JP2023512000A - Process for the production of haloalkyl-substituted pyridine compounds - Google Patents
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- C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D213/78—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms, with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
- C07D213/79—Acids; Esters
- C07D213/80—Acids; Esters in position 3
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Abstract
ハロアルキル置換ピリジン化合物の製造のプロセス。本発明は、ハロアルキル置換ピリジン化合物の合成のプロセス、薬学的又は農学的に活性な化合物、好ましくは除草性化合物を製造するプロセス及びハロアルキル置換ピリジン化合物に関する。【選択図】なしA process for the manufacture of haloalkyl-substituted pyridine compounds. The present invention relates to a process for synthesizing haloalkyl-substituted pyridine compounds, a process for producing pharmaceutically or agriculturally active compounds, preferably herbicidal compounds, and haloalkyl-substituted pyridine compounds. [Selection figure] None
Description
本出願は、2020年1月31日出願の欧州特許出願公開第20154938.3号の優先権を主張するものであり、この出願の全内容は、あらゆる目的のために参照により本明細書に援用される。 This application claims priority from European Patent Application Publication No. 20154938.3, filed January 31, 2020, the entire contents of which are incorporated herein by reference for all purposes. be done.
本発明は、ハロアルキル置換ピリジン化合物の合成のプロセス、薬学的又は農学的に活性な化合物、好ましくは除草性化合物を製造するプロセス及びハロアルキル置換ピリジン化合物に関する。 The present invention relates to a process for synthesizing haloalkyl-substituted pyridine compounds, a process for producing pharmaceutically or agriculturally active compounds, preferably herbicidal compounds, and haloalkyl-substituted pyridine compounds.
特定のハロアルキル置換ピリジン化合物は、例えば、様々な農学的に活性な物質の調製のための中間体として有用である。特開201725054号公報は、例えば、複素環アミド化合物の合成のためのトリフルオロメチル置換ニコチン酸誘導体の使用を開示している。R.W.Lang et al,Helv.Chim.Acta,Vol 71(1988)p.596-601は、特定の6-(トリフルオロメチル)置換2(1H)-ピリジノンをベースとする抗高血圧剤を開示している。特開2019182864号公報は、汚染された溶媒の大量の廃棄物及び有機物で汚染された水性廃棄物をもたらす、様々な溶媒の使用及び複数の抽出工程を必要とするピリジン化合物の製造方法を開示している。 Certain Haloalkyl-Substituted Pyridine Compounds are useful, for example, as intermediates for the preparation of a variety of agriculturally active substances. JP 201725054 discloses, for example, the use of trifluoromethyl-substituted nicotinic acid derivatives for the synthesis of heterocyclic amide compounds. R. W. Lang et al, Helv. Chim. Acta, Vol 71 (1988) p. 596-601 disclose certain 6-(trifluoromethyl)-substituted 2(1H)-pyridinones-based antihypertensive agents. JP2019182864A discloses a process for the preparation of pyridine compounds that requires the use of various solvents and multiple extraction steps, resulting in large wastes of contaminated solvents and aqueous wastes contaminated with organic matter. ing.
特定のハロアルキル置換ピリジン化合物を製造する効率的なプロセスであって、容易に入手可能な出発原料から出発し、廃棄物及び精製のための複数の工程を回避して、良好な収率及び生成物純度を可能にするプロセスを提供することが本発明の目的である。 An efficient process for producing certain haloalkyl-substituted pyridine compounds that starts from readily available starting materials, avoids waste and multiple steps for purification, and produces good yields and products It is an object of the present invention to provide a process that allows for purity.
本発明は、したがって、式(IV)の化合物の製造のプロセスであって、式(I)の化合物と式(II)の化合物とを反応させて中間生成物(III)を形成する工程(a)
であって、塩基の存在下及び溶媒の不在下で行われる工程(a)を含み、
中間生成物(III)が酸の添加によって式(IV)の化合物に環化される工程(b)
comprising step (a) carried out in the presence of a base and in the absence of a solvent;
Step (b) in which the intermediate (III) is cyclized to the compound of formula (IV) by addition of acid
本発明の別の目的は、式(IV)の化合物の精製のプロセスであって、不純物を含む式(IV)の化合物が塩基性金属塩と反応されて、式(V)の生成物を形成する工程(c)
式(V)の化合物が、式(IV)の精製化合物を得るために酸と接触される工程(e)
を含むプロセスである。
Another object of the present invention is a process for the purification of the compound of formula (IV), wherein the compound of formula (IV) containing impurities is reacted with a basic metal salt to form the product of formula (V) step (c)
It is a process that includes
本発明は、式(V)の化合物に更に関する。 The invention further relates to compounds of formula (V).
残基R1~R4は、以下に定義される。 Residues R 1 -R 4 are defined below.
本発明に関連して、単数形は、複数形を含むことも意図される。本発明の全ての態様及び実施形態は、組合せ可能である。本発明に関連して、用語「含む」は、「からなる」及び「から本質的になる」の意味を含むことを意図する。範囲の終点も本開示に含まれ、例えば、20℃~50℃の温度範囲は、値20℃及び50℃を含む。二重結合が特にE/Z幾何学で表現される場合、これは、他の幾何学的形態及びそれらの混合物も意味することを意図する。1つ以上の立体中心を有する化合物は、立体化学的に純粋な異性体を含む立体異性体の全ての混合物を含むことを意図する。式(IV)の化合物は、以下に示されるようなそのエノール形でも表現され得ることに留意されたい。ケト形が表現される場合、これは、エノール形を含む。
式(III)の化合物は、同様に、そのエノール形で描かれるときにケト形を含む。 Compounds of formula (III) also include the keto form when drawn in its enol form.
第1態様において、本発明は、式(IV)の化合物の製造のプロセスであって、式(I)の化合物と式(II)の化合物とを反応させて中間生成物(III)を形成する工程(a)
であって、塩基の存在下及び溶媒の不在下で行われる工程(a)を含み、
中間生成物(III)が酸の添加によって式(IV)の化合物に環化される工程(b)
comprising step (a) carried out in the presence of a base and in the absence of a solvent;
Step (b) in which the intermediate (III) is cyclized to the compound of formula (IV) by addition of acid
R1は、プロピル及びブチルの全異性体を含むC1~C4アルキル基の群から選択される。好ましくは、R1は、メチル又はエチルであり、最も好ましくは、R1は、エチルである。 R 1 is selected from the group of C 1 -C 4 alkyl groups including all isomers of propyl and butyl. Preferably R 1 is methyl or ethyl, most preferably R 1 is ethyl.
