子32に付着している。
別の例では、式(III)及び(IV)のモノマーは、NMP開始剤、及び表面結合ノルボルネンシラン分子32を有する基材20の存在下で順次重合され得る。この例は、ブロックコポリマーを生成するための本明細書に記載のプロセスを含む。基材20の存在下で連続重合が行われるため、生成されたブロックコポリマー鎖10、10’、10’’のうちの少なくともいくつかは、i)アルコキシアミン末端基E2を含み、及び/又はii)アルコキシアミン末端基E2を介してノルボルネンシラン分子32に付着している。
更に別の例では、図5に示される方法は、基材20の存在下で実行される。この例は、アルコキシアミン末端基E2を介したノルボルネンシラン分子32への中間コポリマー16の共有付着をもたらす。この例示的な方法では、NaN3は、ハロゲン基をアジド基と置き換える反応を開始するために加熱される、中間コポリマーコーティングに添加される。この追加の反応は、中間コポリマーコーティングをコポリマーコーティング(基材20に共有結合的に付着したコポリマー鎖10、10’を含む)に変換する。
図6に示される例示的な方法も実行され得、次いで、コポリマー10’’が基材20上に堆積され得るか、又は基材20の存在下で方法が実行され得る。
コポリマー鎖10、10’、10’’と表面結合ノルボルネンシラン分子32との反応が、コポリマー鎖10、10’、10’’形成後、又はコポリマー鎖10、10’、10’’形成の間に起こるかどうかを問わず、この反応は、基材20の任意の露出表面上にコポリマーコーティングを生成する。本明細書に記載されるように、このコポリマーコーティングは、アルコキシアミンを介して基材20に共有結合的に付着している。いくつかの例では、コポリマーコーティングは、そのまま使用され、プライマーは、それに接続され得る(以下に記載)。他の例では、コポリマーコーティングは、表面付着の強度を高めるために、追加の硬化プロセスに供される。これらの他の例では、方法は、基材20上の生成物混合物又はコポリマーコーティングを硬化させることを更に含み、それによって、アジド基のうちのいくつかは、表面結合ノルボルネンシラン分子32のうちの他のいくつかと反応する。任意の未反応ノルボルネンシラン分子32は、硬化プロセス中にコポリマー鎖10、10’、10’’のアジド基と反応し得る。一例では、硬化は、室温(例えば、約25℃)~約95℃の範囲の温度で、約1ミリ秒 ~約数日の範囲の時間にわたって行うことができる。
本明細書に開示される表面付着方法のいずれも、ノルボルネンシラン分子32を含有する基材20の任意の露出表面上にコポリマーコーティングの形成をもたらす。
したがって、いくつかの例では、単一レーン23に隣接する間隙領域28(図8C)又は凹部26に隣接する間隙領域28(図7及び図8D)は、コポリマーコーティングでコーティングされ得る。これらの表面が、結合に使用することができるように、及び/又は又は単一レーン23内又は凹部26内に付着するが、間隙領域上には付着しないように、間隙領域28が、コポリマーコーティングがないこと望ましい場合がある。これらの例では、間隙領域28を覆うコポリマーコーティングのいずれも、例えば、研磨プロセスを使用して除去され得る。研磨プロセスは、それらの領域28で下にある基材20(例えば、塩基担体22又は層30)に悪影響を及ぼすことなく、コポリマーコーティングを間隙領域28から除去することができる化学スラリー(例えば、研削剤、緩衝液、キレート剤、界面活性剤、及び/又は分散剤を含む)を用いて実行され得る。あるいは、研磨は、研磨剤粒子を含まない溶液により行ってよい。化学スラリーは、化学機械研磨システムで使用されて、間隙領域28の表面を研磨し得る。研磨ヘッド/パッド又は他の研磨ツールは、コポリマーコーティングを単一のレーン23又は凹部26に少なくとも実質的に無傷のままに残しながら、間隙領域28上に存在し得る任意のコポリマーコーティングを研磨することができる。一例として、研磨ヘッドは、Strasbaugh ViPRR II研磨ヘッドであってよい。
図8Cに示される例では、コポリマーコーティング10Bは、研磨後に単一レーン23に留まる。図8Dに示される例では、コポリマーコーティング10Cは、研磨後に凹部26の各々に残る。
他の例では、コポリマーコーティングは、基材20に選択的に付着し、したがって研磨などの除去プロセスは利用されない。例えば、マスキング技術を使用して、(図8Bを参照して上述したように)基材20の所定の領域にノルボルネンシラン分子を堆積させる場合、コポリマーコーティングは、それらの所定の領域に付着するが、シラン化を受けない基材20の任意の他の領域には付着しない。コポリマーコーティング10Aが、単一レーン23の表面上に、単離されたパッドを形成するある例が図8Aに示されている。
フローセル
例示的なフローセル34の上面図を図8Aに示す。本明細書に開示される方法を使用して形成することができる異なるコポリマーコーティング10A、10B、10Cの例は、それぞれ図8B、図8C、及び図8Dに示されている。
例示的なフローセル34の上面図を図8Aに示す。本明細書に開示される方法を使用して形成することができる異なるコポリマーコーティング10A、10B、10Cの例は、それぞれ図8B、図8C、及び図8Dに示されている。
フローセル34は、一緒に結合された基材20のうちの2つ、又は蓋に結合された1つの基材20を含み得る。基材20は、コポリマーコーティング10A、10B、10C及びプライマー36、38のある例を含む1つ以上の反応性表面を含む。
結合された基材20の間、又は1つの基材20と蓋との間には、フローチャネル40が定義される。したがって、フローチャネル40は、基材20の反応性表面と流体連通している。
