JP2023512245A - サスペンションダンピング - Google Patents

Abstract

サスペンションアセンブリにおいてばね金属層の上に重なるように構成された誘電体層について説明する。誘電体層は、近位端および遠位端を含む舌部分と、舌部分から延びるトレース部分と、空隙と位置合わせされるとともに、舌部分によって画定される開口部と、を含む。開口部は、空隙の中央開口部と部分的に位置合わせされた両端を有する長尺状の開口部を含む。開口部は、長尺状の開口部の両端から延在するとともに、ばね金属層の空隙のチャネルと少なくとも部分的に位置合わせされたスリットをさらに含む。

Description

本開示の実施形態は、ディスクドライブのサスペンションの分野に関し、より具体的には、本開示は、ディスクドライブのサスペンションに含まれるように構成されるとともに、改良されたサスペンションダンピングを提供するフレクシャの分野に関する。

磁気記録ヘッドは通常、トランスデューサとスライダとを備えている。これらは、磁気記録媒体、通常は磁気コーティングを施した回転ディスクに近接して、サスペンションアセンブリによって支持される。サスペンションは、一端に可撓性ジンバル装置を介して読取り／書込みトランスデューサアセンブリを備えたスライダに取り付けられるロードビームと、他端にサスペンションの可撓性部分、すなわち形成領域とを含む。形成領域は次に、サスペンション支持アームに接続される。サスペンション支持アームはアクチュエータと接続する。ディスクの振れや、ディスクの平面に対するぐらつきによるヘッドの動きに追従できるように、トランスデューサのサスペンションは、ディスクの平面に垂直な方向に柔軟であることが望ましい。ディスクの面外運動にトランスデューサが追従しないと、ヘッドとディスクの間隔にばらつきが生じる。さらに、トランスデューサをデータトラック上に正確に配置できるように、サスペンションはディスクと平行な面において極めて高い剛性を持つ必要がある。スライダと磁性体は、音声コイルを動力とするアクチュエータによって、データの適切なトラック上に配置され、データの読み取り、書き込み、および消去が行われる。

データはトランスデューサのギャップから磁束の反転という形で磁気記録媒体に転送される。最近では、１枚のディスクに非常に高密度のデータを格納できるようになっている。正確で高密度のデータ符号化のために、トランスデューサの読取り／書込みギャップを、通常、ディスクから数ナノメートルの高さで、できるだけディスクに近い位置に維持する必要がある。ディスクの記憶容量は、ディスク上の読取り／書込みギャップの高さ、すなわち浮上量に強く関連する（ａ ｓｔｒｏｎｇ ｆｕｎｃｔｉｏｎ ｏｆ）。記憶容量はまた、トラック密度、すなわち半径方向に使用できる記録トラックの数に関連する。これは、アクチュエータモータが、あらかじめ書き込まれたデータのトラック上にトランスデューサを位置づけ、ディスクの回転に伴ってそのトラックを追従できる精度で決定される。したがって、ディスクの記憶容量は、６．４５１６ｃｍ^２（１平方インチ）あたりの磁束反転の数によって測定される。より正確には、面積密度は、線形ビット密度（トラック２．５４ｃｍ（１インチ）あたりの磁束反転数）に、半径方向トラック密度（半径方向に利用可能なトラック数）を掛けたものである。通常、線形ビット密度は、半径方向トラック密度よりも１桁大きい。２．５４ｃｍ（１インチ）あたりの磁束反転数は、ヘッドとディスクとの界面間隔に極めて敏感であり、浮上量の変動により、２．５４ｃｍ（１インチ）あたりの磁束反転数を著しく減少させる。したがって、ヘッドとディスクとの間隔をできるだけ一定に保つことが非常に重要である。

サスペンション共振は、一般に、データシークおよびトラック追従動作時にサスペンションに励起される。ただし、外乱など、サスペンションが共振する原因は他にもある。ディスクドライブの容量を最大化するには、アクチュエータが作動しているときにサスペンションの共振挙動を制御して、より良いトラック追従性能を発揮させる必要がある。

本開示は上記した懸案を鑑みてなされたものである。

サスペンションが提供される。サスペンションは、ジンバル、近位端、および遠位端を有するフレクシャを含む。フレクシャは、近位端から遠位端まで延びる長手方向軸線を有する。ジンバルは、ベース部分、舌状部（ｔｏｎｇｕｅ）、およびベース部分から舌状部まで延びる１対のばねアームを有するばね金属層を含む。ジンバルはまた、ばね金属層の上に重なる誘電体層と、誘電体層の上に重なる導電性金属層とを含む。

