JP2023536138A - 自動化されたサンプル容器カバー取り外し機能とサンプルプローブ位置決め機能を備えたオートサンプラーシステム - Google Patents

Abstract

サンプル容器カバーの取り外しとサンプルプローブの位置決めのためのシステムと方法が開示される。一例として、オートサンプラーシステムは、オートサンプラーデッキのｚ軸周りに回転可能なｚ軸支持体と、ｚ軸支持体に結合されたサンプルプローブ支持構造体であって、オートサンプラーデッキによって支持されたサンプル容器内に保持された流体含有サンプルを回収するためのサンプルプローブを保持するように構成されたサンプルプローブ支持構造体と、サンプルプローブ支持構造体に対してｚ軸から回転方向にオフセットされる姿勢にて、ｚ軸支持体に結合されたサンプルキャップリムーバと、を備え、サンプルキャップリムーバは、サンプルプローブ支持構造体に支持されたサンプルプローブによってサンプル容器の内部にアクセスできるようにサンプル容器からキャップを持ち上げるように構成されている。

Description

［関連出願の相互参照］
本出願は、「AUTOSAMPLER RAIL SYSTEM WITH MAGNETIC COUPLING FOR LINEAR MOTION」と題されて２０２１年３月２２日に出願された米国特許法第１２０条に基づく一部継続出願、米国出願第１７／２０８，１３６号であり、「AUTOSAMPLER RAIL SYSTEM WITH MAGNETIC COUPLING FOR LINEAR MOTION」と題されて２０２０年３月２０日に出願された米国仮出願第６２／９９２，３３４号の米国特許法第１１９条（ｅ）に基づく利益を主張する。また、本出願は、「AUTOSAMPLER SYSTEM WITH AUTOMATED SAMPLE CONTAINER COVER REMOVAL AND SAMPLE PROBE POSITIONING」と題されて２０２０年７月２８日に出願された米国仮出願第６３／０５７，４４１号の米国特許法第１１９条（ｅ）に基づく利益を主張する。米国仮出願第６２／９９２，３３４号および第６３／０５７，４４１号、ならびに米国出願第１７／２０８，１３６号はそれぞれ、その全体における参照により本明細書に組み込まれる。

多くの実験環境では、個々のサンプル容器内に位置する多数の化学的または生化学的サンプルを分析することがしばしば必要になる。このようなプロセスを合理化するために、サンプルの操作は機械化されている。このような機械化されたサンプリングは、一般にオートサンプリングと呼ばれ、自動サンプリング装置、すなわちオートサンプラーを使用して実行される。

自動サンプリング装置、すなわちオートサンプラーは、鉛直方向に延びるロッドに対してサンプルプローブを支持可能であり、前記ロッドは、１つまたは複数の移動方向に沿って、又は該移動方向を横切ってサンプルプローブを移動させる。例えば、サンプルプローブは、鉛直方向にプローブを移動させるプローブ支持アーム（サンプルプローブ支持構造体）または他の装置によってロッドの鉛直移動可能部分に結合されてもよく、これにより、オートサンプラーのデッキ上におけるサンプル容器（例えば、チューブまたは他の容器）、洗浄容器、標準薬品容器、希釈剤容器などの中へ、及び、これらの外へプローブを位置づけることができる。他の状況では、デッキ上に配置された他のサンプル容器および他の容器の上にプローブを位置づけるような水平面でのプローブの移動を容易にするためにロッドが回転され得る。

オートサンプラーは、例えばサンプルバイアル、サンプルチューブ、マイクロタイターのウェルなどのサンプル容器に保存されている複数のサンプルの取り扱いを自動化するために使用される。サンプルプローブをサンプル容器に導入するようにシステムがプログラムされている場合、さまざまなサンプル容器をサンプルプローブに利用できるように、オートサンプラーのデッキ上のサンプルラックによってサンプル容器が支持され得る。オートサンプラーは、プローブの１つまたは複数の動きを容易にするために互いに対して動く複数の金属製の機械部品または構造部品を備え得る。これらの部品が（例えば、摩擦に基づく相互作用が繰り返されることにより）摩耗し始めると、オートサンプラーのデッキ上や、プローブアームの周りに配置された容器内に金属粒子が放出される可能性がある。例えば、金属粒子は、サンプル容器内、プローブ上、またはサンプル調製プロセスで使用される他の容器内（例えば、洗浄容器、標準薬品容器、希釈剤容器など）に直接堆積する可能性があり、これによって、汚染物質がサンプルまたは他の流体に導入され得る。このような汚染物質は、分析機器を介して検出される可能性があり、信頼できないデータや不正確なデータを提供することにより、サンプルやその他の流体の分析測定を歪める可能性がある。さらに、金属製の機械部品や構造部品は、腐食性の酸など、オートサンプラーのデッキ上に存在する刺激の強い化学物質にさらされる可能性があり、これにより、オートサンプラーの通常の動作を通して金属粒子の放出を促進する可能性がある。

オートサンプラーによる処理を待っているサンプルの保留は、例えばサンプルの損失、汚染の危険、またはその他の精度リスクなど、潜在的なマイナスの結果をもたらす可能性がある。所与のサンプルがサンプル容器内に保持される期間は、通常、サンプルハンドリングシステムが、所与のサンプルの前に分析予定のすべてのサンプルを分析するのに必要な時間に依存する。サンプル容器が周囲の環境に対して開いている場合（例えば、上部が開いている場合）、特定のサンプルは、分析を待っている期間に悪影響を受ける可能性がある。例えば、サンプルの一部が蒸発するか、周囲の環境に失われる可能性がある。汚染物質は、サンプル容器の開口部からサンプル容器に導入される可能性がある。複数の異なるサンプル部分が化学的に反応して、システムの一部または他のサンプル容器内に沈殿物が形成される可能性がある。あるいは、別の結果がサンプルの組成の分析の精度に悪影響を及ぼす可能性がある。蒸発の影響は、特に少量のサンプルに影響を与える可能性があり、溶媒や他の液体部分が少量でも失われると、分析精度に大きなばらつきが生じる可能性がある。