図8Aに示される例は、8つのフローチャネル40を含む。8つのフローチャネル40が示されているが、任意の数のフローチャネル40がフローセル34に含まれ得る(例えば、単一のフローチャネル40、4つのフローチャネル40など)ことを理解すべきである。各フローチャネル40は、任意のフローチャネル40に導入される流体が、任意の隣接するフローチャネル40に流入しないように、フローチャネル40ごとに単離されていてもよい。フローチャネル40に導入される流体のうちのいくつかの例は、反応成分(例えば、DNAサンプル、ポリメラーゼ、シーケンシングプライマー、ヌクレオチドなど)、洗浄溶液、脱ブロッキング剤などを含み得る。
一例では、フローチャネル40は直線の構成を有する。
図示されていない結合材料を使用して、基材20、又は基材20及び蓋を一緒に付着し得る。接着剤、結合を支援する放射線吸収材料などの任意の好適な結合材料を使用し得る。フローセル40の深さは、部分的に、結合材料の厚さに依存し得る。フローチャネル40の深さは、マイクロコンタクト、エアロゾル、又はインクジェット印刷を使用して、結合材料を堆積させる場合、単一層の厚さと同程度であり得る。他の例では、フローチャネル40の深さは、約1μm、約10μm、約50μm、約100μm、又はそれ以上であり得る。一例では、深さは、約10μmから約100μmの範囲であり得る。別の例では、深さは、約10μm~約30μmの範囲であり得る。更に別の例では、深さは、約5μm以下である。フローチャネル40の深さは、上で指定した値よりも大きくてもよく、それよりも小さくてもよく、又はそれらの間であってもよいことを理解すべきである。
図8B、図8C、及び図8Dは、基材20及びフローチャネル40内の構造の例を示す。図8Bに示すように、構造は、単層塩基担体22/基材20の表面上の単離されたパッド(間隙領域28’によって分離された)の形態のコポリマーコーティング10Aを含み得る。図8Cに示すように、構造は、単層塩基担体22/基材20内に画定された単一レーン23の表面全体上のコーティング層の形態のコポリマーコーティング10Bを含み得る。図8Dに示されるように、構造は、凹部26の各々に位置付けられ、間隙領域28には位置付けられていない個々の層の形態のコポリマーコーティング10Cを含み得る。
規則的な、反復する、及び不規則なパターンを含む、単離されたパッドコポリマーコーティング10A及び凹部26の多くの異なるレイアウトが想定され得る。一例では、単離されたパッドコポリマーコーティング10A又は凹部26は、最密充填及び改善された密度のために六角格子状に配置される。他のレイアウトは、例えば、直線的な(長方形)レイアウト、三角形のレイアウトなどを含み得る。いくつかの例では、レイアウト又はパターンは、行及び列をなしているx-yフォーマットであり得る。いくつかの他の例では、レイアウト又はパターンは、単離されたパッドコポリマーコーティング10A又は凹部26の反復配置であり得る。更に他の例では、レイアウト又はパターンは、ランダムな配置であり得る。
レイアウト又はパターンは、規定の面積内の単離されたパッドコポリマーコーティング10A又は凹部26の密度(数)に関して特徴付け得る。例えば、単離されたパッドコポリマーコーティング10A又は凹部26は、約200万個/mm2の密度で存在し得る。例えば、1mm2当たり約100、1mm2当たり約1,000、1mm2当たり約10万、1mm2当たり約100万、1mm2当たり約200万、1mm2当たり約500万、1mm2当たり約1000万、1mm2当たり約5000万、又はそれ以下の密度を含む、異なる密度に調整され得る。密度は、上記の範囲から選択される、下限値のうちの1つと上限値のうちの1つとの間であり得、又は他の密度(所与の範囲外)が使用され得ることを更に理解すべきである。
単離されたパッドコポリマーコーティング10A又は凹部26のレイアウト又はパターンはまた、又は代替的に、平均ピッチ、又は1つの単離されたパッドコポリマーコーティング10A又は1つの凹部26の中心から、隣接する単離されたパッドコポリマーコーティング10A又は凹部26の中心まで、又は1つの単離されたパッドコポリマーコーティング10A又は1つの凹部26の右縁から、隣接する単離されたパッドコポリマーコーティング10A又は1つの凹部26までの間隔(縁から縁の間隔)に関して特徴付けられ得る。パターンは、平均ピッチ周辺の変動係数が小さくなるように規則的である場合もあれば、パターンが不規則である場合もあり、その場合、変動係数は比較的大きくなる可能性がある。いずれの場合も、平均ピッチは、例えば、おおよそ約50nm、約0.1μm、約0.5μm、約1μm、約5μm、約10μm、又は約100μmであってもよい。の特定のパターンの平均ピッチは、上記の範囲から選択される、低い方の値のうちの1つと高い方の値のうちの1つとの間であり得る。一例では、凹部20は、約1.5μmのピッチ(中心から中心の間隔)を有する。平均ピッチ値の例が提供されるが、他の平均ピッチ値も使用され得ることを理解すべきである。
各凹部26のサイズは、その容積、開口面積、深さ、及び/又は直径若しくは長さ及び幅によって特徴付けられ得る。例えば、容積は、約1×10-3μm3~約100μm3の範囲に及び、例えば、約1×10-2μm3、約0.1μm3、約1μm3、約10μm3、又はそれ以上若しくはそれ以下であり得る。別の例では、開口面積は、約1×10-3μm2~約100μm2の範囲に及び、例えば、約1×10-2μm2、約0.1μm2、約1μm2、少なくとも約10μm2、又はそれ以上若しくはそれ以下であり得る。更に別の例では、深さは、約0.1μm~約100μmの範囲に及び、例えば、約0.5μm、約1μm、約10μm、又はそれ以上若しくはそれ以下であり得る。更に別の例では、深さは、約0.1μm~約100μmの範囲に及び、例えば、約0.5μm、約1μm、約10μm、又はそれ以上若しくはそれ以下であり得る。別の例では、直径又は長さ及び幅は、約0.1μm~約100μmの範囲に及び、例えば、約0.5μm、約1μm、約10μm、又はそれ以上若しくはそれ以下であり得る。