R2は、-CN又は-C(O)NH2であり、-CNが好ましい。 R 2 is -CN or -C(O)NH 2 , with -CN being preferred.
R3は、CFH2、CClF2、CF2H、CF3及びCCl2Fからなる群から選択される。R3は、好ましくは、CF3である。 R3 is selected from the group consisting of CFH2 , CClF2 , CF2H , CF3 and CCl2F . R3 is preferably CF3 .
R4は、プロピル及びブチルの全異性体を含むC1~C4アルキル基の群から選択される。好ましくは、R4は、メチル、エチル又はn-ブチルであり、最も好ましくは、R4は、エチルである。 R 4 is selected from the group of C 1 -C 4 alkyl groups including all isomers of propyl and butyl. Preferably R 4 is methyl, ethyl or n-butyl, most preferably R 4 is ethyl.
工程(a)及び(b)を含むプロセスの最も好ましい態様において、R1及びR4は、エチルであり、R3は、CF3であり、R2は、-CNである。 In the most preferred embodiment of the process comprising steps (a) and (b), R 1 and R 4 are ethyl, R 3 is CF 3 and R 2 is -CN.
工程(a)は、塩基の存在下で行われる。塩基の種類は、特に限定されず、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムメトキシド、水素化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、アンモニア、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン及び4-(ジメチルアミノ)ピリジンからなる群から選択することができる。より好ましい塩基は、トリエチルアミン及びジイソプロピルエチルアミンである。ジイソプロピルエチルアミンは、より容易にリサイクルされる。工程(a)における塩基の量は、一般に、式(II)の化合物に対して0.7~2モル当量、好ましくは0.9~1.2モル当量、最も好ましくは1~1.05モル当量である。塩基は、本発明の意味において溶媒ではないと定義される。 Step (a) is performed in the presence of a base. The type of base is not particularly limited, and examples include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium methoxide, sodium hydride, sodium hydrogen carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, ammonia, triethylamine, diisopropylethylamine, pyridine and 4-(dimethyl amino) pyridine. More preferred bases are triethylamine and diisopropylethylamine. Diisopropylethylamine is more easily recycled. The amount of base in step (a) is generally 0.7 to 2 molar equivalents, preferably 0.9 to 1.2 molar equivalents, most preferably 1 to 1.05 molar relative to the compound of formula (II) Equivalent. A base is defined as not a solvent in the sense of the present invention.
工程(a)は、一般に、0℃~90℃、より好ましくは10℃~80℃の温度、最も好ましくは20℃~70℃の温度で行われる。 Step (a) is generally carried out at a temperature between 0°C and 90°C, more preferably between 10°C and 80°C, most preferably between 20°C and 70°C.
最後の出発原料/試薬の添加の開始から計算される、工程(a)における添加時間は、一般に、5分~5時間、より好ましくは10分~2時間、より好ましくは30~60分である。最後の出発原料/試薬の添加の終わりから計算される、工程(a)における反応時間は、一般に、5分~5時間、より好ましくは10分~2時間、より好ましくは30~60分である。 The addition time in step (a), calculated from the beginning of the last starting material/reagent addition, is generally 5 minutes to 5 hours, more preferably 10 minutes to 2 hours, more preferably 30 to 60 minutes. . The reaction time in step (a), calculated from the end of the last starting material/reagent addition, is generally 5 minutes to 5 hours, more preferably 10 minutes to 2 hours, more preferably 30 to 60 minutes. .
出発原料及び反応剤が工程(a)に添加される順序は、特に限定されない。しかし、塩基と式(I)の化合物とを混ぜ合わせること、次いで塩基と式(II)の化合物との混合物に式(II)の化合物を添加することが好ましい。この添加の順序は、反応の収率及び中間生成物混合物、したがって最終生成物の不純物プロファイルにも有利な影響を及ぼし得る。 The order in which the starting materials and reactants are added to step (a) is not particularly limited. However, it is preferred to combine the base with the compound of formula (I) and then add the compound of formula (II) to the mixture of base and compound of formula (II). This order of addition can also favorably affect the yield of the reaction and the intermediate product mixture and hence the impurity profile of the final product.
工程(a)は、溶媒の不在下で行われる。「溶媒の不在」は、溶媒が工程(a)に全く添加されないことを意味することを意図し、これは、工程(a)への溶媒の積極的な添加を排除する。式(I)及び(II)の化合物並びに塩基は、本発明の意味において「溶媒」を構成しない。工程(a)において、R4OHが遊離することが認められる。R4OHの遊離は、用語「溶媒の不在」と矛盾しない。本発明者らは、工程(a)における溶媒の不在が、一般に、より少ない副生物及び出発原料のより高いターンオーバーで反応が進むという意味で工程(a)の反応を改善することに注目している。芳香族又は脂肪族炭化水素、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル等など、工程(a)における追加の溶媒はまた、ワークアップ及び廃棄物処理における溶媒の不利な混合物をもたらすであろう。 Step (a) is performed in the absence of solvent. "No solvent" is intended to mean that no solvent is added to step (a), which precludes active addition of solvent to step (a). The compounds of formulas (I) and (II) as well as the bases do not constitute "solvents" in the sense of the invention. In step (a) it is observed that R 4 OH is liberated. The liberation of R 4 OH is consistent with the term "absence of solvent". We note that the absence of solvent in step (a) generally improves the reaction of step (a) in the sense that the reaction proceeds with fewer by-products and higher turnover of starting materials. ing. Additional solvents in step (a), such as aromatic or aliphatic hydrocarbons, dimethylformamide, acetonitrile, etc., will also result in an unfavorable mixture of solvents in workup and waste disposal.
工程(a)は、一般に、式(III)
式(III)の化合物は、その塩形態(IIIa)でも表され得ることに留意されたく、塩形態は、式(I)の化合物が脱プロトン化され、(II)の二重結合に付加し、名目的に(III)又は(IIIa)を形成するときに形成される。
形式的に、(IIIa)は、工程(a)において使用された塩基に由来するEt3NH+などのカチオンB+も含む。式(III)の化合物の上記の表現は、互換性があり、(III)に関連する1つの式が表現されるときには常に包含される。 Formally, (IIIa) also includes cations B + such as Et 3 NH + derived from the base used in step (a). The above representations of compounds of formula (III) are interchangeable and encompassed whenever one formula relating to (III) is represented.