導電性金属層は、ベース部分から舌状部まで延びる第１の複数のトレースと、ベース部分から舌状部まで延びる第２の複数のトレースとを含む。サスペンションはまた、ばね金属層に形成されるとともに、舌状部を部分的に取り囲む空隙（ｖｏｉｄ）を含む。誘電体層の一部（ｐｏｒｔｉｏｎ）は、ばね金属層に形成された空隙の一部分（ｓｅｃｔｉｏｎ）を覆う。

サスペンションのいくつかの実施形態では、第１の複数のトレースの一部および第２の複数のトレースの一部は、空隙上で結合されて舌状部に向かって延びる。空隙は、両端を有する中央開口部（ｃｅｎｔｒａｌ ｏｐｅｎｉｎｇ）と、中央開口部の両端から延びる第１および第２のチャネルとを含む。誘電体層は、舌部分（ｔｏｎｇｕｅ ｐｏｒｔｉｏｎ）、トレース部分、および空隙と位置合わせされるとともに、舌部分およびトレース部分によって画定される開口部（ａｐｅｒｔｕｒｅ）を含むことができる。舌部分は、近位端および遠位端を有する。トレース部分は、舌部分の遠位端から延びる。開口部は、空隙の中央開口部と部分的に位置合わせされた両端を有する長尺状の開口部（ｅｌｏｎｇａｔｅｄ ｏｐｅｎｉｎｇ）と、長尺状の開口部の両端から延在するとともに、空隙の第１および第２のチャネルを少なくとも部分的に露出させるスリットとを含む。

サスペンションのいくつかの実施形態では、開口部のスリットは、長尺状の開口部の両端から、舌部分の近位端と遠位端との間の長さの４０％まで延びる。具体的には、開口部のスリットは、長尺状の開口部の両端から舌部分の近位端と遠位端との間の長さの２５％まで延びる。他の実施形態では、開口部のスリットは、長尺状の開口部の両端から舌部分の近位端と遠位端との間の長さの８０％まで延びる。具体的には、開口部のスリットは、長尺状の開口部の両端から舌部分の近位端と遠位端との間の長さの５０％まで延びる。

誘電体層も提供される。誘電体層は、舌部分、トレース部分、および空隙と位置合わせされるとともに、舌部分によって画定される開口部を含む。舌部分は、近位端および遠位端を有する。トレース部分は、舌部分の近位端から延びる。開口部は、空隙の中央開口部と部分的に位置合わせされた両端を有する長尺状の開口部を含む。

いくつかの実施形態では、開口部は、長尺状の開口部の両端から延在するとともに、空隙の第１および第２のチャネルを少なくとも部分的に露出させるスリットをさらに含む。開口部のスリットは、長尺状の開口部の両端から、舌部分の近位端と遠位端との間の長さの４０％まで延びることができる。具体的には、開口部のスリットは、長尺状の開口部の両端から舌部分の近位端と遠位端との間の長さの２５％まで延びる。あるいは、開口部のスリットは、長尺状の開口部の両端から、舌部分の近位端と遠位端との間の長さの８０％まで延びる。具体的には、開口部のスリットは、長尺状の開口部の両端から舌部分の近位端と遠位端との間の長さの５０％まで延びる。

フレクシャも提供される。フレクシャは、ジンバル、近位端、および遠位端を含む。フレクシャは、近位端から遠位端まで延びる長手方向軸線を有する。ジンバルは、ベース部分、舌状部、およびベース部分から舌状部まで延びる１対のばねアームを有するばね金属層を含む。ジンバルはまた、ばね金属層の上に重なる誘電体層と、誘電体層の上に重なる導電性金属層とを含む。

導電性金属層は、ベース部分から舌状部まで延びる第１の複数のトレースと、ベース部分から舌状部まで延びる第２の複数のトレースとを含む。フレクシャはまた、ばね金属層に形成されて舌状部を部分的に取り囲む空隙を含む。誘電体層の一部は、ばね金属層に形成された空隙の一部分を覆う。

フレクシャのいくつかの実施形態では、第１の複数のトレースの一部および第２の複数のトレースの一部は、空隙上で結合されて舌状部に向かって延びる。空隙は、両端を有する中央開口部と、中央開口部の両端から延びる第１および第２のチャネルとを含む。誘電体層は、舌部分、トレース部分、および空隙と位置合わせされるとともに、舌部分およびトレース部分によって画定される開口部を含むことができる。舌部分は、近位端および遠位端を有する。トレース部分は、舌部分の遠位端から延びる。開口部は、空隙の中央開口部と部分的に位置合わせされた両端を有する長尺状の開口部と、長尺状の開口部の両端から延在するとともに、空隙の第１および第２のチャネルを少なくとも部分的に露出させるスリットとを含む。