各単離されたパッドコポリマーコーティング10Aのサイズは、その上部表面積、高さ、及び/又は直径若しくは長さ及び幅によって特徴付けられ得る。例えば、上部表面積は、約1×10-3μm2~約100μm2の範囲に及び、例えば、約1×10-2μm2、約0.1μm2、約1μm2、少なくとも約10μm2、又はそれ以上若しくはそれ以下であり得る。更に別の例では、高さは、約0.1μm~約100μmの範囲に及び、例えば、約0.5μm、約1μm、約10μm、又はそれ以上若しくはそれ以下であり得る。更に別の例では、直径又は長さ及び幅は、約0.1μm~約100μmの範囲に及び、例えば、約0.5μm、約1μm、約10μm、又はそれ以上若しくはそれ以下であり得る。
コポリマーコーティング10A、10B、10Cは、本明細書に開示される例示的なコポリマー鎖10、10’、10’’のいずれかを含み得、本明細書に開示される方法のいずれかを使用して、基材20に形成及び付着し得る。
フローセル34はまた、プライマー36、38も含む。
グラフト化プロセスを実行して、プライマー36、38をコポリマーコーティング10A、10B、10Cにグラフトし得る。一例では、プライマー36、38は、プライマー36、38の5’末端又はその近傍における一点共有結合的付着によって、コポリマーコーティング10A、10B、10Cに固定化することができる。この付着により、i)プライマー36、38のアダプター特異的部分は、その同族のシーケンシング可能な核酸断片に自由にアニールすることができ、ii)3’ヒドロキシル基は、自由にプライマーを伸長することができる。本明細書に開示される例では、共有結合的付着は、コポリマーコーティング10A、10B、10C中のコポリマー鎖10、10’の任意の未反応アジド/アジド基で行われ得る。使用され得る末端プライマーの例としては、コポリマーコーティング10A、10B、10Cのアジド部分に結合することができるアルキン末端プライマーが挙げられる。好適なプライマー36、38の具体的な例としては、HISEQ(商標)、HISEQX(商標)、MISEQ(商標)、MISEQDX(商標)、MINISEQ(商標)、NEXTSEQ(商標)、NEXTSEQ(商標)DX(商標)、NOVASEQ(商標)、GENOME ANALYZER(商標)、ISEQ(商標)、及び他の装置プラットフォームでのシーケンシングのためのIllumina Inc.により販売されている市販のフローセルの表面上で使用されるP5及びP7プライマーが挙げられる。
一例では、グラフトは、フロースルー堆積(例えば、一時的に結合された若しくは永久的に結合された蓋、又は永久的に結合された第2の基材20を使用)、ダンクコーティング、スプレーコーティング、パドルディスペンス(puddle dispensing)による、又はプライマー36、38をフローチャネル40内のコポリマーコーティング10A、10B、10Cに付着させる別の好適な方法による流れを伴い得る。これらの技術の例の各々は、プライマー溶液又は混合物を利用してもよく、これらは、プライマー36、38、水、緩衝液、及び触媒を含んでもよい。グラフト法のいずれかによって、プライマー36、38は、フローチャネル40内のコポリマーコーティング10A、10B、10Cの反応性基と反応し、周囲基材20(例えば、間隙領域28、28’)に対して親和性を有さない。したがって、プライマー36、38は、フローチャネル40内のコポリマーコーティング10A、10B、10に選択的にグラフトする。
シーケンシング法
フローセル34の例は、合成によるシーケンシング(sequencing by synthesis、SBS)などの、アンサンブルシーケンシング技術で使用し得る。アンサンブルシーケンシングにおいて、シーケンシングしようとする鋳型ポリヌクレオチド鎖(図示されない)は、プライマー36、38を使用して、フローセル34の反応性表面上に形成され得る。鋳型ポリヌクレオチド鎖の形成の最初に、ライブラリ鋳型を、任意の核酸サンプル(例えば、DNAサンプル又はRNAサンプル)から調製することができる。核酸サンプルは、同様にサイズ決定された(例えば、<1000bp)、一本鎖DNA断片又はRNA断片に断片化され得、その後、相補的DNA(cDNA)断片に変換される。調製中に、アダプターはこれらの断片の末端に追加され得る。還元サイクル増幅により、プライマー36、38に相補的であるシーケンシング結合部位、インデックス、及び領域などの異なるモチーフが、アダプターに導入され得る。最終的なライブラリ鋳型は、DNA又はcDNA断片と、両端にアダプターとを含む。いくつかの例では、単一の核酸サンプルからの断片は、断片に追加された同じアダプターを有する。
フローセル34の例は、合成によるシーケンシング(sequencing by synthesis、SBS)などの、アンサンブルシーケンシング技術で使用し得る。アンサンブルシーケンシングにおいて、シーケンシングしようとする鋳型ポリヌクレオチド鎖(図示されない)は、プライマー36、38を使用して、フローセル34の反応性表面上に形成され得る。鋳型ポリヌクレオチド鎖の形成の最初に、ライブラリ鋳型を、任意の核酸サンプル(例えば、DNAサンプル又はRNAサンプル)から調製することができる。核酸サンプルは、同様にサイズ決定された(例えば、<1000bp)、一本鎖DNA断片又はRNA断片に断片化され得、その後、相補的DNA(cDNA)断片に変換される。調製中に、アダプターはこれらの断片の末端に追加され得る。還元サイクル増幅により、プライマー36、38に相補的であるシーケンシング結合部位、インデックス、及び領域などの異なるモチーフが、アダプターに導入され得る。最終的なライブラリ鋳型は、DNA又はcDNA断片と、両端にアダプターとを含む。いくつかの例では、単一の核酸サンプルからの断片は、断片に追加された同じアダプターを有する。