工程(a)を含む式(IV)の化合物を製造するプロセスは、中間生成物(III)が酸の添加によって式(IV)の化合物に環化される工程(b)を更に含む。酸の種類は、特に限定されず、例えばHCl、HBr、H2SO4、CF3COOH、CF3SO3H及びCH3COOH又はそれらの任意の組合せからなる群から選択することができる。前述のそれぞれは、水溶液又はニートとして使用することができ、水溶液が好ましい。HCl及びCF3SO3Hが好ましく、HClが最も好ましい。工程(b)に関する添加方向は、特に限定されないが、一般に、工程(a)において得られた混合物に酸を添加することが好ましい。工程(b)において使用される酸の量は、一般に、式(II)の化合物に対して1~3モル当量である。好ましくは、工程(b)において使用される酸の量は、式(II)の化合物に対して1~2、より好ましくは1.1~1.3モル当量である。 The process of making the compound of formula (IV) comprising step (a) further comprises step (b) in which the intermediate product (III) is cyclized to the compound of formula (IV) by addition of acid. The type of acid is not particularly limited, and can be selected from the group consisting of, for example, HCl , HBr, H2SO4 , CF3COOH , CF3SO3H and CH3COOH , or any combination thereof. Each of the foregoing can be used as an aqueous solution or neat, with aqueous solutions being preferred. HCl and CF 3 SO 3 H are preferred, with HCl being most preferred. The direction of addition for step (b) is not particularly limited, but generally it is preferred to add the acid to the mixture obtained in step (a). The amount of acid used in step (b) is generally 1-3 molar equivalents relative to the compound of formula (II). Preferably, the amount of acid used in step (b) is 1 to 2, more preferably 1.1 to 1.3 molar equivalents relative to the compound of formula (II).
工程(b)は、一般に、0℃~100℃、より好ましくは10℃~90℃の温度、最も好ましくは20℃~80℃の温度で行われる。 Step (b) is generally carried out at a temperature between 0°C and 100°C, more preferably between 10°C and 90°C, most preferably between 20°C and 80°C.
最後の出発原料/試薬の添加の開始から計算される、工程(b)における添加時間は、一般に、5分~5時間、より好ましくは10分~2時間、より好ましくは30~60分である。最後の出発原料/試薬の添加の終わりから計算される、工程(b)における反応時間は、一般に、5分~5時間、より好ましくは10分~2時間、より好ましくは30~60分である。 The addition time in step (b), calculated from the beginning of the last starting material/reagent addition, is generally between 5 minutes and 5 hours, more preferably between 10 minutes and 2 hours, more preferably between 30 and 60 minutes. . The reaction time in step (b), calculated from the end of the last starting material/reagent addition, is generally 5 minutes to 5 hours, more preferably 10 minutes to 2 hours, more preferably 30 to 60 minutes. .
化合物(IV)の製造のプロセスの一態様において、式R4OHの溶媒は、工程(b)における酸の添加前に、工程(a)によって得られた反応混合物に添加される。本発明者らは、この添加により、化合物(IV)の全収率及び純度が、一般に、より少ない副生物、特により少ない重合及び中間体のより高いターンオーバーで反応が進むという意味で改善されることを見出した。式R4OHの溶媒は、好ましくは、R4が、式(II)化合物中に存在するようなR4に対応するように選択される。工程(b)に添加される溶媒R4OHの量は、工程(a)によって得られた反応混合物の体積に対して0.5~10体積当量から選択することができる。好ましくは、R4OHの量は、工程(a)によって得られた反応混合物の体積に対して1~5体積当量、より好ましくは1~2体積当量である。 In one aspect of the process for the preparation of compound (IV), a solvent of formula R 4 OH is added to the reaction mixture obtained by step (a) prior to the addition of acid in step (b). We believe that this addition improves the overall yield and purity of compound (IV) in the sense that the reaction generally proceeds with fewer by-products, especially less polymerization and higher turnover of intermediates. I found out. Solvents of formula R 4 OH are preferably selected such that R 4 corresponds to R 4 as present in compounds of formula (II). The amount of solvent R 4 OH added in step (b) can be selected from 0.5 to 10 volume equivalents relative to the volume of the reaction mixture obtained by step (a). Preferably, the amount of R 4 OH is 1-5 volume equivalents, more preferably 1-2 volume equivalents relative to the volume of the reaction mixture obtained by step (a).
本プロセスの生成物、式(IV)の化合物は、当業者に公知の方法により、例えば蒸留による揮発性物質の除去によって工程(b)後に好適に回収することができる。化合物(IV)は、工程(b)によって得られた反応混合物を0℃~30℃、好ましくは0℃~20℃の温度の水、例えば氷水に注ぎ込むことによっても単離することができる。式(IV)の化合物は、その後、多くの場合に沈澱し、濾過、洗浄及び乾燥され得る。別の態様において、式(IV)の化合物は、下方相が粗生成物を含む、相分離を多くの場合にもたらす、20℃~30℃、好ましくは25℃~30℃の温度の水を添加することによって工程(b)後に単離することもできる。そのような粗生成物は、例えば、以下に更に説明される工程(c)を含むプロセスなど、更なる下流プロセスのために直接使用することができる。式(IV)の化合物は、必要に応じて繰り返し結晶化にかけることもできる。上記の回収工程のいずれも組み合わせることができる。 The product of the process, a compound of formula (IV), can be conveniently recovered after step (b) by methods known to those skilled in the art, for example by removal of volatiles by distillation. Compound (IV) can also be isolated by pouring the reaction mixture obtained by step (b) into water at a temperature of 0°C to 30°C, preferably 0°C to 20°C, such as ice water. The compound of formula (IV) can then often be precipitated, filtered, washed and dried. In another embodiment, the compound of formula (IV) is treated with water at a temperature of 20°C to 30°C, preferably 25°C to 30°C, often resulting in phase separation, the lower phase comprising the crude product. It can also be isolated after step (b) by Such crude products can be used directly for further downstream processes, for example those processes comprising step (c) further described below. Compounds of formula (IV) may optionally be subjected to repeated crystallizations. Any of the above recovery steps can be combined.