したがって、自動的に、サンプル容器のキャップを取り外してサンプルプローブを位置決めすることによって、閉じられたサンプル容器に保持されたサンプルを取り扱うためのシステムおよび方法が開示される。一態様において、オートサンプラーシステムは、自動サンプルキャップリムーバおよびプローブ支持アームを含み、前記オートサンプラーシステムは、サンプルキャップリムーバをサンプルキャップの上に位置決めし、サンプルキャップをサンプル容器から一時的または永久的に取り外し、 プローブ支持アームによって保持されたサンプルプローブをサンプル容器内に位置決めして流体含有サンプルを回収する（抜き出す）ように構成されている。サンプルキャップリムーバは、オートサンプラーのデッキにおけるチャネルに沿って移動するｚ軸支持体によって支持されてもよく、これにより、ｚ軸に沿った動きとｘ－ｙ平面に沿った回転運動が提供される。実施例において、ｚ軸支持体は、サンプルキャップリムーバおよびプローブ支持アームのそれぞれに結合される。例えば、サンプルキャップリムーバは、ｘ－ｙ平面に沿ってプローブ支持アームから回転オフセットされてもよく、これにより、サンプルキャップリムーバがサンプル容器から取り外されたサンプルキャップを支持しているときに、（例えば、サンプル容器へのサンプルプローブの挿入に干渉しないようにするために、）サンプルキャップがサンプルプローブの鉛直軸と交差しないようにすることができる。例えば、サンプルキャップリムーバおよびサンプルプローブが実質的に鉛直方向に配列されるなど、他の構成が考えられる。

サンプル分析中にサンプル内で検出される可能性のある金属粒子がオートサンプラーから放出されることを防止するためのシステムおよび方法も開示される。一態様において、システムは、サンプルプローブを支持するように構成された外側シャトルに磁気的に結合された内側シャトルを含む。内側シャトルは、化学的に不活性な材料（例えば、フルオロポリマー）で形成またはコーティングされたチューブ内に封入され、外側シャトルは、化学的に不活性な材料（例えば、フルオロポリマー）で形成またはコーティングされており、これにより、オートサンプラーの動作中に金属の構成（特徴）が外部環境にさらされないようになっている。内側シャトルはチューブ内を移動し、この動きは、磁気結合を介して外側シャトルに伝達（変換）され、さらにプローブ支持構造体に伝達（変換）される。実施例において、チューブには、該チューブの外周面に表面特性（例えば、スプライン）が設けられ、外側シャトルは、対応する特徴を内周面に有する。前記チューブと外側シャトルの表面特性は、チューブの回転運動を外側シャトルに伝達（変換）するように相互作用して、この外側シャトルの運動は、さらにプローブ支持構造体に伝達（変換）される。オートサンプラーは、オートサンプラーのデッキ上に配置されたサンプル容器や他の容器に金属粒子が露出するリスクなく、サンプルプローブの複数面の動きを容易にする。

一態様において、オートサンプラーは、非限定的ではあるが、オートサンプラーデッキのｚ軸周りに回転可能なｚ軸支持体と、前記ｚ軸支持体に結合されたサンプルプローブ支持構造体であって、前記オートサンプラーデッキによって支持されたサンプル容器内に保持された流体含有サンプルを回収する（抜き出す）ためのサンプルプローブを保持するように構成されたサンプルプローブ支持構造体と、前記サンプルプローブ支持構造体に対して前記ｚ軸から回転方向にオフセットされる姿勢にて、前記ｚ軸支持体に結合されたサンプルキャップリムーバと、を備え、前記サンプルキャップリムーバは、前記サンプルプローブ支持構造体に支持された前記サンプルプローブによって前記サンプル容器の内部にアクセス（到達）できるように前記サンプル容器からキャップを持ち上げるように構成されている。

一態様において、オートサンプラーシステムは、非限定的ではあるが、オートサンプラーデッキのｚ軸周りに回転可能なｚ軸支持体と、前記ｚ軸支持体に結合されたサンプルプローブ支持構造体であって、前記オートサンプラーデッキによって支持されたサンプル容器内に保持された流体含有サンプルを回収する（抜き出す）ためのサンプルプローブを保持するように構成されたサンプルプローブ支持構造体と、前記ｚ軸支持体に結合されたサンプルキャップリムーバと、を備え、前記サンプルキャップリムーバは、前記ｚ軸支持体の外周面に係合するように構成されたクランプ部と、前記クランプ部の少なくとも一部を覆うように構成されたカバー部と、前記カバー部から延びるキャップリムーバ支持アームであって、ｘ－ｙ平面において前記サンプルプローブ支持構造体から回転方向にオフセットされて角度をつけられたキャップリムーバ支持アームとを含み、前記サンプルキャップリムーバは、前記サンプルプローブ支持構造体に支持された前記サンプルプローブによって前記サンプル容器の内部にアクセス（到達）できるように前記サンプル容器からキャップを持ち上げるように構成されている。

以下、添付図面を参照して、詳細な説明が述べられる。以下の説明および図面において、異なる実施例での同じ参照符号の使用は、類似または同一の項目（要素）を示し得る。

本開示の例示的な実施形態に係る、サンプル分析中にサンプル内で検出され得る金属粒子がオートサンプラーから放出されるのを防止するためのオートサンプラープローブレールシステムの等角図である。 図１Ａのオートサンプラープローブレールシステムにおいて、オートサンプラーの支持アームがｚ軸に沿ってより低い位置に移動した状態を示す等角図である。 図１Ａのオートサンプラープローブレールシステムにおいて、支持アームがｚ軸周りに回転された状態を示す等角図である。 図１Ａのオートサンプラープローブレールシステムの一部を側方から見た断面図である。 図１Ａのオートサンプラープローブレールシステムの内側シャトルを示す部分等角図である。 図１Ａのオートサンプラープローブレールシステムにおいて、内側シャトルに支持された磁石と、外側シャトルに支持された磁石とを示す部分断面等角図である。 図１Ａのオートサンプラープローブレールシステムにおいて、関連する駆動システムを側方から見た部分断面図である。 図１Ａのオートサンプラープローブレールシステムの平面図である。 図１Ａのオートサンプラープローブレールシステムの支持アームを示す等角図である。 本開示の例示的な実施形態に係る、図１Ａのオートサンプラープローブレールシステムの外側シャトルの部分等角図である。 本開示の例示的な実施形態に係る、サンプル容器のカバーの取り外しとサンプルプローブの位置決めとが自動化されたオートサンプラーシステムの等角図である。 図９のオートサンプラーシステムの平面図である。 本開示の例示的な実施形態に係る、サンプル容器のカバーの取り外しとサンプルプローブの位置決めとが自動化されたオートサンプラーシステムにおいて、サンプルプローブ及び／又は容器カバー位置決め要素を位置決めするための複数のレールを示す概略図である。 本開示の例示的な実施形態に係る、図９のオートサンプラーシステムのサンプルキャップリムーバの等角断面図である。 本開示の例示的な実施形態に係る、図９のオートサンプラーシステムにおいて、カバーで覆われたサンプル容器の上にカバー位置決めツールが配置された状態を示す図である。 カバー位置決めツールがサンプル容器からカバーを取り外している状態を示すオートサンプラーシステムの図である。 カバー位置決めツールがカバーをサンプルプローブの鉛直軸の外に移動させ、サンプルプローブがサンプル容器の内部に導入された状態を示すオートサンプラーシステムの図である。 ２番目の覆われたサンプル容器の上にカバー位置決めツールが配置された状態を示すオートサンプラーシステムの図である。