複数のライブラリ鋳型が、フローセル34に導入され得る。複数のライブラリ鋳型は、例えば、コポリマーコーティング10A、10B、10C上に固定化された2種類のプライマー36、38のうちの1つにハイブリダイズされる。
次に、クラスター生成が実行され得る。クラスター生成の一つの例では、ライブラリ鋳型は、高忠実度DNAポリメラーゼ(high-fidelity DNA polymerase)を使用して3’伸長によって、ハイブリダイズされたプライマーからコピーされる。元のライブラリ鋳型は変性され、コポリマーコーティング10A、10B、10C上に固定化されたコピーが残る。固定化されたコピーを増幅するために、等温ブリッジ増幅又は他の何らかの形態の増幅が使用され得る。例えば、コピーされた鋳型は、ループオーバーして、隣接する相補的なプライマー38又は36にハイブリダイズし、ポリメラーゼは、コピーされた鋳型をコピーして、二本鎖ブリッジ構造を形成し、当該構造は、変性して2本の一本鎖を形成する。これらの2つの鎖は、ループオーバーし、隣接する相補的プライマー36又は38にハイブリダイズし、再度伸長されて、2つの新たな二本鎖ループを形成する。このプロセスを、等温変性及び増幅のサイクルによって各鋳型コピーに対して繰り返して、密集したクローンクラスターを作り出す。二本鎖ブリッジ構造の各クラスターが変性される。一例では、逆鎖は、特異的塩基切断によって除去され、順方向鋳型ポリヌクレオチド鎖を残す。クラスター化により、コポリマーコーティング10A、10B、10C全体にわたる、いくつかの鋳型ポリヌクレオチド鎖の形成をもたらす。このクラスター化の例にはブリッジ増幅があり、この増幅は実行できる増幅の一つの例である。排除増幅(Examp)ワークフロー(Illumina Inc.)などの他の増幅技術が使用され得ることを理解すべきである。
鋳型ポリヌクレオチド鎖上の相補的配列にハイブリダイズするシーケンシングプライマーを、導入することができる。このシーケンシングプライマーは、鋳型ポリヌクレオチド鎖を、シーケンシングの準備が整った状態にする。
シーケンシングを開始するために、組み込み混合物がフローセル34に添加され得る。一例では、組み込み混合物は、液体キャリア、ポリメラーゼ、及び蛍光標識したヌクレオチドを含む。蛍光標識したヌクレオチドは、3’OHブロッキング基を含み得る。組み込み混合物がフローセル34に導入されると、流体は、フローチャネル40に入り、反応性表面と接触する。
蛍光標識したヌクレオチドが鋳型に依存する方法で配列決定プライマーに追加され(それにより、配列決定プライマーを伸長し)、配列決定プライマーに追加されたヌクレオチドの順序及びタイプの検出が、鋳型の配列決定に使用され得る。より具体的には、ヌクレオチドのうちの1つは、それぞれのポリメラーゼによって、シーケンシングプライマーを伸長し鋳型ポリヌクレオチド鎖に相補的な新生ストランドに組み込まれる。換言すると、フローセル34全体にわたる鋳型ポリヌクレオチド鎖のうちの少なくともいくつかにおいて、それぞれのポリメラーゼは、組み込み混合物中のヌクレオチドのうちの1つによって、ハイブリダイズされたシーケンシングプライマーを伸長させる。
ヌクレオチドの組み込みは、画像化イベントを通じて検出され得る。画像化イベント中、照明システム(図示されない)により、フローチャネル40及び/又はフローセル34の反応性表面に励起光を提供し得る。
いくつかの例では、ヌクレオチドは、ヌクレオチドが配列決定プライマーに加えられると、更なるプライマー伸長を終結させる可逆的終結特性(例えば、3’OHブロッキング基)を更に含み得る。例えば、可逆的末端部分を有するヌクレオチド類似体が配列決定プライマーに加えられ、その結果、デブロッキング剤が送達されて当該部分を除去するまで、その後の伸長は起こり得ない。したがって、可逆的終結を使用する例の場合、検出が行われた後、デブロッキング試薬は、フローセル34に送達することができる。
洗浄は、様々な流体送達ステップの間で行ってもよい。次に、SBSサイクルをn回繰り返し、配列決定プライマーをnヌクレオチドによって伸長し、それによって長さnの配列を検出することができる。
SBSが詳細に説明されるが、本明細書に記載のフローセル34は、遺伝子型決定のために、又は他の化学的及び/又は生物学的用途において、他のシーケンシングプロトコルと共に利用され得ることを理解すべきである。いくつかの場合では、フローセルのプライマーは、順鎖及び逆鎖の両方がコポリマーコーティング10A、10B、10C上に存在して、各リードの同時ベースコーリングを可能にする、同時ペアエンドシーケンシングが可能になるように選択され得る。逐次及び同時ペアエンドシーケンシングにより、ゲノム再配列及び反復配列要素、並びに遺伝子融合及び新規転写物の検出が容易になる。別の例では、本明細書に開示されるフローセル34は、オンセルライブラリ生成に使用され得る。
追記事項
以下により詳細に考察される、前述の概念及び更なる概念の全ての組み合わせが、(かかる概念が相互に矛盾しなければ)本明細書に開示される発明の主題の一部であると企図されることを理解されたい。具体的には、本開示の終わりに現れる特許請求される主題の全ての組み合わせは、本明細書に開示される発明の主題の一部であると企図される。本明細書で明示的に用いられ、また参照により組み込まれる任意の開示においても出現し得る用語は、本明細書で開示される特定の概念と最も一致する意味が与えられるべきであることも理解すべきである。