フレクシャのいくつかの実施形態では、開口部のスリットは、長尺状の開口部の両端から、舌部分の近位端と遠位端との間の長さの４０％まで延びる。具体的には、開口部のスリットは、長尺状の開口部の両端から舌部分の近位端と遠位端との間の長さの２５％まで延びる。フレクシャの他の実施形態では、開口部のスリットは、長尺状の開口部の両端から、舌部分の近位端と遠位端との間の長さの８０％まで延びる。具体的には、開口部のスリットは、長尺状の開口部の両端から舌部分の近位端と遠位端との間の長さの５０％まで延びる。

本開示の実施形態の他の特徴および利点は、添付の図面および以下の詳細な説明から明らかになるであろう。
本開示の実施形態は、添付の図面の図において限定ではなく例として示され、図面における同様の参照は同様の要素を示す。

本開示の一実施形態による、フレクシャを有するサスペンションの等角図である。 本開示の一実施形態による、サスペンションの裏面の斜視図である。 本開示の一実施形態による、サスペンションのフレクシャを示す図である。 本開示の一実施形態による、フレクシャの誘電体層を示す図である。 本開示の一実施形態による、フレクシャの誘電体層を示す図である。 本開示の一実施形態による、フレクシャの誘電体層を示す図である。 本開示の一実施形態による、フレクシャの誘電体層を示す図である。 本開示の一実施形態による、フレクシャ１１２を示す図である。

サスペンションおよびその構成要素が本明細書に記載されている。このようなサスペンションには、２段階作動（ＤＳＡ）サスペンションおよび３段階作動サスペンションが含まれるが、これらに限定されない。サスペンションは、いくつかの実施形態によれば、ジンバル、近位端、および遠位端を有するフレクシャを含む。フレクシャは、近位端から遠位端まで延びる長手方向軸線を有する。ジンバルは、ベース部分、舌状部、およびベース部分から舌状部まで延びる１対のばねアームを有するばね金属層を含む。ジンバルはまた、ばね金属層の上に重なる誘電体層と、誘電体層の上に重なる導電性金属層とを含む。

導電性金属層は、ベース部分から舌状部まで延びる第１の複数のトレースと、ベース部分から舌状部まで延びる第２の複数のトレースとを含む。サスペンションはまた、ばね金属層に形成されて、舌状部を部分的に取り囲む空隙を含む。第１の複数のトレースの一部および第２の複数のトレースの一部は、空隙上で結合されて舌状部に向かって延びる。誘電体層の一部は、ばね金属層に形成された空隙の一部分を覆う。開示されたフレクシャは追加の剛性を提供し、そのような合成はサスペンションの機械的特性を向上させる。

図１は、本開示の一実施形態による、同じ場所に配置されたまたはジンバルベースの作動構造１４を備えたフレクシャ１２を有するサスペンション１０の等角図である。図１に示されるように、サスペンション１０は、近位取付構造としてベースプレート１６を含む。サスペンション１０はまた、ばねまたはヒンジ領域２２に沿ってベースプレート１６に結合された剛性またはビーム領域２０を有するロードビーム１８を含む。ロードビーム１８は、ステンレス鋼から形成することができる。フレクシャ１２は、フレクシャ１２の遠位端にジンバル２４を含む。同じ場所に配置されたまたはジンバルベースの作動構造１４は、ジンバル２４上に配置されて、ロードビーム１８の遠位端に隣接する。

図２は、本開示の一実施形態による、サスペンション１０の裏面（ｕｎｄｅｒｓｉｄｅ）を示す斜視図である。ヘッドスライダ３２は、ロードビーム１８とは反対側のサスペンション１０の側で、ジンバル２４の舌状部３３に取り付けられる。同じ場所に配置されたまたはジンバルベースの作動構造１４は、ロードビーム１８とヘッドスライダ３２との間のフレクシャ１２のジンバル２４に取り付けられた、図示の実施形態ではＰＺＴまたは他の圧電アクチュエータであるモータ３４を含む。モータ３４に印加される電気駆動信号に応答して、モータは、舌状部３３およびスライダ３２を含むジンバル２４の部分を、ほぼ横方向のトラッキング軸を中心に駆動する。本明細書において、近位および遠位とは、サスペンションの長手方向軸線に沿った相対的な方向を指し、横方向とは、サスペンションの長手方向軸線に直交する左方向および／または右方向を指す。例えば、ベースプレート１６はロードビーム１８の近位にあり、モータ３４の両端は横方向に延びている。