本発明の別の目的は、式(IV)の化合物の精製のプロセスであって、不純物を含む式(IV)の化合物が塩基性金属塩と反応されて、式(V)の生成物を形成する工程(c)
式(V)の化合物が、式(IV)の精製化合物を得るために塩基と接触される工程(e)
を含むプロセスである。
Another object of the present invention is a process for the purification of the compound of formula (IV), wherein the compound of formula (IV) containing impurities is reacted with a basic metal salt to form the product of formula (V) step (c)
It is a process that includes
工程(c)、(d)及び(e)において、R1及びR3は、工程(a)及び(b)に関して上で記載されたような、それらの一般的且つ好ましい定義において定義される。具体的には、R3は、好ましくは、CF3である。また、R1は、好ましくは、メチル又はエチルである。Mは、アルカリ又はアルカリ土類金属群のカチオンであり、アルカリ金属が好ましく、Na+及びK+が最も好ましい。Mの電荷数(1+又は2+)に応じて、式(V)の名目上1又は2つのアニオン構造物がMごとに存在する。 In steps (c), (d) and (e) R 1 and R 3 are defined in their general and preferred definitions as described above for steps (a) and (b). Specifically, R 3 is preferably CF 3 . R 1 is also preferably methyl or ethyl. M is a cation from the group of alkali or alkaline earth metals, preferably alkali metals, most preferably Na + and K + . There are nominally one or two anionic structures of formula (V) per M, depending on the number of charges on M (1+ or 2+).
呼称(c)、(d)及び(e)は、前に記載されたプロセスの工程(a)及び(b)が工程(c)~(e)前に行われていなければならないことを意味せず;工程(c)~(e)を含むプロセスは、独立プロセスである。しかし、一実施形態において、工程(a)~(e)の組合せが記載される。 The designations (c), (d) and (e) imply that steps (a) and (b) of the previously described process must occur prior to steps (c)-(e). the process including steps (c)-(e) is an independent process. However, in one embodiment, a combination of steps (a)-(e) is described.
不純物を含む式(IV)の化合物が、工程(c)において式(V)の生成物を形成するために反応される塩基性金属塩は、塩基性アルカリ金属塩である。「塩基性」は、溶解されたときにその塩が塩基性pHの水溶液を形成することを意味することを意図する。好適な塩基性金属塩は、特に限定されない。それらは、例えば、アルカリ金属及びアルカリ土類金属の水酸化物、酸化物、炭酸塩、重炭酸塩、酢酸塩、アルコラート、トリフルオロ酢酸塩、水素化物及びリン酸塩からなる群から選択することができ、アルカリ金属が好ましい。NaOH、NaOMe、KOMe、NaOEt、KOEt、KOH、Na2CO3、NaHCO3、K2CO3及びKHCO3が特に好ましく、NaHCO3、NaOEt及びNa2CO3が最も好ましい。 The basic metal salt with which the compound of formula (IV) containing impurities is reacted in step (c) to form the product of formula (V) is a basic alkali metal salt. "Basic" is intended to mean that the salt forms an aqueous solution of basic pH when dissolved. Suitable basic metal salts are not particularly limited. They are for example selected from the group consisting of hydroxides, oxides, carbonates, bicarbonates, acetates, alcoholates, trifluoroacetates, hydrides and phosphates of alkali metals and alkaline earth metals. Alkali metals are preferred. NaOH, NaOMe, KOMe , NaOEt, KOEt, KOH , Na2CO3 , NaHCO3, K2CO3 and KHCO3 are particularly preferred, NaHCO3 , NaOEt and Na2CO3 being most preferred .
工程(c)において使用される塩基性金属塩の量は、一般に、式(IV)の化合物に対して1~3モル当量である。好ましくは、工程(c)において使用される酸の量は、式(IV)の化合物に対して1~2、より好ましくは1.1~1.3モル当量である。 The amount of basic metal salt used in step (c) is generally 1-3 molar equivalents relative to the compound of formula (IV). Preferably, the amount of acid used in step (c) is 1-2, more preferably 1.1-1.3 molar equivalents relative to the compound of formula (IV).
工程(c)は、一般に、-10℃~80℃、より好ましくは10℃~70℃の温度、最も好ましくは20℃~50℃の温度で行われる。 Step (c) is generally carried out at a temperature of -10°C to 80°C, more preferably 10°C to 70°C, most preferably 20°C to 50°C.
最後の出発原料/試薬の添加の開始から計算される、工程(c)における添加時間は、一般に、5分~5時間、より好ましくは10分~2時間、より好ましくは30~60分である。最後の出発原料/試薬の添加の終わりから計算される、工程(c)における反応時間は、一般に、5分~5時間、より好ましくは10分~2時間、より好ましくは30~60分である。 The addition time in step (c), calculated from the beginning of the last starting material/reagent addition, is generally 5 minutes to 5 hours, more preferably 10 minutes to 2 hours, more preferably 30 to 60 minutes. . The reaction time in step (c), calculated from the end of the last starting material/reagent addition, is generally 5 minutes to 5 hours, more preferably 10 minutes to 2 hours, more preferably 30 to 60 minutes. .