以下により詳細に考察される、前述の概念及び更なる概念の全ての組み合わせが、(かかる概念が相互に矛盾しなければ)本明細書に開示される発明の主題の一部であると企図されることを理解されたい。具体的には、本開示の終わりに現れる特許請求される主題の全ての組み合わせは、本明細書に開示される発明の主題の一部であると企図される。本明細書で明示的に用いられ、また参照により組み込まれる任意の開示においても出現し得る用語は、本明細書で開示される特定の概念と最も一致する意味が与えられるべきであることも理解すべきである。
「一例」、「別の例」、「ある例」などへの本明細書全体を通じての言及は、例に関連して記載されている特定の要素(例えば、特徴、構造、及び/又は特性)が、本明細書に記載されている少なくとも1つの例に含まれており、他の例に存在していても、存在していなくともよいことを意味している。更に、文脈上明確に別段の指示がない限り、任意の例に関する記載の要素は、様々な例において任意の好適な様式で組み合わせ得ることを理解すべきである。
本明細書に提供される範囲は、そのような値又は部分範囲が明示的に列挙されているかのように、示される範囲及びその示される範囲内の任意の値又は部分範囲を含むことを理解されたい。例えば、約200mm~約300mmの範囲は、約200mm~約300mmの明示的に列挙された限界だけでなく、約240mm、約250.5mmなどの個々の値、及び約225mm~約275mmなどの部分範囲を含むように解釈されるべきである。更に、「約」及び/又は「実質的に」が値を説明するために利用される場合、それらは、示された値からのわずかな変動(最大で±10%)を包含することを意味する。
いくつかの実施例を詳細に説明してきたが、開示された例は修正され得ることを理解すべきである。したがって、これまでの説明は非限定的なものであると考えるべきである。
Claims (28)
- フローセルであって、
基材と、
前記基材の少なくとも一部分に付着したコポリマーコーティングであって、前記コポリマーコーティングが、複数のコポリマー鎖を含み、各コポリマー鎖が、
式(I):
R1が、-H、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、複素環、及び任意選択で置換されたそれらの変異体からなる群から選択され、
R2が、アジドであり、
各(CH2)pが、任意選択で置換され得、
pが、1~50の整数である、第1の繰り返し単位と、
式(II):
R3、R3’、R4、R4’の各々が、独立して、-H、R5、-OR5、-C(O)OR5、-C(O)R5、-OC(O)R5、-C(O)NR6R7、及び-NR6R7からなる群から選択され、
R5が、-H、-OH、アルキル、シクロアルキル、ヒドロキシアルキル、アリール、ヘテロアリール、複素環、及び任意選択で置換されたそれらの変異体からなる群から選択され、
R6及びR7の各々が、独立して、-H及びアルキルからなる群から選択される、第2の繰り返し単位と、を含み、
前記コポリマー鎖のうちの少なくともいくつかが、少なくとも1つのアルコキシアミン末端基を含む、コポリマーコーティングと、を含む、フローセル。 - 前記基材が、塩基担体と、前記塩基担体に付着した複数のノルボルネンシラン分子と、を含む、請求項1に記載のフローセル。
- 前記複数のノルボルネンシラン分子のうちの少なくとも1つが、前記少なくとも1つのアルコキシアミン末端基を介してそれぞれのコポリマー鎖に付着する、請求項2に記載のフローセル。
- 前記コポリマー鎖のうちのいくつかのR2が、テトラメチルエチレンジアミンで置き換えられる、請求項1に記載のフローセル。
- 前記コポリマーコーティングが、いくつかの分岐コポリマー鎖を含む、請求項4に記載のフローセル。
- R3’、R4、及びR4’の各々が、-Hであり、
R3が、-C(O)NR6R7であり、
R6及びR7の各々が、-Hである、請求項1に記載のフローセル。 - R1が、-Hであり、
pが、5である、請求項6に記載のフローセル。 - 前記基材が、間隙領域によって分離された凹部を含み、
前記コポリマーコーティングが、前記凹部内に付着している、請求項1に記載のフローセル。 - 前記コポリマーコーティングが、前記基材の表面上に、単離されたパッドを形成し、
間隙領域が、前記単離されたパッドを分離する、請求項1に記載のフローセル。 - 前記第1の繰り返し単位及び前記第2の繰り返し単位が、ランダムコポリマーを形成するか、又は
前記第1の繰り返し単位及び前記第2の繰り返し単位が、統計コポリマーを形成するか、又は
前記第1の繰り返し単位及び前記第2の繰り返し単位が、ブロックコポリマーを形成する、請求項1に記載のフローセル。 - 方法であって、
式(III):
式(III)について、
R1が、-H、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、複素環、及び任意選択で置換されたそれらの変異体からなる群から選択され、
R2’が、アジド又はハロゲンであり、
各(CH2)pが、任意選択で置換され得、
pが、1~50の整数であり、
式(IV)について、
R3、R3’、R4、R4’の各々が、独立して、-H、R5、-OR5、-C(O)OR5、-C(O)R5、-OC(O)R5、-C(O)NR6R7、及び-NR6R7からなる群から選択され、
R5が、-H、-OH、アルキル、シクロアルキル、ヒドロキシアルキル、アリール、ヘテロアリール、複素環、及び任意選択で置換されたそれらの変異体からなる群から選択され、
R6及びR7の各々が、独立して、-H及びアルキルからなる群から選択される、共重合することと、