図３は、本開示の一実施形態による、サスペンション１０のフレクシャ１２を示す。フレクシャ１２は、ステンレス鋼層４０などのばね金属、ポリイミドまたは他の誘電体層４２、銅または他の導電性材料層４４、およびポリイミド層などのカバーレイを重ね合わせて形成される。ステンレス鋼層４０は、別の金属または剛性材料から形成することもできる。誘電体層４２は、一般に、導電性材料層４４に形成された構造を、ステンレス鋼層４０の隣接部分から電気的に分離する。

カバーレイは、一般に、導電性材料層４４に形成された構造を覆いかつ保護する。ジンバル２４は、ばねアーム５２および舌状部３３を含む。ばねアーム５２は、ステンレス鋼層４０のベース部分５０から延出する。舌状部３３の一部である取付領域５４は、ばねアーム５２から延出する支持領域５８から延びる１対のストラット５６によって、ばねアーム５２の間に支持されている。いくつかの実施形態では、１対のストラット５６は、ばねアーム５２の間で舌状部３３を接続または支持するステンレス鋼層４０の唯一の部分である。

具体的には、ストラット５６は、ばねアーム５２と舌状部３３との間の唯一の構造的連結部となり得る。また、ストラット５６は、舌状部３３と接続する際に、ベース部分５０の遠位のばねアーム５２の間を連結するステンレス鋼層４０の唯一の部分とすることができる。示されるように、ストラット５６は、フレクシャ１２の長手方向軸線に対して互いにオフセットされているか、そうでなければ、ばねアーム５２に対するトラッキング軸線を中心に取付領域５４の回転運動を可能にするように構成されている。ストラット５６はそれぞれ、例えばＸ－Ｙ平面においてステンレス鋼層４０の最も狭い部分であってもよく、一方、ステンレス鋼層４０の厚さはフレクシャ１２に沿って一定であってもよい。

導電性材料層４４に形成された複数のトレース６０は、誘電体層４２に形成されたフレキシブル回路に沿ってベース部分５０と舌状部３３との間に延在している。いくつかのトレース６０は、舌状部３３上の遠位領域上の位置で終端し、スライダ上の読取り／書込みヘッドの端子に電気的に取り付けられるように構成される。他のトレース６０は、モータ３４の下方にある舌状部３３上の銅パッド６４などの接点で終端する。誘電体層４２の一部は、導電性材料層４４の下で取付領域５４上に延び、支持領域５８の一部にわたって延びている。舌状部３３は、ベース部分５０に向かって長手方向に突出しており、フレクシャ１２を通る空隙６５または開口部（ａｐｅｒｔｕｒｅ）によって三方を囲まれている。

空隙６５は、中央開口部（ｃｅｎｔｒａｌ ｏｐｅｎｉｎｇ）６６、第１のチャネル６９Ａおよび第２のチャネル６９Ｂを含む。第１のチャネル６９Ａは、ばねアーム５２、ストラット５６、支持領域５８、および取付領域５４によって画定することができる。導電性材料層４４に形成されたトレース６０Ａの第１の部分は、取付領域５４から第１のチャネル６９Ａの上に延在し、そこでステンレス鋼層４０より垂設されている（ｓｕｓｐｅｎｄｅｄ ｆｒｏｍ）。トレース６０Ａの第１の部分は、空隙６５の上に懸架される（ｓｕｓｐｅｎｄｅｄ ｏｖｅｒ）とともに、ベース部分５０に取り付けられる。

第２のチャネル６９Ｂは、ばねアーム５２、ストラット５６、支持領域５８、および取付領域５４によって画定することができる。導電性材料層４４に形成されたトレース６０Ａの第２の部分は、取付領域５４から第２のチャネル６９Ａの上に延在し、そこでステンレス鋼層４０より垂設されている。トレース６０Ａの第１の部分は、空隙６５の上に懸架されるとともに、ベース部分５０に取り付けられる。

誘電体層４２は、中央開口部６６、第１のチャネル６９Ａ、および第２のチャネル６９Ｂに一致する開口部（ａｐｅｒｔｕｒｅ）７０を有する。誘電体層のいくつかの実施形態は、図４～７においてさらに詳細に例証する。