工程(c)は、多くの場合、溶媒中で実施され、プロトン性溶媒が好ましい。プロトン性溶媒の存在は、式(V)の化合物の形成を容易にすると考えられる。プロトン性溶媒は、特に限定されないが、例えばアルコール、ジメチルホルムアミド及びアセトニトリルから選択することができる。アルコールが最も好ましい溶媒である。プロトン性溶媒は、多くの場合、不純物を含む式(IV)の化合物を溶解又は懸濁させるためのみならず、塩基性金属塩の添加を容易にするためにも使用され、塩基性金属塩は、プロトン性溶媒中の溶液として適用される。塩基性金属塩がほとんど溶けない、例えばNa2CO3である場合に好ましい別の態様において、塩基性金属塩は、固体として工程(c)に適用されることが好ましい場合がある。塩基性金属塩は、例えば、プロトン性溶媒中のスラリーとして適用することもできる。アルコールが工程(c)において溶媒として使用される場合、アルコールは、好ましくは、式R1OHに対応し、ここで、R1は、式(IV)におけるR1に対応する。多くの場合、工程(c)における水の存在は、有害であることが観察されている。水は、水への中間体の潜在的な溶解性のために、R1を含む基の加水分解をもたらすことができ、追加の副生物の形成及び収率の損失につながり得る。したがって、好ましい態様において、工程(c)における反応混合物中の水の含有量は、10重量%よりも低く(工程(c)における反応混合物の重量に関して)、好ましくは5重量%よりも低く、より好ましくは1重量%よりも低い。含水量は、当業者に公知の好適な方法、例えばカールフィッシャー滴定に従って測定される。用語「よりも低い」は、選択された方法の検出限界を下限として含み、その場合、含水量は、「0」(ゼロ)で示される。 Step (c) is often carried out in a solvent, with protic solvents being preferred. The presence of protic solvent is believed to facilitate the formation of compounds of formula (V). The protic solvent is not particularly limited and can be selected from, for example, alcohols, dimethylformamide and acetonitrile. Alcohol is the most preferred solvent. Protic solvents are often used not only to dissolve or suspend the compound of formula (IV) containing impurities, but also to facilitate the addition of the basic metal salt, which is , applied as a solution in a protic solvent. In another embodiment, which is preferred when the basic metal salt is sparingly soluble, eg Na 2 CO 3 , it may be preferred that the basic metal salt is applied in step (c) as a solid. Basic metal salts can also be applied, for example, as a slurry in a protic solvent. When an alcohol is used as solvent in step (c), the alcohol preferably corresponds to formula R 1 OH, where R 1 corresponds to R 1 in formula (IV). In many cases the presence of water in step (c) has been observed to be detrimental. Water can lead to hydrolysis of groups containing R 1 due to potential solubility of intermediates in water, leading to formation of additional by-products and loss of yield. Therefore, in a preferred embodiment, the water content in the reaction mixture in step (c) is lower than 10% by weight (relative to the weight of the reaction mixture in step (c)), preferably lower than 5% by weight, and more preferably lower than 1% by weight. The water content is measured according to suitable methods known to those skilled in the art, such as Karl Fischer titration. The term "lower than" includes the detection limit of the selected method as the lower limit, where water content is indicated by "0" (zero).
一実施形態において、工程(c)における溶媒の量は、不純物を含む式(IV)の化合物の体積に対して0.5~10体積当量から選択される。好ましくは、好ましくはプロトン性の溶媒の量は、不純物を含む式(IV)の化合物の体積に対して1~5体積当量、より好ましくは3~4体積当量の量で使用される。工程(c)における溶媒の量の選択は、工程(d)を容易にすることができる。 In one embodiment, the amount of solvent in step (c) is selected from 0.5 to 10 volume equivalents relative to the volume of compound of formula (IV), including impurities. Preferably, the amount of preferably protic solvent is used in an amount of 1 to 5 volume equivalents, more preferably 3 to 4 volume equivalents, relative to the volume of the compound of formula (IV) containing impurities. Selection of the amount of solvent in step (c) can facilitate step (d).
工程(d)において、式(V)の化合物は、固体化合物として単離される。多くの場合、式(V)の化合物は、温度及び存在する任意の溶媒に応じて、工程(c)中に完全に又は部分的に既に沈澱する。工程(d)において、工程(c)から得られた反応混合物は、好ましくは、-20℃~30℃、好ましくは-15℃~10℃の温度にされる。そのような温度において、固体化合物としての式(V)の化合物の回収は、存在する流体、例えば工程(c)において使用された溶媒の溶液中にあらゆる不純物が概して留まる間に最適化される。式(V)の化合物は、次いで、例えば濾過、デカンテーション又はスピニングによって固体として回収される。回収された式(V)の化合物は、例えば、非プロトン性又はプロトン性溶媒で洗浄することができるが、多くの場合、高純度の式(V)の化合物は、更なる洗浄なしに達成することができる。回収された式(V)の化合物は、乾燥させるか、又は工程(e)において乾燥なしに使用することができる。式(V)の化合物が乾燥される場合、空気流れによる、真空における、空気吸込による、加熱による又はその中に化合物(V)が溶けないが、それが水と共沸混合物を形成し、次いで蒸留によって除去される流体を適用することによる乾燥など、当業者に利用可能な方法である。 In step (d) the compound of formula (V) is isolated as a solid compound. In many cases, the compound of formula (V) will already precipitate completely or partially during step (c), depending on the temperature and any solvent present. In step (d) the reaction mixture obtained from step (c) is preferably brought to a temperature of -20°C to 30°C, preferably -15°C to 10°C. At such temperatures, the recovery of the compound of formula (V) as a solid compound is optimized while any impurities generally remain in solution in the fluids present, such as the solvent used in step (c). The compound of formula (V) is then recovered as a solid, for example by filtration, decantation or spinning. The recovered compound of formula (V) can be washed with, for example, an aprotic or protic solvent, but in many cases high purity of the compound of formula (V) is achieved without further washing. be able to. The recovered compound of formula (V) can be dried or used without drying in step (e). When the compound of formula (V) is dried by air flow, in vacuum, by air suction, by heating or in which compound (V) does not dissolve, it forms an azeotrope with water and then Methods available to those skilled in the art, such as drying by applying a fluid that is removed by distillation.
式(IV)の化合物の精製のプロセスは、式(V)の化合物が、式(IV)の精製化合物を得るために酸と接触される工程(e)を更に含む。酸の種類は、特に限定されず、例えばHCl、HBr、H2SO4、CF3COOH、CF3SO3H及びCH3COOH又はそれらの任意の組合せからなる群から選択することができる。前述のそれぞれは、水溶液又はニートとして使用することができ、水溶液が好ましい。HCl及びH2SO4が好ましく、HClが最も好ましい。工程(e)において使用される酸の量は、一般に、1~5、好ましくは1.5~2のpHに達するように選択される。 The process of purifying the compound of formula (IV) further comprises step (e) in which the compound of formula (V) is contacted with an acid to obtain the purified compound of formula (IV). The type of acid is not particularly limited, and can be selected from the group consisting of, for example, HCl, HBr, H2SO4 , CF3COOH , CF3SO3H and CH3COOH , or any combination thereof. Each of the foregoing can be used as an aqueous solution or neat, with aqueous solutions being preferred. HCl and H2SO4 are preferred, with HCl being most preferred. The amount of acid used in step (e) is generally chosen to reach a pH of 1-5, preferably 1.5-2.
工程(e)は、一般に、0℃~50℃、より好ましくは0℃~40℃の温度、最も好ましくは5℃~20℃の温度で行われる。開示されるような温度は、生成物の効果的な単離を支援する。 Step (e) is generally carried out at a temperature of 0°C to 50°C, more preferably 0°C to 40°C, most preferably 5°C to 20°C. Temperatures as disclosed support effective isolation of the product.