i)ニトロキシド媒介重合単分子開始剤、又はii)水溶性開始剤とニトロキシドとの組み合わせを、前記反応混合物に添加して、前記共重合を開始し、それによりコポリマー鎖との生成物混合物を生成することであって、それによって、前記コポリマー鎖のうちの少なくともいくつかが、アルコキシアミン末端基を有する、生成することと、
表面結合ノルボルネンシラン分子を有する基材上に前記生成物混合物を堆積させることと、
前記アルコキシアミン末端基のうちの少なくともいくつかが、前記表面結合ノルボルネンシラン分子のうちの少なくともいくつかと反応することを可能にし、それによってコポリマーコーティングを形成することと、を含む、方法。 - R2’が、前記アジドであり、
前記方法が、前記コポリマーコーティングを硬化させることを更に含み、それによって、前記アジドのうちのいくつかが、前記表面結合ノルボルネンシラン分子のうちの他のいくつかと反応する、請求項11に記載の方法。 - R2’が、前記ハロゲンであり、
前記生成物混合物の前記堆積の前に、前記方法が、
NaN3を前記生成物混合物に導入することと、
前記生成物混合物を加熱して、前記ハロゲンを前記アジドと置き換えることと、を更に含む、請求項11に記載の方法。 - テトラメチルエチレンジアミンを前記反応混合物に添加することを更に含み、前記コポリマー鎖のうちの少なくともいくつかが、分岐している、請求項11に記載の方法。
- 方法であって、
i)ニトロキシド媒介重合単分子開始剤、又はii)水溶性開始剤とニトロキシドとの組み合わせを、式(III):
式(III)について、
R1が、-H、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、複素環、及び任意選択で置換されたそれらの変異体からなる群から選択され、
R2’が、アジド又はハロゲンであり、
各(CH2)pが、任意選択で置換され得、
pが、1~50の整数であり、
式(IV)について、
R3、R3’、R4、R4’の各々が、独立して、-H、R5、-OR5、-C(O)OR5、-C(O)R5、-OC(O)R5、-C(O)NR6R7、及び-NR6R7からなる群から選択され、
R5が、-H、-OH、アルキル、シクロアルキル、ヒドロキシアルキル、アリール、ヘテロアリール、複素環、及び任意選択で置換されたそれらの変異体からなる群から選択され、
R6及びR7の各々が、独立して、-H及びアルキルからなる群から選択される、添加することと、
それにより前記ノルボルネンシラン分子に共有結合的に付着したコポリマーコーティングを生成することと、を含む、方法。 - R2が、前記アジドであり、
前記方法が、前記基材上の前記コポリマーコーティングを硬化させることを更に含み、それによって、前記アジドのうちのいくつかが、前記表面結合ノルボルネンシラン分子のうちの他のいくつかと反応する、請求項16に記載の方法。 - R2’が、前記ハロゲンであり、
共重合後、前記方法が、
NaN3を前記コポリマーコーティングに導入することと、
前記コポリマーコーティングを加熱して、前記ハロゲンを前記アジドと置き換えることと、を更に含む、請求項16に記載の方法。 - 前記基材上の前記コポリマーコーティングを硬化させることを更に含み、それによって、前記アジドのうちのいくつかが、前記表面結合ノルボルネンシラン分子のうちの他のいくつかと反応する、請求項19に記載の方法。
- 前記共重合中に、テトラメチルエチレンジアミンを前記混合物に添加することを更に含み、前記コポリマー鎖のうちの少なくともいくつかが、分岐している、請求項16に記載の方法。
- 方法であって、
式(III):
R1が、-H、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、複素環、及び任意選択で置換されたそれらの変異体からなる群から選択され、
R2が、アジドであり、
各(CH2)pが、任意選択で置換され得、
pが、1~50の整数である、共重合することと、
重合をクエンチし、それによりブロックコポリマー鎖との第1の生成物混合物を生成することであって、それによって、前記ブロックコポリマー鎖のうちの少なくともいくつかが、アルコキシアミン末端基を有する、生成することと、
式(IV):
R3、R3’、R4、R4’の各々が、独立して、-H、R5、-OR5、-C(O)OR5、-C(O)R5、-OC(O)R5、-C(O)NR6R7、及び-NR6R7からなる群から選択され、
R5が、-H、-OH、アルキル、シクロアルキル、ヒドロキシアルキル、アリール、ヘテロアリール、複素環、及び任意選択で置換されたそれらの変異体からなる群から選択され、
R6及びR7の各々が、独立して、-H及びアルキルからなる群から選択される、生成することと、
i)前記ニトロキシド媒介重合単分子開始剤又はii)前記水溶性開始剤と前記ニトロキシドとの前記組み合わせの存在下で前記第2の反応混合物を重合することと、
前記重合をクエンチし、それによりブロックコポリマー鎖との第2の生成物混合物を生成することであって、それによって、前記ブロックコポリマー鎖のうちの少なくともいくつかが、アルコキシアミン末端基を有する、生成することと、
表面結合ノルボルネンシラン分子を有する基材上に前記第2の生成物混合物を堆積させることと、
前記アルコキシアミン末端基のうちの少なくともいくつかを、前記表面結合ノルボルネンシラン分子のうちの少なくともいくつかと反応させることと、を含む、方法。 - フローセルであって、
基材と、
前記基材の少なくとも一部分に付着したコポリマーコーティングであって、前記コポリマーコーティングが、複数のコポリマー鎖を含み、各コポリマー鎖が、
式(I):
R1が、-H、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、複素環、及び任意選択で置換されたそれらの変異体からなる群から選択され、
R2が、アジドであり、