図４は、本開示の一実施形態による、フレクシャの誘電体層４２を示す。誘電体層４２は、舌部分５４Ａ、下部トレース部分６０Ａ、上部トレース部分６０Ｂ、および開口部７０を含む。開口部７０は、舌部分５４Ａ、下部トレース部分６０Ａ、および上部トレース部分６０Ｂによって画定される。上部トレース部分６０Ｂは舌部分５４Ａから延びる。舌部分５４Ａは、近位端５４Ｂおよび遠位端５４Ｃを含むことができる。誘電体層４２の開口部７０は、両端を有する長尺状の開口部（ｅｌｏｎｇａｔｅｄ ｏｐｅｎｉｎｇ）７１を含む。長尺状の開口部７１は、下部トレース部分６０Ａおよび舌部分５４Ａの近位端５４Ｂによって画定される。開口部７０はまた、長尺状の開口部７１の両端から延びるスリット７２を含む。スリット７２は、舌部分５４Ａおよび上部トレース部分６０Ｂによって画定される。長尺状の開口部７１は、空隙（図３に示される空隙６５）の中央開口部と少なくとも部分的に位置合わせして、スリット７２は、第１および第２のチャネル（図３に示される空隙６５の第１および第２のチャネル６９Ａ、６９Ｂ）を少なくとも部分的に露出させる。スリット７２は、舌部分５４Ａの近位端５４Ｂと、舌部分５４Ａから延びる上部トレース部分６０Ｂとの間の全長７３にわたって延びる。いくつかの実施形態では、全長７３は、０．６ミリメートル（ｍｍ）～０．９ｍｍを含む範囲にある。いくつかの実施形態によれば、上部トレース部分６０Ｂは、導電性材料層内の複数のトレース６０の幅によって画定されて、誘電体層４２上に配置されるように構成される。いくつかの実施形態によれば、上部トレース部分６０Ｂの幅は、０．２ｍｍ～０．２５ｍｍを含む範囲である。いくつかの実施形態では、図示の誘電体層４２は、サスペンション１０とは別に形成されてサスペンション１０に使用される。

図５は、本開示の一実施形態による、フレクシャの誘電体層４２を示す。上述のように、誘電体層４２Ａは、タング部分５４Ａ、下部トレース部分６０Ａ、上部トレース部分６０Ｂ、および開口部７０を含む。開口部７０は、舌部分５４Ａ、下部トレース部分６０Ａ、および上部トレース部分６０Ｂによって画定される。上部トレース部分６０Ｂは、舌部分５４Ａの遠位端５４Ｃから延びる。長尺状の開口部７１は、下部トレース部分６０Ａおよび舌部分５４Ａの近位端５４Ｂによって画定される。スリット７２は、舌部分５４Ａおよび上部トレース部分６０Ｂによって、縮小長７４で画定される。スリット７２は、上述した全長７３よりも縮小長７４だけ短く延在する。いくつかの実施形態では、縮小長７４は、スリット７２の遠位端から、誘電体層４２Ａの上部トレース部分６０Ｂ上に配置されている、または配置される予定の導電性材料層における複数のトレース６０の近位端までの距離である。縮小長７４は、全長７３の１～４０パーセント縮小したものである。具体的には、縮小長は、舌部５４Ａの近位端５４Ｂから舌部５４Ａの遠位端５４Ｃに向かう間のスリット７２の長さの２５％である。スリット７２の縮小は、上部トレース部６０Ｂの誘電体材料を増加させて、誘電体層４２Ａの寸法を増大させる。

図６は、本開示の一実施形態による、フレクシャの誘電体層４２Ｂを示す。誘電体層４２Ｂは、舌部分５４Ａ、下部トレース部分６０Ａ、上部トレース部分６０Ｂ、および開口部７０を含む。開口部７０は、舌部分５４Ａ、下部トレース部分６０Ａ、および上部トレース部分６０Ｂによって画定される。上部トレース部分６０Ｂは、舌部分５４Ａの遠位端５４Ｃから延びる。長尺状の開口部７１は、下部トレース部分６０Ａおよび舌部分５４Ａの近位端５４Ｂによって画定される。スリット７２は、舌部分５４Ａおよび上部トレース部分６０Ｂによって、縮小長７５で画定される。スリット７２は、上述した全長７３よりも縮小長７５だけ短く延在する。いくつかの実施形態では、縮小長７５は、スリット７２の遠位端から、誘電体層４２Ａの上部トレース部分６０Ｂ上に配置されている、または配置される予定の導電性材料層における複数のトレース６０の近位端までの距離である。縮小長７５は、全長７３の４１～９９パーセントの長さ縮小である。具体的には、縮小長は、舌部５４Ａの近位端５４Ｂから舌部５４Ａの遠位端５４Ｃに向かう間のスリット７２の長さの５０％である。スリット７２の縮小は、上部トレース部６０Ｂの誘電体材料を増加させることで、誘電体層４２Ｂの寸法を増大させる。