図１Ａ～図８を参照すると、本開示の一実施形態に係るオートサンプラープローブレールシステム（「システム１００」）が示されている。システム１００は、システム１００がなければサンプル分析中にサンプル内で検出され得るような金属粒子が、オートサンプラーから放出されるのを防止するためのものである。システム１００は、概して、プローブ支持アーム１０２、外側シャトル１０４、内側シャトル１０６、およびｚ軸支持体１０８を備える。プローブ支持アーム（サンプルプローブ支持構造体）１０２、外側シャトル１０４、およびｚ軸支持体１０８は、それぞれ、システム１００の外部環境への金属成分の露出を防止するために化学的に不活性な材料で形成されるか又はコーティングされた構造を有する。これにより、例えば、オートサンプラーに隣接するサンプル容器内または他の流体容器内への金属汚染物質の導入が防止され得る。例えば、化学的に不活性な材料は、例えばポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）などのフルオロポリマーを含み得るが、これに限定されるものでない。

プローブ支持アーム１０２は、プローブ支持体１１０を備える。プローブ支持体１１０は、オートサンプラーシステムのデッキ上など、システム１００に隣接して配置されたサンプル容器から流体を引き出す（抜き出す）か、又は、当該サンプル容器に流体を導入するためのサンプルプローブおよび関連するチューブを保持する。プローブ支持アーム１０２は、（例えば、摩擦嵌合、スナップ結合（スナップフィット）などを介して）外側シャトル１０４に結合される。この結合部において、プローブ支持アーム１０２および外側シャトル１０４のそれぞれは開口部を画定し、該開口部内にｚ軸支持体１０８の上部１１２がフィット（嵌合）することで、プローブ支持アーム１０２および外側シャトル１０４がｚ軸支持体１０８に結合される。例えば、ｚ軸支持体１０８の上部１１２は、プローブ支持アーム１０２および外側シャトル１０４のそれぞれにおけるほぼ円形の開口部に対応するほぼ円形の形状を有する。なお、ここでは、ほぼ円形の形状が示されているが、例えば長方形、三角形、不規則な形状などを含む、他の任意の形状がシステム１００に利用されてもよい。プローブ支持アーム１０２は、それぞれの構造の間の摩擦嵌合と、ｚ軸支持体１０８内に配置された外側シャトル１０４と内側シャトル１０６との間の磁気結合とによって、ｚ軸支持体１０８に対して適所に保持され得る。実施例において、プローブ支持アーム１０２および外側シャトル１０４、又はこれらの一部は、一体構造として形成されてもよい。

システム１００は、外側シャトル１０４の制御された位置決めと、ｚ軸支持体１０８の回転とを通じて、プローブ支持アーム１０２に保持されたサンプルプローブの位置決めを制御する。例えば、図１Ｂは、ｚ軸支持体１０８に沿った（例えば、ｚ軸１１４に沿った）外側シャトル１０４の動きを示す。この外側シャトル１０４の動きは、外側シャトル１０４と内側シャトル１０６との間の相互作用を介して、プローブ支持アーム１０２を動かす。図１Ｃは、本明細書でさらに説明されるｚ軸支持体１０８の回転によるプローブ支持アーム１０２の回転運動を示す。

図２を参照すると、本開示の実施例に係るシステム１００の断面が示されている。図示のように、ｚ軸支持体１０８は、内部空間２０２を画定する外側チューブ２００を有する。内側シャトル１０６は、内部空間２０２を通過することで外側シャトル１０４の鉛直移動に影響を与えるように構成されている。システム１００は、様々な機構を介して、チューブ２００内で内側シャトル１０６を移動させ得る。当該機構には、例えば、プッシュロッド、スプラインスクリューレール、又はこれらの組み合わせを備えたリニアアクチュエータ（例えば、空気圧アクチュエータ）が含まれるが、これらに限定されるものでない。図示の例において、システム１００は、（例えば、図２～図５に見られるような）スプラインスクリューレール２０４を有する。スプラインスクリューレール２０４は、ｚ軸１１４に沿って配置されたスクリュー２０６と、スクリュー２０６の一部の周囲に配置された構造レール２０８とを有する。構造レール２０８は、ベースに固定して取り付けられ、スクリュー２０６は、チューブ２００内に回転可能に結合される。例えば、システム１００は、チューブ２００内でのスクリュー２０６の回転運動を誘導する第１駆動部（例えば、図５に示されるプーリ駆動部５００）を備えてもよい。内側シャトル１０６は、スクリュー２０６のねじ山に噛み合うように、対応するねじ山を内周面に有する。スクリュー２０６が回転駆動されると、内側シャトル１０６は、上述の対応するねじ山間の相互作用を介して、チューブ２００内で（例えば、内部空間２０２を通って）ｚ軸１１４に沿って鉛直方向に移動される。代替的または追加的に、システム１００は、内部空間２０２内で鉛直方向に内側シャトル１０６を押し込むための空気圧アクチュエータを有する。実施例において、内側シャトル１０６は、構造レール２０８の形状に対応する１つまたは複数の開口部を画定しており、これにより、内側シャトル１０６がチューブ２００内で移動されるときに、構造レール２０８が内側シャトル１０６の前記開口部を通過できる。例えば、内側シャトル１０６は、図３に示される実施例のように、「Ｃ」形の構造レール２０８に適合する「Ｃ」形の開口部を有する。