最後の出発原料/試薬の添加の開始から計算される、工程(e)における添加時間は、一般に、5分~5時間、より好ましくは10分~2時間、より好ましくは30~60分である。最後の出発原料/試薬の添加の終わりから計算される、工程(a)における反応時間は、一般に、5分~5時間、より好ましくは10分~2時間、より好ましくは30~60分である。 The addition time in step (e), calculated from the beginning of the last starting material/reagent addition, is generally 5 minutes to 5 hours, more preferably 10 minutes to 2 hours, more preferably 30 to 60 minutes. . The reaction time in step (a), calculated from the end of the last starting material/reagent addition, is generally 5 minutes to 5 hours, more preferably 10 minutes to 2 hours, more preferably 30 to 60 minutes. .
工程(e)は、一般に、プロトン性及び非プロトン性溶媒の群から選択することができる溶媒の存在下で行われ、好ましくは、溶媒は、プロトン性溶媒である。好適なプロトン性溶媒は、工程(c)に関して定義されたのと同じものである。最も好ましくは、工程(e)は、水の存在下で行われる。水性酸が多くの場合に工程(e)において使用されるが、酸の添加前に式(V)の化合物を懸濁させるために、追加のプロトン性溶媒、好ましくは水が通常有利である。好ましい非プロトン性溶媒は、トルエンである。一実施形態によれば、式(IV)の化合物は、工程(e)が行われた溶媒中において、更なる単離なしに、薬学的又は農学的に活性な化合物、好ましくは除草性化合物を製造するプロセスなど、次工程において使用される。式(IV)の化合物は、したがって、更なる処理前に溶媒から単離されない。この実施形態による好ましい態様において、溶媒は、トルエンである。 Step (e) is generally carried out in the presence of a solvent that can be selected from the group of protic and aprotic solvents, preferably the solvent is a protic solvent. Suitable protic solvents are the same as defined for step (c). Most preferably step (e) is carried out in the presence of water. Although aqueous acid is often used in step (e), an additional protic solvent, preferably water, is usually advantageous to suspend the compound of formula (V) prior to addition of the acid. A preferred aprotic solvent is toluene. According to one embodiment, the compound of formula (IV) is converted into a pharmaceutically or agriculturally active compound, preferably a herbicidal compound, without further isolation, in the solvent in which step (e) is carried out. It is used in the next step such as the manufacturing process. The compound of formula (IV) is therefore not isolated from the solvent before further processing. In a preferred aspect according to this embodiment, the solvent is toluene.
別の実施形態によれば、工程(e)における式(V)の化合物の(IV)への転換の完了後、式(IV)の化合物は、例えば、濾過、デカンテーション又はスピニングによって固体として回収される。回収された式(IV)の化合物は、例えば、非プロトン性又はプロトン性溶媒で洗浄することができる。工程(c)~(e)からの塩は、回収された生成物中に存在し得るため、式(V)の化合物の回収後に1つ以上の洗浄工程を行うことが好ましい場合がある。洗浄は、好ましくは、水で行われる。洗浄の終わりは、例えば、イオン対クロマトグラフィーでの、生成物中のアルカリ又はアルカリ土類金属、例えばナトリウム含有量の測定によって有利に監視することができる。500ppm以下、より好ましくは300ppm以下、最も好ましくは100ppm以下の金属含有量に達することが好ましい場合がある。回収された式(IV)の化合物は、空気流れによる、真空における、空気吸込による、加熱による(融点未満に留まることが好ましい)又はその中に化合物(IV)が溶けないが、それが水と共沸混合物を形成し、次いで蒸留によって除去される流体を適用することによる乾燥など、当業者に利用可能な方法によって乾燥させることができる。工程(e)が非プロトン性溶媒、好ましくはトルエン中で行われる場合、乾燥は、溶媒が水と共沸混合物を形成する場合に溶媒の全ての分画の蒸留によって行い、それによって生成物を乾燥させることもできる。別の態様において、工程(e)が溶媒、好ましくはトルエンなどの非プロトン性溶媒中で行われる場合、乾燥は、硫酸ナトリウムなど、当業者に公知の乾燥剤を添加することによって行うこともできる。 According to another embodiment, after completion of the conversion of the compound of formula (V) to (IV) in step (e), the compound of formula (IV) is recovered as a solid, for example by filtration, decantation or spinning. be done. The recovered compound of formula (IV) can be washed with, for example, an aprotic or protic solvent. Since salts from steps (c)-(e) may be present in the recovered product, it may be preferable to perform one or more washing steps after recovery of the compound of formula (V). Washing is preferably done with water. The end of washing can advantageously be monitored by measuring the alkali or alkaline earth metal, eg sodium, content in the product, eg by ion-pair chromatography. It may be preferred to reach a metal content of 500 ppm or less, more preferably 300 ppm or less, most preferably 100 ppm or less. The recovered compound of formula (IV) can be recovered by air flow, in vacuum, by air suction, by heating (preferably staying below the melting point) or in which compound (IV) is not soluble, but when it is combined with water. Drying can be by methods available to those skilled in the art, such as drying by forming an azeotrope and then applying a fluid that is removed by distillation. When step (e) is carried out in an aprotic solvent, preferably toluene, drying is carried out by distillation of all fractions of the solvent when the solvent forms an azeotrope with water, whereby the product is It can also be dried. In another embodiment, when step (e) is carried out in a solvent, preferably an aprotic solvent such as toluene, drying can also be carried out by adding a drying agent known to those skilled in the art, such as sodium sulfate. .
プロセスが工程(c)~(e)を含む、式(IV)の化合物の精製のプロセスにおいて、それは、一般に、不純物を含む式(IV)の化合物が得られるそのプロセスによって限定されない。好適なプロセスは、例えば、国際公開第2010037688号パンフレット、米国特許出願公開第20170348313号明細書、米国特許出願公開第2006276655号明細書、特開201725054号公報、特開201876298号公報、欧州特許第526732号明細書及び欧州特許第0522392号明細書に記載されており、それらの全ては、あらゆる目的のために参照により本明細書により援用される。 In the process of purifying the compound of formula (IV), the process comprising steps (c)-(e), it is generally not limited by the process resulting in the compound of formula (IV) containing impurities. Suitable processes are described, for example, in WO2010037688, US20170348313, US2006276655, US201725054, US201876298, EP526732 and EP 0522392, all of which are hereby incorporated by reference for all purposes.