図７は、本開示の一実施形態による、フレクシャの誘電体層４２Ｃを示す。誘電体層４２Ｃは、舌部分５４Ａ、下部トレース部分６０Ａ、および開口部７０を含む。開口部７０は、舌部分５４Ａおよび下部トレース部分６０Ａによって画定される。開口部７０は、長尺状の開口部７１の両端から上部トレース部分６０Ｂに向かって延びるスリットを含まない。代わりに、舌部分５４Ａは、トレース部分６０Ａとの結合を含むように幅が拡張されている。前述のスリットの代わりにポリイミドを完全に充填してもよい。ポリイミドの完全充填は、誘電体層４２Ｂの寸法をさらに増大させる。図３に戻ると、増加した誘電体層４２Ｂは、（上述の）誘電体層４２Ｂと比較して、取付部５４上および支持領域５８の大部分にわたってより多くの被覆を提供する。

図７に示す実施形態のような誘電体層４２Ｃは、完全充填を組み込んでいる。この構成では、トレースモード周波数（ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）が非常に低いか、または存在しない。図４に示す実施形態のように、全長７３に延びるスリット７２を有する誘電体層４２を組み込んだサスペンションも、非常に低いトレースモード周波数から存在しないトレースモード周波数を例示する。それぞれ図５および図６に示される実施形態など、誘電体層４２Ａ、４２Ｂの部分的な充填構成を組み込んだサスペンションは、トレースモード周波数の増加、ジンバルピッチおよびロール剛性（Ｋｐ、Ｋｒ）の増加、ならびに全長に延びるスリットを含むサスペンションのＴ１－ＦＸ位相範囲からのＴ１－ＦＸ位相範囲の減少を示した。本明細書で使用される用語「ｚ高さ」またはＺ－ｈｔは、ベースプレートフランジからデータディスク表面までの距離を指す。ポリイミド材料が５０％（誘電体層４２Ｂ）まで増加すると、トレースモード周波数は、全長に延びるスリットを含むサスペンションの周波数から増加する。

縮小スリットを組み込んだサスペンションは、全長スリットを備えた実施形態に比べて、ストロークの増加、ジンバルピッチの増加、およびロール剛性の増加を示した。材料が増え、スリットが小さくなることで、特にサスペンションが横方向に曲がるような場合には、サスペンションの剛性を増大させる。

サスペンションの横曲げ方向の剛性が増すと、共振ピークＰが比較的高い周波数で現れる。例えば、ポリイミドスリットのない誘電体層を組み込んだサスペンションは、トレースモードの共振をほとんどまたはまったく示さない。トレースモードの共振は、誘電体層のスリットが減少するにつれて、より高い周波数で現れる。例えば、誘電体層４２を組み込んだサスペンションのトレースモードの共振は８．３ｋＨｚである。これに対し、誘電体層４２Ｂを組み込んだサスペンションのトレースモードの共振は、１１．９ｋＨｚである。誘電体層のスリットが減少すると、Ｔ１－ＦＸ位相範囲が減少する。ただし、スリットが２５％（２５％充填（ｆｉｌｌ））減少すると、トレースモードとＴ１－ＦＸモードの周波数の分離が少なくなるため、Ｔ１－ＦＸ位相範囲が増加したように見える。

図８は、本開示の一実施形態による、フレクシャ１１２を示す。フレクシャ１１２は、導電性材料層４４に形成された複数のトレース６０を含む。トレース６０は、誘電体層４２に形成されたフレキシブル回路に沿って、ベース部分５０と舌状部３３との間に延在する。上述のように、舌状部３３は、ベース部分５０に向かって長手方向に突出するとともに、フレクシャを通る空隙６５または開口部によって三方を取り囲まれている。トレース６０がベース部分５０から延びると、トレース６０の第１の複数６２は、空隙６５上でトレース６０の第２の複数６３に向かって収束する。トレース６０の第１の複数６２および第２の複数６３は、ブリッジ６１を介して結合されてもよい。ブリッジ６１は、誘電体層４２の一部によって支持された導電性材料層４４の一部を含む。

ブリッジ６１を組み込んだサスペンションの実施形態は、トレースモード周波数変動（ｓｈｉｆｔ）を示した。ブリッジ６１を組み込んだサスペンションはまた、ブリッジのないサスペンションよりもヨー周波数の増加を示した。ブリッジ６１を組み込んだサスペンションは、ブリッジのないサスペンションよりもストロークの増加とロール剛性（Ｋｒ）の増加も示した。第１および第２の複数（６２、６３）のトレース６０を結合するブリッジ６１を組み込むサスペンションは、ストロークの増加、およびロール剛性の増加を示した。