外側シャトル１０４および内側シャトル１０６はそれぞれ、これらのシャトルを互いに磁気的に結合させるための１つ又は複数の磁石を有する。これにより、内側シャトル１０６が（例えば、スプラインスクリューレール２０４および第１駆動部の動作、空気圧アクチュエータなどの動作によって）ｚ軸１１４に沿って駆動されるとき、これに追従して、外側シャトル１０４は、ｚ軸支持体１０８の外周面に沿って、対応する鉛直方向移動を行う。例えば、図示のように、内側シャトル１０６は、内側シャトル１０６の外側構造体２１２内に配置された２つの磁石２１０を有する。外側構造体２１２は、内側シャトル１０６の本体構造体２１４の周囲に巻き付けられたポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）材料を含んでもよいが、これに限定されるものでない。本実施形態において、本体構造体２１４には、スクリュー２０６のねじ山に噛み合う対応するねじ山が形成されている。磁石２１０は、図示の例において、スプラインスクリューレール２０４の構造体が通過可能な開口部を中央に備えた円形またはリング状の形状を有する。例えば、磁石２１０は、磁石２１０の開口部を通過するスプラインスクリューレール２０４と共に、ｚ軸１１４を取り囲む。内側シャトル１０６は、図示の例において、複数の磁石２１０間に配置されたスペーサ構造体２１６を有する。外側構造体２１２および本体構造体２１４は、各磁石２１０をスペーサ構造体２１６に対して押し込むことで、例えば、システム１００の動作中に磁石２１０間の実質的に均一な距離を維持するなど、磁石２１０間の分離（距離）を制御することができる。磁石２１０は、同じ極が互いに向き合うように（例えば、同じ極がスペーサ構造体２１６に対面（接触）するように）位置合わせされる。例えば、図２は、各磁石２１０のＮ極が、スペーサ構造体２１６を挟んで互いに向き合っており、Ｓ極が互いに離れる方向を向くように配置されていることを示している。代替的に、磁石２１０のＳ極が互いに向き合い、Ｎ極が互いに離れる方向を向くように配置されてもよい。

外側シャトル１０４は、内側シャトル１０６の磁石２１０と相互作用する対応する磁石を有する。例えば、図示のように、外側シャトル１０４は、本体構造体２２０内に保持された２つの対応する磁石２１８を有する。内側シャトル１０６と同様に、外側シャトル１０４は、本体構造体２２０内の複数の磁石２１８間に配置されたスペーサ構造体２２２を有してもよい。本実施形態において、本体構造体２２０は、上部２２４と、上部２２４に結合された下部２２６と、磁石２１８およびスペーサ構造体２２２を収容するために上部２２４と下部２２６との間に画定された空洞（キャビティ）とを有する。上部２２４および下部２２６は、磁石２１８をスペーサ構造体２２２に対して位置決めするように、（例えばスナップフィットにより）互いに固定されてもよい。複数の磁石２１８は、同じ極が互いに向き合うように位置合わせされている。磁石２１８の極は、内側シャトル１０６の隣接する磁石２１０の極に対面し、これらの対面し合う極は、互いに反対の極である。例えば、図２に示すように、磁石２１８のＮ極は、（例えばチューブ２００を挟んで）磁石２１０のＳ極に対面し、磁石２１８のＳ極は、（例えばチューブ２００を挟んで）磁石２１０のＮ極に対面している。磁石２１０および磁石２１８の反対の極同士が対面することによって、磁場は、内側シャトル１０６を外側シャトル１０４に結合させ、これにより、内側シャトル１０６の直線運動は、外側シャトル１０４の対応する直線運動を引き起こすようになっている。なお、図示の例において、システム１００は、外側シャトル１０４および内側シャトル１０６のそれぞれについて磁石を２つずつ有するが、システム１００は２つの磁石に限定されず、各シャトルについて、（例えば、シャトル間の所望の引力に応じて）より少ない磁石またはより多くの磁石を有してもよい。

本実施形態において、チューブ２００には、チューブ２００が回転されるときに外側シャトル１０４の回転運動を容易にするために、チューブ２００の外周面に表面特性が形成されている。例えば、図示の例において、チューブ２００は、チューブ２００の外周面に沿って長手方向に配向された複数のスプライン３００を有する。外側シャトル１０４は、チューブ２００の表面特性と相互作用するための表面特性を内周面に有する。例えば、図示の例において、外側シャトル１０４は、チューブ２００のスプライン３００間のギャップ（間隙）に嵌合する対応するスプライン３０２を有する。チューブ２００および外側シャトル１０４の表面特性は、相互作用して、チューブ２００の回転運動を外側シャトル１０４に伝達（変換）し、さらに、プローブ支持構造体（プローブ支持アーム）１０２をｚ軸１１４周りに回転させるようにプローブ支持構造体１０２に伝達（変換）される。本実施形態において、チューブ２００は、チューブ２００の回転運動を誘導するために、第２駆動部（例えば、図５に示されるプーリ駆動部５０２）の動作を通じて回転される。例えば、システム１００は、静止駆動ベース５０６と回転駆動構造体５０８との間に結合されたブッシング５０４を有してもよい。回転駆動構造体５０８は、プーリ駆動部５０２の動作時にｚ軸１１４周りに回転するように、プーリ駆動部５０２に結合されている。チューブ２００は、回転駆動構造体５０８に結合されており、プーリ駆動部５０２の動作時に回転駆動構造体５０８に対応して回転し、これにより、対応する表面特性（例えば、スプライン３００，３０２）の相互作用を通じて外側シャトル１０４を回転させ、プローブ支持構造体１０２を回転させる。

外側シャトル１０４は、本体構造体２２０をｚ軸支持体１０８の上部１１２に隣接して配置することによって、ｚ軸支持体１０８上に設置されてもよい。この場合、磁石２１８を収容する本体構造体２２０の端部２２８が、磁石２１０を収容する本体構造体２１４の端部２３０に対応するように配置されることで、内側シャトル１０６と外側シャトル１０４を磁気的に結合させるようなシャトル１０４，１０６の磁場間の相互作用が可能になる。外側シャトル１０４およびチューブ２００の表面特性（例えば、それぞれスプライン３０２およびスプライン３００）は、磁石２１８が磁石２１０に結合するまで外側シャトル１０４がｚ軸支持体１０８の下に配置されるように、互いに隣接してスライド可能である。本実施形態において、システム１００は、ｚ軸支持体１０８上への設置時にプローブ支持構造体１０２を所定の方向に向けるためのキー構造を有し、これにより、例えば、チューブ２００の回転を介した間欠化の目的で、プローブ支持構造体１０２に保持されたプローブの特定の位置を提供することができる。例えば、図６の例において、チューブ２００には、キー構造６００（例えば、他のスプライン３００よりも大きな断面を有するスプライン）が設けられ、外側シャトル１０４には、対応するキー構造６０２（例えば、キー構造６００を受容するための開口部）が設けられている。また、プローブ支持構造体１０２および外側シャトル１０４は、チューブ２００に対するプローブ支持構造体１０２の所望の配向を提供するために、対応するキー構造を有する。例えば、図示の例において、外側シャトル１０４は、キー構造６０４を有し、プローブ支持構造体１０２は、対応するキー構造６０６（例えば、キー構造６０４を受容する開口部）を有する。本実施例において、プローブ支持構造体１０２は、別のプローブ支持構造体１０２が外側シャトル１０４に結合できるように、外側シャトル１０４に取り外し可能に結合される。代替的または追加的に、（例えば、隔壁貫通プローブなどを容易にするために）異なるスタイルのプローブ支持構造体をｚ軸支持体上に導入するために、ｚ軸支持体１０８上に異なる外側シャトルが配置されてもよい。