本発明の一実施形態において、工程(a)及び(b)を含む、式(IV)の化合物の製造のプロセスは、本発明による工程(c)~(e)も含む。 In one embodiment of the invention, the process for the preparation of the compound of formula (IV) comprising steps (a) and (b) also comprises steps (c)-(e) according to the invention.
本発明は、式(V)
の化合物にも関する。具体的には、R3は、好ましくは、CF3である。R1は、好ましくは、メチル又はエチルであり、エチルが好ましい。Mは、好ましくは、Na+又はK+であり、Na+が好ましい。好ましい実施形態において、式(V)の化合物は、その単離された固体形態である。特に、その単離された、固体形態での式(V)の化合物は、式(IV)の化合物、特に式(IV)の精製化合物を得るためのプロセスにおける有用な中間体である。式(V)の化合物は、ピリジン環の2位での更なる下流反応、例えば直接式(V)の化合物からのエーテル、ハライド(クロリド若しくはブロミドなどの)又はエステル形成のために使用することもできる。
The present invention provides the formula (V)
It also relates to compounds of Specifically, R 3 is preferably CF 3 . R 1 is preferably methyl or ethyl, preferably ethyl. M is preferably Na + or K + , Na + being preferred. In preferred embodiments, the compound of formula (V) is in its isolated solid form. In particular, the compound of formula (V) in its isolated, solid form is a useful intermediate in the process for obtaining the compound of formula (IV), especially the purified compound of formula (IV). Compounds of formula (V) may also be used for further downstream reactions at the 2-position of the pyridine ring, such as ether, halide (such as chloride or bromide) or ester formation directly from compounds of formula (V). can.
本発明による別の目的は、薬学的又は農学的に活性な化合物、好ましくは除草性化合物を製造するプロセスであって、工程(a)及び(b)、又は工程(c)~(e)、又は工程(a)~(e)を含むプロセスを含むプロセスである。式(IV)の化合物からの薬学的又は農学的に活性な化合物の製造の例示的なプロセスは、例えば、米国特許出願公開第20170348313号明細書、特開201725054号公報及び特開201876298号公報に開示されている。 Another object according to the invention is a process for producing a pharmaceutically or agriculturally active compound, preferably a herbicidal compound, comprising steps (a) and (b) or steps (c) to (e), Or a process comprising a process comprising steps (a)-(e). Exemplary processes for the preparation of pharmaceutically or agriculturally active compounds from compounds of formula (IV) are described, for example, in U.S. Patent Application Publication Nos. 20170348313, 201725054 and 201876298. disclosed.
本発明によるプロセスは、容易に入手可能な原料から出発して、廃棄物及び精製のための複数の工程を回避して、良好な収率及び生成物純度を可能にする。例えば、化合物(V)の単離は、式(IV)の化合物の製造のプロセスにおける精製又は式(IV)の化合物の精製に関して廃棄物及び複数の工程を回避する。式(V)の化合物は、水の存在下で精製のための抽出工程にかけられるとき、収率損失、より高い廃棄物及び分離するのが困難であり得る不純物としての酸をもたらす、式(IV)の化合物の遊離酸に分解する傾向がある。低温で抽出を行うことは、そのような分解を制御するのに役立つことができるが、工業規模で低温において抽出を行うことは、室温での抽出よりも更に一層不利である。低温抽出は、意図される生成物の純度を最適化するために、水などのより大量の溶媒にもつながり得る。概して、本発明による固体生成物の比較的簡単な回収は、式(V)の化合物を精製における抽出工程にかけることよりも取り扱うのが容易である。式(IV)の化合物の精製のために、特開201725054号公報において報告されたカラムクロマトグラフィーは、一般に、溶媒消費、汚染されたカラム材料及び総合的な取扱いのために工業規模で不利である。生成物の精製のための結晶化及び真空蒸留も本出願人によって試験されたが、いくつかの場合、様々な不純物がそのような技法によって効率的に除去できないことが分かった。したがって、工程(a)及び(b)、工程(c)~(e)又は工程(a)~(e)を含む、本発明によるプロセスは、工業規模で特に有利である。 The process according to the invention starts from readily available raw materials, avoids waste and multiple steps for purification, and allows good yields and product purities. For example, isolation of compound (V) avoids waste and multiple steps associated with purification in the process of manufacturing compound of formula (IV) or purification of compound of formula (IV). The compound of formula (V), when subjected to an extractive step for purification in the presence of water, results in yield loss, higher waste and acid as an impurity that can be difficult to separate, formula (IV ) tends to decompose to the free acid of the compound. Performing extraction at low temperatures can help control such degradation, but performing extraction at low temperatures on an industrial scale is even more disadvantageous than extraction at room temperature. Cold extraction can also lead to larger amounts of solvent, such as water, to optimize the purity of the intended product. In general, the relatively simple recovery of solid products according to the invention is easier to handle than subjecting the compound of formula (V) to an extractive step in purification. Column chromatography reported in JP201725054A for the purification of compounds of formula (IV) is generally disadvantageous on an industrial scale due to solvent consumption, contaminated column material and overall handling. . Crystallization and vacuum distillation for product purification have also been tested by the applicant, but in some cases various impurities were found not to be efficiently removed by such techniques. The process according to the invention comprising steps (a) and (b), steps (c) to (e) or steps (a) to (e) is therefore particularly advantageous on an industrial scale.
参照により本明細書に援用されるいずれかの特許、特許出願及び刊行物の開示が、それが用語を不明確にし得る程度まで本出願の記載と矛盾する場合、本記載が優先するものとする。 If the disclosure of any patent, patent application and publication incorporated herein by reference contradicts the description in this application to the extent that it may obscure terminology, this description shall control. .
以下の実施例は、範囲を限定することを意図せずに本発明を更に説明することを意図する。 The following examples are intended to further illustrate the invention without intending to limit its scope.
出発原料は、商業的に入手できるか又は先行技術において開示されたプロセスに従って製造できる。 Starting materials are commercially available or can be prepared according to processes disclosed in the prior art.