サスペンションの横曲げ方向の剛性が増すと、共振ピークＰが比較的高い周波数で現れる。例えば、トレース６０の第１の複数６２とトレース６０の第２の複数６３とを結合するブリッジ６１を組み込んだサスペンションは、ブリッジのないサスペンションよりヨー周波数の増加を示す。

以上、様々な実施形態について説明したが、これらは例として提示したものであり、限定するものではない。本発明の精神および範囲から逸脱することなく、形態および詳細にさまざまな変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。例えば、ブリッジ６１の構成と誘電体層４２Ａ～４２Ｃを別々に考察した。しかし、ブリッジ構成６１は、誘電体層４２Ａ～４２Ｃのいずれにも実装できる。したがって、実施形態は、所望の性能のための特性を有するようにサスペンションを調整するために独立してまたは一緒に使用されるブリッジおよびスプリットを含む。

実際、上記の説明を読むと、当業者には、代替実施形態をどのように実施するかが明らかになるはずである。例えば、説明したフローに他のステップを追加したり、ステップを削除したり、説明したシステムに他の構成要素を追加したり、削除したりすることができる。したがって、他の実施態様は、以下の請求項の範囲内にある。

さらに、機能および利点を強調する図は、例示のみを目的として提示されている。開示された方法論およびシステムはそれぞれ、示された以外の方法で利用できるように、十分に柔軟で構成可能である。

「少なくとも１つ（ａｔ ｌｅａｓｔ ｏｎｅ）」という用語は、本明細書、特許請求の範囲および図面でしばしば使用されることがあるが、「１つの（ａ）」、「１つの（ａｎ）」、「その（ｔｈｅ）」、「前記（ｓａｉｄ）」などの用語も、本明細書、特許請求の範囲および図面において「少なくとも１つ」または「前記少なくとも１つ」を意味する。

Claims (22)