ここで図９～図１２Ｄを参照すると、システム１００は、キャップの取り外し、キャップの再配置、又はキャップの再構成に続いてサンプル容器からサンプルを取り出すために、自動的に、サンプル容器のキャップを取り外してサンプルプローブを位置決めすることによって、閉じられたサンプル容器に保持されたサンプルを処理するための構成例を有する。システム１００は、概して、ｚ軸支持体９００、プローブ支持アーム（サンプルプローブ支持構造体）９０２、およびサンプルキャップリムーバ９０４を備える。システム１００は、ｚ軸支持体９００、サンプルキャップリムーバ９０４、およびプローブ支持アーム９０２によって保持されるサンプルプローブ９０６のそれぞれの動作を調整して、サンプルキャップリムーバ９０４を、（例えば、システム１００のデッキ９０８上に配置された）キャップを有する特定のサンプル容器の上、又は、サンプル容器内にサンプルを封入する他の構造の上に配置し、キャップを取り外すか、そうでなければ、サンプルプローブによるアクセスが可能なようにキャップを修正して、サンプルを取り出すためにサンプルの内部にサンプルプローブを導入し、随意的に、サンプル容器上にキャップ戻し、サンプルキャップリムーバ９０４を別のサンプル容器に再配置して、キャップの取り外しとサンプルの取り出しの手順を繰り返す。例えば、サンプルキャップリムーバ９０４は、非限定的ではあるが、真空圧でキャップを取り外すための真空ピンセット、（例えば、容器のねじ周りにキャップを回転させるための）回転式グリップ構造、（例えば、ｚ軸から離れてキャップを再配置するための）回転式位置決め機構、（例えば、キャップの外周に摩擦嵌合させるための）プロングまたは鉗子構造など、又はこれらの組み合わせを備えてもよい。サンプルプローブ９０６によるサンプル容器内部へのアクセスのためのサンプルキャップの取り外しおよび再配置のためのプロセスの一例が、図１２Ａ～図１２Ｄを参照して本明細書でさらに説明される。実施例において、ｚ軸支持体９００およびプローブ支持アーム９０２は、ｚ軸支持体１０８およびプローブ支持アーム１０２に対応するもの（例えば、金属粒子汚染の防止を容易にするもの）であるが、本開示はそのような構成に限定されるものでなく、システム１００は、ｚ軸支持体９００およびプローブ支持アーム９０２の他の構成および構造を含んでもよい。

図９および図１０Ａに示されるように、プローブ支持アーム９０２およびサンプルキャップリムーバ９０４は、同じｚ軸支持体９００に支持され、チャネル９１０を介してオートサンプラーデッキ９０８上を平行移動したり、モータ動作によってｚ軸周りに回転したりすることができる。本実施例において、プローブ支持アーム９０２及びサンプルキャップリムーバ９０４は、プローブ支持アーム９０２及びサンプルキャップリムーバ９０４が互いに回転方向にオフセットされた状態で、１つまたは複数の非平行な向きに配置される。例えば、プローブ支持アーム９０２及びサンプルキャップリムーバ９０４は、（図１０Ａに符号αとして示される）角度だけｘ－ｙ平面に沿って互いからずらされ得る。当該角度は、サンプルキャップリムーバ９０４によって取り外されるキャップのサイズに基づいて選択され得る。これにより、例えば、キャップがサンプル容器から取り外されるとき、ｚ軸周りにｚ軸支持体９００を回転させて、ｘ－ｙ平面に沿ってキャップをずらし、キャップがサンプルプローブの鉛直軸と交差しないように（例えば、サンプルプローブをサンプル容器内に挿入するのを妨げないように）配置された状態でサンプルプローブ９０６をサンプル容器の開放端の上に位置決めする。本実施例において、ｘ－ｙ平面におけるｚ軸からの角度は、約５度～約９０度であってもよい。例えば、ｘ－ｙ平面におけるｚ軸からの角度は、約１０度～約３５度であってもよい。当該角度がより小さいことにより、システム１００が所与のサンプルを処理するのにかかる時間を短縮することができ、例えば、プローブ支持アーム９０２及びサンプルキャップリムーバ９０４を位置決めするのに必要な動きを少なくすることができる。

単一のｚ軸支持体を用いる構成に代えて、プローブ支持アーム９０２及びサンプルキャップリムーバ９０４は、別個のｚ軸支持体９００上に支持されてもよい。例えば、図１０Ｂを参照すると、プローブ支持アーム９０２は、第１のｚ軸支持体９００Ａによって支持され、サンプルキャップリムーバ９０４は、第２のｚ軸支持体９００Ｂによって支持されており、これにより、デッキ９０８の第１の部分１０００上でのサンプル支持体のキャップ除去が容易になっている。第１のｚ軸支持体９００Ａは、第１のチャネル９１０Ａに沿って平行移動し、第１のｚ軸支持体９００Ａのｚ軸周りに回転して、デッキ９０８の第１の部分１０００上に保持されたサンプル容器の上にサンプルプローブを位置決めする。第２のｚ軸支持体９００Ｂは、第２のチャネル９１０Ｂに沿って平行移動し、第２のｚ軸支持体９００Ｂのｚ軸周りに回転して、デッキ９０８の第１の部分１０００上に保持されたサンプル容器の上にサンプルキャップリムーバ９０４Ｂを位置決めする。図示の例では、第３のｚ軸支持体９００Ｃも設けられている。第３のｚ軸支持体９００Ｃは、デッキ９０８の第２の部分１００２上に支持されたサンプルのキャップ除去を容易にするための別のサンプルキャップリムーバ９０４Ｃを提供して、第３のチャネル９１０Ｃに沿って平行移動される動きと、第３のｚ軸支持体９００Ｃのｚ軸周りの回転とによって、デッキ９０８の第２の部分１００２上に保持されたサンプル容器の上にサンプルキャップリムーバ９０４Ｃを位置決めする。本実施形態において、第２のｚ軸支持体９００Ｂは、プローブ支持アーム９０２をｚ軸周りに完全に回転させて、サンプルキャップリムーバ９０４Ｂ，９０４Ｃによってキャップが取り外されたサンプル容器へのサンプルプローブ９０６によるアクセス、又はシステム１００の別の部分によるアクセスを提供することができる。