各(CH2)pが、任意選択で置換され得、
pが、1~50の整数である、第1の繰り返し単位と、
式(II):
R3、R3’、R4、R4’の各々が、独立して、-H、R5、-OR5、-C(O)OR5、-C(O)R5、-OC(O)R5、-C(O)NR6R7、及び-NR6R7からなる群から選択され、
R5が、-H、-OH、アルキル、シクロアルキル、ヒドロキシアルキル、アリール、ヘテロアリール、複素環、及び任意選択で置換されたそれらの変異体からなる群から選択され、
R6及びR7の各々が、独立して、-H及びアルキルからなる群から選択される、第2の繰り返し単位と、
式(VI):
R1が、-H、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、複素環、及び任意選択で置換されたそれらの変異体からなる群から選択され、
R1及びR2が、独立して、炭素系置換基から選択され、
各(CH2)pが、任意選択で置換され得、
pが、1~50の整数である、第3の繰り返し単位と、を含む、コポリマーコーティングと、を含む、フローセル。 - 前記コポリマー鎖のうちの少なくともいくつかが、少なくとも1つのアルコキシアミン末端基を含む、請求項23に記載のフローセル。
- 方法であって、
i)ニトロキシド媒介重合単分子開始剤、又はii)水溶性開始剤とニトロキシドとの組み合わせを、式(V):
式(V)について、
R1が、-H、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、複素環、及び任意選択で置換されたそれらの変異体からなる群から選択され、
ハロが、ハロゲンであり、
各(CH2)pが、任意選択で置換され得、
pが、1~50の整数であり、
式(IV)について、
R3、R3’、R4、R4’の各々が、独立して、-H、R5、-OR5、-C(O)OR5、-C(O)R5、-OC(O)R5、-C(O)NR6R7、及び-NR6R7からなる群から選択され、
R5が、-H、-OH、アルキル、シクロアルキル、ヒドロキシアルキル、アリール、ヘテロアリール、複素環、及び任意選択で置換されたそれらの変異体からなる群から選択され、
R6及びR7の各々が、独立して、-H及びアルキルからなる群から選択される、添加することと、
それによりコポリマーを生成することと、
共重合後、前記ハロゲンのうちのいくつかをアルコキシアミンに、かつ前記ハロゲンのうちの他のいくつかをアジドに変換することと、を含む、方法。 - 前記ハロゲンのうちのいくつかをアルコキシアミンに、かつ前記ハロゲンのうちの他のいくつかをアジドに変換することが、
前記ハロゲンが、前記ヒドロキシルアミンを超えるように、ヒドロキシルアミンを前記コポリマーに導入することと、
前記コポリマーを加熱して、前記ヒドロキシルアミンが、前記ハロゲンのうちのいくつかを変位させる反応を開始することと、
NaN3を前記コポリマーに導入することと、
前記コポリマーを加熱して、前記アジドが前記ハロゲンのうちの他のいくつかを変位させる反応を開始することと、を含む、請求項25に記載の方法。 - 前記ハロゲンのうちのいくつかをヒドロキシアミンに、かつ前記ハロゲンのうちの他のいくつかをアジドに変換することが、
ヒドロキシルアミンとNaN3との混合物を前記コポリマーに導入することと、
前記コポリマーを加熱して、前記ヒドロキシルアミンが前記ハロゲンのうちのいくつかを変位させ、前記アジドが前記ハロゲンのうちの他のいくつかを変位させる反応を開始することと、を含む、請求項25に記載の方法。 - 前記ハロゲンのうちのいくつかをヒドロキシアミンに、かつ前記ハロゲンのうちの他のいくつかをアジドに変換することが、
ヒドロキシルアミンを脱プロトン化して、アルコキシアミンアニオンを形成することと、
前記ハロゲンが前記アルコキシアミンアニオンを超えるように、前記アルコキシアミンアニオンを前記コポリマーに導入することと、
前記コポリマーを加熱して、前記アルコキシアミンアニオンが、前記ハロゲンのうちのいくつかを変位させる反応を開始することと、
NaN3を前記コポリマーに導入することと、
前記コポリマーを加熱して、前記アジドが前記ハロゲンのうちの他のいくつかを変位させる反応を開始することと、を含む、請求項25に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US202063094147P | 2020-10-20 | 2020-10-20 | |
US63/094,147 | 2020-10-20 | ||
PCT/US2021/055616 WO2022086964A1 (en) | 2020-10-20 | 2021-10-19 | Flow cells |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023545338A true JP2023545338A (ja) | 2023-10-30 |
Family
ID=78819616
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022580786A Pending JP2023545338A (ja) | 2020-10-20 | 2021-10-19 | フローセル |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20230295455A1 (ja) |
EP (1) | EP4232485B1 (ja) |
JP (1) | JP2023545338A (ja) |
KR (1) | KR20230092832A (ja) |
CN (1) | CN115996960A (ja) |
AU (1) | AU2021364529A1 (ja) |