1. サスペンションであって、
   ジンバル、近位端および遠位端を含むフレクシャであって、フレクシャは近位端から遠位端まで延びる長手方向軸線を有しており、ジンバルは、ベース部分、舌状部、およびベース部分から舌状部まで延在する１対のばねアームを有するばね金属層と、ばね金属層の上に重なる誘電体層と、誘電体層の上に重なる導電性金属層と、を含んでおり、導電性金属層は、ベース部分から舌状部まで延在する第１の複数のトレースと、ベース部分から舌状部まで延在する第２の複数のトレースとを含んでいる、フレクシャと、
   前記ばね金属層に形成されるとともに、前記舌状部を部分的に取り囲む空隙であって、前記第１の複数のトレースの一部および前記第２の複数のトレースの一部は、空隙上で結合されるとともに、前記舌状部に向かって延びており、前記誘電体層の一部は、前記ばね金属層に形成された空隙の一部分と重なっている、空隙と、を備えているサスペンション。
2. 前記空隙が、両端を有する中央開口部と、中央開口部の両端から延びる第１および第２のチャネルと、を含んでいる、請求項１に記載のサスペンション。
3. 前記誘電体層が、舌部分と、トレース部分と、前記空隙と位置合わせされるとともに、舌部分およびトレース部分によって画定される開口部と、を含んでおり、
   前記舌部分が近位端および遠位端を有しており、前記トレース部分が前記舌部分の遠位端から延在しており、
   前記開口部が、前記空隙の中央開口部と部分的に位置合わせされる両端を有する長尺状の開口部と、長尺状の開口部の両端から延在するとともに、前記空隙の第１および第２のチャネルを少なくとも部分的に露出させるスリットと、を含んでいる、請求項２に記載のサスペンション。
4. 前記開口部のスリットが、前記長尺状の開口部の両端から、前記舌部分の近位端と遠位端との間の長さの４０％まで延在している、請求項３に記載のサスペンション。
5. 前記開口部のスリットが、前記長尺状の開口部の両端から、前記舌部分の近位端と遠位端との間の長さの２５％まで延在している、請求項３に記載のサスペンション。
6. 前記開口部のスリットが、前記長尺状の開口部の両端から、前記舌部分の近位端と遠位端との間の長さの８０％まで延在している、請求項３に記載のサスペンション。
7. 前記開口部のスリットが、前記長尺状の開口部の両端から、前記舌部分の近位端と遠位端との間の長さの５０％まで延在している、請求項３に記載のサスペンション。
8. 前記誘電体層が、舌部分と、トレース部分と、前記空隙と位置合わせされるとともに、舌部分によって画定される開口部と、を含んでおり、
   前記舌部分が、近位端および遠位端を有しており、前記トレース部分が前記舌部分の近位端から延びており、
   前記開口部が、前記空隙の中央開口部と部分的に位置合わせされる両端を有す長尺状の開口部を含んでいる、請求項２に記載のサスペンション。
9. サスペンションアセンブリのばね金属層を覆うように構成されている誘電体層であって、誘電体層は、
   近位端および遠位端を有する舌部分と、
   舌部分から延びるトレース部分と、
   ばね金属層の空隙と位置合わせするように構成されるとともに、舌部分によって画定される開口部であって、前記空隙の中央開口部と部分的に位置合わせする両端を有する長尺状の開口部を含んでいる開口部と、を備えている誘電体層。
10. 前記開口部が、前記長尺状の開口部の両端から延在するとともに、前記ばね金属層の空隙のチャネルと少なくとも部分的に位置合わせされたスリットをさらに含んでいる、請求項９に記載の誘電体層。
11. 前記開口部のスリットが、前記長尺状の開口部の両端から前記舌部分の近位端と遠位端との間の長さの４０％まで延在している、請求項１０に記載の誘電体層。
12. 前記開口部のスリットが、前記長尺状の開口部の両端から前記舌部分の近位端と遠位端との間の長さの２５％まで延在している、請求項１０に記載の誘電体層。
13. 前記開口部のスリットが、前記長尺状の開口部の両端から前記舌部分の近位端と遠位端との間の長さの８０％まで延在している、請求項１０に記載の誘電体層。
14. 前記開口部のスリットが、前記長尺状の開口部の両端から前記舌部分の近位端と遠位端との間の長さの５０％まで延在している、請求項１０に記載の誘電体層。
15. 前記トレース部分の一部が前記空隙上で結合されている、請求項１０に記載の誘電体層。
16. フレクシャであって、
    ジンバル、近位端および遠位端を備えており、フレクシャは前記近位端から遠位端まで延びる長手方向軸線を有しており、ジンバルは、ベース部分、舌状部、およびベース部分から舌状部まで延在する１対のばねアームを有するばね金属層と、ばね金属層の上に重なる誘電体層と、誘電体層の上に重なる導電性金属層と、を含んでおり、導電性金属層は、ベース部分から舌状部まで延在する第１の複数のトレースと、ベース部分から舌状部まで延在する第２の複数のトレースと、を含んでおり、
    空隙であって、前記ばね金属層に形成されるとともに、前記舌状部を部分的に取り囲む空隙をさらに備えており、前記誘電体層の一部は、前記ばね金属層に形成された空隙の一部分と重なっており、前記空隙は、両端を有する中央開口部と、中央開口部の両端から延びる第１および第２のチャネルと、を含んでいる、フレクシャ。
17. 前記誘電体層が、舌部分と、トレース部分と、前記空隙と位置合わせされるとともに、舌部分およびトレース部分によって画定される開口部と、を含んでおり、
    前記舌部分が近位端および遠位端を有しており、前記トレース部分が前記舌部分の遠位端から延在しており、
    前記開口部が、前記空隙の中央開口部と部分的に位置合わせされる両端を有する長尺状の開口部と、長尺状の開口部の両端から延在するとともに、前記空隙の第１および第２のチャネルを少なくとも部分的に露出させるスリットと、を含んでいる、請求項１６に記載のフレクシャ。
18. 前記開口部のスリットが、前記長尺状の開口部の両端から前記舌部分の近位端と遠位端との間の長さの４０％まで延在している、請求項１７に記載のフレクシャ。
19. 前記開口部のスリットが、前記長尺状の開口部の両端から前記舌部分の近位端と遠位端との間の長さの２５％まで延在している、請求項１７に記載のフレクシャ。
20. 前記開口部のスリットが、前記長尺状の開口部の両端から前記舌部分の近位端と遠位端との間の長さの８０％まで延在している、請求項１７に記載のフレクシャ。
21. 前記開口部のスリットが、前記長尺状の開口部の両端から前記舌部分の近位端と遠位端との間の長さの５０％まで延在している、請求項１７に記載のフレクシャ。
22. 前記誘電体層が、舌部分と、トレース部分と、前記空隙と位置合わせされるとともに、舌部分によって画定される開口部と、を含んでおり、
    前記舌部分が、近位端および遠位端を有しており、前記トレース部分が前記舌部分の近位端から延びており、
    前記開口部が、前記空隙の中央開口部と部分的に位置合わせされる両端を有す長尺状の開口部を含んでいる、請求項１６に記載のフレクシャ。

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