図１１を参照すると、図示された実施例において、サンプルキャップリムーバ９０４は、キャップリムーバ支持アーム１１０２によって支持される真空ピンセット構造体１１００を備える。キャップリムーバ支持アーム１１０２は、真空ピンセット構造体１１００をｚ軸支持体９００に対して固定する。サンプルキャップリムーバ９０４は、（例えば、クランプファスナ１１０６を介して）ｚ軸支持体９００の外周面の周りに摩擦嵌合を提供するクランプ部１１０４を備えてもよく、これにより、クランプ部１１０４のｚ軸支持体９００上での鉛直移動、又はｚ軸支持体９００周りの回転移動に抵抗する。ｚ軸周りのｚ軸支持体９００の回転運動およびチャネル９１０に沿った並進運動は、クランプ部１１０４とｚ軸支持体９００との接続部を介してクランプ部１１０４に伝達（変換）される。また、サンプルキャップリムーバ９０４は、（例えば、システム１００の外部環境へのクランプ部１１０４の露出を防止するために）クランプ部１１０４の少なくとも一部を覆うように構成されたカバー部１１０８を備えてもよい。キャップリムーバ支持アーム１１０２は、カバー部１１０８から延びるように設けられ、これにより、カバー部１１０８がクランプ部１１０４上に配置されるときに、真空ピンセット構造体１１００をクランプ部１１０４から実質的に遠位に配置し得る。本実施例において、カバー部１１０８は、クランプ部１１０４に対するカバー部１１０８の鉛直移動を可能にしつつ、クランプ部１１０４上に置かれる（例えば、カバー部１１０８の頂部は、クランプ部１１０４の頂部に係合可能である）。 これにより、（例えば、本明細書に記載のような真空ピンセット構造体１１００の動作中に）それぞれのサンプル容器からキャップを鉛直方向に移動させやすくなる。

サンプルキャップリムーバ９０４には、（例えば、システム１００から、又はシステムの外部から供給され得る）真空圧、流体圧、又はこれらの組み合わせをサンプルキャップリムーバ９０４の部分に導入するために流体チューブが通過可能な１つまたは複数の空間が設けられてもよい。本実施例において、サンプルキャップリムーバ９０４には、キャップリムーバ支持アーム１１０２を通るチャネル１１１０が設けられている。チャネル１１１０は、真空ピンセット構造体１１００の真空ピンセットポート（真空ポート）１１１２に結合して、サンプルキャップリムーバ９０４を通して真空ピンセット構造体１１００に真空を供給するための真空ラインを保持する。次いで、真空ピンセット構造体１１００は、例えば、真空ピンセットポート１１１２に真空を導入することでキャップを取り外し、真空ピンセットポート１１１２に適用される真空を停止することでキャップを再配置することなどによって、サンプル容器に保持されたキャップと相互作用する（係合する）ことができる。本実施例において、サンプルキャップリムーバ（サンプルカバーリムーバ）９０４には、クランプ部１１０４とカバー部１１０８との間に、チャネル１１１０に連通するようにチャネル１１１４が設けられている。これにより、サンプルキャップリムーバ（サンプルカバーリムーバ）９０４は、サンプルキャップリムーバ（サンプルカバーリムーバ）９０４を通る真空ラインを、チャネル１１１０，１１１４を介して真空ピンセット構造体１１００に供給する。代替的または追加的に、サンプルキャップリムーバ９０４は、真空ライン、流体ライン、又はこれらの組み合わせを、サンプルキャップリムーバ９０４の本体の異なる部分内、サンプルキャップリムーバの表面上、又はこれらの組み合わせに保持することができる。

本実施例において、サンプルキャップリムーバ９０４には、１つまたは複数の流体ラインを導入するための空間が設けられ、該流体ラインは、クランプ部１１０４に対するカバー部１１０８の鉛直方向の移動のためにサンプルキャップリムーバ９０４に加圧流体を導入する。これにより、サンプル容器のキャップの取り外しおよび再配置が容易になる。例えば、サンプルキャップリムーバ９０４には、（例えば、クランプ部１１０４を通るか、又は、クランプ部１１０４によって画定される）チャネル１１１６が設けられてもよい。チャネル１１１６は、（例えば、カバー部１１０８またはクランプ部１１０４のうちの１つまたは複数を介して収容される）サンプルキャップリムーバ９０４内のピストンに結合されたピストンポート１１１８に、サンプルキャップリムーバ９０４を通る流体ラインを導入する。本実施例において、サンプルキャップリムーバ９０４は、（例えば、サンプルキャップリムーバ９０４が下げられるまで、キャップと真空ピンセット構造体１１００との間の最初の接触を防止するために）サンプル容器上のキャップの上に持ち上げられた真空ピンセット構造体１１００を位置決めするための上昇位置を維持する。ピストンポート１１１８に空気を加えて、真空ピンセット構造体１１００をキャップに接触させるように下げると、ピストンはカバー部１１０８をクランプ部１１０４に対して鉛直方向下向きに押し下げることができる。例えば、単動ピストンがサンプルキャップリムーバ９０４に含まれる場合など、ピストンポート１１１８に流体圧力が加えられないか、又は不十分である場合、ばねは、ピストンを上昇位置に付勢することができる。代替的に、ピストンは、ピストンを下降位置に付勢するばねを備えてもよく、流体圧力がピストンを押して、ピストンポート１１１８への空気の適用時にカバー部１１０８を上昇位置まで持ち上げる。本実施例において、流体圧力を介してサンプルキャップリムーバの静止位置を付勢するように、二重作用ピストンが利用されてもよい。

クランプ部１１０４に対するカバー部１１０８の鉛直移動は、サンプル容器からキャップを持ち上げる距離を提供することができる。これにより、例えば、サンプルプローブ９０６のためのサンプル容器へのアクセスを提供するために、サンプル容器から離れるようにキャップが移動している間などに、キャップとサンプル容器とが干渉することなく、（例えば、ｚ軸支持体９００の回転運動を介した）サンプルキャップリムーバ９０４のｚ軸周りの回転が可能になる。本実施例において、サンプル容器からキャップを持ち上げるための鉛直距離は約５ｍｍ～約４０ｍｍである。ただし、システム１００は、そのような距離に限定されず、約５ｍｍ未満の鉛直距離、又は、約４０ｍｍを超える鉛直距離を含んでもよい。さらに、システム１００は、上記の鉛直移動を提供する空気圧式ピストンを含むものと説明されているが、システム１００は、そのような構造に限定されない。例えば、システム１００は、サンプルキャップリムーバ９０４の鉛直移動を誘導する追加または代替の構造を備えてもよい。この場合、サンプルキャップリムーバ９０４は、非限定ではあるが、サンプルキャップリムーバ９０４に磁気的に結合されたｚ軸支持体９００内のシャトル、機械的プッシュロッド、リニアドライブ、磁気カップリング、制御可能な電磁カップリングなどを備える。