BR (1) | BR112022027055A2 (ja) |
CA (1) | CA3182551A1 (ja) |
IL (1) | IL299441A (ja) |
MX (1) | MX2022014825A (ja) |
WO (1) | WO2022086964A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20240150508A1 (en) * | 2022-10-10 | 2024-05-09 | Illumina, Inc. | Photo-switchable chemistry for reversible hydrogels and reusable flow cells |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9012022B2 (en) * | 2012-06-08 | 2015-04-21 | Illumina, Inc. | Polymer coatings |
PT3017065T (pt) * | 2013-07-01 | 2018-12-18 | Illumina Inc | Funcionalização de superfícies sem catalisador e enxerto de polímeros |
JP7437161B2 (ja) * | 2018-06-29 | 2024-02-22 | イラミーナ インコーポレーテッド | フローセル |
US11999696B2 (en) * | 2018-12-18 | 2024-06-04 | Illumina Cambridge Limited | Heterocyclic azide units and their use in polymer coatings |
-
2021
- 2021-10-19 IL IL299441A patent/IL299441A/en unknown
- 2021-10-19 BR BR112022027055A patent/BR112022027055A2/pt unknown
- 2021-10-19 US US18/013,188 patent/US20230295455A1/en active Pending
- 2021-10-19 AU AU2021364529A patent/AU2021364529A1/en active Pending
- 2021-10-19 KR KR1020227045683A patent/KR20230092832A/ko unknown
- 2021-10-19 WO PCT/US2021/055616 patent/WO2022086964A1/en active Application Filing
- 2021-10-19 EP EP21816209.7A patent/EP4232485B1/en active Active
- 2021-10-19 MX MX2022014825A patent/MX2022014825A/es unknown
- 2021-10-19 CA CA3182551A patent/CA3182551A1/en active Pending
- 2021-10-19 CN CN202180045912.9A patent/CN115996960A/zh active Pending
- 2021-10-19 JP JP2022580786A patent/JP2023545338A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
IL299441A (en) | 2023-02-01 |
MX2022014825A (es) | 2023-03-08 |
CA3182551A1 (en) | 2022-04-28 |
KR20230092832A (ko) | 2023-06-26 |
EP4232485A1 (en) | 2023-08-30 |
CN115996960A (zh) | 2023-04-21 |
BR112022027055A2 (pt) | 2023-05-09 |
WO2022086964A1 (en) | 2022-04-28 |
AU2021364529A1 (en) | 2023-01-05 |
US20230295455A1 (en) | 2023-09-21 |
EP4232485B1 (en) | 2024-07-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
AU2021203672B2 (en) | Flow Cells | |
CA3046532A1 (en) | Arrays including a resin film and a patterned polymer layer | |
US20220145379A1 (en) | Kits and flow cells | |
EP3320399A1 (en) | Selective surface patterning via nanoimprinting | |
JP2024520317A (ja) | フローセル及び方法 | |
JP2023545338A (ja) | フローセル | |
US20220185927A1 (en) | Hydrogel | |
US20240091782A1 (en) | Flow cells | |
US12018103B2 (en) | Flow cell and methods | |
CN113767121B (zh) | 水凝胶 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20240726 |