実施例1:トリエチルアミンの存在下での2-シアノ酢酸エチル及び4-エトキシ-1,1,1-トリフルオロブタ-3-エン-2-オン(ETFBO)を用いた工程(a)
実施例2:工程(b)酸の添加による実施例1の生成物の環化
実施例3:一般式(V)の化合物への実施例2の生成物の転化
実施例4:ETFPMOCへの実施例3の生成物の転化
実施例3において得られた原料を800mLの氷水と混合した。81.3gの32%HCl(1.2eq)を添加し;1~2のpHに達した。いくらかの発泡が観察された。混合物を氷冷却下で20分間撹拌した。結果として生じた懸濁液を濾過し、粒状固体生成物を冷水で洗浄した(100ml+4×50mL)。得られた固体を空気流れ中で一晩乾燥させた。生成物は、99%の純度を有し、実施例1から計算される、61%収率(84.7g)で回収された。
Example 4: Conversion of the product of Example 3 to ETFPMOC The material obtained in Example 3 was mixed with 800 mL of ice water. 81.3 g of 32% HCl (1.2 eq) was added; a pH of 1-2 was reached. Some foaming was observed. The mixture was stirred for 20 minutes under ice cooling. The resulting suspension was filtered and the granular solid product was washed with cold water (100 ml + 4 x 50 mL). The resulting solid was dried overnight in a stream of air. The product was recovered in 61% yield (84.7 g), calculated from Example 1, with a purity of 99%.
実施例5:ジイソプロピルエチルアミンの存在下での2-シアノ酢酸エチル及び4-エトキシ-1,1,1-トリフルオロブタ-3-エン-2-オン(ETFBO)を用いた工程(a)、引き続く工程b)
シアノ酢酸エチル(18.82g、148.7mmol、1eq)を室温で20.2g(1.05eq、156.1mmol)のジイソプロピルエチルアミンと混合した。ETFBO(25g、148.7mmol、1eq)を15分で撹拌下において添加した。発熱反応が観察され、その間に温度が50℃の温度に達し、添加速度を調節することによって40~50℃に維持した。添加後、反応温度を50℃に1.5時間維持した。粗混合物の1H-NMR及びGCは、ETFBOの完全転化を示した。108.44gのHCl(32%)を50℃で添加し、結果として生じた混合物を50℃で1.5時間撹拌した。次いで、反応混合物を氷で冷却し、固体が生じた。固体を1H-NMRでチェックした。粗生成物は、およそ80重量%の生成物を含有した。濾液を、2つの相が分離するまで2M水性NaOHで処理した。ジイソプロピルエチルアミンのおよそ70%を相分離後に回収することができた。
Example 5: Step (a) using ethyl 2-cyanoacetate and 4-ethoxy-1,1,1-trifluorobut-3-en-2-one (ETFBO) in the presence of diisopropylethylamine followed by step b)
Ethyl cyanoacetate (18.82 g, 148.7 mmol, 1 eq) was mixed with 20.2 g (1.05 eq, 156.1 mmol) of diisopropylethylamine at room temperature. ETFBO (25 g, 148.7 mmol, 1 eq) was added under stirring in 15 minutes. An exothermic reaction was observed during which the temperature reached a temperature of 50°C and was maintained between 40-50°C by adjusting the addition rate. After the addition, the reaction temperature was maintained at 50° C. for 1.5 hours. 1 H-NMR and GC of the crude mixture showed complete conversion of ETFBO. 108.44 g of HCl (32%) was added at 50°C and the resulting mixture was stirred at 50°C for 1.5 hours. The reaction mixture was then cooled with ice and a solid formed. The solid was checked by 1 H-NMR. The crude product contained approximately 80% by weight product. The filtrate was treated with 2M aqueous NaOH until the two phases separated. Approximately 70% of diisopropylethylamine could be recovered after phase separation.
実施例6:シアノ酢酸エチルをメチルマロンアミドと交換して、実施例1及び2を繰り返す。 Example 6: Examples 1 and 2 are repeated replacing ethyl cyanoacetate with methylmalonamide.
実施例7:実施例6から得られた原料から出発して、実施例3及び4を繰り返す。 Example 7: Starting with the material obtained from Example 6, Examples 3 and 4 are repeated.
Claims (15)
R2は、-CN又は-C(O)NH2であり、
R3は、CFH2、CClF2、CF2H、CF3及びCCl2Fからなる群から選択され、
R4は、C1~C4アルキル基の群から選択される)
であって、塩基の存在下及び溶媒の不在下で行われる工程(a)を含み、
前記中間生成物(III)が酸の添加によって前記式(IV)の化合物に環化される工程(b)
R 2 is —CN or —C(O)NH 2 ,
R3 is selected from the group consisting of CFH2 , CClF2 , CF2H , CF3 and CCl2F ;
R 4 is selected from the group of C 1 -C 4 alkyl groups)
comprising step (a) carried out in the presence of a base and in the absence of a solvent;
step (b) wherein said intermediate (III) is cyclized to said compound of formula (IV) by addition of acid
R3は、CFH2、CClF2、CF2H、CF3及びCCl2Fからなる群から選択され、
Mは、アルカリ又はアルカリ土類群のカチオンである);
前記式(V)の化合物が固体化合物として単離される工程(d)、及び
前記式(V)の化合物が、式(IV)の精製化合物を得るために酸と接触される工程(e)
を含むプロセス。 A process for the purification of a compound of formula (IV), wherein said compound of formula (IV) containing impurities is reacted with a basic metal salt to form the product of formula (V) in step (c).
R3 is selected from the group consisting of CFH2 , CClF2 , CF2H , CF3 and CCl2F ;
M is a cation of the alkali or alkaline earth group);
Step (d) wherein said compound of formula (V) is isolated as a solid compound and step (e) wherein said compound of formula (V) is contacted with an acid to obtain the purified compound of formula (IV)
process including.
の化合物。 Formula (V)
compound.
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US5235060A (en) | 1991-07-11 | 1993-08-10 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Certain three component ionic substituted pyridine compounds as intermediates for preparation as herbicides |
PE20061490A1 (en) | 2005-06-06 | 2007-02-09 | Merck Sharp & Dohme | CYCLOHEXANOSULPHONYL DERIVATIVES AS INHIBITORS OF THE GLYCINE TRANSPORTER GLYT1 |
US20100035756A1 (en) * | 2006-07-12 | 2010-02-11 | Syngenta Limited | Triazolophyridine derivatives as herbicides |
EP1987717A1 (en) * | 2007-04-30 | 2008-11-05 | Bayer CropScience AG | Pyridon carboxamides, agents containing these but not impacting useful plants and method for their manufacture and application |
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