図１２Ａ～図１２Ｄを参照すると、プローブ支持アーム９０２およびサンプルキャップリムーバ９０４が単一のｚ軸支持体９００に固定され、サンプルキャップリムーバ９０４が空気圧式の真空ピンセット構造体を有する場合における、システム１００の動作例が示されている。システム１００は、複数のサンプル容器とともに図示されており、サンプル容器の内部空間は、サンプル容器の頂部の開口部の上に配置されたキャップによって取り囲まれている。サンプルがシステムによる処理を待っている間、キャップは複数の機能を果たし得る。例えば、（例えば、プローブが容器から容器へ移動されている間などに、）キャップは、環境から化学物質または物体がサンプル容器の開口部を通って導入されるのを防止することにより、サンプルの汚染を防ぐことができる。また、キャップは、例えば溶媒、サンプルマトリックス、または他の成分など、１つまたは複数のサンプル成分の蒸発を防ぐことができる。さらに、キャップは、あるサンプルの一部が別のサンプルの別の部分と相互作用する（例えば、化学的に反応する）のを防ぐことができる。例えば、キャップは、（例えば、水酸化アンモニウムを保持する）ある容器からの蒸気が（例えば、フッ化水素酸を保持する）別の容器からの蒸気と相互作用し、システム１００の一部をコーティングし得る固体沈殿物（例えば、フッ化アンモニウム結晶）を形成するように化学的に反応することを防ぐことができる。図示された例において、キャップは、自重によってサンプル容器に保持されているが、いくつかの実施例において、キャップは、ねじ切り、クリップ、ガスケット、または他の構造のうちの１つまたは複数を介して所定位置に保持されてもよい。

図１２Ａに示すように、システム１００は、第１のサンプル容器１２００内に保持された流体サンプル（流体含有サンプル）を外部環境１２０４から隔離するために頂部に第１のキャップ１２０２が配置された第１のサンプル容器１２００の上に、サンプルキャップリムーバ９０４を位置決めする。次いで、サンプルキャップリムーバ９０４は、図１２Bに示すように、（例えば、サンプルキャップリムーバ９０４の空気圧作動によって、）ｚ軸に沿って第１のキャップ１２０２を鉛直方向に持ち上げることによって、第１のサンプル容器１２００の上部から第１のキャップ１２０２を取り外す。例えば、システム１００は、真空ピンセットポート１１１２に真空を導入し、真空ピンセット構造体１１００の先端をキャップに導入し、流体をピストンポート１１１８に導入して、サンプル容器の上部からキャップを掴んで持ち上げてもよい。

次いで、図１２Cに示すように、第１のキャップ１２０２がサンプルキャップリムーバ９０４によって保持されながら、サンプルキャップリムーバ９０４が、ｘ－ｙ平面に沿って回転されて、第１のキャップ１２０２を再配置する。例えば、ｚ軸支持体９００は、第１のキャップ１２０２を保持して、第１のサンプル容器１２００にサンプルプローブ９０６がアクセスできるように第１のサンプル容器１２００から遠ざけるように第１のキャップ１２０２を移動させながら、ｚ軸周りに回転してサンプルキャップリムーバ９０４の端部を再配置する。プローブ支持アーム９０２及びサンプルキャップリムーバ９０４が単一のｚ軸支持体９００に固定される実施例において、ｚ軸支持体９００の回転運動は、これと同時に、プローブ支持アーム９０２及びサンプルキャップリムーバ９０４のそれぞれをｘ－ｙ平面に沿って動かすことができる。例えば、第１のキャップ１２０２が第１のサンプル容器１２００から取り外されると、ｚ軸支持体９００は、プローブ支持アーム９０２の端部を開いた容器の上に配置して、サンプルプローブ９０６を第１のサンプル容器１２００内の流体サンプル（流体含有サンプル）に導入する準備をすることができる。

サンプルプローブ９０６を位置決めするためのｚ軸支持体９００の回転中、プローブ支持アーム９０２に対するサンプルキャップリムーバ９０４の相対移動により、サンプルの取り出し（回収）のためのサンプルプローブ９０６のアクセスが妨げられないように、サンプルキャップリムーバ９０４が第１のサンプル容器１２００から離れるように動かされる。例えば、図１２Cに示すように、サンプルキャップリムーバ９０４は、第１のサンプル容器１２００から離れて位置決めされ、プローブ支持アームは、ｚ軸支持体９００に沿って鉛直方向に動かされて、サンプルプローブ９０６を第１のサンプル容器１２００内に導入する。次いで、サンプルプローブ９０６は、（例えば、ポンプまたは他の真空源などによってサンプルプローブ９０６に作用する真空を介して）第１のサンプル容器１２００からサンプルを引き出し（吸引し）、（例えば、プローブ支持アーム９０２の鉛直移動を介して）第１のサンプル容器１２００から取り出される。システム１００は、随意的に、例えば、ｚ軸支持体９００の回転およびサンプルキャップリムーバ９０４における真空の解除によって、第１のキャップ１２０２を第１のサンプル容器１２００（またはサンプルキャップ保管場所）に再配置することができる。次いで、図１２Dに示されるように、システム１００は、サンプルキャップリムーバ９０４を第２のサンプル容器１２１０の上に位置決めして、別のサンプルについて同様のプロセスを繰り返す。本実施例において、システム１００は、サンプル容器のベース部をデッキ９０８から特定の高さまで持ち上げるサンプルラック１２１２を備えてもよい。これにより、（例えば、スキャン装置を介して）サンプル容器の下側などへのアクセスを提供できたり、そうでなければ、デッキ９０８上の所定の位置にサンプル容器を保持できたりする。

本実施例において、サンプルキャップリムーバ９０４は、サンプル容器の内部にアクセスするために利用される別の構造に置換されたり、当該構造と組み合わされたり、当該構造に加えて設けられたりしてもよい。例えば、システム１００は、チューブまたは他の流体処理構造を有するサンプルスパイカー（サンプル混合装置）を備えてもよい。この場合、例えば、サンプル分析前の既知の時間にサンプルとの化学反応を誘発するように構成された化学物質など、化学物質を特定の時間にサンプルに導入することができる。

［結論］
以上の内容は、構造的特徴および／またはプロセス動作に特有の用語で説明されているが、添付の特許請求の範囲で定義される内容は、上記の特定の特徴（構成）または行為（動作）に必ずしも限定されないことが理解されるべきである。むしろ、上記の特定の特徴（構成）または行為（動作）は、請求項を実施する例示的な形態として開示されたものに過ぎない。

Claims (20)

1. オートサンプラーデッキのｚ軸周りに回転可能なｚ軸支持体と、
   前記ｚ軸支持体に結合されたサンプルプローブ支持構造体であって、前記オートサンプラーデッキによって支持されたサンプル容器内に保持された流体含有サンプルを回収するためのサンプルプローブを保持するように構成されたサンプルプローブ支持構造体と、
   前記ｚ軸支持体に結合されたサンプルキャップリムーバと、を備え、
   前記サンプルキャップリムーバは、前記ｚ軸支持体の外周面に係合するように構成されたクランプ部と、前記クランプ部の少なくとも一部を覆うように構成されたカバー部と、前記カバー部から延びるキャップリムーバ支持アームであって、ｘ－ｙ平面において前記サンプルプローブ支持構造体から回転方向にオフセットされて角度をつけられたキャップリムーバ支持アームとを含み、
   前記サンプルキャップリムーバは、前記サンプルプローブ支持構造体に支持された前記サンプルプローブによって前記サンプル容器の内部にアクセスできるように前記サンプル容器からキャップを持ち上げるように構成されている、オートサンプラーシステム。
2. 前記サンプルキャップリムーバは、真空が適用されることで前記サンプル容器から前記キャップを取り外すように構成された真空ピンセット構造体を含む、請求項１に記載のオートサンプラーシステム。
3. 前記サンプルキャップリムーバには、前記真空ピンセット構造体の真空ポートに連結するように前記サンプルキャップリムーバを通る真空ラインを受けるためのチャネルが設けられている、請求項２に記載のオートサンプラーシステム。
4. 前記カバー部は、前記クランプ部上に載置可能であり、且つ、
   前記カバー部は、前記クランプ部に対して鉛直方向に相対移動可能である、請求項１に記載のオートサンプラーシステム。
5. 前記サンプルキャップリムーバは、前記クランプ部に対する前記カバー部の鉛直方向の相対移動を提供するように構成されたピストンを含む、請求項４に記載のオートサンプラーシステム。
6. 前記角度は、約５度～約９０度である、請求項１に記載のオートサンプラーシステム。
7. 前記ｚ軸支持体の外周面に結合された外側シャトルと、
   前記ｚ軸支持体の内部空間で直線的に移動可能な内側シャトルと、を更に備え、
   前記内側シャトルは、前記内側シャトルの直線的な移動を前記外側シャトルに伝達するように前記外側シャトルに磁気的に結合されており、
   前記サンプルプローブ支持構造体は、前記外側シャトルの直線的な移動を前記サンプルプローブ支持構造体に伝達するように前記外側シャトルに結合されている、請求項１に記載のオートサンプラーシステム。
8. オートサンプラーデッキのｚ軸周りに回転可能なｚ軸支持体と、
   前記ｚ軸支持体に結合されたサンプルプローブ支持構造体であって、前記オートサンプラーデッキによって支持されたサンプル容器内に保持された流体含有サンプルを回収するためのサンプルプローブを保持するように構成されたサンプルプローブ支持構造体と、
   前記サンプルプローブ支持構造体に対して前記ｚ軸から回転方向にオフセットされる姿勢にて、前記ｚ軸支持体に結合されたサンプルキャップリムーバと、を備え、
   前記サンプルキャップリムーバは、前記サンプルプローブ支持構造体に支持された前記サンプルプローブによって前記サンプル容器の内部にアクセスできるように前記サンプル容器からキャップを持ち上げるように構成されている、オートサンプラーシステム。
9. 前記サンプルキャップリムーバは、真空が適用されることで前記サンプル容器から前記キャップを取り外すように構成された真空ピンセット構造体を含む、請求項８に記載のオートサンプラーシステム。
10. 前記サンプルキャップリムーバには、前記真空ピンセット構造体の真空ポートに連結するように前記サンプルキャップリムーバを通る真空ラインを受けるためのチャネルが設けられている、請求項９に記載のオートサンプラーシステム。
11. 前記サンプルキャップリムーバは、クランプ部とカバー部を含み、
    前記クランプ部は、前記ｚ軸支持体に結合するように構成され、
    前記カバー部は、前記クランプ部の少なくとも一部を覆う、請求項８に記載のオートサンプラーシステム。
12. 前記カバー部は、前記クランプ部上に載置可能であり、且つ、
    前記カバー部は、前記クランプ部に対して鉛直方向に相対移動可能である、請求項１１に記載のオートサンプラーシステム。
13. 前記サンプルキャップリムーバは、前記クランプ部に対する前記カバー部の鉛直方向の相対移動を提供するように構成されたピストンを含む、請求項１２に記載のオートサンプラーシステム。
14. 前記ピストンは、ピストンポートを有する空気圧式ピストンであり、
    前記ピストンポートは、流体を受けるように流体ラインに結合して前記鉛直方向の相対移動を提供するように構成されている、請求項１３に記載のオートサンプラーシステム。
15. 前記サンプルキャップリムーバは、前記カバー部から延びるキャップリムーバ支持アームを含み、
    前記キャップリムーバ支持アームは、ｘ－ｙ平面において前記サンプルプローブ支持構造体から回転方向にオフセットされて角度をつけられる、請求項１１に記載のオートサンプラーシステム。
16. 前記角度は、約５度～約９０度である、請求項１５に記載のオートサンプラーシステム。
17. 前記角度は、約１０度～約３５度である、請求項１５に記載のオートサンプラーシステム。
18. 前記サンプルプローブ支持構造体および前記サンプルキャップリムーバのそれぞれは、前記ｚ軸支持体に直接結合されている、請求項８に記載のオートサンプラーシステム。
19. 前記ｚ軸支持体の外周面に結合された外側シャトルと、
    前記ｚ軸支持体の内部空間で直線的に移動可能な内側シャトルと、を更に備え、
    前記内側シャトルは、前記内側シャトルの直線的な移動を前記外側シャトルに伝達するように前記外側シャトルに磁気的に結合されている、請求項８に記載のオートサンプラーシステム。
20. 前記サンプルプローブ支持構造体は、前記外側シャトルの直線的な移動を前記サンプルプローブ支持構造体に伝達するように前記外側シャトルに結合されている、請求項１９に記載のオートサンプラーシステム。

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